CN106903116B - 一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法。该装置包括：可沿温控台的表面移动的支架，连接在所述支架上的喷头，以及向所述喷头输送气体的气体输入单元；所述喷头设置在所述温控台上方，所述喷头包括相对设置的第一表面和第二表面，所述喷头的第一表面上设置至少一个第一出风口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二出风口；所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风；所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。本发明实施例通过在喷头的第一表面上设置第一出风口，在喷头的第二表面上设置第二出风口，可同时去除温控台和基板的整个表面上的颗粒物，以便提高产线稼动率以及产品良率。

Description

一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法

技术领域

本发明涉及表面清洁技术领域，特别是涉及一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法。

背景技术

曝光机的温控台的表面上往往会残留颗粒物。这些颗粒物如果没有及时清理掉，则基板与温控台的表面在多次挤压后，可能会使颗粒物嵌入到温控台的表面的涂层中，使得基板与温控台的表面接触造成基板表面也产生凹点。现有技术中，为了解决该问题，定期清洁温控台的表面。但是，由于基板的表面也会有颗粒物，该清洁过程没有清洁基板的表面，并且在清洁的过程中又会引入新的颗粒物，从而使得清洁的效率较低，影响产能。

发明内容

本发明实施例提供一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法，以解决现有技术不能同时清洁温控台和基板表面的颗粒物的问题。

第一方面，提供一种表面清洁装置，包括：可沿温控台的表面移动的支架，连接在所述支架上的喷头，以及向所述喷头输送气体的气体输入单元；所述喷头设置在所述温控台上方，所述喷头包括相对设置的第一表面和第二表面，所述喷头的第一表面上设置至少一个第一出风口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二出风口；所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风；所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。

进一步，还包括：设置在所述喷头内部的高压放电单元，所述高压放电单元将所述气体输入单元输入的气体离子化后输入第一出风口和第二出风口。

进一步：所述喷头的第一表面上设置至少一个第一吸附口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二吸附口。

进一步，还包括：至少一个吸附单元，至少一个所述吸附单元用于设置在所述温控台的与所述喷头的移动方向同向的一侧，吸附所述第一出风口和所述第二出风口去除的颗粒物。

进一步：所述第一出风口与所述喷头的第一表面的自由端之间隔有第一距离，所述喷头的第一表面的自由端为与所述喷头的移动方向同向的一端；所述第二出风口与所述喷头的第二表面的自由端之间隔有第二距离，所述喷头的第二表面的自由端为与所述喷头的移动方向同向的一端。

进一步：所述喷头的第一表面上设置有至少一条与所述喷头的移动方向平行的第一导流槽，所述第一导流槽的一端延伸到所述第一出风口处，所述第一导流槽的另一端延伸到所述温控台的第一表面的自由端；所述喷头的第二表面上设置有至少一条与所述喷头的移动方向平行的第二导流槽，所述第二导流槽的一端延伸到所述第二出风口处，所述第二导流槽的另一端延伸到所述温控台的第二表面的自由端。

进一步，还包括：控制单元，所述控制单元与所述喷头电连接，用于控制所述喷头的第一出风口和第二出风口的风力和/或所述第一出风口的出风温度。

进一步，还包括：颗粒物检测单元和/或温度测量单元，其中，所述颗粒物检测单元与所述控制单元电连接，用于检测所述温控台的表面的颗粒物，并将所述温控台的表面的颗粒物的位置发送到所述控制单元；所述控制单元用于根据所述颗粒物的位置，控制所述喷头移动到所述颗粒物的位置处时，增大第一出风口的风力；所述温度测量单元与所述控制单元电连接，用于检测所述温控台的表面的温度，并将所述温控台的表面的温度发送到所述控制单元；所述控制单元用于根据所述温控台的表面的温度和所述温控台的表面的设定温度，调节所述第一出风口的出风温度。

第二方面，提供一种温控台系统，包括：温控台和上述的表面清洁装置；所述温控台包括多个可升降的支撑针，所述多个可升降的支撑针与所述温控台的表面平行，所述多个可升降的支撑针用于支撑基板；所述表面清洁装置的喷头的第一表面正对所述温控台的表面。

