DE19917921C1 - Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung - Google Patents
Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren VerwendungInfo
- Publication number
- DE19917921C1 DE19917921C1 DE19917921A DE19917921A DE19917921C1 DE 19917921 C1 DE19917921 C1 DE 19917921C1 DE 19917921 A DE19917921 A DE 19917921A DE 19917921 A DE19917921 A DE 19917921A DE 19917921 C1 DE19917921 C1 DE 19917921C1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- glasses
- glass
- weight
- ceramics
- hard disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft Gläser und Glaskeramiken mit hohem E-Modul, speziell mit hohem spezifischen E-Modul und mit einer Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) SiO¶2¶ 25-50; B¶2¶O¶3¶ > 5-16; Al¶2¶O¶3¶ 10-17; P¶2¶O¶5¶ 0-8; Li¶2¶O 5-15; Na¶2¶O 0-10; K¶2¶O 0-10; SIGMA R¶2¶O 30; MgO 10-30; CaO 0-10; SrO 0-8; ZnO 0-8; SIGMA RO 45; TiO¶2¶ 0,1-10; ZrO¶2¶ 0-8. DOLLAR A Die Werkstoffe sind hervorragend geeignet zur Herstellung von Festplattensubstraten.
Description
Gegenstand der Erfindung sind Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen
Elastizitätsmodul sowie deren Verwendung.
Glas ist für die Verwendung als Substrat für Datenträger (Festplatten) gegenüber
Metallen wie Aluminium oder Metallegierungen u. a. von Vorteil wegen seiner
Planarität und seiner geringen Oberflächenrauhigkeit. Glas als der homogenste
Werkstoff bietet die Möglichkeit, die Oberfläche von Glaskörpern sehr glatt (smooth)
zu polieren. Auch der Produktionsprozeß von Glassubstraten ist, verglichen mit dem
von Aluminiumsubstraten, schneller und weniger aufwendig.
Substratgläser für Festplatten müssen bei der Verwendung erhöhten chemischen,
thermischen und mechanischen Belastungen standhalten. So erfahren sie während
der Beschichtung (beispielsweise durch Kathodenzerstäubung) hohe Temperaturen
mit hohen Abkühlraten. Bei der Verwendung als Festplatten treten hohe mechani
sche Belastungen auf, z. B. beim Einbau Klemmspannungen auf der Drehachse
sowie im Betrieb bei hohen Umdrehungszahlen von derzeit 3500 bis 10000 U/min
zusätzliche Spannungen durch die Zentrifugal- und Präzessionskräfte. Solchen Be
lastungen können vor allem 0,25 bis 3,0 mm dünne Gläser nur standhalten, wenn sie
vorgespannt sind. Da die Erhöhung der mechanischen Belastbarkeit durch thermi
sches Vorspannen erst bei einer Mindestdicke von 3 mm möglich ist, müssen Gläser
für die genannte Verwendung chemisch, d. h. durch Ionenaustausch, vorspannbar
sein.
Durch eine Vorspannung wird g-shock-Belastungen, bspw. durch unsanften Trans
port, die zu Rissen und Rißerweiterung am Innenloch führen, entgegengewirkt. Au
ßerdem wird die Bruchfestigkeit erhöht.
Der Ionenaustausch in Gläsern, insbesondere mit Alkaliionen, kann verschiedene
Ziele verfolgen. Die beiden wichtigsten sind (a) Veränderung der optischen Konstan
ten, um Gradientenwerkstoffe zu erzeugen, (b) Erzeugung von Druckspannungen in
der Oberflächenzone eines Gegenstandes, um die Anfälligkeit des Glases gegen
Biegebeanspruchung zu reduzieren.
Bei den Gradientengläsern (a) geht es darum, durch ein gezielt eingebrachtes Bre
chungsindexprofil schwierige und/oder aufwendige Bearbeitungprozesse einzuspa
ren. Hierbei gilt es, Spannungen im Glas zu vermeiden, um Komplikationen, die
durch Spannungsdoppelbrechung (Aufteilung eines optischen Strahles in einen or
dentlichen und einer außerordentlichen Strahl) zu unterdrücken. Daher werden für
den Ionenaustausch für diese Anwendung Alkaliionen verwendet, die die Erzeugung
von Spannungsdoppelbrechung vermeiden. Für diese Anwendung werden bevorzugt
Na+-Ionen gegen Ag+-Ionen ausgetauscht; der annähernd gleiche Ionenradius bei
der Ionen sorgt dafür, daß keine Spannungen entstehen.
Sollen dagegen durch den Ionenaustausch im Glas Oberflächendruckspannungen
erzeugt werden (b), werden bevorzugt Ionen gegeneinander ausgetauscht, die sich
in ihren Ionenradien stark unterscheiden. Eine Vorspannung wird dadurch jedoch
nur erzielt, wenn die Gläser eine Gerüststruktur besitzen, die sich während des Io
nenaustauschs nicht verändert, so daß die beispielsweise aus einem Salzbad ins
Glas hineindiffundierenden Ionen gerade die Positionen der herausdiffundierenden
besetzen. Daher erfolgt ein solcher Ionenaustausch bei Temperaturen unterhalb der
Glasübergangstemperatur Tg, da anderenfalls die Gerüststruktur relaxieren würde
und so die Vorspannung verloren ginge. Druckvorspannungen bilden sich aus, wenn
die eindiffundierenden Ionen größere Radien als die herausdiffundierenden haben.
Typischerweise werden Na+-Ionen gegen K+-Ionen ausgetauscht; das chemische
Vorspannen funktioniert jedoch auch mit dem Austausch von Li+-Ionen durch Na+-
Ionen oder von K+-Ionen durch Cs+-Ionen.
Es hat sich gezeigt, daß Aluminosilicatgläser zum Ionenaustausch besonders gut
geeignet sind. Durch den Einbau des Al auf Si-Tetraederplätze und die dazugehöri
ge Ladungskompensation durch ein Alkaliion wird eine offene Gerüststruktur bereit
gestellt, in der die Alkaliionen besonders leicht beweglich sind und die gegenüber
Relaxation stabil ist.
Mit der für die Zukunft vorgesehene Erhöhung der Umdrehungszahlen von Festplat
ten steigen die Anforderungen an die mechanische Stabilität von Gläsern als Fest
plattensubstrate:
Die Entwicklung auf dem Festplatten-Markt geht hin zu Datenträgern mit höheren Kapazitäten und größeren Datentransferraten bei gleich bleibenden oder gar gerin ger werdenden Abmessungen des Datenträgers. Höhere Datentransferraten bedin gen eine höhere Rotationsgeschwindigkeit der Festplatte im Laufwerk. Die Kapazität kann bei gleichbleibenden Abmessungen nur durch eine höhere Spurdichte auf der Festplatte oder durch eine Erhöhung der Zahl an Festplatten im Laufwerk gesteigert werden. Eine Erhöhung der Rotationsgeschwindigkeit verursacht aber ein stärkeres Flattern der Festplattenaußenränder, was wiederum die gewünschte höhere Spur dichte, also einen kleineren Spurabstand und auch ein engeres Stapeln von Fest platten im Laufwerk unmöglich macht. Aufgrund dieser Flatterbewegung kann auch die Flug- bzw. Gleithöhe des Schreib-Lese-Kopfes über der Festplatte nicht so ge senkt werden, wie es für eine Erhöhung der Lese-/Schreibgeschwindigkeit und der Informationsdichte erwünscht wäre.
