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DE10317275A1 - Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen - Google Patents

Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen Download PDF

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Publication number
DE10317275A1
DE10317275A1 DE10317275A DE10317275A DE10317275A1 DE 10317275 A1 DE10317275 A1 DE 10317275A1 DE 10317275 A DE10317275 A DE 10317275A DE 10317275 A DE10317275 A DE 10317275A DE 10317275 A1 DE10317275 A1 DE 10317275A1
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DE
Germany
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treatment chamber
objects
cleaning
rotor
axis
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Withdrawn
Application number
DE10317275A
Other languages
English (en)
Inventor
Thomas J. Moran
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Brooks CCS GmbH
Original Assignee
Dynamic Micro Systems Semiconductor Equipment GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dynamic Micro Systems Semiconductor Equipment GmbH filed Critical Dynamic Micro Systems Semiconductor Equipment GmbH
Priority to DE10317275A priority Critical patent/DE10317275A1/de
Priority to PCT/EP2004/003764 priority patent/WO2005001888A2/de
Priority to DE502004004812T priority patent/DE502004004812D1/de
Priority to EP04762977A priority patent/EP1614150B1/de
Publication of DE10317275A1 publication Critical patent/DE10317275A1/de
Priority to US11/247,622 priority patent/US8161985B2/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H10P72/0406
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/06Cleaning involving contact with liquid using perforated drums in which the article or material is placed

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Abstract

Vorrichtung zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, in der die Gegenstände in einer Behandlungskammer (40; 91) mittels einer Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, und in der Behandlungskammer (40; 91) Mittel zum Bewegen eines Gases innerhalb der Behandlungskammer (40; 91) vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungskammer (40; 91) abschließbar ist, dass die Mittel das Gas in der geschlossenen Behandlungskammer (40; 91) umwälzen, und dass in der Behandlungskammer (40; 91) ferner ein Kondensationstrockner (64; 95) für das Gas vorgesehen ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, in der die Gegenstände in einer Behandlungskammer mittels einer Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, und in der Behandlungskammer Mittel zum Bewegen eines Gases innerhalb der Behandlungskammer vorgesehen sind.
  • Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, bei dem die Gegenstände in einer Behandlungskammer mittels einer Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, wobei innerhalb der Behandlungskammer ein Gas bewegt wird.
  • Eine Vorrichtung und ein Verfahren der vorstehend genannten Art sind aus der US 5 562 113 A bekannt.
  • In der Halbleiterindustrie ist es notwendig, verschiedenartige Gegenstände, die bei der Herstellung von Halbleitern verwendet werden, vor, zwischen oder nach bestimmten Behandlungsschritten zu reinigen. Zu diesen Gegenständen zählen Hilfsmittel, bspw. Körbe, in denen Halbleitererzeugnisse, insbesondere Wafer, in größerer Zahl gehandhabt werden, aber auch Halbleitererzeugnisse selbst, also z.B. Wafer, LCD-Substrate oder Fotomasken.
  • Da die Reinigung dieser Gegenstände mittels Flüssigkeit vorgenommen wird, ist innerhalb des Reinigungsprozesses auch ein Trocknen dieser Gegenstände erforderlich. Dabei ist von herausragender Bedeutung, dass die Gegenstände während der Reinigung tatsächlich vollkommen gereinigt und nicht etwa während des Trocknens wieder mit Fremdpartikeln kontaminiert werden.
  • Es ist daher bekannt, die genannten Gegenstände in Vorrichtungen zu reinigen und zu trocknen, die eine Behandlungskammer für die Gegenstände aufweisen. In der Behandlungskammer werden die Gegenstände mittels einer Flüssigkeit gereinigt, indem die Gegenstände z.B. auf einem Rotor in der Behandlungskammer angeordnet und dann während der Reinigung gedreht werden. In der Behandlungskammer sind dann Sprühdüsen für eine Reinigungsflüssigkeit vorgesehen, um die Gegenstände während des Reinigungs vorganges mit einer Reinigungsflüssigkeit und ggf. mit einer Spülflüssigkeit zu besprühen.
  • Um die auf diese Weise gereinigten, jedoch nassen Gegenstände anschließend zu trocknen, sind verschiedene Vorgehensweisen bekannt.
