BRPI0910074B1

BRPI0910074B1 - processo para fabricar placa de impressão litográfica

Info

Publication number: BRPI0910074B1
Application number: BRPI0910074A
Authority: BR
Inventors: Endo Akihiro
Original assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2008-03-25
Filing date: 2009-03-19
Publication date: 2019-09-10
Also published as: EP2267540A1; CN101981507A; EP2267540B1; WO2009119430A1; JP2009229944A; CN101981507B; JP5020871B2; US20110091814A1; EP2267540A4; BRPI0910074A2

Abstract

processo para fabricar placa de impressão litográfica é provido um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica que exibe segurança e excelente capacidade de revelação e capacidade de processas mente durante o processamento em uma única solução, usando uma solução de processamento com um ph em uma região fracamente alcalina, e preferivelmente um ph de 8,5 a 10,5. é descrito um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, o processo incluindo uma etapa de preparação para preparar um precursor de placa de impressão litográfica tendo, acima de um suporte hidrofílico, uma camada de formação de imagem que contém um agente de absorção infravermelho, um iniciador de polimerização, um composto etilenicamente insaturado, e um polímero ligante, uma etapa de exposição para expor para formação de imagem o precursor de placa de impressão litográfica, e uma etapa de processamento para processar para formação de imagem, o precursor de placa de impressão litográfica exposto usando uma solução de processamento contendo íon carbonato, íon bicarbonato, e um composto polímero solúvel em água.

Description

“PROCESSO PARA FABRICAR PLACA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA”

Campo Técnico

A presente invenção diz respeito a um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica e, em particular, a um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica que pode ser processada por um único banho e tem alta capacidade de processamento.

Antecedentes da Invenção

Em geral, uma placa de impressão litográfica é formada de uma área de imagem lipofílica para aceitar tinta e uma área de não imagem hidrofílica para aceitar água de umedecimento em um processo de impressão. Impressão litográfica é um processo de impressão no qual a propriedade de repelir água e tinta de impressão uma da outra é utilizada de maneira a causar uma diferença na anexação de tinta na superfície de uma placa de impressão litográfica com uma área de imagem lipofílica da placa de impressão litográfica como uma área aceitação de tinta e uma área de não imagem hidrofílica como uma área de aceitação de água de umedecimento (área de não aceitação de tinta) e, depois da aplicação de tinta, somente a tinta da área de imagem é transferida para um substrato de impressão, tal como papel.

A fim de fazer esta placa de impressão litográfica, um precursor de placa de impressão litográfica (placa PS) formado fornecendo-se uma camada resina fotossensível lipofílica (camada fotossensível, camada de formação de imagem) em um suporte hidrofílico é amplamente usado na técnica. Uma placa de impressão litográfica é normalmente obtida por um processo no qual, depois de o precursor de placa de impressão litográfica ser exposto por meio de uma imagem original tal como um filme de lito, uma área que torna-se uma área de imagem da camada de formação de imagem deve permanecer, e a camada de formação de imagem indesejada sem ser esta é removida pela dissolução usando um revelador alcalino ou um solvente orgânico para formar assim uma área de não imagem na qual a superfície do suporte hidrofílico é exposta.

Desta maneira, no processo de fabricação de placa convencionalmente conhecido de um precursor de placa de impressão litográfica, depois de exposição, é exigida uma etapa de remoção de camada de formação de imagem desnecessária por dissolução, por exemplo, com um revelador, mas, do ponto de vista do ambiente e segurança, a realização segura do processamento com um revelador que está mais próximo de neutro, ou redução da quantidade de resíduo líquido, são problemas. Em particular, uma vez que nos últimos anos a disposição de efluente descarregado associado com o tratamento úmido tem se tornado uma grande preocupação por todo o mundo industrial, do ponto de vista de consideração do ambiente global, a demanda de uma solução para os problemas supramencionados tem aumentado cada vez mais.

Por outro lado, técnicas de digitalização envolvendo processamento, arma5 zenamento e produção eletrônica de informação de imagem por computador têm sido amplamente difundidas nos últimos anos, e vários novos métodos de produção de imagem usados com tais técnicas de digitalização têm sido postos em prática. Junto com isto, uma técnica de computador em placa (CTP), na qual uma placa de impressão litográfica é feita diretamente sem um filme de lito carregando informa10 ção de imagem digitalizada em raios radiantes altamente convergentes tal como luz laser e varrendo e expondo um precursor de placa de impressão litográfica com esta luz, tem atraído a atenção. É portanto uma importante tarefa da técnica obter um precursor de placa de impressão litográfica que seja adequado para as técnicas supramencionadas.

Da maneira descrita anteriormente, tem sido um desejo cada vez maior diminuir a alcalinidade de um revelador e simplificar a etapa de processamento, tanto do ponto de vista de consideração do ambiente global quanto do ponto de vista de poder acomodar redução de espaço e baixo custo operacional. Entretanto, da maneira descrita anteriormente, a etapa de processamento de revelação no geral com20 preende três estágios, ou seja, revelação usando uma solução aquosa de um álcali com um pH de pelo menos 10, em seguida lavagem do agente alcalino usando um banho de lavagem com água, e subsequentemente tratamento usando um líquido de engomagem contendo uma resina hidrofílica como um componente principal; em virtude disto, um processador automático ocupa por si um grande espaço, e existem 25 ainda problemas em termos do ambiente e custo operacional, tal como disposição de efluente de revelação, efluente de lavagem com água e efluente de engomagem.

Por outro lado, relatório descritivo de patente 1, por exemplo, propõe um método de revelação no qual processamento é realizado usando uma solução aquosa com um pH de 8,5 a 11,5, mas, uma vez que a etapa de lavagem com água e 30 líquido engomagem de processamentos são exigidos, os problemas ambientais e custo operacional não podem ser resolvidos.

Além disso, um exemplo de relatório descritivo de patente 2 descreve processamento de único banho usando uma solução de processamento compreendendo uma resina solúvel em água com um pH de 11,9 a 12,1. Entretanto, uma placa 35 de impressão litográfica com um álcali com um pH de 12 anexado na superfície da placa tem um problema em termos de segurança do operador e se, depois de a placa de impressão litográfica se produzida, existir um longo tempo antes da impres são, uma área de imagem dissolve-se gradualmente, degradando assim a vida da placa ou deposição da tinta.

Documento de patente T. JP-A-11-65126 (JP-A denota uma publicação de pedido de patente Japonesa não examinada)

Documento de patente 2: EP em aberto No. 1868036

Revelação da Invenção

Problemas a ser resolvidos pela invenção

É, portanto, um objetivo da presente invenção fornecer um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica que pode superar os defeitos supramencionados das técnicas convencionais, e especificamente fornecer um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica que apresenta segurança e excelente capacidade de revelação e capacidade de processamento, em processamento de uma única solução usando uma solução de processamento fracamente alcalina.

Meios para Resolver os Problemas

Em decorrência de uma investigação intensa, os presentes inventores atingiram com sucesso o objetivo supramencionado pelos meios a seguir. A presente invenção (1) e modalidades preferidas desta (2) a (10) são listadas a seguir.

(1) Um processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, o processo compreendendo uma etapa de preparação para preparar um precursor de placa de impressão litográfica tendo acima de um suporte hidrofilico uma camada de formação de imagem compreendendo (i) um agente de absorção infravermelho, (ii) um iniciador de polimerização, (iii) um composto etilenicamente insaturado, e (iv) um polímero ligante; uma etapa de expor para formação de imagem o precursor de placa de impressão litográfica, e uma etapa de processamento de expor para formação de imagem o precursor de placa de impressão litográfica usando uma solução de processamento compreendendo íon carbonato, íon bicarbonato, e um composto polímero solúvel em água, (2) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo com (1), em que a exposição para formação de imagem é realizada por meio de um laser próximo ao infravermelho ou infravermelho que emite luz a 760 a 1.200 nm, (3) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo com (1) ou (2), em que a solução de processamento tem um pH na faixa de 8,5 a 10,8, (4) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo com qualquer um de (1) a (3), em que o polímero ligante (iv) tem um grupo ácido em uma cadeia lateral, (5) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo

com (4), em que o grupo ácido é um grupo ácido carboxílico, (6) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo com qualquer um de (1) a (5), em que o precursor de placa de impressão litográfica tem uma camada protetora acima da camada de formação de imagem, (7) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo com (6), em que a camada protetora compreende um álcool polivinílico modificado por ácido, (8) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo com qualquer um de (1) a (7), em que a etapa de processamento é uma etapa de realizar o processamento de revelação e processamento de engomagem usando ao mesmo tempo um único banho, (9) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo com (6) ou (7), em que a etapa de processamento é uma etapa de realizar a remoção da camada protetora, processamento de revelação, e processamento de engo- magem usando ao mesmo tempo um único banho, e (10) o processo para fabricar uma placa de impressão litográfica de acordo com qualquer um de (1) a (9), em que uma etapa de lavagem a água não é realizada tanto antes quanto depois da etapa de processamento.

Efeitos da Invenção

De acordo com a presente invenção, uma placa de impressão litográfica pode ser feita por processamento, usando uma única solução, um precursor de placa de impressão litográfica fotossensível tipo fotopolimerização, ou seja, adequado para (próximo) litografia de luz laser infravermelho e que tem boa uniformidade em termos de uniformidade de tingimento em tela para tons intermediários quando é usada impressão em tela AM ou impressão em tela FM de alta definição, em particular tela FM, com uma resolução de tela de pelo menos 200. Em particular, uma vez que revelação de único banho usando uma solução de processamento fracamente alcalina é possível, simplificação das etapas de processamento pode fornecer méritos tal como consideração do ambiente global, e sendo capaz de acomodar redução de espaço e baixo custo operacional.

Descrição Resumida dos Desenhos

Figura 1Um diagrama constitucional esquemático mostrando um exemplo de equipamento de desbaste mecânico usado para produzir um suporte hidrofílico usado em um precursor de placa de impressão litográfica empregado na presente in35 venção.

Figura 2:Um diagrama esquemático mostrando a estrutura de um exemplo de um processador empregado na presente invenção.

Explicação dos Números de Referência

1: Placa de alumínio

2, 4: Escova em forma de rolo

3: Líquido de lama abrasiva

5, 6, 7, 8:Rolo do suporte

11: Rolo de escova rotativa

12: Rolo de encosto

13: Rolo de transporte

14: Placa de guia de transporte

15: Tubo de aspersão

16: Tubulação

17: Filtro

18: Mesa de suprimento de placa

19: Mesa de descarga de placa

20: Tanque de solução de processamento

21: Bomba de circulação

22: Secador

30: Precursor de placa de impressão litográfica

Melhor modo para realizar a invenção

O processo para fabricar uma placa de impressão litográfica relacionado à presente invenção e suas modalidades preferidas são explicados a seguir.

I. Precursor de placa de impressão litográfica

Uma etapa de preparar um precursor de placa de impressão litográfica usado na presente invenção é explicada a seguir.

O precursor de placa de impressão litográfica usado na presente invenção tem uma camada de formação de imagem com fotossensibilidade funcional negativa, e uma região exposta forma uma imagem hidrofóbica quando processada, formando assim uma área de recebimento de tinta para impressão.

A camada de formação de imagem é também denominada uma 'camada fotossensível' ou uma 'camada de fotossensibilidade' a seguir.

É essencial que o precursor de placa de impressão litográfica tenha um suporte hidrofilico e uma camada de formação de imagem provida acima dele por revestimento; uma camada intermediária pode ser provida entre eles, e uma camada protetora pode ser provida fora da camada de formação de imagem. Uma camada de revestimento de fundo pode ser provida do lado oposto à camada de formação de imagem em relação ao suporte.

A constituição do precursor de placa de impressão litográfica fotossensível

funcional negativa usado no processo para fabricar uma placa de impressão litográfica é explicada a seguir.

Um suporte hidrofílico (a seguir, também denominado simplesmente um 'suporte') usado na presente invenção é um suporte com pelo menos uma superfície hidrofílica. O material do suporte não é particularmente limitado, mas o suporte preferivelmente tem uma forma de placa dimensionalmente estável e tem uma superfície hidrofílica. Exemplos deste incluem papel, papel laminado com um plástico (por exemplo, polietileno, polipropileno, poliestireno, etc.), uma placa de metal (por exemplo, alumínio, zinco, cobre, etc.), um filme plástico (por exemplo, diacetato de celulose, triacetato de celulose, propionato de celulose, butirato de celulose, butirato de acetato de celulose, nitrato de celulose, poli(tereftalato de etileno), polietileno, poliestireno, polipropileno, policarbonato, polivinilacetal, etc.), e papel ou filme plástico laminado ou depositado a vapor com o metal acima. Exemplos preferidos do suporte incluem um filme de poliéster e uma placa de alumínio. Entre eles, é preferível uma placa de alumínio, que tem boa estabilidade dimensional e é relativamente barata. Quando estes suportes não são suficientemente hidrofílicos, eles são usados submetendo-se a superfície a um tratamento de hidrofilização. O tratamento de hidrofilização envolve revestir com uma camada hidrofílica ou hidrofilizar uma superfície do suporte.

A placa de alumínio inclui uma placa de alumínio pura, uma placa de liga contendo alumínio como um componente principal e também contendo uma pequena quantidade de um outro elemento, e um filme de alumínio fino ou filme de liga de alumínio laminado com um plástico. Exemplos de outro elemento contido na liga de alumínio incluem silicone, ferro, manganês, cobre, magnésio, cromo, zinco, bismuto, níquel, e titânio. O teor do outro elemento na liga é preferivelmente não maior que 10 % em peso. A espessura da placa de alumínio é preferivelmente 0,1 a 0,6 mm, mais preferivelmente 0,15 a 0,4 mm, e ainda mais preferivelmente 0,2 a 0,3 mm.

A placa de alumínio é preferivelmente submetida a um tratamento superficial tal como um tratamento de formação de aspereza superficial, um tratamento de anodização, ou um tratamento de hidrofilização.

Materiais que podem ser usados como o suporte, o tratamento de formação de aspereza superficial, o tratamento de anodização, e o tratamento de hidrofilização são conhecidos e descritos, por exemplo, nos parágrafos 0335 a 0344 de JP-A2007-47742.

Além disso, quando um filme de poliéster, etc. é usado como um suporte, é

preferível fornecer uma camada antiestática de um lado da camada hidrofílica, do lado oposto, ou em ambos os lados do suporte. Quando uma camada antiestática é provida entre o suporte e uma camada hidrofílica, ela também contribui para uma melhoria na adesão da camada hidrofílica. Como a camada antiestática, pode ser usada uma camada de polímero, descrita em JP-A-2002-79772, na qual micropartículas de óxido de metal ou um agente de mateamento são dispersos, etc..

A rugosidade média da linha de centro do suporte é preferivelmente 0,10 a 1,2 pm do ponto de vista de boa adesão para uma camada fotossensível ou uma camada intermediária, maior vida da placa, e boas propriedades de prevenção de mancha. Além disso, do ponto de vista de boas propriedades de formação de imagem por prevenção de formação de auréola durante exposição para formação de imagem, facilidade de inspeção da placa depois da revelação, etc., a densidade de cor do suporte é preferivelmente 0,15 a 0,65 como um valor de sua densidade de reflexão.

O precursor de placa de impressão litográfica usado na presente invenção pode ter uma camada intermediária provida entre a camada de formação de imagem e o suporte. Uma vez que a camada intermediária tem a função de reforçar a adesão entre o suporte e a camada fotossensível em uma área exposta e a função de facilitar o desprendimento da camada fotossensível do suporte em uma área não exposta, a facilidade de discriminação por revelação é melhorada. Além do mais, quando exposição para formação de imagem é realizada por meio de um laser infravermelho, uma vez que a camada intermediária funciona como uma camada isolante de calor, calor gerado pela exposição para formação de imagem não difundese no suporte e é eficientemente utilizado, dando assim a vantagem de se conseguir alta sensibilidade.

Exemplos de materiais usados como a camada intermediária incluem um agente de acoplamento de silano tendo um grupo reativo de ligação dupla etilênica polimerizável de adição descrito em JP-A-10-282679 e um composto de fósforo tendo um grupo reativo de ligação dupla etilênica descrito em JP-A-2-304441.

Como um composto polímero (composto polímero para camada intermediária) usado na camada intermediária, uma resina conhecida tendo um grupo hidrofílico pode também ser usado. Exemplos específicos de uma resina como essa incluem goma arábica, caseína, gelatina, um derivado de amido, carboximetilcelulose e um sal de sódio destes, acetato de celulose, alginato de sódio, um copolímero de ácido maléico de acetato de vinila, um copolímero de estireno/ácido maléico, um ácido poliacrílico e um sal destes, um ácido polimetacrílico e um sal destes, homo8

polímero e copolímero de metacrilato de hidroxietila, homopolímero e copolímero de acrilato de hidroxietila, homopolímero e copolímero de metacrilato de hidroxipropila, homopolímero e copolímero de acrilato de hidroxipropila, homopolímero e copolímero de metacrilato de hidroxibutila, homopolímero e copolímero de acrilato de hidro5 xibutila, um polietileno glicol, um polímero de hidroxipropileno, um álcool polivinílico, um poliacetato de vinila hidrolisado tendo um grau de hidrólise de pelo menos 60 mois % e preferivelmente pelo menos 80 mois %, polivinil formal, polivinil butiral, polivinilpirrolidona, homopolímero e copolímero de acrilamida, homopolímero e polímero metacrilamida, homopolímero e copolímero de N-metilolacrilamida, polivinil10 pirrolidona, náilon solúvel em álcool, e um poliéter de 2,2-bis(4-hidroxifenil)propano e epicloroidrina.

O composto polímero para a camada intermediária preferivelmente tem a capacidade de adsorber em uma superfície do suporte. Com relação à presença ou ausência da capacidade de adsorber em uma superfície do suporte, ela pode ser 15 determinada, por exemplo, pelo método a seguir.

É preparada uma solução de revestimento na qual um composto teste é dissolvido em um solvente na qual é facilmente solúvel, e um suporte é revestido com a solução de revestimento a um peso de revestimento seco de 30 mg/m² e seco. Subsequentemente, o suporte revestido com o composto teste é bem lavado usando 20 um solvente no qual o composto teste é facilmente solúvel, e a quantidade de composto teste permanece sem ser removido por lavagem é medida, calculando assim a quantidade adsorvida no suporte. Medições da quantidade remanescente podem ser realizadas por análise quantitativa direta da quantidade de composto remanescente ou por análise quantitativa da quantidade de composto teste dissolvido no 25 líquido de lavagem. Análise quantitativa do composto pode ser realizada, por exemplo, usando-se medições de fluorescência por raios-X, medições de absorbância de reflectância do espectro, medições por cromatografia líquida, etc. Um composto com a capacidade de adsorber em um suporte é um composto para o qual pelo menos 1 mg/m² permanece depois do tratamento de lavagem supramencionado.

A fim de conferir a capacidade de adsorber em uma superfície o suporte de um composto polímero para uma camada intermediária, ela pode ser obtida introduzindo-se um grupo adsorvível. Um grupo que é adsorvível em uma superfície do suporte é um grupo funcional que pode induzir uma ligação química (por exemplo, uma ligação iônica, uma ligação de hidrogênio, uma ligação de coordenação, uma 35 ligação por causa de forças intermoleculares) a um material (por exemplo, um metal, um óxido de metal) ou grupo funcional (por exemplo, um grupo hidróxi) presente na superfície do suporte. O grupo adsorvível é preferivelmente um grupo ácido ou um grupo catiônico.

O grupo ácido preferivelmente tem uma constante de dissociação de ácido (pKa) de não mais que 7. Exemplos do grupo ácido incluem um grupo hidróxi fenólico, um grupo carbóxi, -SO₃H, -OSO₃H, -ΡΟ₃Η₂, -OPO₃H₂, -CONHSO₂-, -SO₂NHSO₂-, e COCH₂CO-. Um grupo ácido fosfórico (-OPO₃H_2> -PO₃H₂) é particularmente preferível. Esses grupos ácidos podem ser sais de metal.

O grupo catiônico é preferivelmente um grupo ônio. Exemplos do grupo ônio incluem um grupo amônio, um grupo fosfônio, um grupo arsônio, um grupo estibônio, um grupo oxônio, um grupo sulfônio, um grupo selenônio, um grupo estanônio, e um grupo iodônio. Um grupo amônio, um grupo fosfônio, e um grupo sulfônio são preferíveis, um grupo amônio e um grupo fosfônio são mais preferíveis, e um grupo amônio é acima de tudo preferível.

A fim de introduzir um grupo adsorvível em um composto polímero para uma camada intermediária, uma unidade de manômero tendo um grupo adsorvível pode ser introduzida. Exemplos preferidos do manômero tendo um grupo adsorvível incluem um composto representado pela fórmula (E-1) ou Fórmula (E-2) a seguir, e um manômero representado por (E-1) é mais preferível.

[Fórmula química 1]

(E-1)

(E-2)

Na Fórmula (E-1) e Fórmula (E-2), R¹, R², e R³ são independentemente um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio, ou um grupo alquila tendo 1 a 6 átomos de carbono. É preferível para R¹, R², e R³ ter independentemente um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila tendo 1 a 6 átomos de carbono, é mais preferível para eles ter um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila tendo 1 a 3 átomos de carbono, e é acima de tudo preferível para eles ter um átomo de hidrogênio ou um grupo metila. R² e R³ são particularmente preferivelmente átomos de hidrogênio.

X é um átomo de oxigênio (-O-) ou imino (-NH-). X é preferivelmente um átomo de oxigênio.

L é um grupo de ligação divalente. L é preferivelmente um grupo alifático divalente (um grupo alquileno, um grupo alquenileno, um grupo alquinileno), um grupo aromático divalente (um grupo arileno), um grupo heterocíclico divalente, ou um grupo formado combinando-se o grupo acima com um átomo de oxigênio (-O-), um átomo de enxofre (-S-), imino (-NH-), imino substituído (-NR-, R é um grupo alifático, um grupo aromático, ou um grupo heterocíclico), ou carbonila (-CO-).

Na Fórmula (E-1) e Fórmula (E-2), o grupo alifático pode ter uma estrutura cíclica ou uma estrutura ramificada. O número de átomos de carbono do grupo alifático é preferivelmente 1 a 20, mais preferivelmente 1 a 15, e ainda mais preferivelmente 1 a 10. O grupo alifático é preferivelmente um grupo alifático saturado sem ser um grupo alifático insaturado. O grupo alifático pode ter um substituinte. Exemplos do substituinte incluem um átomo de halogênio, um grupo hidróxi, um grupo aromático, e um grupo heterocíclico.

O número de átomos de carbono do grupo aromático é preferivelmente 6 a 20, mais preferivelmente 6 a 15, e ainda mais preferivelmente 6 a 10. O grupo aromático pode ter um substituinte. Exemplos do substituinte incluem um átomo de halogênio, um grupo hidróxi, um grupo alifático, um grupo aromático, e um grupo heterocíclico.

O grupo heterocíclico preferivelmente tem um anel de 5 membros ou 6 membros como um heterociclo. O heterociclo pode ser condensado com um outro heterociclo, um anel alifático, ou um anel aromático. O grupo heterocíclico pode ter um substituinte. Exemplos do substituinte incluem um átomo de halogênio, um grupo hidróxi, um grupo oxo (=0), um grupo tioxo (=S), um grupo imino (=NH), um grupo imino substituído (=N-R, R é um grupo alifático, um grupo aromático, ou um grupo heterocíclico), um grupo alifático, um grupo aromático, e um grupo heterocíclico.

L é preferivelmente um grupo de ligação divalente contendo uma pluralidade de estruturas de polioxialquileno. a estrutura de polioxialquileno é mais preferivelmente uma estrutura de polioxietileno. Em outras palavras, L preferivelmente contém -(OCH₂CH₂)n- (n é um número inteiro de 2 ou mais).

Z é um grupo funcional que adsorbe em uma superfície de suporte hidrofílico. O grupo funcional adsorvível é da maneira descrita anteriormente.

Y é um átomo de carbono ou um átomo de nitrogênio. Quando Y for um átomo de nitrogênio e L estiver ligado a Y para formar um grupo piridínio quaternário, uma vez que o grupo exibe em si adsorbablilidade, Z não é essencial.

Exemplos específicos de monômeros representados pela fórmula (E-1) ou Fórmula (E-2) são listados a seguir.

A seguir, Me denota um grupo metila e Et denota um grupo etila.

[Fórmula química 2]

OH

Ο

Ο composto polímero para a camada intermediária preferivelmente compreende adicionalmente um grupo hidrofílico. Exemplos preferidos do grupo hidrofílico incluem um grupo hidróxi, um grupo carbóxi, um grupo carboxilato, um grupo hidroxietila, um grupo polioxietila, um grupo hidroxipropila, um grupo polioxipropila, um 5 grupo amino, um grupo aminoetila, um grupo aminopropila, um grupo amônio, um grupo amida, um grupo carboximetila, um grupo ácido sulfônico, e um grupo ácido fosfórico.

