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DE1246349B - Bad zur galvanischen Abscheidung von Silber-Antimon-Legierungen - Google Patents

Bad zur galvanischen Abscheidung von Silber-Antimon-Legierungen

Info

Publication number
DE1246349B
DE1246349B DESCH34943A DESC034943A DE1246349B DE 1246349 B DE1246349 B DE 1246349B DE SCH34943 A DESCH34943 A DE SCH34943A DE SC034943 A DESC034943 A DE SC034943A DE 1246349 B DE1246349 B DE 1246349B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
silver
antimony
bath
galvanic deposition
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DESCH34943A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Hubert Offermanns
Dr Willy Skaliks
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bayer Pharma AG
Original Assignee
Schering AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schering AG filed Critical Schering AG
Priority to DESCH34943A priority Critical patent/DE1246349B/de
Priority to GB8976/65A priority patent/GB1083989A/en
Priority to CH428465A priority patent/CH453029A/de
Priority to US445701A priority patent/US3425917A/en
Priority to FR12211A priority patent/FR1429801A/fr
Publication of DE1246349B publication Critical patent/DE1246349B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/64Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of silver

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
Auslegetag:
C23b
Deutsche Kl.: 48 a-5/44
Sch34943VIb/48a
10. April 1964
3. August 1967
Die Erfindung bezieht sich auf ein Bad zur galvanischen Abscheidung von Silber-Antimon-Legierungen, insbesondere zur Herstellung harter und glänzender Silberüberzüge.
Die Silberniederschläge, die man elektrolytisch aus den bekannten und allgemein benutzten cyanidischen Bädern abscheiden kann, haben eine verhältnismäßig geringe Härte. Es ist bekannt, den Elektrolyten verschiedene Stoffe zuzusetzen, welche die Abscheidung härterer und außerdem glänzender Niederschläge ίο ermöglichen. Die als Glanzbildner verwendeten Substanzen erhöhen nicht nur den Glanz, sondern in gewissem Maße stets auch die Härte der Silberabscheidungen. Mit den meisten dieser Substanzen werden unter normalen Bedingungen Härten bis etwa 120 kp/mma erreicht. Silberüberzüge mit höheren · Härtewerten (bis über 200kp/mm2) kann man, wie ebenfalls bekannt ist, aus antimonhaltigen Elektrolyten herstellen. Diese Silberschichten· behalten ihre hohe Härte auch bei längerem Lagern bzw. beim Erhitzen auf höhere Temperaturen (100 bis 2000C), · was bei den meisten elektrolytisch abgeschiedenen Silberniederschlägen nicht der Fall ist.
Die Einführung des Antimons in die cyanidischen Silberbäder ist mit gewissen Schwierigkeiten verbunden. Es ist prinzipiell möglich, das Antimon in Form von Alkali(III)-antimonat einzubringen, jedoch muß man dem Bad hierbei ziemlich viel Wasser und außerdem Alkalihydroxyd zuführen, weil die Antimonate nur in stark alkalischer Lösung beständig und nur mäßig löslich sind. Die ständige Zufuhr der hochalkalischen Antimonlösung läßt sich im praktischen Betrieb nicht durchführen, weil der Elektrolyt sich in unzulässigem Maße an Alkalihydroxyd anreichert und sein Volumen durch die Zusätze immer größer wird. Man hat daher verschiedene organische Verbindungen . ' angewandt, die mit Antimon mehr oder weniger stabile Komplexe bilden und es in Lösung halten. Als Komplexbildner sind hierbei benutzt worden: Oxysäuren, ζ. B. Weinsäure, oder Aminosäuren, geradkettige aliphatische Polyoxyverbindungen, z. B. Äthylenglykol, Glycerin oder Sorbit, ferner aromatische Dihydroxyverbindungen, z. B. Brenzkatechin-3,5-disulfosäure.
Diese Komplexbildner haben indessen den Nachteil, in größerer Konzentration einen ungünstigen Einfluß auf die Silberabscheidung auszuüben und außerdem bei der Elektrolyse schädliche Zersetzungs- oder Reaktionsprodukte zu bilden.
Zur Überwindung dieser Nachteile wurde zwar bereits vorgeschlagen, Aminoalkohole als komplexbildende Lösungsmittel für Antimonhydroxyd bzw. Bad zur galvanischen Abscheidung
von Silber-Antimon-Legierungen
Anmelder:
Schering Aktiengesellschaft,
Berlin N 65·, Müllerstr. 170/172
Als Erfinder benannt:
Dr. Hubert Offermanns, Solingen-Merscheid;
Dr. Willy Skaliks, Berlin
Antimonoxyd zu verwenden. Die Antimonverbindungen sind jedoch nur mit beträchtlichem Aufwand mit Aminoalkoholen in Lösung zu bringen, so daß ζ. B. sogar das relativ gut lösliche, frisch gefällte Antimonoxydhydrat etwa 1 Stunde lang mit Triäthanolamin auf 160°C erhitzt werden muß, um eine Lösung zu erhalten.
Es wurde nun gefunden, daß Komplexverbindungen eines Alkanolamins mit Antimontrichlorid sehr gut löslich sind und sich als Härte- und Glanzbildner in galvanischen Silberbädern besonders eignen. Als Alkanolamine sind z. B.-besonders geeignet gegebenenfalls substituierte Tri- und Dialkanolamine, wie Triäthanolamin, Tripropanolamin, Tri-iso-propanolamin, Tributanolamin, Tri-isobutanolamin, Tripentanolamin, Tri-(a-äthylpropanol)-amin, Trihexanolamin, Methyldiäthanolamin, Äthyldiäthanolamin, Methyldipropanolamin, Äthyldipropanolamin, Propyldiäthanolamin und n-Butyldiäthanolamin.
Die Herstellung der Komplexe erfolgt in einfachster Weise durch Mischen der Komponenten miteinander. Zu diesem Zweck trägt man Antimontrichlorid unter Rühren in überschüssiges Alkanolamin ein, das gegebenenfalls etwas Wasser enthalten kann und zur Einleitung der Reaktion zweckmäßig auf etwa 4O0C erwärmt worden ist.' Die Bildung der Komplexverbindung erfolgt nun exotherm, wobei die Temperatur je nach den Bedingungen mehr oder weniger hoch ansteigt. Eine Isolierung der ausgezeichnet löslichen Komplexe ist nicht erforderlich, ihre Lösung kann dem Silberbad direkt zugesetzt werden. Als zweckmäßig hat es sich erwiesen, wenn der Antimongehalt dieser Lösung etwa 5 Gewichtsprozent beträgt. Die genaue Zusammensetzung der Komplexverbindung ist bisher nicht bekannt. Dies ist jedoch unerheblich, da für die Wirkung lediglich die Gegenwart der beiden Komponenten in Form eines löslichen Komplexes erforderlich ist.
709 619/553
I 246
Der Gehalt an Antimon kann in d,en erfindungsgemäßen Bädern in einem Bereich von etwaO,Ol bis 10 g/l liegen, vorzugsweise wird dieser jedoch in einem Bereich von etwa 0,2 bis 3,0 g/l gehalten.
Aus Silberbädern, welche die beschriebenen Kornplexe enthalten, können glänzende Silberüberzüge mit ausgezeichneten Eigenschaften, insbesondere- mit großer Härte, abgeschieden; werden. .,Besopders^vorteilhaft verhalten.,sich die erfindungsgemäßen. Bäder hinsichtlich der Glanzbildung, wenn !%ie -außerdem Verbindungen des zweiwertigen Selens enthalten. So erhält man aus Elektrolyten mit etwa 30 g/l Silber und etwa 100 g/l freiem Alkalicyanid, denen die Antimonkomplexsalzlösung zugesetzt wurde, bei- Stromdichten zwischen etwa 0,2 und 1,5 A/dm2 und mit Elektrolytbewegung halbgiänzende Silberniederschläge mrtVikkershärten von etwa 160 bis 220 fcp'/mm2. Setzt man den Elektrolyten noch Kalium- oder Natriumselenocyanat, beispielsweise etwa "O,001~g/r,' als" Glänzbildner zu, so kann man im Bereich von etwa 0^1 bis 2,5 A/dm2 spiegelglänzen4e SHbjerüberzügs.niit mindestens derselben hohen Härte abscheiden.
Im folgenden sind einige Beispiele" für erjndungsgemäße Silberbäder aufgeführt,, welche. Aniimqnkomplexe von Alkanolamine!} als'Öärte- und Gläjtizbildner enthaKen." '"'".: " _ „.'.„_.
Beispiel!" ■
Silber als Natriumsilbercyanid 30,0 g/l
Freies Natriumcyanid 110,0 g/l
-.. · Natriumcarbonat ...' 25,0"g/l
«- Antimon, als Lösung-von — ----- ■-. - - -".-" ' "-. SbCl3 in.Triäthanolamin .'. 0,5 g/l "
Beispiel 2
Silber als Kaliumsilbercyanid 35,0 g/l
Freies Kaliumcyanid ,. 120,0 g/l
:- Kaliumcarbonat 30,0 g/l
Antimon als Lösung von
SbCl3 in Methyldiäthanolamin.... 1,0 g/l
Beispiel 3
Silber als Kaliumsilbercyanid .... 30,0 g/l
Freies Natriumcyanid 100,0 g/l
Natriumcarbonat 30,0 g/l
Antimon als Lösung von
SbCl3 in Triisopropanolamin 0,8 g/l

Claims (1)

  1. Patentansprüche:
    • 1. Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Antimon-Legierungen mit einem Gefialt an mindestens einer Koniplexverbindung eines Alkanolamine ,mit, einer anorganischen .Antimonverbin- :dung^r;dadurch gekennzeichnet,, daß ■es die Komplexverbmdung eines ,Alkajxolamin's, mit Antimontrichlond enthält. „., .-*,-. ........
    2. Bad-nach Anspruch!, gekennzeichnet, (Jurch einen , Gehalt an einer Komplexyerbindung von ;· Triäthanolamin mit .Antimontrichiorid.. , - 3, Bad nac^'den Ansprüchen 1. und 2, gekennzeichnet durch einen weiteren Geiaalt an Glanzbildnerri, bevorzugt Verbindungen des zweiwertigen Selens.
    In Betracht gezogene. Druckschriften: Deutsche Auslegeschrift Nr. 1182 014... ..·.._..
    709 619/553 7.67 © Bundesdruckerei Berlin
DESCH34943A 1964-04-10 1964-04-10 Bad zur galvanischen Abscheidung von Silber-Antimon-Legierungen Pending DE1246349B (de)

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DESCH34943A DE1246349B (de) 1964-04-10 1964-04-10 Bad zur galvanischen Abscheidung von Silber-Antimon-Legierungen
GB8976/65A GB1083989A (en) 1964-04-10 1965-03-02 Improvements in and relating to the electrodeposition of silver-antimony alloys
CH428465A CH453029A (de) 1964-04-10 1965-03-29 Bad zur galvanischen Abscheidung von Silber-Antimon-Legierungen
US445701A US3425917A (en) 1964-04-10 1965-04-05 Electrodeposition of silver antimony alloys
FR12211A FR1429801A (fr) 1964-04-10 1965-04-07 Bain pour dépôt électrolytique d'alliages d'argent et d'antimoine

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013142765A1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 Technic, Inc. Silver antimony coatings and connectors

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1182014B (de) * 1960-04-12 1964-11-19 Riedel & Co Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Antimon- oder Silber-Wismut-Legierungen hoher Haerte

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2330962A (en) * 1941-03-31 1943-10-05 Parke Davis & Co Organic compound of antimony and process for making it
US2555375A (en) * 1948-11-13 1951-06-05 Battelle Development Corp Process of plating bright silver alloy
US2817628A (en) * 1953-10-16 1957-12-24 Gen Motors Corp Antimony plating bath
US2801959A (en) * 1953-12-03 1957-08-06 Harshaw Chem Corp Alkaline antimony plating
US2735808A (en) * 1955-01-31 1956-02-21 Mirror bright silver plating
US2777810A (en) * 1956-10-03 1957-01-15 Elechem Corp Bath for electroplating silver
DE1140425B (de) * 1961-05-19 1962-11-29 Schering Ag Alkalisch reagierende Komplexbaeder zum galvanischen Abscheiden von Silberueberzuegen
NL290554A (de) * 1962-03-22

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1182014B (de) * 1960-04-12 1964-11-19 Riedel & Co Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Antimon- oder Silber-Wismut-Legierungen hoher Haerte

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US3425917A (en) 1969-02-04
CH453029A (de) 1968-05-31
GB1083989A (en) 1967-09-20

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