DE10042915A1 - Akustooberflächenwellenbauelement und Kommunikationsgerät - Google Patents
Akustooberflächenwellenbauelement und KommunikationsgerätInfo
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Abstract
Bei einem Akustooberflächenwellenbauelement mit einem LiTaO¶3¶-Substrat ist ein Interdigitalwandler auf dem LiTaO¶3¶-Substrat vorgesehen. Der Interdigitalwandler umfaßt als eine Hauptkomponente zumindest Au, Ag, Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn oder W, wobei der Interdigitalwandler eine normierte Filmdicke H/lambda von etwa 0,05 oder weniger aufweist, um eine horizontale Scherwelle anzuregen.
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Akustoober
flächenwellenbauelement, wie z. B. einen Akustooberflächen
wellenresonator, ein Akustooberflächenwellenfilter, eine
Gemeinschaftsbetriebsvorrichtung oder eine andere geeignete
Vorrichtung, und insbesondere auf ein Akustooberflächenwel
lenbauelement, das eine horizontale Scherwelle ("SH wave";
SH = Shear Horizontal) verwendet.
Herkömmlicher Weise sind Akustooberflächenwellenbauelemente
weithin als Bandpaßfilter für eine Verwendung bei einer mo
bilen Kommunikationsausrüstung verwendet worden. Ein solcher
herkömmlicher Akustooberflächenwellenresonator umfaßt ein
Akustooberflächenwellenbauelement mit einem IDT (Interdigi
talwandler; IDT = interdigital transducer), der aus Interdi
gitalelektroden mit Elektrodenfingern besteht, die ineinan
der greifen, wobei der IDT auf einem piezoelektrischen Sub
strat angeordnet ist, und wobei ein Akustooberflächenwellen
filter den Akustooberflächenwellenresonator verwendet.
Bei einem solchen Akustooberflächenwellenbauelement ist eine
Technik bekannt, bei der eine akustische Oberflächenleckwel
le mit einer hohen Dämpfung, die sich in einem Y-X-LiTaO3-
Substrat mit Eulerwinkeln von (0°, -90°, 0°) als einem
piezoelektrischen Substrat ausbreitet, in eine akustischen
Oberflächenwelle eines Love-Wellentyps mit keinem Ausbrei
tungsverlust umgewandelt wird, indem ein IDT vorgesehen
wird, der eine vorbestimmte Dicke aufweist und aus einem
Metall hergestellt ist, das eine hohe Masselast aufweist,
wie z. B. Au, Ta, W oder ein anderes geeignetes Metall.
Fig. 11 ist ein Graph, der die Änderung des elektromecha
nischen Kopplungskoeffizienten k in Abhängigkeit von der
Filmdicke H/λ von Au-Elektroden (Elektrodenfilmdicke/Wellenlänge
der angeregten akustischen Oberflächenwelle), wenn
die Au-Elektroden auf einem LiTaO3-Substrat eines Y-
Schnitt-X-Ausbreitung-Typs, d. h. mit Eulerwinkeln von (0°,
-90°, 0°), vorgesehen sind.
Wie es in Fig. 11 gezeigt ist, wird eine akustische Ober
flächenleckwelle erzeugt, wenn die Filmdicke H/λ der Au-
Elektroden 0,03 oder weniger beträgt. In dem Bereich, bei
dem H/λ zumindest 0.004 beträgt, wird eine Love-Welle er
zeugt. Fig. 12 ist ein Kenngraph, der den Ausbreitungsver
lust (die Dämpfungskonstante) der akustische Oberflächen
leckwelle unter denselben Bedingungen wie denjenigen von
Fig. 11 zeigt. Die durchgezogene Linie stellt den Ausbrei
tungsverlust dar, wenn sich die Elektroden in dem elek
trischen Kurzschlußzustand befinden, während die gepunktete
Linie den Ausbreitungsverlust darstellt, wenn sich die
Elektroden in dem Leerlaufzustand befinden. Wie es in Fig.
12 gezeigt ist, ist in dem elektrischen Kurzschlußzustand
der Ausbreitungsverlust in dem Bereich Null, in dem H/λ
zumindest etwa 0,033 beträgt, wobei in dem elektrischen
Leerlaufzustand der Ausbreitungsverlust in dem Bereich Null
ist, in dem H/λ zumindest etwa 0,044 beträgt. Dement
sprechend muß, um eine akustische Oberflächenwelle des SH-
Typs ohne Ausbreitungsverlust zu verwenden, die Dicke H/λ
der Au-Elektroden in dem elektrischen Kurzschlußzustand ab
hängig von dem Metallisierungsverhältnis des IDT zumindest
0,033 betragen. Ferner muß für ein Material, wie z. B. Ta, W
oder ein anderes geeignetes Material mit einer kleineren
Dichte als Au, die Dicke H/λ größer als 0,033 sein.
Während die Dicke des IDT zunimmt, nimmt jedoch die Herstel
lungsgenauigkeit ab. Dementsprechend kann eine ausreichend
große Dicke nicht erzielt werden. Falls die Flimdicke nicht
ausreichend groß ist, d. h. die Dicke H/λ für die Au-Elek
troden beispielsweise zumindest 0,033 beträgt, kann ein Aus
breitungsverlust von Null nicht erzielt werden.
