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DE1021490B - Transistor mit elastisch angeordneten und dicht benachbarten Spitzenelektroden - Google Patents

Transistor mit elastisch angeordneten und dicht benachbarten Spitzenelektroden

Info

Publication number
DE1021490B
DE1021490B DEI9602A DEI0009602A DE1021490B DE 1021490 B DE1021490 B DE 1021490B DE I9602 A DEI9602 A DE I9602A DE I0009602 A DEI0009602 A DE I0009602A DE 1021490 B DE1021490 B DE 1021490B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
contact
electrode
spring
tip
angled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEI9602A
Other languages
English (en)
Inventor
Anton Salecker
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IBM Deutschland GmbH
Original Assignee
IBM Deutschland GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IBM Deutschland GmbH filed Critical IBM Deutschland GmbH
Publication of DE1021490B publication Critical patent/DE1021490B/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D64/00Electrodes of devices having potential barriers
    • H10D64/20Electrodes characterised by their shapes, relative sizes or dispositions 
    • H10D64/23Electrodes carrying the current to be rectified, amplified, oscillated or switched, e.g. sources, drains, anodes or cathodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D48/00Individual devices not covered by groups H10D1/00 - H10D44/00
    • H10D48/30Devices controlled by electric currents or voltages
    • H10D48/32Devices controlled by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H10D48/34Bipolar devices
    • H10D48/345Bipolar transistors having ohmic electrodes on emitter-like, base-like, and collector-like regions
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • H10W70/69
    • H10W72/00
    • H10W76/60

