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DE1163463B - Verfahren zur Herstellung einer Elektronenstrahlabtastroehre mit einer aufgedampften, photoleitenden Auftreffplatte und Anordnung zur Durchfuehrung dieses Verfahrens - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer Elektronenstrahlabtastroehre mit einer aufgedampften, photoleitenden Auftreffplatte und Anordnung zur Durchfuehrung dieses Verfahrens

Info

Publication number
DE1163463B
DE1163463B DEN16703A DEN0016703A DE1163463B DE 1163463 B DE1163463 B DE 1163463B DE N16703 A DEN16703 A DE N16703A DE N0016703 A DEN0016703 A DE N0016703A DE 1163463 B DE1163463 B DE 1163463B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tube
evaporator
electrode system
foot
window
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEN16703A
Other languages
English (en)
Inventor
Andrew Alfred Turnbull
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE1163463B publication Critical patent/DE1163463B/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • H01J9/233Manufacture of photoelectric screens or charge-storage screens

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Internat. Kl.: H Ol j
Deutsche Kl.: 21 g -13/25
Nummer: 1163 463
Aktenzeichen: N 16703 VIII c / 21 g
Anmeldetag: 12. Mai 1959
Auslegetag: 20. Februar 1964
Die Erfindung bezieht sich auf die Herstellung einer Elektronenstrahlabtaströhre mit einer aufgedampften, photoleitenden Auftreffplatte und einem zylindrischen Kolben, der an einem Ende mit einem Fenster versehen ist, das den Träger für die Auftreffplatte bildet, und der an dem anderen Ende in einem Fuß endet, der ein Elektrodensystem mit einem Elektronenstrahlerzeugungssystem trägt, bei dem ein von dem Elektrodensystem getragener Verdampfer mit photoleitendem Material in den mit einem Pumpensatz verbundenen Kolben derart eingeführt wird, daß der Verdampfer vor das Fenster gelangt und das photoleitende Material beim Erhitzen des Verdampfers zur Bildung der Auftreffplatte auf das Fenster aufgedampft wird. Ein Beispiel einer solchen Röhre ist eine Fernsehaufnahmeröhre des Typs Vidikon. Die Erfindung bezieht sich ferner auf eine Anordnung zur Durchführung eines solchen Verfahrens.
Die photoleitenden Eigenschaften bestimmter Plattenmaterialien können beeinträchtigt werden, wenn das Material nach dem Aufdampfen mit der Luft in Berührung kommt. Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung der Auftreffplatte für eine Aufnahmeröhre des Typs Vidikon, wobei Kontakt zwischen der aufgedampften Platte und der freien Luft verhütet wird, wird der zylindrische Kolben zunächst mit einem dazu querstehenden Seitenarm versehen, der sich an den Kolben nahe an dessen Endfläche oder Fenster anschließt. Die Endfläche bildet dabei den Träger, auf dem das Plattenmaterial angebracht werden muß. In der Stufe, in der das Elektrodensystem im Kolben angeordnet und ein Glasfuß am Kolben festgeschmolzen ist, wird die Luft aus dem Kolben gepumpt und es wird Argon oder ein anderes inertes Gas unter niedrigem Druck eingeführt. Während der Zeit, in der der Kolben anschließend mit der Endfläche nach oben und dem Seitenarm waagerecht steht, wird ein Tiegel mit photoleitendem Material im Seitenarm in die Achse des Kolbens in einem gewissen Abstand unterhalb des Fanggitters des Elektrodensystems geführt, welches Gitter sich nahe der Endfläche des Kolbens befindet. Der Tiegel, das Fanggitter und die Fanganode in der Nähe des Tiegels werden dann erhitzt, wodurch das photoleitende Material, gewöhnlich Antimontrisulfid, verdampft und durch das heiße Fanggitter hindurch auf der Endfläche des Kolbens niederschlägt. Das inerte Gas wird dann durch eine Pumpe weggepumpt; das mit dem Fuß verschmolzene Entlüftungsröhrchen wird zugeschmolzen und schließlich wird der Tiegel in den Seitenarm zurückgezogen, der darauf nahe am Kolben durch Schmelzen abgetrennt wird. Obgleich hier Verfahren zur Herstellung einer Eleküronenstrahlabtaströhre mit einer aufgedampften,
photoleitenden Auftreffplatte und Anordnung
zur Durchführung dieses Verfahrens
Anmelder:
N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven
(Niederlande)
Vertreter:
Dr. rer. nat. P. Roßbach, Patentanwalt,
Hamburg 1, Mönckebergstr. 7
Als Erfinder benannt:
Andrew Alfred Turnbull, London
Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 15. Mai,
11. Dezember 1958 (Nr. 15 652)
ein Kontakt zwischen der Platte und der Luft vermieden wird, hat dieses Verfahren den Nachteil, daß die Auftreffplatte durch Aufdampfen des Plattenmaterials durch das Fanggitter des Elektrodensystems hindurch hergestellt wird, wodurch gleichmäßige Schichten sich schwer erzielen lassen, während außerdem die durch Wegschmelzen des Seitenarms entstandene Ausstülpung des Kolbens hinderlich wirkt.