Na presente invenção, quando um polímero ligante tendo um grupo catiônico em sua cadeia lateral é usado em uma camada fotossensível, um grupo aniônico 10 tal como um grupo carbóxi, um grupo carboxilato, um grupo ácido sulfônico, ou um grupo ácido fosfórico é preferível como o grupo hidrofílico do composto polímero para a camada intermediária que interage com o grupo acima.

O composto polímero para a camada intermediária usado na presente invenção preferivelmente compreende adicionalmente um grupo reticulável. O grupo 15 reticulável pode melhorar a adesão a uma área de imagem. A fim de conferir reticu labilidade a composto polímero para a camada intermediária, um grupo funcional reticulável tal como uma ligação etilenicamente insaturada pode ser introduzido em uma cadeia lateral de um polímero, ou uma estrutura do sal pode ser formada a partir de um composto tendo uma ligação etilenicamente insaturada e um substituinte tendo a carga oposta a um substituinte polar do composto de polímero.

Exemplos de monômeros tendo uma ligação etilenicamente insaturada na molécula incluem monômeros de éster ou amida de ácido acrílico ou ácido metacrílico na qual o resíduo de éster ou amida (R em -COOR ou -CONHR) tem uma ligação etilenicamente insaturada.

Exemplos do resíduo tendo uma ligação etilenicamente insaturada (R acima) incluem -(CH₂)_nCR¹=CR²R³, -(CH2O)nCH2CR¹=CR²R³, (CH2CH₂O)_nCH₂CR¹=CR²R³, -(CH2)nNH-CO-O-CH2CR¹=CR²R³, -(CH2)_n-O-COCR¹=CR²R³, e -(CH₂CH₂O)₂-X (nas fórmulas, R¹ a R³ independentemente denota um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio, um grupo alquila tendo 1 a 20 átomos de carbono, um grupo arila, um grupo alcóxi, ou um grupo arilóxi, e R¹ e R² ou R³podem ser ligados uns nos outros para formar um anel, n denota um número inteiro de 1 a 10. X denota um resíduo de diciclopentadienila).

Exemplos específicos do resíduo fr éster (R em -COOR anteriormente) incluem -CH₂CH=CH₂, -CH₂CH₂O-CH₂CH=CH_2i -CH₂C(CH₃)=CH_2i -CH₂CH=CH-C₆H_5> CH₂CH₂OCOCH=CH-C₆H₅, -CH₂CH₂NHCOO-CH₂CH=CH_2i e -CH₂CH₂O-X (na fórmula, X denota um resíduo de diciclopentadienila).

Exemplos específicos do resíduo de amida (R em -CONHR acima) incluem CH₂CH=CH₂, -CH₂CH₂O-Y (na fórmula, Y denota um resíduo de cicloexenila), e CH₂CH₂OCO-CH=CH₂.

O teor do grupo reticulável no composto polímero para a camada intermediária (o teor da ligação dupla insaturada radicalmente polimerizável por iodimetria) é preferivelmente 0,1 a 10,0 mmol por g de composto de polímero, mais preferivelmente 1,0 a 7,0 mmol, e acima de tudo preferivelmente 2,0 a 5,5 mmol. Nesta faixa, um equilíbrio pode ser obtido entre boas propriedades de sensibilidade e prevenção de mancha, e boa estabilidade de armazenamento pode ser obtida.

O composto polímero para a camada intermediária é preferivelmente um polímero tendo uma unidade de manômero tendo um grupo adsorvível e uma unidade de manômero tendo um grupo hidrofílico, e é particularmente preferivelmente um polímero tendo uma unidade de manômero tendo um grupo adsorvível, uma unidade de manômero tendo um grupo hidrofílico, e uma unidade de manômero tendo um grupo reticulável.

Exemplos específicos preferidos do composto polímero para a camada in termediária são listados a seguir, mas a presente invenção não deverá ser interpretada limitada a eles. Na lista a seguir, Et denota um grupo etila, e Me denota um grupo metila. As figuras em baixo à direita dos parênteses mostrando a unidade de monômeros dos compostos do polímero denotam razão molar.

[Fórmula química 4]

COOH

*G_₀₂A

Além disso, um copolímero compreendendo uma unidade de manômero contendo uma ligação etilenicamente insaturada, etc. descrito em JP-A-2005125749 pode também ser preferivelmente usado.

O composto polímero para a camada intermediária preferivelmente tem um peso molecular com média no peso de 5.000 ou mais, e mais preferivelmente 10.000 a 300.000, e um peso molecular com média no número de 1.000 ou mais, e mais preferivelmente 2.000 a 250.000. A polidispersibilidade (peso molecular com média no peso/peso molecular com média no número) é preferivelmente 1,1 a 10.

O composto polímero para a camada intermediária pode ser qualquer de um polímero aleatório, um polímero bloco, um polímero de enxerto, etc., e é preferivelmente um polímero aleatório.

O composto polímero para a camada intermediária pode ser usado individualmente ou como uma mistura de 2 ou mais tipos destes.

A quantidade de camada intermediária revestida (teor de sólidos) é preferivelmente 0,1 a 100 mg/m², e mais preferivelmente 1 a 30 mg/m².

O precursor de placa de impressão litográfica usado na presente invenção compreende uma camada de formação de imagem é acima de um suporte hidrofílico como uma camada essencial, e esta camada de formação de imagem compreende como componentes essenciais (i) um agente de absorção infravermelho, (ii) um iniciador de polimerização, (iii) um composto etilenicamente insaturado, e (iv) um polímero ligante.

Explicação detalhada é dada a seguir nesta ordem.

(Agente de absorção infravermelho)

O agente de absorção infravermelho usado na presente invenção é um componente que é usado para aumentar a sensibilidade no sentido de um laser próximo a infravermelho a infravermelho. O agente de absorção infravermelho tem a função de converter infravermelho absorvido em calor e é também denominado um agente de conversão fototérmica. Entretanto, um mecanismo de iniciar polimerização por transferência de energia da energia absorvida pelo agente de absorção infravermelho para um iniciador de polimerização é não excluído. O agente de absorção infravermelho usado na presente invenção é preferivelmente um corante ou pigmento tendo uma absorção máxima a um comprimento de onda de 760 a 1.200 nm.

Como corantes que absorvem (próximo) infravermelho, corantes comerciais e corantes conhecidos descritos na literatura tal como, por exemplo, 'Senryo Binran' (Dye Handbook) (Ed. The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japão, 1970) podem ser usados. Exemplos específicos destes incluem corantes de azo, corantes de azo de sal de complexo de metal, corantes de azo de pirazolona, corantes de naftoquinona, corantes de antraquinona, corantes de ftalocianina, corantes de carbônio, corantes de quinonaimina, corantes de metina, corantes de cianina, corantes de esquarílio, sais de pirílio, e complexos de tiolato de metal.

Exemplos preferidos dos corantes incluem corantes de cianina descritos em JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, etc., corantes de metina descritos em JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., corantes de naftoquinona descritos em JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-5973996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., corantes de esquarílio descritos em

JP-A-58-112792, etc., e corantes de cianina descritos em British Patent 434,875.

Além disso, sensibilizadores de absorção próximos a infravermelho descritos na patente U.S No. 5.156.938 são adequadamente usados, e sais de arilbenzo(tio)pirílio substituídos descritos na patente U.S No. 3.881.924, sais de trimetinatiapirílio descritos em JP-A-57-142645 (patente U.S No. 4.327.69), compostos de pirílio descritos em JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-5984248, JP-A-59-84249, JP-A-59-146063, e JP-A-59-146061, corantes de cianina descritos em JP-A-59-216146, sais de pentametinatiopirílio descritos na patente U.S No. 4.283.475, e compostos de piríiio descritos em JP-B-5-13514 e JP-B-5-19702 (JP-B denota uma publicação de pedido de patente examinada Japonesa) são também preferivelmente usados. Além disso, outros exemplos preferidos dos corantes incluem corantes de absorção próximos a infravermelho denotados pelas Fórmulas (I) e (II) descritos na patente U.S No. 4.756.993.

Além disso, os outros exemplos preferidos do agente de absorção infravermelho, corantes de cianina indolenina específicos descritos em JP-A-2002-278057 mostrados a seguir podem ser citados.

[Fórmula química 5]

ch₃ ch₃

C_aH₆ C₂H_s

Entre esses corantes, corantes de cianina, corantes de esquarílio, sais de pirílio, complexos de tiolato de níquel, e corantes de cianina indolenina são preferíveis. Além disso, corantes de cianina e corantes de cianina indolenina são mais preferíveis, e um corante de cianina representado pela fórmula (A-l) a seguir pode ser citado como um exemplo particularmente preferido.

[Fórmula química 6]

Na Fórmula (A-l), X¹ denota um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio, -NPh2, X²-L¹, ou um grupo representado pela fórmula estrutural (A-la) a seguir. X² denota um átomo de oxigênio, N-R³ (R³ denota um átomo de hidrogênio ou um grupo orgânico monovalente), ou um átomo de enxofre, L¹ denota um grupo hidrocarboneto tendo 1 a 12 átomos de carbono, um anel aromático contendo heteroátomo, ou um grupo hidrocarboneto contendo heteroátomo tendo 1 a 12 átomos de carbono. O heteroátomo aqui referido significa N, S, O, um átomo de halogênio, ou Se. Xa‘ é definido da mesma maneira para Z_a', que é descrito posteriormente. R^adenota um átomo de hidrogênio, um grupo arila, um grupo amino, ou um átomo de halogênio. Na presente invenção, Ph denota um grupo fenila.

[Fórmula química 7]

R¹ e R² independentemente denotam um grupo hidrocarboneto tendo 1 a 12 átomos de carbono. Do ponto de vista de estabilidade de armazenamento de uma solução de revestimento de camada fotossensível, R¹ e R² são preferivelmente grupos hidrocarboneto tendo dois ou mais átomos de carbono e, além disso, é particularmente preferível para R¹ e R^{2 a} estarem ligados uns nos outros para formar um anel de 5 membros ou um anel de 6 membros.

Ar¹ e Ar² podem ser idênticos ou diferentes uns dos outros e denotam um grupo hidrocarboneto aromático. Exemplos preferidos do grupo hidrocarboneto aromático incluem um grupo de anel benzeno e um grupo de anel naftaleno. Exemplos preferidos de um substituinte incluem um grupo hidrocarboneto tendo não mais que 12 átomos de carbono, um átomo de halogênio, e um grupo alcóxi tendo não mais que 12 átomos de carbono. Y¹ e Y² podem ser idênticos ou diferentes uns dos outros e denotam um átomo de enxofre ou um grupo dialquilmetileno tendo não mais que 12 átomos de carbono. R³ e R⁴ podem ser idênticos ou diferentes uns dos outros e denotam um grupo hidrocarboneto tendo não mais que 20 átomos de carbono. Exemplos preferidos de um substituinte incluem um grupo alcóxi tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo carbóxi, e um grupo sulfo. R⁵, R⁶, R⁷, e R⁸ podem ser idênticos ou diferentes uns dos outros e denotam um átomo de hidro-

gênio ou um grupo hidrocarboneto tendo não mais que 12 átomos de carbono. Do ponto de vista de disponibilidade de material de partida, um átomo de hidrogênio é preferível. Além disso, Z_a' denota um contraíon. Entretanto, quando um corante de cianina representado pela fórmula (A-l) tem um substituinte aniônico na sua estrutura e é desnecessário neutralizar a carga, Z_a' não é exigido. Do ponto de vista de estabilidade de armazenamento da solução de revestimento de camada fotossensível, Z_a‘ é preferivelmente um ion haleto, um ion perclorato, um ion tetrafluorborato, um ion hexafluorfosfato, ou um ion ácido sulfônico, e é particularmente preferivelmente um ion perclorato, um ion hexafluorfosfato, ou um ion ácido arilsulfônico.

Na presente invenção, exemplos específicos de corantes de cianina representados pela fórmula (A-l) que podem ser desejavelmente usados incluem os descritos nos parágrafos 0017 a 0019 de JP-A-2001-133969.

Além do mais, outros exemplos particularmente preferidos destes incluem corantes de cianina indolenina específicos descritos anteriormente em JP-A-2002278057.

Como pigmentos que podem ser usados na função de conversão fototérmica na presente invenção, pigmentos comerciais e pigmentos descritos em 'Karaa Indekkusu' (C.l.) Binran (Handbook), 'Saishin Ganryo Binran' (Latest Pigments Handbook) (Ed. Nippon Ganryo Gijutsu Kyokai, 1977), 'Saishin Ganryo Ouyo Gijutsu' (Latest Pigment Application Techniques) (CMC Publishing, 1986), e 'Insatsu Inki Gijutsu' (Printing Ink Techniques) (CMC Publishing, 1984) são incluídos.

Exemplos do tipo de pigmento incluem pigmentos pretos, pigmentos amarelos, pigmentos laranja, pigmentos marrom, pigmentos vermelhos, pigmentos violetas, pigmentos azuis, pigmentos verdes, pigmentos fluorescentes, pigmentos pó de metal e, além do disso, corantes ligados a polímero. Especificamente, pigmentos azo insolúveis, pigmentos tipo azo, pigmentos azo condensados, pigmentos azo quelados, pigmentos a base de ftalocianina, pigmentos a base de antraquinona, pigmentos a base de perileno e perinona, pigmentos a base de tioindigo, quinacridona a base de pigmentos, dioxazina a base de pigmentos, pigmentos a base de isoindolinona, pigmentos roso, pigmentos nitro, materiais naturais, pigmentos fluorescentes, pigmentos inorgânicos, negro de fumo, etc. podem ser usados. Entre esses pigmentos, negro de fumo é preferível.

Estes pigmentos podem ser usados com ou sem um tratamento superficial sendo realizado. Como um método para tratamento superficial, um método no qual a superfície é revestida com uma resina ou cera, um método no qual um agente tensoativo é depositado, um método no qual um material reativo (por exemplo, um agente de acoplamento de silano, um composto de epóxi, um poli-isocianato, etc.) é

ligado na superfície do pigmento, etc. pode ser considerado. Os métodos de tratamento superficial supramencionados são descritos em 'Kinzoku Sekken no Seishitsu to Ouyo' (Properties and Applications of Metal Soaps) (Saiwai Shobo), 'Insatsu Inki Gijutsu' Printing Ink Techniques) (CMC Publishing, 1984), e 'Saishin Ganryo Ouyo 5 Gijutsu' (Latest Pigment Application Techniques) (CMC Publishing, 1986).

O tamanho de partícula do pigmento é preferivelmente na faixa de 0,01 pm a 10 pm, mais preferivelmente na faixa de 0,05 pm a 1 pm, e ainda mais preferivelmente na faixa de 0,1 pm a 1 pm. Nesta faixa, boa estabilidade e uniformidade de uma dispersão de pigmento em uma camada fotossensível são obtidas.

Como um método para dispersar o pigmento, uma técnica de dispersão conhecida pode ser usada para produção de tinta, toner produção, etc.. Exemplos de dispersores incluem um dispersor ultrassônico, um moinho de areia, um atritor, um moinho de contas, um supermoinho, um moinho de esferas, um propulsor, um dispersor, um moinho KD, um moinho coloidal, um Dynatron, um moinho de três rolos, 15 e um amassador de pressão. Detalhes são descritos em 'Saishin Ganryo Ouyo Gijutsu' (Latest Pigmento Application Techniques) (CMC Publishing, 1986). Um agente de absorção infravermelho pode ser adicionado sendo microencapsulado.

Com relação à quantidade de agente de absorção infravermelho adicionada, é adicionada de forma que a absorbância da camada fotossensível por um método 20 de medições de reflectância a um comprimento de onda de absorção máxima na faixa de comprimento de onda de 760 nm a 1.200 nm é preferivelmente na faixa de 0,1 a 1,5, mais preferivelmente na faixa de 0,2 a 1,2, e ainda mais preferivelmente 0,3 a 1,0. Quando nesta faixa, uma reação de polimerização progride uniformemente na direção da profundidade da camada fotossensível, e boa resistência de filme 25 para uma área de imagem e adesão a um suporte são obtidos.

A absorbância da camada fotossensível pode ser ajustada pela quantidade de agente de absorção infravermelho adicionada na camada fotossensível e a espessura da camada fotossensível. A absorbância pode ser medida por um método padrão. Exemplos do método de medições incluem um método no qual uma camada 30 fotossensível tendo uma espessura apropriadamente determinada de forma que o peso de revestimento seco seja em uma faixa necessária como uma placa de impressão litográfica é formada revestindo-se um suporte refletivo tal como alumínio e a densidade de reflexão é medida por um densitômetro ótico, e um método no qual medições são realizadas usando um espectrofotômetro por um método de reflectân35 cia usando uma esfera de integração.

(Iniciador de polimerização)

Na presente invenção, o iniciador de polimerização usado na camada fotos sensível é um iniciador de foto- ou termo- polimerização que gera radicais por energia de luz ou calor, e é um composto que inicia ou promove polimerização de um composto etilenicamente insaturado. O iniciador de polimerização pode ser selecionado apropriadamente de iniciadores de polimerização radicais conhecidos, compostos tendo uma ligação que tem energia de dissociação de ligação pequena, etc.

Exemplos do iniciador de polimerização incluem um composto halogênio orgânico, um composto carbonila, um peróxido orgânico, um composto azo, um composto azido, um composto metaloceno, um composto hexa-arilbi-imidazol, um composto organoboro, um composto dissulfona, um composto éster oxima, e um composto sal de ônio.

Exemplos específicos do composto halogênio orgânico incluem compostos descritos em Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), patente U.S No. 3.905.815, JP-B-46-4605, JP-A-48-36281, JP-A-53-133428, JP-A-5532070, JP-A-60-239736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837, JP-A-62-58241, JP-A62-212401, JP-A-63-70243, JP-A-63-298339, e Μ. P. Hutt, Journal of Heterocyclic Chemistry, 1 (No. 3) (1970). Entre eles, compostos oxazol e s-triazina substituídos com um grupo trialometila são preferíveis.

Mais preferivelmente, é um derivado de s-triazina ou derivado de oxadiazol no qual pelo menos um grupo metila mono-, di-, ou tri-halogênio-substituído é ligado a um anel s-triazina ou um anel oxadiazol. Exemplos específicos destes incluem

2.4.6- tris(monoclorometil)-s-triazina, 2,4,6-tris(diclorometil)-s-triazina, 2,4,6tris(triclorometil)-s-triazina, 2-metil-4,6-bis(triclorometil)-s-triazina, 2-n-propil-4,6bis(triclorometil)-s-triazina, 2-(a, a,p-tricloroetil)-4,6-bis(triclorometil)-s-triazina, 2(3,4-epoxifenil)-4,6-bis(triclorometil)-s-triazina, 2-[1-(p-metoxifenil)-2,4-butadienil]-

4.6- bis(triclorometil)-s-triazina, 2-estiril-4,6-bis(triclorometil)-s-triazina, 2-(p- metoxiestiril)-4,6-bis(triclorometil)-s-triazina, 2-(p-i-propiloxiestiril)-4,6bis(triclorometil)-s-triazina, 2-(p-tolil)-4,6-bis(triclorometil)-s-triazina, 2-(4metoxinaftil)-4,6-bis(triclorometil)-s-triazina, 2-feniltio-4,6-bis(triclorometil)-striazina, 2-benziltio-4,6-bis(triclorometil)-s-triazina, 2,4,6-tris(dibromometil)-striazina, 2,4,6-tris(tribromometil)-s-triazina, 2-metil-4,6-bis(tribromometil)-s-triazina, 2-metóxi-4,6-bis(tribromometil)-s-triazina, e os compostos a seguir.

[Fórmula química 8]

CCh

(I)

(I) (I)

(I)

[Fórmula química 9] (1)-19 (1)-20 o ^H _q (1)-21 (1)-22 (1)-23 (1)-24 (1)-25 (1)-26 (1)-27

Exemplos do composto carbonila acima incluem benzofenona, derivados de benzofenona tais como cetona de Michler, 2-metilbenzofenona, 3-metilbenzofenona, 4-metilbenzofenona, 2-clorobenzofenona, 4-bromobenzofenona, e 25 carboxibenzofenona, derivados de acetofenona tais como 2,2-dimetóxi-2fenilacetofenona, 2,2-dietoxiacetofenona, 1 -hidroxicicloexil fenil cetona, a-hidróxi-2metilfenilpropanona, 1 -hidróxi-1 -metiletil-(p-isopropilfenil) cetona, 1-hidróxi-1-(pdodecilfenil) cetona, 2-metil-(4'-(metiltio)fenil)-2-morfolino-1-propanona, e 1,1,123 triclorometil-(p-butilfenil) cetona, tioxantona, derivados de tioxantona tais como 2etiltioxantona, 2-isopropiltioxantona, 2-clorotioxantona, 2,4-dimetiltioxantona, 2,4dietiltioxantona, e 2,4-diisopropiltioxantona, e derivados de éster do ácido benzóico tal como etil p-dimetilaminobenzoato e etil p-dietilaminobenzoato.

Como o composto azo acima, por exemplo, compostos azo descritos em JPA-8-108621 podem ser usado.

Um composto azido é um composto azido aromático no qual um grupo azido é ligado a um anel aromático diretamente ou por meio de um grupo carbonila ou um grupo sulfonila. O grupo azido deste passa por decomposição por luz para formar um nitreno, e o nitreno passa por várias reações para tornar-se insolúvel.

Exemplos preferidos do composto azido aromático incluem compostos que contêm um ou mais grupos tais como azidofenila, azidoestirila, azidobenzal, azidobenzoíla, e azidocinamoíla, e exemplos específicos destes incluem 4,4'diazidochalcona, 4-azido-4'-(4-azidobenzoiletóxi)chalcona, N,N-bis-p-azidobenzal-pfenilenodiamina, 1,2,6-tri(4'-azidobenzóxi)hexano, 2-azido-3-cloro-benzoquinona,

2.4- diazido-4'-etoxiiazobenzeno, 2,6-di(4'-azidobenzal)-4-metilcicloexanona, 4,4'diazidobenzofenona, 2,5-diazido-3,6-diclorobenzoquinona, 2,5-bis(4-azidoestiril)-

1.3.4- oxadiazol, 2-(4-azidocinamoil)tiofeno, 2,5-di(4'-azidobenzal)cicloexanona, 4,4'- diazidofenilmetano, 1-(4-azidofenil)-5-furil-2-penta-2,4-dien-1-ona, 1-(4-azidofenil)5-(4-metoxifenil)-penta-1,4-dien-3-ona, 1-(4-azidofenil)-3-(1-naftil)propen-1-ona, 1(4-azidofenil)-3-(4-dimetilaminofenil)-propan-1-ona, 1-(4-azidofenil)-5-fenil-1,4pentadien-3-ona, 1 -(4-azidofenil)-3-(4-nitrofenil)-2-propen-1 -ona, 1 -(4-azidofenil)-3(2-furil)-2-propen-1 -ona, 1,2,6-tri(4'-azidobenzóxi)hexano, 2,6-bis-(4azidobenzilidino-p-t-butil)cicloexanona, 4,4'-diazidobenzalacetona, ácido 4,4'diazidostilbeno-2,2'-dissulfônico, ácido 4'-azidobenzalacetofenona-2- sulfônico, ácido 4,4'-diazidostilbeno-a-carboxílico, ácido di-(4-azido-2'-hidroxibenzal)acetona-2sulfônico, ácido 4-azidobenzalacetofenona-2- sulfônico, 2-azido-1,4dibenzenossulfonilaminonaftaleno, e ácido 4,4'-diazidostilbeno-2,2'-disulfônico anilida.

Sem ser esses compostos azido aromáticos de baixo peso molecular, polímeros contendo grupo azido descritos em JP-B-44-9047, JP-B-44-31837, JP-B-459613, JP-B-45-24915, JP-B-45-25713, JP-A-50-5102, JP-A-50-84302, JP-A-5084303, e JP-A-53-12984 são também adequados.