Anderseits beträgt die Filmdicke H/λ (Elektrodendicke/angeregte
SH-Wellenlänge), mit der die Elektrodenfinger eines
IDT mit einer üblichen Genauigkeit hergestellt werden kön
nen, bis zu 0,05. Wenn der Ausbreitungsverlust Null sein
soll, muß die Filmdicke H/λ zumindest 0,033 betragen. Folg
lich ist der Bereich der Filmdicke, bei der die Elektroden
finger des IDT mit einer hohen Genauigkeit gebildet werden
können, sehr schmal.
Falls darüber hinaus ein IDT aus einem Elektrodenmaterial
mit einer leicht kleineren Dichte als derjenigen von Au
gebildet wird, wie z. B. aus Ta oder W, muß die Dicke der
Elektroden verglichen zu derjenigen von Au-Elektroden weiter
erhöht werden. Folglich kann der Ausbreitungsverlust
innerhalb des Bereichs von Filmdicken, bei denen der Film
genau gebildet werden kann, nicht auf Null reduziert werden.
Bezüglich Materialien, wie z. B. Au, die verglichen zu Elek
trodenmaterialien, die bei den IDTs von Akustooberflächen
wellenbauelementen üblicherweise verwendet werden, wie z. B.
Al, eine erheblich höhere Dichte aufweisen, unterscheiden
sich die Frequenzen sogar bei geringen Änderungen der Film
dicke, der Elektrodenfingerbreite und des Elektrodenfinger
abstandes der IDTs. Folglich werden, nachdem die IDTs gebil
det sind, die Frequenzen durch Abstimmen der IDTs kondi
tioniert. Wenn jedoch ein IDT aus Au gebildet wird, um einen
Wert von H/λ von etwa beispielsweise 0,034 aufzuweisen, die
Frequenz aber weniger als ein gewünschter Wert beträgt, wird
eine solche Frequenzkonditionierung ausgeführt und dabei be
wirkt, daß die Filmdicke H/λ weniger als 0,033 beträgt. Dies
bedeutet, das der Ausbreitungsverlust nicht auf Null einge
stellt werden kann.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein
Akustooberflächenwellenbauelement mit geringeren Ausbrei
tungsverlusten zu schaffen.
Diese Aufgabe wird durch ein Akustooberflächenwellenbau
element gemäß Anspruch 1 gelöst.
Um die im vorhergehenden beschriebenen Probleme zu lösen,
liefern bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden
Erfindung ein Akustooberflächenwellenbauelement, bei dem die
IDTs mit einer hohen Genauigkeit erzeugt werden, die
Ausbreitungsverluste in dem IDT und dem piezoelektrischen
Substrat annähernd 0 sind, und der Konditionierungsbereich
für die Frequenzabstimmung wesentlich breiter als für
Akustooberflächenwellenbauelemente herkömmlicher Art ist.
Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung umfaßt ein Akustooberflächenwellenbauelement ein
LiTaO3-Substrat und einen Interdigitalwandler, der auf dem
LiTaO3-Substrat vorgesehen ist. Der Interdigitalwandler um
faßt zumindest Au, Ag, Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn oder W, wobei
der Interdigitalwandler eine normierte Filmdicke H/λ von
etwa 0,05 oder weniger aufweist, um eine horizontale Scher
welle zu erregen.
Falls der Interdigitalwandler Au als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-146°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,001 bis etwa 0,05 liegt.
Falls der Interdigitalwandler Ag als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-140°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,002 bis etwa 0,05 liegt.
Falls der Interdigitalwandler Ta als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-140°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,002 bis etwa 0,05 liegt.
Falls der Interdigitalwandler Mo als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-134°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,005 bis etwa 0,05 liegt.
Falls der Interdigitalwandler Cu als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-137°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,003 bis etwa 0,05 liegt.
Falls der Interdigitalwandler Ni als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-133°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ, vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,006 bis 0,05 liegt.
Falls der Interdigitalwandler Cr als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-147°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,003 bis etwa 0,05 liegt.
Falls der Interdigitalwandler Zn als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-137°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,003 bis etwa 0,05 liegt.
Falls der Interdigitalwandler W als eine Hauptkomponente
aufweist, weist das Substrat vorzugsweise Eulerwinkel von
etwa (0°, 125°-138°, 0° ± 5°) auf, wobei die standartisierte
Filmdicke H/λ vorzugsweise innerhalb des Bereiches von etwa
0,002 bis etwa 0,05 liegt.
Das im vorhergehenden erklärte Akustooberflächenwellenbau
element ist für eine Verwendung bei einem Kommunikations
gerät geeignet.
Gemäß den bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden
Erfindung wird auf einem LiTaO3-Substrat mit geeigneten
Eulerwinkeln ein IDT aus einem Elektrodenmaterial mit einer
hohen spezifischen Schwere, wie z. B. Au, Ag, Ta, Mo, Cu,
Ni, Cr, Zn, Pt, W oder einem anderen geeigneten Material,
mit einer geeigneten Filmdicke gebildet, wodurch eine SH-
Welle mit einem geringen Ausbreitungsverlust erregt wird.
Folglich wird die Akustooberflächenleckwellenkomponente er
heblich reduziert. Es wird ein Akustooberflächenwellenbau
element mit einem sehr niedrigen Ausbreitungsverlust herge
stellt.
Ferner wird der Ausbreitungsverlust auch dann im wesent
lichen Null, wenn die Filmdicke extrem klein ist. Dement
sprechend wird sogar dann, wenn die Filmdicke durch das
Abstimmen des IDTs, um die Frequenz zu steuern, verändert
wird, im Gegensatz zu den herkömmlichen Akustooberflächen
wellenbauelementen verhindert, daß sich der Ausbreitungsver
lust verschlechtert. Folglich ist der Konditionierungsbe
reich für die Frequenzabstimmung viel breiter als bei den
herkömmlichen Akustooberflächenwellenbauelementen.