第三方面，一种表面清洁方法，用于上述的温控台系统，所述方法包括：将所述温控台的多个可升降的支撑针升高，使所述支撑针与所述温控台的表面分离，并使所述支撑针的高度高于表面清洁装置的喷头的高度；将基板放置在所述支撑针上；开启所述表面清洁装置的气体输入单元、所述喷头的第一出风口和所述喷头的第二出风口，使所述气体输入单元向所述喷头输送气体；开启表面清洁装置的支架，使所述支架带动所述支架上的喷头沿所述温控台的表面移动，所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风，所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。

这样，本发明实施例中，通过在喷头的第一表面上设置第一出风口，以便去除温控台的表面上的颗粒物；在喷头的第二表面上设置第二出风口，以便去除基板的表面上的颗粒物；通过移动的支架带动喷头移动，可同时去除温控台和基板的整个表面上的颗粒物，以便提高产线稼动率以及产品良率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明第一实施例的表面清洁装置与温控台的结构示意图一；

图2是本发明第一实施例的表面清洁装置与温控台的结构示意图二；

图3是本发明第一实施例的表面清洁装置与温控台的俯视图；

图4是本发明第一实施例的表面清洁装置的喷头的第一表面的示意图；

图5是本发明第一实施例的表面清洁装置的一端的端面的示意图；

图6是本发明第一实施例的表面清洁装置的喷头的第一表面的局部结构示意图；

图7是本发明第一实施例的表面清洁装置的第一导流槽的结构示意图一；

图8是本发明第一实施例的表面清洁装置的第一导流槽的结构示意图二；

图9是本发明第一实施例的表面清洁装置的颗粒物检测单元的一种结构示意图；

图10是本发明第一实施例的表面清洁装置的颗粒物检测单元的另一种结构示意图；

图11是本发明第二实施例的温控台系统的温控台的辅助支撑针支撑基板的结构示意图；

图12是本发明第二实施例的温控台系统的温控台的支撑针支撑基板的结构示意图；

图13是本发明第二实施例的温控台系统的温控台温度测量单元的分布示意图；

图14是本发明第二实施例的温控台系统的温控台温度测量单元和温度调节单元的分布是有图；

图15是本发明第三实施例的表面清洁方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

第一实施例

本发明第一实施例公开了一种表面清洁装置。如图1～10所示，该表面清洁装置包括：可沿温控台8的表面移动的支架1，连接在支架1上的喷头2，以及向喷头2输送气体的气体输入单元。

例如，该支架1具体可由两个支撑杆组成。每一支撑杆设置在温控台8的两端。本实施例中，该温控台8的两端为垂直于支架1的移动方向的两端。喷头2的两端分别与两个支撑杆连接，则喷头2的两端所在的平面平行于喷头2的移动方向。支架1可在轨道3上进行移动。具体的，该支架1可以向一个方向移动，也可以向两个相对的方向移动，如图3的箭头所示。

该喷头2设置在温控台8上方。该喷头2包括相对设置的第一表面和第二表面。

喷头2的第一表面上设置至少一个第一出风口21。例如，该第一出风口21的形状可以为从喷头2的一端延伸到另一端的狭长的条形。该喷头2上还设置有进气口25。气体输入单元与进气口25连通，通过进气口25将气体输送到喷头2内。例如，进气口25可以设置在喷头2的两端的表面上。喷头2内设置有第一出风通道26，该第一出风通道26与第一出风口21连通，并且第一出风通道26与喷头2的第一表面之间的夹角为钝角，有利于第一出风口21吹出的风向喷头2的移动方向流动。因此，第一出风口21沿喷头2移动方向向温控台8的表面出风，用于去除温控台8的表面的颗粒物。若该喷头2的第一表面上只设置有一个第一出风口21，由于第一出风口21吹出的风具有特定的方向，则喷头2在移动到温控台8的一侧后，需回到初始位置，才能进行下一次清洁。优选的，该第一出风口21为两个，对称设置在喷头2的第一表面上。这样，当支架1向着温控台8的一侧移动时，可开启与温控台8的一侧靠近的第一出风口21；当支架1向着温控台8的相对的另一侧移动时，可开启与温控台8的另一侧靠近的第一出风口21，从而可使喷头2移动到温控台8的一侧时，无需回到初始位置，即可从温控台8的一侧向另一侧移动进行清洁，可提高清洁的效率。本实施例中，温控台8的一侧和另一侧为在喷头2移动方向上的两侧。

