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CN106959477B - 光学膜、光学膜的制造方法、偏振片和图像显示装置 - Google Patents

光学膜、光学膜的制造方法、偏振片和图像显示装置 Download PDF

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CN106959477B CN201710010492.6A CN201710010492A CN106959477B CN 106959477 B CN106959477 B CN 106959477B CN 201710010492 A CN201710010492 A CN 201710010492A CN 106959477 B CN106959477 B CN 106959477B
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Abstract

本发明涉及光学膜、光学膜的制造方法、偏振片和图像显示装置。本发明提供一种输送性良好且雾度低的光学膜。本发明的光学膜是含有环烯烃树脂、微粒和表面调节剂的光学膜，上述表面调节剂含有有机硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一种，膜两面中表面粗糙度Ra高的面的表面粗糙度Ra在3.0～50.0nm的范围内。

Description

光学膜、光学膜的制造方法、偏振片和图像显示装置
技术领域
本发明涉及光学膜、光学膜的制造方法、偏振片和图像显示装置。本发明特别涉及输送性良好且雾度低的光学膜、这种光学膜的制造方法、具备这种光学膜的偏振片和图像显示装置。
背景技术
以往，在电视、笔记本电脑和智能手机等图像显示装置中搭载偏振片，该偏振片具备起偏器和保护膜等而构成。
作为构成保护膜的材料，例如，已知纤维素酯树脂、聚碳酸酯和环烯烃树脂等。这些之中，从具有高的耐热性和耐湿性的观点出发，优选使用环烯烃树脂。
此外，近年来，图像显示装置中使用的光学构件进行薄膜化，环烯烃树脂膜也在薄膜的状态下使用。薄膜的环烯烃树脂膜在制造该膜时和制造使用该膜的偏振片时，为了保持膜品质，有时在膜两面中一面上贴合有保护膜的状态下输送。
然而，若使用保护膜，则该保护膜存在缺陷时，存在该缺陷会转印至环烯烃树脂膜的问题。进而，也存在由于保护膜与环烯烃树脂膜的热膨胀系数差，通过在制造偏振片时实施的热矫正而环烯烃树脂膜变形的问题。
因此，若在环烯烃树脂膜上不贴合保护膜的状态下输送而制作偏振片，则在输送时在环烯烃树脂膜上产生表面凹凸不平或起皱、断裂等，会使偏振片的收率显著下降。这是因为，由于环烯烃树脂膜在输送辊上不滑动，对环烯烃树脂膜施加的输送张力变得过量。
作为使环烯烃树脂膜相对于输送辊滑动的方法，已知在环烯烃树脂膜中添加二氧化硅微粒而调整表面粗糙度Ra的方法。然而，在环烯烃树脂的情况下，为了将膜表面设为规定的表面粗糙度Ra，需要添加大量的二氧化硅微粒，由此，由于入射至膜的光发生散射等而雾度上升。若将雾度上升的环烯烃树脂膜用于图像显示装置，则会产生正面对比度下降的问题，引起品质的下降。此外，认为通过例如将含有金属微粒的硬涂层设置于膜表面(例如，参照专利文献1)，也可使膜相对于输送辊滑动，但由于在膜表面上层叠硬涂层，因而膜整体的厚度增大，雾度上升。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-219485号公报
发明内容
本发明是鉴于上述问题·情况而完成的，其解决课题是提供一种输送性良好且雾度低的光学膜、这种光学膜的制造方法、具备这种光学膜的偏振片和图像显示装置。
为了解决本发明所涉及的上述课题，对上述问题的原因等进行了研究，其结果发现，使含有环烯烃树脂的光学膜上含有微粒和表面调节剂，将该光学膜两面中表面粗糙度Ra高的面的表面粗糙度Ra设为规定数值范围内，可以提供输送性良好且雾度低的光学膜。
即，本发明所涉及的课题通过以下方法解决。
1.一种光学膜，其特征在于，含有环烯烃树脂、微粒和表面调节剂，
上述表面调节剂含有有机硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一种，
膜两面中表面粗糙度Ra高的面的表面粗糙度Ra在3.0～50.0nm的范围内。
2.如第1项所述的光学膜，其特征在于，
膜两面中表面粗糙度Ra低的面的表面粗糙度Ra在2.0～20.0nm的范围内，
膜两面的表面粗糙度Ra的差为1.0nm以上。
3.如第1项或第2项所述的光学膜，其特征在于，上述微粒含有硅化合物。
4.一种光学膜的制造方法，其特征在于，是制造第1项～第3项中任一项所述的光学膜的光学膜的制造方法，
通过使用二种以上的溶剂的溶液浇注法而制造。
5.一种偏振片，其特征在于，具备：
起偏器、以及
第1项～第3项中任一项所述的光学膜。
6.如第5项所述的偏振片，其特征在于，上述起偏器粘接于上述光学膜的两面中表面粗糙度Ra低的面。
7.一种图像显示装置，其特征在于，具备第1项～第3项中任一项所述的光学膜。
根据本发明，可以提供输送性良好且雾度低的光学膜、这种光学膜的制造方法、具备这种光学膜的偏振片和图像显示装置。
对于本发明的效果的表达机理或作用机理，虽然尚未明确，但推测如下。
一般而言，在通过将含有光学膜的组合物的涂料浇注至支撑体上且使溶剂从该膜状物干燥而得到膜的溶液浇注法制造光学膜时，从将膜状物从支撑体剥离时的剥离性的观点出发，优选在涂料中含有低沸点溶剂作为良溶剂。
推测在通过该方法制作光学膜时，上述的微粒和表面调节剂在涂料、膜状物中形成缔合体，该缔合体与良溶剂的亲和性高。因此，在将浇注至支撑体上的膜状物干燥的过程中，上述缔合体与从膜状物挥发的良溶剂一起移动至膜状物的空气界面侧的表面，在该状态下固定化而制造光学膜。由此，可以使微粒与表面调节剂一起偏在于光学膜的单面，将光学膜的两面中一面(空气界面侧的表面)选择性地皲裂，其结果，体现出显著的滑动性。通过对光学膜赋予滑动性，输送性提高，且可以不设置保护膜、硬涂层而抑制表面凹凸不平、起皱的产生，且以高收率制作偏振片。此外，通过与表面调节剂一起含有微粒，可以使微粒偏在于光学膜的单面而选择性地赋予滑动性，因此可以减少微粒的含量，可以制成雾度低的光学膜。进而，通过在制造光学膜时的卷取工序中也对光学膜的单面赋予滑动性，可以抑制缠绕偏移等的产生。
具体实施方式
本发明的光学膜，其特征在于，是含有环烯烃树脂、微粒和表面调节剂的光学膜，上述表面调节剂含有有机硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一种，膜两面中表面粗糙度Ra高的面的表面粗糙度Ra在3.0～50.0nm的范围内。该特征是与各权利要求共通或对应的技术特征。
本发明中，优选膜两面中表面粗糙度Ra低的面的表面粗糙度Ra在2.0～20.0nm的范围内，膜两面的表面粗糙度Ra的差为1.0nm以上。由此，在使起偏器贴合于上述表面粗糙度Ra低的面而制作偏振片时，由于与另一面相比凹凸少，与该起偏器的粘接界面难以产生间隙且可抑制光的散射，在搭载于图像显示装置时可以有效地抑制漏光等问题。此外，通过上述表面粗糙度Ra低的面的表面粗糙度Ra在上述范围内，在该面也体现出滑动性，可进一步提高输送性。此外，通过使膜两面的表面粗糙度Ra存在差，可以将雾度值保持得较低且提高光学膜的输送性。
此外，本发明中，上述微粒优选含有硅化合物。由此，微粒与表面调节剂的亲和性提高，光学膜制膜时可使微粒更可靠地移动至膜内，可更可靠地得到良好的输送性。
