DE2340170A1 - Hochohmiger widerstand fuer gleichstrom-hochspannungsschaltungen - Google Patents
Hochohmiger widerstand fuer gleichstrom-hochspannungsschaltungenInfo
- Publication number
- DE2340170A1 DE2340170A1 DE19732340170 DE2340170A DE2340170A1 DE 2340170 A1 DE2340170 A1 DE 2340170A1 DE 19732340170 DE19732340170 DE 19732340170 DE 2340170 A DE2340170 A DE 2340170A DE 2340170 A1 DE2340170 A1 DE 2340170A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- resistance
- film
- resistor
- another
- elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 21
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 claims description 6
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 5
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 14
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 7
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 7
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- -1 steatite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012549 training Methods 0.000 description 2
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 2-iodoquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(I)=CC=C21 FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)C=CCCC1C(O)=O ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100432019 Bacillus subtilis (strain 168) yesV gene Proteins 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N beryllium oxide Inorganic materials O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000012799 electrically-conductive coating Substances 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C10/00—Adjustable resistors
- H01C10/16—Adjustable resistors including plural resistive elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C1/00—Details
- H01C1/02—Housing; Enclosing; Embedding; Filling the housing or enclosure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C1/00—Details
- H01C1/16—Resistor networks not otherwise provided for
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Details Of Resistors (AREA)
Description
οίρ·. .τα Π. ί-j :..: u". τ 2 ser*.
Dr.-$n;j. F:. O — : - Γ Ζ Jr.
β Mönchen 22, SUinedorfetr, Μ
81-21.208Ρ(21.2Ο9Η) 8. 8. 1973
HITACHI , LTD., Tokio (Japan)
Hochohmiger Widerstand für Grleichstrom-Hoehspannungs-
schaltungen
Die Erfindung bezieht sich auf einen hoehohmigen Widerstand
für Gleichstrom-Hochspannungsschaltungen.
Für ffieichstrom-Hochspannungsquellen, wie sie beispielsweise
für Elektronensonden-Hikroänalysatoren, Massenspektrometer
oder Elektronenmikroskope benötigt werden, ist eine hohe Stabilität erforderlich. In solchen Hochspannungsversorgungssehaltungen
werden hoehohmige Widerstände als Vergleichswiderstände verwendet und auf der Hochspannungsseite der Energieversorgung
angeordnet, speziell wenn die Hochspannung mit Hilfe einer Widerstandsteilung gemessen wird. Ein solcher
Vergleichswiderstand wird allgemein in Verbindung mit einem Meßwiderstand mit weit geringerem Widerstandswert verwendet,
der zur Anzeige der Spannungsteilung dient, wobei die Energieversorgungsspannung
auf der Basis der ermittelten Spannung gesteuert wird, wodurch ein stabiler Hochspannungsausgang
erhalten werden kann.
Diese beiden für die Widerstandsteilung verwendeten Widerstände geben Anlaß zu Rauscherscheinungen wie einem ther-
81-(POS 31038) NoHe
409809/0910
mischen Rauschen, Stromrauschen und verschiedenen anderen Fluktuationserscheinungen, die infolge der Anlegung der Hochspannung
extern induziert werden können. Infolge eines solchen Rauschens und der auf Spannungs- oder Temperaturänderungen
zurückgehenden Drift treten in starkem Maße unerwünschte Schwankungen am (Gleichstrom)-Hochspannungsausgang auf. Es
ist daher sehr wichtig, die von diesen Widerständen erzeugten verschiedenen Rauschanteile zu unterdrücken, um den Hochspannungsausgang
zu stabilisieren.
Meßwiderstände, die in Energieversorgungsschaltungen
der oben beschriebenen Art verwendet werden, haben allgemein einen mittleren Widerstandswert und an sie wird eine niedrige
Spannung angelegt. So ist beispielsweise die an einem solchen Widerstand angelegte Spannung geringer als 100 V und der V/iderstandswert
desselben liegt in der Größenordnung von 0,1 bis 1 MXl. 2s wird also leicht ein Meßwiderstand erhalten,
dessen Rauschpegel in der Größenordnung von 0,1 μΥ/Ύ liegt.
Ferner ist infolge der Tatsache, daß die an den Meßwiderstand angelegte Spannung recht niedrig ist, das elektrische PeId
um den Widerstand schwach und derselbe kann leicht elektrostatisch abgeschirmt werden. Ein extern induziertes Rauschen
kann somit ausreichend unterdrückt werden.
An Vergleichswiderstände wird dagegen allgemein eine
Hochspannung von 50 bis 200 kV angelegt und sie haben hohe ffiderstandswerte von 500 bis 2000 Mil, damit der elektrische
Verlust möglichst gering bleibt. Herkömmliche Widerstände dieser Art bestehen allgemein im wesentlichen aus einem
spiral- oder schraubenförmig auf der Oberfläche eines stabförmigen
Trägers aus hochtemperaturbeständigem elektrisch isolierenden Material gebildeten Widerstandsfilm aus Kohle oder
403809/0910
Metall. Entsprechend der derzeitigen Technik zur Erzeugung gedruckter Schaltungen und den Eigenschaften von Widerstandsmaterialien
ist es jedoch schwierig, einen spiralförmigen Widerstandsfilm von geringer Streifenbreite und engem Abstand
zwischen den Streifen zu erzeugen, was zwangsläufig zu großen, sperrigen Widerständen, führt. Wenn ein stabförmiger Träger
aus hochtemperaturfestern elektrisch isolierenden Material für
die Erzeugung eines Widerstandsfilms mit einem Widerstandswert von 1000 MAnach der derzeitigen Technik zur Erzeugung gedruckter
Schaltungen verwendet wird, erhält man recht lange Widerstände von größenordnungsmäßig 40 bis 50 cm Länge. In
Anbetracht der anzulegenden Hochspannung müssen Widerstände dieser
Art ausreichend isoliert sein und zur Ausschaltung nachteiliger Störwirkungen wird eine Isolation wie isolierendes
ölimprägniertes Papier um den Widerstand gewickelt. Eine
solche Isolation führt zwangsläufig zu einem sperrigen Widerstand .