Die Entwicklung auf dem Festplatten-Markt geht hin zu Datenträgern mit höheren Kapazitäten und größeren Datentransferraten bei gleich bleibenden oder gar gerin ger werdenden Abmessungen des Datenträgers. Höhere Datentransferraten bedin gen eine höhere Rotationsgeschwindigkeit der Festplatte im Laufwerk. Die Kapazität kann bei gleichbleibenden Abmessungen nur durch eine höhere Spurdichte auf der Festplatte oder durch eine Erhöhung der Zahl an Festplatten im Laufwerk gesteigert werden. Eine Erhöhung der Rotationsgeschwindigkeit verursacht aber ein stärkeres Flattern der Festplattenaußenränder, was wiederum die gewünschte höhere Spur dichte, also einen kleineren Spurabstand und auch ein engeres Stapeln von Fest platten im Laufwerk unmöglich macht. Aufgrund dieser Flatterbewegung kann auch die Flug- bzw. Gleithöhe des Schreib-Lese-Kopfes über der Festplatte nicht so ge senkt werden, wie es für eine Erhöhung der Lese-/Schreibgeschwindigkeit und der Informationsdichte erwünscht wäre.
Daher benötigen die Festplatten eine hohe Formstabilität, d. h. sie sollen an ihren
Außenrändern eine möglichst geringe zeitabhängige Auslenkung zeigen. Die maxi
male Auslenkung (disc flutter) W wird durch folgende Formel beschrieben:
mit:
ρ = Dichte
rA = Außendurchmesser der Festplatte
E = Elastizitätsmodul
d = Dicke der Festplatte
f(ν) geometriespezifischer Parameter
rA = Außendurchmesser der Festplatte
E = Elastizitätsmodul
d = Dicke der Festplatte
f(ν) geometriespezifischer Parameter
Daraus ergeben sich die Hauptforderungen an neue Materialien für Festplatten:
Mit einem hohen Elastizitätsmodul E und/oder einer geringen Dichte ρ kann bei gleichbleibender Geometrie (rA, d const.) die maximale Auslenkung W gesenkt wer den. Üblicherweise wird der Quotient dieser beiden Parameter E/ρ als spezifischer Elastizitätsmodul bezeichnet. Er soll einen möglichst hohen Wert annehmen.
Mit einem hohen Elastizitätsmodul E und/oder einer geringen Dichte ρ kann bei gleichbleibender Geometrie (rA, d const.) die maximale Auslenkung W gesenkt wer den. Üblicherweise wird der Quotient dieser beiden Parameter E/ρ als spezifischer Elastizitätsmodul bezeichnet. Er soll einen möglichst hohen Wert annehmen.
Die bekannten ionenaustauschfähigen Alkalialuminosilicatgläser weisen jedoch mit
typischerweise E < 90 GPa keine besonders hohen E-Moduln auf. Als Gläser mit
hohen E-Moduln sind bisher vor allem optische Gläser bekannt. Zur Erzielung des
E-Moduls enthalten sie beispielsweise La2O3, Ta2O5 oder hohen Anteile an TiO2 als
sogenannte Glasbildner, die jedoch kaum die zum Ionenaustausch befähigenden
gerüstähnlichen Strukturen besitzen und die nur schlechte Glasbildner sind, so daß
die Gläser eher zu Kristallisation neigen.
Eine weitere Anforderung an von als Festplattensubstraten geeigneten Gläsern ist
ihr thermisches Ausdehnungsverhalten, das sich nicht zu sehr von dem der verwen
deten Klemm- und Spindelmaterialien des Laufwerks (mit thermischem Ausdeh
nungskoeffizienten α20/300 ≧ 12 × 10-6/K) unterscheiden soll, um Spannungen zu
vermeiden.
Glaskeramik ist vor allem wegen ihrer Bruchzähigkeit auch ohne chemisches Vor
spannen ein für die beschriebene Verwendung interessanter Werkstoff. Jedoch be
grenzt bei den bisher verwendeten Glaskeramiken die Kristallitgröße die Oberflä
chenrestrauhigkeit auf zu hohe Werte. Bei nicht ausreichend glatter Oberfläche be
stünde insbesondere bei der angestrebten geringen Flug- und Gleithöhe des
Schreib-Lese-Kopfes die Gefahr, daß dieser auf der Festplatte aufsetzen würde,
was zu mechanischen Beschädigungen der Platte und damit zu Datenverlust füh
ren würde.
Die für die Verwendung als Festplattensubstrate bekannten Gläser und Glaskerami
ken sind meist hoch SiO2-haltige Aluminosilicatgläser bzw. Lithiumsilicatglaskerami
ken, die durch ihren hohen SiO2-Anteil und ggf. hohen Al2O3-Anteil keine guten
Schmelzeigenschaften aufweisen. Als hoch SiO2-haltiges Beispiel sei die chemisch
verstärkbare Glaszusammensetzung für Substrate zur Informationsaufzeichnung aus
der DE 42 06 268 A1 mit 62-75 Gew.-% SiO2 genannt, sowie die Glaskeramik für
magnetische Festplatten-Substrate aus der EP 626 353 A1 mit 65-83 Gew.-%
SiO2, die als Kristallphasen α-Quarz und Lithiumdisilicat enthält.
Die bekannten Gläser und Glaskeramiken erfüllen nicht gleichzeitig alle Anforderun
gen, die an Materialien für Festplatten, insbesondere für Festplatten mit hohen Um
drehungszahlen gestellt werden, sondern weisen die verschiedensten Nachteile auf.
Verschiedene Schriften beschreiben ionenaustauschfähige Gläser zur Erzeugung
von Brechwertgradienten:
EP 287 345 A1 beschreibt ionenaustauschbare Gläser für Gradientenlinsen, die ne ben Li2O auch Na2O und/oder K2O enthalten. Mit der nur fakultativen Komponente als einzigem Erdalkalioxid, dokumentiert durch Beispiele mit MgO-Gehalten zwi schen 0 und 10 mol-%, besitzen die Gläser eher geringe E-Moduln, insbesondere geringe spezifische E-Moduln, was sie für die Herstellung von Festplattensubstrate ungeeignet sein läßt. Auch B2O3 und Al2O3 sind nur fakultative Komponenten. Letz teres gilt auch für die Li2O- und Na2O-haltigen Gläser für Sammellinsen aus der JP 59-41 934 B2 und der JP 63-64 941 A, in denen kein einziges Aluminoborosilicat glas beschrieben ist. Auch bei den in JP 63-170 247 A offenbarten ionenaustausch baren Gläsern zur Erzeugung von Brechwertgradienten sind AbO3 (mit nur max. 7 mol-%) und B2O3 fakultative Komponenten. Innerhalb des relativ größen und stark variierbaren Zusammensetzungsbereichs sind keine Beispiele offenbart, die neben der Ionenaustauschbarkeit einen hohen spezifischen Elastizitätsmodul aufweisen, da Komponenten wie BaO, die die Dichte des Glases stark erhöhen, vorhanden sind. Auch diese Schrift gibt keine Hinweise, welche Zusammensetzung ein Glas besitzen muß, um gleichzeitig bruchfest (hohe Vorspannung) und formstabil (hoher spezifischer E-Modul) zu sein. Die offenbarten Gläser sind für die Verwendung als Festplattensubstrate nicht geeignet.
