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DE2064380C3 - Lichtempfindliches Gemisch - Google Patents

Lichtempfindliches Gemisch

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Publication number
DE2064380C3
DE2064380C3 DE2064380A DE2064380A DE2064380C3 DE 2064380 C3 DE2064380 C3 DE 2064380C3 DE 2064380 A DE2064380 A DE 2064380A DE 2064380 A DE2064380 A DE 2064380A DE 2064380 C3 DE2064380 C3 DE 2064380C3
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DE
Germany
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photosensitive
acridine
polymer
exposure
minutes
Prior art date
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Expired
Application number
DE2064380A
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English (en)
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DE2064380A1 (de
DE2064380B2 (de
Inventor
S Bauer
H W Frass
H Sikora
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Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
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Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
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Priority to AU37387/71A priority patent/AU3738771A/en
Priority to CA131,111A priority patent/CA960902A/en
Priority to CH1896871A priority patent/CH567283A5/xx
Priority to AT1114371A priority patent/AT321713B/de
Priority to ZA718622A priority patent/ZA718622B/xx
Priority to JP723924A priority patent/JPS5525410B1/ja
Priority to IT55026/71A priority patent/IT945669B/it
Priority to BE777423A priority patent/BE777423A/xx
Priority to SE7116800A priority patent/SE373440B/xx
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Priority to ES398454A priority patent/ES398454A1/es
Priority to FR7147492A priority patent/FR2121126A5/fr
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Publication of DE2064380B2 publication Critical patent/DE2064380B2/de
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Publication of DE2064380C3 publication Critical patent/DE2064380C3/de
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1.
Positiv arbeitende Gemische und Kopiermaterialien auf Basis von o-Chinondiaziden werden in der Reproduktionstechnik in großem Maßstab verwendet. Diese Verbindungen werden bei der Lichtzersetzung zu einer Fünfringcarbonsäure umgewandelt, die in wäßrigen Alkalien besser löslich ist als die unzersetzte Verbindung. Man kann derartigen Kopierschichten auch höhermolekulare Verbindungen, insbesondere Kondensationsharze, zusetzen, um ihre Kopier- und Druckeigenschaften zu verbessern, jedoch ist nicht bekannt, daß diese Zusätze in die Lichtreaktion einbezogen werden. Die Verbindungen haben den Nachteil, daß sie nicht sehr lichtempfindlich und daß sie thermolabil sind.
Andere bekannte positiv arbeitende Gemische bestehen im wesentlichen aus Hexaaryldiimidazolyien und Kondensationsharzen. Derartige Kopiermater ialien ergeben jedoch Druckplatten mit nur geringer Leistungsfähigkeit.
Aus der US-PS 28 92 712 sind photodepolymerisierbare Gemische aus Polymerisaten, z. B. Polyacpialen oder Polymethylmethacrylat, und Photoinitiatoren, z. B. Benzoinverbindungen. bekannt Um zu ausreichend kurzen Belichtungszeiten zu kommen, wird dort die Belichtung in Gegenwart eines Lösungsmittels für die Depolymerisationsprodiikte durchgeführt Dies ist besonders bei Additionspolymerisaten äthylenisch unge^ sättigter Verbindungen erforderlich, um eine reversible Rückbildung des Polymerisats zu vermeiden. Trotzdem werden dort zur Bilderzeugung immer noch relativ iarige Belichtungszeiten angewendet.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein positiv arbeitendes lichtempfindliches Gemisch mit hoher Lichtempfindlichkeit und guter Lagerbeständigkeit zu finden, das sich zu Kopien mit hoher mechanischer Beanspruchbarkeit entwickeln läßt
Die Erfindung geht aus von einem lichtempfindlichen Gemisch, dessen Löslichkeit durch Belichtung erhöht wird und das ein Polymerisat mit sauren Substituenten und einen Initiator enthält Das erfindungsgemäße Gemisch ist dadurch gekennzeichnet daß der Initiator eine N-heterocyclische Verbindung ist, die mindestens
ίο einen Pyridin-, Pyrazin- oder Dihydropyrazinring und mindestens einen Benzolring als Substituenten oder in anellierter Form enthält und an diesen Ringen gegebenenfalls weitere nicht lichtempfindliche Substituenten trägt
Grundkörper der in dem erfindungsgemäßen Gemisch enthaltenen heterocyclischen Stickstoffverbindungen sind bevorzugt Acridin, Phenazin und 2,3-Diphenyl-chinoxalin. Die heterocyclischen Orundkörper tragen bevorzugt Substituenten oder anellierte Benzol-
2n ringe. Beispiele für geeignete Substituenten sind Alkyl-, Alkoxy-, Nitro-, Dimethylamino-, Acetylamino-, Phenoxygruppen und Haiogenatome.