Im übrigen wird zur Erzielung der richtigen Spannung am Hochspannungsausgang ein sehr genauer Widerstandswert für den
Widerstand gefordert. Ferner soll die Feldverteilung bei Widerständen dieser Art möglichst gleichmäßig sein, insbesondere
da an diese eine Hochspannung angelegt wird. Im Falle von Widerständen mit einem so hohen Widerstandswert ist es
jedoch nicht leicht, den vorausgesetzten Wert exakt zu erreichen. Gemäß herkömmlicher Praxis zur Einstellung des Widerstandswertes
auf den erforderlichen Wert wird ein Teil des Widerstandsfilms weggeschnitten oder unter kontinuierlicher
Messung des Widerstandswertes ein elektrisch leitender Überzug aufgebracht. Eine solche Art der Einstellung des Widerstandswertes
erhöht die Herstellungskosten erheblich und es ist außerdem sehr schwer, so hohe Widerstände wie etwa 1000
409809/09 10
exakt zu messen. Es war daher bislang nicht möglich, solche Widerstände mit gewünschtem Widerstandswert verläßlich und
auf relativ einfache, billige Weise zu erzeugen.
Ziel der Erfindung ist daher ein hochohmiger Widerstand für Grleichstrom-Hochspannungsschaltungen, der kleiner ist
als die bisherigen und einen exakten Widerstandswert besitzt. Weiteres Ziel ist ein solcher Widerstand, der ohne Ausbildung
irgendeines wesentlichen Rauschpegels arbeiten kann. Ferner wird eine hohe dielektrische und mechanische Festigkeit und
Korrosionsbeständigkeit gewünscht sowie eine gleichmäßige Verteilung des elektrischen Feldes. iJin noch weiteres Ziel der
Erfindung ist ein hochohmiger Widerstand für Gleichstrom-Hochspannungssehaltungen,
dessen Widerstandswert leicht eingestellt werden kann und dessen Qualitätskontrolle während
des Herstellungsprozesaes leicht erreichbar ist.
Weitere Ziele, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden aus der nachfolgenden detaillierten Beschreibung hervorgehen,
die auf die angefügten Zeichnungen Bezug nimmt. Es zeigen schematisch:
Fig. 1 eine Aufsicht auf ein beim hochohmigen Widerstand gemäß der Erfindung angewandtes Filmwiderstandselement;
Fig. 2 eine Aufsicht auf den zur Einstellung des Yfiderstandswertes
dienenden Abschnitt des Filmwiderstandselementes gemäß Fig. 1 (in stärkerer Vergrößerung);
Fig. 3 und 4 Aufsichten auf Varianten des in Fig. 1 gezeigten
Filmwiderstandselementes;
Fig. 5 einen Längsschnitt durch einen hochohmigen Widerstand gemäß der Erfindung, der durch Verbindung (in Eeihe)
609809/0910
einer Mehrzahl von Pilmwiderstandselementen, wie
sie in den Pig. 1, 3 oder 4 gezeigt werden und Vergießen der Anordnung mit einem haftfähigen warmhärtenden
Harz erhalten wird und
!ig. 6 und 7 Längsschnitte durch hochohmige Widerstände gemäß
der Erfindung, die durch Abschirmungsmittel elektrostatisch abgeschirmt sind.
Gemäß der Erfindung wird ein hochohmiger Widerstand vorgesehen,
der durch Verbindung einer Mehrzahl von Pilmwiderstandselementen
erhalten wird, wie sie in den Pig. 1, 3 oder 4 gezeigt sind? diese werden in Reihe miteinander verbunden
und die gesamte Anordnung mit einem haftfähigen warmhärtenden Harz, wie in Eig. 5 gezeigt ist, vergossen.
Zur Bildung des im Eahmen der Erfindung benutzten PiImwiderstandselementes
wird eine flache Unterlage aus einem hochtemperaturfesten und elektrisch isolierenden Material
verwendet. Eine solche flache Basisplatte ist in der Weise vorteilhaft, daß ein präziser Druck selbst mit der derzeitigen
Drucktechnik aufgebracht und mithin ein Widerstandsfilm mit maximalem Widerstandswert auf der Oberfläche der Basisplatte
durch bestmögliche Oberflächenausnutzung gebildet werden kann. Die Größe des hochohmigen Widerstandes kann daher infolge
der Tatsache auf ein Minimum reduziert werden, daß der Widerstand swert des Widerstandsfilms auf jeder Basisplatte erhöht
und die Zahl der zur Bildung des gewünschten Gesamtwiderstandswertes erforderlichen Basisplatten bestmöglich geringgehalten
werden kann.
Gemäß der Erfindung wird der Widerstandsfilm auf einer Seite der Basisplatte gebildet. Obgleich der Widerstandsfilm
auf beide Flächen der Basisplatte aufgedruckt werden könnte, bestehen Schwierigkeiten in der Vermeidung von Beschädigungen
der auf die entgegengesetzten Oberflächen der Basisplatte
: 409809/0910
aufgedruckten Widerstandsfilme und es ist auch vom Fertigungsstandpunkt
aus betrachtet schwierig, unerwünschte Fluktuationen des Widerstandswertes zu eliminieren.
