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DE1768285U - Flaechengleichrichter bzw. -transistor. - Google Patents

Flaechengleichrichter bzw. -transistor.

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Publication number
DE1768285U
DE1768285U DE1955S0018563 DES0018563U DE1768285U DE 1768285 U DE1768285 U DE 1768285U DE 1955S0018563 DE1955S0018563 DE 1955S0018563 DE S0018563 U DES0018563 U DE S0018563U DE 1768285 U DE1768285 U DE 1768285U
Authority
DE
Germany
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electrodes
semiconductor
rectifier
bodies
electrode
Prior art date
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Expired
Application number
DE1955S0018563
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English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Corp filed Critical Siemens Corp
Priority to DE1955S0018563 priority Critical patent/DE1768285U/de
Publication of DE1768285U publication Critical patent/DE1768285U/de
Expired legal-status Critical Current

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Description

  • Flächengleichrichter bzw. -transistor.
  • ---------------------------------------Bei Flächengleichrichtern bzw. -transistoren ist es von Wichtigkeit, einen solchen Aufbau für seine Elektroden und deren Anordnung zu erreichen, daß eine wirksame Injektion von LaDungsträgern aus dem Emitter über den p-n-bzw. n-p-Lbergang in den übrigen Halbleiterkörper stattfindet. Zur Erreichung großer Injektionsströme ist es notwendige für einen guten Durchgriff des Basispotentials zum Emitter zu sorgen. Da bei einer hohen Injektion lediglich die Randzone des Emitter bis zu einer Breite, die etwa der doppelten Diffusionslänge entspricht, wirksam ist, hat sich die Anwendung einer räumlichen bzw. flächenhaften Folge von Basis-und Emitterelektroden bzw. Basis- und Emitterelektrodenteilen als vorteilhaft erwiesen. Es ist hierfür bereits vorgeschlagen worden, zwei einander umschließende Elektroden an einen Halbleiterkörper 7, benutzen. Es ist weiterhin vorgeschlagen worden, kammartig 'ineinandergreifende Elektrodenkörper zu verw@@den. Schließlich ist auch bereits vorgeschlagen worden, mehrere streifenförmige Elektradenkörper parallel zueinander anzuordnen, die elektrisch in'der erwünschten Weise zusammengeschaltet werden.
  • Bei der erstgenannten Ausführung, also derjenigen, bei welcher ein 'Kreisflãchenkërper von einem Kreisringkörper umschlossen wird, WS, . die Injektion der Ladungsträger bei hohen Strömen nur klein, und, sie findet nur an einem kleinen Randzonenteil an der umschlossenen Elektrode statt. Bei den kammartig ineinandergreifenden Formen ist die Ausnutzung des Halbleiters für die Injektion zwar besser.
  • Es sind jedoch z. B. die Herstellung entsprechender Schablonen für das Aufbringen der einzelnen Elektroden und das einwandfreie Erhalten der Formen der aufgebrachten Elektrodenmaterialkörper bei ihrem Schmelzflüssigwerden während der Legierungsbildung mit dem Halbleiter sowie die einwandfreie Legierungsbildung an sich sehr schwierig zu beherrschen wegen der Spannungen des flüssigen Materials als auch des in den festen Zustand übergehenden Materials, und zwar insbesondere an den Zinkenende der Kammformen.
  • Auch bei Anwendung einer einfachen gestreckten Form für die einzelnen Elektrodenkörper, welche z. B. als Sehnen eines Kreises auf dem Halbleiterkörper angeordnet werden, ergeben sich ähnliche Schwierigkeiten.
  • Nach der Erfindung wird zur Vermeidung der Mängel der bekannten bzw. vorgeschlagenen Aufbaufomien von Flachengleichrichtern bzw - transistoren eine neuartige Anordnung der Elektroden an der Oberfläche eines Halbleiterkörpers vorgeschlagen. Ihr Wesen besteht darin, daß an dem Halbleiterkörper eine mehr als zwei betragende Anzahl von einander umschließenden Elektrodenkörpern vorgesehen ist, von denen jeder in seiner Grundform einem in sich geschlossenen Kurvenzug folgt, und von denen je zwei benachbarte Körper an allen Stellen den gleichen gegenseitigen Abstand haben bei verschiedenem Elektrodencharakter hinsichtlich ihrer Dotierung mit n-bzw. p-Leitung verursachenden Störstellen, so daß in der Folge, also abwechselnd, ein Elektrodenkörper nach dem anderen den Charakter einer Emitter-bzw. Basiselektrode hat.