EP 287 345 A1 beschreibt ionenaustauschbare Gläser für Gradientenlinsen, die ne ben Li2O auch Na2O und/oder K2O enthalten. Mit der nur fakultativen Komponente als einzigem Erdalkalioxid, dokumentiert durch Beispiele mit MgO-Gehalten zwi schen 0 und 10 mol-%, besitzen die Gläser eher geringe E-Moduln, insbesondere geringe spezifische E-Moduln, was sie für die Herstellung von Festplattensubstrate ungeeignet sein läßt. Auch B2O3 und Al2O3 sind nur fakultative Komponenten. Letz teres gilt auch für die Li2O- und Na2O-haltigen Gläser für Sammellinsen aus der JP 59-41 934 B2 und der JP 63-64 941 A, in denen kein einziges Aluminoborosilicat glas beschrieben ist. Auch bei den in JP 63-170 247 A offenbarten ionenaustausch baren Gläsern zur Erzeugung von Brechwertgradienten sind AbO3 (mit nur max. 7 mol-%) und B2O3 fakultative Komponenten. Innerhalb des relativ größen und stark variierbaren Zusammensetzungsbereichs sind keine Beispiele offenbart, die neben der Ionenaustauschbarkeit einen hohen spezifischen Elastizitätsmodul aufweisen, da Komponenten wie BaO, die die Dichte des Glases stark erhöhen, vorhanden sind. Auch diese Schrift gibt keine Hinweise, welche Zusammensetzung ein Glas besitzen muß, um gleichzeitig bruchfest (hohe Vorspannung) und formstabil (hoher spezifischer E-Modul) zu sein. Die offenbarten Gläser sind für die Verwendung als Festplattensubstrate nicht geeignet.
JP 4-198 041 A beschreibt kristallisierte Gläser, die als Baumaterial verwendet wer
den. Diese Gläser mit hohen Glasbildneranteil enthalten MgO und ZnO, wobei der
ZnO-Anteil stets höher als der des MgO sein muß, was nachteilig für das Schmelz-
und Viskositätsverhalten ist.
In EP 858 974 A1 wird die Bedeutung des hohen E-Moduls für Festplattensubstrate
hervorgehoben. Die dort genannten Glasgruppen weisen sehr hohe Transformati
onstemperaturen auf und sind aufgrund ihrer Zusammensetzung, insbesondere ihrer
B2O3-Freiheit bzw. ihres geringen fakultativen B2O3-Gehaltes schlecht schmelz- und
verarbeitbar.
Auch WO 96/11888 beschreibt Glassubstrate für Aufzeichnungsmedien, die nur fa
kultativ und auch nur geringe Anteile B2O3 enthalten und daher schlecht schmelzbar
sind. Diese Li2O-freien Gläser enthalten bei maximal 8 Gew.-% des fakultativen MgO
wenigstens 11 Gew.-% RO, was zumindest keine hohen spezifischen E-Moduln er
möglicht.
Aus IDEMA, Alternative Substrates III (05.09.1995, San Jose, California) S. 55-60:
D. J. Perettie at al. "The Alternate Alternative Substrate - "Chemically Strengthened"
Aluminium" Komposit ist ein Werkstoff aus Al-B-C bekannt, der eine geringe Dichte,
eine hohe Festigkeit und einen sehr hohen spezifischen Elastizitätsmodul E/ρ be
sitzt. Der genannte Werkstoff läßt sich jedoch nur mit großem Aufwand auf die für
hochwertige Festplatten geforderte Oberflächenqualität polieren. Vor allem wegen
der großen Abriebhärte ist die Herstellung von Festplatten aus diesem Werkstoff
sehr teuer.
Aufgabe der Erfindung ist es, Werkstoffe zu finden, die einen hohen spezifischen
Elastizitätsmodul, sich ergebend durch einen hohen E-Modul und eine geringe
Dichte, und einen relativ hohen thermischen Ausdehnungskoeffizienten besitzen, die
gut schmelzbar sind, die eine ausreichende Bruchzähigkeit besitzen oder chemisch
vorspannbar sind, so daß sie eine solche Bruchzähigkeit erhalten, und die gute
Oberflächeneigenschaften aufweisen.
Die Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 beschriebenen Gläser und Glaske
ramiken gelöst. Ihre Verwendung ist im Patentanspruch 10 beschrieben.
Die Werkstoffe enthalten 25-50 Gew.-%, vorzugsweise 30-45 Gew.-% SiO2 und
10-17 Gew.-%, vorzugsweise 10-15 Gew.-% Al2O3. Damit liegen die beiden E-
Modulträger klassischer Aluminosilicatgläser in einem zueinander ausgewogenen
Verhältnis vor, das den E-Modul hebt, ohne die Dichte zu sehr zu erhöhen. Al2O3
hebt auch die Knoop-Härte des Werkstoffes. Die Knoop-Härte ist ein Maß für die
Eindruckhärte. Als weiterer Glasbildner sind < 5-16 Gew.-% B2O3 vorhanden zur
Ausbildung einer stabilen Gerüststruktur. So beträgt die Summe der klassischen
Glasbildner (SiO2, Al2O3, B2O3) zwischen < 40 Gew.-% und 83 Gew.-%. Vorzugswei
se beträgt die Summe wenigstens 50 Gew.-%. Durch den genannten Anteil an
Glasbildnern wird ein stabiles, nach Ionenaustausch nicht relaxierendes Grundglas
erhalten. Durch den genannten B2O3-Anteil wird die Schmelzbarkeit des Glases we
sentlich verbessert. Der B2O3-Gehalt wirkt viskositätserniedrigend und macht das
Glas "länger". So erhalten die Materialien ein Viskositätsverhalten, daß einen direkt
zu dünnen Scheiben führenden Heißformgebungsprozeß ermöglicht. Eine Erhöhung
des B2O3-Gehaltes über den genannten Bereich hinaus würde die chemische Resi
stenz, den E-Modul und die Knoop-Härte verringern. Vorzugsweise beträgt der B2O3-
Höchstgehalt 14 Gew.-%.
Ähnliche Gläser, jedoch nur fakultativ B2O3-haltig mit nur geringen B2O3-Gehalten,
sind in der älteren deutschen Patentanmeldung DE 198 02 919.5 der Anmelderin
beschrieben.
Als E-Modul hebende Komponente sind ein oder mehrere Erdalkalioxide vorhanden,
und zwar 10-30 Gew.-%, vorzugsweise 15-30 Gew.-% MgO, 0-10 Gew.-%, vor
zugsweise 0-8 Gew.-% CaO und 0-8 Gew.-% SrO. Auch ZnO, das mit 0-8 Gew.-
% vorhanden sein kann, wirkt entsprechend. Die Summe der zweiwertigen Oxide
(RO) beträgt bis zu 45 Gew.-%, bevorzugt bis zu 40 Gew.-%, besonders bevorzugt
bis zu 35 Gew.-%, ganz besonders bevorzugt bis zu 30 Gew.-%.