Das bei der vorliegenden Erfindung verwendete Filmwiderstandselement
hat einen Widerstandswert in der Größenordnung von einigen zehn Megohm und ist mit einer Hehrzahl von zumindest
zu einem Ende des Widerstandsfilms benachbarten Anschlüssen zur Einstellung des Widerstandswertes, wie beispielsweise
in Fig. 2 gezeigt ist, versehen. Mögliche Schwankungen oder Variationen des Wid erstandswertes während der
fertigung und die erforderliche Präzision des Widerstandswertes werden von vornherein in der Weise berücksichtigt, daß
die Einstellung bzw. Justierung des Widerstandswertea allein durch Auswahl eines dieser Anschlüsse erreicht werden kann,
ohne daß irgendeine Präzisionsbearbeitung wie Zurechtschneiden
des Films oder Auftragen von leitenden Überzügen erforderlich wäre.
Dies ist ein bedeutsamer Vorteil, da der Widerstandswert
des einzelnen Filmwiderstandselementes praktisch sehr leicht kontrolliert werden kann. Wenn also eine Mehrzahl
solcher Filmwiderstandselemente in einer Anzahl in Reihe miteinander verbunden werden, die den gewünschten Gesamtwiderstandswert
des (zu erzeugenden) hochohmigen Widerstandes für ffleichatrom-Hochspannungsschaltungen (nachfolgend der
Einfachheit halber nur als "hochohmiger Widerstand" bezeichnet)
liefert, können der gewünschte Widerstandwert mit hoher Genauigkeit erhalten und die Fertigungskosten stark reduziert
werden.
Das rührt daher, daß die - wie oben beschrieben - in der Größenordnung von einigen zehn Megohm liegenden Widerstands-
409809/0910
werte der einzelnen Filmwiderstandselemente exakt gemessen werden können. Eine einfache Addition der Widerstandswerte
der einzelnen den hochohmigen Widerstand bildenden Filmwiderstands
elemente liefert dann den gewünschten Gesamtwiderstandswert
mit hoher Präzision.
Ferner wird durch die Bildung des hochohmigen Widerstandes aus Filmwiderstandselementen mit im vorgeschriebenen Bereich
,kontrolliertem Widerstandswert eine gleichmäßige Feldverteilung erreicht. Ein hochohmiger Widerstand mit Bereichen möglicher
Feldverdichtung ist rauschanfällig gegen von außen induziertes Rauschen und neigt zu dielektrischen Durchschlägen.
Eine praktische Form des gemäß der Erfindung verwendeten
Filmwiderstandselementes wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Fig. 1 und 2 beschrieben.
Eine leitfähige Paste aus Pd-Ag-G-las wurde auf eine Oberfläche einer elektrisch isolierenden Unterlage 1 aus Aluminiumoxid
mit einer Größe von 50 mm χ 50 mm χ 0,6 mm zur Bildung einer Mehrzahl von Anschlüssen 2, 3 und 4, wie in Fig. 1 gezeigt
ist, aufgedruckt und gebrannt. Danach wurde eine EuOg Paste durch Siebdruck auf die gleiche Seite der Basisplatte 1
aufgedruckt und unter Bildung eines Widerstandsfilms 5 aus
einer Mehrzahl von Streifen auf der Unterlage 1 in der in Fig. 1 gezeigten Art etwa 10 Minuten lang bei etwa 8000C gebrannt
.
Die Breite der den Widerstandsfilm 5 bildenden Streifen lag bei etwa 0,5 mm und die Gesamtlänge des Widerstandsfilms
5 bei etwa 2 m, so daß an dieses Filmwiderstandselement eine Spannung von 10 kV angelegt werden konnte.
409809/0910
Für die Begrenzung des Widerstandswertes des Pilmwiderstand
selementes auf einen vorbestimmten Bereich wurden unter
Berücksichtigung der möglichen Variationen des Widerstandswertes während der Fertigung und der geforderten Präzision des
Widerstandswertes fünf Justieranschlüsse 4 vorgesehen, wie in Fig. 2 zu sehen ist. Die Differenz zwischen den Widerstandswerten
der mit benachbarten Justieranschlüssen 4 verbundenen Filmteile betrug etwa 1 MXI. Von diesen fünf Anschlüssen 4
wurde dann der am meisten geeignete Anschluß ausgewählt und
mit dem Anschluß 3 durch einen aufgelöteten Weichkupferdraht mit einem Durchmesser von 0,4 mm verbunden unter Erzielung
des gewünschten Widerstandswertes von 40 MiI für das FiImwid erstand selement.
wurde dann der am meisten geeignete Anschluß ausgewählt und
mit dem Anschluß 3 durch einen aufgelöteten Weichkupferdraht mit einem Durchmesser von 0,4 mm verbunden unter Erzielung
des gewünschten Widerstandswertes von 40 MiI für das FiImwid erstand selement.
In dieser Weise erhaltene Filmwiderstandselemente hatten einen Wider st andswert von 40 UO. + 3 Mil und die Ausschußrate
war niedriger als 1 $. Die Fertigungskosten konnten infolge
der Tatsache, daß die Justierung des Widerstandawertes im
Vergleich zu den bekannten Verfahren der Justierung solcher
Filme durch Schneiden oder Auftragen von leitfähigen Überzügen auf einfachere V/eise erreicht werden konnte, stark reduziert werden.
der Tatsache, daß die Justierung des Widerstandawertes im
Vergleich zu den bekannten Verfahren der Justierung solcher
Filme durch Schneiden oder Auftragen von leitfähigen Überzügen auf einfachere V/eise erreicht werden konnte, stark reduziert werden.
Ohne die Anschlüsse zur Einstellung bzw. Justierung des V/iderstandswertes lag der Prozentsatz der Elemente mit Widerstand
swerten innerhalb des Bereichs von 40 MJI+_ 3 MfI in der
Segend von 50 c/ot und es ergab sich eine außerordentlich schlechte
Ausbeute, wenn nicht eine Nachbearbeitung wie Beschneiden des Films angewandt wurde.