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Description

  • Transistor mit elastisch angeordneten und dicht benachbarten Spitzenelektroden Ein Punktkontakttransistor besteht allgemein aus einem Halbleiterkörper, einer am Halbleiterkörper befestigten und ihn tragenden Metallplatte, die einen festen Basiskontakt oder eine Basiselektrode mit größerem Flächenkontakt bildet, und zwei Punktkontakten bzw. -elektroden, die als Emitter und Kollektor bezeichnet werden. Emitter und Kollektor sind gewöhnlich als Spitzenelektroden durch Zuspitzen des Endes eines zylindrischen Drahtes derart ausgebildet, daß am Drahtende eine plangeschliffene Fläche mit einem Winkel von 45° zur Drahtachse vorhanden ist. Gewöhnlich werden Drähte mit Durchmessern in der Größenordnung von 0,13 mm verwendet. Die Spitze dieses Kontaktes wird auf die Oberfläche des Halbleiterkörpers aufgesetzt. Durch Biegen des Drahtes erreicht man einen gewissen Kontaktdruck, damit die Elektrodenspitze sich fest in ihrer Stellung auf dem Halbleiterkörper, der im allgemeinen aus Germanium besteht, hält.
  • Bei Transistoren bestehen häufig dadurch Schwierigkeiten, daß sie ihre elektrischen Eigenschaften nicht für längere Zeit aufrechterhalten. Manche dieser Schwierigkeiten beruhen auf geringen Veränderungen in der Stellung der Kontakte oder sind auf Schwankungen in der Federspannung der Kontakte bei Alterung zurückzuführen. Die Eigenschaften der Transistoren sind außerdem Veränderungen durch Temperaturen unterworfen. Es ist anzunehmen, daß auch diese Veränderungen wenigstens teilweise einer gleichzeitigen Veränderung der Federspannung zuzuschreiben sind. Es ist bei Halbleiterdioden bekanntgeworden, zwischen Kontaktstift und Elektrodenanschluß eine Spiralfeder einzufügen. Derartige Kontaktanordnungen haben aber den Nachteil der zu großen Selbstinduktivität und der mangelnden mechanischen Stabilität der Kontaktfederspannung. In der Überwindung der bestehenden Schwierigkeiten liegt die der Erfindung zugrande liegende Aufgabe.
  • Für einen Transistor mit elastisch angeordneten und dicht benachbarten Spitzenelektroden besteht danach die Erfindung darin, daß an dem dem Halbleiterkristall zugewandten Ende des durch den Sockel des Transistors isoliert durchgeführten Anschlußstiftes fahnenartig eine Blattfeder angeschweißt oder angelötet ist, an deren freiem, abgewinkeltem Ende ein Kontaktelement angeschweißt oder angelötet ist, dessen freies und zugespitztes Ende die Halbleiteroberfläche unter Federdruck berührt.
  • Der erfindungsgemäße Transistor weist gegenüber den bekannten Transistoren ein verbessertes Kontaktsystem mit höherer Federspannung und höheren Kontaktdrücken auf. Die Transistorenkontaktanordnung besitzt stabilere Eigenschaften, insbesondere in bezug auf Federspannung und Kontaktdruck, als die der bekannten Transistoren. Ein weiterer Vorteil der Transistorkontaktspitzenanordnung nach der Erfindung liegt in den besseren mechanischen Eigenschaften. Die Federspannung kann bei der erfindungsgemäßen Anordnung unabhängig von den Eigenschaften des Kontaktdrahtes bestimmt werden, so daß dieser Draht nur im Hinblick auf seine Kontakteigenschaften ausgewählt zu werden braucht. Höhere Kontaktdrücke und stabilere Kontaktdrücke können in dieser Weise erreicht werden.
  • Nach einer Abwandlung des Erfindungsgedankens ist die Kontaktspitze durch Abflachen des Endes des Drahtes oder eines Streifens, z. B. mit Hammer und Amboß, und durch Verwendung einer Ecke der abgeflachten Spitze als Kontakt hergestellt.
  • Nach einer anderen zweckmäßigen Ausführungsform ist die Kontaktspitze aus Streifenmaterial anstatt aus Draht geformt.
  • Das Streifenmaterial kann in herkömmlicher Weise zu einer Spitze abgeschliffen oder gehämmert werden. Der Kollektorkontaktkann vorteilhaft als zusammengesetzte Anordnung gebildet sein, während der Emitterkontakt durch Ausbildung einer Spitze am Ende des Federstreifens geformt sein kann.
  • Die Erfindung sei an Hand der Zeichnungen für einige beispielsweise Ausführungsformen näher beschrieben. Fig. 1 ist ein waagerechter Schnitt gemäß der Linie I-I in Fig. 2 und zeigt einen nach der Erfindung hergestellten Transistor; Fig. 2 ist ein senkrechter Schnitt gemäß der Linie II-II in Fig. 1, in Pfeilrichtung gesehen; Fig.3 enthält eine genaue vergrößerte Darstellung, teilweise im Aufriß und teilweise im Schnitt nach Linie III-III in Fig. 1; die Fig. 3 zeigt auch Einzelheiten eines der Kontakte; Fig. 4 zeigt einen Teil der Oberfläche des Halbleiterkörpers in Draufsicht; auf dieser Oberfläche liegt ein sogenannter 2,Punkt,<-Kontakt auf, der stark vergrößert dargestellt ist, um den Umriß des Kontaktbereiches zu veranschaulichen; Fig. 5 ist ein im Aufriß gezeichneter Kontakt nach der Erfindung; Fig. 6 ist eine Ansicht von rechts für die Anordnung nach Fig. 5; Fig. 7 zeigt den Umriß des Kontaktbereiches, den man mit der Kontaktausbildung nach den Fig.5 und 6 erreicht; Fig. 8 ist eine Darstellung ähnlich Fig. 5 ; die Anordnung nach Fig. 8 bildet einen Teil der Anordnung nach Fig. 1; sie zeigt das Verhältnis des Kontaktaufbaues nach Fig. 5 zu den sie tragenden Teilen Fig. 9 zeigt teilweise eine abgewandelte Form für die Auflage des Federelementes, das seinerseits den Kontakt trägt; Fig. 10 zeigt ein abgewandeltes Kontaktsystem; Fig. 11 ist ein Schnitt nach der Linie XI-XI in Fig. 10, in Pfeilrichtung gesehen; Fig. 12 zeigt eine abgewandelte Form des Kontaktsystems; Fig.13 ist eine Schnittdarstellung nach der Linie XIII-XIII in Fig. 12.
  • Die Fig. 1 bis 3 zeigen einen Transistor, bestehend aus der Metallgrundplatte 1, die einen Pfosten 2 trägt, welcher senkrecht vom Mittelpunkt der Grundplatte absteht und auf einer Seite nahe dem oberen Ende den Halbleiterkörper 3 trägt. Der Pfosten 2 bildet zugleich die Basiselektrode für den Transistor. Zwei Drähte 4 und 5 sind aufrecht durch die metallische Grundplatte 1 geführt, von der sie durch Isoliermuffen 6 und 7 isoliert sind. Der Transistor befindet sich in einem Metallgehäuse 19.
  • Die oberen Enden der Drähte 4 und 5 sind abgebogen und mit 4cs bzw. 5a bezeichnet. An den abgebogenen Teilen 4 a und 5 a sind flache Blattfederelemente 8 befestigt. Diese Befestigung kann z. B. durch Punktschweißen oder Löten erfolgen. Die Blattfedern 8 stehen seitlich von dem Draht 4a ab, und ihre freien Enden 8a (Fig. 1) sind etwa um 135' gebogen. An den gebogenen Enden 8ca der Blattfedern 8 sind, z. B. durch Punktschweißen oder Löten, Kontaktspitzen 9 befestigt. Jede dieser Kontaktspitzen 9 besteht aus einem kurzen Ende zylindrischen Drahtes, dessen Ende durch Schleifen einer einzigen Fläche 9 a in einem Winkel von 45' zur Achse des Drahtes zugespitzt ist. Die Spitze dieser Fläche 9 a wird unter Druck gegen den Halbleiterkörper 3 durch die Spannung des Federelementes 8 gehalten.