喷头2的第二表面上设置至少一个第二出风口22。例如，该第二出风口22的形状可以为从喷头2的一端延伸到另一端的狭长的条形。喷头2内设置有第二出风通道27，该第二出风通道27与第二出风口22连通，并且第二出风通道27与喷头2的第二表面之间的夹角为钝角，使第二出风口22吹出的风向喷头2的移动方向流动。因此，第二出风口22沿喷头2移动方向向基板9的表面出风，用于去除基板9的表面的颗粒物。若该喷头2的第二表面上只设置有一个第二出风口22，由于第二出风口22吹出的风具有特定的方向，则喷头2在移动到温控台8的一侧后，需回到初始位置，才能进行下一次清洁。优选的，该第二出风口22为两个，对称设置在喷头2的第一表面上。这样，当支架1向着温控台8的一侧移动时，可开启与温控台8的一侧靠近的第二出风口22；当支架1向着温控台8的相对的另一侧移动时，可开启与温控台8的另一侧靠近的第二出风口22，从而可使喷头2移动到温控台8的一侧时，无需回到初始位置，即可从温控台8的一侧向另一侧移动进行清洁，可提高清洁的效率。

因此，通过上述的结构设计，支架1可带动喷头2沿温控台8的表面移动，通过第一出风口21和第二出风口22可同时去除温控台8和基板9上的颗粒物。

该表面清洁装置还包括：设置在喷头1内部的高压放电单元。该高压放电单元将气体输入单元输入的气体离子化后输入第一出风口21和第二出风口22。

在制作基板9的过程中，基板9在曝光机中可能出现静电处理不充分的问题。在基板9与掩膜板多次的接触式曝光中，造成掩膜板自身静电逐渐加大而导致基板9也带有静电而使共同缺陷高发。因此，通过高压放电单元将气体离子化后，使第一出风口21和第二出风口22吹出的风为离子风。该离子风不仅可将温控台8和基板9的表面的颗粒物清洁掉，还能去除温控台8和基板9的表面的静电。

该表面清洁装置还包括：至少一个吸附单元4。该吸附单元4用于设置在温控台8的与喷头2的移动方向同向的一侧，吸附第一出风口21和第二出风口22去除的颗粒物。例如喷头2向温控台8的一侧移动，则吸附单元4设置在温控台8的一侧。若喷头2可向温控台8的一侧移动，也可向温控台8的另一侧移动，则可以在温控台8的两侧各设置一个吸附单元4。这样，当喷头2向温控台8的一侧移动时，开启温控台8的一侧的吸附单元4进行吸附；当喷头2向温控台8的另一侧移动时，开启温控台8的另一侧的吸附单元4进行吸附。

因此，该吸附单元4可吸附第一出风口21和第二出风口22清洁掉的颗粒物，避免这些颗粒物在空气中漂浮，有可能又重新落回到温控台8和基板9的表面，有利于提高去除颗粒物的效果。

喷头2的第一表面上还可以设置至少一个第一吸附口23，用于吸附温控台8的表面上的颗粒物。同样的，喷头2的第二表面上还可以设置至少一个第二吸附口24，用于吸附基板9的表面上的颗粒物。此外，该装置还包括抽气单元，并且该喷头2的表面上还设置有至少一个出气口28，以配合第一吸附口23和第二吸附口24使用。该出气口28可设置在喷头2的两端的表面上。抽气单元与出气口28连通，出气口28分别与第一吸附口23和第二吸附口24连通。清洁时，开启抽气单元抽气，使喷头2内产生负压，从而可使第一吸附口23和第二吸附口24吸附温控台8和基板9表面的颗粒物。

因此，除了采用第一出风口21和第二出风口22清洁掉颗粒物的方式，还可通过该第一吸附口23和第二吸附口24，同时吸附温控台8和基板9的表面上的颗粒物，进一步去除温控台8和基板9的表面上的颗粒物。

优选的，第一出风口21与喷头2的第一表面的自由端之间隔有第一距离。其中，喷头2的第一表面的自由端为与喷头2的移动方向同向的一端。该第一距离使得第一出风口21并不是位于喷头2的第一表面的边缘，而是与喷头2的第一表面的自由端之间形成一个平台。同样的，第二出风口22与喷头2的第二表面的自由端之间隔有第二距离。其中，喷头2的第二表面的自由端为与喷头2的移动方向同向的一端。该第二距离使得第二出风口22并不是位于喷头2的第二表面的边缘，而是与喷头2的第二表面的自由端之间形成一个平台。