Bei den Filmwiderstandselementen gemäß Fig. 1 sind fünf
Justieranschlüsse 4 an einem Ende des Widerstandsfilms 5 zur
Einstellung des v/iderstandswertes vorgesehen. Diese Justier-
409809/0910
anschlüsse 4 können auch, wie in Fig. 3 oder 4 gezeigt ist, an den entgegengesetzten Enden des Widerstandsfilms 5 verteilt
und in beliebig wählbarer Anzahl vorgesehen werden. Ferner können die Verbindungsanschlüsse 2 und 3 des Pilmwiderstandselementes
auf der hochtemperaturbeständigen isolierenden Basisplatte 1, die in Fig. 1 an diagonal entgegengesetzten Stellen
angeordnet gezeigt werden, an anderen Stellen vorgesehen werden und sie sind in keiner Weise auf die in Fig. 1 gezeigte An-Ordnung
beschränkt. Diese Anschlüsse 2 und 3 können auf der gleichen Seite des Filmresistorelementes angeordnet und wie
in fig. 3 und 4 gezeigt ist, auch nicht speziell vorgesehen werden.
Es ist klar, daß ein durch Bildung eines spiral- oder
schraubenförmigen Widerstandsfilme auf einem einzelnen stabförmigen
Träger aus elektrisch isolierendem Material erhaltenes Filmwiderstandselement bei Verwendung zum Aufbau eines
hochohmigen Widerstandes mit einem hohen Widerstandswert von mehr als 500 Eil unmöglich in der* in Fig. 5 gezeigten Anordnung
verwendet werden kann, bei der eine Mehrzahl von flachen Widerstands
element en zur Bildung eines hochohmigen Widerstandes übereinandergelagert oder geschichtet angeordnet wird.
Nach dem Stande der Technik wird vielmehr der stabförmige
Träger (und die "Wicklung") verlängert, was den Widerstand insgesamt unhandlich und die Ermittlung des Gesamtwiderstandswertes
problematisch macht. Würde man in gleicher Weise wie nach dem Stande der Technik bei der ebenen Ausbildung'des
Widerstandselementes eine Erhöhung des Widerstandes durch Vergrößerung der isolierenden Basisplatte und Verlängerung
des aufgetragenen Filmstreifens vorsehen, würde man auf Schwierigkeiten hinsichtlich der Qualitätskontrolle der isolierenden
409809/0910
Basisplatte selbst stoßen. Auch bei einem stabförmigen Träger von größeren Abmessungen treten Schwierigkeiten hinsichtlich
der Qualitätskontrolle des Isolierkörpers auf.
Die Erzeugung von hochohmigen Widerständen von spiral-
oder schraubenförmigen !Cyp ist im übrigen wirtschaftlich ungünstig,
da ein geringfügiger Defekt des Widerstandselementes die Betriebscharakterxstik des hochohmigen Widerstandes beeinträchtigen
und ein fehlerhafter Abschnitt nicht ohne weiteres durch ein neues Element ersetzt werden kann.
Bs wird in mannigfacher Hinsicht bevorzugt, daß das Filmwiderstandselement bei dem erfindungsgemäßen Hochohmwiderstand
eine Grrö'ße in der Gegend von 50 mm χ 50 mm, wie vorstehend besehrieben, hat. Eine isolierende Basisplatte, die
frei von jeglicher Krümmung und Unebenheit ist, wird speziell
benötigt, wenn der Widerstandsfilm durch Drucktechnik gebildet wird. Bei isolierenden Basisplatten mit einer Größe, die
über der beschriebenen liegt, besteht eine Neigung zum Auftreten von Krümmungen oder "Verwerfungen.
Der Widerstandswert in der Gegend von einigen zehn Megohm wird auch hinsichtlich der Isolierung besonders bevorzugt,
da die Stärke des an jedes Widerstandselement angelegten
Feldes in der Gegend Von 10 bis 20 kV liegt, wenn eine Mehrzahl
solcher Widerstandselemente zur Bildung eines hochohmigen Widerstandes, wie weiter unten beschrieben ist, verwendet wird.
Für den Widerstandsfilm sind zahlreiche Lluster möglich,
jedoch ist das in den Fig. 1 bis 4 gezeigte in der Weise am idealsten, daß die Basisplattenoberfläche am besten ausgenutzt
werden kann, die elektrischen Anschlüsse leicht ausgeführt
409809/091Ö
werden können und die elektrische JTeldverteilung im Widerstandselement
gleichmäßig ist.
Das die Basisplatte des erfindungsgemäß angewandten lilmwiderstandselementes bildende hochtemperaturfeste und
elektrisch isolierende Material kann beispielsweise Aluminiumoxid, Steatit, Mullit., Porsterit, Berylliumoxid oder
Quarzglas sein, die Temperaturen von mehr als 100O0G aushalten
können. Geeignete Materialien für den Widerstandsfilm können beispielsweise durch eine Mischung von Pulvern von
Glas und einer widerstandsbildenden Substanz wie einer Pd-Ag^-
Misehung, BuO2J einer RuOp-Ag-Verbindung oder -Kombination
oder 21p°3 sein. Diese Mischung wird durch Vermischen der
Pulver zusammen mit einer geeigneten Flüssigkeit wie einem organischen Lösungsmittel und Äthylcellulose hergestellt.
