[go: up one dir, main page]

DE102006008975A1 - Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents

Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens Download PDF

Info

Publication number
DE102006008975A1
DE102006008975A1 DE200610008975 DE102006008975A DE102006008975A1 DE 102006008975 A1 DE102006008975 A1 DE 102006008975A1 DE 200610008975 DE200610008975 DE 200610008975 DE 102006008975 A DE102006008975 A DE 102006008975A DE 102006008975 A1 DE102006008975 A1 DE 102006008975A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
chamber
vacuum
substrate
vacuum valve
valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE200610008975
Other languages
English (en)
Other versions
DE102006008975B4 (de
Inventor
Bernd-Dieter Wenzel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Von Ardenne Anlagentechnik GmbH
Original Assignee
Von Ardenne Anlagentechnik GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Von Ardenne Anlagentechnik GmbH filed Critical Von Ardenne Anlagentechnik GmbH
Priority to DE200610008975 priority Critical patent/DE102006008975B4/de
Publication of DE102006008975A1 publication Critical patent/DE102006008975A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102006008975B4 publication Critical patent/DE102006008975B4/de
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • C23C14/566Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/541Heating or cooling of the substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Der Erfindung, die ein Verfahren und eine Vakuumbeschichtungsanlage zum Beschichten eines Substrats betrifft, wobei das Substrat vor oder in einer ersten Kammer auf einen Substrathalter gegeben wird, wobei das Substrat mit der Transporteinrichtung von einer ersten Kammer in eine zweite Kammer, die als Beschichtungskammer ausgeführt und durch ein Vakuumventil von der ersten Kammer getrennt ist, transportiert und vor der Beschichtung mittels einer Heizeinrichtung vorgeheizt wird, liegt die Aufgabe zugrunde, eine große Längenausdehnung des Anlagenaufbaus zu verringern und eine Ausführung von Reparaturen der Anlage bei laufendem Bedampfungsprozess zu verbessern. Dies wird dadurch erreicht, dass das Vorheizen nach dem Schließen des ersten Vakuumventils in situ in der ersten Kammer erfolgt.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats in einer Vakuumbeschichtungsanlage, wobei das Substrat vor oder in einer ersten Kammer auf einen Substrathalter gegeben wird. Die erste Kammer wird mittels eines ersten Vakuumventils anschließend gegen Atmosphäre geschlossen und danach evakuiert. Das Substrat wird mit der Transporteinrichtung in eine zweite Kammer, die als Beschichtungskammer ausgeführt und durch ein Vakuumventil von der ersten Kammer getrennt ist, nach Öffnen des zweiten Vakuumventils transportiert und in dieser nach Schließen des zweiten Vakuumventils beschichtet. Das Substrat wird vor der Beschichtung mittels einer Heizeinrichtung vorgeheizt.
  • Weiterhin betrifft die Erfindung eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens. Diese ist mit einem ersten Vakuumventil gegen Atmosphäre verschließbar. Es ist eine zweite Vakuumkammer, die mit der ersten Vakuumkammer verbunden und über ein zweites Vakuumventil von dieser trennbar ist, vorgesehen. Weiterhin ist die Vakuumbeschichtungsanlage mit einem Substrathalter, der auf einer Transporteinrichtung durch die erste in die zweite Vakuumkammer auf einer Bewegungsbahn bewegbar ist, und mit einer Heizeinrichtung versehen.
  • Es sind Vakuumbeschichtungsanlagen der eingangs genannten Art als Mehrkammervakuumanlagen zum Bedampfen von Substraten mit Wärmeschutzschichten bekannt, die aus mehreren Prozesskammern bestehen. Nach dem Stand der Technik werden in der ersten Kammer oder davor üblicherweise die Substrate an einem Substrathalter befestigt.
  • Nach einem Evakuierungs-Prozessschritt wird in dieser ersten Kammer ein Kammerventil geöffnet und der Substrathalter mit den Substraten in eine zweite geheizte Kammer bewegt, in der die Substrate aufgeheizt werden. Nach dem Aufheizen der Substrate wird ein weiteres Kammerventil geöffnet und der Substrathalter mit den Substraten wird in eine weitere Kammer, eine Bedampfungskammer, geführt.
  • Ist der Substrathalter mit einer Transporteinrichtung als Sting ausgeführt, wird der Substrathalter mit den Substraten nach dem Bedampfen wieder in die Eingabekammer zurück bewegt, in der die Substrate abgekühlt und aus dieser danach entnommen werden.
  • In dem Fall, dass die Transporteinrichtung als Trolley ausgeführt ist, wird der Substrathalter mit den Substraten abgekühlt und nachfolgend werden die Substrate aus einer Entnahmekammer entnommen.
  • Anlagen, bei der die Transporteinrichtung als Sting ausgeführt ist, werden vorzugsweise so gestaltet, dass eine Beschickung der Bedampfungskammer symmetrisch erfolgen kann.
  • Es wird eine gute Auslastung der Anlage dadurch ermöglicht, dass wechselseitig jeweils ein Sting von rechts bzw. von links in die Bedampfungskammer bewegt wird. Solche Anlagen bestehen meistens aus mindestens fünf in Reihe geschalteten Kammern.
  • Da der schiebende Sting etwa die Länge von einer Einlege- und Heizkammer hat, ergibt sich bei einer Doppelsting-Anlage eine Gesamtlänge der neunfachen der Kammerlänge. Diese große Kammerlänge ist erheblich nachteilbehaftet. Die hintereinander liegenden Kammern bringen auch den Nachteil mit sich, dass bei einer erforderlichen Wartung oder Reparatur in einer der Kammern die verbundenen Kammern ebenfalls nicht betriebsbereit sind.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, einerseits die große Längenausdehnung des Anlagenaufbaus zu verringern und andererseits eine Ausführung von Reparaturen der Anlage bei laufendem Bedampfungsprozess zu verbessern.
  • Die verfahrensseitige erfindungsgemäße Lösung der Aufgabenstellung wird dadurch erreicht, dass das Vorheizen nach dem Schließen des ersten Vakuumventils in situ in der ersten Kammer erfolgt.
  • Da nach dem Schließen des ersten Vakuumventils die Evakuierung der ersten Kammer erfolgt, geschieht das Aufheizen des Substrates bereits unter weitgehendem Ausschluss von atmosphärischen Einflüssen. Somit kann beispielsweise eine Oxidation des Heizers oder der Substratoberfläche vermieden werden. Andererseits wird die erste Kammer zum einen als Vakuumschleuse betrieben und zum anderen als Vorheizstation genutzt, so dass sich eine zusätzliche Vorheizstation erübrigen kann, wodurch die Baulänge verkürzt wird.
  • In einer günstigen Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist vorgesehen, dass die Heizeinrichtung vor dem Schließen des ersten Vakuumventils außerhalb der ersten Kammer von dieser vakuumdicht getrennt, gehalten wird. Nach Schließen des ersten Vakuumventils wird die Heizeinrichtung zumindest während des Vorheizens des Substrates in die erste Kammer eingebracht und spätestens vor einem erneuten Öffnen des ersten Vakuumventils wieder vakuumdicht von der ersten Kammer getrennt verbracht.
  • Zum Aufheizen des Substrates wird die bewegliche Heizeinrichtung nach einer Evakuierungsphase in die erste Kammer gefahren und nach dem erfolgten Aufheizen zurück an den Ausgangspunkt geführt.
  • Damit wird es möglich, die Heizeinrichtung ständig auf Heiztemperatur zu halten, wodurch Temperaturwechsel vermieden werden können. Zum einen ist die Heizeinrichtung damit jederzeit sofort betriebsbereit und die Aufheizphase kann kurz gehalten werden. Andererseits wird durch das vakuumdichte Verbringen der Heizeinrichtung während sie nicht benötigt wird, ein Verbleiben der Heizeinrichtung in einem Vakuum ermöglicht, wodurch wiederum atmosphärische Störeinflüsse vermieden werden können.
  • Mit dieser erfindungsgemäßen Lösung wird die Anzahl der Kammern in Transportrichtung verringert und es ergibt sich eine Verkürzung z. B. der Doppelsting-Bedampfungsanlage von ca. 9 Kammerlängen auf fünf Kammerlängen.
  • Da sich die bewegliche Heizeinrichtung beim Bedampfen, anders als beim Stand der Technik, von der ersten Kammer getrennt ist, wird ein Bedampfen der Heizeinrichtung, die zumeist aus Grafitheizern besteht, mit Streudampf beim Bedampfen des Substrate verhindert.
  • Bei geschlossenem dritten Vakuumventil können am Heizer Reparaturen durchgeführt werden, auch wenn sich ein Substrat in der Bedampfungsphase befindet, beispielsweise auch, wenn ein Sting in der Vakuumbeschichtungsanlage eingeschoben ist.
  • Es wird allerdings auch möglich, die Vakuumbeschichtungsanlage als Durchlaufanlage zu betreiben. Damit wird erreicht, dass der Bedampfungsprozess in der Bedampfungskammer verstetigt wird, indem umlaufend nacheinander Substrate einen Bedampfungs-Prozessschritt in der Bedampfungskammer erfahren, während mit dem jeweils andere Substrate in vor- und nachgeschalteten Kammern die vor- und nachbearbeitenden Prozessschritte ausgeführt werden.
  • In einer günstigen Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens ist auch vorgesehen, dass das Substrat mittels eines Sting in die zweite Kammer einbracht und aus dieser ausgebracht wird, wobei die Heizeinrichtung nach dem Einfahren des Sting in die erste Kammer bis zum Einfahren des Sting in die zweite Kammer in die erste Kammer eingebracht wird.
  • Damit wird erreicht, dass der Bedampfungsprozess in der Bedampfungskammer verstetigt wird, indem nacheinander Substrate, die von einer Seite in die Vakuumbeschichtungskammer eingebracht wurden, einen Bedampfungs-Prozessschritt in der Bedampfungskammer erfahren, während jeweils andere Substrate aus einer Entnahmekammer entnommen werden.
  • Die anordnungsseitige erfindungsgemäße Lösung der Aufgabenstellung wird dadurch erreicht, dass eine dritte Kammer vorgesehen ist, die neben der Bewegungsbahn und neben der ersten Kammer angeordnet ist, dass zwischen der ersten und der dritten Kammer ein drittes Vakuumventil angeordnet ist, und dass die Heizeinrichtung von der dritten in die erste Kammer und umgekehrt bewegbar ausgeführt ist.
  • Die dritte Kammer dient damit der Aufbewahrung der Heizeinrichtung während der Zeit, in der sie nicht zur Aufwärmung des Substrates benötigt wird. Nach einem Einfahren des Substrates in die erste Kammer wird in dieser ein Vakuum erzeugt. Anschließend kann das dritte Vakuumventil geöffnet werden. Da in der dritten Vakuumkammer während des gesamten Prozesses Vakuum vorgehalten werden kann, wird das Vakuum in der ersten Kammer nach einer Öffnung des dritten Vakuumventils nicht oder nur unwesentlich gestört. Jetzt kann die Heizeinrichtung in die erste Kammer eingefahren werden und erwärmt dort das Substrat. Ist das Substrat vorgewärmt, ist die Funktion der Heizeinrichtung erfüllt. Diese kann nun wieder in die dritte Kammer gefahren werden. Auch kann nun das dritte Vakuumventil geschlossen werden.
  • Jetzt wird das Substrat in die zweite Kammer eingefahren und dort beschichtet. Hierzu wird das zweite Vakuumventil geöffnet.
  • Nach der Beschichtung wird das Substrat wieder abgekühlt. Bei einer diskontinuierlich arbeitenden Vakuumbeschichtungsanlage, d.h. einer solchen, die keinen Durchlaufbetrieb realisiert, wird dieser Abkühlvorgang wieder in der ersten Kammer erfolgen. Dies ist auch möglich, da ja die Heizeinrichtung bereits aus der ersten Kammer ausgefahren werden konnte. In diesem Falle genügt die erste Kammer also drei Funktionen: Einer Schleusenfunktion, die Funktion einer Vorheizkammer und die Funktion einer Abkühlkammer. Die Integration dieser drei Funktionen in der ersten Kammer bei einer diskontinuierlich arbeitenden Vakuumbeschichtungsanlage zeigt besonders deutlich, welche Vorteile mit der Erfindung erreicht werden können, da für die drei Funktionen nur eine einzige Kammer in der Bewegungsbahn erforderlich ist, wodurch die Längserstreckung der Anlage erheblich verringert werden kann.
  • In einer Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Anordnung ist vorgesehen, dass das dritte Vakuumventil als Klappenventil ausgeführt ist. Damit kann eine relativ einfache Bauweise realisiert werden.
