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CN102109628A - 彩色滤光片构造及其制造方法 - Google Patents

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CN102109628A
CN102109628A CN2011100329674A CN201110032967A CN102109628A CN 102109628 A CN102109628 A CN 102109628A CN 2011100329674 A CN2011100329674 A CN 2011100329674A CN 201110032967 A CN201110032967 A CN 201110032967A CN 102109628 A CN102109628 A CN 102109628A
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伍浚铭
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Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本发明公开一种彩色滤光片构造及其制造方法，一种彩色滤光片构造包含一玻璃基板、一黑色矩阵层、一彩色画素层、多个间隙子、一透明导电层及一透明平坦化光阻层。本发明通过在制作所述彩色画素层的同时能以相同色阻材料来形成所述多个间隙子，因此本发明的所述彩色滤光片构造相对较为简单及成本较低，从而可以节省制造成本。另外，所述透明平坦化光阻层可防止在组装时，所述透明导电层发生短路。

Description

彩色滤光片构造及其制造方法
【技术领域】
本发明涉及液晶面板技术领域，特别是涉及一种彩色滤光片构造及其制造方法。
【背景技术】
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)是利用液晶材料的特性来显示图像的一种平板显示装置(Flat Panel Display，FPD)，其相较于其他显示装置而言更具轻薄、低驱动电压及低功耗等优点，已经成为整个消费市场上的主流产品。
现今液晶显示器的制作过程中，大致可分为前段矩阵(Array)工艺、中段成盒(Cell)工艺及后段模块化(Module)工艺。前段的矩阵工艺为生产薄膜式晶体管(TFT)基板及彩色滤光片(Color Film)基板。中段成盒工艺则负责将TFT基板与CF板组合，并两者之间注入液晶与切割合乎产品尺寸之面板。后段模块化工艺则负责将组合后的面板与背光模块、面板驱动电路、外框等做组装的工艺。
液晶显示器所以能呈现彩色的影像，主要就是靠着彩色滤光片所产生的功能：当液晶显示器的背光源透过液晶及驱动IC的控制形成灰阶光源，彩色滤光片上因涂布着红、绿、蓝三色颜料光阻，此光源再通过彩色滤光片即形成红、绿、蓝色光，最后混合形成彩色影像。因此，彩色滤光片是液晶显示器的关键组件，而彩色滤光片的基本结构是由玻璃基板(Glass Substrate)、黑色矩阵层(Black Matrix)、彩色画素层(Color Layer)及透明导电层(ITO，indium tin oxide铟锡氧化物)等所组成。
请参照图1A至图1G所示，图1A至图1G揭示一种现有的彩色滤光片的制造方法的流程示意图。
首先，如图1A所示，准备一玻璃基板11，形成一黑色矩阵层12于所述玻璃基板11上，所述黑色矩阵层12具有多个空隙。
接着，如图1B所示，形成第一色阻单元13a于所述玻璃基板11上的所述黑色矩阵层12的对应空隙内。
接着，如图1C所示，形成第二色阻单元13b于所述玻璃基板11上的所述黑色矩阵层12的对应空隙内。
接着，如图1D所示，形成第三色阻单元13c于所述玻璃基板11上的所述黑色矩阵层12的对应空隙内。
其中，所述各色阻单元13a，13b，13c具有相同水平高度，并分别位于所述黑色矩阵层12的对应空隙内。一个所述第一色阻单元13a、一个所述第二色阻单元13b及一个所述第三色阻单元13c形成一组画素(pixel)单元130，而所有的画素单元130共同组成一彩色画素层13。
接着，如图1E所示，形成一透明导电层14覆盖于所述黑色矩阵层12及所述彩色画素层13。
接着，如图1F所示，形成一光阻层15于所述透明导电层14上。
最后，如图1G所示，以一光掩膜(mask)(未绘示)对所述光阻层15进行曝光显影以定义形成若干间隙子15a。
通过上述步骤可完成一现有的彩色滤光片构造10。如图1G所示，所述现有彩色滤光片构造10包含：一玻璃基板11、一黑色矩阵层12、一彩色画素层13、一透明导电层14及多个间隙子15a。所述玻璃基板11作为基底的材料，所述黑色矩阵层12设于所述玻璃基板11上，所述黑色矩阵层12具有多个空隙(未标示)；所述彩色画素层13包含数个第一色阻单元13a、数个第二色阻单元13b及数个第三色阻单元13c，所述第一、第二及第三色阻单元13a，13b，13c分别位于所述黑色矩阵层12的对应空隙内。所述色阻单元13a，13b，13c的材料优选是红色(R)光阻、绿色(G)光阻及蓝色(B)光阻。
再者，所述透明导电层14覆盖于所述黑色矩阵层12及所述彩色画素层13上；所述多个间隙子15a设于所述透明导电层14上，所述多个间隙子15a具有一高度大于所述色阻单元13a，13b，13c的高度，在进一步将所述彩色滤光片构造10与另一薄膜式晶体管TFT基板组装时，所述多个间隙子15a用以保持两个基板的间隔距离，以均匀填充液晶。
然而，在现有的彩色滤光片构造10的制造方法中，因为最后要通过曝光显影的方式来制作间隙子15a，必需执行形成光阻层15、制作掩膜及曝光显影的步骤。因此，其制造过程较为复杂及所需制造成本较高，从而提高所述彩色滤光片构造10的制造成本。
故，有必要提供一种彩色滤光片构造及其制造方法，以解决现有技术所存在的问题。
【发明内容】
本发明的主要目的是提供一种彩色滤光片的制造方法，能够减少一道形成光阻层以及将所述光阻层局部曝光以制造间隙子的步骤。
为达上述目的，本发明提供一种彩色滤光片构造，所述彩色滤光片构造包含：
一玻璃基板；
一黑色矩阵层，设于所述玻璃基板上，具有多个空隙；
一彩色画素层，设于所述玻璃基板上，包含数个第一色阻单元、数个第二色阻单元及数个第三色阻单元，所述第一、第二及第三色阻单元分别位于所述黑色矩阵层的对应空隙内；
多个间隙子，设于所述黑色矩阵层上，每一所述间隙子是由所述第一、第二及第三色阻单元中至少一相同的色阻材料所形成，其中所述间隙子的高度大于所述第一、第二及第三色阻单元各自的高度；及
一透明导电层，覆盖所述黑色矩阵层、所述彩色画素层及所述多个间隙子。
在本发明的一实施例中，所述彩色滤光片构造另包含一透明平坦化光阻层，覆盖于所述透明导电层上。
在本发明的一实施例中，所述间隙子包含第一、第二及第三间隔部，所述第一、第二及第三间隔部分别由所述第一、第二及第三色阻单元相同的色阻材料所形成。
在本发明的一实施例中，所述第一、第二及第三间隔部依次从下到上堆叠，所述第一间隔部的面积大于所述第二间隔部的面积，所述第二间隔部的面积大于所述第三间隔部的面积。
为达上述另一目的，本发明提供一种彩色滤光片构造的制造方法，其包含以下步骤：
准备一玻璃基板，形成一黑色矩阵层于所述玻璃基板上，所述黑色矩阵层具有多个空隙；
形成数个第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元位于所述黑色矩阵层的对应空隙内；所述第一、第二及第三色阻单元共同构成一彩色画素层；
在与形成所述第一、第二及第三色阻单元的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成多个间隙子；以及
形成一透明导电层覆盖于所述黑色矩阵层、所述彩色画素层及所述间隙子。
在本发明的一实施例中，在形成所述透明导电层的步骤后，另包含：形成一透明平坦化光阻层覆盖于所述透明导电层上。
在本发明的一实施例中，所述在与形成所述第一、第二及第三色阻单元的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成多个间隙子的步骤包括：
在与形成所述第一色阻单元的同一道工序中，以与第一色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成第一间隔部；
在与形成所述第二色阻单元的同一道工序中，以与第二色阻单元相同的色阻材料在所述第一间隔部上形成第二间隔部；以及
在与形成所述第三色阻单元的同一道工序中，以与第三色阻单元相同的色阻材料在所述第二间隔部上形成第三间隔部，由堆叠的所述第一间隔部、第二间隔部和第三间隔部组成所述间隙子。
在本发明的一实施例中，所述形成数个第一色阻单元位于所述黑色矩阵层的对应空隙内，以及在与形成所述第一色阻单元的同一道工序中，以与第一色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成第一间隔部的步骤包括：形成一第一色阻层于所述玻璃基板及黑色矩阵层上，对所述第一色阻层进行曝光显影制程以同时形成第一色阻单元于所述黑色矩阵层的对应空隙内，以及第一间隔部于所述黑色矩阵层上。
在本发明的一实施例中，所述第一间隔部的面积大于所述第二间隔部的面积，所述第二间隔部的面积大于所述第三间隔部的面积。在本发明的一实施例中，
在本发明的一实施例中，所述制造方法是以转印法形成所述第一、第二及第三色阻单元，并且在与形成所述第一、第二及第三色阻单元的一种色阻单元的同一道工序中，以与该一种色阻单元相同的色阻材料通过多次涂布在所述黑色矩阵层上形成所述间隙子。
相对于现有技术中，间隙子的形成需要一道单独的曝光显影制程，本发明的彩色滤光片的制造方法中，在制作彩色画素层的同时以相同色阻材料形成间隙子，从而可减少一道形成光阻层以及将所述光阻层局部曝光以制造间隙子的步骤，因此制造过程较为简单及所需制造成本较低，从而节省彩色滤光片的制造成本。
【附图说明】
图1A至图1G：一种现有的彩色滤光片的制造方法的流程示意图。
图2A至图2F：本发明第一实施例的彩色滤光片的制造方法示意图。
图3：本发明第一实施例的彩色滤光片的制造方法流程图。
图4：本发明第二实施例的彩色滤光片构造的局部示意图。
图5：本发明第三实施例的彩色滤光片构造的局部示意图。
【具体实施方式】
为让本发明上述目的、特征及优点更明显易懂，下文特举本发明较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下：
请参照图2A至图2F及图3所示，图2A至图2F揭示本发明第一实施例的一种彩色滤光片构造20的制造方法的流程示意图；图3揭示本发明第一实施例的彩色滤光片的制造方法流程图。
首先，如图2A所示的步骤S01，准备一玻璃基板21，形成一黑色矩阵层22于所述玻璃基板21上，所述黑色矩阵层22具有多个空隙。
接着，如图2B至图2D所示的步骤S02，分别形成第一色阻单元23a、第二色阻单元23b及第三色阻单元23c于所述玻璃基板21上的所述黑色矩阵层22的对应空隙内，以共同构成一彩色画素层23。在形成所述彩色画素层23的同时，也就是在与形成所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层22上形成多个间隙子24。
在本发明第一实施例的此步骤中可细分为以下三步骤：
(1)步骤S021：形成一第一色阻层(未绘示)于所述玻璃基板21及黑色矩阵层22上，对所述第一色阻层进行曝光显影制程以同时形成第一色阻单元23a于所述黑色矩阵层22的对应空隙内，以及第一间隔部24a于所述黑色矩阵层22上(图2B)。也就是说，在与形成所述第一色阻单元23a的同一道工序中，以与第一色阻单元23a相同的色阻材料在所述黑色矩阵层22上形成第一间隔部24a。
(2)步骤S022：形成一第二色阻层(未绘示)于所述玻璃基板21及黑色矩阵层22上，对所述第二色阻层进行曝光显影制程以同时形成第二色阻单元23b于所述黑色矩阵层22的对应空隙内，以及第二间隔部24b于所述第一间隔部24a上(图2C)。也就是说，在与形成所述第二色阻单元23b的同一道工序中，以与第二色阻单元23b相同的色阻材料在所述第一间隔部24a上形成第二间隔部24b。
(3)步骤S023：接着，形成一第三色阻层(未绘示)于所述玻璃基板21及黑色矩阵层22上，对所述第三色阻层进行曝光显影制程以同时形成第三色阻单元23c于所述黑色矩阵层22的对应空隙内，以及第三间隔部24c于所述第二间隔部24b上(图2D)。也就是说，在与形成所述第三色阻单元23c的同一道工序中，以与第三色阻单元23c相同的色阻材料在所述第二间隔部24b上形成第三间隔部24c。
其中，相邻的一个所述第一色阻单元23a、一个所述第二色阻单元23b及一个所述第三色阻单元23c形成一组画素单元230，而所有的画素单元230共同组成了一所述彩色画素层23。所述第一色阻单元23a、第二色阻单元23b及第三色阻单元23c位于同一水平高度，且稍高于所述黑色矩阵层22的高度。另外，所述第一间隔部24a、所述第二间隔部24b及所述第三间隔部24c依序堆叠在所述黑色矩阵层22的表面上，且其高度依序递增。因此，一个所述第一间隔部24a、一个所述第二间隔部24b及一个所述第三间隔部24c依序堆叠形成了一个所述间隙子24。
最后，如图2E所示的步骤S03，形成一透明导电层25覆盖于所述黑色矩阵层22、所述彩色画素层23及所述间隙子24。
并且，如图2F所示的步骤S04，形成一透明平坦化光阻层26，覆盖于所述透明导电层25上。
在本发明的第一实施例中，是通过在形成所述第一色阻单元23a、所述第二色阻单元23b或所述第三色阻单元23c于所述玻璃基板21上的所述黑色矩阵层22的多个空隙内的同时，在与形成所述第一、第二及第三色阻23a，23b，23c单元的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元23a，23b，23c相同的色阻材料在所述黑色矩阵层22上形成多个间隙子。也就是说，在此三个步骤的至少一个步骤中产生至少一个间隔部24a，24b或24c以形成所述间隙子24。或换句话说，所述每一间隙子24由至少一个所述间隔部24a，24b或24c所形成，并且所述间隙子24的高度大于所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c各自的高度，如此就可满足本发明的彩色滤光片构造20的所述间隙子24的基本需求。
上述形成所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c的方法，例如是先形成各色阻层于所述玻璃基板21及黑色矩阵层22上，再以光掩膜(mask)在所述黑色矩阵层22的对应空隙的位置开孔，并且在所述间隙子24的位置也开孔，因此在进行曝光显影时可同时在所述黑色矩阵层22的对应空隙的位置形成所述各色阻单元23a，23b，23c，并且也在所述黑色矩阵层22上形成所述各间隔部24a，24b，24c。然而，本发明形成所述各色阻单元23a，23b，23c及所述各间隔部24a，24b，24c的方法并不限于此。承上所述，本发明例如可通过微影法(Lithography)、干膜法(Dryfilm)、转印法(Transfer)或喷墨印刷法(InkjetPrinting)等方式来形成各色阻单元23a，23b，23c于所述玻璃基板21上的所述黑色矩阵层22的多个空隙内，并且在所述黑色矩阵层22上形成各间隔部24a，24b，24c，但本发明不限于此。
另外，在本发明中，例如是通过溅镀法(Sputter)、涂布法(Spin Coating)或蒸镀法(Evaporation)来形成所述透明导电层25或所述透明平坦化光阻层26，但本发明亦不限于此。
综上所述，使用者可依据实际需要选用适宜的方法，以达到在形成所述彩色画素层23的同时，在与形成所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元23a，23b，23c相同的色阻材料在所述黑色矩阵层22上形成多个间隙子的目的。因此，本发明的所述的彩色滤光片构造的制造方法归纳如下：
(1)准备一玻璃基板21，形成一黑色矩阵层22于所述玻璃基板21上，所述黑色矩阵层22具有多个空隙；
(2)形成数个第一色阻单元23a、第二色阻单元23b和第三色阻单元23c位于所述黑色矩阵层22的对应空隙内；所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c共同构成一彩色画素层23；
(3)在与形成所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层22上形成多个间隙子24；以及
(4)形成一透明导电层25覆盖于所述黑色矩阵层22、所述彩色画素层23及所述间隙子24。
(5)形成一透明平坦化光阻层26覆盖于所述透明导电层25上。
通过上述步骤，可完成本发明第一实施例的所述彩色滤光片构造20。如图2F所示，本发明第一实施例的一种彩色滤光片构造20包含：一玻璃基板21、一黑色矩阵层22、一彩色画素层23、多个间隙子24、一透明导电层25及一透明平坦化光阻层26。所述玻璃基板21作为基底的材料，所述黑色矩阵层22设于所述玻璃基板21上，所述黑色矩阵层22具有多个空隙(未标示)。所述彩色画素层23设于所述玻璃基板22上，包含数个第一色阻单元23a、数个第二色阻单元23b及数个第三色阻单元23c，所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c分别位于所述黑色矩阵层22的对应空隙内。所述多个间隙子24设于所述黑色矩阵层22上，每一所述间隙子24是由所述第一、第二及第三色阻单元24a，24b，24c中至少一相同的色阻材料所形成，其中所述间隙子24的高度大于所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c各自的高度。所述透明导电层25覆盖所述黑色矩阵层22、所述彩色画素层23及所述多个间隙子24。所述透明平坦化光阻层26覆盖于所述透明导电层25上。
另外，在本发明中，所述色阻单元23a，23b，23c的材料优选是红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻，并分别位于所述黑色矩阵层22的对应空隙内。相应的，所述第一间隔部24a优选是由第一色阻单元23a的材料所形成；所述第二间隔部24b优选是由第二色阻单元23b的材料所形成；以及所述第三间隔部24c优选是由第三色阻单元23c的材料所形成。
本发明的所述彩色滤光片构造20的所述多个间隙子24具有一高度大于所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c各自的高度，在进一步将所述彩色滤光片构造20与另一薄膜式晶体管TFT基板(未绘示)组装时，可保持两个基板的间隔距离以均匀填充液晶。再者，所述彩色滤光片构造20的所述透明平坦化光阻层26，在与薄膜式晶体管TFT基板组装时，可防止所述透明导电层25的表面与薄膜式晶体管TFT基板的表面直接接触而产生短路。然而，在本发明另一个可能的实施例中，若薄膜式晶体管TFT基板已具有防止表面短路的设计，则本发明的所述彩色滤光片构造20及其制造方法，可省略所述透明平坦化光阻层26。
相较于现有彩色滤光片的制造方法中，因为最后要通过曝光显影的方式来制作间隙子(必需执行形成光阻层、制作掩膜及曝光显影的步骤)，使得现有彩色滤光片的制造过程较为复杂及所需制造成本较高。本发明通过在形成所述彩色画素层23的同时，也就是在与形成所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层22上形成多个间隙子。相较于现有技术可减少一道形成光阻层以及将所述光阻层局部曝光以制造间隙子的步骤。虽然本发明也可能因为要防止所述透明导电层25组装时发生短路，而需要增加设置所述透明平坦化光阻层26，但设置所述透明平坦化光阻层26相较于形成光阻层以及曝光显影所需的步骤与成本，仍相对较为简单及成本较低，从而可以节省所述彩色滤光片构造20的制造成本。
请再参照图4所示，图4揭示本发明第二实施例的彩色滤光片构造。如图4所示，本发明第二实施例的彩色滤光片构造20相似于本发明第一实施例的彩色滤光片构造20，因此沿用相同的组件符号与名称，但其不同之处在于：在本发明的第二实施例中，揭示所述间隙子24仅由单一个色阻材料(间隔部)所形成，这是通过形成所述第一色阻单元23a、所述第二色阻单元23b或所述第三色阻单元23c于所述玻璃基板21上的所述黑色矩阵层22的空隙内的同时，形成其中一个色阻材料(所述间隔部24a，24b或24c)来形成所述间隙子24。当然，此单一的间隔部24a，24b或24c必需具有较高的厚度，并且此高度大于所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c各自的高度，才能产生间隔所述彩色滤光片构造20与薄膜式晶体管TFT基板的作用。例如，所述制造方法是以转印法形成所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c，并且在与形成所述第一、第二及第三色阻单元23a，23b，23c的一种色阻单元的同一道工序中，以与该一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层22上形成所述间隙子24。然而，本发明并不限制所述间隔部24a，24b或24c的数量、厚度或堆叠顺序，使用时可依实际需求来弹性调整。
请再参照图5所示，图5揭示本发明第三实施例的彩色滤光片构造。如图5所示，本发明第三实施例的彩色滤光片构造20相似于本发明第一实施例的彩色滤光片构造20，因此沿用相同的组件符号与名称，但其不同之处在于：所述第一、第二及第三间隔部24a，24b，24c依次从下到上堆叠，所述第一间隔部24a的面积大于所述第二间隔部24b的面积，所述第二间隔部24b的面积大于所述第三间隔部24c的面积。也就是说，位于相对低层的所述间隔部24a，24b，24c的面积要略大于位于相对高层的所述间隔部24a，24b，24c的面积。或者是说，所述间隙子24底部面积大于所述间隙子24顶部的面积。因此使得所述间隙子24可以较为稳固的固定于所述黑色矩阵层22上。
综上所述，相较于现有彩色滤光片的制造方法中，因为最后要通过曝光显影的方式来制作间隙子，其制造过程较为复杂及所需制造成本较高。本发明通过在形成所述彩色画素层23的同时形成了间隙子24，相较于现有技术可减少一道形成光阻层以及将所述光阻层局部曝光以制造间隙子的步骤，本发明的所述彩色滤光片构造20及其制造方法相对较为简单及成本较低，从而可以节省所述彩色滤光片构造20的制造成本。
本发明已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是，已公开的实施例并未限制本发明的范围。相反地，包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包括于本发明的范围内。

Claims (10)

1.一种彩色滤光片构造，其特征在于：所述彩色滤光片构造包含：
一玻璃基板；
一黑色矩阵层，设于所述玻璃基板上，具有多个空隙；
一彩色画素层，设于所述玻璃基板上，包含数个第一色阻单元、数个第二色阻单元及数个第三色阻单元，所述第一、第二及第三色阻单元分别位于所述黑色矩阵层的对应空隙内；
多个间隙子，设于所述黑色矩阵层上，每一所述间隙子是由所述第一、第二及第三色阻单元中至少一相同的色阻材料所形成，其中所述间隙子的高度大于所述第一、第二及第三色阻单元各自的高度；及
一透明导电层，覆盖所述黑色矩阵层、所述彩色画素层及所述多个间隙子。
2.如权利要求1所述的彩色滤光片构造，其特征在于：所述彩色滤光片构造另包含一透明平坦化光阻层，覆盖于所述透明导电层上。
3.如权利要求1所述的彩色滤光片构造，其特征在于：所述间隙子包含第一、第二及第三间隔部，所述第一、第二及第三间隔部分别由所述第一、第二及第三色阻单元相同的色阻材料所形成。
4.如权利要求3所述的彩色滤光片构造，其特征在于：所述第一、第二及第三间隔部依次从下到上堆叠，所述第一间隔部的面积大于所述第二间隔部的面积，所述第二间隔部的面积大于所述第三间隔部的面积。
5.一种彩色滤光片构造的制造方法，其特征在于：其包含以下步骤：
准备一玻璃基板，形成一黑色矩阵层于所述玻璃基板上，所述黑色矩阵层具有多个空隙；
形成数个第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元位于所述黑色矩阵层的对应空隙内，所述第一、第二及第三色阻单元共同构成一彩色画素层；
在与形成所述第一、第二及第三色阻单元的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成多个间隙子；以及
形成一透明导电层覆盖于所述黑色矩阵层、所述彩色画素层及所述间隙子。
6.如权利要求5所述的彩色滤光片构造的制造方法，其特征在于：在形成所述透明导电层的步骤后，另包含：形成一透明平坦化光阻层覆盖于所述透明导电层上。
7.如权利要求5所述的彩色滤光片构造的制造方法，其特征在于：所述在与形成所述第一、第二及第三色阻单元的至少一种色阻单元的同一道工序中，以与该至少一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成多个间隙子的步骤包括：
在与形成所述第一色阻单元的同一道工序中，以与第一色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成第一间隔部；
在与形成所述第二色阻单元的同一道工序中，以与第二色阻单元相同的色阻材料在所述第一间隔部上形成第二间隔部；以及
在与形成所述第三色阻单元的同一道工序中，以与第三色阻单元相同的色阻材料在所述第二间隔部上形成第三间隔部，由堆叠的所述第一间隔部、第二间隔部和第三间隔部组成所述间隙子。
8.如权利要求7所述的彩色滤光片构造的制造方法，其特征在于：所述形成数个第一色阻单元位于所述黑色矩阵层的对应空隙内，以及在与形成所述第一色阻单元的同一道工序中，以与第一色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成第一间隔部的步骤包括：
形成一第一色阻层于所述玻璃基板及黑色矩阵层上，对所述第一色阻层进行曝光显影制程以同时形成第一色阻单元于所述黑色矩阵层的对应空隙内，以及第一间隔部于所述黑色矩阵层上。
9.如权利要求7或8所述的彩色滤光片构造的制造方法，其特征在于：所述第一间隔部的面积大于所述第二间隔部的面积，所述第二间隔部的面积大于所述第三间隔部的面积。
10.如权利要求5所述的彩色滤光片构造的制造方法，其特征在于：所述制造方法是以转印法形成所述第一、第二及第三色阻单元，并且在与形成所述第一、第二及第三色阻单元的一种色阻单元的同一道工序中，以与该一种色阻单元相同的色阻材料在所述黑色矩阵层上形成所述间隙子。
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