DE10215284A1

DE10215284A1 - Drying substrates following immersion in treatment fluid, employs dipping carrier system which moves substrate between positions on carrier holder

Info

Publication number: DE10215284A1
Application number: DE10215284A
Authority: DE
Inventors: Matthias Niese; Joerg Franzke
Original assignee: Astec Halbleitertechnologie GmbH
Current assignee: Astec Halbleitertechnologie GmbH
Priority date: 2002-04-05
Filing date: 2002-04-05
Publication date: 2003-10-30
Anticipated expiration: 2022-04-06
Also published as: DE10215284B4

Abstract

The carrier (T) is moved relative to the treatment fluid surface (FO), bringing the carrier counter section (4) completely above the surface with the carrier (2, 3) immersed in the fluid. The substrate (S) is raised from the immersed carrier by means of a first lifter. The substrate, on a carrier holder, is displaced into a second position. Further relative movement takes place between carrier and the surface of the treatment fluid, until the carrier is fully above the surface of the treatment fluid. The substrate is supported on the carrier over the fluid surface and is displaced in the holder on the carrier back into the first position. An Independent claim is included for corresponding equipment.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Trocknen von Substraten. The invention relates to a method and an apparatus for Drying substrates.

Aus der US 4,772,752 sind ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Spülen und Trocknen von Substraten bekannt. Dabei sind die Substrate in einem Träger aufgenommen, der am Boden einen Durchbruch aufweist. Der Träger wird mittels einer ersten Hubeinrichtung in ein Behandlungsbad eingetaucht. Zum Herausgeben der Substrate aus dem Behandlungsbad wird ein Hubelement einer zweiten Hubeinrichtung angehoben, das den bodenseitigen Durchbruch des Trägers durchgreift und die Substrate aus dem Träger heraus und über die Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit heraushebt. Das Herausheben der Substrate erfolgt so langsam, dass daran anhaftende Behandlungsflüssigkeit vollständig abgezogen wird. Sobald die Substrate vollständig aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben worden sind, wird mittels der ersten Hubeinrichtung der Träger ebenfalls langsam aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben, so dass auch daran anhaftende Behandlungsflüssigkeit vollständig abgezogen wird. Der Träger wird soweit angehoben, dass darin anschließend die Substrate wieder aufgenommen werden. A method and an apparatus are known from US Pat. No. 4,772,752 known for rinsing and drying substrates. Are there the substrates received in a carrier, the one at the bottom Breakthrough. The carrier is by means of a first Lifting device immersed in a treatment bath. To the The substrates are released from the treatment bath Lifting element of a second lifting device raised the penetrates through the bottom of the support and the substrates out of the carrier and over the surface of the Lifting out treatment liquid. Lifting out the substrates takes place so slowly that adhering to it Treatment liquid is completely withdrawn. Once the substrates completely lifted out of the treatment liquid are the carrier by means of the first lifting device also slowly lifted out of the treatment liquid, so that treatment liquid adhering to it is completely subtracted. The carrier is raised so far that the substrates are then taken up again become.

Das bekannte Verfahren ist zeitaufwendig, weil nacheinander die Substrate und dann der Träger getrocknet werden. Beim Verfahren werden in der Behandlungsflüssigkeit mitunter Gasbläschen gebildet oder erzeugt. Diese können an der Oberfläche der Substrate anhaften. Es kann infolgedessen insbesondere bei dünnen Substraten ein Auftrieb entstehen, welcher die Substrate aus dem Träger heraushebt. Beim Herausheben der im Träger aufgenommenen Substrate können diese außerdem unerwünschterweise aneinanderliegen. Dabei kann Behandlungsflüssigkeit herausgeschleppt werden. Ein kontrolliertes rückstandsfreies Trocknen findet an den Kontaktstellen nachteiligerweise nicht statt. The known method is time-consuming because one after the other the substrates and then the carrier are dried. At the Procedures are sometimes in the treatment liquid Gas bubbles formed or generated. These can be found at the Adhere to the surface of the substrates. As a result, it can in the case of thin substrates in particular, a buoyancy arises which Lift substrates out of the carrier. When lifting the im Substrates that have been received by carriers can also do this undesirably against each other. It can Treatment liquid be dragged out. A controlled one residue-free drying takes place at the contact points disadvantageously not taking place.

Aus der DE 195 46 990 C2 ist ein ähnliches Verfahren bekannt. Dabei wird zum Trocknen des Trägers nach dem vollständigen Herausheben der Substrate aus der Behandlungsflüssigkeit diese abgepumpt. Anschließend werden die Substrate wieder im getrockneten Träger aufgenommen. A similar method is known from DE 195 46 990 C2. Doing so will dry the carrier after complete Lifting the substrates out of the treatment liquid pumped this out. Then the substrates are again in the dried carrier added.

Bei dem aus der WO 98/14282 bekannten Verfahren ist zusätzlich ein Tropfen-Ableitelement vorgesehen, mit dem eventuell an der Unterkante der Substrate hängende Tropfen beim Herausheben derselben über der Flüssigkeitsoberfläche abgeleitet werden können. In the method known from WO 98/14282 In addition, a droplet discharge element is provided, with which possibly drops hanging on the lower edge of the substrates Lifting them out over the surface of the liquid can be.

Bei den beiden vorgenannten Verfahren werden die Substrate zum Trocknen vollständig vom Träger abgehoben und in ein Aufnahmeelement geschoben. Sie werden nach dem Trocknen des Trägers wieder auf diesem abgestützt. Diese Verfahren bergen das Risiko von Fehlfunktionen. Es kann beim Überführen in das Aufnahmeelement zum Verkanten oder zum Bruch von Substraten kommen. Durch die Gleitbewegung innerhalb des Aufnahmeelements können sich Partikel lösen; es kann zu unerwünschten Kontaminationen auf der Oberfläche der Substrate kommen. In the two aforementioned methods, the substrates to dry completely lifted off the carrier and into one Receiving element pushed. You will after drying the Carrier supported on this again. These procedures hide that Risk of malfunction. It can when transferring to that Receiving element for tilting or breaking substrates come. Due to the sliding movement within the Particle can loosen particles; it can become undesirable Contamination comes on the surface of the substrates.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung anzugeben, mit denen die Nachteile nach dem Stand der Technik beseitigt werden. Es soll insbesondere ein Verfahren angegeben werden, bei dem auf einfache Weise ein unerwünschtes Herausheben von Substraten aus dem Träger vermieden werden kann. Außerdem soll beim Herausheben des Trägers aus der Behandlungsflüssigkeit ein Aneinanderliegen der Substrate vermieden werden. Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens bereitzustellen, die möglichst einfach aufgebaut ist. The object of the invention is a method and Specify device with which the disadvantages of the prior art Technology to be eliminated. In particular, it is supposed to be a procedure can be specified in a simple manner unwanted lifting of substrates from the carrier avoided can be. In addition, when lifting the carrier out of the Treatment liquid an abutting of the substrates be avoided. Another object of the invention is a device for performing the method provide that is as simple as possible.

Die verfahrensseitige Aufgabe wird mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Zweckmäßige Ausgestaltungen ergeben sich aus den Merkmalen der Ansprüche 2 bis 18. The procedural task is with the characteristics of Claim 1 solved. Appropriate configurations result from the features of claims 2 to 18.

Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht ein vollständiges Trocknen der Substrate. Gleichzeitig wird ein Herausheben der in die Behandlungsflüssigkeit eingetauchten Substrate aus dem Träger sicher vermieden. Ein Aneinanderliegen beim Herausheben wird ebenfalls vermieden. The method according to the invention enables a complete Drying the substrates. At the same time, lifting the substrates immersed in the treatment liquid from the Carrier safely avoided. A clash at Lifting out is also avoided.

Nach einer Ausgestaltung sind das Trägerelement und die Haltevorrichtung beim Verschieben der Substrate von der zweiten Position in die erste Position trocken. Damit wird verhindert, dass eventuell am Trägerelement anhaftende Behandlungsflüssigkeit die Substrate nach dem Herausheben wieder benetzt. Eine durch eine solche Benetzung verursachte unerwünschte Kontamination der Substrate wird vermieden. According to one embodiment, the carrier element and the Holding device when moving the substrates from the second Position in the first position dry. So that will prevents any adhering to the carrier element Treatment liquid the substrates after lifting out again wetted. One caused by such wetting unwanted contamination of the substrates is avoided.

Zweckmäßigerweise werden die Substrate zwischen der ersten und zweiten Position mittels der ersten Hubeinrichtung um höchstens 10 mm, vorzugsweise 3 bis 5 mm, verschoben. Die vorerwähnten Merkmale ermöglichen die Durchführung des Verfahrens mit einer konstruktiv besonders einfach ausgeführten Vorrichtung. The substrates are expediently placed between the first and second position by means of the first lifting device at most 10 mm, preferably 3 to 5 mm, shifted. The The aforementioned features enable the implementation of the Process with a particularly simple design Contraption.

Nach einer weiteren Ausgestaltung werden die Substrate kontinuierlich angehoben. An den Substraten anhaftende Behandlungsflüssigkeit wird in einer kontinuierlichen Bewegung abgezogen. Damit wird verhindert, dass sich an der Grenzlinie der Behandlungsflüssigkeit zum Substrat Kontaminationen anreichern und auf dem Substrat ablagern können. According to a further embodiment, the substrates continuously raised. Adhesive to the substrates Treatment liquid is in a continuous movement deducted. This prevents them from crossing the border line the treatment liquid to the substrate contaminations can accumulate and deposit on the substrate.

