DE102024200776A1

DE102024200776A1 - Manipulator zum Justieren eines optischen Elements

Info

Publication number: DE102024200776A1
Application number: DE102024200776.5A
Authority: DE
Inventors: Maximilian Steinhauser; Tim Schulte; Michiel Louwe
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2024-01-29
Filing date: 2024-01-29
Publication date: 2024-12-19

Abstract

Ein Manipulator (134) zum Justieren eines optischen Elements (102) weist eine Magnetbaugruppe (142), die mit dem optischen Element (102) koppelbar ist, eine Spulenbaugruppe (152), die mittels der Magnetbaugruppe (142) linear verlagerbar ist, um das optische Element (102) zu justieren, ein Manipulatorgehäuse (140), mit dem die Spulenbaugruppe (152) verbunden ist und das zur Ableitung von Wärme aus der Spulenbaugruppe (152) dient, und ein Masseelement (166) auf. Die Spulenbaugruppe (152) ist über einen Verbindungsabschnitt (168) mit dem Masseelement (166) verbunden.

Description

Die Erfindung betrifft einen Manipulator zum Justieren eines optischen Elements mit einer Magnetbaugruppe, die mit dem optischen Element koppelbar ist, und mit einer Spulenbaugruppe, die mittels der Magnetbaugruppe linear verlagerbar ist, um das optische Element zu justieren.
Die Erfindung betrifft des Weiteren ein optisches System für eine Anlage für die Halbleitertechnologie, eine Anlage für die Halbleitertechnologie und ein elektronisches Bauteil.
Als Anlagen für die Halbleitertechnologie werden im Stand der Technik solche Anlagen bezeichnet, die zur Herstellung oder Überprüfung von mikrostrukturierten Bauelementen oder der dafür erforderlichen Komponenten genutzt werden. Ein Beispiel für eine solche Anlage ist eine Projektionsbelichtungsanlage für die Fotolithografie.
Die Fotolithografie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Die dabei verwendete Projektionsbelichtungsanlage umfasst ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem. Das Bild einer durch das Beleuchtungssystem beleuchteten Maske (auch als Retikel bezeichnet) wird mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, verkleinernd projiziert, um die Maskenstruktur auf einem auf dem Substrat befindliche, lichtempfindliche Beschichtung zu übertragen.
Aus der DE 10 2022 211 799 A1 ist ein Manipulator zum Justieren eines optischen Elements mit einem Manipulatorgehäuse, einer Magnetbaugruppe und einer Spulenbaugruppe bekannt. Die Spulenbaugruppe weist ein austauschbares Masseelement auf, mit dem die Eigenfrequenz des Manipulators eingestellt werden kann. Der nach dem elektromotorischen Prinzip, also mit der Lorentzkraft arbeitende Manipulator ist in der Lage, das optische Element mit äußerst hoher Genauigkeit zu justieren. Die zur Aktuierung der Magnetbaugruppe dienende Spulenbaugruppe erwärmt sich mit zunehmender Kraft, was zu sehr hohen Anforderungen an die Wärmeabfuhr führt.
Ein weiteres Problem der bekannten Lösung kann darin bestehen, dass die einzelnen Komponenten des Manipulators bei Defekten einzelner Komponenten bzw. einzelner Bestandteile der Komponenten nicht ausgetauscht werden können und vielmehr ein kompletter Austausch des Manipulators erforderlich ist.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Manipulator zum Justieren eines optischen Elements zu schaffen, der eine verbesserte Wärmeabfuhr und ein zuverlässigeres, konsistenteres dynamisches Verhalten gewährleistet.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch in Anspruch 1 genannten Merkmale gelöst.
Der erfindungsgemäße Manipulator zum Justieren eines optischen Elements weist demnach eine mit dem optischen Element koppelbare Magnetbaugruppe, eine mittels der Magnetbaugruppe linear verlagerbare Spulenbaugruppe zur Justierung des optischen Elements, ein Manipulatorgehäuse, mit dem die Spulenbaugruppe verbunden ist und das zur Ableitung von Wärme aus der Spulenbaugruppe dient, und ein Masseelement auf, welches das gewünschte dynamische Verhalten einstellt und eine Phasenverschiebung hervorruft. Hierbei ist die Spulenbaugruppe über einen Verbindungsabschnitt mit dem Masseelement verbunden.
