DE10065647A1 - Aufdapfmaterial zur Herstellung hochbrechender optischer Schichten und Verfahren zur Herstellung des Aufdampfmaterials - Google Patents
Aufdapfmaterial zur Herstellung hochbrechender optischer Schichten und Verfahren zur Herstellung des AufdampfmaterialsInfo
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Abstract
Ein Aufdampfmaterial zur Herstellung von hochbrechenden optischen Schichten aus Titanoxid, Titan und Lanthanoxid im Vakuum besteht aus einem gesinterten Gemisch der Zusammensetzung TiO¶x¶ + z*La¶2¶O¶3¶ mit x = 1,5 bis 1,8 und z = 10 bis 65 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Gemisches. Die Bestandteile des Gemisches liegen im Bereich von 19 bis 65 Gew.-% Lanthanoxid, 38 bis 74 Gew.-% Titanoxid und 2 bis 7 Gew.-% Titan.
Description
Die Erfindung betrifft ein Aufdampfmaterial zur Herstellung hochbrechender optischer
Schichten aus Titanoxid, Titan und Lanthanoxid im Vakuum und ein Verfahren zur
Herstellung des Aufdampfmaterials.
Oxidschichten werden in der Technik, insbesondere in der Optik in großem Umfang
als Schutzschichten oder für optische Funktionszwecke verwendet. Sie dienen als
Schutz gegen Korrosion und mechanische Beschädigung oder zur Vergütung der
Oberflächen optischer Bauteile und Instrumente, wie Linsen, Spiegel, Prismen,
Objektive und dergleichen. Weiterhin werden die Oxidschichten zur Herstellung
hoch-, mittel- und niedrigbrechender optischer Schichten zur Reflexionserhöhung
oder -erniedrigung eingesetzt. Die wichtigsten Anwendungsgebiete sind die
Herstellung von Antireflex- und Vergütungsschichten auf Brillengläsern sowie auf
Linsen für Kameraobjektive, für Ferngläser und optische Bauteile für optische
Bauelemente und für die Lasertechnik. Weitere Anwendungen sind die Herstellung
von Schichten mit bestimmtem Brechungsindex und/oder bestimmten optischen
Absorptionseigenschaften, beispielsweise für Interferrenzspiegel, Strahlenteiler,
Wärmefiltern und Kaltlichtspiegeln.
Aus der DE 42 08 811 A1 ist ein Aufdampfmaterial zur Herstellung hochbrechender
optischer Schichten durch Bedampfen von Substraten im Vakuum bekannt. Bei dem
Material handelt es sich um eine Verbindung der Form La2Ti2O7-x mit x = 0,3 bis 0,7.
Insbesondere handelt es sich um eine Verbindung der Formel La2Ti2O6,5. Solche
Aufdampfmaterialien werden in der Weise hergestellt, dass Oxide von Lanthan und
Titan sowie metallisches Titan im entsprechenden stöchiometrischen Verhältnis
gemischt und im Hochvakuum unterhalb der Schmelztemperatur gesintert werden.
Aus der DE-PS 12 28 489 ist ein Verfahren zum Herstellen dünner, im sichtbaren
Wellenlängenbereich praktisch absorptionsfreien Oxidschichten für optische Zwecke
insbesondere auf Unterlagen aus Glas, durch Aufdampfen oxidischer und/oder
oxidierbarer Substanzen im Vakuum bekannt. Das Aufdampfen kann gegebenenfalls
in Gegenwart einer oxidierenden Atmosphäre stattfinden. Mit den oxidischen
und/oder oxidierbaren Substanzen werden ein oder mehrere Elemente und/oder
Oxide aus der Gruppe der Seltenen Erden, einschließlich Yttrium, Lanthan und Cer
aufgedampft. Dabei werden die Ausgangssubstanzen als Gemisch verdampft bzw.
getrennt voneinander verdampft. Als oxidische und/oder oxidierbare Substanzen
werden unter anderem Titan und/oder Titanoxid verwendet.