Die Paste wird durch Vermischen und Durcharbeiten der obigen Materialien erhalten. Das Widerstandsfilmmuster kann durch
Aufdrucken der Paste auf die isolierende Basisplatte in einer Dicke von 10 bis 30 μ z.B. durch Siebdruck und Brennen der
Paste bei etwa 600 bis 9000G für etwa 5 bis 20 Minuten erhalten
werden. Vorzugsweise haben die Streifen des Widerstandsfilms eine Breite in der Gegend von 0,5 nun und benachbarte
Streifen des Widerstandsfilms einen Abstand von etwa 0,5 mm, wenn man die Präzision des Siebdrucks berücksichtigt.
iiJine Mehrzahl von in oben beschriebener Weise erhaltenen
i'ilmwiderstandselementen wird in der erforderlichen Anzahl
zur Bildung des gewünschten Gesamtwiderstandswertes, wie
in Pig. 5 gezeigt ist, in Reihe miteinander verbunden und die gesainte Anordnung mit einem haftfähigen warmhärtenden Harz
oder einer Harzzusammensetzung vergossen. Das für das Vergießen benutzte Harz muß so beschaffen sein, daß es die
"Sprödigkeit" der isolierenden Basisplatte des tfiderstands-
A09809/0910
elementes überdeckt und eine befriedigende Haftfähigkeit
besitzt und beim Vergießen keine Fehler einschließlich von Lücken oder Hohlräumen auftreten.
Warmhärtende Harze sind für diesen Zweck geeignet. Beispielsweise kann eine Kombination eines Epoxyharzes vom
alicyclischen, Bisphenol- oder Novolaktyp mit einem Härtungsmittel wie einem Säureanhydrid oder einer Aminoverbindung
verwendet werden. Zu bevorzugten Epoxyharzen vom alicyclischen Typ gehört Vinylcyclohexendiepoxid, zu bevorzugten Epoxyharzen
vom Bisphenoltyp Bisphenol-A-diglycidyläther und zu
bevorzugten Epoxyharzen vom Hovolaktyp Kresol-Novolak und
Phenol-Novolak. Zu bevorzugten Säureanhydridhärtungsmitteln
gehört Tetrahydrophthalsäureanhydrid und zu bevorzugten als Härter verwendeten Aminoverbindungen gehören Tetraäthylenpentamin,
Diaminodiphenylmethan und Diäthyltetramin.
Infolge der vom Unterschied im linearen Ausdehnungskoeffizienten zwischen dem anhaftenden warmhärtenden Harz und dem
Filmwiderstandselement herrührenden Spannungen können Schäden an der isolierenden Basisplatte und Risse im gehärteten Harz
auftreten. TJm dies zu vermeiden, können dem Harz mehr als 1000 Gewicht steile eines anorganischen Füllstoffs mit einem
linearen Ausdehnungskoeffizienten von weniger als 1 χ 10~v°G
pro 100 Gewichtsteile des haftfähigen warmhärtenden Harzes
zugemischt werden. Dieser anorganische Füllstoff kann beispielsweise durch Zirkoniumoxid, Kieselsäure oder Silicate,
Quarz oder Aluminiumoxid mit einem Teilchendurchmesser von weniger als 1000 μ gebildet werden. Es wurde sichergestellt,
daß in der gehärteten Harzzusammensetzung keine Hisse entstehen und die isolierende Unterlage nicht zerstört oder beschädigt
wird, und zwar selbst bei der Durchführung von Wärmeschockprüfungen unter sehr strengen Bedingungen, wenn der Unter-
409809/0910
schied zwischen dem linearen Ausdehnungskoeffizienten der isolierenden Unterlage und demjenigen des gehärteten Harzes
durch entsprechende Auswahl geringer als 1 χ 10"V0C ist.
Zur Erzielung einer solchen Differenz im linearen Ausdehnungskoeffizienten
zwischen isolierender Basisplatte und gehärtetem Harz sollten mehr als 1800 Gewichtsteile des
anorganischen Püllstoffs zu 100 G-ewichtsteilen des haftfähigen
warmhärtenden Harzes zugemischt werden. Eine Zumischung von mehr als 2500 Gewichtsteilen des anorganischen Füllstoffs
zu besagtem wa riahärtend en Harz ist jedoch im Hinblick auf
Schwierigkeiten beim Vergießen unerwünscht.
Eine Schutzschicht, die durch einen dünnen Glasüberzug gebildet werden kann, wie bei 6 in fig. 1 angedeutet ist,
wird vorzugsweise zur Abdeckung des Widerstandsfilms 5 auf dem Pilmwiderstandselement derart vorgesehen* daß der Widerstandsfilm
während 4er Verarbeitung oder .beim Vergießen nicht
beeinträchtigt wird. Der Glasüberzug kann durch Auftragen einer niedrigschmelzenden Glaspaste (beispielsweise einer
Glaspaste «jf 8185 von duFont, USA) und Brennen der Paste bei
etwa 5000G für etwa 1 Minute erhalten werden. Der Glasüberzug
ist vorzugsweise 10 bis 10Ou dick.
Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die Pig. 5, 6 und 7 beschrieben.
Eine Glaspaste, wie oben besehrieben, wurde auf ein PiImwid
er Standselement mit einem Wi der standswert von 40 JIfI, wie
in Pig. 1 gezeigt ist, unter Bildung einer Glasschutzschicht
A09809/0910
-H-
von 25 ju Dicke aufgetragen, welche die gesamte ,Oberfläche des
FilmwiderStandselementes mit Ausnahme der Anschlußbereiche
abdeckte. 25 solcher Ülmwiderstandselemente wurden in einer festen Anordnung mit vorbestimmtem Abstand, wie in Pig. 5
gezeigt ist, angeordnet und in Reihe jeweils miteinander verbunden durch Verbindung der Anschlüsse mit Hilfe von aufgelöteten
Weichkupferleitungen 7 mit einem Durchmesser von 0,4 mm. Dann wurde ein Paar äußerer Anschlußklemmen 9 und 9' aus
Messing an den entgegengesetzten Enden der in Eeihe miteinander verbundenen ffilmwiderstandselemente befestigt unter
Erzielung einer Anordnung mit einem Gesamtwiderstand von 1000 Mil.
