CN101266803A - 圆盘状基板的制造方法、清洗装置 - Google Patents

Abstract

一种圆盘状基板的制造方法、清洗装置，使得能够实现更加稳定的擦洗，制造出颗粒少的良好圆盘状基板。该圆盘状基板的清洗装置在供给清洗液的同时对圆盘状基板(10)的表面进行擦洗，该清洗装置包括：圆筒形的第一多孔质辊子(110a)，其可以与圆盘状基板(10)的第一面接触；圆筒形的第二多孔质辊子(110b)，其可以与圆盘状基板(10)的第二面接触；以及轴间距离变更机构，其使第一多孔质辊子(110a)和第二多孔质辊子(110b)在改变它们的轴间距离的方向即x方向上移动，该轴间距离变更机构使第一多孔质辊子(110a)和第二多孔质辊子(110b)停止在预先设定的轴间位置上，并与圆盘状基板(10)接触。

Description

圆盘状基板的制造方法、清洗装置

技术领域

本发明涉及例如磁记录介质用玻璃基板等的圆盘状基板的制造方法等。

背景技术

随着对记录介质的需要的提高，近年来，作为圆盘状基板的盘式基板的制造也活跃起来。作为这种盘式基板之一的磁盘基板，广泛使用铝基板和玻璃基板。这种铝基板在加工性高且价格低廉这方面具有特长，而玻璃基板在强度、表面的平滑性、平坦性优良这方面具有特点。尤其是最近，盘式基板的小型化和高密度化的要求显著增高，从而对减小基板表面的粗糙度并可实现高密度化的玻璃基板的关注度变高了。

对于这种磁盘基板，例如当基板上存在大的颗粒时，该部分会导致误差缺陷。尤其是经过研磨工序后的磁盘基板的表面被活化，容易吸附颗粒。因而，在磁盘基板的制造方法中，除了维持高平滑性之外，除去在基板表面上附着的颗粒也成为重要的作业。

作为涉及除去该颗粒的公报记载的现有技术，公开有如下的装置(例如，参照专利文献1。)：该装置具有在上表面粘接有布(研磨布)的转台、和保持半导体芯片并将其按压在转台上的顶圈，通过从研磨液喷嘴流出研磨液进行研磨，并将附着在研磨面上的微小的颗粒除去。

另外，作为另一公报记载的现有技术，存在具有如下部件的装置(例如，参照专利文献2。)：一对清洗用擦洗垫(scrub pad)；在这些清洗用擦洗垫之间对盘进行旋转驱动的同时支撑盘的支撑辊子；以及供给清洗液的喷嘴。该专利文献2的清洗用擦洗垫被夹在作为清洗对象的两张盘式基板的整个直径方向之间。而且，随着一对清洗用擦洗垫的旋转，盘式基板的整个直径方向的表背面与一对擦洗垫接触，由此盘式基板的表里面得到清洗。

专利文献1：日本特开平10-150008号公报

专利文献2：日本特开2002-74653号公报

此处，以往进行的擦洗是利用例如气缸的按压压力将例如辊式海绵或刷子、研磨布等按压在作为清洗对象的盘上来进行的。即，附着在盘表面上的颗粒由以比较大的面积用力挤压的海绵或刷子、研磨布等的物理性的力除去。但是，当像这样在比较大的面积上挤压进行清洗时，因挤压状态和挤压部位而使物理性的力不同，容易产生清洗差异。尤其是在同时接触比较大的面积的情况下，因盘的接触位置而使接触状态不同，或者因区域不同而使清洗能力产生差别，难以进行均匀的清洗。

发明内容

本发明就是为了解决所述技术上的课题而完成的，其目的在于能够实现更加稳定的擦洗，并制造出颗粒少的良好的圆盘状基板。

为了达到所述目的，本发明的特征在于，圆盘状基板的制造方法具有使用被旋转驱动的圆筒形的第一多孔质辊子和第二多孔质辊子分别擦洗圆盘状基板的第一面和第二面的清洗工序，该擦洗工序在确定了夹着圆盘状基板的第一多孔质辊子和第二多孔质辊子的轴间距离、并控制了所确定的轴间距离的状态下进行擦洗。