Weitere Merkmale, Charakteristika, Elemente und Vorteile der
vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden Beschreibung
von bevorzugten Ausführungsbeispielen derselben unter Bezug
nahme auf die beiliegenden Zeichnungen deutlich werden.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung
werden nachfolgend bezugnehmend auf die beiliegenden Zeich
nungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht eines Akustooberflächenwellenre
sonators gemäß einem ersten bevorzugten Ausfüh
rungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 eine Draufsicht eines Akustooberflächenwellenreso
natorfilters des Longitudinalkopplungstyps gemäß
einem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 3 eine Draufsicht eines Akustooberflächenwellenreso
natorfilters des Transversalkopplungstyps gemäß ei
nem dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 4 eine Draufsicht eines Akustooberflächenwellenfil
ters des Kettengliedtyps gemäß einem vierten be
vorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Er
findung;
Fig. 5 ein Blockdiagramm eines Kommunikationsgerätes gemäß
einem fünften und sechsten bevorzugten Ausführungs
beispiel der vorliegenden Erfindung;
Fig. 6 einen Kenngraphen, der die Beziehung zwischen der
normierten Filmdicke des IDT und des Ausbreitungs
verlustes zeigt, wenn sich die Elektroden eines
Akustooberflächenwellenbauelementes der bevorzugten
Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung in
dem elektrischen Kurzschlußzustand befinden;
Fig. 7 einen Kenngraphen, der die Beziehung zwischen der
normierten Filmdicke des IDTs und des Ausbrei
tungsverlustes zeigt, wenn sich die Elektroden des
Akustooberflächenwellenbauelementes der bevorzugten
Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung in
dem elektrischen Leerlaufzustand befinden;
Fig. 8 einen Kenngraphen, der die Beziehung zwischen der
normierten Filmdicke H/λ des IDTs eines Akusto
oberflächenwellenbauelementes der bevorzugten Aus
führungsbeispiele der vorliegenden Erfindung und
dem elektromechanischen Kopplungskoeffizienten
zeigt;
Fig. 9 einen Kenngraphen, der die Beziehung zwischen der
normierten Filmdicke H/λ des IDTs und des Schnitt
winkels zeigt, an dem der Ausbreitungsverlust Null
ist, wenn sich die Elektroden eines Akustoober
flächenwellenbauelementes der bevorzugten Ausfüh
rungsbeispiele der vorliegenden Erfindung in dem
Kurzschlußzustand befinden;
Fig. 10 einen Kenngraphen, der die Beziehung zwischen der
normierten Filmdicke H/λ des IDTs und dem elek
tromechanischen Kopplungskoeffizienten zeigt, wenn
sich die Elektroden eines Akustooberflächenwellen
bauelementes der bevorzugten Ausführungsbeispiele
der vorliegenden Erfindung in dem Leerlaufzustand
befinden;
Fig. 11 einen Kenngraphen, der die Beziehung zwischen der
normierten Filmdicke H/λ des IDTs und dem elek
tromechanischen Kopplungskoeffizienten k bei einem
Y-Schnitt-X-Ausbreitung-LiTaO3-Substrat zeigt; und
Fig. 12 einen Kenngraphen, der die Beziehung zwischen der
normierten Filmdicke H/λ des IDTs des Akustoober
flächenwellenbauelementes und dem Ausbreitungs
verlust k bezüglich eines Y-Schnitt-X-Ausbreitung-
LiTaO3-Substrats zeigt.
Fig. 1 ist eine Draufsicht eines Akustooberflächenwellen
resonators in der Form eines Akustooberflächenwellenbauele
mentes gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung.
Wie es in Fig. 1 zu sehen ist, umfaßt ein Akustooberflächen
wellenresonator 1 zumindest einen IDT 3 und Reflektoren 4
auf beiden Seiten des IDT 3, die auf einem piezoelektrischen
Substrat 2 vorgesehen sind, das aus einem LiTaO3-Einkristall
mit Eulerwinkeln von beispielsweise etwa (0°, 126°, 0°) her
gestellt ist.
Der IDT 3 ist derart konfiguriert, daß ein Satz von Inter
digitalelektroden, die als eine Hauptkomponente zumindest
Au, Ag, Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn oder W aufweisen, derart an
geordnet ist, daß sich die Interdigitalzahnabschnitte der
jeweiligen Interdigitalelektroden gegenüberliegen.
Die Elektrodenfinger, die die Interdigitalzahnabschnitte des
IDT 3 bilden, weisen vorzugsweise eine normierte Filmdicke
H/λ, von etwa 5% oder weniger und insbesondere eine normierte
Filmdicke H/λ (Elektrodendicke/angeregte SH-Wellenlänge) ≦
0,05 auf. In diesem Bereich werden die Elektrodenfinger mit
einer hohen Genauigkeit angeordnet.
Fig. 2 ist eine Draufsicht eines Akustooberflächenwellen
resonatorfilters des Longitudinalkopplungstyps eines Akusto
oberflächenwellenbauelementes gemäß dem zweiten bevorzugten
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
Wie es in Fig. 2 zu sehen ist, umfaßt das Akustooberflächen
wellenresonatorfilter des Longitudinalkopplungstyps zumin
dest zwei IDTs 13a und 13b und Reflektoren 14 auf beiden
Seiten der IDTs 13a, 13b, die auf einem piezoelektrischen
Substrat 12 vorgesehen sind, das aus einem LiTaO3-Ein
kristall mit Eulerwinkeln von beispielsweise etwa (0°, 126°,
0°) hergestellt ist.