  • Bei der aus der eingangs genannten US 5 562 113 bekannten Vorrichtung wird die Trocknung der Gegenstände über einen Heißluftstrom bewirkt. Zu diesem Zweck wird Umgebungsluft angesaugt, aufgeheizt, gefiltert und in die Behandlungskammer eingeleitet. Durch die Rotation der Gegenstände auf dem sich in der Behandlungskammer drehenden Rotor wird diese aufgeheizte Trocknungsluft in der Behandlungskammer umgewälzt. Sie wird anschließend aus der Behandlungskammer ausgeleitet.
  • Diese Vorgehensweise hat den Nachteil, dass in Folge der externen Aufheizung der Trocknungsluft nur ein begrenzter Wirkungsgrad beim Trocknen erreicht werden kann. Weiterhin hat die Zufuhr von Außenluft immer den Nachteil, dass Fremdpartikel in den Behandlungsraum eingebracht werden können, obwohl die Luft gefiltert wird. Beim Filtern muss man nämlich immer einen Kompromiss zwischen der Wirksamkeit des Filters einerseits und der durchsetzbaren Luftmenge andererseits schließen.
  • Bei anderen bekannten Vorrichtungen, wie sie von der Anmelderin unter den Typenbezeichnungen 300 und 310 vertrieben werden, wird Außenluft über einen entsprechenden Filter in die Behandlungskammer eingeleitet, ohne dass eine Aufheizung der Luft stattfindet. Stattdessen sind innerhalb der Behandlungskammer Infrarot-Strahler angeordnet, mit denen im Wesentlichen die zu reinigenden Gegenstände aufgeheizt werden, wodurch die Trocknungswirkung verbessert wird.
  • Auch bei dieser bekannten Vorgehensweise wird jedoch Außenluft in die Behandlungskammer eingeleitet und nach dem Trocknungsvorgang wieder ausgeleitet, so dass sich auch hier die vorstehend erwähnten Probleme einstellen.
  • Der Erfindung liegt demgegenüber die Aufgabe zu Grunde, eine Vorrichtung und ein Verfahren der eingangs genannten Art dahingehend weiterzubilden, dass die vorstehend genannten Nachteile vermieden werden. Insbesondere soll eine optimale Trocknung der Gegenstände ermöglicht werden, ohne dass eine Kontaminierung in Folge der Zufuhr von Außenluft stattfindet.
  • Bei einer Vorrichtung der eingangs genannten Art wird diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Behandlungskammer abschließbar ist, dass die Mittel das Gas in der geschlossenen Behandlungskammer umwälzen, und dass in der Behandlungskammer ferner ein Kondensationstrockner für das Gas vorgesehen ist.
  • Bei dem Verfahren der eingangs genannten Art wird die Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Behandlungskammer abgeschlossen wird und dass das Gas innerhalb der geschlossenen Behandlungskammer umgewälzt und mittels Kondensation getrocknet wird.
  • Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe wird auf diese Weise vollkommen gelöst.
  • Dadurch, dass im Gegensatz zu den im Stand der Technik bekannten Vorgehensweisen der gesamte Trocknungsvorgang innerhalb der geschlossenen Behandlungskammer stattfindet, wird die Eintragung von Fremdpartikeln und damit eine Kontamination der zu trocknenden Gegenstände vollkommen vermieden. Dies wird erfindungsgemäß dadurch ermöglicht, dass in der geschlossenen Behandlungskammer ein Kondensationstrockner vorgesehen ist, der dem in der Behandlungskammer umgewälzten Gas die Feuchtigkeit entzieht, so dass die Gegenstände effektiv getrocknet werden.
  • Bei einer bevorzugten Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist neben der Behandlungskammer ein Wärmetauscher angeordnet und der Kondensationstrockner ist über einen geschlossenen Kreislauf an den Wärmetauscher angeschlossen.
  • Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass unter Inkaufnahme eines gewissen apparativen Mehraufwandes die Vorrichtung insgesamt autark arbeitet und nicht auf die Zu- und Abführung externer Kühlmittel angewiesen ist.
  • Gemäß einer alternativen Ausführungsform der Erfindung kann jedoch der Kondensationstrockner auch über einen Zuleitungsanschluss mit einer externen Kühlmittelquelle verbunden sein.
  • Dies hat im Gegensatz zur vorgenannten Alternative den Vorteil, dass der apparative Aufwand minimal, andererseits aber eine externe Zufuhr von Kühlmittel erforderlich ist.
  • Je nach Einsatzdauer und Kosten des zuzuführenden Kühlmittels (bspw. Kühlwasser) wird daher die eine oder die andere Variante im Einzelfall vorteilhafter sein.
  • Bei weiteren Ausführungsbeispielen der Erfindung weist der Kondensationstrockner mindestens eine Kondensatorplatte auf.
  • Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass die mit Feuchtigkeit beladene, umgewälzte Luft innerhalb der Behandlungskammer an einer relativ großen Fläche der Kondensatorplatte entlangstreichen kann, so dass eine effektive Kondensation und damit Trocknung möglich ist.
  • Bevorzugt ist dabei, wenn mehrere Kondensatorplatten verwendet werden, die in Parallelschaltung an eine Zuleitung bzw. an eine Ableitung für ein Kühlmittel angeschlossen sind.
  • Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass einerseits eine größere Kondensationsfläche zur Verfügung steht, andererseits in Folge der Parallelschaltung alle Kondensatorplatten gleichermaßen gekühlt werden.
  • In diesem Zusammenhang wird ferner eine gute Wirkung dadurch erzielt, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer auf einem um eine Achse drehbaren Rotor angeordnet sind, und die mindestens eine Kondensatorplatte um einen vorbestimmten Winkel zu einer Radialebene der Achse geneigt angeordnet ist.
  • Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass dem in der Behandlungskammer umgewälzten Gas eine schraubenförmige Bewegung aufgeprägt wird, so dass eine definierte Zirkulation entsteht. Diese kann je nach räumlicher Anordnung der Kondensatorplatten zu einer laminaren Strömung über die zu trocknenden Gegenstände hinweg führen, bspw. dann, wenn die schräg angeordneten Kondensatorplatten sich im Bandbereich der Behandlungskammer befinden.
  • Bei einer bevorzugten Weiterbildung dieser Variante können zusätzlich auf einer Innenwand der Behandlungskammer zu der Radialebene geneigte Leitelemente angeordnet sein.
  • Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass die gesamte Innenwand der Behandlungskammer durch die geneigten Kondensatorplatten und die geneigten Leitelemente gewindeartig ausgebildet sein kann. Dies bewirkt eine schraubenförmige Gasströmung im Bereich der Kammer, die sich über eine im Zentrum der Kammer axial gerichtete Gegenströmung schließt.
  • Bei Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung sind an einer Innenwand der Behandlungskammer Sprühdüsen für eine Reinigungs- oder Spülflüssigkeit angeordnet.
  • Diese an sich bekannte Maßnahme hat den Vorteil, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer effektiv gereinigt werden können.
  • Bei einer Behandlungskammer, die im Wesentlichen quaderförmig ausgebildet ist, sind die Sprühdüsen vorzugsweise im Bereich von Ecken der Behandlungskammer angeordnet.
  • Wenn in weiter bevorzugter, ebenfalls an sich bekannter Weise die Gegenstände in der Behandlungskammer auf einem um eine Achse drehbaren Rotor angeordnet sind und die Achse im Wesentlichen im Zentrum der Behandlungskammer verläuft, sind die Sprühdüsen vorzugsweise auf die Achse gerichtet.
  • Bei einer erfindungsgemäßen Weiterbildung der letztgenannten Variante ist mindestens eine weitere Sprühdüse vorgesehen, die bei rotierendem Rotor in einer zurückgezogenen Stellung außerhalb des Rotors gehalten und bei stillstehendem Rotor in Radialrichtung in eine vorgefahrene Stellung im Bereich der im Rotor gehaltenen Gegenstände hinein verfahrbar ist.
  • Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass auch bei sehr großvolumigen Gegenständen eine perfekte Reinigung möglich ist. Dies gilt bspw. bei sogenannten „Körben", wie sie bei der Halbleiterfertigung zum Transportieren einer Vielzahl von Wafers oder anderen Halbleitererzeugnissen benutzt werden. Diese „Körbe" sind auf ihrer Innenfläche nicht so einfach mittels einer Sprühdüse erreichbar, wenn sich die Körbe auf einem Rotor an mehreren stationären Sprühdüsen vorbeibewegen. Wenn jedoch bei stillstehendem Rotor die weitere Sprühdüse in den Korb hinein verfahren wird, so kann die gesamte Innenfläche des Korbes wirksam gereinigt werden.
  • Bei weiteren Ausführungsformen der Erfindung sind in an sich bekannter Weise in der Behandlungskammer Infrarot-Strahler zum Trocknen der Gegenstände vorgesehen.
  • Alternativ oder nebeneinander können ein oder mehrere Infrarot-Strahler im Zentrum der Behandlungskammer oder an einer Innenwand der Behandlungskammer angeordnet sein.
  • Bevorzugt ist jedenfalls, wenn die Infrarot-Strahler nicht auf den Kondensationstrockner gerichtet sind.
  • Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass eine unnötige Aufheizung des Kondensationstrockners vermieden wird, die zu einer Verminderung von dessen Wirkungsgrad führen würde.
  • Bei weiteren bevorzugten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist der Behandlungsraum im Horizontalschnitt im Wesentlichen rechteckförmig und über zwei, in einander gegenüberliegenden Seitenwänden angeordnete Türen zugänglich.
  • Diese Maßnahme hat den an sich bekannten Vorteil, dass die Gegenstände von der einen Seite der Vorrichtung hin beladen und von der anderen Seite der Vorrichtung her entladen werden können.
  • Alternativ dazu ist es aber auch möglich, dass der Behandlungsraum im Horizontalschnitt im Wesentlichen rechteckförmig und nur über eine, in einer Seitenwand angeordnete Tür zugänglich ist.
  • Diese Maßnahme hat den Vorteil, dass ein geringerer apparativer Aufwand bei der Vorrichtung erforderlich ist.
  • Wie bereits erwähnt wurde, lässt sich die erfindungsgemäße Vorrichtung zum Reinigen unterschiedlicher Gegenstände einsetzen. Bevorzugt sind dabei Körbe für Halbleitererzeugnisse oder Halbleitererzeugnisse selbst zu nennen. Halbleitererzeugnisse sind dabei vorzugsweise Wafer, LCD-Substrate oder Fotomasken, ohne dass die Anwendung der Erfindung auf diese speziellen Halbleitererzeugnisse beschränkt ist.
  • Weitere Vorteile ergeben sich aus der Beschreibung und der beigefügten Zeichnung.
  • Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale nicht nur in der jeweils angegebenen Kombination, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung verwendbar sind, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigens
  • 1 ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, in einer Seitenansicht, und zwar einer Schnittdarstellung entlang der Linie I-I von 3;
  • 2 die Vorrichtung gemäß 1 in einer 90°-gedrehten Seitenansicht, ebenfalls im Schnitt, entlang der Linie II-II von 3;
  • 3 eine Draufsicht auf die Vorrichtung gemäß 1 und 2, gleichfalls im Schnitt, entlang der Linie III-III von 2;
  • 4 eine Darstellung ähnlich 3, jedoch für ein zweites Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Vorrichtung.
  • In den 1 bis 3 bezeichnet 10 insgesamt eine Reinigungsvorrichtung für Gegenstände, wie sie in der Halbleiterindustrie beim Herstellen von Halbleitern verwendet werden.
  • Die Reinigungsvorrichtung 10 weist ein quaderförmiges Gehäuse 12 auf, das über Füße 14 auf einem Boden 16 angeordnet ist. Das Gehäuse 12 erstreckt sich in Vertikalrichtung entlang einer Achse 17. Es weist eine vordere Seitenwand 18, eine hintere Seitenwand 20, eine rechte Seitenwand 22 sowie eine linke Seitenwand 24 auf. Innen ist das Gehäuse 12 durch eine obere Zwischenwand 26 sowie eine untere Zwischenwand 28 unterteilt. Hierdurch entsteht ein oberer Gehäuseteil 30, ein mittlerer Gehäuseteil 32 sowie ein unterer Gehäuseteil 34. Die Darstellung in den Figuren ist dabei selbstverständlich nur schematisch zu verstehen. Die Einzelheiten des Gehäuses 12, Verbindungsmittel und dergleichen sind der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt.
  • Beim Ausführungsbeispiel gemäß den 1 bis 3 ist das Gehäuse 12 mit zwei Türen versehen, nämlich mit einer rechten Tür 36 in der rechten Seitenwand 22 sowie einer gegenüberliegenden linken Tür 38 in der linken Seitenwand 24. Mit Pfeilen 37 und 39 ist angedeutet, dass bei geöffneten Türen, wie mit 36' und 38' für den Zustand teilweiser Öffnung angedeutet, eine Beladung der Reinigungsvorrichtung 10 im Durchsatzverfahren möglich ist. Hierzu werden bspw. die zu reinigenden Gegenstände in Richtung des Pfeils 37 durch die geöffnete Tür 36 zugeführt und die gereinigten Gegenstände in Richtung des Pfeils 39 durch die geöffnete Tür 38 abgeführt.
  • Der mittlere Gehäuseteil 32 umgibt eine Behandlungskammer 40. In der Behandlungskammer 40 befindet sich ein Rotor 42, der mittels einer Welle 44 antreibbar ist. Die Welle 44 erstreckt sich entlang der Vertikalachse 17. Der Rotor 42 weist einen oberen Halter 46 sowie einen unteren Halter 48 auf, zwischen denen die zu reinigenden Gegenstände mittels geeigneter Haltemittel gehalten werden.
  • Im dargestellten Ausführungsbeispiel sind drei Ebenen von Körben 50 zwischen den Haltern 46 und 48 gehalten. In jeder Ebene sind insgesamt vier Körbe 50 vorgesehen, die jeweils um 90° versetzt um die Welle 44 herum angeordnet sind. Bei den Körben 50 handelt es sich um solche Körbe, wie sie zum Handhaben und Transportieren von Wafern oder anderen Halbleitererzeugnissen verwendet werden.
  • Wie mit einem Pfeil 52 angedeutet, kann der Rotor 42 in Rotation versetzt werden. Hierzu ist er über eine Antriebswelle 54 mit einem Motor 56 verbunden, der sich in einem Antriebsraum 58 im oberen Gehäuseteil 30 befindet. Die Drehrichtung des Motors 56 ist vorzugsweise umschaltbar.
  • Wie man deutlich aus 3 erkennen kann, ist das Gehäuse 12 zumindest im Bereich der Behandlungskammer 40 im Wesentlichen rechteckig bzw. quadratisch. In den Ecken 61a, 61b, 61c, 61d der Behandlungskammer 40, im dargestellten Ausführungsbeispiel in den drei Ecken 61a, 61b und 61c, befinden sich Sprühdüsen 60a, 60b und 60c. Die Sprühdüsen 60a bis 60c sind zum Zentrum der Behandlungskammer 40 hin gerichtet, also zu Achse 17 bzw. zur Welle 44. Die Zuleitungen und Versorgungseinrichtungen der Sprühdüsen 60a bis 60c sind an sich bekannt und der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt.
  • Weiterhin befinden sich innerhalb der Behandlungskammer 40 Infrarot-Strahler 62a, 62b, 62c. Der Infrarot-Strahler 62a ist dabei im Bereich der Welle 44 angeordnet, während die Infrarot-Strahler 62b und 62c sich an der vorderen Seitenwand 18 befinden. Die Infrarot-Strahler 62a bis 62c sind ebenfalls an sich bekannt und daher nicht in weiteren Einzelheiten dargestellt.
  • Erfindungsgemäß ist nun in der Behandlungskammer 40, und zwar im Bereich der hinteren Seitenwand 20, ein Kondensationstrockner 64 vorgesehen. Der Kondensationstrockner 64 enthält vorzugsweise mehrere Kondensatorplatten, im dargestellten Ausführungsbeispiel insgesamt neun Kondensatorplatten 66a, 66b, 66c, 66d, 66e, 66f, 66g, 66h und 66i. Die Kondensatorplatten 66a bis 66i sind bezüglich einer Radialebene zur Achse 17 unter einem vorbestimmten Winkel α geneigt angeordnet, wie deutlich aus 2 erkennbar ist. Der Winkel α liegt bspw. zwischen 10° und 30°, vorzugsweise bei 20°.
  • Die Kondensatorplatten 66a bis 66i sind auf der einen Seite, im dargestellten Ausführungsbeispiel auf ihrer jeweils unteren Seite, an eine gemeinsame Zuleitung 68 sowie an ihrer gegenüberliegenden Seite an eine gemeinsame Ableitung 70 angeschlossen, so dass sie strömungstechnisch parallel geschaltet sind.
  • Gemäß einer ersten Variante sind die Zuleitung 68 und die Ableitung 70 im geschlossenen Kreislauf mit einem Wärmetauscher 72 verbunden. Gemäß einer zweiten Variante sind die Zuleitung 68 und die Ableitung 70 jeweils an einen externen Zuleitungsanschluss 74 bzw. einen Ableitungsanschluss 76 angeschlossen, so dass das Kühlmittel extern zugeführt bzw. abgeführt werden kann.
  • Die Wirkungsweise der Reinigungsvorrichtung 10 ist wie folgt:
    Zu Beginn des Reinigungsverfahrens wird der leere Rotor 42 über die rechte Tür 36 beladen. Hierzu wird der Rotor 42 zweckmäßigerweise in vier Schritten zu je 90° gedreht, so dass jeweils drei Körbe 50 übereinander geladen werden können. Dies kann manuell oder über eine entsprechende Handhabungsvorrichtung geschehen, bis schließlich alle drei Ebenen mit je vier Körben bestückt sind. Es versteht sich dabei, dass selbstverständlich auch andere Gegenstände als Körbe 50 geladen werden können, oder dass eine Mischladung vorgesehen werden kann, bei der z.B. die beiden unteren Ebenen mit Körben und die obere Ebene mit flächigen Gegenständen beladen wird.
  • Nach Abschluss des Beladungsvorganges wird die rechte Tür 36 geschlossen. Der Rotor 42 wird nun durch Einschalten des Motors 56 in Rotation versetzt. Gleichzeitig wird über die Sprühdüsen 60a bis 60c eine Reinigungsflüssigkeit auf die zu reinigenden Gegenstände, bspw. die Körbe 50, gerichtet. An diesen Reinigungsvorgang kann sich ein Spülvorgang anschließen, in dem über die Sprühdüsen 60a bis 60c eine Spülflüssigkeit zugesprüht wird. Es versteht sich, dass für die Zuführung der Reinigungsflüssigkeit und einer Spülflüssigkeit auch unterschiedliche Sprühdüsen eingesetzt werden können.
  • Bei einem praktischen Ausführungsbeispiel weist die erfindungsgemäße Reinigungsvorrichtung 10 eine quaderförmige Behandlungskammer 40 mit einer Kantenlänge 125 cm auf. Das Reinigen/Spülen vollzieht sich in zwei Schritten von z.B. 20 und 40 Sekunden Dauer, wobei gereinigtes Wasser mit einer Temperatur von 50° verwendet und der Rotor 42 mit 20 min–1 gedreht wird.
  • An den vorstehend erläuterten Reinigungs- und ggf. Spülvorgang schließt sich nur der im vorliegenden Zusammenhang besonders interessierende Trocknungsvorgang an.
  • Um die Körbe 50 in der Behandlungskammer 40 effektiv zu trocknen, wird der Rotor 42 zunächst in schnelle Rotation von z.B. 200 min–1 versetzt, und zwar während zweier Intervalle von jeweils 30 Sekunden Dauer. Diese schnelle Rotation des Rotors 42 bewirkt, dass die auf den Körben 50 befindliche Reinigungs- oder Spülflüssigkeit durch Fliehkraft teilweise abgeschleudert wird.
  • Es schließen sich nun mehrere Intervalle an, während derer der Rotor 42 mit verminderter Drehzahl zwischen 30 und 60 min–1 gedreht wird. Dies geschieht während aufeinander folgender Interwalle von bspw. sechzig Sekunden Dauer, wobei zwischen den einzelnen Intervallen die Drehrichtung des Rotors 42 umgekehrt wird. Insgesamt können z.B. zwölf derartige Intervalle vorgesehen werden, wobei die Drehzahl des Rotors 42 zwischenzeitlich je nach Bedarf auch angehoben oder abgesenkt werden kann. Während dieser Intervalle werden die Infrarot-Strahler 62a, 62b und 62c eingeschaltet. Diese sind vorzugsweise so ausgerichtet, dass sie nicht auf den Kondensationstrockner 64 strahlen und somit nicht aufwärmen. Die Infrarot-Strahlung bewirkt eine Aufheizung der Körbe 50, die dadurch effektiv getrocknet werden.
  • Die Temperatur in der Behandlungskammer 40 wird während des gesamten Reinigungs- und Trocknungsvorganges vorzugsweise auf konstanter Temperatur gehalten, bspw. auf 55°C. Die Gesamtdauer des Vorganges liegt vorzugsweise bei zehn bis zwölf Minuten.
  • Während des Trocknungsvorganges bewirkt die Rotation des Rotors 42, dass das Gas, bspw. die Luft, innerhalb der geschlossenen Behandlungskammer 40 umgewälzt wird. Durch die Schrägstellung der Kondensatorplatten 66a bis 66i (vgl. 2) wird der Gasströmung im Bereich der hinteren Seitenwand 20 eine schraubenförmige Bewegungskomponente aufgeprägt. Dies ist in 2 mit Pfeilen 80 angedeutet. Diese schraubenförmige Bewegung des Gases im Wandbereich führt zu einer radial gerichteten Strömung im Boden- und Deckenbereich, wie mit einem Pfeil 82 in 1 angedeutet. Die Strömung schließt sich dann durch eine axiale Strömung im Bereich der Welle 44, wie in 1 mit einem Pfeil 84 verdeutlicht.
  • Eine Umkehrung der Drehrichtung des Rotors 42 hat dabei auch eine Umkehrung der Strömungsrichtung (Pfeile 80, 82 und 84) zur Folge. Die Umkehrung der Drehrichtung des Rotors 42 bewirkt insbesondere auch, dass während des momentanen Stillstandes des Rotors 42 im Nulldurchgang der Bewegung diejenigen Flüssigkeitsanteile, die sich in Ecken, Sackbohrungen und dergleichen der Körbe 50 befinden, durch Schwerkrafteinfluss auslaufen können, um dann im anschließenden Trocknungsintervall abgetrocknet zu werden.
  • In 1 ist mit 86 noch angedeutet, dass eine Innenwand 85 der vorderen Seitenwand 18 mit Leitelementen 86 versehen sein kann, um die schraubenförmige Leitung des Gases innerhalb der Behandlungskammer 40 zu unterstützen. Derartige Leitelemente 86 können selbstverständlich auch auf den anderen Innenwänden der Behandlungskammer 40 vorgesehen sein.
  • 4 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung mit einer Reinigungsvorrichtung 90 und einer in der Draufsicht rechteckigen Behandlungskammer 91. Auch hier ist ein Rotor 92 für Körbe 94 vorgesehen, ebenso wie ein Kondensationstrockner 95 in der Behandlungskammer 91. Insofern besteht Übereinstimmung mit dem Ausführungsbeispiel gemäß den 1 bis 3.
  • Das Besondere beim Ausführungsbeispiel gemäß 4 besteht in Folgendem:
    Zum einen ist die Reinigungsvorrichtung 90 mit einer weiteren Sprühdüse 96 versehen. Diese Sprühdüse 96 befindet sich in der in 4 durchgezogen eingezeichneten Stellung in einer zurückgezogenen Position außerhalb der Bewegungsbahn des Rotors 92, so dass dieser ungestört von der Sprühdüse 96 rotieren kann.
  • Um nun auch Innenseiten 98 der Körbe 94 effektiv reinigen zu können, kann der Rotor 92 während oder am Ende des Reinigungsvorganges angehalten werden, und zwar in einer Drehlage, in der jeweils ein Korb 94 oder mehrere übereinander angeordnete Körbe 94 sich unmittelbar vor der Sprühdüse 96 bzw. mehreren übereinander angeordneten Sprühdüsen 96 befindet. Die Sprühdüse 96 fährt nun in die in 4 strichpunktiert eingezeichnete vorgefahrene Stellung vor, um bei stillstehendem Rotor 92 die Innenseite 98 des Korbes 94 auszusprühen. Die Sprühdüse 96 fährt dann wieder zurück, der Rotor 92 dreht sich um 90° und die Sprühdüse 96 fährt wieder vor, um den nächsten Korb 94 derselben Ebene auf dessen Innenseite auszusprühen, usw.
  • Auf diese Weise werden daher die Körbe 94 nicht nur außen, sondern auch innen höchst effektiv gereinigt und ggf. gespült.
  • Die zweite Besonderheit beim Ausführungsbeispiel gemäß 4 besteht darin, dass lediglich eine Tür 100 in einer Seitenwand vorgesehen ist. Ein Doppelpfeil 102 symbolisiert in 4, dass sowohl die Beladung wie auch die Entladung der Körbe 94 in diesem Fall durch dieselbe Tür 100 in deren geöffnetem Zustand 100' geschieht.
  • Es versteht sich, dass die Erfindung nicht auf die vorstehend dargelegten Ausführungsbeispiele beschränkt ist.
  • So kann alternativ vorgesehen sein, den Kondensationstrockner nicht in einer Seitenwand unterzubringen, sondern z.B. am Boden oder der Decke der Behandlungskammer. Ferner ist nicht zwingend, dass der Rotor um eine vertikale Achse drehbar ist, weil auch horizontale Drehachsen denkbar sind.

Claims (26)

  1. Vorrichtung zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, in der die Gegenstände in einer Behandlungskammer (40; 91) mittels einer Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, und in der Behandlungskammer (40; 91) Mittel zum Bewegen eines Gases innerhalb der Behandlungskammer (40; 91) vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungskammer (40; 91) abschließbar ist, dass die Mittel das Gas in der geschlossenen Behandlungskammer (40; 91) umwälzen, und dass in der Behandlungskammer (40; 91) ferner ein Kondensationstrockner (64; 95) für das Gas vorgesehen ist.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass neben der Behandlungskammer (40) ein Wärmetauscher (72) angeordnet ist, und dass der Kondensationstrockner (64) über einen geschlossenen Kreislauf an den Wärmetauscher (72) angeschlossen ist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Kondensationstrockner (64; 95) über einen Zuleitungsanschluss (74) mit einer externen Kühlmittelquelle verbunden ist.
