CN203838473U - 一种掩模颗粒度检测装置 - Google Patents
一种掩模颗粒度检测装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN203838473U CN203838473U CN201420138725.2U CN201420138725U CN203838473U CN 203838473 U CN203838473 U CN 203838473U CN 201420138725 U CN201420138725 U CN 201420138725U CN 203838473 U CN203838473 U CN 203838473U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mask
- granularity
- particle size
- synchronous belt
- detection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title abstract 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 70
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 39
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 35
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 15
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 10
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 9
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
Abstract
本实用新型提供一种掩模颗粒度检测装置，包括：掩模版、吸版台、颗粒度交接机构、颗粒度检测设备和环境防护装置；其中，所述颗粒度交接机构做升降运动将所述掩模版运送至一颗粒度检测工位，被所述吸版台真空吸附固定，由所述颗粒度检测设备进行颗粒度检测；所述环境防护装置，用于将所述颗粒度检测设备与外界环境隔离。通过颗粒度交接机构保证了运动精度及重复性；通过有效的安全互锁机制解决进行颗粒度检测时进行交接物料的安全问题；通过环境防护装置解决颗粒度检测设备的工作环境问题。通过的本实用新型的检测流程，使颗粒度检测设备同时具有高精度、高稳定性、高安全性及更加洁净的工作环境。
Description
技术领域
本实用新型涉及机械技术领域，特别涉及一种掩模颗粒度检测装置。
背景技术
光刻设备是一种将掩模图案曝光成像到硅片或玻璃基板上的设备。掩模传输系统负责物料在曝光成像单元（掩模台）和版盒（物料接口）之间的传送，掩模传输系统是光刻设备的重要组成部分。掩模版在曝光的过程，掩模版上的颗粒对测量是有一定的影响，当颗粒度大于100微米时，可以擦走，当颗粒度小于10微米时，对测量是没有影响的，但是当颗粒度在10-100微米的时候，是擦不走的。因此为了能够对检测其掩模版上10-100微米颗粒，需要对掩模版进行颗粒度检测。
掩模传输系统中的颗粒度检测单元，用以检测掩模版上表面和下表面的颗粒，掩模上大尺寸的颗粒将光刻机的良率降为0，小尺寸的颗粒在影响成像质量降低良率的同时影响器件速度和可靠性方面的性能。
在现有掩模传输系统的颗粒度检测单元工作流程中，首先，交换版机械手的版叉将掩模版放置在颗粒度交接机构的交接工位，颗粒度交接机构进行交接；然后，将掩模版放置颗粒度检测设备检测工位，颗粒度检测设备进行颗粒度检测；最后，检测完成后，交于颗粒度交接机构传送至交换版机械手，再由交换版机械手交接至掩模台。
从上述流程可以发现，在掩模传输过程中增加颗粒度检测，可以有效地增加光刻机的良率。一种良好的颗粒度检测设备，可以提高整个掩模传输效率，使光刻机的曝光质量得到保障。但是，现有的颗粒度检测设备在使用环节，对环境的需求较多，由运动轴运动所产生的颗粒，往往会给颗粒度检测设备带来设备故障，影响设备使用；掩模版需要移动到检测工位，需要进行高精度、高稳定性及高安全性的移动单元。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供一种掩模颗粒度检测装置，包括：掩模版、吸版台、颗粒度交接机构、颗粒度检测设备和环境防护装置；其中，
所述颗粒度交接机构做升降运动将所述掩模版运送至一颗粒度检测工位，被所述吸版台真空吸附固定，由所述颗粒度检测设备进行颗粒度检测；
所述环境防护装置，用于将所述颗粒度检测设备与外界环境隔离。
进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述吸版台包括：吸版台面、真空接口和掩模存在感应器；
所述吸版台面承载所述真空接口和掩模存在感应器；
所述真空接口，用于真空吸附并固定所述掩模版；
所述掩模存在感应器，用于感应所述掩模版是否存在。
进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述颗粒度交接机构包括：花键、丝杠、直流电机和同步带轮；其中，所述直流电机驱动所述同步带轮、丝杠进行传动，从而使所述花键进行导向。
进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述颗粒度交接机构还包括：编码器，用于对由所述直流电机、同步带轮、丝杠和花键构成的运动轴的升降精度进行反馈。
进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述颗粒度交接机构还包括：工位传感器，用于感应所述由所述直流电机、同步带轮、丝杠和花键构成的运动轴是否运动到所述颗粒度检测工位。