Die IDTs 13a und 13b sind vorzugsweise aus einem Elektroden
material hergestellt, das als eine Hauptkomponente zumindest
Au, Ag, Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn oder W aufweist, und sind
derart konfiguriert, daß ein Satz von Interdigitalelektroden
derart angeordnet ist, daß sich die Interdigitalzahnab
schnitte der jeweiligen Interdigitalelektroden gegenüberlie
gen. Ferner sind die IDTs 13a, 13b im wesentlichen parallel
zueinander unter einen gewünschten Abstand in der Akusto
oberflächenwellenausbreitungsrichtung angeordnet. Ferner
weisen bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel die Elek
trodenfinger, die die Interdigitalzahnabschnitte jedes IDTs
13a und 13b bilden, vorzugsweise eine normierte Filmdicke
H/λ von etwa 5% oder weniger und insbesondere vorzugsweise
eine normierte Filmdicke H/λ (Elektrodendicke/angeregte
SH-Wellenlänge) ≦ 0,05 auf. In diesem Bereich werden die
Elektrodenfinger mit einer hohen Genauigkeit gebildet.
Fig. 3 ist eine Draufsicht eines Akustooberflächenwellenre
sonatorfilters des Transversalkopplungstyps als ein Akusto
oberflächenwellenbauelement gemäß dem dritten bevorzugten
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
Wie es in Fig. 3 zu sehen ist, umfaßt das Akustooberflächen
wellenresonatorfilter 21 des Transversalkopplungstyps zumin
dest zwei IDTs 23a, 23b und Reflektoren 24a, 24b auf jeder
Seite der IDTs 23a, 23b, die auf einem piezoelektrischen
Substrat 22 vorgesehen sind, das aus einem LiTaO3-Ein
kristall mit Eulerwinkeln von beispielsweise etwa (0°, 126°,
0°) hergestellt ist.
Die IDTs 23a, 23b sind vorzugsweise aus einem Elektrodenma
terial hergestellt, das als eine Hauptkomponente zumindest
Au, Ag, Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn oder W aufweist, und sind mit
einem Satz von Interdigitalelektroden konfiguriert, der der
art vorgesehen ist, daß sich die Interdigitalzahnabschnitte
der jeweiligen Interdigitalelektroden 23a, 23b gegenüber
liegen. Die IDTs 23a und 23b sind in einer im wesentlichen
senkrechten Richtung relativ zu der Akustooberflächenwellen
ausbreitungsrichtung angeordnet. Bei diesem bevorzugten Aus
führungsbeispiel weisen die Elektrodenfinger, die die Inter
digitalzahnabschnitte jedes IDTs 23a, 23b bilden, wie bei
dem ersten und dem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel
vorzugsweise eine normierte Filmdicke H/λ von etwa 5% oder
weniger und insbesondere vorzugsweise eine normierte Film
dicke H/λ (Elektrodendicke/angeregte SH-Wellenlänge) ≦ 0,05
auf. In diesem Bereich werden die Elektrodenfinger mit einer
hohen Genauigkeit gebildet.
Fig. 4 ist eine Draufsicht eines Akustooberflächenwellenfilters
eines Kettengliedtyps als ein Akustooberflächenwel
lenbauelement gemäß dem vierten bevorzugten Ausführungsbei
spiel der vorliegenden Erfindung.
Wie in Fig. 4 zu sehen ist, umfaßt das Akustooberflächenwel
lenfilter 31 des Kettengliedtyps IDTs 33a, 33b und Reflekto
ren 34a, 34b auf jeder Seite der IDTs 33a, 33b, die auf ei
nem piezoelektrischen Substrat 32 vorgesehen sind, das aus
einem LiTaO3-Einkristall mit Eulerwinkeln von beispielsweise
etwa (0°, 126°, 0°) hergestellt ist.
Die IDTs 33a, 33b sind vorzugsweise aus einem Elektrodenma
terial hergestellt, das als eine Hauptkomponente zumindest
Au, Ag, Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn oder W aufweist, und weisen
die Konfiguration auf, bei der ein Satz von Interdigital
elektroden derart vorgesehen ist, daß sich die Interdigital
zahnabschnitte der jeweiligen Interdigitalelektroden gegen
überliegen. Die IDTs 33a sind in dem Reihenarm bzw. dem
seriell geschalteten Arm angeordnet, während die IDTs 33b in
dem Parallelarm bzw. dem parallel geschalteten Arm angeord
net sind, um eine Kettengliedkonfiguration zu liefern. Bei
diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel weisen die Elektro
denfinger, die die Interdigitalzahnabschnitte jedes IDTs 33a
und 33b bilden, wie auch bei dem ersten, dem zweiten und dem
dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel vorzugsweise eine
normierte Filmdicke H/λ von etwa 5% oder weniger und vor
zugsweise eine normierte Filmdicke H/λ (Elektrodendicke/an
geregte SH-Wellenlänge) ≦ 0,05 auf. In diesem Bereich werden
die Elektrodenfinger mit einer hohen Genauigkeit gebildet.
Als nächstes werden ein fünftes und sechstes bevorzugtes
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung beschrieben.