本发明的光学膜的制造方法是制造上述光学膜的光学膜的制造方法，其特征在于，通过使用二种以上的溶剂的溶液浇注法而制造。由此，可以制造输送性良好且雾度低的光学膜。
本发明的偏振片的特征在于，具备起偏器和上述光学膜。由此，可以制成雾度低的偏振片。
本发明中，上述起偏器优选粘接于上述光学膜的两面中表面粗糙度Ra低的面。由此，在偏振片制作时可以确保光学膜的输送性，可以以高收率得到偏振片。
本发明的图像显示装置的特征在于，具备上述光学膜。由此，可以提高可视性。
以下，对本发明及其构成要素、以及用于实施本发明的形式·方式详细地进行说明。应予说明，在本申请中，“～”是以包含其前后所记载的数值作为下限值和上限值的意思来使用的。
《1.光学膜的概要》
本发明的光学膜，其特征在于，是含有环烯烃树脂、微粒和表面调节剂的光学膜，表面调节剂含有有机硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一种，膜两面中表面粗糙度Ra高的面的表面粗糙度Ra在3.0～50.0nm的范围内。另外，本发明的光学膜也可以进一步含有后述的各种添加剂、膜制膜时使用的溶剂作为残留溶剂。
1-1.环烯烃树脂
本发明的光学膜中含有的环烯烃树脂优选为环烯烃单体的聚合物、或环烯烃单体与除其以外的共聚性单体的共聚物。
作为环烯烃单体，优选为具有降冰片烯骨架的环烯烃单体，更优选为具有由下述通式(A-1)或(A-2)表示的结构的环烯烃单体。
通式(A-1)
Figure BDA0001204368930000051
通式(A-1)中，R1～R4各自独立地表示氢原子、碳原子数1～30的烃基、或极性基团。p表示0～2的整数。其中，所有R1～R4不同时地表示氢原子，R1和R2不同时地表示氢原子，R3和R4不同时地表示氢原子。
作为通式(A-1)中由R1～R4表示的碳原子数1～30的烃基，例如，优选为碳原子数1～10的烃基，更优选为碳原子数1～5的烃基。碳原子数1～30的烃基例如也可以进一步具有包含卤素原子、氧原子、氮原子、硫原子或硅原子的联结基团。这种联结基团的例子包含羰基、亚氨基、醚键、甲硅烷基醚键、硫醚键等2价的极性基团。碳原子数1～30的烃基的例子包含甲基、乙基、丙基和丁基等。
通式(A-1)中由R1～R4表示的极性基团的例子包含羧基、羟基、烷氧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基、酰胺基和氰基。其中，优选为羧基、羟基、烷氧基羰基和芳氧基羰基，从确保溶液制膜时的溶解性的观点出发，优选为烷氧基羰基和芳氧基羰基。
从提高光学膜的耐热性的观点出发，通式(A-1)中的p优选表示1或2。这是因为，若p表示1或2，则所得的聚合物的体积增大，玻璃化转变温度容易提高。
通式(A-2)
Figure BDA0001204368930000061
通式(A-2)中，R5表示氢原子、碳原子数1～5的烃基、或具有碳原子数1～5的烷基的烷基甲硅烷基。R6表示羧基、羟基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基、酰胺基、氰基、或卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)。p表0～2的整数。
通式(A-1)中的R5优选表示碳原子数1～5的烃基，更优选表示碳原子数1～3的烃基。
通式(A-2)中的R6优选表示羧基、羟基、烷氧基羰基和芳氧基羰基，从确保溶液制膜时的溶解性的观点出发，更优选为烷氧基羰基和芳氧基羰基。
从提高光学膜的耐热性的观点出发，通式(A-2)中的p优选表示1或2。这是因为，若p为1或2，则所得的聚合物的体积增大，玻璃化转变温度容易提高。
具有由通式(A-2)表示的结构的环烯烃单体从提高在有机溶剂中的溶解性的方面出发为优选。一般而言，有机化合物通过破坏对称性来降低结晶性，因此在有机溶剂中的溶解性提高。通式(A-2)中的R5和R6相对于分子的对称轴仅取代在单侧的环结构碳原子，因此分子的对称性低，由此，具有由通式(A-2)表示的结构的环烯烃单体的溶解性高，适合于通过溶液浇注法制造光学膜的情况。
环烯烃单体的聚合物中的具有由通式(A-2)表示的结构的环烯烃单体的含有比例相对于构成环烯烃树脂的全部环烯烃单体的合计例如可以设为70摩尔％以上，优选设为80摩尔％以上，更优选设为100摩尔％。若含有一定以上的具有由通式(A-2)表示的结构的环烯烃单体，则树脂的取向性提高，因此相位差值容易上升。
以下，将具有由通式(A-1)表示的结构的环烯烃单体的具体例示于例示化合物1～14，将具有由通式(A-2)表示的结构的环烯烃单体的具体例示于例示化合物15～34。
Figure BDA0001204368930000081
可与环烯烃单体共聚的共聚性单体的例子包含可与环烯烃单体开环共聚的共聚性单体和可与环烯烃单体加成共聚的共聚性单体等。
可开环共聚的共聚性单体的例子包含环丁烯、环戊烯、环庚烯、环辛烯和二环戊二烯等环烯烃。
可加成共聚的共聚性单体的例子包含含不饱和双键化合物、乙烯基系环状烃单体和(甲基)丙烯酸酯等。含不饱和双键化合物的例子包含碳原子数2～12(优选为2～8)的烯烃系化合物，其例子中包含乙烯、丙烯和丁烯等。乙烯基系环状烃单体的例子包含4-乙烯基环戊烯和2-甲基-4-异丙烯基环戊烯等乙烯基环戊烯系单体。(甲基)丙烯酸酯的例子包含(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯和(甲基)丙烯酸环己酯等碳原子数1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。
环烯烃单体与共聚性单体的共聚物中的环烯烃单体的含有比例相对于构成共聚物的全部单体的合计例如可以设为20～80摩尔％，优选设为30～70摩尔％。
如上所述，环烯烃树脂是具有降冰片烯骨架的环烯烃单体，优选为将具有由通式(A-1)或(A-2)表示的结构的环烯烃单体聚合或共聚而得到的聚合物，其例子包含以下化合物。
(1)环烯烃单体的开环聚合物
(2)环烯烃单体和可与其开环共聚的共聚性单体的开环共聚物
(3)上述(1)或(2)的开环(共)聚合物的氢化物
(4)将上述(1)或(2)的开环(共)聚合物通过弗里德尔-克拉夫茨反应进行环化后进行氢化的(共)聚合物
(5)环烯烃单体与含不饱和双键化合物的饱和共聚物
(6)与环烯烃单体的乙烯基系环状烃单体的加成共聚物及其氢化物
(7)环烯烃单体与(甲基)丙烯酸酯的交替共聚物
上述(1)～(7)的聚合物可以通过任何公知的方法，例如通过日本特开2008-107534号公报、日本特开2005-227606号公报中记载的方法而得到。例如，上述(2)的开环共聚中使用的催化剂、溶剂例如可使用日本特开2008-107534号公报的0019～0024段中记载的催化剂、溶剂。上述(3)和(6)的氢化中使用的催化剂例如可使用日本特开2008-107534号公报的0025～0028段中记载的催化剂。上述(4)的弗里德尔-克拉夫茨反应中使用的酸性化合物例如可使用日本特开2008-107534号公报的0029段中记载的酸性化合物。上述(5)～(7)的加成聚合中使用的催化剂例如可使用日本特开2005-227606号公报的0058～0063段中记载的催化剂。上述(7)的交替共聚反应例如可以通过日本特开2005-227606号公报的0071和0072段中记载的方法进行。