Exemplos do peróxido orgânico anterior incluem peróxido de trimetilcicloexanona, peróxido de acetilacetona, 1,1-bis(terc-butilperóxi)-3,3,5-trimetilcicloexano, 1,1 -bis(terc-butilperóxi)cicloexano, 2,2-bis(terc-butilperóxi)butano, tercbutilidroperóxido, hidroperóxido de cumeno, hidroperóxido de di-isopropilbenzeno, 2,5-dimetilexano-2,5-diidroperóxido, hidroperóxido de 1,1,3,3-tetrametilbutila, peró xido de terc-butilcumila, peróxido de dicumila, 2,5-dimetil-2,5-di(tercbutilperóxi)hexano, peróxido de 2,5-oxanoíla, ácido peroxisuccínico, peróxido de benzoíla, peróxido de 2,4-diclorobenzoíla, peroxidicarbonato de di-isopropila, peroxidicarbonato de di-2-etilexila, peroxidicarbonato de di-2-etoxiietila, peroxicarbonato de dimetóxi-isopropila, peroxidicarbonato de di(3-metil-3-metoxibutila), peroxiacetato de terc-butil, peroxipivalato de terc-butil, peroxineodecanoato de terc-butil, peroxioctanoato de terc-butil, peroxilaurato de terc-butil, 3,3',4,4'-tetra-(tbutilperoxicarbonil)benzofenona, 3,3',4,4^,-tetra-(t-hexilperoxicarbonil)benzofenona, 3,3',4,4’-tetra-(p-isopropilcumilaperoxicarbonil)benzofenona, carbonil di(tbutilperoxidihidrogendiftalato), e carbonil di(t-hexilperoxidiidrogendiftalato).

Exemplos do composto metaloceno anterior incluem vários compostos titanoceno descritos em JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2249, JP-A-2-4705, e JP-A-5-83588, tais como di-ciclopentadienil-Ti-bis-fenila, diciclopentadienil-Ti-bis-2,6-difluorfen-1-ila, di-ciclopentadienil-Ti-bis-2,4-di-fluorfen-1ila, di-ciclopentadienil-Ti-bis-2,4,6-trifluorfen-1-ila, dí-ciclopentadienil-Ti-bis-2,3,5,6tetrafluorfen-1-ila, di-ciclopentadienil-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorfen-1-ila, dimetilciclopentadienil-Ti-bis-2,6-difluorfen-1-ila, di-metilciclopentadienil-Ti-bis-2,4,6trifluorfen-1 -ila, di-metilciclopentadienil-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorfen-1-ila, dimetilciclopentadienil-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorfen-1-ila, e bis(ciclopentadienil)bis(2,6-diflúor-3-(pir-1 -il)fenil)titânio, e complexos ferro-areno descritos em JP-A-1304453 e JP-A-1-152109.

Exemplos do composto hexa-arilbi-imidazol anterior incluem vários compostos descritos em JP-B-6-29285 e patente U.S Nos. 3.479.185, 4.311.783, e 4,622,286, e exemplos específicos destes incluem 2,2'-bis(o-clorofenil)-4,4',5,5'tetrafenilbi-imidazol, 2,2'-bis(o-bromofenil)) 4,4',5,5'-tetrafenilbi-imidazol, 2,2'bisío.p-diclorofeniO-á.ALõ.õ^tetrafenilbi-imidazol, 2,2'-bis(o-clorofenil)-4,4^,,5,5'tetra(m-metoxifenil)bi-ididazol, 2,2'-bis(o,o'-diclorofenil)-4,4',5,5^,-tetrafenilbiimidazol, 2,2'-bis(o-nitrofenil)-4,4',5,5'-tetrafenilbi-imidazol, 2,2'-bis(o-metilfenil)4,4',5,5'-tetrafenilbi-imidazol, e 2,2'-bis(o-trifluorfenil)-4,4',5,5'-tetrafenilbi-imidazol.

Exemplos do composto organoboro anterior incluem organoboratos descritos em JP-A-62-143044, JP-A-62-150242, JP-A-9-188685, JP-A-9-188686, JP-A-9188710, JP-A-2000-131837, JP-A-2002-107916, patente registrada Japonesa No. 2764769, JP-A-2002-116539, e Martin Kunz, Rad Tech '98. Proceeding April, 19-22, 1998, Chicago, complexos sulfônio organoboro e complexos oxossulfônio organoboro descritos em JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, e JP-A-6-175561, complexos iodônio organoboro descritos em JP-A-6-175554 e JP-A-6-175553, complexos fosfônio organoboro descritos em JP-A-9-188710, e complexos de coordenação de metal de transição de organoboro descritos em JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7140589, JP-A-7-306527, e JP-A-7-292014.

Exemplos do composto dissulfona anterior incluem compostos descritos em JP-A-61-166544 e JP-A-2003-328465.

Exemplos do composto éster oxima anterior incluem compostos descritos em J. C. S. Perkin II, 1653-1660 (1979), J. C. S. Perkin II, 156-162 (1979), Journal of Photopolymers Science and Tecnology, 202-232 (1995), JP-A-2000-66385, e JPA-2000-80068. Exemplos específicos destes incluem compostos representados pelas fórmulas estruturais a seguir.

[Fórmula química 10]

Exemplos do composto sal de ônio anterior incluem sais de diazônio descritos em S. I. Schlesinger, Fotogr. Sei. Eng., 18, 387 (1974) e T. S. Bal et al., Polymer, 21, 423 (1980), sais de amônio descritos na patente U.S No. 4.069.055, e JPA-4-365049, sais de fosfônio descritos nas patentes U.S Nos. 4.069.055 e 5 4.069.056, sais de sulfônio descritos na patente EP No. 104.143 e patente U.S Nos.

339.049, 410.201, 580, e 3.604.581, sais de selenônio descritos em J. V. Crivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977) e J. V. Crivello et al., J. Polymer Sei., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), e sais de arsônio descritos em C. S. Wen et al., O Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct. (1988).

Na presente invenção, esses compostos sal de ônio funcionam não como ácido gerando agentes, mas como iniciadores de polimerização radical iônicos. Compostos sal de ônio preferivelmente usados são sais de ônio representados pelas Fórmulas (Rl-I) a (Rl-lll) a seguir.

[Fórmula química 11]

Ar^u---Z¹¹ ( RI —I ) ( R I -II ) (R I -III )

Na Fórmula (Rl-I), Ar¹¹ denota um grupo arila que tem não mais que 20 átomos de carbono e que pode ter 1 a 6 substituintes. Exemplos preferíveis do substituinte incluem um grupo alquila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquenila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquinila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo arila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alcóxi tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo arilóxi tendo não mais que 12 átomos de carbono, um átomo de halogênio, um grupo alquilamino tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo dialquilamino tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquilamida ou grupo arilamida tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo carbonila, um grupo carbóxi, um grupo ciano, um grupo sulfonila, um grupo tioalquila tendo não mais que 12 átomos de carbono, e um grupo tioarila tendo não mais que 12 átomos de carbono. Z¹¹' denota um ânion monovalente. Exemplos específicos do ânion monovalente incluem um íon haleto, um íon perclorato, um íon hexafluorfosfato, um íon tetrafluorborato, um íon sulfonato, um íon sulfinato, um íon tiossulfonato, e um íon sulfato. Entre eles, um íon perclorato, um íon hexafluorfosfato, um íon tetrafluorborato, um íon sulfonato, e um íon sulfinato são preferíveis do ponto de vista de estabilidade.

Na Fórmula (Rl-ll), Ar²¹ e Ar²² independentemente denotam um grupo arila que tem não mais que 20 átomos de carbono e que pode ter 1 a 6 substituintes. Exemplos preferíveis do substituinte incluem um grupo alquila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquenila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquinila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo arila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alcóxi tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo arilóxi tendo não mais que 12 átomos de carbono, um átomo de halogênio, um grupo alquilamino tendo não mais que 12 átomos de car-

bono, um grupo dialquilamino tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquilamida ou grupo arilamida tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo carbonila, um grupo carbóxi, um grupo ciano, um grupo sulfonila, um grupo tioalquila tendo não mais que 12 átomos de carbono, e um grupo tioarila tendo não mais 5 que 12 átomos de carbono. Z²¹' denota um ânion monovalente. Exemplos específicos do ânion monovalente incluem um íon haleto, um íon perclorato, um íon hexafluorfosfato, um íon tetrafluorborato, um íon sulfonato, um íon sulfinato, um íon tiossulfonato, um íon sulfato, e um íon carboxilato. Entre eles, um íon perclorato, um íon hexafluorfosfato, um íon tetrafluorborato, um íon sulfonato, um íon sulfinato, e 10 um íon carboxilato são preferíveis do ponto de vista de estabilidade e reatividade.

Na Fórmula (Rl-lll), R³¹, R³², e R³³ independentemente denotam um grupo arila, grupo alquila, grupo alquenila, ou grupo alquinila que tem não mais que 20 átomos de carbono e que pode ter 1 a 6 substituintes. Entre eles, o grupo arila é preferível do ponto de vista de reatividade e estabilidade. Exemplos do substituinte 15 incluem um grupo alquila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquenila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquinila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo arila tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alcóxi tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo arilóxi tendo não mais que 12 átomos de carbono, um átomo de halogênio, um grupo 20 alquilamino tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo dialquilamino tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo alquilamida ou grupo arilamida tendo não mais que 12 átomos de carbono, um grupo carbonila, um grupo carbóxi, um grupo ciano, um grupo sulfonila, um grupo tioalquila tendo não mais que 12 átomos de carbono, e um grupo tioarila tendo não mais que 12 átomos de carbono.

Z³¹' denota um ânion monovalente. Exemplos específicos do ânion monovalente incluem um íon haleto, um íon perclorato, um íon hexafluorfosfato, um íon tetrafluorborato, um íon sulfonato, um íon sulfinato, um íon tiossulfonato, um íon sulfato, e um íon carboxilato. Entre eles, um íon perclorato, um íon hexafluorfosfato, um íon tetrafluorborato, um íon sulfonato, um íon sulfinato, e um íon carboxilato são prefe30 ríveis do ponto de vista de estabilidade e reatividade. íons carboxilato descritos em

JP-A-2001-343742 são mais preferíveis, e íons carboxilato descritos em JP-A-2002148790 são ainda mais preferíveis.

Exemplos específicos de sais de ônio representados pelas Fórmulas (Rl-I) a (Rl-lll) são mostrados a seguir, mas a presente invenção não deve ser interpretada 35 como limitada a eles.

[Fórmula química 12]

OCHjCHj
GH3CH₂O-^y-N2‘	rSC-^^-SOa	(N-0
ÍSCHjCHí	PF«	(N-2)
OCHs	çh₃
f=\ .. .	/=Á___	(N-3)
UTW²	^H3CÁ_/“^bU3 CHj
	CIO/	(N-4)
	PF/	(N-S)

o ^^0CH3

8F/ (N-7)

[Fórmula química 13]

CH^CH^jO

O(CH₂)₃CH₃

(N-10) (N-12)

CH_s(CH₂)_sO

OÍCH^CHj b(CH₂)5CH₃

OH

(N-13) [Fórmula química14]

S0₃

(N-14) (N-15) (N-J6) (N-17)

α-8)

CH-CHj ^-so₃· ch-ch₃ [Fórmula química 15]

_c z4^CHa
Xy®⁰*·	σ-ί«)
j-CHj
H₃C
CFjCOO·	(1-17)
CFaSOa’	(I-l»)
“-^y-CHiCC»·	a-ι»)
	(1-20)
HsC-^^-SOa-	(1-21)
3F₄‘	d-22)
“O^-80·	d-23)
0-000-	(1-24)

[Fórmula química 16]

[Fórmula química 17]

(S-ll) (S-12) (S-13)

Do ponto de vista de reatividade e segurança em particular, o iniciador de polimerização é preferivelmente um composto halogênio orgânico, um composto metaloceno, um composto hexa-arilbi-imidazol, um composto organoboro, um composto éster oxima, ou um 5 composto sal de ônio, e mais preferivelmente um composto halogênio orgânico, um composto metaloceno, um composto hexa-arilbi-imidazol, ou um composto sal de ônio.

Com relação ao iniciador de polimerização, ele pode ser usado individualmente ou dois ou mais tipos destes podem ser usados em combinação. O teor do iniciador de polimerização em relação ao teor de sólidos totais da camada fotossensível é preferivelmente 0,1 a 50 % em peso, mais preferivelmente 0,5 a 30 % em peso, e ainda mais preferivelmente 0,8 a 20 % em peso.

(Co-sensibilizador)

A camada fotossensível pode compreender um co-sensibilizador. O cosensibilizador aqui referido é um aditivo que pode adicionalmente melhorar a sensibilidade da camada fotossensível quando adicionado à camada fotossensível. Embora o seu mecanismo de ação não esteja claro, considera-se que eles seja de maneira geral com base no seguinte processo químico. Ou seja, supõe-se que um co-sensibilizador reaja com várias espécies ativas intermediárias (radical, peróxido, agente de oxidação, agente de redução, etc.) geradas durante uma fotoreação iniciada por absorção de luz pelo iniciador de polimerização supramencionado e uma reação de polimerização de adição subsequente, gerando assim novos radicais ativos. Co-sensibilizadores podem ser grosseiramente classificados em (a) aqueles que podem gerar radicais ativos em decorrência de redução, (b) aqueles que podem gerar radicais ativos em decorrência de oxidação, (c) aqueles que reagem com radicais de baixa atividade e são convertidos em radicais de atividade mais alta ou que funcionam como uma agente de transferência de cadeia, mas não existe frequentemente nenhuma vista geral na classificação de compostos individuais.

(a) Composto que geram radical ativo em decorrência de redução

Composto tendo ligação carbono-halogênio: supõe-se que uma ligação carbonohalogênio seja redutivamente clivada para gerar um radical ativo. Especificamente, por exemplo, um trialometil-s-triazina, um trialometiloxadiazol, etc. é adequadamente usado.

Composto tendo ligação nitrogênio-nitrogênio: supõe-se que uma ligação nitrogênio-nitrogênio seja redutivamente clivada para gerar um radical ativo. Especificamente, por exemplo, um hexa-arilbi-imidazol, etc. é adequadamente usado.

Composto tendo ligação oxigênio-oxigênio: supõe-se que uma ligação oxigênio-oxigênio seja redutivamente clivada para gerar um radical ativo. Especificamente, por exemplo, um peróxido orgânico, etc. é adequadamente usado.

Composto ônio: supõe-se que uma ligação carbono-hetero ou oxigênionitrogênio ligação seja redutivamente clivada para gerar um radical ativo. Especificamente, por exemplo, um sal diariliodônio, um sal triarilsulfônio, um sal Nalcoxipiridínio (azínio), etc. é adequadamente usado.

(b) Composto que gera radical ativo em decorrência de oxidação

Complexo de alquilato: supõe-se que uma ligação carbono-hetero seja oxidativamente clivada para gerar um radical ativo. Especificamente, por exemplo, um borato de triarilalquila é adequadamente usado.

Composto alquilamina: supõe-se que uma ligação C-X em um carbono adjacente ao nitrogênio seja clivada em decorrência de oxidação, gerando assim um radical ativo. Como X, um átomo de hidrogênio, um grupo carbóxi, um grupo trimetilsilila, um grupo benzila, etc. são adequados. Exemplos específicos incluem um etanolamina, um N-fenilglicina, e um N-trimetilsililmetilanilina.

Composto contendo enxofre/contendo estanho: um formado substituindo-se o átomo de nitrogênio da amina supramencionada com um átomo de enxofre ou um átomo de estanho podem gerar um radical ativo pela mesma ação. Além disso, é conhecido que um composto tendo uma ligação S-S é também sensibilizado em decorrência de divagem de S-S.

Composto metilcarbonila α substituído: divagem de ligação entre carbono α carbonila em decorrência de oxidação pode gerar um radical ativo. Além disso, um no qual o carbonila é substituído com um éter de oxima apresenta a mesma ação. Exemplos específicos incluem um 2-alquil-1-[4-(alquiltio) fenil]-2-morfolinopropanona-1, um éter de oxima formado reagindo-se o anterior com um hidroxiamina e então esterificando o N-OH, e um éster de oxima formado esterificando-se N-OH.

Sulfinato: um radical ativo pode ser redutivamente gerado. Exemplos específicos incluem um arilsulfinato de sódio.

(c) Composto convertido em radical altamente ativo reagindo-se com radical ou funcionando como agente de transferência de cadeia

Como um composto que é convertido em um radial altamente ativo em decorrência de reação com um radical ou que funciona como um agente de transferência de cadeia, um grupo de compostos tendo SH, PH, SiH, ou GeH na molécula pode ser usado. Esses podem doar hidrogênio para uma espécie de radical de baixa atividade para gerar um radical ou são oxidados e então desprotonados para gerar um radical. Exemplos específicos destes incluem 2-mercaptobenzimidazóis.

O agente de transferência de cadeia contribui para melhorar a sensibilidade e estabilidade de armazenamento.

Como o agente de transferência de cadeia, compostos tiol (por exemplo, 2mercaptobenzimidazóis) podem ser preferivelmente usados. Entre eles, um composto tiol representado pela fórmula (T) a seguir é particularmente adequadamente usado. De acordo com o uso deste composto tiol como um agente de transferência de cadeia, problemas com odor e degradação de sensibilidade por causa de evaporação da camada fotossensível ou difusão em uma outra camada podem ser evitados, e um precursor de placa de impressão litográfica tendo excelente estabilidade de armazenamento e alta sensibilidade e uma placa de impressão litográfica tendo longa vida da placa pode ser obtido.

[Fórmula química 18]

R (Τ)

Na Fórmula (T), R denota um grupo alquila ou um grupo arila, A denota um grupo atômico formando junto com a fração N=C-N um heterociclo 5 ou 6 membros contendo átomo de carbono e A pode adicionalmente ter um substituinte.

Mais preferivelmente, aqueles representados pela fórmula (TA) ou Fórmula 5 (TB) a seguir são usados.

[Fórmula química 19]

R

Na Fórmula (TA) e Fórmula (TB), R denota um grupo alquila ou um grupo arila, e X denota um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio, um grupo alcoxila, um grupo alquila, ou um grupo arila.

Exemplos específicos de compostos representados pela fórmula (T) são listados a seguir, mas a presente invenção não deve ser interpretada como limitada a eles.

[Fórmula química 20]

•a

[Fórmula química 21]

o

(CH^OCH₃

CeHj3(n)

c₄H9(n)

C4Hg(n)

CeH₁₇(n)

A quantidade de agente de transferência de cadeia usada é preferivelmente

0,01 a 20 % em peso em relação ao teor de sólidos total da camada fotossensível, mais preferivelmente 0,1 a 15 % em peso, e ainda mais preferivelmente 1,0 a 10 % em peso.

O composto etilenicamente insaturado que é contido na camada de formação de imagem na presente invenção pode ser selecionado livremente dos compostos tendo pelo menos uma, preferivelmente duas ou mais, e mais preferivelmente 2 10 a 6 ligações duplas etilenicamente insaturadas. O composto etilenicamente insaturado passa por polimerização de adição pela ação do iniciador de polimerização para assim formar um polímero ou uma estrutura reticulada, formando por meio desta uma região na camada de formação de imagem na qual é não dissolvida por pro36

cessamento.

O composto etilenicamente insaturado inclui um manômero monofuncional tendo uma ligação dupla etilenicamente insaturada na molécula e um manômero polifuncional tendo duas ou mais das ligações na molécula. Na camada de forma5 ção de imagem da presente invenção, um manômero polifuncional é preferivelmente usado. O peso molecular de um manômero polifuncional como esse é preferivelmente 200 a 2.000.

Exemplos dos monofuncional e compostos etilenicamente insaturados polifuncionais incluem um éster de um ácido carboxílico insaturado (por exemplo, ácido 10 acrílico, ácido metacrílico, ácido itacônico, ácido crotônico, ácido isocrotônico, ou ácido maléico) e um composto de álcool poli-ídrico alifático, e um amida de um ácido carboxílico insaturado e um composto amina polivalente alifático.

Exemplos específicos de monômeros que são ésteres de um composto de álcool poli-ídrico alifático e um ácido carboxílico insaturado incluem ésteres do áci15 do acrílico tal como diacrilato de etileno glicol, diacrilato de trietileno glicol, diacrilato de 1,3-butanediol, diacrilato de tetrametileno glicol, diacrilato de propileno glicol, diacrilato de neopentila glicol, triacrilato de trimetilolpropano, trimetilolpropano tri(acriloiloxipropil)éter, triacrilato de trimetiloletano, diacrilato de hexanodiol, diacrilato de 1,4-cicloexanodiol, diacrilato de tetraetileno glicol, diacrilato de pentaeritritol, 20 triacrilato de pentaeritritol, tetra-acrilato de pentaeritritol, diacrilato de dipentaeritritol, penta-acrilato de dipentaeritritol, hexa-acrilato de dipentaeritritol, triacrilato de sorbitol, tetra-acrilato de sorbitol, penta-acrilato de sorbitol, hexa-acrilato de sorbitol, isocianurato de tri(acriloiloxietila), e um oligômero acrilato de poliéster.

Exemplos de ésteres do ácido metacrílico incluem dimetacrilato de tetrame25 tileno glicol, dimetacrilato de trietileno glicol, dimetacrilato de neopentil glicol, trimetacrilato de trimetilolpropano, trimetacrilato de trimetiloletano, dimetacrilato de etileno glicol, dimetacrilato de 1,3-butanediol, dimetacrilato de hexanodiol, dimetacrilato de pentaeritritol, trimetacrilato de pentaeritritol, tetrametacrilato de pentaeritritol, dimetacrilato de dipentaeritritol, hexametacrilato de dipentaeritritol, pentametacrilato 30 de dipentaeritritol, trimetacrilato de sorbitol, tetrametacrilato de sorbitol, bis[p-(3metacriloxi-2-hidroxipropóxi)fenil]dimetilmetano, e bis[p(metacriloxietóxi)fenil]dimetilmetano.

Exemplos de ésteres do ácido itacônico incluem di-itaconato de etileno glicol, di-itaconato de propileno glicol, di-itaconato de 1,3-butanediol, di-itaconato de 35 1,4-butanediol, di-itaconato de tetrametileno glicol, di-itaconato de pentaeritritol, e tetraitaconato de sorbitol.

Exemplos de ésteres do ácido crotônico incluem dicrotonato de etileno gli37 col, dicrotonato de tetrametileno glicol, dicrotonato de pentaeritritol, e tetradicrotonato de sorbitol.

Como ésteres do ácido isocrotônico podem ser citados di-isocrotonato de etileno glicol, di-isocrotonato de pentaeritritol, e tetraisocrotonato de sorbitol.

Como ésteres do ácido maléico podem ser citados dimaleato de etileno glicol, dimaleato de trietileno glicol, dimaleato de pentaeritritol e tetramaleato de sorbitol.

Além disso, uma mistura dos monômeros de éster supramencionados pode ser citada.

Além disso, exemplos específicos de monômeros que são amidas de um 10 composto amina polivalente alifático e um ácido carboxílico insaturado incluem metilenobisacrilamida, metilenobismetacrilamida, 1,6-hexametilenobisacrilamida, 1,6hexametilenobismetacrilamida, dietilenotriaminatrisacrilamida, xililenobisacrilamida, e xililenobismetacrilamida.

Além do mais, podem também ser citados acrilatos de uretano descritos em 15 JP-A-51-37193, e acrilatos e metacrilatos polifuncionais, por exemplo, acrilatos de poliéster e acrilatos de epóxi obtidos reagindo-se uma resina de epóxi com ácido (met)acrílico, descritos em JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, e JP-B-52-30490. Além do mais, aqueles descritos como monômeros ou oligômeros fotocuráveis em Nippon Secchaku Kyokaishi (Journal of Japan Adhesion Society), Vol. 20, No. 7, pp. 30020 308 (1984) podem também ser usados.

Exemplos específicos destes incluem NK OLIGO U-4HA, U-4H, U-6HA, U6ELH, U-108A, U-1084A, U-200AX, U-122A, U-340A, U-324A, e UA-100 (o anterior de Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), UA-306H, AI-600, UA-101T, UA-1011, UA306T, e UA-3061 (o anterior de Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Art Resin UN-9200A, 25 UN-3320HA, UN-3320HB, UN-3320HC, SH-380G, SH-500, e SH-9832 (o anterior de

Negami Chemical Industrial Co., Ltd.), e PLEX6661-O (Degussa, Alemanha).

A quantidade de um composto etilenicamente insaturado como essa usada é preferivelmente na faixa de 5 a 90 % em peso em relação aos componentes totais da camada de fotossensibilidade (significando o teor de sólidos, o mesmo se aplica 30 a seguir), e é mais preferivelmente na faixa de 20 a 75 % em peso.

(Polímero ligante)

A estrutura química do polímero ligante usada na presente invenção não é particularmente limitada, mas do ponto de vista de solubilidade em uma solução de processamento fracamente alcalino, ou seja, capacidade de revelação, um polímero 35 orgânico contendo grupo ácido é preferível, e em particular um polímero orgânico contendo um ácido carboxílico ou um sal destes é mais preferível.