Diese Anordnung wurde dann mit einer Epoxyharzzusammensetzung
mit den in Tabelle 1 angegebenen Mischungsanteilen vergossen und die Harzzusammensetzung bei etwa 1200C etwa
16 Stunden lang gehärtet zur Erzielung eines hochohmigen Widerstandes gemäß der Erfindung. Dieser hochohmige Widerstand
hatte Außenabmessungen von etwa 70 mm χ 70 mm χ 250 mm.
409809/0910
| Zu sammenset zung | Mischungsanteile (Gew.-teile) |
| Vinyleyelohexendiepoxyharz (von Nippon Hitrogen Company, "GH 206«, Epoxyäquivalent = 75) |
100 |
| Zirkoniumoxidfüllstoff, Teil chendurchmesser unter 400 ^u (von Osaka Zircon Company) |
2300 |
| MethyItetrahydrophthaisäurean- hydrid (von Hitachi Chemical Company, Säureanhydridhärter "NH-200", tJäureanhyd rid äquivalent = 122) |
89 |
| 2-Athyl-4-methyl-imidazol (von Tore Company, Härtungsbe schleuniger ΜΕΙί-24") |
3 |
Beim Vergießen der Anordnung mit der Epoxyharzzusammensetzung
können die Filmwiderstandseiemente durch Lehren in
einer vorbestimmten Position gehalten und die Epoxyharzzursaimnensetzung
in solcher üenge eingegossen werden, daß die Lehren nicht in die Vergußmasse eingebettet werden. ITach einem
Yorhärten bei etwa 800C für etwa 2 Stunden und Entfernung der
Lehren kann weitere Epoxyharzzusamiaensetzung in einer solchen
iienge nachgegossen werden, die zu einer vollständigen Versiegelung
der ülmwiderstandselemente in der Harzmasse führt, wonach die Anordnung zur vollständigen Aushärtung der Epoxy-
409809/0910
harzzusammensetzung 16 Stunden lang auf etwa 12O0C erwärmt
wird. Statt des vorstehend beschriebenen zweistufigen Grießverfahrens können die Filmwiderstandselemente durch Lehren
gestützt werden, die aus der zu vergießenden Bpoxyharzzusammensetzung
bestehen und die gesamte Anordnung kann zusammen mit diesen Lehren mit der Epoxyharzzusamruensetzung vergossen
werden.
Der lineare Ausdehnungskoeffizient der isolierenden Unterlagen aus Aluminiumoxid des hoehohmigen Widerstandes
liegt bei 0,8 χ 10~v°ö» während derjenige der gehärteten
Epoxyharzzusammensetzung gemäß Tabelle 1 bei 1,2 χ 10 70C
liegt und es ergibt sich somit nur eine sehr geringe Differenz von 0,4 χ 10 /G. Bs ist danach klar, daß der hochohmige
Widerstand gemäß der Erfindung in seiner Bauweise kompakt ist und eine hohe dielektrische Festigkeit sowie hohe mechanische
Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit besitzt.
Die Feldverteilung zwischen den Anschlüssen 9 und 9' des hoehohmigen Widerstandes ist infolge der Tatsache, daß
die Filmwiderstandselemente voneinander durch die Epoxyharzzusammensetzung
elektrisch isoliert und in gleichmäßigem Abstand voneinander angeordnet sind, gleichmäßig. Wenn man
beispielsweise annimmt, daß eine Gleichspannung von 100 kV an die Klemmen 9 und 9' des hoehohmigen Y/iderstandes angelegt
wird, so können in diesem Falle Kriechverluste, die längs der Oberfläche von hoehohmigen Widerständen auftreten, ausreichend
vermieden werden, wenn die Klemmen 9 und 9f mehr
als 20 em voneinander entfernt sind.Die Größe des hoehohmigen Widerstandes kann somit auf weniger als die Hälfte der herkömmlichen
Vorrichtungen dieser Art vermindert werden.
Der nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren erhaltene
409809/0910
- 17 - 23A0170
hochohmige Widerstand wird allgemein elektrisch abgeschirmt, wenn er als Vergleichswiderstand verwendet wird. Zu Problemen,
die sich in dieser Beziehung ergeben, gehören die elektrische Isolation zwischen der Abschirmung bzw. dem Abschirmkäfig
und dem Hochspannungsanschluß. In den Fig. 6 und 7 sind zwei
Formen solcher Isolation gezeigt. Bei dem in Fig. 6 gezeigten hochohmigen Widerstand wurde ein Porzellanisolator 10 an den
Block 8 der von der Abschirmung 12 umgebenen gehärteten Epoxyharzzusammensetzung
zur Erzielung eines ausreichenden isolierenden Abstandes zwischen dem Hochspannungsanschluß 11
und der Abschirmung 12 angeformt bzw. angegossen. Obgleich gemäß Fig. 6 ein Porzellanisolator verwendet wurde, kann dieser
Isolatorteil aus dem gleichen Material sein wie der durch die gehärtete Epoxyharzzusammensetzung gebildete Block und
in sich zusammenhängend mit letzterem geformt werden.
Ein herkömmlicher (stabförmiger) hochohmiger Widerstand
dieser allgemeinen Art wurde durch Präparation eines handelsüblich erhältlichen Filmwiderstandselementea (Durchmesser
50 mm χ Länge 600 mm) mit einem spiralförmig auf einen stabförmigen
elektrisch isolierenden Träger aus Aluminiumoxid aufgetragenen Kohlenstoff-Harzwiderstandsfilm und Umwickeln des
Filmwiderstandselementes für die elektrostatische Abschirmung mit ölimprägniertem Papier hergestellt. Ein solcher herkömmlicher
hochohmiger Widerstand wurde mit dem in Fig. 6 gezeigten hochohmigen Widerstand gemäß der Erfindung vergliche-,
Bei der Prüfung wurden diese beiden hochohmigen Widerstände in Isolieröl mit einer sehr geringen Menge von darin dispergierter
feinpulveriger Kohle anstelle von Staub eingetaucht und eine Gleichspannung von 150 kV zum Vergleich von Häuschen
und Stabilität angelegt.
A09809/0910
73A0170
Die Prüfergebnisse sind in Tabelle 2 wiedergegeben.
| erfindungsge mäßer Widerstand |
herkömmlicher Widerstand |
|
| Rauschen | weniger als 1 jaV/V |
3 μν/ν |
| Spannungs schwankung |
weniger als 1 /iV/V/min |
4 μΐ/7 min |
Wie aus Tabelle 2 ersichtlich ist, sind sowohl das Kauschen
als auch die Spannungsschwankungen bei dem hochohmigen Widerstand gemäß der Erfindung geringer als bei dem herkömmlichen
hohen Widerstand. Wenn also der hochohmige Widerstand gemäß der Erfindung in einem Elektronenmikroskop als Vergleichswiderstand
verwendet wird, kann die Auflösung des Elektronenmikroskops 1,5 bis 2 mal gegenüber derjenigen von herkömmlichen
Elektronenmikroskopen verbessert werden.
25 Filmwiderstandselemente wie in fig. 1 mit je einem
Widerstandswert von 40 Mil wurden wie im Falle der* Ausführungsart 1 in Seihe miteinander verbunden und die Anordnung mit
einer elastischen Polyesterharzzusammensetzung vergossen. Diese elastische Polyesterharzzusammensetzung bestand aus
100 Gewichtsteilen eines durch Herbeiführung einer Reaktion zwischen Maleinsäureanhydrid und einem Polybutadien mit
409809/0910
hydrierten Hydroxylendgruppen erhaltenen ungesättigten
Polyesterharzes (wie in der US-Patentanmeldung Nr. 880 926 vom 28.11.1969 mit dem Titel "Polyesterharz und Yerfahren
zur Herstellung desselben" beschrieben), 35 G-ewichtsteilen
tert. Butylstyrol und 1 Gewichtsteil Dicumylperoxid sowie
1,2 Gewichtsteilen Kobaltnaphthenat (als Katalysator zugegeben)
. Nach Vergießen dieser Polyesterharzzusammensetzung wurde zur Härtung des Harzes 16 Stunden lang auf 800C- erwärmt
unter Erzielung eines vergossenen hochohmigen Widerstandes ähnlich wie in Pig. 7. Bas vorstehend angegebene
Polyesterharz hat ausgezeichnete elektrische -iäigenschaften
und ist ausreichend elastisch. Auf diese Weise absorbiert dieses Polyesterharz Deformationen der Widerstandselemente
infolge von Wärmespannungen, die zwischen dem Harz und dem isolierenden Träger des Filmwiderstandselements auftreten,
wodurch eine unerwünschte Beschädigung der Widerstandselemente verhindert wird. Zu Materialien, mit denen eine ähnliche
Wirkung wie mit dem vorstehenden Polyesterharz erreicht werden kann, gehören warmhärteride Siliconharze und flexible Epoxyharze.
Als warmhärtende Harzzusammensetzungen, wie sie im Zusammenhang
mit den Ausführungsarten 1 und 2 beschrieben wurden, kommen solche in Präge, wie sie allgemein zum Vergießen verwendet
werden und es besteht keinerlei besondere Beschränkung. Solche Harze, die beim Vergießen eine Viskosität von mehr
als 100 Poise zeigen, sind jedoch für Hochspannungsanwendungen unerwünscht, da eine Tendenz zum Auftreten von schwierig
zu eliminierenden Lücken oder Hohlräumen im Formkörper besteht,
außer wenn die Harze einen Füllstoff enthalten.
409809/0910
Claims (5)
- PatentansprücheK/ Hoehohmiger Widerstand für Gleiehstrom-Hoehspannungsschaltungen gekennzeichnet durch eine Mehrzahl von FiImwiderstandselementen (1), die jeweils eine flache Unterlage aus hochtemperaturbeständigem elektrisch isolierenden Material, einen linearen Widerstandsfilm (5) aus einer Mehrzahl von geradlinigen Anteilen, die parallel zueinander auf einer Seite des Trägers angeordnet und durch eine Mehrzahl von Verbindungsteilen in Reihe miteinander verbunden sind, sowie ein Paar Anschlußteile (2, 3, 4) aufweisen, die an entgegengesetzten Enden des Widerstandsfilms (5) angeordnet sind, wobei die Widerstandselemente mit bestimmtem Abstand voneinander übereinandergeschichtet angeordnet und elektrisch in Reihe an den Ansehlußteilen durch geeignete Verbindungsmittel (7) miteinander verbunden sind und die entgegengesetzten Anschlüsse der in Reihe miteinadner verbunden Widerstandsfilme an den jeweils am weitesten außen liegenden isolierenden Trägern elektrisch mit einem Paar Klemmen (9, 9') zum Anschluß an eine äußere Grleichspannungsenergiequelle verbunden sind; und durch eine feste Isolation (8) aus einem gehärteten haftfähigen warmhärtenden Harz, die zur elektrischen Isolierung der Widerstandselemente voneinander durch innige Verbindung mit der Oberfläche der Widerstandselemente ohne Ausbildung auch nur geringfügiger Hohlräume oder Lücken dazwischen und zur Verhinderung praktisch jeglicher Verlagerung der Widerstandselemente relativ zueinander und zur elektrischen Isolation der Verbindungsmittel dient.
- 2. Hochohmiger Widerstand nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Glasschutzüberzug (6) auf dem Widerstandsfilm (5) jedes Filmwiderstandselementes (1).409809/091023A0170
- 3. Hochohmiger Widerstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das warmhärtende Harz 100 Gewichtsteile eines warmhärtenden Harzes und 1000 bis 2500 Gewichtsteile eines elektrisch isolierenden anorganischen Füllstoffs umfaßt.