其中，优选为上述(1)～(3)和(5)的聚合物，更优选为上述(3)和(5)的聚合物。即，从可提高所得的环烯烃树脂的玻璃化转变温度且提高光透射率的方面出发，环烯烃树脂优选包含由下述通式(B-1)表示的结构单元和由下述通式(B-2)表示的结构单元中的至少一者，更优选仅包含由通式(B-2)表示的结构单元，或包含由通式(B-1)表示的结构单元和由通式(B-2)表示的结构单元这两者。由通式(B-1)表示的结构单元是来自由上述通式(A-1)表示的环烯烃单体的结构单元，由通式(B-2)表示的结构单元是来自由上述通式(A-2)表示的环烯烃单体的结构单元。
通式(B-1)
Figure BDA0001204368930000101
通式(B-1)中，X表示-CH＝CH-或-CH2CH2-。R1～R4和p分别与通式(A-1)的R1～R4和p同义。
通式(B-2)
Figure BDA0001204368930000102
通式(B-2)中，X表示-CH＝CH-或-CH2CH2-。R5、R6和p分别与通式(A-2)的R5、R6和p同义。
本发明所涉及的环烯烃树脂也可以是市售品。环烯烃树脂的市售品的例子包含JSR株式会社制的Arton G(例如G7810等)、Arton F、Arton R(例如R4500、R4900和R5000等)和Arton RX。
环烯烃树脂的特性粘度〔η〕inh在30℃下优选为0.2～5cm3/g，更优选为0.3～3cm3/g，进一步优选为0.4～1.5cm3/g。
环烯烃树脂的数均分子量(Mn)优选为8000～100000，更优选为10000～80000，进一步优选为12000～50000。环烯烃树脂的重均分子量(Mw)优选为20000～300000，更优选为30000～250000，进一步优选为40000～200000。环烯烃树脂的数均分子量、重均分子量可以通过凝胶渗透色谱法(GPC)以聚苯乙烯换算进行测定。
若特性粘度〔η〕inh、数均分子量和重均分子量在上述范围，则环烯烃树脂的耐热性、耐水性、耐药品性、机械特性、以及作为膜的成型加工性良好。
环烯烃树脂的玻璃化转变温度(Tg)通常为110℃以上，优选为110～350℃，更优选为120～250℃，进一步优选为120～220℃。若Tg为110℃以上，则容易抑制在高温条件下的变形。另一方面，若Tg为350℃以下，则成型加工变得容易，也容易抑制由成型加工时的热所致的树脂的劣化。
环烯烃树脂的含量相对于构成光学膜的材料中的不包括溶剂的全部成分，优选为70质量％以上，更优选为80质量％以上。
1-2.微粒
本发明所涉及的微粒是指利用透射型电子显微镜进行测定时的数均粒径为400nm以下的粒子。在这种情况下，各粒子的粒径作为将透射型电子显微镜中的投影面换算成相同面积的圆时的直径而定义。为了不产生不需要的散射，优选微粒的粒径与可见光的波长相比非常小，具体而言，1～200nm为优选范围，更优选为1～100nm的范围，特别优选为5～60nm的范围。粒子的形状不限定于球状，也可以是不定形的形状。
作为本发明所涉及的微粒，可以是无机微粒，也可以是有机微粒。此外，也可以是以有机化合物进行表面修饰的无机微粒。
作为无机微粒，例如，优选为包含硅的化合物(硅化合物)、氧化铝、氧化锆、碳酸钙、滑石、粘土、煅烧高岭土、煅烧硅酸钙、水合硅酸钙、硅酸铝、硅酸镁和磷酸钙等，进一步优选为硅化合物、氧化铝，特别优选使用二氧化硅。它们可举出球状、平板状或无特定形状(無定形状)等形状的粒子。
作为二氧化硅的微粒，例如可使用AEROSIL R972、R972V、R972CF、R974、R812、50、200、200V、300、R202、OX50、TT600、R711、RY300、R106、R816、RA200HS、MOX170(以上，日本AEROSIL株式会社制)等市售品。
作为氧化铝的微粒，例如可使用AEROSIL Alu C、Alu130和Alu C805(以上，日本AEROSIL株式会社制)等市售品。
此外，作为有机微粒，例如，可举出聚苯乙烯树脂、有机硅树脂、聚乙烯树脂、环氧树脂、聚碳酸酯树脂、三聚氰胺树脂等、丙烯酸-苯乙烯树脂、三聚氰胺-二氧化硅等复合的微粒，但不限定于它们。
此外，这些无机微粒和有机微粒可以单独使用，也可以并用2种以上。此外，在使用有机微粒时，优选使用单分散中的折射率与树脂的折射率的差少的有机微粒。
微粒的含量相对于构成光学膜的材料中的不包括溶剂的全部成分，优选在0.01～5.0质量％的范围内，更优选在0.05～3.0质量％的范围内。
1-3.表面调节剂
本发明中表面调节剂是指含有有机硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一种的表面调节剂。
作为有机硅材料，例如，优选使用有机硅系表面活性剂等，作为氟系材料，例如，优选使用氟系表面活性剂、氟-硅氧烷接枝化合物或氟系化合物等，作为乙烯基系材料，例如，优选使用乙烯基共聚物、乙烯基-硅氧烷接枝化合物等，作为丙烯酸系材料，例如，优选使用丙烯酸-有机硅接枝化合物、丙烯酸共聚物等。
这里，有机硅材料是指具有硅氧烷骨架作为重复单元的低聚物或聚合物。该硅氧烷重复结构可以作为主链而具有，也可以作为接枝的侧链而具有。
氟系材料是指至少1个重复单元中含有氟原子的低聚物或聚合物。该含氟重复结构可以作为主链而具有，也可以作为接枝的侧链而具有。
乙烯基系材料是指重复单元中含有乙烯基、乙烯叉、乙烯撑中的至少1种的低聚物或聚合物。该含乙烯基重复结构可以作为主链而具有，也可以作为接枝的侧链而具有。
丙烯酸系材料是指重复单元中具有丙烯酰基的低聚物或聚合物。该含丙烯酰基重复结构可以作为主链而具有，也可以作为接枝的侧链而具有。
作为有机硅系表面活性剂，例如，可举出聚醚改性有机硅、丙烯酸改性有机硅等，可举出上述共荣社化学公司制的GL系列(例如，GL-01、GL-02R、GL-03、GL-04R等)、日信化学工业公司制的Silface系列(例如，Silface SAG002、Silface SAG005、Silface SAG008、Silface SAG503A等)等。
作为氟系表面活性剂，例如，可举出DIC株式会社制的Megafac RS系列、MegafacF-444、Megafac F-556等。
氟-硅氧烷接枝化合物是指使包含硅氧烷和/或有机硅氧烷单质的聚硅氧烷和/或有机聚硅氧烷至少与氟系树脂接枝化而得到的共聚物的化合物。此外，作为市售品，可举出富士化成工业株式会社制的ZX-022H、ZX-007C、ZX-049、ZX-047-D等。
此外，作为氟系化合物，可举出Daikin工业株式会社制的OPTOOL DSX、OPTOOL DAC等。
作为丙烯酸共聚物，可举出BYK Japan公司制的BYK-350，BYK-352等。
作为本发明所涉及的表面调节剂，除上述表面调节剂以外，可使用以下市售品。例如可举出花王株式会社制：Emulgen 102KG、Emulgen 104P、Emulgen 105、Emulgen 106、Emulgen 108、Emulgen 109P、Emulgen 120、Emulgen 123P、Emulgen 147、Emulgen 210P、Emulgen 220、Emulgen 306P、Emulgen 320P、Emulgen 404、Emulgen 408、Emulgen 409PV、Emulgen 420、Emulgen 430、Emulgen 705、Emulgen 707、Emulgen 709、Emulgen 1108、Emulgen 1118S-70、Emulgen 1135S-70、Emulgen 2020G-HA、Emulgen 2025G、Emulgen LS-106、Emulgen LS-110、Emulgen LS114、日信化学工业株式会社制：Surfynol 104E、Surfynol 104H、Surfynol 104A、Surfynol 104BC、Surfynol 104DPM、Surfynol 