CN1968635B - 地板处理清洁系统 - Google Patents

Abstract

用于地板清洁机(1)的地板处理清洁系统(3)包括至少两个处理元素(7a、7b)，其中每个处理元素都配备清洁装置(11)并且被驱动装置(15A)经由至少两个同步的偏心枢轴(8)偏心地驱动，其特征在于各自的枢轴以这样的方式围绕着它们的主旋转轴(13)旋转，以致那至少两个处理元素完成反向运动，借此沿着预期的方向输送地板上的残留物和平衡引擎质量和摩擦。处理元素(7a、7b)能以不同的方式定位：相对于机器(1)的移动方向横向定位彼此平行一个在另一个后面和相对于机器(1)的移动方向横向定位彼此相邻呈沿着机器移动方向开口的V-字形或弓形。

Description

地板处理清洁系统

技术领域

本发明涉及依照权利要求1的导言的地板处理清洁系统。

背景技术

各种不同的用来清洁地板表面的系统是已知的。目前，市场上两种最通常的系统是圆盘系统和圆筒系统。圆盘系统包括一个备有围绕着垂直于表面平面的轴线旋转的刷子或垫状物的平坦的圆盘。虽然圆盘系统有与地板的接触面积大的优点而且由于多种垫状物/刷子配置非常灵活适应不同的清洁工作，但是，圆盘系统有下列的缺点。第一，工具压力和工具直径受到限制：最大的工具压力是由机器重量减去充份牵引必需的重量限定的，在一些情形中也由抽吸系统造成的压力需要限定；直径受离心力作用限制。此外，马达的驱动性能随着该压力增加，这影响马达尺寸、成本和机器独立性：对于许多清洁目的，需要大的重量，这导致高耗电量。最后，圆盘系统在工作区域中不同的点呈现不同的搅动方向而且随着机器移动速度增加改变搅动参数：在较高的速度下，在圆盘的一侧加上移动速度，而在另一侧减去它，所以相对速度在一些区域甚至可能是零。

圆筒系统包括围绕着平行于表面平面的轴线旋转的圆筒形的刷子。与圆盘系统相反，圆筒系统由于圆筒形的刷子围绕着平行于地板的轴线旋转在完整的清洁区域上有恒定不变的搅动参数和高的特性刷子压力。然而，圆筒形的系统有其它的缺点。第一，工具非常贵而且通用性非常有限。第二，与地板的接触面积非常小：因此，在较高的机器移动速度下，搅动时间变成非常短。此外，刚毛的相对清洁速度在工具的整个长度上可能是零而且总的清洁结果是比较差的。最后，圆筒系统有高的耗电量。

用来清洁表面的另一种系统利用振动散沙机的原理。GB1090365、2086216和2280843揭示了地板清洁、擦洗或抛光装置，其中清洁装置(刷子、垫状物等)被固定在经历水平振动的振动板下面。该振动板借助在它上面的柔性的连接构件附着到上面的固定框架上，而水平振动是借助偏心的垂直驱动轴的旋转实现的。虽然依照这个系统的清洁装置与地板有大的接触面积和几乎在完整的清洁区域上恒定不变的搅动参数，但是它们经历随机振动的运动，不沿着确定的方向提供污垢和清洁溶液的有效运输。

GB 516405揭示一种用来研磨或抛光表面的机器。与在最后提到的使用振动散沙机原理的系统中一样，垂直轴的偏心运动被用来产生工作器具的水平圆周运动。然而，一些工作器具每个都被为数众多的驱动曲柄构件驱动作圆平移运动，而不是经由弹性构件与固定框架连接并且在单一偏心轴附近振动。通过安排曲柄使之相对于一对器具之中的两个器具对置和使这对器具中的器具按照相同的旋转方向旋转，这些器具以这样的方式移动，以致它们两两合作，所以每对器具将使源自这些运动的力抵消。然而，因为GB 516405关心抛光或研磨已经干净的表面，而不是给它清洁污垢，所以该专利没有揭示实际上如何除去污垢。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种把现有技术系统的优点合并但不受制于它们的问题的地板处理清洁系统。