Die Werkstoffe enthalten 5-30 Gew.-% Alkalioxide, die als Flußmittel dienen. Höhe
re Anteile würden sowohl den E-Modul und die Knoop-Härte senken als auch die
chemische Beständigkeit herabsetzen. Bevorzugt ist ein Höchstgehalt von 20 Gew.-
%, besonders bevorzugt von 17 Gew.-%, ganz besonders bevorzugt von 15 Gew.-%.
Von den Alkalioxiden können 0-10 Gew.-%, vorzugsweise 0-6 Gew.-% Na2O und
0-10 Gew.-%, vorzugsweise 0-8 Gew.-% K2O sein. Li2O ist mit 5-15 Gew.-%,
vorzugsweise 5-12 Gew.-% zwingender Bestandteil, da diese Komponente für die
se Materialien wesentlich für die chemische Vorspannung durch Ionenaustausch ist.
Bei zu hohen Anteilen an K2O und Na2O gegenüber Li2O würde der geforderte hohe
E-Modul bzw. hohe spezifische E-Modul nicht erreicht.
Die Werkstoffe können bis zu 8 Gew.-% P2O5 enthalten. P2O5 in diesen Anteilen er
leichtert in den erdalkalireichen Aluminoborosilicatzusammensetzungen den Ionen
austausch mit einem hohen Spannungsaufbau, da es anscheinend die zum Aus
tausch nötigen gerüstartigen Strukturen fördert. Daher ist das Vorhandensein von
wenigstens 1 Gew.-% P2O5 bevorzugt. Höhere Anteile als 8 Gew.-% lassen jedoch
E-Modul und Knoop-Härte zu sehr absinken. Es ist von Vorteil, daß der P2O5-
Höchstgehalt relativ niedrig ist, da solche P2O5-haltigen Zusammensetzungen auch
hinsichtlich der Schmelz- und Verdampfungsproblematik des P2O5 noch sehr gut
handhabbar sind.
Die Werkstoffe enthalten weiter 0,1-10 Gew.-% -TiO2, vorzugsweise 1-8 Gew.-%.
diese Komponente ist notwendig, um bei dieser B2O3- und relativ hoch R2O-haltigen
Zusammensetzung eine ausreichende chemische Beständigkeit zu gewährleisten.
Aus demselben Grund können die Werkstoffe noch bis zu 8 Gew.-%, vorzugsweise
bis zu 5 Gew.-% ZrO2 enthalten. Beide Komponenten tragen darüberhinaus positiv
zu den hohen E-Moduln bei.
Aufgrund der Anteile an Li2O und TiO2 und ggf. ZrO2 kann es insbesondere bei ho
hen MgO-Gehalten, d. h. bei MgO-Gehalten ≧ 21 Gew.-%, zusammen mit TiO2 +
ZrO2 ≧ 6, nach Schmelze und Heißformgebung während des Abkühlens zu Kristalli
sationen im Glas kommen, die aber kontrolliert ablaufen, da das Verhältnis zwischen
kristallisationsfördernden und kristallisationshemmenden Komponenten ausgewogen
ist. Geringe Kühlraten begünstigen die Keramisierung. Es bildet sich eine feinkörni
ge und in Größe und Verteilung hochhomogene Kristallphase, die in der Glasphase
auch hinsichtlich der Härte homogen ist, so daß das Material sich gut bearbeiten
läßt mit dem Ergebnis glatter Oberflächen. Mit steigendem Keramisierungsanteil, der
mit dem Anteil der zweiwertigen Oxide (RO) steigt, steigen E-Modul und Knoop-
Härte an. Bei den höheren Kristallphasenanteilen baut sich in den zwar ionenaus
tauschbaren Materialien beim Austausch nur eine geringe oder keine Vorspannung
mehr auf bzw. relaxiert diese schnell, jedoch weisen diese Glaskeramiken bereits
ohne Verspannen eine ausreichend hohe Festigkeit auf. Je nach Phasenverhältnis
(Verhältnis von Kristall- zur Glasphase) und der Größe der Kristallite sind die Glas
keramiken transparent, translucent oder opak. Die gute Oberflächenbearbeitbarkeit
ist unabhängig von der Transmission.
Bei einem höheren als dem genannten RO-Gehalt würden die Materialien die typi
schen Sprödwerkstoffeigenschaften verlieren.
Festplatten-Substrate aus opakem oder z. B. durch farbgebende Mittel in seiner
Transmission herabgesetztem Material haben den Vorteil, daß sie eine verringerte
Durchlässigkeit für das Prüflicht einer Oberflächenqualitätsprüfeinrichtung aufwei
sen, die Fehler an der Oberfläche und nicht im Volumen detektieren soll. Daher
können die Gläser und Glaskeramiken bis zu insgesamt 10 Gew.-% eines oder meh
rerer farbgebender Mittel, ausgewählt aus der Gruppe Fe2O3, NiO, Cr2O3, CoO, CuO,
V2O5 enthalten.
Zur Läuterung können dem Glas bzw. dem Grundglas der Glaskeramik übliche
Läutermittel wie As2O3, Sb2O3, NaCl zugesetzt werden, die dann in üblichen Men
gen, d. h. je nach Menge und verwendetem Typ des Läutermittels in Mengen von
0,05 Gew.-% bis 1 Gew.-% im Produkt anzutreffen sind.
Vorzugsweise wird auf das Läutermittel As2O3 verzichtet, d. h. Glas und Glaskeramik
sind bis auf unvermeidliche Verunreinigungen frei von Arsenoxid, da die erfindungs
gemäßen Materialien möglichst frei von umweltbedenklichen Komponenten sein
sollen. Aus diesem Grund ist es auch von Vorteil, daß die Materialien kein PbO ent
halten.
Weiter können die Gläser bzw. Glaskeramiken laseraktive Komponenten enthalten,
die die Lasertexturierung der Substratoberfläche vor der Beschichtung ermöglichen.
So können sie bis zu insgesamt 8 Gew.-% an Oxiden eines oder mehrerer Elemente
aus der Gruppe Ga, Ge, Y, Nb, Mo, La, Ce, Pr, Nd, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Hf,
Ta enthalten.
Der Ionenaustausch von Li+-Ionen und ggf. zusätzlich Na+-Ionen gegen Na+
und/oder K+ kann auf bekannte Weise durch Einbringen der Glas- oder Glaskerami
körper in Schmelzen (Salzbädern) von eher niedrigschmelzenden Natrium- und/oder
Kaliumsalzen, z. B. ihre Nitrate, oder auch durch Aufbringen von Pasten von eher
höher schmelzenden Natrium- und/oder Kaliumsalzen, z. B. ihre Sulfate, auf die
Oberfläche des Körpers stattfinden. Das Bad oder die Paste kann auch Anteile von
Li-Salzen enthalten. Bevorzugt ist der Austausch mit Natriumsalzen. Einwirkzeiten
und -temperaturen entsprechen den üblichen, von der jeweiligen Zusammensetzung
abhängenden Bedingungen bei diesen bekannten Ionenaustauschverfahren unter
halb der Transformationstemperatur Tg, d. h. Zeiten zwischen 1 h und 16 h, vor
zugsweise zwischen 1 h und 8 h, und Temperaturen zwischen Tg - 120 K und Tg -
30 K, vorzugsweise zwischen Tg - 80 K und Tg - 40 K, wobei niedrigere Temperatu
ren höhere Verweilzeiten erforderlich machen. Daher ist der bei eher höheren Tem
peraturen und eher näher an Tg, d. h. bei ungefähr Tg - 30 K bis Tg - 50 K, durch
geführte Austausch mittels Salzpasten i. a. mit kürzeren Austauschzeiten möglich,
verglichen mit dem chemischen Vorspannen in Salzbädern. Durch den Ionenaus
tausch werden Ionenaustauschprofiltiefen < 15 µm erreicht und Vorspannungen σ <
50 MPa erhalten.
Besonders tiefgehende Austauschprofile bei nicht zu hohen Vorspannungen - zu
hohe Vorspannungen, d. h. Vorspannungen < 500 MPa, könnten zur Selbstzerstö
rung der Substrate führen - werden erreicht durch einen über das Maximum der
Vorspannung hinaus verlängerten Austausch, so daß ein noch tiefgreifender Aus
tausch erfolgt, die Spannungswerte jedoch durch Relaxation schon wieder sinken.
Auch ein zweifacher Ionenaustausch, der sogenannte "verdeckte" Profile erzeugt, ist
möglich: Dabei wird z. B. erst Li+ gegen Na+ in einer tiefen Zone durch relativ lange
Einwirkzeiten ausgetauscht und dann in einem zweiten Schritt in einer dünneren
Randzone Na+ wieder gegen Li+ ausgetauscht, wobei die Austauschzeiten 1/3 bis
1/2 derer des ersten Austauschs betragen.
Folgender Zusammensetzungsbereich (in Gew.-% auf Oxidbasis) beinhaltet bevor
zugte Gläser (die Konzentrationen von Keimbildnern sind gering, so daß die Gläser
nicht kristallisieren), die die geforderten Eigenschaften besonders vorteilhaft verei
nen und die insbesondere sehr gut chemisch vorspannbar sind: SiO2 35-45, vor
zugsweise 40-45, B2O3 6-12, vorzugsweise 6-10, Al2O3 10-14, vorzugsweise 11
-13, P2O5 0,1-5, vorzugsweise 0,1-3, Li2O 8-12, vorzugsweise 9-11, Na2O 0-4,
vorzugsweise 0-2, bevorzugt Na2O-frei, K2O 0-4, vorzugsweise 0-2, bevorzugt
K2O-frei, mit Σ R2O ≦ 15, MgO 15-25, vorzugsweise 17-23, CaO 0-5, vorzugs
weise 0-3, bevorzugt CaO-frei, SrO 0-5, vorzugsweise 0-3, bevorzugt SrO-frei,
ZnO 0-5, vorzugsweise 0-2, bevorzugt ZnO-frei, mit Σ RO ≦ 35, vorzugsweise Σ
RO ≦ 30, TiO2 3-8, vorzugsweise 3-7, ZrO2 0 -< 5, vorzugsweise 0-3, mit TiO2 +
ZrO2 ≦ 10.
In der Tabelle 1 sind 18 Beispiele, 17 erfindungsgemäße Gläser (1-16, 18) und ein
Beispiel einer Glaskeramik (17), angegeben. Die Tabelle enthält deren Zusammen
setzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) sowie Angaben zu wesentlichen Eigenschaften.
Zur Herstellung werden übliche Rohstoffe verwendet. Das Gemenge wird bei ca.
1400°C in einem kontinuierlichen Schmelzaggregat eingeschmolzen, bei ca. 1360
°C geläutert und danach homogenisiert. Bei einer Gußtemperatur von etwa 1350°C
wird das Glas gegossen und gekühlt. Während dieses Kühlvorgangs läuft bei den
hoch MgO- und (TiO2 + ZrO2)-haltigen Zusammensetzungen die Keramisierung ab.
Aus den entstandenen Gußblöcken (Glas- bzw. Glaskeramikkörper) werden auf her
kömmliche Weise runde Scheiben hergestellt, die die Form und die Abmessungen
von Festplatten-Substraten besitzen, d. h. einen Außendurchmesser von 65,0 mm
und eine Dicke von 0,635 mm aufweisen und ein konzentrisches Innenloch mit ei
nem Durchmesser von 20,00 mm besitzen.
Der thermische Ausdehnungskoeffizient α20/300 der Gläser und der Glaskeramiken
beträgt < 7,0 . 10-6/K und < 11,0 . 10-6/K und liegt damit ausreichend nah an dem
des Spindelmaterials, das die Festplatten im Laufwerk trägt. Neben der Transforma
tionstemperatur Tg [°C] der Gläser bzw. der Glaskeramiken und α20/300 enthält die
Tabelle 1 die für die Verwendung als Festplattensubstrate wichtigen Eigenschaften
Elastizitätsmodul E [103 N/mm2] und Dichte ρ [g/cm3] sowie, daraus berechnet, den
spezifischen Elastizitätsmodul E/ρ [105 N.cm/g]. Der E-Modul wird an nicht vorge
spannten Proben bestimmt. Die Gläser und Glaskeramiken weisen Elastizitätsmo
duln E < 90 . 103 N/mm2 und < 125 . 103 N/mm2, meist < 115 . 103 N/mm2, und
spezifische E-Moduln E/ρ < 30 . 105 Ncm/g, meist < 35 . 105 Ncm/g, und < 45 . 105
N.cm/g auf. Aufgrund der niedrigen Dichten der Gläser und Glaskeramiken werden
bei hohen E-Moduln sehr hohe spezifische E-Moduln erreicht. Weiterhin enthält die
Tabelle 1 die Knoop-Härte HK(0,1/20) nach DIN ISO 9385.
Tabelle 2 enthält die Ergebnisse des Ionenaustauschs an Beispielen unterschiedli
cher Zusammensetzungen und unter unterschiedlichen Austauschbedingungen, d.
h. Austauschzeiten und -temperaturen. Der Ionenaustausch wurde in einer Salz
schmelze von 95 Gew.-% NaNO3 und 5 Gew.- NaCl an allseitig polierten und kan
tenfacettierten 2 mm dicken Scheiben der Abmessung 6 mm × 50 mm durchgeführt.
Tabelle 2 gibt jeweils die Austauschzeit t [h], die Austauschtemperatur T [°C], die
Transformationstemperatur Tg [°C] des behandelten Glases und die Differenz zwi
schen Transformationstemperatur und Austauschtemperatur ΔT [K] = Tg - T, auf 5
K gerundet an. Weiter enthält sie die erzielte Druckspannung [MPa], die Tiefe [µm]
der Druckspannungszone sowie die Profiltiefe [µm] des Ionenaustausches, gemes
sen mittels energiedispersiver Röntgenanalyse (EDX). Die Druckspannung wird an
Querschliffen von den ionenausgetauschten Scheiben bestimmt. Die Druckspan
nungswerte zeigen, daß die Werkstoffe eine hohe Bruch- und Rißzähigkeit aufwei
sen.