Como o polímero ligante usado na presente invenção, um polímero orgânico

solúvel ou intumescível em álcali aquoso contendo ácido carboxílico é usado. Exemplos de um polímero orgânico como esse incluem polímeros de adição tendo um grupo ácido carboxílico em uma cadeia lateral tal como aqueles descritos em JP-A59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-54-92723, JP-A59-53836, e JP-A-59-71048; ou seja, um ácido metacrílico copolímero, um copolímero do ácido acrílico, copolímero do um ácido itacônico, um copolímero do ácido crotônico, um copolímero de ácido maléico, um copolímero de ácido maléico parcialmente esterificado, etc. são usados. Como o polímero ligante, um copolímero contendo uma unidade de manômero derivado de um éster do ácido (met)acrílico contendo grupo do ácido carboxílico (sal) é preferível.

Além disso, um derivado de celulose ácida tendo um grupo de ácido carboxílico em uma cadeia lateral, um produto de adição de um polímero de adição contendo grupo hidróxi com um anidrido de ácido cíclico, etc. são também usados.

Além do mais, resinas de poliuretano descritas em JP-B-7-120040, JP-B-7120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1271741, e JP-A-11-352691 são também usadas como ligantes solúveis ou intumescíveis em álcali aquoso.

Como o polímero ligante usado na presente invenção, uma resina acrílica, uma resina metacrílica, ou uma resina de uretano é preferivelmente usada.

Exemplos de materiais adequados como o polímero ligante usados na presente invenção incluem um copolímero tendo (a) uma unidade de manômero contendo ácido carboxílico (incluindo um sal deste) e (b) uma unidade de manômero que confere reticulabilidade radical, que é descrita posteriormente.

A unidade de manômero contendo ácido carboxílico (a) não é particularmente limitada, mas a estrutura a seguir é preferivelmente usada.

[Fórmula química 22]

Na Fórmula (I), R¹ denota um átomo de hidrogênio ou um grupo metila, R²denota um grupo de ligação formado de maneira a conter dois ou mais átomos selecionados do grupo que consiste em um átomo de carbono, um átomo de hidrogênio, um átomo de oxigênio, um átomo de nitrogênio, e um átomo de enxofre, o número de átomos destes sendo 2 a 82. A denota um átomo de oxigênio ou -NR³-, e R³ denota um átomo de hidrogênio ou um grupo hidrocarboneto monovalente tendo 1 a 10 átomos de carbono, n denota um número inteiro de 1 a 5.

O grupo de ligação denotado por R² na Fórmula (I) é formado de maneira a conter dois ou mais átomos selecionados do grupo que consiste em um átomo de carbono, um átomo de hidrogênio, um átomo de oxigênio, um átomo de nitrogênio, e um átomo de enxofre, e o número total de átomos deste é 2 a 82, preferivelmente 2 a 50, e mais preferivelmente 2 a 30. O grupo de ligação denotado por R² pode ter um substituinte. Quando o grupo de ligação tiver um substituinte, o número total de átomos aqui referido significa o número de átomos incluindo aqueles dos substituintes. Mais especificamente, o número de átomos formando o esqueleto principal do grupo de ligação denotado por R² é preferivelmente 1 a 30, mais preferivelmente 3 a 25, ainda mais preferivelmente 4 a 20, e acima de tudo preferivelmente 5 a 10. Além do disso, o 'esqueleto principal do grupo de ligação' na presente invenção significa um átomo ou um grupo de átomos usado somente para ligar A e o terminal COOH na Fórmula (I); em particular, quando existe uma pluralidade de caminhos de ligação, significa um átomo ou um grupo de átomos constituindo o caminho que usa o menor número de átomos. Portanto, quando existe uma estrutura de anel no grupo de ligação, o número de átomos tomado como cálculo varia de acordo com o sítio de ligação deste (por exemplo, o-, m-, p-, etc.).

Mais exemplos específicos do grupo de ligação denotado por R² na Fórmula (I) incluem alquileno, alquileno substituído, arileno, arileno substituído, e um grupo valente (n + 1) formado removendo-se um átomo de hidrogênio em qualquer átomo de carbono formando os grupos anteriores, e aqueles tendo uma estrutura na qual uma pluralidade dos grupos anteriores são ligados por meio de uma ligação de amida ou uma ligação de éster são preferíveis. Em particular, um no qual o número de átomos formando o esqueleto principal do grupo de ligação é 5 a 10 é preferível, e em termos da estrutura, um tendo uma estrutura tipo cadeia e tendo uma ligação de éster na estrutura e um tendo uma estrutura cíclica descrita anteriormente são preferíveis.

Como o substituinte que pode ser introduzido no grupo de ligação denotado por R², um grupo atômico não metal monovalente excluindo hidrogênio pode ser citado, e exemplos deste incluem um átomo de halogênio (-F, -br, -Cl, -I), um grupo hidrocarboneto (um grupo alquila, um grupo arila, um grupo alquenila, um grupo alquinila), um grupo alcóxi, e um grupo arilóxi.

A na Fórmula (I) é preferivelmente um átomo de oxigênio ou -NH- uma vez que a síntese é fácil.

N na Fórmula (I) denota um número inteiro de 1 a 5, e é preferivelmente 1 em termos de vida da placa.

Exemplos específicos da unidade de manômero que confere solubilidade a

álcali (a) incluem compostos tendo estruturas mostradas em (a-1) a (a-12) a seguir.

Quando o número total de unidade de monômeros for 100, o teor do manôpreferivelmente 5 a 25 mero contendo ácido carboxílico (a) unidades, e mais preferivelmente 5 a 5 [Fórmula química 23] será 5 a 50 unidades, unidades.

[Fórmula química 24]

Além disso, exemplos específicos de a unidade de manômero que confere reticulabilidade radical (b) incluem estruturas mostradas em (b-1) a (b-11) a seguir.

[Fórmula química 25]

Quando o número total de unidade de manômeros for 100, o teor da unidade de manômero que confere reticulabilidade radical (b) é 5 a 90 unidades, preferivelmente 20 a 85 unidades, e mais preferivelmente 40 a 80 unidades.

O polímero ligante usado na presente invenção pode ter como um copolímero componente uma unidade de manômero derivado de um composto etilenicamente insaturado que não contém tanto a unidade de manômero que confere solubilidade a álcali (a) quanto a unidade de manômero que confere reticulabilidade radical (b). Como uma unidade de manômero como essa, uma unidade de manômero derivada 10 de um éster do ácido (met)acrílico ou um (met)acrilamida é preferível. Em particular, uma unidade de manômero derivada de um (met)acrilamida descrita nos parágrafos 0061 a 0084 de JP-A-2007-272134 é preferivelmente usada. O teor do manômero, quando o número total de unidade de monômeros for 100, é 5 a 50 unidades, preferivelmente 5 a 35 unidades, e mais preferivelmente 5 a 25 unidades.

A camada de formação de imagem na presente invenção pode também empregar como um polímero ligante, sem ser um polímero de adição tendo uma combinação das unidades de manômero supramencionadas, uma resina de uretano tendo um grupo reticulável em uma cadeia lateral. O grupo reticulável aqui referido é

um grupo que pode reticular um polímero ligante por uma reação química ocorrendo em uma camada de formação de imagem quando um precursor de placa de impressão litográfica é exposto. Uma vez que é um grupo tendo uma função como essa, sua estrutura química não é particularmente limitada, e exemplos de um grupo fun5 cional que pode passar por polimerização de adição incluem um grupo etilenicamente insaturado, e um grupo éter cíclico tal como um grupo epóxi/grupo oxetanila. Também, um grupo funcional capaz de formar um radical mediante irradiação com luz pode ser usado e um grupo reticulável como esse inclui, por exemplo, um grupo tiol, um átomo de halogênio, e uma estrutura do sal de ônio. Entre eles, um grupo 10 etilenicamente insaturado é preferível, e exemplos deste incluem grupos funcionais descritos nos parágrafos 0130 a 0139 de JP-A-2007-17948.

Uma vez que a resina de poliuretano tendo um grupo reticulável em sua cadeia lateral funciona não somente como um agente de formação de filme para a camada de formação de imagem, mas também é exigida para dissolver em uma so15 lução de processamento alcalino, é necessário que ela seja solúvel ou intumescível em álcali aquoso. Em virtude disto, a cadeia lateral tem, sem ser o grupo reticulável, um grupo solúvel álcali aquoso tal como, por exemplo, um grupo carbóxi (incluindo um sal deste). A resina de poliuretano é preferível uma vez que capacidade de revelação de uma área não exposta é não degradada mesmo quando a camada de 20 formação de imagem tiver um baixo valor de ácido, dano à revelação de uma área exposta pode ser suprimido, e boas propriedades de prevenção de mancha e longa vida da placa pode ambas ser obtidas.

A resina de poliuretano tendo um grupo reticulável em uma cadeia lateral é explicada com detalhes a seguir.

A resina de poliuretano tendo um grupo reticulável em uma cadeia lateral que é particularmente preferivelmente usada na presente invenção pode ser obtida por uma reação de poliadição de (i) um composto di-isocianato, (ii) um composto diol contendo grupo carbóxi, (iii) um composto di-isocianato contendo grupo reticulável e, como necessário, (iv) um composto diol que não tem um grupo carbóxi e (v) 30 um composto contendo grupo amino.

Exemplos de compostos (i), (ii), e (iii) anteriores incluem Fórmulas (4) a (10) e exemplos específicos descritos nos parágrafos 0142 a 0167 de JP-A-2007-17948.

Aqui, como um método para introduzir um grupo reticulável em uma cadeia lateral de uma resina de poliuretano, um método no qual um composto di-isocianato 35 contendo um grupo reticulável em uma cadeia lateral é usado como um material de partida para produção de uma resina de poliuretano é adequado. É um composto diisocianato obtido por uma reação de adição de um composto tri-isocianato e 1 equi43 valente de um álcool monofuncional ou composto amina monofuncional tendo um grupo reticulável, e exemplos de um tendo um grupo reticulável em uma cadeia lateral incluem compostos dos parágrafos 0179 a 0183 de JP-A-2007-17948.

(iv) Composto diol tendo no grupo carbóxi

Como um método de introduzir um grupo insaturado em uma cadeia lateral de uma resina de poliuretano, um método no qual um composto diol tendo um grupo insaturado em uma cadeia lateral é usado como um material de partida for produção de uma resina de poliuretano pode ser empregado. Um composto diol como esse inclui um produto comercial tal como éter trimetilolpropano monoalílico, e também inclui um composto produzido por uma reação de um composto diol halogenado, composto triol, ou composto diol amino com um ácido carboxílico, cloreto ácido, isocianato, álcool, amina, tiol, ou composto alquila halogenado tendo um grupo insaturado. Exemplos específicos desses compostos incluem Fórmula (A), Fórmulas (a) a (e), Fórmulas (11) a (22), e compostos específicos descritos nos parágrafos 0180 a 0225 de JP-A-2007-17948.

(v) Composto contendo grupo amino

Como o polímero ligante que pode ser usado na camada de formação de imagem, um composto contendo grupo amino pode ser adicionalmente combinado e reagido com um composto di-isocianato na produção de uma resina de poliuretano para assim formar uma estrutura de uréia, incorporando por meio deste na estrutura da resina de poliuretano. O composto contendo grupo amino inclui Fórmula (31), Fórmula (32), e compostos específicos descritos nos parágrafos 0227 a 0230 de JPA-2007-17948.

O polímero ligante usado na presente invenção inclui, sem ser as resinas de poliuretano supramencionadas obtidas introduzindo-se um grupo reticulável em uma cadeia lateral sintetizando ao mesmo tempo o poliuretano, uma resina de poliuretano obtida introduzindo-se um grupo reticulável em um poliuretano contendo grupo carbóxi por uma reação de polímero da maneira descrita em JP-A-2003-270775.

Na presente invenção, uma combinação de um manômero tendo um ponto de fusão de pelo menos 45 °C e, entre as resinas de uretano supramencionadas tendo um grupo reticulável, uma resina de uretano tendo um grupo reticulável e tendo um Tg de pelo menos 45 °C, e preferivelmente pelo menos 50 °C, é particularmente preferivelmente usado. Um exemplo específico de a uma resina de uretano como essa é mostrado a seguir, mas a presente invenção não deve ser interpretada como limitada a ele. As figuras na base direita dos parênteses mostrando a unidade de manômeros da resina de uretano denotam razão molar.

[Fórmula química 26]

A fim de manter a capacidade de revelação de uma camada de fotossensibilidade, é preferível que o polímero ligante usado tenha um peso molecular apropriado, e o peso molecular com média no peso é mais preferivelmente 5.000 a 300.000. Um faixa particularmente preferida é 20.000 a 150.000 .

Estes polímeros ligantes podem estar contidos na camada de formação de imagem em qualquer quantidade, mas quando a quantidade excede 90 % em peso, existem casos nos quais resultados desejáveis não podem ser dados em termos de intensidade de imagem, etc., e é preferivelmente 10 a 90 % em peso do teor de sólidos, e mais preferivelmente 30 a 80 % em peso.

(Microcápsulas)

Na presente invenção, como um método pelo qual os componentes constituintes supramencionados da camada fotossensível e outros componentes constituintes descritos a seguir são contidos na camada fotossensível, parte dos componentes constituintes pode ser encapsulada em microcápsulas e adicionada à camada fotossensível da maneira descrita, por exemplo, em JP-A-2001-277740 e JP-A2001-277742. Em um caso desses, cada componente constituinte pode estar presente dentro ou fora das microcápsulas em qualquer razão.

Como um método de microencapsular os componentes constituintes da camada fotossensível, métodos conhecidos podem ser usados.

Métodos para a produção de microcápsulas incluem, por exemplo, um método utilizando coacervação encontrada nas patentes U.S. Nos. 2.800.457 e 2.800.458, um método usando polimerização interfacial encontrado na patente U.S No. 3.287.154, JP-B-38-19574, e JP-B-42-446, um método usando deposição de polímero encontrado nas patentes U.S. Nos. 3.418.250 e 3.660.304, um método usando um material de parede isocianato poliol encontrado na patente U.S No. 3.796.669, um método usando um material de parede isocianato encontrado na patente U.S No. 3,914,511, um método usando um material de formação de parede a base de uréia-formaldeído-resorcinol ou a base de uréia-formaldeído encontrado na patentes U.S. Nos. 4.001.140, 4.087.376, e 4.089.802, um método usando um material de parede, por exemplo, uma resina de melamina-formaldeído ou hidroxicelulose encontrado na patente U.S No. 4.025.445, um método in-situ por polimerização de manômero encontrado em JP-B-36-9163 e JP-B-51-9079, um método de secagem por aspersão encontrado na patente GB No. 930.422 e patente U.S No. 3.111.407, e um método de resfriamento por dispersão eletrolítica encontrado nas patentes GB Nos. 952.807 e 967.074, mas a presente invenção não deve ser interpretada como limitada a eles.

Uma parede de microcápsula preferida que pode ser usada na presente invenção tem reticulação tridimensional e tem a propriedade de ser intumescida por solvente. A partir deste ponto de vista, materiais de parede preferidos das microcápsulas incluem poliuréia, poliuretano, poliéster, policarbonato, poliamida, e suas misturas, e poliuréia e poliuretano são particularmente preferidos. Além disso, um composto tendo um grupo reticulável funcional tal como uma ligação etilenicamente insaturada, capaz de ser introduzido em polímero insolúvel em água supramencionado, pode ser introduzido na parede da microcápsula.

O tamanho de partícula médio das microcápsulas é preferivelmente 0,01 a 3,0 pm, mais preferivelmente 0,05 a 2,0 pm, e ainda mais preferivelmente 0,10 a 1,0 pm. Quando na faixa supramencionada, boa resolução e estabilidade por um tempo podem ser obtidas.

Além disso, na camada de fotossensibilidade usada na presente invenção, a fim de impedir polimerização térmica indesejada de um composto etilenicamente insaturado durante produção ou durante armazenamento de um composição (composição fotossensível) para formar a camada de fotossensibilidade, é desejável adicionar uma pequena quantidade de um inibidor de polimerização térmica. Exemplos apropriados do inibidor de polimerização térmica incluem hidroquinona, pmetoxifenol, di-t-butil-p-cresol, pirogalol, t-butilcatecol, benzoquinona, 4,4'-tiobis(3metil-6-t-butilfenol), 2,2'-metilenobis(4-metil-6-t-butilfenol), sal ceroso de Nnitrosofenilidroxilamina, e sal de alumínio de N-nitrosofenilidroxilamina. A quantidade de inibidor de polimerização térmica adicionada é preferivelmente cerca de 0,01 % em peso a cerca de 5 % em peso dos componentes totais da composição. Além do mais, como necessário, a fim de impedir inibição de polimerização por oxigênio, um derivado de ácido graxo maior tal como ácido beênico ou amida do ácido beênico, etc. pode ser adicionado e localizado na superfície da camada de fotossensibilidade durante secagem depois revestimento. A quantidade de derivado de ácido graxo maior adicionado é preferivelmente cerca de 0,5 % em peso a cerca de 10 % em peso dos componentes totais da composição fotossensível.

Além do mais, com o propósito de coloração da camada de fotossensibilidade, um colorante pode ser adicionado. Exemplos do colorante incluem pigmentos tal como um pigmento a base de ftalocianina (C.l. Pigmento azul 15:3, 15:4, 15:6, etc.), um pigmento a base de azo, negro de fumo, e óxido de titânio, violeta de etila, violeta de cristal, um corante azo, um corante a base de antraquinona, e um corante a base de cianina. A quantidade de corante e pigmento adicionada é preferivelmente cerca de 0,5 % em peso a cerca de 5 % em peso dos componentes totais (teor de sólidos) da composição fotossensível.

Além do disso, a fim de melhorar as propriedades físicas de um filme curado, um aditivo tal como uma carga ou um plastificante inorgânico tal como ftalato de dioctilal, ftalato de dimetila, ou fosfato de tricresila pode ser adicionado. Estes aditivos são preferivelmente adicionados a não mais que 10 % em peso dos componentes totais da composição fotossensível.

Além do mais, uma composição para formar uma camada de fotossensibilidade pode compreender um agente tensoativo a fim de melhorar a qualidade de superfície revestida. Exemplos preferidos do agente tensoativo incluem um agente tensoativo a base de flúor não iônico.

(Solvente de camada de formação de imagem)

Na presente invenção, a composição para a camada de formação de imagem é aplicada em um suporte que foi submetido a vários tratamentos superficiais da maneira desejada, e quando um suporte é revestido com a composição para a camada de formação de imagem, a composição pode ser dissolvida em vários solventes orgânicos e usada. Exemplos de solventes que podem ser usados aqui incluem acetona, metil etil cetona, cicloexano, acetato de etila, dicloreto de etileno, tetraidrofurano, tolueno, éter monometílico de etileno glicol, éter monoetílico de etileno glicol, éter dimetílcio de etileno glicol, éter monometílico de propileno glicol, éter monoetílico de propileno glicol, acetilacetona, cicloexanona, diacetona álcool, acetato de éter monometílico de etileno glicol, acetato de éter etílico de etileno glicol, éter monoisopropílico de etileno glicol, acetato de éter monobutílico de etileno glicol, 3-metoxipropanol, metoximetoxietanol, éter monometílico de dietileno glicol, éter monoetílico de dietileno glicol, éter dimetílico de dietileno glicol, diéter etílico de dietileno glicol, acetato de éter monometílico de propileno glicol, acetato de éter monoetílico de propileno glicol, acetato de 3-metoxipropila, N,N-dimetilformamida, sulfóxido de dimetila, Y-butirolactona, lactato de metila, e lactato de etila. Estes solventes podem ser usados individualmente ou como uma mistura. O teor de sólidos na solução de revestimento é desejavelmente 1 a 50 % em peso.

No precursor de placa de impressão litográfica fotossensível usado na presente invenção, a cobertura da camada de fotossensibilidade como um peso de revestimento seco é desejavelmente na faixa de cerca de 0,1 g/m^2a cerca de 10 g/m², preferivelmente 0,3 a 5 g/m², e ainda mais preferivelmente 0,5 a 3 g/m².

Normalmente, a fim de impedir a inibição de polimerização por oxigênio, uma camada protetora da barreira de oxigênio (camada sobrerevestida) pode também ser provida acima da camada de fotossensibilidade.

Além disso, na presente invenção, o peso revestido da camada protetora é preferivelmente na faixa de 0,5 a 3,0 g/m², e mais preferivelmente 0,5 a 2,5 g/m². É preferível que ele seja nesta faixa uma vez que sensibilidade não deteriora e a carga do processamento não aumenta.

Como um polímero de vinila solúvel em água contido na camada protetora da barreira de oxigênio, um álcool polivinílico, um éster parcial, éter, ou acetal destes, ou um copolímero desses contendo substancialmente a quantidade de unidade de álcool vinílico não substituído necessária para torná-los solúvel em água, podem ser citados. Além disso, um álcool polivinílico tendo um grupo ácido sulfônico em um terminal ou tendo um grupo hidróxi substituído com um ácido sulfônico é também preferivelmente usado. Exemplos do álcool polivinílico incluem aqueles que são 71 a 100 % hidrolisados e têm um grau de polimerização na faixa de 300 a 2.400. Exemplos específicos destes incluem PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, e L-8 (Kuraraio Co., Ltd.). Exemplos do copolímero supramencionado incluem poliacetato cloroacetato ou propionato de vinila, polivinilformal, e polivinil acetal que são 88 a 100 % hidrolisados, e copolímeros destes. Exemplos de outros polímeros usados incluem polivinilpirrolidona, gelatina, e goma arábica, e eles podem ser usados individualmente ou em combinação.

Na presente invenção, a fim de obter particularmente bons resultados, é preferível usar um álcool polivinílico para que o grau de hidrólise seja pelo menos 95 %.

(Álcool polivinílico modificado por ácido)

Entre o anterior, a camada protetora na presente invenção preferivelmente compreende em particular um álcool polivinílico modificado por ácido. O álcool polivinílico modificado por ácido aqui referido significa um álcool vinílico a base de polímero contendo uma quantidade predeterminada de grupos ácidos. Em particular, um álcool vinílico a base de polímero contendo uma quantidade predeterminada de grupos ácidos sulfônicos ou grupos carbóxi é preferivelmente usado; o formador é denominado um álcool polivinílico sulfônico modificado por ácido, e o último é denominado um álcool polivinílico carboxílico modificado por ácido.

Como um método de sintetizar um álcool polivinílico modificado por ácido, é preferivelmente sintetizado por um método no qual um manômero tendo um grupo ácido é polimerizado junto com acetato de vinila, e parte ou todo do acetato de vinila é então saponificado para dar álcool vinílico, mas ele pode ser sintetizado ligando-se um composto tendo um grupo ácido a um grupo hidróxi de um álcool polivinílico.

Exemplos de monômeros tendo um grupo ácido sulfônico incluem ácido etilenossulfônico, ácido alilsulfônico, ácido metalilsulfônico, ácido 2-acrilamido-2metilpropano sulfônico, e sais destes. Exemplos de compostos tendo um grupo ácido sulfônico incluem derivados de aldeído tendo um grupo ácido sulfônico tal como ácido benzaldeído p- sulfônico e sais destes, e introdução é possível por uma reação de acetalização convencionalmente conhecida.

Exemplos de monômeros tendo um grupo carbóxi incluem ácido fumárico, ácido maléico, ácido itacônico, anidrido maléico, anidrido ftálico, anidrido trimelítico, ácido acrílico, e sais destes, ésteres do ácido acrílico tal como acrilato de metila, e ésteres do ácido metacrílico tal como metacrilato de metila. Exemplos de compostos tendo um grupo carbóxi incluem monômeros, tal como ácido acrílico, e introdução é possível por um reação de adição Michael convencionalmente conhecida.

O álcool polivinílico modificado por ácido pode ser sintetizado no sítio ou pode ser adquirido como um produto comercial.

Desta maneira, um álcool polivinílico específico modificado por ácido pode suprime a degradação de removabilidade de revelação da camada fotossensível. Entre eles, um com um grau de saponificação de pelo menos 91 rnols % é preferível.

Exemplos específicos de um álcool polivinílico modificado como esse por ácido tendo um alto grau de saponificação incluem álcoois polivinílicos modificados por carbóxi tal como KL-118 (grau de saponificação 97 rnols %, grau de polimerização médio 1.800), KM-618 (grau de saponificação 94 rnols %, grau de polimerização médio 1.800), KM-118 (grau de saponificação 97 rnols %, grau de polimerização médio 1.800), e KM-106 (grau de saponificação 98,5 rnols %, grau de polimerização médio 600) fabricado por Kuraraio Co., Ltd., Gohsenal T-330H (grau de saponificação 99 rnols %, grau de polimerização médio 1.700), Gohsenal T-330 (grau de saponificação 96,5 rnols %, grau de polimerização médio 1.700), Gohsenal T-350 (grau de saponificação 94 rnols %, grau de polimerização médio 1.700), Gohsenal T-230 (grau de saponificação 96,5 rnols %, grau de polimerização médio 1.500), Gohsenal T-215 (grau de saponificação 96,5 rnols %, grau de polimerização médio 1.300), e Gohsenal T-HS-1 (grau de saponificação 99 rnols %, grau de polimerização médio 1.300) fabricado por o Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., e AF-17 (grau de saponificação 96,5 rnols %, grau de polimerização médio 1.700) e

AT-17 (grau de saponificação 93.5 mois %, grau de polimerização médio 1.700) fabricado por Japan VAM & POVAL Co.

