[go: up one dir, main page]

DE10319509A1 - Schaltungsmodul, Verfahren zum Herstellen eines Schaltungsmoduls und Träger zum Aufnehmen von Halbleiterelementen - Google Patents

Schaltungsmodul, Verfahren zum Herstellen eines Schaltungsmoduls und Träger zum Aufnehmen von Halbleiterelementen Download PDF

Info

Publication number
DE10319509A1
DE10319509A1 DE2003119509 DE10319509A DE10319509A1 DE 10319509 A1 DE10319509 A1 DE 10319509A1 DE 2003119509 DE2003119509 DE 2003119509 DE 10319509 A DE10319509 A DE 10319509A DE 10319509 A1 DE10319509 A1 DE 10319509A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
carrier
circuit module
area
semiconductor elements
module according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE2003119509
Other languages
English (en)
Inventor
Robert Hahn
Oliver Lang
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority to DE2003119509 priority Critical patent/DE10319509A1/de
Publication of DE10319509A1 publication Critical patent/DE10319509A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F19/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one photovoltaic cell covered by group H10F10/00, e.g. photovoltaic modules
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02SGENERATION OF ELECTRIC POWER BY CONVERSION OF INFRARED RADIATION, VISIBLE LIGHT OR ULTRAVIOLET LIGHT, e.g. USING PHOTOVOLTAIC [PV] MODULES
    • H02S30/00Structural details of PV modules other than those related to light conversion
    • H02S30/20Collapsible or foldable PV modules
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F19/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one photovoltaic cell covered by group H10F10/00, e.g. photovoltaic modules
    • H10F19/80Encapsulations or containers for integrated devices, or assemblies of multiple devices, having photovoltaic cells
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F19/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one photovoltaic cell covered by group H10F10/00, e.g. photovoltaic modules
    • H10F19/90Structures for connecting between photovoltaic cells, e.g. interconnections or insulating spacers
    • H10F19/902Structures for connecting between photovoltaic cells, e.g. interconnections or insulating spacers for series or parallel connection of photovoltaic cells
    • H10W72/0198
    • H10W74/00
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

Ein Schaltungsmodul umfaßt einen Träger mit einem ersten und einem zweiten Aufnahmebereich sowie einer Leiterbahnstruktur. Das Schaltungsmodul weist ferner ein erstes kristallines Halbleiterelement und ein zweites kristallines Halbleiterelement auf, wobei das erste und zweite Halbleiterelement so angeordnet sind, daß sie durch die Leiterbahnstruktur elektrisch verkoppelt sind. Das erste und zweite Halbleiterelement sind mittels einer Befestigungseinrichtung an dem Träger befestigt, wobei der Träger oder die Abdeckung so ausgebildet sind, daß eine durch eine Biegung des Schaltungsmoduls erzeugte Zug- oder Druckbeanspruchung stärker durch einen Bereich des Schaltungsmoduls zwischen den Halbleiterelementen als durch den ersten oder zweiten Aufnahmebereich aufgenommen wird. Hierdurch werden insbesondere leistungskräftige Solarzellenmodule für vielfältige Anwendungen auf gekrümmten oder flexiblen Oberflächen erhalten.

Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Schaltungsmodule und insbesondere auf Schaltungsmodule mit mehreren Solarzellen aus einem mono- oder polykristallinen Halbleitermaterial, wie z. B. Silizium.
  • Kristalline Halbleiterelemente werden heutzutage in vielfältiger Weise im täglichen Leben eingesetzt und bieten hinsichtlich vieler Eigenschaften Vorteile gegenüber nicht-kristallinen Halbleiterelementen. Aufgrund der kristallinen Struktur ist jedoch eine Handhabung und Anbringung derselben oftmals schwierig, was im folgenden anhand von Solarzellen erläutert werden soll.
  • Solarzellen werden in zunehmendem Maße zur Energieversorgung eingesetzt, da sie verglichen mit Groß-Stromversorgungseinheiten, wie beispielsweise Kraftwerke, einfach und unabhängig zu realisieren sind. Durch den steigenden Leistungsbedarf bei gleichzeitiger Miniaturisierung ergeben sich immer höhere Anforderungen an die Energieversorgung portabler und autonomer Elektronikgeräte. Durch die Weiterentwicklung der Elektronik mit geringem Leistungsbedarf (Low-Power-Elektronik) können immer mehr kleinere Geräte ihren Energiebedarf auch völlig selbständig, beispielsweise durch Solar-Generatoren, decken.
  • Während bei Großanlagen das entscheidende Kriterium die möglichst schnelle Etablierung einer positiven Energiebilanz ist, was als „Return of Invest" bezeichnet wird, spielt bei autonomen und portablen Systemen vor allem die pro Fläche gewinnbare Leistung eine entscheidende Rolle.
  • Die maximal verfügbare Leistung ist dabei durch das Produkt Strahlungsdichte × Fläche × Wirkungsgrad gegeben.
  • Da bei vielen Anwendungen im Kleinleistungsbereich die zur Verfügung stehende Fläche begrenzt ist, werden vor allem Solarzellen mit einem hohen Wirkungsgrad eingesetzt. Diesbezügliche Technologien basieren vor allem auf kristallinen Silizium-Solarzellen, die gegenüber anderen Solarzellen einen wesentlich höheren Wirkungsgrad aufweisen. Die zur Montage von kristallinen Silizium-Zellen angewendete, meist manuelle Verlötung mittels Kupferbändern oder Schindeltechnik, erweist sich bei Grenzmodulen als zu teuer, nur unter Einsatz von Sondermaschinen automatisierbar und unter dem gleichzeitigen Aspekt der optischen Qualität und mechanischen Zuverlässigkeit als ungenügend.
  • Ein verbessertes Verfahren, bei dem eine aus der Elektronikfertigung (Chip on Board) bekannte Technologie adaptiert wurde, um eine vollautomatische und hochpräzise Montage und Kontaktierung zu erreichen, ist in der unveröffentlichten deutschen Patentanmeldung DE 10261876.3 beschrieben. Die einzelnen Solarzellen werden dabei auf einen Leiterplattenträger mit hoher Packungsdichte geklebt und untereinander verbunden. Die Abmessungen lassen sich weitgehend an beliebige Formen anpassen, wobei sich ferner die Spannung durch die Anzahl der Zellen an den Energiespeicher anpassen läßt.
  • Diesbezüglich ist jedoch zu beachten, daß sich mit der Anzahl der Zellen pro Fläche die Herstellungskosten erhöhen. Die Entwicklung dieser Zellen bezog sich bisher auf die für Solarzellen geeignete Kontaktierungstechnologie mittels eines Drahtbondens oder eines Leitklebens.
  • Hinsichtlich des Anwendungsbereich der oben genannten Technologie für Solar-Kleinmodule wäre es vorteilhaft, mechanisch flexible bzw. in der Oberfläche gekrümmte Solarzellen-Aufbauten herstellen zu können.