Für die Herstellung von hochbrechenden Schichten, die einen optischen
Brechungsindex um den Wert 2 aufweisen, ist die Auswahl an geeigneten
Ausgangsstoffen begrenzt. Als Ausgangsmaterialen hierfür kommen im wesentlichen
die Oxide von Titan, Zirkon, Hafnium und Tantal sowie Mischsysteme hiervon in
Betracht. Ein bevorzugtes Ausgangsmaterial für hochbrechende Schichten ist
Titandioxid.
Im Stand der Technik kommen des weiteren neben Titanoxid Verbindungen wie
Tantaloxid, Zirkonoxid, Hafniumoxid und Zinksulfid und Mischungen aus Oxiden
beispielsweise Zirkonoxid und Titanoxid, Titanoxid und Praseodymoxid und Titanoxid
und Lanthanoxid zur Anwendung.
Von Vorteil ist bei diesen Substanzen, dass beispielsweise Titandioxid einen hohen
Brechungsindex besitzt, und Hafnium- und Zirkondioxid geringe Absorption
aufweisen. Nachteile dieser bekannten Substanzen sind starkes Ausgasen und
Spritzen der Titandioxide, relativ hohe Absorption bei Tantaloxid Ta2O5, bei einer
Mischung aus Titanoxid und Praseodymoxid sowie unvollständiges Einschmelzen
von Zirkonoxid, Hafniumdioxid und einer Mischung aus Zirkonoxid und Titanoxid,
aber auch geringe Härte wie beispielsweise bei Zinksulfid. Bei einer Mischung aus
Titanoxid und Lanthanoxid werden die Vorteile einer geringen Absorption, kein
Ausgasen und kein Spritzen sowie relativ gutes Einschmelzen erzielt. Jedoch ist der
Brechungsindex ein derartigen Mischung deutlich niedriger als bei Titandioxid und
Zinksulfid. In verarbeitungspraktischer Hinsicht ist auch von Nachteil, dass diese
Substanzen hohe Schmelz- und Siedepunkte haben, die außerdem relativ nahe
beieinander liegen. Um eine gleichmäßige und ausreichende Abdampfrate zu
gewährleisten, ist es erforderlich, dass die Aufdampfmaterialien vor dem Beginn
einer merklichen Abdampfung vollständig eingeschmolzen sind. Diese Bedingung ist
notwendig, damit sich auf den zu bedampfenden Objekten homogene und
gleichmäßig dicke Schichten ausbilden können. Bei den Oxiden von Zirkon und
Hafnium sowie bei Titan-Zirkon-Mischoxidsystemen ist dies aber unter praktischen
Anwendungsbedingungen nicht der Fall. Diese genannten Substanzen schmelzen
unter den typischen Arbeitsbedingungen nicht bzw. nicht vollständig ein, sie sind
insgesamt schwierig zu verdampfen und es ergeben sich Dickenschwankungen in
den aufgedampften Schichten. Im Stand der Technik geht das Bestreben dahin,
durch geeignete Zusätze die Schmelzpunkte der Grundmaterialien herabzusetzen,
wobei diese Zusätze weiterhin dazu dienen, den Brechungsindex in den erhaltenen
Schichten in bestimmten Grenzen zu variieren und gezielt einzustellen. Die Auswahl
an geeigneten Zusätzen für diese Zwecke ist durch die Forderung nach
Absorptionsfreiheit eingeschränkt. Es kommen daher nur solche Metalloxide als
entsprechende Zusätze in Frage, die im sichtbaren Spektralbereich bis in nahem UV-
Wellenlängenbereich, das ist bis ca. 320 nm, keine Absorptionen aufweisen.
Als Ausgangsmaterial haben die genannten Oxide keine oder nur geringe
Absorptionen im sichtbaren Wellenlängenbereich, was Grundvoraussetzung für
entsprechende optische Anwendungen ist. Jedoch kommt es bei der
Hochvakuumverdampfung zu einem Verlust von Sauerstoff und der Abscheidung von
in Bezug auf den Sauerstoffanteil unterstöchiometrischen Titanoxidschichten. Dies
bedeutet, dass ohne eine spezielle Vorsichtsmaßnahme die Herstellung dünner
Schichten durch Vakuumverdampfung mit diesen Materialien zu Schichten mit hoher
Absorption im sichtbaren Bereich führt. Gemäß der zuvor genannten DE-PS 12 28 489
wird dieses Problem in der Weise gelöst, dass die Verdampfung in einem
Vakuum mit einem gewissen Sauerstoff-Restdruck von 5.10-5 bis < 5.10-4 mbar
erfolgt, das heißt eine oxidierende Atmosphäre eingestellt wird. Eine andere
Möglichkeit zur Lösung diese Problems besteht darin, die erhaltenen Schichten einer
Nachtemperung in Sauerstoff oder Luft zu unterziehen.