Nach einer weiteren Ausgestaltung werden die Substrate so langsam angehoben, dass ein daran anhaftender Behandlungsflüssigkeitsfilm bis zum Abheben des Substrats von der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit stets in Verbindung der im Behandlungsbecken aufgenommenen Behandlungsflüssigkeit bleibt. Es wird so die Bildung isolierter Tropfen auf der Oberfläche der Substrate vermieden. Bei einer Verdunstung derartiger Tropfen besteht die Gefahr, dass Kontaminationen auf der Oberfläche des Substrats zurückbleiben. According to a further embodiment, the substrates are like this slowly raised that an adherent Treatment liquid film until the substrate is lifted off the Surface of the treatment liquid always in conjunction with the Treatment basin absorbed treatment liquid remains. This will result in the formation of isolated drops on the Avoid surface of the substrates. With evaporation Such drops pose a risk of contamination remain on the surface of the substrate.

Es hat sich als zweckmäßig erwiesen, dass die Geschwindigkeit beim Herausheben zwischen 0,1 und 20 mm/sec, vorzugsweise zwischen 0,5 mm/sec und 3,0 mm/sec, beträgt. Bei einer solchen Geschwindigkeit kann in der Regel ein unerwünschtes Abreißen des am Substrat anhaftenden Behandlungsflüssigkeitsfilms vermieden werden. It has proven useful that the speed when lifting between 0.1 and 20 mm / sec, preferably between 0.5 mm / sec and 3.0 mm / sec. At a Such speed can usually be an undesirable one Tear off the adhesive adhering to the substrate Treatment liquid film can be avoided.

Zweckmäßigerweise werden die Substrate mittels der ersten Hubeinrichtung vollständig aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben. Damit kann erreicht werden, dass die Substrate bereits vollständig trocken sind, wenn sie nachfolgend wieder vom Träger übernommen werden. The substrates are expediently formed using the first Lifting device completely out of the treatment liquid lifted. It can be achieved that the substrates are already completely dry when they come back again be taken over by the carrier.

Nach einer weiteren besonders vorteilhaften Ausgestaltung weist das Trägergegenelement eine weitere Haltevorrichtung auf. In diesem Fall werden die Substrate beim Schritt lit. b in der weiteren Haltevorrichtung von einer ersten in eine zweite Position und beim Schritt lit. d von der zweiten in die erste Position verschoben. Die Substrate werden in diesem Fall also zu jedem Zeitpunkt während des Heraushebens sowohl am Trägerelement als auch am Trägergegenelement in Haltevorrichtungen gehalten. Damit wird sichergestellt, dass die Substrate jederzeit in einer vertikalen voneinander beabstandeten parallelen Position im Träger gehalten werden. According to a further particularly advantageous embodiment the carrier counter element has a further holding device on. In this case, the substrates in step lit. b in the further holding device from a first to a second position and at step lit. d from the second in moved the first position. The substrates are in this So fall at any point during both lifting on the carrier element as well as on the carrier counter element in Holding devices held. This ensures that the Substrates at any time in a vertical from each other spaced parallel position are held in the carrier.

Die Haltevorrichtung und/oder die weitere Haltevorrichtung können aus nebeneinander liegenden Zähnen oder schlitzartigen Ausnehmungen gebildet sein. The holding device and / or the further holding device can be from adjacent teeth or slit-like Recesses are formed.

Vorteilhafterweise ist/sind das Trägergegenelement und ggf. die daran vorgesehene weitere Haltevorrichtung beim Schritt lit. b trocken. So wird eine unerwünschte Benetzung der bereits trockenen Substrate sicher vermieden. Advantageously, the carrier counter element and / or the additional holding device provided on the crotch lit. b dry. So an undesirable wetting of the already dry substrates safely avoided.

An einer Unterkante der Substrate eventuell hängende Tropfen können mittels eines sich von der Substratstützleiste erstreckenden Tropfenableitelements abgeleitet werden. Auch diese Maßnahme stellt ein vollständiges und kontaminationsfreies Trocknen der Substrate sicher. Any droplets hanging from a lower edge of the substrates can from the substrate support bar extending droplet discharge elements are derived. Also this measure represents a complete and contamination-free drying of the substrates safely.

Nach einer weiteren besonders vorteilhaften Ausgestaltung ist zur Erzeugung der Relativbewegung eine zweite den in die Behandlungsflüssigkeit eingetauchten Träger tragende Hubeinrichtung vorgesehen, mittels derer der Träger angehoben wird. Die Bewegung der ersten Hubeinrichtung relativ zur ersten Hubeinrichtung kann mittels einer Steuereinrichtung gesteuert werden, die eine fest am Behandlungsbecken angebrachte Kulissenführung aufweist. Zweckmäßigerweise weist die erste Hubeinrichtung zwei parallel zu einem an der zweiten Hubeinrichtung vorgesehenen Hubarm verlaufende Wellen auf, an denen endständig jeweils ein Hebel vorgesehen ist, der zum Drehen der Wellen um einen vorgegebenen Winkel mit daran vorgesehenen Zapfen in die Kulissenführung eingreift. Eine solche Steuereinrichtung kann ohne großen Aufwand realisiert werden. Zur Betätigung der ersten Hubeinrichtung sind keine gesonderten Motoren oder Pneumatikzylinder erforderlich. Das vorgeschlagene Verfahren kann mittels einer konstruktiv besonders einfach ausgeführten Vorrichtung realisiert werden. According to a further particularly advantageous embodiment to generate the relative movement a second in the Carrying treatment liquid immersed carrier Lifting device is provided, by means of which the carrier is raised. The movement of the first lifting device relative to the first Lifting device can be controlled by means of a control device be fixed to the treatment pool Backdrop guide. The first expediently points Lifting device two parallel to one on the second Lifting device provided on extending arm on which a lever is provided at the end for rotating the waves at a predetermined angle with it provided provided engages in the link guide. Such Control device can be implemented with little effort. There are none for actuating the first lifting device separate motors or pneumatic cylinders required. The The proposed method can be particularly constructive simply implemented device can be realized.

Nach einer weiteren Ausgestaltung weist die erste Hubeinrichtung eine Aufnahme für den Träger auf. Die Aufnahme kann an den Wellen befestigte Aufnahmehebel zum Heben und Senken des darauf aufgenommenen Trägers aufweisen. So kann der Träger zum Abstützen der Substrate auf dem Trägerelement beim Schritt lit. d mittels der ersten Hubeinrichtung abgesenkt werden. According to a further embodiment, the first one Lifting device on a holder for the carrier. The recording can start mounting shafts attached to the shafts for lifting and lowering the have carrier recorded thereon. So the wearer can to support the substrates on the carrier element Step lit. d lowered by means of the first lifting device become.

Ferner weist die erste Hubeinrichtung vorteilhafterweise eine fest am Hubarm angebrachte Substratstützleiste auf, auf der die Substrate bei relativ zum Hubarm abgesenktem Träger abgestützt werden können. Furthermore, the first lifting device advantageously has one on the lifting arm attached substrate support bar on the the substrates with the support lowered relative to the lifting arm can be supported.

Nach einer alternativen Ausführungsform kann zur Erzeugung der Relativbewegung auch Behandlungsflüssigkeit aus dem Behandlungsbecken entfernt werden. Dazu kann z. B. am Boden des Behandlungsbeckens ein Ablauf mit einem steuerbaren Ventil vorgesehen sein. Durch entsprechende Ansteuerung des Ventils kann eine kontinuierliche Absenkung der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit relativ zum z. B. auf den Boden des Behandlungsbeckens abgestellten Träger erreicht werden. Die erste Hubeinrichtung ist in diesem Fall ebenfalls im Bereich des Bodens des Behandlungsbeckens unterhalb des Trägers angebracht. According to an alternative embodiment can be used for generation the relative movement also treatment liquid from the Treatment basins are removed. For this, e.g. B. at the bottom of the Treatment basin an outlet with a controllable valve be provided. By controlling the valve accordingly can continuously lower the surface of the Treatment liquid relative to the z. B. on the bottom of the Treatment pool can be reached. The the first lifting device is also in the area in this case the bottom of the treatment basin below the carrier appropriate.

Die vorrichtungsseitige Aufgabe der Erfindung wird mit den Merkmalen des Anspruchs 19 gelöst. Zweckmäßige Ausgestaltungen ergeben sich aus den Merkmalen der Ansprüche 20 bis 55. The device-side object of the invention is achieved with the Features of claim 19 solved. expedient Refinements result from the features of claims 20 to 55.

Die vorgeschlagene Vorrichtung ist besonders einfach und kompakt ausgebildet. The proposed device is particularly simple and compact design.

Nach einer Ausgestaltung ist eine Steuereinrichtung zur Steuerung der Bewegung der ersten Hubeinrichtung relativ zur zweiten Hubeinrichtung vorgesehen. Mittels der Steuereinrichtung ist die Bewegung der ersten Hubeinrichtung relativ zur zweiten Hubeinrichtung zweckmäßigerweise derart steuerbar, dass die Substrate im Träger vom Trägerelement abgehoben und in einer am Trägerelement vorgesehenen Haltevorrichtung von einer ersten Position in eine zweite Position verschiebbar sind, wenn ein Trägergegenelement sich vollständig oberhalb einer Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit befindet und das Trägerelement in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht ist, und die Substrate in der Haltevorrichtung von der zweiten Position wieder in die erste Position verschiebbar und auf das Trägerelement abstützbar sind, wenn das Trägerelement oberhalb der Flüssigkeitsoberfläche sich befindet. Eine solche Steuereinrichtung ermöglicht ein vollständig trockenes Herausheben der Substrate aus der Behandlungsflüssigkeit. According to one embodiment, a control device for Control the movement of the first lifting device relative to second lifting device provided. By means of the Control device is the movement of the first lifting device relative to expediently controllable in the second lifting device, that the substrates in the carrier are lifted off the carrier element and in a holding device provided on the carrier element a first position in a second position are when a carrier counter element is completely above is a surface of the treatment liquid and that Carrier element is immersed in the treatment liquid, and the substrates in the holding device from the second Position can be moved back to the first position and on the Support element can be supported when the support element is above the surface of the liquid. Such Control device allows a completely dry Lifting the substrates out of the treatment liquid.

Bei einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung weist die Steuereinrichtung eine fest am Behandlungsbecken angebrachte Kulissenführung auf. Die erste Hubeinrichtung weist zweckmäßigerweise zwei parallel zu einem an der ersten Hubeinrichtung vorgesehenen Hubarm verlaufende Wellen auf, an denen endständig jeweils ein Hebel vorgesehen ist, der zum Drehen der Wellen um einen vorgegebenen Winkel mit daran vorgesehenen Zapfen in die Kulissenführung eingreift. Eine solche mechanische Steuerung der ersten Hubeinrichtung ist besonders einfach realisierbar. Sie ist reparaturunanfällig. In a particularly advantageous embodiment, the Control device a permanently attached to the treatment basin Backstage tour. The first lifting device has expediently two parallel to one on the first Lifting device provided on extending arm on which a lever is provided at the end for rotating the waves at a predetermined angle with it provided provided engages in the link guide. Such mechanical control of the first lifting device is special easy to implement. It is not susceptible to repairs.

Die erste Hubeinrichtung kann eine Aufnahme für den Träger aufweisen, wobei die Aufnahme an den Wellen befestigte Aufnahmehebel zum Heben und Senken des darauf aufgenommenen Trägers aufweisen kann. Die erste Hubeinrichtung kann ferner eine fest am Hubarm angebrachte Substratstützleiste aufweisen. Zweckmäßigerweise ist der Träger mittels der Aufnahmehebel relativ zur Substratstützleiste in der Höhe um höchstens 10 mm, vorzugsweise um 3 bis 5 mm, bewegbar. Mit den vorerwähnten Merkmalen kann die Vorrichtung besonders einfach und effizient ausgestaltet werden. The first lifting device can accommodate the carrier have, the receptacle attached to the shafts Pick-up lever for lifting and lowering the pick-up on it Carrier can have. The first lifting device can also have a substrate support bar fixedly attached to the lifting arm. The carrier is expediently by means of the receiving lever relative to the substrate support bar in height by at most 10 mm, preferably by 3 to 5 mm, movable. With the The aforementioned features, the device can be particularly simple and be designed efficiently.

Nach einer weiteren Ausgestaltung ist an der Substratstützleiste ein sich davon erstreckendes Tropfenableitelement vorgesehen. Bei einem solchen Tropfenableitelement kann es sich um eine flexible Kunststoffzunge handeln, welche an einem tiefsten Punkt der Substrate anliegt, wenn diese auf der Substratstützleiste abgestützt sind. Die Substratstützleiste kann nach Art eines U-Profils mit zwei parallel zueinander angeordneten Stützschenkeln ausgebildet sein. Ein die Stützschenkel verbindender Boden des U-Profils kann eine Vielzahl von Durchbrüchen aufweisen. Das gewährleistet ein Ablaufen der Behandlungsflüssigkeit beim Herausheben der Substratstützleiste. According to a further embodiment, the Substrate support bar a droplet discharge element extending therefrom intended. With such a droplet discharge element, it can be are a flexible plastic tongue, which on one lowest point of the substrates, if this is on the Substrate support bar are supported. The substrate support bar can be in the form of a U-profile with two parallel to each other arranged support legs can be formed. A the Support leg connecting bottom of the U-profile can be a variety of breakthroughs. This ensures that it runs off the treatment liquid when lifting the Substrate supporting strip.

Die Substratstützleiste ist zweckmäßigerweise aus einem besonders verschleißfesten Kunststoff, vorzugsweise aus Ultem (Bitte genaue Bezeichnung angeben!), hergestellt. Dadurch wird eine Beschädigung der Substratstützleiste durch das wiederkehrende Abstützen von scharfkantigen Substraten vermieden. The substrate support strip is advantageously made of one particularly wear-resistant plastic, preferably made of Ultem (Please give exact description!), Manufactured. Thereby will damage the substrate support bar by the recurring support of sharp-edged substrates avoided.

Das Trägerelement und das Trägergegenelement können mindestens zwei einander gegenüberliegende Wände des Trägers verbinden. Das Trägergegenelement ist zweckmäßigerweise bezüglich des Trägerelements so angeordnet oder ausgebildet, dass damit eine Bewegung der Substrate in Vertikalrichtung begrenzbar ist, und die Substrate lediglich schräg bezüglich der Vertikalrichtung be- bzw. entladbar sind. Ein solcher Träger lässt sich einfach handhaben. Es wird gleichzeitig damit ein Aufschwimmen der Substrate in der Behandlungsflüssigkeit sicher vermieden. The carrier element and the carrier counter element can at least two opposite walls of the beam connect. The carrier counter element is expedient arranged or designed with respect to the carrier element such that thus a movement of the substrates in the vertical direction is limited, and the substrates only obliquely with respect the vertical direction can be loaded or unloaded. Such a Carrier is easy to handle. It will be at the same time thus a floating of the substrates in the Treatment liquid safely avoided.

Das Trägerelement kann als Haltemittel schlitzartige Ausnehmungen oder Zähne aufweisen. Die Zähne sind zweckmäßigerweise so auf dem Trägerelement angebracht, dass ein Zahngrund der Zähne auf der oberen Scheitellinie des Trägerelements liegt. Das Trägergegenelement kann in Richtung des Trägerelements weisende als schlitzartige Ausnehmungen oder Zähne ausgebildete weitere Haltemittel aufweisen. Die Zähne können so auf dem Trägergegenelement angebracht sein, dass ein Zahngrund der Zähne auf einer unteren Scheitellinie des Trägergegenelements liegt. Die vorgeschlagene Ausbildung der Haltemittel gewährleistet, dass Behandlungsflüssigkeit beim Herausheben der Haltemittel schnell und zuverlässig davon abläuft, auch wenn die Substrate zumindest teilweise in die Haltemittel eingreifen. The carrier element can be slit-like as a holding means Have recesses or teeth. The teeth are convenient mounted on the carrier element so that a tooth base of the Teeth lie on the upper apex line of the carrier element. The carrier counter element can in the direction of the carrier element pointing as slot-like recesses or teeth have trained further holding means. The teeth can be so be attached to the carrier counter element that a tooth base the teeth on a lower vertex of the Carrier counter element lies. The proposed design of the holding means ensures that the treatment liquid is lifted out the holding means runs off quickly and reliably, too if the substrates are at least partially in the holding means intervention.

Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung ist das Trägergegenelement bezüglich des Trägerelements so angeordnet oder ausgebildet, dass die Substrate stets in den Haltemitteln und/oder den weiteren Haltemitteln gehalten werden. Der Abstand des Trägergegenelements zum Trägerelement ist durch die Geometrie und Größe der Substrate vorgegeben. Indem die Substrate gleichzeitig in die Haltemittel und die weiteren Haltemittel eingreifen, wird stets eine vertikale parallele Ausrichtung der Substrate gewährleistet, wobei diese sich während des Heraushebens aus der Behandlungsflüssigkeit zu keinem Zeitpunkt berühren können. Bei einer Berührung der Substrate kann es unerwünschterweise zu einem Herausschleppen von Behandlungsflüssigkeit zwischen zwei aneinanderliegenden Substraten kommen. According to a further advantageous embodiment, this is Carrier counter element arranged with respect to the carrier element or designed that the substrates are always in the Holding means and / or the further holding means are held. The Distance of the carrier counter element to the carrier element is through predefined the geometry and size of the substrates. By the Substrates simultaneously in the holding means and the others Intervention holding means, is always a vertical parallel Alignment of the substrates ensured, this is during removal from the treatment liquid cannot touch at any time. When touching the Substrates can undesirably be dragged out of treatment liquid between two adjacent Substrates come.

Nach einem weiteren Ausgestaltungsmerkmal weist das Trägerelement einen im wesentlichen vertikal nach unten sich erstreckenden Ablaufsteg auf. In ähnlicher Weise kann das Trägergegenelement einen im wesentlichen vertikal nach oben sich erstreckenden weiteren Ablaufsteg aufweisen. Eine Breite des Ablauflaufstegs und/oder des weiteren Ablaufstegs kann zur Mitte des Trägerelements bzw. des Trägergegenelements hin zunehmen. Die vorgenannten Merkmale erleichtern ein vollständiges Ablaufen von Behandlungsflüssigkeit vom Trägerelement bzw. Trägergegenelement. According to a further design feature, the Carrier element a substantially vertically down extending drain bar. Similarly, it can Carrier counter element a substantially vertically upwards have extending further drain web. A width of the Runway and / or the further runway can Center of the support element or the support counter element increase. The above features make it easier complete drainage of treatment liquid from the carrier element or carrier counter element.

Nach einer weiteren Ausgestaltung können die Kanten der Wände abgeschrägt sein. Zweckmäßigerweise fallen die Unterkanten der Wände beidseits einer mittig angeordneten U-förmigen ersten Ausnehmung schräg ab. Ein wesentlicher Abschnitt der Seitenkanten der Wände verläuft vorteilhafterweise vertikal. Auch diese Merkmale tragen zu einem erleichtertem Ablaufen von Behandlungsflüssigkeit vom Träger bei. According to a further embodiment, the edges of the walls beveled. The lower edges expediently fall the walls on both sides of a centrally arranged U-shaped first recess obliquely. An essential section of the Side edges of the walls advantageously run vertically. These features also make the process easier of treatment liquid from the carrier.

Die Seitenkanten können in einem oberen Abschnitt in einander gegenüberliegende Anordnung zweite Ausnehmungen zum Eingriff einer Greifvorrichtung aufweisen. Eine Oberkante der Wände kann eine dritte Ausnehmung zum Eingreifen einer Be- bzw. Entladevorrichtung für Substrate aufweisen. Die dritte Ausnehmung wird zweckmäßigerweise durch wenigstens zwei schräg zu den Seitenkanten verlaufende Ausnehmungskanten begrenzt. Diese Merkmale ermöglichen ein schräges Be- bzw. Entladen der Substrate bei aus dem Behandlungsbad herausgehobenem Träger. Gleichzeitig wird ein Aufschwimmen der Substrate im Behandlungsbad vermieden. Bei in das Behandlungsbad eingetauchtem Träger stoßen die Substrate bei einer Schrägbewegung an der Wand des Behandlungsbeckens an. Sie werden im Behandlungsbad jederzeit sicher im Träger gehalten. The side edges can be in one another in an upper section opposite arrangement second recesses for engagement have a gripping device. An upper edge of the walls can a third recess for engaging a loading or Have unloading device for substrates. The third The recess is expediently inclined by at least two recessed edges running to the side edges are limited. These features enable an oblique loading or unloading of the Substrates with the carrier lifted out of the treatment bath. At the same time, floating of the substrates in the Treatment bath avoided. When immersed in the treatment bath Carriers collide with the substrates during an oblique movement Wall of the treatment basin. You will be in the treatment bath held securely in the carrier at all times.

Das Trägerelement und/oder das Trägergegenelement können aus einer mit einem ersten Kunststoff ummantelten Versteifungsstruktur gebildet sein. Die Versteifungsstruktur kann aus einer mit Kohlefaser zweiten Kunststoff hergestellt sein. Diese Merkmale wirken einer Verformung des Trägerelements bzw. des Trägergegenelements entgegen. Es ist eine Benutzung eines solchen Trägers auch in heißen Behandlungsflüssigkeiten möglich. The carrier element and / or the carrier counter element can be made of one covered with a first plastic Stiffening structure to be formed. The stiffening structure can one made with carbon fiber second plastic. This Features act on a deformation of the carrier element or Supporting counter element. It is a use of a such carrier even in hot treatment liquids possible.

Nach einer weiteren Ausgestaltung können die Wände aus dem ersten Kunststoff hergestellt sein. Der erste Kunststoff ist zweckmäßigerweise gegen Säuren und Basen resistent. Er kann vorzugsweise aus der folgenden Gruppe ausgewählt sein: PFA, PTFE und PVDF. According to a further embodiment, the walls can be made from first plastic be made. The first plastic is expediently resistant to acids and bases. He can preferably be selected from the following group: PFA, PTFE and PVDF.

Nach einer weiteren konstruktiven Ausgestaltung verbinden vier Trägerelemente die Wände. Es können zwei untere Trägerelemente in der Nähe einer Unterkante der Wände und zwei obere Trägerelemente in der Nähe eines unteren Abschnitts der Seitenkanten der Wände angebracht sein. Das Trägergegenelement ist zweckmäßigerweise in der Nähe einer Oberkante der Seitenwände angebracht. Connect after another design four support elements the walls. There can be two lower ones Beam elements near a bottom edge of the walls and two upper support members near a lower portion of the Side edges of the walls should be attached. The Supporting counter element is expediently near an upper edge of the Side walls attached.

Nach einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung ist das Trägergegenelement bezüglich einer die Anordnung oder Ausbildung des/der Trägerelements/e betreffenden und parallel zu dieser/diesen verlaufenden Symmetrieebene versetzt angeordnet. Ein solcher Träger ist besonders einfach ausgestaltet. Er ist relativ kostengünstig herstellbar. According to a particularly advantageous embodiment, this is Carrier counter element with respect to the arrangement or training of the carrier element (s) and parallel to this / this running plane of symmetry is arranged offset. Such a carrier is particularly simple. He is relatively inexpensive to manufacture.

Nach einer weiteren - selbstständigen - vorrichtungsseitigen Lösung ist eine Vorrichtung zum Trocknen von Substraten vorgesehen, wobei die Substrate in einem mindestens ein Trägerelement sowie mindestens ein Trägergegenelement aufweisenden Träger aufgenommen sind, welcher in einer Behandlungsflüssigkeit eingetaucht ist, wobei eine Steuerung vorgesehen ist a) zum Erzeugen einer Relativbewegung zwischen dem Träger und einer Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit bis das Trägergegenelement sich vollständig oberhalb der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit findet und das Trägerelement in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht ist, b) zum Abheben der Substrate vom eingetauchten Trägerelement mittels einer ersten Hubeinrichtung, so dass die Substrate im Träger in einer am Trägerelement vorgesehenen Haltevorrichtung von einer ersten Position in eine zweite Position verschoben werden, c) zur Erzeugung einer weiteren Relativbewegungen zwischen dem Träger und der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit, bis das Trägerelement sich vollständig oberhalb der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit befindet, und d) zum Abstützen der Substrate auf das oberhalb der Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit befindliche Trägerelement, wobei die Substrate in der am Trägerelement vorgesehenen Haltevorrichtung von der zweiten Position wieder in die erste Position verschoben werden. After another - independent - device-side The solution is a device for drying substrates provided, the substrates in at least one Carrier element and at least one carrier counter element Carrier are included, which in a Treatment liquid is immersed, a controller being provided a) to generate a relative movement between the carrier and a surface of the treatment liquid until that Carrier counter element is completely above the surface of the Treatment liquid takes place and the carrier element in the Treatment liquid is immersed, b) to lift off the Substrates from the immersed carrier element by means of a first Lifting device, so that the substrates in the carrier in an am Carrier element provided holding device from a first Position are moved to a second position, c) to Generation of further relative movements between the Carrier and the surface of the treatment liquid until that Carrier element located completely above the surface of the Treatment liquid is located, and d) to support the Substrates on the above the surface of the Treatment liquid carrier element, the substrates in the holding device provided on the carrier element by the second position moved back to the first position become.

Bei der vorgenannten Vorrichtung kann die Steuereinrichtung sowohl die erste Hubeinrichtung als auch ein am Boden des Behandlungsbeckens vorgesehenes steuerbares Ventil steuern. Die Steuerung erfolgt derart, dass damit die vorgenannten Verfahrensschritte zum Trocknen der Substrate durchgeführt werden. Bei der Steuereinrichtung handelt es sich zweckmäßigerweise um eine programmierbare oder auch fest programmierte Steuerung, welche einen Mikroprozessor aufweist. In the aforementioned device, the control device both the first lifting device and one at the bottom of the Control the controllable valve provided in the treatment basin. The Control takes place in such a way that the aforementioned Process steps for drying the substrates are carried out. The control device is expediently around a programmable or also permanently programmed Control, which has a microprocessor.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen: Exemplary embodiments of the invention are described below of the drawings explained in more detail. Show it:

Fig. 1 eine Ansicht auf die Längsseite einer Vorrichtung, Fig. 1 is a view of the longitudinal side of an apparatus,

Fig. 2 die Ansicht A gemäß Fig. 1, Fig. 2 shows the view A of FIG. 1,

Fig. 3 die Ansicht B gemäß Fig. 1, Fig. 3 is a view B of Fig. 1,

Fig. 4 eine schematische Querschnittsansicht eines Trägerelements bzw. eines Trägergegenelements, Fig. 4 is a schematic cross-sectional view of a carrier element and a counter carrier element,

Fig. 5 eine Seitenansicht auf die Längsseite einer Vorrichtung mit darauf aufgenommenem Träger, Fig. 5 is a side view of the longitudinal side of an apparatus having accommodated thereon carrier,

Fig. 6 eine Draufsicht auf die Vorrichtung gemäß Fig. 5 ohne Träger, Fig. 6 is a plan view of the apparatus of FIG. 5 without a carrier,

Fig. 7 eine Querschnittsansicht gemäß der Schnittlinie A-A' in Fig. 5 und Fig. 7 is a cross-sectional view along the section line AA 'in Fig. 5 and

Fig. 8a-d den Verfahrensablauf beim Herausheben der Substrate. FIGS. 8a-d the process sequence when lifting of the substrates.

In den Fig. 1-4 ist ein Träger zur Aufnahme von Substraten und dgl. in verschiedenen Ansichten gezeigt. Zwei Wände 1 sind unlösbar verbunden mit zwei unteren Trägerelementen 2, zwei oberen Trägerelementen 3 sowie einem Trägergegenelement 4. Die unteren 2 und oberen Trägerelemente 3 sind bezüglich einer Symmetrieebene E symmetrisch angeordnet. Das Trägergegenelement 4 ist bezüglich der Symmetrieebene E versetzt angeordnet. Es ist ebenfalls unlösbar mit den Wänden 1 verbunden. In FIGS. 1-4 is a carrier for receiving substrates and the like. Shown in different views. Two walls 1 are non-detachably connected to two lower support elements 2 , two upper support elements 3 and a support counter element 4 . The lower 2 and upper support elements 3 are arranged symmetrically with respect to a plane of symmetry E. The carrier counter element 4 is arranged offset with respect to the plane of symmetry E. It is also permanently connected to the walls 1 .

Wie insbesondere aus den Fig. 2 und 3 ersichtlich ist, sind die Wände 1 spiegelbildlich ausgebildet. Ein in der Vorrichtung aufgenommenes Substrat ist mit S bezeichnet. Das Substrat S ist abgestützt auf den unteren 2 und den oberen Trägerelementen 3. Eine Bewegung des Substrats S in eine mit V bezeichnete Vertikalrichtung wird durch das Trägergegenelement 4 begrenzt. Dagegen ist ein Be- bzw. Entladen der Vorrichtung in einer mit SR bezeichneten Schrägrichtung möglich. As can be seen in particular from FIGS. 2 and 3, the walls 1 are mirror images. A substrate accommodated in the device is designated by S. The substrate S is supported on the lower 2 and the upper carrier elements 3 . A movement of the substrate S in a vertical direction denoted by V is limited by the carrier counter element 4 . In contrast, the device can be loaded or unloaded in an inclined direction designated SR.

Auf den Trägerelementen 2, 3 sind als Haltemittel Zähne 5 vorgesehen. Die Zähne 5 sind hier vertikal nach oben angeordnet. Es ist aber auch möglich, dass die Zähne 5 in Richtung in einer mit ZA bezeichneten Zentralachse weisen. Die an den Trägergegenelementen 4 vorgesehenen Zähne 5 weisen vertikal nach unten. Auch hier ist es möglich, dass die Zähne 5 in Richtung der Zentralachse ZA weisen. Ein durch zwei nebeneinanderliegende Zähne 5 gebildeter Schlitz verjüngt sich in Richtung des Trägerelements 2, 3 bzw. des Trägerelements 4. Teeth 5 are provided on the carrier elements 2 , 3 as holding means. The teeth 5 are arranged vertically upwards here. However, it is also possible for the teeth 5 to point in the direction in a central axis designated ZA. The teeth 5 provided on the carrier counter elements 4 point vertically downwards. It is also possible here that the teeth 5 point in the direction of the central axis ZA. A slot formed by two adjacent teeth 5 tapers in the direction of the carrier element 2 , 3 or the carrier element 4 .

Die an den Wänden 1 befindlichen umlaufenden Kanten sind mit Abschrägungen 6 versehen. The circumferential edges located on the walls 1 are provided with bevels 6 .

Die Trägerelemente 2, 3 weisen jeweils vertikal nach unten sich erstreckende Ablaufstege 7a, das Trägergegenelement 4 einen sich vertikal nach oben erstreckenden weiteren Ablaufsteg 7b auf. Eine Breite bzw. Höhe der Ablaufstege 7a, 7b nimmt zur Mitte der Trägerelemente 2, 3 bzw. des Trägergegenelements 4 zu. The carrier elements 2 , 3 each have vertically downwardly extending drain webs 7 a, the carrier counter element 4 has a vertically upward extending drain web 7 b. A width or height of the drain webs 7 a, 7 b increases towards the center of the support elements 2 , 3 or the support counter element 4 .

Unterkanten 8 der Wände 1 weisen mittig eine U-förmige erste Ausnehmung 9 auf. Die Unterkanten 8 fallen beidseits der U- förmigen ersten Ausnehmung 9 nach außen hin ab. Bottom edges 8 of the walls 1 have a U-shaped first recess 9 in the middle. The lower edges 8 fall out on both sides of the U-shaped first recess 9 .

Seitenkanten 10 verlaufen im wesentlichen vertikal, d. h. parallel zur Vertikalrichtung V. Sie weisen in einem oberen Abschnitt zweite Ausnehmungen 11 zum Eingriff einer (hier nicht gezeigten) Greifeinrichtung zum Greifen der Vorrichtung auf. Side edges 10 run essentially vertically, ie parallel to the vertical direction V. In an upper section they have second recesses 11 for engaging a gripping device (not shown here) for gripping the device.

An einer Oberkante 12 der Wände 1 ist außerdem eine dritte Ausnehmung 13. Die dritte Ausnehmung 13 ermöglicht das Eingreifen eines Greifarms zum Be- und Entladen der Vorrichtung mit Substraten S. Mindestens zwei der die dritte Ausnehmung begrenzenden Ausnehmungskanten 14a, 14b verlaufen schräg zu den Seitenkanten 10. Die so gebildete schräge dritte Ausnehmung 13 ermöglicht ein Be- und Entladen der Vorrichtung mit Substraten S in der Schrägrichtung SR. There is also a third recess 13 on an upper edge 12 of the walls 1 . The third recess 13 allows a gripping arm to engage with the device for loading and unloading the device S. At least two of the recess edges 14 a, 14 b delimiting the third recess run obliquely to the side edges 10 . The inclined third recess 13 thus formed enables the device to be loaded and unloaded with substrates S in the oblique direction SR.

In Fig. 4 ist ein Querschnitt durch ein unteres Trägerelement 2 gezeigt. Das untere Trägerelement 2 ist gebildet aus einer zentralen Versteifungsstruktur 15, die zweckmäßigerweise aus einem mit Kohlefaser verstärkten zweiten Kunststoff hergestellt ist. Selbstverständlich kann die Versteifungsstruktur auch aus anderen Materialien hergestellt sein, wobei nichtmetallische Materialien bevorzugt sind. Die Versteifungsstruktur 15 weist eine aus einem ersten Kunststoff hergestellte Ummantelung 16 auf. Der erste Kunststoff ist zweckmäßigerweise resistent gegen Säuren und Basen. Es kann sich dabei beispielsweise handeln um PFA, PTFE, PVDF (bitte ergänzen, wofür die Abkürzungen stehen). In FIG. 4 is a cross section through a lower support element 2. The lower support element 2 is formed from a central stiffening structure 15 , which is expediently made of a second plastic reinforced with carbon fiber. Of course, the stiffening structure can also be made of other materials, with non-metallic materials being preferred. The stiffening structure 15 has a casing 16 made of a first plastic. The first plastic is expediently resistant to acids and bases. For example, it can be PFA, PTFE, PVDF (please add what the abbreviations stand for).

Die Zähne 5 und die Ablaufstege 7a, 7b sind zweckmäßigerweise in einstückiger Ausbildung mit der Ummantelung 16 hergestellt. Mit 17 ist ein oberer Scheitelpunkt des hier zylindrisch ausgebildeten unteren Trägerelements 2 bezeichnet. Ein Zahngrund 18 ist im Querschnitt die hier kreissegmentförmige ausgebildete Kontaktlinie zwischen dem Zahn 5 und dem unteren Trägerelement 2. Damit stets ein vollständiger Ablauf von Reinigungsflüssigkeit gewährleistet ist, sind die Zähne 5 so anzuordnen, dass der obere Scheitelpunkt 17 Bestandteil des Zahngrunds 18 ist. The teeth 5 and the drain webs 7 a, 7 b are expediently made in one piece with the casing 16 . 17 denotes an upper vertex of the lower support element 2 , which is cylindrical here. In cross section, a tooth base 18 is the contact line between the tooth 5 and the lower carrier element 2, which is in the form of a circular segment here. So that a complete drain of cleaning fluid is always guaranteed, the teeth 5 are to be arranged so that the upper apex 17 is part of the tooth base 18 .

Die gezeigte Anordnungen der Zähne 5 gilt in gleicher Weise für die oberen Trägerelemente 3. Sie gilt in analoger Weise für das Trägergegenelement 4, wobei hier bezüglich der Anordnung der Zähne 5 auf einem unteren Scheitelpunkt abzustellen ist, der in Fig. 4 mit dem Bezugszeichen 19 angedeutet ist. The arrangement of the teeth 5 shown applies in the same way to the upper carrier elements 3 . It applies in an analogous manner to the counter support element 4 , with the arrangement of the teeth 5 being based on a lower apex, which is indicated in FIG. 4 by the reference number 19 .

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung ist es selbstverständlich möglich, die Anzahl und Ausbildung der Trägerelemente 2, 3 sowie des Trägergegenelements 4 zu ändern, insbesondere an die Geometrie des jeweils zu transportierenden Substrats S anzupassen. So ist es beispielsweise auch möglich, statt der im vorliegenden Ausführungsbeispiel beschriebenen vier Trägerelemente nur zwei oder ein Trägerelement/e zu verwenden. Within the scope of the present invention, it is of course possible to change the number and design of the carrier elements 2 , 3 and the counter carrier element 4 , in particular to adapt them to the geometry of the substrate S to be transported. For example, instead of the four carrier elements described in the present exemplary embodiment, it is also possible to use only two or one carrier element (s).

Mit dem im Rahmen der vorliegenden Erfindung vorgeschlagenen Träger wird auf einfache Weise eine unerwünschte Vertikalbewegung von Substraten S in einem Behandlungsbad unterbunden. With that proposed in the context of the present invention Carrier becomes an undesirable in a simple manner Vertical movement of substrates S is prevented in a treatment bath.

Gleichzeitig ist ein einfaches Be- und Entladen der Vorrichtung möglich, ohne dass dazu ein Niederhalteelement, wie das Trägergegenelement 4, von der Vorrichtung entfernt werden muss. At the same time, the device can be easily loaded and unloaded without having to remove a hold-down element, such as the counter support element 4 , from the device.

Fig. 5 bis 7 zeigen eine Vorrichtung zum Trocknen von Substraten S. Eine zweite Hubeinrichtung weist einen im wesentlichen horizontal verlaufenden Hubarm 20, der mittels einer vertikalen Hubstange 21 mit einem (hier nicht gezeigten) Hubantrieb verbunden ist. Bei dem Hubantrieb kann es sich um einen herkömmlichen elektrisch, hydraulisch oder pneumatisch betreibbaren Hubantrieb handeln. Auf dem Hubarm 20 ist eine zweite Hubeinrichtung aufgenommen. Dazu sind Lagerhalter 22 vorgesehen, welche fest mit dem Hubarm verbunden sind. In den Lagerhaltern 22 sind beidseits des Hubarms 20 drehbar Wellen 23 gehalten. Wie insbesondere aus Fig. 6 gut ersichtlich ist, erstrecken sich von den Lagerhaltern 22 vertikal nach oben Führungsnasen 24, in denen die Träger T mit ihrer ersten U- förmigen Ausnehmung 9 gleitend geführt sind. Fig. 5 to 7 show an apparatus for drying substrate S. A second lifting device comprises a substantially horizontally extending lifting arm 20 which is connected by means of a vertical lift rod 21 with a linear actuator (not shown here). The linear actuator can be a conventional electrically, hydraulically or pneumatically operable linear actuator. A second lifting device is accommodated on the lifting arm 20 . For this purpose, bearing holders 22 are provided, which are firmly connected to the lifting arm. Shafts 23 are rotatably held in the bearing holders 22 on both sides of the lifting arm 20 . As can be seen particularly well from FIG. 6, guide lugs 24 extend vertically upward from the bearing brackets 22 , in which the carriers T are slidably guided with their first U-shaped recess 9 .

An den einen Enden sind die Wellen 20 fest mit Hebeln 25 verbunden, die mit daran vorgesehenen Zapfen 26 in eine Kulissenführung 27 eingreifen. Die Kulissenführung 27 ist hier als Schlitz in einer Kulissenführungsplatte 28 ausgebildet. Die Kulissenführungsplatte 28 ist fest an einer Wand eines Behandlungsbeckens angebracht (hier nicht gezeigt). Fest mit den Wellen 23 verbunden sind Aufnahmehebel 29, die zur Aufnahme des Trägers T dienen. Die Aufnahmehebel 29 können mit Führungsrollen 30 versehen sein. At one end, the shafts 20 are fixedly connected to levers 25 , which engage in a link guide 27 with pins 26 provided thereon. The link guide 27 is formed here as a slot in a link guide plate 28 . The link guide plate 28 is fixedly attached to a wall of a treatment basin (not shown here). Fixed to the shafts 23 are receiving levers 29 which serve to receive the carrier T. The receiving lever 29 can be provided with guide rollers 30 .

Auf den Lagerhaltern 22 sind ferner Substratstützleisten 31 montiert, die im Querschnitt U-förmig ausgebildet sind. Von einem Boden 31a erstrecken sich zwei parallel zueinander angeordnete Stützschenkel 31b. Der Boden 31a weist eine Vielzahl von Durchbrüchen auf. On the bearing brackets 22 substrate support strips 31 are also mounted, which are U-shaped in cross section. From a bottom 31 a two parallel support legs 31 b extend. The bottom 31 a has a variety of openings.

Ein Behandlungsbecken ist in Fig. 7 mit B angedeutet. Es ist erkennbar, dass der Träger T so nahe an den Wänden des Behandlungsbeckens B vorbeigeführt wird, dass bei einer schräg aufwärts gerichteten Bewegung der Substrate S diese an der Wand des Behandlungsbeckens B anstoßen. Sie können während des Heraushebens aus dem Behandlungsbad nicht aus dem Träger T entweichen. A treatment basin is indicated by B in FIG. 7. It can be seen that the carrier T is passed so close to the walls of the treatment basin B that, when the substrates S move obliquely upwards, they strike the wall of the treatment basin B. They cannot escape from the carrier T while being lifted out of the treatment bath.

Die Funktion der Vorrichtung wird nun in Zusammensicht mit den Fig. 8a-d näher erläutert. In Fig. 8a-d sind der Übersichtlichkeit halber lediglich die unteren Trägerelemente 2 und das Trägergegenelement 4 des Trägers T dargestellt. Ebenfalls der Übersichtlichkeit halber sind in Fig. 8b-c die Wand 1 des Trägers weggelassen worden. The function of the device is now explained in more detail in conjunction with FIGS. 8a-d. For the sake of clarity, only the lower carrier elements 2 and the carrier counter element 4 of the carrier T are shown in FIGS. 8a-d. Also for the sake of clarity, the wall 1 of the carrier has been omitted in FIGS. 8b-c.

In einer ersten Phase des Trocknungsverfahrens sind die Substrate S vollständig unterhalb der Flüssigkeitsoberfläche FO untergetaucht. Die Stützschenkel 31a der Substratstützleiste 31 sind nicht im Kontakt mit den Substraten S. Die Substrate S sind abgestützt auf den Trägerelementen 2, 3. Der Träger T wiederum ist abgestützt auf den Aufnahmehebeln 29. In a first phase of the drying process, the substrates S are completely submerged below the liquid surface FO. The support leg 31 a of the substrate support strip 31 are not in contact with the substrates S. The substrate S supported on the carrier elements 2; 3. The carrier T in turn is supported on the receiving levers 29 .

In einer zweiten Phase des Trocknungsverfahrens wird der Hubarm 20 angehoben. Der Träger T mit den darin aufgenommenen Substraten S wird über die Flüssigkeitsoberfläche FO herausgehoben (Fig. 8a). In a second phase of the drying process, the lifting arm 20 is raised. The carrier T with the substrates S accommodated therein is lifted out over the liquid surface FO ( FIG. 8a).

Sobald das Trägergegenelement 4 vollständig über die Flüssigkeitsoberfläche FO herausgehoben worden ist, beginnen die Aufnahmehebel 29 entgegen der Hubrichtung nach unten zu rotieren. Die Rotationsbewegung der Aufnahmehebel 29 wird gesteuert über die an den Wellen 23 angebrachten Hebel 25, deren Stellung durch die Kulissenführung 27 in Abhängigkeit des jeweiligen Hubs bestimmt wird. Wie aus Fig. 8b ersichtlich ist, wird der Träger T mit den Trägerelementen 2, 3 gegenüber dem Hubarm bzw. der fest damit verbundenen Substratstützleiste 31 so weit abgesenkt, dass die Substrate S auf den Stützschenkeln 31a der Substratstützleiste 31 abgestützt werden. Die Substrate S werden somit von den Trägerelementen 2, 3 abgehoben. Sie werden jedoch nur um etwa 3 bis 5 mm von den Trägerelementen 2, 3 abgehoben, so dass die Substrate S auch im abgehobenen Zustand noch in den durch die Zähne 5 gebildeten Schlitzen geführt sind. Die Substrate S werden also von einer ersten auf den Trägerelementen 2, 3 abgestützten Position in eine zweite Position verschoben, in der sie nicht mehr auf den Trägerelementen 2, 3 abgestützt sind. Die Verschiebung der Substrate S erfolgt in analoger Weise entsprechend in den durch die Zähne 5 gebildeten Schlitzen am Trägergegenelement 4. As soon as the carrier counter-element 4 has been lifted completely out of the liquid surface FO, the receiving levers 29 start to rotate downward in the direction opposite to the lifting direction. The rotational movement of the receiving lever 29 is controlled by the lever 25 attached to the shafts 23 , the position of which is determined by the link guide 27 as a function of the respective stroke. As is apparent from Fig. 8b, the carrier T with the carrier elements 2, 3 with respect to the lifting arm or firmly associated substrate support bar 31 lowered so far that the substrates S are a of the substrate support ledge 31 supported on the support legs 31 is. The substrates S are thus lifted off the carrier elements 2 , 3 . However, they are only lifted from the carrier elements 2 , 3 by about 3 to 5 mm, so that the substrates S are still guided in the slots formed by the teeth 5 even when they are lifted off. The substrates S are thus shifted from a first position supported on the carrier elements 2 , 3 to a second position in which they are no longer supported on the carrier elements 2 , 3 . The substrates S are shifted analogously in the slots formed by the teeth 5 on the carrier counter element 4 .

Während des Durchtritts der Trägerelemente 2, 3 durch die Flüssigkeitsoberfläche FO sind die Substrate S nicht auf die Trägerelemente 2, 3 abgestützt. Das ermöglicht ein vollständiges Ablaufen von Behandlungsflüssigkeit von den Trägerelementen 2, 3. Sobald die Trägerelemente zu einem wesentlichen Teil über die Flüssigkeitsoberfläche FO herausgehoben worden sind, wird der Träger T mittels der Aufnahmehebel 29 gegenüber der Substratstützleiste 31 wieder angehoben. Die Substrate S werden wieder auf die Trägerelemente 2, 3 abgestützt, d. h. sie werden in den durch die Zähne 5 gebildeten Schlitzen wieder von der zweiten in die erste Position verschoben. Dieser Verfahrensschritt ist in Fig. 8c gezeigt. During the passage of the carrier elements 2 , 3 through the liquid surface FO, the substrates S are not supported on the carrier elements 2 , 3 . This enables treatment liquid 2 to run off completely from the carrier elements 2 , 3 . As soon as the carrier elements have been lifted out of the liquid surface FO to a substantial extent, the carrier T is raised again by means of the receiving lever 29 relative to the substrate support bar 31 . The substrates S are again supported on the carrier elements 2 , 3 , ie they are shifted again from the second into the first position in the slots formed by the teeth 5 . This process step is shown in Fig. 8c.

Anschließend wird der noch in die Behandlungsflüssigkeit eintauchende restliche Abschnitt des Substrats S mittels der Trägerelemente 2, 3 aus dem Behandlungsbad herausgehoben. Zweckmäßigerweise werden die Substrate S erst dann wieder auf die Trägerelemente 2, 3 aufgesetzt, wenn sie vollständig aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben worden sind. The remaining section of the substrate S, which is still immersed in the treatment liquid, is then lifted out of the treatment bath by means of the carrier elements 2 , 3 . The substrates S are expediently placed on the carrier elements 2 , 3 only when they have been completely lifted out of the treatment liquid.

Mit dem vorgeschlagenen Verfahren wird beim Durchtritt des Trägergegenelements 4 sowie der Trägerelemente 2, 3 durch die Flüssigkeitsoberfläche FO stets vermieden, dass zu diesem Zeitpunkt die Substrate S am Trägergegenelement 4 oder den Trägerelementen 2, 3 anliegen. Beim Durchtritt durch die Flüssigkeitsoberfläche ist stets die Kante des Substrats beabstandet vom Trägergegenelement 4 bzw. den Trägerelementen 2, 3. Diese Maßnahme gewährleistet ein vollständiges Abfließen von Behandlungsflüssigkeit, welche sich beim Herausheben in dem zwischen zwei benachbarten Zähnen 5 gebildeten Schlitz befindet. With the proposed method, when the carrier counter element 4 and the carrier elements 2 , 3 pass through the liquid surface FO, it is always avoided that the substrates S bear against the carrier counter element 4 or the carrier elements 2 , 3 at this time. When passing through the liquid surface, the edge of the substrate is always spaced apart from the carrier counter element 4 or the carrier elements 2 , 3 . This measure ensures a complete drainage of treatment liquid, which is located in the slot formed between two adjacent teeth 5 when it is lifted out.

Mit dem vorgeschlagenen Verfahren wird auch ein unerwünschtes Aufschwimmen der Substrate S im Behandlungsbad vermieden. Im Falle eines Auftriebs von Substraten S durch anhaftende Wasserstoffbläschen wird das Substrat S in seiner Aufwärtsbewegung bzw. Vertikalbewegung durch das Trägergegenelement 4 gehemmt. With the proposed method, an undesired floating of the substrates S in the treatment bath is also avoided. In the event of a buoyancy of substrates S by adhering hydrogen bubbles, the substrate S is inhibited in its upward movement or vertical movement by the carrier counter element 4 .

Das vorbeschriebene Verfahren kann selbstverständlich auch nur unter Verwendung der ersten Hubeinrichtung durchgeführt werden. Diese kann in diesem Fall z. B. am Boden des Behandlungsbeckens angeordnet sein. Die Relativbewegung zwischen dem Träger T und der Oberfläche FO der Behandlungsflüssigkeit kann auch durch Ablassen der Behandlungsflüssigkeit aus dem Behandlungsbecken durch ein (hier nicht gezeigtes) steuerbares Ventil erreicht werden, mit dem ein im Boden des Behandlungsbeckens vorgesehener Abfluss verschliessbar ist. Sowohl das Ventil als auch die erste Hubeinrichtung können in diesem Fall durch eine geeignete Steuereinrichtung entsprechend den vorgenannten Verfahrensschritten gesteuert werden. Bezugszeichenliste 1 Wand
2 unteres Trägerelement
3 oberes Trägerelement
4 Trägergegenelement
5 Zahn
6 Abschrägung
7a, b Ablaufsteg
8 Unterkante
9 erste Ausnehmung
10 Seitenkante
11 zweite Ausnehmung
12 Oberkante
13 dritte Ausnehmung
14a, b Ausnehmungskanten
15 Versteifungsstruktur
16 Ummantelung
17 oberer Scheitelpunkt
18 Zahngrund
19 unterer Scheitelpunkt
20 Hubarm
21 Hubstange
22 Lagerhalter
23 Welle
24 Führungsnase
25 Hebel
26 Zapfen
27 Kulissenführung
28 Kulissenführungsplatte
29 Aufnahmehebel
30 Führungsrolle
31 Substratstützleiste
31a Boden
31b Stützschenkel
V Vertikalrichtung
SR Schrägrichtung
S Substrat
E Symmetrieebene
ZA Zentralachse
T Träger
FO Flüssigkeitsoberfläche
The above-described method can of course also only be carried out using the first lifting device. In this case, this can be done e.g. B. at the bottom of the treatment basin. The relative movement between the carrier T and the surface FO of the treatment liquid can also be achieved by draining the treatment liquid from the treatment basin through a controllable valve (not shown here) with which a drain provided in the bottom of the treatment basin can be closed. In this case, both the valve and the first lifting device can be controlled by a suitable control device in accordance with the aforementioned method steps. Reference Signs List 1 wall
2 lower support element
3 upper support element
4 support counter element
5 tooth
6 bevel
7a, b drainage bridge
8 bottom edge
9 first recess
10 side edge
11 second recess
12 top edge
13 third recess
14a, b recess edges
15 stiffening structure
16 sheathing
17 top vertex
18 tooth base
19 lower vertex
20 lifting arm
21 lifting rod
22 warehouse keeper
23 wave
24 guide nose
25 levers
26 cones
27 Backdrop tour
28 link guide plate
29 pick-up lever
30 leadership role
31 substrate support strip
31 a floor
31 b support leg
V vertical direction
SR diagonal direction
S substrate
E plane of symmetry
ZA central axis
T carrier
FO liquid surface

Claims

1. A method for drying substrates (S), the substrates (S) being accommodated in a carrier (T) which has at least one carrier element ( 2 , 3 ) and at least one carrier counter-element ( 4 ) and is immersed in a treatment liquid following steps:

a) Generating a relative movement between the carrier (T) and a surface (FO) of the treatment liquid until the carrier counter-element ( 4 ) is completely above the surface (FO) of the treatment liquid and the carrier element ( 2 , 3 ) is immersed in the treatment liquid .

b) lifting the substrates (S) from the immersed carrier element ( 2 , 3 ) by means of a first lifting device, so that the substrates (S) in the carrier (T) in a holding device ( 5 ) provided on the carrier element ( 2 , 3 ) from a first Position to a second position,

c) further relative movement between the carrier (T) and the surface (FO) of the treatment liquid until the carrier element ( 2 , 3 ) is completely above the surface (FO) of the treatment liquid and

d) supporting the substrates (S) on the carrier element ( 2 , 3 ) located above the surface (FO) of the treatment liquid, the substrates (S) in the holding device provided on the carrier element ( 2 , 3 ) from the second position back into the first position to be moved.

2. The method according to claim 1, wherein the carrier element ( 2 , 3 ) and the holding device ( 5 ) when moving the substrates (S) from the second position to the first position are dry.

3. The method according to any one of the preceding claims, wherein the substrates ( 5 ) are displaced by the first lifting device between the first and the second position by at most 10 mm, preferably 3-5 mm.

4. The method according to any one of the preceding claims, wherein the substrates (S) are continuously raised.

5. The method according to any one of the preceding claims, wherein the substrates (S) are raised so slowly that one of them adhering treatment liquid film until the Substrate (S) from the surface (FO) of the Treatment liquid (B) always in connection with that in the treatment pool absorbed treatment liquid remains.

6. The method according to any one of the preceding claims, wherein the lifting speed between 0.1 and 20 mm / sec, preferably between 0.5 mm / sec and 3.0 mm / sec, is.

7. The method according to any one of the preceding claims, wherein the carrier counter-element ( 4 ) has a further holding device ( 5 ).