此处，当处于该“控制了所确定的轴间距离的状态”之下，第一多孔质辊子和第二多孔质辊子停止在预先确定的轴间位置上，并使该第一多孔质辊子和第二多孔质辊子与圆盘状基板接触。与不采用本结构的情况相比，第一多孔质辊子和第二多孔质辊子能以并非近乎面状、而是更近乎线状的状态与圆盘状基板接触。

另外，本发明的特征在于，该第一多孔质辊子和第二多孔质辊子在圆盘状基板的半径方向上被往复驱动。

并且，如果特征在于通过被往复驱动，第一多孔质辊子和第二多孔质辊子抵接在圆盘状基板上的范围是圆盘状基板的外径与内径之差的1/2，则尤其是在使圆盘状基板从动旋转的情况下能够更加顺畅地进行圆盘状基板的旋转，实现更加良好的清洗。

另外，如果特征在于该第一多孔质辊子和第二多孔质辊子的日本ASKER(アスカ-)F硬度为80～95，则与不采用本结构的情况相比，本发明在更近乎线状的状态下使第一多孔质辊子和第二多孔质辊子与圆盘状基板接触的方面也是优选的。

另一方面，当从另一范畴考虑本发明时，本发明的特征在于，该清洗装置在供给清洗液的同时对圆盘状基板的第一面和第二面进行擦洗，该清洗装置包括：圆筒形的第一多孔质辊子，其可以与圆盘状基板的第一面接触；圆筒形的第二多孔质辊子，其与该第一多孔质辊子对置设置，并可以与圆盘状基板的第二面接触；以及轴间距离变更机构，其改变该第一多孔质辊子与第二多孔质辊子之间的轴间距离，该轴间距离变更机构使第一多孔质辊子和第二多孔质辊子以预先设定的轴间距离停止，并使该第一多孔质辊子和第二多孔质辊子与圆盘状基板接触。

此处，本发明的特征在于，该清洗装置还包括：旋转机构，该旋转机构使在轴间距离变更机构作用下移动并沿轴间方向以预先确定的轴间距离停止从而与圆盘状基板接触的第一多孔质辊子和第二多孔质辊子旋转；以及往复移动机构，该往复移动机构使在轴间距离变更机构作用下以预先确定的轴间距离停止并在旋转机构作用下旋转的第一多孔质辊子和第二多孔质辊子，沿圆盘状基板的半径方向往复移动。

并且，如果特征在于该往复移动机构使第一多孔质辊子和第二多孔质辊子往复移动到第一多孔质辊子和第二多孔质辊子抵接在圆盘状基板上的范围为圆盘状基板的外径与内径之差的1/2，并多次实施该往复移动则本发明能够对圆盘状基板的第一面和第二面的整体实现良好的清洗。

另外，本发明的特征在于该轴间距离变更机构具有使第一多孔质辊子移动的第一伺服电动机和使第二多孔质辊子移动的第二伺服电动机，并对预先确定的轴间距离进行控制。

与不采用这些结构的情况相比，根据构成为以上这样的本发明能够进行更加稳定的清洗，更好地除去颗粒。

附图说明

图1A-图1H是表示应用本实施方式的圆盘状基板(盘式基板)的制造工序的图。

图2是表示执行擦洗工序的擦洗系统的整体结构的图。

图3是用于说明擦洗装置的外观图。

图4是表示利用擦洗装置的一对多孔质辊子对作为被清洗物的圆盘状基板进行擦洗的状态的说明图。

图5是表示擦洗工序的流程图。

图6是表示擦洗装置的另一示例的图。

标号说明

10：圆盘状基板；100：擦洗装置；110：多孔质辊子；110a：第一多孔质辊子；110b：第二多孔质辊子；120：旋转机构；130：x方向移动机构；140：y方向移动机构；151：喷嘴；200：安装/拆卸装置；300：清洗区；320：旋转支撑部。