  • Die verschiedenen einander umschließenden Elektrodenformen werden dann an dem fertigen Element z. B. entsprechend untereinander elektrisch parallel geschaltet für die Bildung eines gemeinsamen Emitter-und Basisanschlusses. Eine solche Plächentra. istoranordnung kann jedoch auch in der Weise in einer Schaltung benutzt werden, daß. die verschiedenen Emitter-Basis-Systeme der Anordnung an verschiedenen Steuerspannungen liegen.
  • Das Aufbringen der einzelnen Elektrodenkörper auf den Halbleiterkörper und die Legierungsbildung werden vorzugsweise durchgeführt unter Benutzung entsprechender Hilfsformen. Solche Hilfsformen können z, B. aus Graphit bestehen. Diese Formen sind mit entsprechenden einander umschließenden Vertiefungen ausgestattet, in welche das jeweilige Elektrodenmaterial eingebracht wird für die Legierungsbildung bzw. Dotierung an Halbleiterkörpern. Mittels dieser Hilfsformen werden die Elektrodenmaterialkörper gegen die Oberfläche des Halbleiterkörpers geführt sowie gegen diese gehalten, und auf diese Weise ist bei dem thermischen Legierungsprozee eine gute Benetzung zwischen der Halbleiteroberfläche und den Elektrodenmaterialien aufrechterhalten. Wird ein Aufbau für die Elektrodenanordnung an dem Halbleiter gewählt, bei welcher die einzelne Elektrode vorzugsweise Kreisringform hat, so lassensich die Hilfsformen relativ einfach durch mechanische Bearbeitungsprozesse, bei denen das Werkstück relativ zum Bearbeitungswerkzeug umläuft, mit großer Genauigkeit herstellen. Die einzelnen einander umschließenden Formenteile für die Aufnahme des Jeweili@ gen Blektrodenmaterialkörpers können daher auch mit relativ klei@ ner Flächenausdehnung und sehr geringem gegenseitigen Abstand bemessen werden. Es ergibt sich daher wegen des erreichbaren geringen und sehr gleichmäßigen Abstandes der Elektroden auch an dem fertigen Flächengleichrichter bzw. -transistor eine gute wirksame Injektion der Ladungsträger aus großen Flächenteilen der Emitter-
    zone über den p-n-bzw. n-p-tibergang in den weiteren Teil des
    Halbleiterkörpers.'
    Zur näheren Erläuterung der Erfindung an Hand einiger Ausführungbeispiele wird nunmehr auf die Figuren der Zeichnung Bezug ge-
    nommen j
    i
    In den einander entsprechenden Rissen nach den Figuren 1 und 2
    der Zeichnung ist ein fertiges Flächengleichrichter-bzw.-tran-
    sistorelement gemäß der Erfindung veranschaulicht, wobei Figur 1 ein Schnitt nach der Linie 1-1 der Figur 2 ist.
  • 1 bezeichnet den Halbleiterkörper. An dessen unterer Oberfläche ist die Kollektorelektrode 2 vorgesehen. Auf der oberen Fläche sind die einander umschließenden Elektrodenkörper 3 bis 8 vorgesehen. Die Elektroden 3, 5 und 7 haben den Charakter von Emitterelektroden, die Elektroden 4,6 und 8 haben den Charakter von Basiselektroden und bestehen zu diesem Zwecke aus entsprechenden Werkstoffen. Handelt es sich z. B. bei dem Halbleiterkörper um n-leitendes Germanium, so bestehen die Elektroden 3,5 und 7 als Emitterelektroden beispielsweise aus Elementen der III. Gruppe des periodischen Systems bzw. aus Legierungen dieser Elemente oder aus Legierungen, in denen diese Elemente enthalten sind. Sinngemäß werden bei n-leitendem Germanium als Halbleiter für die Elektroden 4,6 und 8 mit ihrem Charakter als Basiselektroden beispielsweise Werkstoffe der V. Gruppe des periodischen Systems bzw.. deren Legierungen verwendet. Zwischen diesen konzentrischen Ringen läßt sich, wie bereits hervorgehoben, ein sehr genauer gegenseitiger Abstand sowohl zwischen den Elektrodenkörpern als auch zwischen den Zonen einhalten, in denen an dem Halbleiterkörper die Legierungsbildung stattfindet. Die einzelnen Elektrodenkörper sind in der Ansicht nach Figur 2 nur aus Gründen der Veranschaulichung schraffiert.