Auch wenn durch geeignete Wahl an Zusatzstoffen bzw. die Auswahl
entsprechender Stoffgemische die vorgenannten Probleme gelöst werden können, ist
der Einsatz von Mischsystemen an sich in der Vakuum-Aufdampftechnik nicht zu
bevorzugen. Der Grund liegt darin, dass Mischsysteme in der Regel inkongruent
verdampfen, d. h. sie verändern im Verlaufe des Verdampfungsprozesses ihre
Zusammensetzung und entsprechend verändert sich auch die Zusammensetzung
der abgeschiedenen Schichten. Dies läßt sich dadurch vermeiden, dass die
Mischsysteme aus diskreten chemischen Verbindungen bestehen, die ohne stoffliche
Veränderung verdampfen und wieder kondensieren.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Aufdampfmaterial der eingangs beschriebenen Art
bereitzustellen, aus dem optische Schichten mit einem möglichst hohen
Brechungsindex und geringer Absorption herstellbar sind, wobei das
Aufdampfmaterial ein sehr gutes Einschmelz- und Verdampfungsverhalten zeigt und
praktisch ohne Ausgasen und Spritzen verdampft werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß in der Weise gelöst, dass es sich um ein
gesintertes Gemisch der Zusammensetzung TiOx + z.La2O3 mit x = 1,5 bis 1,8 und
z = 10 bis 60 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Gemisches, handelt.
In Ausgestaltung der Erfindung enthält das Gemisch 19 bis 65 Gew.-% Lanthanoxid,
38 bis 74 Gew.-% Titanoxid und 2 bis 7 Gew.-% Titan. In spezieller Ausgestaltung
der Erfindung besteht das Gemisch aus 58,9 Gew.-% Lanthanoxid, 37,9 Gew.-%
Titanoxid und 3,2 Gew.-% Titan. Ebenso ist eine Ausführungsform vorgesehen bei
der das Gemisch aus 63,2 Gew.-% Lanthanoxid, 33,9 Gew.-% Titanoxid und
2,9 Gew.-% Titan besteht.
In Ausgestaltung der Erfindung legt das Verhältnis Titanoxid TiO2 zu Titan die
Stöchiometrie in Bezug auf den Sauerstoff im Titanoxid TiOx für x = 1,5 bis 1,8 fest.
Dabei ist das Gewichtsverhältnis Titan- zu Lanthanoxid durch Zumischen von
Lanthanoxid zu dem Gemisch aus Titanoxid und Titan bestimmbar. Durch Sintern im
Vakuum wird gewährleistet, dass die Stöchiometrie der Mischung in Bezug auf den
Sauerstoff sich nicht ändert. Die erfindungsgemäßen Aufdampfmaterialien weisen
gegenüber der stöchiometrisch exakt zusammengesetzten Basisverbindung
Lanthantitanat einen im Rahmen der voranstehend angeführten Formeldefinition
liegenden Sauerstoffunterschuss auf. Durch die gezielte Einstellung des
Sauerstoffunterschusses in den erfindungsgemäßen Aufdampfmaterialien tritt
einerseits während der Vakuumverdampfung keine weitere Abgabe von Sauerstoff
auf, die zu dem unerwünschten Spritzen der erschmolzenen Aufdampfmaterialien
führt. Andererseits liegt der gewählte Bereich des Sauerstoffunterschusses so, dass
sich unter den üblichen Arbeitsbedingungen bei der Vakuumverdampfungstechnik
noch ohne weiteres absorptionsfreie Schichten bilden. Untersuchungen haben
gezeigt, dass schon durch einen relativ geringen Zusatz an Lanthanoxid das
Verhalten beim Einschmelzen und Verdampfen verbessert werden kann. Die
erfindungsgemäße Mischung kann durch Einstellen einer optimalen Stöchiometrie in
Bezug auf Sauerstoff praktisch ohne Spritzen und ohne Ausgasen in einer
Elektronenstrahlverdampfereinrichtung eingeschmolzen und verdampft werden.