具体实施方式

下面，参照附图，对本发明的实施方式进行详细的说明。

图1A-H是表示应用本实施方式的圆盘状基板(盘式基板)的制造工序的图。在该制造工序中，首先，在如图1A所示的一次研磨工序中，将圆盘状基板(工件)10的原材料载置于平台21上，对圆盘状基板10的平面11进行磨削。此时，在载置有圆盘状基板10的平台21的表面上，分散地嵌入有例如金刚石的磨粒。

接着，在图1B所示的内外周磨削工序中，利用内周磨石22对在圆盘状基板10的中心开设有的开孔(hole)的内周12进行磨削，利用外周磨石23对圆盘状基板10的外周13进行磨削。此时，以主要提高同心度为目的，利用内周磨石22和外周磨石23以沿圆盘状基板10的半径方向夹入的方式同时对圆盘状基板10的内周12的面(内周面)和外周13的面(外周面)进行加工。在该内周磨石22和外周磨石23的表面分散嵌有例如金刚石的磨粒。

在图1C所示的外周研磨工序中，首先，在供给浆液(研磨液)的同时使用作为外周研磨用刷的含有磨粒的刷子50对在图1B所示的内外周磨削工序中被磨削的圆盘状基板10的外周13进行刷研磨，此后，一边供给浆液一边使用树脂刷60进行刷研磨。

然后，在图1D所示的二次研磨工序中，将圆盘状基板10载置于平台21上，进一步对圆盘状基板10的平面11进行磨削。

接着，在图1E所示的内周研磨工序中，将内周研磨用刷25插入圆盘状基板10的中心的开孔中，对圆盘状基板10的内周12进行研磨。此后，在如图1F所示的一次/二次抛光工序中，将圆盘状基板10载置于平台27上，对圆盘状基板10的平面11进行研磨。在此时的研磨中，在一次抛光工序中将例如无纺布(研磨布)用作硬质抛光器，在二次抛光工序中进行使用软质抛光器的平面研磨。

此后，在图1G所示的擦洗工序中，使用圆筒形的两个多孔质辊子110对圆盘状基板10的表面(平面11的两个面)进行擦洗，并除去在表面附着的颗粒。

此后，在图1H所示的最终清洗、检查工序中进行清洗和检查，从而制造出作为盘式基板的圆盘状基板10。

此处，对本实施方式的特征性的工序即图1G所示的擦洗工序进行详细的说明。

图2是表示执行擦洗工序的擦洗系统的整体结构的图。在图2所示的擦洗系统中，在进行清洗作业的清洗区300内同时执行四个工序。此处，用于进行作为工件的圆盘状基板10的安装/拆卸的安装/拆卸装置200和用于进行三段式(三个清洗台)擦洗而分开配置的三个擦洗装置100(100a、100b、100c)，在清洗区300中彼此相差90度的角度地分开配置。这三个擦洗装置100(100a、100b、100c)通过闸门(Shutter，未图示)被分隔成一个个室，向各室中喷雾(供给)不同的清洗液进行清洗。

在安装/拆卸区域中，安装/拆卸装置200利用预定的拾取装置(未图示)将例如通过输送机(未图示)被搬运来的擦洗前的圆盘状基板10抬起，并安装于清洗区300的旋转支撑部320上。例如在存在有三个旋转支撑部320的情况下，首先，借助于两个旋转支撑部320支撑圆盘状基板10，然后使第三个旋转支撑部320与圆盘状基板10接触，从而三点支撑圆盘状基板10。

在清洗区300内，将支撑在旋转支撑部320上的圆盘状基板10，在清洗区300内旋转90度(在图2中沿顺时针)，利用第一擦洗装置100(100a)执行第一阶段的擦洗。在该第一阶段的擦洗中，喷雾例如含有表面活性剂的酸性清洗液来执行擦洗。然后，在清洗区300内将执行了该第一阶段的擦洗后的圆盘状基板10旋转90度(在图2中沿顺时针)，利用第二擦洗装置100(100b)执行第二阶段的擦洗。在该第二阶段的擦洗中，喷雾例如含有表面活性剂的碱性清洗液来执行擦洗。然后，在清洗区300内将执行了该第二阶段的擦洗后的圆盘状基板10旋转90度(在图2中沿顺时针)，利用第三擦洗装置100(100c)执行第三阶段的擦洗。在该第三阶段的擦洗中，喷雾例如RO水(反渗透水)或超纯水的清洗液来执行擦洗。

在利用第三擦洗装置100(100c)执行了第三阶段的擦洗之后，在清洗区300内将圆盘状基板10旋转90度(在图2中沿顺时针)，将清洗后的圆盘状基板10移动到安装/拆卸区域。设在安装/拆卸区域中的安装/拆卸装置200，避开旋转支撑部320中的一个(例如上方的旋转支撑部320)，利用预定的拾取装置(未图示)抬起擦洗后的圆盘状基板10，并将其从清洗区300取出。被取出的擦洗后圆盘状基板10被搬运到未图示的收纳位置。

下面，对擦洗装置100(100a～100c)进行说明。

图3是用于说明应用本实施方式的擦洗装置100的外观图。该擦洗装置100具有从圆盘状基板10的两个面(第一面和第二面)夹入该圆盘状基板10并进行接触旋转的一对圆筒形的多孔质辊子110。而且，作为用于使各多孔质辊子110旋转的机构，具有两组旋转机构120。该旋转机构120包括：辊子驱动电动机121，其作为使多孔质辊子110旋转的驱动源；和驱动机构122，其将辊子驱动电动机121的驱动力传递到多孔质辊子110。该驱动机构122采用带轮和带的机构。辊子驱动电动机121和驱动机构122分别与两个多孔质辊子110(第一多孔质辊子和第二多孔质辊子)相对应地进行配置。

另外，擦洗装置100具有x方向移动机构130，该x方向移动机构130作为可实现将两个多孔质辊子110(第一多孔质辊子和第二多孔质辊子)沿轴间方向(后述的x方向)移动的机构。分别与两组旋转机构120对应地设有两组x方向移动机构130。该x方向移动机构130具有对轴间距离进行控制的x方向移动伺服电动机131和支撑旋转机构120并使其移动的x方向移动台132。x方向移动机构130分别与两个多孔质辊子110(第一多孔质辊子和第二多孔质辊子)相对应地配置，以便改变两个多孔质辊子110(第一多孔质辊子和第二多孔质辊子)各自的x方向距离，从而能够移动两个多孔质辊子110(第一多孔质辊子和第二多孔质辊子)的轴间距离，并维持轴间位置。

另外，擦洗装置100具有y方向移动机构140，该y方向移动机构140作为用于使多孔质辊子110沿该多孔质辊子110的轴向(后述的y方向)往复移动的机构。在本实施方式中，是为了使两组x方向移动机构130各自沿y方向往复移动而设有两组y方向移动机构140的。各y方向移动机构140具有作为y方向移动的驱动源的y方向移动伺服电动机141和支承x方向移动机构130并使其移动的y方向移动台142。

另外，擦洗装置100具有用于向圆盘状基板10喷雾清洗液的喷嘴151。如上所述，在图2所示的三段式(三个清洗台)的擦洗中，从各喷嘴151喷雾出成分不同的清洗液。然而，也可以根据上一工序的磨削/研磨中使用的浆液的组成内容来适当地选定要使用的清洗液。

图4是表示通过擦洗装置100的一对多孔质辊子110(可与圆盘状基板10的第一面接触的第一多孔质辊子110a和可与圆盘状基板10的第二面接触的第二多孔质辊子110b)，对作为被清洗物的圆盘状基板10进行擦洗的状态的说明图。圆盘状基板10被三个旋转支承部320三点支撑并可以旋转。借助于图3所示的两组x方向移动机构130，一对多孔质辊子110能够向图4所示的x方向移动。在进行清洗时，使第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b向使它们的轴间位置相接近的方向移动，并停止在预先设定的轴间位置上。此时，第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b，在与圆盘状基板10接触的状态下停止。此后，第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b通过图3所示的两组旋转机构120沿图4所示的R方向进行旋转。通过该R方向的旋转使处于接触中的圆盘状基板10沿图中的T方向从动旋转。另外，第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b这两者一边沿R方向旋转，一边通过图3所示的两组y方向移动机构140同时在图4所示的y方向(多孔质辊子110的轴向、圆盘状基板10的半径方向)上往复移动。

一对多孔质辊子110(第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b)使用例如将作为亲水性高分子的PVA(聚乙烯咔唑)用作原料的辊子，与以往的海绵辊子相比，是采用了硬质的材料。对于硬质的程度优选例如日本ASKER(アスカ一)F硬度平均在85左右。通过使用比较硬质的辊子能够将多孔质辊子110(第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b)与圆盘状基板10的接触，从以往的面接触状态变为更加近乎于线接触的状态。由此，能够使多孔质辊子110相对于圆盘状基板10的物理性接触状态均匀化，其结果是，能够更加良好地保持接触部位的清洗状态。

下面，对使用所述擦洗装置100执行的擦洗处理的流程进行说明。

图5是表示擦洗工序的流程图。当使用图2～图4进行说明时，首先，安装/拆卸装置200通过预定的拾取装置(未图示)抬起一张例如经由输送机(未图示)被搬运的擦洗前的圆盘状基板10，并将其放置在清洗区300的旋转支承部320上。然后，利用另一旋转支承部320按压圆盘状基板10(步骤101)。然后，在清洗区300内，将圆盘状基板10旋转90度，将圆盘状基板10向第一清洗位置(清洗台)移动(步骤102)。

利用设在第一清洗位置的第一擦洗装置100a，对一对x方向移动伺服电动机131进行控制而使一对多孔质辊子110(第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b)沿图4中的x方向上向两者相接近的方向移动，并移动到预定位置(步骤103)。该预定位置是通过考虑作为工件的圆盘状基板10的厚度来确认一对多孔质辊子110与工件之间的接触状态而设定的轴间位置(轴间距离)，并通过x方向移动伺服电动机131的高度控制来实现定位。此后，一边喷雾第一清洗液，一边对辊子驱动电动机121进行驱动，使一对多孔质辊子110(第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b)沿图4中的R方向进行旋转。与此同时，控制一对y方向移动伺服电动机141，从而使一对多孔质辊子110(第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b)同时沿图4所示的y方向(圆盘状基板10的半径方向)往复移动预定次数(步骤104)。此时，圆盘状基板10借助于多孔质辊子110沿R方向的旋转而沿T方向从动旋转。

此处，一对多孔质辊子110(第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b)通过被沿该y方向(圆盘状基板10的半径方向)往复驱动而抵接在圆盘状基板10上的范围，是圆盘状基板10的一个半径方向、即圆盘状基板10的外径与内径之差的1/2。当多孔质辊子110越过圆盘状基板10的中心而同时抵接在圆盘状基板10的直径方向的两个半径方向区域的部分上时，圆盘状基板10向图4中的T方向的从动旋转受到限制，得不到良好的清洗效果。即，由于对辊子的作用力方向是相对于圆盘状基板的中心相反的方向，所以辊子的从动旋转变得不稳定，清洗效果也不稳定。因而，多孔质辊子110的往复移动所确定的抵接范围，是圆盘状基板10的外径与内径之差的1/2的范围。通过使圆盘状基板10向T方向旋转，即使使用通过往复移动仅与半径区域接触的多孔质辊子110，也能够清洗整个圆盘状基板10。

此后，将圆盘状基板10在清洗区300内旋转90度，从而使圆盘状基板10向第二清洗位置移动(步骤105)。此后，利用处于第二清洗位置的第二擦洗装置100b，控制一对x方向移动伺服电动机131，从而使一对多孔质辊子110(第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b)在图4中的x方向上向使两者相接近的方向移动，并移动到预定位置(步骤106)。该预定位置是与所述的第一擦洗装置100a同样地进行设定的。然后，一边喷雾第二清洗液，一边驱动辊子驱动电动机121，使一对多孔质辊子110沿图4中的R方向旋转。与此同时，控制一对y方向移动伺服电动机141，使一对多孔质辊子110同时沿图4所示的y方向(圆盘状基板10的半径方向)往复移动预定次数(步骤107)。由此，在第二清洗位置进行的清洗结束。

此后，将圆盘状基板10在清洗区300内再旋转90度，从而使圆盘状基板10向第三清洗位置移动(步骤108)。然后，利用处于第三清洗位置的第三擦洗装置100c，控制一对x方向移动伺服电动机131，使一对多孔质辊子110(第一多孔质辊子110a和第二多孔质辊子110b)在图4中的x方向上向使两者接近的方向移动，并移动到预定位置(步骤109)。该预定位置是与所述的第一擦洗装置100a(和第二擦洗装置100b)同样地进行设定的。然后，一边喷雾第三清洗液，一边驱动辊子驱动电动机121，使一对多孔质辊子110沿图4中的R方向进行旋转。与此同时，控制一对y方向移动伺服电动机141，使一对多孔质辊子110同时沿图4所示的y方向(圆盘状基板10的半径方向)往复移动预定次数(步骤110)。由此，在第三清洗位置进行的清洗结束。此后，将圆盘状基板10在清洗区300内旋转90度，将清洗后的圆盘状基板10移动到安装/拆卸位置。然后，利用安装/拆卸装置200将圆盘状基板10拆卸下来(步骤111)，从而一系列的清洗工序结束。

另外，在清洗区300内，安装、第一擦洗～第三擦洗、拆卸各个作业，在图2所示的相差90度的四个作业区域内同时进行。即，图5所示的擦洗工序是将处理错开连续进行的。由此，能够大幅度地缩短作业时间。

接着，如下示出采用本实施方式的一个实施例。

·盘的种类：1.89英寸

圆盘状基板10

外径：48mm

内径：12mm

厚度：0.55mm

·多孔质辊子110：

材质：PVF(聚乙烯醇缩甲醛)

硬度：日本ASKER F硬度平均为80～95(85-5～85+10)

形状：外径24mm、内径8mm、长度40mm

·各阶段(清洗台)

x方向的进给量：20mm±3mm

y方向的进给量：约10mm

y方向的移动次数(往复)：四次

多孔质辊子110的转速：300rpm

例如，(外径-内径)÷2＝(48-12)÷2＝18mm，即，由于y方向的进给量为约10mm，长度40mm的一对多孔质辊子110和所述圆盘状基板10相抵接的范围是该18mm。

根据所述实施例所进行的试验的结果是，对于0.25μm以上大小的颗粒，即使其个数在清洗前为平均10个/1个面，在清洗后也能够变为平均3个以下/1个面。另外，在圆盘状基板10上，能够使不同区域的清洗状态无差别地对圆盘状基板10整体进行良好的清洗。

下面，对本实施方式的变形例进行说明。

图6是表示擦洗装置100的另一示例的图。图6所示的擦洗装置100的特征在于具有带单元170。例如在图2所示的第一擦洗装置100(100a)等要求更加精密的清洗等情况下，可以使用带单元170。该带单元170分别与一对辊子110c相对应地设置有两个。各带单元170具有：张设在各多孔质辊子110上的带171；带171的供给部172和带171的缠绕部173。而且，各带单元170的带171与圆盘状基板10接触并用于擦洗。作为这里使用的带171例如使用无纺布、或塑料纤维中浸渍有研磨部件的带等。另外，张设有带的辊子110c是代替多孔质辊子110而设置的，其材质例如可以使用PVF(聚乙烯醇缩甲醛)、POM(聚缩醛)、PBT(聚丁烯对酞酸盐)、PET(乙二醇对苯二甲酸盐)等。

在该变形例中也同样地控制一对x方向移动伺服电动机131，使一对辊子110c在图4中的x方向上向使两者相接近的方向移动，并移动到预定位置上，使带171与圆盘状基板10接触并停止。此后，一边喷雾清洗液，一边使辊子110c沿R方向旋转，并在图4中的y方向上往复移动。当辊子110c旋转时，张设在该辊子110c上的带171沿图6中的箭头方向旋转，带171的新的面依次与圆盘状基板10接触。由此，能够更加良好地进行圆盘状基板10上的颗粒的除去。特别是在颗粒的量多的情况下能够实现更加优选的擦洗。

以上，如上所述，根据本实施方式，能够减轻不同区域的清洗能力的差别，进行均匀的清洗。在以往的擦洗中，例如以用气缸挤压的方式从两侧夹入例如柔软的海绵来进行清洗，然而在所涉及的方法中，在单侧会留有瑕疵等，无法完全除去颗粒。但是，与不采用本结构的情况相比，根据本实施方式，能够在更接近线的状态下使清洗用的部件(多孔质辊子110和带171)接触圆盘状基板10。由此，能够良好地保持与圆盘状基板10的接触状态，良好地除去在被活性化的圆盘状基板10的表面上附着的颗粒，抑制清洗差异。

Claims (8)

1、一种圆盘状基板的制造方法，其特征在于，

该圆盘状基板的制造方法具有使用被旋转驱动的圆筒形的第一多孔质辊子和第二多孔质辊子分别擦洗圆盘状基板的第一面和第二面的擦洗工序，

所述擦洗工序在确定了夹着所述圆盘状基板的所述第一多孔质辊子和所述第二多孔质辊子的轴间距离、并控制了所确定的该轴间距离的状态下进行擦洗。

2、根据权利要求1所述的圆盘状基板的制造方法，其特征在于，

所述第一多孔质辊子和所述第二多孔质辊子，在所述圆盘状基板的半径方向上被往复驱动。

3、根据权利要求2所述的圆盘状基板的制造方法，其特征在于，

通过被往复驱动，所述第一多孔质辊子和所述第二多孔质辊子抵接在所述圆盘状基板上的范围是该圆盘状基板的外径与内径之差的1/2。

4、根据权利要求1所述的圆盘状基板的制造方法，其特征在于，

所述第一多孔质辊子和所述第二多孔质辊子的日本ASKER F硬度为80～95。

5、一种清洗装置，该清洗装置在供给清洗液的同时对圆盘状基板的第一面和第二面进行擦洗，其特征在于，

该清洗装置包括：

圆筒形的第一多孔质辊子，其可以与所述圆盘状基板的所述第一面接触；

圆筒形的第二多孔质辊子，其与所述第一多孔质辊子对置设置，并可以与所述圆盘状基板的所述第二面接触；以及

轴间距离变更机构，其改变所述第一多孔质辊子与所述第二多孔质辊子的轴间距离，

所述轴间距离变更机构使所述第一多孔质辊子和所述第二多孔质辊子以预先确定的轴间距离停止，并使该第一多孔质辊子和该第二多孔质辊子与所述圆盘状基板接触。

6、根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，

该清洗装置还包括：

旋转机构，该旋转机构使在所述轴间距离变更机构作用下移动并以所述预先确定的轴间距离停止从而与所述圆盘状基板接触的所述第一多孔质辊子和所述第二多孔质辊子旋转；以及

往复移动机构，该往复移动机构使在所述轴间距离变更机构作用下以所述预先确定的轴间距离停止并在所述旋转机构作用下旋转的所述第一多孔质辊子和所述第二多孔质辊子，沿所述圆盘状基板的半径方向往复移动。

7、根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，

所述往复移动机构使所述第一多孔质辊子和所述第二多孔质辊子往复移动到该第一多孔质辊子和该第二多孔质辊子抵接在所述圆盘状基板上的范围为该圆盘状基板的外径与内径之差的1/2，并多次实施该往复移动。

8、根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，

所述轴间距离变更机构具有使所述第一多孔质辊子移动的第一伺服电动机和使所述第二多孔质辊子移动的第二伺服电动机，并对所述预先确定的轴间距离进行控制。

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