这是借助有权利要求1所描述的特征的地板处理清洁系统实现的。本发明为了以较少的耗电量实现在大的工作区域上统一的清洁效果和沿着确定的方向有效的运输污垢和清洁溶液，揭示一种把偏心驱动装置用于处理元素的旋转而非振动的装置。

依照本发明，地板处理清洁系统包括至少两个处理元素，其中每个处理元素都配备了清洁装置而且是借助驱动装置经由最少两个同步的偏心枢轴偏心驱动的，其特征在于各自的枢轴以这样的方式围绕着它们的主旋转轴旋转，以致那至少两个处理元素完成反向运动，借此沿着预期的方向输送地板上的残留物和平衡引擎质量和摩擦。

附图说明

图1展示配备了依照本发明的第一实施方案使用两个彼此安排在后面的横向处理元素的地板处理清洁系统的地板清洁机的侧视图。

图2展示图1所示机器的顶视图。

图3展示图1所示地板处理清洁系统的顶视图。

图4展示依照本发明的地板处理清洁系统的一个处理元素的斜视图。

图5展示配备了依照本发明的第二实施方案使用两个彼此紧邻安排的横向处理元素的地板处理清洁系统的地板清洁机的顶视图。

图6展示配备了依照本发明的第三实施方案使用两个被安排成V-字形的斜的处理元素的地板处理清洁系统的地板清洁机的顶视图。

图7展示配备了依照本发明的第四实施方案使用两个彼此紧邻安排形成圆弧区段的弓形的处理元素的地板处理清洁系统的地板清洁机的顶视图。

图8展示配备了依照本发明的第五实施方案使用四个被安排成V-字形的斜的处理元素的地板处理清洁系统的地板清洁机的顶视图。

具体实施方式

图1和2举例说明配备了依照本发明的地板处理清洁系统的清洁机。地板清洁机1包括个储罐2、地板处理清洁系统3和在处理清洁系统后面的吸入底脚(橡皮刮板)4。该机器有前轮5和两个后轮6。依照第一实施方案，该地板处理清洁系统包括两个相对于机器1的移动方向横向安排而且彼此平行一个在另一个后面的处理元素7a和7b(在图2中能更详细地看到)。每个元素用两个偏心枢轴8驱动。

图3展示两个被偏心驱动的处理元素7a和7b借助四个同步滑轮9和系统同步传动带10相互连接。如同人们能看到的那样，处理元素7a、7b被安排成有180°相位偏移，即，处理元素7a的枢轴和处理元素7b的枢轴相对于它们各自绕其旋转的主旋转轴位于相反的位置。举例来说，如同在图3中看到的那样，处理元素7a的枢轴被定位于它们的主旋转轴的右边，而处理元素7b的枢轴被定位于它们的主旋转轴的左边。在操作时，所有的枢轴都围绕着它们各自的主轴按照同一旋转方向旋转，因此，处理元素7a和7b完成同样的强制旋转。但是由于180°相位偏移，处理元素7a和7b总是相对于机器的移动方向及其横断方向(在图2和图3中用x和y表示)完成反向运动。

这样，地板上的残留物将沿着确定的方向输送。由于它的旋转方向，处理元素的振动式旋转运动使地板上的残留物沿着与处理元素前缘的圆周速度的方向相当的方向前进(沿着机器的移动方向看)。举例来说，如果枢轴8围绕着它们的主旋转轴沿着顺时针方向旋转，地板上的残留物将被向右输送，即，沿着y-方向，在图2中沿着机器移动方向x看到的。除了地板上残留物的这种受控输送之外，处理元素的反向运动还导致引擎质量的平衡和摩擦的补偿。

两个处理元素在图3中沿着x和y两个方向的反向运动是这份说明书中所谓的处理元素的“反向运动”的一个例子，这种反向运动的进一步的例子将连同本发明其它的实施方案一起在下文中描述。

图4更详细地展示处理元素7的特征。刷子11附着在夹持元素11a上，其中刷子11和夹持元素11a被为刷子夹持元素11a的强制水平旋转运动(这种运动将在下面进一步详细讨论)提供充足的空间的框架12从上方封住。框架12配备两个被隔开的轴承元素16，在每个轴承元素16下面提供绕其主轴13旋转的滑轮9。滑轮本身以已知的方式与其旋转轴固定连接。平衡质量14通过法兰连接被同心地装到每个滑轮9上。作为替代，滑轮9和平衡质量14可以是用一块材料制成的。在每个平衡质量14下面，提供与刷子夹持元素11a转动连接的偏心枢轴8。因此，刷子夹持元素11a被两个与其转动连接并且其间有特定距离的偏心枢轴8支撑着。为了刷子夹持元素11a的强制旋转运动，两个滑轮9借助一条元素同步传动带17相互连接。人们应该注意到图4中的元素同步传动带17导致对单一处理元素的有限的控制，然而整个处理系统(即，结合图3描述的两个处理元素)的同步是靠系统同步传动带10实现的。

处理元素7的操作如下。滑轮/枢轴组件之一的主轴13被图4描绘的驱动装置15驱动旋转。作为替代，可以驱动元素同步传动带17，而不是直接驱动主轴之一。由于两个旋转枢轴8依照前面的解释是借助滑轮9和元素同步传动带17同步的，所以它们围绕着它们各自的主轴13完成同样的旋转。基于刷子夹持元素11a被转动连接到同步枢轴8上的事实(其中同步枢轴8围绕它们各自的主轴13旋转)，安装在夹持元素11a下面的刷子11在地板上完成强制旋转。特别重要的是在两个与夹持元素11a这样连接以致其稳定的强制旋转运动得以实现的偏心枢轴8之间有特定的距离。人们将注意到平衡质量14如同前面结合处理元素7a、7b的反向运动陈述的那样加到引擎质量的平衡之中。为了使处理元素的旋转速度适应诸如机器速度、机器类型或污秽程度之类的个别需要，驱动装置15可以配备速度调节装置(未展示)。

图5展示依照本发明配备了地板处理清洁系统的第二实施方案的地板清洁机的顶视图。与图1-3所示的第一实施方案一样，两个处理元素7a和7b是相对于机器1的移动方向横向安排的，但是彼此相邻而不是一个在另一个后面。处理元素的内边缘被斜切。在操作时，相对于机器移动方向左边的处理元素7被驱动完成顺时针方向的强制旋转，而右边的处理元素7b被驱动完成逆时针方向的强制旋转。这样，两个处理元素完成相反的强制旋转运动，而地板上的残留物将被输送到清洁机的中心，以致它们能被橡皮刮板4拾起。处理元素是借助同步传动带(未展示)同步的，0°或180°相位偏移用于引擎质量的平衡和摩擦的补偿。在这个实施方案中，处理元素的“反向运动”起因于按照相反的方向旋转，与第一实施方案形成对比，在该实施方案中旋转方向是相同的，但是沿着x和y方向的运动是相反的。

图6展示依照本发明配备了地板处理清洁系统的第三实施方案的地板清洁机的顶视图。在这个实施方案中，两个处理元素7a和7b被安排成沿着机器1的移动方向开口的V-字形。操作类似于第二实施方案之一，即，左边的处理元素7a被驱动完成顺时针方向的强制旋转，而右边的处理元素7b被驱动完成逆时针方向的强制旋转，以致地板上的残留物将被输送到清洁机的中心，在那里它们能被橡皮刮板4拾起。与在第二实施方案中一样，处理元素是同步的，0°或180°相位偏移用于引擎质量的平衡和摩擦的补偿。与前面的描述一样，处理元素的“反向运动”起因于按照相反的方向旋转。

图7展示依照本发明配备了地板处理清洁系统的第四实施方案的地板清洁机的顶视图。这个实施方案除了处理元素呈弓形之外类似于第二和第三实施方案。

图8展示依照本发明配备了地板处理清洁系统的第五实施方案的地板清洁机的顶视图。在这个(可以认为是第一和第三实施方案的组合的)实施方案中，每组分别由两个处理元素7a、7a′和7b、7b′组成的两组处理元素被安排成沿着机器移动方向开口的V-字形。在操作时，相对于机器移动方向左边的处理元素7a、7a′被驱动完成顺时针方向的强制旋转，而右边的处理元素7b，7b′被驱动完成逆时针方向的强制旋转。每组的处理元素是同步的，与在第一实施方案中一样有180°相位偏移，举例来说，借助滑轮9和传动带10(见图3)。地板上的残留物将再一次被输送到清洁机的中心，以致它们能被橡皮刮板4拾起。由于在每组的处理元素之间有180°相位偏移，引擎质量的平衡和摩擦的补偿被获得。然而，为了避免左边一组处理元素和右边一组处理元素之间的碰撞，如同在第二实施方案中那样两组之间的同步可能是有利的。

需要强调的是前面提到的本发明的不同的实施方案仅仅是作为例子描述本发明。各种不同的替代方案也在本发明的权利要求书所定义的范围之内。举例来说，处理元素相对于机器可能有各种不同的其它的安排而且所述元素可能有不同的形状。此外，系统和元素的同步装置能被修改，举例来说，传动带10和17可能被链条或连杆代替。清洁机本身也可能被修改，举例来说，处理清洁系统也可能被放在前轮5的前面，橡皮刮板4可能被放在后轮6的前面，其它的轮子可能被提供，等等。

Claims (12)

1.用于地板清洁机(1)的地板处理清洁系统(3)，该系统包括至少两个处理元素(7a、7b)，其中每个处理元素都配备了清洁装置(11)，而且每个处理元素都是用驱动装置(15)经由至少两个同步的偏心枢轴(8)偏心地驱动的，其特征在于各个偏心枢轴(8)以一种方式围绕着它们各自的主旋转轴(13)旋转，通过这种方式可以使那至少两个处理元素完成相反的强制旋转运动，借此沿着预期方向输送地板上的残留物和平衡引擎质量和补偿摩擦。

2.根据权利要求1的地板处理清洁系统，其特征在于所述的两个处理元素(7a、7b)相对于地板清洁机(1)的移动方向是横向安排的彼此相邻，其中相对于地板清洁机(1)的移动方向左边的处理元素(7a)被驱动完成顺时针方向的强制旋转，右边的处理元素(7b)被驱动完成逆时针方向的强制旋转，所以两个处理元素完成相反的强制旋转运动。

3.根据权利要求1的地板处理清洁系统，其特征在于所述的两个处理元素(7a、7b)被安排成沿着地板清洁机(1)的移动方向开口的V-字形，其中相对于地板清洁机(1)的移动方向左边的处理元素(7a)被驱动完成顺时针方向的强制旋转，而右边的处理元素(7b)被驱动完成逆时针方向的强制旋转，所以两个处理元素完成相反的强制旋转运动。

4.根据权利要求2或3的地板处理清洁系统，其特征在于所述的处理元素(7a、7b)是同步的，相位偏移为0°。

5.根据权利要求2或3的地板处理清洁系统，其特征在于所述的处理元素(7a、7b)是同步的，相位偏移为180°。

6.根据权利要求4的地板处理清洁系统，其特征在于所述的处理元素(7a、7b)是弓形的。

7.根据权利要求5的地板处理清洁系统，其特征在于所述的处理元素(7a、7b)是弓形的。

8.根据权利要求1的地板处理清洁系统，其特征在于每组分别由两个处理元素(7a、7a′；7b，7b′)组成的两组处理元素被安排成沿着地板清洁机(1)的移动方向开口的V-字形，其中每组的处理元素经由同步装置(9、10)相互连接，以致每组的处理元素完成相同的强制旋转运动，而且相对于地板清洁机(1)的移动方向左边一组的处理元素(7a、7a′)被驱动完成顺时针方向的强制旋转，而右边一组的处理元素(7b，7b′)被驱动完成逆时针方向的强制旋转，所以两组处理元素完成相反的强制旋转运动。

9.根据权利要求8的地板处理清洁系统，其特征在于所述的两组处理元素(7a、7a′；7b，7b′)是同步的相位偏移为180°，以致它们相对于地板清洁机(1)的移动方向完成相同的运动及其相对于横断方向完成相反的运动。

10.根据权利要求8或9的地板处理清洁系统，其特征在于左右两组处理元素是有180°相位偏移而同步的。

11.根据权利要求1的地板处理清洁系统，其特征在于每个主旋转轴(13)都有用来平衡引擎质量的平衡质量(14)。

12.根据权利要求1的地板处理清洁系统，其特征在于驱动装置(15)配备了速度调节装置，以使处理元素(7a、7b)的旋转速度适应地板清洁机的速度、地板清洁机的类型或污秽程度。

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