Das Masseelement ist demnach nicht unmittelbar, sondern lediglich mittelbar über den Verbindungsabschnitt mit der Spulenbaugruppe verbunden, wodurch eine gegenseitige Beeinflussung dieser beiden Bauteile verhindert wird. Vielmehr kann das Masseelement die ihm zugedachte Aufgabe, nämlich die Einstellung der gewünschten Dynamik, übernehmen, wohingegen das Manipulatorgehäuse die in der Spulenbaugruppe entstehende Wärme abführt.
In einer sehr vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass das Manipulatorgehäuse den Verbindungsabschnitt zur Verbindung der Spulenbaugruppe mit dem Masseelement aufweist. Durch die Integration des zur Verbindung der Spulenbaugruppe mit dem Masseelement dienenden Verbindungsabschnitts in das Manipulatorgehäuse ergibt sich nicht nur eine sehr einfache Konstruktion, sondern es wird auch eine sehr zuverlässige Ableitung der in der Spulenbaugruppe entstehenden Wärme in das Manipulatorgehäuse gewährleistet.
In einer weiteren sehr vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Spulenbaugruppe lösbar mit dem Verbindungsabschnitt verbunden ist. Auf diese Weise lässt sich die Spulenbaugruppe sehr einfach von dem Verbindungsabschnitt entfernen, wodurch beispielsweise bei einem Defekt im Bereich der Spulenbaugruppe diese sehr einfach ausgetauscht werden kann. Dies spart nicht nur Kosten, sondern ermöglicht auch schnellere Reparaturen. Des Weiteren kann durch diese Ausgestaltung auf bislang verwendete Klebeverbindungen verzichtet werden, wodurch der gesamte Manipulator thermisch zuverlässiger ausgeführt ist.
Eine sehr einfache Ausführung der lösbaren Verbindung der Spulenbaugruppe mit dem Verbindungsabschnitt ergibt sich, wenn die Spulenbaugruppe mittels Schrauben mit dem Verbindungsabschnitt verbunden ist. Es sind jedoch auch andere Verbindungselemente denkbar.
Des Weiteren kann vorgesehen sein, dass die Spulenbaugruppe über eine Passung an dem Verbindungsabschnitt aufgenommen ist. Auf diese Weise ergibt sich eine sehr exakte Verbindung der Spulenbaugruppe mit dem Verbindungsabschnitt.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung kann vorgesehen sein, dass das Masseelement lösbar mit dem Verbindungsabschnitt verbunden ist. Dadurch kann das Masseelement, ähnlich wie die Spulenbaugruppe, bei einem Defekt sehr einfach von dem Verbindungsabschnitt abgenommen und durch ein anderes Masseelement ersetzt werden.
In diesem Zusammenhang kann vorgesehen sein, dass das Masseelement mittels Schrauben mit dem Verbindungsabschnitt verbunden ist. Dies ermöglicht eine sehr einfache Anbringung und ein sehr einfaches Lösen des Masseelements von dem Verbindungsabschnitt. Auch hier sind andere Verbindungselemente denkbar.
Eine weitere sehr vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung kann darin bestehen, dass das Masseelement einen mit dem Manipulatorgehäuse verbundenen ersten Bestandteil und einen mit dem mit dem Manipulatorgehäuse verbundenen ersten Bestandteil verbundenen zweiten Bestandteil aufweist. Auf diese Weise kann die das dynamische Verhalten maßgeblich beeinflussende Masse des Masseelements auf sehr einfache Weise an die jeweiligen Erfordernisse angepasst werden.
In Anspruch 9 ist ein optisches System für eine Anlage für die Halbleitertechnologie mit einem optischen Element und mit einem erfindungsgemäßen Manipulator angegeben, bei welcher die Magnetbaugruppe mit dem optischen Element gekoppelt ist.
Ein derartiges optisches System kann beispielsweise einen Spiegel als optisches Element enthalten, der mittels des Manipulators justiert wird.
Eine Anlage für die Halbleitertechnologie mit wenigstens einem erfindungsgemäßen Manipulator und/oder einem erfindungsgemäßen optischen System ist in Anspruch 10 angegeben.
Als „Anlage für die Halbleitertechnologie“ wird in Zusammenhang mit der vorliegenden Erfindung jegliche Anlage bezeichnet, die zur Herstellung oder Überprüfung von mikrostrukturierten Bauelementen oder der dafür erforderlichen Komponenten genutzt werden kann. Neben Projektionsbelichtungsanlagen für die Fotolithografie umfasst dies insbesondere auch Inspektionsanlagen, insbesondere für Masken oder Wafer, sowie Metrologiesysteme, mit denen Masken, Wafer oder sonstige andere optische Elemente, wie insbesondere Spiegel, vermessen werden können, wobei eine erhöhte Variabilität in der Beleuchtung die Messergebnisse verbessern kann.
In Anspruch 11 ist ein mit Hilfe einer derartigen Anlage der Halbleitertechnologie hergestelltes elektronisches Bauteil angegeben, das vorzugsweise Strukturen im Mikro- und/oder Nanometerbereich aufweist.
Merkmale, die im Zusammenhang mit einem der Gegenstände der Erfindung, namentlich gegeben durch das erfindungsgemäße Verfahren, die erfindungsgemäße Vorrichtung oder die erfindungsgemäße EUV-Projektionsbelichtungsanlage, beschrieben wurden, sind auch für die anderen Gegenstände der Erfindung vorteilhaft umsetzbar. Ebenso können Vorteile, die im Zusammenhang mit einem der Gegenstände der Erfindung genannt wurden, auch auf die anderen Gegenstände der Erfindung bezogen verstanden werden.
Ergänzend sei darauf hingewiesen, dass Begriffe wie „umfassend“, „aufweisend“ oder „mit“ keine anderen Merkmale oder Schritte ausschließen. Ferner schließen Begriffe wie „ein“ oder „das“, die auf eine Einzahl von Schritten oder Merkmalen hinweisen, keine Mehrzahl von Merkmalen oder Schritten aus - und umgekehrt.
In einer puristischen Ausführungsform der Erfindung kann allerdings auch vorgesehen sein, dass die in der Erfindung mit den Begriffen „umfassend“, „aufweisend“ oder „mit“ eingeführten Merkmale abschließend aufgezählt sind. Dementsprechend kann eine oder können mehrere Aufzählungen von Merkmalen im Rahmen der Erfindung als abgeschlossen betrachtet werden, beispielsweise jeweils für jeden Anspruch betrachtet. Die Erfindung kann beispielsweise ausschließlich aus den in Anspruch 1 genannten Merkmalen bestehen.
Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher beschrieben.
Die Figuren zeigen jeweils bevorzugte Ausführungsbeispiele, in denen einzelne Merkmale der vorliegenden Erfindung in Kombination miteinander dargestellt sind. Merkmale eines Ausführungsbeispiels sind auch losgelöst von den anderen Merkmalen des gleichen Ausführungsbeispiels umsetzbar und können dementsprechend von einem Fachmann ohne Weiteres zu weiteren sinnvollen Kombinationen und Unterkombinationen mit Merkmalen anderer Ausführungsbeispiele verbunden werden.
Es zeigen:

1 einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie;
2 eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines optischen Systems für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
3 eine schematische Draufsicht auf das optische System gemäß 2; und
4 eine schematische Schnittansicht eines Manipulators für das optische System gemäß 2.

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Lithografieanlage) insbesondere einer EUV-Lithografieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- bzw. Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht.
Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar.
In 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x-Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objektebene 6.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.
Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.
Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Lichtquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-&Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln.
Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Engl.: Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.
Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.
Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche auch als Feldfacetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in 1 beispielhaft einige dargestellt.
Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.
Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.
Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 .
Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.
Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.
Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.
Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly's Eye Integrator) bezeichnet.
Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.
Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.
Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen.
Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.
Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 bzw. mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.
Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.
Bei dem in 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.
Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.
Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, By in x- und y-Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, By der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (8x, βy) = (+/- 0,25, +/- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab 6 bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.
Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.
Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.
Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.
Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .
Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.
Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.
Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet.
Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.
Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.
Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.
Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.
Bei der in 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.
2 zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines optisches Systems 100 für die Projektionsbelichtungsanlage 1. 3 zeigt eine schematische Aufsicht des optischen Systems 100. Nachfolgend wird auf die 2 und 3 gleichzeitig Bezug genommen.
Das optische System 100 kann eine wie zuvor erläuterte Projektionsoptik 4 oder Teil einer derartigen Projektionsoptik 4 sein. Daher kann das optische System 100 auch als Projektionsoptik bezeichnet werden. Das optische System 100 kann jedoch auch ein wie zuvor erläutertes Beleuchtungssystem 2 oder Teil eines derartigen Beleuchtungssystems 2 sein. Daher kann das optische System 100 alternativ auch als Beleuchtungssystem bezeichnet werden. Nachfolgend wird jedoch davon ausgegangen, dass das optische System 100 eine Projektionsoptik 4 oder Teil einer derartigen Projektionsoptik 4 ist. Das optische System 100 ist für die EUV-Lithografie geeignet. Das optische System 100 kann jedoch auch für die DUV-Lithografie geeignet sein.
Das optische System 100 kann mehrere optische Elemente 102 umfassen, von denen in den 2 und 3 jedoch nur eines gezeigt ist. Daher wird nachfolgend auf nur ein optisches Element 102 eingegangen. Das optische Element 102 kann einer der Spiegel M1 bis M6 sein. Das optische Element 102 umfasst ein Substrat 104 und eine optisch wirksame Fläche 106, beispielsweise eine Spiegelfläche. Das Substrat 104 kann auch als Spiegelsubstrat bezeichnet werden. Das Substrat 104 kann Glas, Keramik, Glaskeramik oder andere geeignete Werkstoffe umfassen.
Die optisch wirksame Fläche 106 ist an einer Vorderseite 108 des Substrats 104 vorgesehen. Die optisch wirksame Fläche 106 kann mit Hilfe einer auf die Vorderseite 108 aufgebrachten Beschichtung verwirklicht sein. Die optisch wirksame Fläche 106 ist eine Spiegelfläche. Die optisch wirksame Fläche 106 ist geeignet, im Betrieb des optischen Systems 100 Beleuchtungsstrahlung 16, insbesondere EUV-Strahlung, zu reflektieren. Die optisch wirksame Fläche 106 kann in der Aufsicht gemäß 3 eine ovale oder elliptische Geometrie aufweisen. Das optische Element 102 bzw. das Substrat 104 kann eine dreieckförmige Geometrie aufweisen. Grundsätzlich ist die Geometrie jedoch beliebig.
Der optisch wirksamen Fläche 106 bzw. der Vorderseite 108 abgewandt weist das optische Element 102 eine Rückseite 110 auf. Die Rückseite 110 weist keine definierten optischen Eigenschaften auf. Das heißt insbesondere, dass die Rückseite 110 keine Spiegelfläche ist und somit auch keine reflektierenden Eigenschaften aufweist.
An der Rückseite 110 sind mehrere Spiegelbuchsen 112, 114, 116 vorgesehen. Es sind eine erste Spiegelbuchse 112, eine zweite Spiegelbuchse 114 und eine dritte Spiegelbuchse 116 vorgesehen. Mit anderen Worten umfasst das optische Element 102 genau drei Spiegelbuchsen 112, 114, 116. Die Spiegelbuchsen 112, 114, 116 können geometrisch identisch aufgebaut sein. Die Spiegelbuchsen 112, 114, 116 sind zylinderförmig und erstrecken sich in der Orientierung der 2 unterseitig aus der Rückseite 110 heraus. Die Spiegelbuchsen 112, 114, 116 bilden Ecken eines gedachten Dreiecks.
Das optische Element 102 bzw. die optisch wirksame Fläche 106 weist sechs Freiheitsgrade, nämlich drei translatorische Freiheitsgrade jeweils entlang der ersten Raumrichtung oder x-Richtung x, der zweiten Raumrichtung oder y-Richtung y und der dritten Raumrichtung oder z-Richtung z sowie drei rotatorische Freiheitsgrade jeweils um die x-Richtung x, die y-Richtung y und die z-Richtung z auf. Das heißt, eine Position und eine Orientierung des optischen Elements 102 bzw. der optisch wirksamen Fläche 106 können mit Hilfe der sechs Freiheitsgrade bestimmt oder beschrieben werden.
Unter der „Position“ des optischen Elements 102 bzw. der optisch wirksamen Fläche 106 sind insbesondere dessen bzw. deren Koordinaten oder die Koordinaten eines an dem optischen Element 102 vorgesehenen Messpunkts bezüglich der x-Richtung x, der y-Richtung y und der z-Richtung z zu verstehen. Unter der „Orientierung“ des optischen Elements 102 bzw. der optisch wirksamen Fläche 106 ist insbesondere dessen bzw. deren Verkippung bezüglich der drei Raumrichtungen x, y, z zu verstehen. Das heißt, das optische Element 102 bzw. die optisch wirksame Fläche 106 kann um die x-Richtung x, die y-Richtung y und/oder die z-Richtung z verkippt werden.
Hiermit ergeben sich die sechs Freiheitsgrade für die Position und/oder Orientierung des optischen Elements 102 bzw. der optisch wirksamen Fläche 106. Eine „Lage" des optischen Elements 102 bzw. der optisch wirksamen Fläche 106 umfasst sowohl dessen bzw. deren Position als auch dessen bzw. deren Orientierung. Der Begriff „Lage“ ist demgemäß durch die Formulierung „Position und Orientierung“ und umgekehrt ersetzbar.
In 2 ist mit durchgezogenen Linien eine Ist-Lage IL des optischen Elements 102 bzw. der optisch wirksamen Fläche 106 und mit gestrichelten Linien und dem Bezugszeichen 102' bzw. 106' eine Soll-Lage SL des optischen Elements 102 bzw. der optisch wirksamen Fläche 106 gezeigt. Das optische Element 102 kann aus seiner Ist-Lage IL in die Soll-Lage SL und umgekehrt verbracht werden. Beispielsweise erfüllt das optische Element 102 in der Soll-Lage SL bestimmte optische Spezifikationen oder Anforderungen, die das optische Element 102 in der Ist-Lage IL nicht erfüllt.
Um das optische Element 102 aus der Ist-Lage IL in die Soll-Lage SL zu verbringen, umfasst das optische System 100 eine Justiereinrichtung 118. Die Justiereinrichtung 118 ist dazu eingerichtet, das optische Element 102 zu justieren. Unter einem „Justieren“ oder „Ausrichten“ ist vorliegend insbesondere ein Verändern der Lage des optischen Elements 102 zu verstehen. Beispielsweise kann das optische Element 102 mit Hilfe der Justiereinrichtung 118 von der Ist-Lage IL in die Soll-Lage SL und umgekehrt verbracht werden. Die Justierung oder Ausrichtung des optischen Elements 102 kann somit mit Hilfe der Justiereinrichtung 118 in allen sechs vorgenannten Freiheitsgraden erfolgen.
Die Justiereinrichtung 118 umfasst mehrere Manipulatoranordnungen 120, 122, 124, die in 2 nur sehr stark schematisiert gezeigt sind. Die Manipulatoranordnungen 120, 122, 124 können auch als Stellelementanordnungen bezeichnet werden. Jeder Spiegelbuchse 112, 114, 116 ist eine Manipulatoranordnung 120, 122, 124 zugeordnet. Das heißt insbesondere, dass genau drei Manipulatoranordnungen 120, 122, 124 vorgesehen sind. Jeder Manipulatoranordnung 120, 122, 124 können zwei der vorgenannten Freiheitsgrade zugeordnet sein. Mit den drei Manipulatoranordnungen 120, 122, 124 ist somit eine Justage des optischen Elements 102 in allen sechs Freiheitsgraden möglich.
Der ersten Spiegelbuchse 112 ist eine erste Manipulatoranordnung 120 zugeordnet. Der zweiten Spiegelbuchse 114 ist eine zweite Manipulatoranordnung 122 zugeordnet. Der dritten Spiegelbuchse 116 ist eine dritte Manipulatoranordnung 124 zugeordnet. Die Manipulatoranordnungen 120, 122, 124 sind identisch aufgebaut. Nachfolgend wird daher nur auf die erste Manipulatoranordnung 120 bzw. auf die erste Spiegelbuchse 112 eingegangen, die im Folgenden einfach als Manipulatoranordnung 120 bzw. als Spiegelbuchse 112 bezeichnet werden. Alle nachfolgenden Ausführungen betreffend die Manipulatoranordnung 120 sind auf die Manipulatoranordnungen 122, 124 und umgekehrt anwendbar.
Die Manipulatoranordnung 120 ist über einen Anbindungspunkt 126 mit der Spiegelbuchse 112 gekoppelt. Ferner ist die Manipulatoranordnung 120 über zwei weitere Anbindungspunkte 128, 130 mit einer festen Welt 132 gekoppelt. Die feste Welt 132 kann ein Tragrahmen (Engl.: Force Frame) oder eine sonstige unbewegliche Struktur sein.
