DE1233690B - Galvanisches Nickelbad - Google Patents
Galvanisches NickelbadInfo
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/04—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D233/06—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
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Description
DeutscheKl.: 48 a-5/08
Nummer: 1 233 690
Aktenzeichen: K 48273 VI b/48 a
1233 690 Anmeldetag: 21. November 1962
Auslegetag: 2. Februar 1967
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein galvanisches Nickelbad zur elektrolytischen Abscheidung
von Nickelüberzügen mit hohem Glanz und guter Duktilität.
Eine große Anzahl organischer Glanzzusätze, die in galvanischen Nickelbädern verwendet werden,
enthalten C = N-Gruppen; unter diesen befinden sich auch Imidazolverbindungen. Die Imidazolverbindungen
werden normalerweise als Glanzzusatz zweiter Klasse oder als Glättmittel bezeichnet und
in solchen Fällen zusammen mit Glanzzusätzen erster Klasse oder sogenannten Trägerstoffen verwendet.
Herkömmliche Glanzzusätze vom Imidazoltyp zeigen jedoch in fast allen Fällen eine Tendenz zur
Abscheidung spröder Nickelüberzüge mit geringer Duktilität. Da die herkömmlichen Glanzzusätze
darüber hinaus noch eine geringe Oberflächen-Glätt- _ wirkung haben, ist es nur mit Schwierigkeiten möglich,
einen guten Glanz auf einer matten oder geschliffenen Grundfläche zu erzielen.
Es wurde nun gefunden, daß man Nickelüberzüge mit hohem Glanz und guter Duktilität mit einem
galvanischen Nickelbad erzeugen kann, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es Imidazolverbindungen
der allgemeinen Formel
N C-R2
1 5
Ri- O ^C-R3
R4
enthält, in der Ri Wasserstoff, einen aliphatischen oder cyclischen, gesättigten oder ungesättigten, gegebenenfalls
durch Sulfonsäure- oder Carboxylgruppen substituierten Kohlenwasserstoffrest oder
eine Gruppe —A — R5 bedeutet, in der A eine ungesättigte aliphatische Brücke und R5 ein aromatischer
Rest ist, wobei eine Doppel- oder Dreifachbindung in Ri vorzugsweise mit der Doppelbindung
an dem Kohlenstoffatom in der 2-Stellung des Imidazolkerns konjugiert ist, und in der R2, R3 und R4
Wasserstoff, aliphatische oder cyclische, gesättigte oder ungesättigte Kohlenwasserstoffreste bedeuten
und Ri auch ein heterocyclischer Rest oder ein aliphatischer Rest mit einer oder mehreren Aminogruppen
oder einer Alkoxygruppe sein kann, mindestens einer der Reste Ri und Ri jedoch ein üngesättigtes
Radikal ist, vorzugsweise ein ungesättigtes aliphatisches Radikal.
Galvanisches Nickelbad
Anmelder:
Kemiska AB Candor, Stockholm
Vertreter:
Vertreter:
Dr.-Ing. A. ν. Kreisler, Dr.-Ing. Κ. Schönwald,
Dr.-Ing. Th. Meyer und Dr. J. F. Fues,
Patentanwälte, Köln 1, Deichmannhaus
Dr.-Ing. Th. Meyer und Dr. J. F. Fues,
Patentanwälte, Köln 1, Deichmannhaus
Als Erfinder benannt:
Harry Axel Herman Ericson, Stockholm
Beanspruchte Priorität:
Schweden vom 21. November 1961 (11 585)
Das galvanische Nickelbad gemäß der Erfindung enthält somit beispielsweise als Glanzzusatz Imidazolverbindungen
mit einem Substituenten Ri mit einer oder mehreren Doppel- oder Dreifachbindungen,
von denen vorzugsweise eine mit der Doppelbindung an dem Kohlenstoffatom in der 2-Stellung
des Imidazolkerns konjugiert ist, vorzugsweise Alkenyl- oder Alkinylreste mit bis zu 6 Kohlenstoffatomen.
Ri kann aber auch ein cyclischer, vorzugsweise aromatischer Kohlenwasserstoffrest, beispielsweise
der Phenylrest, sein. Ist der Rest in der 2-Stellung ein ungesättigter aliphatischer Rest mit mehr
als einer ungesättigten Bindung, so enthält er vorzugsweise mehr als 6 Kohlenstoffatome, beispielsweise
im Falle zweier Doppelbihdungen bis zu 12 Kohlenstoffatome oder mehr. Ist Ri eine ungesättigte
aliphatische Brücke mit einem sich daran anschließenden aromatischen Rest R5, so ist diese
aliphatische Brüöke vorzugsweise ein Rest mit maximal 6 Kohlenstoffatomen und R5 vorzugsweise der
Phenylrest. Die genannten Substituenten in der 2-Stellung können Gruppen enthalten, die die Verbindung
wasserlöslicher machen, beispielsweise Sulfonsäure- oder Carboxylgruppen.
Die Substituenten in der 4- und 5-Stellung des Imidazolringes, also die Reste R2 und R3, sind vorzugsweise
Wasserstoffatome oder Methylreste, können aber auch andere ungesättigte oder gesättigte Kohlenwasserstoffreste
bedeuten, wie Alkylreste, die beispielsweise bis zu 4 Kohlenstoffatome enthalten;
die Reste R2 und R3 können gleich oder verschieden
709 507/335
sein. Falls die genannten Reste nicht Wasserstoff oder Methyl sind, so sind sie vorzugsweise die
gleichen ungesättigten Reste, wie für Ri angegeben.
Der Substituent in der 3-Stellung des Imidazolringes, der Rest Ri, ist vorzugsweise Wasserstoff,
kann aber auch ein gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoffrest sein, beispielsweise ein Alkyl-,
Alkenyl-, Alkinyl- oder Alkoxyrest, wobei alle diese Reste höchstens 6 Kohlenstoffatome haben. R4 kann
aber auch ein aminhaltiger Rest sein, beispielsweise ein Aminoalkylrest, wie der Aminoäthyl- oder
Aminopropylrest. Andere aminhaltige Reste können Aminoalkyl-Aminoalkyl-Gruppen sein, bei denen das
Alkyl vorzugsweise Methyl oder Äthyl ist, ferner ein Piperazinylrest oder Reste, die drei oder vier
Aminogruppen enthalten, die miteinander durch Methylen- oder Äthylenreste verbunden sind. Ein
cyclischer Rest R4 als Substituent in der 3-Stellung ist normalerweise ein heterocyclischer oder ein
aromatischer Rest.
In dem galvanischen Nickelbad gemäß der Erfindung sind die Imidazolverbindungen als Glanzzusätze
schon in sehr geringen Konzentrationen wirksam und können beispielsweise in einer so
niedrigen Konzentration wie 0,001 g/1 angewendet werden; vorzugsweise werden sie in einer Konzentration
von nicht mehr als 0,1 g/1 verwendet.
In bezug auf die Glanzwirkung und vor allem auf die Oberflächenglättwirkung ist das galvanische
Nickelbad den bekannten, andere Imidazolverbindüngen enthaltenden Bädern weit überlegen. Außerdem
besitzen die erfindungsgemäß erhaltenen Nickelniederschläge eine bessere Duktilität. Um den
höchsten Grad an Spannungsfreiheit in den Uberzügen in Verbindung mit höchster Duktilität zu
erzielen, werden in dem Bad gemäß der Erfindung die Glanzzusätze mit Glanzzusätzen erster Klasse,
meist aromatischen Schwefelverbindungen, wie Natriumbenzodisulfonat, Natriumnaphthalintrisulfonat,
Sulfonamiden, Sulfonimiden u. dgl., kombiniert. Erfindungsgemäß lassen sich die Glanzzusätze ausgezeichnet
in die meisten der bisher bekannten Glanznickelbäder einarbeiten, beispielsweise in saure
wäßrige Bäder, die mindestens ein Nickelsalz enthalten. Das galvanische Nickelbad kann z. B. vom
Sulfat-, Chlorid-, Fluorborat- oder Sulfamattyp sein.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele erläutert.
50
Es wird ein galvanisches Nickelbad folgender Zusammensetzung hergestellt und aus diesem unter
Einhaltung der in nachstehender Tabelle angegebenen Stromdichten und Temperaturen Nickel abgeschieden:
Nickelsulfat 300 g/1
Nickelchlorid 60 g/1
Borsäure 40 g/1
Natriumnaphthalintrisulfonat 15 g/1
2-Propenyl-imidazoI 0,01 g/1
pH 3,5 bis 5,0
Stromdichte 2 bis 8 A/dm2
Temperatur 45 bis 60°C
Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, das Nickelbad während der Nickelabscheidung in Bewegung zu
halten. Es wird dann ein gleichmäßiger und sehr guter Glanzüberzug auf der gesamten Oberfläche
erhalten.
Ein galvanisches Nickelbad nachstehender Zusammensetzung wird bei den in der folgenden
Tabelle angegebenen Stromdichten und Temperaturen benutzt.
Nickelsulfat 300 g/1
Nickelchlorid 60 g/1
Borsäure 40 g/1
Natriumnaphthalintrisulfonat 15 g/1
2-Äthinyl-imidazol 0,01 g/1
pH 3,5 bis 5,0
Stromdichte 2 bis 8 A/dm'2
Temperatur 45 bis 60 c C
Auch in diesem Falle hat sich das Rühren des Nickelbades während der Nickelabscheidung als vorteilhaft
erwiesen. Der erhaltene Nickelüberzug ist ebenfalls von gleichmäßigem und gutem Glanz sowie
von guter Duktilität.
Aus einem Nickelbad der in nachstehender Tabelle angegebenen Zusammensetzung wird bei den dort
aufgeführten Stromdichten und Temperaturen Nickel abgeschieden.
Nickelsulfat 300 g/1
Nickelchlorid 60 g/1
Borsäure 40 g/1
Natriumnaphthalintrisulfonat 15 g/1
2-Vinyl-imidazol 0,01 g/1
pH 3,5 bis 5,0
Stromdichte 2 bis 8 A/dm2
Temperatur 45 bis 60° C
Auch in diesem Falle hat es sich als vorteilhaft erwiesen, das Nickelbad während der Nickelabscheidung
zu rühren. Der Glanz des abgeschiedenen Nickels ist gleichmäßig und gut über die ganze
Fläche; der Überzug besitzt eine gute Duktilität.
Hierbei wird ein Nickelbad folgender Zusammensetzung verwendet:
Nickelsulfat 300 g/1
Nickelchlorid 60 g/1
Borsäure 40 g/1
Natriumnaphthalintrisulfonat ... 15 g/1 p-Benzoesäuresulfonimid in Form
des Natriumsalzes 0,5 g/1
Imidazol-Glanzzusatz gemäß
Erfindung 0,001 g/1
Natriumlaurylsulfat 0,25 g/1
Der verwendete Glanzzusatz ist 2-Propenyl-3-diäthylendiaminimidazol der Formel
N-
CH3CH = CH
-CH
II
CH
C2H4 — NH — C2H4 — NH2
Während der Nickelabscheidung wird das Nickelbad, das einen pH-Wert von 3,5 bis 5 und eine
Claims (3)
1. Galvanisches Nickelbad mit einem Gehalt an Imidazolverbindungen als Glanzzusatz, dadurch gekennzeichnet, daß es Imidazolverbindungen
der allgemeinen Formel
N C-R2
1 ä
Rl— O ^C-R3
Ri
enthält, in der Ri Wasserstoff, einen aliphatischen oder cyclischen, gesättigten oder ungesättigten,
gegebenenfalls durch Sulfonsäure- oder Carboxylgruppen substituierten Kohlenwasserstoffrest oder
eine Gruppe —A — R5 bedeutetem der A eine ungesättigte aliphatische Brücke und R5 ein
aromatischer Rest sind, wobei eine Doppel- oder Dreifachbindung in Ri vorzugsweise mit der
Doppelbindung an dem Kohlenstoffatom in der 2-Stellung des Imidazolkerns konjugiert ist, und
in der R2, R3 und Ri Wasserstoff, aliphatische oder cyclische, gesättigte oder ungesättigte Kohlenwasserstoffreste
bedeuten und R4 auch ein heterocyclischer Rest oder ein aliphatischer Rest
mit einer oder mehreren Aminogruppen oder eine Alkoxygruppe sein kann, mindestens einer der
Reste Ri und R1 jedoch ein ungesättigtes Radikal ist.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Imidazolverbindung enthält, in
der Ri ein Vinyl-, Propenyl- oder Äthinylrest ist.
3. Bad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Imidazolverbindung
enthält, in der Rj ein Vinyl-, Propenyl- oder Äthinylrest, ein Alkylrest oder ein Aminogruppen
enthaltender Alkylrest ist.
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