Exemplos de álcoois polivinílicos modificados por ácido sulfônico incluem SK-5102 (grau de saponificação 98 mois %, grau de polimerização médio 200) fabricado por Kuraraio Co., Ltd., e Gohseran CKS-50 (grau de saponificação 99 mois %, grau de polimerização médio 300) e L-3266 (grau de saponificação 88 mois %, grau de polimerização médio 300) fabricado pela Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.

Além disso, do ponto de vista de suprimir a degradação de removabilidade de revelação da camada fotossensível mais efetivamente, é particularmente preferível usar um álcool polivinílico modificado por ácido tendo um grau de polimerização médio de unidades de álcool vinílico de 100 a 800. De acordo com o uso de um álcool polivinílico modificado por ácido como esse tendo um baixo grau de polimerização e um alto grau de saponificação, torna-se possível fornecer uma camada protetora que pode suprimir efetivamente a degradação da removabilidade de revelação da camada fotossensível mantendo ao mesmo tempo excelente propriedades de barreira de oxigênio.

Como um álcool polivinílico modificado por ácido como esse, tendo um baixo grau de polimerização e um alto grau de saponificação, um álcool polivinílico ácido modificado por carbóxi modificado por ácido itacônico ou maléico ou um álcool polivinílico modificado por ácido sulfônico tendo um grau de saponificação de pelo menos 91 mois % e um grau de polimerização médio de unidades de álcool vinílico de 100 a 800 é preferível.

O grau de modificação do álcool polivinílico modificado por ácido usado na presente invenção significa a razão molar de unidades contendo grupo ácido em um copolímero de álcool polivinílico modificado por ácido. O grau de modificação do álcool polivinílico modificado por ácido é preferivelmente 0,1 a 20 mois %, e mais preferivelmente 0,2 a 5 mois %.

Como um solvente usado quando se aplica a camada protetora no precursor de placa de impressão litográfica fotossensível usado na presente invenção, água é preferível, mas o água pode ser misturada com um solvente miscível em água tal como um álcool tal como metanol ou etanol ou um cetona tal como acetona ou metil etil cetona. O teor de sólidos na solução de revestimento é adequadamente 1 a 20 % em peso. A camada protetora supramencionada pode compreender adicionalmente um aditivo conhecido tal como um agente tensoativo para melhorar as propriedades do revestimento ou um plastificante solúvel em água para melhorar as propriedades físicas de um filme. Como o plastificante solúvel em água, por exemplo, exis tem propionamida, cicloexanodiol, glicerol, sorbitol, etc. Além disso, um polímero a base de(met)acrílico solúvel em água, etc. pode ser adicionado. A cobertura deste é preferivelmente na faixa de 0,1 g/m^2a 15 g/m² como um peso de revestimento seco, e mais preferivelmente na faixa de 1,0 g/m^{2 a} 5.0 g/m².

Uma camada protetora que é localizada na parte mais externa do precursor de placa de impressão litográfica pode compreender partículas de resina orgânica contendo sílica (a seguir, também denominado partículas de resina orgânica contendo sílica da maneira apropriada) e um polímero hidrofílico. Adicionado-se à camada protetora um polímero hidrofílico, preferivelmente um polímero hidrofílico tendo um álcool polivinílico como um componente principal, e partículas de resina orgânica contendo sílica, a estabilidade de partículas de resina orgânica na solução de revestimento aumenta notavelmente, e um precursor de placa de impressão litográfica preparado usando esta solução de revestimento pode obter excelente resistência de filme. Além disso, propriedades de mateamento podem ser conferidas na camada protetora. Em decorrência, a camada protetora pode melhorar não somente a sensibilidade, mas também a estabilidade de armazenamento com o tempo e adequabilidade de luz que não destrói filme fotográfico, e o efeito de suprimir a degradação por causa de deformação ou a ocorrência de arranhões é também promissor. Além disso, uma vez que excelente propriedades de mateamento são conferidas na camada protetora, quando precursor de placas de impressão litográfica da presente invenção são arranhadas, torna-se possível suprimir bloqueio entre a superfície da camada protetora do precursor de placa de impressão litográfica e a face reversa do suporte de um precursor de placa de impressão litográfica adjacente e suprimir arranhões causados por atrito entre a superfície da camada protetora e a face reversa do suporte.

Além disso, na presente invenção, é preferível do ponto de vista de melhorar várias propriedades tais como propriedades de barreira de oxigênio, resistência a pressão externa, e resistência a bloqueio que, quando a camada protetora é uma única camada, um composto lamelar inorgânico (a seguir, também denominado um composto mica na presente invenção) é adicionado a esta camada, e quando a camada protetora tem uma estrutura em camadas é adicionado a qualquer uma das camadas protetoras.

Cada componente usado na camada protetora relacionado à presente invenção é explicado a seguir em sequência.

(Partículas de resina orgânica contendo sílica)

Na presente invenção, a camada mais externa da camada protetora compreende partículas de resina orgânica contendo sílica. As partículas de resina orgâ nica suprime o bloqueio entre a superfície da camada protetora de um precursor de placa de impressão litográfica e a face reversa do suporte de um precursor de placa de impressão litográfica adjacente e arranhões causados por atrito entre a superfície da camada protetora e a face reversa do suporte. Com relação às propriedades básicas como essas desejadas para partículas funcionando como um agente de mateamento, uma resina que não inibe substancialmente a transmissão de luz usada para exposição, não torna-se amolecida ou pegajosa por causa de umidade ou temperatura atmosférica, confere uma rugosidade apropriada à superfície da camada protetora na parte mais externa pela sua adição, e reduzir a área da superfície envolvida em bloqueio é preferível.

Além disso, do ponto de vista de suprimir arranhões causados por atrito, mateamento partículas que podem acalmar a tensão gerada quando fricionadas contra uma face de suporte duro (por exemplo, Al) são preferíveis. Além do mais, as partículas preferivelmente têm uma alta afinidade com um polímero hidrofilico como uma resina de ligação da camada protetora, preferivelmente um álcool polivinílico comumente usado na camada protetora, são bem misturada no filme, e são resistentes a liberação da superfície do filme depois formação do filme. Na presente invenção, a partir de tais pontos de vista, como as partículas a ser adicionadas, partículas de resina orgânica contendo sílica são empregadas.

Como a resina orgânica das partículas de resina orgânica contendo sílica que podem ser usadas na presente invenção, uma resina tendo as propriedades físicas supramencionadas pode ser usada sem restrições, e exemplos desta incluem um ácido poliacrílico a base de resina, uma resina a base de poliuretano, uma resina a base de poliestireno, uma resina a base de poliéster, uma resina a base de epóxi, uma resina fenólica, uma resina de melamina, e uma resina de silicone.

Entre eles, do ponto de vista de afinidade com álcool polivinílico, que é um preferido polímero hidrofilico, é preferível usar um ácido poliacrílico a base de resina, uma resina a base de poliuretano, uma resina de melamina, etc.

Além disso, Com relação a um material formando o componente de sílica das partículas de resina orgânica contendo sílica, pode ser citado um composto tendo um grupo alcoxisilila tal como um condensado de um composto a base de alcoxissiloxano, em particular, um material a base de siloxano usado em um método sol-gel, e especificamente partículas de sílica tal como uma sílica sol, sílica coloidal, ou nanopartículas de sílica são preferíveis.

A forma das partículas de sílica não é particularmente limitada; uma forma esférica ou uma forma de escala é preferível, e o tamanho primário médio de partícula das partículas de sílica é preferivelmente 1 a 500 nm, mais preferivelmente 2 a

300 nm, e ainda mais preferivelmente 5 a 100 nm. É preferível que o tamanho de partícula das partículas de sílica seja na faixa supramencionada uma vez que elas são localizadas nos arredores da superfície das partículas de resina orgânica.

As partículas de resina orgânica contendo sílica preferivelmente contêm sí5 lica na superfície ou nos arredores da superfície, e cobrindo a superfície das partículas de resina orgânica com uma camada de sílica, as partículas de resina orgânica contendo sílica podem ser obtidas.

Além disso, Com relação à constituição das partículas de resina orgânica contendo sílica, tanto uma na qual partículas de sílica são anexadas na superfície 10 das partículas de resina orgânica como um componente sólido quanto uma na qual uma camada do composto a base de siloxano é formada na superfície das partículas de resina orgânica por um reação de condensação de um composto a base de alcoxisiloxano pode ser empregada.

O teor de sílica é preferivelmente pelo menos 0,1 partes em peso com rela15 ção a 100 partes em peso das partículas de resina orgânica, mais preferivelmente 0,1 a 10 partes em peso, ainda mais preferivelmente 0,2 a 5 partes em peso, e particularmente preferivelmente 0,3 a 3 partes em peso.

Além disso, da maneira descrita anteriormente, Com relação às partículas de resina orgânica contendo sílica, é preferível que sílica esteja presente na super20 fície das partículas de resina orgânica. Não é necessário que sílica esteja presente em toda a superfície das partículas de resina orgânica, e sílica pode estar presente em pelo menos parte desta.

É preferível tornar a sílica presente em pelo menos parte da superfície das partículas de resina orgânica uma vez que a afinidade da superfície das partículas 25 de resina orgânica com um polímero hidrofílico (preferivelmente álcool polivinílico) é melhorada, e mesmo quando submetida a uma tensão externa, perda de partículas é suprimida, e excelente resistência a arranhão e resistência a bloqueio pode ser mantida. Em virtude disso, na presente invenção, um estado no qual sílica está presente em pelo menos parte da superfície das partículas de resina orgânica é prefe30 rível.

O estado no qual a superfície é coberta com sílica pode ser confirmado examinando-se a morfologia por meio de microscopia eletrônica de varredura (TEM), etc., e a cobertura da sílica pode ser confirmada calculando-se a quantidade de sílica presente nela detectando-se átomos Si by análise elementar tal como análise de 35 fluorescência por raios-X.

Além disso, na presente invenção, é também possível confirmar que sílica (por exemplo, sílica coloidal) está presente nos arredores da superfície das partícu-

Ias de resina orgânica contendo sílica examinando-se as partículas de resina orgânica contendo sílica como elas são, usando microscopia eletrônica de varredura (SEM) ou examinando-as na forma de um fatia usando análise de microscopia eletrônica de transmissão - energia dispersiva de raios-X (TEM-EDX).

O fator de cobertura da superfície das partículas de resina orgânica por sílica é preferivelmente 0,3 a 1, mais preferivelmente 0,4 a 1, e ainda mais preferivelmente 0,5 a 1.

O fator de cobertura é dado por (1 - razão aberta), e a razão aberta pode ser medida por um método descrito, por exemplo, nos parágrafos 0080 a 0083 de JP-A-2004-307837.

Um processo para produzir as partículas de resina orgânica contendo sílica não é particularmente limitado, e pode ser um método no qual um componente do manômero como um material de partida para as partículas de resina orgânica é feito para estar presente junto com partículas de sílica ou um composto precursor de sílica, e sílica é introduzida ao mesmo tempo como formação das partículas de resina orgânica, ou um método no qual, depois que as partículas de resina orgânica são formadas, partículas de sílica são feitas parar adsorber fisicamente na superfície, e depois disso a imobilização é realizada.

Como um exemplo do processo de produção, primeiro, sílica e uma resina de material de partida (mais especificamente, um manômero que pode passar por suspensão-polimerização, um pré-polímero que pode passar por suspensãoreticulação, ou uma resina de material de partida tal como uma resina líquida, formando a resina orgânica supramencionada) é adicionada na água contendo um estabilizador de suspensão apropriadamente selecionado de um polímero solúvel em água tal como álcool polivinílico, metilcelulose, ou ácido poliacrílico ou um agente de suspensão inorgânico tal como fosfato de cálcio ou carbonato de cálcio, e agitadas e misturadas para preparar assim uma suspensão na qual a sílica e a resina hidrofóbica de material de partida são dispersos. Neste processo, ajustando-se o tipo de estabilizador de suspensão, a concentração deste, velocidade rotacional de agitação, etc. uma emulsão (suspensão) tendo um diâmetro de partícula alvo pode ser formada. Subsequentemente, esta suspensão é aquecida para iniciar assim uma reação, e o material de partida da resina é submetido a suspensão-polimerização ou suspensão-reticulação, formando assim as partículas da resina. Durante este processo, a sílica que está co-presente é imobilizada nas partículas da resina que são curadas por uma reação de polimerização ou reticulação, e em particular nos arredores da superfície das partículas da resina por causa das propriedades físicas destas. Subsequentemente, isto é submetido a separação sólido-líquido, estabiliza54

dor de suspensão anexado nas partículas é removido por lavagem, e secagem é realizada. Isto permite que as partículas de resina orgânica tendo um diâmetro de partícula desejado e tendo sílica imobilizada nelas sejam obtidas.

Desta maneira, uma resina tendo um tamanho desejado pode ser obtida 5 controlando-se as condições de suspensão-polimerização ou suspensãoreticulação, mas partículas de resina orgânica contendo sílica tendo um tamanho desejado podem também ser obtidas por um método filtração por malha depois que as partículas de resina orgânica contendo sílica são formadas sem realizar tal controle rigoroso.

Com relação à quantidade de material de partida adicionada a um mistura durante a produção das partículas de resina orgânica contendo sílica pelo método supramencionado, quando a quantidade total de resina de material de partida e sílica for 100 partes em peso, 0,1 a 20 partes em peso de um estabilizador de suspensão é adicionado a 200 a 800 partes em peso de água como um meio de dispersão 15 e suficientemente dissolvido ou disperso, a este líquido são adicionadas 100 partes em peso da mistura de resina de material de partida e sílica, agitação é realizada ajustando ao mesmo tempo a velocidade da agitação de forma que partículas dispersas tenham um tamanho de partícula predeterminado, depois de realizar o ajuste do tamanho de partícula, a temperatura líquida é aumentada até 30 °C a 90 °C, e 20 uma reação pode ser realizada por 1 a 8 horas.

Com relação ao processo para produzir partículas de resina orgânica contendo sílica, o método supramencionado é um exemplo deste; é descritos com detalhes, por exemplo, em JP-A-2002-327036, JP-A-2002-173410, e JP-A-2004-307837, e todas as partículas de resina orgânica contendo sílica obtidas pelos métodos des25 critos neles podem ser adequadamente usadas na presente invenção.

Além disso, as partículas de resina orgânica contendo sílica que podem ser usadas na presente invenção são como produtos comerciais, e exemplos específicos destas incluem, como partículas do compósito sílica/melamina, Optbeads 2000M, Optbeads 3500M, Optbeads 6500M, Optbeads 10500M, Optbeads 3500S, e 30 Optbeads 6500S fabricados pela Nissan Chemical Industries Ltd. Como partículas do compósito sílica/acrílico, Art Pearl G-200 transparent, Art Pearl G-400 transparent, Art Pearl G-800 transparent, Art Pearl GR-400 transparent, Art Pearl GR-600 transparent, Art Pearl GR-800 transparent, e Art Pearl J-7P fabricados pela Negami Chemical Industrial Co., Ltd. podem ser citadas. Como partículas do compósito síli35 ca/uretano, Art Pearl C-400 transparent, C-800 transparent, P-800T, U-600T, U800T, CF-600T, e CF800T fabricados pela Negami Chemical Industrial Co., Ltd.; e Dynamic Beads CN5070D e Danplacoat THU fabricados pela Dainichiseika Color &

Chemicals Mfg. Co., Ltd. podem ser citadas.

Na presente invenção, a forma das partículas de resina orgânica contendo sílica é preferivelmente uma forma verdadeiramente esférica, mas pode ser uma forma de placa plana ou uma forma de árvore assim denominada que é elíptica em 5 projeção.

O tamanho de partícula médio é preferivelmente 1 a 30 pmé, mais preferivelmente 1,5 a 20 μπιΦ, ainda mais preferivelmente 2 a 15 μηηΦ, e particularmente preferivelmente 3 a 10 pmó. Nesta faixa, função de espaçador suficiente e desempenho de mateamento podem ser exibidos, é fácil imobilizar na superfície da cama10 da protetora, e uma excelente função retenção contra tensão de contato externo é dada. O tamanho de partícula médio das partículas de resina orgânica contendo sílica é preferivelmente maior que a espessura da camada protetora revestida.

A quantidade de partículas de resina orgânica contendo sílica adicionada na camada protetora é preferivelmente 5 a 1.000 mg/m², mais preferivelmente 7 a 500 15 mg/m², e ainda mais preferivelmente 10 a 200 mg/m².

Além disso, Com relação a uma quantidade preferida destas adicionada em relação à camada protetora total, é preferivelmente 0,5 a 95 % em peso em relação ao teor de sólidos total da camada protetora, mais preferivelmente 1 a 50 % em peso, e particularmente preferivelmente 2 a 20 % em peso.

(Outras partículas de resina orgânica)

A camada protetora pode conter, além das supramencionados partículas de resina orgânica contendo sílica, outras partículas de resina orgânica (não contendo sílica) uma vez que como os efeitos da presente invenção não são conferidos.

Exemplos preferidos de partículas de resina orgânica que podem ser usa25 dos em combinação, incluem partículas formadas a partir de uma resina sintética tal como um éster do ácido poli(met)acrílico, poliestireno ou um derivado destes, um poliamida, um poli-imida, um poliolefina tais como polietileno de baixa densidade, polietileno de alta densidade, ou polipropileno, poliuretano, poliuréia, ou poliéster, e partículas formadas a partir de um polímero natural tais como quitina, quitosano, 30 celulose, amido reticulado, ou celulose reticulada.

Entre elas, partículas da resina sintética têm vantagens em termos de facilidade de controle de tamanho de partícula, facilidade de controle de propriedades de superfície desejadas por modificação da superfície, etc.

Em um processo como esse para produzir partículas de resina orgânica, no 35 caso de uma resina relativamente dura tal como PMMA, microparticulação por um método de moagem é possível, mas um método de sintetizar partículas por um método de emulsificação/ suspensão-polimerização é principalmente usado atualmente do ponto de vista de facilidade de controle de tamanho de partícula e precisão.

Tais processos para produzir um pó microparticulado são descritos com detalhes em 'Ultrafine Particles and Materiais' Ed. by Materiais Science Society of Japan, Shokabo Publishing Co., Ltd, 1993, 'Manufacturing & Application of Microsferes 5 & Powders' Edited by Haruma Kawaguchi, CMC Publishing Co., Ltd. 2005, etc.

Partículas de resina orgânica que podem ser usadas em combinação com partículas de resina orgânica contendo sílica na camada protetora são disponíveis como produtos comerciais, e exemplos destas incluem resinas acrílicas reticuladas MX-300, MX-500, MX-1000, MX-1500H, MR-2HG, MR-7HG, MR-10HG, MR-3GSN, 10 MR-5GSN, MR-7G, MR-10G, MR-5C, e MR-7GC e resinas de estirila SX-350H e SX500H fabricadas pela Soken Chemical & Engineering Co., Ltd; resina acrílicas MBX5, MBX-8, MBX-12MBX-15, MBX-20, MB20X-5, MB30X-5, MB30X-8, MB30X-20, SBX-6, SBX-8, SBX-12, e SBX-17 fabricadas pela Sekisui Plastics Co., Ltd.; e resinas de poliolefina Chemipearl W100, W200, W300, W308, W310, W400, W401, 15 W405, W410, W500, WF640, W700, W800, W900, W950, e WP100 fabricadas pela

Mitsui Chemical Co., Ltd.

Com relação às outras partículas de resina orgânica contidas na camada protetora como um componente opcional, é preferível que a gravidade específica real seja na faixa de 0,90 a 1,30 e o tamanho de partícula médio seja 2,0 a 15 pm, e 20 é mais preferível que a gravidade específica real seja na faixa de 0,90 a 1,20 e o tamanho de partícula médio seja 3,0 a 12 pm.

O teor dessas partículas no teor de sólidos da camada protetora é preferivelmente 1,0 a 30 % em peso, e mais preferivelmente 2,0 a 20 % em peso. Além disso, é preferivelmente na faixa de 5,0 a 50 % em peso em relação às partículas 25 de resina orgânica contendo sílica.

De acordo com o uso combinado de partículas de resina orgânica como um componente opcional, o efeito de mateamento da superfície, efeito de prevenção de bloqueio, e efeito de resistência a arranhão são melhorados, mas quando a quantidade adicionada excede a faixa preferida supramencionada, existe uma possibilida30 de de ocorrência de problemas tal como degradação em sensibilidade e desprendimento das partículas orgânicas da superfície da camada protetora.

A camada protetora no precursor de placa de impressão litográfica pode compreender um composto lamelar inorgânico. Quando um composto mica é usado em combinação, o composto mica pode estar contido em qualquer uma camada das 35 camadas formando a camada protetora.

Por exemplo, quando existe somente uma camada protetora de uma única estrutura de camada, uma vez que esta é a camada mais externa, a camada proteig3asl tora compreende um composto mica além de um polímero hidrofílico e partículas de resina orgânica contendo sílica; quando a camada protetora tem uma estrutura em camadas, a camada mais externa compreende um polímero hidrofílico e partículas de resina orgânica contendo sílica, e um composto mica pode estar contido na camada protetora da camada mais externa ou pode estar contido em uma outra camada protetora nos arredores da camada de fotossensibilidade (camada de formação de imagem) junto com uma resina ligante, preferivelmente um polímero hidrofílico.

Exemplos do composto mica usado na presente invenção incluem grupos micas tal como micas naturais ou micas sintéticas representada, por exemplo, pela fórmula A(B,C)₂-5D4O₁₀(OH,F,O)2 na qual A é selecionado dgrupo que consiste em K, Na, e Ca, B e C são selecionados do grupo que consiste em Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, e V, e D é Si ou Al.

Exemplos de compostos micas que podem ser usados na presente invenção incluem micas naturais tal como muscovita, paragonita, fologopita, biotita, e lepidolita. Exemplos de micas sintéticas incluem micas não intumescíveis tal como flúorfologopita KMg₃(AISi₃O₁₀)F₂ ou mica tetrassilílica de potássio KMg₂,₅(Si₄O₁₀)F₂, e micas intumescíveis tais como mica tetrasilílica Na NaMg₂.₅(Si₄Oio)F₂, taeniolíta Na ou Li (Na,Li)Mg₂Li(Si₄O₁₀)F₂, ou hectorita Na ou Li a base de montmorilonita (Na,Li)v₈Mg₂/5Li₁/8(Si₄Oio)F₂. Além do mais, esmectita sintética é também usada.

Na presente invenção, entre compostos de mica, mica intumescível a base de flúor é particularmente usada. Ou seja, esta mica sintética intumescível tem uma estrutura em camadas compreendendo camadas reticulado cristalino de unidade da ordem de 100 a 150 nm (10 a 15 A) de espessura, e substituição do átomo de metal no reticulado é notavelmente maior que outros minerais de argila. Em decorrência, a camada reticulada é deficiente em carga positiva, e a fim de compensar estes cátions tais como Na⁺, Ca²⁺, ou Mg²⁺ são adsorvidos entre camadas. Esses cátions presentes entre camadas são denominados cátions trocáveis, e são trocados por vários cátions. Em particular, quando o cátion entre camadas é Li⁺ ou Na⁺, uma vez que o radioiônico é pequeno, a ligação entre os reticulados cristalinos lamelares é fraca, e é bastante intumescida por água. Quando o cisalhamento é aplicado neste estado, ele cliva facilmente, formando assim um sol estável em água. Esta tendência é forte para micas sintéticas intumescíveis, que são usadas na presente invenção e, particularmente, do ponto de vista da disponibilidade das partículas com qualidades uniformes, uma mica sintética intumescível é preferivelmente usada.

Com relação à forma do composto mica usado na presente invenção, um composto tendo um forma partícula tabular é preferível; do ponto de vista de adsorção nas partículas de resina orgânica, quanto mais fina melhor, e Com relação ao tamanho planar, quanto maior melhor uma vez que a lisura da superfície revestida e transmissão de radiação actínica não são inibidas. Portanto, a razão do aspecto é preferivelmente pelo menos 20, mais preferivelmente pelo menos 100, e ainda mais preferivelmente pelo menos 200. A razão de aspecto é a razão de espessura para eixos principais de uma partícula e pode ser medida, por exemplo, a partir de uma projeção vista de uma partícula por microfotografia. Quanto maior a razão de aspecto, tanto maior o efeito obtido.

Como para o tamanho de partícula do composto mica usado na camada protetora na presente invenção, os eixos principais médios têm preferivelmente 0,3 a 20 pm, mais preferivelmente 0,5 a 10 pm, e particularmente preferivelmente 1 a 5 pm. A espessura média das partículas é preferivelmente não mais que 0,1 pm, mais preferivelmente não mais que 0,05 pm, e particularmente preferivelmente não mais que 0,01 pm. Especificamente, na mica sintética intumescível, que é um composto representativo, a espessura é da ordem de 1 a 50 nm e o tamanho planar (eixos principais) é da ordem de 1 a 20 pm.

A quantidade de composto mica contida na camada protetora, quando o composto mica é adicionado na mesma camada como as partículas de resina orgânica contendo sílica, varia dependendo da quantidade adicionada e do tipo das partículas de resina orgânica contendo sílica, mas em geral a razão em peso (composto mica:partículas de resina orgânica contendo sílica) do composto mica em relação ao peso das partículas de resina orgânica contendo sílica é preferivelmente na faixa de 5:1 a 2:3, e mais preferivelmente na faixa de 4:1 a 1:1.

Quando na faixa supramencionada em relação às partículas de resina orgânica contendo sílica, um equilíbrio pode ser obtido entre os efeitos de melhorar dispersibilidade e melhorar resistência a arranhão quando em atrito contra uma face reversa do suporte. Quando uma pluralidade de tipos de composto mica é usada em combinação, é também preferível que a quantidade total dos compostos mica seja na faixa de razão em peso supramencionada.

Além disso, quando a camada protetora tem uma estrutura em camadas, um composto mica pode ser usado em qualquer uma da pluralidade de camadas, e quando esta camada é uma camada não contendo partículas de resina orgânica contendo sílica, o composto mica é preferivelmente adicionado a uma razão de 5 a 50 partes em peso com relação a 100 partes em peso de polímero hidrofílico.

Depois de aplicar um tratamento superficial no suporte ou formar a camada intermediária acima do suporte, uma camada de revestimento de fundo pode como necessário ser provido na face reversa do suporte.

S3

Como a camada de revestimento de fundo, pode preferivelmente ser citado, por exemplo, uma camada de revestimento compreendendo um composto polímero orgânico descrito em JP-A-5-45885, e uma camada de revestimento compreendendo um óxido de metal obtido por hidrólise e policondensação de um composto metal orgânico ou um composto metal inorgânico descritos em JP-A-6-35174. Entre eles, uso de um composto alcóxi de silicone tal como Si(OCH₃)₄, Si(OC2H₅)₄, Si(OC₃H₇)₄, ou Si(OC₄H₉)₄ é preferível uma vez que os materiais de partida são baratos e facilmente disponíveis.

II. Processo de fabricação de placa

O processo para fabricar uma placa de impressão litográfica da presente invenção, ou seja, uma processo de fabricação de placa, é agora explicado.

O processo para fabricar uma placa de impressão litográfica da presente invenção compreende uma etapa de exposição para formação de imagem de um precursor de placa de impressão litográfica com uma camada de formação de imagem (camada fotossensível) acima de um suporte hidrofilico, preferivelmente um precursor de placa de impressão litográfica adicionalmente com uma camada protetora acima de uma camada de formação de imagem, e então uma etapa de processamento de realizar processamento usando uma solução de processamento compreendendo íon carbonato, íon bicarbonato, e um composto polímero solúvel em água.

Pelo processamento usando a solução aquosa supramencionada após exposição para formação de imagem do precursor de placa de impressão litográfica da presente invenção, processamento e engomação de uma camada de formação de imagem podem ser realizados ao mesmo tempo por um único banho.

Além disso, no caso de um precursor de placa de impressão litográfica provido com uma camada protetora, remoção desta camada protetora, processamento de uma camada de formação de imagem, e engomação de uma imagem obtida podem ser realizados ao mesmo tempo por um único banho.

O processamento da camada de formação de imagem aqui referido significa formar uma imagem de acordo com uma área exposta removendo-se uma área não exposta da camada de formação de imagem usando a solução de processamento supramencionada.

Na presente invenção, em um processo de fabricação de placa no qual uma placa de impressão litográfica é produzida a partir de um precursor de placa de impressão litográfica, a superfície total do precursor de placa de impressão litográfica pode ser aquecida como necessário antes da exposição, durante a exposição, ou entre a exposição e revelação. Este aquecimento promove uma formação de imagem reação em uma camada de formação de imagem, tendo assim vantagens tal

como melhoria de sensibilidade, melhoria de vida da placa, e estabilização de sensibilidade. Além disso, com o propósito de melhorar a intensidade de imagem e a vida da placa, pós aquecimento de uma imagem obtida por revelação ou exposição da superfície toda é também efetiva. Aquecimento antes da revelação é normalmente preferivelmente realizado em condições brandas de não mais que 150 °C. Aquecimento depois da revelação utiliza condições mais severas. Uma faixa de temperatura de 200 °C a 500 °C é preferível.

A etapa de exposição para formação de imagem de expor para formação de imagem um precursor de placa de impressão litográfica pode ser grosseiramente dividida em duas. Uma destas é a exposição para formação de imagem usando uma imagem original transparente tendo uma imagem de linha, uma imagem semitom, etc., e a outra é exposição para formação de imagem por varredura de uma fonte de luz laser com base em dados digitais.

Com relação ao equipamento de exposição de precursor de placa de impressão litográfica de um método de exposição de varredura, como um mecanismo de exposição existe um sistema de face interna de tambor, um sistema de face externa de tambor, e um sistema de leito plano, e como uma fonte de luz entre as fontes de luz supramencionadas um tipo de onda contínua pode preferivelmente ser usado. Na prática, em termos do relacionamento entre a sensibilidade de um precursor de placa de impressão litográfica (a seguir, também denominado um 'precursor') e tempo de fabricação da placa, o equipamento de exposição a seguir é particularmente preferível.

Equipamentos de exposição de feixe único até feixe tríplice deparam com um sistema de face interna de tambor empregando uma ou mais fontes de luz laser em estado gasoso ou sólido de maneira a fornecer um laser semicondutor tendo uma saída total de 20 mW ou mais.

Equipamento de exposição de multifeixes (1 a 10 feixes) de um sistema de leito plano empregando um ou mais lasers semicondutores ou lasers em estado gasoso ou sólido de maneira a dar uma saída total de 20 mW ou mais.

Equipamento de exposição de multifeixes (1 a 9 feixes) de um sistema face externa de tambor empregando um ou mais lasers semicondutores ou lasers em estado gasoso ou sólido de maneira a dar uma saída total de 20 mW ou mais.

Equipamento de exposição de multifeixes (10 feixes ou mais) de um sistema de face externa de tambor empregando um ou mais lasers semicondutores ou lasers em estado sólido de maneira a dar uma saída total de 20 mW ou mais.

No precursor de placa de impressão litográfica tipo gravação direta a laser descrito anteriormente, um equação (eq 1) entre sensibilidade do precursor X (J/cm²), área de exposição do precursor S (cm²), potência q (W) por fonte de luz laser, número n de lasers, e tempo de exposição total t (s) é dada no geral.

X S = n-q t (eq 1)

i) No caso de um sistema de face interna de tambor (feixe único):

Uma equação (eq 2) entre velocidade rotacional de laser f (radiano/s), comprimento de subvarredura do precursor Lx (cm), resolução Z (ponto/cm), e tempo de exposição total t (s) é dada no geral.

f-Z-t = Lx (eq 2) ii) No caso de um sistema de face externa de tambor (multifeixes):

Uma equação (eq 3) entre velocidade rotacional do tambor F (radiano/s), comprimento de subvarredura do precursor Lx (cm), resolução Z (ponto/cm), tempo de exposição total t (s), e número de feixes (n) é dada no geral.

F Z n t = Lx (eq 3) iii) No caso de um sistema de cabeça plana (multifeixes):

Uma equação (eq 4) entre velocidade rotacional de espelho de polígono H (radiano/s), comprimento de subvarredura do precursor Lx (cm), resolução Z (ponto/cm), tempo de exposição total t (s), e número de feixes (n) é dada no geral.

H Z n-t = Lx (eq 4)

Atribuindo-se as equações anteriores, uma resolução (2.560 dpi), tamanho de placa (A1/B1, comprimento de subvarredura 42 polegadas), e condições de exposição da ordem de 20 folhas/hora exigidas para uma placa de impressão de precursor real, e propriedades fotossensíveis (comprimento de onda fotossensível, sensibilidade: cerca de 0,1 mJ/cm²) do precursor de placa de impressão litográfica relacionado à presente invenção, pode-se entender que no precursor de placa de impressão litográfica relacionado à presente invenção, uma combinação com um sistema de exposição de multifeixes empregando um laser tendo uma saída total de mW ou mais é particularmente preferível. Além disso, levando-se igualmente em consideração a operabilidade, custo, etc., uma combinação com equipamento de exposição de sistema de face externa de tambor de laser semicondutor de multifeixes (10 feixes ou mais) é acima de tudo preferível.

O laser infravermelho usado na presente invenção não é particularmente limitado, mas um laser em estado sólido e um laser semicondutor que radia raios IR a um comprimento de onda de 760 a 1.200 nm pode ser citado adequadamente. A 35 saída do laser IR é preferivelmente pelo menos 100 mW. Além disso, a fim de reduzir tempo de exposição, um dispositivo de laser multifeixes é preferivelmente usado. O tempo de exposição por pixel é preferivelmente dentro de 20 psec. Além disso, a

quantidade de energia de irradiação é preferivelmente 10 a 300 mJ/cm². Como uma fonte de luz, um laser semicondutor AlGalnN (laser semicondutor a base de InGaN comercial, 5 a 30 mW) é adequado em termos de características e custo de comprimento de onda.

Além disso, usando como o componente de camada de fotossensibilidade do precursor de placa de impressão litográfica fotossensível usada na presente invenção, um com alta solubilidade de água pode torná-lo solúvel em água neutra ou álcali fracamente aquosa, e um precursor de placa de impressão litográfica fotossensível com uma constituição como essa pode ser usado em um sistema no qual, 10 após ser carregado em uma máquina de impressão, exposição na máquina - revelação é realizada.

<Solução de processamento>

A solução de processamento usada no processo para fabricar uma placa de impressão litográfica usado na presente invenção, é uma solução aquosa compre15 endendo íon carbonato, íon bicarbonato, e um composto polímero solúvel em água.

Por causa de íon carbonato e íon bicarbonato estarem presentes, uma ação de tampão pH é exibida, e mesmo se a solução de processamento for usada por um longo período de tempo, variação em pH pode ser suprimida, e degradação de capacidade de revelação, formação de resíduo de revelação, etc. por causa de varia20 ção no pH, podem ser suprimidos. Com relação a íon carbonato e íon bicarbonato, um sal de carbonato e um sal de bicarbonato podem ser adicionados no revelador, ou íon carbonato e íon bicarbonato podem ser formados ajustando-se o pH depois de um sal de carbonato ou um sal de bicarbonato serem adicionados. Quando um sal de carbonato e um sal de bicarbonato são usados, embora não particularmente 25 limitados, um sal de metal alcalino é preferível. Como o metal alcalino, lítio, sódio, e potássio podem ser citados, e sódio é particularmente preferível. Eles podem ser usados individualmente ou em uma combinação de dois ou mais tipos.

O pH não é particularmente limitado uma vez que um efeito de tampão pode ser exibido, mas o pH é preferivelmente na faixa de 8,5 a 10,8, mais preferivelmen30 te 9.0 a 10,5, e particularmente preferivelmente 9,5 a 10,3. É preferível que o pH esteja nesta faixa uma vez que capacidade de revelação de uma área de não imagem não degrada e a capacidade de processamento não é afetada por dióxido de carbono no ar.

A solução de processamento usada no processo para fabricar uma placa de 35 impressão litográfica da presente invenção, é preferivelmente uma solução aquosa compreendendo um carbonato de metal alcalino, um sal de bicarbonato, e uma resina solúvel em água e com um pH de 8,5 a 10,5. Como o metal alcalino, lítio, só63 dio, e potássio podem ser citados, e sódio é particularmente preferível. Eles podem ser usados individualmente ou em uma combinação de dois ou mais tipos.

A quantidade total dos sais de carbonato e bicarbonato é preferivelmente 1 a 20 % em peso em relação ao peso da solução de processamento, mais preferi5 velmente 1,2 a 10 % em peso, e acima de tudo preferivelmente 1,4 a 4 % em peso.

Quando esta concentração é pelo menos 1 % em peso, a capacidade de revelação e capacidade de processamento não deteriora, e quando não é maior que 20 % em peso dificilmente existe qualquer formação de um precipitado ou cristais, dificilmente existe qualquer gelificação durante a realização da neutralização durante a des10 carga da solução, e tratamento da solução residual pode ser realizado sem problemas.

Além disso, com o propósito de ajustar finamente a concentração de áícali ou ajudar na dissolução da camada de fotossensibilidade, um outro agente alcalino, por exemplo, um agente alcalino orgânico, pode ser adicionado suplementarmente.

Exemplos do agente alcalino orgânico incluem monometilamina, dimetilamina, trimetilamina, monoetilamina, dietilamina, trietilamina, monoisopropilamina, diisopropilamina, tri-isopropilamina, n-butilamina, monoetanolamina, dietanolamina, trietanolamina, monoisopropanolamina, di-isopropanolamina, etilenoimina, etilenodiamina, piridina, e hidróxido de tetrametilamônio. Esses agentes alcalinos podem 20 ser usados individualmente ou em uma combinação de dois ou mais tipos.

O 'composto polímero solúvel em água' significa um composto tendo um peso molecular com média no peso de pelo menos 1.000, e preferivelmente pelo menos 10.000 , e tendo uma solubilidade em água de pelo menos 2 g em 100 g de água, e preferivelmente pelo menos 5 g.

O composto polímero solúvel em água usado na presente invenção inclui, por exemplo, polissacarídeo de soja, amido modificado, goma arábica, dextrina, um derivado de celulose (por exemplo, carboximetilcelulose, carboxietilcelulose, ou metilcelulose) ou um produto modificado destes, pullulan, álcool polivinílico ou um derivado destes, polivinilpirrolidona, poliacrilamida, um copolímero de acrilamida, um 30 vinil éter metílico/maléico anidrido copolímero, um copolímero de acetato de vinila/anidrido maléico, e um copolímero de estireno/anidrido maléico.

Como o polissacarídeo de soja, aqueles convencionalmente conhecidos podem ser usados. Por exemplo, como um produto comercial, o nome do produto Soyafibe (Fuji Oil Co., Ltd.) está disponível, e várias qualidades do produto podem ser 35 usadas. O polissacarídeo de soja preferivelmente usado tem uma viscosidade na faixa de 10 a 100 mPa sec em uma solução aquosa 10 % em peso deste.

Como o amido modificado, um representado pela fórmula (III) a seguir é preferível. Como o amido representado pela fórmula (III), qualquer amido de milho, batata, tapioca, arroz, trigo, etc. pode ser usado. Modificação desses amidos pode ser realizada, por exemplo, por um método no qual eles são decompostos, por exemplo, com um ácido ou uma enzima até o ponto em que o número de resíduos de glicose por molécula for de 5 a 30 e então oxipropileno é adicionado neles em um álcali.

[Fórmula química 27]

(Na fórmula, o grau de esterificação (grau de substituição) é na faixa de 0,05 a 1,2 por unidade de glicose, n denota um número inteiro de 3 a 30, e m denota um número inteiro de 1 a 3.)

Entre os compostos polímeros solúveis em água, polissacarídeo de soja, amido modificado, goma arábica, dextrina, carboximetilcelulose, álcool polivinílico, etc. são particularmente preferíveis.

O composto polímero solúvel em água pode ser usado em uma combinação de dois ou mais tipos. O teor do composto polímero solúvel em água na solução de processamento é preferivelmente 0,1 a 20 % em peso, e mais preferivelmente 0,5 a 10 % em peso.

A solução de processamento que pode ser usada na presente invenção, pode compreender um agente tensoativo (aniônico, não iônico, catiônico, etc.).

Exemplos do agente tensoativo aniônico usado na presente invenção, incluem um sal de ácido graxo, um sal do ácido abiético, um sal do ácido hidroxialcanossulfônico, um sal do ácido alcanossulfônico, um sal do ácido dialquilsulfosuccínico, um sal do ácido alquilbenzenossulfônico de cadeia reta, um sal do ácido alquilbenzenossulfônico ramificado, um sal do ácido alquilnaftalenossulfônico, um sal de alquilfenoxipolioxietileno propil ácido sulfônico, um polioxietileno sal de éter alquilsulfofenílico, N-metil-N-oleiltaurina de sódio, um monoamida do ácido Nalquilsulfosuccínico dissódio, um sal do ácido sulfônico de petróleo, óleo de rícino sulfatado, óleo de sebo sulfatado, um éster de suifato de um aiquii éster do ácido graxo, um éster de alquilsulfato, um éster de sulfato de alquil éter de polioxietileno, um éster de sulfato de monoglicerídeo do ácido graxo, um éster de sulfato alquil fenil éter de polioxietileno, um éster de sulfato estirilfenil éter de polioxietileno, um alquil éster de fosfato, um éster de fosfato alquil éter de polioxietileno, um éster de fosfato alquil fenil éter de polioxietileno, um copolímero anidrido maléico-estireno parcialmente saponificado, um copolímero anidrido maléico-olefina parcialmente saponificado, e um condensado de formalina do sal do ácido naftalenossulfônico. Entre eles, um sal do ácido dialquilsulfosuccínico, um éster de alquilsulfato, e um sal do ácido alquilnaftalenossulfônico são particularmente preferivelmente usados.

O agente tensoativo catiônico usado na presente invenção não é particularmente limitado, e um agente tensoativo catiônico convencionalmente conhecido pode ser usado. Exemplos destes incluem um sal de alquilamina, um sal de amônio quaternário, um sal de polioxietileno alquilamina, e um derivado de polietileno poliamina.

Exemplos do agente tensoativo não iônico usado na presente invenção incluem um aduto de óxido de etileno de álcool superior tipo polietileno glicol, um aduto de óxido de etileno de alquilfenol, um aduto de óxido de etileno do ácido graxo, um aduto de óxido de etileno de éster do ácido graxo de álcool poli-ídrico, um aduto de óxido de etileno de alquilamina superior, um aduto de óxido de etileno amida do ácido graxo, um aduto de óxido de etileno de um óleo ou gordura, um glicol aduto de óxido de etileno de polipropileno, um copolímero bloco do óxido dimetilsiloxanoetileno, um copolímero bloco de dimetilsiloxano-(óxido de propileno-óxido de etileno), um éster do ácido graxo de glicerol tipo álcool poli-ídrico, um éster do ácido graxo de pentaeritritol, ésteres do ácido graxo de sorbitol e sorbitano, um éster do ácido graxo de sacarose, um éter alquil do álcool poli-ídrico, e um amida do ácido graxo de alcanolamina.

Estes agentes tensoativo não iônicos podem ser usados individualmente ou como uma mistura de dois ou mais tipos. Na presente invenção, um aduto de óxido de etileno de éster do ácido graxo de sorbitol e/ou sorbitano, um aduto de óxido de etileno de polipropileno glicol, um copolímero bloco do óxido de etileno de dimetilsiloxano, um copolímero bloco de dimetilsiloxano-(óxido de propileno-óxido de etileno), e um éster do ácido graxo de álcool poli-ídrico são preferíveis.

Além disso, do ponto de vista de solubilidade estável em água e turbidez, para o agente tensoativo não iônico usado na solução de processamento que pode ser usada na presente invenção, o valor de HLB (Hidrophile-Lipophile Balance) é preferivelmente pelo menos 6, e mais preferivelmente pelo menos 8. Além disso, a proporção do agente tensoativo não iônico contido na solução de processamento é preferivelmente 0,01 a 10 % em peso, e mais preferivelmente 0,01 a 5 % em peso. É também possível usar similarmente adutos de oxietileno a base de acetileno glicol e a base de álcool de acetileno, agentes tensoativos a base de flúor, a base de sili66 cone etc..

Estes agentes tensoativos podem ser usados individualmente ou em combinação. O teor do agente tensoativo no revelador é desejavelmente na faixa de 0,1 a 20 % em peso expresso como componente efetivo.

A solução de processamento que pode ser usada na presente invenção pode conter, além dos componentes supramencionados, um agente umectante, um conservante, um composto quelante, um agente antiespumante, um ácido orgânico, um solvente orgânico, um ácido inorgânico, um sal inorgânico, etc.

Como o agente umectante, etileno glicol, propileno glicol, trietileno glicol, butileno glicol, hexileno glicol, dietileno glicol, dipropileno glicol, glicerol, trimetilolpropano, diglicerol, etc. são adequadamente usados. Esses agentes umectantes podem ser usados individualmente ou em uma combinação de dois ou mais tipos. O agente umectante é preferivelmente usado em uma quantidade de 0,1 a 5 % em peso com base no peso total da solução de processamento.

Como o conservante, por exemplo, fenol ou um derivado deste, formalina, um derivado de imidazol, deidroacetato de sódio, um derivado de 4-isotiazolin-3ona, benzisotiazolin-3-ona, 2-metil-4-isotiazolin-3-ona, um derivado de benzotriazol, um derivado amidina guanidina, um sal de amônio quaternário, um derivado de piridina, um derivado de quinolina, um derivado de guanidina, diazina, um derivado de triazol, oxazol, um derivado de oxazina, ou um nitrobromoálcool tal como 2-bromo2-nitropropano-1,3-diol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-etanol, ou 1,1-dibromo-1 -nitro-2propanol é preferivelmente usado.

A quantidade de conservante adicionada é uma quantidade que apresenta eficácia estável em direção às bactérias, bolores, leveduras, etc., e depende do tipo de bactéria, bolor, ou levedura, mas é preferivelmente na faixa de 0,01 a 4 % em peso em relação à solução de processamento quando usado; é preferível usar em combinação pelo menos dois tipos de conservantes de maneira a apresentar eficácia em direção aos vários tipos de bolores e bactérias.

Como o composto quelante, por exemplo, ácido etilenodiaminatetra-acético, o sal de potássio deste, ou o sal de sódio deste; ácido dietilenotriaminapentaacético, o sal de potássio deste, ou o sal de sódio deste; ácido trietilenotetraminaexa-acético, o sal de potássio deste, ou o sal de sódio deste; ácido hidroxietiletilenodiaminatriacético, o sal de potássio deste, ou o sal de sódio deste; ácido nitrilotriacético ou o sal de sódio deste; um ácido fosfônico orgânico, por exemplo, ácido 1hidroxietano-1,1-difosfônico, o sal de potássio deste, ou o sal de sódio deste; ou aminotri(ácido metilenofosfônico), o sal de potássio deste, ou o sal de sódio deste; ou um ácido fosfonoalcanotricarboxílico podem ser citados. Um sal de amina orgâ67 nico é também efetivo em vez do sal de sódio ou sal de potássio dos compostos quelantes.

Como esses agentes quelantes, aqueles que estão presentes estavelmente na composição de solução de processamento e não inibem as propriedades de impressão são selecionados. A quantidade destes adicionada é adequadamente 0,001 a 1,0 % em peso em relação à solução de processamento quando usada.

Como o agente antiespumante, um composto tipo alto emulsificante a base de silicone normal, tipo emulsificante, não iônico, etc. tendo um HLB de não mais que 5 pode ser usado. Agentes antiespumantes de silicone são preferíveis. Entre eles, qualquer de uma dispersão tipo emulsificante e um tipo solubilizantes podem ser usados.

O teor do agente antiespumante é adequadamente na faixa de 0,001 a 1,0 % em peso em relação à solução de processamento quando usado.

Como o ácido orgânico, por exemplo, ácido cítrico, acético ácido, ácido oxálico, ácido malônico, ácido salicilílico, ácido caprílico, ácido tartárico, ácido málico, ácido lático, ácido levulínico, ácido p-toluenossulfônico, ácido xilenossulfônico, ácido fítico, e um ácido fosfônico orgânico podem ser citados. O ácido orgânico pode também ser usado na forma de um sal de metal alcalino ou um sal de amônio. O teor do ácido orgânico é preferivelmente 0,01 a 0,5 % em peso com base no peso total da solução de processamento.

Exemplos do solvente orgânico que pode estar contido incluem um hidrocarboneto alifático (por exemplo, hexano, heptano, Isopar E, H, G (Esso Chemical Co., Ltd.), gasolina, ou querosene), um hidrocarboneto aromático (por exemplo, tolueno ou xileno), um hidrocarboneto halogenado (por exemplo, dicloreto de metileno, dicloreto de etileno, tricleno, ou monoclorobenzeno) e um solvente polar.

Exemplos do solvente polar incluem um álcool (por exemplo, metanol, etanol, propanol, isopropanol, álcool benzílico, etileno glicol monometil éter, 2etioxietanol, dietileno glicol monoetil éter, dietileno glicol monoexil éter, trietileno glicol monometil éter, propileno glicol monoetil éter, propileno glicol monometil éter, polietileno glicol monometil éter, polipropileno glicol, tetraetileno glicol, etileno glicol monobutil éter, etileno glicol monobenzil éter, etileno glicol monofenil éter, metilfenilcarbinol, álcool n-amílico, ou álcool metilamílico), uma cetona (por exemplo, acetona, metil etil cetona, etil butil cetona, metil isobutil cetona, ou cicloexanona), um éster (por exemplo, acetato de etila, acetato de propila, acetato de butila, acetato de amila, acetato de benzila, lactato de metila, lactato de butila, etileno glicol monobutil acetato, acetato de propileno glicol monometil éter, acetato de dietileno glicol, ftalato de dietila, ou levulinato de butila), e outros (por exemplo, fosfato de trie68

tila, fosfato de tricresila, N-feniletanolamina, ou N-fenildietanolamina).

Além disso, quando o solvente orgânico é insolúvel em água, ele pode ser empregado sendo solubilizado em água usando um agente tensoativo, etc., e no caso onde o revelador contém um solvente orgânico, a concentração do solvente é 5 preferivelmente menos que 40 % em peso do ponto de vista de segurança e inflamabilidade.

Como o ácido inorgânico e sal inorgânico, por exemplo, ácido fosfórico, ácido metafosfórico, fosfato de monoamônio, fosfato de diamônio, fosfato de monossódio, fosfato de dissódio, fosfato de monopotássio, fosfato de dipotássio, tripolifosfa10 to de sódio, pirofosfato de potássio, hexametafosfato de sódio, nitrato de magnésio, nitrato de sódio, nitrato de potássio, nitrato de amônio, sulfato de sódio, sulfato de potássio, sulfato de amônio, sulfito de sódio, sulfito de amônio, hidrogeno sulfato de sódio, e sulfato de níquel podem ser citados. O teor do sal inorgânico é preferivelmente 0,01 a 0,5 % em peso com base no peso total da solução de processamento.

Uma etapa de revelação no processo para fabricar uma placa de impressão litográfica da presente invenção é explicada com detalhes.

Em o processo de revelação usual, a camada protetora é removida por uma pré-etapa de lavagem com água, a revelação é então realizada usando um revelador alcalino, o álcali é removido por uma pós-etapa de lavagem com água, um tra20 tamento engomagem é realizado por uma etapa viscosa, e secagem é realizada por uma etapa de secagem.

Na presente invenção, uma vez que um composto polímero solúvel em água é contido na solução de processamento, a revelação e engomagem podem ser realizadas usando ao mesmo tempo uma única solução. Portanto, uma pós-etapa de 25 lavagem com água não é particularmente exigida, e é preferível que, depois revelação e engomagem são realizadas usando uma única solução, uma etapa de secagem é realizada.

Além disso, é preferível que uma pré-etapa de lavagem com água não seja realizada, e remoção da camada protetora seja realizada ao mesmo tempo como 30 revelação e engomagem usando uma única solução. Além do mais, é preferível que, subsequente a revelação e engomagem, revelador em excesso seja removido usando um rolo limpador, e secagem seja então realizada.

Processamento de revelação de um precursor de placa de impressão litográfica na presente invenção pode ser realizado de acordo com um método padrão, 35 preferivelmente a 0 °C a 60 °C, e mais preferivelmente a 15 °C a 40 °C, tal como, por exemplo, um método no qual um precursor de placa de impressão litográfica exposto é imerso em um revelador e friccionado por uma escova. Além disso, quan-

do o processamento é realizado usando um processador automático, uma vez que, devido ao aumento na quantidade processada, o revelador torna-se esgotado, é preferível recuperar a capacidade de processamento pelo uso de um revelador de reposição ou novo.

Um suporte hidrofílico na presente invenção pode, como explicado no Exemplo 1 a seguir, ser submetido a um tratamento de formação de aspereza superficial mecânico. Este tratamento de formação de aspereza superficial mecânico pode empregar equipamento como mostrado na figura 1.

Conforme mostrado na figura 1, escovas em forma de rolo 2 e 4 e dois dos rolos de suporte 5, 6 e 7, 8 suportando-as respectivamente são dispostas de forma que uma placa de alumínio 1 seja disposta entre eles, e os dois rolos de suporte 5, 6 e 7, 8 são arranjados de forma que a menor distância entre as faces externas seja menor que o diâmetro externo das escovas em forma de rolo 2 e 4. A placa de alumínio 1 é alimentada a uma constante velocidade em um estado no qual a placa de alumínio é pressurizada pelas escovas em forma de rolo 2 e 4 e empurrada entre os dois rolos de suporte 5, 6 e 7, 8, e, girando as escovas em forma de rolo enquanto suprime um líquido de lama abrasiva 3 na placa de alumínio, a superfície da placa de alumínio 1 é friccionada pela escova. A folga (passo) entre os dois rolos de suporte 5, 6 ou 7, 8 é preferivelmente 350 mm a 550 mm, e particularmente preferivelmente 400 mm a 500 mm.

Uma explicação mais detalhada é dada nos parágrafos 0078 a 0097 de JPA-2008-201038.

Um precursor de placa de impressão litográfica pode ser submetido ao processamento de revelação usando um processador como ilustrado na figura 2.

Aqui, 'processamento de revelação' significa processamento combinado que inclui, além da revelação de uma camada de formação de imagem, um ou mais processos selecionados do grupo que consiste em remoção de uma camada protetora, engomagem e secagem.

A solução de processamento usada é ilustrada nos Exemplos. O processador é um processador automático tendo dois rolos de escova rotativa 11. Como o rolo de escova rotativa 11, para o primeiro rolo de escova rotativa 11, um rolo de escova tendo um diâmetro externo de 90 mm e tendo implantadas nele fibras de poli(tereftalato de butileno) (diâmetro de cerda: 200 pm, comprimento de cerda: 17 mm) é usado, e rotacionado a 200 rotações por minuto na mesma direção como a direção de transporte (velocidade periférica na ponta da escova: 0,94 m/s). Além disso, para o segundo rolo de escova rotativa 11, um rolo de escova tendo um diâmetro externo de 60 mm e tendo implantadas nele fibras de poli(tereftalato de buti70

leno) (diâmetro de cerda: 200 pm, comprimento de cerda: 17 mm) é usado, e rotacionado a 200 rotações por minuto na direção oposta à direção de transporte (velocidade periférica na ponta da escova: 0,63 m/s). Com relação a transporte de precursor de placa de impressão litográfica exposto 30, o precursor de placa de im5 pressão litográfica 30 é transportado em placa de guia de transporte 14 provida no caminho de uma mesa de suprimento de placa 18 para uma mesa de descarga de placa 19 entre três pares de rolos de transporte 13 na direção de transporte mostrado na figura de maneira a passar entre os rolos de escova rotativa 11 e rolos de encosto opostos 12.

Uma solução de processamento armazenado em um tanque de solução de processamento 20 é suprida por meio de uma bomba de circulação 21 a quatro tubos de aspersão 15 por meio de uma tubulação 16 através de um filtro 17, e é suprido na face da placa pela ducha pelos tubos de aspersão 15. A solução de processamento pode ser reciclada.

Uma placa de impressão litográfica descarregada do processador é seca por um secador 22 sem ser lavada com água.

A direção de rotação do rolo de escova rotativa usado na presente invenção pode ser a mesma direção ou a direção oposta com relação à direção de transporte do precursor de placa de impressão litográfica, mas quando dois ou mais rolos de 20 escova rotativa são usados em um processador conforme mostrado na figura 1, é preferível que eles girem na direção oposta. A camada de formação de imagem na área de não imagem pode ser removida mais confiavelmente por um arranjo como esse. Além disso, oscilar o rolo de escova rotativa na direção eixo rotacional do rolo de escova é também efetivo para revelação.

Exemplos

A presente invenção é explicada a seguir por meio de Exemplos, mas a presente invenção não deve ser interpretada como limitada a eles. Nos Exemplos 'partes' significa 'partes em peso' a menos que de outra forma especificada.

Além disso, as figuras em baixo à direita dos parênteses mostrando a uni30 dade de manômeros nos polímeros mostrados nos Exemplos denotam razão molar a menos que de outra forma especificada.

(Preparação de dispersão aquosa de partículas de resina orgânica contendo sílica) (Preparação de dispersão aquosa Art Pearl J-7P)

A fim de melhorar a estabilidade da dispersão, 3,0 partes em peso de um agente tensoativo não iônico (Emalex 710, Nihon Emulsion Co., Ltd.) e 77,0 partes em peso de um dispersão de mica (MEB-3L, Co-op Chemical Co., Ltd., teor de sóli71

dos 3,4 %) foram adicionadas e misturadas. 20 partes em peso de partículas de resina acrílica de compósito de sílica reticulada (Art Pearl J-7P, Negami Chemical Industrial Co., Ltd., tamanho de partícula médio 6,6 pm) foram adicionadas a esta solução aquosa, e dispersão foi realizada usando um homogeneizador Ace fabrica5 do pela Nissei Corporation a 10.000 rpm por 15 minutos, dando assim dispersão aquosa 1 Art Pearl J-7P.

Art Pearl J-7P foi submetida a exame TEM e análise fluorescência por X raio, e confirmou-se que sílica estava presente na superfície. Esta dispersão aquosa foi usada como uma solução de revestimento para uma camada protetora que é 10 descrita a seguir.

<Preparação de precursor de placa de impressão litográfica A>

(Preparação de suporte 1)

O tratamento superficial descrito a seguir foi realizado usando uma placa de alumínio JIS A 1050 tendo uma espessura de 0,30 mm e um largura de 1.030 mm.

(Tratamento superficial)

Como o tratamento superficial, os vários tratamentos (a) a (f) a seguir foram realizados sucessivamente. Após cada tratamento e após lavagem com água, líquido foi removido por meio de um rolo com abertura de passagem.

(a) A placa de alumínio foi submetida a um tratamento de ataque químico com uma concentração de hidróxido de sódio de 26 % em peso e uma concentração de ion alumínio de 6,5 % em peso a 70 °C de maneira a dissolver 5 g/m² da placa de alumínio. Subsequentemente, lavagem com água foi realizada.

(b) Um tratamento de remoção de impureza foi realizado por meio de uma aspersão usando uma solução aquosa tendo uma concentração de ácido nítrico de

1 % em peso e uma temperatura de 30 °C (contendo 0,5 % em peso de ion alumínio), e em seguida esta lavagem com água foi realizada.

(c) Um tratamento eletroquímico de formação de aspereza superficial foi realizado usando consecutivamente uma voltagem de 60 Hz AC. Um líquido eletrolítico usado aqui foi uma solução aquosa 1 % em peso de ácido nítrico (contendo 0,5 % em peso de ion alumínio e 0,007 % em peso de ion amônio) a uma temperatura de 30 °C. O tratamento eletroquímico de formação de aspereza superficial foi realizado usando como uma fonte de corrente alternada uma corrente alternada de onda retangular trapezoidal tendo uma razão de trabalho de 1:1 e um tempo TP de zero até valor da corrente de pico de 2 msec, com um eletrodo de carbono como o contra 35 eletrodo. Ferrita foi usada como um anodo auxiliar. A densidade da corrente foi 25 A/dm² como um valor da corrente de pico, e a quantidade de eletricidade como a quantidade de eletricidade total quando a placa de alumínio foi o anodo foi 250

C/cm². 5 % da corrente que escoa da fonte de energia foram desviados para o anodo auxiliar. Subsequentemente, lavagem com água foi realizada.

(d) A placa de alumínio foi submetida a um tratamento de ataque químico a 35 °C por meio de uma aspersão a uma concentração de hidróxido de sódio de 26 % em peso e uma concentração de ion alumínio de 6,5 % em peso de maneira a dissolver 0,2 g/m² da placa de alumínio, remover um componente de fuligem contendo hidróxido de alumínio como um componente principal formado no estágio anterior durante a realização do tratamento eletroquímico de formação de aspereza usando corrente alternada, e dissolver uma porção da borda de um buraco formado para tornar assim a porção da borda lisa. Subsequentemente, lavagem com água foi realizada.

(e) Um tratamento de remoção de impureza foi realizado por meio de uma aspersão usando uma solução aquosa tendo uma concentração de ácido sulfúrico de 25 % em peso e uma temperatura de 60 °C (contendo 0,5 % em peso de ion alumínio), e em seguida esta lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão.

(f) Um tratamento anodizante foi realizado a uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L (contendo 0,5 % em peso de ion alumínio), uma temperatura de 33 °C, e um densidade elétrica da corrente de 5 (A/dm²) por 50 s. Depois disso, lavagem com água foi realizada. O peso do revestimento anodizado neste tempo foi 2,7 g/m².

A rugosidade da superfície Ra (rugosidade média da linha de centro) do suporte de alumínio assim obtida foi 0,27 pm (equipamento de medições; Surfcom, fabricado pela Tokyo Seimitsu Co., Ltd., diâmetro da ponta da sonda 2 micro metros).

Subsequentemente, solução de revestimento da camada intermediária (1) a seguir foi aplicada a um peso de revestimento seco de 10 mg/m² no suporte de alumínio que foi submetido a tratamento superficial supramencionado e seco.

Solução de revestimento da camada intermediária (1)

Composto (1) a seguir (peso molecular com média no peso: 50.000) 0,017 partes em peso

Metanol 9.00 partes em peso

Água 1,00 partes em peso [Fórmula química 28]

Composto (1)

(Preparação de precursor de placa de impressão litográfica)

Após uma solução de revestimento da camada de formação de imagem (camada fotossensível) ser aplicada por revestimento de barra no suporte provido com a camada intermediária anterior ela foi seca a 100 °C por 75 segundos em um forno, formando assim uma camada de formação de imagem (camada fotossensível) a um peso de revestimento seco de 1,0 g/m². a camada de formação de imagem foi revestida usando uma barra com solução de revestimento de camada protetora (1) tendo a composição a seguir a um peso de revestimento seco de 0,5 g/m², e então seca em um forno a 100 °C por 90 segundos, dando assim precursor de placa de impressão litográfica A.

Solução de revestimento da camada de formação de imagem (camada fotossensível) (1) foi obtida misturando e agitando as quantidades totais de solução fotossensível (1) e líquido de microcápsula (1) a seguir imediatamente antes do revestimento.

(Solução fotossensível (1))

Polímero ligante (1) a seguir (peso molecular com média no peso: 80.000)

0,162 partes em peso

Iniciador de polimerização (1) a seguir0,100 partes em peso

Agente de absorção infravermelho (1) a seguir0,020 partes em peso

Composto etilenicamente insaturadoAronix M315 (Toagosei Co., Ltd.)0,385 partes em peso (triacrilato de aduto de ácido isocianúrico com 3 rnols de óxido de etileno)

Agente tensoativo a base de flúor (1) a seguir (peso molecular com média no peso: 11.000)0,044 partes em peso

Violeta cristal (Hodogaya Chemical Co., Ltd.)0,050 partes em peso metil etil cetona1,091 partes em peso

1-metóxi-2-propanol8,609 partes em peso [Fórmula química 29]

Polímero ligante (1)

[Fórmula química 30]

Iniciador de polimerização

Agente de absorção infravermelho (1) [Fórmula química 32]

COOC^CeF^ C—(OC^Jn-íOCgHehí-íOCaH^i-OH

O

Agente tensoativo a base de flúor (1) (Líquido de microcápsula (1))

Microcápsulas (1) sintetizado como a seguir Água

2,640 partes em peso

2,425 partes em peso (Síntese de Microcápsulas ( 1))

Como um componente de fase oleosa, 10 partes em peso de um aduto de trimetilolpropano e di-isocianato de xileno (Takenate D-110N, 75 % solução de acetato de etila, Mitsui Takeda Chemicals, Inc.), 6,00 partes em peso de Aronix M-215 (Toagosei Co., Ltd.; bis(acriloiloxietil) mistura de isocianurato de tolueno), e 0,12 partes em peso de Pionina A-41C (Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) foram dissolvidos em 16,67 partes em peso de acetato de etila. Como um componente de fase aquosa, 37,5 partes em peso de uma solução aquosa de PVA-205 4 % em peso foi preparado. O componente de fase oleosa e o componente de fase aquosa foram misturados e emulsificados usando um homogeneizador a 12.000 rpm por 10 min. A emulsão resultante foi adicionada em 25 partes em peso de água destilada e a mistura foi agitada à temperatura ambiente por 30 minutos e em seguida agitada a 40 °C por 2 horas. O líquido de microcápsula obtido assim foi diluído com água destilada de maneira a ter uma concentração de teor de sólidos de 15 % em peso. O diâmetro de partícula médio foi 0,2 pm.

(Solução de revestimento de camada protetora (1))

Álcool polivinílico (solução aquosa 6 %) 2,24 partes em peso (CKS50, The Nippon Syntetic Chemical Industry Co., Ltd., grau de saponificação 98,5 %, grau de polimerização 300)

Agente tensoativo 2,15 partes em peso (Emalex 710, Nihon Emulsion Co., Ltd., solução aquosa 1 %)

Dispersão de mica (dispersão aquosa 3,4 %) 3,75 partes em peso (Mica sintética tipo escala, Co-op Chemical Co., Ltd. (Somasif MEB3L)) Dispersão aquosa 1 Art Pearl J-7P anterior 0,20 partes em peso

Água destilada10,60 partes em peso <Preparação de precursor de placa de impressão litográfica B> (Preparação de suporte 2) (Tratamento superficial)

Com relação ao tratamento superficial, tratamentos (a) a (k) a seguir foram realizados sucessivamente. Após cada tratamento e após lavagem com água, líquido foi removido por meio de um rolo com abertura de passagem.

(a) Tratamento de formação de aspereza mecânico

Usando o equipamento mostrado na figura 1, a superfície de uma placa de alumínio foi submetida a um tratamento de formação de aspereza mecânico por meio de uma escova de náilon em forma de rolo rotativo suprindo ao mesmo tempo uma suspensão de um abrasivo (pumice) tendo uma gravidade específica de 1,12 em água como uma lama abrasiva to a superfície da placa de alumínio. Na figura 1, 1 denota uma placa de alumínio, 2 e 4 denotam escovas em forma de rolo, 3 denota uma lama abrasiva, e 5, 6, 7, e 8 denotam rolos de suporte. O abrasivo teve um tamanho de partícula médio de 30 pm e um tamanho máximo de partícula de 100 pm. O material da escova de náilon foi náilon 6,10, o comprimento de cerda foi 45 mm, e o diâmetro das cerdas foi 0,3 mm. A escova de náilon foi formada fazendo furos em um tubo de aço inoxidável tendo um diâmetro de 300 mm e implantando densamente as cerdas. Três escovas rotativas foram usadas. A distância de dois rolos de suporte (Φ 200 mm) a seguir o escova foi 300 mm. Os rolos de escova foram prensados contra a placa de alumínio de forma que o carregamento em um motor de acionamento para girar as escovas aumentou por 7 kW a partir do carregamento antes de pressionar os rolos de escova. A direção de rotação das escovas foi a mesma da direção na qual a placa de alumínio moveu. A velocidade rotacional das escovas foi 200 rpm.

(b) Tratamento de ataque químico alcalino

A placa de alumínio obtida anteriormente foi submetida a um tratamento de ataque químico pulverizando uma solução aquosa com uma concentração de hidróxido de sódio de 2,6 % em peso e uma concentração de ion alumínio de 6,5 % em peso a 70 °C de maneira a dissolver 10 g/m² da placa de alumínio. Subsequente5 mente, lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão.

(c) Tratamento de remoção de impureza

Um tratamento de remoção de impureza foi realizado por meio de uma aspersão usando uma solução aquosa tendo uma concentração de ácido nítrico de 1 % em peso e uma temperatura de 30 °C (contendo 0,5 % em peso de alumínio ion), e em seguida esta 10 lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão. A solução aquosa de ácido nítrico usada no tratamento de remoção de impureza empregado resíduo líquido da etapa envolvendo realizar o tratamento eletroquímico de formação de aspereza usando corrente alternada em uma solução aquosa de ácido nítrico.

(d) Tratamento eletroquímico de formação de aspereza superficial

Um tratamento eletroquímico de formação de aspereza superficial foi realizado consecutivamente usando uma voltagem de 60 Hz AC. Um líquido eletrolítico usado aqui foi uma solução aquosa de ácido nítrico 10,5 g/L (contendo 5 g/L de ion alumínio e 0,007 % em peso de ion amônio) a uma temperatura líquida de 50 °C. O tratamento eletroquímico de formação de aspereza superficial foi realizado usando 20 uma corrente alternada de onda retangular trapezoidal tendo uma corrente alternada em forma de onda mostrada na figura 2 com uma razão de trabalho de 1:1 e um tempo TP de zero até o valor da corrente de pico de 0,8 msec, com um eletrodo de carbono como o contra eletrodo. Ferrita foi usada como um anodo auxiliar.

A densidade da corrente foi 30 A/dm² como um valor da corrente de pico, e 25 a quantidade de eletricidade como a quantidade total de eletricidade quando a placa de alumínio foi o anodo, foi 220 C/dm². 5 % da corrente que escoa da fonte de energia foram desviados para o anodo auxiliar. Depois disso, lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão.

(e) Tratamento de ataque químico alcalino

A placa de alumínio foi submetida to um tratamento de ataque químico at

32°C por meio de uma aspersão com uma solução aquosa tendo uma concentração de hidróxido de sódio de 26 % em peso e um ion alumínio concentração de 6,5 % em peso de maneira a dissolve 0,50 g/m² de a placa de alumínio, removem um componente de fuligem contendo hidróxido de alumínio como um componente prin35 cipal formado em o estágio anterior durante a realização o eletroquímico tratamento de formação de aspereza usando corrente alternada, e dissolve uma porção da borda de um buraco formado para tornar assim a porção da borda lisa. Subsequente77 mente, lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão.

(f) Tratamento de remoção de impurezas

Um tratamento de remoção de impurezas foi realizado por meio de uma aspersão usando uma solução aquosa tendo uma concentração de ácido nítrico de 15 % em peso e uma temperatura de 30 °C (contendo 4,5 % em peso de íon alumínio), e em seguida esta lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão. A solução aquosa de ácido nítrico usada no tratamento de remoção de impureza empregou resíduo líquido da etapa envolvendo realizar o tratamento eletroquímico de desbaste usando corrente alternada em uma solução aquosa de ácido nítrico.

(g) Tratamento eletroquímico de formação de aspereza superficial

Um tratamento eletroquímico de formação de aspereza superficial foi realizado consecutivamente usando uma voltagem de 60 Hz AC. Um eletrolítico líquido usado aqui foi uma solução aquosa de ácido clorídrico 5,0 g/L (contendo 5 g/L de íon alumínio) a uma temperatura líquida de 35 °C. O tratamento eletroquímico de formação de aspereza superficial foi realizado usando uma corrente alternada de onda retangular trapezoidal tendo uma corrente alternada em forma de onda com uma razão de trabalho de 1:1 e um tempo TP de zero até valor da corrente de pico de 0,8 msec, com um eletrodo de carbono como o contra eletrodo. Ferritea foi usada como um anodo auxiliar.

A densidade da corrente foi 25 A/dm² como um valor da corrente de pico, e a quantidade de eletricidade como a quantidade total de eletricidade quando a placa de alumínio foi o anodo, foi 50 C/dm². Depois disso, lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão.

(h) Tratamento de ataque químico alcalino

A placa de alumínio foi submetida a um tratamento de ataque químico a 32 °C por meio de uma aspersão com uma solução aquosa tendo uma concentração de hidróxido de sódio de 26 % em peso e uma concentração de íon alumínio de 6,5 % em peso de maneira a dissolver 0,10 g/m² da placa de alumínio, remover um componente de fuligem contendo hidróxido de alumínio como um componente principal formado no estágio anterior durante a realização do tratamento eletroquímico de formação de aspereza usando corrente alternada, e dissolver uma porção da borda de um buraco formado para tornar assim a porção da borda lisa. Subsequentemente, lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão.

(i) Tratamento de remoção de impurezas

Um tratamento de remoção de impurezas foi realizado por meio de uma aspersão usando uma solução aquosa tendo uma concentração de ácido sulfúrico de 25 % em peso e uma temperatura de 60 °C (contendo 0,5 % em peso de íon alumínio), e em seguida esta lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão.

(j) Tratamento anodizante

Um tratamento anodizante foi realizado usando um sistema anodizante (primeiro e segundo comprimentos de seção de eletrólise 6 m cada um, primeiro e segundo comprimentos de seção de suprimento de potência 3 m cada qual, primeiro e segundo comprimentos 5 de seção de suprimento de potência de eletrodo 2,4 m cada qual). Como líquidos eletrolíticos supridos nas primeira e segunda seções de eletrólise, ácido sulfúrico foi usado. Os líquidos eletrolíticos tanto tiveram uma concentração de ácido sulfúrico de 50 g/L (contendo 0,5 % em peso de íon alumínio) quanto uma temperatura de 20 °C. Subsequentemente, lavagem com água foi realizada por meio de uma aspersão.

(k) Tratamento de silicato de metal alcalino

O suporte de alumínio obtido pelo tratamento anodizante foi imerso em um vaso de tratamento com um 1 % em peso de solução aquosa de silicato de sódio No. 3 a uma temperatura de 30 °C por 10 segundos, realizando assim um tratamento de silicato de metal alcalino (tratamento de silicato). Subsequentemente, lavagem com água foi realizada por 15 meio de uma aspersão usando água de poço, preparando assim um suporte que foi submetido a um tratamento de hidrofilização silicato superficial.

(Formação de camada intermediária)

O suporte usado nos Exemplos a seguir foi preparado por revestimento com a solução de revestimento da camada intermediária (1) anterior a um peso de re20 vestimento seco de 10 mg/m² e secagem.

(Formação de camada fotossensível)

Solução de revestimento de camada fotossensível A foi preparada da maneira a seguir e aplicada na camada intermediária formada da maneira anterior por meio de uma barra espiralada com arame. Secagem foi realizada usando um secador de ar quente a 125 25 °C por 34 segundos. A cobertura após a secagem foi 1,4 g/m².

(Solução de revestimento de camada fotossensível A)

Absorvedor de IR (IR-1) 0,038 partes em peso

Iniciador de polimerização A (S-1) 0,061 partes em peso

Iniciador de polimerização B (1-1) 0,094 partes em peso

Composto mercapto (E-1) 0,015 partes em peso

Composto etilenicamente insaturado (M-1) 0,425 partes em peso (A-BPE-4, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)

Polímero ligante A (B-1) (peso molecular com média no peso = 110.000)

0,311 partes em peso

Polímero ligante B (B-2) (peso molecular com média no peso = 100.000)

0,250 partes em peso

Polímero ligante C (B-3) (peso molecular com média no peso = 120.000)

0,062 partes em peso

Aditivo (T-1 )0,079 partes em peso

Inibidor de polimerização (Q-1 )0,0012 partes em peso

Violeta de etila (EV-1 )0,021 partes em peso

Agente tensoativo a base de flúor0,0081 partes em peso (Megafac F-780-F, Dai-Nippon Ink & Chemicals, Inc., metil isobutil cetona (MIBK) 30 % em peso de solução)

Metil etil cetona5,886 partes em peso

Metanol 2,733 partes em peso

1-metóxi-2-propanol5,886 partes em peso

As estruturas do absorvedor de IR (IR-1), iniciador de polimerização A (S-1), iniciador de polimerização B (1-1), o composto mercapto (E-1), o composto polimerizável (M-1), polímero ligante A (B-1), polímero ligante B (B-2), polímero ligante C (B-3), o aditivo (T-1), o inibidor de polimerização (Q-1), e Violeta de etila (EV-1) usados na solução de revestimento 15 de camada fotossensível A são mostrados a seguir.

[Fórmula química 33]

[Fórmula química 34]

(B- 2)

H [Fórmula química 35] (B-3)

(Valor médio de n: 17

[Fórmula química 36]

(Τ — 1 )

_zch₂conh

Ν

^xch₂cooh

(Formação da camada protetora inferior)

A camada fotossensível assim formada foi revestida com uma solução aquosa misturada (solução de revestimento de formação de camada protetora inferior) de mica sintética (Somasif MEB-3L, dispersão aquosa 3,2 %, Co-op Chemical 5 Co., Ltd.), álcool polivinílico (Gohseran CKS-50, grau de saponificação 99 mois %, grau de polimerização 300, álcool polivinílico sulfônico modificado por ácido, O Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), agente tensoativo A (Emalex 710, Nihon-Emulsion Co., Ltd.), e agente tensoativo B (Adeka Pluronic P-84: ADEKA Corp.) usando uma barra espiralada com arame, e seca a 125 °C por 30 segundos usando 10 um secador de ar quente.

A mica sintética (teor de sólidos)/álcool polivinílico/agente tensoativo A/razão de teor do agente tensoativo B nesta solução aquosa misturada (solução de revestimento de formação de camada protetora inferior) foi 7,5/89/2/1,5 (% em peso), e a quantidade revestida (cobertura após secagem) foi 0,5 g/m².

(Formação de camada protetora superior)

Uma solução aquosa misturada (solução de revestimento de formação de camada protetora superior) de carga orgânica (Art Pearl J-7P, Negami Chemical Industrial Co., Ltd.), mica sintética (Somasif MEB-3L, 3,2 % dispersão aquosa, Co83

op Chemical Co., Ltd.), álcool polivinílico (L-3266: grau de saponificação 87 mois %, grau de polimerização 300, sulfônico álcool polivinílico modificado por ácido, O Nippon Sintéticas Chemical Industry Co., Ltd.), espessador (Cellogen FS-B, Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), e agente tensoativo (Emalex 710, Nihon-Emulsão Co., Ltd.), foi aplicada na camada protetora inferior usando um wire-wound barra e seco at 125 °C por 30 segundos usando um secador de ar quente.

A carga orgânica/mica sintética (teor de sólidos)/álcool polivinílico/espessaante/razão de teor de agente tensoativo nesta solução aquosa misturada (solução de revestimento de formação de camada protetora superior) foi 3,2/2,0/80,5/11,5/2,8 (% em peso), e a quantidade revestida (cobertura após a secagem) foi 1,76 g/m².

<Preparação de precursor de placa de impressão litográfica C>

A camada intermediária a seguir foi provida no suporte 1 como no precursor de placa de impressão litográfica A.

(Formação de camada intermediária)

Uma placa de alumínio submetida ao tratamento de formação de aspereza superficial de campo elétrico supramencionado foi revestida usando um revestidor de barra com a solução da camada intermediária anterior e seca a 80 °C por 20 segundos. O peso de revestimento seco da camada intermediária foi 25 mg/m².

(Solução de revestimento da camada intermediária)

Sol líquido anterior 100 partes em peso

Metanol 900 partes em peso (Sol líquido)

Phosmer PE (Uni-Chemical Co., Ltd.) 5 partes em peso

Metanol 45 partes em peso

Água 10 partes em peso % em peso de fosfórico ácidoõ partes em peso

Tetraetoxiisilano20 partes em peso 3-metacriloxipropiltrimetoxisilano 15 partes em peso (Formação de camada de formação de imagem)

A camada intermediária formada no suporte foi revestida com composição P-1 anterior a um peso de revestimento seco de 1,4 g/m² e seca a 100 °C por 1 minuto, formando assim uma camada de formação de imagem.

(Composição P-1) (C) Composto polimerizável tendo ligação de uretano e uma pluralidade de ligações etilenicamente insaturadas (AM-1) 4,2 partes em peso (D) Ligante de poliuretano (BT-1) (peso molecular com média no peso:

120,000)3,6 partes em peso (a) Agente de absorção infravermelho (IR-1 )0,31 partes em peso (B) Sal de ônio (OS-12)1,2 partes em peso □ -Ftalocianina dispersão 0,92 partes em peso

Agente tensoativo a base de flúor não iônico Megafac F780 (Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated) 0,05 partes em peso

Metil etil cetona 62 partes em peso

Acetato éter propileno glicol monometil57 partes em peso [Fórmula química 37]

(IR-1)

COOH/₂5

(ΒΙ-Ί) [Fórmula química 39]

(ΑΜ-1)

(Formação de camada protetora)

A superfície de camada de formação de imagem foi revestida usando uma barra espiralada com arame com uma solução aquosa misturada de álcool polivinílico (grau de saponificação 98 rnols %, grau de polimerização 500) e polivinil pirrolidona (Luviskol K-30, BASF) e seca usando um secador de ar quente a 125 °C por 75 segundos para formar uma camada protetora, preparando assim um precursor de placa de impressão litográfica (precursor de placa de impressão litográfica funcional negativa). O álcool polivinílico/razão de teor de polivinil pirrolidona foi 4/1 (razão em peso), e o peso revestido (cobertura após secagem) foi 2,45 g/m².

(Formação de camada de revestimento de fundo)

Uma camada de revestimento de fundo foi provida ao lado do precursor de placa de impressão litográfica A ou B aposto ao lado provido com a camada fotossensível e camada protetora da mesma maneira como no Exemplo 1 de JP-A-635174.

(Métodos de avaliação) (1) Avaliação de fabricação de placa <Fabricação de placa-1: precursor de placa de impressão litográfica A, B >

Os precursores de placa de impressão litográfica A e B assim obtidos foram submetidos a etapas de exposição, processamento de revelação, e secagem em sequência.

Exposição para formação de imagem foi realizada usando como uma fonte de exposição de luz (tipógrafo) um laser semicondutor IR (Creo Trendsetter 3244VX: equipado com um laser semicondutor 40 W IR) resfriado por água em condições de uma saída de 9 W, uma velocidade rotacional de externa face do tambor de 210 rpm, e uma resolução de 2,400 dpi.

Depois da exposição, e sem realizar um tratamento térmico ou uma lavagem com água tratamento, processamento de revelação foi realizado em 30 segundos em um processador automático tendo a estrutura mostrada na figura 2, usando cada uns dos reveladores com as composições a seguir. O processador automático teve dois rolos de escova rotativa, o primeiro rolo de escova foi um rolo de escova tendo um diâmetro externo de 50 mm e tendo implantadas nele fibras de poli(tereftalato de butileno) (diâmetro de cerda: 200 pm, comprimento de cerda: 17

mm), e o rolo de escova foi rotacionado a 200 rpm na mesma direção como a direção de transporte (velocidade periférica na ponta da escova: 0,52 m/s). O segundo rolo de escova foi um rolo de escova tendo um diâmetro externo de 50 mm e tendo implantadas nele fibras de poli(tereftalato de butileno) (diâmetro de cerda: 200 pm, comprimento de cerda: 17 mm), e o rolo de escova foi rotacionado a 200 rpm na direção oposta da direção de transporte (velocidade periférica na ponta da escova: 0,52 m/s). Transporte do precursor de placa de impressão litográfica foi realizado a uma velocidade de transporte de 100 cm/minuto.

O revelador foi suprido na superfície da placa pela ducha de um tubo de aspersão usando uma bomba de circulação. O volume do tanque para o revelador foi 10 litros.

<Fabricação de placa-2: precursor de placa de impressão litográfica C>

O precursor de placa de impressão litográfica C obtido foi submetido a exposição, pré-aquecimento, processamento, e secagem em sequência. Exposição foi realizada pelo mesmo método como na fabricação de placa-1.

Subsequentemente, em 30 segundos, pré-aquecimento foi realizado a 100 °C por 30 segundos, e processamento foi então realizado em um processador automático tendo a estrutura mostrada na figura 2 usando cada um dos reveladores com as composições a seguir. Depois disso, processamento foi realizado em 30 segundos em um processador automático usando cada um dos reveladores com as composições a seguir. O processador automático foi usado pelo mesmo método como na fabricação de placa-1.

Na fabricação de placa-1 e -2, 'processamento de revelação' significa processamento combinado que inclui, além da revelação de uma camada de formação de imagem, realizar cada de remoção de uma camada protetora e engomagem. Uma etapa de lavagem a água não foi realizada tanto antes quanto depois do processamento.

As composições das soluções o processamento usado são mostradas a seguir.

Solução de processamento No. 1 (pH 9,7)

Água 8329,8 partes em peso

Carbonato de sódio 130 partes em peso

Bicarbonato de sódio 70 partes em peso

Newcol B13 (Nippon Nyukazai Co., Ltd.) 500 partes em peso

Goma arábica (peso molecular com média no peso 200,000) 250 partes em peso amido hidroxialquilado (Penon JE66, Nippon Starch Chemical Co.) 700 par/¾^¾¾¾¾ tes em peso

Fosfato de monoamônio 20 partes em peso

2-bromo-2-nitropropano-1,3-diol 0,1 partes em peso 2-metil-4-isotiazolin-3-ona 0,1 partes em peso

Solução de processamento No. 2 (pH 9,7)

Água 8619,8 partes em peso

Carbonato de sódio 200 partes em peso

Bicarbonato de sódio 100 partes em peso

Newcol B4SN (Nippon Nyukazai Co., Ltd.) 400 partes em peso

Goma arábica (peso molecular com média no peso 200,000) 400 partes em peso

Amido modificado por ácido fosfórico (Petrocoat HN25, Nippon Starch Chemical Co.) 200 partes em peso

Sal de tetrasódio do ácido etilenodiaminatetra-acético 80 partes em peso 2-bromo-2-nitropropano-1,3-diol 0,1 partes em peso 2-metil-4-isotiazolin-3-ona 0,1 partes em peso

Solução de processamento No. 3 (pH 9,7)

Água8260 partes em peso

Carbonato de potássio 150 partes em peso

Bicarbonato de potássio 80 partes em peso

Eleminol MON (100 % de conversão, Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 350 partes em peso

Dextrina amarela (Red Bali Dextrin 102, Nippon Starch Chemical Co.) 800 partes em peso

Fosfato de monoamônio 180 partes em peso

Hexametafosfato de sódio 180 partes em peso

Solução de processamento No. 4 (pH 9,5)

Água 8460 partes em peso

Carbonato de sódio 200 partes em peso

Bicarbonato de sódio 140 partes em peso

Pionina D310 (Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) 450 partes em peso Metilcelulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 150 partes em peso Dextrina decomposta por enzima- (Amycol, Nippon Starch Chemical Co.)

600 partes em peso

Solução de processamento No. 5 (pH 9,8)

Água 8179,8 partes em peso

Carbonato de sódio 200 partes em peso

Bicarbonato de sódio 80 partes em peso

Pelex NBL (100 % de conversão, Kao Corporation) 500 partes em peso

Amido esterificado por ácido octenilsuccínico 900 partes em peso (Natural Nisk, Nippon Starch Chemical Co.)

Ácido cítrico 40 partes em peso

Fosfato de monoamônio 20 partes em peso

Propileno glicol 80 partes em peso

Solução de processamento No. 6 (pH 9,5)

Água 8150 partes em peso

Carbonato de sódio 160 partes em peso

Bicarbonato de sódio 160 partes em peso

Pionina C157K (100 % de conversão, Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.)

500 partes em peso

Polivinilpirrolidona (Nippon Shokubai Co., Ltd.) 850 partes em peso

Hexametafosfato de sódio 180 partes em peso

Solução de processamento No. 7 (pH 9,4)

Água 8349,8 partes em peso

Carbonato de sódio 60 partes em peso

Bicarbonato de sódio 240 partes em peso

Pionina B111 (Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) 400 partes em peso Metilcelulose (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 950 partes em peso 2-bromo-2-nitropropano-1,3-diol 0,1 partes em peso 2-metil-4-isotiazolin-3-ona 0,1 partes em peso

Solução de processamento No. 8 (pH 10,7)

Água 8359,8 partes em peso

Carbonato de potássio 150 partes em peso

Bicarbonato de potássio 20 partes em peso

Newcol B13 (Nippon Nyukazai Co., Ltd.) 500 partes em peso

Goma arábica (peso molecular com média no peso 200.000) 250 partes em peso

Amido hidroxialquilado (Penon JE66, Nippon Starch Chemical Co.) 700 partes em peso

Fosfato de monoamônio 20 partes em peso

Solução de processamento No. 9 (pH 8,7)

Água8350 partes em peso

Carbonato de potássio 10 partes em peso

Bicarbonato de potássio 130 partes em peso

Dextrina amarela (Red Bali Dextrina 102, Nippon Starch Chemical Co.) 800 partes em peso

Fosfato de monoamônio 180 partes em peso

Hexametafosfato de sódio 180 partes em peso

Solução de processamento No. 1 (pH 9,9) para exemplo comparativo

Água 9279,8 partes em peso

Carbonato de sódio 130 partes em peso

Bicarbonato de sódio 70 partes em peso

Newcol B13 (Nippon Nyukazai Co., Ltd.) 500 partes em peso

Fosfato de monoamônio 20 partes em peso

2-bromo-2-nitropropano-1,3-diol 0,1 partes em peso

2-metil-4-isotiazolin-3-ona 0,1 partes em peso

Solução de processamento No. 2 (pH 11,9) para exemplo comparativo

Água 8519 partes em peso

Carbonato de potássio 17 partes em peso

Hidróxido de potássio (48 %) 14 partes em peso

Newcol B13 (Nippon Nyukazai Co., Ltd.) 500 partes em peso

Goma arábica (peso molecular com média no peso 200.000) 250 partes em peso

Fosfato de monoamônio 20 partes em peso

2-bromo-2-nitropropano-1,3-diol 0,1 partes em peso

2-metil-4-isotiazolin-3-ona 0,1 partes em peso

As placas de impressão litográfica assim obtidas foram montadas em uma máquina de impressão SOR-m (Heidelberg), e impressão foi realizada a uma velocidade de impressão de 6.000 folhas por hora usando água de umidescimento (EU3 (líquido de ataque químico, Fuji Photo Film Co., Ltd.))/água/isopropil álcool = 1/89/10 (razão em volume)) e TRANS-G(N) tinta preta (Dai-Nippon Ink & Chemicals, Inc.).

Avaliação

Capacidade de revelação, processabilidade, e vida da placa foram avaliados da maneira a seguir usando o precursor de placas de impressão litográfica assim obtido.

Impressão foi realizada da maneira descrita anteriormente usando cada placa de impressão litográfica, e desuniformidade de uma imagem de tingimento em tela (desuniformidade de densidade de tinta) por causa de manchamento em uma área de não imagem do 1.000- material impresso foi avaliada. Quando houve desuniformidade de densidade de tinta em uma imagem de tingimento de tela: Fraca, quando houve leve desuniformidade de densidade de tinta em uma imagem de tingimento em tela, mas a um nível permissível: Satisfatório, e quando não houve desuniformidade de densidade de tinta em uma imagem de tingimento em tela e uma boa imagem foi obtida: Boa.

Quando 500 m² foram processados da maneira descrita anteriormente por 1 semana usando cada precursor de placa de impressão litográfica, a incidência de resíduo anexado a uma parede do vaso de um processador automático foi visualmente examinada. O resíduo assim gerado foi principalmente devido ao ligante da camada protetora. Onde não havia nenhum resíduo: Boa, quando havia resíduo, mas a um nível permissível: satisfatória, e quando a ocorrência de resíduo foi marcada: fraca.

Impressão foi realizada da maneira descrita anteriormente usando cada placa de impressão litográfica, e manchamento de blanqueta da área de não imagem após 10.000 folhas serem impressas, foi visualmente avaliado. As propriedades de prevenção de mancha foram avaliadas usando três critérios de Boa, Satisfatória, e Fraca nessa ordem com pequeno manchamento de blanqueta. Quando não houve nenhum manchamento: Boa, quando dificilmente houve qualquer manchamento: Satisfatória, e quando houve manchamento: Fraca.

Uma vez que, a medida que o número de impressões aumenta, a imagem da camada fotossensível formada na placa de impressão litográfica é gradualmente desgastada e as propriedades de recebimento de tinta são degradadas, a densidade de tinta da imagem no pape! impresso diminui. A vida da placa foi avaliada usando inúmeras folhas impressas antes da densidade da tinta diminuir em 0,1 (densidade de reflexão) em relação a quando a impressão começou.

Avaliação da vida da placa foi realizada após a exposição e revelação. Além disso, depois que uma placa de impressão litográfica foi feita, ela foi deixada descansar à temperatura ambiente por 1 semana, impressão foi realizada nas condições supramencionadas, e a vida da placa (depois de 1 semana) foi avaliada da mesma maneira.

Os resultados são sumarizados na Tabela 1.

(Tabela 1)

No. do Experi mento	precursor de impressão da placa Litográfica	Solu ção de proces sarnento	Capacidade de revelação	Capacidade do processo	Propriedades de prevenção de mancha	Vida da placa (x1000)
Imediatamente depois de a placa feita	Após 1 se- mana
Exemplo 1	A	1	Boa	Boa	Boa	50	50
Exemplo 2	A	2	Boa	Boa	Boa	50	45
Exemplo 3	A	3	Boa	Boa	Boa	50	50
Exemplo 4	A	4	Boa	Boa	Boa	50	45
Exemplo 5	A	5	Boa	Boa	Boa	50	50
Exemplo 6	A	6	Boa	Boa	Boa	50	50
Exemplo 7	A	7	Boa	Boa	Boa	50	50
Exemplo 8	B	1	Boa	Boa	Boa	70	60
Exemplo 9	B	2	Boa	Boa	Boa	80	70
Exemplo 10	B	3	Boa	Boa	Boa	65	60
Exemplo 11	B	4	Boa	Boa	Boa	60	55
Exemplo 12	B	5	Boa	Boa	Boa	70	60
Exemplo 13	B	6	Boa	Boa	Boa	65	65
Exemplo 14	B	7	Boa	Boa	Boa	60	60
Exemplo 15	C	1	Satisfatória	Boa	Boa	60	80
Exemplo 16	C	2	Satisfatória	Boa	Boa	80	80
Exemplo 17	C	3	Satisfatória	Boa	Boa	55	90

Exemplo 18	C	4	Satisfatória	Boa	Boa	50	80
Exemplo 19	C	5	Satisfatória	Boa	Boa	50	70
Exemplo 20	C	6	Satisfatória	Boa	Boa	55	75
Exemplo 21	C	7	Satisfatória	Boa	Boa	50	70
Exemplo 22	A	8	Boa	Boa	Boa	50	45
Exemplo 23	A	9	Boa	Boa	Boa	60	60
Comp. Ex. 1	A	Comp. Ex. 1	Satisfatória	Boa	Fraca	50	50
Comp. Ex. 2	A	Comp. Ex. 2	Satisfatória	Fraca	Satisfa tória	60	15
Comp. Ex. 3	B	Comp. Ex. 1	Satisfatória	Boa	Fraca	70	60
Comp. Ex. 4	B	Comp. Ex. 2	Fraca	Fraca	Satisfa tória	80	20
Comp. Ex. 5	C	Comp. Ex. 1	Satisfatória	Boa	Fraca	60	70
Comp. Ex. 6	C	Comp. Ex. 2	Fraca	Fraca	Satisfa tória	80	40

REIVINDICAÇÕES

Claims

1. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende:

uma etapa de preparação para preparar um precursor de placa de impressão litográfica tendo, acima de um suporte hidrofílico, uma camada de formação de imagem compreendendo (i) um agente de absorção infravermelho, (ii) um iniciador de polimerização, (iii) um composto etilenicamente insaturado, e (iv) um polímero ligante;

uma etapa de exposição para expor o precursor de placa de impressão litográfica para formação de imagem; e uma etapa de processamento para processar o precursor de placa de impressão litográfica exposto para formação de imagem usando uma solução de processamento compreendendo um sal de carbonato de metal alcalino, um sal de bicarbonato de metal alcalino, e um composto polímero solúvel em água, em que a solução de processamento tem um pH na faixa de 8,5 a 10,8, e a quantidade total do sal de carbonato e do sal de bicarbonato é 1 a 20% em peso em relação ao peso da solução de processamento.

2. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a exposição para formação de imagem é realizada por meio de um laser próximo ao infravermelho ou infravermelho que emite luz a 760 a 1.200 nm.

3. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, CARACTERIZADO pelo fato de que o polímero ligante (iv) tem um grupo ácido em uma cadeia lateral.

4. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 3, CARACTERIZADO pelo fato de que o grupo ácido é um grupo ácido carboxílico.

5. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, CARACTERIZADO pelo fato de que o precursor de placa de impressão litográfica tem uma camada protetora acima da camada de formação de imagem.

6. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 5, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada protetora compreende um álcool polivinílico modificado por ácido.

7. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, CARACTERIZADO pelo fato de que a etapa de processamento é uma etapa de realizar o processamento de revelação e

Petição 870190068345, de 19/07/2019, pág. 10/11 processamento de engomagem usando ao mesmo tempo uma única solução.

8. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, de acordo com a reivindicação 5 ou 6, CARACTERIZADO pelo fato de que a etapa de processamento é uma etapa de realização da remoção da camada protetora, processa-

5 mento de revelação, e processamento de engomagem usando ao mesmo tempo uma única solução.

9. Processo para fabricar uma placa de impressão litográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, CARACTERIZADO pelo fato de que uma etapa de lavagem a água não é realizada nem antes nem depois da etapa de

10 processamento.