如果没有该平台，则从第一出风口21和第二出风口22吹出的风由于没有受到平台的阻挡和引导，在分别直接吹向温控台8和基板9的表面后，改变流向形成对冲漩涡，不利于将温控台8和基板9的表面的颗粒物清洁掉。因此，上述结构设计形成的平台，使得从喷头2中吹出的气体在第一出风口21的出口面与温控台8的表面、第二出风口22的出口面与基板9的表面之间形成水平气流层，有利于将温控台8或者基板9表面的颗粒物清洁掉，同时第一出风口21和第二出风口22喷出的气流也不会紊乱，以便更有效地去除温控台8和基板9的表面的颗粒物和静电。

更优选的，如图6所示，喷头2的第一表面上设置有至少一条与喷头2的移动方向平行的第一导流槽28。第一导流槽28的一端延伸到第一出风口21处。第一导流槽28的另一端延伸到温控台8的第一表面的自由端。同样的，喷头2的第二表面上设置有至少一条与喷头2的移动方向平行的第二导流槽。第二导流槽的一端延伸到第二出风口22处。第二导流槽的另一端延伸到温控台8的第二表面的自由端。该第一导流槽28和第二导流槽的形状可以有多种。如图7所示，该第一导流槽28和第二导流槽的断面的形状为长方体。如图8所示，该第一导流槽28和第二导流槽的断面的形状为倒置的三角形。

通过设置第一导流槽28和第二导流槽，可分别对从第一出风口21和第二出风口22吹出的风进行导流，有利于气流向喷头2移动的方向流动，减少气流紊乱的现象，以便更有效地去除温控台8和基板9的表面的颗粒物和静电。

该表面清洁装置还包括：控制单元。控制单元与喷头2电连接，用于控制喷头2的第一出风口21和第二出风口22的风力和/或第一出风口21的出风温度。

通过设置控制单元，可根据温控台8上的颗粒物的分布情况控制第一出风口21和第二出风口22的风力，有效去除温控台8和基板9的表面的颗粒物；并且可根据设定的温控台的表面温度，控制第一出风口21吹出的风的温度，从而可使温控台8的表面保持设定的表面温度。

该表面清洁装置还包括：颗粒物检测单元。其中，该颗粒物检测单元与控制单元电连接，用于检测温控台8的表面的颗粒物，并将温控台8的表面的颗粒物的位置发送到控制单元。则控制单元可用于根据颗粒物的位置，控制喷头2移动到颗粒物的位置处时，增大第一出风口21的风力。清洁过程中，温控台8的某一位置的颗粒物可能有残留，则通过颗粒物检测单元检测到该颗粒物的位置后，可在再次清洁时，通过控制单元控制第一出风口21在该位置处增大风力，以便将残留的颗粒物吹走。该颗粒物检测单元可以通过多种方式检测颗粒物，例如，通过红外的方式检测颗粒物，或者，通过光学影像的方式检测颗粒物等等。当该颗粒物检测单元通过红外的方式检测颗粒物，该颗粒物检测单元具体可包括红外发射模块51和红外接收模块52。具体的，在一优选的实施例中，该红外发射模块51可设置在支架1的一个支撑杆上，红外接收模块52设置在支架1的另一个支撑杆上，并且正对红外发射模块51，以便接收红外发射模块51发出的红外信号。该位置的红外发射模块51和红外接收模块52随着支架1的移动而移动，可以检测温控台8的表面的所有位置。在另一优选的实施例中，该红外发射模块51可设置在温控台8的一端，红外接收模块52可设置在温控台8的另一端。该种形式的红外发射模块51需要沿着温控台8的一端排布，红外接收模块52需要沿着温控台8的另一端排布，才能检测温控台8的整个表面。该颗粒物检测单元还可以发出警报，警示操作人员。若在限定的清洁次数(例如两次)后，仍然检测到温控台8的同一位置还有残留的颗粒物，可警示操作人员，以便停机后由操作人员对温控台的该位置进行处理。

由于基板9的表面的颗粒物在重力的作用下，当表面清洁装置对其清洁后，极少发生颗粒物残留的情况，因此可以不设置检查基板9的表面的颗粒物的检测单元。应当理解的是，根据具体情况，也可以设置检测基板9的表面的颗粒物的检测单元。

为了更好地控制风力，该表面清洁装置还包括：风力感应器6，用于检测风力的大小。风力感应器6可设置在第一出风口21的附近，从而使得检测到的风力的大小更加准确。

该表面清洁装置还包括：温度测量单元7。温度测量单元7与控制单元电连接，用于测量温控台8的表面的温度，并将温控台8的表面的温度发送到控制单元。则控制单元用于根据温控台8的表面的温度和温控台8的表面的设定温度，调节第一出风口21的出风温度。该温度测量单元7具体可采用温度传感器。该温度测量单元7在喷头2上的位置可根据实际情况设定。例如，该温度测量单元7设置在喷头2的两侧。

通过设置温度测量单元7，可使控制单元根据测量的温控台8的表面的实际温度，确定其与设定温度之间的差距，从而可调整第一出风口21的出风的温度，从而使得温控台8的表面可保持设定的温度。

综上，本发明实施例的表面清洁装置，通过在喷头2的第一表面上设置第一出风口21，以便去除温控台8的表面上的颗粒物；在喷头2的第二表面上设置第二出风口22，以便去除基板9的表面上的颗粒物；通过移动的支架1带动喷头2移动，可同时去除温控台8和基板9的整个表面上的颗粒物，以便提高产线稼动率以及产品良率；通过设置高压放电单元，将气体离子化后，使第一出风口21和第二出风口22吹出的风为离子风，可同时去除温控台8和基板9的表面的静电；通过设置第一吸附口23、第二吸附口24和吸附单元4，可吸附温控台8和基板9的表面的颗粒物，有利于去除颗粒物的清洁效果；通过设置控制单元、颗粒物检测单元和温度测量单元7，可根据残留颗粒物的位置在该处加大第一出风口21的风力，还可根据温控台8的表面的温度与表面的设定温度之间的差距，调节第一出风口21的出风温度。

第二实施例

本发明第二实施例还公开了一种温控台系统。如图1～14所示，该温控台系统包括：温控台8和上述的表面清洁装置。温控台8包括多个可升降的支撑针81。多个可升降的支撑针81与温控台8的表面平行，从而不会影响表面清洁装置的喷头2的移动。多个可升降的支撑针81用于支撑基板9。该支撑针81的支撑基板9的表面上设置有支撑吸附孔811。当基板置于支撑针81上时，支撑吸附孔811打开吸附基板9，便于稳定地放置基板9。

该温控台8还包括：多个可升降的辅助支撑针82。该辅助支撑针82也用于支撑基板9，并将基板9转移到支撑针81上。该辅助支撑针82上设置有辅助支撑吸附孔。同样的，当基板9置于辅助支撑针82上时，辅助支撑吸附孔打开吸附基板9，便于稳定地放置基板9。具体使用时，可升高辅助支撑针82，打开辅助支撑吸附孔，将基板9置于辅助支撑针82上。支撑针81升高到合适的高度，以便喷头2的高度位于支撑针81和温控台8的表面之间(支撑针81的高度低于辅助支撑针82的高度)。辅助支撑针82降到支撑针81的高度，使支撑针81支撑基板9，关闭辅助支撑吸附孔，开启支撑吸附孔811，辅助支撑针82继续降低到温控台8的表面以下，从而实现将基板9从辅助支撑针82转移到支撑针81上。

该表面清洁装置的具体结构可参见上述实施例的表面清洁装置的结构，在此不再赘述。该表面清洁装置的喷头2的第一表面正对温控台8的表面，则当基板9承载在温控台8的支撑针81上时，喷头2的第二表面正对基板9，从而可使喷头2第一表面的第一出风口21向温控台8的表面出风，喷头2的第二表面的第二出风口22向基板9的表面出风。