Die Manipulatoranordnung 120 weist zwei Manipulatoren 134, 136, insbesondere einen ersten Manipulator 134 und einen zweiten Manipulator 136, auf. Mit Hilfe aller Manipulatoren 134, 136 aller Manipulatoranordnungen 120, 122, 124 sind die sechs Freiheitsgrade des optischen Elements 102 justierbar. Die Manipulatoren 134, 136 können auch als Stellelemente, Aktuatoren oder Aktoren bezeichnet werden.
Insbesondere sind die Manipulatoren 134, 136 sogenannte Voice Coil Manipulatoren (VCM) oder Voice Coil Aktoren (VCA) oder können als solche bezeichnet werden.
Beide Manipulatoren 134, 136 sind an dem Anbindungspunkt 126 an die Spiegelbuchse 112 angebunden. Ferner sind die Manipulatoren 134, 136, über die Anbindungspunkte 128, 130 an die feste Welt 132 angebunden. Die Manipulatoren 134, 136 sind mit Hilfe einer Steuer- und Regeleinheit 138 der Justiereinrichtung 118 ansteuerbar, um das optische Element 102 zu justieren. Alle Manipulatoren 134, 136 aller Manipulatoranordnungen 120, 122, 124 sind mit der Steuer- und Regeleinheit 138 wirkverbunden, so dass die Steuer- und Regeleinheit 138 mit Hilfe eines geeigneten Ansteuerns der Manipulatoren 134, 136 das optische Element 102 in allen sechs Freiheitsgraden justieren kann. Dies kann basierend auf Sensorsignalen einer nicht dargestellten Sensorik erfolgen, welche die Ist-Lage IL und die Soll-Lage SL des optischen Elements 102 erfassen kann.
4 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines wie zuvor erwähnten ersten Manipulators 134. Der zweite Manipulator 136 kann identisch zu dem ersten Manipulator 134 ausgebildet sein, dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich.
Der erste Manipulator 134 weist ein Manipulatorgehäuse 140 auf, das an die feste Welt 132 angebunden ist. Beispielsweise kann das Manipulatorgehäuse 140 an dem Anbindungspunkt 128 an die feste Welt 132 angebunden sein. Eine Magnetbaugruppe 142 ist über zwei Federelemente 144, 146 an das Manipulatorgehäuse 140 angekoppelt. Die Federelemente 144, 146 können zum Beispiel als Blattfedern ausgebildet sein. Die Magnetbaugruppe 142 weist ein rohrförmiges Magnetbaugruppengehäuse und einen außenseitig an dem Magnetbaugruppengehäuse angebrachten Magneten auf. Der Magnet kann beispielsweise als Permanentmagnet ausgebildet sein. Das Magnetbaugruppengehäuse ist mittels der Federelemente 144, 146 mit dem Manipulatorgehäuse 140 verbunden. Das optische Element 102 ist mittels eines Federelements 148 an die Magnetbaugruppe 142 angekoppelt.
Eine ringförmige Spulenbaugruppe 152 läuft um das Magnetbaugruppengehäuse um. Das Magnetbaugruppengehäuse ist somit durch die Spulenbaugruppe 152 hindurchgeführt. Die Spulenbaugruppe 152 weist eine Spule und eine Reaktionsmasse auf, wie später noch erläutert wird. Die Spulenbaugruppe 152 kann sich gegenüber dem Magnetbaugruppengehäuse oder umgekehrt bewegen. An das Magnetbaugruppengehäuse ist ein Manipulatorpin angebunden, der wiederum über den Anbindungspunkt 126 an die Spiegelbuchse 112 angekoppelt ist. Der Manipulatorpin liegt schräg in einer von der y-Richtung y und der z-Richtung z aufgespannten Ebene. Insbesondere ist der Manipulatorpin schräg zu der y-Richtung y und der z-Richtung z geneigt. Der Manipulatorpin ist insbesondere in einem Neigungswinkel α relativ zu der z-Richtung z geneigt. Der Neigungswinkel α kann 60° betragen.
Die Spulenbaugruppe 152 ist mittels eines Federelements 156 mit dem Manipulatorgehäuse 140 verbunden. Ferner ist die Spulenbaugruppe 152 mittels eines Dämpfers 158 mit dem Manipulatorgehäuse 140 gekoppelt. Der Dämpfer 158 kann durch eine Wirbelstrombremse verwirklicht werden. Die Spulenbaugruppe 152, das Federelement 156 und der Dämpfer 158 bilden ein Feder-Masse-Dämpfer-System 160 des ersten Manipulators 134.
Die Spulenbaugruppe 152 ist demnach mit dem Manipulatorgehäuse 140 verbunden, wobei das Manipulatorgehäuse 140 zur Ableitung von Wärme aus der Spulenbaugruppe dient.
Des Weiteren weist der Manipulator 134 ein Masseelement 166 auf, das zur Anpassung bzw. Variation der dynamischen Entkopplung dient. Das Masseelement 166 ist über einen Verbindungsabschnitt 168 mit der Spulenbaugruppe 152 verbunden. In 4 ist des Weiteren zu erkennen, dass das Masseelement 166 einen über den Verbindungsabschnitt 168 mit dem Manipulatorgehäuse 140 verbundenen ersten Bestandteil 166a und einen mit dem mit dem Manipulatorgehäuse 140 verbundenen ersten Bestandteil 166a verbundenen zweiten Bestandteil 166b aufweist. Auf diese Weise kann das Masseelement 166 sehr flexibel an die jeweiligen Erfordernisse angepasst werden, beispielsweise um die Masse m des Feder-Masse-Dämpfer-Systems 160 und damit dessen Eigenfrequenz ω bzw. dessen dynamisches Verhalten einzustellen. Hierzu kann das an dem ersten Bestandteil 166a des Masseelements 166 verbundene zweite Bestandteil 166b ausgetauscht werden.
Das Manipulatorgehäuse 140 weist dabei den zur Verbindung der Spulenbaugruppe 152 mit dem Masseelement 166 dienenden Verbindungsabschnitt 168 auf.
Vorzugsweise ist die Spulenbaugruppe 152 lösbar mit dem Verbindungsabschnitt 168 verbunden. Diese Verbindung der Spulenbaugruppe 152 mit dem Verbindungsabschnitt 168 kann dadurch realisiert werden, dass die Spulenbaugruppe 152 mittels nicht dargestellter Schrauben an dem Verbindungsabschnitt 168 angeschraubt ist.
Des Weiteren kann die Spulenbaugruppe 152 über eine Passung an dem Verbindungsabschnitt 168 aufgenommen sein.
Auch das Masseelement 166 ist vorzugsweise lösbar mit dem Verbindungsabschnitt 168 verbunden. Auch die Verbindung des Masseelements 166 mit dem Verbindungsabschnitt 168 kann mittels Schrauben realisiert sein.
Der Dämpfer 158 ist vorzugsweise ebenfalls mittels einer lösbaren bzw. nicht permanenten Verbindung zwischen dem Manipulatorgehäuse 140 und der Spulenbaugruppe 152 angeordnet.
Im Betrieb des ersten Manipulators 134 wirken zwischen der Spulenbaugruppe 152 und der Magnetbaugruppe 142 Lorentzkräfte, wie mittels eines Pfeils 162 angedeutet ist. Der mit dem Magnetbaugruppengehäuse verbundene Manipulatorpin bewegt sich hierdurch in einer ersten Bewegungsrichtung 164. Die erste Bewegungsrichtung 164 ist in der von der y-Richtung y und der z-Richtung z aufgespannten Ebene angeordnet und schräg zu der y-Richtung y und der z-Richtung z orientiert. Die erste Bewegungsrichtung 164 verläuft entlang des Manipulatorpins.
Bezugszeichenliste

1: Projektionsbelichtungsanlage
2: Beleuchtungssystem
3: Lichtquelle
4: Beleuchtungsoptik
5: Objektfeld
6: Objektebene
7: Retikel
8: Retikelhalter
9: Retikelverlagerungsantrieb
10: Projektionsoptik
11: Bildfeld
12: Bildebene
13: Wafer
14: Waferhalter
15: Waferverlagerungsantrieb
16: Beleuchtungsstrahlung
17: Kollektor
18: Zwischenfokusebene
19: Umlenkspiegel
20: erster Facettenspiegel
21: erste Facette
22: zweiter Facettenspiegel
23: zweite Facette
100: optisches System
102: optisches Element
102': optisches Element
104: Substrat
106: optisch wirksame Fläche
106': optisch wirksame Fläche
108: Vorderseite
110: Rückseite
112: Spiegelbuchse
114: Spiegelbuchse
116: Spiegelbuchse
118: Justiereinrichtung
120: Manipulatoranordnung
122: Manipulatoranordnung
124: Manipulatoranordnung
126: Anbindungspunkt
128: Anbindungspunkt
130: Anbindungspunkt
132: feste Welt
134: Manipulator
136: Manipulator
138: Steuer- und Regeleinheit
140: Manipulatorgehäuse
142: Magnetbaugruppe
144: Federelement
146: Federelement
148: Federelement
152: Spulenbaugruppe
156: Federelement
158: Dämpfer
160: Feder-Masse-Dämpfer-System
162: Pfeil
164: Bewegungsrichtung
166: Masseelement
166a: erster Bestandteil
166b: zweiter Bestandteil
168: Verbindungsabschnitt
IL: Ist-Lage
M1: Spiegel
M2: Spiegel
M3: Spiegel
M4: Spiegel
M5: Spiegel
M6: Spiegel
SL: Soll-Lage
x: x-Richtung
y: y-Richtung
z: z-Richtung
α: Neigungswinkel
ω: Eigenfrequenz

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

DE 10 2022 211 799 A1 [0005]
DE 10 2008 009 600 A1 [0040, 0044]
US 2006/0132747 A1 [0042]
EP 1 614 008 B1 [0042]
US 6,573,978 [0042]
DE 10 2017 220 586 A1 [0047]
US 2018/0074303 A1 [0061]

Claims

Manipulator (134) zum Justieren eines optischen Elements (102), mit einer Magnetbaugruppe (142), die mit dem optischen Element (102) koppelbar ist, mit einer Spulenbaugruppe (152), die mittels der Magnetbaugruppe (142) linear verlagerbar ist, um das optische Element (102) zu justieren, mit einem Manipulatorgehäuse (140), mit dem die Spulenbaugruppe (152) verbunden ist und das zur Ableitung von Wärme aus der Spulenbaugruppe (152) dient, und mit einem Masseelement (166), wobei die Spulenbaugruppe (152) über einen Verbindungsabschnitt (168) mit dem Masseelement (166) verbunden ist.
Manipulator (134) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Manipulatorgehäuse (140) den Verbindungsabschnitt (168) zur Verbindung der Spulenbaugruppe (152) mit dem Masseelement (166) aufweist.
Manipulator (134) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Spulenbaugruppe (152) lösbar mit dem Verbindungsabschnitt (168) verbunden ist.
Manipulator (134) nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Spulenbaugruppe (152) mittels Schrauben mit dem Verbindungsabschnitt (168) verbunden ist.
Manipulator (134) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Spulenbaugruppe (152) über eine Passung an dem Verbindungsabschnitt (168) aufgenommen ist.
Manipulator (134) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Masseelement (166) lösbar mit dem Verbindungsabschnitt (168) verbunden ist.
Manipulator (134) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Masseelement (166) mittels Schrauben mit dem Verbindungsabschnitt (168) verbunden ist.
Manipulator (134) nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Masseelement (166) einen mit dem Manipulatorgehäuse (140) verbundenen ersten Bestandteil (166a) und einen mit dem mit dem Manipulatorgehäuse (140) verbundenen ersten Bestandteil (166a) verbundenen zweiten Bestandteil (166b) aufweist.
Optisches System (100) für eine Anlage für die Halbleitertechnologie (1), mit einem optischen Element (102) und mit einem Manipulator (134) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Magnetbaugruppe (142) mit dem optischen Element (102) gekoppelt ist.
Anlage für die Halbleitertechnologie (1) mit wenigstens einem Manipulator (134) nach einem der Ansprüche 1 bis 8 und/oder einem optischen System (100) nach Anspruch 9.
Elektronisches Bauteil, dadurch gekennzeichnet, dass das Bauteil mithilfe einer Anlage der Halbleitertechnologie (1) gemäß Anspruch 10 hergestellt ist, wobei das Bauteil vorzugweise Strukturen im Mikrometer- und/oder Nanometerbereich aufweist.