  • Bei einem Vergleich des dargestellten Transistors nach der Erfindung mit den Kontaktsystemen bekannter Halbleitervorrichtungen zeigt sich, daß ein üblicher Draht mit einem Durchmesser von 0,13 mm um 0,09 mm aus seiner freien Lage abgelenkt wurde, um einen Transistorkontakt zu bilden, wobei der Druck in dem Draht bei seiner Ablenkung 2,7 g betrug. Ein anderer üblicher Draht von 0,17 mm Durchmesser und mit derselben Ablenkung von 0,09 mm hatte einen Druck von 9,2 g. Vergleichsweise enthielt eine erfindungsgemäße Kontaktanordnung ein Federelement 8 aus Nickel mit einer Breite von 0,79 mm und einer Dicke von 0,13 mm. Bei Ablenkung um 0,09 mm zur Bildung eines Transistorkontaktes betrug der Druck in dem Federelement 24 g. Die dadurch erreichte Federspannung war fast dreimal so groß wie die größte mit der bekannten Kontaktkonstruktion erreichbare Federspannung und mehr als achtmal so groß wie die Spannung des anderen erwähnten bisher üblichen Kontaktes. Der Kontaktdruck wurde proportional vergrößert, da in beiden Fällen derselbe Kontaktumriß verwendet wurde.
  • Die Fig. 4 zeigt den Umriß des Kontaktbereiches, den man bei den bisher üblichen Kontaktkonstruktionen erhält. Es ist in Fig. 4 ein Teil 10 des Germaniumkörpers dargestellt, wobei ein in gestrichelten Linien gezeigter länglicher Bereich 11 angibt, wo die Spitze eines Kontaktes (z. B. des Kontaktes 9) das Germanium berührt. In diesem Bereich 11 befindet sich ein kleiner mittlerer Bereich 11a von etwa kreisförmigem Umriß, wo ein sehr hoher Kontaktdruck entwickelt wird.
  • Die Fig. 5 bis 8 stellen eine abgewandelte Kontaktanordnung nach der Erfindung dar. Diese Figuren zeigen einen Kontakt, der aus der Spitze eines Drahtes 12 durch Abflachen des Drahtendes, z. B. mit Hilfe von Hammer und Amboß, geformt ist, um so eine keilförmige Spitze 12a zu bilden. Die Fig.7 zeigt den Umriß des Kontaktbereiches, den man mit einer Spitze (nach Fig. 5 und 6) erreicht. Man sieht also, daß der Kontaktbereich 13 eine Form hat, die im allgemeinen der eines Kreissegmentes gleicht, welcher etwas größer als ein Halbkreis ist und entlang der geraden Seite scharf abgeschnitten ist.
  • Die keilförmige Spitze 12a kann wesentlich leichter und schneller hergestellt werden als die bisher bekannten geschliffenen Spitzen und hat gleich gute elektrische Eigenschaften.
  • Die Fig. 8 zeigt, wie man den Kontakt 12 anbringen kann, um geeignete Kontaktdruckbedingungen zu sichern. Gemäß Fig. 8 wird der Kontakt 12 von einer Feder 14 festgehalten, die im rechten Winkel abgebogen und z. B. durch Löten oder Punktschweißen an einem aufrecht stehenden Pfosten 15 befestigt ist. Der Pfosten 15 kann z. B. dem Draht 5 in Fig. 1 und 2 entsprechen.
  • Die Fig.9 veranschaulicht eine abgewandelte Ausführungsform zum Festhalten der Feder B. Nach Fig. 9 ist die Feder 8 z. B. durch Löten an dem oberen Ende eines Drahtes 16 befestigt, dessen Durchmesser etwas größer als der des Drahtes 5 von Fig. 2 ist. Der Draht 16 verläuft in seiner gesamten Länge senkrecht. Sein oberes Ende ist nicht abgewinkelt. Obwohl durch das Nichtvorhandensein eines abgewinkelten Endes die Länge der Verbindung zwischen der Feder 8 und dem Draht 16 gegenüber der entsprechenden Verbindung bei der abgebogenen Spitze 6« des Drahtes 5 verkleinert ist, hat es sich doch gezeigt, daß dadurch, daß man dem Draht 16 einen größeren Durchmesser als dem Draht 5 gibt, die Verbindung stark genug und die Herstellung des Transistors erleichtert wird.
  • Die Fig. 10 und 11 veranschaulichen eine abgewandelte Ausführungsform der Kontaktspitzenelemente. Die Federelemente 8 und der Halbleiterkörper 3 sind dieselben wie in den Anordnungen nach den vorhergehenden Figuren. Die Kontaktspitzenelemente 17 sind jedoch insofern anders, als sie aus flachem Bandmaterial anstatt aus Drahtmaterial wie bei den Anordnungen nach den vorhergehenden Figuren bestehen. Die Spitzen an den Kontaktelementen 17 können durch Schleifen wie bei der bekannten Drahtspitze geformt werden, oder man kann eine keilförmige Spitze durch Hämmern wie bei der Ausführung nach den Fig. 5 bis 8 formen.
  • Die Fig. 12 und 13 zeigen eine weitere abgewandelte Form der Transistorausbildung. Bei dem hier gezeigten Transistor ist an der Kollektorelektrode eine Spitze 17 geformt, wie sie in Fig. 10 und 11 gezeigt ist. Die Emitterelektrode ist jedoch insofern anders, als sie direkt am freien Ende eines Federelementes 18 geformt ist, das das Federelement 8 nach den vorhergehenden Figuren ersetzt. Diese Kontaktspitze 18r am Ende des Federelementes 18 kann entweder nach dem üblichen Schleifverfahren oder durch Hämmern - wie hier beschrieben - geformt werden.
  • Es hat sich gezeigt, daß hinsichtlich der elektrischen Eigenschaften der Emitterelektrode weniger Gefahr besteht, daß diese durch Veränderungen in der Qualität des verwendeten Kontaktmaterials ungünstig beeinflußt werden, und daß man in vielen Fällen einen zufriedenstellenden Emitterelektrodenkontakt gemäß Fig. 12 und 13 direkt am Ende eines Federelementes 18 formen kann, dessen Material vor allem nach seinen Federeigenschaften anstatt nach seinen elektrischen Eigenschaften ausgewählt wird.
  • Um eine lange Lebensdauer und stabile Eigenschaften bei Transistoren zu erreichen, hat man versucht, die Feuchtigkeit aus den Transistoren auszuheizen, bevor sie in Kunststoff-, Glas- oder anderen Kolben verschlossen werden. Es hat sich jedoch als unmöglich erwiesen, bei sehr hohen Temperaturen zu heizen, weil die üblicherweise verwendeten Drahtmaterialien, z. B. Kupferlegierungen, bei solchen Temperaturen ihre Spannung verlieren. Jeder nach der Erfindung hergestellte Transistor kann jedoch in vorteilhafter Weise auch bei hohen Temperaturen ausgeheizt werden, indem man für die Federn 8 Federmaterialien auswählt, die eine geringe Entspannung oder einen geringen Spannungsverlust bei hohen Temperaturen erfahren; z. B. gestatten bestimmte Nickellegierungen (78,50/0 Ni, 14°/o Cr, 6,5°/'° Fe, 0,20/0 Cu, 0,250j0 Mn und 0,25°/o Si oder 74°/o Ni, 150'o Cr, 7% Fe, 0,40;'0 Si, 2,50/0 Ti und 0,90/0 Al oder 700j0 Ni, 14,160/0 Cr, 2,25 bis 2,75°/° Ti, 0,7 bis 1,2°/0 Nb, 0,4 bis 1,00/0 Al, 5 bis 90j0 Fe und 0,3 bis 10/, Mn) und die aushärtbare Legierung mit den Bestandteilen 98,5°;'° Ni, 0,030/0 Cu, 0,2°/0 Mn, 0,10;`0 Fe, 0,150/0 S1, 0,40/0 T1, 0,350/0 Mg, 0,250j0 C und 0,00501, S eine Verarbeitung bei hoher Temperatur und behalten trotzdem ihre guten Federeigenschaften. Nickeleisenlegierungen und einige Siliziumstäbe sind von diesem Gesichtspunkt aus ebenfalls vorteilhaft zu verwenden.

Claims (9)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Transistor mit elastisch angeordneten und dicht benachbarten Spitzenelektroden, dadurch gekennzeichnet, daß an dem dem Halbleiterkristall zugewandten Ende des durch den Sockel (1) des Transistors isoliert durchgeführten Anschlußstiftes (4, 5, 16) fahnenartig eine Blattfeder (8, 14, 18) angeschweißt oder angelötet ist, an deren freiem, abgewinkeltem Ende (8a) ein Kontaktelement (9) angeschweißt oder angelötet ist, dessen freies und zugespitztes Ende (9a) die Halbleiteroberfläche (10) unter Federdruck berührt.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Kontaktspitze der Elektrode (9) eine Ecke eines abgeflachten Draht- oder Streifenendes dient.
  3. 3. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer metallischen Grundplatte (1) zwei durch die Grundplatte (1) geführte und gegen die Grundplatte (1) isolierte Halterungsdrähte (4, 5) errichtet sind, deren obere Enden (4a, 5a) abgewinkelt sind und seitlich zueinander weisende Flachfedern (8) tragen, die wiederum an ihren freien Enden (8a) abgewinkelt sind, insbesondere um etwa 135' abgewinkelt sind, und jedes Federende (8a) eine den Halbleiterkörper (3) unter Druck berührende Spitzenelektrode (9) trägt.
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Flachfeder (8) aus Nickel besteht.
  5. 5. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrode (12) an der Kontaktseite (12a) nach Art eines Senkkopfes mit keilförmiger Spitze ausgebildet ist.
  6. 6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Längsachse der Elektrode (12) parallel und die Kontaktspitze (12a) der Elektrode aufrecht zur Halbleiteroberfläche liegt, wenn die keilförmige Elektrodenspitze die Halbleiteroberfläche berührt.
  7. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das parallel zur Halbleiteroberfläche liegende Ende der Elektrode (12) mit einer Feder (14) fest verbunden ist, deren anderes Ende abgewinkelt ist und eine feste Verbindung mit dem Halterungsdraht (15) aufweist. B.
  8. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die die Elektrode (9) tragende Feder (8) aus Inconel oder Permanickel besteht.
  9. 9. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Feder (8) dicker als die Elektrode (9) ist. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschriften Nr. 256 970, 287 607, 818 654; schweizerische Patentschrift Nr. 124 623, französische Patentschriften Nr. 585 406, 586 288; britische Patentschrift Nr. 635 690; USA.-Patentschrift Nr. 2 606 960.
DEI9602A 1953-12-31 1954-12-30 Transistor mit elastisch angeordneten und dicht benachbarten Spitzenelektroden Pending DE1021490B (de)