进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述环境防护装置包括：
同步带，所述同步带两侧设有同步带轮；
直线气缸，通过一固定板与所述同步带连接，设置在所述同步带一侧；
防尘罩，通过一连接件与所述同步带连接，设置在所述同步带另一侧；
导向导轨，与所述防尘罩连接；
开合检测传感器，设置于所述防尘罩的一侧；
所述同步带、直线气缸、防尘罩、导向导轨和开合检测传感器设置于一防尘框架内。
进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述防尘框架包括：抽颗粒接口。
进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，还包括颗粒度检测维护单元，与所述颗粒度检测设备连接。
进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，包括：
抽拉滑轨机构，与所述颗粒度检测设备连接；
定位自锁结构，与所述抽拉滑轨机构相对设置。
本实用新型提供的掩模颗粒度检测装置，具有以下有益效果：通过颗粒度交接机构保证了运动精度及重复性；通过有效的安全互锁机制解决进行颗粒度检测时进行交接物料的安全问题；通过环境防护装置解决颗粒度检测设备的工作环境问题。通过的本实用新型的检测流程，使颗粒度检测设备同时具有高精度、高稳定性、高安全性及更加洁净的工作环境。
附图说明
图1是本实用新型掩模颗粒度检测装置与交换版机械手交接示意图；
图2是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的示意图；
图3是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的吸版台示意图；
图4是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的颗粒度交接机构示意图；
图5-6是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的环境防护装置示意图；
图7是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的颗粒度检测维护单元示意图；
图8是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的工作流程图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的掩模颗粒度检测装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
如图1所示，在进行掩模台上版过程交换版机械手2进行运送，在该运输过程中增设一颗粒度检测环节，因此本实用新型提供一种掩模颗粒度检测装置1，将所述掩模颗粒度检测装置1和所述交换版机械手2的版叉进行交接，安装框架3为所述掩模颗粒度检测装置1和所述交换版机械手2提供平台。
请参考图2，其是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的示意图。如图2所示，所述掩模颗粒度检测装置包括：掩模版（图中未示出）、吸版台1b、颗粒度交接机构1c、环境防护装置1d和颗粒度检测设备1e；其中，
所述颗粒度交接机构1c做升降运动将所述掩模版运送至一颗粒度检测工位，被所述吸版台1b真空吸附固定，由所述颗粒度检测设备1e进行颗粒度检测；所述环境防护装置1d，用于将所述颗粒度检测设备1e与外界环境隔离。
请参考图3，其是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的吸版台示意图。如图3所示，所述吸版台包括：吸版台面1b-1、真空接口1b-2和掩模存在感应器1b-3；所述吸版台面1b-1承载所述真空接口1b-2和掩模存在感应器1b-3；所述真空接口1b-2，用于真空吸附并固定所述掩模版；所述掩模存在感应器1b-3，用于感应所述掩模版是否存在。当掩模版到达颗粒度检测工位时，所述掩模存在感应器1b-3检测所述掩模版是否存在有效，若有效，所述真空接口1b-2打开进行真空吸附，保证掩模版的定位和固定。
请参考图4，其是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的颗粒度交接机构示意图。如图4所示，所述颗粒度交接机构包括：花键1c-1、丝杠1c-2、直流电机1c-3和同步带轮1c-4；其中，所述直流电机1c-3驱动所述同步带轮1c-4、丝杠1c-2进行传动，从而使所述花键1c-1进行导向。由所述直流电机1c-3、同步带轮1c-4、丝杠1c-2和花键1c-1构成的运动轴完成了交接运动所需的直线升降运动。
进一步的，所述颗粒度交接机构还包括：编码器1c-5，本实施中选用增量式编码器，对由所述直流电机1c-3、同步带轮1c-4、丝杠1c-2和花键1c-1构成的运动轴的升降精度进行反馈，形成有效的闭环控制系统，保证运动轴的重复性及交接精度。
进一步的，所述颗粒度交接机构还包括：工位传感器1c-7，用于感应所述由所述直流电机、同步带轮、丝杠和花键构成的运动轴是否运动到所述颗粒度检测工位。运动轴的工位传感器1c-7在整体流程中，与其他工位流程，组成工作流程上的安全互锁，提供交接的安全性。
进一步的，所述颗粒度交接机构还包括：机械限位1c-6，对所述运动轴的运动轨迹进行了限位。
请参考图5，其是本实用新型实施例掩模颗粒度检测装置的环境防护装置示意图。如图5所示，所述环境防护装置包括：
同步带1d-8，所述同步带1d-8两侧设有同步带轮1d-9；
直线气缸1d-5，通过一固定板1d-7与所述同步带1d-8连接，设置在所述同步带1d-8一侧；
防尘罩1d-4，通过一连接件1d-6与所述同步带1d-8连接，设置在所述同步带1d-8另一侧；
导向导轨1d-3，与所述防尘罩1d-4连接；
开合检测传感器1d-2，设置于所述防尘罩1d-4的一侧；
所述直线气缸1d-5驱动所述防尘罩1d-4在导向导轨1d-3上移动，达到开合的目的，而所述开合检测传感器1d-2检测防尘罩1d-4的开合存在有效性。
所述同步带1d-8、直线气缸1d-5、防尘罩1d-4、导向导轨1d-3和开合检测传感器1d-2设置于一防尘框架1d-1内。
进一步如图6所示，所述防尘框架包括：抽颗粒接口1d-1-1，为颗粒度交接位置进行密封，提供了良好的检测环境。
优选的，在本实用新型的实施例中，所述颗粒度检测设备1e需要根据维护周期进行定期维护，为了方便维护，如图7所示，在所述颗粒度检测设备1e的一侧设置一颗粒度检测维护单元，所述颗粒度检测维护单元包括抽拉滑轨机构3a和定位自锁结构3b，所述抽拉滑轨机构3a与所述颗粒度检测设备1e连接；所述定位自锁结构3b与所述抽拉滑轨机构3a相对设置。当需要维护时，定位自锁结构3b打开，通过抽拉滑轨机构3a将颗粒度检测设备1e抽拉到维护区，维护完毕后进行退回；当推回原位时，定位自锁结构3b锁紧，保证了交接工位的准确性。
本实用新型所提供的掩模颗粒度检测装置工作流程如图8所示，当交接版机械手夹持掩模版运动至交接工位时，环境防护装置的防尘罩打开，检测到位后，颗粒度交接机构进行升起，到达与交换版机械手的交接工位，工位传感器有效后，吸版台的掩模存在传感器检测有效，打开真空接口吸附掩模版，将掩模版定位及固定，交换版机械手的版叉打开，颗粒度交接机构运动至检测工位，工位传感器有效，颗粒度检测设备检测掩模版存在，真空接口关闭。颗粒度检测设备将掩模版进行检测，检测完毕后，已上同等顺序，交接至交换版机械手，最后运送至掩模台，完成掩模传输。
上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。
Claims (9)
1.一种掩模颗粒度检测装置，其特征在于，包括：掩模版、吸版台、颗粒度交接机构、颗粒度检测设备和环境防护装置；其中，
所述颗粒度交接机构做升降运动将所述掩模版运送至一颗粒度检测工位，所述掩模版被所述吸版台真空吸附固定，由所述颗粒度检测设备进行颗粒度检测；
所述环境防护装置，用于将所述颗粒度检测设备与外界环境隔离。
2.如权利要求1所述的掩模颗粒度检测装置，其特征在于，所述吸版台包括：吸版台面、真空接口和掩模存在感应器；
所述吸版台面承载所述真空接口和掩模存在感应器；
所述真空接口，用于真空吸附并固定所述掩模版；
所述掩模存在感应器，用于感应所述掩模版是否存在。
3.如权利要求1所述的掩模颗粒度检测装置，其特征在于，所述颗粒度交接机构包括：花键、丝杠、直流电机和同步带轮；其中，所述直流电机驱动所述同步带轮、丝杠进行传动，从而使所述花键进行导向。
4.如权利要求3所述的掩模颗粒度检测装置，其特征在于，所述颗粒度交接机构还包括：编码器，用于对由所述直流电机、同步带轮、丝杠和花键构成的运动轴的升降精度进行反馈。
5.如权利要求3所述的掩模颗粒度检测装置，其特征在于，所述颗粒度交接机构还包括：工位传感器，用于感应所述由所述直流电机、同步带轮、丝杠和花键构成的运动轴是否运动到所述颗粒度检测工位。
6.如权利要求1所述的掩模颗粒度检测装置，其特征在于，所述环境防护装置包括：
同步带，所述同步带两侧设有同步带轮；
直线气缸，通过一固定板与所述同步带连接，设置在所述同步带一侧；
防尘罩，通过一连接件与所述同步带连接，设置在所述同步带另一侧；
导向导轨，与所述防尘罩连接；
开合检测传感器，设置于所述防尘罩的一侧；
所述同步带、直线气缸、防尘罩、导向导轨和开合检测传感器设置于一防尘框架内。
7.如权利要求6所述的掩模颗粒度检测装置，其特征在于，所述防尘框架包括：抽颗粒接口。
8.如权利要求1所述的掩模颗粒度检测装置，其特征在于，还包括颗粒度检测维护单元，与所述颗粒度检测设备连接。
9.如权利要求8所述的掩模颗粒度检测装置，其特征在于，所述颗粒度检测维护单元包括：
抽拉滑轨机构，与所述颗粒度检测设备连接；
定位自锁结构，与所述抽拉滑轨机构相对设置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420138725.2U CN203838473U (zh) | 2014-03-25 | 2014-03-25 | 一种掩模颗粒度检测装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201420138725.2U CN203838473U (zh) | 2014-03-25 | 2014-03-25 | 一种掩模颗粒度检测装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN203838473U true CN203838473U (zh) | 2014-09-17 |
Family
ID=51516293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201420138725.2U Expired - Lifetime CN203838473U (zh) | 2014-03-25 | 2014-03-25 | 一种掩模颗粒度检测装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN203838473U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105807574A (zh) * | 2014-12-30 | 2016-07-27 | 上海微电子装备有限公司 | 掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法 |