该温控台8的内部还可以设置有温控台温度测量单元83和温度调节单元84。多个温控台温度测量单元83可间隔均匀地分布在温控台8的内部。该温控台温度测量单元83测量的温度一般是温控台8的内部的温度。该温度调节单元84由于设置在温控台8的内部，可调节温控台8的内部的温度，同时该温度调节单元84通过调节温控台8的内部的温度，由于内外接触传递热量，可辅助调节温控台8的表面的温度。该温度调节单元84可根据温控台温度测量单元83测量的温度与表面的设定温度之间的差距，调节温控台8的内部的温度。该温度调节单元84还可根据表面清洁装置的控制单元的控制指令调节温控台8的表面的温度，有利于使温控台8的表面的温度与表面的设定温度一致。具体的，该温度调节单元84可以采用水循环传热的形式。

综上，本发明实施例的温控台系统，通过支撑针81的升降，可使喷头2位于温控台8和基板9之间，并通过支撑针81的支撑吸附孔811可稳定地放置基板9；由于该温控台系统包括上述实施例的表面清洁装置，因此，也具有上述实施例的表面清洁装置的有益效果；此外，该温控台系统还可通过温控台温度测量单元83和温度调节单元84调节温控台8的内部和表面的温度。

第三实施例

本发明第三实施例还公开了一种表面清洁方法。该表面清洁方法用于上述的温控台系统。如图15所示，该方法具体包括如下的步骤：

步骤S1501：将温控台的多个可升降的支撑针升高。

通过该步骤使支撑针与温控台的表面分离，并使支撑针的高度高于表面清洁装置的喷头的高度，这样喷头可在支撑针和温控台的表面之间移动。

若该温控台还包括辅助支撑针，则在将温控台的多个可升降的支撑针升高之前，将辅助支撑针升高，辅助支撑针升高的高度高于支撑针的高度。

步骤S1502：将基板放置在支撑针上。

具体的，在一优选的实施例中，可通过机器手将基板放置在支撑针上，打开支撑针的支撑吸附孔，吸附基板。

此外，若该温控台还包括辅助支撑针，则在另一优选的实施例中，可通过机器手将基板放置在升高后的辅助支撑针上，打开辅助支撑针上的辅助支撑吸附孔吸附基板，使基板稳固地放置在辅助支撑针上。该辅助支撑针的高度高于支撑针的高度。当放置了基板后，降低辅助支撑针的高度直到与支撑针的高度相同，则此时基板同时放置在支撑针和辅助支撑针上。关闭辅助支撑针的辅助支撑吸附孔，并打开支撑针的支撑吸附孔，通过支撑针的支撑吸附孔吸附基板。将辅助支撑针的高度降低到温控台的表面以下，完成将基板从辅助支撑针转移到支撑针的操作。

步骤S1503：开启表面清洁装置的气体输入单元、喷头的第一出风口和喷头的第二出风口。

通过该步骤使气体输入单元向喷头输送气体，以便第一出风口和第二出风口出风，进行清洁。

步骤S1504：开启表面清洁装置的支架，使支架带动支架上的喷头沿温控台的表面移动。

通过该步骤开启支架，支架移动带动喷头沿温控台的表面移动，使第一出风口沿喷头移动方向向温控台的表面出风，第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风，从而可使喷头对温控台和基板的整个表面进行清洁。该支架可以只向一个方向移动，也可以在相对的两个方向上做往复移动。当该支架做往复移动时，在基板流走后，可从支架的所在位置开始向相反方向移动进行下一块基板的清洁。应当理解的是，该步骤S1504和步骤S1503也可同时进行。

若该喷头内部还设置有高压放电单元，则在步骤S1502之后，还可以开启高压放电单元对输入的气体进行电离，以便在清洁颗粒物的同时去除静电。

若该表面清洁装置还包括抽气单元，该喷头的第一表面和第二表面还分别设置有第一吸附口和第二吸附口，则在步骤S1502之后，还可以打开抽气单元、第一吸附口和第二吸附口进行吸附清洁。

若该表面清洁装置还包括吸附单元，则在步骤S1502之后，还可开启与喷头的移动方向同向的吸附单元，以便吸附单元吸附第一出风口和第二出风口清洁掉的颗粒物。

若该表面清洁装置还包括控制单元、颗粒物检测单元、温度测量单元，则在步骤S1502之后，还可同时开启上述的各单元，以便在清洁的过程中，颗粒物检测单元可实时检测温控台的表面的残留的颗粒物，从而可在下次清洁时，使控制单元可在该残留的颗粒物的位置增大第一出风口和第二出风口的风力。该温度测量单元可实时测量温控台的表面的温度，从而可使控制单元实时调节第一出风口和第二出风口的出风温度，以便使温控台的表面的温度与表面的设定温度一致。

若该温控台的内部设置有温控台温度测量单元和温度调节单元，则在步骤S1502之后，还可同时开启温控台温度测量单元和温度调节单元。则在表面清洁的过程中，通过温控台温度测量单元测量温控台内部的温度与表面的设定温度之间的差距，从而通过温度调节单元调节温控台的内部的温度；并且，该温度调节单元还可根据表面清洁装置的控制单元的控制指令调节温控台的表面的温度，有利于使温控台的表面的温度与设定的表面温度一致。

综上，本发明实施例的表面清洁方法，由于采用了上述实施例的温控台系统，可以同时去除温控台和基板的整个表面上的颗粒物，以便提高产线稼动率以及产品良率。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

尽管已描述了本发明实施例的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明实施例范围的所有变更和修改。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种表面清洁装置，其特征在于，包括：可沿温控台的表面移动的支架，连接在所述支架上的喷头，以及向所述喷头输送气体的气体输入单元；

所述喷头设置在所述温控台上方，所述喷头包括相对设置的第一表面和第二表面，所述喷头的第一表面上设置至少一个第一出风口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二出风口；

所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风；

所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风；

所述第一出风口与所述喷头的第一表面的自由端之间隔有第一距离，所述喷头的第一表面的自由端为与所述喷头的移动方向同向的一端；

所述第二出风口与所述喷头的第二表面的自由端之间隔有第二距离，所述喷头的第二表面的自由端为与所述喷头的移动方向同向的一端。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：设置在所述喷头内部的高压放电单元，所述高压放电单元将所述气体输入单元输入的气体离子化后输入第一出风口和第二出风口。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述喷头的第一表面上设置至少一个第一吸附口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二吸附口。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：至少一个吸附单元，至少一个所述吸附单元用于设置在所述温控台的与所述喷头的移动方向同向的一侧，吸附所述第一出风口和所述第二出风口去除的颗粒物。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述喷头的第一表面上设置有至少一条与所述喷头的移动方向平行的第一导流槽，所述第一导流槽的一端延伸到所述第一出风口处，所述第一导流槽的另一端延伸到所述温控台的第一表面的自由端；

所述喷头的第二表面上设置有至少一条与所述喷头的移动方向平行的第二导流槽，所述第二导流槽的一端延伸到所述第二出风口处，所述第二导流槽的另一端延伸到所述温控台的第二表面的自由端。

6.根据权利要求1-5任一项所述的装置，其特征在于，还包括：控制单元，所述控制单元与所述喷头电连接，用于控制所述喷头的第一出风口和第二出风口的风力和/或所述第一出风口的出风温度。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，还包括：颗粒物检测单元和/或温度测量单元，其中，

所述颗粒物检测单元与所述控制单元电连接，用于检测所述温控台的表面的颗粒物，并将所述温控台的表面的颗粒物的位置发送到所述控制单元；所述控制单元用于根据所述颗粒物的位置，控制所述喷头移动到所述颗粒物的位置处时，增大第一出风口的风力；

所述温度测量单元与所述控制单元电连接，用于检测所述温控台的表面的温度，并将所述温控台的表面的温度发送到所述控制单元；所述控制单元用于根据所述温控台的表面的温度和所述温控台的表面的设定温度，调节所述第一出风口的出风温度。

8.一种温控台系统，其特征在于，包括：温控台和如权利要求1-7任一项所述的表面清洁装置；

所述温控台包括多个可升降的支撑针，所述多个可升降的支撑针与所述温控台的表面平行，所述多个可升降的支撑针用于支撑基板；

所述表面清洁装置的喷头的第一表面正对所述温控台的表面。

9.一种表面清洁方法，用于如权利要求8所述的温控台系统，所述方法包括：

将所述温控台的多个可升降的支撑针升高，使所述支撑针与所述温控台的表面分离，并使所述支撑针的高度高于表面清洁装置的喷头的高度；

将基板放置在所述支撑针上；

开启所述表面清洁装置的气体输入单元、所述喷头的第一出风口和所述喷头的第二出风口，使所述气体输入单元向所述喷头输送气体；

开启表面清洁装置的支架，使所述支架带动所述支架上的喷头沿所述温控台的表面移动，所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风，所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。