104PA、Surfynol 104PG-50、Surfynol 104S、Surfynol 420、Surfynol 440、Surfynol 465、Surfynol 485、Surfynol SE、信越化学工业株式会社制：FA-600、KC-89S、KR-500、KR-516、X-40-9296、KR-513、X-22-161A、X-22-162C、X-22-163、X-22-163A、X-22-164、X-22-164A、X-22-173BX、X-22-174ASX、X-22-176DX、X-22-343、X-22-2046、X-22-2445、X-22-3939A、X-22-4039、X-22-4015、X-22-4272、X-22-4741、X-22-4952、X-22-6266、KF-50-100cs、KF-96L-1cs、KF-101、KF-102、KF-105、KF-351、KF-352、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-393、KF-615A、KF-618、KF-857、KF-859、KF-860、KF-862、KF-877、KF-889、KF-945、KF-1001、KF-1002、KF-1005、KF-2012、KF-2201、X-22-2404、X-22-2426、X-22-3710、KF-6004、KF-6011、KF-6015、KF-6123、KF-8001、KF-8010、KF-8012、X-22-9002等。
表面调节剂的含量相对于构成光学膜的材料中的不包括溶剂的全部成分，优选在0.01～5.0质量％的范围内，更优选在0.05～3.0质量％的范围内。通过表面调节剂的含量为0.01质量％以上，可以充分发挥本发明的效果，通过为5.0质量％以下，可以将膜的雾度抑制得低且更可靠地赋予滑动性。
1-4.其它添加剂
如上所述，本发明的光学膜也可以进一步含有其它添加剂。作为这种添加剂，例如，可举出紫外线吸收剂、抗氧化剂等。
(紫外线吸收剂)
本发明的光学膜也可以含有紫外线吸收剂作为添加剂。
紫外线吸收剂吸收400nm以下的紫外线，因此可以提高光学膜的耐久性。紫外线吸收剂尤其是在波长370nm下的透射率优选为10％以下，更优选为5％以下，进一步优选为2％以下。
作为紫外线吸收剂的具体例，没有特别限定，例如，可举出氧基二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、三嗪系化合物、镍络合盐系化合物、无机粉体等，特别优选为苯并三唑系化合物和二苯甲酮系化合物等。
作为紫外线吸收剂，更具体而言，例如可使用5-氯-2-(3,5-二仲丁基-2-羟基苯基)-2H-苯并三唑、(2-2H-苯并三唑-2-基)-6-(直链和侧链十二烷基)-4-甲基苯酚、2-羟基-4-苄氧基二苯甲酮、2,4-苄氧基二苯甲酮等。它们也可以使用市售品，例如，可优选使用BASF Japan公司制的Tinuvin 109(辛基-3-[3-叔丁基-4-羟基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙烯酯与2-乙基己基-3-[3-叔丁基-4-羟基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙烯酯的混合物)、Tinuvin 171、Tinuvin 234、Tinuvin 326、Tinuvin 327、Tinuvin 328、Tinuvin 928(2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚)等Tinuvin类。
另外，具有1,3,5-三嗪环的化合物等圆盘状化合物也作为紫外线吸收剂优选使用。此外，作为紫外线吸收剂，高分子紫外线吸收剂也可以优选使用，特别优选使用聚合物型的紫外线吸收剂。
作为三嗪系紫外线吸收剂，可使用作为市售品的BASF JAPAN公司制的Tinuvin400(2-(4,6-双(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-羟基苯基与环氧乙烷的反应生成物)、Tinuvin 460(2,4-双[2-羟基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3-5-三嗪)、Tinuvin 405(2-(2,4-二羟基苯基)-4,6-双-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪与(2-乙基己基)-缩水甘油酸酯的反应生成物)等。
作为紫外线吸收剂的添加方法，也可以在甲醇、乙醇、丁醇等醇、二氯甲烷、乙酸甲酯、丙酮或二氧戊环等有机溶剂或它们的混合溶剂中溶解紫外线吸收剂后，添加于光学膜的制造中使用的树脂溶液(涂料)中，或直接添加于涂料中。如无机粉体那样不溶解于有机溶剂的物质在有机溶剂和醋酸纤维素中使用溶解器、混砂机，进行分散后添加于涂料中。
作为紫外线吸收剂的含量，例如，相对于光学膜优选为0.5～10质量％的范围，进一步优选为0.6～4质量％的范围。
(抗氧化剂)
本发明的光学膜也可以含有抗氧化剂(劣化防止剂)作为其它添加剂。
作为抗氧化剂，优选使用受阻酚系的化合物，例如可举出2,6-二叔丁基-对甲酚、季戊四醇基-四〔3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯〕、三乙二醇-双〔3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙烯酯〕、1,6-己二醇-双〔3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙烯酯〕、2,4-双-(正辛硫基)-6-(4-羟基-3,5-二叔丁基苯胺基)-1,3,5-三嗪、2,2-硫代二亚乙基双〔3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙烯酯〕、十八烷基-3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙烯酯、N,N′-六亚甲基双(3,5-二叔丁基-4-羟基-氢化肉桂酰胺)、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯、三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)-异氰脲酸酯等。
抗氧化剂的含量例如相对于光学膜优选为1～10000质量ppm的范围，进一步优选为10～1000质量ppm的范围。
1-5.光学膜的物性
(表面粗糙度Ra)
本发明的光学膜的两面中表面粗糙度Ra高的面的表面粗糙度Ra在3.0～50.0nm的范围内，优选在4.0～40.0nm的范围内。若表面粗糙度Ra为3.0nm以上，则光学膜的滑动性提高，可以抑制输送中的表面凹凸不平、起皱。若表面粗糙度Ra为50nm以下，则可以抑制由光学膜表面的凹凸所致的光的散射，可以将雾度值设为低的值。另外，本发明中的表面粗糙度Ra为JIS B0601：2001中规定的算术平均粗糙度(Ra)。
此外，本发明的光学膜的两面中表面粗糙度Ra低的面的表面粗糙度Ra优选在2.0～30.0nm的范围内，更优选在2.0～20.0nm的范围内。通过使表面粗糙度Ra值在该范围内，在使起偏器贴合于光学膜的表面粗糙度Ra低的面而制作偏振片时，与表面粗糙度Ra高的面相比凹凸少，因此在与该起偏器的粘接界面难以产生间隙，可抑制光的散射，因此可以在搭载于液晶显示装置时有效地抑制漏光。
