[go: up one dir, main page]

CN1720245A - 带有杂芳基的肟酯光引发剂 - Google Patents

带有杂芳基的肟酯光引发剂 Download PDF

Info

Publication number
CN1720245A
CN1720245A CNA2003801047043A CN200380104704A CN1720245A CN 1720245 A CN1720245 A CN 1720245A CN A2003801047043 A CNA2003801047043 A CN A2003801047043A CN 200380104704 A CN200380104704 A CN 200380104704A CN 1720245 A CN1720245 A CN 1720245A
Authority
CN
China
Prior art keywords
alkyl
phenyl
substituted
unsubstituted
halogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2003801047043A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1720245B (zh
Inventor
J·塔纳布
H·库拉
H·奥卡
M·奥瓦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Schweiz AG
BASF SE
Original Assignee
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=32405823&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN1720245(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG filed Critical Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Publication of CN1720245A publication Critical patent/CN1720245A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1720245B publication Critical patent/CN1720245B/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/33—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/333—Radicals substituted by oxygen or sulfur atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/33—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/335—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/10—Indoles; Hydrogenated indoles with substituted hydrocarbon radicals attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D209/12—Radicals substituted by oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/10—Indoles; Hydrogenated indoles with substituted hydrocarbon radicals attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D209/14—Radicals substituted by nitrogen atoms, not forming part of a nitro radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/30—Indoles; Hydrogenated indoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D209/42—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/22—Radicals substituted by doubly bound hetero atoms, or by two hetero atoms other than halogen singly bound to the same carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D333/38—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/52—Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
    • C07D333/54—Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D333/58—Radicals substituted by nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
    • C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
    • C07D403/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/06—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

式(I)，(II)，(III)和(IV)的化合物，其中Ch1为例如式(V)或(VI)；Ch2为式(VII)或(VIII)；Het1为例如呋喃基，噻吩基，吡咯基，吡啶基，苯并噻吩基，喹啉基或联噻吩基；它们各自是任选取代的；Het2和Het2’为例如亚呋喃基，亚噻吩基，亚吡咯基，亚苯并噻吩基，亚喹啉基，亚呋喃基羰基，亚噻吩基羰基，亚苯并噻吩基羰基或亚联噻吩基羰基；它们各自是任选取代的；Ar2为例如亚苯基，该基团可以是任选取代的；M例如是C1－C20亚烷基；R1例如是C1－C12烷基或苯基；R2和R2’例如是氢或C1－C20烷基；这些化合物在光聚合反应中显示出预料不到的良好性能。

Description

带有杂芳基的肟酯光引发剂
本发明涉及新的带有特定杂芳族取代基的肟酯化合物，以及它们在光聚合组合物中作为光引发剂的用途。
从美国专利3558309已知某些肟酯衍生物是光引发剂。US4255513中公开了肟酯化合物。EP810595中记载了某些带有给电子基团的肟酯化合物。US-A-2001012596中描述了醛肟或酮肟酯化合物。从GB-A-2339571和US 6485885中已知具有OR-，SR-或NR2取代基的肟酯化合物以及相应的光聚合组合物。US 4202697公开了丙烯酰氨基取代的肟酯。JP 7-140658A，Bull.Chem.Soc.Jpn.1969，42(10)，2981-3，Bull.Chem.Soc.Jpn.1975，48(8)，2393-4，Han’guk SomyuKonghakhoechi 1990，27(9)，672-85，Macromolecules，1991，24(15)，4322-7以及European Polymer Journal，1970，933-943中记载了某些醛肟酯化合物。US4590145和JP 61-24558-A中公开了几种二苯酮肟酯化合物。而且下列文献中公开了某些对-烷氧基-苯基肟酯化合物：化学文摘No. 96：52526c，J.Chem.Eng.Data 9(3)，403-4(1964)，J.Chin.Chem.Soc.(Taipei)41(5)573-8，(1994)，JP 62-273259-A(＝化学文摘 109：83463w)，JP 62-286961-A(＝Derwent No.88-025703/04)，JP 62-201859-A(＝Derwent No.87-288481/41)，JP 62-184056-A(＝Derwent No.87-266739/38)，US 5019482和J.of Photochemistry and Photobiology A 107，261-269(1997)。
在光聚合技术领域仍然需要高反应性、易制备和易处理的光引发剂。例如，为了在滤色片抗蚀剂应用方面获得高彩色质量性能，需要高度着色配制物。随着颜料含量增高，有色抗蚀剂的固化变得更加困难。因而需要比目前的引发体系具有更高敏感性的光引发剂。此外，这种新的光引发剂还必须满足工业相关性质例如热温度下和储存稳定性的高要求。
令人惊奇的是，已经发现式I，II，III和IV的化合物与光引发剂单一结构物或以其为基础的混合物相比在光聚合反应中显示出意向不到的良好性能：
Figure A20038010470400181
Figure A20038010470400182
其中
Figure A20038010470400183
Figure A20038010470400184
其中
Ch1为
Figure A20038010470400185
Figure A20038010470400186
或
Figure A20038010470400187
Ch2为 或
Het1为呋喃基，噻吩基，吡咯基，咪唑基，吡唑基，噻唑基，噁唑基，异噁唑基，吡啶基，吡嗪基，哒嗪基，三嗪基，2-或3-苯并呋喃基，2-或3-苯并噻吩基，苯并噻唑基，苯并噻二唑基，2-或3-吲哚基，吲唑基，喹啉基，异喹啉基，酞嗪基，喹喔啉基，喋啶基，或联噻吩基；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基和/或苯氧基羰基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被任选被一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或者它们各自被C2-C12烷氧基羰基取代，所述C2-C12烷氧基羰基任选被一个或多个-O-或-S-间隔开，并且任选被一个或多个羟基所取代；
或者它们各自被一个或多个OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6所取代，其中取代基OR3、SR4、或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与杂芳环上的其它取代基形成5-或6-元环；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，这些基团本身是未取代的或被OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
Het2和Het2’各自独立地为亚呋喃基，亚噻吩基，亚吡咯基，亚咪唑基，亚吡唑基，亚噻唑基，亚噁唑基，亚异噁唑基，亚吡啶基，亚吡嗪基，亚哒嗪基，亚三嗪基，亚苯并呋喃基，亚苯并噻吩基，亚苯并噻唑基，亚苯并噻二唑基，亚吲哚基，亚吲唑基，亚喹啉基，亚异喹啉基，亚酞嗪基，亚喹喔啉基，亚喋啶基，亚联噻吩基，亚呋喃基羰基，亚噻吩基羰基，亚吡咯基羰基，亚咪唑基羰基，亚吡唑基，亚噻唑基羰基，亚噁唑基羰基，亚吡啶基羰基，亚吡嗪基羰基，亚哒嗪基羰基，亚三嗪基羰基，亚苯并呋喃基羰基，亚苯并噻吩基羰基，亚苯并噻唑基羰基，亚苯并噻二唑基羰基，亚吲哚基羰基，亚吲唑基羰基，亚喹啉基羰基，亚异喹啉基羰基，亚酞嗪基羰基，亚喹喔啉基羰基，亚喋啶基羰基或亚联噻吩基羰基；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-7次；
或者它们各自被苯基或萘基取代，所述苯基或萘基任选被一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基，苯甲酰基，萘甲酰基，或基团：
Figure A20038010470400191
或
Figure A20038010470400192
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基和/或苯氧基羰基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被由一个或多个OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代的苯基取代；
或者它们各自被C2-C12烷氧基羰基取代，所述C2-C12烷氧基羰基任选被一个或多个-O-或-S-间隔开，和/或任选被一个或多个羟基取代；
或者它们各自被一个或多个OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，所述C1-C8烷酰基或苯甲酰基任选被OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代，其中取代基OR3、SR4、或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与苯环上的其它取代基形成5-或6-元环；
条件是：
(i)如果式I中的Ch1为
Figure A20038010470400201
Ar1’为苯基，Het2为5-苯基-4，3-亚异噁唑基和R2为苯基，则R1不能为苯基；
Ar2为亚苯基，亚萘基，亚苯基羰基，亚萘基羰基，或基团：
Figure A20038010470400202
Figure A20038010470400203
Figure A20038010470400204
或
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-6次；
M为C1-C20亚烷基或为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C20亚烷基，所述C1-C20亚烷基和C2-C20亚烷基任选被一个或多个卤素、OR3、苯基或被OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或M为亚苯基或亚萘基，它们各自是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
X为直接键，-O-，-S-，-NR5-或-CO-；
Y为-O-，-S-，-NR5-，-CO-或-CH2-；
R1为氢，C3-C8环烷基；或为C1-C12烷基，该烷基是未取代的或被一个或多个卤素、苯基和/或CN所取代；
或者R1为C2-C5链烯基；或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、CN、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基；
或者R1为C1-C8烷氧基，苄氧基；或为任选被一个或多个C1-C6烷基和/或卤素取代的苯氧基；
R2和R2’各自独立地为氢；未取代的C1-C20烷基或被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C1-C20烷基；
或者R2和R2’为C3-C8环烷基；
或为被一个或多个-O-或-S-间隔开，和/或任选被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C2-C20烷基；
或者R2和R2’为苯基，该苯基是未取代的，或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为C2-C20烷酰基或苯甲酰基，它们为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6取代的；
或者R2和R2’为任选被一个或多个-O-或-S-间隔开和/或任选被一个或多个羟基取代的C2-C12烷氧基羰基；
或者R2和R2’为未取代的或被C1-C6烷基、卤素、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯氧基羰基；
或者R2和R2’为CN，-CONR5R6，NO2，C1-C4卤代烷基，S(O)m-C1-C6烷基或任选被C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代的S(O)m-苯基；
或者R2和R2’为SO2O-苯基，其任选被C1-C12烷基取代；
或者R2和R2’为呋喃基，噻吩基，吡咯基或吡啶基；
m为1或2；
R3为氢，C1-C20烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R3为C1-C8烷基，该烷基被-OH，-SH，-CN，C3-C5链烯氧基，-OCH2CH2CN，-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)，-O(CO)-(C1-C4烷基)，-O(CO)-苯基，-(CO)OH和/或-(CO)O(C1-C4烷基)所取代；
或者R3为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R3为-(CH2CH2O)n+1H，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C1-C8烷酰基，C2-C12链烯基，C3-C6烯酰基，C3-C8环烷基；
或者R3为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OH和/或C1-C4烷氧基取代的苯甲酰基；
或者R3为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素，OH，C1-C12烷基，C1-C12烷氧基，苯氧基，C1-C12烷硫基，苯硫基，-N(C1-C12烷基)2和/或二苯基氨基所取代；
n为1-20；
R4为氢，C1-C20烷基，C2-C20链烯基，C3-C8环烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R4为被以下基团取代的C1-C8烷基：-OH，-SH，-CN，C3-C6链烯氧基，-OCH2CH2CN，-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)，-O(CO)-(C1-C4烷基)，-O(CO)-苯基，-(CO)OH或-(CO)O(C1-C4烷基)；
或者R4为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R4为-(CH2CH2O)n+1H，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C1-C8烷酰基，C2-C12链烯基或C3-C6烯酰基；
或者R4为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OH，C1-C4烷氧基或C1-C4烷硫基取代的苯甲酰基；
或者R4为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷硫基、苯硫基、-N(C1-C12烷基)2、二苯基氨基、-(CO)O(C1-C8烷基)、-(CO)-C1-C8烷基或(CO)N(C1-C8烷基)2所取代；和
R5和R6各自独立地为氢，C1-C20烷基，C2-C4羟基烷基，C2-C10烷氧基烷基，C2-C5链烯基，C3-C8环烷基，苯基-C1-C3烷基，C1-C8烷酰基，C3-C12-烯酰基或苯甲酰基；
或者R5和R6为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基所取代；
或者R5和R6一起表示C2-C8亚烷基，该亚烷基任选被-O-、-S-或-NR3-间隔开和/或任选被羟基、C1-C4烷氧基、C2-C4烷酰氧基或苯甲酰氧基取代。
取代的芳基或亚芳基Ar1，Ar1’，Ar2，Het2，Het2’或M分别被取代1-7次、1-6次或1-4次。显然，所定义的芳基不可能具有多于该芳环上的自由位置的取代基数量。这些基团被取代1-7次，例如1-6次或1-4次，特别是一次、两次或三次。
例如，取代的苯基被取代1-4次，譬如被取代一次、二次或三次，尤其是两次。苯环上的取代基优选位于苯环的4位，或为3，4-，3，4，5-，2，6-，2，4-或2，4，6-构型。
萘基为1-萘基或2-萘基。
萘甲酰基为1-萘甲酰基或2-萘甲酰基。
作为Het1，Het2和Het2’的定义所给出的杂芳基对本领域技术人员而言是已知的。如果在权利要求、本申请文本中没有指明具体位置，则对于基团“基(y1)”(即连接于分子其余部分的键)以及这些环中的杂原子位置而言，是指所有可能的位置。
呋喃基为：
亚呋喃基是指：
Figure A20038010470400232
亚呋喃基羰基构成：
Figure A20038010470400233
噻吩基是指：
Figure A20038010470400234
例如2-噻吩基
Figure A20038010470400235
或3-噻吩基
亚噻吩基是指
Figure A20038010470400237
亚噻吩基羰基构成
Figure A20038010470400238
关于这些定义和键位置的类似说明同样适用于其它杂芳基基团。
C1-C20烷基是直链或支链的，例如为C1-C18-，C1-C14-，C1-C12-，C1-C8-，C1-C6-或C1-C4-烷基或C4-C12-或C4-C8-烷基。实例有甲基，乙基，丙基，异丙基，正丁基，仲丁基，异丁基，四丁基，戊基，己基，庚基，2，4，4-三甲基戊基，2-乙基己基，辛基，壬基，癸基，十二烷基，十四烷基，十五烷基，十六烷基，十八烷基和二十烷基。
C1-C12-烷基、C2-C12-烷基、C1-C11-烷基、C1-C8-烷基和C1-C6-烷基具有与上面C1-C20烷基所给出的直至相应C原子数烷基的相同含义。
被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C20烷基例如被-O-或-S-间隔开1-9次，1-5次，1-3次或一次或两次。不能连续存在多个-O-原子。例如，两个-O-原子被至少两个亚甲基(即亚乙基)分离开。所述烷基可以是直链或支链的。例如，存在下列结构单元：-CH2-CH2-O-CH2CH3，-[CH2CH2O]y-CH3，其中y＝1-9，-(CH2-CH2O)7-CH2CH3，-CH2-CH(CH3)-O-CH2CH2CH3或-CH2-CH(CH3)-O-CH2CH3或-CH2-CH2-S-CH2CH3，-[CH2CH2S]y-CH3，其中y＝1-9，-(CH2-CH2S)7-CH2CH3，-CH2-CH(CH3)-S-CH2-CH2CH3或-CH2-CH(CH3)-S-CH2CH3。
C1-C20亚烷基是直链或支链的，例如为C1-C16-，C1-C12-，C1-C10-，C1-C8-，C1-C6-或C1-C4-亚烷基或C4-C12-或C4-C8-亚烷基。实例为亚甲基，亚乙基，亚丙基，甲基亚乙基，亚丁基，甲基亚丙基，乙基亚乙基，1，1-二甲基亚乙基，1，2-二甲基亚乙基，亚戊基，亚己基，亚庚基，2-乙基亚己基，亚辛基，亚壬基，亚癸基，亚十二烷基，亚十四烷基，亚十五烷基，亚十六烷基，亚十八烷基和亚二十烷基。C1-C10亚烷基具有与上面C1-C20亚烷基所给出的直至相应碳原子数亚烷基的相同含义。
C2-C4羟基烷基是指被一个或两个O-原子取代的C2-C4烷基。所述烷基是直链或支链的。实例有2-羟基乙基，1-羟基乙基，1-羟基丙基，2-羟基丙基，3-羟基丙基，1-羟基丁基，4-羟基丁基，2-羟基丁基，3-羟基丁基，2，3-二羟基丙基，或2，4-二羟基丁基。
C3-C8环烷基例如为环丙基，环丁基，环戊基，环己基，环辛基，尤其是环戊基和环己基。
C1-C12烷氧基是指被一个O-原子取代的C1-C12烷基。C1-C12烷基具有与上面C1-C20烷基所给出的直至相应C原子数烷基的相同含义。C1-C4烷氧基为直链或支链的，例如，甲氧基，乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基。
C1-C12烷硫基是指被一个S-原子取代的C1-C12烷基。C1-C12烷基具有与上面C1-C20烷基所给出的直至相应C原子数烷基的相同含义。C1-C4烷硫基为直链或支链的，例如，甲硫基，乙硫基、丙硫基、异丙硫基、正丁硫基、仲丁硫基、异丁硫基、叔丁硫基。
C2-C10烷氧基烷基是指被一个O-原子间隔开的C2-C10烷基。C2-C10烷基具有与上面C1-C20烷基所给出的直至相应C原子数烷基的相同含义。实例为甲氧基甲基，甲氧基乙基，甲氧基丙基，乙氧基甲基，乙氧基乙基，乙氧基丙基，丙氧基甲基，丙氧基乙基，丙氧基丙基。
C2-C20烷酰基是直链或支链的，例如为C2-C18-，C2-C14-，C2-C12-，C2-C8-，C2-C6-或C2-C4-烷酰基或C4-C12-或C4-C8-烷酰基。实例为乙酰基，丙酰基，丁酰基，异丁酰基，戊酰基，己酰基，庚酰基，辛酰基，壬酰基，癸酰基，十二烷酰基，十四烷酰基，十五烷酰基，十六烷酰基，十八烷酰基，二十烷酰基，优选乙酰基。C1-C8烷酰基具有与上面C2-C20烷酰基所给出的直至相应碳原子数烷酰基的相同含义。
C2-C4烷酰氧基是直链或直链的，例如乙酰氧基，丙酰氧基，丁酰氧基，异丁酰氧基，优选乙酰氧基。
C2-C12烷氧基羰基是直链或支链的，例如为甲氧基羰基，乙氧基羰基，丙氧基羰基，正丁氧基羰基，异丁氧基羰基，1，1-二甲基丙氧基羰基，戊氧基羰基，己氧基羰基，庚氧基羰基，辛氧基羰基，壬氧基羰基，癸氧基羰基或十二烷氧基羰基，尤其是甲氧基羰基，乙氧基羰基，丙氧基羰基，正丁氧基羰基或异丁氧基羰基，优选甲氧基羰基。
被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷氧基羰基是直链或支链的。两个O-原子被至少两个亚甲基即亚乙基分开。
苯氧基羰基为：
Figure A20038010470400251
取代的苯氧基羰基被取代1-4次，例如一次、两次或三次，尤其是两次或三次。苯环上的取代基优选位于苯环的4位或位于3，4-，3，4，5-，2，6-，2，4-或2，4，6-位上。
苯基-C1-C3烷基例如为苄基，苯乙基，α-甲基苄基或α，α-二甲基苄基，尤其是苄基。
C2-C12链烯基可以是单-或多不饱和的，例如为乙烯基，烯丙基，甲代烯丙基，1，1-二甲基烯丙基，1-丁烯基，3-丁烯基，2-丁烯基，1，3-戊二烯基，5-己烯基，7-辛烯基或十二碳烯基，尤其是烯丙基。C2-C5链烯基具有与上述C2-C12链烯基所给出的直至相应C原子数链烯基的相同含义。
C3-C6链烯氧基可以是单-或多不饱和的，例如为烯丙氧基，甲代烯丙氧基，丁烯氧基，戊烯氧基，1，3-戊二烯基，5-己烯氧基。
C3-C12烯酰基可以是单-或多不饱和的，例如为丙烯酰基，2-甲基-丙烯酰基，丁烯酰基，戊烯酰基，1，3-戊二烯酰基，5-己烯酰基。C3-C6烯酰基具有与上述C3-C12烯酰基所给出的直至相应C原子数链烯基的相同含义。
卤素为氟、氯、溴和碘，尤其是氟、氯和溴，优选氟和氯。
如果杂芳基(例如Het1)、芳基(例如Ar1、Ar1’)环上的取代基OR3、SR4和NR5R6通过基团R3、R4、R5和/或R6与相应环上的其它取代基形成5-或6-元环，所得结构将包含两个或三个环(包括所述相应环本身)。
实例为：
Figure A20038010470400261
Figure A20038010470400264
Figure A20038010470400265
例如
Figure A20038010470400268
Figure A200380104704002610
很清楚，在目前的定义情况下并考虑到实施例，这些基团可以带有进一步的取代基。
式I，II，III和IV的肟酯采用文献中公开的方法制备，例如，通过相应的肟与酰氯或酸酐在碱例如三乙胺或吡啶的存在下在惰性溶剂如叔丁基甲基醚、四氢呋喃(TFH)或二甲基甲酰胺中或在碱性溶剂如吡啶中反应制备。
Figure A200380104704002612
这些反应是本领域技术人员公知的，并且通常是在-15至+50℃，优选0-25℃的温度下进行。
式II、III和IV的化合物可利用适当的肟作为起始原料按类似方法制得：
Figure A20038010470400272
或
Ch1，Ch2，Ar1，M，R2和R2’的定义同上。
作为起始原料需要的肟可以利用标准化学教科书(这例如J.March，Advanced Organic Chemistry，第中描述的各种方法获得4版，WileyInterscience，1992)，或专著(例如S.R.Sandler & W.Karo，有机官能团的制备(Orgainc functions group preparations)，Vol.3，Academic Press)中描述的各种方法获得。
例如，一种最简便的方法是在极性溶剂如乙醇或含水乙醇中使醛或酮与羟胺或其盐反应。在这种情况下，需要加入碱如乙酸钠或吡啶来控制反应混合物的pH值。已经知道，反应速率是pH依赖性的，并且碱可以在反应开始时或者反应过程中连续加入。也可以使用碱性溶剂如吡啶作为碱和/或溶剂或助溶剂。反应温度一般为该混合物的回流温度，通常约60-120℃。
另一种合成肟的简便方法是用亚硝酸或亚硝酸烷基酯将“活性”亚甲基进行亚硝化。如Organic Synthese coll.Vol.VI(J.Wiley& Sons，New York，1988)，pp 199和840中描述的碱性条件，以及例如Organic Synthesis coll.VolV，pp32和373，coll.Vol.III，pp 191和513，coll.Vol.II，pp 202，204和363中描述的酸性条件，都适用于制备用作本发明起始原料的肟。亚硝酸通常由亚硝酸钠生成。亚硝酸烷基酯例如可以是亚硝酸甲酯、亚硝酸乙酯、亚硝酸异丙酯、亚硝酸丁酯或亚硝酸异戊酯。
每一个肟酯基团可以存在两种构型(Z)或(E)。可以用常规方法分离这些异构体，但也可以使用异构体混合物本身作为光引发物质。因此，本发明还涉及式I、II、III和IV混合物的构型异构体的混合物。
优选这些式I、II、III和IV的化合物，其中
Het1为呋喃基，噻吩基，吡咯基，吡啶基，吡嗪基，哒嗪基，2-或3-苯并呋喃基，2-或3-苯并噻吩基，苯并噻唑基，2-或3-吲哚基，喹啉基，异喹啉基或喹喔啉基；它们各自是未取代的或被卤素或C1-C12烷基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被任选由一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或者它们各自被OR3、SR4、SOR4和/或NR5R6所取代，其中取代基OR3、SR4或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与杂芳环上的其它取代基形成5-或6-元环；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，而这两个基团本身是未取代的或被OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
Het2和Het2’各自独立地为亚呋喃基，亚噻吩基，亚吡咯基，亚苯并呋喃基，亚苯并噻吩基，亚吲哚基，亚吲唑基，亚喹啉基，亚异喹啉基，亚喹喔啉基，亚呋喃基羰基，亚噻吩基羰基，亚吡咯基羰基，亚咪唑基羰基，亚苯并呋喃基羰基，亚苯并噻吩基羰基，亚吲哚基羰基，亚喹啉基羰基，亚异喹啉基羰基，亚喹喔啉基羰基；它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-7次；
或者它们各自被苯基或萘基取代，所述苯基或萘基任选被一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基，或基团(B)；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C6烷基、OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代取代1-7次，
或者它们各自被苯甲酰基、苯基或被任选由一个或多个OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代的苯基取代；
Ar2为亚苯基，亚萘基，亚苯基羰基，亚萘基羰基，或基团(C)、(D)、(E)或(F)，
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-6次；
M为C1-C20亚烷基或为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C20亚烷基，所述C1-C20亚烷基和C2-C20亚烷基任选被一个或多个卤素、OR3、苯基或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或M为亚苯基或亚萘基，它们各自是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
X为直接键或-CO-；
Y为-O-，-S-或-NR5-；
R1为未取代的或被一个或多个卤素或苯基取代的C1-C6烷基；
或者R1为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基；
或者R1为C1-C6烷氧基或苄氧基；
R2和R2’各自独立地为氢；未取代的C1-C20烷基或为被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C1-C20烷基；
或者R2和R2’为C3-C8环烷基；或为被一个或多个-O-间隔开的且/或任选被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C2-C20烷基；
或者R2和R2’为苯基，该苯基是未取代的，或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为C2-C20烷酰基或为苯甲酰基，它们为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为呋喃基，噻吩基，吡咯基或吡啶基；
R3为氢，C1-C20烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R3为C1-C8烷基，该烷基被C3-C5链烯氧基，-O(CO)-(C1-C4烷基)或-O(CO)-苯基所取代；
或者R3为被一个或多个-O-间隔开的C2-C12烷基；
或者R3为C1-C8烷酰基或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素和/或C1-C4烷氧基取代的苯甲酰基；
或者R3为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C1-C4烷氧基、C1-C12烷硫基、苯硫基、-N(C1-C12烷基)2和/或二苯基氨基所取代；
R4为氢，C1-C20烷基，或为被-O(CO)-(C1-C4烷基)或-O(CO)-苯基取代的C1-C8烷基；
或者R4为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R4为C1-C8烷酰基；为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、C1-C4烷氧基或C1-C4烷硫基取代的苯甲酰基；
或者R4为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷硫基、苯硫基、-N(C1-C12烷基)2、二苯基氨基所取代；和
R5和R6各自独立地为氢，C1-C20烷基，C2-C4羟基烷基，C2-C10烷氧基烷基，苯基-C1-C3烷基，C1-C8烷酰基，C3-C12-烯酰基或苯甲酰基；
或者R5和R6为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基所取代；
或者R5和R6一起表示C2-C8亚烷基，该亚烷基任选被-O-或-NR3-间隔开且/或任选被C1-C4烷氧基、C2-C4烷酰氧基或苯甲酰氧基取代。
进一步有意义的是这些式I，II，III和IV化合物，其中：
或
Het1为呋喃基，噻吩基，吡咯基，吡啶基，2-或3-苯并噻吩基或2-或3-吲哚基；它们各自是未取代的或被C1-C12烷基所取代；
Het2和Het2’各自独立地为亚噻吩基，亚吡咯基，亚苯并噻吩基，亚吲哚基，亚吲哚基羰基；
它们各自是未取代的或被C1-C12烷基所取代；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基，或基团(B)；
它们各自是未取代的或被C1-C12烷基、OR3、SR4或吗啉代所取代；
Ar2为基团(C)，(D)或(E)；它们各自是未取代的或被C1-C12烷基所取代；
M为C1-C20亚烷基；
X为直接键；
Y为-O-，-S-或-NR5-；
R1为C1-C12烷基，苯基或C1-C8烷氧基；
R2和R2’各自独立地为氢；C1-C20烷基或苯基；
R3为C1-C20烷基；和
R4，R5和R6各自独立为C1-C20烷基或苯基。
进一步优选这些式I化合物，其中：
Ch1为 或
Figure A20038010470400312
Het1为2-噻吩基，2-呋喃基，N-(C1-C4烷基)-2-吡咯基，N-(苯基)-2-吡咯基，4-吡啶基，N-(C1-C4烷基)-3-吲哚基或N-(苯基)-3-吲哚基；
Het2为2，5-亚噻吩基，2，5-亚呋喃基，N-(C1-C4烷基)-2，5-亚吡咯基，N-(苯基)-2，5-亚吡咯基，5-亚噻吩基-2-羰基，N-(C1-C4烷基)-亚吲哚基，N-(C1-C4烷基)-亚吲哚基羰基，5-亚呋喃基-2-羰基或N-(C1-C4烷基)-5-亚吡咯基-2-羰基或N-(苯基)-5-亚吡咯基-2-羰基；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基或基团(B)；它们各自是未取代的或被C1-C6烷基、苯甲酰基、OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代取代1-7次；
Ar2为亚苯基，亚苯基羰基，或基团(C)、(D)、(E)或(F)，它们各自是未取代的或被C1-C6烷基、OR3、SR4或NR5R6取代1-7次；
X为直接键或-CO-；
Y为-S-或-NR5-；
R1为C1-C3烷基，苯基或C1-C4烷氧基；
R2为氢，C1-C8烷基或苯基；
R3为C1-C12烷基；
R4为C1-C12烷基或苯基；和
R5和R6各自独立地为C1-C12烷基或苯基。
特别优选通式I的化合物，其中
Ch1为 或
Figure A20038010470400314
Het1为噻吩基，特别是2-噻吩基；
Het2为亚吡咯基或亚吲哚基；它们各自被C1-C4烷基所取代；
Ar1’为被C1-C4烷基所取代的苯基；
Ar2为基团(C)、(D)或(E)，特别是(C)；
X为直接键；
Y为-S-或-NR5-，特别是-NR5-；和
R1、R2和R5各自独立地为C1-C4烷基
优选的化合物为：
Figure A20038010470400321
Figure A20038010470400322
Figure A20038010470400323
Figure A20038010470400325
Figure A20038010470400326
Figure A20038010470400327
Figure A20038010470400328
特别是
Figure A20038010470400329
按照本发明，式I，II，III和IV的化合物可用作烯属不饱和化合物或包含这些化合物的混合物的光聚合反应的光引发剂。
因此，本发明的另一个主题涉及光聚合组合物，其包括：
(a)至少一种烯属不饱和光聚合化合物，和
(b)作为光引发剂的至少一种式I，II，III和/或IV的化合物：
Figure A20038010470400332
其中
Figure A20038010470400333
其中
Ch1为
Figure A20038010470400335
Figure A20038010470400336
或
Figure A20038010470400338
Ch2为
Figure A20038010470400339
或
Figure A200380104704003310
Het1为呋喃基，噻吩基，吡咯基，咪唑基，吡唑基，噻唑基，噁唑基，异噁唑基，吡啶基，吡嗪基，哒嗪基，三嗪基，2-或3-苯并呋喃基，2-或3-苯并噻吩基，苯并噻唑基，苯并噻二唑基，2-或3-吲哚基，吲唑基，喹啉基，异喹啉基，酞嗪基，喹喔啉基，喋啶基，或联噻吩基；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基和/或苯氧基羰基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被任选由一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或者它们各自被C2-C12烷氧基羰基取代，其任选被一个或多个-O-或-S-间隔开，并且所述C2-C12烷氧基羰基任选被一个或多个羟基所取代；
或者它们各自被一个或多个OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6所取代，其中取代基OR3、SR4、或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与杂芳环上的其它取代基形成5-或6-元环；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，这些基团本身是未取代的或被OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
Het2和Het2’各自独立地为亚呋喃基，亚噻吩基，亚吡咯基，亚咪唑基，亚吡唑基，亚噻唑基，亚噁唑基，亚异噁唑基，亚吡啶基，亚吡嗪基，亚哒嗪基，亚三嗪基，亚苯并呋喃基，亚苯并噻吩基，亚苯并噻唑基，亚苯并噻二唑基，亚吲哚基，亚吲唑基，亚喹啉基，亚异喹啉基，亚酞嗪基，亚喹喔啉基，亚喋啶基，亚联噻吩基，亚呋喃基羰基，亚噻吩基羰基，亚吡咯基羰基，亚咪唑基羰基，亚吡唑基，亚噻唑基羰基，亚噁唑基羰基，亚吡啶基羰基，亚吡嗪基羰基，亚哒嗪基羰基，亚三嗪基羰基，亚苯并呋喃基羰基，亚苯并噻吩基羰基，亚苯并噻唑基羰基，亚苯并噻二唑基羰基，亚吲哚基羰基，亚吲唑基羰基，亚喹啉基羰基，亚异喹啉基羰基，亚酞嗪基羰基，亚喹喔啉基羰基，亚喋啶基羰基或亚联噻吩基羰基；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-7次；
或者它们各自被苯基或萘基取代，所述苯基或萘基任选被一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基，苯甲酰基，萘甲酰基，或基团：
Figure A20038010470400341
或
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基和/或苯氧基羰基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被由一个或多个OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代取代的苯基所取代；
或者它们各自被C2-C12烷氧基羰基取代，所述C2-C12烷氧基羰基任选被一个或多个-O-或-S-间隔开，和/或任选被一个或多个羟基取代；
或者它们各自被一个或多个OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，所述C1-C8烷酰基或苯甲酰基任选被OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代，其中取代基OR3、SR4、或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与苯环上的其它取代基形成5-或6-元环；
条件是：
(i)如果在式I中，Ch1为
Ar1’为苯基，Het2为5-苯基-4，3-亚异噁唑基和R2为苯基，则R1不能为苯基；和
(ii)如果在式I中，Ch1为
Figure A20038010470400352
Het1为2-噻吩基和R2为苯基，则R1不能为苯基；
Ar2为亚苯基，亚萘基，亚苯基羰基，亚萘基羰基，或基团：
Figure A20038010470400353
Figure A20038010470400354
或
Figure A20038010470400356
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-6次；
M为C1-C20亚烷基或为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C20亚烷基，所述C1-C20亚烷基和C2-C20亚烷基任选被一个或多个卤素、OR3、苯基或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或M为亚苯基或亚萘基，它们各自是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
X为直接键，-O-，-S-，-NR5-或-CO-；
Y为-O-，-S-，-NR5-，-CO-或-CH2-；
R1为氢，C3-C8环烷基；或为C1-C12烷基，该烷基是未取代的或被一个或多个卤素、苯基和/或CN所取代；
或者R1为C2-C5链烯基；或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、CN、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基；
或者R1为C1-C8烷氧基，苄氧基；或为任选被一个或多个C1-C6烷基和/或卤素取代的苯氧基；
R2和R2’各自独立地为氢；未取代的C1-C20烷基或被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C1-C20烷基；
或者R2和R2’为C3-C8环烷基；或为被一个或多个-O-或-S-间隔开和/或任选被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C2-C20烷基；
或者R2和R2’为苯基，该苯基是未取代的，或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为C2-C20烷酰基或苯甲酰基，或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为任选被一个或多个-O-或-S-间隔开和/或任选被一个或多个羟基取代的C2-C12烷氧基羰基；
或者R2和R2’为未取代的或被C1-C6烷基、卤素、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯氧基羰基；
或者R2和R2’为CN，-CONR5R6，NO2，C1-C4卤代烷基，S(O)m-C1-C6烷基或任选被C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代的S(O)m-苯基；
或者R2和R2’为SO2O-苯基，其任选被C1-C12烷基取代；
或者R2和R2’为呋喃基，噻吩基，吡咯基或吡啶基；
m为1或2；
R3为氢，C1-C20烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R3为C1-C8烷基，该烷基被-OH，-SH，-CN，C3-C5链烯氧基，-OCH2CH2CN，-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)，-O(CO)-(C1-C4烷基)，-O(CO)-苯基，-(CO)OH和/或-(CO)O(C1-C4烷基)所取代；
或者R3为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R3为-(CH2CH2O)n+1H，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C1-C8烷酰基，C2-C12链烯基，C3-C6烯酰基，C3-C8环烷基；
或者R3为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OH和/或C1-C4烷氧基取代的苯甲酰基；
或者R3为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素，OH，C1-C12烷基，C1-C12烷氧基，苯氧基，C1-C12烷硫基，苯硫基，-N(C1-C12烷基)2和/或二苯基氨基所取代；
n为1-20；
R4为氢，C1-C20烷基，C2-C20链烯基，C3-C8环烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R4为被以下基团取代的C1-C8烷基：-OH，-SH，-CN，C3-C6链烯氧基，-OCH2CH2CN，-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)，-O(CO)-(C1-C4烷基)，-O(CO)-苯基，-(CO)OH或-(CO)O(C1-C4烷基)；
或者R4为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R4为-(CH2CH2O)n+1H，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C1-C8烷酰基，C2-C12链烯基或C3-C6烯酰基；
或者R4为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OH，C1-C4烷氧基或C1-C4烷硫基取代的苯甲酰基；
或者R4为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷硫基、苯硫基、-N(C1-C12烷基)2、二苯基氨基、-(CO)O(C1-C8烷基)、-(CO)-C1-C8烷基或(CO)N(C1-C8烷基)2所取代；和
R5和R6各自独立地为氢，C1-C20烷基，C2-C4羟基烷基，C2-C10烷氧基烷基，C2-C5链烯基，C3-C8环烷基，苯基-C1-C3烷基，C1-C8烷酰基，C3-C12-烯酰基或苯甲酰基；
或者R5和R6为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基所取代；
或者R5和R6一起表示C2-C8亚烷基，该亚烷基任选被-O-、-S-或-NR3-间隔开和/或任选被羟基、C1-C4烷氧基、C2-C4烷酰氧基或苯甲酰氧基取代。
优选的式I，II，III和IV的化合物如上所述。
除了光引发剂(b)，该组合物可包含至少一种其它的光引发剂(c)和/或其它的添加剂(d)。
不饱和化合物(a)可包括一个或多个烯属双键。它们可具有低(单体)或高(低聚)分子量。包含双键的单体的实例为丙烯酸的烷基酯、羟烷基酯或氨基酯、或甲基丙烯酸的烷基酯、羟烷基酯或氨基酯，例如丙烯酸甲基、乙基、丁基、2-乙基己基或2-羟基乙基酯、丙烯酸异冰片基酯、甲基丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸乙酯。硅氧烷丙烯酸酯也是有利的。其它实例为丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-取代的(甲基)丙烯酰胺、乙烯基酯，如乙酸乙烯酯、乙烯基醚，如异丁基乙烯基醚、苯乙烯、烷基-和卤代苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮、氯乙烯或偏二氯乙烯。
包含两个或多个双键的单体的实例为乙二醇、丙二醇、新戊二醇、己二醇或双酚A的二丙烯酸酯、以及4，4′-二(2-丙烯酰氧基乙氧基)二苯基丙烷、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯或四丙烯酸酯、丙烯酸乙烯基酯、二乙烯基苯、琥珀酸二乙烯基酯、邻苯二甲酸二丙烯基酯、磷酸三烯丙基酯、三烯丙基异氰脲酸酯或三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯。
具有较高分子量的多不饱和化合物(低聚物)的实例为丙烯酸酯化的环氧树脂、包含丙烯酸酯-、乙烯基醚-或环氧基团的聚酯、以及聚氨酯和聚醚。不饱和低聚物的其它实例为不饱和聚酯树脂，它通常由马来酸、邻苯二甲酸和一种或多种二醇制成且分子量为约500-3000。此外，可以采用乙烯基醚单体和低聚物、以及具有聚酯、聚氨酯、聚醚、聚乙烯基醚和环氧主链的马来酸酯封端低聚物。特别适用的是带有乙烯基醚基团的低聚物与WO90/01512所述聚合物的混合物。但乙烯基醚与马来酸官能化单体的共聚物也是合适的。这种不饱和低聚物也称作预聚物。
特别合适的实例为烯属不饱和羧酸与多元醇或聚环氧化物的酯、以及在主链或侧基中有烯属不饱和基团的聚合物，例如不饱和聚酯、聚酰胺和聚氨酯及其共聚物、在侧链中包含(甲基)丙烯酸系基团的共聚物、以及一种或多种这些聚合物的混合物。
不饱和羧酸的实例为丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、肉桂酸、以及不饱和脂肪酸，如亚油酸或油酸。丙烯酸和甲基丙烯酸是优选的。
合适的多元醇为芳族，以及尤其是脂族或环脂族多元醇。芳族多元醇的实例为氢醌、4，4′-二羟基联苯、2，2-二(4-羟基苯基)丙烷、以及线型酚醛清漆和酚醛树脂A。聚环氧化物的实例是基于上述多元醇，尤其是芳族多元醇、和表氯醇的那些物质。其它的合适多元醇为在聚合物链或侧基中包含羟基的聚合物和共聚物，其实例为聚乙烯醇及其共聚物或聚甲基丙烯酸羟烷基酯或其共聚物。合适的其它多元醇为包含羟端基的低聚酯。
脂族和环脂族多元醇的实例为优选具有2-12个碳原子的亚烷基二醇，例如乙二醇、1，2-或1，3-丙二醇、1，2-、1，3-或1，4-丁二醇、戊二醇、己二醇、辛二醇、十二烷二醇、二甘醇、三甘醇、分子量优选200-1500的聚乙二醇、1，3-环戊二醇、1，2-、1，3-或1，4-环己二醇、1，4-二羟基甲基环己烷、甘油、三(β-羟基乙基)胺、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇和山梨醇。
多元醇可以用一种羧酸或用不同的不饱和羧酸进行部分或完全酯化，且在偏酯中，游离羟基可进行改性，例如进行醚化或用其它羧酸进行酯化。
酯的实例为：
三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、四亚甲基二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三季戊四醇八丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯、三季戊四醇八甲基丙烯酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、二季戊四醇三衣康酸酯、二季戊四醇五衣康酸酯、二季戊四醇六衣康酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1，4-丁二醇二衣康酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、山梨醇四丙烯酸酯、改性的季戊四醇三丙烯酸酯、山梨醇四甲基丙烯酸酯、山梨醇五丙烯酸酯、低聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、甘油二丙烯酸酯和三丙烯酸酯、1，4-环己烷二丙烯酸酯、分子量为200-1500的聚乙二醇的二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯、或其混合物。
其它合适的组分(a)还包括相同或不同的不饱和羧酸与优选具有2-6，尤其是2-4个氨基的芳族、环脂族和脂族多胺形成的酰胺。这些多胺的实例为乙二胺、1，2-或1，3-丙二胺、1，2-、1，3-或1，4-丁二胺、1，5-戊二胺、1，6-己二胺、辛二胺、十二碳二胺、1，4-二氨基环己烷、异佛尔酮二胺、苯二胺、联苯二胺、二-β-氨基乙醚、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、二(β-氨基乙氧基)或二(β-氨基丙氧基)乙烷。其它合适的多胺为优选侧链中有附加氨基的聚合物和共聚物、以及具有氨基端基的低聚酰胺。这些不饱和酰胺的实例为亚甲基二丙烯酰胺、1，6-六亚甲基二丙烯酰胺、二亚乙基三胺三甲基丙烯酰胺、二(甲基丙烯酰氨基丙氧基)乙烷、甲基丙烯酸β-甲基丙烯酰氨基乙基酯和N-[(β-羟基-乙氧基)乙基]丙烯酰胺。
合适的不饱和聚酯和聚酰胺，例如衍生自马来酸和二醇或二胺。某些马来酸可被其它二羧酸替换。它们可与烯属不饱和共聚单体，例如苯乙烯共同使用。聚酯和聚酰胺还可衍生自二元羧酸和烯属不饱和二元醇或二元胺，尤其是得自具有较长链，例如6-20个碳原子的那些。聚氨酯的实例为由饱和或不饱和二异氰酸酯以及不饱和或(相应的)饱和二元醇组成的那些。
侧链中具有(甲基)丙烯酸酯基团的聚合物也是已知的，它们可以是，例如是(甲基)丙烯酸与基于线型酚醛清漆环氧树脂反应的产物，或可以是乙烯醇的高或(二元)共聚物或其中与(甲基)丙烯酸酯化了的羟烷基衍生物，或可以是与羟烷基(甲基)丙烯酸酯化(甲基)丙烯酸酯的高和(二元)共聚物。
侧链中具有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基团的其它合适的聚合物，例如是具有连接到主链或连接到分子中酯基上的光聚合侧基溶剂可溶性或碱可溶性的聚酰亚胺母体，例如聚(酰胺酸酯)化合物，即按照EP624826的聚合物。这些低聚物或聚合物可与任选的活性稀释剂如多官能(甲基)丙烯酸酯一起调配，这样可制备出高敏感性的聚酰亚胺母体抗蚀剂。
该光聚合化合物可单独使用，或以任何所需的混合物来使用。优选使用多元醇(甲基)丙烯酸酯的混合物。
组分(a)的实例也可以是分子结构内有至少两个烯属不饱和基团和至少一个羧基官能的聚合物或低聚物，如将饱和或不饱和多元酸酸酐与环氧化合物和不饱和单羧酸的反应产物进行反应而得到的树脂，例如如JP 6-1638和JP 10-301276中所述的光敏化合物和例如，EB9696，UCB Chemcials；KAYARAD TCR1025，Nippon Kayaku Co.，LTD的商业产品，或含羧基的树脂与具有α，β-不饱和双键和环氧基团的不饱和化合物之间的加成产物(例如，ACA200M，DaicelIndustries，Ltd.)。
优选的光聚合组合物包括作为组分(a)的在分子中含至少两个烯属不饱和键和至少一个羧基的化合物。
上述组合物中可包含占所述组合物固体部分最高70％重量的单一或多官能烯属不饱和化合物、或几种所述化合物的混合物作为稀释剂。
不饱和化合物(a)还可以与非光聚合的成膜组分形成的混合物形式使用。它们可以是，例如物理干燥的聚合物或其在有机溶剂例如硝基纤维素或纤维素乙酰丁酸酯中的溶液。但它们也可以是化学和/或热固化(可热固化)的树脂，其实例为聚异氰酸酯、聚环氧化物和蜜胺树脂、以及聚酰亚胺母体。在称作混合体系的体系的应用中同时使用可热固化树脂是重要的，该体系在第一阶段进行光聚合，然后在第二阶段通过热后处理进行交联。
本发明还提供了包含至少一种乳化或溶解在水中的烯属不饱和光聚合化合物作为组分(a)的组合物。这些可辐射固化的预聚物水分散体许多是可购得的。预聚物分散体应理解为是指水和至少一种分散在其中的预聚物的分散体。水在这些体系中的浓度为，例如5-80％重量，尤其是30-60％重量。可辐射固化的预聚物或预聚物混合物的浓度，例如为95-20％重量，尤其是70-40％重量。在这些组合物中，水和预聚物所给出的百分数的总和在每种情况下均为100，其中助剂和添加剂根据目标用途而加入不同的量。
分散在水中且通常也溶解在其中的可辐射固化的成膜预聚物，是指单-或多官能烯属不饱和预聚物的预聚物水分散体，它们本身已知的，可以通过自由基引发并且可聚合双键的含量例如为0.01-1.0摩尔/100克预聚物、且平均分子量例如至少为400(尤其是500-10000)。但根据预期用途，也可考虑具有较高分子量的预聚物。例如使用包含可聚合C-C双键且酸值不超过10的聚酯、包含可聚合C-C双键的聚醚、每分子包含至少两个环氧化物基团的聚环氧化物与至少一种α，β-烯属不饱和羧酸形成的含羟基反应产物、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、以及包含α，β-烯属不饱和丙烯酸类基团的丙烯酸共聚物，例如EP12339中所述。同样也可以使用这些预聚物的混合物。同样适宜的是描述于EP33896的可聚合预聚物，它们是平均分子量至少为600、羧基含量为0.2-15％、且可聚合C-C双键含量为0.01-0.8摩尔/100克预聚物的可聚合预聚物的硫醚加成物。基于特定烷基(甲基)丙烯酸酯聚合物的其它合适的水分散体描述于EP41125，且氨基甲酸乙酯丙烯酸酯的合适的水分散的、可辐射固化的预聚物可参见DE2936039。
可包含在这些可辐射固化的预聚物水分散体中的其它添加剂为分散助剂、乳化剂、抗氧化剂，如2，2-硫代二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)或2，6-二叔丁基苯酚、光稳定剂、染料、颜料、填料，如玻璃或矾土，例如滑石、石膏、硅酸、金红石、炭黑、氧化锌、氧化铁、反应促进剂、流平剂、润滑剂、润湿剂、增稠剂、消光剂、消泡剂和油漆技术领域中的其它常规助剂。合适的分散助剂为高分子量的且包含极性基团的水溶性有机化合物，其实例为聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮或纤维素醚。可以使用的乳化剂为非离子型乳化剂、根据需要也可以是离子型乳化剂。
在某些情况下，使用两种或多种该新型光引发剂的混合物是有利的。当然，也可使用与已知光引发剂(c)的混合物，例如与樟脑醌、二苯甲酮、一苯甲酮衍生物、苯乙酮、苯乙酮衍生物，例如α-羟基环烷基苯基酮或2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙酮、二烷氧基苯乙酮、α-羟基-或α-氨基苯乙酮，如(4-甲硫基苯甲酰基)-1-甲基-1-吗林代乙烷、(4-吗林代苯甲酰基)-1-苄基-1-二甲基氨基丙烷、4-芳酰基-1，3-二氧戊环、苯偶姻烷基醚和苯偶酰缩酮，如二甲基苯偶酰缩酮、苯基乙醛酸酯及其衍生物、二聚苯基乙醛酸酯、二乙酰基、过酸酯，如二苯甲酮四过酸酯(例如见EP126541中所述)、单酰基氧化膦，如(2，4，6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦、二酰基氧化膦、二(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-(2，4，4-三甲基戊基)-氧化膦、二(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦、二(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-2，4-二戊氧基苯基氧化膦、三酰基氧化膦、卤代甲基三嗪，如2-[2-(4-甲氧基苯基)乙烯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-(4-甲氧基-苯基)-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-(3，4-二甲氧基-苯基)-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-甲基-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-(4-N，N-二(乙氧基羰基甲基)氨基苯基)-4，6-二(三氯甲基)-[1，3，5]三嗪、2-(4-甲氧基-萘基)-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-(1，3-苯并二氧环戊烯-5-基)-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[2-[4-(戊氧基)苯基]乙烯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]-三嗪、2-[2-(3-甲基-2-呋喃基)-乙烯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[2-(5-甲基-2-呋喃基)-乙烯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[2-(2，4-二甲氧基苯基)-乙烯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[2-(2-甲氧基苯基)-乙烯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[2-(4-异丙氧基苯基)-乙烯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[2-(3-氯-4-甲氧基苯基)-乙烯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[2-溴-4-N，N-二(乙氧基羰基甲基)氨基苯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[2-氯-4-N，N-二(乙氧基羰基甲基)氨基苯基]-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[3-溴-4-N，N-二(乙氧基羰基甲基)氨基苯基]4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪、2-[3-氯-4-N，N-二(乙氧羰基甲基)氨基-苯基-4，6-双-三氯甲基-[1，3，5]三嗪或例如描述于G.Buhr、R.D.Dammel和C.LindleyPolym.Mater.Sci.Eng.61,269(1989)、和EP026278的其它卤代甲基三嗪；例如描述于美国专利4371606和美国专利4371607的卤代甲基噁唑光引发剂；例如描述于E.A.Bartmann，的“合成”(Synthesis)5,490(1993)中的1，2-二砜；六芳基联咪唑、和六芳基联咪唑/共引发剂体系，如邻氯六苯基-联咪唑与2-巯基苯并噻唑、双吖啶衍生物，例如1，7-双(9-吖啶基)庚烷、二茂铁化合物、或二异戊二烯钛，如二(环戊二烯基)-二(2，6-二氟-3-吡咯基-苯基)钛的组合物。
如果以混合体系使用该新型光引发剂，除了这种新的自由基硬化剂，还可使用阳离子型光引发剂、过氧化物，如过氧化苯甲酰(其它合适的过氧化物描述于美国专利4950581第19栏17-25行)、例如描述于美国专利4950581第18栏60行至第19栏10行的芳族锍-、磷鎓-或碘鎓盐、或环戊二烯基-芳烃-铁(II)配盐，例如(η6-异丙基苯)(η5-环戊二烯基)-铁(II)六氟磷酸盐、以及例如描述于EP780729的肟磺酸酯。例如描述于EP497531和EP441232的吡啶鎓和(异)喹啉鎓盐也可与新光引发剂组合使用。
无论单独还是作为与其它已知光引发剂和光敏剂的混合物，该新光引发剂也可以在水中的分散体或乳液或水溶液的形式使用。
同样有价值的是这种组合物，其中除了通式I、II、III、IV或V的化合物，还包含至少一种α-氨基酮，尤其是(4-甲硫基苯甲酰基)-1-甲基-1-吗林代乙烷。
该光聚合组合物一般包含占固体组合物0.05-25％重量，优选0.01-10％重量，尤其是0.01-5％重量的光引发剂。如果采用光引发剂的混合物，该量是指所有添加的光引发剂的总和。因此，该量是指光引发剂(b)或光引发剂(b)+(c)。
除了光引发剂，该光聚合混合物还包括各种添加剂(d)。这些添加剂的实例为用于防止过早聚合反应的热阻聚剂，其实例为氢醌、氢醌衍生物、对-甲氧基苯酚、β-萘酚或空间受阻酚，如2，6-二叔丁基对甲酚。为了增加暗处储存稳定性，可以使用例如铜化合物，如环烷酸铜、硬脂酸铜或辛酸铜；磷化合物，例如三苯基膦、三丁基膦、亚磷酸三乙基酯、亚磷酸三苯基酯、亚磷酸三苄基酯；季铵化合物，例如氯化四甲基铵或氯化三甲基苄基铵；或羟基胺衍生物，例如N-二乙基羟基胺。为了在聚合反应过程中排除大气氧气，可以加入石蜡或类似的蜡状物质，这些物质在聚合物中溶解度不够，在聚合反应开始时迁移到表面，并形成能够防止空气进入的透明表面层。也可在涂层面上涂布氧气不可渗透层，例如聚(乙烯醇-乙酸乙烯酯)。可少量加入的光稳定剂为UV吸收剂，例如羟基苯基苯并三唑、羟基苯基-二苯甲酮、草酰胺或羟基苯基-均-三嗪类。这些化合物可单独或以含或不含空间受阻胺(HALS)的混合物形式使用
这些UV吸收剂和光稳定剂的例子为：
1. 2-(2′-羟基苯基)苯并三唑类，例如2-(2′-羟基-5′-甲基苯基)苯并三唑、2-(3′，5′-二叔丁基-2′-羟基苯基)苯并三唑、2-(5′-叔丁基-2′-羟基苯基)苯并三唑、2-(2′-羟基-5′-(1，1，3，3-四甲基丁基)苯基)苯并三唑、2-(3′，5′-二叔丁基-2′-羟基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3′-仲丁基-5′-叔丁基-2′-羟基苯基)苯并三唑、2-(2′-羟基-4′-辛氧基苯基)苯并三唑、2-(3′，5′-二叔戊基-2′-羟基苯基)苯并三唑、2-(3′，5′-二(α，α-二甲基苄基)-2′-羟基苯基)苯并三唑、以下物质的混合物：2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-辛氧羰基乙基)苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3′-叔丁基-5′-[2-(2-乙基己氧基)羰基乙基]-2′-羟基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-甲氧羰基乙基)苯基)-5-氯苯并三唑、2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-甲氧基羰基乙基)苯基)苯并三唑、2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-辛氧基羰基乙基)苯基)苯并三唑、2-(3′-叔丁基-5′-[2-(2-乙基己氧基)羰基乙基]-2′-羟基苯基)苯并三唑、2-(3′-十二烷基-2′-羟基-5′-甲基苯基)苯并三唑、和2-(3′-叔丁基-2′-羟基-5′-(2-异辛氧羰基乙基)苯基)苯并三唑；2，2′-亚甲基-二[4-(1，1，3，3-四甲基丁基)-6-苯并三唑-2-基-苯酚]；2-[3′-叔丁基-5′-(2-甲氧羰基乙基)-2′-羟基苯基]苯并三唑与聚乙二醇300的酯交换反应产物；[R-CH2CH2-COO(CH2)3]2-，其中R＝3′-叔丁基-4′-羟基-5′-2H-苯并三唑-2-基-苯基。
2. 2-羟基二苯甲酮类，例如4-羟基-、4-甲氧基-、4-辛氧基-、4-癸氧基-、4-十二烷基氧基-、4-苄氧基-、4，2′，4′-三羟基和2′-羟基-4，4′-二甲氧基衍生物。
3.取代或未取代苯甲酸的酯，例如水杨酸4-叔丁基苯基酯、水杨酸苯酯、水杨酸辛基苯酯、二苯甲酰基间苯二酚、二(4-叔丁基苯甲酰基)间苯二酚、苯甲酰基间苯二酚、3，5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸、2，4-二叔丁基苯基酯、3，5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸、3，5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸十六烷基酯、3，5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸十八烷基酯和3，5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸2-甲基-4，6-二叔丁基苯基酯。
4.丙烯酸酯，例如α-氰基-β，β-二苯基丙烯酸的异辛基酯或乙基酯、α-甲酯基肉桂酸甲酯、α-氰基-β-甲基-对甲氧基肉桂酸丁酯或甲酯、α-羧基甲氧基-对甲氧基肉桂酸甲酯和N-(β-甲酯基-β-氰基乙烯基)-2-甲基吲哚。
5.空间受阻胺，例如癸二酸二(2，2，6，6-四甲基哌啶基)酯、琥珀酸二(2，2，6，6-四甲基哌啶基)酯、癸二酸二(1，2，2，6，6-五甲基哌啶基)酯、二(1，2，2，6，6-五甲基哌啶基)正丁基-3，5-二叔丁基-4-羟基苄基丙二酸酯、1-羟基乙基-2，2，6，6-四甲基-4-羟基哌啶与琥珀酸的缩合产物、N，N′-二(2，2，6，6-四甲基哌啶基)六亚甲基二胺与4-叔辛基氨基-2，6-二氯-1，3，5-均-三嗪的缩合产物、次氨基三乙酸三(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)酯、四(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)-1，2，3，4-丁烷四酸酯、1，1′-(1，2-乙二基)二(3，3，5，5-四甲基-哌嗪酮)、4-苯甲酰基-2，2，6，6-四甲基哌啶、4-硬脂酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶、2-正丁基-2-(2-羟基-3，5-二叔丁基苄基)丙二酸二(1，2，2，6，6-五甲基哌啶基)酯、3-正辛基-7，7，9，9-四甲基-1，3，8-三氮杂螺[4.5]癸烷-2，4-二酮、癸二酸二(1-辛氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶基)酯、琥珀酸二(1-辛氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶基)酯、N，N′-二(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)六亚甲基二胺与4-吗琳代-2，6-二氯-1，3，5-三嗪的缩合产物、2-氯-4，6-二(4-正丁基氨基-2，2，6，6-四甲基哌啶基)1，3，5-三嗪与1，2-二(3-氨基丙基氨基)乙烷的缩合产物、2-氯-4，6-二(4-正丁基氨基-1，2，2，6，6-五甲基哌啶基)-1，3，5-三嗪与1，2-二(3-氨基丙基氨基)乙烷的缩合产物、8-乙酰基-3-十二烷基-7，7，9，9-四甲基-1，3，8-三氮杂螺[4.5]癸烷-2，4-二酮、3-十二烷基-1-(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)吡咯烷-2，5-二酮和3-十二烷基-1-(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)吡咯烷-2，5-二酮。
6.草酰胺类，例如4，4′-二辛氧基草酰二苯胺、2，2′-二乙氧基草酰二苯胺、2，2′-二辛氧基-5，5′-二叔丁基草酰二苯胺、2，2′-二(十二烷基)氧基-5，5′-二叔丁基草酰二苯胺、2-乙氧基-2′-乙基-草酰二苯胺、N，N′-二(3-二甲氨基丙基)草酰二苯胺、2-乙氧基-5-叔丁基-2′-乙基草酰二苯胺、及其与2-乙氧基-2′-乙基-5，4′-二叔丁基草酰二苯胺的混合物、邻-和对-甲氧基-以及邻-和对-乙氧基-双取代的草酰二苯胺的混合物。
7. 2-(2-羟苯基)-1，3，5-三嗪类，例如2，4，6-三(2-羟基-4-辛氧基苯基)-1，3，5-三嗪、2-(2-羟基-4-辛氧基苯基)-4，6-二(2，4-二甲基苯基)-1，3，5-三嗪、2-(2，4-二羟苯基)-4，6-二(2，4-二甲基苯基)-1，3，5-三嗪、2，4-二(2-羟基-4-丙氧基-苯基)-6-(2，4-二甲基苯基)-1，3，5-三嗪、2-(2-羟基-4-辛氧基-苯基)-4，6-二(4-甲基苯基)-1，3，5-三嗪、2-(2-羟基-4-十二烷氧基苯基)-4，6-二(2，4-二甲基苯基)-1，3，5-三嗪、2-[2-羟基-4-(2-羟基-3-丁氧基-丙氧基)苯基]-4，6-二(2，4-二甲基苯基)1，3，5-三嗪、2-[2-羟基-4-(2-羟基-3-辛氧基-丙氧基)苯基]-4，6-二(2，4-二甲基苯基)-1，3，5-三嗪、2-[4-十二烷基/十三烷基-氧基-(2-羟丙基)氧基-2-羟基-苯基]-4，6-二(2，4-二甲基苯基)-1，3，5-三嗪。
8.亚磷酸酯和亚膦酸酯，例如亚磷酸三苯酯、亚磷酸二苯基烷基酯、亚磷酸苯基二烷基酯、亚磷酸三(壬基苯基)酯、亚磷酸三月桂基酯、亚磷酸三(十八烷基)酯、二亚磷酸二硬脂基季戊四醇酯、亚磷酸三(2，4-二叔丁基苯基)酯、二亚磷酸二异癸基季戊四醇酯、二亚磷酸二(2，4-二叔丁基苯基)季戊四醇酯、二亚磷酸二异癸基氧基季戌四醇酯、二亚磷酸二(2，4-二叔丁基-6-甲基苯基)季戊四醇酯、二亚磷酸二(2，4，6-三叔丁基)季戊四醇酯、三亚磷酸三硬脂基山梨醇酯、二亚膦酸四(2，4-二叔丁基苯基)-4，4′-亚联苯酯、6-异辛基氧基-2，4，8，10-四叔丁基-12H-二苯并[d，g]-1，3，2-二氧杂磷杂辛因、6-氟-2，4，8，10-四叔丁基-12-甲基-二苯并[d，g]-1，3，2-二氧杂磷杂辛因、亚磷酸二(2，4-二叔丁基-6-甲基苯基)甲基酯、和亚磷酸二(2，4-二叔丁基-6-甲基苯基)乙基酯。
为了促进光聚合反应，可以加入胺作为组分(d)，例如三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、对-二甲基氨基苯甲酸乙酯、苯甲酸2-(二甲基氨基)-乙基酯、对-二甲基氨基苯甲酸2-乙基已酯、对-N，N-二甲基氨基苯甲酸辛基酯、N-(2-羟基乙基)-N-甲基-对甲苯胺或Michler酮。胺的作用可通过加入二苯甲酮型芳族酮来加强。可用作氧消除剂的胺的实例为如EP339841所述的取代的N，N-二烷基苯胺。其它促进剂、共引发剂和自氧化剂为硫醇、硫醚、二硫化物、磷鎓盐、氧化膦或膦，例如EP438123、GB2180358和JP Kokai Hei 6-68309所述。
本发明的组合物中还可加入本领域常用的链转移剂作为组分(d)。其例子为硫醇、胺和苯并噻唑。
光聚合反应还可通过加入其它的能够移动或拓宽其光谱敏感性的光敏剂或共引发剂(作为组分(d))来促进。这些物质尤其是芳族化合物，例如二苯甲酮及其衍生物、噻吨酮及其衍生物、蒽醌及其衍生物、香豆素和吩噻嗪及其衍生物、以及3-(芳酰基亚甲基)噻唑啉、绕丹宁、樟脑醌，还有曙红、若丹明、赤藓红、呫吨、噻吨、吖啶，如9-苯基吖啶、1，7-二(9-吖啶基)庚烷、1，5-二(9-吖啶基)戊烷、花青和部花青染料。
这些化合物的具体实例为
1.噻吨酮类
噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、2-十二烷基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、1-甲氧基-羰基噻吨酮、2-乙氧基羰基噻吨酮、3-(2-甲氧基乙氧基羰基)-噻吨酮、4-丁氧基羰基噻吨酮、3-丁氧基羰基-7-甲基噻吨酮、1-氰基-3-氯噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-氯噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-乙氧基噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-氨基噻吨酮、1-乙氧基羰基-3-苯基磺酰基噻吨酮、3，4-二-[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基羰基]噻吨酮、1，3-二甲基-2-羟基-9H-噻吨-9-酮2-乙基己基醚、1-乙氧基羰基-3-(1-甲基-1-吗啉代乙基)噻吨酮、2-甲基-6-二甲氧基甲基噻吨酮、2-甲基-6-(1，1-二甲氧基苄基)噻吨酮、2-吗啉代甲基噻吨酮、2-甲基-6-吗啉代甲基噻吨酮、N-烯丙基噻吨酮-3，4-二甲酰亚胺、N-辛基噻吨酮-3，4-二甲酰亚胺、N-(1，1，3，3-四甲基丁基)噻吨酮-3，4-二甲酰亚胺、1-苯氧基噻吨酮、6-乙氧基羰基-2-甲氧基噻吨酮、6-乙氧基羰基-2-甲基噻吨酮、噻吨酮-2-甲酸聚乙二醇酯、2-羟基-3-(3，4-二甲基-9-氧代-9H-噻吨酮-2-基氧基)-N，N，N-三甲基-1-氯化丙胺鎓；
2.二苯甲酮类
二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、4，4′-二甲氧基二苯甲酮、4，4′-二甲基二苯甲酮、4，4′-二氯二苯甲酮、4，4′-二(二甲基氨基)二苯甲酮、4，4′-二(二乙基氨基)二苯甲酮、4，4′-二(甲基乙基氨基)二苯甲酮、4，4′-二(对-异丙基苯氧基)二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2，4，6-三甲基二苯甲酮、4-(4-甲基硫基苯基)二苯甲酮、3，3′-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、2-苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-(2-羟基乙基硫基)二苯甲酮、4-(4-甲苯基疏基)二苯甲酮、1-[4-(4-苯甲酰基苯基硫基)-苯基]-2-甲基-2-(甲苯-4-磺酰基)-丙-1-酮、氯化4-苯甲酰基-N，N，N-三甲基苯甲胺鎓、氯化2-羟基-3-(4-苯甲酰基苯氧基)-N，N，N-三甲基-1-丙胺鎓-水合物、4-(13-丙烯酰基-1，4，7，10，13-五氧杂十三烷基)二苯甲酮、氯化4-苯甲酰基-N，N-二甲基-N-[2-(1-氧代-2-丙烯基)氧基]乙基苯甲胺鎓；
3.香豆素类
香豆素1、香豆素2、香豆素6、香豆素7、香豆素30、香豆素102、香豆素106、香豆素138、香豆素152、香豆素153、香豆素307、香豆素314、香豆素314T、香豆素334、香豆素337、香豆素500、3-苯甲酰基香豆素、3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二甲氧基香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二丙氧基香豆素、3-苯甲酰基-6，8-二氯香豆素、3-苯甲酰基-6-氯香豆素、3，3′-羰基-二[5，7-二(丙氧基)-香豆素]、3，3′-羰基-二(7-甲氧基香豆素)、3，3′-羰基-二(7-二乙基氨基香豆素)、3-异丁酰基香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二甲氧基-香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二乙氧基-香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二丁氧基-香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二(甲氧基乙氧基)-香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二(烯丙基氧基)-香豆素、3-苯甲酰基-7-二甲基氨基-香豆素、3-苯甲酰基-7-二甲基氨基香豆素、3-异丁酰基-7-二甲基氨基香豆素、5，7-二甲氧基-3-(1-萘酰基)香豆素、5，7-二乙氧基-3-(1-萘酰基)香豆素、3-苯甲酰基苯并[f]香豆素、7-二乙基氨基-3-噻吩酰基香豆素、3-(4-氰基苯甲酰基)-5，7-二甲氧基香豆素、3-(4-氰基苯甲酰基)-5，7-二丙氧基香豆素、7-二甲基氨基-3-苯基香豆素、7-二乙基氨基-3-苯基香豆素、公开于JP 09-179299-A和JP 09-325209-A中的香豆素衍生物，例如7-[{4-氯-6-(二乙基氨基)-均-三嗪-2-基}氨基]3-苯基香豆素；
4. 3-(芳酰基亚甲基)噻唑啉
3-甲基-2-苯甲酰基亚甲基-β-萘并噻唑啉、3-甲基-2-苯甲酰基亚甲基苯并噻唑啉、3-乙基-2-丙酰基亚甲基-β-萘并噻唑；
5.绕丹宁类
4-二甲基氨基亚苄基绕丹宁、4-二乙基氨基亚苄基绕丹宁、3-乙基-5-(3-辛基-2-苯并噻唑啉亚基)-绕丹宁、JP 08-305019A中公开的式[1]、[2]、[7]绕丹宁衍生物；
6.其它化合物
苯乙酮、3-甲氧基苯乙酮、4-苯基苯乙酮、苯偶酰、4，4′-二(二甲基氨基)苯偶酰、2-乙酰基萘、2-萘醛、丹磺酸衍生物、9，10-蒽醌、蒽、芘、氨基芘、苝、菲、菲醌、9-芴酮、二苯并环庚酮、姜黄、呫吨酮、硫代米蚩酮、α-(4-二甲基氨基亚苄基)酮，如2，5-二(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮、2-(4-二甲基氨基亚苄基)-2，3-二氢化茚-1-酮、3-(4-二甲基氨基苯基)-1-2，3-二氢化茚-5-基-丙酮、3-苯硫基邻苯二甲酰亚胺、N-甲基-3，5-二(乙基硫基)-邻苯二甲酰亚胺、N-甲基-3，5-二(乙基硫基)-邻苯二甲酰亚胺、吩噻嗪、甲基吩噻嗪、胺，如N-苯基甘氨酸、4-二甲基氨基苯甲酸乙基酯、4-二甲基氨基苯甲酸丁氧基乙基酯、4-二甲基氨基苯乙酮、三乙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基氨基乙醇、苯甲酸2-(二甲基氨基)乙基酯、4-(二甲基氨基)苯甲酸聚丙二醇酯。
优选的光聚合组合物还包含光敏剂化合物作为其它添加剂(d)，这些化合物选自二苯甲酮及其衍生物、噻吨酮及其衍生物、蒽醌及其衍生物、或香豆素衍生物。
固化过程的加速可通过加入下述组分完成：光敏剂，尤其是在加有颜料(例如加有二氧化钛)的组合物中，以及在热条件下能形成自由基的组分，例如2，2′-偶氮二(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)之类的偶氮化合物、三氮烯、重氮硫、五氮二烯或过氧化合物，例如过氧化氢或过碳酸盐，例如叔丁基过氧化氢，例如EP245639所述。
就其它添加剂(d)而言，本发明的组合物可包含光可固化染料，例如呫吨-、苯并呫吨-、苯并噻吨、噻嗪-、焦宁-、紫菜碱-或吖啶染料、和/或可通过辐射而分裂的三卤甲基化合物。类似的组合物例如描述于EP445624之中。
本领域已知的其它添加剂可作为组分(d)加入，例如流动促进剂、粘附促进剂，如乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、和3-巯基丙基三甲氧基硅烷。表面活性剂、荧光增白剂、颜料、染料、润湿剂、流平助剂、分散剂、防聚集剂、抗氧化剂或填料是添加剂(d)的其它例子。
为了固化厚的和着色的涂料，可合适地加入玻璃微球或粉末玻璃纤维，例如见美国专利5013768所述。
添加剂(d)的选择取决于应用领域以及该领域所需的性能。上述添加剂是本领域常用的，因此其加入量为相应应用领域的常规量。
粘合剂(e)也可加入新组合物中。如果光聚合化合物为液体或粘稠物质，这就尤其合适。相对总的固体含量，粘合剂的量可以是例如2-98％重量，优选5-95％重量，尤其是20-90％重量。粘合剂的选择取决于应用领域以及该领域所需的性能，例如在含水和有机溶剂体系中的显影能力、基材粘附性和对氧的敏感性。
合适的粘合剂的实例为分子量为约2000-2000000，优选5000-1000000的聚合物。碱可显影的粘合剂的例子为具有羧酸官能团作为侧基的丙烯酸系聚合物，例如通过将烯属不饱和羧酸，如(甲基)丙烯酸、2-羧基乙基(甲基)丙烯酸、2-羧基丙基(甲基)丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸和富马酸以及ω-羧基聚己酸内酯单(甲基)丙烯酸酯，与一种或多种选自以下的单体进行共聚而得到的常规已知的共聚物：(甲基)丙烯酸的酯，如(甲基)丙烯酸甲基酯、(甲基)丙烯酸乙基酯、(甲基)丙烯酸丙基酯、(甲基)丙烯酸丁基酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸羟乙基酯、(甲基)丙烯酸羟丙基酯、单甲基丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸-8-基酯，(甲基)丙烯酸缩水甘油酯，(甲基)丙烯酸2-甲基缩水甘油酯，(甲基)丙烯酸3，4-环氧丁基酯，(甲基)丙烯酸6，7-环氧庚基酯，(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸N，N-二乙基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸N，N-二乙基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基丙基酯，乙烯基芳族化合物，如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对-氯苯乙烯、乙烯基苄基缩水甘油醚、4-乙烯基吡啶；酰胺型不饱和化合物，(甲基)丙烯酰胺二丙酮丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-丁氧基甲基丙烯酰胺，N，N-二甲基丙烯酰胺，N，N-二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺；以及聚烯烃型化合物，如丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯等；甲基丙烯腈、甲基异丙烯基酮、琥珀酸单-2-[(甲基)丙烯酰氧基]乙基酯，N-苯基马来酰亚胺，马来酐、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、新戊酸乙烯酯、乙烯基吡咯烷酮、N，N-二甲基氨基乙基乙烯基醚、二烯丙基胺，聚苯乙烯大分子单体、或(甲基)丙烯酸甲酯大分子单体。共聚物的例子为丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯与丙烯酸或甲基丙烯酸以及与苯乙烯或取代苯乙烯的共聚物、酚醛树脂，例如线型酚醛树脂、(聚)羟基苯乙烯、以及羟基苯乙烯与丙烯酸烷基酯、丙烯酸和/或甲基丙烯酸的共聚物。共聚物的优选例子为甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸的共聚物、甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸的共聚物、甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸的共聚物、甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/苯乙烯的共聚物、甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸羟乙基酯的共聚物、甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸/苯乙烯的共聚物、甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸羟基苯基酯的共聚物。溶剂可显影的粘合剂聚合物的例子为聚甲基丙烯酸烷基酯、聚丙烯酸烷基酯、聚(甲基丙烯酸苄基酯-甲基丙烯酸羟乙基酯-甲基丙烯酸)、聚(甲基丙烯酸苄基酯-甲基丙烯酸)；纤维素酯和纤维素醚，如乙酸纤维素、乙酰丁酸纤维素、甲基纤维素、乙基纤维素；聚乙烯基缩丁醛、聚乙烯基甲缩醛、环化橡胺、聚醚，如聚氧化乙烯、聚氧化丙烯和聚四氢呋喃；聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚氨酯、氯化聚烯烃、聚氯乙烯、氯乙烯/偏氯乙烯共聚物、偏氯乙烯与丙烯腈、甲基丙烯酸酯和乙酸乙烯酯的共聚物、聚乙酸乙烯酯、共聚(乙烯/乙酸乙烯酯)、聚合物，如聚己内酰胺和聚(六亚甲基己酰胺)、和聚酯如聚(对苯二甲酸乙二醇酯)和聚(琥珀酸六亚甲基二醇酯)和聚酰亚胺粘合剂树脂。
聚酰亚胺粘合剂树脂在本发明中可以是溶剂可溶性聚酰亚胺或聚酰亚胺母体，例如聚(酰胺酸)。
优选包含甲基丙烯酸酯与甲基丙烯酸的共聚物作为粘合剂聚合物(e)的光聚合组合物。
进一步有价值的是如JP 10-171119-A，特别用于滤色片的聚合物粘合剂组分。
该光聚合组合物可用于各种用途，例如用作印刷油墨，如丝网印刷油墨，用于胶版-或柔性印刷的油墨、用作透明末道漆，白色或彩色末道漆，例如用于木材或金属、用作粉末涂料、用作表面修饰剂，尤其是用于纸、木材、金属或塑料的涂料，用作制造建筑物或路标的日光可固化涂料、用于照相复制技术、用于全息照相记录材料、用于图像记录技术或用于生产可用有机溶剂或用碱水溶液显影的印刷板、用于生产丝网印刷用掩膜、用作牙科填充组分、用作粘合剂、用作压敏粘合剂、用作层压树脂、用作防光致抗蚀剂、阻焊剂(solderresist)、防电镀剂、或永久抗蚀剂，可以是液体或干燥膜，用作可光固化电介质以及用作印刷电路板和电子电路的焊接措膜、用作制造用于各种显示应用场合的滤色片的抗蚀剂或在制造等离子体显示板和电致发光显示器时用于形成结构，(例如美国专利5853446、EP863534、JP 09-244230-A、JP 10-62980-A、JP 08-171863-A、美国专利5840465、EP 855731、JP 05-271576-A、JP 05-67405-A所述)用于生产光学转换器、光栅(干涉光栅)、光电路，通过整体固化(在透明模具中UV固化)或通过立体石版印刷技术用于生产三维制品，例如描述于美国专利4575330，用于生产复合材料(例如苯乙烯系聚酯，如果需要，可包含玻璃纤维和/或其它纤维和其它助剂)和其它厚层的组合物、用于涂布或密封电子元件和集成电路、或用作光学纤维的涂层、或用于生产光学透镜，如隐形眼镜或Fresnel透镜。按照本发明的组合物还适用于生产医疗设备、辅料或植入物。此外本发明的组合物适用于制备具有热致变性能的凝胶，例如如DE19700064和EP678534所述。
本发明的光引发剂还适合于全息数据储存系统。全息数据储存系统优选是由低折射率矩阵前体和高折射率光聚合代替的矩阵网络组成。媒质矩阵是在仍保持“已溶解”和未反应的光聚合单体的存在下经能产生交联网络的就地聚合所形成。包含未反应、光聚合单体的矩阵也可以通过其它方式形成，例如，使用其中均匀分散有光活性、液体单体的固体树脂矩阵。然后，单色曝光产生全息图案，根据光强分布，该过程在预形成的固体矩阵中聚合光活性单体。未反应的单体(光强最低的情形)通过矩阵扩散，使折射率发生调整，这可根据单体与矩阵的之间折射指数的不同以及单体的相对体积分数测定。记录层的厚度在几微米直至1毫米厚度的范围内。由于这种全息数据储存层较厚，为了使这种层在激光波长下为透明状态，以确保光聚合的程度受进入到记录层的曝光深度的影响尽可能低，需要具有高光活性和低吸光度的光引发剂。
新光引发剂还可用作乳液聚合、成珠聚合或悬浮聚合的引发剂，用作有固定液晶单体和低聚物有序态的聚合引发剂、或用作将染料固定在有机材料上的引发剂。
在涂布材料中，往往使用预聚物与多不饱和单体的混合物，还包含单不饱和单体。本文的预聚物主要决定涂料膜的性能，而且本领域技术人员通过将其进行变化可影响固化膜的性能。多不饱和单体用作交联剂，以使该膜不溶。单不饱和单体用作活性稀释剂，用于降低粘度而无需使用溶剂。
不饱和聚酯树脂通常与单不饱和单体，优选与苯乙烯一起用于双组分体系。对于光致抗蚀剂，通常使用特定的单组分体系，例如聚马来酰亚胺、聚查耳酮或聚酰亚胺，例如DE2308830所述。
该新光引发剂及其混合物还可用于辐射固化粉末涂料的聚合中。粉末涂料可以以包含反应性双键的固体树脂和单体为基础，这些单体例如为马来酸酯、乙烯基醚、丙烯酸酯、丙烯酰胺及其混合物。自由基UV可固化的粉末涂料可通过将不饱和聚酯树脂与固体丙烯酰胺(例如甲基丙烯酰胺乙醇酸甲酯)和新型自由基光引发剂进行混合而调配，这些配方例如描述于论文“粉末涂料的辐射固化”(ConferenceProceedings，Radtech Europe 1993(M.Wittig和Th.Gohmann))。粉末涂料还可包含例如描述于DE4228514和EP636669中的粘合剂。自由基UV固化的粉末涂料也可通过将不饱和聚酯树脂与固体丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或乙烯基醚以及与新型光引发剂(或光引发剂混合物)混合而调配。该粉末涂料还可包含例如描述于DE4228514和EP636669的粘合剂。UV固化粉末涂料还可包含白色或有色颜料。例如，金红石型二氧化钛可优选以最高50％重量的浓度来使用，这样可得到具有良好遮盖力的固化粉末涂层。工艺步骤通常包括将粉末静电喷涂或摩擦静电喷涂到基材，例如金属或木材上，将粉末加热熔化，然后在形成光滑膜之后，用紫外线和/或可见光辐射固化，例如使用中压汞灯、金属卤化物灯或氙灯。辐射固化粉末涂料相对热固化相应物的优点具体在于，熔化粉末颗粒之后的流动时间可以延迟，这样可保证平滑、高光泽度涂层的形成。不同于热固化体系，辐射固化粉末涂料可调配至较低温度下熔化，而没有缩短其寿命的不希望出现的影响。为此，它们还适用作热敏基材，例如木材或塑料的涂层。除了该新型光引发剂体系，粉末涂料配方还可包含UV吸收剂。合适的例子在如前面1-8节中列举的。
包括新型光引发剂的本发明组合物例如还可以用作修复材料和腻子。
该新型光固化组合物例如可作为涂料而应用于所有种类基材，例如木材、纺织品、纸、陶瓷、玻璃、塑料，如聚酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚烯烃或乙酸纤维素，尤其是以膜的形式使用，以及用于金属，如Al、Cu、Ni、Fe、Zn、Mg或Co和GaAs、Si或SiO2，对于它们来说，是要施加一个保护层，或以成像方式进行曝光以生成图像。
新型辐射敏感性组合物还可用作负性抗蚀剂，它具有非常高的光敏性且能够在碱水介质中显影而不会膨胀。它们适合于生产用于凸版印刷、平版印刷、照相凹印的印刷版或丝网印刷版、用于生产凸版拷贝，例如用于生产点字法教科书、用于生产邮票、用于化学研磨或在生产集成电路时用作微抗蚀剂。该组合物还可用作光构图的介电层或涂层、在生产计算机芯片、印刷板和其它电子或电气元件时的包封材料和隔绝涂层。可能的层载体、以及涂布基材的加工条件可以合理变化。
新型组合物还涉及光敏热固性树脂组合物以及用其形成阻焊图案的方法，更具体地涉及下述新的光敏热固性树脂组合物，它作为材料可用于印刷电路板的生产、金属制品的精密制造、玻璃和石头制品的蚀刻、塑料制品的浮雕、以及印刷板的制备，尤其是可用作印刷电路板的阻焊剂；以及涉及通过以下步骤形成阻焊图案的方法：将一层树脂组合物经由一个具有图案的掩膜用光化射线选择性曝光，然后将该层的未曝光部分显影。
阻焊剂是一种在给定部件焊接到印刷电路板上过程中使用的物质，用于防止熔化的焊剂粘附到无关的部分而保护电路。因此，需要具有高粘附性、耐绝缘性、耐焊接温度、耐溶剂、耐碱性、耐酸性、和耐电镀之类的性能。
由于本发明的光固化组合物具有良好的热稳定性并具有足够的抗氧抑制作用，因此它们特别适用于生产滤色片或彩色镶嵌系统，例如见EP320264所述。滤色片通常用于制造液晶显示器、放映体系和图像传感器。滤色片可例如用于电视接收器、视频监视器或计算机的显示器和图像扫描仪、用于板式显示技术等。
滤色片通常是通过在玻璃基材上形成红色、绿色和蓝色像素和黑色基质而制成。在这些方法中，可以使用本发明的光固化组合物。特别优选的使用方法包括：向本发明光敏树脂组合物中加入有色物质(红色、绿色和蓝色染料和颜料)，用该组合物涂布基材，通过短时间热处理将该涂层进行干燥，将涂层以成像方式曝光于光化辐射，随后将图案在碱性显影剂水溶液中显影并视需要进行热处理。这样，通过按任何所需顺序，在各层之上用该方法涂覆红色、绿色和蓝色颜料涂料，可生产出具有红色、绿色和蓝色像素的滤色片层。
显影通过用合适碱性显影溶液洗去未聚合区域来进行。重复该步骤以形成有复合色彩的图像。
在本发明的光敏树脂组合物中，通过这样一种方法，其中首先在透明基材上形成至少一个或多个图像元素，然后使没有形成以上图像元素的透明基材面进行曝光，这样上述图像元可用作遮光掩膜。在这种情况下，例如在进行总体曝光时，光掩膜无需进行位置调节，也不用考虑到其位置滑移。而且，可以固化其上没有形成以上像元的所有部分。此外，在这种情况下，还可以将由于使用部分遮光掩膜而该未形成像元上的未曝光部分显影并除去。
由于在任何情况下，在以前形成的像元与以后形成的像元之间没有产生间隙，因此本发明组合物适用于例如滤色片的形成材料。具体地说，将着色物质(红色、绿色和蓝色的染料和颜料)加入本发明的光敏树脂组合物中，然后将形成图像的步骤重复以形成红色、绿色和蓝色的像元。然后，将其中加入了例如黑色着色物质(染料和颜料)的光敏树脂组合物涂到全部表面上。可在其上进行全部曝光(或利用遮光掩膜进行部分曝光)，以在红色、绿色和蓝色像元间的所有空隙(或除了遮光掩膜部分区域外的所有空间)形成黑色像元。
除了将光敏树脂组合物涂覆在基材上并干燥的工艺外，本发明光敏树脂组合物还可用作层转移材料。即将光敏树脂组合物以成涂层方式直接涂到临时载体上，优选在聚对苯二甲酸乙二酯膜上，或涂在其上已提供有隔氧层和剥离层，或剥离层和隔氧层的聚对苯二甲酸乙二酯膜上。通常，可将由合成树脂制成的可移动覆盖片层压到其上，用于在处理时的保护。此外，也可涂一层碱溶性热塑性树脂层和中间层在临时载体上，然后在其上涂一层光敏树脂组合物。(JP 5-173320-A)
将上述覆盖片在使用时去除，然后将光敏树脂组合物层层压到永久载体上。当提供了隔氧层和剥离层时，随后在这些层和临时载体之间进行剥离，若提供了剥离层和隔氧层时，在剥离层和隔氧层之间进行剥离，而没有提供剥离层或隔氧层时，则在临时载体和光敏树脂组合物层之间进行剥离，然后去除临时载体。
金属载体、玻璃、陶瓷、和合成树脂膜可用作滤色片的载体。透明的且尺寸稳定性优异的玻璃和合成树脂膜是特别优选的。
光敏树脂组合物层的厚度通常为0.1-50微米，尤其是0.5-5微米。
如果本发明光敏树脂组合物包含碱溶性树脂或碱溶性单体或低聚物，那么碱性物质的稀水溶液可用作该组合物的显影溶液，而且还包括将少量水混溶性有机溶剂加入其中而得到的显影液。
合适的碱性物质的例子为碱金属氢氧化物(例如，氢氧化钠和氢氧化钾)、碱金属碳酸盐(例如，碳酸钠和碳酸钾)、碱金属碳酸氢盐(例如，碳酸氢钠和碳酸氢钾)、碱金属硅酸盐(例如，硅酸钠和硅酸钾)、碱金属正硅酸盐(例如，正硅酸钠和正硅酸钾)、三乙醇胺、二乙醇胺、一乙醇胺、吗啉、四烷基氢氧化铵(例如，四甲基氢氧化铵)、或磷酸三钠。碱性物质的浓度为0.01-30％重量，且pH值优选为8-14。
与水混溶的合适有机溶剂包括甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁基醚、二甘醇二甲醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、乙酸正丁基酯、苄醇、丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、2-戊酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、和N-甲基吡咯烷酮。与水混溶的有机溶剂的浓度为0.1-30％重量。
此外，可以加入公众已知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为0.001-10％重量。
本发明的光敏树脂组合物还可用不含碱性化合物的有机溶剂，包括两种或多种溶剂的混合物进行显影。合适的溶剂包括甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁基醚、二甘醇二甲醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、乙酸正丁基酯、苄醇、丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、2-戊酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、和N-甲基吡咯烷酮。视需要，水可以以仍得到一种透明溶液且可维持光敏组合物未曝光区域有足够溶解度的最高量加入到这些溶剂中。
显影液可以本领域熟练技术人员已知的任何形式使用，例如浴液、捣浆、或喷雾溶液的形式。为了去除光敏树脂组合物层的未固化部分，可例如将旋转刷磨擦和湿海绵磨擦之类的方法结合起来。通常，显影溶液的温度优选在室温至40℃左右。显影时间可根据光敏树脂组合物的具体种类、显影溶液的碱性和温度、以及这时加入的有机溶剂的种类和浓度而变化。通常，该值为10秒至2分钟。可以在显影处理之后进行漂洗步骤。
最终的热处理优选在显影处理之后进行。因此，可将具有曝光聚合的层(以下称作光固化层)的载体在电炉和干燥机中加热，或将光固化层用红外灯辐照或在电热板上加热。加热温度和时间取决于所用的组合物以及所形成的层的厚度。一般来说，加热优选在约120-250C下进行约5-60分钟。
可包含在本发明组合物(包括加颜料的滤色片抗蚀组合物)中的颜料优选为加工颜料，例如粉末或膏状产品，通过将颜料细分散在至少一种选自丙烯酸系树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、马来酸树脂和乙基纤维素树脂等树脂中而制成。
红色颜料包括包括单一的蒽醌型颜料、单一的二酮吡咯并吡咯型颜料，它们的混合物或由它们中的至少一种与双偶氮型黄色颜料或异吲哚啉型黄色颜料组成的混合物，特别是单一的C.I.颜料红177，单一的C.I.颜料红254，C.I.颜料红177与C.I.颜料红254的混合物，或由C.I.颜料红177和C.I.颜料红254中的至少一种与C.I.颜料红黄83或C.I.颜料黄139组成的混合物(“C.I.”表示染料索引，这是本领域熟练技术人员已知的且公众可得的)。
其它的合适颜料的实例为C.I.颜料红9、97、105、122、123、144、149、168、176、179、180、185、202、207、209、214、222、242、244、255、264、272和C.I.颜料黄12、13、14、17、20、24、31、53、55、93、95、109、110、128、129、138、139、150、153、154、155、166、168、185、199、213以及C.I.颜料橙43。
用于红色的染料实例为C.I.颜料红25、27、30、35、49、83、89、100、122、138、149、150、160、179、218、230，C.I.直接红20、37、39、44和C.I.酸性红6、8、9、13、14、18、26、27、51、52、87、88、89、92、94、97、111、114、115、134、145、151、154、180、183、184、186、198，C.I.碱性红12、13，C.I.分散红5、7、13、17和58。红色染料可以与黄色和/或橙色染料结合使用。
绿色颜料包括例如单一的卤化酞菁型颜料、或其与双偶氮型黄色颜料，喹啉酮型黄色颜料或金属配合物，尤其是单一的C.I.颜料绿7、单一的C.I.颜料绿36、或由至少一种C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36与C.I.颜料黄83、C.I.颜料黄138或C.I.颜料黄150组成的混合物。其它的合适绿色颜料为C.I.颜料绿15、25和37。
合适的绿色染料的实例为C.I.酸性绿3、9、16，C.I.碱性绿1和4。
合适的蓝色颜料的实例为酞菁型颜料，可单独使用或与二噁嗪型紫色颜料结合使用，例如单独的C.I.颜料蓝15:6，C.I.颜料蓝15:6与C.I.颜料紫23的结合物。蓝色颜料的其它实例为C.I.颜料蓝15:3、15:4、16、22、28和60。其它的合适颜料为C.I.颜料紫14、19、23、29、32、37、177和C.I.颜料橙73。
合适的绿色染料的实例为C.I.溶剂蓝25、49、68、78、94，C.I.直接蓝25、86、90、108，C.I.酸性蓝1、7、9、15、103、104、158、161，C.I.碱性蓝1、3、9、25和C.I.分散蓝198。
用于黑色基质的光聚合组合物的颜料优选包括选自炭黑、钛黑和氧化铁的至少一种。但也可使用总合起来有黑色外观的其它颜料的混合物。例如，也可单独或结合使用C.I.颜料黑1、7和31。
滤色片所用染料的其它实例为C.I.溶剂黄2、5、14、15、16、19、21、33、56、62、77、83、93、162、104、105、114、129、130、162，C.I.分散黄3、4、7、31、54、61、201，C.I.直接黄1、11、12、28，C.I.酸性黄1、3、11、17、23、38、40、42、76、98，C.I.碱性黄1，C.I.溶剂紫13、33、45、46，C.I.分散紫22、24、26、28，C.I.酸性紫49，C.I.碱性紫2、7、10，C.I.溶剂橙1、2、5、6、37、45、62、99，C.I.酸性橙1、7、8、10、20、24、28、33、56、74，C.I.直接橙1，C.I.分散橙5，C.I.直接棕6、58、95、101、173，C.I.酸性棕14，C.I.溶剂黑3、5、7、27、28、29、35、45和46。
在制备滤色片的一些特殊情况下，使用互补色(黄色、品红色、青色以及任选的绿色)来替代黄色、绿色和蓝色。作为用于此类滤色片的黄色，可以使用上述黄色颜料和染料。适合于品红色的着色剂实例为C.I.颜料红122、144、146、169、177，C.I.颜料紫19和23。青色的实例为酞菁铝颜料、酞菁钛颜料、酞菁钴颜料和酞菁锡颜料。
对于任何颜色，也可使用两种以上颜料的混合物。特别适用于滤色片应用的是通过将上述颜料细分散在树脂中而制成的粉末加工颜料。
颜料在总固体组分(各种颜色的颜料和树脂)中的浓度例如为5-80％重量，尤其是20-45％重量。
滤色片抗蚀剂组合物中的颜料优选具有小于可见光波长(400-700纳米)的平均粒径。特别优选的平均颜料粒径小于100纳米。
如果需要，通过用分散剂对颜料进行预处理以提高颜料在该液体制剂中的分散稳定性，可使颜料在光敏组合物中稳定化。
本发明的滤色片抗蚀剂优选还包含至少一种可加成聚合的单体化合物作为组分(a)。
烯属不饱和化合物(a)包括一条或多条烯类不饱和键。它们可以是低(单体型)或高(寡聚型)分子量质量的。包含一条双键的化合物实例为(甲基)丙烯酸，(甲基)丙烯酸的烷基、羟烷基或氨基烷基酯，例如(甲基)丙烯酸的甲基酯、乙基酯、正丁基酯、异丁基酯、叔丁基酯、正丙基酯、异丙基酯、正己基酯、环己基酯、2-乙基己基酯、异冰片基酯、苄基酯、2-羟基乙基酯、甲氧基乙基酯、乙氧基乙基酯、甘油酯、苯氧基乙基酯、甲氧基二甘醇酯、乙氧基二甘醇酯、聚乙二醇酯、聚丙二醇酯、缩水甘油基酯、N，N-二甲基氨基乙基酯、和N，N-二乙基氨基乙基酯。其它实例为(甲基)丙烯腈，(甲基)丙烯酰胺，N-取代的(甲基)丙烯酰胺如N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二丁基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、和N-(甲基)丙烯酰基吗啉，乙烯基酯如乙酸乙烯酯，乙烯基醚如异丁基乙烯基醚，苯乙烯，烷基-、羟基-和卤代苯乙烯，N-乙烯基吡咯烷酮，N-乙烯基己内酰胺，N-乙烯基乙酰胺，N-乙烯基甲酰胺，氯乙烯和偏氯乙烯。
具有较高分子质量的多不饱和化物(寡聚物)的实例为聚酯，聚氨酯、聚醚和聚酰胺，它们含有烯属不饱和的羧酸酯。
特别适宜的实例为烯属不饱和羧酸与多元醇或多环氧化物形成的酯。
不饱和羧酸的实例为丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸，衣康酸，肉桂酸，以及不饱和的脂肪酸如亚麻酸或油酸。优选丙烯酸和甲基丙烯酸。
合适的多元醇是芳族、特别是脂族和环脂族的多元醇。芳族多元醇的实例是氢醌，4，4’-二羟基联苯，2，2-双(4-羟基苯基)-甲烷，2，2-双(4-羟基苯基)丙烷，2，2-双(4-羟基苯基)六氟丙烷，9，9-双(4-羟基苯基)芴，酚醛清漆及甲级酚醛树脂。脂族及环脂族多元醇的实例为优选具有2-1 2个碳原子的烷二醇，如乙二醇，1，2-或1，3-丙二醇，1，2-、1，3-或1，4-丁二醇，戊二醇，己二醇，辛二醇，十二烷基二醇，二甘醇，三甘醇，分子量优选为200-1500的聚乙二醇，1，3-环戊二醇，1，2-、1，3-或1，4-环己烷二醇，1，4-二羟甲基环己烷，甘油，三乙醇胺，三羟甲基乙烷，三羟甲基丙烷，季戊四醇，季戊四醇单草酸酯，二季戊四醇，季戊四醇与乙二醇或丙二醇形成的醚，二季戊四醇与乙二醇或丙二醇形成的醚，山梨醇，2，2-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]甲烷，2，2-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]丙烷和9，9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴。其它适宜的多元醇为聚合物链或侧基中包含羟基的聚合物与共聚物，山梨为包括乙烯醇或包括(甲基)丙烯酸羟烷基酯的均聚物或共聚物。其它合适的多元醇是含有羟基端基的酯和聚氨酯。
多元醇可以部分地或全部用一种不饱和羧酸或用不同的不饱和羧酸酯化，偏酯中的游离羟基可以被修饰，例如醚化或用其它羧酸酯化。
基于多元醇的酯例如是三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚，三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，二甘醇二(甲基)丙烯酸酯，三甘醇二(甲基)丙烯酸酯，四甘醇二(甲基)丙烯酸酯，1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯，新戊基二醇二(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯单草酸酯，二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯单(2-羟基乙基)醚，三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯，1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯，1，4-丁二醇二衣康酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯，1，4-环己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，山梨醇三(甲基)丙烯酸酯，山梨醇四(甲基)丙烯酸酯，山梨醇五(甲基)丙烯酸酯，山梨醇六(甲基)丙烯酸酯，齐聚酯(甲基)丙烯酸酯，甘油的二(甲基)丙烯酸酯和三(甲基)丙烯酸酯，分子量为200-15-的聚乙二醇的二(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇二衣康酸酯，二季戊四醇三衣康酸酯，二季戊四醇五衣康酸酯，二季戊四醇六衣康酸酯，乙二醇二衣康酸酯，丙二醇二衣康酸酯，1，3-丁二醇二衣康酸酯，1，4-丁二醇二衣康酸酯，1，4-丁二醇二衣康酸酯，山梨醇四衣康酸酯，乙二醇二巴豆酸酯，1，4-丁二醇二巴豆酸酯，季戊四醇二巴豆酸酯，乙二醇二马来酸酯，二甘醇二马来酸酯(tiethylen glycoldimaleate)，季戊四醇二马来酸酯，山梨醇四马来酸酯，或它们的混合物。
其它实例为下面式(XII)和(XIII)所示的季戊四醇和二季戊四醇衍生物：
Figure A20038010470400621
Figure A20038010470400622
其中
M1为-(CH2CH2O)-或-[CH2CH(CH3)O]-，
R10为-COCH＝CH2或-COC(CH3)＝CH2，
p为0-6(p的总和：3-24)，以及q为0-6(q的总和：2-16)。
多环氧化物的实例为基于上述多元醇和表氯醇的物质。典型的实例是双(4-缩水甘油氧基苯基)甲烷，2，2-双(4-缩水甘油氧基苯基)丙烷，2，2-双(4-缩水甘油氧基苯基)六氟丙烷，9，9-双(4-缩水甘油氧基苯基)芴，双[4-(2-缩水甘油氧基乙氧基)苯基]甲烷，2，2-双[4-(2-缩水甘油氧基乙氧基)苯基]丙烷，2，2-双[4-(2-缩水甘油氧基乙氧基)苯基]六氟丙烷，9，9-双[4-(2-缩水甘油氧基乙氧基)苯基]芴，双[4-(2-缩水甘油氧基丙氧基)苯基]甲烷，2，2-双[4-(2-缩水甘油氧基丙氧基)苯基]丙烷，2，2-双[4-(2-缩水甘油氧基丙氧基)苯基]六氟丙烷，9，9-双[4-(2-缩水甘油氧基丙氧基)苯基]芴，以及苯酚和甲酚酚醛清漆的缩水甘油醚。
以多环氧化物为基础的组分(a)的典型实例为2，2-双[4-{(2-羟基-3-丙烯酰氧基)丙氧基}苯基]丙烷，2，2-双[4-{(2-羟基-3-丙烯酰氧基)丙氧基乙氧基}苯基]丙烷，9，9-双[4-{(2-羟基-3-丙烯酰氧基)丙氧基}苯基]芴，9，9-双[4-{(2-羟基-3-丙烯酰氧基)丙氧基乙氧基}苯基]芴，以及基于酚醛清漆的环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物。
由上述多元醇或多环氧化物与带有羟基的不饱和化合物如(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、乙烯醇反应获得的产物也可以用作组分(a)。
作为组分(A)，同样适宜的还有由相同或不同的不饱和羧酸与芳族、环脂族和脂族多胺(优选带有2-6个，尤其是2-4个的氨基)形成的酰胺。这种多胺的实例是乙二胺，1，2-或1，3-丙二胺，1，2-、1，3-或1，4-丁二胺，1，5-戊二胺，1，6-己二胺，辛二胺，十二烷基二胺，1，4-二氨基环己烷，异佛尔酮二胺，苯二胺，联苯二胺，二-β-氨基乙基醚，二亚乙基三胺，三亚乙基四胺，二(β-氨基乙氧基)-或二(β-氨基丙氧基)乙烷。其它适宜的多胺是侧链优先带有额外氨基的聚合物和共聚物以及具有氨基端基的低聚酰胺。此类不饱和酰胺的实例是亚甲基双丙烯酰胺，1，6-六亚甲基双丙烯酰胺，二亚乙基三胺三甲基丙烯酰胺，双(甲基丙烯酰氨基丙氧基)乙烷，甲基丙烯酸β-甲基丙烯酰氨基乙基酯和N[(β-羟基乙氧基)乙基]丙烯酰胺。
其它实例是由多异氰酸酯与含有羟基的不饱和化合物反应或由多异氰酸酯、多元醇以及含有羟基的不饱和化合物反应得到的不饱和尿烷。
其它实例为链中具有烯属不饱和基团的聚酯、聚酰胺或聚氨酯。适宜的不饱和聚酯和聚酰胺例如是由马来酸与二醇或二胺衍生得到。马来酸可以部分地被其它二元羧酸代替。聚酯和聚酰胺也可以是由二元羧酸和烯属不饱和二元醇或二胺衍生得到，尤其是由具有例如6-20碳原子的较长链的物质获得。聚氨酯的实例是由饱和或不饱和的二异氰酸酯和不饱和的相应地为饱和的二元醇组成的聚氨酯。
侧链中具有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基团的其它合适的聚合物，例如是具有连接到主链或连接到分子中酯基上的光聚合侧基溶剂可溶性或碱可溶性的聚酰亚胺母体，例如聚(酰胺酸酯)化合物，即按照EP624826的聚合物。这些低聚物或聚合物可与任选的活性稀释剂如多官能(甲基)丙烯酸酯一起调配，这样可制备出高敏感性的聚酰亚胺母体抗蚀剂。
组分(a)的其它实例也可以是分子结构内含有至少一个羧基官能团和至少两个烯属不饱和基团的聚合物或低聚物，如将饱和或不饱和多元酸酸酐与苯酚或甲酚甲醛环氧树脂和不饱和单羧酸的反应产物进行反应而得到的树脂，例如如EB9696，UCB Chemcials；KAYARADTCR1025，Nippon Kayaku Co.，LTD的商业产品。多元酸酐的实例是马来酐，琥珀酐，衣康酐，邻苯二甲酸酐，四氢邻苯二甲酸酐，六氢邻苯二甲酸酐，甲基四氢邻苯二甲酸酐，戊二酸酐，戊烯二酸酐，柠檬酸酐，diglycolic anhydride，亚氨基二乙酸酐，1，1-环戊烷二羧酸酐，3，3-二甲基戊二酸酐，3-乙基-3-甲基戊二酸酐，2-苯基戊二酸酐，高邻苯二酸酐，苯三酸酐，氯菌酸酐，苯四甲酸二酐，二苯甲酮四羧酸二酐，联苯四羧酸二酐和联苯醚四羧酸二酐(biphenylethertetracarboxyl acid dianhydride)。
其它实例是式(XIV)化合物与乙酯或多种上述多元酸酐经聚缩反应和/或加成反应生成的产物：
其中Y1为
Figure A20038010470400642
Figure A20038010470400645
Figure A20038010470400648
或
R20为氢或甲基，
R30和R40各自独立地为氢，甲基，Cl或Br，M2为取代的或未取代的具有1-10个碳原子的亚烷基，x为0-5，且y为1-10。
优选的光聚合组合物包括作为组分(a)的在分子中含至少两个烯属不饱和键和至少一个羧基的化合物，尤其是通过将含有环氧基的不饱和化合物加成到含羧基聚合物的部分羧基上而获得的反应产物，或是下文显示的化合物与一种或多种多元酸酐的反应产物。其它优选的组分(a)包括式XIV的化合物。
进一步的实例是通过将含有环氧基的不饱和化合物加成到含羧基聚合物的部分羧基上而获得的反应产物。作为含有羧基的聚合物，可以是由不饱和羧酸化合物与一种或多种可聚合化合物反应得到的上述粘合剂聚合物，例如是由(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸、苯乙烯和(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯形成的共聚物，由(甲基)丙烯酸、苯乙烯和α-甲基苯乙烯得到的共聚物，(甲基)丙烯酸、N-苯基马来酰亚胺、苯乙烯和(甲基)丙烯酸苄酯得到的共聚物，(甲基)丙烯酸与苯乙烯的共聚物，(甲基)丙烯酸与(甲基)丙烯酸苄酯的共聚物，(甲基)丙烯酸四氢呋喃甲基酯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸的共聚物，等待。
具有环氧基的不饱和化合物的实例见下面式(V-1)-(V-15)所示。
Figure A20038010470400651
Figure A20038010470400652
Figure A20038010470400654
Figure A20038010470400658
Figure A200380104704006510
Figure A200380104704006511
其中R50是氢或甲基，M3是取代或未取代的具有1-10碳原子的亚烷基。
在这些化合物中，特别优选带有脂环族环氧基的化合物，其原因在于这些化合物对含羧基的树脂具有高反应性，从而能缩短反应时间。进一步地，这些化合物在反应过程中不会引起凝胶化，从而能够使反应稳定进行。另一方面，从敏感性和耐热性角度来看，由于丙烯酸缩水甘油酯和甲基丙烯酸缩水甘油酯的分子量低且可以产生高酯化转化率，因而它们是优选的。
上述化合物的具体实例包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯和丙烯酸的共聚物或甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸的共聚物与(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲基酯的反应产品。
可以使用带有羟基的不饱和化合物如(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯和甘油单(甲基)丙烯酸酯代替上述含环氧基的不饱和化合物，作为含羧基聚合物的反应物。
其它实例是含酸酐的半酯的聚合物，例如马来酐和一种或多种其它可聚合化合物的共聚物与含有醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯例如(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯或含有环氧基的(甲基)丙烯酸酯譬如式(V-1)-(V-15)中描述的化合物的反应产物。
含有醇式羟基的聚合物如2-(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯、(甲基)丙烯酸、甲基丙烯酸苄酯和苯乙烯的共聚物，与(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酰氯的反应产物也可以用作组分(a)。
其它实例是含有端不饱和基的聚酯与多元酸酐的反应产物，其中的聚酯是由二元酸酐与带有至少两个环氧基的化合物反应，接着进一步与不饱和的化合物反应所获得。
进一步的实例是树脂，这种树脂是由饱和或不饱和的多元酸酐与通过按上文所述将含有环氧基的(甲基)丙烯酸类不饱和化合物加成到含羧基聚合物的全部羧基上而获得的反应产物之间反应得到。
本发明的光聚合化合物可以单独使用，或者以需要的任何混合物形式使用。
在滤色片抗蚀剂组合物中，包含在光聚合组合物中的单体的总量优选占该组合物中总固体量(即除了溶剂的所有组分的量)的5-80％重量，尤其是10-70％重量。
作为用于滤色片抗蚀剂组合物中的可溶于碱性水溶液但不溶于水的粘合剂，例如，可以使用分子中有一个或多个酸基和一个或多个可聚合不饱和键的可聚合化合物的均聚物、或其两种或多种的共聚物、以及一个或多个可与这些化合物共聚且不含酸基的有一个或多个不饱和键的可聚合化合物的共聚物。这些化合物可通过将一个或多个在分子中有一个或多个酸基和一个或多个可聚合不饱和键的低分子量化合物与一个或多个可与这些化合物共聚但不含酸基的有一个或多个不饱和键的可聚合化合物进行共聚而得到。酸基的例子为-COOH基团、-SO3H基团、-SO2NHCO-基团、酚羟基、-SO2NH-基团、和-CO-NH-CO-基团。其中，含有-COOH的高分子量化合物是特别优选的。
优选滤色片抗蚀剂组合物中的有机聚合物粘合剂包括碱溶性共聚物，其中包含至少一种不饱和有机酸化合物，如丙烯酸、甲基丙烯酸等作为可加成聚合的单体单元。优选使用不饱和有机酸酯化合物，如丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、苯乙烯等作为聚合物粘合剂的其它共聚单体，以平衡各种性能，如碱溶性、粘附稳定性、耐化学试剂性等。
有机聚合物粘合剂可以是无规共聚物或嵌段共聚物，例如见美国专利5368976中所述。
分子中有一个或多个酸基和一个或多个可聚合不饱和键的可聚合化合物的例子包括以下化合物：
分子中含有一个或多个-COOH基团和一个或多个可聚合不饱和键的可聚合化合物的实例是(甲基)丙烯酸，2-羧基乙基(甲基)丙烯酸，2-羧基丙基(甲基)丙烯酸，巴豆酸，肉桂酸，单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]琥珀酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]己二酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]邻苯二甲酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]六氢邻苯二甲酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]马来酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丙基]琥珀酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丙基]己二酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丙基]邻苯二甲酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丙基]六氢邻苯二甲酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丙基]马来酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基]琥珀酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基]己二酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基]邻苯二甲酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基]六氢邻苯二甲酸酯，单[2-(甲基)丙烯酰氧基丁基]马来酸酯，3-(烷基氨基甲酰基)丙烯酸，α-氯丙烯酸，马来酸，单酯化马来酸，富马酸，衣康酸，柠檬酸，中康酸，马来酸酐，和ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯。
乙烯基苯磺酸和2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸是含有一个或多个-SO3H基团和一个或多个可聚合不饱和键的可聚合化合物的例子。
N-甲基磺酰基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基磺酰基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基磺酰基(甲基)丙烯酰胺、和N-(对-甲基苯基磺酰基)(甲基)丙烯酰胺是有一个或多个-SO2NHCO-基团和一个或多个可聚合不饱和键的可聚合化合物的例子。
分子中含有一个或多个酚羟基和一个或多个可聚合不饱和键的可聚合化合物的实例包括羟苯基(甲基)丙烯酰胺、二羟苯基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸羟苯基-羰氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸羟苯氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸羟苯基硫乙基酯、(甲基)丙烯酸二羟苯基羰氧基乙基酯、(甲基)丙烯酸二羟苯氧基乙基酯、和(甲基)丙烯酸二羟苯硫基乙基酯。
分子中含有一个或多个-SO2NH-基团和一个或多个可聚合不饱和键的可聚合化合物的例子包括由式(a)或(b)表示的化合物：
CH2＝CHA1-Y1-A2-SO2-NH-A3(a)
CH2＝CHA4-Y2-A5-NH-SO2-A6(b)
其中Y1和Y2分别表示-COO-、-CONA7-、或单键；A1和A4分别表示H或CH3；A2和A5分别表示任选带有取代基的C1-C12亚烷基、亚环烷基、亚芳基、或亚芳烷基、或其中插入醚基和硫醚基的C2-C12亚烷基、亚环烷基、亚芳基、或亚芳烷基；A3和A6分别表示视需要具有取代基的C1-C12烷基、环烷基、芳基、或芳烷基；而A7表示H、视需要具有取代基的C1-C12烷基、环烷基、芳基、或芳烷基。
具有一个或多个-CO-NH-CO-基团和一个或多个可聚合不饱和键的可聚合化合物包括马来酰亚胺和N-丙烯酰基-丙烯酰胺。这些可聚合化合物通过聚合变成具有-CO-NH-CO-基团的高分子化合物，其中与主链一起形成一个环。此外，也可使用含有-CO-NH-CO-基团的甲基丙烯酸衍生物和丙烯酸衍生物。这些甲基丙烯酸衍生物和丙烯酸衍生物包括，例如甲基丙烯酰胺衍生物，如N-乙酰基甲基丙烯酰胺、N-丙酰基甲基丙烯酰胺、N-丁酰基甲基丙烯酰胺、N-戊酰基甲基丙烯酰胺、N-癸酰基甲基丙烯酰胺、N-十二烷酰基甲基丙烯酰胺、N-苯甲酰基甲基丙烯酰胺、N-(对-甲基苯甲酰基)甲基丙烯酰胺、N-(对-氯苯甲酰基)甲基丙烯酰胺、N-(萘基羰基)甲基丙烯酰胺、N-(苯基乙酰基)甲基丙烯酰胺、和4-甲基丙烯酰氨基邻苯二甲酰亚胺、以及具有相同取代基的丙烯酰胺衍生物。这些可聚合化合物聚合形成侧链中有-CO-NH-CO-基团的化合物。
含有一个或多个可聚合不饱和键且不含酸基的可聚合化合物的例子包括选自以下的含有可聚合不饱和键的化合物：(甲基)丙烯酸酯、如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙基酯、(甲基)丙烯酸丙基酯、(甲基)丙烯酸丁基酯、(甲基)丙烯酸四氢呋喃甲基酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸羟乙基酯、(甲基)丙烯酸羟丙基酯、(甲基)丙烯酸羟基丁基酯、单甲基丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸二羟基丙基酯，(甲基)丙烯酸烯丙基酯，(甲基)丙烯酸环己基酯，(甲基)丙烯酸苯基酯，(甲基)丙烯酸甲氧基苯基酯，(甲基)丙烯酸甲氧基乙基酯，(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯，甲氧基二甘醇(甲基)丙烯酸酯，甲氧基三甘醇(甲基)丙烯酸，(甲基)丙烯酸甲氧基丙基酯，甲氧基一缩二丙二醇(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸异龙脑酯，(甲基)丙烯酸二环二烯基酯，(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙基酯，(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸-8-基酯，(甲基)丙烯酸氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸氨基丙基酯，(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基丙基酯，(甲基)丙烯酸缩水甘油酯，(甲基)丙烯酸2-甲基缩水甘油酯，(甲基)丙烯酸3，4-环氧丁基酯，(甲基)丙烯酸6，7-环氧庚基酯；乙烯基芳族化合物，如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对-氯苯乙烯、多氯苯乙烯、氟苯乙烯、溴苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯，乙烯基苄基甲基醚，乙烯基苄基缩水甘油醚，茚，1-甲基茚；乙烯基或烯丙基酯，例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、戊酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯酯、二乙基乙酸乙烯酯、vinyl barate、己酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、二氯乙酸乙烯酯、甲氧基乙酸乙烯酯、丁氧基乙酸乙烯酯、苯基乙酸乙烯酯、乙酸乙烯酯、乙酰乙酸乙烯酯、乳酸乙烯酯、苯基丁酸乙烯酯、环己基羧酸乙烯酯、水杨酸乙烯酯、氯苯甲酸乙烯酯、四氯苯甲酸乙烯酯、萘甲酸乙烯酯、乙酸烯丙基酯、丙酸烯丙基酯、丁酸烯丙基酯、戊酸烯丙基酯、苯甲酸烯丙基酯、己酸烯丙基酯、硬脂酸烯丙基酯、乙酰乙酸烯丙基酯、乳酸烯丙基酯；乙烯基或烯丙基醚，例如乙烯基甲基醚，乙烯基乙基醚，乙烯基己基醚，乙烯基辛基醚，乙烯基乙基己基醚，乙烯基甲氧基乙基醚，乙烯基乙氧基乙基醚，乙烯基氯乙基醚，乙烯基羟乙基醚，乙烯基乙基丁基醚，乙烯基羟乙氧基醚，乙烯基二甲氨基乙基醚，乙烯基二乙氨基乙基醚，乙烯基丁氨基乙基醚，乙烯基苄基醚，乙烯基四氢呋喃甲基醚，乙烯基苯基醚，乙烯基甲苯基醚，乙烯基氯苯基醚，乙烯基氯乙基醚，乙烯基二氯苯基醚，乙烯基萘基醚，乙烯基蒽基醚，烯丙基缩水甘油基醚；酰胺类不饱和化合物，例如(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二丁基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基己基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二环己基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二苯基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基-N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基-N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-丙基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基(甲基)丙烯酰胺、N-庚基(甲基)丙烯酰胺、N-辛基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基己基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基(甲基)丙烯酰胺、N-苄基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基(甲基)丙烯酰胺、N-甲苯基(甲基)丙烯酰胺、N-羟基苯基(甲基)丙烯酰胺、N-萘基(甲基)丙烯酰胺、N-苯基磺酰基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基苯磺酰基(甲基)丙烯酰胺、和N-(甲基)丙烯酰基吗啉，双丙酮丙烯酰胺，N-羟甲基丙烯酰胺，N-丁氧基甲基丙烯酰胺；多烯烃类化合物，例如丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯等；甲基丙烯腈，甲基异丙烯基酮，马来酰亚胺，N-苯基马来酰亚胺，N-甲基苯基马来酰亚胺，N-甲氧基苯基马来酰亚胺，N-环己基马来酰亚胺，N-烷基马来酰亚胺，马来酸酐，聚苯乙烯大分子单体，聚(甲基)丙烯酸甲酯大分子单体，聚(甲基)丙烯酸丁酯大分子单体；巴豆酸酯，例如巴豆酸丁酯、巴豆酸己酯、甘油单巴豆酸酯；和衣康酸酯，例如衣康酸二甲基酯、衣康酸二乙基酯、衣康酸二丁基酯；以及马来酸酯或富马酸酯，例如，马来酸二甲酯、富马酸二丁酯。
共聚物的优选实例(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸的共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/苯乙烯的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟乙基酯的共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸丁酯/(甲基)丙烯酸/苯乙烯的共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸羟苯基酯的共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸/聚(甲基)丙烯酸甲酯大分子单体的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/聚(甲基)丙烯酸甲酯大分子单体的共聚物、(甲基)丙烯酸四氢呋喃甲基酯/苯乙烯/(甲基)丙烯酸的共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸/聚苯乙烯大分子单体的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/聚苯乙烯大分子单体的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯/聚苯乙烯大分子单体的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟基丙基酯/聚苯乙烯大分子单体的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙基酯/聚(甲基)丙烯酸甲酯大分子单体的共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯/聚苯乙烯大分子单体的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯/聚(甲基)丙烯酸甲酯大分子单体的共聚物、N-苯基马来酰亚胺/(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/聚苯乙烯的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/N-苯基马来酰亚胺/单-[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]琥珀酸酯/苯乙烯的共聚物、(甲基)丙烯酸烯丙基酯/(甲基)丙烯酸/N-苯基马来酰亚胺/单-[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]琥珀酸酯/苯乙烯的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/N-苯基马来酰亚胺/甘油单(甲基)丙烯酸酯/苯乙烯的共聚物、(甲基)丙烯酸苄基酯/ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸/N-苯基马来酰亚胺/甘油单(甲基)丙烯酸酯/苯乙烯的共聚物，以及(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/N-环己基马来酰亚胺/苯乙烯的共聚物。
也可使用羟基苯乙烯均-或共-聚合物或线型酚醛清漆型酚醛树脂，例如聚(羟基苯乙烯)和聚(羟基苯乙烯-乙烯基环己醇)、线型酚醛清漆树脂、甲酚线型酚醛清漆树脂、和卤代苯酚线型酚醛清漆树脂。更具体地包括例如甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸酐共聚物(例如与作为共聚单体的苯乙烯形成的共聚物)、和马来酸共聚物、以及部分酯化的马来酸共聚物，这些分别描述于例如JP 59-44615-B4(本文所用的术语“JP-B4”是指已审日本专利申请公告)、JP 54-34327-B4、JP 58-12577-B4和JP54-25957-B4、JP 59-53836-A、JP 59-71048-A、JP 60-159743-A、JP 60-258539-A、JP 1-152449-A、JP 2-199403-A、和JP 2-199404-A，且这些共聚物可进一步按照美国专利5650263所述与胺进行反应；还有，也可使用侧链上有羧基的纤维素衍生物，特别优选(甲基)丙烯酸苄基酯和(甲基)丙烯酸的共聚物，以及(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸和其它单体的共聚物，例如见美国专利4139391、JP59-44615-B4、JP 60-159743-A和JP 60-258539-A中的描述。
对于以上有机粘合剂聚合物之中有羧酸基团的那些，可以将某些或所有的羧酸基团与(甲基)丙烯酸缩水甘油酯或(甲基)丙烯酸环氧酯反应得到光聚合的有机粘合剂聚合物，这样可提高光敏性、涂膜强度、对涂料溶剂和化学品的耐受性、以及对基材的粘附性。其例子公开于JP 50-34443-B4和JP 50-34444-B4、美国专利5153095、T.Kudo等人的“应用物理杂志”(J.Appl.Phys，Vol.37(1998)，p3594-3603)、美国专利5677385和美国专利5650233之中。
粘合剂的重均分子量优选为500-1000000，例如3000-1000000，更优选5000-400000。
这些化合物可单独使用或以两种或多种的混合物来使用。粘合剂在光敏树脂组合物中的含量优选为占总固体物质的10-95％重量，更优选15-90％重量。
此外，在滤色片中，各颜料的总固体组分可包括离子杂质清除剂，如具有环氧基的有机化合物。离子杂质清除剂在总固体组分中的浓度一般为0.1-10％重量。
EP320264给出了滤色片的实例，其中特别涉及颜料与离子杂质清除剂的上述组合。应该理解，按照本发明的光引发剂，即式I、II、和III的化合物可在EP320264所述的滤色片配方中替代三嗪引发剂化合物。
按照本发明的组合物还可包含例如描述于JP 10-221843-A的由酸活化的交联剂、以及一种能够通过热或通过光化辐射产生酸并能够活化交联反应的化合物。
按照本发明的组合物还可包含潜颜料，进而在热处理含所述潜颜料的光敏图案或涂层过程转化成细分散颜料。热处理可在曝光之后或在含潜颜料的光成像层显影之后进行。这种潜颜料是可溶性颜料母体，可通过例如描述于美国专利5879855的化学、热、光解或辐射诱导法而转化成不溶性颜料。潜颜料的这种转化可通过向该组合物加入能够在光化曝光时产生酸的化合物，或通过加入酸性化合物来促进。因此，还可制备在本发明组合物中包含潜颜料的滤色片抗蚀剂。
滤色片抗蚀剂的实例、这些抗蚀剂的组成、以及加工条件由如下文献给出：T.Kudo等人的“日本应用物理杂志”(Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37(1998)3594)；T.Kudo等人的“光聚合科学与技术杂志”(J.Photopolym.Sci.Technol.Vol.9(1996)109)；K.Kobayashi的“固态技术”(Solid StateTechnol.Nov.1992，p.S15-S18)；美国专利5368976；美国专利5800952；美国专利5882843；美国专利5879855；美国专利5866298；美国专利5863678；JP 06-230212-A；EP 320264；JP 09-269410-A；JP 10-221843-A；JP 01-090516-A；JP 10-171119-A、美国专利5821016、美国专利5847015、美国专利5882843、美国专利5719008、EP 881541、或EP 902327。
本发明的光引发剂可用于滤色片抗蚀剂，例如以上作为例子给出的那些，或可在这类抗蚀剂中部分或完全替代已知的光引发剂。本领域熟练技术人员应该理解，本发明新型光引发剂的应用并不局限于以上给出的特定的粘合剂树脂、交联剂和滤色片抗蚀剂实例的制剂，而是可结合任何自由基聚合组分与染料或彩色颜料或潜在颜料一起使用，形成光敏滤色油墨或滤色抗蚀剂。
因此，本发明的主题还是一种通过提供红色、绿色和蓝色(RGB)元件、以及任选的一种黑色基质而制成的滤色片，它们都在透明基材上含有光敏树脂和颜料，并在基材的表面上或在滤色片层的表面上提供一个透明电极，其中所述光敏树脂包含多官能丙烯酸酯单体、有机聚合物粘合剂和结构式I、II或III的上述光聚合引发剂。单体和粘合剂组分、以及合适的颜料描述如上。在制造滤色片时，透明电极层可施加到透明基材的表面上或可提供在红色、绿色和蓝色元件以及黑色基质的表面上。透明基材例如为玻璃基材，其表面上可另有一电极层。
优选将黑色基质涂到不同颜色的色区之间，这样可提高滤色片的反差。
除了使用光敏组合物形成黑色基质并通过成像方式曝光(即经由合适的掩膜)将黑色光敏组合物进行照相平版构图以在透明基材上形成将红、绿和蓝着色区域隔开的黑色图案，也可使用无机黑色基质。这些无机黑色基质可采用合适的成像方法，由透明基材上沉积(即喷镀)金属(即铬)膜而形成，例如依靠抗蚀刻剂利用照相平版构图法，在未用抗蚀刻剂保护的区域中刻蚀无机层然后去除剩余的抗蚀刻剂。
关于在制造滤色片时如何及在何步骤中施用黑色基质，已知有各种不同的方法。可在如上所述形成红色、绿色和蓝色(RGB)滤色片之前直接涂布到透明基材上，或可在基材上形成RGB滤色片之后涂布。
按照美国专利5626796，在液晶显示器用滤色片的不同实施方案中，黑色基质也可涂布到与承载RGB滤色片元件基材相对的基材上，该承载基材通过液晶层与前者分开。
如果透明电极层在涂布RGB滤色片元件和任选地涂布黑色基质之后进行沉积，那么可以将作为保护层的附加罩面层膜涂布到滤色片层上，然后沉积电极层，例如见美国专利5650263中的描述。
为了形成滤色片的保护层，采用光敏树脂或热固性树脂组合物。本发明的光敏组合物也可用于形成这种保护层，因为该组合物的固化膜具有优异的平整度、硬度、耐化学性和耐热性、透明度(尤其是在可见区)、对基材的粘附性，且对其上形成透明导电膜，如ITO膜有适应性。在生产保护层时，要求保护层的非必需部分(例如在用于切割基材的划线上，以及固体图像传感器的焊接区上)应该从基材上去除，如JP 57-42009-A、JP 1-130103-A和JP 1-134306-A所述。因此，使用上述热固性树脂难以选择性地形成具有良好精确度的保护层。但光敏组合物容易通过照相平版制版技术来去除保护层的非必需部分。
本领域熟练技术人员显然可以看出，本发明的光敏组合物可用于生成红色、绿色和蓝色像素和黑色基质，用于制造滤色片，与上述的加工差别无关，与可以施加的附加层无关，也与滤色片的设计差别无关。本发明组合物形成有色元件的应用不应考虑会受限于不同的设计以及这些滤色片的制造工艺。
本发明的光敏组合物适于用来形成滤色片，但并不局限于这种用途。它也可用于记录材料、抗蚀剂材料、保护层、介电层、用于显示领域和显示元件、油漆、以及印刷油墨。
按照本发明的光敏组合物还适用于在制造液晶显示器、尤其是反射型液晶显示器中的层间绝缘层或介电层，这些显示器包括具有薄膜晶体管(TFT)作为转换设备的有源矩阵型显示器、以及没有转换设备的无源矩阵型显示器。
近年来，液晶显示器以其厚度小和重量轻等特点而广泛用于袖珍型电视机和用于通讯的终端设备。不需使用有背照光的反射型液晶显示器尤其符合人们的需求，因为它超薄且重量轻，而且能够明显降低功率消耗。但即便从目前的透射型彩色液晶显示器中除去背面光，并将反射光板加入该显示器的下表面，也会产生这样一个问题，即光的利用效率低，而且不可能具有实用亮度。
作为该问题的解决方案，已经提出了各种反射型液晶显示器以增强光的利用效率。例如，将某些反射型液晶显示器设计成包括有反射功能的像素电极。
反射型液晶显示器包括一个绝缘基板和一个与该绝缘基板分开的相对基板。基板间的空间填充有液晶。选通电极在绝缘基板上形成，且选通电极和绝缘基板都覆盖有选通绝缘膜。半导体层随后在选通电极之上的选通绝缘膜上形成。源电极和排流电极也在与接触半导体层接触的选通绝缘膜上形成。源电极、排流电极、半导体层、和选通电极相互合作，这样构成一个作为转换设备的底部选通型TFT。
形成层间绝缘膜，用于覆盖源电极、排流电极、半导体层、和选通绝缘膜。整个排流电极上的层间绝缘膜形成接触孔。在层间绝缘膜和接触孔的内侧壁上形成由铝制成的像素电极。TFT的排流电极最终通过层间绝缘膜与像素电极接触。层间绝缘层一般设计成具有粗糙表面，这样像素电极可用作反射板，将光散开以得到较宽的视角(可视角)。
反射型液晶显示器通过将像素电极用作光反射板而明显增强了光的利用效率。
在上述反射型液晶显示器中，层间绝缘膜通过照相平版制版技术设计成具有凸起和凹进形状。为了能以微米级的表面粗糙度形成和控制凸起和凹进的细微形状，并形成接触孔，使用照相平版制版法，其中采用正性和负性光致抗蚀剂。对于这些抗蚀剂而言，本发明组合物尤其合适。
按照本发明的光敏组合物还可用于制造间隔物，用于控制液晶显示板中液晶部件的池间隙。由于液晶显示器中通过液晶层透射和反射的光的性能取决于液晶池间隙，因此像素阵列的厚度准确性和均匀性对于液晶显示装置的性能是关键参数。液晶池中，基板间的间距通过稀疏地分布直径约几微米的玻璃或聚合物球作为基板间的垫珠而在池中保持恒定。垫珠固定在基板之间以保持基板间的距离为恒定值。该距离由垫珠的直径来确定。垫珠保证了基板间的最小间距，即它们可防止基板间距离的减小。但它们不能防止基板相互分离，即基板间距离的增加。此外，使用垫珠的该方法在垫珠直径均匀性上存在问题，因此难以将垫珠均匀分散在板上，而且取向不均匀，且亮度和/或光学孔径根据垫珠在像素阵列区上的位置而下降。具有大图像显示区的液晶显示器近来已引起较多关注。但液晶池面积的增加一般造成构成该池基板的扭曲。由于基材变形，液晶的层结构往往会被破坏，因此，即使使用垫珠来保持基板间的间距恒定，但具有大图像显示区的液晶显示器由于显示失调而不能实行。除了上述垫珠分散法，已经提出了一种在池空隙中形成柱的方法。该方法中，树脂柱在像素阵列区和反电极之间的区域中作为间隔物而形成，构成预定的池间隙。通常使用具有照相平版制版粘合性能的光敏材料，例如在滤色片的制造工艺时所用的。该方法与使用垫珠的常规方法相比是有利的，因为这样可自由地控制间隔物的位置点、数目和高度。在彩色液晶显示板中，这种间隔物在滤色片元件的黑色基质下的非成像区形成。因此，使用光敏组合物形成的间隔物不会降低亮度和光学孔径。
JP 2000-81701-A公开了用于生产滤色片带间隔物的保护层用光敏组合物，且JP 11-174459-A和JP 11-174464-A公开了用于间隔材料的干燥膜型光致抗蚀剂。正如这些文件所述，光敏组合物、液体和干燥膜光致抗蚀剂至少包含碱或酸可溶性粘合剂聚合物、自由基可聚合单体、以及自由基引发剂。在某些情况下，还可包括热交联组分，如环氧化物和羧酸。
使用光敏组合物形成间隔物的步骤如下：
将光敏组合物涂布到基板，例如滤色片板上，在将基板预烘烤之后，将其通过掩膜曝光。然后，将基板用显影剂显影，构图成所需的间隔物。如果该组合物包含某些热固性组分，通常进行后烘烤以热固化该组合物。
按照本发明的可光固化组合物由于其高敏感性而适用于生产液晶显示器用间隔物(如上所述)。
按照本发明的光敏组合物还适合制造用于液晶显示板、图像传感器等的显微透镜阵列。
显微透镜是安装在有源光电设备，如检测器、显示器、和发光设备(发光二极管、横向和垂直空腔激光器)的显微无源光学元件，用于提高它们的光学输入或输出质量。应用领域广泛并涵盖电讯、信息技术、声频-视频装置、太阳能电池、检测器、固态光源、和光学连接等。目前的光学体系使用各种技术来获得显微透镜与显微光学设备之间的有效配合。
显微透镜阵列用于将照明光会聚到非发光显示设备，如液晶显示设备的像元区上以增加该显示器的亮度，用于会聚入射光或用于在行式图像传感器(例如，用于传真机等)的光电转化区上形成图像以提高这些设备的敏感度，以及用于在供液晶打印机或发光二极管(LED)打印机使用的光敏装置上形成待印刷的图像。
最常见的用途是，它们可用于提高固态图像传感设备，如电荷偶合设备(CCD)的光检测器阵列的有效性。在检测器阵列中，需要在每个检测器元件或像素中收集尽可能多的光。如果将显微透镜放置在每个像素之上，那么这些透镜就收集入射光并将其聚焦到小于透镜尺寸的活性区上。
按照已有技术，显微透镜阵列可通过各种方法来生产：
(1)在一种得到凸面透镜的方法中，通过常规的照相平版印刷技术或类似技术，将平面构型的透镜图案描绘在热塑性树脂上，然后将该热塑性树脂加热至该树脂的软化点之上的温度以产生流动性，这样可在图案边缘产生流挂(即所谓的“倒流”)(参见，例如JP 60-38989-A、JP 60-165623-A、JP 61-67003-A和JP 2000-39503-A。在该方法中，如果所用的热塑性树脂为光敏性的，那么透镜图案可通过将该树脂曝光而得到。
(2)一种利用模具或冲压器形成塑料或玻璃材料的方法。作为透镜材料，该方法可以使用可光固化树脂和热固性树脂(参见，例如WO99/38035)。
(3)一种基于以下现象形成凸面透镜的方法，其中，当使用校准器将光敏树脂曝光成所需图案时，未反应单体从未曝光区移动至曝光区，导致曝光区的膨胀(参见，例如“日本应用物理学会显微镜研究组杂志”，光学部分第五卷，No.2，PP.118-123(1987)和第六卷，No.2，PP.87-92(1988))。
在支撑基材的上表面上，形成光敏树脂层。然后，通过使用分开的掩膜，用汞灯等光源的光照射光敏树脂层的上表面，这样可将光敏树脂层曝光。结果，光敏树脂层的曝光区就膨胀成凸面透镜的形状，形成具有多个显微透镜的光会聚层。
(4)在一种得到凸面透镜的方法中，将光敏树脂通过近距曝光技术进行曝光，其中光掩膜不与树脂接触，造成图案边缘模糊，这样光化学反应产物的量就根据图案边缘的模糊度来分布(参见，JP 61-153602-A)。
(5)在一种产生透镜效应的方法中，将光敏树脂以特定强度分布的光进行曝光，形成取决于光强度的折射指数分布图案(参见，例如JP 60-72927-A和JP 60-166946-A)。
本发明的光敏组合物可用于上述方法中的任何一种，通过使用可光固化树脂组合物来形成显微透镜阵列。
一类特殊的技术集中于以热塑性树脂状光致抗蚀剂来形成显微透镜。一个例子公开于Popovic等人的参考文件SPIE 898，pp.23-25(1988)。这种技术称作倒流技术，包括以下步骤：例如采用光致抗蚀剂那样的光敏树脂，以照相平版制版法，限定透镜在热塑性树脂中的印迹，随后将该材料加热至其倒流温度之上。表面张力将光致抗蚀剂岛形物拉成具有体积等于倒流前原始岛形物的球状盖。这种盖是一种平凸显微透镜。该技术的优点尤其在于，直接在发光或光检测光电设备之上进行集成的简单性、可再现性和可能性。
在某些情况下，在倒流之前在具有长方形形状的构图透镜单元上形成罩面层，这样可避免中部树脂岛流挂，而不在倒流步骤中倒流形成球状盖。该罩面层用作永久保护层。该涂层也由光敏组合物制成。
显微透镜阵列还可通过使用模具或冲压器来制造，例如见EP0932256A2中的描述。一种制造平面显微透镜阵列的方法如下：将脱模剂涂覆在冲压器(其上稠密地排列有凸面部分)的成型表面上，然后将具有高折射指数的可光固化合成树脂材料放置在该冲压器的成型表面上。然后，将基底玻璃板推到合成树脂材料上，这样可将合成树脂材料铺展，然后通过用紫外线照射或通过加热来固化该合成树脂材料以形成凸面显微透镜。然后将冲压器剥离开。然后，将具有低折射指数的可光固化合成树脂材料作为粘合剂层再涂覆到该凸面显微透镜上，然后将制成覆盖玻璃板形的玻璃基材推到合成树脂材料上，同样进行铺展。该合成树脂材料随后固化并最终形成平面显微透镜阵列。
如美国专利5969867所述，使用模具的类似方法适用于生产棱镜片，它用作彩色液晶显示板的背照光装置的部件以增强亮度，将在一面上形成棱镜行列的棱镜片安装在背照光的发光表面上。为了制造棱镜片，将活性能量射线固化组合物浇铸并铺展到由金属、玻璃或树脂制成的镜片模具中，形成棱镜行列镜片形状，然后将透明基板放置其上并将来自活性能量射线发射源的活性能量射线穿过该板材照射用于固化。然后将制备的镜片从镜片模具中剥离，得到镜片。
用于形成镜片部件的活性能量射线固化组合物必须具有各种性能，包括与透明基材的粘附性、以及合适的光学特性。
至少已有技术中某些光致抗蚀剂的镜片并不适合某些应用场合，因为在光谱蓝色一端的光透射率差。
由于本发明可光固化组合物泛黄性低(热方式和光化学方式)，因此它们适用于如上所述来生产显微透镜阵列。
新的辐射敏感组合物还适合用于等离子体显示板(PDP)生产工艺的照相平版印刷步骤，尤其是用于隔条、荧光层和电极的成像工艺。
PDP是一种利用气体放电进行发光而用于显示图像和信息的平面显示器。关于面板的构造和操作方法，已知有两种类型，即DC(直流)型和AC(交流)型。
例如，DC型彩色PDP的原理可简要解释如下。在DC型彩色PDP中，介于两个透明基板(一般为玻璃板)间的空间由放置在该透明基板间的格子隔绝条划分为许多微小的单元。各单元中密封有放电气体，如He或Xe。在每个单元的后壁上有一荧光体层，它通过由放电气体放电产生的紫外光而激发，发射出三原色可见光。在两个基板的内表面上，将电极横跨相关单元而相互相对放置。一般来说，阴极由透明导电材料，如NESA玻璃的膜形成。如果在形成于前壁和后壁上的这些电极之间施加高压，那么密封在单元中的放电气体就诱导等离子体放电，并利用因此发出的紫外光激励红色、蓝色和绿色荧光元件发光并显示出图像。在全色显示体系中，各自具有三原色(红色、蓝色和绿色)的上述三种荧光元件结合形成像元。
DC型PDP中的单元由格子状的组件隔条来划分，而AC型PDP则通过相互平行排列在基板面上的隔条来划分。在每种情况下，单元都以隔条来划分。
这些隔条用于将发光放电限制在固定区域，这样可防止错误放电或相邻放电单元间的串扰，和保证理想显示。
本发明的组合物还可用于生产单色或多色的单层或多层材料，用于图像记录或图像复制(复印、程序重调)。此外，这些材料适用于彩色涂胶体系。在该技术中，可以涂布包含微胶囊的制剂，可以在辐射固化之后进行热处理成像。这些体系和技术及其应用例如公开于美国专利5376459中。
光固化对印刷是十分重要的，因为油墨的干燥时间对图像产品的生产率是一个关键因素，因此应该在几分之一秒的数量级。UV可固化油墨对丝网印刷和胶印油墨是特别重要的。
如上所述，这种新混合物还非常适用于生产印刷板。该领域例如使用可溶性线型聚酰胺或苯乙烯/丁二烯/异戊二烯橡胶、包含羰基的聚丙烯酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇或聚氨酯丙烯酸酯与可光聚合单体，如丙烯酰胺和/或甲基丙烯酰胺、或丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯、和光引发剂的混合物。这些体系(湿或干)的膜和板覆盖印刷原片(或正片)之上曝光，然后使用合适的溶剂或水溶液洗涤未固化部分。
采用光固化的另一领域是金属的涂覆，在这种情况下，例如用于金属板和管、罐或瓶盖的涂覆、以及聚合物涂料例如基于PVC的地板或墙壁覆盖物的光固化。
纸涂层光固化的例子为标签、记录套管和书皮的无色清漆处理。
将新型光引发剂用于由复合组分制成的固化成型制品也是有价值的。该复合化合物由自支撑基质材料，例如玻璃纤维织物、或另外例如植物纤维[参见K.-P.Mieck，T.Reussmann in Kunststoffe 85(1995)，366-370]组成，它浸渍有光固化制剂。如果使用新化合物来生产，那么包含复合化合物的成型制品就具有较高的机械稳定性和抗性。这种新化合物还可用作模塑、浸渍和涂料组合物中的光固化剂，例如见EP7086中的描述。这些组合物的例子为在固化活性和抗发黄性方面经受严格要求的凝胶涂料树脂、以及强化纤维模塑品，例如平面的或具有横向或横向波纹的光漫射板。生产这些模塑品的技术，如手工制造、喷雾制造、离心浇铸或长丝卷绕，例如由P.H.Selden描述于“Glasfaserversterkte Kunststoffe”，第610页中，SpringerVerlag Berlin-Heidelberg-New York 1967。可由这些技术生产的制品的例子为船、具有双面玻璃纤维强化塑料涂层的纤维板或刨花板、管、容器等。模塑、浸渍和涂料组合物的其它例子，为用于含玻璃纤维的模塑品(GRP)，如波形片和纸层压品的UP树脂凝胶涂料。纸层压品可基于脲醛树脂或蜜胺树脂。在生产层压品之前，凝胶涂料可在载体(如膜)上制成。这种新的可光固化组合物还可用于浇铸树脂或用于包埋制品，例如电子元件等。
按照本发明的组合物和化合物可用于生产全息照相、波导管、光学转换器，其中利用了辐照和未辐照区之间在折射指数上的差异而进行显影。
将可光固化组合物用于成像技术和信息载体的光学生产也是很重要的。在这些应用中，如上所述，涂到载体上的层(湿或干)以成像方式，例如通过光掩膜，用UV或可见光进行照射，然后将该层的未曝光区用显影剂进行处理而去除。也可用电沉积法将该光固化层涂布于金属上。曝光区通过交联而聚合，因此是不溶性的并留在载体上。合适的着色产生可视图像。其中载体为金属化层时，金属可在曝光和显影之后，在未曝光区蚀刻掉或通过电镀来增强。如此可生产出电子电路和光致抗蚀剂。如果用于能够形成图像的材料，该新光引发剂可在生成所谓的印出图像时提供优异的性能，其中颜色变化因照射而产生。为了形成这种印出图像，使用不同的染料和/或其隐色体，用于这种印出图像体系的例子可参见例如WO96/41240、EP706091、EP511403、美国专利3579339和美国专利4622286。
新的光引发剂还适用于光构图像组合物，用于形成由连续堆积过程制造的多层电路板的介电层。
如上所述，本发明提供了用于生产着色和非着色的油漆和清漆、粉末涂料、印刷油墨、印刷板、粘合剂、牙科组合物、油灰材料、凝胶涂料、用于电子学的光致抗蚀，如防电镀剂、抗蚀刻剂，液体和干燥膜、阻焊剂，作为生产用于各种显示装置的滤色片抗蚀剂，或在等离子体显示板(如隔条、荧光层、电极)、电致发光显示器和LCD(如层间绝缘层、间隔物、显微透镜阵列)的制造工艺中构成结构，作为用于包封电气或电子元件的组合物，用于生产磁性记录材料、微机械部件、波导管、光学转换器、电镀蒙罩、刻蚀蒙罩、颜色涂胶体系、玻璃纤维电缆涂料、丝网印刷模版，利用立体平版印刷法生产三维物体，以及作为图像记录材料，尤其是用于全息照相记录、微电子电路、脱色材料、用于图像记录材料的脱色材料、使用微胶囊的图像记录材料。
用于照相信息记录地基板包括，例如聚酯膜乙酸纤维素膜或涂布聚合物的纸膜；用于胶版印刷印版的基板是专门处理过的铝；用于生产印刷电路的基板是镀铜的层压材料；而用于生产集成电路的基板是，例如硅片。用于照相材料和胶版印刷的光敏层的厚度一般为约0.5μm-10μm，而用于印刷电路的光敏层的层厚度为0.1μm-约100μm。基板涂布后，一般是通过干燥除去溶剂，在基板上留下光致抗蚀剂的涂层。
基材的涂布可通过将液体组合物、溶液或悬浮液涂到基材上来进行。溶剂的选择以及浓度原则上取决于组合物的种类和涂布技术。溶剂应该是惰性的，即它应该不会与各组分发生化学反应，且应该能够在涂布之后，在干燥过程中再次去除。合适的溶剂的例子为酮、醚和酯，如甲乙酮、异丁基甲基酮、环戊酮、环己酮、N-甲基吡咯烷酮、二噁烷、四氢呋喃、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、1-甲氧基-2-丙醇、1，2-二甲氧基乙烷、乙酸乙酯、乙酸正丁基酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸2-甲氧基丙基酯、甲基-3-甲氧基丙酸酯、2-庚酮、2-戊酮和乳酸乙酯。
用已知的涂布技术，例如通过旋涂、浸涂、刮刀涂布、帘幕涂布、刷涂、喷涂，尤其是通过静电喷涂、和逆向辊涂，并通过电泳沉积，将溶液均匀涂到基材上。还可将光敏层涂到临时的柔性基材上，然后经过层压，将该层进行转移而涂布到最终基材上，例如包铜电路板、或玻璃基材。
涂布量(涂层厚度)以及基材(层载体)的性质，取决于所需的应用领域。涂层厚度范围一般为约0.1-大于100μm，例如0.1μm至1厘米，优选0.5-1000μm。
在涂布基材之后，一般通过干燥来去除溶剂，在基材上留下基本上干燥的光致抗蚀剂的抗蚀膜。
该新型组合物的感光性一般由约150nm延伸至600nm，例如190-600nm(UV-可见光区)。合适的射线，例如是日光或来自人造光源的光线。因此，可以采用许多明显不同种类的光源。点源和阵列(“灯毯”)都是合适的。其例子为碳弧灯、氙弧灯、低-、中-、高-和超高-压力汞灯，可能具有金属卤化物掺杂物的灯(金属-卤素灯)、微波激发的金属蒸汽灯、受激准分子灯、超光化荧光管、荧光灯、氩气白炽灯、电子闪光灯、照相泛光灯、发光二极管(LED)、电子束和X-射线。灯与要按照本发明曝光的基板之间的距离可根据预期用途以及灯的种类和输出而变化，可以是例如2-150厘米。激光光源，例如受激准分子激光，如在157纳米曝光的F2受激准分子激光、在248纳米曝光的KrF受激准分子激光、和在193纳米曝光的ArF受激准分子激光也是合适的。也可使用在可见光区的激光。
术语“成像方式”曝光包括通过具有预定图案的光掩膜，例如幻灯片、铬掩膜、模版掩膜或标度线进行曝光，以及通过激光或光束进行曝光，该光束在计算机控制下在涂布基板的表面上移动并由此方式形成图像。适合此目的的UV激光曝光系统例如为由Etec和Orbotech提供(DP-100TM DIRECT IMAGING SYSTEM)以及PENTAX生产的DI-FPD，DI-2080。也可以用计算机控制的电子束照射达到。也可使用由液晶制成的掩膜，通过一个像素接着一个像素的方式进行表达，生成数字图像，例如由A.Bertsch，J.Y.Jezequel，J.C.Andre在“光化学和光生物学杂志A：化学”(Journal of Photochemistry andPhotobiology A：Chemistry1997，107，p.275-281)和由K.-P.Nicolay在“胶版印刷(Offset Printing 1997，6，p.34-37)中所述。
在成像曝光该材料之后和显影之前，短时间的热处理有利。显影之后，可进行后热烘烤以硬化该组合物并去除所有的痕量溶剂。所用的温度一般为50-250℃，优选80-220℃；热处理的持续时间一般为0.25-60分钟。
该可光固化组合物还可用于生产印刷板或光致抗蚀剂的工艺中，例如见DE4013358中的描述。在该工艺中，将该组合物在成像照射之前、同时或之后，在没有光掩膜的情况下，在波长至少400纳米的可见光下进行短时间曝光。
在曝光以及(如果进行的话)热处理之后，按照本领域已知的方式，用显影剂去除感光涂层的未曝光区域。
如上所述，新组合物可用碱水液或有机溶剂进行显影。特别合适的含水碱显影液为四烷基氢氧化铵或碱金属硅酸盐、磷酸盐、氢氧化物和碳酸盐的水溶液。如果需要，也可向这些溶液中加入少量的润湿剂和/或有机溶剂。可少量加入显影液中的典型有机溶剂的例子为环己酮、2-乙氧基乙醇、甲苯、丙酮、或这些溶剂的混合物。根据基板情况，也可使用溶剂，如有机溶剂作为显影剂，或以碱水液与这些溶剂的上述混合物使用。特别适合用于溶剂显影的溶剂包括甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁基醚、二甘醇二甲醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、乙酸正丁基酯、苄醇、丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、2-戊酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、和N-甲基吡咯烷酮。视需要，可向这些溶剂中加入水，水的最高量以其仍然能够得到透明溶液，且光敏组合物的未曝光区可保持足够的溶解度为准。
因此，本发明还提供了一种将包含烯属不饱和双键的化合物，即包含至少一个烯属不饱和双键的单体、低聚或聚合的化合物进行光聚合反应的方法，该方法包括向这些化合物中加入至少一种上述式I、II、III或IV的光引发剂，然后用电磁射线，尤其是波长150-600纳米(特别是190-600纳米)的光，电子束，或用X-射线照射所得组合物。
本发明还提供一种其至少一个表面上涂有上述组合物的涂布基板，并描述了照相法生产浮雕图像的方法，其中将涂布基板进行成像曝光，然后将未曝光部分用显影剂去除。成像曝光可如上所述通过掩膜照射或利用激光或电子束来进行。在本文中，特别有利的是上述的激光束曝光。
本发明化合物具有良好的热稳定性和低挥发性，而且还适用于在空气(氧气)存在下的光聚合。此外它们在光聚合之后只引起组合物稍发黄。
以下实施例用于更详细说明本发明。除另有说明外，说明书其余部分和权利要求书中的份数和百分数都以重量计。如果提及具有多于三个碳原子的烷基而没有提及具体异构体时，则均指正异构体。
实施例1：1-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙酮肟O-乙酸酯的合成
Figure A20038010470400851
Hte1＝噻吩基，Ar2＝ R1＝CH3，R2＝CH3
1.a  1-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙酮
向N-乙基咔唑(5.0g；25.6mmol)/CH2Cl2(40ml)中加入2-噻吩甲酰氯(噻吩-2-甲酰氯)(3.75g；25.6mmol)和AlCl3(3.40g；25.6mmol)。在室温下搅拌4小时后，加入乙酰氯(2.0g；25.6mmol)和AlCl3(3.40g；25.6mmol)。室温搅拌该反应混合物过夜。酯化将反应混合物倒入冰水中。产物用二氯甲烷提取。二氯甲烷层用水、饱和碳酸氢钠水溶液以及盐水洗涤，继而用无水硫酸镁干燥。减压浓缩得灰色固体(9.26g，粗产物)。
结构根据1H NMR谱(CDCl3)确认。δ[ppm]：1.50(t，3H)，2.73(s，3H)，4.45(q，2H)，7.22(td，1H)，7.50(dd，2H)，7.75(m，2H)，8.15(dd，2H)，8.80(dd，2H).该固体无需进一步纯化直接用于下步反应。
1.b  1-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙酮肟
向氯化羟铵(0.72g；10.4mmol)和乙酸钠(0.85g；10.4mmol)在水(7.5ml)中的溶液内加入在N，N-二甲基乙酰胺(DMA)(15ml)中的1-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙酮(3.0g；8.6mmol)。加热4小时后，向反应混合物中加入水，滤出产生的黄色固体，水洗并溶于二氯甲烷。用无水硫酸镁干燥该二氯甲烷溶液后，减压浓缩得3.02g浅棕黄色固体。随后经再沉淀和柱层析，得到黄色固体(1.5g；48％).
结构根据1H NMR谱(CDCl3)确认，δ[ppm]：1.49(t，3H)，2.41(s，3H)，4.43(q，2H)，7.21(td，1H)，7.48(q，2H)，7.75(m，2H)，7.87(dd，2H)，8.13(dd，1H)，8.39(d，1H)，8.71(d，1H).该固体用于下步反应，不需进一步纯化。
1.c  1-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙酮肟O-乙酸酯
将1-[9-乙基-6-(噻吩-2-羰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙酮肟(1.5g；4.14mmol)溶于25ml四氢呋喃(THF)。向该溶液中加入三乙胺(0.5g，5.0mmol)，进而在10℃下逐滴加入乙酰氯(0.4g，5.0mmol)。室温搅拌3小时后，将反应混合物倒入水中，产物用乙酸乙酯提取。有机层用饱和碳酸氢钠水溶液、盐水顺序洗涤，随后用无水硫酸镁干燥。浓缩之后，采用CH2Cl2-叔丁基甲基醚(TBME)(1∶50)作为洗脱剂进行重结晶纯化，得到浅橙色固体(1.28g；76.6％)。
1H-NMR(CDCl3)δ[ppm]：1.44(t，3H)，2.25(s，3H)，2.48(s，3H)，4.39(q，2H)，7.18(td，1H)，7.44(q，2H)，7.70(m，2H)，7.95(dd，1H)，8.08(dd，1H)，8.46(d，1H)，8.68(d，1H).
实施例2-29
按照实施例1描述的方法，使用相应的醛或酮制备实施例2-29的化合物。这些化合物和1H-NMR数据列于表1-11。
表1         [式1，Ch1＝Het1-(CO)-Ar2-]
Figure A20038010470400871
表2  [式1，Ch1＝Ar1′-(CO)-Het2-]
Figure A20038010470400882
表3  [式1，Ch1＝Het1-(CO)-Het2-]
Figure A20038010470400892
表4  [式II，Ch1＝Ar1′-(CO)-Het2-]
Figure A20038010470400894
表5  [式II，Ch1＝Het1-(CO)-Ar2-]
Figure A20038010470400901
Figure A20038010470400902
表6  [式II，Ch1＝Het1-(CO)-Het2-]
Figure A20038010470400903
Figure A20038010470400904
表7  [式III，CH1＝Het1-(CO)-Ar2-]
表8  [式III，CH1＝Ar1′-(CO)-Het2-]
Figure A20038010470400911
Figure A20038010470400912
表9  [式III，CH1＝Het1-(CO)-Het2-]
Figure A20038010470400913
Figure A20038010470400914
表10  [式IV，CH2＝-Het2-(CO)-Het2′-]
Figure A20038010470400916
表11  [式IV，CH2＝-Het2-(CO)-Ar2-]
Figure A20038010470400921
Figure A20038010470400922
实施例30：
30.1：制备聚(甲基丙烯酸苄基酯-共-甲基丙烯酸)
在90ml丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯(PGMEA)中溶解24g甲基丙烯酸苄基酯、6g甲基丙烯酸和0.525g偶氮二异丁腈(AIBN)。将得到的反应混合物放置于80℃的预热油浴中。于80℃在氮气氛下搅拌5小时后，冷却得到的粘稠溶液至室温，并且无需进一步提纯而直接使用。固体含量为约25％。
30.2：感光度测试
通过混合下列组分制备用于感光度试验的光固化组合物：
200.0重量份甲基丙烯酸苄基酯和甲基丙烯酸的共聚物(甲基丙烯酸苄基酯∶甲基丙烯酸＝80∶20(重量))25％丙二醇1-单甲基醚2-乙酸酯(PGMEA)溶液，按照上面所述制备
50.0重量份二季戊四醇六丙烯酸酯((DPHA)，由UCB Chemicals提供)，
2.0重量份光引发剂，和
150.0重量份PGMEA.
所有操作都在黄色灯光下进行。使用带有线绕式棒的电涂布器将组合物涂敷到铝板上。在对流烘箱中100℃下加热2分钟除去溶剂。干膜厚度大约为2μm。不同的光密度(Stouffer梯级光楔)的21灰阶标准试验底片以和抗蚀剂大约100μm的空隙放置。使用250W超高压汞灯(USHIO，USH-250BY)在15cm距离处进行曝光。用光功率计(ORCUV Light Measure型号UV-M02，具有UV-35探头)测量测试底片上的总曝光剂量为1000mJ/cm2。曝光后在30℃下使用喷雾型显影仪(Walter Lemmen，型号T21)用1％碳酸钠水溶液对已曝光底片显影100秒钟。所用引发剂体系感光度的特征是在显影后显示保留的(即聚合的)最高灰阶数。灰阶数越高，测试体系感光度越高。结果列于表12。
表12
  实施例化合物   曝光(1000mJ/cm2)后再产生的灰阶数
  1   20
  6   15
  7   16
  10   17
  11   16
  17   18
实施例31：
通过混合下列组分制备用于感光度试验的光固化制剂：
200.0重量份丙烯酸酯化丙烯酰基共聚物(ACA200M，由DaicelIndustries，Ltd.提供，固含量50％(重量))
15.0重量份  二季戊四醇六丙烯酸酯((DPHA)，由UCB Chemicals提供)
100.0重量份  丙酮
向该混合物中加入要测试的0.5％(以固体含量为基准)异丙基噻吨酮(RTMQUANTACURE ITX，由International Biosynthetics提供)和2％(以固体含量为基准)引发剂，并且搅拌。全部操作均在黄色灯光下进行。将制剂涂覆于铝板上。在对流烘箱中80℃下加热15分钟除去溶剂。干膜厚度为25μm。在该涂层上施加醋酸纤维素薄膜，其上放置不同光密度(Stouffer梯级光楔)的21灰阶的标准试验底片。样品用另一UV透明膜覆盖，并利用真空压到金属板上。使用金属卤化物灯(ORC，型号SMX 3000)在距离60cm处对第一试验系列曝光40秒钟，第二试验系列曝光80秒钟，第三试验系列曝光160秒钟。曝光之后，除去覆盖膜和掩膜，用1％碳酸钠水溶液在30℃下利用喷雾型显影仪(WalterLemmen，型号T21)对已曝光薄膜进行显影。所用引发剂体系感光度的特征是显示显影后保留的(即聚合的)最高灰阶数。灰阶数越高，测试体系感光度越高。结果列于表13。
表13
  实施例的光引发剂   光敏剂   以下曝光时间后再生产的灰阶数
  40秒   80秒   160秒
  1   -   16   17   18
  1   QUANTACUREITX   16   17   18
  7   -   12   14   16
  7   QUANTACUREITX   12   14   15
  10   -   13   16   17
  10   QUANTACUREITX   13   15   16
  17   -   12   15   16
  17   QUANTACUREITX   13   15   16

Claims (16)

1.通式I、II、III和IV的化合物
Figure A2003801047040002C1
(I) (II)
其中
Figure A2003801047040002C3
(III) (IV)，其中
Figure A2003801047040002C5
或
Figure A2003801047040002C6
或
Het1为呋喃基，噻吩基，吡咯基，咪唑基，吡唑基，噻唑基，噁唑基，异噁唑基，吡啶基，吡嗪基，哒嗪基，三嗪基，2-或3-苯并呋喃基，2-或3-苯并噻吩基，苯并噻唑基，苯并噻二唑基，2-或3-吲哚基，吲唑基，喹啉基，异喹啉基，酞嗪基，喹喔啉基，喋啶基，或联噻吩基；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基和/或苯氧基羰基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被任选被一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或者它们各自被C2-C12烷氧基羰基取代，所述C2-C12烷氧基羰基任选被一个或多个-O-或-S-间隔开，并且任选被一个或多个羟基所取代；
或者它们各自被一个或多个OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6所取代，其中取代基OR3、SR4、或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与杂芳环上的其它取代基形成5-或6-元环；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，这些基团本身是未取代的或被OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
Het2和Het2’各自独立地为亚呋喃基，亚噻吩基，亚吡咯基，亚咪唑基，亚吡唑基，亚噻唑基，亚噁唑基，亚异噁唑基，亚吡啶基，亚吡嗪基，亚哒嗪基，亚三嗪基，亚苯并呋喃基，亚苯并噻吩基，亚苯并噻唑基，亚苯并噻二唑基，亚吲哚基，亚吲唑基，亚喹啉基，亚异喹啉基，亚酞嗪基，亚喹喔啉基，亚喋啶基，亚联噻吩基，亚呋喃基羰基，亚噻吩基羰基，亚吡咯基羰基，亚咪唑基羰基，亚吡唑基，亚噻唑基羰基，亚噁唑基羰基，亚吡啶基羰基，亚吡嗪基羰基，亚哒嗪基羰基，亚三嗪基羰基，亚苯并呋喃基羰基，亚苯并噻吩基羰基，亚苯并噻唑基羰基，亚苯并噻二唑基羰基，亚吲哚基羰基，亚吲唑基羰基，亚喹啉基羰基，亚异喹啉基羰基，亚酞嗪基羰基，亚喹喔啉基羰基，亚喋啶基羰基或亚联噻吩基羰基；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-7次；
或者它们各自被苯基或萘基取代，所述苯基或萘基任选被一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基，苯甲酰基，萘甲酰基，或基团：
(A)或
Figure A2003801047040003C2
(B)
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基和/或苯氧基羰基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被由一个或多个OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代的苯基取代；
或者它们各自被C2-C12烷氧基羰基取代，所述C2-C12烷氧基羰基任选被一个或多个-O-或-S-间隔开，和/或任选被一个或多个羟基取代；
或者它们各自被一个或多个OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，所述C1-C8烷酰基或苯甲酰基任选被OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代，其中取代基OR3、SR4、或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与苯环上的其它取代基形成5-或6-元环；
条件是：
(i)如果式I中的Ch1为Ar1’-C(＝O)-Het2-，Ar1’为苯基，Het2为5-苯基-4，3-亚异噁唑基和R2为苯基，则R1不能为苯基；
Ar2为亚苯基，亚萘基，亚苯基羰基，亚萘基羰基，或基团：
Figure A2003801047040004C1
(C)，
Figure A2003801047040004C2
(D)，
Figure A2003801047040004C3
(E)或
Figure A2003801047040004C4
(F)；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-6次；
M为C1-C20亚烷基或为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C20亚烷基，所述C1-C20亚烷基和C2-C20亚烷基任选被一个或多个卤素、OR3、苯基或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或M为亚苯基或亚萘基，它们各自是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
X为直接键，-O-，-S-，-NR5-或-CO-；
Y为-O-，-S-，-NR5-，-CO-或-CH2-；
R1为氢，C3-C8环烷基；或为C1-C12烷基，该烷基是未取代的或被一个或多个卤素、苯基和/或CN所取代；
或者R1为C2-C5链烯基；或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、CN、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基；
或者R1为C1-C8烷氧基，苄氧基；或为任选被一个或多个C1-C6烷基和/或卤素取代的苯氧基；
R2和R2’各自独立地为氢；未取代的C1-C20烷基或被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C1-C20烷基；
或者R2和R2’为C3-C8环烷基；
或为被一个或多个-O-或-S-间隔开，和/或任选被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C2-C20烷基；
或者R2和R2’为苯基，该苯基是未取代的，或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为C2-C20烷酰基或苯甲酰基，它们为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为任选被一个或多个-O-或-S-间隔开和/或任选被一个或多个羟基取代的C2-C12烷氧基羰基；
或者R2和R2’为未取代的或被C1-C6烷基、卤素、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯氧基羰基；
或者R2和R2’为CN，-CONR5R6，NO2，C1-C4卤代烷基，S(O)m-C1-C6烷基或任选被C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代的S(O)m-苯基；
或者R2和R2’为SO2O-苯基，其任选被C1-C12烷基取代；
或者R2和R2’为呋喃基，噻吩基，吡咯基或吡啶基；
m为1或2；
R3为氢，C1-C20烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R3为C1-C8烷基，该烷基被-OH，-SH，-CN，C3-C5链烯氧基，-OCH2CH2CN，-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)，-O(CO)-(C1-C4烷基)，-O(CO)-苯基，-(CO)OH和/或-(CO)O(C1-C4烷基)所取代；
或者R3为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R3为-(CH2CH2O)n+1H，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C1-C8烷酰基，C2-C12链烯基，C3-C6烯酰基，C3-C8环烷基；
或者R3为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OH和/或C1-C4烷氧基取代的苯甲酰基；
或者R3为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素，OH，C1-C12烷基，C1-C12烷氧基，苯氧基，C1-C12烷硫基，苯硫基，-N(C1-C12烷基)2和/或二苯基氨基所取代；
n为1-20；
R4为氢，C1-C20烷基，C2-C20链烯基，C3-C8环烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R4为被以下基团取代的C1-C8烷基：-OH，-SH，-CN，C3-C6链烯氧基，-OCH2CH2CN，-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)，-O(CO)-(C1-C4烷基)，-O(CO)-苯基，-(CO)OH或-(CO)O(C1-C4烷基)；
或者R4为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R4为-(CH2CH2O)n+1H，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C1-C8烷酰基，C2-C12链烯基或C3-C6烯酰基；
或者R4为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OH，C1-C4烷氧基或C1-C4烷硫基取代的苯甲酰基；
或者R4为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷硫基、苯硫基、-N(C1-C12烷基)2、二苯基氨基、-(CO)O(C1-C8烷基)、-(CO)-C1-C8烷基或(CO)N(C1-C8烷基)2所取代；和
R5和R6各自独立地为氢，C1-C20烷基，C2-C4羟基烷基，C2-C10烷氧基烷基，C2-C5链烯基，C3-C8环烷基，苯基-C1-C3烷基，C1-C8烷酰基，C3-C12-烯酰基或苯甲酰基；
或者R5和R6为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基所取代；
或者R5和R6一起表示C2-C8亚烷基，该亚烷基任选被-O-、-S-或-NR3-间隔开和/或任选被羟基、C1-C4烷氧基、C2-C4烷酰氧基或苯甲酰氧基取代。
2.根据权利要求1的式I、II、III和IV的化合物，其中
Het1为呋喃基，噻吩基，吡咯基，吡啶基，吡嗪基，哒嗪基，2-或3-苯并呋喃基，2-或3-苯并噻吩基，苯并噻唑基，2-或3-吲哚基，喹啉基，异喹啉基或喹喔啉基；它们各自是未取代的或被卤素或C1-C12烷基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被任选由一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或者它们各自被OR3、SR4、SOR4和/或NR5R6所取代，其中取代基OR3、SR4或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与杂芳环上的其它取代基形成5-或6-元环；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，而这两个基团本身是未取代的或被OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
Het2和Het2’各自独立地为亚呋喃基，亚噻吩基，亚吡咯基，亚苯并呋喃基，亚苯并噻吩基，亚吲哚基，亚吲唑基，亚喹啉基，亚异喹啉基，亚喹喔啉基，亚呋喃基羰基，亚噻吩基羰基，亚吡咯基羰基，亚咪唑基羰基，亚苯并呋喃基羰基，亚苯并噻吩基羰基，亚吲哚基羰基，亚喹啉基羰基，亚异喹啉基羰基，亚喹喔啉基羰基；它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-7次；
或者它们各自被苯基或萘基取代，所述苯基或萘基任选被一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基，或基团(B)；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C6烷基、OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代取代1-7次，
或者它们各自被苯甲酰基、苯基或被任选由一个或多个OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代的苯基取代；
Ar2为亚苯基，亚萘基，亚苯基羰基，亚萘基羰基，或基团(C)、(D)、(E)或(F)，
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-6次；
M为C1-C20亚烷基或为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C20亚烷基，所述C1-C20亚烷基和C2-C20亚烷基任选被一个或多个卤素、OR3、苯基或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或M为亚苯基或亚萘基，它们各自是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
X为直接键或-CO-；
Y为-O-，-S-或-NR5-；
R1为未取代的或被一个或多个卤素或苯基取代的C1-C6烷基；
或者R1为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基；
或者R1为C1-C6烷氧基或苄氧基；
R2和R2’各自独立地为氢；未取代的C1-C20烷基或为被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C1-C20烷基；
或者R2和R2’为C3-C8环烷基；或为被一个或多个-O-间隔开的且/或任选被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C2-C20烷基；
或者R2和R2’为苯基，该苯基是未取代的，或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为C2-C20烷酰基或苯甲酰基，它们为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为呋喃基，噻吩基，吡咯基或吡啶基；
R3为氢，C1-C20烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R3为C1-C8烷基，该烷基被C3-C5链烯氧基，-O(CO)-(C1-C4烷基)或-O(CO)-苯基所取代；
或者R3为被一个或多个-O-间隔开的C2-C12烷基；
或者R3为C1-C8烷酰基或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素和/或C1-C4烷氧基取代的苯甲酰基；
或者R3为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C1-C4烷氧基、C1-C12烷硫基、苯硫基、-N(C1-C12烷基)2和/或二苯基氨基所取代；
R4为氢，C1-C20烷基，或为被-O(CO)-(C1-C4烷基)或-O(CO)-苯基取代的C1-C8烷基；
或者R4为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R4为C1-C8烷酰基；或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、C1-C4烷氧基或C1-C4烷硫基取代的苯甲酰基；
或者R4为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷硫基、苯硫基、-N(C1-C12烷基)2、二苯基氨基所取代；和
R5和R6各自独立地为氢，C1-C20烷基，C2-C4羟基烷基，C2-C10烷氧基烷基，苯基-C1-C3烷基，C1-C8烷酰基，C3-C12-烯酰基或苯甲酰基；
或者R5和R6为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基所取代；
或者R5和R6一起表示C2-C8亚烷基，该亚烷基任选被-O-或-NR3-间隔开且/或任选被C1-C4烷氧基、C2-C4烷酰氧基或苯甲酰氧基取代。
3.根据权利要求1的式I、II、III和IV的化合物，其中
或
Figure A2003801047040009C2
Het1为呋喃基，噻吩基，吡咯基，吡啶基，2-或3-苯并噻吩基或2-或3-吲哚基；它们各自是未取代的或被C1-C12烷基所取代；
Het2和Het2’各自独立地为亚噻吩基，亚吡咯基，亚苯并噻吩基，亚吲哚基，亚吲哚基羰基；
它们各自是未取代的或被C1-C12烷基所取代；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基，或基团(B)；
它们各自是未取代的或被C1-C12烷基、OR3、SR4或吗啉代所取代；
Ar2为基团(C)，(D)或(E)；它们各自是未取代的或被C1-C12烷基所取代；
M为C1-C20亚烷基；
X为直接键；
Y为-O-，-S-或-NR5-；
R1为C1-C12烷基，苯基或C1-C8烷氧基；
R2和R2’各自独立地为氢；C1-C20烷基或苯基；
R3为C1-C20烷基；和
R4，R5和R6各自独立为C1-C20烷基或苯基。
4.根据权利要求1的式I化合物，其中
Figure A2003801047040009C3
或
Figure A2003801047040009C4
Het1为2-噻吩基，2-呋喃基，N-(C1-C4烷基)-2-吡咯基，N-(苯基)-2-吡咯基，4-吡啶基，N-(C1-C4烷基)-3-吲哚基或N-(苯基)-3-吲哚基；
Het2为2，5-亚噻吩基，2，5-亚呋喃基，N-(C1-C4烷基)-2，5-亚吡咯基，N-(苯基)-2，5-亚吡咯基，N-(C1-C4烷基)-亚吲哚基，N-(C1-C4烷基)-亚吲哚基羰基，5-亚噻吩基-2-羰基，5-亚呋喃基-2-羰基或N-(C1-C4烷基)-5-亚吡咯基-2-羰基或N-(苯基)-5-亚吡咯基-2-羰基；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基或基团(B)；它们各自是未取代的或被C1-C6烷基、苯甲酰基、OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代取代1-7次；
Ar2为亚苯基，亚苯基羰基，或基团(C)、(D)、(E)或(F)，它们各自是未取代的或被C1-C6烷基、OR3、SR4或NR5R6取代1-7次；
X为直接键或-CO-；
Y为-S-或-NR5-；
R1为C1-C3烷基，苯基或C1-C4烷氧基；
R2为氢，C1-C8烷基或苯基；
R3为C1-C12烷基；
R4为C1-C12烷基或苯基；和
R5和R6各自独立地为C1-C12烷基或苯基。
5.一种光聚合组合物，它包括：
(a)至少一种烯属不饱和的光聚合化合物，和
(b)作为光引发剂的至少一种式I，II，III和IV的化合物：
(I)
Figure A2003801047040010C2
(II)
其中
Figure A2003801047040010C3
(III)
Figure A2003801047040010C4
(IV)，其中
或
或
Het1为呋喃基，噻吩基，吡咯基，咪唑基，吡唑基，噻唑基，噁唑基，异噁唑基，吡啶基，吡嗪基，哒嗪基，三嗪基，2-或3-苯并呋喃基，2-或3-苯并噻吩基，苯并噻唑基，苯并噻二唑基，2-或3-吲哚基，吲唑基，喹啉基，异喹啉基，酞嗪基，喹喔啉基，喋啶基，或联噻吩基；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基和/或苯氧基羰基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被任选由一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或者它们各自被C2-C12烷氧基羰基取代，其任选被一个或多个-O-或-S-间隔开，并且所述C2-C12烷氧基羰基任选被一个或多个羟基所取代；
或者它们各自被一个或多个OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6所取代，其中取代基OR3、SR4、或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与杂芳环上的其它取代基形成5-或6-元环；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，这些基团本身是未取代的或被OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
Het2和Het2’各自独立地为亚呋喃基，亚噻吩基，亚吡咯基，亚咪唑基，亚吡唑基，亚噻唑基，亚噁唑基，亚异噁唑基，亚吡啶基，亚吡嗪基，亚哒嗪基，亚三嗪基，亚苯并呋喃基，亚苯并噻吩基，亚苯并噻唑基，亚苯并噻二唑基，亚吲哚基，亚吲唑基，亚喹啉基，亚异喹啉基，亚酞嗪基，亚喹喔啉基，亚喋啶基，亚联噻吩基，亚呋喃基羰基，亚噻吩基羰基，亚吡咯基羰基，亚咪唑基羰基，亚吡唑基，亚噻唑基羰基，亚噁唑基羰基，亚吡啶基羰基，亚吡嗪基羰基，亚哒嗪基羰基，亚三嗪基羰基，亚苯并呋喃基羰基，亚苯并噻吩基羰基，亚苯并噻唑基羰基，亚苯并噻二唑基羰基，亚吲哚基羰基，亚吲唑基羰基，亚喹啉基羰基，亚异喹啉基羰基，亚酞嗪基羰基，亚喹喔啉基羰基，亚喋啶基羰基或亚联噻吩基羰基；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-7次；
或者它们各自被苯基或萘基取代，所述苯基或萘基任选被一个或多个OR3、SR4和/或NR5R6取代；
Ar1和Ar1’各自独立地为苯基，萘基，苯甲酰基，萘甲酰基，或基团：
(A)或 (B)；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基和/或苯氧基羰基取代1-7次；
或者它们各自被苯基或被由一个或多个OR3、SR4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代取代的苯基所取代；
或者它们各自被C2-C12烷氧基羰基取代，所述C2-C12烷氧基羰基任选被一个或多个-O-或-S-间隔开，和/或任选被一个或多个羟基取代；
或者它们各自被一个或多个OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代；
或者它们各自被C1-C8烷酰基或苯甲酰基所取代，所述C1-C8烷酰基或苯甲酰基任选被OR3、SR4、SOR4、SO2R4、NR5R6、吗啉代和/或二甲基吗啉代所取代，其中取代基OR3、SR4、或NR5R6任选通过基团R3、R4、R5和/或R6与苯环上的其它取代基形成5-或6-元环；
条件是：
(i)如果在式I中，Ch1为Ar1’-C(＝O)-Het2-，Ar1’为苯基，Het2为5-苯基-4，3-亚异噁唑基和R2为苯基，则R1不能为苯基；和
(ii)如果在式I中，Ch1为Het1-C(＝O)-，Het1为2-噻吩基和R2为苯基，则R1不能为苯基；
Ar2为亚苯基，亚萘基，亚苯基羰基，亚萘基羰基，或基团：
Figure A2003801047040012C3
(C)， (D)， (E)或
(F)；
它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C3-C8环烷基、苄基、OR3、SR4、SOR4、SO2R4和/或NR5R6取代1-6次；
M为C1-C20亚烷基或为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C20亚烷基，所述C1-C20亚烷基和C2-C20亚烷基任选被一个或多个卤素、OR3、苯基或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代；
或M为亚苯基或亚萘基，它们各自是未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
X为直接键，-O-，-S-，-NR5-或-CO-；
Y为-O-，-S-，-NR5-，-CO-或-CH2-；
R1为氢，C3-C8环烷基；或为C1-C12烷基，该烷基是未取代的或被一个或多个卤素、苯基和/或CN所取代；
或者R1为C2-C5链烯基；或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、CN、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基；
或者R1为C1-C8烷氧基，苄氧基；或为任选被一个或多个C1-C6烷基和/或卤素取代的苯氧基；
R2和R2’各自独立地为氢；未取代的C1-C20烷基或被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C1-C20烷基；
或者R2和R2’为C3-C8环烷基；或为被一个或多个-O-或-S-间隔开的和/或任选被一个或多个卤素、OR3、苯基和/或由OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯基所取代的C2-C20烷基；
或者R2和R2’为苯基，该苯基是未取代的，或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、卤素、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为C2-C20烷酰基或苯甲酰基，或为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6所取代；
或者R2和R2’为任选被一个或多个-O-或-S-间隔开的和/或任选被一个或多个羟基取代的C2-C12烷氧基羰基；
或者R2和R2’为未取代的或被C1-C6烷基、卤素、苯基、OR3、SR4和/或NR5R6取代的苯氧基羰基；
或者R2和R2’为CN，-CONR5R6，NO2，C1-C4卤代烷基，S(O)m-C1-C6烷基或任选被C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代的S(O)m-苯基；
或者R2和R2’为SO2O-苯基，其任选被C1-C12烷基取代；
或者R2和R2’为呋喃基，噻吩基，吡咯基或吡啶基；
m为1或2；
R3为氢，C1-C20烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R3为C1-C8烷基，该烷基被-OH，-SH，-CN，C3-C5链烯氧基，-OCH2CH2CN，-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)，-O(CO)-(C1-C4烷基)，-O(CO)-苯基，-(CO)OH和/或-(CO)O(C1-C4烷基)所取代；
或者R3为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R3为-(CH2CH2O)n+1H，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C1-C8烷酰基，C2-C12链烯基，C3-C6烯酰基，C3-C8环烷基；
或者R3为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OH和/或C1-C4烷氧基取代的苯甲酰基；
或者R3为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素，OH，C1-C12烷基，C1-C12烷氧基，苯氧基，C1-C12烷硫基，苯硫基，-N(C1-C12烷基)2和/或二苯基氨基所取代；
n为1-20；
R4为氢，C1-C20烷基，C2-C20链烯基，C3-C8环烷基或苯基-C1-C3烷基；
或者R4为被以下基团取代的C1-C8烷基：-OH，-SH，-CN，C3-C6链烯氧基，-OCH2CH2CN，-OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)，-O(CO)-(C1-C4烷基)，-O(CO)-苯基，-(CO)OH或-(CO)O(C1-C4烷基)；
或者R4为被一个或多个-O-或-S-间隔开的C2-C12烷基；
或者R4为-(CH2CH2O)n+1H，-(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)，C1-C8烷酰基，C2-C12链烯基或C3-C6烯酰基；
或者R4为未取代的或被一个或多个C1-C6烷基、卤素、OH，C1-C4烷氧基或C1-C4烷硫基取代的苯甲酰基；
或者R4为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被卤素、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷硫基、苯硫基、-N(C1-C12烷基)2、二苯基氨基、-(CO)O(C1-C8烷基)、-(CO)-C1-C8烷基或(CO)N(C1-C8烷基)2所取代；和
R5和R6各自独立地为氢，C1-C20烷基，C2-C4羟基烷基，C2-C10烷氧基烷基，C2-C5链烯基，C3-C8环烷基，苯基-C1-C3烷基，C1-C8烷酰基，C3-C12-烯酰基或苯甲酰基；
或者R5和R6为苯基或萘基，它们各自是未取代的或被C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基所取代；
或者R5和R6一起表示C2-C8亚烷基，该亚烷基任选被-O-、-S-或-NR3-间隔开和/或任选被羟基、C1-C4烷氧基、C2-C4烷酰氧基或苯甲酰氧基取代。
6.根据权利要求5的光聚合组合物，其包括分子中含至少两个烯属不饱和键和至少一个羧基的化合物作为组分(a)。
7.根据权利要求5的光聚合亚芳基，其中除光引发剂(b)之外还包括至少一种其它的光引发剂(c)和/或其它添加剂(d)。
8.根据权利要求5或7的光聚合组合物，其包括按组合物总量计0.05-25％重量的光引发剂(b)，或光引发剂(b)和(c)。
9.根据权利要求6或8任一项的光聚合组合物，所述的其它添加剂(d)包括光敏剂，特别是选自二苯甲酮及其衍生物、噻吨酮及其衍生物、蒽醌及其衍生物、或香豆素及其衍生物的化合物。
10.根据权利要求5-9任一项的光聚合组合物，其另外包括粘合剂聚合物(e)，特别是是甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酸的共聚物。
11.一种光聚合含烯属不饱和双键化合物的方法，该方法包括用150-600nm的电磁辐射，或用电子束或用X射线辐照权利要求5-10任一项的组合物。
12.权利要求5-10任一项的组合物在下列方面的用途：用于制造着色的和不着色的涂料和清漆、粉末涂料、打印油墨、印刷版、粘合剂、牙科组合物、凝胶涂料、用于电子技术如电镀保护层、蚀刻保护层，液体和干燥膜、阻焊剂的光致抗蚀剂，作为抗蚀剂用于生产供多种显示应用的滤色片和隔板或用于产生等离子体显示板、场致发光显示器和LCD的制造过程中的结构，作为组分用于封装电气和电子器件，用于制造磁性记录材料、微观部件、波导管、光学转换器、电镀掩膜、蚀刻掩模、色彩校样体系、玻璃纤维电缆涂层、丝网印刷模版，用于通过立体平版印刷制造三维物体，以及作为影象记录材料，特别是用于全息照相记录、微电子电路、脱色材料、用于影象记录材料的脱色材料，使用微胶囊用于影像记录材料，作为光致抗蚀剂材料用于紫外线和可见光激光器直接成像体系，作为光致抗蚀剂材料用于形成印刷电路板的连续堆积层中的介质层。
13.根据权利要求11的方法，其用于制造着色的和不着色的涂料和清漆、粉末涂料、打印油墨、印刷版、粘合剂、牙科组合物、凝胶漆、用于电子技术如电镀保护层、蚀刻保护层，液体和干膜、阻焊剂的光致抗蚀剂，作为抗蚀剂用于生产供多种显示应用的滤色片和隔板或用于产生等离子体显示板、场致发光显示器和LCD的制造过程中的结构，作为组分用于封装电气和电子器件，复合组合物，抗蚀剂，包括光致抗蚀剂、滤色片材料，用于封装电气和电子器件的成分，用于制造磁性的记录材料、微观部件、波导管、光学转换器、电镀掩膜、蚀刻掩模、色彩校样体系、玻璃纤维电缆涂层、丝网印刷模版，用于通过微刻、立体平版印刷制造三维物体，用于制造影像记录材料，特别是用于全息照相记录、微电子电路、脱色材料、使用微胶囊用于影像记录材料的脱色材料，用于形成印刷电路板的连续堆积层中的介质层，尤其是使用紫外线和可见光激光器作为光源的直接成像技术的方法。
14.涂层基材，其中在至少一个表面上涂布有权利要求5的组合物。
15.照相制造浮雕影象的方法，其中将权利要求14的涂布基材成像曝光，然后用显影剂去除未曝光部分。
16.一种通过在透明基材上提供全都包含光敏树脂和颜料的红、绿和蓝色图像元素和黑色基质以及在基材表面上或滤色片层表面提供透明电极所制备的滤色片，其中所述感光树脂包括多官能丙烯酸酯单体、有机聚合物粘合剂和权利要求1通式I、II、III和IV的光聚合引发剂。
CN2003801047043A 2002-12-03 2003-11-24 带有杂芳基的肟酯光引发剂 Expired - Lifetime CN1720245B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP02406054.3 2002-12-03
EP02406054 2002-12-03
PCT/EP2003/050880 WO2004050653A2 (en) 2002-12-03 2003-11-24 Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1720245A true CN1720245A (zh) 2006-01-11
CN1720245B CN1720245B (zh) 2010-05-26

Family

ID=32405823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2003801047043A Expired - Lifetime CN1720245B (zh) 2002-12-03 2003-11-24 带有杂芳基的肟酯光引发剂

Country Status (12)

Country Link
US (1) US7648738B2 (zh)
EP (1) EP1567518B1 (zh)
JP (1) JP4769461B2 (zh)
KR (1) KR101032582B1 (zh)
CN (1) CN1720245B (zh)
AT (1) ATE420877T1 (zh)
AU (1) AU2003294034A1 (zh)
CA (1) CA2505893A1 (zh)
DE (1) DE60325890D1 (zh)
MX (1) MXPA05005817A (zh)
TW (1) TWI326682B (zh)
WO (1) WO2004050653A2 (zh)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101805281A (zh) * 2009-02-16 2010-08-18 株式会社日本化学工业所 肟酯化合物和使用它们的感光性树脂组合物
CN102020727A (zh) * 2010-11-23 2011-04-20 常州强力先端电子材料有限公司 一种高感光度咔唑肟酯类光引发剂、其制备方法及应用
CN102236256A (zh) * 2010-04-27 2011-11-09 富士胶片株式会社 着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器及其制造方法、及显示装置
CN102472968A (zh) * 2009-07-15 2012-05-23 太阳控股株式会社 光固化性树脂组合物
CN101051186B (zh) * 2006-04-06 2012-06-27 株式会社东进世美肯 负型感光性树脂组合物
CN101918397B (zh) * 2008-04-10 2013-11-06 株式会社Lg化学 光活性化合物以及含有该光活性化合物的感光性树脂组合物
CN103492948A (zh) * 2011-08-04 2014-01-01 株式会社Lg化学 光敏化合物及包括其的光敏树脂组合物
CN104284888A (zh) * 2012-05-09 2015-01-14 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
CN105159030A (zh) * 2008-11-05 2015-12-16 东京应化工业株式会社 感光性树脂组合物和底材
CN105358527A (zh) * 2013-07-08 2016-02-24 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
CN105531260A (zh) * 2013-09-10 2016-04-27 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
CN105899502A (zh) * 2013-11-28 2016-08-24 塔科玛技术股份有限公司 光引发剂和包含其的光敏组合物
CN106132929A (zh) * 2014-04-04 2016-11-16 株式会社艾迪科 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂
CN108690389A (zh) * 2018-04-23 2018-10-23 河北晨阳工贸集团有限公司 一种led光固化水性木器漆及其制备方法
CN109689840A (zh) * 2016-09-07 2019-04-26 默克专利股份有限公司 液晶介质和光调制元件
CN102681339B (zh) * 2011-03-08 2019-05-07 株式会社大赛璐 光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物
CN110573968A (zh) * 2017-05-09 2019-12-13 科思创德国股份有限公司 用于保护光致聚合物-膜复合结构中的全息图的由两个可干燥转移的uv-固化涂料层构成的体系
WO2020252628A1 (zh) * 2019-06-17 2020-12-24 湖北固润科技股份有限公司 包含五元芳杂环结构的肟酯类光引发剂及其制备和用途

Families Citing this family (74)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4830310B2 (ja) * 2004-02-23 2011-12-07 三菱化学株式会社 オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP2005300994A (ja) 2004-04-13 2005-10-27 Jsr Corp 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示パネル
CA2572770A1 (en) * 2004-07-08 2006-01-19 Novo-Nordisk A/S Polypeptide protracting tags comprising a tetrazole moiety
JP4492238B2 (ja) 2004-07-26 2010-06-30 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示パネル
JP4864375B2 (ja) * 2004-08-09 2012-02-01 ドンジン セミケム カンパニー リミテッド スペーサ用感光性樹脂組成物、スペーサ及び液晶表示素子
WO2006018405A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators
CN1805955B (zh) * 2004-08-20 2011-08-31 株式会社艾迪科 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂
TWI385485B (zh) * 2004-11-17 2013-02-11 Jsr股份有限公司 A photosensitive resin composition, a display panel spacer, and a display panel
JP4633582B2 (ja) * 2005-09-06 2011-02-16 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP4761923B2 (ja) * 2005-10-20 2011-08-31 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂組成物及び積層体
KR100763744B1 (ko) 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물
ATE496027T1 (de) 2005-12-01 2011-02-15 Basf Se Oximester-fotoinitiatoren
US8586268B2 (en) 2005-12-20 2013-11-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US7909928B2 (en) * 2006-03-24 2011-03-22 The Regents Of The University Of Michigan Reactive coatings for regioselective surface modification
TWI403840B (zh) 2006-04-26 2013-08-01 Fujifilm Corp 含染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
JP5256647B2 (ja) * 2006-05-31 2013-08-07 三菱化学株式会社 保護膜用熱硬化性組成物、硬化物、及び液晶表示装置
JP4586783B2 (ja) * 2006-09-22 2010-11-24 東洋インキ製造株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP4913556B2 (ja) * 2006-11-09 2012-04-11 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
CN101528693B (zh) * 2006-12-20 2014-07-02 三菱化学株式会社 肟酯系化合物、光聚合引发剂、光聚合性组合物、滤色器和液晶显示装置
CN101528682B (zh) * 2006-12-27 2012-08-08 株式会社艾迪科 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂
KR101026612B1 (ko) * 2007-01-19 2011-04-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르기와 트리아진기를 동시에 포함하는 광활성화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물
US8399047B2 (en) * 2007-03-22 2013-03-19 The Regents Of The Univeristy Of Michigan Multifunctional CVD coatings
JP4855312B2 (ja) * 2007-03-27 2012-01-18 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP5093229B2 (ja) * 2007-04-04 2012-12-12 日立化成工業株式会社 感光性接着剤組成物、フィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法
WO2008139924A1 (ja) 2007-05-09 2008-11-20 Adeka Corporation 新規エポキシ化合物、アルカリ現像性樹脂組成物およびアルカリ現像性感光性樹脂組成物
EP2144900B1 (en) 2007-05-11 2015-03-18 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2144894B1 (en) 2007-05-11 2011-01-26 Basf Se Oxime ester photoinitiators
CN101687794B (zh) 2007-05-11 2013-09-11 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
US8338081B2 (en) 2007-08-01 2012-12-25 Adeka Corporation Alkali-developable photosensitive resin composition and β-diketone compound
JP2009040762A (ja) * 2007-08-09 2009-02-26 Ciba Holding Inc オキシムエステル光開始剤
JP5056301B2 (ja) * 2007-09-20 2012-10-24 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサーとその製造法
KR100830561B1 (ko) * 2007-10-09 2008-05-22 재단법인서울대학교산학협력재단 다기능성 액정화합물 및 이들의 제조방법 그리고 이로부터얻어진 미세패턴
CN101952390B (zh) 2008-02-22 2013-10-16 株式会社艾迪科 含有聚合性化合物的液晶组合物和使用该液晶组合物的液晶显示元件
EP2261201B1 (en) 2008-04-01 2018-05-30 DIC Corporation Trifunctional (meth)acrylate compound and polymerizable composition containing the compound
KR101102248B1 (ko) 2008-04-10 2012-01-03 주식회사 엘지화학 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR101626172B1 (ko) 2008-06-06 2016-05-31 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP5274151B2 (ja) * 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5284735B2 (ja) 2008-09-18 2013-09-11 株式会社Ａｄｅｋａ 重合性光学活性イミド化合物及び該化合物を含有する重合性組成物
JP5623416B2 (ja) * 2008-11-03 2014-11-12 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ 光開始剤混合物
JP5344892B2 (ja) 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
US8314408B2 (en) 2008-12-31 2012-11-20 Draka Comteq, B.V. UVLED apparatus for curing glass-fiber coatings
JP5435596B2 (ja) * 2009-02-13 2014-03-05 エルジー ケム． エルティーディ． 光活性化合物及びそれを含む感光性樹脂組成物
CN101565472B (zh) * 2009-05-19 2011-05-04 常州强力电子新材料有限公司 酮肟酯类光引发剂
EP2502973A4 (en) 2009-11-18 2014-07-23 Adeka Corp LIQUID CRYSTAL COMPOSITION COMPRISING A POLYMERIZABLE COMPOUND AND A LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT COMPRISING THIS LIQUID CRYSTAL COMPOSITION
CN102639501B (zh) 2009-12-07 2015-04-29 爱克发印艺公司 用于uv-led可固化组合物和墨水的光引发剂
US8569393B2 (en) 2009-12-07 2013-10-29 Agfa-Gevaert N.V. UV-LED curable compositions and inks
EP2388239B1 (en) 2010-05-20 2017-02-15 Draka Comteq B.V. Curing apparatus employing angled UV-LEDs
US8871311B2 (en) 2010-06-03 2014-10-28 Draka Comteq, B.V. Curing method employing UV sources that emit differing ranges of UV radiation
EP2418183B1 (en) 2010-08-10 2018-07-25 Draka Comteq B.V. Method for curing coated glass fibres providing increased UVLED intensitiy
JP5677036B2 (ja) * 2010-11-08 2015-02-25 キヤノン株式会社 有機発光素子
US8816211B2 (en) * 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
JP5944898B2 (ja) * 2011-07-08 2016-07-05 新日鉄住金化学株式会社 光重合開始剤、感光性組成物及び硬化物
JP5646426B2 (ja) * 2011-09-30 2014-12-24 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置
JP2013047818A (ja) * 2012-10-01 2013-03-07 Taiyo Holdings Co Ltd 光硬化性樹脂組成物
JP5554389B2 (ja) * 2012-11-19 2014-07-23 富士フイルム株式会社 シアン色カラーフィルタ作製用光硬化性組成物及びその製造方法
KR101435652B1 (ko) * 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
CN104910053B (zh) * 2014-06-09 2017-09-12 北京英力科技发展有限公司 不对称二肟酯化合物及其制造方法与应用
CN104098720B (zh) * 2014-07-15 2017-01-11 常州强力先端电子材料有限公司 含杂环硫醚基团的肟酯类光引发剂及其制备方法和应用
JP6169545B2 (ja) 2014-09-09 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6086888B2 (ja) 2014-09-26 2017-03-01 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6169548B2 (ja) 2014-09-26 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
CN107635960B (zh) * 2015-09-25 2022-02-01 株式会社艾迪科 肟酯化合物及含有该化合物的聚合引发剂
EP3246378B1 (en) 2016-05-17 2019-03-20 Merck Patent GmbH Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
KR102121424B1 (ko) 2016-12-02 2020-06-10 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
WO2018168714A1 (ja) * 2017-03-16 2018-09-20 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
CN108069991A (zh) * 2018-01-08 2018-05-25 深圳市佶达德科技有限公司 一种双核双吡唑乙酸香豆素衍生物配合物激光材料及其应用
JP7449765B2 (ja) 2020-04-10 2024-03-14 株式会社Ｄｎｐファインケミカル 感光性着色樹脂組成物、硬化物、カラーフィルタ、表示装置
US20240025909A1 (en) 2020-12-17 2024-01-25 Adeka Corporation Compound and composition
WO2023002928A1 (ja) 2021-07-20 2023-01-26 株式会社Adeka 半導体用膜形成材料、半導体用部材形成材料、半導体用工程部材形成材料、下層膜形成材料、下層膜及び半導体デバイス
KR20250004252A (ko) * 2022-06-27 2025-01-07 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 경화물의 제조 방법, 막, 광학 소자, 이미지 센서, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 및, 라디칼 중합 개시제
KR20250091208A (ko) 2022-10-26 2025-06-20 가부시키가이샤 아데카 화합물, 조성물, 경화물, 경화물의 제조 방법 및 전자부품의 제조 방법
KR20250127109A (ko) * 2023-02-15 2025-08-26 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 경화물의 제조 방법, 막, 광학 소자, 이미지 센서, 고체 촬상 소자, 및, 화상 표시 장치
JPWO2024181097A1 (zh) * 2023-02-27 2024-09-06
WO2025110009A1 (ja) * 2023-11-22 2025-05-30 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、画素の製造方法、膜、固体撮像素子、画像表示装置および光重合開始剤

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1180846A (en) 1967-08-08 1970-02-11 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds
FR2393345A1 (fr) 1977-06-01 1978-12-29 Agfa Gevaert Nv Fabrication d'elements modifies sous forme d'images
GB2029423A (en) 1978-08-25 1980-03-19 Agfa Gevaert Nv Photo-polymerisable materials and recording method
US4590145A (en) 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
US5019482A (en) 1987-08-12 1991-05-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition
US6001517A (en) * 1996-10-31 1999-12-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Positive photosensitive polymer composition, method of forming a pattern and electronic parts
SG77689A1 (en) * 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
MY121423A (en) * 1998-06-26 2006-01-28 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerizable thermosetting resin compositions
NL1016815C2 (nl) * 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101051186B (zh) * 2006-04-06 2012-06-27 株式会社东进世美肯 负型感光性树脂组合物
CN101918397B (zh) * 2008-04-10 2013-11-06 株式会社Lg化学 光活性化合物以及含有该光活性化合物的感光性树脂组合物
CN105159030A (zh) * 2008-11-05 2015-12-16 东京应化工业株式会社 感光性树脂组合物和底材
CN101805281B (zh) * 2009-02-16 2014-03-05 株式会社日本化学工业所 肟酯化合物和使用它们的感光性树脂组合物
CN101805281A (zh) * 2009-02-16 2010-08-18 株式会社日本化学工业所 肟酯化合物和使用它们的感光性树脂组合物
CN102472968A (zh) * 2009-07-15 2012-05-23 太阳控股株式会社 光固化性树脂组合物
CN102236256A (zh) * 2010-04-27 2011-11-09 富士胶片株式会社 着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器及其制造方法、及显示装置
CN102236256B (zh) * 2010-04-27 2014-10-08 富士胶片株式会社 着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器及其制造方法、及显示装置
CN102020727A (zh) * 2010-11-23 2011-04-20 常州强力先端电子材料有限公司 一种高感光度咔唑肟酯类光引发剂、其制备方法及应用
CN102020727B (zh) * 2010-11-23 2013-01-23 常州强力先端电子材料有限公司 一种高感光度咔唑肟酯类光引发剂、其制备方法及应用
CN102681339B (zh) * 2011-03-08 2019-05-07 株式会社大赛璐 光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物
CN103492948B (zh) * 2011-08-04 2016-06-08 株式会社Lg化学 光敏化合物及包括其的光敏树脂组合物
CN103492948A (zh) * 2011-08-04 2014-01-01 株式会社Lg化学 光敏化合物及包括其的光敏树脂组合物
TWI633088B (zh) * 2012-05-09 2018-08-21 巴地斯顏料化工廠 肟酯光起始劑
CN105294537A (zh) * 2012-05-09 2016-02-03 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
CN104284888A (zh) * 2012-05-09 2015-01-14 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
CN105218429A (zh) * 2012-05-09 2016-01-06 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
CN107652222B (zh) * 2012-05-09 2021-09-10 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
CN104284888B (zh) * 2012-05-09 2017-10-27 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
CN107652222A (zh) * 2012-05-09 2018-02-02 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
CN105358527A (zh) * 2013-07-08 2016-02-24 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
CN105358527B (zh) * 2013-07-08 2018-09-25 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
CN105531260A (zh) * 2013-09-10 2016-04-27 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
US9957258B2 (en) 2013-09-10 2018-05-01 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US10793555B2 (en) 2013-09-10 2020-10-06 Basf Se Oxime ester photoinitiators
CN105899502A (zh) * 2013-11-28 2016-08-24 塔科玛技术股份有限公司 光引发剂和包含其的光敏组合物
CN106132929B (zh) * 2014-04-04 2020-06-19 株式会社艾迪科 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂
CN106132929A (zh) * 2014-04-04 2016-11-16 株式会社艾迪科 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂
CN109689840A (zh) * 2016-09-07 2019-04-26 默克专利股份有限公司 液晶介质和光调制元件
CN109689840B (zh) * 2016-09-07 2024-01-30 默克专利股份有限公司 液晶介质和光调制元件
CN110573968A (zh) * 2017-05-09 2019-12-13 科思创德国股份有限公司 用于保护光致聚合物-膜复合结构中的全息图的由两个可干燥转移的uv-固化涂料层构成的体系
CN108690389A (zh) * 2018-04-23 2018-10-23 河北晨阳工贸集团有限公司 一种led光固化水性木器漆及其制备方法
WO2020252628A1 (zh) * 2019-06-17 2020-12-24 湖北固润科技股份有限公司 包含五元芳杂环结构的肟酯类光引发剂及其制备和用途

Also Published As

Publication number Publication date
US7648738B2 (en) 2010-01-19
DE60325890D1 (de) 2009-03-05
CN1720245B (zh) 2010-05-26
EP1567518A2 (en) 2005-08-31
JP4769461B2 (ja) 2011-09-07
CA2505893A1 (en) 2004-06-17
TW200422296A (en) 2004-11-01
EP1567518B1 (en) 2009-01-14
AU2003294034A1 (en) 2004-06-23
WO2004050653A2 (en) 2004-06-17
MXPA05005817A (es) 2005-08-29
TWI326682B (en) 2010-07-01
JP2006516246A (ja) 2006-06-29
US20060241259A1 (en) 2006-10-26
ATE420877T1 (de) 2009-01-15
WO2004050653A3 (en) 2004-09-16
AU2003294034A8 (en) 2004-06-23
KR101032582B1 (ko) 2011-05-06
KR20050084149A (ko) 2005-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1720245A (zh) 带有杂芳基的肟酯光引发剂
CN1302339C (zh) 光敏树脂组合物
EP2172455B1 (en) Oxime ester photoinitiators
EP1778636B1 (en) Oxime ester photoinitiators
EP1963374B1 (en) Oxime ester photoinitiators
CN1299812A (zh) 肟酯光引发剂
EP2144876B1 (en) Oxime ester photoinitiators
CN1178902C (zh) 新的o-酰基肟光引发剂
EP2144894B1 (en) Oxime ester photoinitiators
EP2303833B1 (en) Oxime ester photoinitiators
CN1547683A (zh) 光敏性树脂组合物
CN101341172B (zh) 肟酯光引发剂

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: BASF SE

Free format text: FORMER OWNER: BASF SPECIAL CHEMICAL HOLDING CO., LTD.

Effective date: 20131018

Owner name: BASF SPECIAL CHEMICAL HOLDING CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: CIBA SC HOLDING AG

Effective date: 20131018

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: CIBA SC HOLDING AG

Free format text: FORMER NAME: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.

CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Basel, Switzerland

Patentee after: CIBA HOLDING Inc.

Address before: Basel, Switzerland

Patentee before: Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20131018

Address after: Ludwigshafen, Germany

Patentee after: BASF SE

Address before: Basel, Switzerland

Patentee before: BASF special chemicals Holding Co.,Ltd.

Effective date of registration: 20131018

Address after: Basel, Switzerland

Patentee after: BASF special chemicals Holding Co.,Ltd.

Address before: Basel, Switzerland

Patentee before: CIBA HOLDING Inc.

CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20100526

CX01 Expiry of patent term