  • In einer weiteren Ausführungsform ist die Transporteinrichtung als Sting ausgeführt. Der Einsatz eines Sting ist eine besonders einfache Realisierung einer Transporteinrichtung, durch den ein diskontinuierlicher Betrieb realisiert wird. Wie oben bereits dargestellt, werden durch die Erfindung wesentliche Nachteile beim Aufbau diskontinuierlich arbeitender Anlagen vermieden, so dass in der Ausgestaltung mit einem Sting ein geringer technischer Aufwand bei einer Verringerung von Nachteilen erreichen lässt.
  • Für eine bessere Auslastung der zweiten Kammer ist weiterhin vorgesehen, dass spiegelbildlich zu der zweiten Kammer die erste und dritte Kammer ein zweites Mal angeordnet ist.
  • Durch diese Ausgestaltung wird es möglich, die zweite Kammer von zwei Seiten zu beschicken, um damit die Auslastung der Beschichtungsstation zu erhöhen.
  • Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. Die zugehörige Zeichnungsfigur zeigt den schematischen Aufbau einer Doppel-Sting-Bedampfungsanlage.
  • Hierbei sind zwei erste Kammern 1, 2 vorgesehen, die zu beiden Seiten einer als Bedampfungskammer ausgeführten zweiten Kammer 3 angeordnet sind. Die ersten Kammern 1, 2 sind gegenüber Atmosphäre mit ersten Vakuumventilen 4, 5 verschließbar. Zwischen den ersten Kammern 1, 2 und der zweiten Kammer 3 sind zweite Vakuumventile 6, 7 angeordnet.
  • In der zweiten Kammer 3 wird eine Dampfwolke 8 erzeugt. An den ersten Kammern 1, 2 sind jeweils dritte Kammern 9, 10 angeordnet. Die dritten Kammern 9, 10 können auch mit ihren ersten Kammern 1, 2 integriert sein. Die dritten Kammern 9, 10 sind von ihren jeweils ersten Kammern 1, 2 über dritte Vakuumventile 11, 12 abgetrennt. Die dritten Vakuumventile 11, 12 sind als Klappenventile ausgeführt.
  • In den dritten Kammern 9, 10 sind Heizeinrichtungen 13, 14 angeordnet, die in die Bewegungsbahn 15 der Substrate 16, 17 bewegbar sind.
  • Zur Einführung eines Substrates 16, 17 von der einen und der anderen Seite wird jeweils ein Sting 18, 19 eingesetzt, deren Funktion nachfolgend an einer Seite erläutert wird. Bei der Einführung des Sting 18 mit dem darauf befestigten Substrat 16 in die erste Kammer 1 ist ein erstes Vakuumventil 4, geöffnet. Das dritte Vakuumventil 11 ist geschlossen.
  • Mit der Positionierung des Substrates 16 wird das erste Vakuumventil 4 geschlossen und die nunmehr abgeschlossene erste Kammer 1 wird evakuiert.
  • Nach dem der Evakuierung der ersten Kammer 1 wird das dritte Vakuumventil 11 geöffnet und die Heizeinrichtung 13 in die erste Kammer 1 und um das Substrat 16 so positioniert, dass dieses aufgeheizt wird.
  • Wenn der Heizvorgang abgeschlossen ist, wird die Heizeinrichtung 13 wieder an ihren Ausgangspunkt in der dritten Kammer 9 geführt und das dritte Vakuumventil 11 wird geschlossen.
  • Nunmehr wird das zweite Vakuumventil 6 und damit die zweite Kammer 3 und das Substrat 16 in den vorgesehenen Ort verschoben und die zweite Kammer 3 geschlossen, so dass in der Dampfwolke 8 die Bedampfung des Substrats 16 erfolgen kann.
  • Nach Abschluss des Bedampfungsvorganges werden die nachbearbeitenden Prozessschritte abgearbeitet, so dass nachfolgend das in der ersten Kammer 1 wieder abgekühlte Substrat 16 entnommen wird.
  • Im Anschluss wird der gleiche Vorgang auf der anderen Seite wiederholt. Dabei wird das Substrat 17 bereits in der ersten Kammer 2 aufgeheizt, während das Substrat 16 in der zweiten Kammer 3 beschichtet wird, so dass eine bestmögliche Auslastung der zweiten Kammer 3 erreicht werden kann.
  • 1
    erste Kammer
    2
    erste Kammer
    3
    zweite Kammer
    4
    erstes Vakuumventil
    5
    erstes Vakuumventil
    6
    zweites Vakuumventil
    7
    zweites Vakuumventil
    8
    Dampfwolke
    9
    dritte Kammer
    10
    dritte Kammer
    11
    drittes Vakuumventil
    12
    drittes Vakuumventil
    13
    Heizeinrichtung
    14
    Heizeinrichtung
    15
    Bewegungsbahn
    16
    Substrat
    17
    Substrat
    18
    Sting
    19
    Sting

Claims (7)

  1. Verfahren zum Beschichten eines Substrats in einer Vakuumbeschichtungsanlage, wobei das Substrat vor oder in einer ersten Kammer auf einen Substrathalter gegeben wird, die erste Kammer mittels eines ersten Vakuumventils anschließend gegen Atmosphäre geschlossen und danach evakuiert wird, das Substrat mit der Transporteinrichtung in eine zweite Kammer, die als Beschichtungskammer ausgeführt und durch ein Vakuumventil von der ersten Kammer getrennt ist, nach Öffnen des zweiten Vakuumventils transportiert und in dieser nach Schließen des zweiten Vakuumventils beschichtet wird und wobei das Substrat vor der Beschichtung mittels einer Heizeinrichtung vorgeheizt wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Vorheizen nach dem Schließen des ersten Vakuumventils (4; 5) in situ in der ersten Kammer (1; 2) erfolgt.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Heizeinrichtung (13; 14) vor dem Schließen des ersten Vakuumventils (4; 5) außerhalb der ersten Kammer (1; 2), von dieser vakuumdicht getrennt, gehalten und nach Schließen des ersten Vakuumventils (4; 5) zumindest während des Vorheizen des Substrates (16; 17) in die erste Kammer (1; 2) eingebracht und spätestens vor einem erneuten Öffnen des ersten Vakuumventils (4; 5) wieder vakuumdicht von der ersten Kammer (1; 2) getrennt verbracht wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (16; 17) mittels eines Sting (18; 19) in die zweite Kammer (3) einbracht und aus dieser ausgebracht wird, wobei die Heizeinrichtung (13; 14) nach dem Einfahren des Sting (18; 19) in die erste Kammer (1; 2) bis zum Einfahren des Sting (18; 19) in die zweite Kammer (3) in die erste Kammer (1; 2) eingebracht wird.
  4. Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder 2, mit einer ersten Vakuumkammer die mit einem ersten Vakuumventil gegen Atmosphäre verschließbar ist, einer zweiten Vakuumkammer, die mit der ersten Vakuumkammer verbunden und über ein zweites Vakuumventil von dieser trennbar ist, einem Substrathalter, der auf einer Transporteinrichtung durch die erste in die zweite Vakuumkammer auf einer Bewegungsbahn bewegbar ist, und mit einer Heizeinrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass eine dritte Kammer (9; 10) vorgesehen ist, die neben der Bewegungsbahn (15) und neben der ersten Kammer (1; 2) angeordnet ist, dass zwischen der ersten (1; 2) und der dritten Kammer (9; 10) ein drittes Vakuumventil (11; 12) angeordnet ist, und dass die Heizeinrichtung (13; 14) von der dritten (9; 10) in die erste Kammer (1; 2) und umgekehrt bewegbar ausgeführt ist.
  5. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das dritte Vakuumventil (11; 12) als Klappenventil ausgeführt ist.
  6. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Transporteinrichtung als Sting (18; 19) ausgeführt ist.
  7. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass spiegelbildlich zu der zweiten Kammer (3) die erste (1; 2) und dritte Kammer (9; 10) ein zweites Mal angeordnet ist.
DE200610008975 2006-02-23 2006-02-23 Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens Expired - Fee Related DE102006008975B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200610008975 DE102006008975B4 (de) 2006-02-23 2006-02-23 Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200610008975 DE102006008975B4 (de) 2006-02-23 2006-02-23 Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102006008975A1 true DE102006008975A1 (de) 2007-09-06
DE102006008975B4 DE102006008975B4 (de) 2012-04-19

Family

ID=38329079

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE200610008975 Expired - Fee Related DE102006008975B4 (de) 2006-02-23 2006-02-23 Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102006008975B4 (de)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3568632A (en) * 1969-03-24 1971-03-09 Gary F Cawthon Lens coating apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
DE102006008975B4 (de) 2012-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2812271C2 (de) Vorrichtung mit mehreren Schleusenkammern zum chargenweisen Beschichten von Substraten
EP2026927B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur temperaturbehandlung, insbesondere lotverbindung
EP1036212B1 (de) Einrichtung zur vakuumbeschichtung von gleitlagern
DE3815006A1 (de) Vorrichtung zum herstellen von beschichtungen mit abgestufter zusammensetzung
WO2016050442A1 (de) Nadelgreifer
DE102007012370A1 (de) Bedampfungseinrichtung und Bedampfungsverfahren zur Molekularstrahlbedampfung und Molekularstrahlepitaxie
DE19537092C1 (de) Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für thermisch hoch belastete Substrate
DE102008026001A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung und Bearbeitung von Schichten auf Substraten unter definierter Prozessatmosphäre
EP1165854B1 (de) Verfahren und einrichtung zur beschichtung eines erzeugnisses
DE102011080202A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten
EP3348666B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur beschichtung von werkstücken
DE102006008975A1 (de) Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens
DE102019210063A1 (de) Substratfördereinrichtung und verfahren zum fördern eines substrats
EP0953657A2 (de) Vakuumbeschichtungsanlage
EP3314035B1 (de) Fördereinrichtung für ein substrat
DE102009019573A1 (de) Ofen und Verfahren zum Erwärmen wenigstens eines Werkstückes
DE102023210469B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur selektiven Modifikation der Schichtmorphologie in Supraleitern
DE19913802C1 (de) Behandlungsverfahren für thermisch hoch belastete Substrate in Elektronenstrahl-Bedampfungsanlagen
DE102007058053B4 (de) Diffusionsofen und Verfahren zur Erzeugung einer Gasströmung
DE19914129C2 (de) Verfahren zum doppelseitigen Beschichten eines Substrates mit insbesondere einem Hochtemperatursupraleiter-Material durch Materialabscheidung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE2535767C3 (de) Übergabevorrichtung zwischen zwei benachbarten, durch eine Schleuse miteinander in Verbindung stehenden Durchlauföfen
DE102022203819A1 (de) Additives Herstellungsverfahren zur Herstellung von Bauteilen mittels Schmelzschichtung von Filament-Material
DE102009011695A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Umsetzung metallischer Precursorschichten in halbleitende Schichten
DE202016101044U1 (de) Prozessieranordnung
DE102025151861A1 (de) Erwärmen von Bauteilen in einem Durchlaufofen

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
R016 Response to examination communication
R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee
R020 Patent grant now final

Effective date: 20120720

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20120901