  • In den Figuren 3 bis 5 wird veranschaulicht, wie unter Benutzung einer Hilfsform ein Flächengleichrichter bzw.-transistor nach den Figuren 1 und 2 hergestellt werden kann, 9 bezeichnet den Oberteil der Form, 10 den Unterteil der Form. Der Oberteil 9 der Form, mit dem beim Zusammenstellen der Form zunächst als Unterteil begonnen wird, ist zur Einlagerung der Materialien für die späteren Elektroden 3 bis 8 mit entsprechenden einander umschließenden Rillen 3a bis 8a versehen. Der während der Legierungsbildung den Unterteil der Form bildende Formenteil 10 ist zur Aufnahme des Elektrodenmaterials für die Bildung der Kollektorelektrode 2 mit einer zylindrischen Aussparung 2a und für die Aufnahme des Halbleiterkörpers mit einer Aussparung 1a versehen. Die Fertigung des Gleichrichter-bzw. Transistorelementes geht z. B. vorteilhaft in der folgenden Weise vor sich.
  • Es wird in die verschiedenen Rillen des Oberteiles 9 der Form das. jeweilige Elektrodenmaterial eingebracht für die Bildung der späteren Elektroden 3 bis 8. Ein sehr vorteilhaftes Anbringen wird z. B. in der ist erreicht, daß das Elektrodenmaterial in Form bestimmter vorgeformter Ringe eingebracht wird, die z. B. durch einen Stanzprozeß aus einem Blech bzw. einer Folie gewonnen werden. Auf den Oberteil 9 der Form wird dann der Halbleiterkörper 1 aufgebracht. Nunmehr wird auf den Halbleiterkörper der Elektrodenmaterialkörper für die Bildung der späteren Kollektorelektrode 2 aufgebracht, und schließlich wird nunmehr der Untertei :.
  • 10 der Hilfsform auf den Halbleiterkörper 1 und den Kollektor-Elektroden-MaterialkSrper 2 aufgelegt. Die ganze Anordnung wird dann durch geeignete Mittel zusammengehalten. Eine solche Anordnung nach ihrem Zusammenbau veranschaulicht die Figur 4. Die in dieser Weise zusammengestellte, die Halbleiteranordnung einschließende Form wird dann einem entsprechenden thermischen Behandlungsprozeß unterworfen, so da3 die Elektroden schmelzflüssig werden und eine entsprechende Legierungsbildung der Elektroden-Materialkorper an dem Halbleiterkörper mit diesem stattfindet für die Erzeugung der Zonen bestimmten Leitfähigkeitscharakters in dem Halbleiterkörper und der erwünschten p-n-bzw. n-p-bergänge in diesem.
  • Es sei noch darauf hingewiesen, daß erfindungsgemäß die beiden Hilfsformenteile in verschiedener Weise während des Legierungvorganges zusammengehalten werden können. Es kann z. B. für diese Zwecke eine Spannvorrichtung benutzt werden, wobei gegebenenfalls in der Spannvorrichtung besondere Kraftspeicher angewendet werden, Diese können z. B. aus Federn bestehen, anderen elastischen Körpern oder aus einer Einrichtung, die mit Luft oder Gasdruck arbeitet. Die Hilfsformen können aber auch dadurch zusammengehalter werden, daß sie aufeinander gelegt werden und das Oberteil durch ein Gewicht belastet wird. Diese Gewichtsbelastung kann verschiedener Art sein. Sie kann z. B. aus massiven Körpern, pulverförmigen Körpern oder auch flüssigen Körpern bestehen. Es kann sich bei der Anwendung von Kraftspeichern oder einer Gewichtsbelastung für das Zusammenhalten der Form auch empfehlen, im Verlauf des Legierungsvorganges die mechanische Belastung zu verändern, durch welche die Formenteile zusammengehalten werden bzw. durch welche die Benetzung zwischen den einzulegierenden Elektrodenmaterialien und dem Halbleiterkörper aufrechterhalten wird. Das kann z. B. erfolgen, indem bei Benutzung flüssiger oder gasförmiger Mittel die Menge bzw. der Druck verändert werden, welche als Kräfte für das Zusammenhalten der Formen wirksam sind. Im Falle von Kraftspeichern in Form von Federn oder Gewichten kann eine entsprechende Aufhebung der Federkraft in dem gewünschten tylaqe erfolgen oder +) und kann gegebenenfalls magnetisch polarisiert sein. auch eine Entlastung der Form von dem Gewichtsdruck, indem auf das Gewicht mit einer geeigneten Hubkraft, z. B. durch ein Gegengewicht oder einen permanenten Magneten bzw. Elektromagneten eingewirkt wird. Es kann auch ein Magnet allein die Druckkraft zwischen den Hilfsformenteilen erzeugen, die durch Veränderung der Speisung des Magneten entsprechend angepaßt wird. Dieses Einwirken auf ine Gewichtsbelastung oder andere wirksame Kraftspeicher im aufhebenden bzw. entlastenden Sinne kann entweder in dem Ofen selbst vorgenommen werden, in welchem die Legierungsbildung durchgeführt wird, oder man kann auch durch die Außenwand hindurch auf die Spannvorrichtung in mechanischer Hinsicht einwirken. Hierbei kann es sich gegebenenfalls als zweckmäßig erweisen, besondere Durchführungen in der Wand des Ofens zu vermeiden.