Hierbei zeigt sich, dass die optischen Eigenschaften der erhaltenen Schichten kaum
durch Schwankungen des Sauerstoffrestdruckes während der Vakuumverdampfung
beeinflußt werden. Im Vergleich hierzu ist bei Titan(IV)-oxid TiO2 und auch bei
Titansuboxiden wie TiO1,7, Ti3O5 oder Ti4O7 Spritzen beim Einschmelzen nicht völlig
zu vermeiden. Der Brechungsindex von Schichten, die mit dem erfindungsgemäßen
Aufdampfmaterial hergestellt werden, ist nur wenig niedriger als bei reinen
Titanoxidschichten. Insbesondere ist der Brechungsindex wesentlich höher als bei
Schichten aus Tantaloxid, Zirkonoxid, Hafniumoxid oder aus Mischungen aus Oxiden
wie Zirkonoxid und Titanoxid, Titanoxid und Praseodymoxid und Titanoxid und
Lanthanoxid. Durch das gute Einschmelzverhalten ist es möglich für das Verdampfen
des Aufdampfmaterials eine ebene Schmelzoberfläche einzustellen und
aufrechtzuerhalten. Dadurch kann dann eine gleichmäßige, reproduzierbare
Schichtdickenverteilung auf den zu beschichtenden Substraten eingestellt werden.
Dies ist insbesondere beim Einsatz von Materialien, die schlechter einschmelzen wie
beispielsweise Hafniumoxid, Zirkonoxid, einer Mischung aus Zirkonoxid und
Titanoxid sehr schwierig, wenn überhaupt realisierbar.
Im Rahmen der Aufgabe der Erfindung soll des weiteren ein Verfahren bereitgestellt
werden, das es ermöglicht Aufdampfmaterialien herzustellen, die ohne Spritzen und
Ausgasen zu optischen Schichten mit hohem Brechungsindex verarbeitet werden
können. Dies geschieht in der Weise, dass ein Gemisch aus Titanoxid, Titan und
Lanthanoxid mit der Zusammensetzung TiOx + z.La2O3 mit x = 1,5 bis 1,8 und z =
10 bis 65 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Gemisches, homogen
gemischt, auf eine Korngröße von 1 bis 4 mm granuliert oder tablettiert und
anschließend im Vakuum gesintert wird. In Ausführung des Verfahrens wird in einem
Vakuum von 1.10-4 mbar bei einer Temperatur von 1500 bis 1600°C über eine
Zeitdauer von 5½ bis 6½ Stunden gesintert.
Ferner soll ein Verfahren bereitgestellt werden, das es ermöglicht, aus den
Aufdampfmaterialien optische Schichten mit hohem Brechungsindex und
weitgehender Absorptionsfreiheit herzustellen. Dies geschieht in der Weise, dass zu
beschichtende Substrate gereinigt, getrocknet, auf einer Substrathaltevorrichtung in
einer Aufdampfanlage befestigt werden, dass die Aufdampfanlage auf 1.10-5 mbar
evakuiert, die Substrate auf 280 bis 310°C aufgeheizt werden, dass Sauerstoff in die
Aufdampfanlage bis zum Erreichen eines Druckes von 1 bis 2.10-4 mbar
eingelassen wird, dass das Aufdampfmaterial in einer durch eine Blende
abgeschlossenen Elektronenstrahlverdampfereinrichtung der Aufdampfanlage
eingeschmolzen und auf seine Verdampfungstemperatur vom 2200 bis 2300°C
erhitzt wird und dass nach Öffnen der Blende die Substrate bis zu einer
vorgegebenen Dicke mit dem Aufdampfmaterial beschichtet werden. Es werden
dabei optische Schichten aus dem Aufdampfmaterial mit einem Brechungsindex von
2,15 bis 2,25, insbesondere von 2,20 für eine Wellenlänge von 500 nm erhalten.
Derartige optische Schichten finden weite Verbreitung und Verwendung als
Antireflex- und Vergütungsschichten auf Brillengläsern, Linsen für optische
Instrumente, optische Bauteile für die Lasertechnik sowie als Schichten mit
vorgegebenem hohem Brechungsindex und/oder optischen
Absorptionseigenschaften für Strahlenteiler, Interferenzspiegel, Kaltlichtspiegel und
Wärmeschutzfilter.
Mit den Aufdampfmaterialien nach der Erfindung können auf geeigneten Substraten
homogene dünne Schichten gleichmäßiger Schichtdicke erzeugt werden, die haftfest
und in besonderem Maße gegen mechanische und chemische Einflüsse resistent
sind. Wie schon erwähnt, sind diese Schichten hochbrechend, und haben im
allgemeinen eine hohe Transmission in einem Wellenlängenbereich von nahe UV,
das ist etwa bei einer Wellenlänge von 360 nm über den sichtbaren Bereich bis in
das nahe Infrarot bei einer Wellenlänge von ca. 7000 nm. Im sichtbaren
Wellenlängenbereich sind diese optischen Schichten weitgehend frei von Absorption.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand zweier Beispiele näher erläutert, wobei
diese Beispiele jedoch keineswegs den Erfindungsgedanken beschränken.
Ein Gemisch aus 58,9 Gew.-% Lanthanoxid, 37,9 Gew.-% Titanoxid und 3,2 Gew.-%
Titan wird homogen gemischt, auf eine Korngröße von etwa 1-4 mm granuliert und
im Vakuum bei etwa 1500°C 6 Stunden lang gesintert. Das gesinterte Produkt ist
tiefschwarz.
Zur Herstellung von optischen Schichten wird das gesinterte Produkt in einen
Molybdän-Tiegel einer Aufdampfanlage gefüllt und in die
Elektronenstrahlverdampfereinrichtung der Anlage eingesetzt. Die zu
beschichtenden Substrate wie beispielsweise Scheiben aus Quarzglas mit einem
Durchmesser von 25 mm und einer Dicke von 1 mm werden gereinigt und getrocknet
und auf einer Substrathaltevorrichtung in der Aufdampfanlage befestigt. Bei der
Aufdampfanlage handelt es sich um eine im Stand der Technik bekannte Anlage, die
weder zeichnerisch dargestellt noch im Einzelnen beschrieben wird. Nach
Evakuieren auf einen Druck von 1.10-5 mbar werden die Substrate auf eine
Temperatur von etwa 300°C aufgeheizt. Dann wird über ein Regulierventil
Sauerstoff in die Aufdampfanlage bis zum Erreichen eines Drucks von 1 bis
2.10-4 mbar eingelassen. Das Aufdampfmaterial wird unter einer Blende der
Elektronenstrahlverdampfereinrichtung aufgeschmolzen und auf die
Verdampfungstemperatur von 2200°C erhitzt. Sobald diese
Verdampfungstemperatur erreicht ist, wird die Blende geöffnet und die Substrate mit
einer optischen Schicht der gewünschten Dicke beschichtet. Nach dem Abkühlen
werden die beschichteten Substrate der Aufdampfanlage entnommen. Mit einem
Spektralfotometer wurde die Transmission der Schichten bestimmt. Aus dem
Transmissionsverlauf wurde der Brechungsindex von 2,20 bei einer Wellenlänge von
500 nm ermittelt. Die Schichtdicke betrug 267 nm.
Ein Gemisch aus 63 Gew.-% Lanthanoxid, 34 Gew.-% Titanoxid und 3 Gew.-% Titan
wurde homogen gemischt, auf eine Korngröße von etwa 1-4 mm granuliert und im
Vakuum bei etwa 1500°C 6 Stunden lang gesintert. Das gesinterte Produkt war
tiefschwarz.
In der gleichen Weise wie im Beispiel 1 beschrieben, wurden optische Schichten aus
dem gesinterten Aufdampfmaterial hergestellt. Der Brechungsindex dieser optischen
Schichten betrug 2,16, bei einer Wellenlänge von 500 nm. Die Dicke der optischen
Schichten betrug 271 nm. Die Schichten zeigten keine Absorption im sichtbaren
Bereich und bis zu einer Wellenlänge von 900 nm.
Claims (11)
1. Aufdampfmaterial zur Herstellung hochbrechender optischer Schichten aus
Titanoxid, Titan und Lanthanoxid im Vakuum, dadurch gekennzeichnet, dass
es sich um ein gesintertes Gemisch der Zusammensetzung TiOx + z.La2O3
mit x = 1,5 bis 1,8 und z = 10 bis 65 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
des Gemisches handelt.
2. Aufdampfmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gemisch 19 bis 65 Gew.-% Lanthanoxid, 38 bis 74 Gew.-% Titanoxid und 2
bis 7 Gew.-% Titan enthält.
3. Aufdampfmaterial nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gemisch aus 58,9 Gew.-% Lanthanoxid, 37,9 Gew.-% Titanoxid und 3,2 Gew.-%
Titan besteht.
4. Aufdampfmaterial nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gemisch aus 63 Gew.-% Lanthanoxid, 34 Gew.-% Titanoxid und 3 Gew.-%
Titan besteht.
5. Aufdampfmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
Verhältnis Titanoxid TiO2 zu Titan die Stöchiometrie in Bezug auf Sauerstoff
im Titanoxid TiOx für x = 1,5 bis 1,8 festlegt.
6. Aufdampfmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das
Gewichtsverhältnis Titan- zu Lanthanoxid durch Zumischen von Lanthanoxid
zu dem Gemisch aus Titanoxid und Titan bestimmbar ist.
7. Aufdampfmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, dass optische Schichten aus dem Aufdampfmaterial einen
Brechungsindex von 2,15 bis 2,25, insbesondere von 2,20 für eine
Wellenlänge von 500 nm aufweisen.
8. Verfahren zur Herstellung eines Aufdampfmaterials nach den Ansprüchen 1
bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass ein Gemisch aus Titanoxid, Titan und
Lanthanoxid mit der Zusammensetzung TiOx + z.La2O3 mit x = 1,5 bis 1,8 und
z = 10 bis 65 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Gemisches,
homogen gemischt, auf eine Korngröße von 1 bis 4 mm granuliert oder
tablettiert und anschließend in Vakuum gesintert wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass in einem Vakuum
von 10-4 mbar bei einer Temperatur von 1500 bis 1600°C über eine Zeitdauer
von 5,5 bis 6,5 Stunden gesintert wird.
10. Verfahren zur Herstellung von optischen Schichten aus dem Aufdampfmaterial
nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die zu
beschichtenden Substrate gereinigt, getrocknet und auf einer
Substrathaltevorrichtung in einer Aufdampfanlage befestigt werden, dass die
Aufdampfanlage auf 1.10-5 mbar evakuiert, die Substrate auf 280 bis 310°C
aufgeheizt werden, dass Sauerstoff in die Aufdampfanlage bis zum Erreichen
eines Druckes von 1 bis 2.10-4 mbar eingelassen wird, dass das
Aufdampfmaterial in einer durch eine Blende abgeschlossenen
Elektronenstrahlverdampfereinrichtung der Aufdampfanlage eingeschmolzen
und auf seine Verdampfungstemperatur von etwa 2200 bis 2300°C erhitzt
wird und dass nach Öffnen der Blende die Substrate bis zu einer
vorgegebenen Dicke mit dem Aufdampfmaterial beschichtet werden.
11. Verwendung der gemäß Anspruch 10 hergestellten optischen Schichten als
Antireflex- und Vergütungsschichten auf Brillengläsern, Linsen für optische
Instrument, optische Bauteile für die Lasertechnik sowie als Schichten mit
vorgegebenem hohem Brechungsindex und/oder optischen
Absorptionseigenschaften für Strahlenteiler, Interferrenzspiegel,
Kaltlichtspiegel und Wärmeschutzfilter.
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