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CN111308816A - 有机膜、阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

有机膜、阵列基板、显示面板及显示装置 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种有机膜、阵列基板、显示面板及显示装置，其中，有机膜，包括第一区域和围绕第一区域的第二区域，所述第二区域设置有镂空图案。上述方案，通过在第二区域设置有镂空图案，使得阵列基板上与框胶结合的部位形成凹凸的表面，提高了与框胶的结合面积，增大了附着力，因此克服了因设置有机膜而导致框胶与阵列基板剥离的问题。

Description

有机膜、阵列基板、显示面板及显示装置
技术领域
本发明一般涉及显示技术领域，具体涉及一种有机膜、阵列基板、显示面板及显示装置。
背景技术
液晶显示技术是目前主流的显示技术，其中，薄膜晶体管液晶显示(Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)产品具有体积小、功耗低、无辐射、显示分辨率高等特点，被广泛应用于多种终端产品中。
目前，用户对产品待机时间要求越来越高，而在产品中显示部件的耗电量占据着较高比例，因此，如何降低显示部件的耗电量是本领域技术人员所追求的长期目标，其中，在阵列基板中设置有机膜就是一个可行的方案。但使用有机膜降低功耗的同时，会造成阵列基板与框胶附着力不足，导致框胶与阵列基板剥离的问题。
发明内容
本申请期望提供一种有机膜、阵列基板、显示面板及显示装置，用以解决现有技术中因设置有机膜而导致框胶与阵列基板剥离的问题。
本发明提供一种有机膜，包括第一区域和围绕第一区域的第二区域，所述第二区域设置有镂空图案。
作为其中一种可实现方式，所述镂空图案的面积占所述第二区域的10％～30％。
作为其中一种可实现方式，所述镂空图案将所述第二区域分割为多个马赛克图案。
作为其中一种可实现方式，相邻所述马赛克图案间的距离为 10um-16um。
作为其中一种可实现方式，相邻所述马赛克图案间的距离为13um。
第二方面，本发明提供一种阵列基板，包括显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域，还包括上述的有机膜，所述第一区域至少位于所述显示区域，所述第二区域位于所述非显示区域。
作为其中一种可实现方式所述有机膜上形成有第一钝化层；
所述第一钝化层暴露所述第二区域；或者，
所述第一钝化层覆盖所述第二区域，且跟随所述镂空图案形成有凹凸图案。
作为其中一种可实现方式所述有机膜位于所述阵列基板的边界范围之内，且所述有机膜的边界距所述阵列基板的边界在0.1mm-0.3mm 之间。
第三方面，本发明提供一种显示面板，包括相对设置的彩膜基板和上述的阵列基板，以及所述彩膜基板和阵列基板对盒用的封框胶，所述封框胶位于所述第二区域范围内。
第四方面，本发明提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
上述方案，通过在第二区域设置有镂空图案，使得阵列基板上与框胶结合的部位形成凹凸的表面，提高了与框胶的结合面积，增大了附着力，因此克服了因设置有机膜而导致框胶与阵列基板剥离的问题。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明实施例提供的有机膜的结构示意图；
图2-10为本发明实施例提供的阵列基板的形成过程示意图；
图11为本发明实施例提供的显示面板的俯视图；
图12为本发明实施例提供的显示面板边界处的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
图1为本发明实施例示出的一种有机膜，包括第一区域1和围绕第一区域1的第二区域2，第二区域2设置有镂空图案27。
该有机膜可以在制作阵列基板的工序中形成，例如但不限于，
在衬底基板上形成TFT器件，在TFT器件上形成第一钝化层，在第一钝化层上形成有机溶液层，对有机溶液层进行固化，并在固化后的第二区域2进行刻蚀形成上述镂空图案27。
上述方案，通过在第二区域2设置有镂空图案27，使得阵列基板上与框胶结合的部位形成凹凸的表面，提高了与框胶的结合面积，增大了附着力，因此克服了因设置有机膜而导致框胶与阵列基板剥离的问题。
作为其中一种可实现方式，镂空图案的面积占第二区域的 10％～30％。例如为10％、15％、20％、25％、30％等。采用该比例，一方面可以提高框胶与阵列基板间的接触面积，保证其之间具有足够的附着力，另一方面，有机膜的第二区域还可以具有足够的面积与其下的结构层具有足够的附着力。
作为其中一种可实现方式，镂空图案27将第二区域2分割为多个马赛克图案4。这里不对各马赛克图案4的具体尺寸做限定，相邻的马赛克图案4可以相同，也可以不同。
作为其中一种可实现方式，相邻马赛克图案4间的距离为 10um-16um。
作为其中一种可实现方式，相邻马赛克图案4间的距离为13um。
第二方面，如图2-10所示，本发明提供一种阵列基板，包括显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域，还包括上述的有机膜23，第一区域至少位于显示区域，第二区域位于非显示区域。
作为其中一种可实现方式所述有机膜上形成有第一钝化层24；
第一钝化层24暴露所述第二区域，使框胶与有机膜直接粘接在一起；或者，
第一钝化层24覆盖第二区域，且跟随镂空图案形成有凹凸图案，使框胶与第一钝化层粘接在一起。这里所说的跟随镂空图案形成有凹凸图案，是指，镂空图案中是凹陷的部分，第一钝化层24也相应地是凹陷。具体地，第一钝化层相对于有机膜来说是较薄的，例如，有机膜的厚度可以是4um左右，第一钝化层24的厚度可以是0.4um左右，由于第一钝化层24较薄，则其不会将镂空图案填平，因此第一钝化层 24在第二区域也形成了凹凸图案。
作为其中一种可实现方式所述有机膜23位于所述阵列基板的边界范围之内，且有机膜的边界距阵列基板的边界C的距离D在 0.1mm-0.3mm之间，另参见图11、图12，例如为0.2mm，也即有机膜小于阵列基板，可以防止在进行阵列基板切割时损坏有机膜，造成有机膜产生裂纹。
下面以其中一个示例，来对上述阵列基板的制备方法进行说明。本发明实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理，是相关技术中成熟的制备工艺。本实施例中所说的“光刻工艺”包括涂覆膜层、掩模曝光和显影，是相关技术中成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺，涂覆可采用已知的涂覆工艺，刻蚀可采用已知的方法，在此不做具体的限定。在本实施例的描述中，需要理解的是，“薄膜”是指将某一种材料在基底上利用沉积或涂覆工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“薄膜”无需构图工艺或光刻工艺，则该“薄膜”还可以称为“层”。若在整个制作过程当中该“薄膜”还需构图工艺或光刻工艺，则在构图工艺前称为“薄膜”，构图工艺后称为“层”。经过构图工艺或光刻工艺后的“层”中包含至少一个“图案”。
S101：在基底20形成栅极29及公共电极8，如图2所示；
该基底20可以是柔性基底，如聚对苯二甲酸乙二醇酯 (Polyethyleneterephthalate；PET)薄膜；也可以是刚性基底，如玻璃基底。
在基底20上沉积栅金属薄膜，对栅金属薄膜进行图案化，形成栅极29及公共电极8。
S102：在形成前述图案的基底20上，沉积第一栅绝缘薄膜作为第一栅绝缘层21，图如3所示；
其中，第一栅绝缘薄膜可以采用硅氧化物SiOx、硅氮化物SiNx、氮氧化硅SiON等，可以为单层、双层或者多层结构。
S103：在第一栅绝缘层21上形成有源层30，图如4所示；
S104：在有源层30上形成源极28、漏极31，图如5所示；
在有源层上沉积金属层，对该金属层进行图案化，形成源极28、漏极31。
S105：在源极28、漏极31上沉积第二钝化层22，图如6所示；
第二钝化层22的材料可以采用硅氧化物SiOx、硅氮化物SiNx、氮氧化硅SiON等，可以为单层、双层或者多层结构。
S106：在第二钝化层22上形成有机膜23，图如7所示；
在第二钝化层22上涂覆有机溶液，对有机溶液进行热固化，形成一张膜层结构，在该膜层结构上位于第二区域的位置，通过刻蚀形成镂空图案27。
S107：在第二钝化层22上形成第一透明电极层26，图如8所示；
S108：在第一透明电极层26上形成第一钝化层24，图如9所示；
S109：在第一钝化层24上形成与公共电极8连接的第二透明电极层25，图如10所示。
第三方面，如图11、图12所示，本发明提供一种显示面板，包括相对设置的彩膜基板9和上述实施例的阵列基板8，以及所述彩膜基板9和阵列基板8对盒用的封框胶10，所述封框胶10位于所述第二区域范围L内。
一般地，如图11所示，显示面板中，阵列基板8的尺寸最大，然后是有机膜23，彩膜基板9小于有机膜23，作为一种可实现方式，彩膜基板9的其中一个边界7在阵列基板范围内，另外三个边界与整列基板对应的边界平齐，有机膜覆盖显示区域AA。
如图12所示，阵列基板8的边缘区域，即显示区域边界S之外，一般顺次包括阵列基板行驱动的时钟走线区域GOACLK、阵列基板行驱动的薄膜晶体管走线区域GOATFT、即公共电极走线区域Vcom。
第四方面，本发明提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
显示装置例如但不限于为智能手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框等。
需要理解的是，上文如有涉及术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (10)

1.一种有机膜，其特征在于，包括第一区域和围绕第一区域的第二区域，所述第二区域设置有镂空图案。
2.根据权利要求1所述的有机膜，其特征在于，所述镂空图案的面积占所述第二区域的10％～30％。
3.根据权利要求1或2所述的有机膜，其特征在于，所述镂空图案将所述第二区域分割为多个马赛克图案。
4.根据权利要求3所述的有机膜，其特征在于，相邻所述马赛克图案间的距离为10um-16um。
5.根据权利要求4所述的有机膜，其特征在于，相邻所述马赛克图案间的距离为13um。
6.一种阵列基板，包括显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域，其特征在于，还包括1-5任一项所述的有机膜，所述第一区域至少位于所述显示区域，所述第二区域位于所述非显示区域。
7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述有机膜上形成有第一钝化层；
所述第一钝化层暴露所述第二区域；或者，
所述第一钝化层覆盖所述第二区域，且跟随所述镂空图案形成有凹凸图案。
8.根据权利要求6或7所述的阵列基板，其特征在于，所述有机膜位于所述阵列基板的边界范围之内，且所述有机膜的边界距所述阵列基板的边界在0.1mm-0.3mm之间。
9.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的彩膜基板和权利要求6-8任一项所述的阵列基板，以及所述彩膜基板和阵列基板对盒用的封框胶，所述封框胶位于所述第二区域范围内。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。
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