Fig. 5 ist ein Blockdiagramm, das eine Gemeinschaftsbe
triebsvorrichtung bzw. ein Doppelfunktionsvorrichtung gemäß
einem vierten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorlie
genden Erfindung und ein Kommunikationsgerät gemäß einem
fünften bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Er
findung zeigt.
Wie es in Fig. 5 zu sehen ist, ist ein Kommunikationsgerät
41 derart konfiguriert, daß der Antennenanschluß einer
Gemeinschaftsbetriebsvorrichtung 44, die ein Akustoober
flächenwellenfilter 42 zum Empfangen und ein Akustoober
flächenwellenfilter 43 zum Senden aufweist, mit einer Anten
ne 45 verbunden ist, der Ausgangsanschluß der Gemeinschafts
betriebsvorrichtung 44 mit einer Empfangsschaltung 46 ver
bunden ist, und der Eingangsanschluß mit einer Sendeschal
tung 47 verbunden ist. Bei der Gemeinschaftsbetriebsvorrich
tung 44 sind als das Empfangsakustooberflächenwellenfilter
42 und das Sendeakustooberflächenwellenfilter 43 jedes oder
eine Kombination der Akustooberflächenwellenfilter 11 bis 21
gemäß dem ersten bis vierten bevorzugten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung umfaßt.
Als nächstes wird die normierte Filmdicke H/λ (Elektro
dendicke/angeregte SH-Wellenlänge) bezugnehmend auf Beispiel
beschrieben.
Fig. 6 ist ein Graph, der die Änderung des Ausbreitungsver
lustes zeigt, die auftritt, wenn die normierte Filmdicke H/λ
(Elektrodendicke/angeregte SH-Wellenlänge) des Films, der
auf einem LiTaO3-Einkristall mit Eulerwinkeln von etwa (0°,
126°, 0°) vorgesehen ist, zwischen etwa 0,00 und etwa 0,05
variiert wird, wobei der Fall eingeschlossen ist, daß auf
dem piezoelektrischen Substrat keine Elektrode vorgesehen
ist (H/λ = 0). Die Elektroden befinden sich in dem elek
trischen Kurzschlußzustand.
Wie es in Fig. 6 zu sehen ist, nimmt für jedes der Mate
rialien der Ausbreitungsverlust mit zunehmender Dicke all
mählich zu. Der Ausbreitungsverlust ist jedoch wesentlich
niedriger als derjenige des herkömmlichen Love-Wellen-Fil
ters, der durch die durchgezogene Linie in Fig. 12 angezeigt
ist. Wie es in Fig. 6 gezeigt ist, ist bezüglich Au der Aus
breitungsverlust bei H/λ = 0,025 am größten. In diesem Fall
beträgt der Ausbreitungsverlust etwa 0,04 dB/λ. Dementsprechend
wird der Ausbreitungsverlust verglichen zu dem
Ausbreitungsverlust von 0,32 dB/λ bei H/λ = 0,025 und dem
maximalen Ausbreitungsverlust von 0,7 dB des herkömmlichen
Love-Wellen-Filters, der durch die durchgezogene Linie in
Fig. 12 angezeigt ist, wesentlich verbessert.
Fig. 7 ist ein Graph, der die Änderung des Ausbreitungsver
lustes zeigt, die auftritt, wenn die normierte Filmdicke H/λ
(Elektrodendicke/angeregte SH-Wellenlänge) des Films, der
auf einem LiTaO3-Einkristall mit Eulerwinkeln von etwa (0°,
126°, 0°) vorgesehen ist, zwischen etwa 0,00 und 0,05 vari
iert wird, wobei der Fall eingeschlossen ist, daß auf dem
piezoelektrischen Substrat keine Elektrode vorgesehen ist
(H/λ = 0). Die Elektroden befinden sich in dem elektrischen
Leerlaufzustand.
Wie es in Fig. 7 zu sehen ist, nimmt für jedes Material der
Ausbreitungsverlust mit zunehmender Dicke allmählich zu. Der
Ausbreitungsverlust ist jedoch wesentlich niedriger als der
jenige des herkömmlichen Love-Wellen-Filters, der durch die
gepunktete Linie in Fig. 12 angezeigt ist. Wie es in Fig. 7
gezeigt ist, ist bezüglich Au der Ausbreitungsverlust bei
H/λ, 0,029 am größten. In diesem Fall beträgt der Ausbrei
tungsverlust etwa 0,142 dB/λ. Dementsprechend wird der Aus
breitungsverlust verglichen zu dem Ausbreitungsverlust von
0,08 dB/λ bei H/λ = 0,029 und dem maximalen Ausbreitungs
verlust von 1,18 dB des herkömmlichen Love-Wellen-Filters,
der durch die gepunktete Linie in Fig. 12 angezeigt ist,
wesentlich verbessert.
Der Grund dafür besteht darin, daß bei dem herkömmlichen
LiTaO3-Substrat mit den Eulerwinkeln von (0° -90°, 0°) die
Love-Welle angeregt wird, während bei dem Akustooberflächen
wellenbauelement der bevorzugten Ausführungsbeispiele der
vorliegenden Erfindung eine SH-Welle mit einem sehr niedri
gen Ausbreitungsverlust verwendet wird. Hier wurde Au be
schrieben. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf Au ein
geschränkt. In dem Fall anderer Materialien, wie z. B. Ag,
Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn, Pt, W oder anderer geeigneter Ma
terialien, wird auf ähnliche Weise eine SH-Welle verwendet.
Folglich wird der Ausbreitungsverlust ähnlich zu dem Fall,
bei dem Au verwendet wird, wesentlich verbessert.
Die Filmdicke, bei der eine SH-Welle bei dem Akustoober
flächenwellenbauelement der verschiedenen bevorzugten Aus
führungsbeispiele der vorliegenden Erfindung ausreichend
verwendet werden kann, variiert abhängig von den Elektroden
materialien. Die H/λ-Werte betragen beispielsweise zumindest
etwa 0,001 für Au, zumindest etwa 0,002 für Ag, zumindest
etwa 0,002 für Ta, zumindest etwa 0,005 für Mo, zumindest
etwa 0,003 für Cu, zumindest etwa 0,006 für Ni, zumindest
etwa 0,003 für Cr, zumindest etwa 0,003 für Zn und zumindest
0,002 für W. Unter Berücksichtigung des Ausbreitungsver
lustes und des elektromechanischen Kopplungskoeffizienten
ist es geeignet, daß die H/λ-Werte größer als diese Werte
sind.
Fig. 8 ist ein Kenngraph, der die Änderung des elektro
mechanischen Kopplungskoeffizienten jedes Elektrodenma
terials bei verschiedenen Filmdicken zeigt. Die Substratma
terialien, die Schnittwinkel und die Ausbreitungsrichtungen
sind die selben wie diejenigen von Fig. 6 und 7. Wie es in
Fig. 8 gezeigt ist, wird für jedes der metallischen Materia
lien ein relativ hoher elektromechanischer Kopplungskoeffi
zient erhalten. Ferner ist, wie es in Fig. 8 zu sehen ist,
verglichen zu dem elektromechanischen Kopplungskoeffizienten
eines metallischen Materials mit einer kleineren spezi
fischen Dichte, wie z. B. Al, der elektromechanische Kopp
lungskoeffizient jedes der anderen metallischen Materialien
mit einer höheren spezifischen Dichte erhöht.
Fig. 9 und 10 sind Kenngraphen, die die Filmdicken und
Schnittwinkel Θ zeigen, bei denen die Ausbreitungsverluste
Null sind. Fig. 9 und 10 zeigen die Schnittwinkel, bei denen
die Ausbreitungsverluste Null sind, während sich die Elek
troden in dem elektrischen Kurzschlußzustand bzw. in dem
elektrischen Leerlaufzustand befinden. Bei einem in der
Praxis verwendeten IDT gibt es Bereiche, wo ein Elektro
denfinger vorhanden ist, und Bereiche, wo ein Elektroden
finger fehlt. Der IDT weist eine Kennlinie auf, die sich
abhängig von dem Metallisierungsverhältnis zwischen der in
Fig. 9 und Fig. 10 gezeigten befindet. Der Schnittwinkel ist
gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ, Θ, ϕ) auf (0°, Θ, 0° ±
5°) eingestellt, wobei Θ variiert wird, und o eine Ausbrei
tungsrichtung darstellt, und wobei der Fehler von etwa ±5°
einem derartigen Ausmaß entspricht, der innerhalb der Tole
ranz des Ausbreitungsverlustes liegt.
In Fig. 9 und 10 ist zu sehen, daß in dem Fall, daß Au als
die Elektroden des IDTs verwendet wird, der Schnittwinkel,
bei dem der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa
(0°, 125°-146°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem
(ϕ, Θ, ϕ) beträgt.
Ferner ist ersichtlich, daß in dem Fall, daß Ag als die
Elektroden des IDTS verwendet wird, der Schnittwinkel, bei
dem der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa (0°,
125°-140°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ,
Θ, ϕ) beträgt.
Es ist ersichtlich, daß in dem Fall, daß Ta als die Elek
troden des IDTs verwendet wird, der Schnittwinkel, bei dem
der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa (0°, 125°-
140°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ, Θ, ϕ)
beträgt.
Es ist ersichtlich, daß in dem Fall, daß Mo als die Elek
troden des IDTs verwendet wird, der Schnittwinkel, bei dem
der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa (0°, 125°-
134°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ, Θ, ϕ)
beträgt.
Es ist ersichtlich, daß in dem Fall, daß Cu als die Elek
troden des IDTs verwendet wird, der Schnittwinkel, bei dem
der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa (0°, 125°-
137°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ, Θ, ϕ)
beträgt.
Es ist ersichtlich, daß in dem Fall, daß Ni als die Elek
troden des IDTs verwendet wird, der Schnittwinkel, bei dem
der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa (0°, 125°-
133°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ, Θ, ϕ)
beträgt.
Es ist ersichtlich, daß in dem Fall, daß Cr als die Elek
troden des IDTs verwendet wird, der Schnittwinkel, bei dem
der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa (0°, 125°-
147°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ, Θ, ϕ)
beträgt.
Es ist ersichtlich, daß in dem Fall, daß Zn als die Elek
troden des IDTs verwendet wird, der Schnittwinkel, bei dem
der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa (0°, 125°-
137°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ, Θ, ϕ)
beträgt.
Es ist ersichtlich, daß in dem Fall, daß W als die Elek
troden des IDTs verwendet wird, der Schnittwinkel, bei dem
der Ausbreitungsverlust von 0 erzielt wird, etwa (0°, 125°-
138°, 0° ± 5°) gemäß dem Eulerwinkelangabesystem (ϕ, Θ, ϕ)
beträgt.
Dementsprechend wird unter Verwendung eines LiTaO3-Substrats
mit einem Schnittwinkel, der in Fig. 9 und 10 gezeigt ist,
und einem Elektrodenmaterial mit der im vorhergehenden be
schriebenen Filmdicke ein Akustooberflächenwellenbauelement
hergestellt, das einen Ausbreitungsverlust von im wesent
lichen 0 aufweist.
Darüber hinaus werden elektromechanische Kopplungsfaktoren
erhalten, die größer als derjenige von Al sind, und die
Akustooberflächenwellenfilter mit einem kleineren Einfügungsverlust
realisieren können.
Bei dem ersten bis sechsten bevorzugten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung wird ein Akustooberflächenwel
lenbauelement mit Reflektoren beschrieben. Die vorliegende
Erfindung ist nicht auf ein solches Bauelement beschränkt,
sondern ist auch auf ein Akustooberflächenwellenbauelement
mit keinen Reflektoren anwendbar.
Claims (11)
1. Akustooberflächenwellenbauelement mit
einem LiTaO3-Substrat (2; 12; 22; 32); und
einem Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b; 33a, 33b), der auf dem LiTaO3-Substrat (2; 12; 22; 32) vor gesehen ist, wobei der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b; 33a, 33b) als eine Hauptkomponente zu mindest Au, Ag, Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn oder W enthält, wobei
der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b; 33a, 33b) eine normierte Filmdicke H/λ von zumindest etwa 0,05 aufweist, um eine horizontale Scherwelle anzure gen.
einem LiTaO3-Substrat (2; 12; 22; 32); und
einem Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b; 33a, 33b), der auf dem LiTaO3-Substrat (2; 12; 22; 32) vor gesehen ist, wobei der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b; 33a, 33b) als eine Hauptkomponente zu mindest Au, Ag, Ta, Mo, Cu, Ni, Cr, Zn oder W enthält, wobei
der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b; 33a, 33b) eine normierte Filmdicke H/λ von zumindest etwa 0,05 aufweist, um eine horizontale Scherwelle anzure gen.
2. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) Au als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-146°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,001 bis 0,05 liegt.
3. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) Ag als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-140°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,002 bis 0,05 liegt.
4. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) Ta als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-140°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,002 bis 0,05 liegt.
5. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) Mo als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-134°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,005 bis 0,05 liegt.
6. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) Cu als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-137°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,003 bis 0,05 liegt.
7. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) Ni als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-133°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,006 bis 0,05 liegt.
8. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) Cr als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-147°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,003 bis 0,05 liegt.
9. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) Zn als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-137°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,003 bis 0,05 liegt.
10. Akustooberflächenwellenbauelement gemäß Anspruch 1, bei
dem der Interdigitalwandler (3; 13a, 13b; 23a, 23b;
33a, 33b) W als eine Hauptkomponente aufweist, das
Substrat Eulerwinkel von etwa (0°, 125°-138°, 0° ±
5°) aufweist, und die normierte Filmdicke H/λ innerhalb
des Bereiches von 0,002 bis 0,05 liegt.
11. Kommunikationsgerät mit einem Akustooberflächenwellen
bauelement gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24890399A JP3391309B2 (ja) | 1999-09-02 | 1999-09-02 | 表面波装置及び通信機装置 |
| JP11-248903 | 1999-09-02 | ||
| DE10066396A DE10066396B4 (de) | 1999-09-02 | 2000-08-31 | Akustooberflächenwellenbauelement |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10042915A1 true DE10042915A1 (de) | 2001-05-23 |
| DE10042915B4 DE10042915B4 (de) | 2010-09-09 |
| DE10042915B9 DE10042915B9 (de) | 2012-04-19 |
Family
ID=17185156
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE10066396A Expired - Lifetime DE10066396B4 (de) | 1999-09-02 | 2000-08-31 | Akustooberflächenwellenbauelement |
| DE10042915A Expired - Lifetime DE10042915B9 (de) | 1999-09-02 | 2000-08-31 | Akustooberflächenwellenbauelement und Kommunikationsgerät |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE10066396A Expired - Lifetime DE10066396B4 (de) | 1999-09-02 | 2000-08-31 | Akustooberflächenwellenbauelement |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6366002B1 (de) |
| JP (1) | JP3391309B2 (de) |
| KR (1) | KR100376906B1 (de) |
| DE (2) | DE10066396B4 (de) |
| GB (1) | GB2356306B (de) |
| TW (1) | TW483239B (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10216842B4 (de) * | 2002-04-16 | 2012-10-25 | Epcos Ag | Substrat für SAW-Bauelemente mit hoher Bandbreite |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3391309B2 (ja) * | 1999-09-02 | 2003-03-31 | 株式会社村田製作所 | 表面波装置及び通信機装置 |