这里，如上所述，通过使微粒与表面调节剂一起含于含有环烯烃树脂的膜，可以使微粒和表面调节剂大量存在于膜的一面(制膜时的空气界面侧的表面)，该微粒和表面调节剂也部分存在于膜的另一面(制膜时的支撑体(例如，后述的金属支撑体)侧的表面)。
认为这是因为，在光学膜的制造中的膜状物的干燥工序中，溶剂为良溶剂，因此优先挥发，但也存在若干直至干燥的最终阶段为止未挥发的良溶剂成分，因此该良溶剂中溶剂化的上述缔合体也存在于膜的另一面。因此，若与膜的一面相比则微粒和表面调节剂的存在量少，但微粒和表面调节剂形成有缔合体，因此可得到粒径大、如上述的范围的表面粗糙度Ra。
作为将上述另一面的表面粗糙度Ra控制在上述范围内的方法，可举出适当调整微粒和表面调节剂的含量、膜制造时的拉伸条件的方法。
进而，光学膜两面的表面粗糙度Ra的差优选为1.0nm以上。通过使膜两面的表面粗糙度Ra存在差，可以将雾度值保持得低且提高光学膜的输送性。
另外，表面粗糙度Ra可以用光干涉式的表面粗糙度测定器进行测定，例如可使用光学干涉式表面粗糙度计RST/PLUS(WYKO公司制)进行测定。
(光学特性)
光学膜的总光线透射率优选为90％以上，更优选为92％以上。此外，作为现实的上限，为99％左右。雾度值优选为10％以下，更优选为2％以下。总光线透射率和雾度值可以分别按照JIS K7361和JIS K7136进行测定。
(延迟值)
本发明的光学膜的使用用途没有特别限定，可以作为偏振片保护膜使用，也可以作为相位差膜使用。在作为相位差膜使用时，能够根据其用途取得各种延迟值。
例如，本发明的光学膜用作VA液晶用的相位差膜时，在测定波长590nm、23℃·55％RH的环境下测定的面内方向的延迟值Ro优选满足10nm≤Ro≤100nm，更优选满足20nm≤Ro≤80nm。厚度方向的延迟值Rt优选满足70nm≤Rt≤200nm，更优选满足90nm≤Rt≤150nm。
另外，延迟值Ro和Rt是以下述式(i)和(ii)定义的值。
式(i)：Ro＝(nx-ny)×d
式(ii)：Rt＝{(nx+ny)/2-nz}×d
(式(i)和(ii)中，nx表示光学膜面内的慢轴方向的折射率，ny表示在光学膜面内与慢轴垂直的方向的折射率，nz表示光学膜的厚度方向的折射率，d表示光学膜的厚度(nm)。)
在将本发明的光学膜用作λ/4膜时，在测定波长590nm、23℃·55％RH的环境下测定的面内方向的延迟值Ro优选满足50nm≤Ro≤250nm，更优选满足70nm≤Ro≤200nm。厚度方向的延迟值Rt优选满足-200nm≤Rt≤200nm，更优选满足-120nm≤Rt≤120nm。
此外，在将本发明的光学膜用作零相位差膜时，在测定波长590nm、23℃·55％RH的环境下测定的面内方向的延迟值Ro优选满足0nm≤Ro≤5nm，厚度方向的延迟值Rt优选满足-5nm≤Rt≤5nm。
上述延迟值例如可使用自动双折射率计Axo Scan(Axo Scan Mueller MatrixPolarimeter：AcroMetrix公司制)在23℃·55％RH的环境下以波长590nm求出。通过使用控制为上述延迟值的光学膜，用于触控面板、液晶显示装置等图像显示装置时的可视性优异，从这方面出发为优选。延迟值可以由微粒、表面调节剂和其它添加剂的种类或添加量、光学膜的厚度或拉伸条件等调整。
(厚度)
从上述延迟值Ro和Rt满足上述范围且薄膜化的观点出发，光学膜的厚度例如优选为3～200μm，更优选为5～100μm，进一步优选为7～40μm。尤其是本发明的光学膜赋予滑动性，因此可以缓和输送张力，即使薄膜化也能够具有良好的输送性。
2.光学膜的制造方法
本发明的光学膜通过使用二种以上的溶剂的溶液浇注法而制造。即，本发明的光学膜的制造方法优选具有如下工序：至少使环烯烃树脂、微粒和表面调节剂溶解于二种以上的溶剂而得到涂料(树脂溶液)的工序(涂料制备工序)；在支撑体上浇注涂料后，剥离而得到膜状物的工序(浇注·剥离工序)；以及使膜状物干燥的工序(干燥工序)。此外，本发明的光学膜的制造方法优选在浇注·剥离工序与干燥工序之间具有拉伸膜状物的工序(拉伸工序)，优选具有在干燥工序后将所得的光学膜卷取的工序(卷取工序)。
2-1.涂料制备工序
对涂料制备工序进行说明。涂料中的树脂浓度较浓可以减少在浇注至金属支撑体后的干燥负荷而为优选，但若树脂的浓度过浓，则过滤时的负荷增加而过滤精度变差。作为兼具这两个效果的的浓度，优选为10～45质量％，进一步优选为15～40质量％。
涂料中含有的溶剂可并用2种以上，从生产效率的方面出发优选将树脂的良溶剂和不良溶剂混合使用，从树脂的溶解性的方面出发优选良溶剂较多。良溶剂与不良溶剂的混合比率的优选范围是良溶剂为70～98质量％，不良溶剂为2～30质量％。这里，就良溶剂和不良溶剂而言，将单独溶解所用的树脂的溶剂定义为良溶剂，将单独使用时膨润或不溶解的溶剂定义为不良溶剂。
此外，作为对涂料的制备有用的有机溶剂的组合，只要可同时溶解环烯烃树脂、其它添加剂则没有特别限制。例如，作为氯系有机溶剂，可举出二氯甲烷、氯仿，作为非氯系有机溶剂，可举出乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、丙酮、四氢呋喃、1,3-二氧戊环、1,4-二
Figure BDA0001204368930000191
烷、环己烷、环己酮、甲苯、对二甲苯、甲酸乙酯、2,2,2-三氟乙醇、2,2,3,3-六氟-1-丙醇、1,3-二氟-2-丙醇、1,1,1,3,3,3-六氟-2-甲基-2-丙醇、1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇、2,2,3,3,3-五氟-1-丙醇、硝基乙烷、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇等，可优选使用二氯甲烷、甲苯、四氢呋喃、乙醇、丙酮。
涂料优选为使合计15～45质量％的环烯烃树脂、微粒、表面调节剂和其它添加剂溶解于上述溶剂而成的涂料。
作为制备上述涂料时的、树脂在溶剂中的溶解方法，可使用通常的方法。尤其是从减少对溶解装置的负担、防止树脂的着色的观点出发，优选为常温、常压下的溶解。
接着，将溶解有该树脂的溶液使用滤纸等适当的过滤材料过滤。作为过滤材料，为了除去不溶物等，优选绝对过滤精度较小，但若绝对过滤精度过小，则存在容易产生过滤材料的堵塞的问题。因此优选为绝对过滤精度为0.008mm以下的滤材，更优选为0.001～0.008mm的滤材，进一步优选为0.003～0.006mm的滤材。
滤材的材质没有特别限制，可使用通常的滤材，聚丙烯、特氟隆(注册商标)等塑料制的滤材、不锈钢等金属制的滤材没有纤维的脱落等，为优选。优选通过过滤将原料的树脂所含的杂质，尤其是将亮点异物除去、减少。
亮点异物是指将2片偏振片设为正交尼科尔棱镜状态而配置，在其间设置光学膜等，在从一偏振片的一侧照射光，从另一偏振片的一侧观察时，来自相反侧的光漏出而看到的点(异物)，直径为0.01mm以上的亮点的数量优选为200个/cm2以下。更优选为100个/cm2以下，进一步优选为50个/m2以下，特别优选在0～10个/cm2的范围内。此外，优选0.01mm以下的亮点也较少。
涂料的过滤可以用通常的方法进行，一边在溶剂的常压下的沸点以上且在加压下溶剂未沸腾的范围的温度下加热一边过滤的方法的过滤前后的滤压的差(称为差压)的显示小，为优选。优选温度为45～120℃，更优选为45～70℃，进一步优选为45～55℃。
滤压优选较小。具体而言，滤压优选为1.6MPa以下，更优选为1.2MPa以下，进一步优选为1.0MPa以下。
2-2.浇注·剥离工序
