DE1295370B - Verfahren zur Herstellung von Druckformen fuer den Rakeltiefdruck - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Druckformen fuer den RakeltiefdruckInfo
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Description
1 2
Gegenstand des Hauptpatents ist ein Verfahren zu einem entsprechenden Anteil abgetastet und in
zur Herstellung von Druckformen für den Rakel- die Druckform eingraviert werden,
tiefdruck auf der Grundlage von Rasterdiapositiven Besonders vorteilhaft und relativ einfach ist die
unter zusätzlicher Benutzung eines Rakelstege liefern- Reduktion des Tonwertumfanges bei der elektromeden
zweiten Rasters, bei dem Rasterdiapositive mit 5 chanischen Übertragung des Rasterdiapositivs auf die
einem für die Anfertigung von Andrucken im Offset- Druckform dann vorzunehmen, wenn das Rasterverfahren
ausreichenden Tonwertumfang bei der diapositiv eine Linienrastrierung aufweist.
Übertragung auf die Druckform mit einem Raster Zur näheren Erläuterung der Erfindung wird auf
überlagert werden, dessen lichtdurchlässiger Anteil die Zeichnung Bezug genommen,
höchstens etwa zwei Drittel, vorzugsweise etwa 30 io F i g. 1 zeigt ein Rasterpositiv mit einer unter 45°
bis 60% der Rasterfläche beträgt. Der Zweck dieser verlaufenden Linienrastrierung, bei dem also die
doppelten Rastrierung ist, von dem Rasterdiapositiv Tonwerte durch unterschiedliche Breite der Rasterzunächst
für die Farbwertbeurteilung und gegebenen- linien dargestellt sind;
falls Farbwertretusche einen Offsetandruck anfertigen F i g. 2 erläutert die Übertragung dieses Raster-
zu können, der einen vollen Tonwertumfang besitzt, 15 positivs auf die Druckform;
der jedoch für die Übertragung auf den Tiefdruck- Fig. 3 zeigt die erhaltene Druckform in Drauf-
zylinder zu groß ist, weil dort zu den zwei Dirnen- sieht.
sionen der Offsetplatte noch die dritte Dimension der In üblicher Weise sind selbstverständlich die Figu-
Näpfchentiefe in der Tiefdruckform hinzukommt. In ren in einem stark vergrößerten Maßstab gehalten,
der Patentschrift zum Patent 1 242 098 ist dargelegt, ao Zwecks Übertragung auf die Druckform wird das
daß sich für die Herstellung von Druckformen für Rasterpositiv gemäß F i g. 1 beispielsweise in eine
den Rakeltiefdrack besonders gut Rastervorlagen ver- elektromechanische Tiefdruckgraviermaschine eingewenden
lassen, deren Tonwerte vorwiegend aus setzt, jedoch in einer solchen Winkelstellung, daß die
durchgehenden Linien, Linienteilstrecken und bzw. Arbeitsrichtung des photoelektrischen Tastkopfes zu
oder aus gegeneinander versetzten Linienteilstrecken as den Rasterlinien der Vorlage unter einem Winkel,
gebildet werden. Die Rastervorlagen können, wie dort und zwar vorzugsweise von 90° verläuft, wie dies in
erwähnt, auf photomechanischem Wege, also mittels Fig. 2 durch die gestrichelten Streifen angedeutet
der sogenannten Photolithographie oder mittels KIi- ist. Während nun bei dieser Arbeitsweise den Steuerscheegraviermaschinen,
hergestellt werden, welche spannungen des Graviersystems eine Rasterfrequenz die Linienrasterreproduktion in eine photographische 30 überlagert werden muß, ist dies beim Verfahren geSchicht
einschneiden. maß der Erfindung nicht notwendig, da hier, wie
Bekanntlich lassen sich aber auch Druckformen F i g. 2 erkennen läßt, der Abtastkopf, dessen Breite
für den Rakeltiefdruck mittels Klischeegravierma- einer der dargestellten gestrichelten Linien entspricht,
schinen auf elektromechanischen! Wege durch photo- vor und nach der Überkreuzung einer Rasteriinie auf
elektrische Abtastung einer Bildvorlage herstellen. 35 die bildfreien, in F i g. 1 und 2 weiß dargestellten
Derartige Verfahren sind z. B. in den deutschen Aus- Streifen trifft und deshalb den Gravierstichel autolegeschriften
1 004 923, 1 057 877 beschrieben. matisch aushebt. Andererseits aber ist nach Been-
Es wurde nun gefunden, daß sich die an sich be- digung der Gravur jeder Rasterpunktreihe der Querkannte
elektromechanische Gravur auch mit Vorteil vorschub des Abtast- und Graviersystems um ein
für die Durchführung des Verfahrens nach dem 40 Mehrfaches der Tastkopf- und Stichelbreite zu ver-Hauptpatent
für die Herstellung von Druckformen setzen derart, daß das System erst nach Freilassung
für den Rakeltiefdruck auf der Grundlage von Raster- eines Abstandes entsprechend dem in Fig. 2 unter
diapositiven unter Überlagerung mit einem zweiten einem Winkel von 135° dargestellten weißen Streifen
Raster verwenden läßt. Dabei wird von einer auf wieder eingeschaltet wird und die nächste gestrichelt
photolithographischem Wege oder mittels einer KIi- 45 dargestellte Streifenbreite abtastet. Dieser Quervorscheegraviermaschine
auf elektromechanischen! Wege schub des Abtast- und Graviersystems ist derart einhergestellten
Rastervorlage ausgegangen, die nach er- zustellen, daß die nicht abgetasteten, in F i g. 2 unter
folgtem Andruck und gegebenenfalls Tonwertkorrek- 135° verlaufenden weißen Streifen praktisch eine
tür auf elektromechanischem bzw. elektronischem Reduzierung des Tonwertumfanges auf höchstens
Wege mittels einer der bekannten Vorrichtungen auf 50 etwa zwei Drittel, vorzugsweise etwa 30 bis 60 °/o
die Druckform übertragen wird, wobei der Tonwert- ergeben. Die schwarzen Felder zeigen die Überschneiumfang
in dem gewünschten Maß reduziert wird. dung des Abtastkopfes mit den geschwärzten Linien
Dies geschieht zweckmäßig dadurch, daß die in der der Rastervorlage, und diese schwarzen Felder sind
Rastervorlage vorhandenen Rasterelemente nur zu diejenigen Teile der Vorlage, die in die Druckform
einem entsprechenden Anteil photoelektrisch abge- 55 eingraviert werden, wie dies F i g. 3 zeigt,
tastet und elektromechanisch in die Druckform ein- In dem vorliegenden Beispiel sind die Tonwerte
graviert werden. Gemäß dem Hauptpatent erfolgt auf der Rastervorlage in der F i g. 1 in der Druckform
diesem Wege bei der Übertragung auf die Druck- gemäß F i g. 3 um etwa 50 % aufgehellt, und die
form eine Überlagerung mit einem Raster, dessen Druckform gleicht damit einer solchen Druckform,
lichtdurchlässiger Anteil höchstens etwa zwei Drittel 60 wie sie gemäß den älteren Vorschlägen des Erfinders,
der Rasterfläche, vorzugsweise etwa 30 bis 60 % der- insbesondere nach dem Hauptpatent hergestellt wird,
selben beträgt; im Ergebnis entsprechen also die er- Der Grad der Aufhellung läßt sich selbstverständlich
haltenen Druckformen denjenigen nach den älteren auch hier variieren und ist eine Funktion des AbVorschlägen.
Somit wird erfindungsgemäß vorge- Standes von Abtastlinie zu Abtastlinie. Die Feinheit
sehen, daß bei der Durchführung der Überkreuzung 65 der elektromechanisch bzw. elektronisch erzeugten
mit einem Einlinienraster auf an sich bekanntem Rasterliniatur in der Querrichtung zu der Liniatur der
elektromechanischem bzw. elektronischem Wege die Rastervorlage wird durch die Breite des Gravierin
der Rastervorlage vorhandenen Rasterelemente nur sticheis bestimmt.
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung von Druckformen für den Rakeltiefdruck, bei dem Rasterdiapositive
mit einem für die Anfertigung von Andrucken S im Offsetverfahren ausreichenden Tonwertumfang
bei der Übertragung auf die Tiefdruckform mit einem Tiefdruckraster unter Verminderung des
lichtdurchlässigen Anteils um etwa 30 bis 60 % überlagert werden, nach Patent 1242 098, dadurch
gekennzeichnet, daß bei der Durchführung der Überkreuzung mit einem Einlinienraster
auf an sich bekanntem elektromechanischen! bzw. elektronischem Wege die in der
Rastervorlage vorhandenen Rasterelemente nur zu einem entsprechenden Anteil abgetastet und
in die Druckform eingraviert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Abtastung des Diapositivs,
in das die Tonwerte mittels eines Linienrasters eingelagert sind, unter einem Winkel von vorzugsweise
90° zu den Rasterlinien des Diapositivs durchgeführt und das Abtast- und Graviersystem
nach Beendigung der Gravur jeder Rasterpunktreihe um ein Mehrfaches der Tastkopf- und Stichelbreite
quer verschoben wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
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