8. The method according to any one of the preceding claims, wherein the substrates (S) in step lit. b in the further holding device ( 5 ) from a first to a second position and in step lit. d are moved from the second to the first position.

9. The method according to any one of the preceding claims, wherein the holding device ( 5 ) and / or the further holding device ( 5 ) is / are formed from adjacent teeth or slot-like recesses.

10. The method according to any one of the preceding claims, wherein the carrier counter-element ( 4 ) and, if appropriate, the further holding device ( 5 ) provided thereon in step lit. b is / are dry.

11. The method according to any one of the preceding claims, wherein droplets possibly hanging on a lower edge of the substrates (S) are derived by means of a droplet discharge element extending from the substrate support strip ( 31 ).

12. The method according to any one of the preceding claims, wherein to generate the relative movement a second in the Treatment liquid immersed carrier (T) Lifting device is provided, by means of which the carrier (T) is raised.

13. The method according to any one of the preceding claims, wherein the movement of the first lifting device is controlled relative to the second lifting device by means of a control device which has a link guide ( 27 ) fixedly attached to the treatment basin (B).

14. The method according to any one of the preceding claims, wherein the first lifting device has two shafts ( 23 ) running parallel to a lifting arm ( 20 ) provided on the second lifting device, on each end of which a lever ( 25 ) is provided, which is used to rotate the shafts ( 23 ) engages with a pin ( 26 ) provided in the link guide ( 27 ) by a predetermined angle.

15. The method according to any one of the preceding claims, wherein the first lifting device accommodates the carrier (T) having.

16. The method according to any one of the preceding claims, wherein the receptacle on the shafts ( 23 ) fixed receiving lever ( 29 ) for lifting and lowering the carrier (T) received thereon.

17. The method according to any one of the preceding claims, wherein the first lifting device has a substrate support bar ( 31 ) fixedly attached to the lifting arm ( 20 ), on which the substrates are supported when the carrier (T) is lowered relative to the lifting arm ( 20 ).

18. The method according to any one of the preceding claims, wherein treatment fluid to generate the relative movement the treatment basin (B) is removed.

19. Device for drying substrates (S), the substrates (S) being accommodated in a carrier (T) immersed in a treatment liquid, comprising:
a first lifting device for lifting the substrates (S) from at least one support element ( 2 , 3 ) provided on the support (T),
a second lifting device for lifting the carrier (T) out of the treatment liquid, the first lifting device having a lifting arm ( 20 ) carrying the carrier (T),
characterized in that
the first lifting device is attached to the lifting arm ( 20 ).

20. The apparatus of claim 19, wherein a Control device for controlling the movement of the first lifting device is provided relative to the second lifting device.

21. The apparatus of claim 20, wherein by means of the control device, the movement of the first lifting device relative to the second lifting device can be controlled such that the substrates (S) in the carrier (T) are lifted off the carrier element ( 2 , 3 ) and in a on the carrier element ( 2 , 3 ) provided holding device can be moved from a first position to a second position when a carrier counter element ( 4 ) is located completely above a surface (FO) of the treatment liquid and the carrier element ( 2 , 3 ) is immersed in the treatment liquid, and the substrates (S) in the holding device from the second position to the first position and can be supported on the carrier element ( 2 , 3 ) when the carrier element is above the liquid surface (FO).

22. The apparatus of claim 20 or 21, wherein the control device has a guide guide ( 27 , 28 ) fixedly attached to the treatment basin (B).

23. Device according to one of claims 19 to 22, wherein the first lifting device has two shafts ( 23 ) running parallel to a lifting arm ( 20 ) provided on the first lifting device, on each end of which a lever ( 29 ) is provided, which is used for rotating the shafts ( 23 ) engage in the link guide ( 27 ) by a predetermined angle with pins ( 26 ) provided thereon.

24. The device according to any one of claims 19 to 23, wherein the first lifting device accommodates the carrier (T) having.

25. Device according to one of claims 19 to 24, wherein the receptacle on the shafts ( 23 ) has receiving levers ( 29 ) attached.

26. Device according to one of claims 19 to 25, wherein the first lifting device has a substrate support bar ( 31 ) fixedly attached to the lifting arm ( 20 ).

27. Device according to one of claims 19 to 26, wherein the carrier (T) by means of the receiving lever ( 29 ) relative to the substrate support bar ( 31 ) in height by a maximum of 10 mm, preferably 3-5 mm, is movable.

28. Device according to one of claims 19 to 27, wherein a droplet discharge element extending therefrom is provided on the substrate support strip ( 31 ).

29. Device according to one of claims 19 to 28, wherein the substrate support strip ( 31 ) is designed in the manner of a U-profile with two support legs ( 31 a) arranged parallel to one another.

30. Device according to one of claims 19 to 29, wherein a support leg ( 31 a) connecting bottom ( 31 b) of the U-profile has a plurality of openings.

31. The device according to any one of claims 19 to 30, wherein the substrate support strip ( 31 ) is made of Ultem.

32. Device according to one of claims 19-30, wherein the carrier element ( 2 , 3 ) and the carrier counter-element ( 4 ) connect at least two mutually opposite walls ( 1 ) of the carrier (T).

33. Device according to one of claims 19 to 31, wherein the carrier counter-element ( 4 ) with respect to the carrier element ( 2 , 3 ) is arranged or designed such that a movement of the substrates (S) in the vertical direction (VK) can be limited, and the Substrates (S) can only be loaded or unloaded obliquely with respect to the vertical direction (VK).

34. Device according to one of claims 19 to 32, wherein the carrier element ( 2 , 3 ) have slot-like recesses or teeth ( 5 ) as holding means.

35. Device according to one of claims 19 to 33, wherein the teeth ( 5 ) are mounted on the carrier element ( 2 , 3 ) in such a way that a tooth base ( 18 ) of the teeth ( 5 ) on the upper apex line ( 17 ) of the carrier element ( 2 , 3 ).

36. Device according to one of claims 19 to 34, wherein the carrier counter-element ( 4 ) in the direction of the carrier element ( 2 , 3 ) pointing as slot-like recesses or teeth ( 5 ) formed further holding means.

37. Device according to one of claims 19 to 35, wherein the teeth ( 5 ) are mounted on the carrier counter element such that a tooth base ( 18 ) of the teeth ( 5 ) lies on a lower apex line ( 19 ) of the carrier counter element ( 4 ).

38. Device according to one of claims 19 to 36, wherein the carrier counter-element ( 4 ) with respect to the carrier element ( 2 , 3 ) is arranged or designed such that the substrates (S) are always held in the holding means and / or the further holding means.

39. Device according to one of claims 19 to 37, wherein the carrier element ( 2 , 3 ) has a substantially vertically downward extending web ( 7 a).

40. Device according to one of claims 19 to 38, wherein the carrier counter-element ( 4 ) has a substantially vertically upward extending web ( 7 b).

41. Device according to one of claims 19 to 39, wherein a width of the draining ridge (7a) and / or the further draining ridge (7b) to the center of the carrier element (2, 3) or the counter carrier element (4) increases toward.

42. Device according to one of claims 19 to 40, wherein the edges of the walls ( 1 ) are chamfered.

43. Device according to one of claims 19 to 41, wherein the lower edges ( 8 ) of the walls ( 1 ) fall obliquely on both sides of a centrally arranged U-shaped first recess ( 9 ).

43. Device according to one of claims 19 to 41, wherein a substantial portion of the side edges ( 10 ) of the walls ( 1 ) extends vertically.

44. Device according to one of claims 19 to 43, wherein the side edges ( 10 ) in an upper section in an opposing arrangement have second recesses ( 11 ) for engaging a gripping device.

45. Device according to one of claims 19 to 44, wherein an upper edge ( 12 ) of the walls ( 1 ) has a third recess ( 13 ) for engaging a loading or unloading device for substrates (S).

46. Device according to one of claims 19 to 45, wherein the third recess ( 13 ) by at least two oblique to the side edges ( 10 ) extending recess edges ( 14 a, 14 b) is limited.

47. Device according to one of claims 19 to 46, wherein the carrier element ( 2 , 3 ) and / or the carrier counter-element ( 4 ) are formed from a stiffening structure ( 15 ) coated with a first plastic.

48. Device according to one of claims 19 to 47, wherein the stiffening structure ( 15 ) is made of a carbon fiber reinforced second plastic.

49. Device according to one of claims 19 to 48, wherein the walls ( 1 ) are made of the first plastic.

50. Device according to one of claims 19 to 49, wherein the first plastic to be resistant to acids and bases Plastic, which is preferably from the following group selected: PFA, PTFE, PVDF.

51. Device according to one of claims 19 to 50, wherein four support elements ( 2 , 3 ) connect the walls ( 1 ).

52. Device according to one of claims 19 to 51, wherein two lower support elements ( 2 ) in the vicinity of a lower edge of the walls ( 1 ) and two upper support elements ( 3 ) in the vicinity of a lower section of the side edges ( 10 ) of the walls ( 1 ) are attached.

53. Device according to one of claims 19 to 52, wherein the carrier counter-element ( 4 ) in the vicinity of an upper edge of the side walls ( 10 ) is attached.

54. Device according to one of claims 19 to 53, wherein the carrier counter-element ( 4 ) with respect to the arrangement or design of the / the carrier element / carrier elements ( 2 , 3 ) and parallel to this / these running symmetry plane (E) is arranged offset.