使所得的涂料从浇注模口喷出而浇注至金属支撑体上，将所得的浇注膜进行干燥和剥离而得到膜状物。浇注宽度例如可设为1～4m。作为金属支撑体，可使用以不锈钢带或铸物将表面镀敷精加工的鼓。金属支撑体的表面优选进行镜面精加工。另外，浇注有涂料的支撑体不限于金属制，也可以是树脂制等任何材质。
金属支撑体的表面温度为-50℃～小于溶剂的沸点的温度，温度较高可以提高膜状物的干燥速度，因此为优选，若过高，则膜状物发泡，或平面性劣化。因此，金属支撑体的表面温度优选为0～40℃，更优选为5～30℃。
控制金属支撑体的温度的方法没有特别的限制，可举出吹温风或冷风的方法、使温水与金属支撑体的背面接触的方法。使用温水可有效地进行传热，因此金属支撑体的温度成为恒定温度的时间短，为优选。
使用温风时，考虑到溶剂的蒸发潜热所致的料片(ウェブ)的温度下降，有时使用溶剂沸点以上的温风，而且一边防止发泡一边使用比目标温度高的温度的风。
为了得到具有良好的平面性的膜状物，从金属支撑体剥离时的膜状物的残留溶剂量优选为10～150质量％，更优选为20～40质量％或60～130质量％，进一步优选为20～30质量％或70～120质量％。
这里，膜状物的残留溶剂量由下述式定义。
残留溶剂量(质量％)＝{(M-N)/N}×100
(上述式中，M表示膜状物的质量，N表示将该膜状物在120℃加热1小时后的质量。)
2-3.干燥工序
干燥工序优选将从金属支撑体剥离的膜状物干燥至残留溶剂量为1质量％以下，进一步优选为0.1质量％以下，特别优选在0～0.01质量％的范围内。由此，可得到光学膜。
膜干燥工序中，一般采用辊干燥方式(将膜状物交替地通过在上下配置的多个辊而使其干燥的方式)、一边以拉幅机方式输送膜状物一边使其干燥的方式。
特别优选在从浇注至剥离的期间变更上述金属支撑体的温度和干燥风的温度，高效地进行干燥。
本发明中，认为在涂料、膜状物中微粒与表面调节剂形成缔合体，该缔合体与良溶剂亲和性高，从而在干燥工序中该缔合体与从膜状物挥发的良溶剂一起移动至膜的空气界面侧的表面，可得到微粒和表面调节剂偏在于单面侧的光学膜。
由此，通过以使用二种以上的溶剂的溶液浇注法制造光学膜，可以对光学膜赋予滑动性而提高输送性，可以不使用保护膜就以高收率制作偏振片等。
2-4.拉伸工序
拉伸工序中，将剥离而得到的膜状物进行拉伸而进行相位差的调整。
拉伸可以至少在一方向进行。拉伸方向可以是膜状物的长边方向(MD方向)、与膜状物的长边方向垂直的宽边方向(TD方向)、以及相对于膜状物的长边方向倾斜的方向中的任一者。拉伸可以是逐次拉伸，也可以是同时拉伸。
互相垂直的双轴方向的拉伸倍率优选分别最终在MD方向为1.0～2.0倍的范围内、在TD方向为1.05～2.0倍的范围内，更优选在MD方向为1.0～1.5倍的范围内，在TD方向为1.05～2.0倍的范围内。例如可举出对多个辊施加周速差，在其间利用辊周速差在MD方向拉伸的方法；以布铗或针板固定膜状物的两端，将布铗或针板的间隔在行进方向扩展而在MD方向拉伸的方法；同样地在横向扩展而在TD方向拉伸的方法；或同时在MD方向和TD方向扩展而在两个方向拉伸的方法等。
拉伸工序中的这些宽度保持或宽边方向的拉伸优选通过拉幅机进行，可以是针板拉幅机也可以是布铗拉幅机。
拉幅机等的膜输送张力也取决于温度，优选在120～200N/m的范围内，进一步优选在140～200N/m的范围内，最优选在140～160N/m的范围内。
将光学膜的玻璃化转变温度设为Tg时，拉伸时的温度优选在(Tg-30)～(Tg+100)℃的范围内，更优选在(Tg-20)～(Tg+80)℃的范围内，进一步优选在(Tg-5)～(Tg+20)℃的范围内。
光学膜的Tg可以根据构成光学膜的材料种类和构成的材料的比率进行控制。光学膜的干燥时的Tg优选为110℃以上，进一步优选为120℃以上，特别优选为150℃以上。此外，光学膜的Tg优选为190℃以下，更优选为170℃以下。光学膜的Tg可以按照JIS K7121中记载的方法等求出。
若将拉伸时的光学膜的温度设为Tg+10℃以上、将拉伸倍率设为1.10倍以上，则可以对光学膜的表面赋予适度的粗糙度，因此为优选。通过对光学膜表面赋予适度的粗糙度，滑动性提高，并且表面加工性提高，因此为优选。
2-5.卷取工序
卷取工序中，将所得的光学膜以卷取机进行卷取。卷取方法可以采用一般使用的方法，例如，可使用恒定转矩法、恒定张力法、锥度张力法、内部应力恒定的程序张力控制法等。
本发明的光学膜优选为长条状，具体而言，优选长度为100～7000m左右。这种长条状的光学膜通常能够以将相对于长度方向垂直的方向作为卷取轴而卷取的卷体的形式提供。光学膜的宽度优选为1.3～4m，更优选为1.4～2m。通过将光学膜的长度和宽度设为该范围内，功能性层等的涂布中的加工特性、光学膜自身的操作性优异。
在卷取前，切割光学膜的端部而裁成成为制品的宽度，为了防止卷取中的贴附、擦伤，也可以对两端实施压花加工(压纹加工)。作为压花加工的方法，可举出通过使用在侧面具有凹凸图案的金属环对光学膜进行加热、加压而进行加工的方法。光学膜两端部的布铗的把持部分通常会变形而无法作为制品使用，因此被切除，其切除片作为原料被再利用。
《3.偏振片》
本发明的偏振片的特征在于，具备起偏器和上述光学膜。
本发明的偏振片可通过一般的方法制作。例如，优选将本发明的光学膜进行电晕处理，使用完全皂化型聚乙烯醇水溶液，将经处理的光学膜贴附于在碘溶液中浸渍拉伸而制作的起偏器的至少一面。此外，起偏器优选粘接于本发明的光学膜的两面中表面粗糙度Ra低的面。
可以在起偏器的另一面贴附上述光学膜、作为市售品的KC8UX、KC4UX、KC4UY、KC8UY、KC6UA、KC4UA、KC4UE、KC4CZ、KC8UCR、KC4FR(Konica Minolta株式会社制)、Arton膜(JSR株式会社制)、Zeonor Film(Nippon Zeon株式会社制)等。
起偏器是仅使一定方向的极化面的光通过的元件，现在已知的代表性的起偏器是聚乙烯醇系偏振膜。聚乙烯醇系偏振膜有在聚乙烯醇系膜上使碘染色的偏振膜、使二色性染料染色的偏振膜。
聚乙烯醇系偏振膜可以是将聚乙烯醇系膜进行单轴拉伸后，以碘或二色性染料染色而成的膜(优选为进一步以硼化合物实施耐久性处理的膜)，也可以是在将聚乙烯醇系膜以碘或二色性染料染色后，进行单轴拉伸而成的膜(优选为进一步以硼化合物实施耐久性处理的膜)。起偏器的吸收轴通常与最大拉伸方向平行。
作为起偏器，例如可使用日本特开2003-248123号公报或日本特开2003-342322号公报等中记载的乙烯单元的含量1～4摩尔％、聚合度2000～4000、皂化度99.0～99.99摩尔％的乙烯改性聚乙烯醇。其中，优选使用热水切断温度为66～73℃的乙烯改性聚乙烯醇膜。
起偏器的厚度优选在5～30μm的范围内，从使偏振片薄型化的观点等出发，更优选在5～20μm的范围内。
《4.图像显示装置》
本发明的图像显示装置的特征在于，具备上述光学膜。由此，从可发挥可视性、不均优异的性能的方面为优选。作为图像显示装置，可举出反射型、透射型、半透射型液晶显示装置、或TN型、STN型、OCB型、VA型、IPS型、ECB型等各种驱动方式的液晶显示装置、触控面板显示装置、有机EL显示装置或等离子显示装置等。
此外，本发明的光学膜例如也可以使用在液晶显示装置(由上面侧偏振片/液晶单元/下面侧偏振片构成)的上面侧偏振片的下方使用触控面板构件的内触控面板(インナータッチパネル)、静电容量方式的触控面板等。
实施例
以下，举出实施例具体地说明本发明，但本发明不限定于它们。应予说明，实施例中使用“份”或“％”的表示，只要没有特别说明则表示“质量份”或“质量％”。
首先，对本实施例中使用的各种材料进行说明。
(1)环烯烃树脂
Arton G7810：ARTON-G7810(JSR公司制)，环烯烃树脂(由式(A-2)表示的单体与其它单体的共聚物(上述(5)的聚合物)，重均分子量Mw＝140000)
Arton R5000：ARTON-R5000(JSR公司制)，环烯烃树脂(由式(A-1)表示的单体与由式(A-2)表示的单体与其它单体的共聚物(上述(5)的聚合物)，重均分子量Mw＝50000)
Arton RX4500：ARTON-RX4500(JSR公司制)，环烯烃树脂(由式(A-1)表示的单体与由式(A-2)表示的单体与其它单体的共聚物(上述(5)的聚合物)，重均分子量Mw＝63000)
Arton RH4900：ARTON-RH4900(JSR公司制)，环烯烃树脂(由式(A-1)表示的单体与由式(A-2)表示的单体与其它单体的共聚物(上述(5)的聚合物)，重均分子量Mw＝57000)
(2)微粒
(2-1)含有硅化合物的微粒
R812：以三甲基甲硅烷基进行表面修饰的二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径7nm
R816：以丙烯酸基进行表面修饰的二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径12nm
R106：以八甲基环四甲硅烷基进行表面修饰的二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径7nm
R972V：以二甲基甲硅烷基进行表面修饰的二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径12nm
200V：二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径12nm
300V：二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径7nm
RY300：以二甲基有机硅离子进行表面修饰的二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径12nm
RA200HS：以三甲基甲硅烷基和氨基进行表面修饰的二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径12nm
R711：以甲基丙烯酰氧基硅烷进行表面修饰的二氧化硅微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径12nm
MOX170：二氧化硅/氧化铝微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径13nm
(2-2)其它微粒
Alu130：氧化铝微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径20nm
TiO2P90：二氧化钛微粒(日本AEROSIL公司制)，平均一次粒径20nm
Kraton RP6935：苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(Kraton Polymer Japan株式会社制)，平均一次粒径18nm
(3)表面调节剂
(3-1)有机硅材料
GL-01：丙烯酸改性有机硅(共荣社化学公司制)，重均分子量Mw＝5200
GL-03：丙烯酸改性有机硅(共荣社化学公司制)，重均分子量Mw＝4100
GL-04R：丙烯酸改性有机硅(共荣社化学公司制)，重均分子量Mw＝4700
SAG005：聚醚改性有机硅(日信化学工业社制，Silface SAG005)，重均分子量Mw＝2800
SAG008：聚醚改性有机硅(日信化学工业社制，Silface SAG008)，重均分子量Mw＝7900
(3-2)氟系材料
Lebron：四氟乙烯树脂(Daikin公司制)，重均分子量Mw＝2000
(3-3)乙烯基系材料
P-410EF：乙烯基聚合物(楠本化成公司制)，重均分子量Mw＝4500
(3-4)丙烯酸系材料
LF-1984：丙烯酸聚合物(楠本化成公司制)，重均分子量Mw＝3000
230：丙烯酸聚合物(楠本化成公司制)，重均分子量Mw＝3500
《光学膜101的制作》
(二氧化硅分散稀释液的制备)
将10质量份的AERO SIL R812和80质量份的乙醇以溶解器搅拌混合30分钟后，以Manton Gaulin(均质机)进行分散，制备二氧化硅分散液。一边搅拌一边在制备的二氧化硅分散液中投入80质量份的二氯甲烷，以溶解器搅拌混合30分钟后，以微粒分散稀释液过滤器(AdvantechToyo株式会社：Polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N)进行过滤而制备二氧化硅分散稀释液。
(涂料的制备)
Figure BDA0001204368930000271
Figure BDA0001204368930000281
将以上成分投入密闭容器，一边加热、搅拌一边使其完全溶解，使用安积滤纸株式会社制的安积滤纸No.24进行过滤，制备涂料。
接着，使用带浇注制膜装置均匀地浇注至不锈钢带支撑体上。在不锈钢带支撑体上使溶剂蒸发至残留溶剂量为80质量％为止，从不锈钢带支撑体上剥离。将所得的料片保持在35℃而进一步蒸发溶剂，切割成1.15m宽度，在160℃的干燥温度下使其干燥。其后，一边以多个辊使其在130℃的干燥装置内输送一边干燥15分钟后，切割成1.0m宽度，对膜两端实施宽度10mm、高度5μm的滚花加工，卷取为卷芯，得到光学膜101。光学膜101的厚度为20μm，卷长为5000m。另外，由不锈钢带支撑体的转速和拉幅机的运行速度算出的MD方向的拉伸倍率为1.01倍。
《光学膜102～109的制作》
在上述光学膜101的制作中，将表面调节剂变更为如表1所述，除此以外，同样地制作光学膜102～109。
《光学膜110～116的制作》
在上述光学膜102的制作中，以最终得到的膜的微粒和表面调节剂的含量成为如表1所述的方式变更微粒和表面调节剂的添加量，除此以外，同样地制作光学膜110～116。
《光学膜117～128的制作》
在上述光学膜102的制作中，将微粒变更为如表2所述，除此以外，同样地制作光学膜117～128。
《光学膜129～131的制作》
在上述光学膜102的制作中，将环烯烃树脂变更为如表2所述，除此以外，同样地制作光学膜129～131。
《光学膜132的制作(比较例)》
在上述光学膜102的制作中，以最终得到的膜的微粒和表面调节剂的含量为如表2所述的方式变更微粒和表面调节剂的添加量，除此以外，同样地制作光学膜132。
《光学膜133的制作(比较例)》
在上述光学膜101的制作中，在制备涂料时不添加表面调节剂，除此以外，同样地制作光学膜133。
《光学膜134的制作(比较例)》
在上述光学膜101的制作中，在制备涂料时不添加微粒和表面调节剂，除此以外，同样地制作光学膜134。
《光学膜135的制作(比较例)》
以将保护膜从市售的Nippon Zeon公司制的Zeonor Film ZF14剥离·除去而成的膜为光学膜135。
《光学膜101～135的物性测定和评价》
对制作的光学膜101～135进行以下的物性测定和评价。将测定结果和评价结果示于表1和表2。
(表面粗糙度Ra的测定)
将制作的各光学膜的两面的算术表面粗糙度Ra的值按照JIS B0601在23℃·55％RH的条件下以光学干涉式表面粗糙度计RST/PLUS(WYKO公司制)进行测定。
此时，在各光学膜的两面中，将在制作光学膜时与空气界面接触的面作为A面，将在制作光学膜时与不锈钢带支撑体接触的面作为B面。
(雾度值的评价)
将制作的各光学膜切成3.0cm×3.0cm的尺寸而制成试验片。将该试验片按照JISK7136在23℃·55％RH的条件下以雾度计NDH-2000(日本电色工业株式会社制)测定雾度值，基于以下基准进行评价。
○：雾度值小于2.0。
△：雾度值为2.0以上且小于5.0。
×：雾度值为5.0以上。
【表1】
Figure BDA0001204368930000311
【表2】
Figure BDA0001204368930000321
《图像显示装置的制作201》
(起偏器的制作)
将厚度120μm的聚乙烯醇膜在膜的长边方向进行单轴拉伸(温度110℃，拉伸倍率5倍)。将其浸渍于由碘0.075g、碘化钾5g、水100g构成的水溶液中60秒，接下来，浸渍于由碘化钾6g、硼酸7.5g、水100g构成的68℃的水溶液中。将其进行水洗、干燥而得到厚度20μm的起偏器。起偏器的吸收轴与其长边方向平行。
(第1偏振片(可视侧偏振片)的制作)
接下来，按照下述工序1～4，在上述制作的起偏器的一面贴合上述制作的光学膜102，在另一面贴合Konica Minolta公司制的KC4UA(起偏器保护膜)而制作偏振片。
工序1：对制作的光学膜102的B面进行电晕放电，实施电晕处理。另外，将KonicaMinolta公司制KC4UA(起偏器保护膜)在60℃的2摩尔/L的氢氧化钠溶液中浸渍90秒后，进行水洗和干燥而将与起偏器贴合的一侧的面皂化。
工序2：将起偏器在固体成分2质量％的聚乙烯醇粘接剂槽中浸渍1～2秒。接下来，轻轻拭去附着于起偏器的过量的粘接剂后，配置于在工序1中实施了电晕处理的光学膜102的B面上。
工序3：将光学膜102和起偏器、以及在工序1中进行了皂化处理的起偏器保护膜在压力20～30N/cm2、输送速度约为2m/分钟下贴合，得到层叠体。
工序4：使在工序3中得到的层叠体在80℃的干燥机中干燥2分钟干燥，得到具有KC4UA(起偏器保护膜)/起偏器/光学膜102的层叠结构的第1偏振片。
(第2偏振片(背光侧偏振片)的制作)
与第1偏振片的制作同样地制作具有光学膜102/起偏器/KC4UA(起偏器保护膜)的层叠结构的第2偏振片。
(图像显示装置的制作)
准备IPS方式的Xperia Z2 D6502(Sony株式会社制)作为便携用液晶显示装置。从该装置剥离2片偏振片，介由粘接剂在液晶单元的可视侧的面贴附上述制作的第1偏振片，在背光侧的面贴附上述制作的第2偏振片而制作图像显示装置1。
第1偏振片的贴附是以KC4UA成为可视侧的方式进行。此外，第2偏振片的贴附是以KC4UA成为背光侧的方式进行。
《图像显示装置202～216的制作》
在上述液晶显示装置201的制作中如表3中记载的那样变更光学膜102，除此以外，同样地制作图像显示装置202～216。
《图像显示装置217的制作》
在上述液晶显示装置201的制作中使用保护膜被剥离·除去之前的状态的光学膜135(表3中表示为“135(有PF)”)代替光学膜102，除此以外，同样地制作图像显示装置217。
《图像显示装置201～217的评价》
对制作的图像显示装置201～217进行以下评价。将评价结果示于表3。
(输送时的表面凹凸不平的评价)
在制作上述第1偏振片时，刚与起偏器贴合前的输送中以目视确认光学膜，按照以下基准进行评价。
○：完全无法观察到表面凹凸不平。
△：在膜端确认表面凹凸不平。
×：在膜整体确认表面凹凸不平。
(输送时的起皱的评价)
在制作上述第1偏振片时，在刚与起偏器贴合前的输送中以目视确认光学膜，按照以下基准进行评价。
○：完全无法观察到起皱。
△：在膜端确认起皱。
×：在膜整体确认起皱。
(缺陷转印的评价)
以下述方式对保护膜起因的缺陷转印进行评价。
即，将上述制作的第1偏振片切成1m2尺寸而制成试验片，在将该试验片朝向光源的状态下，以目视测定点状的亮点的个数，按照以下基准进行评价。将测定的点状的亮点作为从保护膜转印的缺陷。
○：缺陷的个数小于1个/m2
×：缺陷的个数为1个/m2以上
(漏光的评价)
在23℃、55％RH的环境下，将上述制作的图像显示装置201～217的背光灯连续点灯1周后，测定在从该图像显示装置的显示画面的法线方向倾斜60°的方向的对比度(60°对比度)。具体而言，分别测定使用ELDIM公司制的EZ-Contrast160D使图像显示装置白显示时的60°方向的亮度以及使其黑显示时的60°方向的亮度，求出它们的比(60°对比度＝在60°方向的白显示时的亮度/在60°方向的黑显示时的亮度)。将来自正面的对比度作为100时，基于以下基准评价60°对比度。
○：60°对比度为90以上且小于100。
△：60°对比度为80以上且小于90。
×：60°对比度小于80。
【表3】
Figure BDA0001204368930000361
图像显示装置201～208、212、213中，所用的光学膜的A面和B面的表面粗糙度Ra为适当的范围，且具有良好的滑动性，因此不会产生表面凹凸不平和起皱。此外，在制作第1和第2偏振片时未使用保护膜，因此也不会产生缺陷转印。
此外，光学膜的B面的Ra值与A面相比非常小，光学膜与起偏器充分粘接，因此不会产生漏光。
在图像显示装置209中，所用的光学膜的A面和B面的表面粗糙度Ra非常高，因此滑动性良好，不会产生表面凹凸不平和起皱，但B面的表面粗糙度Ra不在优选范围，因此在光学膜与起偏器的粘接界面产生间隙，产生轻微漏光。
在图像显示装置210、211中，所用的光学膜的B面的表面粗糙度Ra不充分，因此在光学膜输送中产生轻微表面凹凸不平和起皱，但未达到实际损害的水平。此外，未确认漏光。
在图像显示装置214中，所用的光学膜的A面和B面为充分的表面粗糙度Ra，因此滑动性高，不会产生表面凹凸不平和起皱，但在光学膜与起偏器的粘接界面产生间隙，产生明显的漏光。
在图像显示装置215、216中，使用的光学膜的A面和B面的表面粗糙度Ra不充分，因此在光学膜输送中产生明显的表面凹凸不平和起皱。因此，无法进行图像显示装置215、216的漏光的评价。
此外，在图像显示装置217中使用贴合有保护膜的光学膜，确认了明显的转印缺陷。因此，可观测到来自该缺陷的漏光。

Claims (7)

1.一种光学膜，其特征在于，含有环烯烃树脂、微粒和表面调节剂，
所述表面调节剂含有有机硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一种，
所述表面调节剂的含量相对于构成光学膜的材料中的不包括溶剂的全部成分，在0.01～5.0质量％的范围内,
所述微粒的含量相对于构成光学膜的材料中的不包括溶剂的全部成分，在0.5～5.0质量％的范围内，
膜两面中表面粗糙度Ra高的面的表面粗糙度Ra在3.0～50.0nm的范围内。
2.如权利要求1所述的光学膜，其特征在于，
膜两面中表面粗糙度Ra低的面的表面粗糙度Ra在2.0～20.0nm的范围内，
膜两面的表面粗糙度Ra的差为1.0nm以上。
3.如权利要求1或2所述的光学膜，其特征在于，所述微粒含有硅化合物。
4.一种光学膜的制造方法，其特征在于，是制造权利要求1～3中任一项所述的光学膜的光学膜的制造方法，
通过使用二种以上的溶剂的溶液浇注法而制造。
5.一种偏振片，其特征在于，具备：
起偏器、以及
权利要求1～3中任一项所述的光学膜。
6.如权利要求5所述的偏振片，其特征在于，所述起偏器粘接于所述光学膜的两面中表面粗糙度Ra低的面。
7.一种图像显示装置，其特征在于，具备权利要求1～3中任一项所述的光学膜。
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