- 4. Hochohmiger Widerstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Differenz zwischen dem linearen Ausdehnungskoeffizienten des temperaturbeständigen, elektrisch isolierenden Trägers des Filmwiderstandselementes und demjenigen der gehärteten warmhärtenden Harzzusammensetzung geringer als 1 χ 10"5/°e} ist.
- 5. Hochohmiger Widerstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Filmwiderstandselemente zumindest zwei Anschlußstellen (4) für die Wifcderstandsjustierung benachbart zu zumindest einem Sndbereich des Widerstandsfilms (5) aufweisen.409809/0910
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7912372A JPS555681B2 (de) | 1972-08-09 | 1972-08-09 | |
| JP7912472A JPS555682B2 (de) | 1972-08-09 | 1972-08-09 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2340170A1 true DE2340170A1 (de) | 1974-02-28 |
| DE2340170B2 DE2340170B2 (de) | 1978-06-01 |
| DE2340170C3 DE2340170C3 (de) | 1979-02-01 |
Family
ID=26420192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2340170A Expired DE2340170C3 (de) | 1972-08-09 | 1973-08-08 | Hochohmwiderstand für Gleichstrom-Hochspannungsschaltungen |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3813631A (de) |
| DE (1) | DE2340170C3 (de) |
| GB (1) | GB1404694A (de) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4441280C2 (de) * | 1994-11-19 | 1998-08-27 | Asea Brown Boveri | Kaltleiter und Vorrichtung zur Strombegrenzung mit mindestens einem Kaltleiter |
| AU6232799A (en) * | 1998-10-06 | 2000-04-26 | Bc Components Holdings B.V. | Focus potmeter |
| US6194990B1 (en) * | 1999-03-16 | 2001-02-27 | Motorola, Inc. | Printed circuit board with a multilayer integral thin-film metal resistor and method therefor |
| TW518616B (en) * | 2001-06-01 | 2003-01-21 | Phoenix Prec Technology Corp | Method of manufacturing multi-layer circuit board with embedded passive device |
| GB0415045D0 (en) * | 2004-07-05 | 2004-08-04 | Tyco Electronics Ltd Uk | Electrical device having a heat generating resistive element |
| JP4799916B2 (ja) * | 2005-06-09 | 2011-10-26 | アルファ・エレクトロニクス株式会社 | チップ抵抗器 |
| DE102013225110A1 (de) * | 2013-12-06 | 2015-06-11 | Markus Sulzberger | Hochspannungswiderstand |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3213402A (en) * | 1961-03-28 | 1965-10-19 | Tassara Luigi | Encapsulated high precision resistor |
| US3678435A (en) * | 1970-11-09 | 1972-07-18 | Allis Chalmers Mfg Co | Electrical resistor |
-
1973
- 1973-07-24 GB GB3526173A patent/GB1404694A/en not_active Expired
- 1973-07-25 US US00382336A patent/US3813631A/en not_active Expired - Lifetime
- 1973-08-08 DE DE2340170A patent/DE2340170C3/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2340170C3 (de) | 1979-02-01 |
| US3813631A (en) | 1974-05-28 |
| DE2340170B2 (de) | 1978-06-01 |
| GB1404694A (en) | 1975-09-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE60312422T2 (de) | Verbessertes Verfahren zum Einbetten von Dickschichtkomponenten | |
| DE2736055C3 (de) | Mehrschichtige gedruckte Schaltung und Verfahren zum Herstellen der mehrschichtigen gedruckten Schaltung | |
| DE3809331C1 (de) | ||
| DE69305942T2 (de) | Zusammensetzung für einen Polymer-Dickschichtwiderstand | |
| DE1640502A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Widerstandselements | |
| DE69318156T2 (de) | Zinnoxyd-Kraftwandler und seine Zsammensetzung | |
| DE60014193T2 (de) | Rohrförmiger Schaltungsverbinder | |
| DE2946753C2 (de) | ||
| DE68915714T2 (de) | Isolator mit optischer Fiber und Verfahren zu seiner Herstellung. | |
| DE2340170A1 (de) | Hochohmiger widerstand fuer gleichstrom-hochspannungsschaltungen | |
| EP3363029B1 (de) | Kompakter trockentransformator mit einer elektrischen wicklung und verfahren zur herstellung einer elektrischen wicklung | |
| DE69034236T2 (de) | Feuchtigkeitsbeständige elektrisch leitfähige Zemente und Methode zur Herstellung und Anwendung derselben | |
| DE602005003146T2 (de) | Polymer- Zusamensetzungen für verbesserte Materialien | |
| DE2558752C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Schichrwiderstandes als Meßwiderstand für Widerstandsthermometer | |
| DE3644116A1 (de) | Erosionsbestaendiger ueberzug | |
| DE2240286A1 (de) | Druckempfindliches widerstandselement und verfahren zu seiner herstellung | |
| DE2944922C2 (de) | Elektrisches Bauelement | |
| DE2349233A1 (de) | Matrix aus photoleitenden zellen | |
| DE2315714A1 (de) | Mikrominiaturisierte schaltungsanordnung | |
| DE2446658A1 (de) | Organisches adhaesiv sowie verbindungsverfahren und vorrichtung unter verwendung desselben | |
| DE1646874A1 (de) | Leitfaehige Zusammensetzung | |
| DE1791233B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Funktionsblocks,insbesondere fuer datenverarbeitende Anlagen | |
| EP3462182A1 (de) | Passive komponente zum nachweis elektrischer überbeanspruchung in elektrisch rotierenden maschinen | |
| DE2842190C2 (de) | Dehnmeßstreifen in Dickschichttechnik | |
| DE1290275B (de) | Pulverfoermiges waermehaertbares UEberzugsmittel |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |