MX2007016039A - Metodos, sistemas y materiales de fabricacion de nanoparticulas. - Google Patents

Abstract

Se moldean nanopartículas en moldes de nanoescala fabricados de materiales poliméricos de baja energía superficial no humectantes. Las nanopartículas pueden incluir composiciones farmacéuticas, identificadores, agentes de contraste, fármacos biológicos, composiciones de fármacos, materiales orgánicos y similares. Los moldes pueden ser de virtualmente cualquier forma y de menos de 10 micrones de diámetro en la sección transversal.

Description

METODOS o SISTEMAS Y MATERIALES DE FABRICACION DIE MANOPARTICULAS Campo de la Invención En general, esta invención se refi-ere a la fabricación de partículas en escala micro y/o nano. De manera más específica, se describen moldes para moldear partículas en escala micro y nano, así como, partículas fabricadas de los moldes .

Abreviaciones °C = grado Celsius cm = Centímetro DBTDA = diacetato de dibutilestaño DMA = dimetilacrilato DMPA = 2 , 2-dimetoxi-2-fenilacetofenona EIM = metacrilato de 2-isocianatoetilo FEP = etilen-propileno fluorado Freon 113 = 1 , 1 , 2-triclorotrifluoroetano G = gramos H = horas Hz = hercios IL = litografía de impresión kg = kilogramos REF.: 188502 kHz = kilohercios kPa = kilopascales CP = impresión por microcontacto MEMS = sistema micro-electro-mecánioo MHz = megahercios MIMIC = micro-moldeo en capilares itiL = mililitros mm = milímetros mmol = milimóles mN = mili-Newton m.p. = punto de fusión mW = milivatios N C = moldeo de nano-contacto NIL = litografía de nanoimpresión nm = nanómetros PD S = polidimetilsiloxano PEG = poli (etilenglicol) PFPE = perfluoropoliéter PLA = poli (ácido láctico) PP = polipropileno Ppy = poli(pirrol) psi = libras por pulgada cuadrada PVDF = poli ( fluoruro de vinilideno) PTFE = politetrafluoroetileno SAMIM = micro-moldeo asistido por solvente SEM = microscopía electrónica de exploración S-FIL = litografía de impresión "gradual y rápida" Si = silicio Tg = temperatura de transición vitrea Tm = temperatura de fusión cristalina TMPTA = triacrilato de trimetilolpropano ?? = micrómetros UV = ultravioleta W = vatios ZDOL = poli (óxido de tetrafluoroetileno-co-óxido de difluorometileno )a, ?-diol Antecedentes de la Invención La disponibilidad de procesos viables de nanofabricación es un factor clave para llegar a entender el potencial de las nanotecnologías . En particular, la disponibilidad de procesos viables de nanofabricación es importante a los campos de fotónica, electrónica y proteómica. Las técnicas tradicionales de litografía de impresión (IL) son una alternativa a la fotolitografía para elaboración de circuitos integrados, dispositivos micro- y nano-fluídicos , y otros dispositivos con características de tamaño en micrómetros y/o nanómetros. Existe la necesidad en la técnica, sin embargo, de nuevos materiales para avanzar en las técnicas de IL. Ver Xia, Y . , et al . , Angew. Chem. Int. Ed. , 1998, 37, 550-575; Xia, Y., et al., Chem. Rev. , 1999, 99, 1823-1848; Resnick, D. J., et al., Semiconductor International, Junio de 2002, 71-78; Choi, K. M. , et al., J". Am. Chem. Soc. , 2003, 125, 4060-4061; McClelland, G. M. , et al . , Appl. Phys. Lett., 2002, 81, 1483; Chou, S. Y., et al., J. Vac. Sci. Technol. B, 1996, 14, 4129; Otto, M. , et al . , Microelectron. Eng. , 2001, 57, 361; y Bailey, . , et al. , J. Vac. Sci. Technol., B, 2000, 18, 3571. La litografía de impresión incluye al menos -dos áreas: (1) técnicas litográficas blandas, ver Xia, Y . , et al . , Angew, Chem. Int. Ed. , 1998, 37, 550-575, tal como micro-moldeado asistido por solvente (SAMIM) ; micro-moldeado en capilares (MIMIC) ; e impresión de microcontacto (MCP) ; y (2) técnicas litográficas de impresión rígida, tal como moldeado por nano-contacto (NCM) , ver McClelland, G. M. , et al . , Appl. Phys. Lett., 2002, 81, 1483; Otto, M. , et al . , Microelectron. Eng., 2001, 57, 361; impresión litográfica "gradual y rápida" (S-FIL) , ver Bailey, T. , et al . , J". Vac. Sci. Technol., B, 2000, 18, 3571; y litografía de nanoimpresion (NIL), ver Chou, S. Y. , et al . , J. Vac. Sci. Technol. B, 1996, 14, 4129. Las redes basadas en polidimetilsiloxano (PDMS) han sido el material de elección para mucho del trabajo en litografía blanda. Ver Quake, S . R. , et al . , Science, 2000, 290, 1536; Y. N. Xia y G. M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed.

Engl. 1998, 37, 551; y Y. N. Xia, et al . , Chem. Rev. 1999, 99, 1823. El uso de materiales elastoméricos , blandos, tal como PDMS, ofrece varias ventajas para técnicas litográficas. Por ejemplo, el PDMS es altamente transparente a radiación ultravioleta (UV) y tiene un módulo de Young muy bajo (aproximadamente 750 kPa) , que le da la flexibilidad requerida para contacto conformado, aun sobre irregularidades superficiales, sin el potencial de agrietamiento. En contraste, el agrietamiento puede presentarse con moldes hechos de materiales quebradizos, de alto módulo, tal como silicio y vidrio grabado al ácido. Ver, Bietsch, A., et al . , J. Appl. Phys., 2000, 88, 4310-4318. Adicionalmente, la flexibilidad en un molde facilita la liberación fácil del molde de originales y réplicas sin agrietamiento y permité que el molde resista múltiples pasos de impresión sin dañar los rasgos frágiles. Adicionalmente, muchos materiales elastoméricos blandos son permeables a gas, una propiedad que se puede usar para tener ventaja para aplicaciones litográficas blandas. Aunque el PDMS ofrece algunas ventajas en aplicaciones de litográfica, blandas, varias propiedades inherentes al PDMS limitan severamente sus capacidades en litografía blanda. Primeramente, los elastómeros basados en PDMS se hinchan cuando se exponen a muchos compuestos solubles orgánicos. Ver Lee, J . . , et al . , Anal. Chem. , 2003 , 75 , 6544- 6554 . Aunque esta propiedad es benéfica en aplicaciones de impresión por microcontacto (MCP) debido a que permite que el molde adsorba tintas orgánicas, ver, Xia, Y. , et al . , Angew, Chem. Int. Ed. , 1998 , 37 , 550-575 , la resistencia al hinchamiento es críticamente importante en la mayoría de las otras técnicas litográficas blandas, especialmente para SAMI y MIMIC, y para técnicas de IL en las cuales un molde se pone en contacto con una pequeña cantidad de monómero o resina curable, orgánica. De otro modo, se pierde la fidelidad de los rasgos en el molde y surge un problema de adhesión sin resolver debido a la infiltración del líquido curable en el molde. Estos problemas se presentan comúnmente con moldes basados en PDMS debido a que muchos líquidos orgánicos hinchan al PDMS. Sin embargo, los materiales orgánicos son los materiales más deseables de moldear. Adicionalmente, las soluciones acuosas básicas o ácidas reaccionan con el PDMS, provocando ruptura de la cadena polimérica. Segundo, la energía superficial del PDMS (aproximadamente 25 mN/m) no es suficientemente baja para procedimientos de litografía blanda que requieren alta fidelidad. Por esta razón, la superficie moldeada de los moldes basados en PDMS frecuentemente se fluora usando un método de tratamiento de plasma seguido por depósito por vapor de un triclorosilano de fluoroalquilo . Ver, Xia, Y. , et al . , Angew, Chem. Int. Ed. , 1998 , 37 , 550-575 . Estos silicones tratados con flúor se hinchan, sin embargo, cuando se exponen a solventes orgánicos . Tercero, la forma comercialmente disponible más comúnmente usada del material usado en los moldes de PDMS, por ejemplo, Sylgard 184™ (Dow Corning Corporation, Midland, Michigan, Estados Unidos de América) tiene un módulo que es demasiado bajo (aproximadamente 1 . 5 MPa) para muchas aplicaciones. El bajo módulo de estos materiales de PDMS comúnmente usados da por resultado pandeo y flexión de los rasgos o características y, como tal, no es muy adecuado para los procesos que requieren colocación y alineación precisa -de los patrones . Aunque los investigadores han intentado afrontar este último problema, ver Qdom, T. W. , et al . , J. Am. Chem. Soc, 2002 , 124 , 12112 -12113 ; Qdom, T. W. , et al., Langmuir, 2002 , 18 , 5314- 5320 ; Schmid, H. , et al., Macromolecules, 2000 , 33 , 3042 -3049 ; Csucs, G., et al., Langmuir, 2003 , 19 , 6104- 6109 ; Trimbach, D. , et al . , Langmuir, 2003 , 19 , 10957 -10961 , los materiales elegidos exhiben aún pobre resistencia a solventes y requieren pasos de fluoración para permitir la liberación del molde. También se han usado materiales rígidos, tal como vidrios de cuarzo y silicio, en litografía de impresión. Ver, Xia, Y., et al., Angew. Chem. Int. Ed. , 1998 , 37 , 550-575 ; Resnick, D. J., et al . , Smiconductor International, Junio de 2002, 71-78; McClelland, G. M. , et al., Appl . Phys . Lett., 2002, 81, 1483; Chou, S. Y. , et al . , J. Vac. Sci . Technol . B, 1996, 14, 4129; Otto, M. , et al., Microelectron . Eng. , 2001, 57, 361; y Bailey, T. , et al . , J. Vac. Sci. Technol., B, 2000, 18, 3571; Chou, S. Y. , et al. , Science, 1996, 272, 85-87; Von erne, T. A. , et al . , J. Am. Chem. Soc, 2003, 125, 3831-3838; Resnick, D. J., et al., J. Vac. Sci. Technol. B, 2003, 21, 2624-2631. Estos materiales son superiores al PDMS en módulo y resistencia a hinchamiento, pero carecen de flexibilidad. Esta carencia de flexibilidad inhibe el contacto conformé con el sustrato y provoca defectos en la máscara y/o réplica durante la separación. Otra desventaja de los materiales rígidos es la necesidad de usar un molde duro costoso y difícil de fabricar, que típicamente se elabora al usar fotolitografía convencional o litografía con haz de electrón (haz-e) . Ver, Chou, S , Y . , et al., J. Vac. Sci. Technol. B, 1996, 14, 4129. Más recientemente, se ha eliminado la necesidad de usar repetidamente moldes de silicio o vidrio de cuarzo costosos en los procesos de NCM al usar un molde basado en acrilato generado del moldeo de una mezcla de monómero fotopolimerizable contra un original de silicio. Ver, McClelland, G. M. , et al . , Appl. Phys. Lett., 2002, 81, 1483, y Jung, G. Y., et al., Nanoletters, 2004, ASAP. Este planteamiento también se puede limitar por el hinchamiento del molde en solventes orgánicos . A pesar de estos avances, otras desventajas de fabricar moldes de materiales rígidos incluyen la necesidad de usar pasos de fluoracion para disminuir la energía superficial en el molde, ver Resnick, D. J., et al., Semiconductor International, Junio 2002, 71-78, y el problema inherente de liberación de un molde rígido de un sustrato rígido sin ruptura o daño en el molde o el sustrato. Ver Resnick, D. J. , et al . , Semiconductor International, Junio 2002, 71-78; Bietsch, A., J. Appl. Phys . , 2000, 88, 4310-4318. Khang , D . Y. , et al . , Langmuir, 2004, 20, 2445-2448, ha reportado el uso de moldes rígidos compuestos de Teflon ?¡ m termoformado (DuPont, Wilmington, Delaware, Estados Unidos de América) para afrontar el problema de energía superficial. Sin embargo, la fabricación de estos moldes, requiere altas temperaturas y presiones en una prensa de fusión, un proceso que puede dañar los rasgos o características delicadas en un original de oblea de silicio. Adicionalmente, estos moldes exhiben aún las desventajas intrínsecas de otros materiales rígidos como se resume anteriormente en la presente. Adicionalmente, una limitación clara e importante de fabricar estructuras en dispositivos semiconductores usando moldes o plantillas hechas de materiales duros es la formación usual de una capa residual o de "escoria" que se forma cuando una plantilla rígida se pone en contacto con un sustrato. Aún con fuerzas elevadas aplicadas, es muy difícil desplazar completamente los líquidos durante este proceso debido al comportamiento de humectación del líquido que se moldea, lo que da por resultado la formación de una capa de escoria. De esta manera, existe la necesidad en la técnica de un método para fabricar un patrón o modelo o una estructura en un sustrato, tal como un dispositivo semiconductor, que no dé por resultado la formación de una capa de escoria. Se ha reportado la fabricación de dispositivos microfluídicos , resistentes a solvente, con rasgos o características en el orden de cientos de micrones a partir de perfluoropoliéter fotocurable (PFPE) . Ver Rolland, J. P. , et al. , J. Am. Chem. Soc, 2004, 126, 2322-2323. Los materiales basados en PFPE son líquidos a temperatura ambiente y se pueden reticular de manera fotoquímica para producir elastómeros durables, resistentes. Adicionalmente, los materiales basados en PFPE están altamente fluorados y son resistentes al hinchamiento por solventes orgánicos, tal como cloruro de metileno, tetrahidrofurano, tolueno, hexanos y acetonitrilo entre otros, que son deseables para el uso en plataformas de microquímica basadas en dispositivos microfluídicos elastoméricos . Existe la necesidad en la técnica, sin embargo, de aplicar los materiales basados -en PFPE a la fabricación de dispositivos de nanoescala por razones relacionadas.

Adicionalmente, existe la necesidad en la técnica de métodos mejorados para formar un patrón o modelo en un sustrato, tal como un método que emplee una máscara con patrones. Ver, patente de los Estados Unidos número 4 , 735 , 890 de Nekane et al . ; patente de los Estados Unidos número 5 , 147 , 763 de Kamitakahara et al . ; patente de los Estados Unidos número 5 , 259 , 926 de Kuwabara et al . ; y publicación PCT internacional número WO 99 / 54786 de Jackson et al . , cada una de las cuales se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. También existe la necesidad en la técnica de un método mejorado para formar estructuras aisladas que se pueden considerar estructuras "diseñadas", que incluye pero no se limita a partículas, formas y partes. Usando métodos tradicionales de IL, la capa de escoria que casi siempre se forma entre las estructuras actúa para conectar o enlazar conjuntamente estructuras, haciendo de este modo difícil, si no es que imposible, fabricar y/o recoger estructuras aisladas . También existe la necesidad en la técnica de un método mejorado para formar partículas cargadas de micro- y nano-escalas, en particular electretos poliméricos. El término "electretos poliméricos" se refiere a dieléctricos con carga almacenada, ya sea en la superficie o -en la masa, y dieléctricos con dipolos orientados, detenidos, ferrieléctricos o ferroeléctricos . En la macro-escala, estos materiales se usan, por ejemplo, para dispositivos de electretos de carga y envasado electrónico, tal como micrófonos y similares. Ver, Kressman, R. , et al., Space-Charge Electrets, Vol . 2, Laplacian Press, 1999; y Harrison, J. S., et al., Piezoelectic Polymers, NASA/CR-2001-211422 , ICASE Reporte número 2001-43. El poli (fluoruro de vinilideno) (PVDF) es un ejemplo de un material electreto polimérico. Además del PVDF, los materiales electretos de carga, tal como polipropileno (PP) , etilen-propiLeno fluorado con T-eflón (FEP) , y politetrafluoroetileno (PTFE) , también se consideran electretos poliméricos . Además, existe la necesidad en la técnica de métodos mejorados para distribuir agentes terapéuticos, tal como fármacos, vectores génicos no virales, ADN, AR , AR i , y partículas virales, a un objetivo. Ver, Biomedical Polymers, Shalaby, S. W. , ed. , Harner/Gardner Publications , Inc., Cincinnati, O io, 1994; Polymeric Biomaterials, Dumitrin, S., ed. , Marcel Dekkar, Inc., Nueva York, Nueva York, 1994; Park, K., et al., Biodegradable Hydrogels for Drug Delivery, Technomic Publishing Company, Inc., Lancaster, Pensilvania, 1993; Gumargalieva, et al., Biodegradation and Biodeterioration of Polymers: Kinetic Aspects, Nova Science Publishers, Inc., Commack, Nueva York, 1998; Controlled Drug Delivery, American Chemical Society Symposium Series 752, Park, K., y Mrsny, R. J., eds . , Washington, D.C., 20t)0 ; Cellular Drug Delivery: Principies and Practices, Lu, D. R. , y Oie, S., eds., Humana Press, Totowa, Nueva Jersey, 2004 ; y Bioreversible Carriers in Drug Design: Theory and Applications, Roche, E. B., ed. , Pergamon Press, Nueva York, Nueva York, 1987 . Para una descripción de agentes terapéuticos representativos para el uso en estos métodos de distribución, ver patente de los Estados Unidos número 6 , 159 , 443 de Hallahan, que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. Existe también la necesidad en la técnica de un método mejorado para formar partículas superabsorbeñtes . Estas partículas se pueden usar para envasado de especialidad, en impermeabilización de cables, filtración, marcados médicos, control de derrames, paquetes de terapia, productos compuestos y laminados, retención de agua. También existe la necesidad en la técnica de métodos mejorados para crear sustancias polimorfas. Las sustancias polimorfas existen cuando hay más de una manera para que las partículas de una sustancia particular se arreglen por sí mismas en un arreglo cristalino. Las diferentes sustancias polimorfas de la misma sustancia pueden tener propiedades físicas y químicas bastante diferentes. De manera invariable, una de las formas cristalinas puede ser más estable o más fácil de manejar que la otra aunque las condiciones bajó las cuales aparecen las varias formas cristalinas pueden estar bastante cerca que es muy difícil controlar a gran escala. Este efecto puede crear diferencias en la biodisponibilidad del fármaco que conduce a inconsistencias en la eficacia. Ver, "Drug polymorphism and dosage form design: a practical perspective" Adv. Drug Deliv. Rev. , Singhal D, Curatolo W. , febrero de 2004, 23 ; 56 (3 ) : 335-47 ; Generic Drug Product Development : Solid Oral Dosage Forms, Shargel, L. , ed. , Marcel Dekker, Nueva York, 2005. En resumen, existe la necesidad en la técnica de identificar nuevos materiales para el uso en las técnicas litográficas de impresión. De manera más particular, existe la necesidad en la técnica de métodos para la fabricación de estructuras al nivel de cientos de micrones por abajo de tamaños de rasgos o características de sub-100 nm. Adicionalmente, existe la necesidad en la técnica de métodos mejorados para la creación de sustancias polimorfas. Adicionalmente, la autenticación e identificación de artículos es de interés particular en todas las industrias, y particularmente de documentos financieros, marcas de menudeo y consumidor de alto perfil, productos farmacéuticos, y materiales a granel. Se pierden cada año miles de millones de dólares a través de litigios de deuda y falsificación que se pueden prevenir con tecnología efectiva de identificadores . LO que se ha necesitado ha sido un sistema de autenticación con protecciones adicionales contra falsificación que incluya materiales identificadores y un sistema para detectar estos materiales. El sistema y método puede ser útil al fabricante para verificar la autenticidad de los artículos a través del procesamiento, la primera vez que se vende, y a través del tiempo de vida del producto. El sistema y método también debe ser útil para compradores en el mercado secundario para verificar la identificación o autenticidad de artículos para compra. También frecuentemente es deseable monitorizar, identificar, reportar y evaluar la presencia de una sustancia sólida, líquida, gaseosa u otra de interés. Se apreciará, por ejemplo, que llegue a ser altamente deseable o aún necesario, particularmente en vista de las recientes actividades de terrorismo, monitorizar, identificar, reportar y evaluar cualquier presencia de sustancias químicas, biológicas, o radioactivas amenazantes. Sin embargo, sustancias mucho menos siniestras, son el sujeto de monitoreo, incluyendo, por ejemplo, contaminantes; sustancias ilegales o de otro modo reguladas; sustancias de interés para la ciencia; y sustancias de interés para agricultura o industria. En el caso de sustancias amenazantes, por ejemplo, son bien conocidos en la técnica anterior los dispositivos de detención, que varían desde lo extremadamente simple a lo excesivamente complejo. Los dispositivos simples de detección son típicamente bastante capaces de detectar e identificar una sustancia única o un grupo de sustancias cercanamente relacionadas. Estos dispositivos combinan típicamente detección e identificación en una función individual al usar una prueba muy específica que sólo puede detectar la presencia o no presencia de la sustancia específica y ninguna otra. Se pueden usar sistemas de detección más complejos para incrementar el nivel de seguridad, con múltiples métodos de detección acoplados . Un ejemplo de un sistema de detección se describe en la patente de los Estados Unidos número 3,897,284. Este sistema describe micropartículas para la marcación de explosivos, partículas que incorporan una proporción sustancial de magnetita que permite que las partículas se localicen pro medio de recolección magnética. También se ha usado ferrita. Más recientemente, se han desarrollado partículas modificadas de identificación con tiras de material codificador de color que tiene una capa de magnetita fijada en un lado y capas de material fluorescente fijadas en ambos lados exteriores. En este sistema, el identificador se puede localizar por detección visual de una respuesta luminiscente, o recolección magnética, o ambos. Tanto la ferrita como los materiales de magnetita son de color oscuro, sin embargo, y absorbentes de la radiación que excita el material luminiscente, haciendo de este modo que las partículas sean algo difíciles de localizar después de una explosión. Los desarrollos adicionales produjeron partículas similares que tienen la ventaja de las propiedades magnéticas sin disminuir la respuesta luminiscente de los materiales, tal como aquéllos descritos en la patente de los Estados Unidos número 4 , 131 , 064 . Aún, otro planteamiento es el desarrollo de partículas codificadas con secuencias ordenadas de segmentos coloreados distinguibles, tal como se describe en la patente de los Estados Unidos número 4 , 053 , 433 . Aún además, otras patentes emplean isótopos radioactivos u otros materiales peligrosos como identificadores y muchas patentes utilizan materiales inorgánicos como identificadores , tal como la patente de los Estados Unidos número 6 , 899 , 827 . Sin embargo, algunas desventajas de muchos sistemas actuales son que son costosos; requieren tecnología sofisticada para producir, emplear y detectar; son inapropiados para la mayoría -de los ambientes tal como ambientes térmicos o químicos rudos; consumidores de tiempo para producir e incorporar en productos que se van a proteger; y similares.

Breve Descripción de la Invención En algunas modalidades, la materia actualmente descrita, describe una composición de nanopartículas que incluye una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde donde la partícula es menos de aproximadamente 100 pm en una dimensión más ancha. En algunas modalidades, la composición de nanopartículas puede incluir una pluralidad de partículas, donde las partículas tienen una masa sustancialmente constante. En algunas modalidades, la pluralidad de partículas tiene un índice de polidispersión de entre aproximadamente 0.80 y aproximadamente 1.20. En modalidades alternativas, las partículas tienen un índice de polidispersión de entre aproximadamente 0.90 y aproximadamente 1.10, entre aproximadamente 0.95 y aproximadamente 1.05, entre aproximadamente 0.99 y aproximadamente 1.01, o entre aproximadamente 0.999 y aproximadamente 1.001. En aún otras modalidades, la composición de nanopartículas incluye una pluralidad de partículas con una mono-dispersidad. De acuerdo a algunas modalidades, la composición de nanopartículas incluye un agente terapéutico de diagnóstico asociado con la partícula. El agente de diagnóstico terapéutico se puede acoplar físicamente o acoplar químicamente con la partícula, abarcada dentro de la partícula, al menos parcialmente abarcada dentro de la partícula, acoplada al exterior de la partícula, o similar. En algunas modalidades, la composición incluye un agente terapéutico seleccionado del grupo de un fármaco, un compuesto biológico, un ligando, un oligopéptido, un tratamiento de cáncer, un tratamiento viral, un tratamiento bacteriano, un tratamiento autoinmunitario, un tratamiento fangal, un agente psicoterapéutico, un fármaco cardiovascular, un modificador sanguíneo, un fármaco gastrointestinal, un fármaco respiratorio, un fármaco antiartrítico, un fármaco de diabetes, un anticonvulsivo, un regulador de metabolismo óseo, un fármaco de esclerosis múltiple, una hormona, un agente de tracto urinario, un inmunosupresor, un producto oftálmico, una vacuna, un sedante, una terapia de disfunción sexual, un anestésico, un fármaco de migraña, un agente de infertilidad, un producto de control de peso, tratamiento celular y combinaciones de los mismos. En algunas modalidades, la composición incluye un diagnóstico seleccionado del grupo de un agente de formación de imágenes, un agente de rayos x, un agente de MRI, un agente de ultrasonido, un agente nuclear, un radiotrazador, un radiofarmacéutico, un isótopo, un agente de contraste, una marca fluorescente, una marca radiomarcada, y combinaciones de los mismos . De acuerdo a algunas modalidades, la nanopartícula incluye una composición orgánica, un polímero, una composición inorgánica, y similares . En una modalidad, hay una nanopartícula que incluye una composición orgánica que tiene una forma sustancialmente predeterminada que corresponde sustancialmente a un molde, en donde la forma es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más ancha. En algunas modalidades, la nanopartícula incluye un polímero superabsorbente . El polímero superabsorbente se puede seleccionar del grupo de poliacrilatos , ácido poliacrílico, poliacrilamida, éteres de celulosa, poli (óxido de etileno) , poli (alcohol vinílico) , polisuccinimi-das , polímeros de poliacrilonitrilo, combinaciones de los polímeros anteriores mezclados o reticulados conjuntamente, combinaciones de los polímeros anteriores que tienen monómeros co-polimerizados con monómeros de otro polímero, combinaciones de los polímeros anteriores con almidón, y similares. En algunas modalidades, la nanopartícula es menos de aproximadamente 50 Jim en una dimensión. En otras modalidades, la nanopartícula puede estar entre aproximadamente 1 nm o aproximadamente 10 micrones en una dimensión, entre aproximadamente 5 nm y aproximadamente 1 micrón en una dimensión. La dimensión puede ser, en algunas modalidades, una dimensión en sección transversal, una dimensión circunferencial, un área superficial, una longitud, una altura, un ancho, una dimensión lineal, o similar. De acuerdo a modalidades alternativas, la nanopartícula se puede formar como un objeto sustancialmente no esférico, de forma sustancialmente viral, de forma sustancialmente bacteriana, de forma sustancialmente celular, de forma sustancialmente de varilla, de forma sustancialmente de varilla, donde la varilla puede ser de menos de aproximadamente 200 nm de diámetro o menos de aproximadamente 2 nm de diámetro. De acuerdo aún a otras modalidades, la nanopart cula se puede formar como una partícula sustancialmente en forma quiral, configurada sustancialmente como un triángulo recto, sustancialmente plana que tiene un espesor de aproximadamente 2 nm, un disco sustancialmente plano que tiene un .espesor entre aproximadamente 2 nm y aproximadamente 2-00 nm, sustancialmente en forma de boomerang, y similar. En algunas modalidades, la nanoparticula puede estar sustancialmente revestida, tal como con un revestimiento basado en azúcar de, por ejemplo, glucosa, sacarosa, maltosa, derivados de los mismos, y combinaciones de los mismos. De acuerdo a algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe una nanoparticula que es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más grande y se fabrica de un molde, en donde el molde está compuesto de un fluoropolímero . En algunas modalidades, la nanoparticula incluye 18F. En otras modalidades, la nanoparticula incluye una partícula cargada, electreto polimérico, agente terapéutico, vector génico no viral, partícula viral, sustancia polimorfa o polímero superabsorbente. La materia actualmente descrita describe métodos para fabricar una nanoparticula. En algunas modalidades, los métodos incluye proporcionar una plantilla, donde la plantilla define una depresión entre aproximadamente 1 nanómetro y aproximadamente 100 micrones de diámetro promedio, distribuir una sustancia que se va a moldear en la plantilla tal que la sustancia rellene la depresión, y endurecer la sustancia en la depresión tal que se moldee una partícula dentro de la depresión. En algunas modalidades, los métodos también incluyen remover la sustancia en exceso de la plantilla tal que la sustancia restante resida sustancialmente dentro de la depresión. En algunas modalidades, el método incluye el paso de remover la partícula de la depresión. En algunas modalidades, el método incluye el paso de evaporación de un solvente de la sustancia. En una modalidad, la sustancia incluye una solución con un fármaco disuelto en la misma. En algunas modalidades, el método incluye, incluyendo un agente terapéutico con la sustancia. En algunas modalidades, el método incluye, incluyendo un agente de diagnóstico con la sustancia. En una modalidad, el método incluye tratar una célula con la partícula. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla para fabricar nanopartículas puede estar compuesta de materiales seleccionados del grupo de un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastómero termoplástico fluorado, (TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero flúorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. En algunas modalidades, la plantilla está compuesta de un fluoropolímero que se sel-ecciona del grupo de un perfluoropoliéter, un perfluoropoliéter fotocurable, un perfluoropoliéter térmicamente curable, o una combinación de perfluoropoliéter fotocurable o térmicamente curable. En una modalidad, la plantilla se configura de un material polimérico de baja energía superficial. De acuerdo a otras modalidades, el método para fabricar nanopartículas puede incluir colocar un material que incluye un líquido en una depresión en un molde de fluoropolímero, en donde la depresión es menos de aproximadamente 100 µ?? en una dimensión más ancha, curar el material para elaborar una partícula, y remover la partícula de la depresión. En algunas modalidades, la nanopartícula puede incluir un agente terapéutico seleccionado del grupo que consiste de: un fármaco, un producto biológico, un tratamiento de cáncer, un tratamiento viral, un tratamiento bacteriano, un tratamiento autoinmunitario, un tratamiento fungoideo, una enzima, una proteína, una secuencia de nucleótidos, un antígeno, un átomo de carbono, y un producto de diagnóstico. En una modalidad, la partícula tiene un volumen más pequeño de un volumen del material colocado en la depresión. En algunas modalidades, la depresión para fabricar una nanopartícula puede ser de menos de aproximadamente 10 µ?? en la dimensión más ancha, entre aproximadamente 1 nm y 1 micrón en la dimensión más ancha, entre aproximadamente 1 nm y 500 nm en la dimensión más ancha, o entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 150 nm en la dimensión más ancha. En algunas modalidades, la nanopartícula puede tener una forma que corresponde a un molde que es sustancialmente no esférico, sustancialmente de forma viral, sustancialmente de forma bacteriana, sustancialmente de forma celular, sustancialmente de forma de varilla, sustancialmente de forma de varilla, en donde la varilla tiene menos de aproximadamente 200 nm de diámetro, sustancialmente de forma quiral, sustancialmente de forma de triángulo recto, sustancialmente de forma de disco plano con un espesor de aproximadamente 2 nm, sustancialmente en forma de disco plano con un espesor de entre aproximadamente 200 nm y aproximadamente 2 nm, sustancialmente en forma de boomerang y combinaciones de los mismos . En algunas modalidades, los métodos para fabricar nanopartículas incluyen colocar un material en una depresión definida en un molde de fluoropolímero, tratar el material en la depresión para formar una partícula, y remover la partícula de la depresión. En algunas modalidades, el fluoropolímero incluye una baja energía superficial. De acuerdo a algunas modalidades, los métodos para fabricar una nanopartícula incluyen proporcionar una plantilla, donde la plantilla define una depresión de menos de aproximadamente 100 micrones de diámetro promedio y donde la plantilla es un material polimérico de baja energía superficial, distribuir una sustancia que se va a moldear en la plantilla tal que la sustancia rellena al menos parcialmente la depresión, y en donde endurece la sustancia en la depresión tal que se moldee una partícula dentro de la depresión. En algunas modalidades, se aplica una fuerza a la plantilla para remover la sustancia no contenida dentro de la depresión y la fuerza se puede aplicar con un sustrato que tiene una superficie configurada para acoplar la plantilla. En algunas modalidades, la fuerza aplicada a la plantilla es una presión manual. De acuerdo a algunas modalidades, los métodos incluyen remover el sustrato de la plantilla después de remover la sustancia en exceso de la plantilla y antes de endurecer la sustancia en la depresión. Algunas modalidades incluyen hacer pasar una cuchilla a través de la plantilla para remover la sustancia no contenida dentro de la depresión, donde la cuchilla se puede seleccionar del grupo de una cuchilla metálica, una cuchilla de caucho, una cuchilla base de silicio, una cuchilla basada en polímero y combinaciones de las mismas. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla se puede seleccionar del grupo de un cilindro sustancialmente girable, una banda transportadora, un proceso de rodillo a rodillo, un proceso por lotes, y un proceso continuo. De acuerdo a algunas modalidades de los métodos, la sustancia en la depresión se puede endurecer por evaporación, un proceso químico, tratar la sustancia con luz UV, un cambio de temperatura, tratar la sustancia con energía térmica, o similar. En algunas modalidades, los métodos incluyen dejar la sustancia en su posición en la plantilla para reducir la evaporación de la sustancia de la depresión. Algunas modalidades del método incluyen endurecer la partícula de la depresión después de endurecer la sustancia. De acuerdo a modalidades alternativas, la recolección de las nanopartículas incluye aplicar un artículo que tiene afinidad para las partículas que es mayor que la afinidad entre las partículas y la plantilla. En algunas modalidades, la recolección puede incluir además poner en contacto la partícula con una sustancia adhesiva, donde la adhesión entre la partícula y la sustancia adhesiva es mayor que la fuerza adhesiva entre la partícula y la plantilla. En otras modalidades, la sustancia de recolección se puede seleccionar de uno -o más de agua, solventes orgánicos, carbohidratos, epoxis, ceras, alcohol polivinílico, polivinil-pirrolidona, acrilato de polibutilo, acrilatos de policiano, y metacrilato de polimetilo. De acuerdo a otras modalidades, los métodos pueden incluir además purificar la partícula después de recolectar la partícula. En algunas modalidades, la purificación de la partícula puede incluir purificar la partícula de una sustancia de recolección, centrifugación, separación, vibración, gravedad, diálisis, filtración, tamizado, electroforesis, corriente de gas, magnetismo, separación electrostática, disolución, ultrasonido, megasonido, flexión de la plantilla, succión, atracción electroestática, repulsión electroestática, magnetismo, manipulación física de la plantilla, y combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades de la materia actualmente descrita, la sustancia que se va a moldear se selecciona del grupo de un polímero, una solución, un monómero, una pluralidad de monómeros, un iniciador de polimerización, un catalizador de polimerización, un precursor inorgánico, un precursor metálico un agente farmacéutico, una marca, un material magnético, un material paramagnético, un ligando, un péptido de penetración celular, un porógeno, un agente tensioactivo, una pluralidad de líquidos inmiscibles, un solvente, y una especie cargada. De acuerdo a algunas modalidades, la partícula incluye polímeros orgánicos, polímeros superabsorbentes , partículas cargadas, electretos poliméricos (poli (fluoruro de vinilideno) , etilen-propileno fluorado con Teflón, politetrafluoroetileno) , agentes terapéuticos, fármacos, vectores génicos no virales, ADN, ARN, ARNi, partículas virales, sustancias polimórficas , combinaciones de los mismos, y similares.

De acuerdo a algunas modalidades, la materia actualmente descrita incluye métodos para elaborar nanopartículas , que incluye proporcionar una plantilla con patrones que define una depresión de nano-escala, sumergir la depresión de nano-escala en una sustancia que se va a moldear en la depresión de nano-escala, permitir que la sustancia entre a la depresión, y remover la plantilla con patrones de la sustancia. En otras modalidades, el método incluye proporcionar una plantilla, en donde la plantilla define una depresión de nano-escala, colocar una sustancia que se va a moldear en la depresión de nano-escala sobre la plantilla, y permitir que la sustancia entre a la depresión de nano-escala. En algunas modalidades, el método incluye configurar un ángulo de contacto entre un líquido que se va a moldear un molde de plantilla para que sea un ángulo predeterminado tal que el líquido rellene de forma pasiva una depresión de nano-escala definida en el molde de plantilla. En algunas modalidades, el ángulo de contacto se puede modificar o alterar al aplicar un voltaje en el líquido. En algunas modalidades, los métodos incluyen introducir una primera sustancia que se va a moldear en una depresión de nano-escala de una plantilla, permitir que un componente de solvente de la primera sustancia se evapore de la depresión de nano-escala, y curar la primera sustancia en la depresión de nano-escala para formar una partícula. De acuerdo a otras modalidades, el método incluye adicionar una segunda sustancia a la depresión de nano-escala después de la evaporación y curación de la primera sustancia tal que se forme una partícula que tiene dos composiciones. De acuerdo a algunas modalidades, los métodos incluyen proporcionar una plantilla, donde la plantilla define una depresión de nano-escala, colocar una sustancia que se va a moldear en la plantilla, y aplicar un voltaje a través de la sustancia para ayudar a la sustancia a entrar a la depresión de nano-escala. En algunas modalidades, los métodos incluyen configurar una plantilla con una permeabilidad predeterminada, donde la plantilla define una depresión de nano-escala, someter la plantilla con una sustancia que tiene una permeabilidad predeterminada, permitir que la sustancia entre a la depresión de nano-escala, y curar la sustancia en la depresión de nano-escala. En aún otras modalidades, el método incluye una partícula que incluye una impresión molecular funcional, donde la partícula tiene una forma que corresponde a un molde, y en donde la partícula es menos de aproximadamente 100 µt? en una dimensión. En algunas modalidades, la dimensión es una de menos de aproximadamente 1 µp?, entre aproximadamente 1 n y 500 nm, entre aproximadamente 50 nm y aproximadamente 200 nm, y entre aproximadamente 80 nm y aproximadamente 120 m. De acuerdo a algunas modalidades, la impresión molecular funcional comprende monómeros funcionales arreglados como una imagen negativa de una plantilla. En una modalidad, la partícula es un material analítico. En algunas modalidades, la impresión molecular funcional incluye sustancialmente propiedades estericas y químicas de una plantilla. En una modalidad, el material analítico incluye una partícula que tiene una forma seleccionada del grupo que consiste de sustancialmente esférica, sustancialmente no esférica, sustancialmente de forma viral, sustancialmente de forma bacteriana, sustancialmente de forma proteica, sustancialmente de forma celular, sustancialmente de forma de varilla, sustancialmente de forma de varilla, en donde la varilla es menos de aproximadamente 200 nm de diámetro, sustancialmente de forma quiral, sustancialmente un triángulo recto, sustancialmente en forma de disco plano con un espesor de aproximadamente 2 nm, sustancialmente en forma de disco plano con un espesor de más de aproximadamente 2 nm, sustancialmente en forma de boomerang, y combinaciones de los mismos. En algunas modalidades, la partícula es una pluralidad de partículas que tiene un índice de poli-dispersión de entre aproximadamente 0.80 y aproximadamente 1.20. En otra modalidad, lapa. Es una pluralidad de partículas que tiene un índice de poli-dispersión de entre aproximadamente 0.90 y aproximadamente 1.10. En aún otra modalidad, la partícula es una pluralidad de partículas que tienen un índice de poli-dispersión de entre aproximadamente 0.95 y aproximadamente 1.05. En aún una modalidad adicional, la partícula es una pluralidad de partículas que tienen un índice de poli-dispersión de entre aproximadamente 0.99 y aproximadamente 1.01. En otra modalidad, el material analítico incluye una partícula que es una pluralidad de partículas que tiene un índice de poli-dispersión de entre aproximadamente 0.999 y aproximadamente 1.001. En otra modalidad, la partícula es una pluralidad de partículas y la pluralidad de partículas tiene una mono-dispersidad. En algunas modalidades, el método incluye proporcionar un sustrato de perfluoropoliéter y una plantilla funcional, en donde el sustrato define una depresión y la depresión incluye la plantilla funcional al menos parcialmente expuesta en la misma, aplicar un material al sustrato, curar el material para formar una partícula, y remover la partícula de la depresión, donde la partícula incluye una impresión molecular de la plantilla funcional. En algunas modalidades, el material incluye un monómero funcional y la plantilla funcional se selecciona del grupo de una enzima, una proteína, un antibiótico, un antígeno, una secuencia de nucleótidos, un aminoácido, un fármaco, un producto biológico, ácido nucleico y combinaciones de los mismos. En algunas modalidades, el perfluoropoliéter se selecciona del grupo de perfluoropoliéter fotocurable, perfluoropoliéter térmicamente curable, y una combinación de perfluoropoliéter fotocurable y térmicamente curable. En otras modalidades, el método incluye una partícula funcionalizada moldeada de una impresión molecular. En algunas modalidades, la partícula funcionalizada incluye además un monómero funcionalizado . En algunas modalidades, la partícula funcionalizada incluye propiedades estéricas y químicas sustancialmente similares de una plantilla de impresión de molecular. De acuerdo a algunas modalidades, los monómeros funcionales de la partícula funcionalizada se arregla sustancialmente como una imagen negativa de grupos funcionales de la impresión molecular. En otras modalidades, la impresión molecular es una impresión molecular de una plantilla seleccionada del grupo de una enzima, una proteína, un antibiótico, un antígeno, una secuencia de nucleótidos, un aminoácido, un fármaco, un producto biológico, ácido nucleico, y combinaciones de los mismos . De acuerdo a algunas modalidades, los métodos incluyen proporcionar una plantilla que define una impresión molecular, en donde la plantilla incluye material polimérico de baja energía superficial, aplicar una mezcla de un material y un monómero funcional a la impresión molecular, curar la mezcla para formar una molécula funcional artificial polimerizada, y remover la molécula funcional artificial polimerizada de la impresión molecular. Los métodos también pueden incluir permitir que los monómeros funcionales en la mezcla se arreglen con entidades opuestas a la impresión molecular funcional. En una modalidad, el método incluye tratar un paciente con una molécula funcional, artificial, polimerizada . En otras modalidades, los métodos incluyen proporcionar una plantilla con patrones que definen una impresión molecular, donde la plantilla con patrón incluye un material polimérico de baja energía superficial, aplicar una mezcla de un material y un monómero funcional a la impresión molecular, curar la mezcla para formar una molécula funcional, artificial, polimerizada, remover la molécula funcional, artificial, polimerizada de la impresión molecular, y administrar una cantidad terapéuticamente efectiva de la molécula funcional, artificial, polimerizada a un paciente. De acuerdo a algunas modalidades, la molécula funcional, artificial, polimerizada trata un paciente al interactuar con una membrana celular, trata un paciente al experimentar captación intracelular, trata un paciente al inducir una respuesta inmunitaria, interactúa con un receptor celular, o es menos de aproximadamente 100 |im en una dimensión. En algunas modalidades, los métodos incluyen administrar una cantidad terapéuticamente efectiva de una partícula que tiene una forma predeterminada y una dimensión de menos de aproximadamente 100 µp? a un paci-ente. En algunas modalidades, la partícula experimenta captación intracelular. En algunas modalidades, la partícula incluye un producto terapéutico o de diagnóstico abarcado al menos parcialmente dentro de la partícula o acoplado al exterior de la partícula. En otras modalidades, los métodos incluyen seleccionar el producto terapéutico del grupo de un fármaco, un producto biológico, un tratamiento anti-cáncer, un tratamiento antiviral, un tratamiento anti-bacteriano, un tratamiento auto-inmunitario, un tratamiento fungoideo, un agente psicoterapéutico, un fármaco cardiovascular, un modificador sanguíneo, un fármaco gastrointestinal, un fármaco respiratorio, un fármaco antiartrítico, un fármaco de diabetes, un anticonvulsivo, un regulador de metabolismo óseo, un fármaco de esclerosis múltiple, una hormona, un agente de tracto urinario, un inmunosupresor , un producto oftálmico, una vacuna, un sedante, una terapia de disfunción sexual, un anestésico, un fármaco de migraña, un agente -de infertilidad, un producto de control de peso, y combinaciones de los mismos. En algunas modalidades, el agente de diagnóstico se selecciona del grupo de un agente de formación de imágenes, un agente de rayos x, un agente de MRI, un agente de ultrasonido, un agente nuclear, un radiotrazador, un producto radiofarmacéutico, un isótopo, un agente de contraste, una marca fluorescente, una marca radiomarcada, y combinaciones de los mismos. En una modalidad del método, la partícula tiene una dimensión que se toma desde el grupo que es menos de aproximadamente 10 pm, entre 1 nm y aproximadamente 1 micrón de diámetro, y entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 200 nm de diámetro. En una modalidad, la partícula es sustancialmente no esférica, sustancialmente de forma viral, sustancialmente de forma bacteriana, sustancialmente de forma proteica, sustancialmente de forma celular, sustancialmente de forma de varilla, sustancialmente de forma quiral, sustancialmente un triángulo recto, sustancialmente un disco plano con un espesor de aproximadamente 2 nm, sustancialmente un disco plano con un espesor de entre aproximadamente 2 nm y aproximadamente 1 im, y sustancialmente en forma de boomerang. En otra modalidad, la partícula es sustancialmente de forma de varilla y la varilla es menos de aproximadamente 200 nm de diámetro. En otra modalidad, la partícula está sustancialmente revestida. En una modalidad adicional, la partícula se reviste con un revestimiento basado en carbohidrato. En aún una modalidad adicional, la partícula incluye un material orgánico. En una modalidad, la partícula se moldea de una plantilla con patrones que incluye un material polimérico de baja energía superficial . En algunas modalidades, los métodos para distribuir un tratamiento incluye formar una partícula de un compuesto de tratamiento, la partícula que tiene una forma predeterminada y que es de menos de aproximadamente 100 µp? en una dimensión y administrar la partícula a una ubicación de la lesión maxilofacial u ortopédica. En otras modalidades, los métodos incluyen recolectar una nanopartícula de un artículo que incluye proporcionar un artículo que define una depresión, donde la depresión es menos de 100 micrones en una dimensión más grande, formar una partícula en la depresión, aplicar, al artículo, un material que tiene una afinidad para la partícula que es mayor que una afinidad entre el artículo y la partícula, y separar el material del artículo en donde el material permanece unido a la partícula. En algunas modalidades, los métodos incluyen tratar el material para incrementar la afinidad del material a la partícula. En otras modalidades, los métodos incluyen aplicar una fuerza a al menos uno del artículo, el material y combinaciones del mismo. En algunas modalidades, el tratamiento incluye enfriar el material, que incluye uno del grupo de endurecer el material, modificar químicamente una superficie de la partícula para incrementar la afinidad entre el material y la partícula, modificar químicamente una superficie del material para incrementar la afinidad entre la partícula y el material, un tratamiento de UV, un tratamiento térmico, y combinaciones de los mismos. En algunas modalidades, el tratamiento incluye promover una interacción química entre el material y las partículas o promover una interacción física entre el material y las partículas. En algunas modalidades, la interacción física es un atropamiento físico. En una modalidad, el artículo incluye un material de baja energía superficial. En una modalidad, el material de baja energía superficial incluye un material seleccionado del grupo que consiste de un matérial de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastómero termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. En una modalidad, el material del método se selecciona del grupo que consiste de carbohidratos, epoxies, ceras, alcohol polivinílico, polivinil-pirrolidona, acrilato de polivinilo, acrilatos de policiano, polimetil-metacrilato y combinaciones de los mismos. De acuerdo a algunas modalidades de la materia actualmente descrita, los métodos incluyen modificar una superficie de una nanopartícula, tal como proporcionar un artículo que define una depresión y que tiene una partícula formada en la misma, aplicar a la partícula una solución que contiene grupos modificadores de moléculas, y promover una reacción entre una primera porción de los grupos modificadores de moléculas y al menos una porción de una superficie de la partícula. En algunas modalidades, se deja sin reaccionar una segunda porción de los grupos modificadores de moléculas. En otras modalidades, los métodos incluyen remover los grupos modificadores sin reaccionar de las moléculas. En algunas modalidades, el grupo modificador -de moléculas se une químicamente a la partícula a través de un grupo de enlace y el grupo de enlace que se puede seleccionar de un grupo de sulfuros, aminas, ácidos carboxílieos , cloruros de ácido, alcoholes, alquenos, haluros de alquilo, isocianatos, imidazoles, haluros, azidas y acetilenos. En algunas modalidades, el grupo modificador se selecciona de un grupo de tintes, marcas fluorescentes, marcas radiomarcadas , agentes de contraste, ligandos, péptidos, aptámeros, anticuerpos, agentes farmacéuticos, partículas, ADN, AR , ARNi, y fármacos de los mismos . De acuerdo a algunas modalidades, un sistema para recolectar una pluralidad de nanopartículas de un artículo incluye un artículo que define una pluralidad de depresiones en donde las depresiones son menores de aproximadamente 100 micrones en una dimensión y en donde las partículas se forman dentro de las depresiones, un material que tiene una afinidad para las partículas que es mayor que una afinidad entre las partículas y el artículo, y un aplicador configurado para separar las partículas del artículo. En algunas modalidades, el artículo incluye un material polimérico de baja energía superficial. En algunas modalidades, un sistema para modificar al menos una porción de una nanopartícula incluye un artículo que define una depresión, en donde la depresión .es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión y en donde la depresión tiene una partícula formada -en la misma, y una solución que tiene grupos modificadores de moléculas, la solución que está en contacto con al menos una porción de la partícula y que se configura para promover una reacción entre las moléculas y la partícula. En otras modalidades, los métodos de la materia actualmente descrita incluyen métodos para revestir partículas. En algunas modalidades, el método incluye revestir una partícula con un revestimiento basado -en azúcar. En una modalidad, el revestimiento basado en azúcar se selecciona del grupo que consiste de glucosa, sacarosa, maltosa, derivados de los mismos, y combinaciones de los mismos. En algunas modalidades, el método incluye revestimiento de sembrado, que incluye suspender una seínilla en una solución líquida, depositar la solución líquida que contiene la semilla en una plantilla, en donde la plantilla define una depresión que es menor de aproximadamente 100 micrones en una dimensión y en donde la plantilla comprende un material polimérico de baja energía superficial, y endurecer la solución líquida en las depresiones tal que la semilla -se revista con la solución líquida endurecida. En algunas modalidades, los métodos de revestimiento incluyen acoplar una superficie con la plantilla para intercalar la solución que contiene la semilla en la depresión. En algunas modalidades, la depresión tiene una forma o tamaño predeterminado, la solución liquida es un polímero, o la solución líquida es un polímero soluble en agua. En una modalidad, la depresión tiene un mayor volumen que una cantidad de solución líquida depositada en la depresión. En algunas modalidades, los métodos incluyen además recolectar la solución líquida endurecida que contiene la semilla. De acuerdo a algunas modalidades, la solución líquida endurecida que contiene la semilla se recolecta por manipulación física de la plantilla, el endurecimiento incluye evaporación del solvente de la sustancia, la sustancia en la depresión se endurece al tratar la sustancia con luz UV, la sustancia en la depresión se endurece por un proceso químico, la sustancia en la depresión se endurece por un cambio de temperatura, la sustancia en la depresión se endurece por dos o más del grupo que consiste de un proceso térmico, un proceso evaporativo, un proceso químico, y un proceso óptico. En algunas modalidades, el método incluye recolectar la solución líquida endurecida que contiene la semilla de la depresión después de curar la sustancia. En algunas modalidades, la solución líquida endurecida que contiene la semilla se recolecta por un artículo que tiene afinidad para la solución líquida endurecida que contiene la semilla que -es mayor que la afinidad entre la solución liquida endurecida que contiene la semilla y la plantilla. En otras modalidades, el método incluye purificar la partícula después de que se ha recolectado . De acuerdo a algunas modalidades, se prepara una semilla revestida por el proceso que incluye suspender una semilla en una solución líquida, depositar la solución líquida que contiene la semilla en una plantilla, en donde la plantilla incluye una depresión, y endurecer la solución líquida en las depresiones tal que la semilla se revista con la solución líquida endurecida. En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe identificadores , que incluye una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde, en donde la partícula es menor de aproximadamente 100 micrones en una dimensión, y donde la partícula incluye características identificadoras . En otras modalidades, la materia actualmente descrita describe métodos para elaborar identificadores , que incluye colocar material en un molde formado de un material no humectable de baja energía superficial, donde el molde -es menor que aproximadamente 100 micrones en una dimensión, y donde el molde incluye una característica identificadora, curar el material para elaborar una partícula, y remover la partícula del molde. En algunas modalidades, la materia actualmente descrita incluye un artículo seguro que incluye, un artículo acoplado con un identificador que incluye una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde, donde la partícula es menor de aproximadamente 100 micrones en una dimensión, y donde la partícula incluye una característica identificadora . En algunas modalidades, la materia actualmente descrita incluye métodos para elaborar un artículo seguro, que incluye colocar el material en un molde formado de un material no humectable de baja energía superficial, donde el molde es de menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión, y donde el molde incluye una característica identificadora, curar el material para elaborar una partícula, remover la partícula del molde, y aplicar la partícula con un artículo. En aún otras modalidades, la materia actualmente descrita incluye un sistema para asegurar un artículo, que incluye producir un identificador que incluye una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde, en donde la partícula es menor de aproximadamente 100 micrones en una dimensión, y donde la partícula incluye una característica identificadora, que incorpora el identificador con un artículo que se va a asegurar, analizar el artículo para detectar y leer la característica identificadora, y comparar la característica identificadora con una característica esperada. De acuerdo a otras modalidades, la materia actualmente descrita describe una partícula de identificación, que incluye un identificador fabricado de un polímero fotoresistente, donde el identificador se configura y dimensiona usando fotolitografía. En algunas modalidades, una partícula de identificación, incluye un identificador moldeado de un molde, donde el molde incluye material polimérico de baja energía superficial, y donde el identificador incluye una superficie sustancialmente plana. De acuerdo a modalidades alternativas, la partícula de identificación incluye líneas de grabado bosch en una superficie del identificador, funcionalidad química, un sensor activado, combinaciones de los mismos y similares. De acuerdo a algunas modalidades de la materia actualmente descrita, los métodos para identificar una nanopartícula incluyen proporcionar un identificador configurado dimensionado en una forma predeterminada, y reconocer el identificador de acuerdo a la forma del identificador . En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe una nanopartícula formada por el proceso de proporcionar una plantilla de un material polimérico de baja energía superficial, donde la plantilla define una depresión de nano-escala, depositar un líquido que se va a moldear en la plantilla, donde el líquido tiene un ángulo de contacto predeterminado con una superficie de la plantilla tal que el líquido entre pasivamente a la depresión de nano-escala, y formar una partícula de líquido en la depresión de nano-escala. En otras modalidades, la materia actualmente descrita incluye una nanopartículas preparada por el proceso de proporcionar una plantilla que tiene una primera superficie, donde la primera superficie define una depresión entre aproximadamente 2 nanometros y aproximadamente 1 milímetro de diámetro promedio, distribuir una sustancia que se va a moldear de la primera superficie tal que la sustancia rellena a la depresión, remover la sustancia de la primera superficie tal que la sustancia restante recibe sustancialmente dentro de la depresión, y endurecer la sustancia en la depresión tal que se moldee una partícula dentro de la depresión. En una modalidad, la nanopartícula incluye al menos uno de un polímero orgánico, o una partícula súper absorbente, una partícula cargada, un electreto polimérico, un agente terapéutico, un fármaco, un vector génico no viral, ADN, AR , AR i, una partícula viral, una sustancia polimorfa, combinaciones de los mismos, y similares. En otra modalidad, el proceso para producir la nanopartícula incluye aplicar una prensa a la primera superficie para remover la sustancia no contenida dentro de la depresión. En una modalidad, la prensa tiene una superficie sustancialmente plana para acoplar la primera superficie de la plantilla. En otra modalidad, el proceso incluye además remover la prensa de la primera superficie después de remover la sustancia en exceso de la primera superficie y antes de endurecer la sustancia en la depresión. En una modalidad adicional, la plantilla se selecciona del grupo que consiste de un cilindro girable, una prensa, una banda transportadora, combinaciones de los mismos, y similares. En una modalidad aún adicional del método, el endurecimiento comprende evaporación del solvente de la sustancia . En una modalidad, la sustancia a la depresión se endurece al tratar la sustancia con luz UV. En otra modalidad, la sustancia a la depresión se endurece por un proceso químico. En una modalidad adicional, la sustancia en la depresión se endurece por un cambio de temperatura. En una modalidad aún adicional, la sustancia a la depresión se endurece al tratar la sustancia con la energía térmica. En otra modalidad, la sustancia en la depresión se endurece por dos o más del grupo que consiste de un proceso térmico, un proceso evaporativo, un proceso químico, y un proceso óptico. En aun otra modalidad, el método incluye recoger la partícula de la depresión después de curar la sustancia. En aún otra modalidad, el método incluye purificar la partícula después de que se ha recolectado. En una modalidad, la purificación se selecciona del grupo que consiste de centrif gación, separación vibración, gravedad, diálisis, filtración, tamizado, electroforesis , corriente de gas, magnetismo, separación electrostática, combinaciones de los mismos, y similares.

En una modalidad, la partícula se recolecta por un artículo que tiene afinidad para las partículas que es mayor que la afinidad en las partículas y la plantilla. En otra modalidad, la partícula se recolectar al poner en contacto la partícula con una sustancia adhesiva. En aún otra modalidad, el método incluye modificar la partícula después de que se ha recolectado . En una modalidad, el material para la plantilla comprende un material polimérico. En otra modalidad, el material para la plantilla comprende un material polimérico de baja energía superficial, resistente a solventes. En aún otra modalidad, el material para la plantilla comprende un material elastomérico resistente al solvente. En una modalidad adicional, la plantilla se selecciona del grupo que consiste de un material seleccionado del grupo .que consiste de un material de perfluoropoliéter, un material de silicón, un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastomero termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolimero de triacina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. De acuerdo a algunas modalidades, la partícula incluye un material biocompatible . El material biocompatible se puede seleccionar del grupo de un poli (etilenglicol ) , un poli (ácido láctico), un poli (ácido láctico-co-ácido glicólico) , una lactosa, una fosfatidilcolina, un poliláctido, una poliglicólido, una hidroxipropilcelulosa, una cera, un poliéster, un polianhídrido, un poliamida, un polímero basado en fósforo, un poli (cianoacrilato) , un poliuretano, un poliortoéster , un polidihidropirano, un poliacetal, un polímero biodegradable, un polímero, un hidrogel, un carbohidrato, y combinaciones de los mismos. La partícula también puede incluir, en algo un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, o un ligador. En algunas modalidades, el agente terapéutico se combina con un componente biocompatible reticulado en la partícula. De acuerdo a algunas modalidades, el componente biocompatible reticulado se configura para bioreabsorberse durante un tiempo predeterminado. En otras modalidades, el reticulador bioreabsorbible incluye polímeros funcionalizados con un grupo disulfuro. En algunas modalidades, el componente biocompatible tiene una densidad de reticulación de menos de aproximadamente 0.50, y en otras modalidades, el componente biocompatible tiene una densidad de reticulación de más de aproximadamente 0.50. De acuerdo a algunas modalidades, el componente biocompatible esta funcionalizado con un grupo no biodegradable y en algunas modalidades, el componente biocompatible esta funcionalizado con un grupo biodegradable.

El grupo biodegradable puede ser un grupo disulfuro en algunas modalidades. En una modalidad, la partícula se configura para degradarse al menos parcialmente de la reacción con los estímulos. En algunas modalidades, el estímulo incluye un ambiente reductor, un pH predeterminado, un subproducto celular, o componente celular. En algunas modalidades, la partícula o un componente de la partícula incluyen una carga predeterminada. En otras modalidades, la partícula puede incluir un potencial zeta predeterminado. En algunas modalidades, la partícula se configura para reaccionar a un estímulo. Los estímulos se pueden seleccionar del grupo de pH, radiación, oxidación, reducción, concentración iónica, temperatura, campos eléctricos o magnéticos alternantes, fuerzas acústicas, fuerzas ultrasónicas, tiempo y combinaciones de los mismos. En modalidades alternativas, la partícula incluye un material magnético. En algunas modalidades alternativas, la composición de la partícula incluye además un enlace carbono-carbono . En algunas modalidades, la composición incluye una partícula cargada, un electreto polimérico, un agente terapéutico, un vector de genoviral, una partícula viral, una sustancia polimórfica, o un polímero súper absorbente. El agente terapéutico se puede seleccionar de un grupo de un fármaco, un agente, un modificador, un regulador, una terapia, un tratamiento, y combinaciones de los mismos. La composición puede incluir también un agente terapéutico seleccionado del grupo de un agente biológico, un ligando, un oligopéptido, una enzima, ADN, un oligonucLeótido, ARN, ARNsi, un tratamiento de cáncer, un tratamiento viral, un tratamiento bacteriano, un tratamiento auto-inmunitario, un tratamiento fungal, un agente psicoterapéutico, un fármaco cardiovascular, un modificador sanguíneo, un fármaco gastrointestinal, una fármaco respiratorio, un fármaco antiartrítico, un fármaco de diabetes, un anticonbulsivo, un regulador de metabolismo óseo, un fármaco de esclerosis múltiple, una hormona, un agente de tracto urinario, un inmunosupresor , un producto oftálmico, una vacuna, un sedante, una terapia de disfunción sexual, un anestésico, un fármaco de migraña, un agente de infertilidad, un producto de control de peso, y combinaciones de los mismos. En algunas modalidades, la composición puede incluir un agente de diagnóstico seleccionado del grupo de un agente de formación de imágenes, un agente de rayos X, un agente de MRI, un agente de ultrasonido, un agente nuclear, un radiotrazador, un agente radiofarmacéutico, un isótopo, un agente de contraste, una marca fluorescente, una marca radiomarcada, y combinaciones de los mismos. En otras modalidades, la partícula incluye 18F. En otras modalidades, la composición puede incluir una forma seleccionada del grupo de sustancialmente no esférica, sustancialmente viral, sustancialmente bacteriana, sustancialmente celular, sustancialmente una varilla, sustancialmente quiral, y combinaciones de las mismas. La forma de la partícula se puede seleccionar del grupo de sustancialmente en forma de varilla en donde la varilla es menos de aproximadamente 200 nm de diámetro. En otras modalidades, la forma de la partícula se puede seleccionar al grupo de sustancialmente en forma de varilla en donde la varilla es menos de aproximadamente 2 nm de diámetro. De acuerdo a algunas modalidades, la composición incluye un agente terapéutico o agente de diagnóstico o ligador que esta asociado con la partícula, físicamente acoplado con la partícula, químicamente acoplado con la partícula, sustancialmente abarcado dentro de la partícula, al menos parcialmente abarcado dentro de la partícula, o acoplado con el exterior de la partícula. En algunas modalidades, la partícula se puede funcionalizar con un ligando de selección de objetivo. En algunas modalidades de la composición, el ligador se selecciona de grupo de sulfuros, aminas, ácidos carboxílieos , cloruros ácidos, alcoholes, alquenos, haluros de alquilo, isocianatos, imidazoles, haluros, azidas, grupos éster de N-hidroxisuccinimidilo (NHS) , acetilenos, ácido dietilentriaminapentaacético (DPTA) y combinaciones de los mismos. En modalidades alternativas, la composición incluye además una molécula modificadora químicamente acoplada con el ligador. La molécula modificadora se puede seleccionar del grupo de tintes, marcas fluorescentes, marcas radiornarcadas , agentes de contraste, ligandos, ligandos de selección de objetivo, péptidos, aptameros, anticuerpos, agentes farmacéuticos, proteínas, ADN, ARN, ARNsi, y fragmentos de los mismos . De acuerdo a algunas modalidades, la composición puede incluir además una pluralidad de partículas, donde las partículas tienen una marca sustancialmente uniforme, están sustancialmente monodispersas , están sustancialmente monodispersas en tamaño y forma, o están sustancialmente monodispersas en área superficial. En algunas modalidades, la pluralidad de partículas tiene una distribución normalizada de tamaños de entre aproximadamente 0.80 y aproximadamente 1.2?, entre aproximadamente 0.90 y aproximadamente 1.10, entre aproximadamente 0.95 y aproximadamente 1.05, entre aproximadamente 0.99 y aproximadamente 1.01, entre aproximadamente 0.999 y aproximadamente 1.001. De acuerdo a algunas modalidades, la distribución normalizada de tamaños se selecciona del grupo de un tamaño lineal, un volumen, una forma tridimensional, área superficial, masa y forma. En aún otras modalidades, la pluralidad de partículas incluye partículas que están monodispersas en área superficial, volumen, masa, forma tridimensional o una dimensión lineal más amplia.

En algunas modalidades, la partícula puede tener una dimensión más amplia de menos de aproximadamente 50 pm, entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 10 micrones, o entre aproximadamente 5 nm y aproximadamente 1 micrón. En algunas modalidades, la partícula tiene una relación de área superficial a volumen mayor que aquella de una cera. De acuerdo a algunas modalidades, la composición puede incluir un polímero súper absorbente seleccionado del grupo de poliacrilatos , ácido poliacrílico, HEMA, acrilatos neutralizados, acrilato de sodio, acrilato de amonio, metacrilatos , poliacrilamida, éteres de celulosa, poli (óxido de etileno) , poli (alcohol vinílico) , polisuccinimidas , polímeros de poliacrilonitrilo, combinaciones de los polímeros anteriores mezclados o reticulados conjuntamente, combinaciones de los polímeros anteriores que tienen monómeros co-polimerizados con monómeros de otro polímero, combinaciones de los polímeros anteriores con almidón, y combinaciones de los mismos . De acuerdo a algunas modalidades, la presente invención incluye métodos para la fabricación de nanopartículas . De acuerdo a estos métodos, se puede fabricar una nanopartícula a partir de un material líquido en una depresión de un molde, donde un ángulo de contacto entre el material líquido y el molde se configura tal que el líquido rellena de una manera sustancialmente pasiva a la depresión, y donde la partícula tiene una dimensión más ancha de menos -de aproximadamente 250 micrones. En algunas modalidades, el material líquido forma un menisco con un borde de la depresión y una porción de la partícula resultante se configura como un lente definido por el menisco. En algunas modalidades, la partícula refleja una forma de la depresión del molde del cual se fabricó la partícula. De acuerdo a algunas modalidades, el método también incluye endurecimiento del material que llega hacer la partícula. En algunas modalidades, el endurecimiento puede ser una evaporación o una evaporación de una sustancia portadora. Una evaporación puede ser evaporación de uno o más del grupo de adhesivos solubles en agua, adhesivos solubles en acetona, y adhesivos solubles en solventes orgánicos. De acuerdo a otras modalidades, los moldes dentro de los cuales se fabrican las partículas de la presente invención e incluyen materiales poliméricos de baja enérgía superficial que tienen una energía superficial de menos de aproximadamente 23 dinas/cm, menos de aproximadamente 19 dinas/cm, menos de aproximadamente 15 dinas/cm, menos de aproximadamente 12 dinas/cm, menos de aproximadamente 8 dinas/cm. De acuerdo a algunas modalidades, los métodos de la presente invención incluyen unir un grupo de enlace a la partícula, en donde el grupo de enlace se puede seleccionar de un grupo de sulfuros, aminas, ácidos carboxílicos , cloruros ácidos, alcoholes, alquenos, haluros de alquilo, isociana os, imidazoles, haluros, ácido dietilentriaminapentaacético (DPTA) , azidas, acetilenos, grupo éster N-hidroxisuccinimidilo (NHS) , y combinaciones de los mismos. En modalidades alternativas, se puede utilizar un sistema de partículas, para diagnosis, prueba, muestreo, administración, empacado, transporte, manejo, y similares. En algunas modalidades, el sistema incluye unir partículas a un sustrato, tal como una superficie lisa plana. En algunas modalidades, el sistema incluye además una pluralidad de partículas arregladas en dos arreglos dimensionales en el sustrato. En algunas modalidades, la partícula incluye un componente activo seleccionado del grupo de un fármaco, un agente, un reactivo o combinaciones de los mismos.

Breve Descripción de las Figuras Se hace referencia a las Figuras anexas en las cuales se muestran modalidades ilustrativas de la materia actualmente descrita, de la cuales serán -evidentes sus nuevas características y ventajas. Las Figuras 1A-1D son una representación esquemática de una modalidad del método actualmente descrito para prepara una plantilla con patrones. Las Figuras 2A-2F es una representación esquemática del método actualmente descrito para formar una o más partículas de micro- y/o nano-escala. Las Figuras 3A-3F son una representación esquemática del método actualmente descrito para preparar una o más partículas esféricas. Las Figuras 4A-4D son una representación esquemática del método actualmente descrito para fabricar partículas poliméricas cargadas. Por ejemplo, la Figura 4A representa la carga electrostática de la partícula moldeada durante la polimerización o cristalización; la Figura 4B representa un nano-disco cargado; la Figura 4C representa la yuxtacolocación aleatoria típica de nano-discos no cargados; la Figura 4D representa la agregación espontánea de nano-discos cargados en estructuras tipo cadena. Las Figuras 5A-5C son una ilustración esquemática de partículas de múltiples capas que se pueden formar usando el método de litografía blanda actualmente descrita. Las Figuras 6A-6C son una representación esquemática del método actualmente descrito para elaborar nanoestructuras tridimensionales usando una técnica de litografía blanda. Las Figuras 7A-7F son una representación esquemática de una modalidad del método actualmente descrito para preparar una estructura compleja multi-dimensional . Las Figuras 8A-8E son una representación esquemática del proceso de litografía de impresión actualmente descrito que da por resultado una "capa de escoria" .

Las Figura 9A-9E son una representación esquemática del método de litografía de impresión actualmente descrito, que elimina la "capa de escoria" al usar una plantilla, con patrones, no humectante, funcionalizada, y un sustrato no humectante. Las Figuras 10A-10E son una representación esquemática del método de micro-moldeo asistido con solvente (SAMIM) actualmente descrito para formar un patrón en un sustrato . La Figura 11 es una micrografía electrónica de exploración de un original de silicio que incluye patrones en forma de flecha de 3 |M. La Figura 12 es una micrografía electrónica de exploración de un original de silicio que incluye patrones cónicos de 500 mm que son <50 nm en la punta. La Figura 13 es una micrografía electrónica de exploración de un original de silicio que incluye patrones trapezoidales de 200 nm. La Figura 14 es una micrografía electrónica de exploración de partículas trapezoidales aisladas de 200 nm de diacrilato de poli (etilenglicol ) (PEG) . La Figura 15 es una micrografía electrónica de exploración de partículas cónicas aisladas de 500 nm de PEG de acrilato. La Figura 16 es una micrografía electrónica de exploración de partículas en forma de flecha aisladas de 3 µp? de diacrilato de PEG. La Figura 17 es una micrografía electrónica de exploración de partículas en forma rectangular de 200 nm x 750 nm x 250 nm de diacrilato de PEG. La Figura 18 es una micrografía electrónica de exploración de partículas trapezoidales aisladas de 200 nm de triacrilato de trimetilolpropano (TMPTA) . La Figura 19 es una micrografía electrónica de exploración de partículas cónicas aisladas de 500 nm de TMPTA. La Figura 20 es una micrografía electrónica de exploración de partículas cónicas aisladas de 500 nm de TMPTA, que se han impreso usando una modalidad del método de litografía de impresión no humectante actualmente descrito y recolectado mecánicamente usando una cuchilla. La Figura 21 es una micrografía electrónica de exploración de partículas trapezoidales aisladas de 200 nm de poli (ácido láctico) (PLA) . La Figura 22 es una micrografía electrónica -de exploración de partículas trapezoidal-es aisladas de 200 nm de poli (ácido láctico) (PLA), que se han impreso usando una modalidad del método de litografía de impresión no humectante actualmente descrito y recolectado mecánicamente usando una cuchilla . La Figura 23 es una micrografía electrónica de exploración de partículas en forma de flecha aisladas de 3 Jm de PLA. La Figura 24 es una micrografía electrónica de exploración de partículas de forma cónicas aisladas de 500 nm de PLA. La Figura 25 es una micrografía electrónica de exploración de partículas trapezoidales aisladas de 200 nm de poli(pirrol) (Ppy). La Figura 26 es una micrografía electrónica de exploración de partículas de Ppy en forma de flecha de 3 µp?. La Figura 27 es una micrografía electrónica de exploración de partículas de Ppy en forma cónica de 500 nm. Las Figuras 28A-28C son micrografías confocales fluorescentes de partículas trapezoidales aisladas de 200 nm de diacrilato de PEG que contiene ADN fluorescentemente marcado. La Figura 28A es una micrografía confocal fluorescente de nanopartículas de PEG trapezoidales de 200 nm que contienen hebras de ADN 24-mer que se marcan con CY-3. La Figura 28B es una micrografía óptica de las partículas trapezoidales aisladas de 200 nm de diacrilato de PEG que contienen ADN fluorescentemente marcado. La Figura 28C es la cubierta de las imágenes proporcionadas en las Figuras 28A y 28B, que muestra que cada partícula contiene ADN. La Figura 29 es una micrografía electrónica de exploración de la fabricación de nanopartículas de PEG-diacrilato de 200 nm usando "estampado doble" . La Figura 30 es una imagen de micrografía de fuerza atómica de líneas de 140 nm de TMPTA separadas por distancia de 70 nm que se fabricaron usando un molde de PFPE. Las Figuras 31A y 3IB son una micrografía electrónica de exploración de fabricación de molde de originales litográficamente generados por ases de electrones.

La Figura 31A una micrografía electrónica de exploración de originales de silicio/óxido de silicio de flechas de 3 micrones . La Figura 31B es una micrografía electrónica de exploración de originales de silicio/óxido de silicio de barras de 200 nm x 800 nm. Las Figuras 32A y 32B son una imagen micrográfica óptica de la fabricación de molde de originales de polímero fotoresistente . La Figura 32A es un original de SU-8. La Figura 32B es un molde de PFPE-DMA moldeado de un original fotolitográfico . Las Figura 33A y 33B son una micrografía de fuerza atómica de fabricación de molde de plantillas de Virus de Mosaico de Tabaco. La Figura 33A es un original. La Figura 33B es un molde de PFPE-DMA moldeado de un original de virus . Las Figuras 34A y 34B son una micrografía de fuerza atómica de fabricación de molde de originales de micelas de copolímeros de bloque. La Figura 34A es una micela de copolímero de bloque de poliestireno-poliisopreno . La Figura 34B es un molde de PFPE-DMA moldeado de una original de micela . Las Figuras 35A y 35B son una micrografía de fuerza atómica de fabricación de molde de originales de polímero de escobilla. La Figura 35A es un original de polímero de escobilla. La Figura 35B es un molde de PFPE-DMA moldeado de un original de polímero de escobilla. Las Figuras 36A-36D son representaciones esquemáticas de una modalidad de un método para funcionalizar partículas de la materia actualmente descritas. Las Figuras 37A-37F son representaciones esquemáticas de una modalidad de un método de la materia actualmente descrita para recolectar partículas de un artículo . Las Figuras 38A-38G son representaciones esquemáticas de una modalidad de un método de la materia actualmente descrita para recolectar partículas de un artículo . Las Figuras 39A-39F son representaciones esquemáticas de una modalidad de un proceso de la materia actualmente descrita para litografía de expresión en donde se modelan rasgos tridimensionales . Las Figuras 40A-40D son representaciones esquemáticas de una modalidad de un proceso de la materia actualmente descrita para recolectar partículas de un artículo . Las Figuras 41A-41E muestran una secuencia para formar partículas pequeñas a través de la evaporación de acuerdo a una modalidad de una materia actualmente descrita. La Figura 42 muestra partículas que contienen doxorubicina después de la remoción de una plantilla de acuerdo a una modalidad de la materia actualmente descrita. La Figura 43 muestra una estructura modelada con formas nanocilíndricas de acuerdo a una modalidad de la materia actualmente descrita. Las Figuras 44A-44C muestran una secuencia de impresión molecular de acuerdo a una modalidad de la materia actualmente descrita. La Figura 45 muestra una partícula marcada asociada con una célula de acuerdo a una modalidad de la materia actualmente descrita. La Figura 46 muestra una partícula marcada asociada con una célula de acuerdo a una modalidad de la materia actualmente descrita. La Figura 47 muestra partículas fabricadas a través de una técnica de moldeo abierto de acuerdo a algunas modalidades de la presente invención. Las Figuras 48A-48H muestran un proceso para revestir una semilla y semillas revestidas del proceso de acuerdo a algunas modalidades de la presente invención.

La Figura 49 muestra un identificador que tiene características identificadoras de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 50 muestra un método para introducir de forma pasiva una sustancia a una plantilla con patrones -de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 51 muestra un método para sumergir una plantilla con patrones para introducir una sustancia de presiones de la plantilla con patrones de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 52 muestra un método para hacer fluir una sustancia a través de una superficie con plantilla con patrones para introducir la sustancia de las depresiones de la plantilla con patrones de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 53 muestra el relleno de la depresión asistido con voltaje de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 54 muestra partículas formadas de métodos descritos en la presente liberadas de un molde de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 55 muestra partículas adicionales formadas de los métodos descritos en la presente y liberadas de un molde de acuerdo a la modalidad de la presente invención. La Figura 56 muestra al introducción de una sustancia que se va a moldear a una plantilla con patrones por rodamiento de gotas de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 57 muestra ángulo de humectación y relleno de molde de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 58 muestra la recolección de partículas de acuerdo a una modalidad de la presente invención; las cuestiones de recolección para PRINT. La Figura 59 muestra equilibrio de permeabilidad entre un molde y una sustancia de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 60 muestra un método para recolectar partículas con una capa de sacrificio de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 61A y 61B muestran partículas de PEG en forma de cubo fabricadas por un método de inmersión de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 62 muestra una micrografía de SEM de partículas de DEDSMA positivamente cargadas de 2 x 2 x 1 µ?? de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 63 muestra una micrografía fluorescente de partículas de DEDSMA positivamente cargada de 2 x 2 x 1 µ?? de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 64 muestra una micrografía fluorescente de una carga de calceina incorporada en partículas de DEDSMA de 2 µ?? de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 65 muestra ADNp de 2 x 2 x 1 ¡im que contiene partículas de DEDSMA positivamente cargadas: Izquierda Superior: SEM, Derecha Superior DIC, Izquierda fondo: Fluorescencia Polifluor 570 unida a partículas, Derecha Fondo: Fluorescencia de plásmi-do de control marcado con fluoresceina de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 66 muestra partículas de PEG positivamente cargadas que contienen ADNp de 2 x 2 x 1 ¡im: Izquierda Superior: SEM, Derecha Superior: DIC, Izquierda Fondo: Fluorescencia de Polifluor 570 unida a partícula, Derecha Fondo: Fluorescencia de plásmido de control marcado con fluoresceina de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 67 muestra plantillas de originales que contienen forma cilindrica de 200 nm con relaciones de aspecto variables de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 68 muestra una micrografía electrónica de exploración (a un ángulo de 45°) de partículas de 200 nm (relación de aspecto = 1:1) de producto compuesto de PEG neutrales recolectadas en la capa de recolección de poli (cianoacrilato) de acuerdo a una modalidad de la presente invención. €5 La Figura 69 muestra micrografías confocales de la captación celular de partículas de PEG-compuesto de IMPRESIÓN purificadas en células NIH 3T3, tendencias en cantidad de carga catiónica de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 70 muestra resultados de toxicidad obtenidos de un ensayo de MTT al variar tanto la cantidad de carga catiónica incorporada en una matriz de partículas, así como un efecto de la concentración de partículas en la captación celular de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 71 muestra micrografías confocales de la captación celular de partículas de PEG de IMPRESIÓN en células de NIH 3T3 en tanto que las inserciones muestran partículas recolectadas en capas adhesivas médicas antes del tratamiento celular de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 72 muestra un esquema de reacción para la conjugación de una porción marcada radioactivamente a las partículas de IMPRESIÓN de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 73 muestra la fabricación de partículas de PEG-gadolinio colgantes de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 74 muestra la formación de una partícula que contiene el ligador CDI de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 75 muestra el enlace de avidina a un ligador CDI de acuerdo a una modalidad de la invención. La Figura 76 muestra la fabricación de partículas de PEG que seleccionan como objetivo un receptor de HER2 de acuerdo a una modalidad de la presente invención. La Figura 77 muestra la fabricación de partículas de PEG que seleccionan como objetivo linfoma no de Hodgkin de acuerdo a una modalidad de la presente invención. Partícula inteligente (50-200nm) . La Figura 78 muestra un estudio fantasma de liberación controlada de partículas cargadas con dPEG-DOX al 100 % y 70 % después de una diálisis de 36 horas de acuerdo a la modalidad de la presente invención. Partículas PRINT activadas con CDI con una matriz de PEG para unión de ligando. Las Figuras 79A-79C muestran partículas fabricadas por un proceso de evaporación, de acuerdo a una modalidad de la presente invención. Las figuras 80-83 muestran los diagramas para las ecuaciones que se desarrollan durante la invención.

Descripción Detallada de la Invención La materia actualmente descrita ahora se describirá más completamente más adelante con referencia a los ejemplos anexos, en los cuales se muestran modalidades representativas. Sin embargo, la materia actualmente descrita se puede incorporar en diferentes formas y no se debe considerar como que se limita a las modalidades expuestas más adelante. Más bien, estas modalidades se proporcionan de modo que esta descripción será minuciosa y completa, y llevará completamente el alcance de las modalidades a aquellos expertos en la técnica. A menos que se defina de otro modo, todos los términos técnicos y científicos usados en la presente tienen el mismo significado como se entiende comúnmente por un experto en la técnica a la cual corresponde esta materia actualmente descrita. Todas las publicaciones, solicitudes de patente, patentes, y otras referencias mencionadas en la presente se incorporan como referencia en su totalidad. A todo lo largo de la especificación y las reivindicaciones, una forma química determinada o un nombre deben abarcar todos los estereoisómeros ópticos así como mezclas racémicas donde existan estos isómeros y mezclas . 1 . Materiales La materia actualmente descrita describe ampliamente materiales poliméricas de baj a energía superficial resistentes a solvente , derivados de moldear materiales líquidos de baj a viscosidad en una plantilla de original y luego curar el material líquido de baj a viscosidad para generar una plantilla con patrones para el uso de aplicaciones litográficas de impresión o blanda de al ta resolución, tal como modelado de replicas de micro- y nano-escala . En algunas modalidades , la plantilla con patrones o el molde incluye un material basado en elastómero resistente a solvente, tal como pero no limitado a un fluoropol mero, tal como por ejemplo, materiales basados en elastómero fluorado. Adicionalmente, la materia actualmente descrita describe moldeado por nano-contacto de materiales orgánicos para generar características de alta fidelidad usando un molde elastomérico . Por consiguiente, la materia actualmente descrita describe un método para producir micro- y nano-estructuras aisladas, independientes, de virtualmente cualquier forma usando técnicas de litografía blanda o de impresión. Las micro- y nano-estructuras representativas incluyen pero no se limitan a micro- y nano-partículas , y sustratos con micro- y nano-patrones . Las nanoestructuras descritas por la materia actualmente descrita se pueden usar en varias aplicaciones, incluyendo, pero no limitadas a, fabricaciones de semiconductores, tal como moldeado de barreras de grabado al ácido sin capas de escoria para la fabricación de dispositivos semiconductores; cristales; materiales para pantallas; celdas fotovoltaicas ; un dispositivo de celda solar; dispositivos optoelectrónicos ; ruteadores; emparrillados; dispositivos de identificación de radio frecuencia (RFID) , catalizadores; agentes de relleno y aditivos; agentes destoxificantes ; barreras de grabado al ácido; puntas de microscopio -de fuerza atómica (AFM) ; partes para nano-máquinas ; la distribución en agente terapéutico, tal como un fármaco o materiales genético; cosméticos; partículas de planarización mecánica química (CMP) ; y partículas porosas y formas de virtualmente cualquier clase que permitirá la industria de nanotecnología. Los materiales basados en elastómero, resistentes a solvente, representativos, incluyen pero no se limitan a materiales basados en elastómero fluorado. Como se usa en la presente, el término "resistente al solvente" se refiere a un material, tal como un material elastomérico que y ni se hinchan y ni se disuelven en los solventes orgánicos comunes basados en hidrocarburos o soluciones acuosas ácidas o básicas. Los materiales basados en elastómero fluorado representativos incluyen pero no se limitan a materiales basados en perfluoropoliéter (PFPE) . Un PFPE líquido fotocurable exhibe propiedades deseables para litografía blanda. Un esquema de reacción representativo para la síntesis y fotocurado de los PFPE funcionales se proporcionan en el Esquema de reacción 1.

Esquema de reacción 1. Síntesis y Fotocurado de Perfluoropoliéteres Funcionales Red PFPE Reticuíada De acuerdo a otra modalidad, un material de acuer-do a la materia actualmente descrita incluye uno o más de un constituyente fotocurable, un constituyente termocurable, y mezcla de los mismos. En una modalidad, el constituyente fotocurable es independiente del constituyente termocurable tal que el material puede experimentar múltiples curaciones. Un material que tiene una capacidad de experimentar múltiples curaciones es útil, por ejemplo, en la formación de dispositivos estratificados. Por ejemplo, un material líquido que tiene constituyentes fotocurables y termocurables puede experimentar una primera curación para formar un primer dispositivo a través de por ejemplo, un proceso de fotocuración o un proceso de termocuración. Entonces, el primer dispositivo fotocurado o termocurado se puede adherir a un segundo dispositivo del mismo material o virtualmente cualquier material similar a éste que curará térmicamente o fotocurará y se unirá al material del primer dispositivo. Al colocar el primer dispositivo y el segundo dispositivo adyacentes entre sí al someter el primer dispositivo del segundo dispositivo a un proceso de termocuaración o fotocuaración, cualquier componente que no sea activo en la primera curación se puede curar por un paso subsiguiente de curación. Posteriormente, ya sea el constituyente termocurable del primer dispositivo que se dejo sin activar por el proceso de fotocuración o los constituyentes fotocurables del primer dispositivo que se dejaron sin activar por la primera termocuracion, se activarán y unirán al segundo dispositivo. De este modo, se llegarán adherir conjuntamente el primero y segundo dispositivos. Se apreciará por un experto en la técnica que el orden de los procesos de curación es independiente y una termocuracion se presentará primero seguida por una fotocuración o una fotocuración puede presentarse primero seguida por una termocuracion. De acuerdo aún otra modalidad, se pueden incluir múltiples constituyentes termocurables en el material tal que el material se pueda someter a múltiples termocuraciones independientes. Por ejemplo, los múltiples constituyentes termocurables pueden tener diferentes intervalos de temperaturas de activación tal que el material pueda experimentar una primera termocuración a un primer intervalo de temperatura, y una segunda termocuración a un segundo intervalo de temperatura. De acuerdo aun otra modalidad, se pueden incluir múltiples constituyentes independientes fotocurables en el material tal que el material se pueda someter a múltiples fotocuraciones independientes. Por ejemplo, Los múltiples constituyentes fotocurables pueden tener diferentes intervalos de longitudes de ondas de activación tal que el material puede experimentar una primera fotocuracion a un primer intervalo de longitud de onda y una segunda fotocuracion a un segundo intervalo de longitud de onda. De acuerdo a algunas modalidades, la curación de un polímero u otro material, solución, dispersión y similar, incluye endurecimiento, tal como por ejemplo por reacción química tal como una polimerización, cambio de fase, una transición de fusión (por ejemplo, moldear por arriba del punto de fusión y enfriar después del moldeado para endurecer), evaporación, combinaciones de los mismos, y similares . En los ejemplos 7.1 hasta 7.6 proporcionan esquemas de reacción adicionales para la síntesis de perfluoropoliéteres adicionales. De acuerdo a una modalidad, «este material de PFPE tiene una energía superficial por debajo de aproximadamente 30 mN/m. De acuerdo a otra modalidad, la energía superficial del PFPE esta entre aproximadamente 10 mM/m y aproximadamente 20 mM/m. DE acuerdo a otra modalidad, el PFPE tiene una baja energía superficial de entre aproximadamente 12 mN/m y aproximadamente 15 mN/m. El PFPE es no tóxico, transparente a UV, y altamente permeable a gas; y cura en un elastómero altamente fluorado, durable, resistente con excelentes propiedades de liberación y resistencia a hinchamiento . Las propiedades de estos materiales se pueden ajustar sobre un amplio intervalo a través de la elección juiciosa de aditivos, agentes de relleno, comonómeros reactivos, y agentes de funcionalización. Estas propiedades que son deseables para modificar, incluyen, pero no se limitan a, módulo, resistencia al desgarre, energía superficial, permeabilidad, funcionalidad, modo de curación, solubilidad y características de hinchamiento, y similares. La naturaleza no hinchable y las propiedades de fácil liberación de los materiales de PFPE actualmente descritos permite que se fabriquen nanoestructuras de virtualmente cualquier material. Adicionalmente, la materia actualmente descrita se puede expander a tecnología de bandas transportadoras o rodillos de escala grande o estampado rápido que permite la fabricación de nanoestructuras a una escala industrial. En algunas modalidades, la plantilla con patrones incluye un material polimérico de baja energía superficial resistente a solvente derivado de moldeo de materiales líquidos de baja viscosidad en una plantilla de original y luego la curación de los materiales líquidos de baja viscosidad para generar una plantilla con patrones. En algunas modalidades, la plantilla con patrones incluye un material elastomérico resistente a solvente. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla con patrones y el sustrato incluye un material seleccionado al grupo que incluye un material de perfluoropoliéter, un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material de estireno, un elastómero termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolimero de triacina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. En algunas modalidades, el material de perfluoropoliéter incluye una estructura de armazón seleccionado del grupo que incluye: en donde X esta presente o ausente, y cuando esta presente incluye un grupo de remate terminal . En algunas modalidades, el material de fluoroolefina se selecciona del grupo que incluye: -(-CF-CF2-yCF2-CH2 cF-CF ¡CF2-CF -n CF, CSM en donde CSM incluye un monómero de sitio de curación. En algunas modalidades, el material de fluoroolefinas esta constituido de monómeros que incluyen tetrafluoroetileno, fluoruro de vinilideno, hexafluoropropileno , 2 , 2-bis (trifluorometil) -4 , 5-difluoro-1 , 3-dioxolo, una fluoroolefina funcional, monómero acrílico funcional, y un monómero metacrílico funcional. En algunas modalidades, el material de silicón incluye un polidimetilsiloxano funcionalizado con fluoroalquilo (PDMS) que tiene la siguiente estructura: en donde: R se selecciona del grupo que incluye un acrilato, un metacrilato, y un grupo vinilo; y Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el material estirénico incluye un monómero de estireno fluorado seleccionado del grupo que incluye: en donde Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el material -de acrilato incluye un acrilato fluorado o un metacrilato fluorado -que tiene la siguiente estructura: en donde: R se selecciona del grupo que incluye H, alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido; y Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el fluoropolímero de triacina incluye un monómero fluorado. En algunas modalidades, el monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar por una reacción de polimerización de metátesis incluye una olefina funcionalizada . En algunas modalidades, la olefina funcionalizada incluye una olefina cíclica funcionalizada. En algunas modalidades, el fluoropolímero se somete adicionalmente a un tratamiento con flúor después de la curación. En algunas modalidades, el fluoropolímero se somete a flúor elemental después de la curación. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla con patrones y el sustrato tiene una energía superficial menor de aproximadamente 18 mN/m. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla con patrones y el sustrato tiene una energía superficial menor de aproximadamente 15 mN/m. De acuerdo a una modalidad adicional, la plantilla con patrones y/o sustrato tiene una energía superficial entre aproximadamente 10 mN/m y aproximadamente 20 mN/m. De acuerdo a otra modalidad, la plantilla con patrones y/o el sustrato tiene una baja energía superficial de entre aproximadamente 12 mN/m y aproximadamente 15 mN/m.

Desde un punto de vista de propiedad, las propiedades exactas de estos materiales de moldeo se pueden ajustar al ajustar la composición de los ingredientes usados para elaborar los materiales. En particular, el módulo se puede ajustar desde bajo GPa (aproximadamente 1 MPa) a múltiples GPa.

II . Formación de Micro- y/o Nanopartículas Aisladas En algunas modalidades, la materia actualmente descrita proporciona un método para elaborar micro- y/o nanopartículas aisladas. En algunas modalidades, el proceso incluye inicialmente formar un sustrato con patrones. Volviendo ahora a la Figura 1A, se proporciona un original 100 con patrones. El original 100 con patrones incluye una pluralidad de áreas 102 de superficie no ahuecadas y una pluralidad de depresiones 104. En algunas modalidades, el original 100 con patrones incluye un sustrato grabado al ácido, tal como una oblea de silicio, que se graba al ácido en el patrón deseado para formar el original 100 con patrones. Con referencia ahora a la Figura IB, un material líquido 106, por ejemplo, una composición de fluoropolímero líquido, tal como un precursor basado en PFPE, entonces se vierte sobre el original 100 con patrones. El material líquido 106 se trata por el proceso de tratamiento Tr, por ejemplo exposición a luz UV, radiación actínica, o similar, formando de este modo un material líquido tratado 108 en el patrón deseado . Con referencia ahora a las Figuras 1C y ID, se aplica una Fuerza Fr al material líquido tratado 108 para removerlo el original 100 con patrones. Como se muestra en las Figuras 1C y ID, el material líquido tratado 108 incluye una pluralidad de depresiones 110, que son imágenes en el espejo de la pluralidad de área 102 de superficie no ahuecadas del original 100 con patrones. Continuando con las Figuras 1C y ID, el material líquido tratado 108 incluye una pluralidad de primeras áreas 112 de superficie con patrones, que son imágenes en el espejo de la pluralidad de depresiones 104 del original 100 con patrones. El material líquido tratado 108 ahora se puede usar como una plantilla con patrones para aplicaciones de litografía blanda y litografía de impresión. Por consiguiente, el material líquido tratado 108 se puede usar como una plantilla con patrones para la formación de micro- y nano-partículas aisladas. Para los propósitos de las Figuras 1A-1D, 2A-2E y 3A-3F, el esquema de numeración para estructuras similares se retiene a todo lo largo, donde es posible. Con referencia ahora a la Figura 2A, en algunas modalidades, el sustrato 200, por ejemplo, una oblea de silicio, se trata o se reviste con un material 202 no humectante. En algunas modalidades, el material no humectante 202 incluye un elastornero (tal como elastornero resistente al solvente, que incluye pero no se limita a un elastómero de PFPE) que se puede exponer a luz UV y curar para formar una capa delgada no humectante en la superficie del substrato 200. El substrato 200 también se puede hacer no humectante al tratar el sustrato 200 con agente 202 no humectante, por ejemplo una molécula pequeña, tal como un alquil- o fluoroalquil-silano, u otro tratamiento superficial. Continuando con la Figura 2A una gota 204 de una resina curable, es un monómero, o una solución de la cual se formarán las partículas deseadas entonces se coloca en el sustrato revestido 200. Con referencia ahora a 2A y la Figura 2B, la plantilla 108 con patrones (como se muestra en la Figura ID) entonces se pueden contacto con la gota 204, de una material precursor de partículas de modo que la gota 204 rellena la pluralidad de áreas ahuecadas 110 de la plantilla 108 con patrones . Con referencia ahora a las Figuras 2C y 2D, se aplica una fuerza Fa a la plantilla 108 con patrones. En tanto que no se desea que se una por ninguna teoría particular, una vez que se aplica la fuerza Fa, la afinidad de la plantilla 108 con patrones para el tratamiento 202 de superficie de revestimiento no humectante en el sustrato 200 y en combinación con el comportamiento no humectante de la plantilla 108 con patrones y el sustrato 200 revestido tratado en la superficie hace que la gota 204 se excluya de todas las áreas excepto de las áreas 110 ahuecadas. Adicionalmente, en modalidades esencialmente libres de material 202 no humectante o poco humectante con el cual se intercala la gota 204, una capa de "escoria" forma lo que interconecta los objetos que se estampan. Continuando con las Figuras 2C y 2D, el material precursor de partículas que rellenan las áreas ahuecadas 110, por ejemplo, una resina, monómero, solvente, combinaciones de los mismos, o similares, entonces se trata por un proceso Tr del tratamiento, por ejemplo, se fotocura, se trata con luz UV, o se trata con radiación actínica, a través de la plantilla 108 con patrones o se cura térmicamente en tanto que esta bajo presión, para formar una pluralidad de micro- y/o nano-partículas 206. En algunas modalidades, un material, incluyendo pero no limitado a un polímero, un compuesto orgánico, o un compuesto inorgánico, se puede disolver en un solvente, moldear usando una plantilla 108 con patrones, y se puede liberar el solvente. Continuando con las Figuras 2C y 2D, una vez que el material que rellena las áreas ahuecadas 110 se trata, se remueve la plantilla 108 con patrones del sustrato 200. Las micro- y/o nano-partículas 206 se confinan a las áreas ahuecadas 110 de la plantilla 108 con patrones. En algunas modalidades, las micro- y/o nano-partículas 206 se pueden retener en el sustrato 200 en regiones definidas una vez que se remueve la plantilla 108 con patrones. Esta modalidad se puede usar en la elaboración de dispositivos semiconductores donde esencialmente se pueden usar características libres -de capa de escoria, como barreras de grabado al ácido o como capaz conductoras, semiconductoras o dieléctricas directamente, que mitigan o reducen la necesidad de usar procesos fotolitográficos tradicionales y costosos. Con referencia ahora a las Figuras 2D y 2E, se pueden remover las micro- y/o nano-partículas 206 de la plantilla 108 con patrones para proporcionar partículas independientes por una variedad de métodos que incluyen, pero no se limitan a: (1) aplicar la plantilla 108 con patrones a una superficie que tiene una afinidad para la partícula 206; (2) deformar la plantilla 108 con patrones, usar otros métodos mecánicos, incluyendo tratamiento con ultrasonido, de una manera tal que las partículas 206 se liberan de manera natural de la plantilla 108 con patrones; (3) hinchar la plantilla 108 con patrones de forma reversible con dióxido de carbono supercrítico u otro solvente que extruirá las partículas 206; (4) lavar la plantilla 108 con patrones con un solvente que tiene una afinidad para las partículas 206 y lavarlas én la plantilla 108 con patrones; (5) aplicar la plantilla 108 con patrones a un líquido que cuando se endurece atrapa físicamente las partículas 206; (6) aplicar la plantilla 108 con patrones a un material que cuando se endurece tiene una interacción química y/o física con las partículas 206. En algunas modalidades, el método para producir y recolectar las partículas incluye un proceso por lotes. En algunas modalidades, el proceso por lotes se selecciona de uno de un proceso de semi-lotes y un proceso de lotes continuos. Con referencia ahora a la Figura 2F, se presenta esquemáticamente una modalidad de la materia actualmente descrita en donde las partículas 206 se producen en un proceso continuo. Un aparato 199 se proporciona para llevar a cabo el proceso. En realidad, en tanto que la Figura 2F presenta esquemáticamente un proceso continuo para las partículas , el aparato 199 se puede adaptar para los procesos por lotes, y para proporcionar un patrón en un sustrato continuamente o en lotes, de acuerdo con la materia actualmente descrita y en base a una revisión de la materia actualmente descrita por un experto en la técnica. Continuando, entonces, con la Figura 2F, la gota 204 del material líquido se aplica al sustrato 200' mediante el depósito 203. El sustrato 200' se puede revestir o no revestir con un agente no humectante. El sustrato 200' y la plantilla 108' con patrones se colocan en una relación separada con respecto uno al otro y también se colocan operablemente con respecto uno al otro para proporcionar el transporte de la gota 204 entre la plantilla 108' con patrones y el sustrato 200' . Se facilita el transporte a través de la provisión de poleas 208, que están en comunicación operativa con el controlador 201. A manera de ejemplos representativos no limitantes, el controlador 201 puede incluir un sistema de computo, software apropiado, una fuente de potencia, una fuente de radiación, y/o otros dispositivos adecuados para controlar las funciones del aparato 199. De esta manera, el controlador 201 proporciona la energía y control de la operación de las poleas 208 para proporcionar el transporte de la gota 204 entre la plantilla 108' con patrones y el sustrato 200'. Las partículas 206 se forman y tratan entre el sustrato 200' y la plantilla 108' con patrones por un proceso en el tratamiento TR, que también se controla por el controlador 201. Las partículas 206 se recolectan en un dispositivo 210 de inspección, que también se controla por el controlador 2?1. El dispositivo 210 de inspección proporciona uno de inspección, medición y tanto inspección como medición y una o más características de las partículas 206. Los ejemplos representativos de dispositivos 210 de inspección se describen en otra parte de la presente. A manera de modalidades adicionales de ejemplo de métodos de recolección de partículas descritos en la presente, se hace referencia a las Figuras 37A-37F y Figuras 38A-38G. En las Figuras 37A-37C y Figuras 38A-38C las partículas que se producen de acuerdo con modalidades descritas en la presente permanecen en contacto con un artículo 3700 , 3800 . El artículo 3700 , 3800 puede tener una afinidad para las partículas 3705 y 3805 , respectivamente, y las partículas pueden permanecer simples en las depresiones del molde después de la fabricación de las partículas en el mismo. En una modalidad, el artículo 3700 es una plantilla con patrones o molde con patrones como se describe en la presente el artículo 3800 es un sustrato como se describe en la presente. Con referencia ahora a las Figuras 37D-37F y Figuras 38D-38G, el material 3720, 3820 que tiene una afinidad para las partículas 3705, 3805 se ponen en contacto con las partículas 3705, 3805 en tanto que las partículas 3705, 3805 permanecen en comunicación con los artículos 3700, 3800. En la modalidad de la Figura 37D, el material 3720 se coloca en la superficie 3710. En la modalidad de la Figura 38D, el material 3820 se aplica directamente al artículo 3800 que tiene las partículas 3820. Como se ilustra en las Figuras 37E, 38D, en las modalidades, el artículo 3700, 3800 se pone en contacto de acoplamiento con el material 3720 , 3820 . En una modalidad, el material 3720 , 3820 se dispersa de este modo para revestir al menos una porción de sustancialmente todas las partículas 3705 , 3805 , en tanto que las partículas 3705 , 3805 están en comunicación con el artículo 3700 , 3800 (por ejemplo, una plantilla con patrones) . En una modalidad, ilustrada en las Figuras 37F y 38F, los artículos 3700, 3800 se disocian sustancialmente con el material 3720, 3820. En una modalidad, el material 3720, 3820 tiene una mayor afinidad para las partículas 3705, 3805 que cualquier afinidad entre el artículo 3700, 3800 y partículas 3705, 3805. En las Figuras 37F y 38F, la disasociación del artículo 3700, 3800 del material 3720, 3820 libera de este modo las partículas 3705, 3805 del artículo 3700, 3800 dejando las partículas 3705, 3805 asociadas con el material 3720, 3820. En una modalidad, el material 3720, 3820 tiene una afinidad para las partículas 3075 y 3805, el material 3720, 3820 pueden incluir una superficie adhesiva o pegajosa tal que cuando se aplique a las partículas 3705 y 3805, las partículas permanezcan asociadas con el material 3720, 3820 en lugar de con el artículo 3700, 3800. En otras modalidades, el material 3720, 3820 experimenta una transformación después de que se pone en contacto con el artículo 3700, 3800. En algunas modalidades, esta transformación es una característica inherente del material 3705, 3805. En otras modalidades, el material 3705 , 3805 se trata para inducir la transformación. Por ejemplo, en una modalidad, el material 3720 , 3820 es un epoxi que endurece después de que se pone en contacto con el artículo 3705 , 3805 . De esta manera, cuando el artículo 3700 , 3800 se desprende del epoxi endurecido, las partículas 3705 , 3805 permanecen acopladas con el epoxi y no con el artículo 3700, 3800. En otras modalidades, el material 3720, 3820 es agua que se enfría para formar hielo. De esta manera, cuando el artículo 3700, 3800 se desprende el hielo, las partículas 3705, 3805 permanecen en comunicación con el hielo y no con el artículo 3700, 3800. En una modalidad, la partícula -en unión con el hielo se pueden fundir para crear un líquido con una concentración de partículas 3705, 3805. En algunas modalidades, el material 3705, 3805 incluye, sin limitación, uno o más de un carbohidrato, un epoxi, una cera, alcohol polivinílico, polivinil-perrolidona, polibutil-acrilato, un policiano-acrilato y polimetil-metacrilato . En algunas modalidades, el material 3720, 3820 incluye, sin limitación, uno o más de líquidos, soluciones, polvos, materiales granulados, materiales semi-sólidos , suspensiones, combinaciones de los mismos, o similares. De esta manera, en algunas modalidades, el método para formar y recolectar una o más partículas incluye: (a) proporcionar una plantilla con patrones y un sustrato, en donde la plantilla con patrones incluye una primera superficie de plantilla con patrones que tiene una pluralidad de áreas ahuecadas formadas en la misma; (b) colocar un volumen de material líquido en o sobre al menos uno de: (i) la primera superficie de plantilla con patrones; (ü) la pluralidad de áreas ahuecadas; y/o (iii) un sustrato; y (c) formar una o más partículas por uno de: (i) puesta en contacto de la superficie de la plantilla con patrones del sustrato y tratamiento del material líquido; y (ii) tratamiento del material líquido. En algunas modalidades, la pluralidad de áreas ahuecadas incluye una pluralidad de cavidades. En algunas modalidades, la pluralidad de cavidades incluye una pluralidad de características estructurales. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 10 micrones a aproximadamente 1 nanómetro de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión que varía de aproximadamente 1 micrón a aproximadamente 100 nm de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 100 nm a aproximadamente 1 nm de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión tanto en el plano horizontal como vertical. En algunas modalidades, el método incluye colocar la plantilla con patrones y el sustrato en una relación separada entre sí tal que la superficie de la plantilla con patrones y el sustrato den uno hacia el otro en una alineación predeterminada . En algunas modalidades, la colocación del volumen del material líquido en uno de la plantilla con patrones o el sustrato se regula por un proceso de esparcimiento. En algunas modalidades, el proceso de esparcimiento incluye: (a) depositar un primer volumen de material líquido en uno de la plantilla con patrones y el sustrato para formar una capa del material líquido en los mismos; y (b) jalar un implemento a través de la capa de material líquido para: (i) remover un segundo volumen de material líquido de la capa de material líquido en uno de la plantilla con patrones y el sustrato; y (ii) dejar un tercer volumen de material líquido en uno de la plantilla con patrones y el sustrato. En algunas modalidades, se pone en contacto un artículo con la capa de material líquido y se aplica una fuerza al artículo para remover de este modo el material líquido de uno del material con patrones y el sustrato. En algunas modalidades, el artículo se selecciona del grupo que incluye un rodillo, un dispositivo tipo cuchilla "de goma", una almohadilla polimérica no plana, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el material líquido se remueve por algún otro aparato mecánico. En algunas modalidades, la puesta en contacto de la superficie de la plantilla con patrones con el sustrato fuerza esencialmente todo el material liquido colocado de entre la superficie de la plantilla con patrones y el sustrato. En algunas modalidades, el tratamiento del material líquido incluye un proceso seleccionado del grupo que incluye un proceso térmico, un cambio de fase, un proceso evaporativo, un proceso fotoquímico, y un proceso químico. En algunas modalidades como se describe -en detalle más adelante en la presente, el método incluye además: (a) reducir el volumen del material líquido colocado en la pluralidad de áreas ahuecadas por uno de: (i) aplicar una presión de contacto a la superficie de la plantilla con patrones; y (ii) permitir que un segundo volumen de líquido se evapore o permeé a través de la plantilla; (b) remover la presión de contacto aplicada a la superficie de la plantilla con patrones; (c) introducir gas dentro de las áreas ahuecadas de la superficie de la plantilla con patrones; (d) tratar el material líquido para formar una o más partículas dentro de las áreas ahuecadas de la superficie de plantilla con patrones; y (e) liberar una o más partículas. En algunas modalidades, la liberación de una o más partículas se realiza por al menos uno de: (a) aplicar la plantilla con patrones a un sustrato, en donde el sustrato tiene una afinidad para una o más partículas; (b) deformar la plantilla con patrones tal que se liberen una o más partículas de la plantilla con patrones; (c) hinchar la plantilla con patrones con un primer solvente para extruir una o más partículas; (d) lavar la plantilla con patrones con un segundo solvente, en donde el segundo solvente tiene una afinidad para una o más partículas; (e) aplicar una fuerza mecánica a una o más partículas ; (f) aplicar la plantilla con patrones a un líquido que cuando se endurece atrapa físicamente las partículas; y (g) aplicar la plantilla con patrones a un material que cuando se endurece tiene una interacción química y/o física con las partículas. En algunas modalidades, la fuerza mecánica se aplica al poner en contacto uno de una cuchilla y una escobilla con una o más partículas. En algunas modalidades, la fuerza mecánica se aplica por medios ultrasónicos, megasónicos, electroestáticos o magnéticos. En algunas modalidades, el método incluye recolectar o colectar las partículas. En al-gunas modalidades, la recolección o colección de las partículas incluye un proceso seleccionado del grupo que incluye raspar con una cuchilla, un proceso de cepillado, un proceso de disolución, un proceso de ultrasonido, un proceso megasónico, un proceso electrostático, y un proceso magnético. En algunas modalidades, la recolección o colección de las partículas incluye aplicar un material a al menos una porción de una superficie de la partícula en donde el material tiene una afinidad para las partículas. En algunas modalidades, el material incluye una superficie adhesiva o pegajosa. En algunas modalidades, el material incluye, sin limitación, uno o más de un carbohidrato, un epoxi, una cera, alcohol poliviníl co, polivinil-pirrolidona, polibutil-acrilato, policiano-acrilato, un polihidroxietil-metacrilato, un ácido poliacrílico y polimetil-metracrilato . En algunas modalidades, la recolección o colección de las partículas incluye enfriar agua para formar hielo (por ejemplo, en contacto con las partículas) . En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe una partícula o una pluralidad de partículas formadas por los métodos descritos en la presente. En algunas modalidades, la pluralidad de partículas incluye una pluralidad de partículas monodispersas . De acuerdo a algunas modalidades, las partículas monodispersas son partículas que tienen una característica física que cae dentro de un límite de tolerancia de distribución normalizada de tamaños. De acuerdo a algunas modalidades, la característica de tamaño, o parámetro, que se analiza es en el área superficial, circunferencia, una dimensión lineal, masa, volumen, forma tridimensional, forma o similar. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas tienen una distribución normalizada de tamaño de entre aproximadamente 0 .80 y aproximadamente 1 .20, entre aproximadamente 0 .90 y aproximadamente 1 .10, entre aproximadamente 0 .95 y aproximadamente 1 .05, entre aproximadamente 0 .99 y aproximadamente 1 .01, entre aproximadamente 0.999 y aproximadamente 1.001, y combinaciones de los mismos, y similares. Adicionalmente, en otras modalidades, las partículas tienen una monodispersidad. De acuerdo a algunas modalidades, la dispersidad se calcula al promediar una dimensión de las partículas. En algunas modalidades, la dispersidad se basa en, por ejemplo, área superficial, longitud, ancho, altura, masa, volumen, porosidad, o combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, la partícula o pluralidad de partículas se selecciona del grupo que incluye un dispositivo semiconductor, un cristal, un vector de distribución de fármaco, un vector de distribución génica, un dispositivo de detección de enfermedades, un dispositivo de localización de enfermedades, un dispositivo fotovoltaico, un porógeno, un cosmético, un electreto, un aditivo, un catalizador, un censor, un agente destoxificante, un abrasivo, tal como un CMP, un sistemca micro-electro-mecánico (MEMS) , un núcleo celular, un identificado , un agente farmacéutico, y un biornarcador . En algunas modalidades, la partícula o pluralidad de partículas incluye una estructura independiente. De acuerdo a algunas modalidades, se puede incorporar un material en una composición de partículas 0 una partícula de acuerdo a la presente invención, para tratar o diagnosticar enfermedades que incluyen, pero no se limitan a, Alergias, Anemia; Trastornos de Ansiedad, Enfermedades Autoinmunitarias ; Lesiones de Espalda y Cuello; Defectos de Nacimiento, Trastornos Sanguíneos; Enfermedades Óseas; Cánceres; Enfermedades de Circulación; Condiciones Dentales; Trastornos Depresivos; Trastornos de Digestión y Nutrición; Trastornos Disociativos; Condiciones de las Orejas; Trastornos de Alimentación; Condiciones del Ojo; Enfermedades Relacionadas a Alimentos; Enfermedades Gastrointestinales; Trastornos Genéticos; Enfermedades Cardiacas; Condiciones Relacionadas a Calor y Sol; Trastornos Hormonales; Trastornos de Control de Impulsos; Enfermedades Infecciosas; Picaduras y Aguijonazos de Insectos; Institutos; Enfermedades del Riñon; Leucodistrofias ; Enfermedades del Hígado; Trastornos de Salud Mental; Enfermedades Metabólicas; Trastornos del Humor; Trastornos Neurológicos ; Organizaciones; Trastornos de Personalidad; Fobias; Complicaciones de Embarazo; Enfermedades por Priones; Enfermedades de Próstata; Registros; Enfermedades Respiratorias; Trastornos Sexuales; Enfermedades Sexualmente Transmitidas; Condiciones Cutáneas; Trastornos del Sueñe-Trastornos del Habla-Lenguaje; Lesiones Deportivas; Enfermedades de Tiroides, Enfermedades Tropicales; Trastornos Vestibulares; Enfermedades Relacionadas al Agua; y otras enfermedades tal como se encuentra en http://www.mic.ki.se/Diseases/Alphalist.html, que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad incluyendo cada referencia citada en el mismo. Adicionalmente, en algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe un método para fabricar objetos líquidos aislados, el método que incluye (a) poner en contacto un material líquido con la superficie de un primer material de baja energía superficial; (b) poner en contacto la superficie de un segundo material de baja energía superficial con el líquido, en donde al menos una de las superficies de ya sea el primero o segundo material de baja energía superficial está grabada con patrones; (c) sellar las superficies del primero y segundo materiales de baja energía superficial de forma conjunta; y (d) separar los dos materiales de baja energía superficial para producir un patrón de replica que incluye gotas líquidas. En algunas modalidades, el material líquido incluye poli (etilenglicol ) -diacrilato . En algunas modalidades, el material de baja energía superficial incluye perfluoropolieter-diacrilato . En algunas modalidades, sé usa un proceso químico para sellar las superficies del primero y segundo materiales de baja energía superficial. En algunas modalidades, se usa un proceso físico para sellar las superficies del primero y segundo materiales de baja energía superficial. En algunas modalidades, una de las superficies del material de baja energía superficial está grabado con patrones. En algunas modalidades, una de las superficies del material de baja energía superficial no está grabada con patrones. En algunas modalidades, el método incluye además usar el patrón de replica compuesto de gotas líquidas para fabricar otros objetos. En algunas modalidades, el patrón de replica de las gotas líquidas se forma en la superficie del material de baja energía superficial que no está grabado en patrones. En algunas modalidades, las gotas líquidas experimentan solidificación directa o parcial. En algunas modalidades, las gotas líquidas experimentan una transformación química. En algunas modalidades, la solidificación de las gotas líquidas o la transformación química de las gotas líquidas produce objetos autoestables . En algunas modalidades, los objetos autoestables se recolectan. En algunas modalidades, se unen en su lugar los objetos autoestables. En algunas modalidades, los objetos independientes o autoestables se solidifican directamente, se solidifican parcialmente o se transforman químicamente. En algunas modalidades, las gotas líquidas se solidifican directamente, se solidifican de forma parcial o se transforman químicamente sobre o en la plantilla con patrones para producir objetos incrustados en las opresiones de la plantilla con patrones. En algunas modalidades, los objetos incrustados se recolectan. En algunas modalidades, los objetos incrustados se unen en su lugar. En algunas modalidades, los objetos incrustados se usan en otros procesos de fabricación. En algunas modalidades, el patrón de replica de las gotas líquidas se transfiere a otras superficies. En algunas modalidades, la transferencia toma lugar antes del proceso de solidifican o transformación química. En algunas modalidades, la transferencia toma lugar después del proceso de solidificación o transformación química. En algunas modalidades, la superficie a la cual se transfiere el patrón de replica de las gotas líquidas se selecciona del grupo que incluye una superficie de no baja energía superficial, una superficie de baja energía superficial, una superficie fusionalizada, y una superficie de sacrificio. En algunas modalidades, el método produce un patrón en una superficie que está esencialmente libre de una o más capas de escoria. En algunas modalidades, el método se usa para fabricar semiconductores y otros dispositivos electrónicos y fotónicos o arreglos. En algunas modalidades, el método se usa para crear objetos autoestables. En algunas modalidades, el método se usa para crear objetos tridimensionales usando múltiples pasos de modelado. En algunas modalidades, el objeto aislado o con patrones incluye materiales seleccionados del grupo que incluye materiales orgánicos, inorgánicos, poliméricos y biológicos. En algunas modalidades, se usa un agente adhesivo a la superficie para fijar las estructuras aisladas en una superficie . En algunas modalidades, los arreglos de gotas líquidas o los arreglos sólidos en las superficies con patrones o sin patrones se usan como dispositivos de distribución regioespecífieos o recipientes de reacción para pasos adicionales de procesamiento químico. En algunas modalidades, los pasos adicionales de procesamiento se seleccionan del grupo que incluye impresión de sistemas orgánicos, inorgánicos, poliméricos, biológicos y catalíticos sobre superficies; síntesis de materiales orgánicos, inorgánicos, poliméricos, biológicos; y otras aplicaciones en las cuales se desee distribución localizada de materiales a superficies. Las aplicaciones de la materia actualmente descrita incluye, pero no se limitan a, modelado o impresión en micro- y nano-escala de materiales . En algunas modalidades, los materiales que se van a modelar o imprimir se seleccionan del grupo que incluye las moléculas de unión a una superficie, compuestos inorgánicos, compuestos orgánicos, polímeros, moléculas biológicas, nanopartículas , virus, arreglos biológicos, y similares. En algunas modalidades, las aplicaciones de la materia actualmente descrita incluye, pero no se limitan, a las síntesis de escobillas poliméricas, modelado por catalizador para crecimiento de nanotubos de carbono de CVD, fabricación de núcleos celulares, la aplicación de capas de sacrificio con patrones, tal como polímeros resistentes al grabado ácido, y la fabricación por combinación de arreglos orgánicos, inorgánicos, poliméricos y biológicos. En algunas modalidades, se combinan técnicas de litografía de impresión no humectante y técnicas relacionadas con métodos para controlar la ubicación y orientación de los componentes químicos dentro de un objeto individual. En algunas modalidades, estos métodos mejoran el desempeño de un objeto al estructurar racionalmente el objeto de modo que se optimice para una aplicación particular. En algunas modalidades, el método incluye incorporar agentes de selección bio-objetivos biológicos en partículas para distribución de fármacos, vacunación y otras aplicaciones. En algunas modalidades, el método incluye diseñar las partículas para incluir un motivo de reconocimiento biológico específico. En algunas modalidades, el motivo de reconocimiento biológico incluye biotina-avidina y/o otras proteínas.

En algunas modalidades, el método incluye adaptar la composición química de estos materiales y controlar las condiciones de reacción, por lo que entonces es posible organizar los motivos de bioreconocimiento de modo que se optimice la eficacia de la partícula. En algunas modalidades, las partículas se diseñan y sintetizan de modo que los elementos de reconocimiento se localizan en la superfici-e de la partícula de una manera tal que sean accesibles a los sitios de unión celular, en donde el núcleo de la partícula se conserva para contener agentes bioactivos, tal como moléculas terapéuticas. En algunas modalidades, se usa un método de litografía de impresión no humectante para fabricar los objetos, en donde los objetos se optimizan para una aplicación particular al incorporar motivos funcionales, tal como agentes de bioreconocimiento, en la composición del objeto. En algunas modalidades, el método incluye además controlar la estructura de microescala y nanoescala del objeto al usar métodos seleccionados del grupo que incluye de auto-montaje, procedimientos de fabricación gradual, condicionas de reacción, composición química, reticulación, ramificación, unión por hidrógeno, interacciones iónicas, interacciones covalentes y similares. En algunas modalidades, el método incluye además controlar la estructura de microescala y nanoescala del objeto al incorporar precursores químicamente organizados en el objeto. En algunas modalidades, los precursores químicamente organizados se seleccionan del grupo que incluye copolímeros de bloque y estructuras núcleo-coraza . En algunas modalidades, una técnica de litografía de impresión no humectante es escalable y ofrece una ruta directa simple a la fabricación de partículas sin el uso de copolímeros de bloque auto-montados, difíciles de fabricar, y otros sistemas .

II.A. Materiales de la Plantilla con Patrones y Sustrato En algunas modalidades del método para formar una o más partículas, la plantilla con patrones incluye un material polimétrico de baja energía superficial, resistente a solvente derivado del moldeo de materiales líquidos de baja viscosidad en una plantilla de original y luego curar los materiales líquidos de baja viscosidad para generar una plantilla con patrones. En algunas modalidades, la plantilla con patrones incluye un material elastomérico resistente a solventes. En algunas modalidades, al menos una de la plantilla con patrones y el sustrato incluye un material seleccionado del grupo que incluye un material de perfluoropoliéter, un material de fluorolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastómer-o termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. En algunas modalidades, el material de perfluoropoliéter incluye una estructura seleccionada del grupo que incluye: en donde X está presente o ausente, y cuando está presente incluye un grupo de remate terminal . En algunas modalidades, el material de fluorolefina se selecciona del grupo que incluye: en donde CSM incluye un monómero de sitio de curación. En algunas modalidades, el material de fluoroléfina se elabora de monómeros que incluyen tetrafluoroetileno, fluoruro de vinilideno, hexafluoropropileno, 2,2-bis (trifluorometil) -4, 5-difluoro-1 , 3-dioxol, una fluoroléfina funcional, monómero acrilico funcional, y un monómero metacrílico funcional. En algunas modalidades, el material de silicón incluye un polidimetilsiloxano funcionarizado con fluoroalquilo (PDMS) que tiene la siguiente estructura: en donde: R se selecciona del grupo que incluye un acrilato, un metacrilato y un grupo vinilo; y Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el material estirénico incluye un monómero de estireno fluorado seleccionado del grupo que incluye: en donde Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el material de acrilato incluye un acrilato fluorado o un metacrilato fluorado que tiene la siguiente estructura: R I I o I Rf en donde: R se selecciona del grupo que incluye H, alquilo, alquilo sustituido, arilo, y arilo sustituido; y Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el fluoropolímero de triazina incluye un monómero fluorado. En algunas modalidades, el monómero fluorado u oligomero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis incluye una olefina funcionalizada . En algunas modalidades, la olefina funcionalizada incluye una olefina cíclica funcionalizada. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla con patrones y el sustrato tiene una energía superficial menor de 18 mN/m. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla con patrones y el sustrato tiene una energía superficial menor de 15 mN/m. De acuerdo a una modalidad adicional, la plantilla con patrones y/o el sustrato tiene una energía superficial entre aproximadamente 10 mN/m y aproximadamente 20 mN/m. De acuerdo a otra, la plantilla con patrones y/o el sustrato tiene una baja energía superficial entre aproximadamente 12 mN/m y aproximadamente 15 mN/m. En algunas modalidades, el sustrato se selecciona del grupo que incluye un material de polímero, un material inorgánico, un material de silicio, un material de cuarzo, un material de vidrio, y variantes tratadas en la superficie de los mismos. En algunas modalidades, el sustrato incluye un área con patrones . De acuerdo a una modalidad alternativa, el material de PFPE incluye un bloque de uretano como se describe y muestra en las siguientes estructuras: Meíacrilato tetrafuncional de PFPE-urelano Acrilato de PFPE-uretano De acuerdo a una modalidad de la material actualmente descrita, los materiales de metacrilato tetrafuncionales de PFPE-uretano, tal como el material descrito anteriormente, se pueden usar como los materiales y los métodos de la materia actualmente descrita o se pueden usar en combinación con otros materiales y métodos descritos en la presente. En algunas modalidades, la plantilla con patrones incluye una plantilla con patrones formada por un proceso de moldeado de réplica. En algunas modalidades, el proceso de moldeado de réplica incluye: proporcionar una plantilla de original; poner en contacto un material líquido con la plantilla de original; y curar el material líquido para formar una plantilla con patrones. En algunas modalidades, la plantilla de original incluye, sin limitación, uno o más de una plantilla formada de un proceso de litografía, una plantilla que se presenta de forma natural, o combinaciones de las mismas, o similares. En algunas modalidades, la plantilla natural se selecciona de una de una estructura biológica y una estructura auto-montada. En algunas modalidades, una de la estructura biológica y la estructura auto-montada se selecciona del grupo que incluye un cristal que se presenta de forma natural, una enzima, un virus, una proteína, una micela, y una superficie de tejido. En algunas modalidades, el método incluye modificar la superficie de la plantilla con patrones por un paso de modificación de superficie. En algunas modalidades, el paso de modificación de superficie se selecciona del grupo que incluye un tratamiento de plasma, un tratamiento químico, y un proceso de adsorción. En algunas modalidades, el proceso de adsorción incluye adsorber moléculas seleccionadas del grupo que incluye un polielectrolito, un poli (alcohol vinílico) , un alquilhalosilano, y un ligando.

II. B. Micro- y Nano-Partículas De acuerdo a algunas modalidades de la materia actualmente descrita, se forma una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde (por ejemplo, la partícula tiene una forma que refleja la forma del molde dentro del cual se formó la partícula) que tiene una forma deseada y es menor de aproximadamente 100 um en una dimensión determinada (por ejemplo, dimensión mínima, intermedia o máxima) . En algunas modalidades, la partícula es una partícula de nano-escala. De acuerdo a algunas modalidades, la partícula de nano-escala tiene una dimensión, tal como un diámetro o medición lineal que es menor de 500 micrones. La dimensión se puede medir a través de la porción más grande de la partícula que corresponde al parámetro que se mide. En otras modalidades, la dimensión es menor de 250 micrones. En otras modalidades, la dimensión es menor de 100 micrones. En otras modalidades, la dimensión es menor de 50 micrones. En otras modalidades, la dimensión es menor de 10 micrones. En otras modalidades, la dimensión está entre 1 nm y 1,000 nm. En otras modalidades, la dimensión es menor de 1,000 nm. En otras modalidades, la dimensión está entre 1 nm y 500 nm. En aún otras modalidades, la dimensión está entre 1 nm y 100 nm. La partícula puede ser de un material orgánico o un material inorgánico y puede ser un compuesto uniforme o componente uniforme o una mezcla de compuestos o componentes. En algunas modalidades, un material orgánico moldeado con los materiales y métodos de la presente invención incluyen un material que incluye una molécula de carbono. De acuerdo a algunas modalidades, la partícula puede ser de un material de alto peso molecular. De acuerdo a algunas modalidades, una partícula se compone de una matriz que tiene una energía superficial predeterminada. En algunas modalidades, el material que forma la partícula incluye más de aproximadamente 50 por ciento del líquido. En algunas modalidades, el material que forma la partícula incluye menos de aproximadamente 50 por ciento de líquido. En algunas modalidades, el material que forma la partícula incluye menos de aproximadamente 10 por ciento de líquido. En algunas modalidades, la partícula incluye un agente terapéutico de diagnóstico acoplado con la partícula. El agente terapéutico del diagnostico se puede acoplar físicamente o acoplar químicamente con la partícula, abarcada dentro de la partícula, abarcada al menos parcialmente dentro de la partícula, acoplada al exterior de la partícula, o combinaciones de los mismos, y similares. El agente terapéutico puede ser un fármaco, un producto biológico, un ligando, un oligopéptido, un agente de tratamiento de cáncer, un agente de tratamiento viral, un agente de tratamiento bacteriano, un agente de tratamiento fungoideo, combinaciones de los mismos, o similares. De acuerdo a algunas modalidades, la partícula es hidrófila tal que la partícula evite la depuración por el organismo biológico, tal como un humano. De acuerdo a otras modali-dades , la partícula se puede revestir de forma sustancial. El revestimiento, por ejemplo, puede ser un revestimiento a base de azúcar donde el azúcar es preferentemente una glucosa, sacarosa, maltosa, derivados de los mismos, y combinaciones de los mismos o similares . En aún otras modalidades, la partícula puede incluir una ubicación funcional tal que la partícula se pueda usar como un material analítico. De acuerdo a estas modalidades, una partícula incluye una impresión molecular funcional. La impresión molecular funcional puede incluir monómeros funcionales arreglados como una imagen negativa de una plantilla funcional. La plantilla funcional, por ejemplo, puede pero no se limita a, equivalentes de tamaño y forma químicamente funcionales de una enzima, una proteína, un antibiótico, un antígeno, una secuencia de nucleótidos, un aminoácido, un fármaco, un producto biológico, ácido nucleico, combinaciones de los mismos y similares. En otras modalidades, la partícula misma, por ejemplo, puede ser, pero no se limita a, una molécula funcional artificial. En una modalidad, la molécula funcional artificial es una partícula funcionalizada que se ha moldeado de una impresión molecular. Como tal, una impresión molecular se genera de acuerdo con los métodos y materiales de la materia actualmente descrita y entonces se forma una partícula de la impresión molecular, de acuerdo con métodos y materiales adicionales de la materia actualmente descrita. Esta molécula funcional o artificial incluye propiedades estéricas y químicas sustancialmente similares de una plantilla de impresión molecular. En una modalidad, los monómeros funcionales de la partícula funcionalizada se arreglan sustancialmente como una imagen negativa de grupos funcionales de la impresión molecular. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas formadas en las plantillas con patrones descritas en la presente son menores de aproximadamente 10 um en una dimensión. Las modalidades, la partícula está entre aproximadamente 10 um y aproximadamente 1 um de dimensión. En aún modalidades adicionales, la partícula es menos de aproximadamente 1 um de dimensión. De acuerdo a algunas modalidades, la partícula está entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 500 nm en una dimensión. De acuerdo a otras modalidades, la partícula está entre aproximadamente 10 nm y aproximadamente 200 nm en dimensión. En aún modalidades adicionales, la partícula está entre aproximadamente 80 nm y 120 nm en una dimensión. De acuerdo aún modalidades adicionales, la partícula está entre aproximadamente 20 nm y aproximadamente 120 nm en una dimensión. La dimensión de la partícula puede ser una dimensión predeterminada, o un diámetro en sección transversal, una dimensión circunferencial, o similar. De acuerdo a modalidades adicionales, la partículas incluyen características con patrones que son de aproximadamente 2 nm en una dimensión. En aún modalidades adicionales, las características con patrones están entre aproximadamente 2 nm y aproximadamente 200 nm. En otras modalidades, la partícula es menos de aproximadamente 80 nm en una dimensión más ancha. De acuerdo a otras modalidades, las partículas producidas por los métodos y materiales de la materia actualmente descrita tienen un índice de polidispersión decir, distribución normalizada de tamaño ) de entre aproximadamente 0.80 y aproximadamente 1 .20, ent e aproximadamente 0.90 y aproximadamente 1 .10, entre aproximadamente 0.95 y aproximadamente 1 .05, entre aproximadamente 0.99 y aproximadamente 1 .01, entre aproximadamente 0.999 y aproximadamente 1.001, combinaciones de los mismos, y similares. Adicionalmente, en otras modalidades, la partícula tiene una mono-dispersidad. De acuerdo a algunas modalidades, la dispersidad se calcula al promediar una dimensión de las partículas . En algunas modalidades, la dispersidad se basa en, por ejemplo, área superficial, longitud, ancho, altura, masa, volumen, porosidad, combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo a otras modalidades, se pueden elaborar partículas de muchas configuraciones de forma y tamaño regulares e irregulares predeterminadas con los materiales y métodos de la materia actualmente descrita. Los ejemplos, de formas representativas de partículas que se pueden hacer usando los materiales y métodos de la materia actualmente descrita incluyen, pero no se limitan a, no esférica, esférica, en forma viral, en forma bacteriana, en forma celular, en forma de varilla, (por ejemplo, donde la varilla es menos de aproximadamente 200 nm de diámetro) , de forma quiral, de forma de triángulo recto, en forma plana (por ejemplo, con un espesor de aproximadamente 2 nm, en forma de disco con un espesor de más de aproximadamente 2 nm, o similar) , en forma de búmeran, combinaciones de los mismos, y similares . En algunas modalidades, el material del cual se forman las partículas incluyen, sin limitación, uno o más de un polímero, un polímero líquido, una solución, un monómero, una pluralidad de monómeros, un iniciador de polimerización, un catalizador de polimerización, un precursor inorgánico, un material orgánico, un producto natural, un precursor metálico, un agente farmacéutico, una marca, un material magnético, un material paramagnético, un ligando, un péptido de penetración celular, un porógeno, un agente tensioactivo, una pluralidad de líquidos invisibles, un solvente, una especie cargada, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el monómero incluye butadienos, estírenos, propeno, acrilatos, metacrilatos , vinil-cetonas , vinil-ésteres , vinil-acetatos , cloruros de vinilo, fluoruros de vinilo, vinil-éteres , acrilonitrilo, metacrilnitrilo, arcrilamida, metacrilamida acril-acetatos , fumaratos, maleatos, etilenos, propilenos, tetrafluoroetileno, éteres, isobutileno, fumaronitrilo, alcoholes vinílieos, ácidos acrílieos, amidas, carbohidratos, ésteres, uretanos, siloxanos, formaldehído, fenol, urea, melamina, isopreno, isocianatos, epóxidos, bisfenol A, alcohol-es, clorosilanos , dihaluros, dienos, alquil-olefinas , cebonas, aldehidos, cloruro de vinilideno, anhídridos, sacárido, acetilenos, naftálenos, piridinas, lactamas, lactosas, ac tales, tiiranos, episulfuro, péptidos, derivados de los mismos y combinaciones de los mismos. En aún otras modalidades, el polímero incluye poliamidas, proteínas, poliésteres, poliestireno, poliéteres, policetonas, polisulfonas , poliuretanos , polisiloxanos , polisilanos, celulosa, amilasa, poliacetales , polietileno, glicoles, poli (acrilatos ) , poli (metacrilatos) , poli(alcohol vinílico) , poli (cloruro de vinilideno), poli (acetato de vinilo) , poli (etilenglicol ) , poliestireno, poliisorpreno, poliisobutilenos , poli (cloruro de vinilo), poli (propileno) , poli (ácido láctico), poliisocianatos , policarbonatos, resinas alquídicas, resinas fenólicos, resinas epoxi, polisulfuros , poliimidas, polímeros de cristal líquido polímeros heterocíclicos , polipéptidos , polímeros conductores incluyendo poliacetileno, poliquinolina, polianilina, polipirool, politiofeno, y poli (p-fenileno) , dendímeros, fluoropolímeros , derivados de los mismos, combinaciones de los mismos. En aún modalidades adicionales, el material del cual se forman las partículas incluye un agente no humectante. De acuerdo a otra modalidad, el material es un material líquido en una fase individual. En otras modalidades, el material líquido incluye una pluralidad de fases. En algunas modalidades, el material liquido incluye, sin limitación, uno o más de múltiples líquidos, múltiples líquidos invisibles, agentes tensioactivos , dispersiones, emulsiones, microemulsiones , micelas, sustancias en partículas, coloides, porógenos, ingredientes activos, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, los componentes adicionales se incluyen con el material de la partícula para funcionalizar la partícula. De acuerdo a estas modalidades, los componentes adicionales se pueden encajonar dentro de las estructuras aisladas, encajonar parcialmente dentro de las estructuras aisladas, o en la superficie exterior de las estructuras aisladas, combinaciones de los mismos, o similares. Los componentes adicionales pueden incluir pero no se limitan, a fármacos, productos biológicos, más de un fármaco, más de un producto biológico, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un agente psicoterapeutico. En otras modalidades, el agente psicoterapéutico se usa para tratar depresión y puede incluir, por ejemplo, sertralina, clorhidrato de venlafaxina, paroxetina, bupropion, citalopram, fluoxetina, mirtazapina, escitalopram, y similares. En algunas modalidades, el agente psicoterapéutico se usa para tratar esquizof enia y puede incluir, por ejemplo, olanazapina, risperidona, quetiapina, aripiprazol, ziprasidona, y similares. De acuerdo a otras modalidades, el agente psicoterapéutico se usa para tratar trastornos de déficit de atención (ADD) o trastorno de hiperactividad por déficit de atención (ADHD) , y puede incluir, por ejemplo, metilfenidato, atomoxetina, anfetamina, dextroanfetamina, y similares. En algunas otras modalidades, el fármaco es un fármaco de colesterol y puede incluir, por ejemplo, atorvastatina, simvastatina, pravastatina, .ezetimiba, rosuvastatina, fenofibrato-fluvastatina y similares. En aún unas otras modalidades, el fármaco es un fármaco cardiovascular y puede incluir, por ejemplo, amlodipina, valsartan, losartan, hidroclorotiazida, metoprolol, candesartan, ramipril, irbesartan, amlodipina, benazepril, nifedipina, carvedilol, enalapril, telemisartan, quinapril, doxazosina-mesilato, felodipina, lisinopril, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un modificador sanguíneo y puede incluir, por ejemplo, epoyetina alfa, darbepoyetina alfa, epoyetina beta, clopidogrel, pegfilgrastim, fil-grastim, enoxaparina, Factor VIIA, factor anti emofílico, inmunoglobulina y similares. De acuerdo a una modalidad adicional, el fármaco puede incluir una combinación dé los fármacos listados anteriormente. En algunas modalidades, el material de las partículas o los componentes adicionales incluidos con las partículas de la materia actualmente descrita pueden incluir, pero no se limitan, a agentes anti-infectivos . En algunas modalidades, el agente anti-infectivo se usa para tratar infecciones bacterianas y puede incluir, por ejemplo, azitromicina, amoxicilina, ácido clavulánico, levofloxacina, claritromicina, ceftriaxona, ciprofloxacina, piperacilina, tazobactam sódico, imipenem, cilastatina, linezolid, meropenem, cefuroxima, moxifloxacina y similares. En algunas modalidades, el agente anti-infectivo se usa para tratar infecciones virales y puede incluir, por ejemplo, lamivudina, zidovudina, valaciclovir , peginterferon, lopinavir, ritonavir, tenofovir, efavirenz, abacavir, lamivudina, zidovudina, atazanavir, y similares. En otras modalidades, el agente anti-infectivo se usa para tratar infecciones fúngales y puede incluir, por ejemplo, terbinafina, fluconazol, itraconazol, acetato de caspofungina, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un fármaco gastrointestinal y puede incluir por ejemplo, esomeprazol, lansoprazol, omeprazol, pantoprazol, rabeprazol, ranitidina, ondansetron, y similares. De acuerdo aún a otras modalidades, el fármaco es un fármaco respiratorio y puede incluir, por ejemplo, fluticasona, salmeterol, montelukast, budesonida, formoterol, fexofenadina, cetirizina, desloratadina, furoato de mometasona, tiotropium, albuterol, ipratropio, palivizumab, y similares. En aún otras modalidades, el fármaco es un fármaco antiartrítico y puede incluir, por ejemplo, celocoxib, infliximab, etanercept, rofecoxib, valdecoxib, adalimumab, meloxicam, diclofenaco, fentanilo, y similares. De acuerdo a una modalidad adicional, el fármaco puede incluir una combinación de los fármacos listados anteriormente. De acuerdo a modalidades alternativas, el material de las partículas o los componentes adicionales incluidos con las partículas de la materia actualmente descrita pueden incluir, pero no se limitan a un agente anticáncer y pueden incluir, por ejemplo, mostaza de nitrógeno, cisplatina, doxorubicina, docetaxel, anastrozol, trastuzumab, capecitabina, letrozol, leuprolido, bicalutamida, goserelina, rituximab, oxaliplatin, bevacizumab, irinotecan, pa-clitaxel, carboplatina, imatinib, gemcitabina, temozolomida, gefitinib, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un fármaco de diabetes y puede incluir, por ejemplo, rosiglitazona, pioglitazona, insulina, glimepirida, voglibosa, y similares. En otras modalidades, el fármaco es un anticonvulsivo y puede incluir, por ejemplo, gabapentina, topiramato, oxcarbazepina, carbamazepina, lamotrigina, divalproex, levetiracetam, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un regulador de metabolismo oseo y puede incluir, por ejemplo, alendronato, raloxifeno, risedronato, zoledrónico, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un fármaco de esclerosis múltiple y puede incluir, por ejemplo, interferon, glatiramero, copolímero-1 , y similares. En otras modalidades, el fármaco es una hormona y puede incluir, por ejemplo, somatropina, norelgestromina, noretindrona, desogestrel, progestin, estrógeno, octreotida, levotiroxina, y similares. En aún otras modalidades, el fármaco es un agente del tracto urinario, y puede incluir, por ejemplo, tamsulosin, finasterida, tolterodina, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un inmunosopresor y puede incluir, por ejemplo, micofenolato-mofetil , ciclosporina, tacrolimus, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un producto oftálmico y puede incluir, por ejemplo, latanoprost , dorzolamida, botulinum, verteporfin, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es una vacuna y puede incluir, por ejemplo, pneumococcal , hepatitis, influenza, difteria, y similares. En otras modalidades, el fármaco es un sedante y puede incluir, por ejemplo, zolpidem, zaleplon, eszopiclona, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es una terapia de enfermedad de Alzheimer y puede incluir, por ejemplo, donepexil, rivastigmina, tacrina, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es una terapia de disfunción sexual y puede incluir, por ejemplo, sildenafil, tadalafil, alprostadil, levotiroxina, y similares. En una modalidad alternativa, el fármaco es un anestésico y puede incluir, por ejemplo, sevoflurano, propofol, mepivacaina, bupivacaina, ropivacaina, lidocaina, nesacaina, etidocaina, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un fármaco de migraña y puede incluir, por ejemplo, sumatriptano, almotriptano, rizatriptano, naratriptano, y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un agente de infertilidad y puede incluir, por ejemplo, folitropina, coriogonadrotropina, menotropina, hormona estimuladora del folículo (FSH) , y similares. En algunas modalidades, el fármaco es un producto de control de peso y puede incluir, por ejemplo, orlistat, dexfenfluramina, sibutramina, y similares. De acuerdo a una modalidad adicional, el fármaco puede incluir la combinación de los fármacos listados anteriormente. En algunas modalidades, se incluyen uno o más componentes adicionales con las partículas. Los componentes adicionales pueden incluir: ligandos de selección de objetivo tal como péptidos de selección de células, péptidos de penetración celular, péptidos de receptor de integrina (GRGDSP) , hormona estimuladora de melanocitos, péptido intestinal vasoactivo, anticuerpos de ratón anti-Her2 y fragmentos de anticuerpos, y similares; vitaminas, virus; polisacáridos ; ciclodextrinas ; liposomas; proteínas; oligonucleótidos ; aptameros; nanopartículas ópticas tal como CdSe para aplicaciones ópticas; nanopartículas de borato para ayudar en objetivos de terapia de captura de neutrones de boro (BNCT) ; combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas pueden ser vehículos de distribución de fármacos de liberación controlada o programada. Un co-constituyente de la partícula, tal como un polímero, por ejemplo, se puede reticular a grados variables. Dependiendo de la cantidad de reticulación del polímero, otro co-constituyente de la partícula, tal como un agente activo, se puede configurar para que se libere de la partícula como se desee. El componente activo se puede liberar sin restricción, con liberación controlada, o se puede restringir completamente dentro de la partícula. En algunas modalidades, la partícula se puede funcionalizar de acuerdo a los métodos y materiales descritos en la presente, para dirigirse a un sitio biológico específico, célula, tejido, agente, combinaciones de los mismos, y similares. En la interacción con el estímulo biológico dirigido, un co-constituyente de la partícula se puede descomponer para empezar la liberación del co-constituyente activo de la partícula. En un ejemplo, el polímero puede ser poli (etilenglicol) (PEG), que puede estar reticulado entre aproximadamente 5 % y aproximadamente 100 . El co-constituyente activo que puede ser doxorubicina que se incluye en la partícula reticulada de PEG. En una modalidad, cuando el co-constituyente de PEG se retícula cerca de 100 %, nada de doxorubicina se le exhiba de la partícula. En ciertas modalidades, la partícula incluye una composición del material que imparte liberación controlada, retrasada, inmediata, o sostenida de la carga de la partícula o composición, tal como por ejemplo, liberación sostenida de fármaco. De acuerdo a algunas modalidades, los materiales y métodos usados para formar características de liberación controlada, retrasada, inmediata o sostenida de las partículas de la presente invención incluyen los materiales, métodos y formulaciones descritos en las solicitudes de Patentes dé los Estados Unidos Nos. 2006/0099262; 2006/0104909; 2006/0110462; 2006/0127484; 2004/0175428; 2004/0166157; y Patente de los Estados Unidos No. 6,964,780, cada uno de los cuales se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. En algunas modalidades, los agentes de formación de imágenes son el material de la partícula o se pueden incluir con las partículas. En algunas modalidades, el agente de formación de imágenes es un agente de rayos x puede incluir, por ejemplo, sulfato de bario, ioxaglato-meglumina, ioxaglato sódico, diatrizoato-meglumina, diatrizoato sódico, ioversol, iotalamato-meglumina, iotalamato sódico, iodixanol, iohexol, iopentol, iomeprol, iopamidol, iotroxato-meglumina, iopromida, iotrolano, amidotrizoato sódico, amidot izoato de meglumina, y similares. En algunas modalidades, el agente de formación de imágenes es un agente de MRI y puede incluir, por ejemplo, gadopentetato-dimeglumina, ferucarbotran, ácido gadoxetico y sódico, gadobutrol, gadoteridol, gadobenato-dimeglumina, ferumoxsil, gadoversetamida, complejos de datolinio, gadodiamida, mangafodipir , y similares. En algunas modalidades, el agente de formación de imágenes es un agente de ultrasonido y puede incluir, por ejemplo, galactosa, ácido palmítico, SF6, y similares. En algunas modalidades, el gente de formación de imágenes es un agente nuclear y puede incluir, por ejemplo, tecnetio (Tc99m) -tetrofosmina, ioflupano, tecnetio (Tc99m) -depreotida, tecnetio (Tc99m) --exametazima, fluorodesoxiglucosa (FDG) , sumario (SM153) -lexidronam, tecnetio (Tc99m) -mebrofenina, yoduro sódico (1125 e 1131), tecnetio (Tc99m) -medronato, tecnetio (Tc99m) -tetrofosmina, tecnetio (Tc99m) -fanolesomab, tecnetio (Tc99m) -mertiatida, tecnetio (Tc99m) -oxidronato, tecnetio (Tc99m) -pentetato, tecnetio (Tc99m) -gluceptato, tecnetio (Tc99m) -albúmina, tecnetio (Tc99m) -pirofosfato, talo (TI201 ) -cloruro, cromato de sodio (Cr51), citrato de galio (Ga67), indio (Inlll)-pentetreótida, albúmina yodada (1125) , fosfato crómico (P32) , fosfato sódico (P32), y similares. De acuerdo a una modalidad adicional, el agente puede incluir una combinación de los agentes, fármacos, frutos biológicos listados anteriormente y similares . De acuerdo a otras modalidades, se pueden incluir uno o más fármacos diferentes con las partículas de la materia actualmente descrita y se pueden encontrar en Physician's Desk Reference, Thomson Healthcare, 59th Bk&Cr edition (2004), que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. En algunas modalidades, las partículas se revisten con una sustancia agradable al paciente para facilitar y alentar el consumo de las partículas como vehículos de distribución oral de fármacos . Las partículas se pueden revestir o revestir sustancialmente con una sustancia (por ejemplo, una sustancia alimenticia) que puede enmascarar un sabor de la partícula y/o combinaciones de fármacos . De acuerdo algunas modalidades, la partícula se reviste con una sustancia a base de azúcar para impartir a la partícula un sabor dulce agradable. De acuerdo a otras modalidades, las partículas se pueden revestir con materiales descritos con relación a las modalidades de disolución rápida descritas anteriormente en la presente. De acuerdo a algunas modalidades, los radiotrazadores y/o radiofarmacéuticos son el material de la partícula o se pueden incluir con las partículas . Los ejemplos de radiotrazadores y/o radiofarmacéuticos que se pueden combinar con las estructuras aisladas de la materia actualmente descritas incluyen, pero no se limitan a [150] oxígeno, [150]monóxido de carbono, [150] dióxido de carbono, [150]agua, [13N] amoniaco, [18F] FDG, [18F]FMISO, [18F]MPPF, [18F]A85380, [18F] FLT, [UC] SCH23390 , [ C] flumazenil , [nC]PKlll95, [nC]PIB, [nC]AG1478, [uC]colina, [UC]AG957, [18F]nitroisatin, [18F]mostaza, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, se incluyen isótopos elementales con las partículas. En algunas modalidades, los isótopos incluyen nC, 13N, 150, 18F, 32P, 51Cr, 57Co, 67Ga, 81Kr, 82Rb, 89Sr, "Tc, mIn, 123I( 125l, 131I, 133Xe, 1S3Sm, 201TI, o similares. De acuerdo a una modalidad adicional, el isótopo puede incluir una combinación de los isótopos listados anteriormente y similares. Igualmente, las partículas pueden incluir una marca fluorescente tal que se pueda identificar la partícula. Los ejemplos de partículas fluorescentemente marcadas se muestran en las Figuras 45 y 46. La Figura 45 muestra una partícula que se ha marcado de manera fluorescente y se asocia con una membrana celular y la partícula mostrada en la Figura 46 está dentro de la célula. De acuerdo aún a modalidades adicionales, se pueden incluir agentes de contraste con el material del cual se forman las partículas o puede constituir la partícula completa o se puede enlazar al exterior de las partículas . La adición de agentes de contraste mejora la formación diagnóstica de imágenes de estructuras fisiológicas para evaluaciones clínicas y otras pruebas. Por ejemplo, las técnicas de formación de imágenes por ultrasonido comprenden frecuentemente el uso de agentes de contraste, puesto que los agentes de contraste pueden servir para mejorar la calidad y utilidad de las imágenes que se obtienen con el ultrasonido. La viabilidad de los agentes de contraste de ultrasonido actualmente disponibles y los métodos que comprenden su uso es altamente dependiente de una variedad de factores, que incluyen la región particular que se forma en imagen. Por ejemplo, se alienta la dificultad al obtener imágenes diagnósticas útiles de tejido cardiaco y la vasculatura circulante debido a, al menos en parte, el gran volumen de sangre que fluye a través de las cámaras del corazón con relación al volumen de sangre que fluye en los vasos sanguíneos del tejido cardiaco mismo. El alto volumen de sangre que fluye a través de las cámaras del corazón puede dar por resultado contraste insuficiente en las imágenes de ultrasonido de la región del corazón, especialmente del tejido del corazón. El alto volumen de la sangre que fluye a través de las cámaras del corazón también puede producir artefactos de diagnóstico que incluyen, por ejemplo, sombreado u oscurecimiento, en imágenes de ultrasonido del corazón. Los artefactos de diagnóstico pueden ser altamente indeseables puesto que pueden oculta o aún impedir la visualizacion de una región de interés. De esta manera, en ciertas circunstancias, los artefactos de diagnostico pueden volver sustancialmente inútil una imagen de diagnóstico. Además del ultrasonido, la tomografía computarizada (CT) es una técnica de formación de imágenes de diagnóstico valiosa para estudiar varias áreas del cuerpo. Al igual que el ultrasonido, la formación de imágenes por CT se mejora en su mayor parte con la ayuda de agentes de contraste. En la CT, se mide la radiodensidad (densidad de electrones) , de la materia. Debido a la similitud en las densidades medidas de los varios te idos en el cuerpo, ha sido necesario usar agentes de contraste que puedan cambiar las densidades relativas de los diferentes tejidos. Esta característica ha dado por resultado una mejora total en la eficiencia de diagnóstico de la CT. Los compuestos de bario e yodo, por ejemplo, se han desarrollado para este propósito y se pueden incluir con las partículas de la materia actualmente descrita en algunas modalidades. Por consiguiente, en otras modalidades, los agentes de contraste que se pueden usar con los materiales de la materia actualmente descrita, incluyen, por ejemplo, pero no se limitan a, sulfato de bario, medio de contraste solubles en agua yodados, combinaciones de los mismos, y similares. La formación de imágenes por resonancia magnética (MRI) es otra técnica de información de imágenes de diagnostico que se usa para producir imágenes en sección transversal de un tejido en una variedad de planos de exploración. Al igual que el ultrasonido y la CT, la MRI también se beneficia del uso de agentes de contraste. En algunas modalidades de la materia actualmente descrita, los agentes de contraste para MRI se usan con los materiales de la materia actualmente descrita para mejorar la formación de imágenes por MRI . Los agentes de contraste para la formación de imágenes por MRI que pueden ser útiles con materiales de la materia actualmente descrita incluyen, pero no se limitan a, agentes de contraste paramagnéticos, iones metálicos, iones de metal de transición, iones metálicos que se quedan con ligandos, óxidos metálicos, óxido de hierro, nitróxidos, radicales libres estables, nitróxidos estables, elementos de la serie delantánidos y actínidos, derivados lipofílieos, macromoléculas proteinaceas , alquiladas, nitróxidos, 2,2,5,5-tetrametil-l-pirrolidiniloxi , radical libre, 2,2,6,6-tetrametil-l-piperidiniloxi , radical libre, combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo aún a otras modalidades, los agentes de contraste que se pueden usar como los materiales o con los materiales de la materia actualmente descrita incluyen, pero no se limitan a, agentes de contraste superparamagnéticos, compuestos ferro- o ferri-magnéticos tal como hierro puro, óxido de hierro magnético, tal como magnetita, Y-Fe2C>3 , Fe3O4, ferrita de manganeso, ferrita de cobalto, ferrita de niquel, gases paramagnéticos tal como gas de oxígeno 17, xenón hiperpolarizado, neón, gas helio, combinaciones de los mismos, y similares. Si se desea, los agentes de contraste paramagnéticos o superparamagnéticos usados con los materiales de la materia actualmente descrita incluyen, pero no se limitan a, agentes paramagnéticos o superparamagnéticos que se pueden distribuir como alquilados o que tienen otros derivados incorporados en las composiciones, combinaciones de los mismos, y similares.