Es ist auch bereits bekannt, zwischen der Auftreffplatte und dem Fanggitter einen geeignet geformten Metallring anzuordnen, der vor dem Einbau in die Röhre mit dem Halbleitermaterial bedampft wird und nach dem Einbau in die Röhre durch ein HF-Feld erwärmt wird. Dieses Verfahren hat jedoch den Nachteil, daß der nach dem Verdampfen nicht mehr benötigte Metallring in der Röhre zurückbleibt.
Die Nachteile der bekannten Verfahren werden bei einem Verfahren zur Herstellung einer Elektronenstrahlabtaströhre mit einer aufgedampften, photoleitenden Auf treffplatte gemäß der Erfindung dadurch vermieden, daß der Fuß mit dem über diesem befindlichen Elektrodensystem in den mit einem Seitenarm versehenen unteren Teil eines Vertikalrohres, dessen durch ein Fenster verschlossener oberer Teil den Kolben der herzustellenden Entladungsröhre bildet, eingebracht wird und dann zusammen mit einem lose auf das Elektrodensystem aufgesetzten
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bei das Verfahren nach der Erfindung auf etwas veränderte Weise durchgeführt wird.
F i g. 1 zeigt ein langgestrecktes Glasrohr 1, dessen oberer Teil 2 später den Kolben einer Aufnahmeröhre des Typs Vidikon bilden soll. Am oberen Ende des Rohres 1 ist durch einen flachen Ring 3 aus Nickeleisen eine Endfläche oder ein Fenster 4 aus Glas festgeschmolzen, auf deren (dessen) Innenfläche eine durchsichtige, leitende Schicht angebracht ist. Nahe
Verdampfer mit photoleitendem Material in den oberen Teil geschoben und in die zur Bildung der Auftreffplatte auf dem Fenster geeignete Verdampfungslage gebracht wird, um nach dem Bilden der Auftreffplatte von dem Elektrodensystem in den unteren Teil des Vertikalrohres zurückgezogen zu werden, wonach der Verdampfer mittels beweglicher Mittel in dem Seitenarm von dem Elektrodensystem abgenommen und in den Seitenarm hineingezogen
wird, bis schließlich der Fuß mit dem Elektroden- io dem unteren Ende des Rohres 1 ist eine Ausfriersystem aufs neue in den oberen Teil des Vertikal- tasche 5 vorgesehen; die flüssige Luft für das Ausrohres geschoben und der Fuß unter Aufrechterhai- frieren ist mit 6 bezeichnet und das äußerste, untere tung eines Vakuums in dem Rohr rundum mit der Ende des Rohres 1 ist durch ein gefettetes, konisclies Wand des oberen Teiles verschmolzen und der obere Schleifstück und durch ein weiteres Rohr 8 mit einer Teil des Rohres unterhalb der Verschmelzungsstelle 15 Vakuumpumpe 9 verbunden.
von dem restlichen Teil des Rohres abgetrennt wird. Von dem Rohr 1 her erstreckt sich unterhalb des
Dieses Verfahren kann sowohl in den Fällen ver- Teiles 2 ein Seitenarm 10, der einen zylindrischen wendet werden, in denen das photoleitende Material Teil 11 und einen Teil 12 mit einer größeren Querim Vakuum aufgedampft werden soll als auch in abmessung enthält. Innerhalb des zylindrischen Teiles Fällen, in denen die Aufdampfung in einem inerten 20 11 ist ein Metallblock, z. B. aus Eisen, vorgesehen, Gas unter niedrigem Druck stattfinden soll. Bekannt- der eine Schiebespannung bildet und eine Gabel 14 sich liefert Antimontrisulfid, das als photoleitendes trägt, die zwei Zinken 15 besitzt. Der Block 13 kann Material üblich ist, eine Auftreffplattenschicht mit innerhalb des Teiles 11 des Seitenarms 10 nach der einem höheren spezifischen Dunkelwiderstand, wenn Achse des Rohres 1 hin und von dieser abbewegt weres in einem inerten Gas unter reduzierten Druck auf- 25 den mittels eines ringförmigen Magneten 16, der auf gedampft wird. Wenn die Verdampfung in einer Gas- der Außenseite den Teil 11 umgibt und bei waageatmosphäre erfolgt, ist es selbstverständlich not- rechter Bewegung den Block 13 mitnimmt. Mittels wendig, in einer der Verfahrensstufen das Gas aus des Magneten 16 können die Zinken 15 der Gabel 14 der Hülle abzuführen. Dies kann teilweise erfolgen, in das Rohr 1 eingeführt und in den Teil 12 des bevor der Fuß an der Hülle festgeschmolzen wird, 30 Seitenarmes 10 zurückbewegt werden, während die endgültige, vollständige Entlüftung durch Durch die Wand des Rohres 8 hindurch ist ein wei-
eine gesonderte Pumpe durch ein mit dem Fuß ver- teres Glasrohr 17 geführt, das einen offenen, oberen bundenes Entlüftungsröhrchen stattfindet. Teil 18 hat, der sich gleichachsig in dem Rohr 1 er-
Bei dem Verfahren kann das Elektronenstrahl- streckt und oberhalb der Ausfriertasche 5 endet. Nahe erzeugungsystem des Elektrodensystems der Röhre 35 dem Ende des Rohrteiles 18 sind eine Anzahl von ganz oder teilweise aktiviert und/oder entgast werden öffnungen 19 vorgesehen, von denen nur eine angevor dem Abschmelzen oder sogar bevor die Auftreffplatte gebildet wird. Eine der Bildung der Platte vorangehende Aktivierung und/oder Entgasung hat den
Vorteil, daß während dieser Vorgänge sich etwaige 40
entwickelnde Gase, die sonst die Platte beeinträchtigen könnte, vorher entfernt werden.
Der Verdampfer kann durch einen Tiegel gebildet werden. Wenn die Aufdampfung der Platte in einer
Gasatmosphäre stattfindet, hat der Verdampfer vor- 45 der Elektronenkanone 24 abgewendeten Ende der zugsweise die weiter unten zu beschreibende Gestalt; Fanganode hat diese Anode ein Fanggitter 25. Das
deutet ist. Außerhalb des Rohres 8 steht das Rohr 17 mit einem Quecksilbermanometer 20 und durch einen Hahn 21 mit einem Argonbehälter 22 in Verbindung. Innerhalb des Rohres 1, zwischen dem Seitenarm 10 und dem Kühler 5, ist das Elektrodensystem für die Aufnahmeröhre angeordnet. Dieses System besteht aus einer Fanganode 23 und einer Elektronenkanone 24, die schematisch dargestellt ist. An dem
er ist dabei versehen mit einer Anzahl von öffnungen, durch welche während der Auf dampf ung Konvexionsströme des Gases fließen können.
Elektrodensystem wird durch Haltestäbe 26 gehaltert, die mit dem Glasfuß 27 verbunden sind, dessen Außendurchmesser etwas kleiner als der lichte Durch-
Fig. 1 bis 6 zeigen senkrechte Schnitte durch 50 messer des Rohres 1 ist, wodurch das Elektrodeneine Einrichtung zur Ausübung des Verfahrens, wo- system mit dem Fuß in der Längsrichtung in dem bei verschiedene Herstellungsstufen für eine Fernsehaufnahmeröhre des Typs Vidikon dargestellt sind;
Rohr 1 verschiebbar ist. Gewünschtenfalls kann der Fuß 27 am Rande mit einem hochgekrümmten, flanschförmigen Ring versehen sein. Der Fuß 27 hat
sichten einer anderen Form eines Verdampfers; 55 ein Entlüftungsröhrchen 28, das üblicherweise durch F i g. 9 zeigt in einem senkrechten Schnitt einen Teil einen kleinen Glaskolben 29 verschlossen ist. Durch
den Fuß 27 ist eine Anzahl von Elektrodenstiften 30 hindurchgeführt, von denen nur zwei dargestellt sind. Unterhalb des Glasfußes 27 ist eine Röhrenfassung 31 angeordnet, die eine Anzahl nach oben gerichteter Metalleitungen 32 besitzt, die mit muldenförmigen Endstücken 33 versehen sind, in welche die Enden der Stifte 30 hineingehen. Die Leiter 32 erstrecken sich durch die Röhrenfassung 31 und enden
Schnitt einer anderen Form der lösbaren Befestigung 65 unterhalb derer in nachgiebigen Kontakten 34, die
eines Verdampfers nach den Fig. 7 und 8, und nachgiebig an der Innenwand des Rohres 1 anliegen.
Fig. 12 zeigt einen senkrechten Schnitt durch eine Die Röhrenfassung31 hat einen rohrförmigen Ansatz
Abart eines Teiles der Einrichtung nach Fig. 1, wo- 35, der in einer Aussparung 36 in der oberen Fläche
Fig. 7 und 8 zeigen Seitenansichten und Drauf-
der Einrichtung zum Verdampfen von photoleitendem Material aus dem Verdampfer nach den F i g. 8 und 9, entsprechend der Herstellungsstufe nach Fig. 2;
F i g. 10 zeigt in einem senkrechten Schnitt eine Einrichtung zum Anbringen des photoleitenden Materials auf dem Verdampfer nach den F i g. 8 und 9; Fig. 11 ist eine Seitenansicht und teilweise ein
eines zylindrischen Eisenblocks 37 festgekittet ist, der auch eine Aussparung 38 in der unteren Fläche hat, so daß der Block 37 auf dem oberen Teil 18 des Rohres 17 ruhen kann. Der Block 37 hat eine Anzahl von Kanälen 39, die sich durch den ganzen Block hindurchziehen.
Die Fanganode 23 des Elektrodensystems wird in dem Rohr 1 durch Zentrierungsfedern 40 zentriert gehalten, die nahe dem oberen Ende der Anode 23 an
Rohres 1 angeordnetes Kübelchen 43 aus rostfreiem Stahl festgeschweißt ist, das eine Innenbekleidung aus Siliciumoxyd oder Platin besitzt und in dem sich eine Menge Antimontrisulfid 44 befindet.
Mittels eines ringförmigen Magneten 45, der den Block 37 umgibt, kann das Elektrodensystem mit dem Fuß 23 bis 27, welches System indirekt auf dem Block 37 ruht, in dem Rohr 1 nach oben und
27 wird dann durch den Magneten 45 weiter nach unten in seine ursprüngliche Lage (s. Fig. 4) gebracht, so daß der Block 37 auf dem Ende des oberen Teiles 18 des Rohres 17 aufruht. Der Kübel 43 wird 5 jedoch durch die Zinken 15 festgehalten und das Rohr 41 löst sich vom Stiel 42. Der Kübel 43 und der Stiel 42 werden dann in den Teil 12 des Seitenarms 10 zurückgezogen. Dazu wird der Block 13 mittels des Magneten 16 nach links bewegt, bis die Lage
dieser Anode festgeschweißt sind. Auf der Außen- io nach F i g. 4 erreicht ist. fläche der Anode 23, an dem dem Elektronenstrahl- Das Elektrodensystem 23 bis 27 wird darauf wie-
erzeugungssystem 24 abgewendeten Ende, ist ein der durch den Magneten 45 in die Lage nach F i g. 5 metallenes oder keramisches Rohr oder eine Fassung hochgeführt, in der das Fanggitter 25 in einem Ab-41 mit kleinem Durchmesser befestigt, von dem (der) stand von etwa 2,5 mm von der Plattenschicht 52 her sich ein Stiel 42 in Form eines gekrümmten 15 Hegt. In dieser Lage drücken die Federkontakte 34 Drahtes erstreckt, auf dem ein in der Achse des gegen Platinkontakte (nicht dargestellt), an die geeignete Elektrodenspannungen angelegt werden können, um die Kathode des Elektronenstrahlerzeugungssysems 24 zu aktivieren. Das Rohr 1 wird durch die ao Pumpe 9 bis zu einem Druck von etwa 10~7 mm Hg entlüftet, worauf die Kathode aktiviert wird.
Die Pumpe 9 wird während der Aktivierung der Kathode in Betrieb gehalten, um etwa entwickelte Gase zu entfernen. Nach der Aktivierung und nach nach unten bewegt werden. Bei der dargestellten 25 dem Absaugen etwaiger entwickelter Gase wird der Einrichtung hat der Magnet 45 eine Spalte, durch obere Teil 2 des Rohres 1 rings um den Glasfuß 27 welche der Magnet am Seitenarm 10 vorbei bewegt
werden kann.
Der obere Teil 2 des Rohres 1 ist von einem Kühlmantel 46 umgeben, der Wasser 47 enthält. Mit 48 30 ist ein Gummiverschluß angegeben. Ein Ring 49 aus rostfreiem Stahl umgibt den Ring 3.
Während der Hahn 21 geschlossen ist, wird das Rohr 1 durch die Pumpe 9 auf etwa ΙΟ"6 mm Hg
entlüftet. Die Öffnungen 39 im Block 37 tragen zur 35 27 erstreckt, wird darauf entfernt und das Entlüfschnellen Entlüftung des Rohres 1 bei. Die Pumpe tungsröhrchen 28 wird an einem Glasrohr 43 festgewird darauf durch einen nicht dargestellten Hahn schmolzen, das zu einer Pumpe54 führt (s. Fig. 6). geschlossen und der Hahn 21 wird geöffnet, um Das Rohr 53 hat ein kolbenförmiges Seitenstück 55, Argon aus dem Behälter 22 durch die Öffnungen in dem eine Metallkugel 56 untergebracht ist, die 19 in den oberen Teil 18 des Rohres 17 in das 40 durch einen nicht dargestellten Magneten hochbewegt Rohr 1 zu führen. Wenn das Manometer 20 einen werden kann, um den Kolben 29 zu zerbrechen, wo-Argondruck von einigen Millimetern Hg anzeigt, durch der Raum in der Hülle 2 mit der Pumpe 54 in wird der Hahn 21 geschlossen. Die Ausfriertasche 5 Verbindung tritt. Etwaige, während des Anschmelverhütet, daß Dampf des Dichtungsfettes der koni- zens des Fußes 27 in der Hülle 2 entwickelte und zusehen Verbindung 7 des Elektrodensystems der her- 45 rückgebliebene Gase werden darauf durch die zustellenden Aufnahmeröhre erreicht. Pumpe 54 weggepumpt, bis der Druck etwa
Das Elektrodensystem 23 bis 27 wird darauf mit- 10~7 mm Hg oder weniger beträgt; dann wird tels des Magneten 45, der den Eisenblock 37 umgibt,
hochbewegt, bis die Lage nach F i g. 2 erreicht ist,
in der der Kübel 43 etwa 2,5 cm von dem Fenster 4 50 Bei dem geschilderten Verfahren sind besonders entfernt ist. Dann wird eine Wirbelstrominduktions- Vorkehrungen getroffen, um etwaige während des spule 50, die durch eine Hochfrequenzstromquelle 51
gespeist wird, über den Mantel 46 um den Kübel 43
hingeschoben, der so weit erhitzt wird, daß das Antimontrisulfid aus dem Kübel verdampft und sich auf 55 werdenden Gases sehr niedrig gehalten werden kann dem Fenster 4 in Form einer Auftreffplattenschicht und daß bei Anwendung einer effektiven Pumpe 9 52 niederschlägt. Der Ring 49 nimmt die elektrische ein flacher Fuß oder ein Flanschfuß ohne Entlüf-Energie in dem Bereich des Fensters 4 auf und ver- tungsröhrchen benutzt werden kann, hütet eine unerwünschte Erhitzung des Ringes 3. Die Zur Herstellung einer weiteren Aufnahmeröhre
Spule 50 wird darauf entfernt und der Kühlwasser- 60 mittels der geschilderten Vorrichtung wird ein neues mantel 46 wird weggenommen. Der Kübel 43 kühlt Elektrodensystem innerhalb des zurückgebliebenen darauf ab und das Elektrodensystem 23 bis 27 wird Teiles des Rohres 1 angeordnet, worauf ein neuer durch den Magneten 45 nach unten in die in F i g. 3 Kolbenteil am Rohr 1 festgeschmolzen wird, wo der dargestellte Lage geführt. Wenn in dieser Lage der ursprüngliche Teil 2 abgeschnitten wurde. Auf diese Magnet 16 nach rechts bewegt wird, wobei der Block 65 Weise kann der Teil der Einrichtung mit dem 13 in den zylindrischen Teil 11 des Seitenarmes 10 Seitenarm 10 und allen nach F i g. 1 darunterliegeneingeschoben wird, werden die Zinken 15 unterhalb den Elementen gemeinsam mit dem Kübel 43 viele des Kübels 43 gebracht. Das Elektrodensystem 23 bis Male benutzt werden.
festgeschmolzen, während die Pumpe 9 wirksam bleibt, um etwaige, aus dem Glas hervortretende Gase zu entfernen.
Darauf wird Luft in das Rohr 1 eingelassen. Anschließend wird das Rohr in einem gewissen Abstand unterhalb des Fußes 27 abgeschnitten, so daß die Hülle 2 der Aufnahmeröhre frei ist. Der daran noch befestigte Teil des Rohres 1, der sich vorbei dem Fuß
das Entlüftungsröhrchen 28 bei 57 nahe am Fuß 27 zugeschmoken.
Festschmelzens des Fußes 27 der Aufnahmeröhre am Kolben 2 entwickelte Gase zu entfernen. Es hat sich jedoch gezeigt, daß in der Praxis die Menge frei
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Die beschriebene Einrichtung hat den Vorteil, daß dampfen des Antimontrisulfids wird die Glocke 65 die Entgasung der Hülle 2 und des Elektrodensystems zunächst auf 10~4 mm Hg durch die Pumpe 69 ent-23 bis 27 durchgeführt werden kann, bevor die Auf- lüftet und der Tiegel 70 wird darauf durch den treffplattenschicht 52 aufgedampft wird. Vor der Strom der Quelle 75 erhitzt. Bei diesem Aufdampfen Entgasung wird der Verdampfer 42, 43 mit dem 5 im Vakuum kann eine sehr gleichmäßige Schicht auf Vorrat des photoleitenden Materials 44 mittels der der Spirale 60 erhalten werden. Darauf wird das Gabel 14 in den Seitenarm 10 geführt. Das Elek- Vakuum aufgehoben. Die mit photoleitendem Matetrodensystem 23 bis 27 wird darauf in der Längs- rial überzogene Spirale wird lösbar am Ende des richtung aus dem Teil des Rohres 1 mit dem Seiten- Elektrodensystems der herzustellenden Entladungsarm 10 in den oberen Teil 2 bewegt. Die Entgasung io röhre angebracht, wie dies in F i g. 9 angegeben ist. des Elektrodensystems 23 bis 27 und des Teiles 2 Fig. 11 zeigt eine Abart der Montage des Verwird durch einen zylindrischen Ofen durchgeführt, dampfers nach F i g. 7, wobei die Spirale 60 durch der über den Teil 2 geschoben wird (während der eine Drahtbrücke 80 an einer runden Deckplatte 81 Kühlmantel nicht vorhanden ist); die Temperatur befestigt ist, die über das Ende der Fanganode 23 des Ofens beträgt etwa 350° C. Während der Ent- 15 geschoben werden kann (Fig. 9), während das Fußgasung wird das Vakuum im Rohr 1 mittels der stück 41 in diesem Falle weggelassen ist. Pumpe22 aufrechterhalten. Nach der Entgasung Fig. 12 zeigt eine Abart eines Teiles der Einrichwird das Elektrodensystem 23 bis 27 in den unteren tung nach Fig. 1, wobei der Innendurchmesser des Teil des Rohres 1 mit dem Seitenarm 10 zurück- Teiles 2 des langgestreckten Rohres 1 kleiner ist als geführt und der Verdampfer 43 wird aus dem Seiten- 20 der des übrigen Teiles des Rohres. Bei der Einricharm 10 geschoben und lösbar am Ende der Fang- tung nach Fig. 12 ist der Verdampfer gemäß F ig. 11 anode 23 angebracht, worauf das Elektrodensystem angeordnet, die zeigt, daß die Spirale 60 auf der und der Verdampfer in die bereits geschilderte Lage Deckplatte 81 ruht, die über das Ende der Fangzur Aufdampfung der Auftreffplatte 52 kommen. anode 23 des Elektrodensystems 23 bis 27 geht, in Bei einer Abart des Verfahrens ist der Kübel 43, 25 der Weise, daß die Platte bequem von der Anode 23 aus dem das photoleitende Material verdampft wird, abgehoben werden kann. Das Elektrodensystem 23 durch eine flache Metallspirale 60 mit einer Deck- bis 27 ähnelt dem nach F i g. 1 und wird auf gleiche schicht 61 aus photoleitendem Material nach den Weise durch die Röhrenfassung 31 mittels leitender F i g. 7 und 8 ersetzt. Damit die Spirale durch Haltestäbe 32 abgestützt, wobei jedoch die Röhren-Wirbelströme erhitzt werden kann, ist die Außen- 3° fassung 31 keinen rohrförmigen Ansatz 35 besitzt, windung der Spirale bei 62 abgebogen und mit dem was bei der Einrichtung nach F i g. 1 der Fall ist. Draht 42 verbunden, der als Stütze für die Spirale Die Leiter 32, von denen nur zwei dargestellt sind, dient. deren Anzahl jedoch der der Elektrodenstifte ent-Abgesehen von dem Ersatz des Kübels durch die spricht, doch greifen die Röhrenfassung 31 und sind Spirale, wird das Verfahren auf die vorstehend ge- 35 mit den Leitern 82 verbunden, die sich über einen schilderte Weise durchgeführt. Es hat sich jedoch gewissen Abstand innerhalb des Rohres 1 erstrecken gezeigt, daß in der Stufe, in der das photoleitende und die Fassung 31 und das Elektrodensystem 23 Material auf das Fenster 4 nach F i g. 9 verdampft bis 27 auf einem Eisenblock 83 aufruhen lassen, wird, die Spirale 60 (im Querschnitt dargestellt) Der Block 83 besteht aus einer Anzahl untereinnäher an dieses Fenster gerückt werden kann als 40 ander isolierter Segmente, mit denen je eine Leitung es bei dem Kübel 43 der Fall ist. 82 elektrisch verbunden ist.
In einem gegebenen Fall, in dem der Kolben der Durch die Wand des Rohres 8 ist eine Anzahl von
Aufnahmeröhre einen Innendurchmesser von 23 mm Zuführungsdrähten 84 hindurchgeführt, die sich je
und die effektive Oberfläche der Auftreffplatte eine ein Segment des Blocks 83 hin bis in das Gebiet des
Abmessung von 12,5 · 9,6 mm hatte, wurde die 45 Seitenarms 10 erstrecken. Die Drähte 84 sind im
Spirale 60 durch fünf Windungen Wolframdraht mit Block 83 verschiebbar, so daß, wenn der Block 83
einem Durchmesser von 1 mm gebildet. Die Spirale im Rohr 1 hochbewegt wird mittels des ringförmigen
60 hatte einen Durchmesser von 22 mm, der Win- Magneten 85, die elektrische Verbindung zwischen
dungsabstand auf der Außenseite war etwas kleiner den Drähten 84 und den Elektrodenstiften 30 des
als der in der Mitte. 50 Elektrodensystems nicht unterbrochen wird.
Man kann photoleitendes Material auf der Spirale Die Reihenfolge der Arbeitsvorgänge ist ähnlich anbringen, indem es im Vakuum der Einrichtung der, welche an Hand der F i g. 1 bis 6 beschrieben nach F i g. 10 aufgedampft wird. ist. Mittels des Magneten 85 wird der Block 83 hoch-F i g. 10 zeigt eine Glocke 65, die auf einer flachen bewegt, um das Elektrodensystem 23 bis 27 und die Grundplatte 66 ruht; ein Abdichtungsring ist mit 67 55 darauf ruhende Verdampferspirale 63 in den oberen bezeichnet. Der Raum in der Glocke 65 ist durch Teil 2 des Rohres 1 zuführen, wobei die Federn 40 ein Rohr 68 mit einer Pumpe 69 verbunden, um das System im Teil 2 zentral halten. Das Elektrodendiesen Raum zu entlüften. Auf der Grundplatte 66, system wird hochbewegt, bis eine sich zur Verdampinnerhalb der Glocke 65, ist ein Platintiegel 70 ange- fung eignende Lage erreicht ist, worauf das photobracht, der eine Menge Antimontrisulfid enthält. 60 leitende Material 60 durch Wirbelstromerhitzung ge-Der Tiegel 70 ist elektrisch mit den Klemmen 71 und maß F i g. 9 verdampft. Das System wird darauf 72 verbunden, die durch die Grundplatte 66 hinge- nach unten bewegt und mittels der Gabel 14, die am führt und durch Leiter 73 und 74 mit einer Strom- Block 13 im zylindrischen Teil 11 des Seitenarms 10 quelle 75 verbunden sind. Auf der Grundplatte 66 in befestigt ist, werden die Spirale und die Deckplatte der Glocke 65 ist eine Stütze 76 mit einem Arm 77 65 in den Seitenarm 10 zurückgezogen auf die an Hand angeordnet, wodurch der Draht 42 mit der Spirale des Verdampfers 43 der F i g. 3 und 4 beschriebene gerade über dem Tiegel 70 in einem Abstand von Weise. Das Elektrodensystem wird darauf wieder z. B. 11,5 cm gehalten werden kann. Zum Ver- nach oben bewegt in die endgültig gewünschte Lage
in der Hülle 2; die entsprechende Lage 85' des Magneten 85 ist in gestrichelten Linien angedeutet. Das Elektrodensystem wird aktiviert und der Fuß 27 wird am Teil 2 festgeschmolzen, wie vorstehend beschrieben ist. Die zum Aktivieren des Elektrodensystems erforderliche Spannung wird durch die Drähte 84 zugeführt.
Es wird einleuchten, daß, wenn das Elektrodensystem 23 bis 27 im Rohrteil 2 nach oben geschoben wird, die Deckplatte 81 sich nahezu ganz über den Querschnitt des Endteiles 2 des Rohres 1 erstreckt. Die Deckplatte 81 verringert somit in hohem Maße die Möglichkeit, daß das verdampfende, photoleitende Material auf einen der Elektrodenteile, insbesondere auf die Kathode des Elektronenstrahlerzeugungssystems 24, gelangt, wodurch die Wirkung des Elektronenstrahlerzeugungssystems beeinträchtigt werden könnte.
Obgleich nach F i g. 12 die Deckplatte 81 als auch das Ende der Fanganode 23 passend dargestellt sind, ist dies nicht notwendig; die Deckplatte kann einfach aus einer flachen Scheibe bestehen, die auf dem Ende der Anode 23 ruhen kann.

