DE1245677B - Waessriges galvanisches Chrombad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Glanzchromueberzuegen - Google Patents
Waessriges galvanisches Chrombad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von GlanzchromueberzuegenInfo
- Publication number
- DE1245677B DE1245677B DEP36209A DEP0036209A DE1245677B DE 1245677 B DE1245677 B DE 1245677B DE P36209 A DEP36209 A DE P36209A DE P0036209 A DEP0036209 A DE P0036209A DE 1245677 B DE1245677 B DE 1245677B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- chromium
- acid
- chrome
- bath
- galvanic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 39
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 3
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 36
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 21
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 11
- -1 chromium (III) ions Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- QYHKPQCMTYXLIA-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);2-hydroxyacetate Chemical group [Cr+3].OCC([O-])=O.OCC([O-])=O.OCC([O-])=O QYHKPQCMTYXLIA-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 claims description 4
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 11
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 4
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M Glycolate Chemical compound OCC([O-])=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N chromium(3+) Chemical compound [Cr+3] BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001436 Cr3+ Inorganic materials 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- BTAAXEFROUUDIL-UHFFFAOYSA-M potassium;sulfamate Chemical compound [K+].NS([O-])(=O)=O BTAAXEFROUUDIL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000982822 Ficus obtusifolia Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940117975 chromium trioxide Drugs 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N chromium trioxide Inorganic materials O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAMDZJFZMJECOS-UHFFFAOYSA-N chromium(6+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+6] GAMDZJFZMJECOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVHFYNOGAFYRJV-UHFFFAOYSA-L chromium(ii) oxalate Chemical compound [Cr+2].[O-]C(=O)C([O-])=O XVHFYNOGAFYRJV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K chromium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Cr+3] VQWFNAGFNGABOH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N cyclopentene-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCCC1 PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 238000001139 pH measurement Methods 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- CBXWGGFGZDVPNV-UHFFFAOYSA-N so4-so4 Chemical compound OS(O)(=O)=O.OS(O)(=O)=O CBXWGGFGZDVPNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940023144 sodium glycolate Drugs 0.000 description 1
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- JEJAMASKDTUEBZ-UHFFFAOYSA-N tris(1,1,3-tribromo-2,2-dimethylpropyl) phosphate Chemical compound BrCC(C)(C)C(Br)(Br)OP(=O)(OC(Br)(Br)C(C)(C)CBr)OC(Br)(Br)C(C)(C)CBr JEJAMASKDTUEBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/10—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium characterised by the organic bath constituents used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
30
UNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL.
C23b
Deutsche Kl.: 48 a - 5/06
Nummer: 1 245 677
Aktenzeichen: P 36209 VI b/48 a
Anmeldetag: 7. Oktober 1960
Auslegetag: 27. Juli 1967
C25D
3-
Die gegenwärtigen technischen Verchromungsverfahren beruhen auf der Elektrolyse von Lösungen von
Chromtrioxyd (CrO3), die geringe Mengen an Katalysatoren,
wie Sulfaten oder Fluoriden, enthalten. Wenn man bei diesen Verfahren Glanzverchromungen
von ausreichendem Gütegrad erzielen will, müssen die Stromdichten und die Temperaturen bei der
Galvanisierung unter genauer Kontrolle gehalten werden. Aber selbst wenn man diese Größen sowie
das Verhältnis von Chromsäure zu Katalysator unter Kontrolle hält, ist das Streuvermögen des galvanischen
Bades viel geringer als bei anderen Galvanisierverfahren. Infolge des geringen Streuvermögens müssen
Anoden verwendet werden, deren Form der Form des zu galvanisierenden Gegenstandes angepaßt ist.
Ferner ist die Stromausbeute der technischen Galvanisierbäder gewöhnlich nicht höher als 8 bis 12%
und unter den günstigsten Bedingungen nur 15 bis 20 °/0.
Außerdem entwickeln sich beim Galvanisieren große Mengen Sauerstoff und Wasserstoff, was zu
einem ständigen korrosiven Sprühnebel von Chromsäure über dem galvanischen Bad während des
Galvanisierungsvorganges führt. Dadurch gehen gleichzeitig große Mengen an Chromsäure verloren, weil
die technischen Chromgalvanisierungsbäder eine hohe Konzentration an Chromsäure enthalten müssen.
Aus Lösungen des dreiwertigen Chroms wurden zum erstenmal schon vor über 100 Jahren Chromabscheidungen
erhalten. Anschließend wurden viele Versuche unternommen, galvanische Verchromungsverfahren
unter Verwendung verschiedener Verbindungen des dreiwertigen und zweiwertigen Chroms,
z. B. unter Verwendung von Sulfaten, Chloriden, Nitraten, Fluoboraten, Acetaten, Oxalaten, Tartraten,
Citraten, Cyaniden, Harnstoff, Ammoniak und Aminen, auszuarbeiten. Das ältere Schrifttum über diese
Arbeiten ist verwirrend und voll von Widersprüchen. Es sind viele Patente auf diesem Gebiet erteilt worden,
deren Glaubwürdigkeit aber durch spätere Forscher wieder in Frage gestellt wurde. Im Jahre 1933 veröffentlichte
C. K a s ρ e r in »J. Research (National Bureau of Standards)«, 11 (1953), S. 515, eine kritische
Übersicht über die galvanische Abscheidung von Chrom aus Verbindungen seiner niedrigeren Wertigkeitsstufen.
Dabei kam er zu dem Schluß, daß keines der bisher vorgeschlagenen galvanischen Bäder den
mäßigen Anforderungen an ein gutes Galvanisierungsverfahren genügte und mit dem Chromsäurebad in
Wettbewerb treten konnte. Die untersuchten Bäder des zweiwertigen Chroms hatten zwar einen höheren
Wirkungsgrad, erzeugten jedoch nur Abscheidungen Wäßriges galvanisches Chrombad und Verfahren
zum galvanischen Abscheiden von
Glanzch romüberzügen
Glanzch romüberzügen
Anmelder:
E. I. du Pont de Nemours and Company,
Wilmington, Del. (V. St. A.)
Vertreter:
Dr.-Ing. W. Abitz und Dr. D. Morf,
Patentanwälte, München 27, Pienzenauer Str. 28
Als Erfinder benannt:
Alden Johnson Deyrup, West Chester, Pa.;
Talivaldis Berzins, Wilmington, Del. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 7. Oktober 1959 (844 876)
von begrenztem Glanz und wurden leicht durch Luft zum dreiwertigen Zustand oxydiert. Die Bäder
des dreiwertigen Chroms ergaben entweder eine äußerst niedrige Stromausbeute, oder sie erzeugten
Chromabscheidungen von schlechter Beschaffenheit.
Die Erfindung stellt neue galvanische Glanzverchromungsbäder
zur Verfügung, die ein bedeutend verbessertes Streuvermögen und eine viel bessere
Stromausbeute ermöglichen, und mit denen die Glanzverchromung innerhalb eines stark erweiterten
Bereiches von Galvanisierungsbedingungen erzielt wird.
Das wäßrige galvanische Chrombad gemäß der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß es einen
pH-Wert zwischen 1,5 und 3,0 aufweist und je 1000 g eine 0,1 bis 1 Mol Chrom(III)-ionen liefernde Menge
an einem Chromsalz einer organischen Carbonsäure, 0,07 bis 3 Mol an einer organischen Carbonsäure,
0,2 bis 3 Mol an einem Alkalisalz einer Säure mit einer Dissoziationskonstante von mindestens K = 10~2
und 0,2 bis 2 Mol Borsäure enthält, mit der Maßgabe, daß das Molverhältnis von Carbonsäure zu Chrom
zwischen 0,7 : 1 und 3,0 : 1 liegt.
709 618/448
3 4
Die galvanischen Bäder gemäß der Erfindung Die Chromkonzentration im Bad beträgt zweckkönnen
bei Raumtemperatur, aber auch bei hohen mäßig 0,5, 1 oder 1,5 Mol/l.
Temperaturen, wie 65° C, eingesetzt werden. Man Die vorliegenden Bäder arbeiten bei Verwendung
erhält mit ihnen glänzende, zusammenhängende, sehr von Chromglykolat allein, aber mit einem Salz einer
korrosionsfeste Chromabscheidungen. Die zu galva- 5 starken Säure, welche die notwendige Leitfähigkeit
nisierende Metallfläche (z. B. Kupfer, Kupferlegie- ergibt, in überlegener Weise.
rungen, Bronze, Messing oder Nickel) wird zuerst Bei einer Konzentration der freien Glykolsäure von
gereinigt und ist vorzugsweise glatt und poliert. Sie 1 Mol/l kann bei einem pH-Wert von 2,4 in dem
wird als Kathode und in recht gleichmäßigem Ab- vorliegenden Bad die Konzentration an freiem Glyko-
stand von einer inerten Anode (wie Kohlenstoff, io lation 0,04 Mol/l nicht überschreiten. Man kann
Graphit, Platin oder platiniertem Titan) eingesetzt; bei der Badherstellung mit großen Mengen Alkali-
man kann das Bad bei einer Stromdichte von 2,7 bis glykolat arbeiten, aber zu dem Zeitpunkt der pH-Ein-
21,5 A/dm2 betreiben. Die Bäder sind herkömmlichen, stellung mit starker Säure, wie Salzsäure, wird das
sechswertiges Chrom enthaltenden Bädern in bezug Alkaliglykolat zum großen Teil in freie Glykolsäure
auf Stromausbeute, Streukraft und Abscheidungs- 15 und Alkalichlorid umgewandelt,
bereich weit überlegen. Die Borsäure kann als Borax, Boroxyd oder Bor-
Das Chrom(III)-carboxylat kann das Salz einer säure zugesetzt werden. Ohne Borsäure wird eine
Carbonsäure, z. B. Glykolsäure, Milchsäure, Ameisen- Glanzverchromung nur in einem sehr engen Stromsäure
oder Oxalsäure oder von Gemischen derselben dichtebereich erzielt, während die Borsäure diesen
sein. Bevorzugt werden die Salze von a-Oxycarbon- 20 Bereich außerordentlich erweitert. Vorzugsweise arbeisäuren,
z. B. Glykolsäure und Milchsäure, wobei das tet man mit einer möglichst hohen Konzentration
Glykolat die besten Ergebnisse liefert. Der Zusatz innerhalb der Löslichkeitsgrenze, d. h. etwa 1 Mol/l,
zum Bad kann in Form des Carboxylates oder durch Das Chrombad gemäß der Erfindung bedarf des
Auflösen von Chrom(III)-hydroxyd oder -carbonat Zusatzes eines Alkalisalzes einer starken Säure,
oder von metallischem Chrom in der Säure und as Die wäßrige Lösung der sich in dem Bad bildenden
Einstellung des pH-Wertes mit Natriumhydroxyd oder Chromkomplexverbindung hat eine sehr geringe
-carbonat erfolgen. elektrische Leitfähigkeit. Das Alkalisalz der starken
Ein vorteilhafter Weg zur Herstellung der Chrom(III)- Säure wird benötigt, um die erforderliche Leitfähigkeit
carboxylate beruht auf der Reduktion von Chrom- zu erzielen. Das Kation kann Na oder K sein, wobei
säure mit der betreffenden Carbonsäure, z. B. Glykol- 30 das letztgenannte wegen der höheren Leitfähigkeit
säure, nach der Gleichung bevorzugt wird. Die Anionen sollen von einer Säure
mit einer Dissoziationskonstante von mindestens
2 CrO -I- H CiOH) · COOH 4- 6 H+ ^ = ^ 2 abstammen, z. B. Perchlorat, Chlorid, SuIf-
32 amat oder ein Sulfat-Bisulfat-Gemisch sein. Die
->· 2 Cr+++ + 2 CO2 + 5 H2O 35 Anionen sollen bei der Galvanisierung keine Reduktion
an der Kathode erleiden. Die Ergebnisse, insbesondere
wobei die Glykolsäure in genügender Menge auge- ™ Hinblick ^f die Breite des Abscheidungsbereiches
wandt wird, um gemäß der Reaktion und ** BriIlanz, des Niederschlages bei Freiheit
von Trübung, sind um so besser, je starker die dem
40 Elektrolyt entsprechende Säure ist. Die Konzentra-
2 CrO3 + 3 H2C(OH) ■ COOH tionen der Alkalisalze der starken Säuren sind nicht
^ Ί Cr(Cn ΓΗ nmrom 7 cn 4- H O kritisch; 1- bis 4molare Lösungen sind zufrieden-
->■ ι Cr(CU2CH2UHHUhI)2 -t-1 CU2 + H2U stellend.
In einigen Fällen führen einige der obengenannten
eine komplexe Chrom(III)-verbindung zu bilden. Vor- 45 Anionen an der Anode zu Schwierigkeiten, denen
zugsweise wird das Verhältnis des Glykolsäureions man zum Teil durch Anordnung der Anode in einer
zum Chromsäureion zwischen 1,1: 1 und 2,1:1 getrennten Abteilung mit einem porösen Diaphragma,
gehalten. Bei höheren Verhältnissen nimmt die welches die Vermischung des Bades in den Anoden
Schwellenstromdichte unerwünscht zu. Man könnte und Kathodenräumen begrenzt, oder durch vollerwarten,
daß ein Zusatz großer Mengen Glykolsäure 50 ständige Isolierung der Anode mit einer kationdurchmöglich
ist, wenn durch Zusatz von Natriumglykolat lässigen Membran begegnen kann. So befinden sich
der pH-Wert konstant gehalten wird. Dies trifft jedoch mit einem Kationenaustauschharz überzogene Stoffe
überraschenderweise nicht zu. Große Mengen nicht- im Handel; solche Membranen sind fest, haben einen
ionisierter Glykolsäure oder anderer Säuren (selbst geringen elektrischen Widerstand und erlauben den
bei unverändertem pH-Wert) führen zu einer un- 55 freien Durchtritt der Kationen, während sie Anionen
erwünschten Erhöhung der Schwellenstromdichte. nicht durchlassen. Unter solchen Bedingungen kann
Wenn eine Abscheidung bei minimaler Stromdichte man in dem Anodenraum mit einem beliebigen Elek-
gewünscht wird, soll der Glykolsäureüberschuß (über trolyten, z. B. verdünnter Schwefelsäure, arbeiten,
das Verhältnis von Glykolsäure zu Chrom von 1: 1) Das Bad enthält auf 1000 g vorzugsweise etwa
gering sein. Wenn eine maximale Stromausbeute 60
gewünscht wird, kann dieses Verhältnis in dem ge- 0,1 bis 1 Mol Gesamt-Chrom(III)-ion,
nannten Bereich etwas erhöht werden. 0,07 bis 3 Mol Gesamtcarbonsäure
Mit Ameisensäure oder Oxalsäure und Gemischen (frei + gebunden),
derselben mit Glykolsäure sind zufriedenstellende 0,2 bis 2 Mol Borsäure,
Ergebnisse erzielt worden, aber diese Systeme sind 65 0,2 bis 3 Mol Alkalisalz einer starken Säure,
den nur Glykolsäure enthaltenden, in bezug auf Stromausbeute oder Abscheidungsbereich oder Brillanz der wobei die Mengen von den jeweils verwendeten Ver-Abscheidungen unterlegen. bindungen abhängen und vom Äquivalenzstandpunkt
derselben mit Glykolsäure sind zufriedenstellende 0,2 bis 2 Mol Borsäure,
Ergebnisse erzielt worden, aber diese Systeme sind 65 0,2 bis 3 Mol Alkalisalz einer starken Säure,
den nur Glykolsäure enthaltenden, in bezug auf Stromausbeute oder Abscheidungsbereich oder Brillanz der wobei die Mengen von den jeweils verwendeten Ver-Abscheidungen unterlegen. bindungen abhängen und vom Äquivalenzstandpunkt
aus zu betrachten sind, da die Bestandteile in komplexen chemischen Kombinationen vorliegen können.
Das Bad wird auf pH 1,5 bis 3,0, vorzugsweise 2,0 bis 2,7 gehalten. Bei pH-Verringerung nimmt die
Schwellenstromdichte zu, was unerwünscht sein kann. Der Wirkungsgrad der Abscheidung und der
Abscheidungsbereich nehmen jedoch im allgemeinen etwas zu. Bei pH-Erhöhung treten die umgekehrten
Auswirkungen auf. Es gibt keinen pH-Wert, bei dem sich alle Abscheidungsarbeiten unter Erzielung bester
Ergebnisse durchführen lassen, aber im allgemeinen hört nahezu die gesamte Abscheidung auf, wenn der
pH-Wert 3,5 erreicht.
Eine pH-Erhöhung erfolgt durch Zusatz eines Alkalihydroxydes, -carbonates oder -bicarbonates;
zur pH-Senkung kann die dem Alkalisalz entsprechende starke Säure verwendet werden. Das basische
Chromcarboxylat, wie
Cr (CO2-C H2OH) (OH)2
ergibt in Wasser eine saure Reaktion, die gewöhnlich ohne weitere Einstellung in den obigen pH-Bereich
fällt.
Bei der pH-Bestimmung oder -Einstellung ist zu beachten, daß der pH-Wert nach jedem Zusatz von
Säure oder Base wandert. Man kann deshalb nach der Einstellung das Bad zum Sieden erhitzen und
dann abkühlen, bevor die pH-Messung erfolgt.
Es hat sich als zweckmäßig erwiesen, im Bad keine Säuren mit einer Dissoziationskonstante zwischen
etwa 10~2 und 10~e oder Salze derselben zu verwenden
außer den oben angegebenen, im Molverhältnis zum Chrom(III)-ion von 0,7:1 bis 3:1, vorzugsweise 1,1:1
bis 2,1:1 anwesenden Carbonsäuren. Solche Säuren und Salze scheinen die Schwellenstromdichte, bei der
Glanzniederschläge erhalten weiden, zu erhöhen.
Zm Herstellung des Bades kann man 1 Mol Chromsäure z. B. mit 1,6 Mol Glykolsäure umsetzen. Zur
Reduktion werden 0,5 Mol benötigt; 1,0 Mol steht zur Bildung der Komplexverbindung und 0,1 Mol
als Überschuß bereit. Wenn man mit wesentlich weniger als 1,5 Mol arbeitet, kann eine unvollständige
Reduktion der Chromsäure eintreten und der Rest sich schädlich auswirken. Die Chromsäure
soll als wäßrige Lösung zu einer wäßrigen Lösung der Glykolsäure bei 90 bis 1000C vorsichtig zugesetzt
werden. Nach vollständigem Zusatz soll die Lösung 1 Stunde zum Sieden erhitzt werden, um die Reaktion
zu Ende zu führen. Eine Umkehrung der Reihenfolge des Zusatzes ist unzweckmäßig, da das Reaktionsgemisch dann vor Zusatz der gesamten Glykolsäure
zu einem Gel erstarrt.
Das Reaktionsprodukt ist eine tief grüne Lösung, die unter Bildung eines nichtkristallinen glasigen
Rückstandes verdampft. Dieses Material scheint eine basische Chromglykolatkomplexverbindung zu sein,
die 1 Mol Glykolsäure je Grammatom Chrom zusammen mit etwa 0,1 Mol freier Glykolsäure enthält.
Abgesehen von der in der obigen Weise hergestellten Chromglykolatkomplexverbindung werden zur Herstellung
des Bades handelsübliche Chemikalien verwendet. Nach dem Vermischen derselben wird die
Lösung zum Sieden erhitzt und dann abgekühlt, um die verschiedenen Chromkomplexverbindungen, die
im Bad vorliegen können, ins Gleichgewicht zu bringen.
Beispiele 1 und 2
| 1 | 2 | |
| Kaliumsulfamat, Mol Sulfaminsäuie, Mol Borsäure, Mol |
1,6 0,2 1,0 1,0 1,2 0,01 2,30 |
2,8 1,0 0,5 0,6 0,01 2,30 |
| Glykolsäure, Mol Octylalkohol, Mol pH |
*) Aus einer Lösung von Cr (CH2CO2) (OH)2 mit einem
Gehalt von 10 % überschüssiger Glykolsäure.
Messing wird im Bad 1 unter Erzielung einer Glanzabscheidung im Stromdichtebereich von 2,7 bis über
21,5 A/dm2 verchromt. Am oberen Ende dieses Bereiches erscheint die Abscheidung etwas trüb. Der
Wirkungsgrad der Galvanisierung bei 10,8 A/dm2 (errechnet aus der Gewichtszunahme) beträgt etwa
10% [was 20% bei einem Cr(VI)-Bad entsprechen würde].
Im Bad 2 erhält Messing einen Glanzchromniederschlag im Stromdichtebereich von 2,7 bis über
21,5 A/dm2, wobei am oberen Ende des Bereiches nur eine Spur einer Trübung auftiitt. Der Wirkungsgrad
der Galvanisierung bei 10,8 A/dm2 beträgt etwa
Der Octylalkoholzusatz dient zur Verbesserung der Glätte und Verhinderung einer Kraterbildung.
Kaliumchlorid 2,0 Mol
Cr+++ 1,0MoI
Glykolsäure 1,2 Mol
Borsäure 1,0 MoI
Octylalkohol 0,01 Mol
pH 2,67
Mit diesem Bad wird ein Chromniederschlag von außerordentlichem Glanz auf Nickel im Bereich von
1,9 bis über 21,5 A/dm2 erhalten, wobei keine Spur von Trübungen auftritt. Bäder dieser Art ergeben
gewöhnlich eine Stromausbeute von 10 bis 17% bei 10,8 bis 21,5 A/dm2.
Natriumperchlorat 2,0 Mol
Cr+++ 1,0MoI
Glykolsäure 1,2 Mol
Borsäure 1,0 Mol
Octylalkohol 0,01 Mol
pH 1,90
Mit diesem Bad wird ein Chromniederschlag von außerordentlichem Glanz auf Messing im Bereich von
1,9 bis über 21,5 A/dm2 erhalten, wobei keine Spuren einer Trübung vorliegen. Die Stromausbeute beträgt
etwa 4%.
Kaliumsulfamat 1,2 Mol
Borsäure 0,8 Mol
Cr+++*) 1,0MoI
Milchsäure*) 2,1 Mol
pH 2,38
*) Aus einer Lösung mit einem Gesamtgehalt an Chrom von 1 Mol/l und an Milchsäure von 2,1 MoVl.
Mit diesem Bad wird ein Chromniederschlag von hohem Glanz auf Messing bei einer Stromdichte im
Bereich von 3,9 bis über 12,9 A/dm2 erhalten.
B ei s ρ i e 1 6
Natriumsulfat 1,0 Mol
Borsäure 0,7 Mol
Cr+++ *) 1,0 Mol
Natriumbioxalat*) 1,0 Mol
Oxalsäure*) 1,0 Mol
pH 1,82
*) Hergestellt durch Zusatz von Natriumhydroxyd zu einer Chrom (Ill)-oxalat und freie Oxalsäure enthaltenden
Lösung.
Mit diesem Bad wird ein glatter Chromniederschlag auf Messing im Stromdichtebereich von 5,4 bis über
12,9 A/dm2 erhalten. Die Farbe ist nicht so leuchtend wie in den anderen Beispielen. Die Stromausbeute ao
beträgt etwa 6°/o-
Man kann mit den Bädern bei Stromdichten von 1,1 bis 21,5 A/dm2 bei 20 bis 65° C und einer Kathodenstromausbeute,
bezogen auf dreiwertiges Chrom, von 5 bis 25°/o aibeiten (was, bezogen auf sechswertiges
Chrom, 10 bis 50% entspricht). Die Kraterbildung läßt sich durch Zusatz einer kleinen Menge eines
Alkohols mit 5 bis 12 Kohlenstoffatomen, ζ. B. n-Octylalkohol,
verhindern.
Claims (4)
1. Wäßriges, galvanisches Chrombad, dadurch gekennzeichnet, daß es einen
pH-Wert zwischen 1,5 und 3,0 aufweist und je 1000 g eine 0,1 bis 1 Mol Chrom(III)-ionen liefernde
Menge an einem Chromsalz einer organischen Carbonsäure, 0,07 bis 3 Mol an einer organischen Carbonsäure, 0,2 bis 3 Mol an einem
Alkalisalz einer Säure mit einei Dissoziationskonstante von mindestens K = 10~2 und 0,2 bis
2 Mol Borsäure enthält, mit der Maßgabe, daß das Molverhältnis von Carbonsäure zu Chrom
zwischen 0,7:1 und 3,0:1 liegt.
2. Chrombad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es als Chromsalz Chromglykolat
und als Carbonsäure Glykolsäure enthält.
3. Chrombad nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es einen pH-Wert zwischen
2,0 und 2,7 und ein Molverhältnis von Carbonsäure zu Chrom zwischen 1,1:1 und 2,1:1 aufweist.
4. Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Glanzchromüberzügen unter Verwendung einer
inerten Anode und eines Chrombades nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Abscheidung bei einer Temperatur von 20 bis 650C
und einer Stromdichte von 1,1 bis 21,5 A/dm2 durchgeführt wird.
709 618/448 7. 67 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US84487559A | 1959-10-07 | 1959-10-07 | |
| US84487759A | 1959-10-07 | 1959-10-07 | |
| US84490659A | 1959-10-07 | 1959-10-07 | |
| US844876A US3006823A (en) | 1959-10-07 | 1959-10-07 | Plating bath and process |
| US3395160A | 1960-06-06 | 1960-06-06 | |
| US47139A US3021267A (en) | 1959-10-07 | 1960-08-03 | Plating bath and process |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1245677B true DE1245677B (de) | 1967-07-27 |
Family
ID=27556258
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT1247803D Expired DE1247803C2 (de) | 1959-10-07 | Verfahren zur herstellung von selbsttragenden metallverbundfalmen durch galvaniscles abscheiden | |
| DEP25807A Granted DE1247803B (de) | 1959-10-07 | 1960-10-07 | Selbsttragender Verbundfilm und Verfahren zur galvansichen Herstellung desselben |
| DEP36209A Pending DE1245677B (de) | 1959-10-07 | 1960-10-07 | Waessriges galvanisches Chrombad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Glanzchromueberzuegen |
| DEP36210A Pending DE1245678B (de) | 1959-10-07 | 1960-10-07 | Waessriges galvanisches Chrombad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Glanzchromueberzuegen |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT1247803D Expired DE1247803C2 (de) | 1959-10-07 | Verfahren zur herstellung von selbsttragenden metallverbundfalmen durch galvaniscles abscheiden | |
| DEP25807A Granted DE1247803B (de) | 1959-10-07 | 1960-10-07 | Selbsttragender Verbundfilm und Verfahren zur galvansichen Herstellung desselben |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEP36210A Pending DE1245678B (de) | 1959-10-07 | 1960-10-07 | Waessriges galvanisches Chrombad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Glanzchromueberzuegen |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US3006823A (de) |
| DE (4) | DE1247803B (de) |
| FR (1) | FR1275069A (de) |
| GB (2) | GB965684A (de) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL6800734A (de) * | 1967-01-18 | 1968-07-19 | ||
| US3725214A (en) * | 1971-02-19 | 1973-04-03 | Du Pont | Chromium plating medium for a portable plating device |
| US3706636A (en) * | 1971-02-19 | 1972-12-19 | Du Pont | Preparing plating bath containing chromic compound |
| US3869488A (en) * | 1971-02-19 | 1975-03-04 | Du Pont | Werner chromium complexes and methods for their preparation |
| BE788117A (fr) * | 1971-08-30 | 1973-02-28 | Perstorp Ab | Procede de production d'elements pour circuits imprimes |
| USRE29820E (en) * | 1971-08-30 | 1978-10-31 | Perstorp, Ab | Method for the production of material for printed circuits |
| US3816142A (en) * | 1972-05-08 | 1974-06-11 | K Lindemann | Electroless chromium plating process and composition |
| GB1562188A (en) * | 1975-08-27 | 1980-03-05 | Albright & Wilson | Chromium electroplating baths |
| US4376161A (en) * | 1981-07-27 | 1983-03-08 | Dynamics Research Corporation | Encoder disc and method of manufacture |
| EP2138607A1 (de) * | 2008-06-24 | 2009-12-30 | Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Verfahren zur Herstellung eines flexiblen Substrats mit einer Folie aus transparentem leitfähigem Oxid |
| EP2899299A1 (de) * | 2014-01-24 | 2015-07-29 | COVENTYA S.p.A. | Galvanisierbad auf der Basis von dreiwertigem Chrom und Verfahren zur Abscheidung von Chrom |
| US10415148B2 (en) * | 2014-03-07 | 2019-09-17 | Macdermid Acumen, Inc. | Passivation of micro-discontinuous chromium deposited from a trivalent electrolyte |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2105440A (en) * | 1938-01-11 | Manufacture of metal coated paper | ||
| US198209A (en) * | 1877-12-18 | Improvement in the manufacture of metallic leaf | ||
| US1844751A (en) * | 1925-08-12 | 1932-02-09 | United Chromium Inc | Process of electrodepositing chromium |
| US1731415A (en) * | 1927-02-23 | 1929-10-15 | William F Grupe | Production of electrolytically-deposited gold in film or leaf form |
| US1922853A (en) * | 1927-12-01 | 1933-08-15 | United Chromium Inc | Process for the electrolytic deposition of chromium |
| FR661182A (fr) * | 1928-01-12 | 1929-07-22 | L Orfevrerie D Ercuis Soc Nouv | Perfectionnements apportés au chromage des corps conducteurs |
| US1838777A (en) * | 1928-03-26 | 1931-12-29 | Ternstedt Mfg Co | Chromium plating |
| DE642665C (de) * | 1934-05-05 | 1937-03-12 | Heinrich Hampel Dr | Verfahren zur fortlaufenden elektrolytischen Herstellung von Metallbaendern |
| GB456749A (en) * | 1934-05-14 | 1936-11-13 | Peerless Gold Leaf Company Ltd | Improvements in or relating to the manufacture of free gold leaf |
| US2133685A (en) * | 1935-03-11 | 1938-10-18 | Frank R Coughlin | Method of removing metallic plating from a carrier band |
| US2203253A (en) * | 1936-09-26 | 1940-06-04 | Western Electric Co | Electroplating process |
| US2517441A (en) * | 1945-07-09 | 1950-08-01 | Ductile Chrome Process Co | Electrodeposition of chromium |
| NL75772C (de) * | 1948-03-20 | |||
| BE625233A (de) * | 1961-07-25 |
-
0
- DE DENDAT1247803D patent/DE1247803C2/de not_active Expired
-
1959
- 1959-10-07 US US844876A patent/US3006823A/en not_active Expired - Lifetime
-
1960
- 1960-08-03 US US47139A patent/US3021267A/en not_active Expired - Lifetime
- 1960-10-06 FR FR840489A patent/FR1275069A/fr not_active Expired
- 1960-10-07 GB GB34491/60A patent/GB965684A/en not_active Expired
- 1960-10-07 DE DEP25807A patent/DE1247803B/de active Granted
- 1960-10-07 DE DEP36209A patent/DE1245677B/de active Pending
- 1960-10-07 GB GB44440/63A patent/GB965685A/en not_active Expired
- 1960-10-07 DE DEP36210A patent/DE1245678B/de active Pending
-
1964
- 1964-08-11 US US388755A patent/US3203876A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE1247803B (de) | 1967-08-17 |
| GB965684A (en) | 1964-08-06 |
| GB965685A (en) | 1964-08-06 |
| DE1247803C2 (de) | 1973-03-29 |
| FR1275069A (fr) | 1961-11-03 |
| US3203876A (en) | 1965-08-31 |
| US3021267A (en) | 1962-02-13 |
| US3006823A (en) | 1961-10-31 |
| DE1245678B (de) | 1967-07-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AT267991B (de) | Bad zur Herstellung eines Überzuges aus Platinmetallen und deren Legierungen | |
| DE2457582B2 (de) | Waessriges, saures, galvanisches chrombad auf cr (iii)-basis | |
| DE1245677B (de) | Waessriges galvanisches Chrombad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Glanzchromueberzuegen | |
| DE2428499A1 (de) | Glanzverzinkung | |
| DE1094245B (de) | Bleidioxyd-Elektrode zur Verwendung bei elektrochemischen Verfahren | |
| DE1803524A1 (de) | Rutheniumverbindung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| EP3250733B1 (de) | Herstellung von chromschichten auf tiefdruckzylindern | |
| DE2753591A1 (de) | Galvanisches bad | |
| DE1959907A1 (de) | Rutheniumkomplex und seine Verwendung bei der Elektroplattierung | |
| AT510422B1 (de) | Verfahren zur abscheidung von hartchrom aus cr(vi)- freien elektrolyten | |
| DE2450133A1 (de) | Verfahren und galvanisches bad zur abscheidung von nickel/eisen- und nickel/ kobalt/eisen-legierungen | |
| DE3509367C1 (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Gold/Zinn-Legierungsueberzuegen | |
| DE2718316A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum elektrolysieren | |
| DE2147257A1 (de) | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung halbglanzender Nickeluber züge | |
| DE3139641C2 (de) | Galvanisches Bad zur Verwendung mit unlöslichen Anoden zur Abscheidung halbglänzender, duktiler und spannungsfreier Nickelüberzüge und Verfahren zu deren Abscheidung | |
| DE1264917B (de) | Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Nickelueberzuegen | |
| DE2347681C2 (de) | Elektrolyt und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Platin | |
| EP3899106A1 (de) | Elektrolyt und verfahren zur herstellung von chromschichten | |
| DE701803C (de) | Verfahren zur Verminderung der UEberspannung bei der elektrolytischen Entwicklung von Wasserstoff in Wasserzersetzern | |
| DE1247801B (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Herstellung von Glanzchromueberzuegen und -folien | |
| DE2207702C3 (de) | Wäßriges galvanisches Glanzchrombad | |
| DE1240358B (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Platinueberzuegen | |
| DE2014122A1 (de) | Verfahren zum Herstellen elektrolytischer Rutheniumüberzüge und wässrige Elektrolysebäder zur Durchführung dieses Verfahrens | |
| DE973986C (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Indium, insbesondere Indiumueberzuegen | |
| DE2600215A1 (de) | Verfahren und waessriges saures bad zur galvanischen abscheidung von zink |