| CN110361936A (zh) * | 2018-03-26 | 2019-10-22 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 掩模版厚度检测装置、存储机构、传输机构及光刻系统 |
| TWI696885B (zh) * | 2018-08-14 | 2020-06-21 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 光罩處理方法及微影裝置 |
-
2014
- 2014-03-25 CN CN201420138725.2U patent/CN203838473U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105807574A (zh) * | 2014-12-30 | 2016-07-27 | 上海微电子装备有限公司 | 掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法 |
| CN105807574B (zh) * | 2014-12-30 | 2018-03-02 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法 |
| CN110361936A (zh) * | 2018-03-26 | 2019-10-22 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 掩模版厚度检测装置、存储机构、传输机构及光刻系统 |
| TWI696885B (zh) * | 2018-08-14 | 2020-06-21 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 光罩處理方法及微影裝置 |
| US10877382B2 (en) | 2018-08-14 | 2020-12-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for handling mask and lithography apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI704639B (zh) | 遮罩傳輸裝置和方法 | |
| CN112934725A (zh) | 一种芯片外观自动检测设备及其控制方法 | |
| CN203838473U (zh) | 一种掩模颗粒度检测装置 | |
| CN101855720B (zh) | 用于对准电子电路板的对准装置 | |
| CN104960919B (zh) | 一种电能表机器人上下料系统及其工作流程 | |
| TWI752329B (zh) | 感測器、光罩叉、機械手、光罩傳輸系統及光刻機 | |
| CN104972451B (zh) | 一种用于掩模传输的机械手 | |
| CN201503858U (zh) | 掩模板更换装置 | |
| CN103424991A (zh) | 一种硅片直线交换装置及方法 | |
| CN204172030U (zh) | 一种机械手结构 | |
| CN107187840A (zh) | 一种上料机 | |
| CN206050941U (zh) | 一种基于视觉引导的自动上下料装置 | |
| CN105988303B (zh) | 一种掩模版传输装置及传输方法 | |
| JP2015060988A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP2015026752A (ja) | 搬送システム | |
| CN103984203B (zh) | 掩模版盒的上锁和解锁装置 | |
| CN111113021B (zh) | 一种同轴零组件装配引导与定位保持装置 | |
| KR102301171B1 (ko) | 반도체용 포토마스크 취급 장치 | |
| CN209973698U (zh) | 一种机械手搬运装置 | |
| US20170351186A1 (en) | Holding device, transport device, lithographic apparatus, and article manufacturing method | |
| CN105717751B (zh) | 一种掩模上版装置及校准方法 | |
| CN103901735B (zh) | 硅片推顶机构 | |
| CN211664196U (zh) | 一种旋转搬运装置及生产线 | |
| CN106483771A (zh) | 一种可实现硅片边缘保护的工件台及方法 | |
| CN105666103B (zh) | 用于lcd的生产系统 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 201203 Pudong New Area East Road, No. 1525, Shanghai Patentee after: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) Co.,Ltd. Address before: 201203 Pudong New Area East Road, No. 1525, Shanghai Patentee before: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT Co.,Ltd. |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20140917 |
|
| CX01 | Expiry of patent term |