  • Prinzipiell können gekrümmte oder mechanisch flexible Solarzellen mittels Dünnfilmtechnologien und einer Herstellung auf flexiblen Substraten, wie beispielsweise Metallfolien oder Polyimid, erzeugt werden. Die Herstellung derartiger Solarzellen ist jedoch aufgrund der für die Erzeugung, Handhabung und Transport der dünnen Substrate erforderlichen Technologien aufwendig und teuer. Ferner sind die dünnen Substrate während des Herstellungsverfahrens anfällig gegenüber mechanischen Beeinflussungen, so daß sich bei einer industriellen Fertigung der Solarzellen auf Dünnfilmbasis ein hoher Ausschuß ergibt, was die Herstellungskosten zusätzlich erhöht.
  • Darüber hinaus sind auch Solarzellen auf Polymerbasis bekannt, die aufgrund des Materials eine Biegbarkeit besitzen und daher zur Anbringung an gekrümmten Oberflächen geeignet sind. Diese Technologien weisen jedoch einen wesentlich geringeren Wirkungsgrad von etwa 1-8% gegenüber 11-15% für Serienprodukte kristalliner Silizium-Solarzellen auf.
  • Bei portablen und autonomen Anwendungen ist jedoch in der Regel die nutzbare Fläche begrenzt, so daß ein hoher Wirkungsgrad für die Realisierung der Energieversorgung derartiger Anwendungen erforderlich ist.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Konzept zu schaffen, das eine flexiblere und gleichzeitig sichere Anbringung von kristallinen Halbleiterelementen an Oberflächen ermöglicht.
  • Diese Aufgabe wird durch ein Schaltungsmodul gemäß Anspruch 1, ein Verfahren gemäß Anspruch 33 und einen Träger gemäß Anspruch 39 gelöst.
  • Die vorliegende Erfindung basiert auf der Erkenntnis, daß das Anbringen von kristallinen Halbleiterelementen an gekrümmten Oberflächen erreicht werden kann, indem Zug- oder Druckspannungen, die sich durch ein Biegen ergeben, stärker durch einen Bereich zwischen den Halbleiterelementen aufgenommen wird, so daß auf die Halbleiterelemente eine verringerte oder keine Biege- oder Scherbeanspruchung übertragen wird. Dadurch wird aufgrund der Bereiche zwischen den Halbleiterelementen die zur Verbiegung erforderliche Flexibilität der Anordnung erreicht, ohne daß die kristallinen Halbleiterelemente der Gefahr einer übermäßigen Biegung ausgesetzt sind, die zu mechanischen Spannungen oder einem Brechen derselben führen kann.
  • Vorzugsweise sind die Aufnahmebereiche, in denen die Halbleiterelemente angeordnet sind, so ausgebildet, daß bei einer vorbestimmten Biegung der gesamten Anordnung die Biegung der Aufnahmebereiche unterhalb eines vorbestimmten Werts liegt, der derart gewählt ist, daß eine Beschädigung der kristallinen Halbleiterelemente durch die Übertragung der Biegung der Aufnahmebereiche auf dieselben ausgeschlossen ist. Der maximal erlaubte Wert für die Halbleiterelemente ergibt sich abhängig von dem Halbleitermaterial sowie der Dicke und Größe der kristallinen Halbleiterelemente. Ein Bereich für Biegeradien, der für typische kristalline Halbleiterelemente erlaubt ist, hängt von der Dicke der Kristallstrukturen ab.
  • Die Biegung der gesamten Halbleiterelement-Anordnung ergibt sich aus der Summe der Biegung der Bereiche zwischen den Halbleiterelementen und der Biegung der Aufnahmebereiche, so daß bei einer Auswahl der Steifigkeit für den Aufnahmebereich jeweils die Steifigkeit bzw. Biegbarkeit der Bereiche zwischen den Halbleiterelementen zu berücksichtigen ist. Vorzugsweise wird der Aufnahmebereich der Halbleiterzellen jedoch mit einer solchen Steifigkeit vorgesehen, daß eine Verbiegung derselben im wesentlichen ausgeschlossen ist. Beispielsweise kann der Aufnahmebereich eine Steifigkeit aufweisen, die mit derjenigen einer Metall- oder Stahlplatte vergleichbar ist.
  • Der Bereich zwischen den Halbleiterelementen kann derart ausgestaltet sein, daß durch die Druck- oder Zug-Spannungsaufnahme ein Verdrehen der Halbleiterelemente gegeneinander oder ein Verbiegen der Halbleiterelemente zueinander ermöglicht ist. Vorzugsweise kann auch sowohl ein Verdrehen als auch ein Verbiegen gegeneinander vorgesehen sein, so daß eine optimale Anpassung an eine beliebige Oberfläche gegeben ist.
  • Die Realisierung der Druck- oder Zug-Spannungsaufnahme durch den Bereich zwischen den Halbleiterelementen kann auf vielfältige Weise erfolgen.
  • Einerseits kann die Erfindung lediglich durch einen Träger realisiert werden, auf dem die Halbleiterelemente befestigbar sind. Die Druck- oder Zug-Spannungsaufnahme in dem Bereich zwischen den Halbleiterelementen wird allein durch geeignete Strukturen des Trägers erreicht.
  • Der Träger kann vorzugsweise eine bekannte Leiterplatte sein, die mittels eingebrachter Strukturen modifiziert ist, um in den Bereichen zwischen den Halbleiterelementen die Flexibilität sicherzustellen. Dadurch werden Herstellungskosten niedrig gehalten, da die kostengünstig herstellbaren Leiterplatten als Grundlage verwendet werden können und zum Erreichen der Flexibilität lediglich einfache mechanische Bearbeitungsschritte erforderlich sind. Bei dem Erzeugen mechanischer Strukturen ist zu berücksichtigen, daß die Leiterbahnen auf der Oberfläche des Trägers so zu legen sind, daß dieselben nicht durch die entsprechend erzeugten Strukturen behindert werden.
  • Die Erfindung kann jedoch auch durch ein Schaltungsmodulrealisiert werden, bei dem die kristallinen Halbleiterelemente auf Aufnahmebereichen eines Trägers mittels eines Klebers angeordnet sind, und die Halbleiterelemente zum Schutz vor Umwelteinflüssen mit einer Abdeckung versehen sind, wobei die Flexibilität des Bereichs zwischen den Halbleiter elementen durch eine strukturelle Ausgestaltung des Trägers oder durch eine strukturelle Ausgestaltung der Abdeckung erreicht werden kann.
  • Insbesondere umfasst eine Abdeckung eine Verkapselung der Halbleiterelemente auf einer Frontseite, beispielsweise mittels einer Vergußmasse oder einer Lackschicht. In diesem Fall können die Strukturen zur Aufnahme der mechanischen Spannungen beispielsweise nach einem ganzflächigen Aufbringen der Verkapselungsmasse mittels einer mechanischen Nachbearbeitung erfolgen, wodurch das Halbleiterelemente einerseits geschützt ist und andererseits die Flexibilität mittels geringer Herstellungskosten erreicht wird.
