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DE1106878B - Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung

Info

Publication number
DE1106878B
DE1106878B DES59371A DES0059371A DE1106878B DE 1106878 B DE1106878 B DE 1106878B DE S59371 A DES59371 A DE S59371A DE S0059371 A DES0059371 A DE S0059371A DE 1106878 B DE1106878 B DE 1106878B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
carrier plate
semiconductor element
semiconductor
housing
special carrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DES59371A
Other languages
English (en)
Inventor
Hans-Juergen Nixdorf
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Corp filed Critical Siemens Corp
Priority to DES59371A priority Critical patent/DE1106878B/de
Publication of DE1106878B publication Critical patent/DE1106878B/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H10W76/17
    • H10W76/10
    • H10W76/60

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Description

  • Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Halbleiteranordnungen mit auf einer besonderen Trägerplatte innerhalb eines Gehäuses aufgebautem Halbleiterelement, welches mit dieser Trägerplatte an einem Gehäuseteil festgespannt ist. Sie bezieht sich weiterhin auf ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Halbleiteranordnung.
  • Bei Halbleiteranordnungen war es für eine Metallplatte, welche als Grundplatte an der einen Oberfläche das durch Lötung an ihr befestigte Halbleitersystem trägt, bekannt, sie mit ihrer gegenüberliegenden Oberfläche über eine elektrisch isolierende Zwischenlage an einer Chassisplatte, an der inneren Bodenfläche einer becherförmigen Fassung oder an einer zur Befestigung dienenden Grundplatte, insbesondere zur unmittelbaren Bildung einer elektrischen Kapazität aus der Trägerplatte des Halbleitersystems und der Chassisplatte bzw. dem metallischen Gehäuse als deren elektrischen Belägen und der isolierenden Zwischenlage als Dielektrikum festzuspannen. Für dieses Festspannen war eine Schraubverbindung oder «-aren Gummiklötze in dem Gehäuse, eine auf die beiden Außenseiten der beiden Kondensatorbelägeteile wirkende ringförmige Spannvorrichtung oder ein gegenseitiges Verkleben der Teile über die Isolierschicht in Aussicht genommen.
  • Im Wärmeableitungssystem liegt dabei also stets die elektrische Isolierschicht von im Falle des Kondensators durch dessen angestrebte Kapazität bestimmter Dicke. Diese Dicke soll dabei eventuell noch dadurch besonders gesichert werden, daß in der Isolierschicht, wenn sie aus einem Kunststoff, z. B. Kunstharz, besteht, der aushärtet oder auch zähflüssigplastisch bleibt, ein pulverförmiger, fester und gut wärmeleitender Isolator, z. B. aus Ouarz oder Keramik, eingelagert ist. Die einzelnen Körner sind dabei sinngemäß von einheitlicher Korngröße und so groß bemessen, wie der Abstand der beiden Kondensatorbeläge voneinander sein soll.
  • Weiterhin war es bekannt, das Halbleitersystem sowie einen zur anteiligen Bildung des Gehäuses für den Einschluß des Halbleitersystems bestimmten glockenförmigen Teil mit seinem Rand in vorbestimmter gegenseitiger Lage auf einen grundplattenförmigen Gehäuseteil aufzusetzen und dann in einem einzigen Arbeitsvorgang eine Verlötung der Teile vorzunehmen.
  • Es war auch bekannt, ein Halbleiterelement an der inneren Bodenfläche eines becherförmigen Gehäuseteiles über seine aus Molybdän, Wolfram oder Legierungen derselben bestehenden Grundplatte durch Lötung zu befestigen.
  • Nach einer anderen bekannten Lösung für den Aufbau eines gasdicht in ein Gehäuse eingeschlossenes System wurde der Halbleiterkörper mit einer äußeren Randzone durch Lötung an der Randzone der zentralen Aussparung einer membranartigen Ringscheibe befestigt. Diese Scheibe wurde ihrerseits mit einer äußeren Randzone auf den Flansch desjenigen der beiden mit den elektrisch isolierten Zuleitungsdurchführungen versehenen becherförmigen Gehäuseteile aufgelegt, dessen Flansch an seinem außenliegenden Rand noch einen in axialer Richtung sich erstreckenden zylindrischen Teil aufweist. Dieser zylindrische Teil umgriff den Rand des Membranteiles und denjenigen des Flansches des auf diesen Membranteil aufgesetzten anderen Gehäuseteiles, so daß durch ein Umbördeln des Endes des genannten zylindrischen Teiles nach innen gegen den Flansch des zweiten Gehäuseteiles alle drei Teile, nämlich die Flansche der beiden Gehäuseteile und der zwischen diesen liegende membranartige Teil, zur Bildung eines abgeschlossenen Gehäuses zusammengespannt werden.
  • Die Befestigung des membranartigen, das angelötete Halbleitersystem tragenden Teiles bedingt also unmittelbar das Schließen des Gehäuses der Halbleiteranordnung, und es läßt sich somit keine nachträgliche Inspektion des Halbleiterelements und seiner Befestigung mehr vornehmen. Außerdem besteht in dem Wärmeleitungsweg zwischen dem Halbleiterelement und dem Gehäuse der membranartige Träger des Halbleitersystems als Isthmus. Nach einer anderen bekannten Lösung wurde ein metallblockartiger Träger, an welchem das Halbleitersystem durch Lötung befestigt ist, in eine Aussparung eines zur Wärmeableitung bestimmten weiteren Trägers, die in ihrem Durchmesser in bezug auf die Mantelfläche des genannten blockartigen Trägers derart kleiner bemessen ist, daß zwar nach Schaffung einer bestimmten relativen Temperaturdifferenz zwischen den beiden Trägern diese ineinandergesetzt werden können, mit dem Fortfall dieser Temperaturdifferenz jedoch der umschließende Körper mit seiner inneren Mantelfläche auf die äußere Mantelfläche des blockartigen Trägers des Halbleitersystems selbsttätig aufgeschrumpft wird.
  • ach der erfindungsgemäßen Lösung wird ein Aufbau für eine Halbleiteranordnung angestrebt, bei welchem eine Verlötung zwischen der Trägerplatte und des Halbleitersystems und dem dieses tragenden Teil des Gehäuses vermieden ist, eine unmittelbare Wärmeableitung der an dem Halbleiterelement anfallenden elektrischen Verlustwärme auf dem nur sehr kurzen Weg entsprechend der Dicke der Trägerplatte an einem Gehäuseteil stattfindet, dieser Gehäuseteil unmittelbar einen integrierenden Gegenstand der Einrichtung für das Festspannen der das Halbleitersystem tragenden Grundplatte an diesem Gehäuseteil ist und das Halbleiterelement nach diesem Festspannen zunächst noch einer Inspektion und Prüfung zugänglich ist.
  • Zur Erreichung dieser Zielsetzung wird an einer Halbleiteranordnung der eingangs angeführten Art mit auf einer besonderen Trägerplatte innerhalb eines Gehäuses aufgebautem Halbleiterelement, welches mit dieser Trägerplatte an einem Gehäuseteil festgespannt ist, erfindungsgemäß das Halbleiterelement mit derjenigen Oberfläche der mit ihm verbundenen besonderen Trägerplatte, welche nur entsprechend der Dicke der Trägerplatte von dem Halbleiterelement entfernt ist, auf der durchgehenden, von einer oder mehreren Erhebungen umschlossenen Oberflächenzone eines Teiles des für den Einschluß des Halbleiterelements bestimmten Gehäuses bereits unabhängig von der gegenseitigen Verbindung der Gehäuseteile durch Verformung der genannten Erhebung oder Erliebungen um den Rand der besonderen Trägerplatte und damit das Halbleiterelement an seiner der Trägerplatte abgewandten Oberfläche noch frei liegend festgespannt.
  • Hierfür kann z. B. der Gehäuseteil eine Aussparung mit einem solchen umgebenden Rand aufweisen, welcher sich durch einen einfachen Umbördelungsprozeß oder durch Herausdrücken einiger Zonen aus dieser Randform gegen die umschlossene Trägerplatte der Halbleitervorrichtung verformen läßt. Statt einer in sich geschlossenen Umrandung der Anlagefläche des Gehäuseteiles für die Trägerplatte kann auch eine unterbrochene oder gegebenenfalls aus Stiften bestehende benutzt werden.
  • Eine beispielsweise Ausführungsform veranschaulichen die Figuren der Zeichnung. In diesen bezeichnet 1 einen Gehäuseteil, von welchem gemäß der Einzeldarstellung ihrer Ausgangsform nach Fig. 1 nach oben ein becherförmiger Teil 2 ausladet. Dieser bildet also vor der abschließenden Fertigstellung der Anordnung eine Aussparung 3, die von einem sich vertikal nach oben erstreckenden Randteil 4 umschlossen ist. In die auf diese Weise gebildete Becherform ist die Halbleitervorrichtung 5 eingesetzt, welche bereits an einer Trägerplatte 6 befestigt ist. Diese Trägerplatte ist in ihren äußeren Abmessungen etwa der lichten Weite der Becherform 2 bzw. der Aussparung 3 angepaßt. Nach Einsetzen des Teiles 5, 6 ist der freie Rand 4 der Becherform gemäß den beiden einander entsprechenden Rissen nach den Fig. 2 und 3 an vier Stellen 4a bis 4d nach innen umgelegt worden, so daß die Trägerplatte 6 der Halbleiteranordnung 5 gewissermaßen durch vier Krallen gegen die Bodenfläche der Aussparung 3 bzw. der Becherform festgespannt ist.
  • Bei solchen Halbleitervorrichtungen ist es an sich erwünscht, daß eine gute Abführung der an der Halbleiteranordnung betriebsmäßig anfallenden elektrischen Verlustwärme stattfindet. Um an einer solchen Anordnung hierfür einen verbesserten Wärmeübergang zu gewährleisten, kann gemäß einer zweckmäßigen Weiterbildung der Erfindung zwischen der Trägerplatte 6 der Halbleitervorrichtung 5 und dem Boden der Aussparung 3 bzw. der Fläche des Gehäuseteiles noch eine zusätzliche Platte bzw. eine Folie aus einem gut wärmeleitenden, vorzugsweise duktilen Material, wie z. B. aus Silber, eingelegt werden. Eine solche ist in Fig. 2 bereits angedeutet und mit 7 bezeichnet.