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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE256970C (de) *
DE287607C (de) *
FR585406A (fr) * 1923-09-03 1925-02-28 Perfectionnements aux rectificateurs à cristal utilisables en télégraphie et en téléphonie
FR586288A (fr) * 1923-09-25 1925-03-20 Burndept Ltd Perfectionnements aux détecteurs à cristal pour appareils de réception d'ondes sans fil
CH124623A (de) * 1926-11-18 1928-02-16 Ruthven Gill Edwin Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen für das Gleichrichten von Wechselströmen und darnach hergestellte Vorrichtung.
GB635690A (en) * 1946-07-31 1950-04-12 Gen Electric Co Ltd Improvements in and relating to crystal rectifiers
DE818654C (de) * 1948-02-18 1951-10-25 Westinghouse Freins & Signaux Punktkontaktsystem fuer Kristalldioden
US2606960A (en) * 1949-06-01 1952-08-12 Bell Telephone Labor Inc Semiconductor translating device

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE256970C (de) *
DE287607C (de) *
FR585406A (fr) * 1923-09-03 1925-02-28 Perfectionnements aux rectificateurs à cristal utilisables en télégraphie et en téléphonie
FR586288A (fr) * 1923-09-25 1925-03-20 Burndept Ltd Perfectionnements aux détecteurs à cristal pour appareils de réception d'ondes sans fil
CH124623A (de) * 1926-11-18 1928-02-16 Ruthven Gill Edwin Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen für das Gleichrichten von Wechselströmen und darnach hergestellte Vorrichtung.
GB635690A (en) * 1946-07-31 1950-04-12 Gen Electric Co Ltd Improvements in and relating to crystal rectifiers
DE818654C (de) * 1948-02-18 1951-10-25 Westinghouse Freins & Signaux Punktkontaktsystem fuer Kristalldioden
US2606960A (en) * 1949-06-01 1952-08-12 Bell Telephone Labor Inc Semiconductor translating device

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