Bevorzugte Substituenten sind Alkoxy-, insbesondere Methoxygruppen. Im einzelnen können z. B. die > folgenden Verbindungen mit Erfolg eingesetzt werden:
9-Phenyl-acridin
9-p-Methoxyphenyl-acridin
9-p-Hydroxyphenyl-acridin
9-Acetylamino-acridin
Benz(a)acndin
10-Methyl-benz(a)acridin
Benz(a)phenazin
9,10-Dimethyl-benz(a)phenazin
9-Methyl-benz(a)phenazin/10-MethyI-
benz(a)phenazin
9-Methoxy-benz(a)phenazin/10-Methoxy-
benz(a)phena/in
Dibenz(a,c)phenazin
11 -Methoxy-dibenz(a,c)phenazin
Dibenz(a,j)phenazin
Dibenz(f,h)pyrido(2,3-b)chinoxalin
6,4',4"-Trimethoxy-?,3-diphenyl-chinoxaIin
6-Methoxy-2,3-diphenyl-chinoxalin
4-(4-Methoxy-phenyl)-2-phenyl-chinazoIin
6-Chlor-4 ^"-dimethoxy^-diphenyl-
chinoxalin
6,7 Dimethyl-4'.4"-dimethoxy-2,3-diphenyI-
chinoxahn
2,3-Di-pyridy!-(2)-5 aza-chinoxalin
2,3-Bis-(4-methoxy-phenyl)-5,6-cirfiydro-
pyrazin
2,5-Bis-(2.4dimethoxyphenyl)-pyrazin
2,3,5,6 Tcti akis (4-methoxy-phenyl)-
pyrazin
" 2,3-Diphenyl 5.6-d;hydropyrazin
Ein großer Teil dieser Verbindungen ist bereits in den älteren DF-PS 20 27 467 und 20 39 861 als Photoinitiatoren für photopolymerisierbare Gemische vorgeschlagen
ho worden. Die dor! beschriebene Wirkung besteht darin, bestimmte Monomen unter Lichteinwirkung zur Polymerisation anzuregen, wobei die belichteten Schichtteile gehärtet werden. Im Gegensatz hierzu werden die erfindungsgernäßen Gemische an den
belichteten Stellen besser löslich. Über den Mechanismus der dabei stattfindenden Reaktion ist bisher nichts bekannt,
Besonders bevorzugt werden von den erfindungsge-
maß verwendeten heterocyclischen Verbindungen die in 9-Stellung substituierten Acridine, insbesondere das 9-Phenylacridin, das 4',4"-Dimethoxy-2,3-diphenylchmoxalm und seine in 6-Stellung substituierten Derivate, insbesondere das 6-Methoxyderivat.
Mit besonderem Vorteil lassen sich auch Verbindungen verwenden, die durch Verknüpfung der genannten heterocyclischen Verbindungen mit reaktiven Seitenketten eines Polymerisats erhalten werden.
Das erfindungsgemäße Gemisch kann gewerblich in Form einer Lösung oder Dispersion, z. B. als sogenannter Kopierlack, verwertet werden, die vom Verbraucher selbst auf einen individuellen Träger, z. B. zum Formteilätzen, für die Herstellung kopierter Schaltungen, von Schablonen, Beschilderungen oder Siebdruckformen, aufgebracht und nach dem Trocknen belichtet und zur bildmäßig verteilten Schicht entwickelt wird.
Das Gemisch kann insbesondere auch in Form einer festen, auf einem Träger befindlichen photopolymerisierbaren Schicht als lichtempfindliches Kopiermaterial für die Herstellung von Druckformen, Reliefbildern. Ätzschutzschichten, Schablonen, Matern, Siebdruckformen, Farbprüffolien oder Einzelkopien in den Handel gebracht werden. Eine wichtige Anwendung ist vor allem die Herstellung lagerfähig vorsensibiliserter Druckplatten für den Flach-, Hoch- und Tiefdruck.
