[go: up one dir, main page]

DE2159530A1 - Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung, Halbleiteranordnung und metallenes Leitergitter zur Anwendung bei der Herstellung einer Halbleiteranordnung - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung, Halbleiteranordnung und metallenes Leitergitter zur Anwendung bei der Herstellung einer Halbleiteranordnung

Info

Publication number
DE2159530A1
DE2159530A1 DE19712159530 DE2159530A DE2159530A1 DE 2159530 A1 DE2159530 A1 DE 2159530A1 DE 19712159530 DE19712159530 DE 19712159530 DE 2159530 A DE2159530 A DE 2159530A DE 2159530 A1 DE2159530 A1 DE 2159530A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
conductor
conductors
grid
semiconductor
connecting strip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19712159530
Other languages
English (en)
Other versions
DE2159530B2 (de
DE2159530C3 (de
Inventor
Djuurd Anne Geertruid; Water Johannes Theodoras van de; Nijmegen Kamerbeek (Niederlande)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE2159530A1 publication Critical patent/DE2159530A1/de
Publication of DE2159530B2 publication Critical patent/DE2159530B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2159530C3 publication Critical patent/DE2159530C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H10W70/048
    • H10W70/427
    • H10W72/5449
    • H10W90/756
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49121Beam lead frame or beam lead device

