DE102006008975B4 - Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
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Abstract
Verfahren zum Beschichten eines Substrats in einer Vakuumbeschichtungsanlage, wobei das Substrat vor oder in einer ersten Kammer auf einen Substrathalter gegeben wird, die erste Kammer mittels eines ersten Vakuumventils anschließend gegen Atmosphäre geschlossen und danach evakuiert wird, das Substrat mit der Transporteinrichtung in eine zweite Kammer, die als Beschichtungskammer ausgeführt und durch ein Vakuumventil von der ersten Kammer getrennt ist, nach Öffnen des zweiten Vakuumventils transportiert und in dieser nach Schließen des zweiten Vakuumventils beschichtet wird und wobei das Substrat vor der Beschichtung mittels einer Heizeinrichtung vorgeheizt wird, wobei das Vorheizen nach dem Schließen des ersten Vakuumventils (4; 5) in situ in der ersten Kammer (1; 2) erfolgt, dadurch gekennzeichnet, dass die Heizeinrichtung (13; 14) vor dem Schließen des ersten Vakuumventils (4; 5) außerhalb der ersten Kammer (1; 2), von dieser vakuumdicht getrennt, gehalten und nach Schließen des ersten Vakuumventils (4; 5) zumindest während des Vorheizen des Substrates (16;...
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats in einer Vakuumbeschichtungsanlage, wobei das Substrat vor oder in einer ersten Kammer auf einen Substrathalter gegeben wird. Die erste Kammer wird mittels eines ersten Vakuumventils anschließend gegen Atmosphäre geschlossen und danach evakuiert. Das Substrat wird mit der Transporteinrichtung in eine zweite Kammer, die als Beschichtungskammer ausgeführt und durch ein Vakuumventil von der ersten Kammer getrennt ist, nach Öffnen des zweiten Vakuumventils transportiert und in dieser nach Schließen des zweiten Vakuumventils beschichtet. Das Substrat wird vor der Beschichtung mittels einer Heizeinrichtung vorgeheizt.
- Weiterhin betrifft die Erfindung eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens. Diese ist mit einem ersten Vakuumventil gegen Atmosphäre verschließbar. Es ist eine zweite Vakuumkammer, die mit der ersten Vakuumkammer verbunden und über ein zweites Vakuumventil von dieser trennbar ist, vorgesehen. Weiterhin ist die Vakuumbeschichtungsanlage mit einem Substrathalter, der auf einer Transporteinrichtung durch die erste in die zweite Vakuumkammer auf einer Bewegungsbahn bewegbar ist, und mit einer Heizeinrichtung versehen.
- Es sind Vakuumbeschichtungsanlagen der eingangs genannten Art als Mehrkammervakuumanlagen zum Bedampfen von Substraten mit Wärmeschutzschichten bekannt, die aus mehreren Prozesskammern bestehen. Nach dem Stand der Technik werden in der ersten Kammer oder davor üblicherweise die Substrate an einem Substrathalter befestigt.
- Nach einem Evakuierungs-Prozessschritt wird in dieser ersten Kammer ein Kammerventil geöffnet und der Substrathalter mit den Substraten in eine zweite geheizte Kammer bewegt, in der die Substrate aufgeheizt werden. Nach dem Aufheizen der Substrate wird ein weiteres Kammerventil geöffnet und der Substrathalter mit den Substraten wird in eine weitere Kammer, eine Bedampfungskammer, geführt.
- Die
US 3,586,632 beschreibt ein ähnliches Verfahren. Bei diesem wird eine Beschichtungsvorrichtung beschrieben, die aus drei Vakuumkammern besteht und durch die zu beschichtende Substrate geführt werden. Dabei ist die erste Kammer als Vorheizkammer vorgesehen. Aus dieser kann unter Öffnen eines Vakuumventils die Substrathalterung in eine Beschichtungskammer überführt werden und von dieser nach der Beschichtung in eine Abkühlkammer gegeben werden. - Ist der Substrathalter mit einer Transporteinrichtung als Sting ausgeführt, wird der Substrathalter mit den Substraten nach dem Bedampfen wieder in die Eingabekammer zurück bewegt, in der die Substrate abgekühlt und aus dieser danach entnommen werden.
- In dem Fall, dass die Transporteinrichtung als Trolley ausgeführt ist, wird der Substrathalter mit den Substraten abgekühlt und nachfolgend werden die Substrate aus einer Entnahmekammer entnommen.
- Anlagen, bei der die Transporteinrichtung als Sting ausgeführt ist, werden vorzugsweise so gestaltet, dass eine Beschickung der Bedampfungskammer symmetrisch erfolgen kann.
- Es wird eine gute Auslastung der Anlage dadurch ermöglicht, dass wechselseitig jeweils ein Sting von rechts bzw. von links in die Bedampfungskammer bewegt wird. Solche Anlagen bestehen meistens aus mindestens fünf in Reihe geschalteten Kammern.
- Da der schiebende Sting etwa die Länge von einer Einlege- und Heizkammer hat, ergibt sich bei einer Doppelsting-Anlage eine Gesamtlänge der neunfachen der Kammerlänge. Diese große Kammerlänge ist erheblich nachteilbehaftet. Die hintereinander liegenden Kammern bringen auch den Nachteil mit sich, dass bei einer erforderlichen Wartung oder Reparatur in einer der Kammern die verbundenen Kammern ebenfalls nicht betriebsbereit sind.
- Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, einerseits die große Längenausdehnung des Anlagenaufbaus zu verringern und andererseits eine Ausführung von Reparaturen der Anlage bei laufendem Bedampfungsprozess zu verbessern.
- Die verfahrensseitige erfindungsgemäße Lösung der Aufgabenstellung wird dadurch erreicht, dass das Vorheizen nach dem Schließen des ersten Vakuumventils in situ in der ersten Kammer erfolgt.
- Da nach dem Schließen des ersten Vakuumventils die Evakuierung der ersten Kammer erfolgt, geschieht das Aufheizen des Substrates bereits unter weitgehendem Ausschluss von atmosphärischen Einflüssen. Somit kann beispielsweise eine Oxidation des Heizers oder der Substratoberfläche vermieden werden. Andererseits wird die erste Kammer zum einen als Vakuumschleuse betrieben und zum anderen als Vorheizstation genutzt, so dass sich eine zusätzliche Vorheizstation erübrigen kann, wodurch die Baulänge verkürzt wird.
- In der Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist vorgesehen, dass die Heizeinrichtung vor dem Schließen des ersten Vakuumventils außerhalb der ersten Kammer von dieser vakuumdicht getrennt, gehalten wird. Nach Schließen des ersten Vakuumventils wird die Heizeinrichtung zumindest während des Vorheizens des Substrates in die erste Kammer eingebracht und spätestens vor einem erneuten Öffnen des ersten Vakuumventils wieder vakuumdicht von der ersten Kammer getrennt verbracht.
- Zum Aufheizen des Substrates wird die bewegliche Heizeinrichtung nach einer Evakuierungsphase in die erste Kammer gefahren und nach dem erfolgten Aufheizen zurück an den Ausgangspunkt geführt.
- Damit wird es möglich, die Heizeinrichtung ständig auf Heiztemperatur zu halten, wodurch Temperaturwechsel vermieden werden können. Zum einen ist die Heizeinrichtung damit jederzeit sofort betriebsbereit und die Aufheizphase kann kurz gehalten werden. Andererseits wird durch das vakuumdichte Verbringen der Heizeinrichtung während sie nicht benötigt wird, ein Verbleiben der Heizeinrichtung in einem Vakuum ermöglicht, wodurch wiederum atmosphärische Störeinflüsse vermieden werden können.
- Mit dieser erfindungsgemäßen Lösung wird die Anzahl der Kammern in Transportrichtung verringert und es ergibt sich eine Verkürzung z. B. der Doppelsting-Bedampfungsanlage von ca. 9 Kammerlängen auf fünf Kammerlängen.
- Da sich die bewegliche Heizeinrichtung beim Bedampfen, anders als beim Stand der Technik, von der ersten Kammer getrennt ist, wird ein Bedampfen der Heizeinrichtung, die zumeist aus Grafitheizern besteht, mit Streudampf beim Bedampfen des Substrate verhindert.
- Bei geschlossenem dritten Vakuumventil können am Heizer Reparaturen durchgeführt werden, auch wenn sich ein Substrat in der Bedampfungsphase befindet, beispielsweise auch, wenn ein Sting in der Vakuumbeschichtungsanlage eingeschoben ist.
- Es wird allerdings auch möglich, die Vakuumbeschichtungsanlage als Durchlaufanlage zu betreiben. Damit wird erreicht, dass der Bedampfungsprozess in der Bedampfungskammer verstetigt wird, indem umlaufend nacheinander Substrate einen Bedampfungs-Prozessschritt in der Bedampfungskammer erfahren, während mit dem jeweils andere Substrate in vor- und nachgeschalteten Kammern die vor- und nachbearbeitenden Prozessschritte ausgeführt werden.
- In einer günstigen Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens ist auch vorgesehen, dass das Substrat mittels eines Sting in die zweite Kammer einbracht und aus dieser ausgebracht wird, wobei die Heizeinrichtung nach dem Einfahren des Sting in die erste Kammer bis zum Einfahren des Sting in die zweite Kammer in die erste Kammer eingebracht wird.
- Damit wird erreicht, dass der Bedampfungsprozess in der Bedampfungskammer verstetigt wird, indem nacheinander Substrate, die von einer Seite in die Vakuumbeschichtungskammer eingebracht wurden, einen Bedampfungs-Prozessschritt in der Bedampfungskammer erfahren, während jeweils andere Substrate aus einer Entnahmekammer entnommen werden.
- Die anordnungsseitige erfindungsgemäße Lösung der Aufgabenstellung wird dadurch erreicht, dass eine dritte Kammer vorgesehen ist, die neben der Bewegungsbahn und neben der ersten Kammer angeordnet ist, dass zwischen der ersten und der dritten Kammer ein drittes Vakuumventil angeordnet ist, und dass die Heizeinrichtung von der dritten in die erste Kammer und umgekehrt bewegbar ausgeführt ist.
- Die dritte Kammer dient damit der Aufbewahrung der Heizeinrichtung während der Zeit, in der sie nicht zur Aufwärmung des Substrates benötigt wird. Nach einem Einfahren des Substrates in die erste Kammer wird in dieser ein Vakuum erzeugt. Anschließend kann das dritte Vakuumventil geöffnet werden. Da in der dritten Vakuumkammer während des gesamten Prozesses Vakuum vorgehalten werden kann, wird das Vakuum in der ersten Kammer nach einer Öffnung des dritten Vakuumventils nicht oder nur unwesentlich gestört. Jetzt kann die Heizeinrichtung in die erste Kammer eingefahren werden und erwärmt dort das Substrat. Ist das Substrat vorgewärmt, ist die Funktion der Heizeinrichtung erfüllt. Diese kann nun wieder in die dritte Kammer gefahren werden. Auch kann nun das dritte Vakuumventil geschlossen werden.
- Jetzt wird das Substrat in die zweite Kammer eingefahren und dort beschichtet. Hierzu wird das zweite Vakuumventil geöffnet.
- Nach der Beschichtung wird das Substrat wieder abgekühlt. Bei einer diskontinuierlich arbeitenden Vakuumbeschichtungsanlage, d. h. einer solchen, die keinen Durchlaufbetrieb realisiert, wird dieser Abkühlvorgang wieder in der ersten Kammer erfolgen. Dies ist auch möglich, da ja die Heizeinrichtung bereits aus der ersten Kammer ausgefahren werden konnte. In diesem Falle genügt die erste Kammer also drei Funktionen: Einer Schleusenfunktion, die Funktion einer Vorheizkammer und die Funktion einer Abkühlkammer. Die Integration dieser drei Funktionen in der ersten Kammer bei einer diskontinuierlich arbeitenden Vakuumbeschichtungsanlage zeigt besonders deutlich, welche Vorteile mit der Erfindung erreicht werden können, da für die drei Funktionen nur eine einzige Kammer in der Bewegungsbahn erforderlich ist, wodurch die Längserstreckung der Anlage erheblich verringert werden kann.
- In einer Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Anordnung ist vorgesehen, dass das dritte Vakuumventil als Klappenventil ausgeführt ist. Damit kann eine relativ einfache Bauweise realisiert werden.
- In einer weiteren Ausführungsform ist die Transporteinrichtung als Sting ausgeführt. Der Einsatz eines Sting ist eine besonders einfache Realisierung einer Transporteinrichtung, durch den ein diskontinuierlicher Betrieb realisiert wird. Wie oben bereits dargestellt, werden durch die Erfindung wesentliche Nachteile beim Aufbau diskontinuierlich arbeitender Anlagen vermieden, so dass in der Ausgestaltung mit einem Sting ein geringer technischer Aufwand bei einer Verringerung von Nachteilen erreichen lässt.
- Für eine bessere Auslastung der zweiten Kammer ist weiterhin vorgesehen, dass spiegelbildlich zu der zweiten Kammer die erste und dritte Kammer ein zweites Mal angeordnet ist.
- Durch diese Ausgestaltung wird es möglich, die zweite Kammer von zwei Seiten zu beschicken, um damit die Auslastung der Beschichtungsstation zu erhöhen.
- Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. Die zugehörige Zeichnungsfigur zeigt den schematischen Aufbau einer Doppel-Sting-Bedampfungsanlage.
- Hierbei sind zwei erste Kammern
1 ,2 vorgesehen, die zu beiden Seiten einer als Bedampfungskammer ausgeführten zweiten Kammer3 angeordnet sind. Die ersten Kammern1 ,2 sind gegenüber Atmosphäre mit ersten Vakuumventilen4 ,5 verschließbar. Zwischen den ersten Kammern1 ,2 und der zweiten Kammer3 sind zweite Vakuumventile6 ,7 angeordnet. - In der zweiten Kammer
3 wird eine Dampfwolke8 erzeugt. An den ersten Kammern1 ,2 sind jeweils dritte Kammern9 ,10 angeordnet. Die dritten Kammern9 ,10 können auch mit ihren ersten Kammern1 ,2 integriert sein. Die dritten Kammern9 ,10 sind von ihren jeweils ersten Kammern1 ,2 über dritte Vakuumventile11 ,12 abgetrennt. Die dritten Vakuumventile11 ,12 sind als Klappenventile ausgeführt. - In den dritten Kammern
9 ,10 sind Heizeinrichtungen13 ,14 angeordnet, die in die Bewegungsbahn15 der Substrate16 ,17 bewegbar sind. - Zur Einführung eines Substrates
16 ,17 von der einen und der anderen Seite wird jeweils ein Sting18 ,19 eingesetzt, deren Funktion nachfolgend an einer Seite erläutert wird. Bei der Einführung des Sting18 mit dem darauf befestigten Substrat16 in die erste Kammer1 ist ein erstes Vakuumventil4 , geöffnet. Das dritte Vakuumventil11 ist geschlossen. - Mit der Positionierung des Substrates
16 wird das erste Vakuumventil4 geschlossen und die nunmehr abgeschlossene erste Kammer1 wird evakuiert. - Nach dem der Evakuierung der ersten Kammer
1 wird das dritte Vakuumventil11 geöffnet und die Heizeinrichtung13 in die erste Kammer1 und um das Substrat16 so positioniert, dass dieses aufgeheizt wird. - Wenn der Heizvorgang abgeschlossen ist, wird die Heizeinrichtung
13 wieder an ihren Ausgangspunkt in der dritten Kammer9 geführt und das dritte Vakuumventil11 wird geschlossen. - Nunmehr wird das zweite Vakuumventil
6 und damit die zweite Kammer3 und das Substrat16 in den vorgesehenen Ort verschoben und die zweite Kammer3 geschlossen, so dass in der Dampfwolke8 die Bedampfung des Substrats16 erfolgen kann. - Nach Abschluss des Bedampfungsvorganges werden die nachbearbeitenden Prozessschritte abgearbeitet, so dass nachfolgend das in der ersten Kammer
1 wieder abgekühlte Substrat16 entnommen wird. - Im Anschluss wird der gleiche Vorgang auf der anderen Seite wiederholt. Dabei wird das Substrat
17 bereits in der ersten Kammer2 aufgeheizt, während das Substrat16 in der zweiten Kammer3 beschichtet wird, so dass eine bestmögliche Auslastung der zweiten Kammer3 erreicht werden kann. - Bezugszeichenliste
-
- 1
- erste Kammer
- 2
- erste Kammer
- 3
- zweite Kammer
- 4
- erstes Vakuumventil
- 5
- erstes Vakuumventil
- 6
- zweites Vakuumventil
- 7
- zweites Vakuumventil
- 8
- Dampfwolke
- 9
- dritte Kammer
- 10
- dritte Kammer
- 11
- drittes Vakuumventil
- 12
- drittes Vakuumventil
- 13
- Heizeinrichtung
- 14
- Heizeinrichtung
- 15
- Bewegungsbahn
- 16
- Substrat
- 17
- Substrat
- 18
- Sting
- 19
- Sting
Claims (6)
- Verfahren zum Beschichten eines Substrats in einer Vakuumbeschichtungsanlage, wobei das Substrat vor oder in einer ersten Kammer auf einen Substrathalter gegeben wird, die erste Kammer mittels eines ersten Vakuumventils anschließend gegen Atmosphäre geschlossen und danach evakuiert wird, das Substrat mit der Transporteinrichtung in eine zweite Kammer, die als Beschichtungskammer ausgeführt und durch ein Vakuumventil von der ersten Kammer getrennt ist, nach Öffnen des zweiten Vakuumventils transportiert und in dieser nach Schließen des zweiten Vakuumventils beschichtet wird und wobei das Substrat vor der Beschichtung mittels einer Heizeinrichtung vorgeheizt wird, wobei das Vorheizen nach dem Schließen des ersten Vakuumventils (
4 ;5 ) in situ in der ersten Kammer (1 ;2 ) erfolgt, dadurch gekennzeichnet, dass die Heizeinrichtung (13 ;14 ) vor dem Schließen des ersten Vakuumventils (4 ;5 ) außerhalb der ersten Kammer (1 ;2 ), von dieser vakuumdicht getrennt, gehalten und nach Schließen des ersten Vakuumventils (4 ;5 ) zumindest während des Vorheizen des Substrates (16 ;17 ) in die erste Kammer (1 ;2 ) eingebracht und spätestens vor einem erneuten Öffnen des ersten Vakuumventils (4 ;5 ) wieder vakuumdicht von der ersten Kammer (1 ;2 ) getrennt verbracht wird. - Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (
16 ;17 ) mittels eines Sting (18 ;19 ) in die zweite Kammer (3 ) eingebracht und aus dieser ausgebracht wird, wobei die Heizeinrichtung (13 ;14 ) nach dem Einfahren des Sting (18 ;19 ) in die erste Kammer (1 ;2 ) bis zum Einfahren des Sting (18 ;19 ) in die zweite Kammer (3 ) in die erste Kammer (1 ;2 ) eingebracht wird. - Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, mit einer ersten Vakuumkammer, die mit einem ersten Vakuumventil gegen Atmosphäre verschließbar ist, einer zweiten Vakuumkammer, die mit der ersten Vakuumkammer verbunden und über ein zweites Vakuumventil von dieser trennbar ist, einem Substrathalter, der auf einer Transporteinrichtung durch die erste in die zweite Vakuumkammer auf einer Bewegungsbahn bewegbar ist, und mit einer Heizeinrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass eine dritte Kammer (
9 ;10 ) vorgesehen ist, die neben der Bewegungsbahn (15 ) und neben der ersten Kammer (1 ;2 ) angeordnet ist, dass zwischen der ersten (1 ;2 ) und der dritten Kammer (9 ;10 ) ein drittes Vakuumventil (11 ;12 ) angeordnet ist, und dass die Heizeinrichtung (13 ;14 ) von der dritten (9 ;10 ) in die erste Kammer (1 ;2 ) und umgekehrt bewegbar ausgeführt ist. - Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das dritte Vakuumventil (
11 ;12 ) als Klappenventil ausgeführt ist. - Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Transporteinrichtung als Sting (
18 ;19 ) ausgeführt ist. - Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass spiegelbildlich zu der zweiten Kammer (
3 ) die erste (1 ;2 ) und dritte Kammer (9 ;10 ) ein zweites Mal angeordnet ist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE200610008975 DE102006008975B4 (de) | 2006-02-23 | 2006-02-23 | Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE200610008975 DE102006008975B4 (de) | 2006-02-23 | 2006-02-23 | Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102006008975A1 DE102006008975A1 (de) | 2007-09-06 |
| DE102006008975B4 true DE102006008975B4 (de) | 2012-04-19 |
Family
ID=38329079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE200610008975 Expired - Fee Related DE102006008975B4 (de) | 2006-02-23 | 2006-02-23 | Verfahren zum Beschichten eines Substrates in einer Vakuumbeschichtungskammer und Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102006008975B4 (de) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3568632A (en) * | 1969-03-24 | 1971-03-09 | Gary F Cawthon | Lens coating apparatus |
-
2006
- 2006-02-23 DE DE200610008975 patent/DE102006008975B4/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3568632A (en) * | 1969-03-24 | 1971-03-09 | Gary F Cawthon | Lens coating apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE102006008975A1 (de) | 2007-09-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee | ||
| R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20120720 |
|
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20120901 |