Die erfindungsgemäßen Gemi&jhe zeichnen sich durch eine hohe Lichtempfindlichkeit und hervorragende thermische Stabilität aus. Sie haben gegenüber Diazoverbindungen den weiteren Vorteil, daß in der Kopierschicht beim Belichten kein gasförmiger Stickstoff entwickelt »vird. Sie ermöglichen ferner die Herstellung von positiven ReliefHdern bzw. Hochdruckformen. Die hochmolekularen Polymerisate mit lichtempfindlichen heterocyclischen Mtenketten haben keine Kristallisationstendenz und können deshalb den Kopierschichten in relativ großen Mengenanteilen zugesetzt werden.
Die lichtempfindlichen Gemische enthalten ferner ein hochmolekulares Polymerisat, das Einheiten mit sauren Substituenten. insbesondere mit Carbonsäure-, Phosphonsäure-, Sulfonsäure- oder N-Arylsulfonyl-urethangruppen in Kombination mit anderen Einheiten enthält. Geeignet sind Mischpolymerisate mit Acryl- und Methacrylsäureestern.
Die Polymerisate bilden den Hauptanteil des Gemische (auf Festsubstanz bezogen). Die heterocyclische Verbindung wird im allgemeinen in einer Menge von 0,5 bis 30, vorzugsweise von 5 bis 15 Gewichtsteilen je 100 Gewichtsteile Polymerisat zugesetzt.
Den Gemischen können ferner Farbstoffe. Pigmente. Weichmacher, Netzmittel und Farbbildner zugesetzt werden. Derartige Zusätze sollten vorzugsweise so gewählt werden, daß sie kein für die Lichtreaktion notwendiges Licht absorbieren.
Setzt man den Schichten Triplienylmethan- oder Phenazinfarbstoffe zu, so werden diese Farbstoffe an den vom Licht getroffenen Stellen ausgebleicht, so daß man ein unmittelbar sichtbares Bild erhält.
Als Weichmacher bzw. Netzmittel eignen sich 7. B.
Triäthylenglykol, Dibutylphthalat,
Polyoxyäthyjen-sprbitan-fettsäureesterj
Polyoxyäthyienäthyläther,
p-Nonylphenolpolyglykoläther und
Polywadhse.
Mit diesen Zusätzen läßt sich die Flexibilität der Schicht einstellen lind die Entwickliingsgeschwiridigkeil regeln.
Wenn die Gemische auf Kupferträger aufgebracht werden sollen, können ihnen zur Verbesserung der Haftung organische Schwefelverbindungen, z. B. 2-Mercapto-benzthiazol, zugesetzt werden.
Die Gemische finden bevorzugte Anwendung bei der Herstellung von Hochdruckformen, Reliefbildern, Offsetdruckformen, Bimetall- sowie Trimetalldruckformen, kopierten Schaltungen, Siebdruckschablonen und Druckformen für den rasterlosen Offsetdruck.
ίο Wenn das Gemisch in flüssiger Form als sogenannter Kopierlack aufbewahrt und erst unmittelbar vor der Anwendung auf die Unterlage, z. B. einen Siebdruckträger oder eine Leiterplatte, aufgebracht werden soll, werden die Schichtbestandteile in einem geeigneten Lösungsmittel bzw. Lösungsmittelgemisch gelöst oder dispergiert Als Lösungsmittel sind Alkohole, Ketone, Ester, Äther, Amide oder Kohlenwasserstoffe geeigneL Vor allem werden die Partialäther mehrwertiger Alkohole, insbesondere der Glykole, verwendet.
Die Lösungen bzw. Dispersionen können für die Herstellung von Druckplatten mit Vorteil unmittelbar nach ihrer Herstellung auf einen geeigneten Träger aufgebracht und die erhaltenen Produkte als lichtempfindliche Kopiermaterialien aufbewahrt und in den Handel gebracht werden. Hierbei können die gleichen oder ähnliehe Lösungsmittel wie für die Herstellung der Kopierlacke verwendet werden. Der Antrag erfolgt
z. B. durch Gießen, Sprühen oder Eintauchen.
Als Schichtträger eignen sich z. B. Zink, Kupfer,
so Aluminium, Stahl, Polyester- bzw. Acetatfolie oder Polyamid, deren Oberfläche bei Bedarf einer Vorbehandlung unterworfen sein kann.
Erforderlichenfalls wird zwischen Träger und lichtempfindlicher Schicht eine haftvermittelnde Zwischen-
i> schicht bzw. eine Lichthofschutzschicht aufgebracht.
Die in üblicher Weise belichteten Kopierschichten werden zweckmäßig mit organischen Lösungsmitteln entwickelt, z. B. Aceton, Methyläthylketon, Äthylenglykolmonoäthyläther, Trichloräthyien oder Glycerin,
4n denen man bei Bedarf Wasser oöer Säuren, z. B. Schwefelsäure, zusetzen kann.
Wenn das entwickelte Kopiermaterial als Druckform dienen soll, kann die Schicht durch Erwärmen auf höhere Temperatur, z. B. oberhalb 180°C, »einge-
4) brannt« werden, um die Abriebfestigkeit und damit die Auflagenhöhe zu steigern.
Die folgenden Beispiele beschreiben Ausführungsformen der Erfindung. Alle Prozente und Mengenverhältnisse sind, wenn nirhts anderes angegeben ist, als
W Gewichtsmengen zu verstehen. Ein Gewichtsteil (Gt.) entspricht 1 g. wenn als Volumteil (Vt.) 1 ecm gewählt wird.
Beispiel 1
j j Eine Beschichtungslösung wird aus
2.5 Gt. eines Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Mischpolymerisats mit einem mittleren Molekulargewicht von etwa 32.000 und der Säurezahl 137.
0.01 Gt. Supranolblau GL(Cl. 50.335).
20,0 Gt. Äthyienglykoimonoäthyläther
und steigenden Mengen S^Phenyl-acridin bereitet und auf elektrolytisch aufgerauhtes und durch Anodisierung ft? gehärtetes 0,3 mm starkes Aluminium durch Aufschleudern aufgetragen und bei 1OO°G2 Minuten getrocknet.
Die Proben Werden anschließend unter einem Graukeil, dessen Keilstufen sich um den BelichtUngsfäk-
:0 64
tor 1,4 unterscheiden, 2 Minuten mit einem Röhrenbelichtungsgerät, das auf einer Fläche von 60 χ 60 cm-13 Leuchtstoffröhren von 4OW angeordnet enthält, belichtet
Entwickelt wird 30 Sekunden mit Äthylenglykolmonoäthyläiher, der etwc 10% Wasser und 10% konz. Schwefelsäure enthält, und anschließend mit Schutzfarbe eingefärbt.
Die Errj^bnisse sind wie folgt:
Die Lichtempfindlichkeit steigt mit dem Initiatorgehalt an. Die folgende Tabelle I gibt die Anzahl der voll ausbelichteten, d.h. vollständig entfernten Keilstufen und in Klammern dahinter die Zahl der Zwischenstufen bei verschiedenem Gehalt an 9-PhenyI-acridin an.
Tabelle 1 Tabelle Il
Initiator
Keilstufen
10
15
Gt. 9-PhenyI-acridin
Keilstufen
(U 5 0 Beispiel 2 (1!
0,20 I-.' (1-2)
0,30 4-5 (1-2)
0,45 5 (2)
0,60 6 (4)
0,75 9-10 (4)
Eine Beschichtungslösung wird aus
2,5 Gt des in Beispiel 1 beschriebenen Polymerisats,
0,2 Gt 9-Phenyl-acridin,
0,01 Gt. SupranolblauGLund
20,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther jl
bereitet und auf elektrolytisch aufgerauhtes und durch Anodisierung gehärtetes Aluminium, dessen Oxidschicht 3 g/m2 beträgt, durch Aufschleudern aufgetragen und 2 Minuten bei 100° C getrocknet. Das Trocken-Schichtgewicht beträgt 5 g/m2.
Dann wird, wie in Beispiel 1 beschrieben, unter einer photographischen Positivvorlage belichtet, zur Entfernung der Nichtbildstellen 15 Sekunden mit Aceton durch Tauchen entwickelt und mit wäßriger Natrium- v, metasilikatlösung überwischt *\nschließend wird mit Wasser abgespült, mit l%iger Phosphorsäure fixiert, mit Schutzfarbe eingefärbt und nach Bedarf mit wäßriger Gummiarabicumlösung zur Konservierung gummiert.
Die so erhaltene Offsetdruckform liefert auf einer Offse'-Druckmaschine mindestens 100.000 einwandfreie Drucke.
Zur Verbesserung der Abriebfestigkeit kann die Offsetdruckform 10 Minuten bei 240°C eingebrannt werden. Die Druckauflage steigert sich dann auf mindestens 200.000.
B e i s ρ i e I 3
Eine Beschichtungslösung wird entsprechend Beispiel 1 bereitet und zur Sensibiiisierung mit 0,2 Gt. eines Initiators wie unten angegeben versetzt.
Die Belichtung erfolgt entsprechend Beispiel 1, die (,5 Verarbeitung entsprechend Beispiel 2.
Die beobachteten Lichtempfindlichkeiten gibt die folgende Tabelle II in:
6-ChIor-4',4"-dimethoxy-2,3-
diphenyl-chinoxaün 6(2)
9-Phenyl-acridin 5 (2)
Benz(a)acridin 5(2)
Benz(a)phenazin 2(2)
6,4',4"-Trimethoxy-2,3-diphenyl- 2 (2)
chinoxalin
6-Acetylamino4'-4"-dimethoxy-2,3-diphenyl-chinoxaIin 0(3)
Gemisch von Estern aus Naphthochinon-
(l,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäure
und 2,3,4-Trihydroxy-benzophenon 0 (0)
Die zum Vergleich verwendet·- bekannte positiv arbeitende Diazoverbindung ergibt in der angegebenen Menge auch bei wesentlich längerer Belichtungszeit kein Bild.
Beispiel 4
Eine Beschichtungslösung wird aus
0,55 Gt. des in Beispiel 5 beschriebenen Polymerisats.
0,70 Gt. des unten angegebenen Initiators,
0,005 Gt. des in Beispiel 1 verwendeten Phenazinfarb-
stoffes und
15.0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
bereitet und wie in Beispiel 1 auf anodisiertes Aluminium aufgebracht und getrocknet. Die Kopierschicht wird 2 Minuten unter einem Graukeil belichtet und 15 Sekunden mit dem in Beispiel 1 angegebenen Entwickler entwickelt Danach wird mit 1%iger Phosphorsäure fixiert und mit Fettfarbe eingefärbt
Der verwendete Initiator wird durch Umsetzen eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat und Glycidylacrylat mit 6-Carboxy-4',4"-dimethoxy-23-diphenylchinoxalin nach dem in der USA-Patenischrift 34 18 295 angegebenen Verfahren hergestellt Der Stickstoffgehalt des Umsetzungsprodukts beträjt 2,8%.
Beispiel 5
Eine Beschichtungslösung wird aus
2,5 Gt eines Methylacrylat/Methacrylsäure-Mischpolymerisats mit einem mittleren Molekulargewicht von etwa 30.000 und der Säurezahl 157,
0,2 Gt 9-Phenyl-acridin,
0,1 Gt. SupranolblauGLund
20,0 Gt. Ät'iylenglykolmonoäthyläther
bereitet und auf anodisiertes Aluminium aufgeschleudert und getrocknet. In einem Parallelversuch wird die Kopierschich· mit einem I— 2 μπι dicken Überstrich von Polyvinylalkohol versehen und ähnlich verarbeitet. Belichtung und Entwicklung erfolgen entsprechend Beispiel 1.
Vergleicht man die Lichtempfindlichkeit der beiden Proben, so ist diese bei der letzteren, bei der die Nachdiffusion dss Sauerstoffs während der Belichtung durch den Überstrich gehemmt wird, um 180% höher.
Dieser Effekt wird auch bei der Verwendung anderer stickstoffhaltiger Heterocyclen als Initiator beobachtet.
Beispiel 6
Eine Bcschichtungslösung wird aus
2,5 Gt. eines Mischpolymerisats aus Melhylmcthacrylat und N-ip-ToluolstilfonylJ-carbamiclsiuirc-(0-me(hacryloxy)-älhylcster (65:35, Säurczahl 60),
0,4Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,004 Gt, Äthylviölett (Cl. Basic Violet 4) Und
20,0 Gt. Äthyicngiykolmönoäthyläthcr
bereitet und auf 0,3 mm starkes, anodisiertes Aluminium abgeschleudert.
Nach dem Trocknen wird unter einer Positivvorlage bzw. unter einem Graukeil 4 Minuten an einer 5 KW Xenonpunkllichilampe belichtet und 10 Sekunden durch Behandlung mit dem in Beispiel 1 angegebenen Entwickler entwickelt. Die Qualität des erhaltenen Bildes entspricht derjenigen der in Beispiel 3 beschriebenen Bilder.