Claims (6)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Halbleiteranordnung mit auf einer besonderen Trägerplatte innerhalb eines Gehäuses aufgebautem Halbleiterelement, welches mit dieser Trägerplatte an einem Gehäuseteil festgespannt ist, dadurch gekennzeichnet, daß das Halbleiterelement mit derjenigen Oberfläche der mit ihm verbundenen besonderen Trägerplatte, _ welche nur entsprechend der Dicke der Trägerplatte von dem Halbleiterelement entfernt ist, auf der durchgehenden, von einer oder mehreren Erhebungen umschlossenen Oberflächenzone eines Teiles des für den Einschluß des Halbleiterelements bestimmten Gehäuses bereits unabhängig von der gegenseitigen Verbindung der Gehäuseteile durch Verformung der genannten Erhebung oder Erhebungen um den Rand der besonderen Trägerplatte und damit das Halbleiterelement an seiner der Trägerplatte abgewandten Oberfläche noch frei liegend festgespannt ist.
  2. 2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß an dem Gehäuseteil für das Einspannen der besonderen Trägerplatte des Halbleiterelements nur eine unterbrochene Umrandung oder nur stiftartig ausladende Körper vorgesehen sind.
  3. 3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der besonderen Trägerplatte des Halbleiterelements und der Gegenfläche des diese einspannenden Gehäuseteiles ein Hilfskörper als Wärmeleitbrücke vorgesehen ist.
  4. 4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß diese Wärmeleitbrücke aus einer Platte oder einer Folie aus duktilem Werkstoff besteht.
  5. 5. Halbleiteranordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine Silberplatte bzw. Silberfolie eingelegt ist.
  6. 6. Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehäuseteil, mit welchem die besondere Trägerplatte des Halbleiterelements mechanisch verbunden ist, eine becherförmige Aussparung aufweist, die durch einen an dem Gehäuseteil ausladenden Rand gebildet wird, und daß dieser Rand nach dem Einsetzen der besonderen Trägerplatte des Halbleiterelements an seinem gesamten Umfang oder Teilen dieses Umfangs zur Bildung einer die besondere Trägerplatte krallenförmig einspannenden Einrichtung verformt wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Auslegeschriften Nr. 1035 782, S. 41978 VIII c/21 g (bekanntgemacht am 16. B. 1956) ; USA.-Patentschriften Nr. 2 808 543, 2 763 822; französische Patentschrift Nr. 1149 240; »Nachrichtentechnische Fachberichte, Beihefte der NTZ«, Bd. 1 (1955), S. 33 bis 36.
DES59371A 1958-08-08 1958-08-08 Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung Pending DE1106878B (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1242758B (de) * 1961-04-07 1967-06-22 Siemens Ag Halbleiteranordnung, insbesondere fuer grosse Leistungen, bei der ein duenner, scheibenfoermiger Halbleiterkoerper auf einer Traegerplatte befestigt ist
US3723834A (en) * 1971-07-27 1973-03-27 Philips Corp Semiconductor device having a closed conductive rubber ring clamped around all electric conductors

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2763822A (en) * 1955-05-10 1956-09-18 Westinghouse Electric Corp Silicon semiconductor devices
US2808543A (en) * 1956-01-30 1957-10-01 Hughes Aircraft Co Mounting means for semiconductor crystal body
FR1149240A (fr) * 1955-03-24 1957-12-23 Hughes Aircraft Co Transistor
DE1035782B (de) * 1956-07-04 1958-08-07 Philips Patentverwaltung Verfahren zur Befestigung von Halbleiteranordnungen auf einem gut waermeleitenden Traeger

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