| CN1248410C (zh) * | 2000-08-31 | 2006-03-29 | 索泰克公司 | 利用压电衬底非对称最优化切割的表面声波器件 |
| JP3435638B2 (ja) * | 2000-10-27 | 2003-08-11 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置及びその製造方法 |
| JP3412621B2 (ja) * | 2001-03-02 | 2003-06-03 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
| JP3945363B2 (ja) * | 2001-10-12 | 2007-07-18 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
| JP3979279B2 (ja) * | 2001-12-28 | 2007-09-19 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
| JP3780947B2 (ja) * | 2002-01-18 | 2006-05-31 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
| KR20040030002A (ko) * | 2002-04-15 | 2004-04-08 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 탄성 표면파 장치 및 이를 이용한 이동통신기기 및 센서 |
| KR100450906B1 (ko) * | 2002-08-09 | 2004-10-01 | 엘지이노텍 주식회사 | 최적 컷팅된 saw 장치 및 방법 |
| JP2004040636A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Murata Mfg Co Ltd | 表面波装置 |
| JP3841053B2 (ja) | 2002-07-24 | 2006-11-01 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置及びその製造方法 |
| JP2004165879A (ja) * | 2002-11-12 | 2004-06-10 | Alps Electric Co Ltd | 弾性表面波素子 |
| US7816837B2 (en) | 2003-07-04 | 2010-10-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Surface acoustic wave sensor |
| US20060131992A1 (en) * | 2003-07-29 | 2006-06-22 | Takeshi Nakao | One-port surface acoustic wave resonator and surface acoustic wave filter |
| JP4657002B2 (ja) * | 2005-05-12 | 2011-03-23 | 信越化学工業株式会社 | 複合圧電基板 |
| JP2008125130A (ja) * | 2008-02-08 | 2008-05-29 | Murata Mfg Co Ltd | 表面波装置及びその製造方法 |
| JP2008136238A (ja) * | 2008-02-08 | 2008-06-12 | Murata Mfg Co Ltd | 表面波装置及びその製造方法 |
| JP2008125131A (ja) * | 2008-02-08 | 2008-05-29 | Murata Mfg Co Ltd | 表面波装置及びその製造方法 |
| US10355668B2 (en) | 2015-01-20 | 2019-07-16 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Acoustic wave device |
| JP6798621B2 (ja) * | 2017-09-07 | 2020-12-09 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
Family Cites Families (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4001767A (en) | 1975-11-18 | 1977-01-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Low diffraction loss-low spurious response LiTaO3 substrate for surface acoustic wave devices |
| US4978879A (en) * | 1988-07-27 | 1990-12-18 | Fujitsu Limited | Acoustic surface wave element |
| US5283037A (en) * | 1988-09-29 | 1994-02-01 | Hewlett-Packard Company | Chemical sensor utilizing a surface transverse wave device |
| JPH0426211A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-29 | Murata Mfg Co Ltd | 表面波装置 |
| US5081389A (en) | 1990-11-30 | 1992-01-14 | Ascom Zelcom Ag. | Crystal cut angles for lithium tantalate crystal for novel surface acoustic wave devices |
| JPH06164306A (ja) * | 1992-02-12 | 1994-06-10 | Kokusai Electric Co Ltd | 弾性表面波共振子 |
| JPH05259802A (ja) * | 1992-03-16 | 1993-10-08 | Japan Energy Corp | 弾性表面波装置 |
| US5266760A (en) | 1992-08-06 | 1993-11-30 | Eaton Corporation | Molded case circuit breaker |
| JPH07283682A (ja) * | 1994-04-13 | 1995-10-27 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波共振子フィルタ |
| JP3407459B2 (ja) * | 1995-03-23 | 2003-05-19 | 株式会社村田製作所 | 表面波共振子フィルタ |
| JP3439294B2 (ja) | 1995-04-10 | 2003-08-25 | 三洋電機株式会社 | 弾性表面波フィルター |
| JP3358688B2 (ja) | 1995-04-10 | 2002-12-24 | 三洋電機株式会社 | 弾性表面波素子 |
| JP3281510B2 (ja) | 1995-05-17 | 2002-05-13 | 康敬 清水 | 弾性表面波素子 |
| JPH0918272A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-17 | Fujitsu Ltd | 表面弾性波装置 |
| DE19641662B4 (de) * | 1995-10-13 | 2004-07-01 | Fujitsu Ltd., Kawasaki | Oberflächenakustikwellenvorrichtung mit einem optimierten Schnittwinkel eines piezoelektrischen Substrats |
| JPH09167936A (ja) | 1995-10-13 | 1997-06-24 | Fujitsu Ltd | 弾性表面波装置 |
| JPH09153757A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Kyocera Corp | 弾性表面波装置 |
| RU2099857C1 (ru) * | 1996-01-10 | 1997-12-20 | Наталья Федоровна Науменко | Высокочастотное устройство на поверхностных акустических волнах |
| KR100588450B1 (ko) | 1996-03-08 | 2006-08-30 | 산요덴키가부시키가이샤 | 탄성표면파소자및이를이용한휴대전화기 |
| JPH09331229A (ja) | 1996-03-08 | 1997-12-22 | Yasutaka Shimizu | 弾性表面波素子 |
| EP0903851A4 (de) * | 1996-06-05 | 2001-02-14 | Sanyo Electric Co | Akustisches oberflächenwellenbauelement |
| JP3224202B2 (ja) | 1996-11-28 | 2001-10-29 | 富士通株式会社 | 弾性表面波装置 |
| JP3339350B2 (ja) * | 1997-02-20 | 2002-10-28 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
| JPH10247835A (ja) | 1997-03-03 | 1998-09-14 | Kokusai Electric Co Ltd | ラブ波型弾性表面波デバイス |
| JPH10335965A (ja) * | 1997-05-29 | 1998-12-18 | Kyocera Corp | 弾性表面波フィルタ |
| JPH1174751A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-03-16 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置 |
| JP3391309B2 (ja) * | 1999-09-02 | 2003-03-31 | 株式会社村田製作所 | 表面波装置及び通信機装置 |
| JP4301699B2 (ja) * | 2000-06-12 | 2009-07-22 | 三菱農機株式会社 | ベルト式クラッチ機構 |
| CN1248410C (zh) | 2000-08-31 | 2006-03-29 | 索泰克公司 | 利用压电衬底非对称最优化切割的表面声波器件 |
-
1999
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-
2004
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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