  • Es läßt sich in diesem Falle die Entlastung vorzugsweise mittels eines Magneten erreichen.
  • Ein Ausführungsbeispiel für die Erfindung unter Anwendung einer Kraft für das Zusammenhalten der Formenteile, die im Verlaufe des Legierungsprozesses einer bestimmten Kennlinie angepaßt werden kann in irgendeinem Abhängigkeitsverhältnis, z. B. zeitoder/und temperaturabhängig, veranschaulicht die Figur 6 der Zeichnung.
  • In dieser Figur bezeichnet 11 die Form, welche den Halbleiter zusammen mit den MaterialkOrpern-bzw.-Mengen für die verschiedenen Elektroden enthält. Diese Form ruht auf einer z. B. elektrisch beheizten Platte 12, welche für eine solche Erhitzung sorgt, da2
    die verschiedenen Elektroden-Materialkörper in den schmelzflüssi-
    gen Zustand übergehen für die Durchführung der Legierungsbildung, bei welcher sie in enger bzw. guter Benetzung mit dem Halbleiter gehalten werden müssen. Die gesamte Anordnung ist in ein Ofengehäuse 13 eingeschlossen, welches vorzugsweise mit einem neutralen Gas bzw. einem Schutzgas gefüllt oder entsprechend evakuiert ist.
  • Für die Aufrechterhaltung der guten Benetzung zwischen den schmelzflüssig gewordenen Elektroden-Materialkörpern und der Halbleiterschicht ist auf die zusammengesetzten Formenteile ein Gewicht 14 aufgelegt. Dieses besteht aus einem ferromagnetischen Stoff, wie z. B. Eise Auf diese Cewichtsplatte wirkt an dem Gestell-für die beiden Hilfsformenkorperteile zusätzlich eine Druckfeder 15, die sich also einerseits gegen diese Platte und andererseits gegen das Gestell abstützt. Dem Ofengehäuse 13 ist außen ein Magnetsystem mit dem Kern 17 und der Erregerwicklung 18 zugeordnet, welche von einer Gleichstromquelle 19 über den einstellbaren Widerstand 20 gespeist wird. Wird die Erregung des Elektromagneten 17-18 eingeschaltet bzw. gesteigert, so wird auf die Gewichtsplatte 14 entgegen der Wirkung der Feder 15 eine Hubkraft ausgeübt, so daß also die magnetische Belastung der beiden Formenteile herabgesetzt wird, und damit auch eine entsprechende Herabsetzung des. Druckes an der Benetzungsstelle zwischen den Elektroden-Materialmengen bzw. -Körpern und der Halbleiterschicht stattfindet. Eine solche Entlastung im Verlaufe des Vorganges der Legierungsbildung ist vorteilhaft, damit der Rekristallisationsprozeß bei der Abkühlung der Form bzw. der Halbleiteranordnung an dieser'in deren legierten Zonen ohne mechanische Beeinträchtigung vor sich gehen kann. Für den Zusammenbau der Form ist das Joch 16a des nichtmagnetischen Gestelles 16 leicht lösbar angebracht.
  • Die Anwendung einer solchen Anordnung für Hilfsformen aus mehreren Teilen, die während der Durchführung des Arbeitsprozesses mittels einer Kraft zusammengehalten werden, welche während des Arbeitsprozesses gemäß einer bestimmten Kennlinie geändert wird' bzw. werden kann, ist an sich nicht beschränkt auf die Herstellung von Halbleiteranordnungen mit einander umschließenden Elektroden.
  • Sie ist vielmehr allgemein immer dann anwendbar, wenn für die Durchführung eines Arbeitsprozesses an einem von der Form eingeschlossenen Körper dessen mechanische Beanspruchung zweckmäßig in bestimmter Weise gelenkt wird.
  • Flächengleiohrichter bzw.. transistor, welche nach der Erfindung hergestellt werden, können einen Halbleiterkörper aus Germanium, Silizium oder einer Zweistoff-Verbindung besitzen. In der Zweistoff-Verbindung kann die eine Komponente z. B. der III. Gruppe und die andere der V. Gruppe des periodischen Systems angehören.