Die erfindungsgemäßen Werkstoffe, sowohl die Gläser als auch die Glaskeramiken,
erfüllen das gesamte Anforderungsprofil an Materialien für die Herstellung von
Festplattensubstraten und vereinen dabei bisher vermeintlich unvereinbare Eigen
schaften in sich:
Sie besitzen aufgrund ihrer hohen spezifischen Elastizitätsmoduln eine hohe Form stabilität, und sie sind aufgrund ihrer guten Schmelz- und Verarbeitungseigenschaf ten gut herstellbar.
Sie besitzen aufgrund ihrer hohen spezifischen Elastizitätsmoduln eine hohe Form stabilität, und sie sind aufgrund ihrer guten Schmelz- und Verarbeitungseigenschaf ten gut herstellbar.
Insbesondere die Gläser sind sehr gut chemisch vorspannbar, wodurch ihre me
chanische Belastbarkeit erhöht wird. Mit steigendem Keramisierungsanteil sinkt zwar
die Vorspannbarkeit der Glaskeramiken, jedoch steigt ebenfalls mit steigendem Ke
ramisierungsanteil die dem Material eigene Bruchzähigkeit, so daß die erfindungs
gemäßen Werkstoffe eine ausreichende Festigkeit besitzen bzw. durch das Vor
spannen erhalten, was sie neben den anderen Eigenschaften hervorragend geeig
net macht für die Herstellung von vorgespannten oder durch ausreichende Kristalli
sation von sich aus ausreichend rißzähen Festplattensubstraten.
Weiter weisen die Werkstoffe eine ausreichende chemische Beständigkeit auf, und
ihr thermisches Ausdehnverhalten stimmt ausreichend gut mit dem des Klemmateri
als und der Antriebswelle überein. Auch sind die Oberflächen der Glas- und Glaske
ramikkörper gut bearbeitbar. So können sie auf eine Mikrorauhigkeit (smoothness)
von ≦ 0,5 nm bearbeitet werden. Sie weisen also eine hervorragende Oberflächen
qualität auf.
Claims (10)
1. Gläser oder Glaskeramiken mit hohem spezifischen Elastizitätsmodul mit ei
ner Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis):
SiO2 25-50
B2O3 < 5-16
Al2O3 10-17
P2O5 0-8
Li2O 5-15
Na2O 0-10
K2O 0-10
Σ R2O ≦ 30
MgO 10-30
CaO 0-10
SrO 0-8
ZnO 0-8
Σ RO ≦ 45
TiO2 0,1-10
ZrO2 0-8
und ggf. übliche Läutermittel in üblichen Mengen.
2. Gläser oder Glaskeramiken nach Anspruch 1,
gekennzeichnet durch eine Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis):
SiO2 30-45
B2O3 < 5-14
Al2O3 10-15
mit SiO2 + B2O3 + Al2O3 ≧ 50
P2O5 0-8
Li2O 5-12
Na2O 0-6
K2O 0-8
Σ R2O ≦ 20
MgO 15-30
CaO 0-8
SrO 0-8
ZnO 0-8
Σ RO ≦ 40
TiO2 1-8
ZrO2 0-5
und ggf. übliche Läutermittel in üblichen Mengen.
3. Gläser nach Anspruch 1 oder 2,
gekennzeichnet durch eine Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis):
SiO2 35-45
B2O3 6-12
Al2O3 10-14
P2O5 0,1-5
Li2O 8-12
Na2O 0-4
K2O 0-4
Σ R2O ≦ 15
MgO 15-25
CaO 0-5
SrO 0-5
ZnO 0-5
Σ RO ≦ 35
TiO2 3-8
ZrO2 0 -< 5
TiO2 + ZrO2 ≦ 10
und ggf übliche Läutermittel in üblichen Mengen.
4. Gläser nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 3,
gekennzeichnet durch eine Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis):
SiO2 40-45
B2O3 6-10
Al2O3 11-13
P2O5 0,1-3
Li2O 9-11
Na2O 0-2
K2O 0-2
MgO 17-23
CaO 0-3
SrO 0-3
ZnO 0-2
Σ RO ≦ 30
TiO2 3-7
ZrO2 0-3
und ggf. übliche Läutermittel in üblichen Mengen.
5. Gläser oder Glaskeramiken nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß sie wenigstens 1 Gew.-% P2O5 enthalten.
6. Gläser oder Glaskeramiken nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß sie zusätzlich bis zu insgesamt 10 Gew.-% eines oder mehrerer Ele
mente aus der Gruppe Fe2O3, NiO, Cr2O3, CoO, CuO, V2O5 enthalten.
7. Gläser oder Glaskeramiken nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß sie zusätzlich bis zu insgesamt 8 Gew.-% von Oxiden eines oder meh
rerer Elemente aus der Gruppe Ga, Ge, Y, Nb, Mo, La, Ce, Pr, Nd, Gd, Tb,
Dy, Ho, Er, Tm, Yb, HF, Ta enthalten
8. Gläser oder Glaskeramiken nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß sie bis auf unvermeidbare Verunreinigungen frei von As2O3 und von
PbO sind.
9. Gläser oder Glaskeramiken nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 8
mit einem Elastizitätsmodul E von 90 . 103 N/mm2 < E < 125 . 103 N/mm2,
einem spezifischen Elastizitätsmodul E/ρ von 30 . 105 N.cm/g < E/ρ < 45 .
105 N.cm/g und einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten α20/300 von
7,0 . 10-6/K < α20/300 < 11,0 . 10-6/K.
10. Verwendung eines Glases oder einer Glaskeramik nach wenigstens einem
der Ansprüche 1 bis 9 zur Herstellung von Substraten für Festplatten.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19917921A DE19917921C1 (de) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung |
| US09/551,993 US6376402B1 (en) | 1999-04-20 | 2000-04-19 | Glasses and glass-ceramics with high specific young's modulus and their applications |
| JP2000119770A JP3512706B2 (ja) | 1999-04-20 | 2000-04-20 | 高い比弾性率を有するガラス及びガラスセラミックス並びにそれらの使用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19917921A DE19917921C1 (de) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19917921C1 true DE19917921C1 (de) | 2000-06-29 |
Family
ID=7905253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19917921A Expired - Fee Related DE19917921C1 (de) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6376402B1 (de) |
| JP (1) | JP3512706B2 (de) |
| DE (1) | DE19917921C1 (de) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001049620A2 (en) | 2000-01-05 | 2001-07-12 | Schott Glass Technologies, Inc. | Alkaline-earth-free boroalkali silicate glass |
| DE10133963A1 (de) * | 2001-07-17 | 2003-02-06 | Schott Glas | Boroalkalisilicatglas und seine Verwendungen |
| US7399721B2 (en) * | 2002-07-24 | 2008-07-15 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass for laser processing |
Families Citing this family (57)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4831854B2 (ja) * | 1999-07-06 | 2011-12-07 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP2001026456A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4265036B2 (ja) * | 1999-07-14 | 2009-05-20 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP4207316B2 (ja) * | 1999-07-14 | 2009-01-14 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP2001026440A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026458A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP2001026446A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4265035B2 (ja) * | 1999-07-14 | 2009-05-20 | コニカミノルタオプト株式会社 | 結晶化ガラス組成物 |
| JP2001266329A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-28 | Minolta Co Ltd | ディスク媒体用ガラス基板 |
| JP4300676B2 (ja) * | 2000-04-03 | 2009-07-22 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP4273623B2 (ja) * | 2000-04-03 | 2009-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP4224925B2 (ja) * | 2000-04-03 | 2009-02-18 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP2001287931A (ja) * | 2000-04-03 | 2001-10-16 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4273624B2 (ja) * | 2000-04-03 | 2009-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP2001287967A (ja) * | 2000-04-03 | 2001-10-16 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP4273625B2 (ja) * | 2000-04-03 | 2009-06-03 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
| JP2001287934A (ja) * | 2000-04-03 | 2001-10-16 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| JP3995902B2 (ja) * | 2001-05-31 | 2007-10-24 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板及びそれを用いた磁気情報記録媒体 |
| JP4041298B2 (ja) * | 2001-10-05 | 2008-01-30 | 日本板硝子株式会社 | レーザ光照射によるガラスの加工方法 |
| US6555232B1 (en) * | 2001-11-28 | 2003-04-29 | Corning, Incorporated | High strain point glasses |
| DE10245234B4 (de) * | 2002-09-27 | 2011-11-10 | Schott Ag | Kristallisierbares Glas, seine Verwendung zur Herstellung einer hochsteifen, bruchfesten Glaskeramik mit gut polierbarer Oberfläche sowie Verwendung der Glaskeramik |
| DE10346197B4 (de) * | 2003-09-30 | 2006-02-16 | Schott Ag | Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer solchen und Verwendung |
| JP4039381B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2008-01-30 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物を用いた情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体 |
| WO2006106627A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | Hoya Corporation | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP4780995B2 (ja) * | 2005-04-01 | 2011-09-28 | 京セラ株式会社 | ガラスセラミック焼結体およびそれを用いた配線基板 |
| US20080130171A1 (en) * | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Francis Martin Behan | Calcium aluminosilicate glasses for use as information recording medium substrates |
| US8161862B1 (en) * | 2007-01-08 | 2012-04-24 | Corning Incorporated | Hybrid laminated transparent armor |
| JP4755135B2 (ja) * | 2007-04-27 | 2011-08-24 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス |
| DE102007033338B4 (de) * | 2007-07-16 | 2010-06-02 | Schott Ag | Hartstoffbeschichteter Glas- oder Glaskeramik-Artikel und Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Glas- oder Glaskeramik-Artikels |
| JP5070006B2 (ja) * | 2007-11-02 | 2012-11-07 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス |
| US9346703B2 (en) * | 2010-11-30 | 2016-05-24 | Corning Incorporated | Ion exchangable glass with deep compressive layer and high damage threshold |
| US9359251B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-06-07 | Corning Incorporated | Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles |
| WO2014003532A1 (en) * | 2012-06-27 | 2014-01-03 | Kok Heng Loh | A glass-ceramic composition and manufacturing method thereof |
| US11352287B2 (en) | 2012-11-28 | 2022-06-07 | Vitro Flat Glass Llc | High strain point glass |
| US11079309B2 (en) | 2013-07-26 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Strengthened glass articles having improved survivability |
| US9517968B2 (en) | 2014-02-24 | 2016-12-13 | Corning Incorporated | Strengthened glass with deep depth of compression |
| CN103819089B (zh) * | 2014-03-08 | 2016-01-06 | 启东远洋电缆有限公司 | 熔融法制备微晶玻璃的工艺及高平整度的微晶玻璃 |
| CN103819093B (zh) * | 2014-03-08 | 2016-01-20 | 启东斯单珂工具制造有限公司 | 烧结法制备微晶玻璃的工艺及高平整度的微晶玻璃 |
| TWI852054B (zh) | 2014-06-19 | 2024-08-11 | 美商康寧公司 | 無易碎應力分布曲線的玻璃 |
| TWI803167B (zh) | 2014-10-08 | 2023-05-21 | 美商康寧公司 | 具有葉長石及矽酸鋰結構的高強度玻璃陶瓷 |
| EP3896042A1 (de) | 2014-10-08 | 2021-10-20 | Corning Incorporated | Gläser und glaskeramiken mit einem metalloxidkonzentrationsgradienten |
| US10150698B2 (en) | 2014-10-31 | 2018-12-11 | Corning Incorporated | Strengthened glass with ultra deep depth of compression |
| EP4011843A3 (de) | 2014-11-04 | 2022-06-29 | Corning Incorporated | Tiefe unzerbrechliche belastungsprofile und verfahren zur herstellung |
| US11267747B2 (en) | 2015-03-24 | 2022-03-08 | Corning Incorporated | High strength, scratch resistant and transparent glass-based materials |
| US10579106B2 (en) | 2015-07-21 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
| US11613103B2 (en) | 2015-07-21 | 2023-03-28 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
| DE202016008995U1 (de) | 2015-12-11 | 2021-04-20 | Corning Incorporated | Durch Fusion bildbare glasbasierte Artikel mit einem Metalloxidkonzentrationsgradienten |
| DE202017007024U1 (de) | 2016-04-08 | 2019-03-25 | Corning Incorporated | Glasbasierte Artikel einschließlich eines Spannungsprofils, das zwei Gebiete umfasst |
| KR102018834B1 (ko) | 2016-04-08 | 2019-09-05 | 코닝 인코포레이티드 | 금속 산화물 농도 구배를 포함하는 유리-계 제품 |
| NL2020896B1 (en) | 2018-05-08 | 2019-11-14 | Corning Inc | Water-containing glass-based articles with high indentation cracking threshold |
| TWI891613B (zh) | 2018-11-16 | 2025-08-01 | 美商康寧公司 | 用於透過蒸氣處理而強化之玻璃成分及方法 |
| WO2020231959A1 (en) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | Corning Incorporated | Glasses with modified young's modulus profile |
| CN114127024B (zh) | 2019-05-16 | 2023-10-24 | 康宁股份有限公司 | 具有蒸汽处理雾度抗性的玻璃组合物及其方法 |
| WO2020231967A1 (en) * | 2019-05-16 | 2020-11-19 | Corning Incorporated | Steam strengthenable glass compositions with low alkali content |
| US12122711B2 (en) | 2019-05-16 | 2024-10-22 | Corning Incorporated | Steam strengthenable glass compositions with low phosphorous content |
| US11827556B2 (en) | 2019-11-26 | 2023-11-28 | Corning Incorporated | Magnesium aluminosilicate glasses with high fracture toughness |
| GB202012825D0 (en) | 2020-05-12 | 2020-09-30 | Corning Inc | Fusion formable and steam strengthenable glass compositions with platinum compatibility |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5941934B2 (ja) * | 1980-12-05 | 1984-10-11 | 日本板硝子株式会社 | 光集束性レンズ用ガラス組成物 |
| JPS6364941A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光集束性レンズ |
| JPS63170247A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-14 | Ohara Inc | 屈折率分布ガラスの製造方法 |
| EP0287345A1 (de) * | 1987-04-16 | 1988-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Glaszusammensetzung und Verfahren zur Herstellung einer Gradient-Index-Linse |
| JPH04198041A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラス |
| DE4206268A1 (de) * | 1991-05-20 | 1992-11-26 | Hoya Corp | Chemisch verstaerkbare glaszusammensetzung |
| EP0626353A1 (de) * | 1993-05-19 | 1994-11-30 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glaskeramik für Magnetplatten-Substrate und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| WO1996011888A1 (fr) * | 1994-10-13 | 1996-04-25 | Saint-Gobain Vitrage S.A. | Substrat en verre renforce |
| EP0858974A1 (de) * | 1996-09-04 | 1998-08-19 | Hoya Corporation | Glas für informations auf zeichnungsträgersubstrat und glassubstrat |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5941934A (ja) | 1982-09-01 | 1984-03-08 | Nec Corp | 選択呼出受信機 |
| US6191058B1 (en) * | 1996-02-02 | 2001-02-20 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for a magnetic disk |
| US6214429B1 (en) * | 1996-09-04 | 2001-04-10 | Hoya Corporation | Disc substrates for information recording discs and magnetic discs |
| JP3416033B2 (ja) * | 1996-09-05 | 2003-06-16 | 株式会社オハラ | 磁気ヘッド用結晶化ガラス基板およびその製造方法 |
| JP3419291B2 (ja) * | 1997-03-04 | 2003-06-23 | 株式会社村田製作所 | 低温焼結磁器組成物及びそれを用いた多層セラミック基板 |
| US5997977A (en) * | 1997-06-05 | 1999-12-07 | Hoya Corporation | Information recording substrate and information recording medium prepared from the substrate |
| DE19802919C1 (de) | 1998-01-27 | 1999-10-07 | Schott Glas | Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate |
| DE19838198C2 (de) * | 1998-08-24 | 2002-06-27 | Schott Glas | Gläser und Glaskeramiken mit hohem E-Modul sowie deren Verwendungen |
-
1999
- 1999-04-20 DE DE19917921A patent/DE19917921C1/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-19 US US09/551,993 patent/US6376402B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-04-20 JP JP2000119770A patent/JP3512706B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5941934B2 (ja) * | 1980-12-05 | 1984-10-11 | 日本板硝子株式会社 | 光集束性レンズ用ガラス組成物 |
| JPS6364941A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光集束性レンズ |
| JPS63170247A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-14 | Ohara Inc | 屈折率分布ガラスの製造方法 |
| EP0287345A1 (de) * | 1987-04-16 | 1988-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Glaszusammensetzung und Verfahren zur Herstellung einer Gradient-Index-Linse |
| JPH04198041A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 結晶化ガラス |
| DE4206268A1 (de) * | 1991-05-20 | 1992-11-26 | Hoya Corp | Chemisch verstaerkbare glaszusammensetzung |
| EP0626353A1 (de) * | 1993-05-19 | 1994-11-30 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glaskeramik für Magnetplatten-Substrate und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| WO1996011888A1 (fr) * | 1994-10-13 | 1996-04-25 | Saint-Gobain Vitrage S.A. | Substrat en verre renforce |
| EP0858974A1 (de) * | 1996-09-04 | 1998-08-19 | Hoya Corporation | Glas für informations auf zeichnungsträgersubstrat und glassubstrat |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001049620A2 (en) | 2000-01-05 | 2001-07-12 | Schott Glass Technologies, Inc. | Alkaline-earth-free boroalkali silicate glass |
| DE10133963A1 (de) * | 2001-07-17 | 2003-02-06 | Schott Glas | Boroalkalisilicatglas und seine Verwendungen |
| DE10133963B4 (de) * | 2001-07-17 | 2006-12-28 | Schott Ag | Boroalkalisilicatglas und seine Verwendungen |
| US7399721B2 (en) * | 2002-07-24 | 2008-07-15 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass for laser processing |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6376402B1 (en) | 2002-04-23 |
| JP2000327365A (ja) | 2000-11-28 |
| JP3512706B2 (ja) | 2004-03-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE19917921C1 (de) | Gläser und Glaskeramiken mit hohem spezifischen E-Modul und deren Verwendung | |
| DE69705693T2 (de) | Glaskeramisches Trägermaterial für magnetisches Informationsaufzeichnungsmedium | |
| DE19616679C1 (de) | Verfahren zur Herstellung chemisch vorgespannten Glases und Verwendung desselben | |
| DE69932553T2 (de) | Glaskeramisches Substrat für magnetischen Aufzeichnungsträger | |
| DE60000964T2 (de) | Glaskeramik | |
| DE69915428T2 (de) | Glaskeramiken mit niedriger Ausdehnung | |
| DE69815492T2 (de) | Glaskeramisches Trägermaterial hoher Steifigkeit für magnetisches Informationsaufzeichnungsmedium | |
| DE69502806T2 (de) | Substrat aus verstärktem glas | |
| DE69834385T2 (de) | Verfahren zur herstellung von glassubstrat zur informationsaufzeichnung | |
| DE69623240T2 (de) | Magnetplattenträger, magnetische platte und verfahren zur herstellung des magnetplattenträgers | |
| DE69204791T2 (de) | Selbstglasierende, Lithiumdisilikat enthaltende Glaskeramik. | |
| DE4206268C2 (de) | Chemisch verstärkbare Glaszusammensetzung und deren Verwendungen | |
| DE19616633C1 (de) | Chemisch vorspannbare Aluminosilicatgläser und deren Verwendung | |
| DE19838198C2 (de) | Gläser und Glaskeramiken mit hohem E-Modul sowie deren Verwendungen | |
| DE69835572T2 (de) | Substrat für informationsträger | |
| DE2034393B2 (de) | Anwendung des Verfahrens zur Erhöhung der mechanischen Festigkeit eines Glases durch Austausch von Natriumionen gegen Kaliumionen auf ein Glas, das verkürzte Austauschzeiten ermöglicht | |
| DE102008062274A1 (de) | Glaskeramik und Verfahren zur Herstellung derselben | |
| DE19615688A1 (de) | Glassubstrat für Magnetscheiben | |
| DE69726108T2 (de) | Glas für informations auf zeichnungsträgersubstrat und glassubstrat | |
| DE112018007900T5 (de) | Kristallisiertes glassubstrat | |
| DE68908074T2 (de) | Phosphatgläser, die Alkalioxide und Aluminiumoxid und/oder Boroxid enthalten. | |
| DE10141666A1 (de) | Zinkhaltiges Alkalialuminosilicatglas und seine Verwendungen | |
| DE68920691T2 (de) | Zink enthaltende Phosphatgläser. | |
| DE69635850T2 (de) | Glaskeramisches Trägermaterial für magnetisches Informationsaufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE10064808B4 (de) | Zinkoxidhaltiges Borosilicatglas und dessen Verwendungen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
| D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: SCHOTT AG, 55122 MAINZ, DE |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |