CN108008567A - 彩色滤光片基板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种彩色滤光片基板及其制作方法。本发明的彩色滤光片基板的制作方法采用半色调光罩制程来制作彩色滤光层，在制作彩色滤光层的过程中制得柱状隔垫物，能够节省一道单独制作柱状隔垫物的工艺制程，节省了制作柱状隔垫物的光阻材料与光罩，从而降低生产成本；另外，由于该制作方法简化了彩色滤光片基板的制备工艺，从而能够提高生产效率，提高生产产能。本发明的彩色滤光片基板采用堆叠色阻层的方式来制作柱状隔垫物，使得柱状隔垫物与彩色滤光层能够在同一制程中形成，从而简化彩色滤光片基板的制备工艺，降低生产成本，并且提高生产效率，提高生产产能。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩色滤光片基板及其制作方法。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄、无辐射等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括壳体、设于壳体内的液晶显示面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。
传统的液晶显示面板是由一片薄膜晶体管阵列基板(Thin Film TransistorArray Substrate，TFT Array Substrate)与一片彩色滤光片基板(Color FilterSubstrate，CF Substrate)贴合而成，分别在TFT基板和CF基板上形成像素电极和公共电极，并在TFT基板与CF基板之间灌入液晶，其工作原理是通过在像素电极与公共电极之间施加驱动电压，利用像素电极与公共电极之间形成的电场来控制液晶层内的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
彩色滤光片基板是液晶显示面板中必不可少的关键组件，现有的彩色滤光片基板的制备工艺通常为：黑色矩阵(BM)→红/绿/蓝(R/G/B)色阻单元→公共电极(ITO)→柱状隔垫物(PS)，由于所述红、绿、蓝色阻单元分别需要使用一道工艺制程制备，所述黑色矩阵、公共电极、柱状隔垫物分别需要使用一道工艺制程制备，因此彩色滤光片基板的制备工艺通常共需要6道工艺制程，若制作柱状隔垫物时将主隔垫物(Main PS)与次隔垫物(Sub PS)分开制作，则还需要增加一道工艺制程，共需要7道工艺制程，由于制程数量较多，从而造成彩色滤光片基板的生产成本较高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种彩色滤光片基板的制作方法，能够简化彩色滤光片基板的制备工艺，降低生产成本，并且提高生产效率，提高生产产能。
本发明的目的还在于提供一种彩色滤光片基板，制程工艺简单，生产成本低。
为实现上述目的，本发明提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供衬底基板，在所述衬底基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵在所述衬底基板上围出间隔设置的数个子像素区，所述数个子像素区包括第一子像素区、第二子像素区、第三子像素区；
步骤2、在所述衬底基板上形成彩色滤光层，在制作彩色滤光层的过程中形成位于黑色矩阵上的柱状隔垫物；
所述彩色滤光层包括位于第一子像素区内的第一色阻单元、位于第二子像素区内的第二色阻单元、位于第三子像素区内的第三色阻单元；
所述柱状隔垫物由第一隔垫物单元、第二隔垫物单元、第三隔垫物单元中的一层或者多层叠加形成；
所述第一色阻单元与第一隔垫物单元均由第一色阻层构成；所述第二色阻单元与第二隔垫物单元均由第二色阻层构成；所述第三色阻单元与第三隔垫物单元均由第三色阻层构成；
步骤3、在所述衬底基板、彩色滤光层、黑色矩阵、柱状隔垫物上沉积透明导电薄膜，形成位于所述衬底基板、彩色滤光层与黑色矩阵上的公共电极以及位于所述柱状隔垫物上的透明导电层，所述公共电极与透明导电层断开不相连。
优选的，所述柱状隔垫物由第一隔垫物单元、第二隔垫物单元、第三隔垫物单元从下至上依次叠加形成。
具体的，所述步骤2包括：
步骤21、在所述衬底基板与黑色矩阵上形成第一色阻层，采用第一半色调光罩对所述第一色阻层进行曝光、显影，制得位于第一子像素区内的第一色阻单元、位于黑色矩阵上的第一隔垫物单元，所述第一色阻单元与第一隔垫物单元均由第一色阻层构成，且所述第一隔垫物单元的高度大于所述第一色阻单元的高度；
步骤22、在所述衬底基板、黑色矩阵、第一色阻单元、第一隔垫物单元上形成第二色阻层，采用第二半色调光罩对所述第二色阻层进行曝光、显影，制得位于第二子像素区内的第二色阻单元、位于第一隔垫物单元上的第二隔垫物单元；
所述第二色阻单元与第二隔垫物单元均由第二色阻层构成，且所述第二隔垫物单元的高度大于所述第二色阻单元的高度；
步骤23、在所述衬底基板、黑色矩阵、第一色阻单元、第二色阻单元、第二隔垫物单元上形成第三色阻层，采用第三半色调光罩对所述第三色阻层进行曝光、显影，制得位于第三子像素区内的第三色阻单元、位于第二隔垫物单元上的第三隔垫物单元，所述第三色阻单元与第三隔垫物单元均由第三色阻层构成，且所述第三隔垫物单元的高度大于所述第三色阻单元的高度；
在黑色矩阵上依次叠加的第一隔垫物单元、第二隔垫物单元、第三隔垫物单元共同构成柱状隔垫物；
所述第一色阻单元、第二色阻单元、第三色阻单元共同构成彩色滤光层。
具体的，所述第一色阻层的材料为负性光阻材料；
所述第一半色调光罩上设有对应于第一色阻单元的第一开口区域与对应于第一隔垫物单元的第二开口区域，所述第二开口区域的透光率大于所述第一开口区域的透光率；
所述第二色阻层的材料为负性光阻材料；
所述第二半色调光罩上设有对应于第二色阻单元的第三开口区域与对应于第二隔垫物单元的第四开口区域，所述第四开口区域的透光率大于所述第三开口区域的透光率；
所述第三色阻层的材料为负性光阻材料；
所述第三半色调光罩上设有对应于第三色阻单元的第五开口区域与对应于第三隔垫物单元的第六开口区域，所述第六开口区域的透光率大于所述第五开口区域的透光率。
具体的，所述第二隔垫物单元在黑色矩阵上的正投影面积大于所述第一隔垫物单元、第三隔垫物单元在黑色矩阵上的正投影面积，且所述第二隔垫物单元在黑色矩阵上的正投影边缘超出所述第一隔垫物单元、第三隔垫物单元在黑色矩阵上的正投影边缘一段距离。
基于上述彩色滤光片基板的制作方法，本发明还提供一种彩色滤光片基板，包括：衬底基板、设于所述衬底基板上的彩色滤光层与黑色矩阵、设于所述黑色矩阵上的柱状隔垫物、设于所述衬底基板、彩色滤光层及黑色矩阵上的公共电极、设于所述柱状隔垫物顶部的透明导电层；所述公共电极与透明导电层断开不相连；
所述黑色矩阵在所述衬底基板上围出间隔设置的数个子像素区，所述数个子像素区包括第一子像素区、第二子像素区、第三子像素区；
所述彩色滤光层包括位于第一子像素区内的第一色阻单元、位于第二子像素区内的第二色阻单元、位于第三子像素区内的第三色阻单元；
所述柱状隔垫物由第一隔垫物单元、第二隔垫物单元、第三隔垫物单元中的一层或者多层叠加形成；
所述第一色阻单元与第一隔垫物单元均由第一色阻层构成；所述第二色阻单元与第二隔垫物单元均由第二色阻层构成；所述第三色阻单元与第三隔垫物单元均由第三色阻层构成。
优选的，所述柱状隔垫物由第一隔垫物单元、第二隔垫物单元、第三隔垫物单元从下至上依次叠加形成。
具体的，所述第一隔垫物单元的高度大于所述第一色阻单元的高度；所述第二隔垫物单元的高度大于所述第二色阻单元的高度；所述第三隔垫物单元的高度大于所述第三色阻单元的高度。
具体的，所述第二隔垫物单元在黑色矩阵上的正投影面积大于所述第一隔垫物单元、第三隔垫物单元在黑色矩阵上的正投影面积，且所述第二隔垫物单元在黑色矩阵上的正投影边缘超出所述第一隔垫物单元、第三隔垫物单元在黑色矩阵上的正投影边缘一段距离。
具体的，所述柱状隔垫物的厚度为4μm～10μm；所述公共电极与透明导电层的厚度为0.1μm～0.2μm。
本发明的有益效果：本发明的彩色滤光片基板的制作方法采用半色调光罩制程来制作彩色滤光层，在制作彩色滤光层的过程中制得柱状隔垫物，能够节省一道单独制作柱状隔垫物的工艺制程，节省了制作柱状隔垫物的光阻材料与光罩，从而降低生产成本；另外，由于该制作方法简化了彩色滤光片基板的制备工艺，从而能够提高生产效率，提高生产产能。本发明的彩色滤光片基板采用堆叠色阻层的方式来制作柱状隔垫物，使得柱状隔垫物与彩色滤光层能够在同一制程中形成，从而简化彩色滤光片基板的制备工艺，降低生产成本，并且提高生产效率，提高生产产能。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的流程图；
图2为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤1的示意图；
图3与图5为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤21的示意图；
图4为第一半色调光罩的结构示意图；
图6与图8为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤22的示意图；
图7为第二半色调光罩的结构示意图；
图9与图11为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤23的示意图；
图10为第三半色调光罩的结构示意图；
图12为本发明的彩色滤光片基板的制作方法的步骤3的示意图及本发明的彩色滤光片基板的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种彩色滤光片基板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、如图2所示，提供衬底基板10，在所述衬底基板10上形成黑色矩阵20，所述黑色矩阵20在所述衬底基板10上围出间隔设置的数个子像素区，所述数个子像素区包括第一子像素区11、第二子像素区12、第三子像素区13。
具体的，所述黑色矩阵20的制备方法为：提供黑色光阻材料，在所述衬底基板10上涂布黑色光阻材料，利用光罩对所述黑色光阻材料进行曝光、显影，制得黑色矩阵20。
步骤2、如图11所示，在所述衬底基板10上形成彩色滤光层30，在制作彩色滤光层30的过程中形成位于黑色矩阵20上的柱状隔垫物40；
所述彩色滤光层30包括位于第一子像素区11内的第一色阻单元31、位于第二子像素区12内的第二色阻单元32、位于第三子像素区13内的第三色阻单元33；
所述柱状隔垫物40由第一隔垫物单元41、第二隔垫物单元42、第三隔垫物单元43中的一层或者多层叠加形成；
所述第一色阻单元31与第一隔垫物单元41均由第一色阻层51构成；所述第二色阻单元32与第二隔垫物单元42均由第二色阻层52构成；所述第三色阻单元33与第三隔垫物单元43均由第三色阻层53构成。
优选的，所述柱状隔垫物40由第一隔垫物单元41、第二隔垫物单元42、第三隔垫物单元43从下至上依次叠加形成。此时，所述步骤2包括：
步骤21、如图3与图5所示，在所述衬底基板10与黑色矩阵20上形成第一色阻层51，采用第一半色调光罩61对所述第一色阻层51进行曝光、显影，制得位于第一子像素区11内的第一色阻单元31、位于黑色矩阵20上的第一隔垫物单元41，所述第一色阻单元31与第一隔垫物单元41均由第一色阻层51构成，且所述第一隔垫物单元41的高度大于所述第一色阻单元31的高度。
具体的，所述第一色阻层51的材料为负性光阻材料。
具体的，如图4所示，所述第一半色调光罩61上设有对应于第一色阻单元31的第一开口区域611与对应于第一隔垫物单元41的第二开口区域612，所述第二开口区域612的透光率大于所述第一开口区域611的透光率。
优选的，所述第二开口区域612的透光率为100％，所述第一开口区域611的透光率为50％。
步骤22、如图6与图8所示，在所述衬底基板10、黑色矩阵20、第一色阻单元31、第一隔垫物单元41上形成第二色阻层52，采用第二半色调光罩62对所述第二色阻层52进行曝光、显影，制得位于第二子像素区12内的第二色阻单元32、位于第一隔垫物单元41上的第二隔垫物单元42，所述第二色阻单元32与第二隔垫物单元42均由第二色阻层52构成，且所述第二隔垫物单元42的高度大于所述第二色阻单元32的高度。
具体的，所述第二色阻层52的材料为负性光阻材料。
具体的，如图7所示，所述第二半色调光罩62上设有对应于第二色阻单元32的第三开口区域623与对应于第二隔垫物单元42的第四开口区域624，所述第四开口区域624的透光率大于所述第三开口区域623的透光率。
优选的，所述第四开口区域624的透光率为100％，所述第三开口区域623的透光率为50％。
步骤23、如图9与图11所示，在所述衬底基板10、黑色矩阵20、第一色阻单元31、第二色阻单元32、第二隔垫物单元42上形成第三色阻层53，采用第三半色调光罩63对所述第三色阻层53进行曝光、显影，制得位于第三子像素区13内的第三色阻单元33、位于第二隔垫物单元42上的第三隔垫物单元43，所述第三色阻单元33与第三隔垫物单元43均由第三色阻层53构成，且所述第三隔垫物单元43的高度大于所述第三色阻单元33的高度；
在黑色矩阵20上依次叠加的第一隔垫物单元41、第二隔垫物单元42、第三隔垫物单元43共同构成柱状隔垫物40；
所述第一色阻单元31、第二色阻单元32、第三色阻单元33共同构成彩色滤光层30。
具体的，所述第三色阻层53的材料为负性光阻材料。
具体的，如图10所示，所述第三半色调光罩63上设有对应于第三色阻单元33的第五开口区域635与对应于第三隔垫物单元43的第六开口区域636，所述第六开口区域636的透光率大于所述第五开口区域635的透光率。
优选的，所述第六开口区域636的透光率为100％，所述第五开口区域635的透光率为50％。
具体的，所述柱状隔垫物40的厚度为4μm～10μm。
具体的，所述步骤21、步骤22及步骤23均采用紫外光进行曝光。
优选的，所述第二隔垫物单元42在黑色矩阵20上的正投影面积略大于所述第一隔垫物单元41、第三隔垫物单元43在黑色矩阵20上的正投影面积，且所述第二隔垫物单元42在黑色矩阵20上的正投影边缘超出所述第一隔垫物单元41、第三隔垫物单元43在黑色矩阵20上的正投影边缘一段距离。这种结构设计能够使柱状隔垫物40获得陡峭的taper角，保证后续在彩色滤光层30、黑色矩阵20与柱状隔垫物40上沉积透明导电薄膜70时，得到的位于所述柱状隔垫物40上的透明导电层72与位于所述衬底基板10、彩色滤光层30与黑色矩阵20上的公共电极71断开不相连，这样的彩色滤光片基板与TFT基板对位组合后，位于所述柱状隔垫物40上的透明导电层72不会将TFT基板中的线路与彩色滤光片基板中的公共电极71连接在一起，从而避免造成短路。
优选的，所述第二隔垫物单元42在黑色矩阵20上的正投影面积为10μm×10μm，所述第一隔垫物单元41、第三隔垫物单元43在黑色矩阵20上的正投影面积均为8μm×8μm。
步骤3、如图12所示，在所述彩色滤光层30、黑色矩阵20、柱状隔垫物40上沉积透明导电薄膜70，形成位于所述衬底基板10、彩色滤光层30与黑色矩阵20上的公共电极71以及位于所述柱状隔垫物40上的透明导电层72，所述公共电极71与透明导电层72断开不相连。
具体的，所述透明导电薄膜70的材料为ITO(氧化铟锡)，即所述公共电极71与透明导电层72的材料均为ITO。
具体的，所述透明导电薄膜70的厚度为0.1μm～0.2μm，即所述公共电极71与透明导电层72的厚度为0.1μm～0.2μm。
由于所述柱状隔垫物40的厚度较大，使得所述透明导电薄膜70分布于所述柱状隔垫物40上方的区域与其它区域之间形成较大的高度差，并且由于所述柱状隔垫物40具有向周围凸出的第二隔垫物单元42，从而具有陡峭的taper角，以上结构设计能够有效隔断透明导电层72与公共电极71，防止二者相连。
具体的，所述第一色阻层51、第二色阻层52、第三色阻层53为红色色阻层、绿色色阻层、蓝色色阻层的任意排列组合。可选的，所述第一色阻层51、第二色阻层52、第三色阻层53分别为红色色阻层、绿色色阻层、蓝色色阻层。
上述彩色滤光片基板的制作方法采用半色调光罩制程来制作彩色滤光层30，在制作彩色滤光层30的过程中制得柱状隔垫物40，能够节省一道单独制作柱状隔垫物40的工艺制程，节省制作柱状隔垫物40的光阻材料与光罩，从而降低生产成本；另外，由于该制作方法简化了彩色滤光片基板的制备工艺，从而能够提高生产效率，提高生产产能。
请参阅图12，基于上述彩色滤光片基板的制作方法，本发明还提供一种彩色滤光片基板，包括：衬底基板10、设于所述衬底基板10上的彩色滤光层30与黑色矩阵20、设于所述黑色矩阵20上的柱状隔垫物40、设于所述衬底基板10、彩色滤光层30及黑色矩阵20上的公共电极71、设于所述柱状隔垫物40顶部的透明导电层72；所述公共电极71与透明导电层72断开不相连；
所述黑色矩阵20在所述衬底基板10上围出间隔设置的数个子像素区，所述数个子像素区包括第一子像素区11、第二子像素区12、第三子像素区13；
所述彩色滤光层30包括位于第一子像素区11内的第一色阻单元31、位于第二子像素区12内的第二色阻单元32、位于第三子像素区13内的第三色阻单元33；
所述柱状隔垫物40由第一隔垫物单元41、第二隔垫物单元42、第三隔垫物单元43中的一层或者多层叠加形成；
所述第一色阻单元31与第一隔垫物单元41均由第一色阻层51构成；所述第二色阻单元32与第二隔垫物单元42均由第二色阻层52构成；所述第三色阻单元33与第三隔垫物单元43均由第三色阻层53构成。
优选的，所述柱状隔垫物40由第一隔垫物单元41、第二隔垫物单元42、第三隔垫物单元43从下至上依次叠加形成。
具体的，所述第一隔垫物单元41的高度大于所述第一色阻单元31的高度；所述第二隔垫物单元42的高度大于所述第二色阻单元32的高度；所述第三隔垫物单元43的高度大于所述第三色阻单元33的高度。
具体的，所述第二隔垫物单元42在黑色矩阵20上的正投影面积略大于所述第一隔垫物单元41、第三隔垫物单元43在黑色矩阵20上的正投影面积，且所述第二隔垫物单元42在黑色矩阵20上的正投影边缘超出所述第一隔垫物单元41、第三隔垫物单元43在黑色矩阵20上的正投影边缘一段距离。
优选的，所述第二隔垫物单元42在黑色矩阵20上的正投影面积为10μm×10μm，所述第一隔垫物单元41、第三隔垫物单元43在黑色矩阵20上的正投影面积均为8μm×8μm。
具体的，所述柱状隔垫物40的厚度为4μm～10μm。
具体的，所述公共电极71与透明导电层72的材料均为ITO。
具体的，所述公共电极71与透明导电层72的厚度为0.1μm～0.2μm。
具体的，所述第一色阻层51、第二色阻层52、第三色阻层53的材料均为负性光阻材料。
具体的，所述第一色阻层51、第二色阻层52、第三色阻层53为红色色阻层、绿色色阻层、蓝色色阻层的任意排列组合。可选的，所述第一色阻层51、第二色阻层52、第三色阻层53分别为红色色阻层、绿色色阻层、蓝色色阻层。
上述彩色滤光片基板采用堆叠色阻层的方式来制作柱状隔垫物40，使得柱状隔垫物40与彩色滤光层30能够在同一制程中形成，从而简化彩色滤光片基板的制备工艺，降低生产成本，并且提高生产效率，提高生产产能。
综上所述，本发明提供一种彩色滤光片基板及其制作方法。本发明的彩色滤光片基板的制作方法采用半色调光罩制程来制作彩色滤光层，在制作彩色滤光层的过程中制得柱状隔垫物，能够节省一道单独制作柱状隔垫物的工艺制程，节省了制作柱状隔垫物的光阻材料与光罩，从而降低生产成本；另外，由于该制作方法简化了彩色滤光片基板的制备工艺，从而能够提高生产效率，提高生产产能。本发明的彩色滤光片基板采用堆叠色阻层的方式来制作柱状隔垫物，使得柱状隔垫物与彩色滤光层能够在同一制程中形成，从而简化彩色滤光片基板的制备工艺，降低生产成本，并且提高生产效率，提高生产产能。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供衬底基板(10)，在所述衬底基板(10)上形成黑色矩阵(20)，所述黑色矩阵(20)在所述衬底基板(10)上围出间隔设置的数个子像素区，所述数个子像素区包括第一子像素区(11)、第二子像素区(12)、第三子像素区(13)；
步骤2、在所述衬底基板(10)上形成彩色滤光层(30)，在制作彩色滤光层(30)的过程中形成位于黑色矩阵(20)上的柱状隔垫物(40)；
所述彩色滤光层(30)包括位于第一子像素区(11)内的第一色阻单元(31)、位于第二子像素区(12)内的第二色阻单元(32)、位于第三子像素区(13)内的第三色阻单元(33)；
所述柱状隔垫物(40)由第一隔垫物单元(41)、第二隔垫物单元(42)、第三隔垫物单元(43)中的一层或者多层叠加形成；
所述第一色阻单元(31)与第一隔垫物单元(41)均由第一色阻层(51)构成；所述第二色阻单元(32)与第二隔垫物单元(42)均由第二色阻层(52)构成；所述第三色阻单元(33)与第三隔垫物单元(43)均由第三色阻层(53)构成；
步骤3、在所述衬底基板(10)、彩色滤光层(30)、黑色矩阵(20)、柱状隔垫物(40)上沉积透明导电薄膜(70)，形成位于所述衬底基板(10)、彩色滤光层(30)与黑色矩阵(20)上的公共电极(71)以及位于所述柱状隔垫物(40)上的透明导电层(72)，所述公共电极(71)与透明导电层(72)断开不相连。
2.如权利要求1所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述柱状隔垫物(40)由第一隔垫物单元(41)、第二隔垫物单元(42)、第三隔垫物单元(43)从下至上依次叠加形成。
3.如权利要求2所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2包括：
步骤21、在所述衬底基板(10)与黑色矩阵(20)上形成第一色阻层(51)，采用第一半色调光罩(61)对所述第一色阻层(51)进行曝光、显影，制得位于第一子像素区(11)内的第一色阻单元(31)、位于黑色矩阵(20)上的第一隔垫物单元(41)，所述第一色阻单元(31)与第一隔垫物单元(41)均由第一色阻层(51)构成，且所述第一隔垫物单元(41)的高度大于所述第一色阻单元(31)的高度；
步骤22、在所述衬底基板(10)、黑色矩阵(20)、第一色阻单元(31)、第一隔垫物单元(41)上形成第二色阻层(52)，采用第二半色调光罩(62)对所述第二色阻层(52)进行曝光、显影，制得位于第二子像素区(12)内的第二色阻单元(32)、位于第一隔垫物单元(41)上的第二隔垫物单元(42)；
所述第二色阻单元(32)与第二隔垫物单元(42)均由第二色阻层(52)构成，且所述第二隔垫物单元(42)的高度大于所述第二色阻单元(32)的高度；
步骤23、在所述衬底基板(10)、黑色矩阵(20)、第一色阻单元(31)、第二色阻单元(32)、第二隔垫物单元(42)上形成第三色阻层(53)，采用第三半色调光罩(63)对所述第三色阻层(53)进行曝光、显影，制得位于第三子像素区(13)内的第三色阻单元(33)、位于第二隔垫物单元(42)上的第三隔垫物单元(43)，所述第三色阻单元(33)与第三隔垫物单元(43)均由第三色阻层(53)构成，且所述第三隔垫物单元(43)的高度大于所述第三色阻单元(33)的高度；
在黑色矩阵(20)上依次叠加的第一隔垫物单元(41)、第二隔垫物单元(42)、第三隔垫物单元(43)共同构成柱状隔垫物(40)；
所述第一色阻单元(31)、第二色阻单元(32)、第三色阻单元(33)共同构成彩色滤光层(30)。
4.如权利要求3所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述第一色阻层(51)的材料为负性光阻材料；
所述第一半色调光罩(61)上设有对应于第一色阻单元(31)的第一开口区域(611)与对应于第一隔垫物单元(41)的第二开口区域(612)，所述第二开口区域(612)的透光率大于所述第一开口区域(611)的透光率；
所述第二色阻层(52)的材料为负性光阻材料；
所述第二半色调光罩(62)上设有对应于第二色阻单元(32)的第三开口区域(623)与对应于第二隔垫物单元(42)的第四开口区域(624)，所述第四开口区域(624)的透光率大于所述第三开口区域(623)的透光率；
所述第三色阻层(53)的材料为负性光阻材料；
所述第三半色调光罩(63)上设有对应于第三色阻单元(33)的第五开口区域(635)与对应于第三隔垫物单元(43)的第六开口区域(636)，所述第六开口区域(636)的透光率大于所述第五开口区域(635)的透光率。
5.如权利要求2所述的彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述第二隔垫物单元(42)在黑色矩阵(20)上的正投影面积大于所述第一隔垫物单元(41)、第三隔垫物单元(43)在黑色矩阵(20)上的正投影面积，且所述第二隔垫物单元(42)在黑色矩阵(20)上的正投影边缘超出所述第一隔垫物单元(41)、第三隔垫物单元(43)在黑色矩阵(20)上的正投影边缘一段距离。
6.一种彩色滤光片基板，其特征在于，包括：衬底基板(10)、设于所述衬底基板(10)上的彩色滤光层(30)与黑色矩阵(20)、设于所述黑色矩阵(20)上的柱状隔垫物(40)、设于所述衬底基板(10)、彩色滤光层(30)及黑色矩阵(20)上的公共电极(71)、设于所述柱状隔垫物(40)顶部的透明导电层(72)；所述公共电极(71)与透明导电层(72)断开不相连；
所述黑色矩阵(20)在所述衬底基板(10)上围出间隔设置的数个子像素区，所述数个子像素区包括第一子像素区(11)、第二子像素区(12)、第三子像素区(13)；
所述彩色滤光层(30)包括位于第一子像素区(11)内的第一色阻单元(31)、位于第二子像素区(12)内的第二色阻单元(32)、位于第三子像素区(13)内的第三色阻单元(33)；
所述柱状隔垫物(40)由第一隔垫物单元(41)、第二隔垫物单元(42)、第三隔垫物单元(43)中的一层或者多层叠加形成；
所述第一色阻单元(31)与第一隔垫物单元(41)均由第一色阻层(51)构成；所述第二色阻单元(32)与第二隔垫物单元(42)均由第二色阻层(52)构成；所述第三色阻单元(33)与第三隔垫物单元(43)均由第三色阻层(53)构成。
7.如权利要求6所述的彩色滤光片基板，其特征在于，所述柱状隔垫物(40)由第一隔垫物单元(41)、第二隔垫物单元(42)、第三隔垫物单元(43)从下至上依次叠加形成。
8.如权利要求7所述的彩色滤光片基板，其特征在于，所述第一隔垫物单元(41)的高度大于所述第一色阻单元(31)的高度；所述第二隔垫物单元(42)的高度大于所述第二色阻单元(32)的高度；所述第三隔垫物单元(43)的高度大于所述第三色阻单元(33)的高度。
9.如权利要求7所述的彩色滤光片基板，其特征在于，所述第二隔垫物单元(42)在黑色矩阵(20)上的正投影面积大于所述第一隔垫物单元(41)、第三隔垫物单元(43)在黑色矩阵(20)上的正投影面积，且所述第二隔垫物单元(42)在黑色矩阵(20)上的正投影边缘超出所述第一隔垫物单元(41)、第三隔垫物单元(43)在黑色矩阵(20)上的正投影边缘一段距离。
10.如权利要求7所述的彩色滤光片基板，其特征在于，所述柱状隔垫物(40)的厚度为4μm～10μm；所述公共电极(71)与透明导电层(72)的厚度为0.1μm～0.2μm。
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