Claims (12)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung einer Elektronenstrahlabtaströhre mit einer aufgedampften, photoleitenden Auftreffplatte und einem zylindrischen Kolben, der an einem Ende mit einem Fenster versehen ist, das den Träger für die Auftreffplatte bildet, und der an dem anderen Ende in einem Fuß endet, der ein Elektrodensystem mit einem Elektronenstrahlerzeugungssystem trägt, bei dem ein von dem Elektrodensystem getragener Verdampfer mit photoleitendem Material in den mit einem Pumpensatz verbundenen Kolben derart eingeführt wird, daß der Verdampfer vor das Fenster gelangt und das photoleitende Material beim Erhitzen des Verdampfers zur Bildung der Auftreffplatte auf das Fenster aufgedampft wird, dadurch gekennzeichnet, daß der Fuß (27) mit dem über diesem befindlichen Elektrodensystem (23, 24) in den mit einem Seitenarm (11, 12) versehenen unteren Teil eines Vertikalrohres (1), dessen durch ein Fenster (4) verschlossener oberer Teil (2) den Kolben der herzustellenden Entladungsröhre bildet, eingebracht wird und dann zusammen mit einem lose auf das Elektrodensystem (23, 24) aufgesetzten Verdampfer (43) mit photoleitendem Material (44) in den oberen Teil geschoben und in die zur Bildung der Auftreffplatte auf dem Fenster (4) geeignete Verdampfungslage gebracht wird, um nach dem Bilden der Auftreffplatte von dem Elektrodensystem (23, 24) in den unteren Teil des Vertikalrohres (1) zurückgezogen zu werden, wonach der Verdampfer (43) mittels beweglicher Mittel (13, 14, 15) in dem Seitenarm (11, 12) von dem Elektrodensystem (23, 24) abgenommen und in den Seitenarm (11, 12) hineingezogen wird, bis schließlich der Fuß (27) mit dem Elektrodensystem (23, 24) aufs neue in den oberen Teil (2) des Vertikalrohres (1) geschoben und der Fuß (27) unter Aufrechterhaltung eines Vakuums in dem Rohr(l) rundum mit der Wand des oberen Teiles (2) verschmolzen und der obere Teil (2) des Rohres (1) unterhalb der Verschmelzungsstelle von dem restlichen Teil des Rohres (1) abgetrennt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektrodensystem (23, 24) und der Endteil (2) des Rohres (1) mit dem Fenster (4) vor der Bildung der Auftreffplatte entgast werden.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst der Verdampfer (43) mit einem Vorrat an photoleitendem Material (44) in den Seitenarm (11, 12) gebracht, darauf das in dem Rohrteil (1) vorhandene Elektrodensystem (23, 24) in den Endteil (2) eingeschoben wird, worauf dieser Teil und das Elektrodensystem durch Erhitzung entgast werden und das Elektrodensystem (23, 24) in dem Rohrteil (1) zurückgeschoben, der Verdampfer (43) aus dem Seitenarm (11, 12) in das Rohr (1) geführt, lose auf das Elektrodensystem (23, 24) aufgesetzt und von diesem in den gewünschten Abstand zum Fenster (4) ,gebracht wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß bei der Bildung der Auftreffplatte in einem inerten Gas unter reduziertem Druck als photoleitendes Material rotes Antimontrisulfid verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Fuß (27) mit einem zugeschmolzenen Entlüftungsröhrchen (28) versehen wird, das nach dem Abtrennen des am Fuß (27) festgeschmolzenen Endteiles (2) von dem Rohr (1) mit einer Vakuumpumpe in Verbindung gebracht wird, wobei die Abschmelzung (29) des Entlüftungsröhrchens zerbrochen wird, um das Innere des Kolbens mit der Vakuumpumpe in Verbindung zu bringen, worauf der Kolben völlig evakuiert und das Entlüftungsröhrchen nahe am Fuß zugeschmolzen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Bewegung des Verdampfers (43) und/oder des Elektrodensystems (23, 24) durch Magnete erzielt wird, die außerhalb des Rohres (1) bzw. des Seitenarms (11, 12) verschiebbar angeordnet sind.
7. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampfer eine Anzahl Öffnungen aufweist, durch welche Konvektionsströme des während der Aufdampfung der Auftreffplatte in dem Rohr vorhandenen inerten Gases fließen können, wobei, von dem Fenster (4) her gesehen, diese Öffnungen und die mit dem photoleitenden Material überzogenen Teile des Verdampfers praktisch gleichmäßig in einem Querschnitt des Rohres verteilt sind.
8. Anordnung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampfer durch einen Draht oder einen schmalen Metallstreifen gebildet ist, der eine Anzahl voneinander entfernt liegender Windungen aufweist.
9. Anordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampfer spiralförmig gewickelt ist.
10. Anordnung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampfer die Form einer schraubenlinienförmigen Spirale aufweist.
11. Anordnung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das photo-
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leitende Material durch Aufdampfen im Vakuum auf dem Verdampfer angebracht ist.
12. Anordnung nach den Ansprüchen 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampfer durch eine Stütze (81) getragen ist, die sich in der Lage zum Aufdampfen der Auftreffplatte 12
nahezu ganz über den Querschnitt des Endteiles (2) erstreckt (Fig. 12).
In Betracht gezogene ältere Patente: Deutsches Patent Nr. 1 049 423.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
409 509/312 2.64 © Bundesdruckerei Berlin
DEN16703A 1958-05-15 1959-05-12 Verfahren zur Herstellung einer Elektronenstrahlabtastroehre mit einer aufgedampften, photoleitenden Auftreffplatte und Anordnung zur Durchfuehrung dieses Verfahrens Pending DE1163463B (de)

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