  • Die mechanische Flexibilität bei gleichzeitiger Stabilisierung der Halbleiterelemente kann ferner erreicht werden, indem sowohl die Verkapselungsschicht als auch das Trägersubstrat alternierend steife Abschnitte im Bereich der Solarzellen und flexible Abschnitte im Bereich der Zwischenräume zwischen den Solarzellen aufweisen. Dabei kann entweder die Abdeckung, die beispielsweise eine obere Verkapselungsschicht oder eine Verkapselungsschicht mit einer Frontscheibe sein kann, oder die untere Trägersubstratschicht im Bereich der Zwischenräume zwischen den Solarzellen völlig unterbrochen sein, so daß der mechanische Zusammenhalt nur von einer dieser Lagen bewirkt wird. Bei einer Biegung des Moduls wird dann nur diese durchgehende Lage einer Biegebeanspruchung überzogen, während sich die andere Lage ausdehnen oder zusammenziehen kann. Auf diese Weise wird eine Scherbeanspruchung auf die eingekapselten Halbleiterelemente vermieden. Der Träger ist dabei so ausgelegt, daß er eine elektrische Verbindung der einzelnen Halbleiterelemente auch für den Fall übernehmen kann, daß partielle Unterbrechungen für den Dehnungsausgleich vorgesehen sind.
  • Alternativ kann auch eine flexible Leiterplatte, wie z. B. eine Star-Flex-Leiterplatte, verwendet werden, auf deren eine Seite die Solarzellen aufgeklebt werden, und auf deren anderen Seite im Bereich der Solarzellen Versteifungsplatten etwa in der Größe der Solarzellen oder um vorzugsweise bis zu 20 Prozent größer oder kleiner aufgeklebt werden, so dass im Zwischenbereich nur die flexible Leiterplatte ist und im Aufnahmebereich ein „Laminat" aus Verkapselung, Halbleiterelement, Kleber, flexible Leiterplatte und Versteifung vorhanden ist. Im Zwischenbereich steht daher die volle Flexibilität der Leiterplatte mit ihren Vorzügen insbesondere bezüglich Langzeitstabilität gegenüber wiederholtem Biegen und hoher Flexibilität zur Verfügung, während die Solarzellen gut geschützt sind.
  • Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Erfindung besteht darin, daß eine Herstellung des Halbleiterelement-Moduls weitgehend mit adaptierten Verfahren der Elektronik-Montage, d. h. einer Chip-on-Board-Technologie erfolgen kann. Dadurch werden die Herstellungskosten für das Halbleiterelement-Modul weiter reduziert. Aufgrund der Erfahrung mit diesen Technologien wird ferner eine schnelle Realisierung und Einsetzbarkeit erreicht.
  • Der Träger kann auch bei diesem Ausführungsbeispiel eine bekannte Leiterplatte umfassen, die mittels eingebrachter Strukturen modifiziert ist, um in den Bereichen zwischen den Halbleiterelementen die Flexibilität sicherzustellen. Dadurch können die Herstellungskosten noch geringer gehalten werden.
  • Das erfindungsgemäße Konzept ermöglicht bei einem Ausführungsbeispiel, bei dem die Halbleiterelemente kristalline Solarzellen sind, den Einsatz eines mechanisch flexiblen Solarzellenmodul, das aufgrund der Verwendung kristalliner Solarzellen eine hohe Leistungsdichte pro Fläche bei gleichzeitiger hoher mechanischen Flexibilität aufweist. Dadurch läßt sich, insbesondere durch Verwendung der oben erwähnten kostengünstigen Träger und Abdeckungen eine fle xible, sichere und autonome Energieversorgung mit geringen Herstellungskosten erreichen.
  • Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
  • 1 ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bei dem die Halbleiterelemente frontseitig verkapselt sind, wobei die Verkapselung eine Frontscheibe aufweist;
  • 2 ein weiteres Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bei dem die Halbleiterelemente mittels Vergußmasse frontseitig verkapselt sind;
  • 3 ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bei dem der Träger Vertiefungen aufweist;
  • 4 ein weiteres Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bei dem der Träger seitliche Schlitze aufweist und ferner eine ganzflächige Scheibe mit Vertiefungen auf einer Frontseite vorgesehen ist;
  • 5 eine Draufsicht auf ein Ausführungsbeispiel gemäß der vorliegenden Erfindung, bei dem der Träger Ausnehmungen aufweist;
  • 6 eine Querschnittdarstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels gemäß der Erfindung; und
  • 7 eine Querschnittdarstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels gemäß der Erfindung.
  • 1 zeigt ein Schaltungsmodul 100 als ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bei dem kristalline Halbleiterelemente 110a-f auf einem Träger 112 in den Halb leitelementen 110a-f zugeordneten Aufnahmebereichen 114a-f befestigt sind.
  • Die Befestigung findet z. B. durch Auflöten statt. Bevorzugt wird jedoch, die Solarzellen auf den Träger zu kleben. Als Klebstoff (in 1 nicht gezeigt) wird insbesondere ein flexibler Klebstoff bevorzugt, dessen Dicke ebenfalls eingestellt werden kann, um damit Beanspruchungen der Halbleiterelemente aufgrund einer Biegung des gesamten Moduls bereits durch den Kleber aufzunehmen, so dass die Halbleiterelemente noch stärker gesichert werden. Je nach Ausführungsform ist es jedoch auch möglich, die Halbleiterelemente z. B. nur durch die elektrischen Kontakte relativ schwach an dem Träger oder im Extremfall, wenn die Kontakte lediglich Berührungskontakte sind, nicht selbst an dem Träger zu befestigen. In diesem Fall übernimmt die Befestigungsfunktion die Verkapselung, auf die später eingegangen wird. Die Verkapselung oder Abdeckung ist in diesem Fall ausgeführt, um ausreichend sicher die Solarzelle an dem Träger zu befestigen.
  • Bei dem Träger 112 kann es sich beispielsweise um eine Leiterplatte handeln, die einlagig oder zweilagig ausgebildet sein kann. Die Leiterplatte 112 weist auf einer ersten Oberfläche 112a eine Leiterstruktur 116 auf, die sich über leitfähige Durchgangslöcher 116a zu einer der ersten Oberfläche 112a gegenüberliegenden zweiten Oberfläche 112b des Trägers 112 erstreckt. Die Leiterbahn 116 ist ferner mit Kontakten 118 verbunden, die auf der ersten Oberfläche 112a in Bereichen der kristallinen Halbleiterelemente 110a-f angeordnet sind. Die Halbleiterelemente 110a-f sind über Verdrahtungen 120 mit den Kontakten 118 verbunden, so daß die jeweiligen Halbleiterelemente 110a-f über die Kontakte 118, die Leiterbahn 116 und die Durchgangslöcher 116a elektrisch miteinander verkoppelt sind. Die Halbleiterelemente können beispielsweise mittels eines Lötens mit den Kontakten 118 verbunden sein.
  • Auf der ersten Oberfläche 112a des Trägers 112 ist eine Verkapselung 122 für jede der Halbleiterelemente 110a-110f vorgesehen, die eine Vergußmassenschicht 124 und eine Frontscheibe 126 umfaßt. Die Verkapselung 122 schützt die Halbleiterelemente vor äußeren Einflüssen, wie beispielsweise eine Oxidation, und liefert andererseits eine Befestigungsfunktion zum Befestigen der Halbleiterelemente am Träger 112. Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel, bei dem die Halbleiterelemente Solarzellen sind, sind die Verkapselungsschicht 124 und die Frontscheibe 126 für optisches Licht durchlässig, so daß die Halbleiterelemente 110a-f optische Strahlungsenergie aufnehmen können. Wie es in 1 zu erkennen ist, sind die Verkapselungsschicht 124, die mit der Oberfläche 112a des Trägers 112 verbunden ist, und die Frontscheibe 126 in einem Bereich zwischen den Halbleiterelementen 110a-f vollständig durchtrennt.
  • Ferner weist der Träger 112 in Bereichen 132 zwischen den Halbleiterelementen 110a-f auf der ersten Oberfläche 112a Vertiefungen 128a auf, die bei einer Biegung des Schaltungsmoduls 100 in den Bereichen 132 zwischen den Halbleiterelementen 110a-f eine erhöhte Flexibilität gegenüber den Aufnahmebereichen 114a-f ermöglicht, so daß der Träger vorwiegend an den Stellen der Vertiefungen gebogen wird und in geringerem Ausmaß in den Aufnahmebereichen 114a-f für die Halbleiterelemente 110a-110f gebogen wird. Mit anderen Worten gesagt, wird bei einer Verbiegung des Schaltungsmoduls 100 die Biegebeanspruchung allein den durch die Vertiefung 128 gedünnten Bereich in dem Träger aufgenommen, so daß die Halbleiterelemente 110a-f lediglich eine geringe mechanische Beanspruchung erfahren. Bei dem Schaltungsmodul 100 ist somit jeweils ein Bereich geringer Steifigkeit und ein Bereich hoher Steifigkeit alternierend angeordnet, so daß die in den Bereichen der hohen Steifigkeit angeordneten Halbleiterelemente 110a-f hinsichtlich mechanischer Belastungen bei einem Biegen des Schaltungsmoduls 100 geschützt sind. Die hohe Steifigkeit wird dabei zusätzlich zu der Steifigkeit des Aufnahmebereichs des Trägers 112 durch die Verkapselung 122 der jeweiligen Halbleiterelemente 110a-f erhöht.
  • Die Tiefe der Vertiefungen 128 bestimmt das Verhältnis der Verbiegungen der Aufnahmebereiche 114a-f bezüglich der Bereiche zwischen den Halbleiterelementen, so daß durch ein geeignetes Einstellen der Tiefe der Vertiefungen 128 die Biegung der Aufnahmebereiche 114a-f unterhalb eines vorbestimmten Werts gehalten werden kann, der speziell so gewählt ist, daß für die jeweiligen kristallinen Halbleiterelemente eine Schädigung aufgrund der Biegung der Aufnahmebereiche 114a-f ausgeschlossen ist. Um eine derartige Verbiegung nicht zu überschreiten, wird der Träger eine Dicke im Falle von Leiterplatten z. B. aus FR4 oder faserverstärktem Epoxydharz von 1 bis 2 mm haben, die im Bereich der Vertiefungen 128 auf einen Bereich von 0, 1 bis 0, 5 mm herabgesetzt ist.
  • Der maximal zulässige Biegeradius ist von der Dicke und teilweise auch von der Größe der Halbleiterelemente und auch von dem Halbleitermaterial abhängig. Die Halbleiterelemente können typischerweise eine Größe von je nach Anwendung 2 – 10 mm Breite und 1 – 10 cm Länge aufweisen und vorzugsweise eine rechtwinklige oder quadratische Form aufweisen. Um die Biegung in den Aufnahmebereichen 114a-f unterhalb der maximalen zulässigen Biegung zu halten, ist ferner das Material des Trägers und die Dicke des Trägers 112 in den Aufnahmebereichen 114a-f für die Halbleiterelemente 110a-f zu berücksichtigen.
  • Die Vertiefung 128 läßt sich bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 1 auf eine einfache Weise dadurch erreichen, daß die Verkapselungsschicht 124 ganzflächig aufgetragen wird und daraufhin mittels einer mechanischen Bearbeitung durchtrennt wird, wobei in dem Träger 112 die Vertiefung 128 erzeugt wird. Um das Einkerben von oben herstellen zu können, ist es erforderlich, daß der Träger die in 1 gezeigte Durchkontaktierung 116a aufweist, die ermöglicht, daß die Verbindung der einzelnen Zellen auf einer Unterseite des Trägers 112 erfolgt. Die elektrische Verbindung der Halbleiterelemente 110a-f erfolgt dabei im Bereich der Frontkontakte 118.
  • 2 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bei dem im Unterschied zu dem Ausführungsbeispiel gemäß 1 auf die Frontscheiben 126 verzichtet ist, so daß die Halbleiterelemente 110a-f lediglich durch die Vergußmasse 124 eingekapselt sind. Dabei kann ein mechanisch festeres Material mit einer hohen Transparenz und Altersbeständigkeit unter den Einsatzbedingungen verwendet werden. Beispielsweise kann das Material der Vergußmasse spezielle Epoxidharze aufweisen. Die Herstellung des Ausführungsbeispiel gemäß 2 kann entsprechend zu demjenigen der 1 erfolgen, d. h. zunächst mittels eines ganzflächigen Auftragens der Vergußmasse 124. Daraufhin erfolgt die Herstellung der Vertiefungen 128 zwischen den jeweiligen Halbleiterelementen mittels mechanischer Bearbeitung, die beispielsweise eine Laser-, Wasserstrahlstrukturierung oder ein Ätzen umfaßt.
  • 3 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, bei dem der Träger 112 eine einlagige und damit kostengünstige Leiterplatte umfaßt. Im Unterschied zu den Ausführungsbeispielen gemäß den 1 und 2 weist der Träger 112 lediglich Vertiefungen 134 auf der unteren Oberfläche 112b auf. Da die Verbindung der einzelnen Halbleiterelemente auf der Oberseite 112a des Trägers 112 erfolgt, werden bei diesem Ausführungsbeispiel nur Technologien angewendet, die die Leiterbahnen 116, die bei diesem Ausführungsbeispiel auf der oberen Oberfläche 112a verlaufen, nicht schädigen oder unterbrechen. Diesbezüglich kann beispielsweise im Bereich der empfindlichen Leiterbahnen auf mechanische Bearbeitungsschritte verzichtet werden. Bei dem Ausführungsbeispiel kann ferner auch eine zusätzliche Passivierung der Leiterbahnen auf der Oberfläche 112a erfolgen. Das Ausführungsbeispiel gemäß 3 kann darüber hin aus ermöglichen, daß die Leiterbahn vollständig oder teilweise durch die Befestigungsstruktur 122 vor äußeren Einflüssen geschützt ist, so daß durch die Befestigungsstruktur 122 gleichzeitig ein Schutz für die Halbleiterelemente 110a-f als auch die Leiterbahn 116 erreicht wird.
  • Unter Bezugnahme auf 4 wird ein weiteres Ausführungsbeispiel näher erklärt. Im Unterschied zu den Ausführungsbeispielen gemäß den 1 bis 3, bei denen ein mechanischer Zusammenhalt über den Träger 112 erfolgt, ist bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 4 der mechanische Zusammenhalt mittels einer durchgehenden Abdeckplatte 136 und teilweise durch die Vergußmasse 124 erreicht. Die durchgehende Abdeckplatte 136 weist vorzugsweise Vertiefungen 138 auf, um die Biegung auf die Bereiche außerhalb der Halbleiterelemente zu konzentrieren. Damit bei einer Biegung keine Scherwirkung zwischen der Abdeckplatte 136 und dem Träger 112 entsteht, weist der Träger Ausnehmungen 140 auf, die sich von der ersten Oberfläche 112a durchgängig zu der zweiten Oberfläche 112b erstrecken, so daß im Bereich der Ausnehmungen 140 das Material des Trägers vollständig entfernt ist. Die Ausnehmungen können dabei sowohl längliche Durchbrüche als auch Schlitze, die seitlich angeordnet sind, umfassen, so daß eine Längenänderung bei der Biegung des Moduls ermöglicht ist. Die Ausnehmungen 140 können derart gebildet sein, daß sich zwischen den Aufnahmebereichen 114a-f für die Halbleiterelemente 110a-f spezielle Strukturen ergeben, wie beispielsweise eine Mäanderstruktur oder andere federartige Strukturen, bei denen längliche Elemente die Aufnahme der mechanischen Beanspruchung erzielen.
  • Unter Bezugnahme auf 5 wird ein Ausführungsbeispiel entsprechend zu dem Ausführungsbeispiel gemäß 4 erklärt. 5 stellt eine Draufsicht dar, die den Träger 112 sowie die darauf angeordneten Halbleiterelemente 110a-f zeigt. Wie es in 5 zu erkennen ist, weist der Träger 112 Ausnehmungen 140 auf, die seitliche Schlitze 142 sowie zentral angeordnete Ausnehmungen 144 umfassen. Wie es in
  • 5 zu erkennen ist, verengen die seitlichen Schlitze 142 eine Breite des Trägers 112, so daß eine Verengungsstruktur gebildet ist, die die Flexibilität in dem Bereich zwischen den Halbleiterelementen 110a-f ermöglicht. Im Bereich der zentralen Ausnehmungen 144 ist der Träger in zwei seitliche Stege aufgeteilt. Die durch die Ausnehmungen 142 und 144 gebildete Struktur ermöglicht dabei sowohl eine Drehung der Halbleiterelemente 110a-f gegeneinander als auch ein Biegen des Schaltungsmoduls derart, daß die Halbleiterelemente 110a-f zueinander gebogen werden. Wie es in 5 ferner gezeigt ist, sind bei dem Ausführungsbeispiel die Leiterbahnen 116 auf der oberen Oberfläche 112a angeordnet und dabei jeweils um die Schlitze 142 und die Ausnehmungen 144 geführt.
  • Ein weiteres Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung ist in 6 gezeigt. Das Ausführungsbeispiel unterscheidet sich von Ausführungsbeispielen der 1 bis 4 dadurch, daß die Abdeckung durch eine sehr dünne, gleichmäßig auf der Vorderseite 112a aufgebrachte Lackschicht gebildet ist.
  • Die dünne Lackschicht 146 ermöglicht eine Biegung, ohne daß nennenswerte Spannungen entstehen können, die die Halbleiterelemente 110a-f beeinflussen. Dadurch wird durch die Lackschicht 146 einerseits ein Schutz der Halbleiterelemente und gleichzeitig die erforderliche Biegbarkeit in den Bereichen zwischen Halbleiterelementen erreicht, ohne daß die dieselbe in den Zwischenbereichen durchtrennt ist. Entsprechend zu dem Ausführungsbeispiel gemäß 3 weist der Träger bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 6 Vertiefungen 134 auf der rückseitigen Oberfläche 112b des Trägers 112 auf, die eine Biegbarkeit des Trägers zwischen den jeweiligen Halbleiterelementen ermöglicht. Das Ausführungsbeispiel gemäß 6 zeichnet sich insbesondere durch eine besonders einfache Herstellung aus, da die dünne Lackschicht 146 keinen weiteren Bearbeitungsschritten unterzogen werden muß, um die erforderliche Biegbarkeit des Moduls 100 zu gewährleisten, wodurch die Lackschicht in einfacher Weise ganzflächig aufgebracht werden kann.
  • Obwohl in den Ausführungsbeispielen gemäß den 1 bis 6 nur eine Reihe hintereinander angeordneter Halbleiterelemente gezeigt ist, können bei weiteren Ausführungsbeispielen die Halbleiterelemente auch in mehreren Reihen angeordnet sein. Dabei kann die durch Biegung des Schaltungsmoduls alternativ in X- oder Y-Richtung erfolgen, so daß eine optimale Anpassung an eine beliebige Oberfläche erreicht werden kann.
  • Im folgenden werden nun in allgemeiner Weise eine Herstellung der Ausführungsbeispiele gemäß den 1 bis 6 erklärt.
  • In einem ersten Herstellungsschritt wird dazu der Träger 112 mit den Aufnahmebereichen 114a-f zum Aufnehmen der Halbleiterelemente 110a-f sowie der Leiterstruktur 116 erzeugt. Daraufhin werden die kristallinen Halbleiterelemente 110a-f auf den zugeordneten Aufnahmebereichen 114a-f angeordnet und mit der Leiterbahnstruktur elektrisch verkoppelt. Dies kann beispielsweise mittels eines elektrischen Lötens, oder mittels einer Verwendung von bekannten Haftmitteln erfolgen.
  • Daraufhin wird die Abdeckung, d. h. die Verkapselung 122 erzeugt, so daß die Halbleiterelemente an dem Träger befestigt sind.
  • Erfindungsgemäß werden dabei der Träger oder die Abdeckung derart erzeugt, daß eine durch eine Biegung des Schaltungsmoduls 100 erzeugte Zug- oder Druckspannung stärker durch den Bereich des Schaltungsmoduls in dem Bereich zwischen den Halbleiterelementen 110a-f als durch die jeweiligen Aufnahmebereich aufgenommen wird. Dies kann sowohl bereits bei dem Erzeugen des Trägers, beispielsweise durch eine mechanische Bearbeitung eines bekannten Trägers, oder erst nach dem Aufbringen der Halbleiterelemente, beispielsweise durch Bearbeiten der Befestigungsstruktur erfolgen.
  • Wie es bereits unter Bezugnahme auf die 1 bis 6 erklärt wurde, kann die Biegbarkeit beispielsweise mittels eines Erzeugens von Vertiefungen im Bereich zwischen den jeweiligen Aufnahmebereichen 114a-f erreicht werden, die sowohl auf der oberen Oberfläche 112a als auch auf der unteren Oberfläche 112b erzeugt werden können.
  • Das Erzeugen der Verkapselungen 122 kann beispielsweise mittels eines ganzflächigen Aufbringens der Vergußmasse 124 und eines nachfolgenden mechanischen Bearbeitens der ganzflächig aufgebrachten Vergußmasse erfolgen. Das mechanische Bearbeiten umfaßt beispielsweise ein Laser- oder Wasserstrahlbehandeln. Ferner können auch bekannte Ätzverfahren oder sonstige Verfahren zur Materialabtragung verwendet werden.
  • Wenn als Trägermaterial eine gewöhnliche Leiterplatte (FR4 oder glasfaserverstärktes Epoxydharz) verwendet wird, was die kostengünstigste Lösung darstellt, kann eine Biegung mit kleineren Biegeradien nur wenige Male stattfinden. Solche Module sind somit nicht für flexible Oberflächen geeignet sondern eher für relativ starre gekrümmte Oberflächen, wie z. B. Kfz-Spiegel, Stoßstangen, etc, um Sensoren des Kfz oder die Zugangskontrolle für das Kfz ggf. in Kombination mit einem Akkumulator autonom zu versorgen, oder für Anwendungen, bei denen nur kleine Biegeradien zu erwarten sind oder nur wenige Biegungen auftreten, um einen Bruch aufgrund einer Materialermüdung zu erreichen.
  • Sollen viele Biegungen und kleine Biegeradien erzielt werden, so wird ein flexibles Leiterplattenmaterial (112a in 7) bevorzugt, sie z. B. Kaptonfolie, Polyimid, etc. Bei Star-Flex-Leiterplatten (mit Dicken in der Größenordung von 20 bis 100 Mikrometer) ist auf die Polymerfolie, die auch die Leiterbahn umfasst, überall in den versteiften Be reichen, also den Aufnahmebereichen 114a, 114b eine Versteifung beispielsweise in Form von starren Leiterplattenstücken 112b aufgeklebt. Auf diese Weise sind die flexiblen Zwischenbereiche 132 von wesentlich höherer Festigkeit und Biegsamkeit und können viele tausend Mal gebogen werden. Solche Module sind insbesondere als z. B. Uhrenarmband verwendbar oder können in Kleidungsstücke, wie z. B. Hemdkragen oder Schulterbereichen von Oberbekleidung oder Jacken, eingefügt oder aufgesetzt werden, um Strom für am Menschen befindliche Geräte wie z. B. Handys etc. oder für medizinische Geräte, die der Mensch benötigt, zu erzeugen.

Claims (42)

  1. Schaltungsmodul mit folgenden Merkmalen: einem Träger (112) mit einem ersten Aufnahmebereich (114a) und mit einem zweiten Aufnahmebereich (114b) und einer Leiterbahnstruktur (116, 116a, 118); einem ersten kristallinen Halbleiterelement (110a) und einem zweiten kristallinen Halbleiterelement (110b), wobei das erste Halbleiterelement (110a) auf dem ersten Aufnahmebereich (114a) und das zweite Halbleiterelement (110b) auf dem zweiten Aufnahmebereich (114b) so angeordnet sind, daß sie durch die Leiterbahnstruktur (116, 116a, 118) elektrisch verbunden sind; einer Abdeckung (122, 124, 126) zum Abdecken des ersten und zweiten Halbleiterelements (110a, 110b), wobei der Träger (112) oder die Abdeckung (122, 124, 126; 146) so ausgebildet sind, daß eine durch eine Biegung des Schaltungsmoduls erzeugte Zug- oder Druckbeanspruchung stärker durch einen Bereich (132) des Schaltungsmoduls zwischen den Aufnahmebereichen (114a, 114b) als durch den ersten oder zweiten Aufnahmebereich aufgenommen wird.
  2. Schaltungsmodul gemäß Anspruch 1, bei dem der Träger (112) oder die Abdeckung (122, 124, 126; 146) ferner so ausgebildet sind, daß bei einer Biegung des Schaltungsmoduls in dem Bereich (132) zwischen dem ersten und zweiten Halbleiterelement (110a, 110b) eine maximale Biegung auftritt.
  3. Schaltungsmodul gemäß Anspruch 1, bei dem der Träger (112) oder die Abdeckung (122, 124, 126; 146) ausgebildet sind, so daß bei einer vorbestimmten Biegung des Schaltungsmoduls in dem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich eine vorbestimmte Biegung nicht überschritten wird.
  4. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der Träger (112) oder die Abdeckung (122, 124, 126; 146) so ausgebildet sind, daß durch das Aufnehmen der Zug- oder Druckbeanspruchung in dem Bereich (132) des Schaltungsmoduls zwischen den Halbleiterelementen (110a, 110b) ein gegenseitiges Verdrehen der Halbleiterelemente (110a, 110b) ermöglicht wird.
  5. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem der Träger (112) oder die Abdeckung (122, 124, 126; 146) so ausgebildet sind, daß durch das Aufnehmen der Zug- oder Druckbeanspruchung in dem Bereich (132) des Schaltungsmoduls zwischen den Halbleiterelementen (110a, 110b) ein Biegen der Halbleiterelemente (110a, 110b) zueinander ermöglicht ist.
  6. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem das erste (110a) und zweite (110b) Halbleiterelement durch Löten mit der Leiterbahnstruktur (116, 116a, 118) verkoppelt ist.
  7. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die Halbleiterelemente (110a, 110b) mit den Aufnahmebereichen (114a, 114b) mittels eines Klebstoffes verbunden sind.
  8. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Träger (112) eine Leiterplatte ist.
  9. Schaltungsmodul gemäß Anspruch 8, wobei die Leiterplatte (112) einlagig oder zweilagig ist.
  10. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei der Träger (112) durchgängig das gleiche Material aufweist.
  11. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei eine Befestigung der Halbleiterelemente durch eine frontseitige Abdeckung der Halbleiterelemente (110a, 110b) ist.
  12. Schaltungsmodul gemäß Anspruch 11, wobei die frontseitige Abdeckung (122, 124, 126; 146) eine Frontscheibe (126; 136) aufweist.
  13. Schaltungsmodul gemäß Anspruch 12, wobei sich die Frontscheibe (126) nicht über den Bereich (132) zwischen dem ersten und zweiten Halbleiterelement (110a, 110b) erstreckt.
  14. Schaltungsmodul gemäß Anspruch 12, wobei sich die Frontscheibe (136) durchgängig über den ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich sowie den Bereich (132) zwischen denselben erstreckt, wobei die Frontscheibe (136) in dem Bereich (132) zwischen dem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich eine Vertiefung (138) aufweist.
  15. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 11 bis 14, wobei die Abdeckung (122, 124, 126; 146) ein für optisches Licht transparentes Vergußmaterial (124, 126) umfaßt.
  16. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 11 bis 15, wobei die Abdeckung (122, 124, 126; 146) eine optisch transparente Frontscheibe (126; 136) umfaßt.
  17. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 11 bis 16, wobei die Abdeckung durch eine optisch transparente Lackschicht (146) gebildet ist.
  18. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 17, bei dem sich die Abdeckung (122, 124, 126; 146) nicht in dem Bereich (132) zwischen dem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich erstreckt.
  19. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 17, bei dem sich die Abdeckung (122, 124, 126) ganzflächig über den ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich sowie über den Bereich (132) zwischen denselben erstreckt.
  20. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 19, bei dem der Träger (112) oder die Abdeckung (122, 124, 126; 146) in dem Bereich (132) zwischen dem ersten (110a) und zweiten (110b) Halbleiterelement eine Vertiefung (128; 134) aufweist.
  21. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 20, bei dem Träger eine Oberfläche (112a) aufweist, auf der die Halbleiterelemente (110a, 110b) angeordnet sind, wobei der Träger (112) auf der Oberfläche (112a) in dem Bereich (132) zwischen dem ersten (110a) und zweiten (110b) Halbleiterelement eine Vertiefung (128) aufweist.