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

PHN'. 53 2
GÜNTHER M. DAVID
Patentassessor
Anmelder: N. V. PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN Akte, PHN- 5324
Anmeldung vom· 29· ΈθΎ» 1971
"Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung, Halbleiteranordnung und metallenes Leitergitter zur Anwendung bei der Herstellung einer Halbleiteranordnung."
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung, wobei ein aus einem Metallstreifen gebildetes Leitergitter verwendet wird, dessen Leiter an einem Ende in ein Unterstützungselement aufgenommen sind und am anderen Ende mittels Drähte mit Kontaktfliehen eines auf einem Träger befestigten Halbleiterkörpers verbunden werden, wonach eine Kunststoffhülle angebracht wird.
Beim Herstellen von Halbleiteranordnungen mit einer Kunststoffhülle und einem Halbleiterkörper, wie einer inte« grierten Schaltung, wird das Leitergitter meistens aus einem Metallstreifen geätzt. Diese Herstellungstechnik ermöglicht
209829/0863
- 2 - PHN.5324.
eine verhältnisrnSssig grosse Feinheit des Leitermusters. Di·.Leiterbreite und der Abstand zwischen den Leitern liegt dabei in der Grossanordnung der Materialstärke, beispielsweise in der Grössenordnung von einigen hundert Mikron. Der Nachteil des Aetzverfahrens ist, dass die Herstellungskosten verhHltnisraässig hoch sind.
Eine wesentlich billigere Herstellungstechnik für die Leitergitter ist das Stanzen aus einem Metallstreiren· Bei einem feinen Leitermuster ist die Stanztechnik fUr Massenfertigung Jedoch nicht anwendbar und· zwar wegen des starken Verschleissea des ftusseret klein bemessenen Stanzwerkzeugs·
Die Anforderungen an ein Leitergitter sind u.a.: Ii ein möglichst kurzer Abstand »wischen den Leiterenden und den Halbleiterkörper. Dabei ist ein möglichst kurzer Verbindungsdraht zwisohen den Leiterenden und den Kontaktstellen auf dem Halbleiterkörper verwirklichbar. Dies hält den Preis der goldenen Verbindungsdruhte niedrig, es vereinfacht .die Herstellung der Halbleiteranordnung und vermeidet die Gefahr eines Kurzschlusses der Drähte untereinander beim Anbringen · der Kunststoffhüll·.
b ein verbreitertes Leiterende. Die verbreiterten Leiterenden bilden eine Verankerung im Kunststoff, wodurch eine Verschiebung der Leiterenden untereinander bei thermischer Belastung der Halbleiteranordnung vermieden wird. Dieses Verschieben kann infolge der unterschiedlichen Ausdehnungskoeffizienten der Leiter und de· Kunststoffes der Hülle auftreten und kann •in Loareisaen d«r Drahtverbindung an den LeIt«renden verur-
209829/0863
- 3 - · PHN.532*».
8aclien. Andererseits ist ein verbreitertes Leiterende zum Befestigen der Drähte auf* diesen Enden günstig. C^ ein verhiiltnismässig grosser Abstand zwischen den Leitern. Dabei lässt sich ein billiges Gitter erhalten, da die Herstellung einfach ist. Das Stanzen in Massenfertigung ist dabei beispielsweise durchaus durchführbar.
Bisher hat es sich als unmOglich erwiesen, allen obenstehenden Anforderungen zu entsprechen. Anforderung a_ lässt eich nur bei einer groesen Feinheit des Leitergitters erfüllen. Die Anforderungen Ib und c_ sind bei einem feinen Gitter jedoch nicht erfüllbar.
Die Erfindung bezweckt, ein Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung zu schaffen, wobei die Herstellung verhHltnismässig billig ist, kurze Verbindungsdrähte verwendbar sind, ein stark verbreitertes Leiterende erhalten werden kann und der Abstand zwischen den Leitern dennoch verhältnismäselg gross ist. Dazu bleiben nach der Erfindung bei der Bildung des Leitergitters die vom Unterstutzungselement abgewandten Enden wenigstens einer Anzahl nebeneinander liegender Leiter mittels eines Verbindungsstreifens miteinander verbunden, wBhrend der Verbindungsstreifen zwischen nebeneinander liegenden Leitern durchgeschnitten und die nebeneinander liegenden Teile der Verbindungsstreifen β während oder nach dem Durchschneiden gegeneinander elektrisch isoliert werden. Vorzugsweise wird der Träger ale intgrierender Teil des Gitters gebildet.
Das erfindungsgemäsae Verfahren führt zu einer Iialblei teranordming, die durch das Herstβ 1 lungsverfahren
209829/0883
- k - ΡΗΝΤ. 5324.
des Gitters gross« Vorteile bietet. Die voneinander losgeschnittenen Teile des Verbindungsstreifens bilden stark verbreiterte Enden der Leiter. Diese verbreiterten Enden sorgen für eine sehr gute Verankerung der Leiterenden im Kunststoff der Hülle. Veiter ist die Befestigung der Drähte an diesen breiten Leiterenden einfach. Obschon die Leiterenden breit sind gibt es dennoch einen verhältnismässig grossen Abstand zwischen den Leitern. Dies ermöglicht eine Herstellung durch ein Stanzverfahren in Massenfertigung, da das Stanzwerkzeug ausreichend gross bemessen sein kann, so dass ein starker Verschleiss vermieden wird. Auch können die Leiter alle bis nahe an den Träger reichen, da die verbreiterte Form der freien Enden der Leiter durch das Durchschneiden erhalten wird. Das Durchschneiden soll in diesem Zusammenhang nicht mi eng aufgefasst werden, es kann bei» spielsweise Schneiden aber auch Trennen in einer anderen Art und Weise, beispielsweise mit Hilfe eines Laserstrahls sein. Zur elektrischen Isolierung der Leiterenden können die nebeneinander liegenden verbreiterten Leiterenden auf einen unterschiedlichen Pegel gebracht werden. Dies kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass einer von zwei nebeneinander liegenden Leitern aus der Ebene des Gitters abgewinkelt wird. Auch ist es beispielsweise möglich die Leiter derart gegenübereinander zu tordieren, dass nebeneinander liegende Schnittflächen auf einem unterschiedlichen Pegel liegen. Es ist»weiter möglich für den Schnitt eine geringe, für elektrische Isolierung jedoch ausreichende Breite zu .wählen.
209829/0863
5 - PHN.5324.
Die· könnte beispielsweise mit Hilfe eines Laserstrahles erfolgen. Vor sowie nach der Befestigung des HalbleiterkBrpers auf dem Träger und bevor sowie nachdem die VerbindungsdrShte des Halbleiterkörpers zu den Leiterenden angeordnet sind, kSnnen die verbreiterton Leiterenden auf einen unterschiedlichen Pegel gebracht werden.
Die Erfindung bezieht sich ebenfalls auf eine
Halbleiteranordnung mit einem Träger, auf dem ein Halbleiter-IcBr ρ er befestigt ist, mit Leitern, deren eines Ende zum Halbleiterkörper gerichtet ist, von welchen Enden wenigstens eine Anzahl verbreitert ausgebildet ist, mit Verbindungsdr Sh ten zwischen den Kontaktstellen auf dem Halbleiterkörper und den genannten Leitern und mit einer Kunststoffhülle. Nach der Erfindung wird die Halbleiteranordnung dadurch gekennzeichnet, dass zueinander gerichtete Verbreiterungen nebeneinander liegender Leiterenden in einer Richtung senkrecht zur Haupteben· des Halbleiterkörper« gesehen fast bis aneinander ragen, wobei die verbreiterten Leiterenden aua durchgeschnittenen Teilen eines metallenen Verbindungsstreifens bestehen. Eine derartige Halbleiteranordnung funktioniert betriebssicher und lasst sich auf-einfache Weise herstellen.
Veiter bezieht sich die Erfindung auf ein metallenes Leitergitter zum Gebrauch bei der Herstellung einer Halbleiteranordnung, wobei die Leiter mit einem Ende in ein Unterstutzungselement aufgenommen sind« Nach der Erfindung sind wenigstens eine Anzahl der vom UnterstUtzungselement abgewandten Enden der Leiter mittels eines Verbindungentreifens ■itβinander verbunden.
209829/0863
- 6 - ' VHS.532h.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform ist der Verbindungsstreifen als geschlossener Rahmen ausgebildet. Das Leitergitter kann auch mit mindestens zwei Verbindimgsstreifen versehen sein, die zusammen einen ununterbrochenen Rahmen bilden. Dabei wird auch das Unters tut zungseletnent rabnenfurmig sein, wobei die Leiter mindestens an zwei einander gegenüber liegenden Seiten in den Rahmen übergehen. Ea ist natürlich auch möglich, für das Gitter eine andere W Form zu wählen, beispielsweise die eines Kammes. Die Leiterenden werden dann im allgemeinen mittels eines geraden Verbindungsstreifens verbunden sein.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen
Fig. 1 eine Ausführungeform eines Gitters, Fig. 2 einen Schnitt geraäss der Linie II-II in Fig. Fig« 3 eine Seitenansicht eines aus dem Leiter-■* gitter abgewickelten Leiters,
Pig. k eine Ansicht von drei nebeneinander liegenden Leiterenden, wobei die Leiter in derselben Richtung tordiert sind,
Fig. 5 eine weitere AusfUhrungsfona eines Gitters, Fig. 6 ein· echaubildliche Aneicht einer erfindungsg»mässen Halbleiteranordnung,
Pig· 7 ein Leitergitter mit einem gesondert gebildeten Träger.
Fig. 1 seigt ein Leitergitter für eine integrierte Schaltung, das aus einem Streifen Metall, beispielsweise
2098 2 9/086 3
2Ί59530
- 7 - PHN.532U.
einer Eisen-Nickel-Kobaltlegierung gebildet ist. Das Leitergitter enthält einen Träger 1, auf dem ein Halbleiterkörper befestigt werden kann. Der Träger wird mit Hilfe von Bändern von einem Unterstützungseleraerifc 3 festgehalten, das in diesem Aueführungsbeispiel die Form eines die Leiter umgebenden Rahmens hat. Die Leiter 4-7 sind mit einem Ιϊτχάβ mit dem Rahmen 3 verbunden. Die zum Träger 1 gerichteten Enden der Leiter sind alle mittels eines rahmenfiJrmig ausgebildeten Verbindungsstreifens 8 miteinander verbunden« Die Grosse der später anzubringenden Kunststoffhülle i'st gestrichelt angegeben.
Ein derartiges Gitter kann durch Stanzen sowie durch Aetzen hergestellt werden. Das Stanzen kann jedoch bei Massenherstellung erhebliche Preisvorteile bieten. Beim Stanzen des Gitters müssen jedoch die Stempel eine ausreichende Stärke aufweisen, damit ein schneller Verschleiss vermieden wird. Die Stempel dürfen bei Massenherstellung des Gittere daher nicht all zu klein ausgebildet sein, Mindestabmessungen anderthalb Mal der Streifendicke mue« versucht werden beizubehalten. Bei bekannten Leitergittern ist es dann jedoch unmöglich, die zum Träger gerichteten Leiterenden, die eine sehr feine Form haben und sehr nahe beieinander liegen, auch noch mit einer Verbreiterung zu versehen, und die Leiter auaaerdem dem Träger dicht annähern zu lassen. Die Verbreiterung ist dazu erforderlich, die freien Enden der Leiter fest in der noch anzubringenden Kunststoffliülle zu verankern. Eine mechanische Verankerung der Leiter in dem Kunststoff lässt sich verschiedenartig
209829/0863
2Ί59530
- 8 - PHN.532k.
realisieren. Die Verankerung· der Leiterenden und dann insbesondere derjenigen Leiterenden, die über eine verhSltnismSssig grosse Länge in der Kunststofffhülle liepen, hat jedoch einen sehr wesentlichen weiteren Zweck. Bei thermischer Belastung der Halbleiteranordnung werden sich die Leiterenden dann nSmlich nicht gegenüber dem Kunststoff bewegen können, trotz der unterschiedlichen Ausdehnungskoeffizienten. Auf
diese Weise wird vermieden, dass bei thermischer Belastung
Drähte, welche die Leiterenden mit Kontaktstellen auf dem
Halbleiterkörper verbinden, von den Leiterenden losgerissen werden. Durch die Verbreiterung wird zugleich eine grosse
Befestigungsfische für di· DrShte erhalten, so dass das Anbringen der DrShte vereinfacht wird. Die Leiterenden müssen nahe beim Trfiger liegen, damit kurze DrShte verwendbar sind.
Beim dargestellten Gitter werden die nahe beim
TrSger liegend«! Verbreiterungen der Leiter auf interessante Weise gebildet. Die gewünschte Pom und Grosse wird dadurch erhalten, dass der Verbindungsetreifen 8 an den Stellen A-A durchgeschnitten wird, beispielsweise mit Hilfe eines
Schnittwerkzeug«. Die Leiterenden befinden sich dann nahe
beim Träger und haben zugleich eine Verbreiterung maximaler GrSsae, Auf diese Welse kann eine sehr günstige Verankerung in der Kunststoffliülie erreicht werden, während eine grosse BefestigungsflSche für die DrShte vorhanden 1st. Damit die
Leiter mit absoluter Gewissheit gegeneinander isoliert
werden, werden nun beispielsweise die freien Enden der
Leiter 5 und 7 gegenüber der Ebene des Gitters über einen
209829/0863
PHX. r}2k.
geringen Abstand nac- oben, bzw, nach unten abgewinkelt. Die Isolierung gegenüber dem Rahmen 3 erfolgt auf übliche Weise und zwar dadurch, dass nach der ganzen Herstellung der Halbleiteranordnung die Leiter in der Nähe des Rahmens losgeachnitten werden. Auf billige und einfache Weise wird so ein Leitergitter erhalten, das allen zu stellenden Anforderungen entspricht.
Es ist selbstverständlich auch möglich, die Enden der Leiter 4 und 6 auf ein anderes Niveau zu bringen als die Ebene des Leitergitters oder beispielsweise die Leiterenden wechselweise in einer anderen Richtung abzuwinkein. Wenn die Leiter k und 6 beispielsweise nach oben abgewinkelt werden, muss auch noch der Teil des Verbindungsstreifens auf den Bändern 2 gegen die Leiter 7 isoliert werden. Dies bereitet in der Praxis jedoch keine Schwierigkeiten. Es ist nämlich üblich iur Vereinfachung der Befestigung der Drähte an den Kontaktstellen des HalbleiterkSrpers und an den Leitern den Träger etwas unter die Ebene des Leitergitters BU bringen, so dass die obere Fläche des auf dem Träger zu befestigenden Halbleiterkörpers niedriger liegt als die Ebene des Leitergitters. Dieses Versenken kann beispielsweise über die Linien B-B erfolgen, wobei die Bänder 2 dann automatisch gegen die Leiter 7 isoliert sind. Fig. 2 zeigt ein Beispiel dieser Aueführungsform, wobei ein Schnitt gemäss der Linie II-II aus Fig. 1 dargestellt wird. Die Leiter können auch auf eine andere Art und Welse abgewinkelt werden, wie dies vom Leiter 6 in Fig, J dargestellt wird.
Die Leiter können auch auf eine andere Art und Weis·
209829/0863
- 10 - PHN.532U.
gegeneinander isoliert werden. So können beispielsweise zwei nebeneinander liegende Leiter in derselben Richtung verschränkt werden, wobei von den aufeinander gerichteten Schnittflächen der Verbreiterungen jeweils eine nach unten und οine nach oben dreht» Fig. h zeigt eine andere Ansicht dreier nebeneinander liegender Leiterenden, deren Leiter verschränkt sind. Die Drähte zwischen dem Halbleiterkörper und den Leitern können sowohl bevor als auch nachdem die Verbreiterungen auf ein anderes Niveau gebracht worden sind, befestigt werden. Es ist einfacher die Drähte vorher zu befestigen. Die Isolierung kann weiter mit Hilfe anderer Mittel erhalten werden. So kann ein Streifen geringer Breite aus dem Verbindungsstreifen weggenommen werden, beispielsweise mit Hilf· eines Laserstrahls oder auf eine andere Art und Weise.
Der Verbindungsstreifen zwischen den Leitern
braucht nicht als geschlossener Rahmen ausgebildet zu werden. Wesentlich 1st, dass dl· Leiter bis dicht an den Träger reichen und dass wenigstens diejenigen Leiter, die mit einer grossen Länge in den Kunststoff eingebettet sind, an ihrem freien Ende sehr gut verankert sind.
Ein Beispiel eines Leitergitters, bei dem der Verblndungsstreifen aus unterschiedlichen Teilen besteht, ist in Fig. 5 dargestellt. Der Träger 11 ist durch Bänder mit einem Unterstutzuhgaelement 13 in Form eines Rahmens verbunden. Die Leiter 1U-I7 sind mit einem Ende in den
Rahwen 13 aufgenommen, ihr anderes Ende mündet in einen. Verbindungestreifen 18 bzw. 19. Der Verbindungsstreifen
209829/0863
- ,11 - Pin;.532*.
bestellt hier· also aus zwei Teilen. Die Stellen, wo der Vei%bindungsstreifen durchgeschnitten ist, sind wieder gestrichelt dargestellt. Die Isolierung der Verbreiterungen der Leiter gegeneinander lässt sich auf die obenstehend beschriebene Art und Weise durchführen. Wenn beispielsweise das Isolieren auf ähnliche Weise wie in Fig. 2 in bezug auf das Gitter aus dem ersten Ausführungsbeispiel dargestellt ist, durchgeführt wird, wird der Träger 11 dadurch versenkt, dass die Bänder 12 geknickt und die Verbreiterungen der. Leiter Ik und 16 nach oben ebgewinkelt werden.
In Fig. 6 ist eine Halbleiteranordnung dargestellt, in der das Gitter nach Fig. 1 verwendet worden ist. Die Form der verbreiterten Leiterenden und die Art und Weise der Isolierung gegeneinander ist deutlich dargestellt. Der auf dem Träger 1 angeordnete Halbleiterkörper 21 hat Kontaktstellen 22, die mittels Drähte 23 mit den Leiterenden elektrisch verbunden sind. Die Kunstatoffhülle ist durch Zk angedeutet. Die aus der Hülle Zk herausragenden Leiterteile sind auf übliche ^
Weise in zwei parallele Reihen abgewinkelt.
Die dargestellten Gitter eignen sich für einen Halbleiterkörper der eine integrierte Schaltung enthält. Die Erfindung beschränkt sich nicht auf integrierte Schaltungen· Auch bei der. Herstellung eines Transistors ist die Erfindung beispielsweise anwendbar.
Der Träger ist in den beschriebenen Figuren als integrierender Teil des Leitergitters dargestellt. Auch dies ist nicht notwendig. Fig. 7 zeigt einen Schnitt durch ein Leitergitter, wobei ein gesondert hergestellter Träger
209829/0862
- 12 _ PHN.5324,
mit Befestigungsstreifen 33 mit Bändern 32 ist verschweis?t. Das Leitergitter 1 entspricht dabei was den Aufbau anbelangt dem Gitter nach Fig. 1 aber die Bänder 32 erstrecken sich nicht bis zum Verbindungsstreifen 38» Auf diese Weise ist in Fig. 7 noch ein Teil des Leiters 37 sichtbar. Ein derartiger Aufbau kann wesentliche Vorteile bieten. Nur der Träger braucht nun aus der verhältnismässig teuren Eisen-Nickel-Kobaltlegierung hergestellt zu werden. Das Leitergitter kann beispielsweise au· einer billigeren Eisen-Nickellegierung oder aus Kupfer bestehen. Veiter kann nun das Leitergitter weniger stark vergoldet werden als der Träger, was kostensparend ist.
209829/0863

Claims (1)

  1. - 13 - PfTN'.5324.
    PATENTANSPRUEC HE:
    1.I Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung, wobei ein aus einem Metallstreifen gebildetes Leitergitter verwendet wird, dessen Leiter an einem Ende in ein Unterstützung^ element aufgenommen sind und am anderen .Cnde mittels Drähte mit Kontaktflächen eines auf einem Träger befestigten Halbleiterkörpers verbunden werden, wonach eine Hülle aus Kunststoff angebracht wird, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Bildung des Leitergitters die vom Unterstützungeelement abgewandten Enden wenigstens einer Anzahl von nebeneinander liegender Leiter mittels eines Verbindungsstreifen· miteinander verbunden bleiben, dass der Verbindungsstreifen zwischen nebeneinander liegender«. Leitern durchgeschnitten und die nebeneinander liegenden Teil· des Verbindungsatreifens bei oder nach dem Durchschneiden elektrisch gegeneinander isoliert werden.
    2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, da·· beim Herstellen des Leitergitters der Träger für den Halbleiterkörper als integrierender Teil des Leitergitters aus dem Metallstreifen gebildet wird.
    3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Durchschneiden des Verbindungsetreifens wenigstens die Schnittflächen nebeneinander liegender Teile de· Verbindungsstreifens auf ein untereinander verschiedenes Niveau gebracht werden.
    k. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Ende jeweils eines nebeneinander liegender Leiter aus der Ebene des .Leitergitters abgewinkel-t wird»
    209829/0863
    5, Halbleiteranordnung mit einem Träger, auf dem ein Halbleiterkörper befestigt ist, mit Leitern, die mii: einem Ende zum Halbleiterkörper gerichtet sind, von welchen Enden wenigstens eine Anzahl verbreitert ausgeführt ist, mit Verbindungsdrähten zwischen Kontaktstellen auf dem Halbleiterkörper und den genannten Leiterenden und mit einer Kunststoffhülle, dadurch gekennzeichnet, dass nacheinander gerichtete Verbreiterungen nebeneinander liegender Leiterenden in einer Richtung senkrecht zur Häuptebene des Halbleiterktfrpere gesehen, fast bis gegeneinander reichen, wobei die verbreiterten Leiterenden aus durchgeschnittenen. Teilen eines metallenen yerbindungsStreifens bestehen.
    6. Halbleiteranordnung nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens die Ränder der nacheinander gerichteten Verbreiterungen sich gegenüber einander auf einem unterschiedlichen Niveau befinden.
    7· Halbleiteranordnung nach Anspruch 6« dadurch gekennzeichnet, dass von zwei nebeneinader liegenden Leitern mit verbreiterten Enden Jeweils ein verbreitertes Ende sich ausserhalb der Ebene der Leiter befindet.
    8. Metallenes Leitergitter zum Gebrauch bei der Herstellung einer Halbleiteranordnung, wobei die Leiter am einen Ende in ein Unterstiitzungselement aufgenommen sind, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine Anzahl der vom Unterstützungselement abgewandten Enden der Leiter mittels eines Verbindungsstreifena miteinander verbunden sind.·
    9. Leitergitter nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Verbindungsstreifen als geschlossener Rahmen aus—
    209829/0863
    - 15 - FHV. ; 32·
    gebildet ist.
    10. Leitergitter nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens zwei Verbindungsstreifen vorhanden sind, die zusammen einen ununterbrochenen Rahmen bilden.
    209829/0863
    L e e r s e i t e
DE2159530A 1970-12-17 1971-12-01 Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung Expired DE2159530C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7018378A NL7018378A (de) 1970-12-17 1970-12-17

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2159530A1 true DE2159530A1 (de) 1972-07-13
DE2159530B2 DE2159530B2 (de) 1980-05-29
DE2159530C3 DE2159530C3 (de) 1981-02-05

Family

ID=19811818

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2159530A Expired DE2159530C3 (de) 1970-12-17 1971-12-01 Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung

Country Status (8)

Country Link
US (1) US3842492A (de)
JP (1) JPS5135349B1 (de)
CA (1) CA933673A (de)
DE (1) DE2159530C3 (de)
FR (1) FR2118154B1 (de)
GB (1) GB1372216A (de)
IT (1) IT943262B (de)
NL (1) NL7018378A (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2259133A1 (de) * 1972-12-02 1974-06-12 Licentia Gmbh Verfahren zum kontaktieren einer halbleiteranordnung
DE3430849A1 (de) * 1984-08-22 1986-03-06 Gerd 7742 St Georgen Kammerer Verfahren zur raeumlichen ausweitung der elektrischen verbindung zwischen den anschlusskontakten hochintegrierter elektronischer bauelemente und den kontaktstellen einer elektrischen anschlussvorrichtung auf einem bauelementetraeger
US4590672A (en) * 1981-07-24 1986-05-27 Fujitsu Limited Package for electronic device and method for producing same
DE3605184A1 (de) * 1985-02-21 1986-08-21 Nifco Inc., Yokohama, Kanagawa Hochfrequenzschweissverfahren
EP0242962A1 (de) * 1986-04-25 1987-10-28 Inmos Corporation Leiterrahmen für Halbleiter mit asymmetrisch gelegener Insel

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5521128A (en) * 1978-08-02 1980-02-15 Hitachi Ltd Lead frame used for semiconductor device and its assembling
DE3040676A1 (de) * 1980-10-29 1982-05-27 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren zum herstellen von halbleiteranordnugen
FR2498377A1 (fr) * 1981-01-16 1982-07-23 Thomson Csf Mat Tel Procede de fabrication de dispositifs semiconducteurs sur bande metallique
US4380042A (en) * 1981-02-23 1983-04-12 Angelucci Sr Thomas L Printed circuit lead carrier tape
EP0102988B1 (de) * 1982-03-08 1988-09-21 Motorola, Inc. Leiterrahmen für integrierte schaltung
JPS58154241A (ja) * 1982-03-10 1983-09-13 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製法
JPS59147448A (ja) * 1983-02-12 1984-08-23 Fujitsu Ltd 半導体素子搭載用リ−ドフレ−ムおよびこれを用いて製造される半導体装置とその製造方法
US4603927A (en) * 1984-07-12 1986-08-05 Rogers Corporation Surface mounted bussing device
JPS6132452A (ja) * 1984-07-25 1986-02-15 Hitachi Ltd リ−ドフレ−ムとそれを用いた電子装置
JPS6281738A (ja) * 1985-10-07 1987-04-15 Hitachi Micro Comput Eng Ltd リ−ドフレ−ムおよびそれを用いた半導体装置
US5466967A (en) * 1988-10-10 1995-11-14 Lsi Logic Products Gmbh Lead frame for a multiplicity of terminals
US4916519A (en) * 1989-05-30 1990-04-10 International Business Machines Corporation Semiconductor package
US5781682A (en) * 1996-02-01 1998-07-14 International Business Machines Corporation Low-cost packaging for parallel optical computer link
US6107676A (en) * 1997-03-21 2000-08-22 Rohm Co., Ltd. Leadframe and a method of manufacturing a semiconductor device by use of it
JP6437406B2 (ja) * 2015-09-15 2018-12-12 東芝メモリ株式会社 半導体装置の製造方法、半導体装置、およびリードフレーム
JP2017168703A (ja) * 2016-03-17 2017-09-21 東芝メモリ株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3262022A (en) * 1964-02-13 1966-07-19 Gen Micro Electronics Inc Packaged electronic device
US3391426A (en) * 1965-10-22 1968-07-09 Motorola Inc Molding apparatus
US3482419A (en) * 1966-01-03 1969-12-09 Texas Instruments Inc Process for fabricating hermetic glass seals
GB1173506A (en) * 1966-03-16 1969-12-10 Motorola Inc Metallic Frame Member for Fabrication of Semiconductor Devices.
DE1539692A1 (de) * 1966-06-23 1969-10-16 Blume & Redecker Gmbh Umklebevorrichtung fuer Spulen
DE1564867C3 (de) * 1966-06-30 1975-04-10 Telefunken Patentverwertungsgesellschaft Mbh, 7900 Ulm Verfahren zum Kontaktieren von Dioden, Planartransistoren und integrierten Schaltungen
FR1504726A (fr) * 1966-10-25 1967-12-08 Radiotechnique Coprim Rtc Perfectionnements aux procédés de fabrication de boîtiers pour dispositifs semiconducteurs
US3702954A (en) * 1967-07-21 1972-11-14 Siemens Ag Semiconductor component and method of its production
US3689336A (en) * 1971-01-04 1972-09-05 Sylvania Electric Prod Fabrication of packages for integrated circuits

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2259133A1 (de) * 1972-12-02 1974-06-12 Licentia Gmbh Verfahren zum kontaktieren einer halbleiteranordnung
US4590672A (en) * 1981-07-24 1986-05-27 Fujitsu Limited Package for electronic device and method for producing same
DE3430849A1 (de) * 1984-08-22 1986-03-06 Gerd 7742 St Georgen Kammerer Verfahren zur raeumlichen ausweitung der elektrischen verbindung zwischen den anschlusskontakten hochintegrierter elektronischer bauelemente und den kontaktstellen einer elektrischen anschlussvorrichtung auf einem bauelementetraeger
DE3605184A1 (de) * 1985-02-21 1986-08-21 Nifco Inc., Yokohama, Kanagawa Hochfrequenzschweissverfahren
EP0242962A1 (de) * 1986-04-25 1987-10-28 Inmos Corporation Leiterrahmen für Halbleiter mit asymmetrisch gelegener Insel

Also Published As

Publication number Publication date
IT943262B (it) 1973-04-02
JPS5135349B1 (de) 1976-10-01
FR2118154A1 (de) 1972-07-28
DE2159530B2 (de) 1980-05-29
CA933673A (en) 1973-09-11
NL7018378A (de) 1972-06-20
DE2159530C3 (de) 1981-02-05
FR2118154B1 (de) 1976-06-04
GB1372216A (en) 1974-10-30
US3842492A (en) 1974-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2159530A1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung, Halbleiteranordnung und metallenes Leitergitter zur Anwendung bei der Herstellung einer Halbleiteranordnung
DE2603383C2 (de)
EP0236260B1 (de) Bauelement für Baumodelle, insbesondere Bauspielzeuge
DE2519437A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum anschluss von flachleiterkabeln
DE3808971A1 (de) Zusammengesetztes bauelement
DE1121139B (de) Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen
DE2037958A1 (de) Fassung fur Schaltungstrager
DE1564334A1 (de) Plastikgekapselter Transistor und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2700617B2 (de) Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Bauteils mit Anschlußfahnen und mit diesem Verfahren hergestellter Bauteil
DE1490486B2 (de) Zweiteilige elektrische kupplungsvorrichtung
DE1665171A1 (de) Elektrische Leitungsverbindung
DE2007014C3 (de) Elektrische Kontaktbuchse
DE2727575A1 (de) Metallgitterrost sowie verfahren und vorrichtung zu seiner herstellung
DE2328798A1 (de) Halbleiteranordnung
DE1962175A1 (de) Elektrisches Geraet,insbesondere Zungenschalter
DE10057412A1 (de) Halbleitergeräteeinkapselungsanordnung und Verfahren zu deren Hertellung
DE8309514U1 (de) Elektrische Verbindungsvorrichtung
DE3539894A1 (de) Verkleidung fuer bauwerke
DE2163855A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Bodens für die Umhüllung eines elektrischen Bauelementes, sowie Boden für die Umhüllung eines elektrischen Bauelementes
DE8514801U1 (de) Elektrische Kontaktvorrichtung
DE1816439C3 (de) Leistungstransistor
DE69020655T2 (de) Dreiphasiger isolierter Abstandshalter.
DE2842172C3 (de) Schaltafel
CH686462A5 (de) Elektronikmodul und Chip-Karte.
DE1439717C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelementes

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee