DE19546900C1 - Zinn-Kathode einer Magnetronsputteranlage - Google Patents
Zinn-Kathode einer MagnetronsputteranlageInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Zinn-Kathode einer Magnetron
sputteranlage zur großflächigen Beschichtung von tafel-för
migen Werkstücken, z. B. Flachglas, bestehend aus einer
Zinnplatte, die auf eine Kupfer-Grundplatte aufgelötet ist,
in welche zu Transportzwecken Gewindebuchsen aus einem Me
tall höherer Festigkeit als das der Kupfer-Grundplatte ein
gesetzt sind.
Magnetronsputteranlagen arbeiten nach dem bekannten Prinzip
der Hochvakuum-Kathodenzerstäubung, wobei das gebildete
Plasma durch ein Permanentmagnetsystem beeinflußt wird.
Wenn SnO₂-Schichten auf großflächige Werkstücke, z. B.
Glastafeln mit Maßen von 6,20 × 3,20 m, aufgetragen werden
sollen, muß als sog. Target am Kathodengehäuse der Sputter
anlage eine Zinnplatte befestigt werden, die länger ist als
das kleinere Kantenmaß der Glastafeln. Im Beispielsfall ha
ben die Zinnplatten eine Fläche von 3,45 × 0,40 m und sind
14 mm dick. Im Gegensatz zu als Target benutzten Platten aus
anderen Werkstoffen hat Zinn eine so geringe Festigkeit,
daß die verhältnismäßig große Platte sich zu stark biegen
würde, wenn man sie nicht versteifte. Zu diesem Zweck ist
die Zinnplatte rückseitig mit einer z. B. 6 mm starken
Grundplatte aus Kupfer verlötet. Die beiden auf diese Weise
zu einer Einheit verbundenen Platten werden oberhalb der
Förderbahn für die Glastafeln mit dem Kathodengehäuse ver
schraubt, welches die Permanentmagnete und Kühlkörper zur
Kühlung des Targets aufnimmt. Die Verschraubung erfolgt un
ter Zuhilfenahme von am Rand der Kupfer-Grundplatte
angreifenden Leisten und einer Vielzahl von Stahlschrauben,
die im wesentlichen entlang der Längsmittellinie der Zinn
platte angeordnet sind, sich durch Löcher in dieser sowie
in der Kupfergrundplatte erstrecken und in passende Gewin
debohrungen im Kathodengehäuse bzw. einem mit diesem ver
bundenen Teil eingeschraubt sind. Während des Betriebs wird
infolge der Kathodenzerstäubung Material von der nach unten
weisenden Fläche der Zinnplatte abgetragen, und zwar in
zwei parallelen Bereichen, die an den Enden der Zinnplatte
ineinander übergehen und zwischen denen, entlang der Längs
mittellinie, sich ein Bereich befindet, in dem kein Materi
alabtrag erfolgt.
Da sich das Target bei der Kathodenzerstäubung verbraucht,
müssen die miteinander verlöteten Zinn- und Kupferplatten
nach einer bestimmten Arbeitszeit vom Kathodengehäuse abge
schraubt, abtransportiert und durch neue ersetzt werden.
Der Transport erfolgt normalerweise hängend in einer zur
Betriebsstellung umgekehrten Lage, in der sich die Zinn
platte oben befindet. Um die verhältnismäßig schweren Plat
ten an Transportorganen aufhängen zu können, sind entlang
der Längmittellinie einige, und zwar im Verhältnis zur Zahl
der Befestigungsschrauben wenige Gewindebuchsen in die Kup
fer-Grundplatte eingesetzt. Bei den oben bespielhaft ge
nannten Plattenmaßen genügen sieben derartige Haltebuchsen,
die beispielsweise über ein Außengewinde M18 mit der Kup
fer-Grundplatte verschraubt sind und ein Innengewinde M12
haben, in das z. B. tragende Gewindebolzen eingeschraubt
werden können. Die Gewindebuchsen sind notwendig, weil es
wegen unzureichender Festigkeit des Werkstoffs der Kupfer
grundplatte nicht möglich ist, die für den Transport be
nutzten Tragbolzen unmittelbar in Gewindebohrungen der Kup
fer-Grundplatte einzuschrauben. Die Gewindebuchsen bestehen
ebenso wie die zur Befestigung entlang der Längsmittellinie
der Kathodenplatte verwendeten Befestigungsschrauben aus
Edelstahl, z. B V2A oder ähnlichen Stahllegierungen.
Während des Betriebs der Anlage bildet sich unter der Zinn
platte, und zwar unterhalb der beiden parallelen an den En
den etwa halbringförmig ineinander übergehenden Abtragsbe
reiche, jeweils mit Abstand von der Längsmittellinie, wo
sich die Befestigungsschrauben befinden, eine Plasmawolke
aus, die durch elektrische Felder zum horizontalen Umlauf
längs der genannten Abtragsbereiche gebracht wird.
Trotz der Zirkulation des aus Metallionen und bestimmten
Gasionen bestehenden Plasmas hat sich herausgestellt, daß
die Beschichtung der unter der Kathode quer zu deren Längs
richtung hindurchgeführten Glastafeln streifenförmig un
gleichmäßig ist. Die Beschichtungscharakteristik weist ty
pische Zackungen und Profilbildungen auf, die sich vor al
lem in den Farbwerten der Schichten dokumentieren, die
spektralphotometrisch gewonnen und als Funktion des Meßwegs
über die Breite der Glastafeln aufgezeichnet werden. Dabei
zeigen sich deutlich unerwünschte Abweichungen von den Ide
alfarbwerten. Die Ungleichmäßigkeiten des Plasmas lassen
sich auch optisch mittels Langzeitfotographie nachweisen.
Neben dem aus der bisherigen Praxis bekannten, vorstehend
beschriebenen Stand der Technik ist aus der DD-PS 1 47 554
eine Magnetronkathode zur Aufstäubung wärmestrahlenreflek
tierender Schichten auf Glasscheiben mit einem Magnetsystem
mit Wasserkühlung, einer darauf aufliegenden Wasser-Grund
platte und auf dieser liegenden Targetplatte bekannt. In
ihrem Zentrum ist eine Bohrung angebracht, durch die hin
durch eine Hohlschraube aus nichtmagnetischem Material, wie
Edelstahl, in eine Feingewindebohrung in der Wasser-Grund
platte einschraubbar ist. Sie erlaubt optische Messungen
durch die Bohrung und gleichzeitig ein lösbares, vakuum
dichtes Verklemmen der beiden Platten in ihrer Mitte bei
nur geringer Störung des Magnetfelds. Die Wasser-Grundplat
te könnte, weil sie gut wärmeleitend sein muß, aus Kupfer
bestehen. Über das Material der Targetplatte ist nichts
ausgesagt. Wie im Falle einer großen Platte der Transport
bewerkstelligt werden kann, ist ebenfalls nicht beschrie
ben. Da sie von der Wasser-Grundplatte lösbar ist und letz
tere nicht mit hoch belastbaren Einsätzen in Form von Ge
windebuchsen versehen ist, wird bei dieser Konstruktion
offenbar allein die Targetplatte ausgewechselt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Zinnkathode
der eingangs genannten Art zu schaffen, mit der sich eine
gleichmäßigere Beschichtung der Werkstücke erzielen läßt.
Vorstehende Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß die Gewindebuchsen aus einem nicht-ferromagnetischen
Werkstoff bestehen, vorzugsweise aus einer harten Kupferle
gierung, die etwa denselben Wärmeausdehnungskoeffizienten
hat wie die Kupfer-Grundplatte. Beispielhaft sei als Werk
stoff für die Gewindebuchsen Cu 58 Te genannt.
Die Gewindebuchsen können mit einem Außengewinde in die
Kupfer-Grundplatte eingeschraubt und/oder mit einem äußeren
Konus oder Flansch ausgebildet sein und sich mit der Konus- bzw.
Stufenfläche an der Grundplatte axial abstützen.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß die bisher
verwendeten Gewindebuchsen einen gewissen Grad von Ferroma
gnetismus haben und die dadurch bewirkte Beeinflussung des
Magnetfelds zu einer unerwünschten Deformation des Plasmas
führt, die sich trotz der zirkulierenden Strömung des Plas
mas bemerkbar macht. Neben den Gewindebuchsen erstrecken
sich zwar auch noch auf der Längsmittellinie der Kathode
Befestigungsschrauben aus Edelstahl durch die Targetplatte,
aber diese Schrauben haben einen viel geringeren Einfluß
auf die Beschichtungsqualität, da ihre Zahl wesentlich grö
ßer ist als die Zahl der Haltebuchsen. Außerdem ist der Ab
stand zu den Permanentmagneten größer.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachstehend an
hand der beiliegenden Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 einen schematischen Querschnitt durch
den Kathodenraum einer Magnetronbe
schichtungsanlage;
Fig. 2 eine Teildraufsicht auf die Target
platte der Beschichtungsanlage nach
Fig. 1;
Fig. 3 einen Teillängsschnitt der Targetplatte
in Verbindung mit einer Transport
schiene, wobei diese und die Target
platte nicht schraffiert sind;
Fig. 4 Seitenansicht und Axialschnitt einer in
die Kupfer-Grundplatte der Targetplatte
nach Fig. 1 bis 3 eingesetzten Gewinde
buchse zur Verbindung mit der Trans
portschiene nach Fig. 3;
Fig. 5 eine Farbwertkurve, aufgetragen über
der Breite einer beschichteten Glasta
fel, bei Verwendung einer herkömmli
chen Kathode mit Gewindebuchsen aus
Stahl;
Fig. 6 eine Farbwertkurve entsprechend Fig. 5
einer Beschichtung, die mit einer er
findungsgemäßen Kathode mit Haltebuch
sen aus nicht-ferromagnetischem Mate
rial erzeugt wurde.
Um Wärmeschutzglas zu erhalten, werden auf Flachglas nach
einander mehrerer Metall- und Metalloxydschichten aufgetra
gen, z. B. zunächst eine SnO₂-Schicht, dann eine Silber
schicht, anschließend eine Metalloxydschicht und zum Schluß
wieder eine SnO₂-Schicht. Die Beschichtung erfolgt in Ma
gnetronsputteranlagen. Fig. 1 zeigt einen Querschnitt durch
den Kathodenraum einer Station, in der eine SnO₂-Schicht
auf Glasscheiben 10 aufgetragen wird, die mittels Trans
portrollen 12 unter einer Zinn-Kathode 14 hindurchgeführt
werden. Wegen ihrer geringen Festigkeit ist die als Target
bezeichnete Zinnplatte 14 mit einer Kupfer-Grundplatte 16
verlötet, und die Einheit dieser beiden Platten 14, 16 ist
über Randleisten 18 und mittels zentral angeordneter Befe
stigungsschrauben 20 an der Unterseite des Kathodengehäuses
22 befestigt, welches u. a. Kühlkörper 24 und Permanentma
gnete aufnimmt. Die Anodenbleche mit Gaseinlässen für die
Sputtergase sind mit 26 bezeichnet. Während des Betriebs
bildet sich durch Kathodenzerstäubung eine Plasmawolke 28
rechts und links von der Mittellängslinie der Kathode 14.
Die Plasmawolke 28 hat in Draufsicht insgesamt die Form ei
nes gestreckten, in sich geschlossenen Rings (vgl. Fig. 2).
Sie wird mittels unterhalb der Transportebene der Glasta
feln 10 angeordneter Spulenwicklungen 30 zur Zirkulation
gebracht, wobei das Plasma auf der einen Seite der Längs
mittellinie der Kathode in der einen und auf der anderen
Seite in der entgegengesetzten Längsrichtung strömt. Dabei
lagert sich ein Teil des Materials der Plasmawolke auf der
Oberfläche der Glasscheiben ab.
Wie aus Fig. 2 hervorgeht, ist die Targetplatte 14 mit ei
ner großen Zahl von Befestigungsschrauben 20 aus Edelstahl,
die sich durch Bohrungen in der Kupfer-Grundplatte 16 er
strecken, mit dem Kathodengehäuse 22 verschraubt. Über die
gesamte Länge der Kathode verteilt sind in einer Reihe mit
den Befestigungsschrauben Gewindebuchsen 32 in die
Kupfer-Grundplatte eingesetzt, insgesamt z. B. sieben Stück bei
der eingangs genannten Länge der Kathode. Die Gewindebuch
sen 32, deren Lage in Fig. 2 eingezeichnet ist, obgleich
sie in dieser Ansicht nicht sichtbar wären, haben gemäß
Fig. 3 und 4 eine durchgehende Bohrung mit einem Innenge
winde M12 und ein Außengewinde M18. Sie bestehen bei der
gezeigten erfindungsgemäßen Ausführungsform aus der Kupfer
legierung Cu 58 Te. Es könnte auch ein anderer Werkstoff
verwendet werden, wesentlich ist jedoch, daß dieser nicht
ferromagnetisch ist. Die axiale Länge der Gewindebuchse
kann gleich der Dicke der Kupfer-Grundplatte 16 sein. Im
montierten Zustand nach Fig. 1 erstreckt sich jeweils eine
Befestigungsschraube 20 frei durch die Gewindebohrung jeder
Gewindebuchse 32.
Wenn eine Kathodenplatte 14 verbraucht ist, werden die Be
festigungsschrauben 20 und die Befestigungen an den Leisten 18
gelöst, die alte Kathodenplatte entfernt und eine neue
herantransportiert und an der Unterseite des Kathodengehäu
ses 22 befestigt. Der Transport der Kathodenplatten erfolgt
jeweils mit Hilfe einer in Fig. 3 gezeigten Transport
schiene 34, die auf der Zinnplatte 14 aufliegt und durch
Schraubenbolzen 36, welche in die Gewindebohrungen M12 der
Gewindebuchsen 32 eingeschraubt sind, mit der Plattenein
heit 14, 16 verbunden ist.
Die Verbesserung des Arbeitsergebnisses, die mit Kathoden
platten mit Gewindebuchsen 32 aus nicht-ferromagnetischem
Material erzielt wird, geht aus einem Vergleich der Fig.
5 und 6 hervor. Dort sind über den Meßweg quer zur Glas
durchlaufrichtung Farbwerte aufgetragen, die bei UV-VIS-Re
flexionsmessungen gemessen wurden. Die nach Beschichtung
mittels einer Kathodenplatte mit herkömmlichen Gewindebuch
sen aus Edelstahl aufgenommene Farbwertkurve nach Fig. 5
zeigt ausgeprägte Spitzen und Minima im Abstand der Gewin
debuchsen, während die Farbwertkurve gemäß Fig. 6 einer Be
schichtung mittels einer Kathodenplatte mit Gewindebuchsen
aus nicht-ferromagnetischem Material wesentlich geringere
Farbabweichungen ausweist.
Claims (5)
1. Zinn-Kathode einer Magnetronsputteranlage zur großflä
chigen Beschichtung von tafelförmigen Werkstücken, z. B.
Flachglas, bestehend aus einer Zinnplatte (14), die
auf eine Kupfer-Grundplatte (16) aufgelötet ist, in
welche zu Transportzwecken Gewindebuchsen (32) aus ei
nem Metall höherer Festigkeit als das der Kupfer-Grund
platte (16) eingesetzt sind, dadurch gekennzeichnet,
daß die Gewindebuchsen (32) aus einem nicht-ferromagne
tischen Werkstoff bestehen.
2. Zinn-Kathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Material der Gewindbuchsen (32) etwa denselben
Wärmeausdehnungskoeffizienten hat wie die Kupfer-Grund
platte.
3. Zinn-Kathode nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Gewindebuchsen (32) aus einer Kupfer
legierung bestehen.
4. Zinnkathode nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Gewindebuchsen (32) mit einem
Außengewinde in die Kupfer-Grundplatte eingeschraubt
sind.
5. Zinn-Kathode nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß wenigstens eine Gewindebuchse 32
mit einem äußeren Konus oder Flansch ausgebildet ist
und sich mit einer Konus- bzw. Stufenfläche an der
Kupfer-Grundplatte axial abstützt.
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| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE19546900C1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004076706A3 (en) * | 2003-02-25 | 2005-01-27 | Cabot Corp | A method of forming sputtering target assembly and assemblies made therefrom |
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1995
- 1995-12-15 DE DE1995146900 patent/DE19546900C1/de not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004076706A3 (en) * | 2003-02-25 | 2005-01-27 | Cabot Corp | A method of forming sputtering target assembly and assemblies made therefrom |
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| 8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
| D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
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