  22. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 21, bei dem der Träger (112) eine erste Oberfläche (112a) aufweist, auf der die Halbleiterelemente (110a, 110b) angeordnet sind, wobei der Träger (112) auf einer der ersten Oberfläche (112a) gegenüberliegenden zweiten Oberfläche (112b) des Trägers (112) in dem Bereich (132) zwischen dem ersten (110a) und zweiten (110b) Halbleiterelement eine Vertiefung (134) aufweist.
  23. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 22, bei dem der Träger (112) in dem Bereich (132) zwischen dem ersten (110a) und zweiten (110b) Halbleiterelement eine Ausnehmung (140, 142, 144) aufweist, die sich von einer ersten Oberfläche (112a) auf der das erste (110a) und zweite (110b) Halbleiterelement angeordnet ist, zu einer der ersten Oberfläche (112a) gegenüberliegenden zweiten Oberfläche (112b) erstreckt.
  24. Schaltungsmodul gemäß Anspruch 23, bei dem die Ausnehmung (140, 142, 144) in dem Bereich (132) zwischen dem ersten (110a) und zweiten (110b) Halbleiterelement eine mäanderförmige Struktur des Trägers (112) definiert.
  25. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 24, bei dem sich die Leiterstruktur (116, 116a, 118) auf einer Oberfläche (112a) des Trägers (112), auf der das erste (110a) und zweite (110b) Halbleiterelement angeordnet sind, erstreckt.
  26. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 25, bei dem sich die Leiterstruktur (116, 116a, 118) von einer ersten Oberfläche (112a) des Trägers (112), auf der das erste (110a) und zweite (110b) Halbleiterelement angeordnet sind, über Durchgangslöcher (116a) in den Träger (112) zu einer der ersten Oberfläche (112a) gegenüberliegenden zweiten Oberfläche (112b) erstreckt.
  27. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 26, das ferner zusätzlich zu dem ersten (110a) und zweiten (110b) kristallinen Halbleiterelement weitere kristalline Halbleiterelemente (110c-f) aufweist, die in Aufnahmebereichen des Trägers in einer oder mehreren Reihen angeordnet sind, wobei der Träger (112) oder die Abdeckung (122, 124, 126; 146) so ausgebildet sind, daß eine durch eine Biegung des Schaltungsmoduls erzeugte Zug- oder Druckspannung durch Bereiche (132) zwischen nächstliegend angeordneten Halbleiterelemen ten (110a-f) stärker aufgenommen wird als durch die Aufnahmebereiche (114a-f).
  28. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche 1 bis 27, bei dem die kristallinen Halbleiterelemente (110a, 110b) einkristallin oder polykristallin sind.
  29. Schaltungsmodul gemäß einem der Ansprüche bis 28, bei dem die Halbleiterelemente (110a, 110b) Solarzellen sind.
  30. Schaltungsmodul nach Anspruch 1, bei dem der Träger eine flexible Leiterplatte und zusätzliche Versteifungen in dem ersten und dem zweiten Aufnahmebereich aufweist, so dass ein Flexibilität des Träger in dem Bereich zwischen den Aufnahmebereichen durch die flexible Leiterplatte bestimmt ist.
  31. Schaltungsmodul nach Anspruch 30, bei dem die zusätzlichen Versteifungen an der flexiblen Leiterplatte angeklebte starre Leiterplattenstücke sind.
  32. Schaltungsmodul nach Anspruch 30 oder 31, bei dem die flexible Leiterplatte eine Polymerfolie mit aufgebrachten Leiterbahnen ist.
  33. Verfahren zum Herstellen eines Schaltungsmoduls mit folgenden Schritten: Erzeugen eines Trägers (112) mit einem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich und einer Leiterstruktur (116, 116a, 118); Anordnen eines ersten (110a) und zweiten (110b) kristallinen Halbleiterelements auf dem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich, so daß sie mit der Leiterbahnstruktur (116, 116a, 118) elektrisch verkoppelt sind; Erzeugen einer Abdeckung (122, 124, 126; 146), so daß die Halbleiterelemente (110a, 110b) abgedeckt sind, wodurch ein Schaltungsmodul erhalten wird, wobei die Schritte des Erzeugens eines Trägers (112) oder des Erzeugens einer Abdeckung (122, 124, 126; 146) so durchgeführt werden, daß eine durch eine Biegung des Schaltungsmoduls erzeugte Zug- oder Druckspannung stärker durch einen Bereich (132) des Schaltungsmoduls zwischen den Halbleiterelementen (110a, 110b) als durch den ersten (114a) oder zweiten (114b) Aufnahmebereich aufgenommen wird.
  34. Verfahren gemäß Anspruch 33, bei dem der Schritt des Erzeugens eines Trägers (112) ein Erzeugen von Vertiefungen (128; 134) im Bereich (132) zwischen dem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich umfaßt.
  35. Verfahren gemäß Anspruch 33 oder 34, bei dem der Schritt des Erzeugens einer Abdeckung (122, 124, 126; 146) ein frontseitiges Verkapseln der Halbleiterelemente (110a, 110b) umfaßt.
  36. Verfahren gemäß Anspruch 35, bei dem der Schritt des frontseitigen Verkapselns ein ganzflächiges Aufbringen einer Vergußmasse (124) und ein mechanisches Bearbeiten der ganzflächig aufgebrachten Vergußmasse (124) umfaßt.
  37. Verfahren gemäß Anspruch 36, bei dem der Schritt des mechanischen Bearbeitens ein Erzeugen einer Vertiefung (128) in dem Träger (112) umfaßt.
  38. Verfahren gemäß Anspruch 36 oder 37, bei dem der Schritt des mechanischen Bearbeitens eine Laser-, Wasserstrahl- oder Ätzbehandlung umfaßt.
  39. Träger (112) zum Aufnehmen von Halbleiterelementen (110a, 110b) mit folgenden Merkmalen: einem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich; einer Leiterbahnstruktur (116, 116a, 118) zum Ermöglichen einer elektrischen Kopplung mit den Halbleiterelementen (110a, 110b), wobei der Träger (112) in einem Bereich (132) zwischen dem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich eine Struktur aufweist, so daß eine durch Biegung des Trägers (112) erzeugte Zug- oder Druckbeanspruchung stärker durch den Bereich (132) zwischen dem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich aufgenommen wird, derart, daß bei einer vorbestimmten Biegung des Trägers (112) eine vorbestimmte Biegung des ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereichs nicht überschritten wird.
  40. Träger gemäß Anspruch 39, wobei der Träger eine Dicke aufweist und der Bereich zwischen dem ersten (114a) und dem zweiten (114b) Aufnahmebereich eine Vertiefung (128; 134) aufweist, so daß die Dicke des Trägers (112) derart verringert ist, daß die vorbestimmte Biegung der Aufnahmebereiche (114a, 114b) nicht überschritten wird.
  41. Träger gemäß Anspruch 40, bei dem der Bereich (132) zwischen dem ersten (114a) und zweiten (114b) Aufnahmebereich eine oder mehrere Ausnehmungen (140, 142, 144) aufweist, die sich von einer ersten Oberfläche (112a), auf der die Halbleiterelemente (110a, 110b) angeordnet sind, zu einer der ersten Oberfläche (112a) gegenüberliegenden zweiten Oberfläche (112b) erstrecken.
  42. Träger gemäß Anspruch 41, bei dem durch die Ausnehmungen eine erste Verengungsstruktur gebildet wird, deren Breite geringer als die Breite des Aufnahmebereichs ist, so daß die vorbestimmte Biegung der Aufnahmebereiche (114a, 114b) nicht überschritten wird.
DE2003119509 2003-03-03 2003-04-30 Schaltungsmodul, Verfahren zum Herstellen eines Schaltungsmoduls und Träger zum Aufnehmen von Halbleiterelementen Withdrawn DE10319509A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2003119509 DE10319509A1 (de) 2003-03-03 2003-04-30 Schaltungsmodul, Verfahren zum Herstellen eines Schaltungsmoduls und Träger zum Aufnehmen von Halbleiterelementen

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10309358 2003-03-03
DE10309358.3 2003-03-03
DE2003119509 DE10319509A1 (de) 2003-03-03 2003-04-30 Schaltungsmodul, Verfahren zum Herstellen eines Schaltungsmoduls und Träger zum Aufnehmen von Halbleiterelementen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10319509A1 true DE10319509A1 (de) 2004-09-23

Family

ID=32891847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2003119509 Withdrawn DE10319509A1 (de) 2003-03-03 2003-04-30 Schaltungsmodul, Verfahren zum Herstellen eines Schaltungsmoduls und Träger zum Aufnehmen von Halbleiterelementen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10319509A1 (de)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0497586A (ja) * 1990-08-15 1992-03-30 Nec Corp 電子装置の実装方法
EP0534290A2 (de) * 1991-09-25 1993-03-31 Degussa Aktiengesellschaft Starre, in Teilbereichen biegbare Gedruckte Schaltungen und Verfahren zu deren Herstellung
DE4300899A1 (de) * 1993-01-15 1994-07-21 Diehl Gmbh & Co Elektronikeinrichtung und Verfahren zur Herstellung einer solchen Elektronikeinrichtung
EP0720419A1 (de) * 1994-12-28 1996-07-03 Asahi Glass Company Ltd. Schaltungsplatte für Flüssigkristall-Anzeige, Schaltungsmodul, Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung unter deren Verwendung, und Verfahren zu deren Herstellung
US6384313B2 (en) * 1998-05-15 2002-05-07 Canon Kabushiki Kaisha Solar cell module and method of producing the same
JP2002280481A (ja) * 2001-03-16 2002-09-27 Kyocera Corp 高周波回路素子収納用パッケージ
US6486544B1 (en) * 1998-09-09 2002-11-26 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method manufacturing the same, circuit board, and electronic instrument
DE10261876A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-15 Solarc Innovative Solarprodukte Gmbh Herstellungsverfahren für Solarmodule mitels Leitkleber-Bonding und Solarmodule mit Leitkleberbrücken

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0497586A (ja) * 1990-08-15 1992-03-30 Nec Corp 電子装置の実装方法
EP0534290A2 (de) * 1991-09-25 1993-03-31 Degussa Aktiengesellschaft Starre, in Teilbereichen biegbare Gedruckte Schaltungen und Verfahren zu deren Herstellung
DE4300899A1 (de) * 1993-01-15 1994-07-21 Diehl Gmbh & Co Elektronikeinrichtung und Verfahren zur Herstellung einer solchen Elektronikeinrichtung
EP0720419A1 (de) * 1994-12-28 1996-07-03 Asahi Glass Company Ltd. Schaltungsplatte für Flüssigkristall-Anzeige, Schaltungsmodul, Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung unter deren Verwendung, und Verfahren zu deren Herstellung
US6384313B2 (en) * 1998-05-15 2002-05-07 Canon Kabushiki Kaisha Solar cell module and method of producing the same
US6486544B1 (en) * 1998-09-09 2002-11-26 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method manufacturing the same, circuit board, and electronic instrument
JP2002280481A (ja) * 2001-03-16 2002-09-27 Kyocera Corp 高周波回路素子収納用パッケージ
DE10261876A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-15 Solarc Innovative Solarprodukte Gmbh Herstellungsverfahren für Solarmodule mitels Leitkleber-Bonding und Solarmodule mit Leitkleberbrücken

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10121895B4 (de) Solarzellenmodul und Verfahren zur Herstellung
EP0268830B1 (de) Datenträger mit integriertem Schaltkreis und Verfahren zur Herstellung desselben
DE69604333T2 (de) Optisches Wellenleitermodul und Verfahren zu seiner Herstellung
EP2545598B1 (de) Biegewandler
EP0919041B1 (de) Verfahren zur herstellung eines chipkarten-moduls für eine kombi-chipkarte
DE69421434T2 (de) Leiterplatte für optische Elemente
EP3231262B1 (de) Semiflexible leiterplatte mit eingebetteter komponente
WO1991001533A1 (de) Trägerelement mit wenigstens einem integrierten schaltkreis, insbesondere zum einbau in chip-karten
DE102005035672B4 (de) Solarzellenmodul für konzentrierende Solarsysteme mit einer Vielzahl von Solarzellen auf einem flächig mit einer Metallschicht beschichteten Substrat und Verfahren zu seiner Herstellung
DE10145752B4 (de) Nicht-leitendes, ein Band oder einen Nutzen bildendes Substrat, auf dem eine Vielzahl von Trägerelementen ausgebildet ist
DE60028761T2 (de) Vorrichtung für optische verbindung
DE102007052971A1 (de) Kontaktierung und Modulverschaltung von Dünnschichtsolarzellen auf polymeren Trägern
EP0303272A2 (de) Leiterplatte für die Elektronik
DE112009002356T5 (de) Dünnschicht-Solarzellenreihe
DE112014000655T5 (de) Herstellungsverfahren für ein Solarzellenmodul und Herstellungsvorrichtung für ein Solarzellenmodul
EP3410494B1 (de) Photovoltaische zelle und module sowie verfahren zu deren herstellung
EP4334841A1 (de) Kartenförmiger datenträger sowie halbzeug und kontaktlayout dafür, und verfahren zur herstellung derselben
DE10319509A1 (de) Schaltungsmodul, Verfahren zum Herstellen eines Schaltungsmoduls und Träger zum Aufnehmen von Halbleiterelementen
DE68914214T2 (de) Zusammenbau- und Packungsverfahren eines Sensorelementes.
DE10210841B4 (de) Modul und Verfahren zur Herstellung von elektrischen Schaltungen und Modulen
DE10358423B4 (de) Modulbrücken für Smart Labels
DE102010015942A1 (de) Solarmodul und Verfahren zu dessen Herstellung
EP1215725A2 (de) Anordnung zur Aufnahme elektrischer Bauteile und kontaktloser Transponder
DE102004012979B4 (de) Kopplungssubstrat für Halbleiterbauteile, Anordnungen mit dem Kopplungssubstrat, Kopplungssubstratstreifen, Verfahren zur Herstellung dieser Gegenstände und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls
DE102011077469A1 (de) Solarzellenmodul und Verfahren zu dessen Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee