DE10112822A1 - Verfahren zur Hochreinniobproduktion - Google Patents
Verfahren zur HochreinniobproduktionInfo
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- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 61
- 239000010955 niobium Substances 0.000 title claims abstract description 61
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 60
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 50
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 47
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical group [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 28
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 17
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims abstract description 14
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims abstract description 14
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 8
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- AOLPZAHRYHXPLR-UHFFFAOYSA-I pentafluoroniobium Chemical compound F[Nb](F)(F)(F)F AOLPZAHRYHXPLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims 1
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 abstract description 8
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 5
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 abstract description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 3
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 26
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 3
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 3
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014443 Pyrus communis Nutrition 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282619 Hylobates lar Species 0.000 description 1
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGKMZNDDOBAZGW-UHFFFAOYSA-N aluminum calcium Chemical compound [Al].[Ca] RGKMZNDDOBAZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- GPGMRSSBVJNWRA-UHFFFAOYSA-N hydrochloride hydrofluoride Chemical compound F.Cl GPGMRSSBVJNWRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) fluoride Chemical class F[Ni]F DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/16—Remelting metals
- C22B9/22—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation
- C22B9/228—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation by particle radiation, e.g. electron beams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B34/00—Obtaining refractory metals
- C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
- C22B34/24—Obtaining niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C3/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
- C25C3/34—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts of metals not provided for in groups C25C3/02 - C25C3/32
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
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Abstract
Es ist ein Verfahren zur Hochreinniobproduktion mittels der Raffination von Rohniob im Elektrolyt beschrieben, der aus der Schmelze der Salze besteht, die den Komplexniob- und Kaliumfluorid und äquimolares Gemisch aus Alkalimetallchloriden enthalten, dem der Natriumfluorid in der Menge von 5 bis 15% Mass. mit dem weiteren Elektronenstrahlschmelzen des gewonnenen Kathodenrückstands im ölfreien Vakuum unter Druck der Restgase von 5.10·-5· bis 5.10·-7· mm Q.S., bei der Schmelzgeschwindigkeit von 0,7 bis 2 mm/min und der Anströmung im Schmelzraum von 0,05 bis 0,005 l.mum/sec mit der Niobgussblockproduktion beigemischt wird. Dadurch ergibt sich Hochreinniob mit dem Gesamtgehalt der Begleiter von 0,002 bis 0,007% Mass, das den Anforderungen entspricht, die an die Materialien gestellt werden, die in der UHF-Technik und der Mikroelektronik verwendet werden, Senkung von Niobverlusten in den beiden Raffinationsstufen und Steigerung der Hochreinniobausbeute.
Description
Die Erfindung betrifft das Gebiet der Metallurgie
hochschmelzender Seltenmetalle, insbesondere die Niobmetal
lurgie, und kann bei der Hochreinniobproduktion und bei der
Produktion der Produkte aus Niob für die UHF-Technik und
die Mikroelektronik verwendet werden.
An die Reinheit der auf diesen Gebieten der Technik
verwendbaren Materialien werden sehr hohe Anforderungen ge
stellt (Summe der Begleiter muss höchstens 0,01% Mass. oder
100 ppm/Masse sein). Elektrophysikalische Eigenschaften der
Geräte und der Vorrichtungen bestimmen Reinheitsgrad des Me
talls und der Produkte aus dem Metall.
Bekannt ist ein Verfahren zur Hochreinniobproduktion,
bei dem das aluminokalziumthermische Niob mit dem Nioban
fangsgehalt von 93 bis 96% Mass. der Raffination ausgesetzt
wird; die Raffination wird in einem Elektronenstrahlschmelz
ofen im Verfahren zum Abtropfschmelzen in eine Stranggussko
kile mit dem elektromagnetischen Durchmischen der Schmelze,
mit der Zuführung des verbrauchbaren Giessstrangs dem
Schmelzraum und dem Recken des Gussblocks durchgeführt. Der
während des Umschmelzens hergestellte Gussblock wird als
verbrauchbarer Giessstrang für das weitere Umschmelzen ge
braucht. Erforderliche Zahl der Umschmelzen wird durch den
Begleitergehalt im Ausgangsmetall und den erforderlichen
Raffinationsgrad bestimmt. Wenigstens eines der Umschmelzen,
ausgenommen das letzte Umschmelzen, wird im aufeinanderfol
genden Aufschmelzen der Metallchargen durchgeführt, von de
nen jede nach dem Aufschmelzen dem Halten unter gleichzei
tiger Einwirkung des Elektronenstrahls und elektromagneti
schem Durchmischen ausgesetzt wird, und nach dem Erzielen
des vorgegebenen Metallraffinationsgrades wird die nächste
Charge aufgeschmolzen. Das Halten wird nach der Abführung
des verbrauchbaren Giessstrangs aus dem Schmelzraum und der
Unterbrechung des Reckens des Gussblocks durchgeführt. Als
Endprodukt ist Niob der Marke Hb1, das dem staatlichen
Standard 16099-80 entspricht, nach dem der Gehalt von
Stickstoff-, Sauerstoff-, Kohlenstoff- und Aluminiumbeglei
tern 0,01% Mass. jedes Begleiters, beträgt, während die
Summe von Wolfram- und Molybdänbegleitern 0,01% Mass., der
Gehalt von Tantalbegleitern bis 0,1% Mass. beträgt (RU-PS
N2114928, bekanntgemacht am 10. 07. 98, IPK C228 34/24).
Der Nachteil dieses Verfahrens ist die Produktion von
Niob, in dem die Summe der Begleiter 0,15 bis 0,2% Mass.,
d. h. um zwanzigmal höher als erforderliche Summe, ist.
Bekannt ist ein Verfahren zur Hochreinniobproduktion,
das in der elektrolytischen Raffination von Ausgangsniob
aus den Fluoridchloridschmelzen und im weiteren Elektronen
strahlschmelzen des Kathodenmetalls besteht. Der Raffina
tionsvorgang besteht aus der Anodenauflösung von Rohniob in
der Schmelze, die Kaliumfluorniobat und äquimolekulares Ge
misch aus den Kalium- und Natriumchloriden enthält, mit der
Produktion des Kathodenmetalls mit relativ geringem Gehalt
der Begleiter von hochschmelzenden Metallen (Wolfram, Moly
bdän, Tantal), Stickstoff und Kohlenstoff. Das weitere Elek
tronenstrahlschmelzen ermöglicht, Gehalt von Sauerstoff,
Eisen, Silizium und Begleitern der Alkali- und Erdalkali
metalle wesentlich zu senken (siehe Selikman A. N. und and.
"Niobiy i tantal", M. Metallurgija, 1991, 156-161).
Nachteil dieses Verfahrens ist sehr hoher Gehalt der
Begleiter von Kohlenstoff (bis 0,02% Mass.) und Stickstoff
(bis 0,05% Mass.), die relativ langsam während des Elektro
nenstrahlschmelzens entfernt werden (d. h. ihre Entfernung
braucht Durchführung zusätzlicher Unischmelzen, was nicht
nur mit der Steigerung der Metallverluste bei der Ver
dampfung und der Verlängerung der Ablaufzeit des Schmelzens
sondern auch mit der Erhöhung der Konzentration der Beglei
ter von schwerflüchtigen Bestandteilen verbunden ist) und
hoher Gehalt der Wolfram- und Molybdänbegleiter (bis 0,001%
Mass. jedes Begleiters), die nicht nur während des Schmel
zens nicht entfernt werden, sondern auch im Gussblock in
folge der Verdampfung des Grundmetalls (Niob) und desto
mehr, je mehr Anzahl der Umschmelzen angesammelt werden.
Die Aufgabe des beanspruchten Verfahrens ist die Pro
duktion von Hochreinniob mit dem Gesamtgehalt der Begleiter
von 0,002 bis 0,007% Mass., das den Anforderungen entspricht,
die an die in der UHF-Technik und der Mikroelektronik ver
wendbaren Materialien gestellt werden, Senkung der Niobver
luste in beiden Raffinationsstufen und Steigerung der Hoch
reinniobausbeute.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, dass die elektroly
tische Raffination beim beanspruchten Verfahren zur Hoch
reinniobproduktion, das in der elektrolytischen Raffination
von Rohniob in der Schmelze der Salze, die Komplexniob- und
Kaliumfluorid (Kaliumfluorniobat) und äquimolekulares Ge
misch aus den Alkalimetallchloriden enthalten, und in dem
weiteren Elektronenstrahlschmelzen des gewonnenen Kathoden
rückstands im Vakuum besteht, bei der Beimischung vom Natrium
fluorid von 5 bis 15% Mass. dem Elektrolyt stattfindet, wä
rend das Elektronenstrahlschmelzen des Kathodenrückstands
im ölfreien Vakuum unter Druck der Restgase von 5.10-5 bis
5.10-7 mm Q. S., der Schmelzgeschwindigkeit von 0,7 bis
2 mm/min und der Anströmung im Schmelzraum von 0,05 bis
0,005 l.µm/sec mit der Niobgussblockproduktion erfolgt, wo
bei die elektrolytische Raffination im Schmelzen durchge
führt wird, das die Bestandteile im folgenden Verhältnis,
% Mass.:Kaliumfluorniobat 10 bis 20%, Natriumfluorid 5 bis
15%, äquimolekulares Gemisch aus Kalium- und Natriumchlori
den restliches enthält, der nach dem Elektronenstrahlschme
lzen hergestellte Gussblock unter Druck bei der Temperatur
von 300 bis 800°C behandelt wird und danach die hergestel
lten Produkte thermischer und chemischer Behandlung ausge
setzt werden.
Das Wesen der angemeldeten Erfindung besteht im folgen
den. Dem Elektrolyt, der Komplexniob- und Kaliumfluorid und
äquimolekulares Gemisch aus den Alkalimetallchloriden ent
hält, wird Natriumfluorid in der Menge von 5 bis 15% Mass.
beigemischt. Das ermöglicht, Verhältnis der Niobentladungs
potentiale (Lösungspotentiale) und der meisten Begleitele
mente (insbesondere N, C, W, Mo, Fe und and.) zu verändern,
was zu feinerer Niobreinigung führt.
Zusätzlich führt die Beimischung von Natriumflorid dem
Elektrolyt zur Bildung einer Schutzschicht aus den niedrig
sten Nickelfluoriden auf der Innenfläche der Arbeitsbirne,
was ihren Verschleiss senkt und Lebensdauer der Birne ver
längert.
Dasein von Natriumfluorid im Elektrolyt in den bean
spruchten Grenzwerten senkt wesentlich seine Schmelztempe
ratur und somit Duktilität bei der Temperatur der Elektro
raffination von 680 bis 760°C. Die Senkung der Elektrolyt
duktilität verbessert die Adhäsion des Rückstandes mit der
Kathode (d. h. sie hindert seinen Abfall auf den Birneboden)
und senkt wesentlich Mitnahme des Elektrolyts durch formier
baren Kathodenrückstand, Nach Abschluss der Elektroraffina
tion wird Niob in Form des grossdendritischen Kathodenruck
stands gewonnen; Stromausbeute, auf vierwertiges Niob ge
rechnet, wird bis 90-98% gestiegen. Dabei kann der Ver
brauchsgrad des Anodenmetalls bis 90% ohne Verschlechterung
der Güte des produzierbaren Metalls gebracht werden.
Die beanspruchten Bedingungen der Durchführung des
Elektronenstrahlschmelzens, und insbesondere: Schmelzen des
produzierten Kathodenmetalls im ölfreien Vakuum unter Druck
der Restgase von 5.10-5 bis 5.10-7 mm Q. S., Anströmung im
Schmelzraum von 0,05 bis 0,005 l.µm/sec und Schmelzgeschwi
ndigkeit von 0,7 bis 2 mm/min ermöglichen, Begleiter von
Sauerstoff (bis 0,0002% Mass.), Alkali- und Erdalkalimetal
len (bis 0,00001% Mass.), Eisen und Silizium (bis 0,00001%
Mass. jedes Begleiters) höchstmöglich zu entfernen und
gleichzeitig Steigerung des Gehalts der Begleiter von Stick
stoff und Kohlenstoff über ihre Gleichgewichtswerte im Niob
(0,0004% Mass.) bei der minimalen Zahl der Umschmelzen und
den mit den Umschmelzen verbundenen Niobverlusten zu hin
dern.
An die Niobprodukte, die in der UHF-Technik und der Mikro
elektronik verwendet werden, werden hohe Anforderungen, be
treffend nicht nur die Reinheit, sondern auch das Metallge
füge gestellt. Diese Anforderungen gewährleisten die bean
spruchten Behandlungsbedingungen unter Druck bei der Tempe
ratur von 304 bis 800°C und die Durchführung der nächsten
thermischen und chemischen Behandlung der Produkte. Die be
anspruchte Behandlungsbedingung unter Druck ermöglicht, die
den Gussblöcken eigene Mikroporosität in den verformten Gies
ssträngen zu beseitigen und die Verunreinigung von Niob
durch interstilielle Störstellen nicht zuzulassen (d. h.
Reinheit des gegossenen Ausgangsmetalls der Produkte einzu
halten). Das sichert die Erzielung erforderlicher Betriebs
charakteristiken der Produkte.
Die Elektrolytschmelze weist bei der Beimischung von höch
stens 5% Mass. Natriumfluorid dem Elektrolyt, der Komplex
niob- und Kaliumfluorid und äquimolekulares Gemisch aus
den Alkalimetallchloriden enthält, während der elektrolyti
schen Raffination erhöhte Duktilität auf, im Kathodenmetall
wird der Gehalt der Begleiter von hochschmelzenden Metallen,
Eisen, Stickstoff und Kohlenstoff gestiegen, die Stromaus
beute, auf vierwertiges Niob gerechnet, wird bis 85% gesun
ken sowie werden die Niobverluste während des nächsten Ele
ktronenstrahlschmelzens durch Verspitzen infolge des zuge
nommenen Gehalts der Elektrolyteinschlüsse gestiegen.
Es ist die Zunahme des Gehalts von Natriumfluorid über
15% im Elektrolyt nicht sinnvoll, da die Schmelztemperatur
des Elektrolyts gestiegen wird, und der Effekt der Senkung
der Schmelzeduktilität wahrend der Raffination verschwindet
und der Eisengehalt im Kathodenmetall zugenommen wird.
Die Durchführung des Elektronenstrahlschmelzens von
produziertem elektrolytischem Niob im mittels der Dampföl
pumpen erzeugten Vakuum verursacht die Zunahme des Gehalts
des Begleiters von Kohlenstoff im Metall bis 0,005% Mass.
infolge des erhöhten Gehalts der Kohlenwasserstoffe in der
Atmosphäre der Restgase im Schmelzraum.
Das Elektronenstrahlschmelzen unter Druck der Restgase
im Schmelzraum von wenigstens 5.10-5 mm Q. S. führt zur Niob
anreicherung mit den interstitiellen Störstellen; der Druck
der Restgase im Schmelzraum von 5.10-7 mm Q. S. sichert die
Erzielung der Gleichgewichtskonzentrationen der intersti
tiellen Störstellen im Niob; es ist Durchführung des Schmel
zens unter niedrigerem Druck der Restgase nicht sinnvoll, da
das die Ablaufzeit des Schmelzens verlängert und zur Verteu
erung der Elektronenstrahlanlagen und zur Erschwerung der
Bedienung der Anlagen führt.
Die Anströmung von wenigstens 0,05 l.µm/sec im Schmelz
raum führt zur Niobanreicherung mit den interstitiellen
Störstellen.
Es ist die Senkung der Anströmungsgrösse von höchstens
0,005 l µm/sec nicht sinnvoll, da das zur Verteuerung der
Elektronenstrahlanlagen und zur Erschwerung der Bedienung
der Anlagen führt.
Die Durchführung des Schmelzens mit der Geschwindigkeit
von höchstens 0,7 mm/min führt zur Niobanreicherung mit den
Begleitern von hochschmelzenden Metallen (Wolfram, Molyb
dän, Tantal) durch Verdampfung des Grundmetalls und zu den
zusätzlichen Niobverlusten infolge der Verdampfung.
Das Schmelzen mit der Geschwindigkeit von wenigstens
2 mm/min ermöglicht nicht, Gleichgewichtskonzentrationen der
interstitiellen Störstellen und der Begleiter von leicht
flüssigen Bestandteilen im Niob zu erzielen, d. h. das führt
zur unvollständigen Niobraffination von diesen Begleitern.
Die Durchführung plastischer Verformung hergestellter
Hochreinniobgussblöcke bei der Temperatur von höchstens
beseitigt nicht Bindefehler der Gussblöcke (interkristalline
Porosität), was den Hochspannungsdurchbruch im Falle seiner
Verwendung bei der Herstellung der UHF-Resonatoren oder das
Metallversprühen und die Verschlechterung der Güte der Fo
lien im Falle der Verwendung von Niob als Tragete für die
Magnetronzerstäubung verursacht.
Die Verformungen von Hochreinniob bei der Temperatur
von wenigstens 800°C verunreinigen das Metall mit intersti
tiellen Störstellen.
In die 4l-Nickelbirne werden Rohniob in der Menge von
3 kg und den Elektrolyt bildende Salze in den Mengen von:
Kaliumfluorniobat 900 g, Natriumfluorid 600 g, äquimoleku
lares Gemisch aus den Kalium- und Natriumchloriden 4500 g
ein gesetzt. Das Verhältnis von Bestandteilen des Elektro
lyts ist: Kaliumflorniobat 15%, Natriumfluorid 10%, äquimo
lekulares Gemisch aus Kalium- und Natriumchloriden 75%.
Die Birne wurde in einen dicht verschlossenen Elektro
lyseur eingesetzt, der Elektrolyseur wurde bis Druck der
Restgase von 0,01 mm Q. S. evakuiert und mit gereinigtem Ar
gon gefüllt. Die Salze wurden bis zum Schmelzen erhitzt,
die Betriebstemperatur (760°C) wurde eingestellt und eine
Stunde lang gehalten. In die Schmelze wurde die Kathode ge
taucht, die als zylinderförmiger Nickelstab mit Durchmesser
von 12 mm ausgeführt und der Gleichstrom wurde eingeschal
tet. Nach Ablauf von 12 Stunden der Elektrolyse wurde die
Kathode mit dem Kathodenrückstand aus dem Bad in den Katho
denraum herausgenommen. Nach der Abkühlung bis 40-50°C
wurde die Kathode mit dem Rückstand aus dem Raum herausge
nommen und mit 5%-Salzsäurelösung zur Entfernung des mitge
nommenen Elektrolyts aus dem Rückstand behandelt. Die Niob
dendrite wurden mit destilliertem Wasser gespült und getroc
knet. Die Kennwerte des elektrolytischen Vorgangs und die
chemische Zusammensetzung des hergestellten Metalls sind in
den Tabellen 1 und 2 gezeigt.
Aus den Tabellen 1 und 2 ist ersichtlich, dass die Bei
mischung von Natriumfluorid dem Elektrolyt mindert im bean
spruchten Verhältnis der Bestandteile den Gehalt der Beglei
ter von Stickstoff, Kohlenstoff, Wolfram und Molybdän bis
zu Werten von höchstens 0,0001% Mass. jedes Begleiters, von
Eisen bis 0,004-0,015% Mass. und steigert die Niobstromaus
beute bis 95-98% beim Verbrauch des Anodenmetalls bis 90%.
Die Elektronenstrahlraffination von elektrolytischem
Niob wurde in einer 100-KW-Anlage durchgeführt, die mit ei
ner Sublimationstitanpumpe versehen, um ölfreies Vakuum im
Schmelzraum zu erzeugen.
Die Niobdendrite der elektrolytischen Raffination wur
den in die Blöcke von 30 × 30 × 600 mm gepresst und in den
im Schmelzraum der Anlage angeordneten Bereich der Ausgan
gsmaterialbeschickung eingebracht. Das Gewicht der einmali
gen Charge war 12 kg. Der Schmelzraum und der Raum des Ele
ktronenstrahlerzeugers wurden bis Druck der Restgase vor
5.10-6 bis 5.10-7 mm Q. S. evakuiert. Nach der Erzeugung des
Betriebsvakuums wurden der Schmelzraum von den Pumpen abge
trennt und die Anströmungsgrösse geprüft. Danach wurden die
Pumpen geöffnet, der Elektronenstrahlerzeuger wurde einge
schaltet und der Vorgang des Abtropfschmelzens von Niobblöc
ken in die senkrechte wassergekühlte Kupferstranggiesskoki
le mit Durchmesser von 80 mm wurde eingeleitet. Nach dem
Schmelzen und der Abkühlung des Gussblocks wurde der Schmel
zraum geöffnet, der hergestellte Gussblock wurde zum nochma
ligen Umschmelzen im Raum der Ausgangsbeschickung befestigt.
Zur vollständigerer Niobraffination von Sauerstoff-, Eisen-
und Siliziumbegleitern kann das dritte Unischmelzen des Gus
sblocks durchgeführt werden. Das 1. Umschmelzen (der Blök
ke) wurde bei der Leistung des Elektronenstrahls von 35 bis
40 KVA durchgeführt, das 2. Umschmelzen und das 3. Unischmel
zen (des Gussblocks) wurden bei der Leistung von 40 bis
45 KVA durchgeführt. Die Schmelzbedingungen und die Rennli
nie des hergestellten Metalls sind in den Tabellen 3 und 4
gezeigt.
Aus den in den Tabellen 3 und 4 angeführten Daten ist
ersichtlich, dass die beanspruchten Schmelzbedingungen der
Elektronenstrahlraffination
- - Niobhochreinigung von Sauerstoff, Alkali- und Erdalka limetall-, Eisen- und Siliziumbegleitern;
- - Herstellung von Niob mit niedrigerem Gehalt von Stick stoffbegleitern;
- - Herstellung von Niob mit Gesamtgehalt hochschmelzen der Metalle in der Höhe von 20 bis 50 ppp weight (0,002 bis 0,005% Mass.)
sichern.
Der Hochreinniobgussblock mit Durchmesser von 80 mm wurde
unter 800°C in eine Platine mit der Dicke von 25 mm durchge
schmiedet, die Oberschicht mit der Dicke von ca. 1 mm wurde
abgefräst und in ein Band von 1 mm dick kaltgewalzt. Das
Band wurde geätzt (die Schicht von 10 µm dick wurde ent
fernt) und unter 600°C geglüht. Die Gütecharakteristik des
Ausgangsgussblocks und des Walzgutes nach dem Glühen ist in
der Tabelle 5 angegeben.
Der Hochreinniobgussblock mit Durchmesser von 80 mm
wurde unter 600°C in den Stab mit Durchmesser von 45 mm
und danach unter 400°C in den Stab mit Durchmesser von 16
mm ausgepresst. Der Stab wurde geätzt (die Schicht von ca.
20 µm wurde entfernt) und in den Stab mit Durchmesser von
8 mm in einer Rotationsschmiedemaschine ausgeschmiedet. Die
Stäbe wurden geätzt (die Schicht von ca. 10 µm wurde ent
fernt) und unter 850°C geglüht. Die Gütecharakteristik des
Ausgangsgussblocks und der Stäbe nach dem Glühen ist in der
Tabelle 5 angegeben.
Aus der Tabelle 5 ist ersichtlich, dass die beanspruch
te Bedingung plastischer Verformung von Hochreinniob ermög
licht, porenfreie Giessstränge herzustellen, Reinheit des
Ausgangsgussmetalls zu halten, serienmässige thermische An
lagen einzusetzen.
Claims (3)
1. Verfahren zur Hochreinniobproduktion, das in der
elektrolytischen Raffination von Rohniob in der Schmelze der
Salze, die den Komplexkalium- und Niobfluorid und das äqui
molekulare Gemisch aus Alkalimetallchloriden enthalten, und
im Elektronenstrahlschmelzen eines gewonnenen Kathodenrück
stands im Vakuum besteht, dadurch gekennzeichnet, dass die
elektrolytische Raffination bei der Beimischung von Natrium
fluorid in der Menge von 5 bis 15% Mass. dem Elektrolyt
stattfindet, während das Elektronenstrahlschmelzen des ge
wonnenen Kathodenrückstands im ölfreien Vakuum unter Druck
der Restgase von 5.10-5 bis 5.10-7 mm Q. S., der Schmelzge
schwindigkeit von 0,7 bis 2 mm/min und der Anströmung im
Schmelzraum von 0,05 bis 0,005 l. µm/sec mit der Niobgus
sblockproduktion erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass die elektrolytische Raffination von Rohniob im Salz
schmelzen bei folgendem Verhältnis der Bestandteile, % Mass.
Komplexniob- und Kaliumfluorid: 10 bis 20
Natriumfluorid: 5 bis 15
äquimolekulares Chloridengemisch: Rest
durchgeführt.
Komplexniob- und Kaliumfluorid: 10 bis 20
Natriumfluorid: 5 bis 15
äquimolekulares Chloridengemisch: Rest
durchgeführt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass der Hochreinniobgussblock unter Druck bei der Tempera
tur von 300 bis 800°C behandelt wird, und die hergestel
lten Produkte thermischer und chemischer Behandlung ausge
setzt werden.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000108335/02A RU2161207C1 (ru) | 2000-04-06 | 2000-04-06 | Способ получения ниобия высокой чистоты |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10112822A1 true DE10112822A1 (de) | 2001-10-11 |
Family
ID=20232840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE10112822A Withdrawn DE10112822A1 (de) | 2000-04-06 | 2001-03-16 | Verfahren zur Hochreinniobproduktion |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6406512B2 (de) |
| DE (1) | DE10112822A1 (de) |
| RU (1) | RU2161207C1 (de) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4094835B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2008-06-04 | 三井金属鉱業株式会社 | 低酸素フッ化タンタル酸カリウム結晶及び低酸素フッ化ニオブ酸カリウム結晶の製造方法、これらの製造方法で得られた低酸素フッ化ニオブ酸カリウム結晶、並びにフッ化タンタル酸カリウム結晶及びフッ化ニオブ酸カリウム結晶の酸素分析方法 |
| RU2247164C2 (ru) * | 2003-03-11 | 2005-02-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им. акад. А.А. Бочвара" | Способ получения слитков ниобия высокой чистоты с регламентированным уровнем электрофизических свойств |
| RU2238992C1 (ru) * | 2003-03-11 | 2004-10-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им. акад. А.А. Бочвара" | Способ получения ниобиевых слитков |
| RU2460971C2 (ru) * | 2011-04-18 | 2012-09-10 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии и технологии редких элементов и минерального сырья им. И.В.Тананаева Кольского научного центра Российской академии наук (ИХТРЭМС КНЦ РАН) | Способ изготовления ротора криогенного гироскопа |
| CN104480319A (zh) * | 2014-12-17 | 2015-04-01 | 西北有色金属研究院 | 一种射频超导腔用高纯铌铸锭的制备方法 |
| EP3339469A4 (de) * | 2016-03-25 | 2019-03-27 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Ti-ta-legierungssputtertarget und herstellungsverfahren dafür |
| CN115870696A (zh) * | 2021-09-28 | 2023-03-31 | 中国科学院近代物理研究所 | 一种薄壁结构的射频超导腔的制作方法 |
| CN115717254B (zh) * | 2022-12-09 | 2025-10-31 | 郑州大学 | 熔盐电解制备高纯金属铌的方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU133230A1 (ru) * | 1959-12-18 | 1960-11-30 | В.М. Амосов | Способ получени порошкообразного тантала электролизом |
| CA986882A (en) * | 1971-03-18 | 1976-04-06 | Roy L. Blizzard | Plasma reactor with quench zone having variable passageway collector |
| US4164417A (en) * | 1978-04-28 | 1979-08-14 | Kawecki Berylco Industries, Inc. | Process for recovery of niobium values for use in preparing niobium alloy products |
| JPS61276375A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-06 | アドバンスト・マイクロ・デイバイシズ・インコ−ポレ−テツド | 集積回路eepromセルおよびその製作方法 |
| LU86090A1 (fr) * | 1985-09-23 | 1987-04-02 | Metallurgie Hoboken | Procede pour preparer du tantale ou du niobium affins |
| RU2114928C1 (ru) | 1997-12-23 | 1998-07-10 | Открытое акционерное общество "Чепецкий механический завод" | Способ рафинирования ниобия |
| RU2137857C1 (ru) * | 1998-04-28 | 1999-09-20 | Открытое акционерное общество "Чепецкий механический завод" | Способ получения чистого ниобия |
-
2000
- 2000-04-06 RU RU2000108335/02A patent/RU2161207C1/ru not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-03-16 DE DE10112822A patent/DE10112822A1/de not_active Withdrawn
- 2001-04-04 US US09/824,740 patent/US6406512B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010039852A1 (en) | 2001-11-15 |
| US6406512B2 (en) | 2002-06-18 |
| RU2161207C1 (ru) | 2000-12-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8141 | Disposal/no request for examination |