  • Solche Zweistoffverbindungen sind z. B. Aluminiumphosphid, Aluminiumantimonid, Galliumarsenid.
  • Im Rahmen der Erfindung liegen auch Anordnungen, bei denen der Halbleiterkörper nur unter Benutzung eines@ einzigen Formenteiles gefertigt wi, rd, in den er zusammen mit den Elektrodenmaterialkörpern an der einen seiner Oberflächen eingebracht wird, während z. B. der Blektrodenmaterialkorper für die Bildung der Elektrode an der anderen Halbleiteroberfläche bereits vorher mit einen Trägerkörper vereinigt wurde und in dieser Form lediglich für die Legierungsbildung auf den Halbleiterkörper aufgelegt und auf diesem festgespannt wird. Der genannte Trägerkörper erfüllt hierbei unmittelbar die Funktion des einen Hilfsformenteiles.
  • 6 Figuren 7 Ansprüche

Claims (7)

  1. Schutzansprüche XZCXXXX : Xz : X*orw K xxxxxxxxxxxxxxx
    1. Plächengleichrichter bzw.-transistor, bei welchem an der einen Flache des Halbleiters einander umschließende Elektroden
    verschiedenen Charakters hinsichtlich ihrer Störstellendotierung vorhanden sind, dadurch gekennzeichnet, daß an dem Halbleiter eine mehr als zwei betragende Anzahl von einander umschließenden Elektrodenkörpern vorgesehen ist, von denen jeder in seiner Grundform einem in sich geschlossenen und stetigen Kurvenzug folgt, und von denen je zwei benachbarte an allen Stellen den gleichen gegenseitigen Abstand haben bei verschiedenem Charakter hinsichtlich ihrer Störstellendotierung.
  2. 2. Anwendung oder Aufbau eines Flächengleichrichters bzw.
    - transistors nach Anspruch 1 in einer elektrischen Schaltung, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden vom Charakter der Emitter-und die Elektroden vom Charakter der Basiselektrode jeweils mit einem gemeinsamen elektrischen Anschluß an der Anordnung verbunden sind..
  3. 3. Anwendung oder Aufbau eines Plächengleichrichters bzw.
    - transistors nach den Ansprüchen 1 oder 2 in einer elektrischen Schaltung, dadurch gekennzeichnet, daß die Emitterelektroden an verschiedene Anschlußklemmen bzw. verschiedene elektrische Steue@-spannungen angeschlossen sind.
  4. 4. Flächengleichrichter oder-transistor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daS die einander umschließenden Elektroden Kreisringform besitzen.
  5. 5. Vorrichtung zur Herstellung eines Flächengleichrichters bzw.
    - transistors nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Anwendung einer Hilfsform aus Ober-und Unterteil, von denen jeder mit einer Zahl von Rillen bzw. Aussparungen entsprechend der an den Halbleiterkorperflächen aufzubringenden Elektrodenkorperzahl versehen ist, und die gemeinsam in einem Gestell bzw. einer Führungseinrichtung durch eine Kraft zusammengehalten werden.
  6. 6. Anordnung für mehrteilige Hilfsformen, deren einzelne Formenteile mittels einer Kraft zusammengehalten werden während der Durchführung des Arbeitsprozesses, insbesondere nach Anspruch 5. dadurch gekennzeichnet, daß die Formenteile über eine solche Einrichtung zusammengehalten werden, daß im Verlauf der Legierungsbildung ein bestimmter Kennlinienverlauf der Kraft erreicht wird, welche die Hilfsformenteile zusammenhält und damit für die Aufrechterhaltung der Benetzung zwischen den Elektrodenmaterialkörpern und dem Halbleiter wirksam ist.
  7. 7. Anordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, da9 die Kraft, welche die Formenteile zusammenhält, magnetisch gesteuert wird.
DE1955S0018563 1955-10-29 1955-10-29 Flaechengleichrichter bzw. -transistor. Expired DE1768285U (de)

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DE (1) DE1768285U (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1099646B (de) * 1958-08-29 1961-02-16 Joachim Immanuel Franke Unipolarer Transistor mit einem plattenfoermigen Halbleiterkoerper und mindestens drei einander umschliessenden Elektroden auf dessen einer Oberflaeche und Verfahren zu seiner Herstellung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1099646B (de) * 1958-08-29 1961-02-16 Joachim Immanuel Franke Unipolarer Transistor mit einem plattenfoermigen Halbleiterkoerper und mindestens drei einander umschliessenden Elektroden auf dessen einer Oberflaeche und Verfahren zu seiner Herstellung

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