Beispiel 7
Eine Bcschichtungslösung wird entsprechend Beispiel 2, jedoch ohne Farbstoff bereitet und auf eine 125 μ in dicke, biaxial verstreckte Polyesterfolie, die mil einer hydrophilen Haftvermittlerschicht entsprechend DE-AS 12 28414 versehen ist, abgeschleudert und getrocknet.
Belichtung und Entwicklung entsprechen Beispiel 1.
Diese Kopie kann in einen Offset-Vcrviclfältiger eingespannt und zur Herstellung von Abzügen verwendet werden.
Beispiel 8
Line Bcschichtungslösung wird aus
2.5 Gt. Methylmethacrylat/Acrylsäurc-Mischpolymerisat mit einem mittleren Molekulargewicht von 60.000 und der Säurezahl 82.
Polyoxyälhylen-sorbitan-monolaurat.
9-Phenyl-acridin,
eines Phenazinfarbstoffes entsprechend Beispiel 1 und
Äthyicngiykolmönoäthyläthcr
K) angegebenen Entwickler durch Überpinseln entwickelt.
Die Dicke der Kcipicrschioh'l beträgt 0,43 mrh\ die Auswaschtiefe 0,185 min.
Anstelle des l'olyä(hyleh-sorbi(iin-mon()laurats körihch auch Polyoxyälhylünc'ctyiäthcf, p-Nohylphcnolpo-
lyglykolä liier bzw. triäthylenglykol genommen Werden.
Die resultierenden Relicfbildef sind in ihrer Qualität vergleichbar.
Beispiel 10
Eine BeschichUingslösurig wird entsprechend Beispiel 2 bereitet und mil O1I Gt. 2-Mercapto-benzlhiazol versetzt. Dann wird sie auf eine gereinigte Kupferoberfiüche einer Cu/Al-Bimetallplatte aufgeschleudert, anschließend2 Minuten bei 100° C getrocknet.
Belichtet wird 2 Minuten unter einer Posilivvorlage bzw. unter einem Graukeil entsprechend Beispiel I, danach 40 Sekunden mit dem in Beispiel I angegebenen Entwickler entwickelt.
Zur Herstellung einer BimelallOffsetdruckform wird das freigelegte Kupfer mit einer Eisc-n-lll-chloridätzc innerhalb einer Minute weggeätzt, anschließend mit |%iger Phosphorsäure überwischt und dann mil Feltfarbe cingefärbt.
Beispiel Il
Zur Herstellung von Farbprüffolien werden vier ßcschitfitungslösungen entsprechend Beispiel 2 bereitet, aber anstelle des dort verwendeten Farbstoffes wie folgt angefärbt:
a) Gclbfolic:
b) Rolfolie:
!i c) Blaufolie:
0.25 Gt.
0.4 (Jt.
0.01 (Jt.
20.0Gt.
bereitet und auf anodisierles Aluminium aufgeschleudert und getrocknet. Belichtet wird 2 Minulen unter einer Positivvorlage bzw. unter einem Graukeil entsprechend Beispiel 1, entwickelt 30 Sekunden durch Tauchen in Trichlorethylen. Danach wird mit l%igcr Phosphorsäure fixiert und mit Fettfarbc cingcfärbl. Die Druckform ist damit dmekfertig.
Beispiel 9
F.ine Beschichlungslösung wird aus
2.5 Gt. des in Beispiel 1 beschriebenen Polymerisats.
0,2 Gl 9-Phenyl-acridin,
0.75 Gt. Polyoxyälhylen-sorbitan-monolaurat und
5.0 Gt. Äthylcnglykolmonoäthyläther
bereitet und auf ein 0,3 mm starkes Aluminiumblech w> aufgegossen. Man läßt den größten Anteil des Lösungsmitlels bei Zimmertemperatur verdunsten und trocknet anschließend 3 Stunden bei 100"C nach.
Zur Herstellung eines Reliefbildes bzw. einer Hochdruckform wird die Kopierschichl 20 Minulen mil m dem Röhrenbelichtungsgerät entsprechend Beispiel 1 unter einer photographischen Positivvorlagc heuchlet und danach 5 Minuten mit dem in Beispiel ί 0,07 CJt. IeUgclb3G
(CI 12.700).
0.08 CJt Zaponechtfeucrrot B
(CM. Solvent Red S09),
0.01 (3t. Älhylviolctl
(CI.BasicVioicM).
d) Schwarzfolic: 0.08 (Jt. rettschwarz IIB
(C .1.26.150)
α» Diese Lösungen werden auf je eine 37 μιη dicke, biaxial verstreckte Polyäthylentercphlhalalfolie aufgesc!i!c"dcrt ii"d v/ic in Beispiel 2 (Tc!rrvcknc* Dsnn werden die Schichten unter den dazugehörigen Silberfilmfarbausz.ügen (3 Minuten Blau· bzw. Rotfolic,
a; 5 Minulen Gelb bzw. Schwarzfolic) mit einem Röhrcnbelichlungsgeräl belichtet und jeweils 15 Sekunden mit dem in Beispiel 1 angegebenen Entwickler entwickeil.
Beim Obcrcinatuierlegen der Auszüge entstehl ein
-,η dem Original der .Silberfilmauszüge entsprechendes Duplikat.
Beispiel 12
Eine Bcschichtungslösung wird aus
"" 2,5 Gt. des in Beispiel 1 beschriebenen Polymerisats. 0.2 (5t. Bcnz(a)acridin.
0,01 Gt Zaponechtfeucrrot B (CI. Solvent Red 109)
und
20,0 (it. Äthylenglykolmonoälhylälher
bereitet und auf eine AIuminium/Kupfcr/Chrom-Trimclallplattc aufgeschlcudert und getrocknet.
Dann wird entsprechend Beispiel 1 unter Verwendung einer Negativvorlage belichtet und mil dem dort angegebenen FnUvirklcr 30 Sekunden entwickelt.
Das freigelegte Chrom wird mit einer Lösung aus 17.4% CaC"l·. 35.3% 7nC"l·. 2.1% HCI und 45.2% Wasser innerhalb \cjii 7 Minuten weggeätzt und anschließend
die Lackschicht mit Alkohol entfernt. Schließlich wird init l°/oiger Phosphorsäure überwischt und mil Fettfarbe eingefärbt. DieTrimetallplatteistdruckfertig.
Beispiel 13
Zur Herstellung einer Zink-Hochdfuckform wird eine Beschichtungslösung aus
2,5 Gi. des in Beispiel 1 beschriebenen Polymerisats,
0,2 Gt. 4',4"-Dimethoxy;2,3-diphehylchinoxalin,
0,02 Gt. Äthylviolett (CI1. Basic Violet 4f und
20,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
bereitet und auf eine gesäuberte Einstufen-Zinkätzplatte durch Aufschleudern aufgebracht und getrocknet.
Belichtet wird 3 Minuten mit einem Röhrenbelichtungsgerät entsprechend Beispiel !,entwickelt 1 Minute mit dem in Beispiel I angegebenen Entwickler.
Dann wird die freigelegte Zinkoberfläche mit 6%iger Salpetersäure bei Ziriimeriemperaiur 6 minuien geäiüi. Die so entstandene Form eignet sich für den Qualitätsbuchdruck.
Beispiel 14
Eine Beschichtungslösung wird aus
2,5 Gt. des in Beispiel 1 beschriebenen Polymerisats, 0,2 Gt. 4'-tert.-Butyl-9-phenyl-acridin,
0,02Gt. des in Beispiel 12 verwendeten Farbstoffs
und
20,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
bereitet und auf eine mechanisch aufgerauhte, 0,3 mm starke Aluminiumfolie durch Aufschleudern aufgetragen und getrocknet.
Belichtung und Entwicklung erfolgen wie unter Beispiel 1. Die Qualität der erhaltenen Druckform entspricht der der unter Beispiel 2 beschriebenen.
Beispiel 15
Eine Beschichtungslösung wird aus
2,5 Gt. des in Beispiel 1 beschriebenen Polymerisats, 0,2 Gt. 6-Chlor-4',4"-dimethoxy-2,3-diphenylchin-
oxaiin,
0,25 Gt. des in Beispiel 8 verwendeten Netzmittels,
0,02Gt Äthylviolett (CI. Basic Violet 4) und
15,0 Gl Älhylenglykolmonoäthyläther
hergestellt und auf ein monofiles Polyamidgewebe, das 120 Fäden pro cm besitzt, aufgebracht und getrocknet.
Belichtet wird 5 Minuten unter einer Negativvorlage mit einem Röhrenbelichtungsgerät entsprechend Beispiel 1 und anschließend 2 Minuten mit dem in Beispiel 1 angegebenen Entwickler entwickelt.
Die so erhaltene Schablone kann für den Siebdruck verwendet werden.
Beispiel 16
Eine Beschichtungslösung entsprechend Beispiel 15 wird auf die gereinigte Kupferoberfläche eines Trägers, der aus einer Kunststoffplatte mit aufkaschierter Kupferhaut besteht, aufgebfacht Und getrocknet. Trockenschichtgewicht: 10 g/m·*.
Dann wird unter einer Positivvorlage 10 Minuten mit einem Röhrenbelichtungsgerät entsprechend Beispiel 1 j belichtet, 30 Sekunden mit dem in Beispiel I angegebenen Entwickler entwickelt und anschließend mit einer Eisen-Ill^chloridlösung von 42° Be 20 Minuten geätzt.
Die verwendete Kopierschicht zeichnet sich durch Hi eine hefvöffagende Ät2fesistenz und durch ein gutes Auflösungsvermögen aus.
Beispiel 17
Eine Beschichtungslösung wird aus
|j 2,5 Gt. eines Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Mischpolymerisats mit einem mittleren Molekulargewicht von etwa 20.000 und def Säurezahl 95.
O1OlGt. RhodaminB,
"( 0,2Gt. 2,3-Bis-(4'-melhoxy-phenyl)-
5,6-dihydropyrazin,
20,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
bereitet, auf elektrochemisch vorbehandeltes 0,1 mm starkes Aluminium durch Aufschleudern bei 100 Umdrehungen je Minute aufgetragen und 2 Minuten bei
1000C getrocknet.
Dann wird die Platte unter einer Positivvorlage im
Abstand von 72 cm mit einer 8000 W Xenonlampe κι 2 Minuten belichtet. Die Entwicklung effolgt durch Überwischen mit dem in Beispiel 1 angegebenen
Entwickler innerhalb von 35 Sekunden.
Nach dem Fixieren mit l%iger Phosphorsäure wird
mit fetter Farbe eingefärbt,
π Die Qualität der erhaltenen Druckform ist ähnlich der der unter Beispiel 3 beschriebenen.
Beispiel 18
Eine Beschichtungslösung wird aus
2,5Gt.
ö,i5 Gi.
0,01 Gt.
0,2 Gt.
20,0 Gt.
des in Beispiel 17 beschriebenen Polymeri sats,
Rhodamin B,
des in Beispiel 8 verwendeten Netzmittels
und
Cyclohexanon
bereitet und auf 0,1 mm starkes, elektrochemisch vorbehandeltes Aluminium durch Aufschleudern bei 100 Umdrehungen je Minute aufgetragen. Nach dem Trocknen wird die Platte unter einer Positivvorlage 2 Minuten aus einem Abstand von 72 cm durch eine 8000 W Xenonlampe belichtet
Diese belichtete Platte wird durch Oberwischen mit dem in Beispiel 1 angegebenen Entwickler in 45 Sekunden entwickelt und nach der Behandlung mit 1 %iger Phosphorsäure mit Schutzfarbe eingefärbt.
Die erhaltene Druckform entspricht in ihrer Qualität derjenigen der unter Beispiel 17 beschriebenen.

Claims (5)

  1. Patentansprüche:
    t. Lichtempfindliches Gemisch, dessen Löslichkeit durch Belichtung erhöht wird und das ein Polymerisat mit sauren Substituenten und einen Initiator enthält, dadurch gekennzeichnet, daß der Initiator eine N-heterocyclische Verbindung ist, die mindestens einen Pyridin-, Pyrazin- oder Dihydropyrazinring und mindestens einen Benzolring als Substituenten oder in anellierter Form enthält und an diesen Ringen gegebenenfalls weitere nicht lichtempfindliche Substituenten trägt
  2. 2. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die N-heterocyclische Verbindung hochmolekular ist und eine Vielzahl von N-heterocyclischen Resten enthält
  3. 3. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die N-heterocyclische Verbindung ein Acridin, ein durch Methoxygruppen substituiertes 2,3-DiphenyI-chinoxaIin oder ein Phenazin ist.
  4. 4. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es ein Polymerisat mit Carbonsäure-, Phosphonsäure-, Sulfonsäure- oder N-Arylsulfonyl-urethangruppen enthält.
  5. 5. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß es 0,5 bis 30 Gewichtsteile N-heterocyclische Verbindung je 100 Gewichtsteile Polymerisat enthalt.
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