  4. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Kondensationstrockner (64; 95) mindestens eine Kondensatorplatte (66a–66i) aufweist.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Kondensatorplatten (66a–66i) in Parallelschaltung an eine Zuleitung (68) bzw. an eine Ableitung (70) für ein Kühlmittel angeschlossen sind.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) auf einem um eine Achse (17) drehbaren Rotor (42) angeordnet sind, und dass die mindestens eine Kondensatorplatte (66a–66i) um einen vorbestimmten Winkel (α) zu einer Radialebene der Achse (17) geneigt angeordnet ist.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass auf einer Innenwand (85) der Behandlungskammer (40; 91) zu der Radialebene geneigte Leitelemente (86) angeordnet sind.
  8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass an einer Innenwand (85) der Behandlungskammer (40; 91) Sprühdüsen (60a–60c) für eine Reinigungs- oder Spülflüssigkeit angeordnet sind.
  9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungskammer (40; 91) im Wesentlichen quaderförmig ausgebildet ist, und dass die Sprühdüsen (60a–60c) im Bereich von Ecken (61a–61c) der Behandlungskammer (40; 91) angeordnet sind.
  10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) auf einem um eine Achse (17) drehbaren Rotor (42; 92) angeord net sind, dass die Achse (17) im Wesentlichen im Zentrum der Behandlungskammer (40; 91) verläuft, und dass die Sprühdüsen (60a–60c) auf die Achse (17) gerichtet sind.
  11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine weitere Sprühdüse (96) vorgesehen ist, die bei rotierendem Rotor (92) in einer zurückgezogenen Stellung (92) außerhalb des Rotors (92) gehalten und bei stillstehendem Rotor (92) in Radialrichtung in eine vorgefahrene Stellung (92') im Bereich der im Rotor (92) gehaltenen Gegenstände hinein verfahrbar ist.
  12. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass in der Behandlungskammer (40; 91) Infrarot-Strahler (62a–62c) zum Trocknen der Gegenstände vorgesehen sind.
  13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Infrarot-Strahler (62a) im Zentrum der Behandlungskammer (40; 91) vorgesehen ist.
  14. Vorrichtung nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Infrarot-Strahler (62b, 62c) an einer Innenwand (85) der Behandlungskammer (40; 91) vorgesehen ist.
  15. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 12 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Infrarot-Strahler (62a–62c) nicht auf den Kondensationstrockner (64; 95) gerichtet sind.
  16. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Behandlungsraum (40) im Horizontalschnitt im Wesentlichen rechteckförmig und über zwei, in einander gegenüberliegenden Seitenwänden (22, 24) angeordnete Türen (36, 38) zugänglich ist.
  17. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Behandlungsraum (91) im Horizontalschnitt im Wesentlichen rechteckförmig und nur über eine, in einer Seitenwand angeordnete Tür (100) zugänglich ist.
  18. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände Körbe (50; 94) für Halbleitererzeugnisse sind.
  19. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände Halbleitererzeugnisse sind.
  20. Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19 , dadurch gekennzeichnet, dass die Halbleitererzeugnisse Wafer sind.
  21. Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Halbleitererzeugnisse LCD-Substrate sind.
  22. Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Halbleitererzeugnisse Fotomasken sind.
  23. Verfahren zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, bei dem die Gegenstände in einer Behandlungskammer (40; 91) mittels eine Flüssigkeit gereinigt und anschließend getrocknet werden, wobei innerhalb der Behandlungskammer (40; 91) ein Gas bewegt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungskammer (40; 91) abgeschlossen wird, und dass das Gas innerhalb der geschlossenen Behandlungskammer (40; 91) umgewälzt und mittels Kondensation getrocknet wird.
  24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) um eine Achse (17) gedreht werden und dass das Gas in einer Richtung geleitet wird, die zu einer Radialebene der Achse (17) um einen vorbestimmten Winkel (α) geneigt ist.
  25. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) um eine Achse (17) gedreht und besprüht werden.
  26. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenstände in der Behandlungskammer (40; 91) raumfest gehalten und auf einer Innenseite (98) besprüht werden.
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