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DE1272452B - Halbleiterstrahlungsquelle aus zinkdotiertem Galliumphosphid und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Halbleiterstrahlungsquelle aus zinkdotiertem Galliumphosphid und Verfahren zu ihrer Herstellung

Info

Publication number
DE1272452B
DE1272452B DEP1272A DE1272452A DE1272452B DE 1272452 B DE1272452 B DE 1272452B DE P1272 A DEP1272 A DE P1272A DE 1272452 A DE1272452 A DE 1272452A DE 1272452 B DE1272452 B DE 1272452B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
zinc
gallium
melt
tin
atomic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEP1272A
Other languages
English (en)
Inventor
Wilhelmus Polycarpus De Graaf
Willem Westerveld
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE1272452B publication Critical patent/DE1272452B/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H10P95/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B31/00Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor
    • C30B31/04Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor by contacting with diffusion materials in the liquid state
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/80Constructional details
    • H10W72/07552
    • H10W72/522
    • H10W72/527
    • H10W72/536
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/107Melt

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND DEUTSCHES WTTWl· PATENTAMT Int. Cl.:
H05b
AUSLEGESCHRIFT
Deutsche Kl.: 2If-89/03
Nummer: 1272452
Aktenzeichen: P 12 72 452.6-33 (N 27245)
Anmeldetag: 25. August 1965
Auslegetag: 11. Juli 1968
Die Erfindung betrifft eine Halbleiterstrahlungsquelle aus zinkdotiertem Galliumphosphid. Eine solche Strahlungsquelle bekannter Art besteht aus Galliumphosphid, das Zink in fester Lösung enthält, mit einer Elektrode, von der her ein Überschuß an Ladungsträgern in das zinkdotierte Galliumphosphid injiziert werden kann, wodurch bei der Rekombination von Elektronen und Löchern in dem Körper Strahlung entstehen kann. Weiter bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren zur Herstellung zink- ίο dotierten Galliumphosphids durch Abtrennung aus einer im wesentlichen aus Gallium und Phosphor bestehenden Schmelze, der außerdem eine Zinkdotierung zugesetzt ist. Die Rekombination braucht dabei nicht eine direkte Kombination eines Elektrons aus dem Leitungsband mit einem Loch aus dem Valenzband zu sein, sondern kann auch stufenweise erfolgen, z. B., wenn ein Elektron aus dem Leitungsband oder ein Loch aus dem Valenzband in ein Zwischenniveau eingefangen wird und sich darauf mit einem Loch ao bzw. einem Elektron kombiniert, wobei in mindestens einer der Stufen Strahlung entsteht. Statt in zwei Stufen kann die Rekombination auch in drei oder mehr Stufen erfolgen.
Eine solche Strahlungsquelle läßt sich für viele as Zwecke verwenden, z. B. als Lampe, in elektrischen, optischen oder elektrooptischen Vorrichtungen mit mindestens einem elektrolumineszierenden Teil, z. B. bei Signalübertragungsvorrichtungen mit elektrolumineszierenden Zellen und Photozellen, in Bildverstärkern mit photoelektrischen und elektrolumineszierenden Schichten, optoelektronischen Transistoren und in optischen Sendern (Lasern) mit einer Injektionsstrahlungsquelle, in der stimulierte, kohärente Strahlung erzeugt wird.
Die Strahlung kann z. B. in dem Halbleitermaterial durch Stromdurchgang durch einen p-n-, p-i-n-, oder Metall-Halbleiter-Übergang erzeugt werden.
Es ist bekannt, daß zinkdotiertes Galliumphosphid ein besonders gut geeignetes Material zur Anwendung in einer Injektionsstrahlungsquelle ist, wobei Strahlung in dem sichtbaren Bereich des Spektrums mit einem Maximum bei etwa 7000 und 5750 A erzeugt wird. Die Ausbeute kann dabei sehr hoch sein.
Es hat sich jedoch ergeben, daß, in Körpern hergestellt, aus einer Schmelze von Gallium, Phosphor und Zink wenigstens bei Zimmertemperatur häufig keine Injektionslumineszenz erzeugt werden konnte, auch wenn die Kristalle durchsichtig waren. Es wurde weiter gefunden, daß die lumineszierenden Eigenschäften wohl erzielt wurden, wenn die Schmelze mit etwas Sauerstoff verunreinigt war. Die Schlußfolge-Halbleiterstrahlungsquelle aus zinkdotiertem
Galliumphosphid und Verfahren zu ihrer
Herstellung
Anmelder:
N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken,
Eindhoven (Niederlande)
Vertreter:
Dipl.-Ing. E. E. Walther, Patentanwalt,
2000 Hamburg 1, Mönckebergstr. 7
Als Erfinder benannt:
Willem Westerveid,
Wilhelmus Polycarpus de Graaf, Eindhoven
(Niederlande)
Beanspruchte Priorität:
Niederlande vom 29. August 1964 (6410 080) - -
rung wurde daher gezogen, daß zum Erzielen einer guten Injektionslumineszenz die Anwesenheit von Zink und Sauerstoff in dem Galliumphosphid erforderlich war.
Es ist jedoch schwierig, Sauerstoff in reproduzierbarer Weise in der Schmelze zu dosieren. Die Schmelze enthält weiter Bestandteile, die leicht mit Sauerstoff reagieren. Es kann z. B. festes Galliumoxyd in der Schmelze gebildet werden. Die Teilchen dieses Stoffes können als Kristallisationskeime wirksam werden, was der Bildung der im allgemeinen verlangten Einkristalle geeigneter Größe entgegenwirkt. Weiter können solche Teilchen Einschlüsse in den erhaltenen Galliumphosphidkörpern bilden, die bei Verwendung eines solchen Körpers in einer Strahlungsquelle einen Teil der erzeugten Strahlung absorbieren könnten.
Die Erfindung bezweckt unter anderem, zinkdotiertes Galliumphosphid zur Anwendung in einer Injektionsstrahlungsquelle zu schaffen, das diese Nachteile nicht aufweist. Es wurde nunmehr gefunden, daß Galliumphosphid, hergestellt aus einer sauerstofffreien Schmelze von Gallium, Phosphor und Zink, keine nachweisbaren Mengen Zink enthält, während aus einer solchen Schmelze, die weiter eine kleine Menge Sauerstoff enthält, Galliumphosphid gebildet werden kann, das Zink in Mengen enthält, die spek-
809 569/236

Claims (1)

  1. 3 4
    trographisch deutlich nachweisbar sind. Der Zusatz Die Erfindung wird an Hand eines Ausfuhrungs-
    von Sauerstoff scheint somit die Funktion zu haben, beispiels und der Zeichnung näher erläutert, wobei
    die Aufnahme von Zink in das Kristallgitter von die Figur in senkrechtem Schnitt eine Injektionsstrah-
    Galliumphosphid zu ermöglichen. Es wurde nunmehr lungsquelle zeigt.
    weiter gefunden, daß an Stelle von Sauerstoff auch 5 Zur Herstellung des zinkdotierten Galliumphos-
    das Vorhandensein anderer Elemente ermöglichen, phids werden in eine Quarzampulle 6,7 g Gallium-
    Galliumphosphid zu erhalten, das mit Zink dotiert phosphid, 1 mg Zinn, 10 mg Zink und 20 g Gallium
    ist und sich zur Anwendung in einer Injektionsstrah- eingebracht. Die Quarzampulle wird entlüftet und
    lungsquelle eignet. dann mit Wasserstoff von etwa ein Drittel Atmo-
    Eine Injektionsstrahlungsquelle eingangs erwähnter io sphäre gefüllt, worauf die Ampulle zugeschmolzen
    Art ist gemäß der Erfindung dadurch gekennzeichnet, wird. Die Ampulle wird dann in einem Widerstands-
    daß das zinkdotierte Galliumphosphid mindestens in ofen während 3 Stunden auf 1220 0C erhitzt und
    dem der Elektrode benachbarten Teil zusätzlich Zinn darauf allmählich abgekühlt, wobei die Temperatur
    und/oder Germanium enthält. Für eine hohe Strah- in einer Zeitspanne von etwa 2 Stunden von 1220 0C
    lungsausbeute wird vorzugsweise ein Zinkgehalt von 15 auf etwa 800 0C herabgesenkt wird. Nach Abkühlung
    mindstens 5 · 10~6 Gewichtsteilen verwendet. Bei auf Zimmertemperatur wird die Ampulle geöffnet,
    einem Zinkgehalt über 1 · 10~4 Gewichtsteilen wird und der Schmelzblock wird herausgenommen. Die
    die Intensität der aus dem Galliumphosphid heraus- entstandenen zinkdotierten Galliumphosphidkristalle
    tretenden Strahlung durch innere Absorption erheb- können von dem erstarrten Gallium durch Lösung
    lieh geschwächt, so daß vorzugsweise eine weniger 20 des Galliums in Salzsäure von 36 Gewichtsprozent
    hohe Zinkkonzentration verwendet wird. getrennt werden. Die erhaltenen Kristalle können
    Der atomare Gehalt an Germanium und Zinn zu- nach Größe sortiert und es können gegebenenfalls sammen, wobei der Gehalt von nur einem dieser größere Kristalle in kleinere Einkristallkörper mit den Elemente zu berücksichtigen ist, wenn das andere gewünschten Abmessungen geteilt werden,
    dieser beiden Elemente fehlt, ist vorzugsweise geringer 25 Es folgt ein Beispiel der Herstellung einer Lichtais der atomare Zinkgehalt. quelle aus einem auf die vorstehend beschriebene
    Ein Verfahren zur Herstellung zinkdotierten GaI- Weise hergestellten Körper aus zinkdotiertem Galliumliumphosphids durch Abtrennung aus einer im phosphid. Der in diesem Beispiel beschriebene Körwesentlichen aus Gallium und Phosphor bestehenden perl (s. die Figur) hat eine Länge von etwa 4 mm, Schmelze, der außerdem eine Zinkdotierung zugesetzt 30 eine Breite von etwa 2 mm und eine Dicke von etwa wird, ist nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, 0,3 mm. Auf einer Seite des Körpers 1 werden zwei daß der Schmelze, in der das Gallium alle anderen Metallkügelchen festgeschmolzen. Ein Kügelchen hat Elemente überwiegt, zusätzlich Zinn und/oder Ger- einen Durchmesser von 400 bis 500 μΐη und besteht manium zugesetzt wird und anschließend die Schmelze aus einer Legierung von Gold und Zink (4 Gewichtsvon einer Temperatur von mindestens 9000C allmäh- 35 prozent Zink), und das zweite Kügelchen hat einen lieh abgekühlt wird. In Anwesenheit eines oder beider Durchmesser von etwa 300 μπι und besteht aus Zinn, zuletzt genannten Elemente in der Schmelze ergibt es Die beiden Kügelchen werden bei einer Temperatur sich, daß Zink in das Galliumphosphid aufgenommen von 1000 bis 1100 0C aufgeschmolzen. Das Kügelwird, ohne daß Sauerstoff vorhanden zu sein braucht. chen aus Gold und Zink bildet einen Omschen Kon-Mit Zink dotiertes Galliumphosphid kann, wie vor- 40 takt 2 mit dem Körper 1, und das Zinnkügelchen stehend bereits bemerkt, in Injektionsstrahlungs- - bildet einen gleichrichtenden Kontakt 3 mit dem quellen benutzt werden. Das Verfahren beschränkt Körperl. Der Kontakt3 bildet die Injektionseleksich jedoch nicht auf Material, das sich zu diesem trode der Lichtquelle. An den Kontakten werden verZweck eignet, sondern kann gewünschtenfalls grand- zinnte Kupferdrähte 4 und 5 festgelötet. Zwischen sätzlich auch zur Herstellung anderer Halbleitervor- 45 den Kontakten wird eine Spannung von 2,2 V in der richtungen benutzt werden, z. B. Dioden und Transi- Vorwärtsrichtung angelegt, wobei in dem Körper 1 stören. in der Nähe des Kontakts 3 eine intensive orangerote
    Dadurch, daß die Atommenge Gallium in der Strahlung mit einem Maximum bei etwa 7000 und Schmelze größer als die Gesamtatommengen der 5750 A entsteht,
    anderen Elemente in der Schmelze gewählt wird, 50 Patentansprüche:
    brauchen die Bildung der Schmelze und die Abtrennung von Galliumphosphid aus der Schmelze nicht * 1. Halbleiterstrahlungsquelle aus zinkdotiertem bei besonders hohen Temperaturen durchgeführt zu _ Galliumphosphid, dadurch gekennzeichwerden. Außerdem können Galliumphosphidkristalle" net, daß das zinkdotierte Galliumphosphid minmit einer praktisch konstanten Zinkkonzentration 55 destens in dem der Elektrode benachbarten Teil ohne nennenswerte Konzentrationsgradienten erhalten zusätzlich Zinn und/oder Germanium enthält,
    werden. Die atomare Menge Galliumum der Schmelze 2. Strahlungsquelle nach Ansprach 1, dadurch ist vorzugsweise mindestens das Zweifache der atoma- gekennzeichnet, daß der Zinkgehalt mindestens ren Phosphormenge in der Schmelze. In der Praxis 5 · 10~6 und höchstens 1 · 10~4 Gewichtsteile bewird vorzugsweise eine Schmelze mit einer atomaren 60 trägt.
    Menge Gallium von mindestens fünfmal und hoch- 3. Strahlungsquelle nach Ansprach 1, dadurch
    stens zwanzigmal die atomare Menge Phosphor her- gekennzeichnet, daß der atomare Gehalt an Zinn
    gestellt. Der Zinkgehalt in der Schmelze beträgt vor- und Germanium insgesamt geringer ist als der
    zugsweise mindestens 1 · ΙΟ"5 und höchstens 2 · 10~3 Zinkgehalt.
    Gewichtsteile, während, wenn kein Germanium dem 65 4. Verfahren zur Herstellung zinkdotierten
    zu schmelzenden Material zugesetzt wird, der Zinn- Galliumphosphids nach den Ansprüchen 1 bis 3
    gehalt vorzugsweise mindestens 1 · 10~5 und hoch- durch Abtrennung aus einer im wesentlichen aus
    stens 1 · 10~2 Gewichtsteile beträgt. Gallium und Phosphor bestehenden Schmelze,
    der außerdem eine Zinkdotierung zugesetzt wird, dadurch gekennzeichnet, daß der Schmelze, in der das Gallium alle anderen Elemente überwiegt, zusätzlich eine Dotierung aus Zinn und/oder Germanium zugesetzt wird und anschließend die Schmelze von einer Temperatur von mindestens 900 0C allmählich abgekühlt wird.
    5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die verwendete Atommenge Gallium mindestens das Zweifache der verwendeten Atommenge Phosphor in der Schmelze ist.
    6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die verwendete Atommenge Gallium mindestens das Fünffache der atomaren Menge Phosphor in der Schmelze und höchstens das Zwanzigfache der verwendeten atomaren Menge Phosphor in der Schmelze ist.
    7. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Schmelze mindestens 1 · 10~5 und höchstens 2 · 10~3 Gewichtsteile Zink zugesetzt wird.
    8. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Schmelze mindestens 1 · 10~5 und höchstens 1 · 10~2 Gewichtsteile Zinn zugesetzt wird.
    In Betracht gezogene Druckschriften:
    österreichische Patentschrift Nr. 228 858.
    Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
    809 569/236 7.68 © Bundesdruckerei Berlin
DEP1272A 1964-08-29 1965-08-25 Halbleiterstrahlungsquelle aus zinkdotiertem Galliumphosphid und Verfahren zu ihrer Herstellung Pending DE1272452B (de)

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