En aún otra modalidad, los agentes de contraste para técnicas de rayos X útiles para la combinaciones con las partículas de la materia actualmente descrita incluyen, pero no se limitan a, ácido carboxílico y agentes de contraste de amina no iónica que contienen típicamente al menos un grupo 2 , 4 , 6-triyodofenil que tiene sustituyentes tal como carboxilo, carbamoilo, N-alquilcarbamoilo, N-hidroxialquilcarbamoilo, acilamino, N-alquilaacilamino o acilaminometilo en las posiciones 5- y/o 3, como en ácido metrizoico, ácido diatrizoico, ácido iotalámico, ácido ioxaglico, iohexol, iopentol, iopamidol, iodixanol, iopromida, metrizamida, iodipamida, iodipamida de meglumina, acetrizoato de meglumina, diatrizoato de meglumina, combinaciones de los mismos, y similares . Aún otros agentes de contraste que se pueden incluir con los materiales de partículas de la materia actualmente descrita incluyen, pero no se limitan a, sulfato de bario, una suspensión de sulfato de bario, mezclas de bicarbonato de sodio y ácido tartárico, meglumina de lotalamato, lotalamato sódico, hidroxipropil-metilcelulosa, ferumoxsil, ioxaglato-meglumina, ioxaglato sódico, meglumina de diatrizoato, diatrizoato sódico, gadoversetamida, ioversol, yodo orgánicamente unido, metiodal sódico, meglumina de ioxitalamato, meglumina de iocarmato, metrizamida, iohexal, iopamidol, combinaciones de los mismos, y similares.

Las patentes de los Estados Unidos números 6 , 884 , 407 y 6 , 331 , 289 , junto con las referencias citadas en la presente, describen agentes de contraste que son útiles con las partículas de la materia actualmente descrita, estas referencias se incorporan como referencia en la presente junto con las referencias citadas en la presente. De acuerdo a modalidades adicionales, la partícula puede incluir o se puede formar en y usar como una marca o un identificador . Un identificador que se puede incluir en la partícula o puede ser la partícula incluye, pero no se limita a, un fluorescente, radiomarcado, magnético, biológico, específico de la forma, específico del tamaño, combinaciones de los mismos o similares. En algunas modalidades, un agente terapéutico para combinación con las partículas de la materia actualmente descrita se selecciona de uno de un fármaco y un material genético. En algunas modalidades, el material genético incluye, sin limitación, uno o más de un vector génico no viral, ADN, ARN, ARNi , una partícula viral, agentes descritos en otra parte de la presente, combinaciones de los mismos, o similares . En algunas modalidades, la partícula incluye un polímero biodegradable . En otras modalidades, el polímero se modifica para ser un polímero biodegradable <por ejemplo, un poli (etilenglicol) que se funcionaliza con un grupo disulfuro) . En algunas modalidades, el polímero biodegradable incluye, sin limitación, uno o más de un poliáster, un polianhídrido, una poliamida, un polímero basado en fósforo, un poli (cianoacrilato) , un poliuretano, un poliortoéster, un polidihidropirano, un poliacetal, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el poliéster incluye, sin limitación, uno o más de ácido poliláctico, ácido poliglicólico, poli (hidroxibutirato) , poli (e-caprolactona) , poli(P-ácido málico) , poli (dioxanonas) , combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el polianhídrido incluye, sin limitación, uno o más de poli (ácido sefoácico) , poli (ácido atípico) , poli (ácido terftálico) , combinaciones de los mismos, o similares. En aún otras modalidades, la poliamida incluye, sin limitación, uno o más de poli(imino-carbonatos) , poliaminoácidos , combinaciones de los mismos, o similares . De acuerdo a algunas modalidades, el polímero basado en fósforo incluye, sin limitación, uno o más de un polifosfato o polifosfonato, un polifosfazeno, combinaciones de los mismos, o similares. Adicionalmente, en algunas modalidades, el polímero biodegradable incluye además un polímero que es sensible a un estímulo. En algunas modalidades, el estímulo incluye, sin limitación, uno o más de pH, radiación, concentración iónica, oxidación, reducción, temperatura, un campo magnético alternante, un campo eléctrico alternante, combinaciones de los mismos o similares. En algunas modalidades, el estímulo incluye un campo magnético alternante . En algunas modalidades, se puede combinar un agente farmacéutico con el material de partícula. El agente farmacéutico puede ser, pero no se limita a, un fármaco, un péptido, AR i, ADN, combinaciones de los mismos, o similares. En otras modalidades, la marca se selecciona del grupo que incluye una marca de fluorescencia, una marca radiomarcada, un agente de contraste, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el ligando incluye un péptido de selección de objetivo celular, o similares. En el uso, las partículas de la materia actualmente descrita se pueden usar como dispositivos de tratamiento. En estos usos, la partícula se administra en una cantidad terapéuticamente efectiva a un paciente. De acuerdo aún a otros usos, la partícula se puede utilizar como una marca física. En estos usos, se usa una partícula de una forma predeterminada que tiene un diámetro menor de aproximadamente 1 µ?? en una dimensión como un identificador para identificar productos o el origen de un producto. La partícula como un identificador ya sea puede ser identificable a una forma particular a un o a una composición química particular. Los usos adicionales de las micro- y/o nano-partículas incluyen tratamientos médicos tal como ortopédico, oral, maxilofacial , y similares. Por ejemplo, las partículas descritas anteriormente que son o incluyen agentes farmacéuticos se pueden usar en combinación con procedimientos quirúrgicos y/o higiénicos tradicionales. De acuerdo a esta aplicación, las partículas se pueden usar para distribuir de manera directa y local agentes farmacéuticos, o similares, a un área de interés quirúrgico. En algunas modalidades, los medicamentos usados en medicina oral pueden combatir enfermedades orales, prevenir o tratar infecciones, controlar dolor, aliviar ansiedad, ayudar en al regeneración de tejido dañado, combinaciones de los mismos, y similares. Por ejemplo, durante los tratamientos oral o maxilofacial , frecuentemente ocurre sangrado. Como resultado, las bacterias de la boca pueden entrar directamente a la corriente sanguínea y alcanzar fácilmente el corazón. Esta ocurrencia presenta un riesgo para algunas personas con anormalidades cardiacas debido a que las bacterias pueden provocar -endocarditis bacteriana, una inflamación seria de las válvulas o tejidos cardiacos. Los antibióticos reducen este riesgo. Las técnicas tradicionales de distribución de antibióticos, sin embargo, pueden ser lentas para alcanzar la corriente sanguínea, dando de este modo a la bacteria una ventaja. Por el contrario, aplicando las partículas de la materia actualmente descrita, hechas de o que incluyen antibióticos apropiados, directamente al sitio de tratamiento oral o maxilofacial puede reducir en su mayor parte la probabilidad de una infección bacteriana seria. Estos procedimientos auxiliados por las partículas pueden incluir limpieza profesional de dientes, incisión y drenaje de tejido oral infectado, inyecciones orales, extracciones, cirugías que comprendan el seno maxilar, combinaciones de los mismos, y similares . De acuerdo a modalidades adicionales, se pueden formular composiciones y hacer en partículas de acuerdo a los materiales y métodos de la materia actualmente descrita que se diseñan para que se apliquen a dientes y encías defectuosos para impedir enfermedades, tal como dientes cariados, piorrea alveolaris, o similares. Las modalidades adicionales incluyen partículas que tienen una composición para la reparación y curación de tejido, defectos óseos y huecos óseos, resinas para dientes artificiales, resinas para lecho de dientes, y otros agentes de relleno de dientes. Por ejemplo, se pueden construir partículas de un componente basado en calcio, tal como, pero no limitado a, fosfatos de calcio, sulfabos de calcio, carbonatos de calcio, cementos óseos cálcicos, fosfato de calcio amorfo, fosfato de calcio cristalino, combinaciones de los mismos, y similares. En el uso, estas partículas se pueden aplicar localmente a un sitio de tratamiento ortopédico para facilitar la recuperación del material óseo natural. Adicionalmente, debido al pequeño tamaño de las partículas y a la capacidad para formar las partículas en prácticamente cualquier forma y configuración deseable, las partículas se pueden administrar a un sitio de interés ortopédico e interactuar con el sitio en una escala del tamaño de la partícula. Es decir, las partículas pueden integrarse en espacios muy pequeños, fisuras, separaciones y similares dentro del hueso, tal como una fractura de hueso, o entre el hueso y un implante. De esta manera, las partículas pueden distribuir materiales farmacéuticos, regenerativos o similares al sitio de tratamiento ortopédico e integrar estos materiales donde anteriormente no fue aplicable. Aún además, las partículas pueden incrementar la resistencia mecánica e integridad de la fijación de un implante óseo, tal como una fijación de articulación artificial, debido a que el control con respecto al tamaño y forma de las partículas, pueden rellenar neta y ordenadamente huecos pequeños entre el implante y el tejido óseo natural. En otras modalidades, los medicamentos para controlar dolor y ansiedad que se usan comúnmente en procedimientos orales, maxilofaciales , ortopédicos, y otros se pueden incluir en las partículas. Estos agentes que se pueden incorporar con la partícula incluyen, pero no se limitan a, medicamentos anti-inflamatorios que se usan para aliviar la incomodidad de la boca y problemas de encías, y pueden incluir corticosteroides, opioides, carprofeno, meloxicam, etodolac, diclofenac, flurbiprofeno, ibuprofeno, quetorolac, nabumetona, naproxeno, naproxeno sódico, y oxaprozinas . Se usan anestésicos orales para aliviar dolor o irritación provocados por muchas condiciones, incluyendo dolor de muelas, dentición, úlceras, o aparatos dentales, y pueden incluir articaína, epinefrina, ravocaína, novocaína, levofed, propoxicaína, procaína, norepinefrina-bitartrato, marciana, lidocaína, carbocaína, neocobefriña, mepivacaína, levonordefriña, etidocaína, diclonina, y similares. Los antibióticos se usan comúnmente para controlar el sarro y gingivitis en la boca, para tratar enlace periodontal, así como para reducir el riesgo de que las bacterias de la boca entren a la corriente sanguínea. Los antibióticos orales pueden incluir clorhexidina, doxiciclina, demeclociclina, minociclina, oxitetraciclina, tetraciclina, triclosan, clindamicina, orfloxacina, metronidazol , tinidazol, y quetoconazol . También el fluoruro puede ser o se incluye en las partículas de la materia actualmente descrita y se usa para impedir caries dental . El fluoruro se absorbe por los dientes y ayuda a fortalecer los dientes a resistir ácido y bloquea la acción formadora de caries de las bacterias. Como un barniz o un enjuague bucal, el fluoruro ayuda a reducir la sensibilidad de los dientes. Otros agentes útiles para aplicaciones dentales son sustancias tal como flavonoides, ácidos bencenocarboxílieos , benzopironas , esteroides, pilocarpina, terpenos, y similares. Aún agentes adicionales usados dentro de las partículas incluyen anetol, anisaldehído, ácido anímico, ácido cinámico, asarona, alcohol furfurílico, furfural, ácido cólico, ácido oleanólico, ácido ursólico, sitosterol, cineol, curcumina, alanina, arginina, homocerina, mannitol, verterían, bergapeteno, santonina, cariofileno, óxido de cariofileno, terpineno, quimol, terpinol, carvacrol, carvona, sabineno, inulina, lawsona, hesperedina, naringenina, flavona, flavonol, quercetina, apigenina, formonoretina, coumarina, acetil-coumarina, magnolol, honoquiol, capilarina, aloetina y similares. Los compuestos de tratamiento oral y maxilofacial aún adicionales incluyen compuestos biodegradables de liberación sostenida, tal como por ejemplo monómeros y/o polímeros del tipo (met)acrilato. Otros compuestos útiles para las partículas de la materia actualmente descrita se pueden encontrar en la patente de los Estados Unidos número 5,006,340, que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. En algunas modalidades, el proceso de fabricación de partículas proporciona control de la composición de la matriz de partículas, la capacidad para la partícula de llevar un amplia variedad de cargas, la capacidad para funcionalizar la partícula para selección de objetivo y circulación mejorada, y/o la versatilidad para configurar la partícula en diferentes formas de dosis, tal como inhalación, dermatológico, inyectable y oral , por nombras unos pocos . De acuerdo a algunas modalidades, la composición de matriz se adapta para proporcionar control con respecto a la biocompatibilidad. En algunas modalidades, la composición de matriz se adapta para proporcionar control con respecto a la liberación de la carga. La composición de matriz, en algunas modalidades, contiene materiales biocompatibles con solubilidad y/o filicidad, densidad y carga de malla controlada, degradación estimulada, y/o especificidad de forma y tamaño en tanto que mantiene monodispersidad relativa. De acuerdo a modalidades adicionales, el método para elaborar partículas que contienen carga no requiere que la carga se modifique químicamente. En una modalidad, el método para producir partículas es una técnica de procesamiento suave que permite alta carga sin la necesidad de unión covalente. En una modalidad, la carga se atrapa físicamente dentro de la partícula debido a las interacciones tal como fuerzas Van der Waals, fuerzas electroestáticas , de unión de hidrógeno, otras fuerzas intra- e inter-moleculares , combinaciones de las mismas y similares. En algunas modalidades, las partículas se funcionalizan para selección de objetivo y circulación mejorada. En algunas modalidades, estas características permiten biodisponibilidad ajustada. En una modalidad, la biodisponibilidad ajustada incrementa la eficacia de distribución. En una modalidad, la biodisponibilidad ajustada reduce los efectos secundarios . En algunas modalidades, una partícula no esférica tiene un área superficial que es mayor que el área superficial de la partícula esférica del mismo volumen. En algunas modalidades, el número de ligandos de superficie en la partícula es mayor que el número de ligandos de superficie en una partícula esférica del mismo volumen. En algunas modalidades, una o más partículas contienen mangos de porción química para la unión de la proteína. En algunas modalidades, la proteína es avidita. En algunas modalidades, los reactivos biotinilados se unen subsiguientemente a la avidina. En algunas modalidades, la proteína es una proteína de penetración celular. En algunas modalidades, la proteína es un fragmento de anticuerpo. En una modalidad, las partículas se usan para selección específica de objetivo (por ejemplo, tumores de mama en sujetos hembra) . En algunas modalidades, las partículas contienen quimioterapéuticos . En algunas modalidades, las partículas están compuestas de una densidad de reticulación o densidad de malla diseñada para permitir liberación lenta del producto quimioterapéutico . El término densidad de reticulación significa la fracción en mol de unidades de prepolímero que son puntos de reticulación. Las unidades de prepol mero incluyen monómeros, macromonómeros y similares . En algunas modalidades, las propiedades físicas de la partícula se varían para mejorar la captación celular. En algunas modalidades, el tamaño (por ejemplo, masa, volumen, longitud u otra dimensión geométrica) de la partícula se varía para mejorar la captación celular. En algunas modalidades, la carga de la partícula se varía para mejorar la captación celular. En algunas modalidades, la carga del ligando de partícula se varía para mejorar la captación celular. En algunas modalidades, la forma de la partícula se varía para mejorar la captación celular. En algunas modalidades, las propiedades físicas de la partícula se varían para mejorar la biodis tribución . En algunas modalidades, el tamaño (por ejemplo, masa, volumen, longitud u otra dimensión geométrica) de la partícula se varía para mejorar la biodis tribución . En algunas modalidades, la carga de la matriz de partículas se varía para mejorar la biodis tribución . En algunas modalidades, la carga del ligando de partícula se varía para mejorar la biodis tribución . En algunas modalidades, la forma de la partícula se varía para mejorar la biodis tribución .

En algunas modalidades, la relación de aspecto de las partículas se varía para mejorar la biodi s tribución . En algunas modalidades, las propiedades físicas de la partícula se varían para mejorar la adhesión celular. En algunas modalidades, el tamaño (por ejemplo, masa, volumen, longitud u otra dimensión geométrica) de la partícula se varía para mejorar la adhesión celular. En algunas modalidades, la carga de la matriz de partículas se varía para mejorar la adhesión celular. En algunas modalidades, la carga del ligando de partícula se varía para mejorar la adhesión celular. En algunas modalidades, la forma de la partícula se varía para mejorar la adhesión celular . En algunas modalidades, las partículas se configuran para degradarse en la presencia de un estímulo intercelular. En algunas modalidades, las partículas se configuran para degradarse en un ambiente reductor. En algunas modalidades, las partículas contienen agentes ret iculadores se configuran para degradarse en la presencia de un estímulo externo. En algunas modalidades, los agentes reticulares se configuran para degradarse en la presencia de una condición de pH, una condición de radiación, una condición de concentración iónica, una condición de oxidación, una condición de reducción, una condición de temperatura, una condición de campo magnético alternante, una condición de campo eléctrico alternante, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, las partículas contienen agentes reticuladores que se configuran para degradarse en la presencia de un estímulo externo y/o un agente terapéutico. El algunas modalidades, las partículas contienen agente reticuladores que se configuran para degradarse en la presencia de un estímulo externo, un ligando de selección de objetivo, y un agente terapéutico. En algunas modalidades, el agente terapéutico es un fármaco o un producto biológico. En algunas modalidades, el agente terapéutico es ADN, ARN, o ARNsi. En algunas modalidades, las partículas se configuran para degradarse en el citoplasma de una célula. En algunas modalidades, las partículas se configuran para degradarse en el citoplasma de una célula y liberar un agente terapéutico. En algunas modalidades, el agente terapéutico es un fármaco o un producto biológico. En algunas modalidades, el agente terapéutico es ADN, ARN, o ARNsi. En algunas modalidades, las partículas contienen poli ( et ilengl icol ) y agentes ret iculadores que se degradan en la presencia de un estímulo externo. En algunas modalidades, las partículas se usan para formación de imágenes por ultrasonido. En algunas modalidades, las partículas usadas para formación de imágenes por ultrasonido se componen de polímeros bioabsorbibles . En algunas modalidades, las partículas usadas para formación de imágenes por ultrasonido son porosas. En algunas modalidades, las partículas usados para formación de imágenes por ultrasonido se componen de poli (ácido láctico), poli (ácido D, L-láctico-co-ácido glicólico), y combinaciones de los mismos . En algunas modalidades, las partículas contienen magnetita y se usan como agentes de contraste. En algunas modalidades, las partículas contienen magnetita y se funcional i zan con grupos ligadores y se usan como agentes de contraste. En algunas modalidades, las partículas se funcional i zan con una proteína. En algunas modalidades, las partículas se funcionalizan con grupos de éster de N-hidroxisuccinimidilo . En algunas modalidades, la avidina se une a las partículas. En algunas modalidades, las partículas que contienen magnetita se unen covalentemente a avidina y se exponen aun reactivo biotinilado. En algunas modalidades, las partículas se forman para imitar estructuras naturales. En algunas modalidades, las partículas son sus tancialmente de forma celular. En algunas modalidades, las partículas están sus tancialmente en forma de células sanguíneas rojas. En algunas modalidades, las partículas están sus tancialmente en forma de células sanguíneas rojas y compuestas de una matriz con un módulo menor de 1 MPa . En algunas modalidades, las partículas se forman para imitar las estructuras naturales y contienen un agente terapéutico, un agente de contraste, un ligando de selección de objetivo, combinación de los mismos, y similares . En algunas modalidades, las partículas se configuran para producir una respuesta inmunitaria. En algunas modalidades, las partículas se configuran para estimular las células B. En algunas modalidades, las células B se estimulan por ligandos de selección de objetivo unidos covalent emente a las partículas. En algunas modalidades, las células B se estimulan por haptenos unidos a las partículas. En algunas modalidades, las células B se estimulan por antígenos unidos a las partículas. En algunas modalidades, las partículas se funcionali zan con ligandos de selección de objetivo. En algunas modalidades, las partículas se funcionalizan para seleccionar como objetivo los tumores. En algunas modalidades, las partículas se funcionalizan para seleccionar como objetivo tumores de mama. En algunas modalidades, las partículas se funcionalizan para seleccionar como objetivo el receptor de HER2. En algunas modalidades, las partículas se funcionalizan para seleccionar como objetivo tumores de mama y contener un quimioterapéutico . En algunas modalidades, las partículas se funcionalizan para seleccionar como objetivo células dendríticas. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas tienen un zeta-potencial predeterminado.

II. C. Introducción de Precursor de Partícula a Plantillas con Patrones . De acuerdo a algunas modalidades, las depresiones de las plantillas con patrones se pueden configurar para recibir una sustancia que se va a moldear. De acuerdo a estas modalidades, las variables tal como por ejemplo, la energía superficial de la plantilla con patrones, el volumen de la depresión, la permeabilidad de la plantilla con patrones, la viscosidad de la sustancia que se va a moldear así como otras propiedades físicas y químicas de la sustancia que se va a moldear interactúan y ofrecen la disposición de la depresión para recibir la sustancia que se va a moldear.

II. C. i. Relleno Pasivo de Molde De acuerdo a algunas modalidades, una sustancia 5000 que se va a moldear se introduce en una plantilla 5002 con patrones, como se muestra en la Figura 50. La sustancia 5000 se puede introducir a la plantilla 5002 con patrones como una gota, o revestimiento giratorio, una corriente líquida, una cuchilla, una gota de chorro o similar. La plantilla 5002 con patrones incluye depresiones 5012 y se puede fabricar, de acuerdo a los métodos descritos en la presente de materiales descritos en la presente tal como por ejemplo, materiales poliméricos de baja energía superficial. Debido a que la plantilla 5002 con patrones se fabrica de materiales poliméricos de baja energía superficial, la sustancia 5000 no humecta la superficie de la plantilla 5002 con patrones, sin embargo, la sustancia 5000 rellena las depresiones 5012. Entonces, se aplica un tratamiento 5008, tal como tratamientos descritos en la presente, la sustancia 5000 para curar la sustancia 5000. De acuerdo a algunas modalidades, el tratamiento 5008 puede ser, por ejemplo, foto-curación, curación térmica, curación oxidativa, evaporación, curación reductiva, combinaciones de los mismos, evaporación y similares. Después del tratamiento de la sustancia 5000, la sustancia 5000 se forma en partículas 5010 que se pueden recolectar de acuerdo a los métodos descritos en la presente. De acuerdo a algunas modalidades, el método para formar partículas incluye proporcionar una plantilla con patrones y un material líquido, en donde la plantilla con patrones incluye una primera superficie de plantilla con patrones que tiene una pluralidad de áreas ahuecadas formadas en la misma. Entonces, se deposita un volumen de material líquido sobre la primera superficie de plantilla con patrones. Un sub-volumen del material líquido entonces rellena un área ahuecada en la plantilla con patrones. Los sub-volúmenes del material líquido entonces se solidifican en un sólido o semisólido y se recolectan de las depresiones. En algunas modalidades, la pluralidad de áreas ahuecadas incluye una pluralidad de cavidades. En algunas modalidades, la pluralidad de cavidades incluye una pluralidad de características estructurales. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tienen una dimensión que varía desde aproximadamente 10 micrones a aproximadamente 1 nanómetro de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 1 micrón a aproximadamente 100 nm de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estruc urales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 100 nm a aproximadamente 1 nm de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión tanto en el plano horizontal como en el vertical.

II.C.ü. Relleno por Inmersión de Molde De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla con patrones se sumerge en la sustancia que se va a moldear, como se muestra en la Figura 51. Con referencia a la Figura 51, la plantilla 5104 con patrones se sumerge en un volumen de la sustancia 5102. La sustancia 5102 entra a las depresiones 5106 y después de la remoción de la plantilla 5104 con patrones de la sustancia 5102, la sustancia 5108 permanece en las depresiones 5106 de la plantilla 5104 con patrones .

Il.C.iii. Relleno de Molde por Gotas Móviles De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla con patrones se puede colocar en un ángulo, como se muestra en la Figura 52. Se introduce un volumen del precursor 5204 de partículas en la superficie de la plantilla 5200 con patrones que incluyen las depresiones 5206. El volumen del precursor 5204 de partículas viaja hacia debajo de la superficie inclinada de la plantilla 5200 con patrones. Conforme el volumen del precursor 5204 de partículas viaja sobre las depresiones 5206, sub-volumen del precursor 5208 de partículas entra y rellena las depresiones 5206. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla 5200 con patrones se puede colocar en aproximadamente un ángulo de 20 grados desde la horizontal. De acuerdo a algunas modalidades, el líquido se puede mover por una cuchilla.

Il.C.iv. Relleno Asistido por Voltaje De acuerdo a algunas modalidades, un voltaje puede ayudar en al introducción de un precursor de partículas en las depresiones en una plantilla con patrones. Con referencia a la Figura 53, una plantilla 5300 con patrones que tiene depresiones 5302 en una superficie de la misma, se puede colocar en una superficie 5308 de electrodo. Un volumen del precursor 5304 de partícula se puede introducir en la superficie de depresiones de la plantilla 5300 con patrones. El precursor 5304 de partículas también puede estar en comunicación con un electrodo opuesto 5306 al electrodo 5308 que está en comunicación con la plantilla 5300 con patrones. La diferencia de voltaje entre los electrodos 5306 y 5308 viaja a través del precursor 5304 de partículas y la plantilla 5300 con patrones. La diferencia de voltaje altera el ángulo de humectación del precursor 5304 de partículas con respecto a la plantilla 5300 con patrones y de este modo facilita la entrada del precursor 5304 de partículas en las depresiones 5302. En algunas modalidades, el electrodo 5306, en comunicación con el precursor 5304 de partículas, se mueve a través de la superficie de la plantilla 5300 con patrones, facilitando de este modo el relleno de las depresiones 5304 a través de la superficie de la plantilla 5300 con patrones . De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla 5300 con patrones y el precursor 5304 de partículas se someten a aproximadamente 3000 voltios de DC , sin embargo, el voltaje aplicado a una combinación de plantilla con patrones y precursor de partículas se puede ajustar a los requerimientos específicos de las combinaciones. En algunas modalidades, el voltaje se altera para arribar a un ángulo de contacto preferido entre el precursor de partículas y la plantilla con patrones para facilitar la entrada del precursor de partículas en las depresiones de la plantilla con patrones.

II. D. Termodinámica del Relleno de Depresiones Las depresiones en una plantilla con patrones, tal como las depresiones 5012 en la plantilla 5002 con patrones de la Figura 50 se pueden configurar para recibir una sustancia que se va a moldear. Las características físicas y químicas, tanto de la depresión como de la sustancia particular que se va a moldear se pueden configurar para incrementar qué tan fácil la sustancia se recibe por la depresión. Los factores que pueden influenciar el relleno de una depresión incluyen, pero no se limitan a, volumen de depresión, diámetro, área superficial, energía superficial, ángulo de contacto entre una sustancia que se va a moldear el material de la depresión, voltaje aplicado a través de una sustancia que se va a moldear, temperatura, condiciones ambientales que circundan la plantilla con patrones tal como por ejemplo la remoción de oxígeno o impurezas de la atmósfera, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, una depresión que es aproximadamente 2 micrones de diámetro tiene una presión capilar de aproximadamente 1 atmósfera. En algunas modalidades, una depresión con un diámetro de aproximadamente 200 nm tiene una presión capilar de aproximadamente 10 atmósferas. Una relación superficial de una depresión se puede definir de acuerdo a la siguiente ecuación: S tapa e = Smolde en donde Stapa - área superficial de aire o sustrato (si se usa) en contacto y Smoide - área superficial de la cavidad. Ver figura 80.

Por ejemplo, un cubo tendrá una relación superficial de e = 1/5 y un cilindro que tiene una relación de aspecto a = altura/diámetro tendrá una 1 e = . relación superficial de 1 + 4a' La termodinámica de relleno de depresiones se puede explicar por las siguientes ecuaciones. Ver figura 81.

I. Depresión no humectante II. Depresión humectante M = molde: P - polímero: A- aire ?? - tensión interfacial entre i y j La energía superficial de la depresión no humectante (I) se determina por la ecuación: El = StapaYpA + SmoldeYMA/" y La energía superficial para la depresión humectante (II) se determina por la ecuación: Eli = SmoldeYP · De acuerdo a algunas modalidades, una condición para la humectación de la depresión es ?t > E , que se puede escribir como la siguiente ecuación: Tomando en cuenta que un ángulo de contacto T?? formado por el polímero de la plantilla con patrones en una superficie plana del molde se da por la siguiente ecuación: Los criterios de humectación de la depresión se determinan como : Como resultado, una depresión se puede rellenar aún para ángulos de humectación (T??) mayores de 90 grados. De acuerdo a algunas modalidades, la termodinámica de relleno de una depresión se determina en base al método para rellenar la depresión. De acuerdo a algunas modalidades, como se describe además en la presente, una plantilla con patrones se puede sumergir en una sustancia que se va a moldear y las depresiones de la plantilla con patrones se llegan a rellenar. La termodinámica de la invención de una plantilla con patrones se explica con las siguientes ecuaciones (ver figura 82) : De acuerdo a una modalidad, se da un criterio de revestimiento por inmersión por: Ei > En, que se puede escribir como la siguiente ecuación: Tomando en cuenta que un ángulo de contacto T?? formado por el polímero de plantilla con patrones en una superficie plana del molde se da como la siguiente ecuación: eos 6^ = Y MA ~ Y PM r PA El criterio de revestimiento por inmersión se determina como : ??§T??>e.

II. E. Termodinámica de Liberación de Molde En algunas modalidades, las partículas formadas en depresiones de una plantilla con patrones se remueven por aplicación de una fuerza o energía. De acuerdo a otras modalidades, las características del molde y sustancia moldeada facilita la liberación de las partículas de las depresiones. Las características de liberación de molde se pueden relacionar a por ejemplo, los materiales moldeados, características de relleno de la depresión, permeabilidad de materiales del molde, energía superficial de los materiales del molde, combinaciones de los mismos, y similares (ver figura 83) . Ei = S a aíYsA + OPA) + Smoi^ECPM En = Stapa^ps + Smoide(<7pA + YMA) S - sustrato: P - particular: M - molde: A - atmósfera/aire Las tensiones interfaciales polímero-aire y polímero-molde son s?? y s??, respectivamente, y la tensión interfacial de polímero-sustrato es aPS. Se usan dos diferentes rotaciones para la interfaz polímero-aire y la interfaz polímero-molde debido a que después de la curación, el polímero tiene diferentes propiedades interfaciales que tiene un estado líquido. De acuerdo a algunas modalidades, los criterios de liberación de molde pueden ser ?? > En; que se pueden representar por las siguientes ecuaciones: SÍYSA + 7PA ) + CJPM > £<JPS + S?? + ??? Entonces, los ángulos de contacto efectivos se pueden representar por: Que son los ángulos que el polímero formará en superficies planas del molde y sustrato respectivamente si para un líquido con las tensiones interfaciales s??, s??, y OPS.

Finalmente, los criterios de liberación de molde se pueden escribir como III . Formación de Partículas Redondeadas a Través de "Reducción Líquida" Con referencia ahora a las Figuras 3A hasta 3F, la materia actualmente descrita proporciona un proceso de "reducción líquida" para formar partículas que tienen formas que no se ajustan a la forma de la plantilla, incluyendo pero no limitadas a micro- y nano-partículas esféricas y no esféricas, regulares y no regulares. Por ej.emplo, una plantilla "en forma de cubo" puede permitir que se hagan partículas esféricas, en tanto que una plantilla "en forma de flecha de bloque" puede permitir que se hagan partículas u objetos en forma de "pirulí" en donde la introducción -de un gas permite que las fuerzas de tensión superficial re-formen el líquido residente antes de tratarlo. En tanto que no se desea que se una por ninguna teoría particular, las características no humectantes que se pueden proporcionar en algunas modalidades de la plantilla con patrones, actualmente descrita y/o sustrato tratado o revestido permite la generación de partículas redondeadas, por ejemplo, esféricas.

Con referencia ahora a la Figura 3A, la gota 302 de un material líquido se coloca en el sustrato 300, que en algunas modalidades se reviste o trata con un material no humectante 304. Una plantilla 108 con patrones, que incluye una pluralidad de áreas ahuecadas 110 y áreas 112 de superficie con patrones también se proporciona. Con referencia ahora a la Figura 3B, la plantilla 108 con patrones se pone en contacto con la gota 302. El material líquido que incluye la gota 302 entonces entra a las áreas ahuecadas 110 de la plantilla 108 con patrones. En algunas modalidades, una tapa residual o de "escoria" RL del material líquido que incluye la gota 302 permanece entre la plantilla 108 con patrones y el sustrato 300. Con referencia ahora a la Figura 3C, se aplica una primera fuerza Fai a la plantilla 108 con patrones. Se forma un punto de contacto CP entre la plantilla con patrones 108 y el sustrato y desplaza la capa residual RL. Las partículas 306 se forman en las áreas ahuecadas 110 de la plantilla 108 con patrones . Con referencia ahora a la Figura 3D, una segunda fuerza Fa2/ en donde la fuerza aplicada por Fa2 es mayor que la fuerza aplicada por Fai, entonces se aplica a la plantilla 108 con patrones, formando de este modo partículas 308 líquidas más pequeñas dentro de las áreas ahuecadas 112 y forzando una porción del material líquido que incluye la gota 302 fuera de las áreas ahuecadas 112. Con referencia ahora a la Figura 3E, la segunda fuerza Fa2 se librera, regresando de este modo la presión de contacto a la presión de contacto original aplicada por la primera fuerza Fai. En algunas modalidades, la plantilla 108 con patrones incluye un material permeable a gas, que permite que una porción de espacio con áreas ahuecadas 112 se rellene con un gas, tal como nitrógeno, formando de este modo una pluralidad de gotas 310 esféricas líquidas. Una vez que se logra esta reducción de líquido, la pluralidad de gotas 310 esféricas líquidas se trata por un proceso Tr de tratamiento. Con referencia ahora a la Figura 3F, las gotas 31? esféricas, líquidas, tratadas se liberan de la plantilla 108 con patrones para proporcionar una pluralidad de partículas 312 esféricas autoestables .

IIIA. Formación de Partículas Pequeñas a Través de Evaporación Con referencia ahora a las Figuras 41A hasta 41E, una modalidad de la materia actualmente descrita incluye un proceso para formar partículas a través de evaporación. En una modalidad, el proceso produce una partícula que tiene una forma que no se ajusta necesariamente a la forma de la plantilla. La forma puede incluir, pero no se limita a, una forma tridimensional. De acuerdo a algunas modalidades, la partícula forma una micro- y nano-partícula esférica o no esférica y de forma regular o no regular. En tanto que no se desea que se una por una teoría particular, un ejemplo para producir una partícula esférica o sustancialmente esférica incluye usar una plantilla con patrones y/o sustrato de un material no humectante o tratar las superficies de la plantilla con patrones y partícula de sustrato que forma las depresiones con un agente no humectante tal que el material del cual se formará la partícula no humecte la superficie de la depresión. Debido a que el material del cual se formará la partícula no puede humectar la superficie de la plantilla con patrones y/o el sustrato, el material de partícula tiene una mayor afinidad para sí mismo que las superficies de las depresiones y forma de este modo una forma redonda, curveada o sustancialmente esférica. Una sustancia no humectante se puede definir a través del concepto del ángulo de contacto (T) , que se puede usar cuantitativamente para medir la interacción entre virtualmente cualquier líquido y superficie sólida. En tanto el ángulo de contacto entre una gota de líquido en la superficie es 90 < T, < 180, la superficie se considera no humectante. En general, las superficies fluoradas no son humectantes a líquidos acuosos y orgánicos. Las superficies fluoradas pueden incluir un material de fluoropoliéter, un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastómero termoplástico fluorado <TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, ylo un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis, superficies creadas al tratar una superficie de silicio o vidrio con un silano fluorado, o revestir una superficie con un polímero fluorado. Además, las superficies de los materiales que son materiales típicamente humectables se pueden hacer no humectables por tratamientos superficiales. Los materiales que se pueden hacer sustancialmente no humectantes por tratamientos superficiales incluye, pero no se limitan a, un material polimérico humectable típico, un material inorgánico, un material de silicio, un material de cuarzo, un material de vidrio, combinaciones de los mismos, y similar.es. Los tratamientos superficiales para hacer a estos tipos de materiales no humectantes incluyen, por ejemplo, estratificar el material humectable con una capa superficial de los materiales no humectantes descritos anteriormente, y técnicas similares que se apreciarán por un experto en la técnica. Con referencia ahora a la Figura 41A, la gota 4102 del un material líquido de la materia actualmente descrita que va a ayudar a hacer la partícula se coloca en el sustrato 4100 no humectante, que en algunas modalidades es un material o superficie revestida o tratada con un material no humectante, como se describe en la presente anteriormente. Una plantilla 4108 con patrones, que incluye una pluralidad de áreas ahuecadas 4110 y áreas 4112 de superficie con patrones, también se proporciona. Con referencia ahora a la Figura 41B, la plantilla 4108 con patrones se pone en contacto con la gota 4102. El material de la gota 4102 entonces entra a las áreas ahuecadas 4110 de la plantilla 4108 con patrones. De acuerdo a algunas modalidades, la manipulación mecánica o física de la gota 4102 y la plantilla 4108 con patrones se proporciona para facilitar la gota 4102 en sustancialmente relleno y ajuste a las áreas ahuecadas 4110. Esta manipulación mecánica y/o física puede incluir, pero no se limita a, vibración, rotación, centrifugación, diferencias de presión, un ambiente de vacío, combinaciones de los mismos o similares. Se forma un punto de contacto CP entre las áreas 4112 de superficie con patrones y el sustrato 4100. En otras modalidades, el material líquido de la gota 4102 entra a la depresión 4110 al sumergir la plantilla 4108 con patrones en material líquido, al aplicar un voltaje a través de la plantilla y el material líquido, por fuerzas de acción capilar, combinaciones de los mismos y similares como se describe en la presente. Las partículas 4106 entonces se forman en las áreas ahuecadas 4110 de la plantilla 4108 con patrones, del material líquido que entra en la depresión.

Con referencia ahora a la Figura 41C, un proceso evaporativo E, se realiza, reduciendo de este modo el volumen de las partículas líquidas 4106 dentro de las áreas ahuecadas 4110. Los ejemplos de un proceso evaporativo E que se pueden usar con las presentes modalidades incluyen formar la plantilla 4108 con patrones a partir de un material permeable a gas, que permite qué componentes volátiles del método precursor de partículas pasen a través de la plantilla, reduciendo de este modo el volumen del material precursor de partículas en las depresiones. De acuerdo a otra modalidad, un proceso evaporativo E, adecuado para el uso con la materia actualmente descrita incluye proporcionar una porción de las áreas ahuecadas 4110 rellenas con un gas, tal como nitrógeno, que incrementa de este modo la velocidad de evaporación del material que va a llegar a ser las partículas. De acuerdo a modalidades adicionales, después de que las depresiones se rellenan con el material que va a llegar a ser las partículas, se puede dejar un espacio entre la plantilla con patrones y el sustrato tal que se mejora la evaporación. En aún otra modalidad, la combinación de la plantilla con patrones, sustrato y material que va a llegar a ser la partícula se puede calentar o tratar de otro modo para mejorar la evaporación del material que va a llegar a ser la partícula. Las combinaciones de los procesos de evaporación descritos anteriormente se abarcan por la materia actualmente descrita.

Con referencia ahora a la Figura 41D, una vez que se logra la reducción del líquido, la pluralidad de gotas líquidas 4114 se trata por un proceso Tr de tratamiento. El proceso de tratamiento Tr puede ser fotocuración, termocuración, cambio de fase, evaporación de solvente, cristalización, procesos oxidativos/reductivos , evaporación, combinaciones de los mismos, o similares para solidificar el material de la gota 4102. Con referencia ahora a la Figura 41E, la plantilla 4108 con patrones se separa del sustrato 4100 de acuerdo a métodos y técnicas descritas en la presente. Después de la separación de la plantilla 4108 con patrones del sustrato 4100, las gotas 4114 esféricas líquidas tratadas se liberan de la plantilla 4108 con patrones para proporcionar una pluralidad de partículas esféricas autoestables 4116. En algunas modalidades, se facilita la liberación de las partículas 4116 por un solvente, aplicando una sustancia a las partículas con una afinidad para las partículas, sometiendo las partículas a fuerzas gravitacionales, combinaciones de los mismos y similares. Las Figuras 79A-79C muestran partículas representativas fabricadas de técnica de evaporación de algunas modalidades de la presente invención. De acuerdo a algunas modalidades, una dimensión de las partículas se muestra con la barra longitudinal L, como se muestra en la Figura 79C. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas son menores de aproximadamente 200 nm de diámetro. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas están entre aproximadamente 80 nm y 200 nm de diámetro. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas están entre aproximadamente 100 nm y aproximadamente 200 nm de diámetro.

IV. Formación de nano- a micro-Electretos Poliméricos Con referencia ahora a las Figuras 4A y 4B, en algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe un método para preparar nano- o micro-electretos poliméricos al aplicar un campo eléctrico durante el paso de polimerización y/o cristalización durante el moldeo (Figura 4A) para producir una partícula polimérica cargada (Figura 4B) . En una modalidad, las partículas se configuran para que tengan un potencial zeta predeterminado. En algunas modalidades, las partículas poliméricas cargadas se agregan espontáneamente en estructuras tipo cadena (Figura 4D) en lugar de las configuraciones aleatorias mostradas en la Figura 4C. En algunas modalidades, la partícula polimérica cargada incluye un electreto polimérico. En algunas modalidades, el electreto polimérico incluye un nano-electreto polimérico. En algunas modalidades, las partículas poliméricas cargadas se agregan en estructuras tipo cadena.

En algunas modalidades, las partículas poliméricas cargadas incluyen un aditivo para un dispositivo electro-reológico . En algunas modalidades, el dispositivo electro-reológico se selecciona del grupo que incluye embragues y dispositivos de amortiguamiento activos. En algunas modalidades, las partículas poliméricas cargadas incluyen dispositivos nano-piezoeléctricos . En algunas modalidades, los dispositivos nano-piezoeléctricos se seleccionan del grupo que incluye accionadotes , conmutadores, y sensores mecánicos.

V. Formación de Estructuras de Múltiples Capas En algunas modalidades, la materia actualmente descrita proporciona un método para formar estructuras de múltiples capas, incluyendo partículas de múltiples capas. En algunas modalidades, las estructuras de múltiples capas, incluyendo partículas de múltiples capas, incluyen estructuras de múltiples capas de nano-escala. En algunas modalidades, las estructuras de múltiples capas se forman al depositar múltiples capas delgadas de líquidos inmiscibles y/o soluciones inmiscibles en un sustrato y formando partículas como se describe por los métodos anteriores en la presente. La inmisoibilidad del líquido se puede basar en virtualmente cualquier característica física, incluyendo pero no limitado a densidad, polaridad y volatilidad. Los ej-emplos de posibles morfologías de la materia actualmente descrita se ilustran en las Figuras 5A-5C e incluyen, pero no se limitan a, estructuras de intercalación de múltiples fases, partículas de núcleo-coraza, y emulsiones internas, microemulsiones y/o emulsiones de tamaño nano. Con referencia ahora a la Figura 5A, una .estructura 500 de intercalación de múltiples fases de la materia actualmente descrita se muestra, que a manera de ejemplo, incluye un primer material líquido 502 y un segundo material líquido 504. Con referencia ahora a la Figura 5B, una partícula 506 de núcleo-coraza de la materia actualmente descrita se muestra, que a manera de ejemplo, incluye un primer material líquido 502 y un segundo material líquido 504. Con referencia ahora a la Figura 5C, una partícula 508 de emulsión interna de la materia actualmente descrita se muestra, que a manera de ejemplo, incluye un primer material líquido 502 y un segundo material líquido 504. De manera más particular, en algunas modalidades, el método incluye colocar una pluralidad de líquidos inmiscibles entre la plantilla con patrones y el sustrato para formar una estructura de múltiples capas, por ejemplo, una nanoestructura de múltiples capas. En algunas modalidades, la estructura de múltiples capas incluye una partícula de múltiples capas. En algunas modalidades, la estructura de múltiples capas incluye una estructura seleccionada del grupo que incluye estructuras de intercalación de múltiples fases, partículas de núcleo-coraza, emulsiones internas, microemulsiones y emulsiones de tamaño nano.

VI. Fabricación de Estructuras Multidimensionales Complejas En algunas modalidades, la materia actualmente descrita proporciona un proceso para fabricar estructuras multidimensionales complejas. En algunas modalidades, las estructuras multidimensionales complejas se pueden formar al realizar los pasos ilustrados en las Figuras 2A-2E. En algunas modalidades, el método incluye imprimir en una plantilla con patrones que está alineada con una segunda plantilla con patrones (en lugar de imprimir sobre un sustrato liso) para generar estructuras multidimensionales aisladas que se curan y liberan como se describe en la presente. Una ilustración esquemática de una modalidad de un proceso para formar estructuras multidimensionales complejas y ejemplos de estas estructuras se proporciona en las Figuras 6A-6C. Con referencia ahora a la Figura 6A, se proporciona una primera plantilla 600 con patrones. La primera plantilla 600 con patrones incluye una pluralidad de áreas ahuecadas 602 y una pluralidad de superficies 604 no ahuecadas. También se proporciona una segunda plantilla 606 con patrones. La segunda plantilla 606 con patrones incluye una pluralidad de áreas ahuecadas 608 y una pluralidad de superficies 610 no ahuecadas. Como se muestra en la Figura 6A, la primera plantilla 600 con patrones y la segunda plantilla 606 con patrones se alinean en una relación separada predeterminada. Se coloca una gota de material líquido 612 entre la primera plantilla 600 con patrones y la segunda plantilla 606 con patrones . Con referencia ahora a la Figura 6B, la plantilla 600 con patrones se pone en contacto con la plantilla 606 con patrones. Se aplica una fuerza Fa a la plantilla 600 con patrones que hace que el material líquido que incluye la gota 612 migre a la pluralidad de áreas ahuecadas 602 y 608. El material líquido que incluye la gota 612 entonces se trata por el proceso de tratamiento Tr para formar un material líquido tratado 614 con patrones. Con referencia ahora a la Figura 6C, el material líquido 614, tratado, con patrones, de la Figura 6B se libera por los métodos de liberación descritos en la presente para proporcionar una pluralidad de estructuras 616 con patrones multidimensionales . En algunas modalidades, la estructura 616 con patrones incluye una estructura con patrones a nanoescala. En algunas modalidades, la estructura 616 con patrones incluye una estructura multidimensional . En algunas modalidades, la estructura multidimensional incluye una estructura multidimensional de nanoescala. En algunas modalidades, la estructura multidimensional incluye una pluralidad de características estructurales. En algunas modalidades, las características estructurales incluyen una pluralidad de alturas . En algunas modalidades, se proporciona un dispositivo microelectrónica que incluye la estructura 616 con patrones. En realidad, la estructura 616 con patrones puede ser virtualmente cualquier estructura, incluyendo estructuras de "desenmaquiliado dual" para componentes microelectrónicas. En algunas modalidades, el dispositivo microelectrónica se selecciona del grupo que incluye circuitos integrados, partículas semiconductoras, puntos cuánticos, y estructuras de desenmaquiliado dual. En algunas modalidades, el dispositivo microelectrónica exhibe ciertas propiedades físicas seleccionadas del grupo que incluye resistencia a grabado al ácido, baja constante dieléctrica, alta constante dieléctrica, conducción, semiconducción, aislamiento, porosidad y no porosidad. En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe un método para preparar una estructura compleja multidimensional. Con referencia ahora a las Figuras 7A-7F, en algunas modalidades, se proporciona una primera plantilla 700 con patrones. La primera plantilla 700 con patrones incluye una pluralidad de áreas 702 superficiales no ahuecadas y una pluralidad de áreas 704 superficiales ahuecadas. Continuando particularmente con la Figura 7A, también se proporciona un sustrato 706. En algunas modalidades, el sustrato 706 se reviste con un agente no humectante 708. Se coloca una gota de un primer material líquido 710 en el sustrato 706. Con referencia ahora a las Figuras 7B y 7C, una primera plantilla 700 con patrones se pone en contacto con el sustrato 706. Se aplica una fuerza Fa a la primera plantilla 700 con patrones tal que la gota del primer material líquido 710 se fuerce en las depresiones 704. El material líquido que incluye la gota del primer material líquido 710 se trata por un primer proceso de tratamiento Tri para formar un primer material líquido tratado dentro de la pluralidad de depresiones 704. En algunas modalidades, el primer proceso de tratamiento Tri incluye un proceso de curación parcial que provoca que el primer material líquido tratado se adhiera al sustrato 706. Con referencia particular a la Figura 7C, la primera plantilla 700 con patrones se remueve para proporcionar una pluralidad de características estructurales 712 en el sustrato 706. Con referencia ahora a las Figuras 7D-7F, se proporciona una segunda plantilla 714 con patrones. El segundo sustrato 714 con patrones incluye una pluralidad de depresiones 716, que se rellenan con un segundo material líquido 718. El relleno de las depresiones 716 se puede lograr de una manera similar a aquélla descrita en las figuras 7A y 7B con respecto a las depresiones 704. Con referencia particular a la Figura 7E, la segunda plantilla 714 con patrones se pone en contacto con características estructurales 712. El segundo material líquido 718 se trata con un segundo proceso de tratamiento Tr2 tal que el segundo material líquido 718 se adhiere a la pluralidad de características estructurales 712, formando de este modo una estructura multidimensional 720. Con referencia particular a la Figura 7F, la segunda plantilla 714 con patrones y el sustrato 706 se remueven, proporcionando una pluralidad de estructuras 722 multidimensionales autoestables . En algunas modalidades, el proceso presentado esquemáticamente en las Figuras 7A-7F se puede llevar a cabo múltiples veces como se desee para formar nanoestructuras intricadas. Por consiguiente, en algunas modalidades, se proporciona un método para formar estructuras multidimensionales, el método que incluye: (a) proporcionar una partícula preparada por el proceso descrito en las figuras; (b) proporcionar una segunda plantilla con patrones; (c) colocar un segundo material líquido en la segunda plantilla con patrones; (d) poner en contacto la segunda plantilla con patrones con la partícula del paso (a) ; y (e) tratar el segundo material líquido para formar una estructura multidimensional .

VII. Funcionalización de Partículas En algunas modalidades, la materia actualmente descrita proporciona un método para funcionalizar micro- y/o nano-partículas aisladas. En algunas modalidades, la funcionalización incluye introducir grupos funcionales químicos a una superficie ya sea de forma física o química. En algunas modalidades, el método de funcionalización incluye introducir al menos un grupo funcional químico a al menos una porción de las micropartículas y/o nanopartículas . En algunas modalidades, las partículas 3605 se funcionalizan al menos parcialmente en tanto que las partículas 3605 están en contacto con un artículo 3600. En una modalidad, las partículas 3605 que se van a funcionalizar se localizan dentro de un molde o plantilla 108 con patrones (Figuras 35A-36D) . En algunas modalidades, las partículas 3605 que se van a funcionalizar se unen a un sustrato (por ejemplo, sustrato 4010 de las Figuras 40A-40D) . En algunas modalidades, al menos una porción del exterior de las partículas 3605 se puede modificar químicamente al realizar los pasos ilustrados en las Figuras F36A-36D. En una modalidad, las partículas 3605 que se van a funcionalizar se localizan dentro del artículo 3600 como se ilustra en las Figuras 36A y 40A. Como se ilustra en las Figuras 36A-36D y 40A-40D, algunas modalidades incluyen poner en contacto un artículo 3600 que contiene las partículas 3605 con una solución 3602 que contiene un agente modificador 3604. En una modalidad, ilustrada en las Figuras 36C y 40C, el agente modificador 3604 se une (por ejemplo, químicamente) a la superficie 3606 expuesta de las partículas al reaccionar químicamente con o adsorber físicamente a un grupo ligador en la superficie 3606 de las partículas. En una modalidad, el grupo ligador en la partícula 3606 es un grupo funcional químico que se puede unir a otras especies mediante formación de enlaces químicos o afinidad física. En algunas modalidades, los agentes modificadores 3611 están contenidos dentro o parcialmente dentro de las partículas 3605. En algunas modalidades, el grupo ligador incluye un grupo funcional que incluye, sin limitación, sulfuros, aminas, ácidos carboxílieos , cloruros ácidos, alcoholes, alquenos, haluros de alquilo, isocianatos, compuestos descritos en otra parte de la presente, combinaciones de los mismos o similares. En una modalidad, ilustrada en las Figuras 36D y 40D, se remueve solución en exceso del artículo 360? en tanto que la partícula 3605 permanece en comunicación con el artículo 3600. En algunas modalidades, se remueve la solución en exceso de la superficie que contiene las partículas. En algunas modalidades, la solución en exceso se remueve al enjuagar o remojar en un líquido, al aplicar una corriente de aire, o al agitar o raspar físicamente la superficie. En algunas modalidades, el agente modificador incluye un agente seleccionado del grupo que incluye tintes, marcas fluorescentes, marcas radiornarcadas , agentes de contraste, ligandos, péptidos, agentes farmacéuticos, proteínas, ADN, AR , ARNsi, compuestos y materiales descritos en otra parte de la presente, combinaciones de los mismos y similares. En una modalidad, las partículas funcionalizadas 3608 , 4008 se recolectan del artículo 3600 usando, por ejemplo, los métodos descritos en la presente. En algunas modalidades, la funcionalización y recolección subsiguiente de las partículas que residen en un artículo (por ejemplo, un sustrato, un molde o plantilla con patrones) tiene ventajas con respecto a otros métodos (por ejemplo, métodos en los cuales las partículas se deben funcionalizar en tanto que están en solución) . En una modalidad de la materia actualmente descrita, se pierden menos partículas en el proceso, dando un alto rendimiento de producto. En una modalidad de la materia actualmente descrita, se puede aplicar en menores volúmenes una solución más concentrada del agente modificador. En una modalidad de la materia actualmente descrita, donde las partículas se funcionalizan en tanto que permanecen asociadas con el artículo 3600 , la funcionalización no se necesita que se presente en una solución diluida. En una modalidad, el uso de una solución más concentrada facilita, por ejemplo, el uso de menores volúmenes de agente modificador y/o menos veces para funcionalizarse . De acuerdo a otra modalidad, las partículas funcionalizadas se funcionalizan uniformemente y cada una tiene sustancialmente una carga física idéntica. En algunas modalidades, las partículas en un arreglo hermético 2 -dimensional , pero sin tocarse, son susceptibles a aplicación de soluciones concentradas diluidas para funcionalizacion más rápida. En algunas modalidades, son útiles soluciones de agente modificador de menor volumen/mayor concentración, por ejemplo, en unión con agentes modificadores que son difíciles y costosos de hacer y manejar (por ejemplo, agentes biológicos tal como péptidos, ADN, o ARN) . En algunas modalidades, la funcionalizacion de las partículas que permanece conectada al artículo 3600 elimina la dificultad y/o los pasos consumidores de tiempo para remover el material sin reaccionar en exceso (por ejemplo, diálisis, extracción, filtración y separación en columnas) . En una modalidad de la materia actualmente descrita, el producto funcionarizado altamente puro se puede producir a un esfuerzo reducido y costo reducido. Debido a que las partículas se moldean en un molde polimérico sustancialmente inerte, los contenidos de la partícula se pueden controlar, produciendo de este modo un producto funcionarizado altamente puro (por ejemplo, mayor de 95 %) .

VII. Litografía de Impresión Con referencia ahora a las Figuras 8A-8D, se ilustra un método para formar un patrón en un sustrato. En la modalidad ilustrada en la Figura 8, se usa una técnica de litografía de impresión para formar un patrón en un sustrato. Con referencia ahora a la Figura 8A, se proporciona una plantilla 810 con patrones. En algunas modalidades, la plantilla 810 con patrones incluye un material polimérico de baja energía superficial resistente a solventes, derivado del moldeo de materiales líquidos de baja viscosidad sobre una plantilla de original y luego curar los materiales líquidos de baja viscosidad para generar una plantilla con patrones como se define anteriormente en la presente. En algunas modalidades, la plantilla 810 con patrones puede incluir además una primera superficie 812 de plantilla con patrones y una segunda superficie 814 de plantilla. La primera superficie 812 de plantilla con patrones incluye además una pluralidad de depresiones 816. La plantilla con patrones derivada de un material polimérico de baja energía superficial, resistente a solventes, se puede montar entonces en otro material para facilitar la alineación de la plantilla con patrones o para facilitar el procesamiento continuo tal como un banda transportadora, que puede ser particularmente útil en algunas modalidades, tal como por ejemplo, en la fabricación de estructuras colocadas de forma precisa en una superficie, tal como en la fabricación de dispositivos complejos, un semiconductor, dispositivos electrónicos, dispositivos fotónicos, combinaciones de los mismos, y similares . Con referencia nuevamente a la Figura 8A, se proporciona un sustrato 820. El sustrato 820 incluye una superficie 822 de sustrato. En algunas modalidades, el sustrato 820 se selecciona del grupo que incluye un material polimérico, un material inorgánico, un material de silicio, un material de cuarzo, un material de vidrio, y variantes tratadas en superficie de los mismos. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla 810 con patrones y el sustrato 820 tiene una energía superficial menor de 18 mN/m. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla 810 con patrones y sustrato 820 tiene una energía superficial menor de 15 mN/m. De acuerdo a una modalidad adicional, la plantilla 810 con patrones y/o el substrato 820 tiene una energía superficial entre aproximadamente 10 mN/m y aproximadamente 20 mN/m. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla 810 con patrones y/o el sustrato 820 tiene una baja energía superficial de entre aproximadamente 12 mN/m y aproximadamente 15 mN/m. En algunas modalidades, el material es PFPE. En algunas modalidades, como se ilustra en la Figura 8a, la plantilla 810 con patrones y el sustrato 820 se colocan en una relación separada entre sí tal que la primera superficie 812 de plantilla con patrones da hacia la superficie 822 de sustrato y se crea una separación 830 entre la primera superficie 812 de plantilla con patrones y la superficie 822 de sustrato. Éste es un ejemplo de una relación predeterminada. Con referencia ahora a la Figura 8B, se coloca un volumen de material líquido 840 en la separación 830 entre la primera superficie 812 de plantilla con patrones y la superficie 822 de sustrato. En algunas modalidades, el volumen del material líquido 840 se coloca directo en un agente no humectante, que se coloca en la primera superficie 812 de plantilla con patrones. Con referencia ahora a la Figura 8C, en algunas modalidades, la primera plantilla 812 con patrones se pone en contacto con el volumen de material líquido 840. En algunas modalidades, se aplica una fuerza Fa a la segunda superficie 814 de plantilla, forzando de este modo el volumen del material líquido 840 en la pluralidad de depresiones 816. En algunas modalidades, como se ilustra en la Figura 8C, una porción del volumen del material líquido 840 permanece entre la primera superficie 812 de plantilla con patrones y la superficie 820 de sustrato después de que se aplica la fuerza Fa. Con referencia nuevamente a la Figura 8C, en algunas modalidades, el volumen del material líquido 840 se trata por un proceso de tratamiento Tr en tanto que la fuerza Fa se está aplicando para formar un material líquido tratado 842. En algunas modalidades, el proceso de tratamiento Tr incluye un proceso seleccionado del grupo que incluye un proceso térmico, un proceso fotoquímico, y un proceso químico. Con referencia ahora a la Figura 8D, se aplica una fuerza Fr a la plantilla 810 con patrones para remover la plantilla 810 con patrones del material líquido tratado 842 para revelar un patrón 850 del sustrato 820 como se muestra en la Figura 8E. En algunas modalidades, una capa 852 residual o de "escoria" del material líquido tratado 842 permanece en el sustrato 820. De manera más particular, un método para formar un patrón en un sustrato puede incluir (a) proporcionar la plantilla con patrones y un sustrato, donde la plantilla con patrones incluye una superficie de plantilla con patrones que tiene una pluralidad de áreas ahuecadas formadas en la misma. Entonces, se coloca un volumen de material líquido en o sobre al menos uno de: (i) la superficie de plantilla con patrones; (ii) la pluralidad de áreas ahuecadas; y (iii) el sustrato. Entonces, la superficie de plantilla con patrones se pone en contacto con el sustrato, y el material líquido se trata para formar un patrón en el sustrato. En algunas modalidades, la plantilla con patrones incluye un material polimérico de baja energía superficial, resistente a solventes, derivado del moldeo de materiales líquidos de baja viscosidad sobre una plantilla de original y luego curación de los materiales líquidos de baja viscosidad para generar una plantilla con patrones. En algunas modalidades, la plantilla con patrones incluye un material elastomérico resistente a solventes . En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla con patrones y el sustrato incluye un material seleccionado del grupo que incluye un material de perfluoropoliéter, un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastómero termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. En algunas modalidades, el material de perfluoropoliéter incluye una estructura seleccionada del grupo que incluye: en donde X está presente o ausente, o cuando está presente incluye un grupo de remate terminal.

En algunas modalidades, el material de fluoroolefina se selecciona del grupo que incluye: en donde CSM incluye un monómero de sitio de curación. En algunas modalidades, el material de fluoroolefina se elabora de monómeros que incluyen tetrafluoroetileno, fluoruro de vinilideno, hexafluoropropileno, 2,2-bis (trifluorometil) -4, 5-difluoro-1 , 3-dioxol, una fluoroolefina funcional, monómero acrílico funcional, y un monómero metacrílico funcional. En algunas modalidades, el material de silicón incluye un polidimetilsiloxano funcionalizado con fluoroalquilo (PDMS) que tiene la siguiente estructura: en donde: R se selecciona del grupo que incluye un acrilato, un metacrilato, y un grupo vinilo; y Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el material estirénico incluye un monómero de estireno fluorado seleccionado del grupo que incluye: en donde Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el material de acrilato incluye un acrilato fluorado o un metacrilato fluorado -que tiene la siguiente estructura: en donde R se selecciona del grupo que incluye H, alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido; y Rf incluye una cadena de fluoroalquilo . En algunas modalidades, el fluoropolímero de triazina incluye un monómero fluorado. En algunas modalidades, el monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular poruña reacción de polimerización de metátesis incluye una olefina funcionalizada . En algunas modalidades, la olefina funcionalizada incluye una olefina cíclica funcionalizada. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla con patrones y el sustrato tiene una energía superficie menor de 18 mN/m. En algunas modalidades, al menos uno de la plantilla con patrones y el sustrato tiene una energía superficial menor de 15 mN/m. De acuerdo a una modalidad adicional, la plantilla con patrones y/o el sustrato tiene una energía superficial entre aproximadamente 10 mN/m y aproximadamente 20 mN/m. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla con patrones y/o el sustrato tiene una baja energía superficial de entre aproximadamente 12 mN/m y aproximadamente 15 mN/m. En algunas modalidades, el material es PFPE, un derivado de PFPE, o está parcialmente compuesto de PFPE. En algunas modalidades, el sustrato se selecciona del grupo que incluye un material polimérico, un material inorgánico, un material de silicio, un material de cuarzo, un material de vidrio, y variantes tratadas en la superficie de los mismos. En algunas modalidades, el sustrato se selecciona de uno de un dispositivo electrónico en el proceso de que se fabrique y un dispositivo fotónico en el proceso de que se fabrique. En algunas modalidades, el sustrato incluye un área con patrones . En algunas modalidades, la pluralidad de áreas ahuecadas puede incluir una pluralidad de cavidades. En algunas modalidades, la pluralidad de cavidades incluye una pluralidad de características o rasgos estructurales. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tienen una dimensión que varía desde aproximadamente 10 micrones a aproximadamente 1 nanómetro de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 10 micrones a aproximadamente 1 micrón de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 1 micrón a aproximadamente 100 nm de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 100 nm a aproximadamente 1 nm de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión tanto en el plano horizontal como vertical . Con referencia ahora a las Figuras 39A-39F, se ilustra una modalidad de un método para formar un patrón complejo en un sustrato. En la modalidad ilustrada en la Figura 39, se usa una técnica de litografía de impresión para formar un patrón en un sustrato. Con referencia ahora a la Figura 39A, se proporciona un original 3900 con patrones. El original 3900 con patrones incluye una pluralidad de áreas de superficie 3920 no ahuecadas y una pluralidad de depresiones 3930. En algunas modalidades, las depresiones 3930 incluyen una o más sub-depresiones 3932. En algunas modalidades, las depresiones 3930 incluyen una multiplicidad de sub-depresiones 3932. En algunas modalidades, el original 3900 con patrones incluye un sustrato grabado en ácido, tal como una oblea de silicio, que se graba en ácido en el patrón deseado para formar el original 3900 con patrones. Con referencia ahora a la Figura 39B, un material fluido 3901, por ejemplo, una composición líquida de fluoropolímero, tal como un precursor basado en PFPE, se vierte en el original 3900 con patrones. En algunas modalidades, el material fluido 3901 se trata por un proceso de tratamiento, por ejemplo exposición a luz UV, formando de este modo un molde 3910 de material tratado en el patrón deseado. En una modalidad, ilustrada en la Figura 39C, el molde 3910 se remueve del original 3900 con patrones. En una modalidad, el molde 3910 de material tratado es un polímero reticulado. En una modalidad, el molde 3910 de material tratado es un elastómero. En una modalidad, se aplica una fuerza a uno o más del molde 3910 u original 3900 con patrones para separar el molde 3910 del original 3900 con patrones. La Figura 39C ilustra una modalidad del molde 3910 y el original 3900 con patrones en donde el molde 3910 incluye una pluralidad de depresiones y sub-depresiones que son imágenes en el espejo de la pluralidad de área de superficie no ahuecada del original 3900 con patrones. En una modalidad del molde 3910, la pluralidad de áreas no ahuecadas se deforma elásticamente para facilitar la remoción del molde 3910 del original 3900. El molde 3910, en una modalidad, es una plantilla con patrones útil para litografía blanda y aplicaciones de litografía de impresión. Con referencia ahora a la Figura 39D, se proporciona un molde 3910. En algunas modalidades, el molde 3910 incluye un material polimérico de baja energía superficial, resistente a solventes, derivado de un moldeo de materiales líquidos de baja viscosidad en una plantilla de original y luego la curación de los materiales líquidos de baja viscosidad para generar una plantilla con patrones como se define anteriormente en la presente. El molde 3910 incluye además una primera superficie 812 de plantilla con patrones y una segunda superficie 814 de plantilla. La primera superficie 812 de plantilla con patrones incluye además una pluralidad de depresiones 816 y sub-depresiones 3942. En una modalidad, múltiples capas de sub-depresiones 3942 forman sub-sub-depresiones y así sucesivamente. En algunas modalidades, el molde 3910 se deriva de un material polimérico de baja energía superficial resistente a solventes y se monta en otro material para facilitar la alineación del mol-de o para facilitar el procesamiento continuo, tal como un proceso continuo usando un mecanismo tipo rodillo a rodillo o tipo banda transportadora. En una modalidad, este procesamiento continuo es útil en la fabricación de estructuras precisamente colocadas en una superficie, tal como en la fabricación de un dispositivo complejo o un dispositivo semiconductor, electrónico o fotónico . Con referencia nuevamente a la Figura 39D, se proporciona un sustrato 3903. En algunas modalidades, el sustrato 3903 incluye, sin limitación, uno o más de un material polimérico, un material inorgánico, un material de silicio, un material de cuarzo, un material de vidrio, y variantes tratadas en la superficie de los mismos. En algunas modalidades, al menos uno del molde 3910 y el sustrato 3903 tiene una energía superficial menor de 18 mN/m. En algunas modalidades, al menos uno del molde 3910 y el sustrato 3903 tiene una energía superficial menor de 15 mN/m. De acuerdo a una modalidad adicional, el molde 3910 y/o el sustrato 3903 tienen una energía superficial entre aproximadamente 10 mN/m y aproximadamente 20 mN/m. De acuerdo a algunas modalidades, el molde 3910 y/o el sustrato 3903 tienen una baja energía superficial entre aproximadamente 12 nM/m y aproximadamente 15 m /m. En algunas modalidades, como se ilustra en la Figura 39D, el molde 3910 y el sustrato 3903 se colocan en una relación separada entre sí tal que la primera superficie 812 de plantilla con patrones da hacia la superficie 822 de sustrato y se crea una separación 830 entre la primera superficie 812 de plantillas con patrones y la superficie 822 de sustrato. Esto es sólo un ejemplo de una relación predeterminada. Con referencia nuevamente a la Figura 39D, se coloca un volumen de material líquido 3902 en la separación entra la primera superficie 812 de plantilla con patrones y la superficie 822 de sustrato. En algunas modalidades, el volumen del material líquido 3902 se coloca directamente en un agente no humectante, que se coloca en la primera superficie 812 de plantilla con patrones. Con referencia ahora a la Figura 39E, en algunas modalidades, el molde 3910 se pone en contacto con el volumen del material líquido 3902 (no mostrado en la Figura 39E) . Se aplica una fuerza F al molde 3910, forzando de este modo el volumen del material líquido 3902 en la pluralidad de depresiones 816 y sub-depresiones . En algunas modalidades, tal como se ilustra en la Figura 8C, una porción del volumen de material líquido 3902 permanece entre el molde 3910 y la superficie del sustrato 3903 después de que se aplica la fuerza F. Con referencia nuevamente a la Figura 3 E, en algunas modalidades, el volumen del material liquido 3902 se trata por un proceso de tratamiento en tanto que se está aplicando una fuerza F para formar un producto 3904. En algunas modalidades, el proceso de tratamiento incluye, sin limitación, uno o más de un proceso fotoquímico, un proceso químico, un proceso térmico, combinaciones de los mismos, o similares. Con referencia ahora a la Figura 39F, se remueve un molde 3910 del producto 3904 para revelar un producto con patrones en el sustrato 3903 como se muestra en la Figura 39F. En algunas modalidades, una capa residual o de "escoria" del material líquido tratado permanece en sustrato 3903. En algunas modalidades, el material líquido del cual se formarán las partículas, o precursor de partículas, se selecciona del grupo que incluye un polímero, una solución, un monómero, una pluralidad de monómeros, un iniciador de polimerización, un catalizador de polimerización, un precursor inorgánico, un material orgánico, un producto natural, un precursor metálico, un agente farmacéutico, un marca, un material magnético, un material paramagnético, un material superparamagnético, un ligando, un péptido de penetración celular, un porógeno, un agente tensioactivo, una pluralidad de líquidos inmiscibles, un solvente, un agente farmacéutico con un aglutinante, una especie cargada, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, el agente farmacéutico se selecciona del grupo que incluye un fármaco, un péptido, AR i, ADN, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, la marca se selecciona del grupo que incluye un marca de fluorescencia, una marca radiomarcada, un agente de contraste, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, el ligando incluye un péptido de selección de objetivo celular. Los materiales superparamagnéticos o paramagnéticos representativos incluyen pero no se limitan a Fe203, Fe^On, FePt, Co, MnFe204, CoFe20 , CuFe204, NiFe204 y Zns impurificados con Mn para aplicaciones magneto-ópticas, CdSe para aplicaciones ópticas, boratos para tratamiento de captura de neutrones de boro, combinaciones de los mismos y similares. En algunas modalidades, el material líquido se selecciona de uno de un polímero resistente y un dieléctrico de baja k. En algunas modalidades, el material líquido incluye un agente no humectante. En algunas modalidades, la colocación del volumen del material líquido se regula por un proceso de esparcimiento. En algunas modalidades, el proceso de esparcimiento incluye colocar un primer volumen de material líquido en la plantilla con patrones para formar una capa de material líquido en la plantilla con patrones, y jalar un implemento a través de capa de material líquido para remover un segundo volumen de material líquido de la capa de material líquido en la plantilla con patrones y dejar un tercer volumen de material líquido en la plantilla con patrones. En algunas modalidades, la puesta en contacto de la primera superficie de plantilla con el sustrato elimina esencialmente todo el volumen colocado de material líquido. En algunas modalidades, el tratamiento del líquido incluye, sin limitación, uno o más de un proceso térmico, un proceso fotoquímico, un proceso químico, un proceso evaporativo, un cambio de fase, un proceso oxidativo, un proceso reductivo, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el método incluye un proceso por lotes. En algunas modalidades, el proceso por lote se selecciona de uno de un proceso de semi-lotes, y un proceso de lotes continuo. En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe un sustrato con patrones formado por los métodos actualmente descritos.

VIII.A. Métodos para Fabricación por Litografía de Impresión De acuerdo a otras modalidades, el material líquido se puede introducir a la plantilla con patrones y las depresiones formadas en el mismo por una o una combinación de las siguientes técnicas. En algunas modalidades, las depresiones de las plantillas con patrones se pueden configurar para recibir una sustancia predeterminada que se va a moldear. De acuerdo a estas modalidades, las variables tal como por ejemplo, la energía superficial de la plantilla con patrones, el volumen de la depresión, la permeabilidad de la plantilla con patrones, la viscosidad de la sustancia que se va a moldear, las energías relativas entre la superficie de la plantilla y el sustrato que se va a moldear, así como otras propiedades físicas y químicas de la sustancia que se va a moldear interactuan y afectan la disposición de la recepción de la sustancia que se va a moldear en la depresión.

VIII.A. i. Relleno Pasivo de Molde Con referencia ahora a la Figura 50, en algunas modalidades, se introduce una sustancia 5000 que se va a moldear a una plantilla 5002 con patrones. La sustancia 5000 se puede introducir a la plantilla 5002 con patrones como una gota, por revestimiento giratorio, una corriente líquido, una cuchilla o similar. La plantilla 5002 con patrones incluye depresiones 5012 y se puede fabricar, de acuerdo a los métodos descritos en la presente, de materiales descritos en la presente tal como por ejemplo, materiales poliméricos de baja energía superficial. Debido a que la plantilla 5002 con patrones se fabrica de materiales poliméricos de baja densidad superficial, la sustancia 5000 no humecta la superficie de la plantilla 5002 con patrones, sin embargo, la sustancia 5000 rellena las depresiones 5012 . Entonces, se aplica un tratamiento 5008 , tal como tratamientos descritos en la presente, a la sustancia 500 para curar la sustancia 5000 . De acuerdo a algunas modalidades, el tratamiento 5008 puede ser, por ejemplo, fotocuración, termocuración, curación oxidativa, curación reductiva, combinaciones de los mismos, evaporación y similares . En algunas modalidades, la pluralidad de áreas ahuecadas incluye una pluralidad de cavidades. En algunas modalidades, la pluralidad de cavidades incluye una pluralidad de características estructurales. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tienen una dimensión que varía desde aproximadamente 10 micrones a aproximadamente 1 nanómetro de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 1 micrón a aproximadamente 100 nm de tamaño. En algunas modalidades, la producto de características estructurales tiene una dimensión que varía desde aproximadamente 100 nm a aproximadamente 1 nm de tamaño. En algunas modalidades, la pluralidad de características estructurales tiene una dimensión tanto en el plano horizontal como vertical.

VIII. A. ii. Relleno de Molde por Inmersión. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla con patrones se sumerge en la sustancia que se va a moldear, como se muestra en la Figura 51. Con referencia a la Figura 51, la plantilla 5104 con patrones se sumerge en un volumen de la sustancia 5102. La sustancia 5102 entra a las depresiones 5106 y sigue la remoción de la plantilla 5104 con patrones de la sustancia 5102, la sustancia 5108 permanece en las depresiones 5106 de la plantilla 5104 con patrones.

VIII. A. iii. Relleno de Molde con Gotas Móviles De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla con patrones se puede colocar en un ángulo, como se muestra en la Figura 52. Se introduce un volumen del material que se va a fabricar 5204 en la superficie de la plantilla 5200 con patrones que incluye las depresiones 5206. El volumen del material que se va a fabricar 5204 viaja hacia debajo de la superficie inclinada de la plantilla 5200 con patrones. Conforme el volumen del material que se va a fabricar 5204 viaja sobre las depresiones 5206, sub- olúmenes del material que se va a fabricar 5208 entran y rellenan las depresiones 5206. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla 5200 con patrones se puede colocar en aproximadamente un ángulo de 20 grados de la horizontal. De acuerdo a algunas modalidades, el líquido se puede mover por una cuchilla.

VIII.A. iv. Relleno Asistido con Voltaje De acuerdo a algunas modalidades, un voltaje puede ayudar en la introducción de un material que se va a fabricar en depresiones en una plantilla con patrones. Con referencia a la Figura 53 , una plantilla 5300 con patrones que tienen depresiones 5302 en una superficie de la misma se puede colocar en una superficie 5308 de electrodo. Se puede introducir un volumen del material que se va a fabricar 5304 en la superficie de las depresiones de la plantilla 5300 con patrones. El material que se va a fabricar 5304 también puede estar en comunicación con un electrodo opuesto 5306 al electrodo 5308 que está en comunicación con la plantilla 5300 con patrones. La diferencia de voltaje entre los electrodos 5306 y 5308 viaja a través del material que se va a fabricar 5304 y la plantilla 5300 con patrones. La diferencia de voltaje altera el ángulo de humectación del material que se va a fabricar 5304 con respecto a la plantilla 5300 con patrones, y de este modo, facilitando la entrada al material que se va a fabricar 5304 en las depresiones 5302 . En algunas modalidades, el electrodo 5306 , en comunicación con el material que se va a fabricar 5304 , se mueve a través de la superficie de la plantilla 5300 con patrones facilitando de este modo el relleno de las depresiones 5302 a través de la superficie de la plantilla 5300 con patrones. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla 5300 con patrones y el material que se va a fabricar 5304 se someten a aproximadamente 3000 voltios de DC, sin embargo, el voltaje aplicado a una combinación de plantilla con patrones y material que se va a fabricar se puede ajustar a los requerimientos específicos de las combinaciones. En algunas modalidades, el voltaje se altera para arribar a un ángulo de contacto preferido entre el material que se va a fabricar y la plantilla con patrones para facilitar la entrada del precursor de partículas para facilitar la entrada del material que se va a fabricar en las depresiones de la plantilla con patrones.

VIII. B. Termodinámica del Relleno de Depresiones Las depresiones en una plantilla con patrones, tal como las depresiones 5012 en la plantilla 5002 con patrones de la Figura 50 se pueden configurar para recibir una sustancia para litografía de impresión. Las características físicas y químicas, tanto de la depresión como de la sustancia particular que se va a moldear se pueden configurar para incrementar qué tan fácil se recibe la sustancia por la depresión. Factores que pueden influenciar el relleno de una depresión incluyen, pero no se limitan a, volumen de depresión, diámetro, área superficial, energía superficial, ángulo de contacto entre una sustancia que se va a moldear y el material de la depresión, voltaje aplicado a través de una sustancia que se va a moldear, temperatura, condiciones ambientales que circundan la plantilla con patrones tal como por ejemplo la remoción de oxígeno o impurezas de la atmósfera, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, una depresión que es de aproximadamente 2 micrones de diámetro tiene una presión capilar de aproximadamente 1 atmósfera. En algunas modalidades, una depresión con un diámetro de aproximadamente 200 nm tiene una presión capilar de aproximadamente 10 atmósferas.

IX. Litografía de Impresión Libre de una "Capa de Escoria" Residual Una característica de la litografía de impresión que ha restringido su potencial completo es la formación de una "capa de escoria" una vez que se graba en patrones el material líquido, por ejemplo, una resina. La "capa de escoria" incluye material líquido residual que permanece entre el cuño y el sustrato. En algunas modalidades, la materia actualmente descrita proporciona un proceso para generar patrones esencialmente libres de una capa de escoria. Con referencia ahora a las Figuras 9A-9E, en algunas modalidades, se proporciona un método para formar un patrón en un sustrato, en donde el patrón está esencialmente libre de una capa de escoria. Con referencia ahora a la Figura 9A, se proporciona una plantilla 910 con patrones. La plantilla 910 con patrones incluye además una primera superficie 912 de plantilla con patrones y una segunda superficie 914 de plantilla. La primera superficie 912 de plantilla con patrones incluye además una pluralidad de depresiones 916. En algunas modalidades, se coloca un agente 960 no humectante en la primera superficie 912 de plantilla con patrones. Con referencia nuevamente a la Figura 9A, se proporciona un sustrato 920. El sustrato 920 incluye una superficie 922 de sustrato. En algunas modalidades, se coloca un agente 960 no humectante en la superficie 920 de sustrato. En algunas modalidades, como se ilustra en la Figura 9A, la plantilla 910 con patrones y el sustrato 920 se colocan en una relación separada entre sí tal que la primera superficie 912 de plantilla con patrones da hacia la superficie 922 de sustrato y se crea una separación 930 entre la primera superficie 912 de plantilla con patrones y la superficie 922 de sustrato. Con referencia ahora a la Figura 9B, se coloca un volumen de material líquido 940 en la separación 930 entre la primera superficie 912 de plantilla con patrones y la superficie 922 de sustrato. En algunas modalidades, se coloca el volumen del material líquido 940 directamente en la primera superficie 912 de plantilla con patrones. En algunas modalidades, se coloca el volumen de material líquido 940 directamente en el agente 960 no humectante, que se coloca en la superficie 912 de plantilla con patrones. En algunas modalidades, el volumen de material líquido 940 se coloca directamente en la superficie 920 de sustrato. En algunas modalidades, el volumen de material líquido 940 se coloca directamente en el agente 960 no humectante, que se coloca en la superficie 920 de sustrato. Con referencia ahora a la Figura 9C, en algunas modalidades, la primera superficie 912 de plantilla con patrones se pone en contacto con el volumen de material líquido 940. Se aplica una fuerza Fa a la segunda superficie 914 de plantilla, forzando de este modo el volumen del material líquido 940 en la pluralidad de depresiones 916. En contraste con la modalidad ilustrada en la Figura 8, una porción del volumen del material líquido 940 se fuerza fuera de la separación 930 por la fuerza FQ cuando se aplica la fuerza Fa. Con referencia nuevamente a la Figura 9C, en algunas modalidades, el volumen del material líquido 940 se trata por un proceso de tratamiento Tr en tanto que se está aplicando la fuerza Fa para formar un material líquido tratado 942 tratado. Con referencia ahora a la Figura 9D, se aplica una fuerza Fr a la plantilla 910 con patrones para remover la plantilla 910 con patrones del material líquido 942 tratado para revelar un patrón 950 del sustrato 920 como se muestra en la Figura 9E. En esta modalidad, el sustrato 920 está esencialmente libre de una capa residual, o de ".escoria" del material líquido 942 tratado. En algunas modalidades, al menos uno de la superficie de plantilla y el sustrato incluye un elemento de superficie funcionalizado . En algunas modalidades, el elemento de superficie funcionalizado se funcionaliza con un material no humectante. En algunas modalidades, el material no humectante incluye grupos funcionales que se unen al material líquido. En algunas modalidades, el material no humectante es un tricloro-silano, un trialcoxi-silano, un tricloro-silano que incluye grupos funcionales reactivos y no humectante, un trialcoxi-silano que incluye grupos funcionales no humectantes y reactivos, y/o mezclas de los mismos. En algunas modalidades, el punto de contacto entre los dos elementos de superficie está libre de material líquido. En algunas modalidades, el punto de contacto entre los dos elementos de superficie incluye material líquido residual. En algunas modalidades, la altura del material líquido residual es menor que 30 % de la altura de la estructura. En algunas modalidades, la altura del material líquido residual es menos de 20 % de la altura de la estructura. En algunas modalidades, la altura del material líquido residual es menos de 10 % de la altura de la estructura. En algunas modalidades, la altura del material líquido residual es menos de 5% de la altura de la estructura. En algunas modalidades, el volumen de material líquido es menor que el volumen de la plantilla con patrones. En algunas modalidades, sustancialmente todo el volumen del material líquido está confinado a la plantilla con patrones de al menos uno de los elementos de superficie. En algunas modalidades, el tener el punto de contacto entre los dos elementos de superficie libres de material líquido retarda el deslizamiento entre los dos elementos de superficie.

X. Micro-Moldeo Asistido con Solvente (SAMIM) En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe un método de micro-moldeo asistido con solvente (SAMIM) para formar un patrón en un sustrato. Con referencia ahora a la Figura 10A, se proporciona una plantilla 1010 con patrones. La plantilla 1010 con patrones incluye además una primera superficie 1012 de plantilla con patrones y una segunda superficie 1014 de plantilla. La primera superficie 1012 de plantilla con patrones incluye además una pluralidad de depresiones 1016. Con referencia nuevamente a la Figura 10A, se proporciona un sustrato 1020. El sustrato 1020 incluye una superficie 1022 de sustrato. En algunas modalidades, se coloca un material polimérico 1070 en la superficie 1022 de sustrato. En algunas modalidades, el material polimérico 1070 incluye un polímero resistente. Con referencia nuevamente a la Figura 10A, se coloca la plantilla 1010 con patrones y el sustrato 1020 en una relación separada entre sí tal que la primera superficie 1012 de plantilla con patrones da hacia la superficie 1022 de sustrato y se crea una separación 1030 entre la primera superficie 1012 de plantilla con patrones y la superficie 1022 de sustrato. Como se muestra en la Figura 10A, se coloca un solvente S dentro de la separación 1030, tal que el solvente S hace contacto con el material polimérico 1070 formando un material polimérico 1072 hinchado. Con referencia ahora a las Figuras 10B y 10C, la primera superficie 1012 de plantilla con patrones se pone en contacto con el material polimérico hinchado 1072. Se aplica una fuerza Fa a la segunda superficie 1014 de plantilla, forzando de este modo una porción del material polimérico 1072 en la pluralidad de depresiones 1016 y dejando una porción del material polimérico hinchado 1072 entre la primera superficie 1012 de plantilla con patrones y la superficie 1020. El material polimérico hinchado 1072 entonces se trata por un proceso Tr de tratamiento en tanto que está bajo presión. Con referencia ahora a la Figura 10D, se aplica una fuerza Fr a la plantilla 1010 con patrones para remover la plantilla 1010 con patrones del material polimérico hinchado tratado 1072 para revelar un patrón polimérico 1074 en el sustrato 1020 como se muestra en la Figura 10E.

XI. Remoción/Recolección de las Estructuras con Patrones de la Plantilla con Patrones y/o Sustrato En algunas modalidades, la estructura con patrones (por ejemplo, una micro- o nano-estructura con patrones) se remueve de al menos uno de la plantilla con patrones y/o el sustrato. Esto se puede lograr por varios planteamientos, incluyendo pero no limitado a, aplicación del elemento superficial que contiene la estructura con patrones a una superficie que tiene una afinidad para la estructura con patrones; aplicación del elemento de superficie que contiene la estructura con patrones a un material que cuando se endurece tiene una interacción química y/o física con la estructura con patrones; deformar el elemento de superficie que contiene la estructura con patrones tal que la estructura con patrones se libera del elemento de superficie; hinchar el elemento de superficie que contiene la estructura con patrones con un primer solvente para extruir la estructura con patrones; y lavar el elemento de superficie que contiene la estructura con patrones con un segundo solvente que tiene una afinidad para la estructura con patrones. En algunas modalidades, una superficie tiene una afinidad para las partículas . La afinidad de la superficie puede ser el resultado de, en algunas modalidades, una superficie adhesiva o pegajosa, tal como por ejemplo pero sin limitación, carbohidratos, epoxies, ceras, alcohol polivinílico, polivinil-pirrolidona, polibutil-acrilato, policiano-acrilatos, polihidroxietil-metacrilato, polimetil-metacrilato, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, el líquido es agua que se enfría para formar hielo. En algunas modalidades, el agua se enfría a una temperatura por debajo de la Tm de agua pero por arriba de la Tg de la partícula. En algunas modalidades, el agua se enfría a una temperatura por debajo de la Tg de las partículas pero por arriba de la Tg del molde o sustrato. En algunas modalidades, el agua se enfría a una temperatura por debajo de la Tg del molde o sustrato. En algunas modalidades, el primer solvente incluye dióxido de carbono de fluido supercrítico . En algunas modalidades, el primer solvente incluye agua. En algunas modalidades, el primer solvente incluye una solución acuosa que incluye agua y un detergente. En algunas modalidades, la deformación del elemento de superficie se realiza al aplicar una fuerza mecánica al elemento de superficie. En algunas modalidades, el método para remover la estructura con patrones incluye además un método de ultrasonido. De acuerdo aún a otra modalidad, las partículas se recolectan en un primer sustrato de disolución, hoja o película. Los agentes formadores de película pueden incluir, pero no se limitan a, pululano, hidroxipropilmetil-celulosa, hidroxietil-celulosa, hidroxipropil-celulosa, polivinilpirrolidona, carboximetil-celulosa, alcohol polivinílico, alginato sódico, polietil-englicol , goma de xantano, goma de tragacanto, goma de guar, goma de acacia, goma arábiga, ácido poliacrílico, copolímero de metilmetacrilato, polímero de carboxivinilo, amilasa, almidón de alto contenido de amilasa, almidón de alto contenido de amilasa hidroxipropilado, dextrina, pectina, quitina, quitosan, levan, elsinan, colágeno, gelatina, zeína, gluten, aislado de proteína de soya, aislado de proteína de suero, caseína, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, se usa pululano como el agente de relleno primario. En aún otras modalidades, se incluye pululano en cantidades que varían desde aproximadamente 0.01 a aproximadamente 99 % en peso, de manera preferente de aproximadamente 30 a aproximadamente 80 % en peso, de manera más preferente de aproximadamente 45 a aproximadamente 70 % en peso, y de manera aún más preferente de aproximadamente 60 a aproximadamente 65 % en peso de la película. La película puede incluir además agua, agentes plastificantes , agentes saborizantes naturales y/o artificiales, agentes de precipitación de azufre, agentes de estimulación de saliva, agentes refrigerantes, agentes tensioactivos , agentes estabilizadores, agentes emulsionantes, agentes espesantes, agentes de unión, agentes colorantes, edulcorantes, fragancias, combinaciones de los mismos, y similares . Los edulcorantes adecuados incluyen edulcorantes tanto naturales como artificiales. Los ejemplos de algunos edulcorantes que se pueden usar con las hojas de la modalidad actualmente descrita incluyen, pero no se limitan a: (a) agentes edulcorantes solubles en agua, tal como monosacáridos , disacáridos y polisacáridos tal como xilosa, ribosa, glucosa (dextrosa) mannosa, galactosa, fructosa (levulosa) , sacarosa (azúcar) , maltosa, azúcar invertida (una mezcla de fructosa y glucosa derivada de sacarosa) , almidón parcialmente hidrolizado, sólidos de jarabe de maíz, dihidrocalconas , monelina, esteviosidas , y glicirrizina; (b) edulcorantes artificiales solubles en agua, tal como las sales de sacarina solubles, sales de sacarina sódicas o cálcicas, sales de ciclamato, las sales sódicas, de amonio o calcio de 3,4-dihidro-6-metil-l , 2 , 3-oxatiazina-4-ona-2 , 2-dióxido, la sal potásica de 3 , 4-dihidro-6-metil-l , 2 , 3-oxatiazina-4-ona-2 , 2-dióxido (acesulfame-K) , la forma de ácido libre de sacarina, y similares; (c) edulcorantes basados en dipéptidos, tal como edulcorantes derivados de ácido L-aspártico, éster metílico de L-aspartil-L-fenilalanina (aspartame) y materiales descritos en la patente de los Estados Unidos número 3,492,131, que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad, hidrato de L-alfa-aspartil-N- (2 , 2 , 4 , 4-tetrametil-3-tietanil ) -D-alaninamida, ésteres metílicos de L-aspartil-L- 2?7 fenilglicerina y L-aspartil-L-2 , 5 , dihidrofenil-glicina, L-aspartil-2, 5-dihidro-L-fenilalanina, L-aspartil-L- (1-ciclohexen) -alanina, y similares; (d) edulcorantes solubles en agua derivados de edulcorantes solubles en agua que se presentan de forma natural, tal como un derivado clorado de azúcar ordinaria (sacarosa) ; y (e) edulcorantes basados en proteína, tal como thaumatoccous danielli (Traumatina I y II) y similares. En general, se utiliza una cantidad efectiva de edulcorante auxiliar para proporcionar el nivel de dulzura deseado para una composición particular, y esta cantidad variará con el edulcorante seleccionado. La cantidad estará normalmente entre aproximadamente 0.01 % a aproximadamente 10 % en peso de la composición cuando se use un edulcorante fácilmente extraíble. Los edulcorantes solubles en agua descritos en la categoría (a) anterior, usualmente se usan en cantidades de entre aproximadamente 0.01 a aproximadamente 10 % en peso y de manera preferente en cantidades de entre aproximadamente 2 a aproximadamente 5 % en peso. Los edulcorantes descritos en las categorías (b)-(e) en general se usan en cantidades de entre aproximadamente 0.01 a aproximadamente 10 % en peso, con entre aproximadamente 2 a aproximadamente 8 % en peso que se prefiere y entra aproximadamente 3 a aproximadamente 6 % en peso que es más preferido. Estas cantidades se pueden usar para lograr un 20ß nivel deseado de dulzura independiente del nivel de sabor logrado de aceites opcionales de sabor usados. Por supuesto, los edulcorantes no necesitan ser adicionados a películas propuestas para administración no oral. Los saborizantes que se pueden usar en las películas incluyen sabores naturales y artificiales. Estos saborizantes se pueden elegir de aceites sintéticos de sabor y aromáticos saborizantes y/o aceites saborizantes, resinas óleo y extractos derivados de plantas, hojas, flores, frutas, combinaciones de los mismos, y similares. Los aceites de sabor representativos incluyen: aceite de hierbabuena, aceite de canela, aceite de menta, aceita de ajo, aceite de laurel, aceite de tomillo, aceite de hojas de cedro, aceite de nuez moscada, aceite de salvia, y aceite de almendras amargas. También útiles son sabores de fruta artificiales, naturales o sintéticos, tal como vainilla, chocolate, café, cacao y aceite cítrico, incluyendo limón, naranja, uva, lima y toronja, y esencias de fruta incluyendo manzana, pera, melocotón, fresa, frambuesa, cereza, ciruela, piña, chabacano y demás. Estos saborizantes se pueden usar de manera individual o en mezclas. Los saborizantes tal como aldehidos y ésteres incluyendo acetato de cinnamilo, cinnamaldehído, citral, dietilacetal , acetato de dihidrocarvilo, formiato de eugenilo, p-metilanisol, y demás también se pueden usar. En general, se puede usar cualquier saborizante o aditivo alimenticio, tal como aquéllos descritos en Chemicals Used in Food Processing, publicación 1274 por la National Academy of Sciences, páginas 63-258, que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. Los ejemplos adicionales de saborizantes de aldehido incluyen, pero no se limitan a, acetaldehído (manzana) ; benzaldehído (cereza, almendra) ; aldehido cinnámico (canela); citral, es decir, alfa-citral (limón, lima); neral, es decir, beta-citral (limón, lima) ; decanal (naranja, limón) ; etil-vanillina (vainilla, crema) ; heliotropina, es decir, piperonal (vainilla, crema) ; vanillina (vainilla, crema) ; alfa-amil-cinnamaldehído (sabores de frutas sazonadas); butiraldehído (mantequilla, queso) ; valeraldehído (mantequilla, queso); citronelal; decanal (frutas cítricas), aldehido C-8 (frutas cítricas); aldehido C-9 (frutas cítricas); aldehido C-12 (frutas cítricas); 2-etil-butiraldehído (frutas de baya); hexenal, es decir, trans-2 (frutas de baya); tolil-aldehído (cereza, almendra); veratraldehído (vainilla); 2 , 6-dimetil-5-heptenal , es decir, melonal (melón); 2 , 6-dimetiloctanal (fruta verde); 2-dodecenal (cítrico, mandarina) ; cereza; uva; mezcla de los mismos y similares . La cantidad de saborizante empleada normalmente es una cuestión de preferencia sometida a factores tal como tipo de sabor, sabor individual, concentración deseada, concentración necesaria para enmascarar otros sabores menos deseables, y similares. De esta manera, la cantidad se puede variar para obtener el resultado deseado en el producto final. En general , cantidades de entre aproximadamente 0.1 a aproximadamente 30 % en peso son utilizables con cantidades de aproximadamente 2 a aproximadamente 25 % en peso que se prefieren y cantidades de aproximadamente 8 a aproximadamente 10 % en peso son más preferidas. Las películas también pueden contener agentes colorantes o colorantes . Los agentes colorantes se usan en cantidades efectivas para producir un color deseado. Los agentes colorantes útiles en la materia actualmente descrita, incluyen pigmentos tal como dióxido de titanio, que se pueden incorporar en cantidades de hasta aproximadamente 5 % en peso, y de manera preferente menos de aproximadamente 1 % en peso . Los colorantes también pueden incluir colores alimenticios naturales y tintes adecuados para alimentos, fármacos y aplicaciones cosméticas. Estos colorantes se conocen con tintes y lacas FD&C . Los materiales aceptables para el espectro de uso anterior son preferentemente solubles en agua, e incluyen azul FD&C número 2, que es la sal disódica de ácido 5 , 5-indigotindisulfónico . De manera similar, el tinte conocido como verde número 3 comprende un tinté de trifenilmetano y es la sal monosódica de 4- [4-N-etil-p-sulfobencilamino) difenil-metileno] - [1-N-etil-N-p-sulfoniobencil) -2 , 5-ciclo-hexadienimina] . Una cita completa de todos los tintes FD&C y D&C y sus correspondientes estructuras químicas se pueden encontrar en la Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, Volumen 5 , páginas 857 -884 , que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. Adicionalmente, los materiales y métodos descritos en la patente de los Estados Unidos número 6 , 923 , 981 y las referencias citadas en la misma, todo lo cual se incorpora en la presente como referencia, describen películas de disolución rápida, apropiadas, para el uso con las partículas de la materia actualmente descrita. Después de que las partículas se recolectan en estas hojas de azúcar, por ejemplo, la hoja de disolución rápida puede actuar como el dispositivo de distribución. De acuerdo a estas modalidades, las películas de disolución rápida se pueden colocar en tejidos biológicos y conforme la película se disuelve y/o absorbe, las partículas contenidas en la misma también se disuelven o absorben. Las películas se pueden configurar para distribución transdérmica, distribución transmucosa, distribución nasal, distribución anal, distribución vaginal, combinaciones de los mismos y similares. De acuerdo a algunas modalidades, un método para recolectar partículas de una plantilla con patrones incluye el uso de una capa de sacrificio. Con referencia a la Figura 60 , una plantilla 6002 que tiene partículas curadas 6004 contenidas dentro de la depresión se prepara por técnicas descritas en la presente. Entonces, se coloca una gota o película delgada de un monómero 6008 en un sustrato 6006. En algunas modalidades, el monómero 6008 se puede polimerizar térmicamente o por irradiación UV tal que una unión adhesiva se forme entre la capa 6008 de monómero y las partículas 6004 en la plantilla 6002. La plantilla 6002 entonces se libera del monómero polimerizado 6008 dejando las partículas 6004 en un arreglo (C) . Entonces, se puede introducir un solvente al monómero 6008 que puede disolver la capa 6008 monomérica de sacrificio, liberando de este modo las partículas 6004 (D) . En modalidades alternativas, el método se puede adaptar tal que la plantilla 6002 contenga gotas líquidas no curadas 6004. La plantilla 6002 que contiene gotas 6004 entonces se puede prensar en un adhesivo 6008 monomérico líquido no polimerizado. Entonces, las partículas 6004 y el adhesivo 6008 se curan en el mismo paso tal que ambos se llegan a solidificar y unir con untamente. La plantilla 6002 entonces se libera dejando las partículas 6004 en un arreglo (C) . Cuando se introduce un solvente en la plantilla 6004, la capa 6008 de adhesivo monomérica, la capa 6008 de adhesivo de sacrificio se lavan, dejando las partículas 6004 (D) . De acuerdo a otras modalidades, las gotas 6004 de partículas contienen una cantidad predeterminada de un agente reticulador en tanto que la capa 6008 de adhesivo no conti-ene reti-culador . Antes de la curación, cuando los líqui-dos de las partículas 6004 están en contacto con el líquido de la capa 6008 de adhesivo monomérico, el flujo laminar impide la difusión de la partícula 6004 en la capa 6008 de adhesivo monomérico. En algunas modalidades, el adhesivo monomérico se inserta a la partícula durante al polimerización. En algunas modalidades, las partículas contienen un reticulador. En modalidades adicionales, el monómero adhesivo se forma de la misma composición como las partículas menos un agente reticulador, haciendo al adhesivo soluble cuando se expone a un solvente en tanto que deja intactas a las partículas. En algunas modalidades, el monómero contiene una cantidad predeterminada de fotoiniciador de radicales libres o iniciador térmico. En algunas modalidades, el monómero se polimeriza para generar un polímero con una temperatura de transición vitrea por arriba de la temperatura de trabajo. En algunas modalidades, la capa de adhesivo contiene un monómero que, a través del injerto, adiciona una funcionalidad deseada a una cara de la partícula tal como : especies químicas reactivas, componentes magnéticos, ligandos de selección de objetivo, marcas fluorescentes, agentes de formación de imágenes, catalizadores, biomoléculas , combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, los monómeros adecuados que se van a usar en la capa de adhesivo incluyen, pero no se limitan a: compuestos q e contienen metacrilato y acrilato, ácido acr lico, nitrocelulosa, acetato de celulosa, 2-hidroxietil-metacrilato, cianoacrilatos ( estirénicos, monómeros que contienen grupos vinílicos, vinilpirrolidona, poli (etilenglicol) -acrilato, poli)etilenglicol) -metacrilato, hidroxiletil-acrilato, hidroxiletil-metacrilato, monómeros que contienen epoxi, y combinaciones de los mismos, y similares.

XII . Método para Fabricar Moléculas y para Distribuir un Agente Terapéutico a un Objetivo En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe métodos, procesos y productos por procesos, para fabricar moléculas de distribución, para el uso en el descubrimiento de fármacos y terapias de fármacos. En algunas modalidades, el método o proceso para fabricar una molécula de distribución incluye un método o proceso de combinación. En algunas modalidades, el método para fabricar moléculas incluye un método litográfico de impresión no humectante.

XII.A. Método para Fabricar Moléculas En algunas modalidades, el método de litografía de impresión no humectante de la materia actualmente descrita se usa para generar una superficie derivada de o que incluye un material polimérico de baja energía superficial resistente a solventes. La superficie se deriva del moldeo de materiales líquidos de baja viscosidad sobre una plantilla de original y luego curación de los materiales líquidos de baja viscosidad para generar una plantilla con patrones, como se describe en la presente. En algunas modalidades, la superficie incluye un material elastomérico resistente a solvente. En algunas modalidades, el método de litografía de impresión no humectante se usa para generar estructuras aisladas. En algunas modalidades, las estructuras aisladas incluyen micro-estructuras aisladas. En algunas modalidades, las estructuras aisladas incluyen nano-estructuras aisladas. En algunas modalidades, las estructuras aisladas incluyen un material biodegradable . En algunas modalidades, las estructuras aisladas incluyen un material hidrófilo. En algunas modalidades, las estructuras aisladas incluyen un material hidrófobo. En algunas modalidades, las estructuras aisladas incluyen una forma particular, en otra modalidad, las estructuras aisladas incluyen o se configuran para retener "carga" . De acuerdo a una modalidad, la carga mantenida por la estructura aislada puede incluir un elemento, una molécula, una sustancia química, un agente, un fármaco, un producto biológico, una proteína, ADN, ARN, un producto de diagnóstico, un producto terapéutico, un tratamiento de cáncer, un tratamiento viral, un tratamiento bacteriano, un tratamiento fangal, un tratamiento auto-inmunitario, combinaciones de los mismos, o similares. De acuerdo a una modalidad alternativa, la carga sobresale de la superficie de la estructura aislada, funcionalizando de este modo la estructura aislada. De acuerdo con aún otra modalidad, la carga está completamente contenida dentro de la partícula aislada tal que la carga se esconde o protege de un ambiente al cual se puede someter la estructura aislada. De acuerdo aún a otra modalidad, la carga está contenida sustancialmente en la superficie de la estructura aislada. En una modalidad adicional, la carga se asocia con la estructura aislada en una combinación de una de las técnicas anteriores, o similar. De acuerdo a otra modalidad, la carga se une a la estructura aislada por unión química o por restricción física. En algunas modalidades, la unión química incluye, pero no se limita a, unión covalente, unión iónica, otras fuerzas intra-e inter-moleculares , unión por hidrógeno, fuerzas de van der Waals, combinaciones de las mismas, y similares. En algunas modalidades, el método de litografía de impresión humectante incluye además adicionar módulos moleculares, fragmentos o dominios a la solución que se va a moldear. En algunas modalidades, los módulos moleculares, fragmentos o dominios imparten funcionalidad a las estructuras aisladas. En algunas modalidades, la funcionalidad impartida a la estructura aislada incluye una funcionalidad terapéutica. En algunas modalidades, un agente terapéutico, tal como un fármaco, un producto biológico, combinaciones de los mismos, y similares, se incorpora en la estructura aislada.

En algunas modalidades, el fármaco fisiológicamente activo se enlaza a un ligador para facilitar su incorporación en la estructura aislada. En algunas modalidades, el dominio de una enzima o un catalizador se adiciona a la estructura aislada. En algunas modalidades, se adiciona un ligando o un oligopéptido a la estructura aislada. En algunas modalidades, el oligopéptido es funcional. En algunas modalidades, el oligopéptido funcional incluye un péptido de selección de objetivo celular. En algunas modalidades, el oligopéptido funcional incluye un péptido de penetración celular. En algunas modalidades, se adiciona un anticuerpo o fragmento funcional del mismo a la estructura aislada. En algunas modalidades, se adiciona un aglutinante a la estructura aislada. En algunas modalidades, la estructura aislada que incluye el aglutinante se usa para fabricar estructuras idénticas. En algunas modalidades, la estructura aislada que incluye el aglutinante se usa para fabricar estructuras de una estructura variable. En algunas modalidades, las estructuras de una estructura variable se usan para aprovechar la eficacia de una molécula como un agente terapéutico. En algunas modalidades, la forma de la estructura aislada imita un agente biológico. En algunas modalidades, el método incluye además un método para descubrimiento de fármaco.

XII. B. Método para Distribuir un Agente Terapéutico a un Objetivo En algunas modalidades, se describe un método para distribuir un agente terapéutico a un objetivo, el método que incluye: proporcionar una partícula producida como se describe en la presente; mezclar el agente terapéutico con la partícula; y distribuir la partícula que incluye el agente terapéutico al objetivo. En algunas modalidades, el agente terapéutico incluye un fármaco. En algunas modalidades, el agente terapéutico incluye material genético. En algunas modalidades, el material genético incluye sin limitación, uno o más de un vector génico no viral, ADN, ARN, ARNi , una partícula viral, combinaciones de las mismas, o similares. En algunas modalidades, la partícula tiene un diámetro de menos de 100 micrones. En algunas modalidades, la partícula tiene un diámetro de menos de 10 micrones . En algunas modalidades, la partícula tiene un diámetro de menos de 1 micrón. En algunas modalidades, la partícula tiene un diámetro de menos de 100 nm. En algunas modalidades, la partícula tiene un diámetro de menos de 10 nm. En algunas modalidades, la partícula incluye un polímero biodegradable . En algunas modalidades, un polímero biodegradable puede ser un polímero que experimenta una reducción en el peso molecular ya sea en un cambio en la condición biológica o exposición a un agente biológico. En algunas modalidades, el polímero biodegradable incluye, sin limitación, uno o más de un poliéster, un polianhídrido, una poliamida, un polímero basado en fósforo, un poli (cianoacrilato) , un poliuretano, un poliortoéster, un polidihidropirano, un poliacetal, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, el polímero se modifica para que sea un polímero biodegradable (por ejemplo, un poli (etilenglicol) que se funcionaliza con un grupo de disulfuro) . En algunas modalidades, el poliéster incluye, sin limitación, uno o más de ácido poliláctico, ácido poliglicólico, poli (hidroxibutirato) , poli (e-caprolactona) , poli (ácido ß-málico) , poli (dioxanonas) , combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el polianhídrido incluye, sin limitación, uno o más de poli (ácido sebácico) , poli (ácido adípico) , poli (ácido tereftálico) , combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, la poliamida incluye, sin limitación, uno o más de un poli(imino-carbonatos) , un poliaminoácido, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el polímero basado en fósforo incluye, sin limitación, uno o más de polifosfatos , polifosfonatos , polifosfazenos , combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el polímero es sensible a estímulos, tal como pH, radiación, oxidación, reducción, concentración iónica, temperatura, campo eléctricos o magnéticos alternantes, fuerzas acústicas, fuerzas ultrasónicas, tiempo, combinaciones de los mismos o similares. Las respuestas a estos estímulos pueden incluir hinchazón, escisión de enlace, calentamiento, combinaciones de los mismos o similares, que pueden facilitar la liberación de la carga de estructuras aisladas, degradación de la estructura aislada misma, combinaciones de los mismos y similares. En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe partículas que contienen imanes para aplicaciones en terapia de hipertermia, terapia de cáncer y génica, distribución de fármacos, agentes de contraste de formación de imágenes por resonancia magnética, adyuvantes de vacuna, dispositivos de memoria, espintrónicos , combinaciones de los mismos, y similares. Sin que se desee que se una a ninguna teoría particular, las partículas que contienen imanes, por ejemplo, una nanopartícula magnética, puede producir calor por el proceso de hipertermia (entre 41 y 46°C) o termo-ablación (mayor de 46°C) , es decir, el calentamiento controlado de las nanopartículas en la exposición a un campo magnético de AC. El calor se usa para (i) inducir un cambio de fase en el componente polimérico (por ejemplo, fusión y liberación de un material encapsulado) y/o (ii) tratamiento de hipertermia de células específicas y/o (iii) incremento de la efectividad del material encapsulado. El mecanismo de accionamiento de las nanopartículas magnéticas mediante el calentamiento electromagnético mejora la (iv) velocidad de degradación del compuesto en partículas; (v) puede inducir hinchazón; y/o (vi) induce disolución/cambio de fase que puede conducir a una mayor área superficial, que puede ser benéfico cuando se trata una variedad de enfermedades . En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe un método de distribución de agente terapéutico alternativo, que utiliza la litografía de impresión "no humectante" para fabricar nanopartículas magnéticas monodispersas para el uso en un sistema de distribución de fármacos . Estas partículas se pueden usar para: (1) tratamiento de hipertermia de células de cáncer; (2) agentes de contraste de MRI; (3) distribución guiada de la partícula; y (4) degradación activada del vector de distribución de fármaco. En algunas modalidades, el sistema de distribución de agente terapéutico incluye un material biocompatible y una nanopartícula magnética. En algunas modalidades, el material biocompatible tiene un punto de fusión por debajo de 100°C. En algunas modalidades, el material biocompatible incluye, sin limitación, uno o más de un poliláctido, un poliglicolido, una hidroxipropilcelulosa, una cera, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, una vez -que se distribuye la nanopartícula magnética al objetivo o está en proximidad cercana al objetivo, la nanopartícula magnética se expone a un campo magnético de CA. La exposición al campo magnético de CA provoca que la nanopartícula magnética experimente un calentamiento controlado. Sin que se desee que se una por ninguna teoría particular, el calentamiento controlado es el resultado de un proceso de termo-ablación. En algunas modalidades, el calor se usa para inducir un cambio de fase en el componente polimérico de la nanopartícula. En algunas modalidades, el cambio de fase incluye un proceso de fusión. En algunas modalidades, el cambio de fase da por resultado la liberación de un material encapsulado. En algunas modalidades, la liberación de un material encapsulado incluye una liberación controlada. En algunas modalidades, la liberación controlada del material encapsulado da por resultado dosificación concentrada del agente terapéutico. En algunas modalidades, el calentamiento da por resultado el tratamiento hipertérmico del objetivo, por ejemplo, células específicas. En algunas modalidades, el calentamiento da por resultado un incremento en la efectividad del material encapsulado. En algunas modalidades, el mecanismo de activación de las nanopartículas magnéticas inducida por el calentamiento electromagnético mejora la velocidad de degradación de la partícula y puede inducir hinchamiento y/o una disolución/cambio de fase que puede conducir a una mayor área superficial que puede ser benéfico cuando se trata una variedad de enfermedades . Los materiales que contienen magnetismo actualmente descritos también pesan por sí mismos otras aplicaciones . Las magneto-partículas se pueden montar en arreglos bien definidos activados por su forma, funcionalización de la superficie y/o exposición a un campo magnético para investigaciones y no limitado a dispositivos de ensayos magnéticos, dispositivos de memoria, aplicaciones espintrónicas , y separaciones de soluciones. De esta manera, la materia actualmente descrita proporciona un método para distribuir un agente terapéutico a un objetivo, el método que incluye: (a) proporcionar una partícula preparada por los métodos actualmente descritos; (b) mezclar el agente terapéutico con la partícula,-y (c) distribuir la partícula que incluye el agente terapéutico al objetivo En algunas modalidades, el método incluye exponer la partícula a un campo magnético alternante una vez que la partícula se distribuye al objetivo. En algunas modalidades, la exposición de la partícula a un campo magnético alternante provoca que la partícula produzca calor a través de uno de un proceso de hipotermia, a un proceso de termo-ablación, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, el calor producido por la partícula induce uno de un cambio de fase en el componente polimérico de la partícula y un tratamiento hipertérmico del objetivo. En algunas modalidades, el cambio de fase en el componente polimérico de la partícula incluye un cambio de una fase sólida a una fase líquida. En algunas modalidades, el cambio de fase de una fase sólida a una fase líquida provoca que el agente terapéutico se libere de la partícula. En algunas modalidades, un constituyente de la partícula, tal como un polímero (por ejemplo PEG) , se puede reticular en grados variables para proporcionar grados variables de liberación de otro constituyente, tal como un agente activo de la partícula. En algunas modalidades, la liberación del agente terapéutico de la partícula incluye una liberación controlada . En algunas modalidades, el objetivo incluye, sin limitación, uno o más de un péptido de selección de objetivo celular, un péptido de penetración celular, un péptido receptor de integrina (GRGDSP) , una hormona estimuladora de melanocitos, un péptido intestinal vasoactivo, un anticuerpo de ratón anti-Her2, una vitamina, combinaciones de los mismos o similares. En una modalidad, la materia actualmente descrita proporciona un método para modificar una superficie de partícula. En una modalidad. El método para modificar una superficie de partícula incluye: (a) proporcionar partículas en o sobre al menos uno de: (i) una plantilla con patrones; o (ii) un substrato; (b) colocar una solución que contiene un grupo modificador en o sobre al menos uno: (i) la plantilla con patrones; o (ii) el substrato; y (c) remover los grupos modificadores sin reaccionar en exceso. En una modalidad del método para modificar una partícula, el grupo modificador se une químicamente a la partícula a través de un grupo de enlace. En otra modalidad del método para modificar una partícula, el grupo ligador incluye, sin limitación, uno o más de sulfuros, aminas, ácidos carboxílicos , cloruros ácidos, alcoholes, alquenos, haluros alquílieos, isocianatos, combinaciones de los mismos, o similares. En otra modalidad, el método para modificar las partículas incluye un agente modificador que incluye, sin limitación, uno o más de tintes, marcas de fluorescencia, marcas radiomarcadas , agentes de contraste, ligandos, péptidos, anticuerpos, o fragmentos de los mismos, agentes farmacéuticos, proteínas, ADN, AR , ARNsi, o combinaciones de los mismos, o similares. Con respecto a los métodos de la materia actualmente descrita, se puede tratar un sujeto animal. El término "sujeto" como se usa en la presente se refiere a una especia vertebrada. Los métodos de la materia actualmente reivindicada son particularmente útiles en al diagnosis de vertebrados de sangre caliente. De esta manera, la materia actualmente reivindicada se refiere a mamíferos. En algunas modalidades se proporciona la diagnosis y/o tratamiento de mamíferos tal como humanos, así como aquellos mamíferos de importancia debido a que están amenazados (tal como los tigres Siberianos) , de importancia económica (animales creados en granjas para consumo por humanos) y/o de importancia social (animales mantenidos como mascotas o en zoológicos) a humanos, por ejemplo, carnívoros diferentes de los humanos (tal como gatos y perros), porcinos (cerdos, marranos y berracos silvestres), rumiantes (tal como ganado, bueyes, ovejas, jirafas, ciervos, cabras, bisontes y camellos, y caballos. También se proporciona la diagnosis y/o tratamiento de ganado, incluyendo, pero no limitado a ganado porcino domesticado (cerdos y puercos), rumiantes, caballos, aves de corral y similares . Las siguientes referencias se incorporan «n la presente como referencia en su totalidad. Solicitud PCT Internacional publicada No. WO2004081666 a DeSimone et al . , Patente de los Estados Unidos No. 6,528,080 de Dunn et al . ,-Patente de los Estados Unidos No. 6,592,579 de Arndt et al . , Solicitud PCT Internacional Publicada No.: WO0066192 de Jordán; Hilger, I. et al., Radiology 570-575 (2001); Mornet , S. et al., J. Mat. Chem. , 2161-2175 (2004); Berry, C.C. et al . , J. Phys. D; Applied Physics 36, R198-R206 (2003); Babincova, M. et al . , Bioelectrochemistry 55, 17-19 (2002); Wolf, S.A. et al., Science 16, 1488-1495 (2001); y Sun, et al . , Science 287, 1989-1992 (2000); Patente de los Estados Unidos No. 6,159,443 de Hallahan; y Solicitud PCT Publicada No. WO 03/066066 de Hallahan et al.

XIII . Método para Grabar con Patrones de Estructuras Naturales y Sintéticas En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe métodos y procesos, y productos por procesos, para generar superficies y moldes de estructuras naturales, moléculas individuales, o estructuras auto-montadas. Por consiguiente, en algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe un método para grabar con patrones una estructura natural, molécula individual y/O una estructura auto-montada. En algunas modalidades, el método incluye además copiar la estructura natural, molécula individual y/o una estructura auto-montada. En algunas modalidades, el método incluye además copiar la funcionalidad de la estructura natural, molécula individual y/o estructura auto-montada . De manera más particular, en algunas modalidades, el método incluye además tomar la impresión o molde de una estructura natural, molécula individual y/o una estructura auto-montada. En algunas modalidades, la impresión o molde se toma con un precursor polimerico de baja energía superficial. En algunas modalidades, el precursor polimérico de baja energía superficial incluye un diacrilato funcionalmente terminado con perfluoropoliéter (PFPE) . En algunas modalidades, la estructura natural, molécula individual y/o estructura auto-montada incluye, sin limitación, uno o más de enzimas, virus, anticuerpos, biselas, superficies de tejido, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, la impresión o molde se usa para copiar las características de la estructura natural, molécula individual, y/o una estructura auto-montada en un objeto aislado o una superficie. En algunas modalidades, se usa un método de litografía de impresión no humectante para impartir las características en una parte o superficie moldeada. En algunas modalidades, la parte moldeada o superficie moldeada producida por este proceso se puede usar en muchas aplicaciones, incluyendo, sin limitación, distribución de fármacos, dispositivos médicos, revestimientos, catalizadores, o imitadores de las estructuras naturales de las cuales se derivan. En algunas modalidades, la estructura natural incluye tejido biológico. En algunas modalidades, el tejido biológico incluye tejido de un órgano corporal, tal como un corazón. En algunas modalidades, el tejido biológico incluye vasos y hueso. En algunas modalidades, el tejido biológico incluye tendón o cartílago. Por ejemplo, en algunas modalidades, la materia actualmente descrita se puede usar para grabar con patrones superficies para preparación de tendones y cartílago. Esta reparación requiere típicamente el uso de tejido de colágeno, que viene de cadáveres y se debe trabajar a máquina para el uso como reemplazo. La mayoría de estos reemplazos falla debido a que no puede fijarse en el patrón primario que se requiere para el reemplazo. Los métodos litográficos blandos descritos en la presente mitigan este problema. En algunas modalidades, la materia actualmente descrita se puede aplicar a regeneración de tejido usando células madre. Casi todos los planteamientos con células madre conocidos en la técnica requieren patrones moleculares para que las células se siembren y luego cultiven, tomando de este modo la forma de un órgano, tal como un hígado, un riñon, o similar. En algunas modalidades, el núcleo molecular se moldea y usa como cristales para sembrar un órgano en una forma de terapia de trasplante. En algunas modalidades, la célula madre y el nano-substrato se siembran en un tejido moribundo, por ejemplo, tejido de hígado, para promover el crecimiento y regeneración de tejido. En algunas modalidades, el material que se va a copiar en el molde incluye un material que es similar a o el mismo como el material que se modeló originalmente. En algunas modalidades, el material que se va a copiar en el molde incluye un material que es diferente de y/o tiene diferentes propiedades que el material que se modeló originalmente. Este planteamiento puede jugar un papel importante al afrontar la escasez del trasplante de órganos . En algunas modalidades, la materia actualmente descrita se usa para tomar la impresión de uno de una enzima, una bacteria y un virus. En algunas modalidades, la enzima, bacteria o virus entonces se copia en un objeto discreto o en una superficie que tiene la forma reminiscente de esa enzima, bacteria o virus particular que se copia en este. En algunas modalidades, el molde mismo se copia en una superficie, en donde el molde copiado unido a la superficie actúa como un sitio receptor para una enzima, bacteria o partícula viral. En algunas modalidades, el molde copiado es útil como un catalizador, un sensor de diagnóstico, un agente terapéutico, una vacuna, o combinaciones de los mismos y similares. En algunas modalidades, el molde copiado unido a la superficie se usa para facilitar el descubrimiento de nuevos agentes terapéuticos . En algunas modalidades, el "imitador" moldeado macromolecular, por ejemplo, enzimático, bacteriano o viral sirve como entidades no auto-replicantes que tienen la mima topografía superficial como la macromolécula original, bacteria o virus. En algunas modalidades, se usan los imitadores moldeados para crear respuestas biológicas, por ejemplo, una respuesta alérgica, a su presencia, creando de este modo anticuerpos o activando receptores. En algunas modalidades, el limitador moldeado funciona como una vacuna. En algunas modalidades, la eficacia de la forma biológicamente activa del limitador moldeado se mejora por una técnica de modificación de superficie.

XIIIA. Impresión Molecular De acuerdo a algunas modalidades, los materiales y métodos de la materia actualmente descrita se pueden usar con técnicas de impresión molecular para formar partículas con sitios de reconocimiento. Para que el reconocimiento sea viable, el tamaño, forma y/o funcionalidad química de la partícula debe simular una porción de un sistema biológico, tal como un sistema de enzima-substrato, sistema de anticuerpo-antígeno, sistema de hormona-receptor, combinaciones de los mismos, o similar. La investigación y desarrollo de fármacos requiere frecuentemente el análisis de agentes químicos y/o biológicos altamente específicos y sensibles llamados colectivamente "agentes de reconocimiento" . Los agentes naturales de reconocimiento, tal como por ejemplo, enzimas, proteínas, candidatos de fármaco, biomoléculas , herbicidas, aminoácidos, derivados de aminoácidos, péptidos, nucleótidos, bases de nucleótidos, o combinaciones de los mismos, y similares, tienden a ser muy específicos y sensibles así como son lábiles y tienen una baja densidad de sitios de unión. Debido a la delicadeza de los agentes naturales de reconocimiento, los agentes artificiales de reconocimiento son más estables y llegan a ser herramientas populares de investigación. La impresión molecular ha emergido en años recientes como una herramienta altamente aceptada para el desarrollo de agentes artificiales de reconocimiento. La impresión de moléculas se presenta por la polimerización de monómeros funcional-es y reticuladores en la presencia de una molécula de plantilla. Primero, una molécula de plantilla, tal como por ejemplo pero sin limitación, una enzima, una proteína, un candidato de fármaco, una biomolécula, un herbicida, un aminoácido, un derivado de un aminoácido, un péptido, nucleótidos, bases de nucleótidos, un virus, combinaciones de los mismos, y similares se introduce a una solución líquida de polímero. En algunas modalidades, la solución líquida de polímero es un polímero líquido de la materia actualmente descrita e incluye monómeros funcionales y reticulados. Los monómeros funcionales y reticulados se dejan que establezcan formaciones de enlace y otras asociaciones químicas y físicas y orientaciones con la plantilla del polímero. En algunas modalidades, un monómero funcional incluye dos grupos funcionales. En un extremo del monómero, el monómero se configura para interactuar con la plantilla, por ejemplo a través de interacciones no covalentes (es decir, unión de hidrógeno, fuerzas de van der Waals, o interacciones hidrófobas) . El otro extremo del monómero, es decir, el extremo que no está interactuando con la plantilla, incluye un grupo que es capaz de la unión con el polímero. Durante la polimerización, los monómeros se fijan en su posición alrededor de la plantilla, por ejemplo con unión covalente, formando de este modo una impresión de la plantilla en tamaño, forma y/o funcionalidad química que permanece en esta posición después de que se remueve la plantilla. Después de la polimerización o curación, la plantilla se remueve del polímero. La plantilla se puede remover al disolver la plantilla en un solvente en algunas modalidades. La impresión resultante de la plantilla tiene una memoria estérica (tamaño y forma) y química (arreglos espaciales o funcionalidad complementaria) de la plantilla. Después de la polimerización y remoción de la plantilla, los grupos funcionales de la impresión molecular de polímero entonces pueden unir un objetivo con la condición que los sitios de unión de la impresión y la molécula objetivo se complementen entre sí en tamaño, forma y funcionalidad química. Este proceso proporciona un material con una alta estabilidad contra perturbaciones fisicoquímicas que se dirige específicamente a una molécula objetivo y como tal, el material se puede usar en ensayo de alto rendimiento y en unión con parámetros físicos y químicos que un agente de reconocimiento natural no puede ser capaz de resistir. De acuerdo a algunas modalidades, las aplicaciones de impresión molecular incluyen, pero no se limitan a, purificación, separación, detección de moléculas bioactivas, sensores, catalizadores, separación cromatográfica, detección de fármacos, quimiosensores , catalizadores, biodefensa, inmunoensayos, combinaciones de los mismos, y similares. Las aplicaciones y experimentaciones útiles de la impresión molecular que se pueden usar en combinación -con los materiales y métodos de la materia actualmente descrita se pueden encontrar en Vivek Babu Kandimalla, Hunagxian Ju, Molecular Imprinting: A Dynamic Technique for Diverse Applications in Analytical Chemistry, Anal. Bioanal . Chem. (2004) 380: 587-605, y las referencias citadas en los mismos, que se incorporan todas de éste modo como referencia en su totalidad en la presente.

XIII ,B. Moléculas Funcionales Artificiales De acuerdo a algunas modalidades de la materia actualmente descrita, después de la formación de una impresión molecular de una molécula de plantilla, como se describe en la presente, la impresión molecular entonces se puede usar como un molde y para recibir los materiales y métodos -de la materia actualmente descrita para formar, por ejemplo, una molécula funcional artificial. Después de formar el molde de impresión molecular funcionalizado del material de polímero, se puede aplicar una solución de precurso de polímero que incluye, pero no se limita a, monómeros funcionales y reticulados, al molde de impresión funcionalizado de acuerdo con los materiales y métodos descritos en la presente para formar una molécula funcional artificial. Durante el moldeo de la molécula funcional artificial, los monómeros funcionalizados en el precursor de polímero se alinearán con las partes funcionalizadas del molde de impresión tal que la molécula funcional artificial poseerá una memoria estérica (tamaño y forma) y química (arreglos espaciales o funcionalidad complementaria) del molde de impresión. La molécula funcional artificial, que es la memoria estérica y química del molde de impresión, tiene propiedades químicas y físicas similares a la molécula de plantilla original y puede activar canales de membrana; unirse a receptores; entrar a células; interactuar con proteínas y enzimas; activar respuestas inmunitarias ; activar respuestas fisiológicas; activar liberación de agentes biorreguladores tal como por ejemplo, hormonas, moléculas de "sentirse bien", neurotransmisores , y similares; inhibir respuestas; activar funciones reguladoras; combinaciones de los mismos; y similares. De acuerdo a otra modalidad, las impresiones moleculares y las moléculas funcionales artificiales de la materia actualmente descrita se pueden usar en unión con partículas de la materia actualmente descrita, como se describe en la presente, que tienen fármacos, productos biológicos u otros agentes para análisis asociados con la partícula. Por consiguiente, las partículas con fármacos, productos biológicos, u otros agentes se pueden analizar para interacción y/o unión con las partículas de moléculas funcionales artificiales y/o impresión molecular, haciendo de ese modo un sistema de análisis completo que tiene alta estabilidad contra perturbaciones fisicoquímicas y como tal los materiales se puede usar en ensayos de alto rendimiento y en unión con parámetros físicos y químicos que no pueden resistir los agentes naturales de reconocimiento. Además, los sistemas de análisis actualmente descritos hechos de los materiales y métodos de la materia actualmente descrita son económicos de fabricar, incrementan el rendimiento de la investigación y desarrollo de fármacos y biomoléculas , y similares . Con referencia ahora a la Figura 44, una modalidad para formar una molécula funcional artificial incluye crear una impresión molecular tal como se muestra en la Figura 44A. Un materia 4410 de substrato, tal como perfluoropoliéter líquido contiene monómeros funcionales 4412 y 4414. El materia 4410 de substrato se imprime con las moléculas 4420 de plantilla que tienen agrupamientos 4418 estéricos y químicos específicos asociados con este. Las moléculas 4420 de plantilla forman cavidades 4416 de impresión en el material 4410 de substrato. El material 4410 de substrato entonces se cura, por ejemplo por fotocuración, termocuración, combinaciones de los mismos o similares como se describe en la presente. Entonces, en la Figura 44B, las moléculas 4420 de plantilla se remueven, disocian o disuelven de la asociación con el material 4410 de substrato. Antes de la curación del material 4410 de substrato, sin embargo, los monómeros funcionales 4412 y 4414 del material 4410 de substrato se asocian con su imagen negativa o del espejo en las moléculas 4420 de plantilla y durante la polimerización de los monómeros funcionales que se llegan a fijar en su posición. De este modo, una impresión molecular 4430, que es la imagen en el espejo, estérica y química de la molécula 4420 de plantilla se forma en el material de substrato. Entonces, una molécula 4440 funcional artificial se forma en impresión molecular 4430. de acuerdo a una modalidad, los materiales y métodos de la materia actualmente descrita se utilizan, como se describe en otra parte de la presente, para hacer partículas que imitan, tanto de manera estérica como química, la molécula 4420 de plantilla que hace la impresión 4430. De acuerdo a una modalidad, se prepara un polímero, tal como por ejemplo PFPE líquido y se mezcla con monómeros funcionales 4444 y la mezcla se introduce en la cavidad 4442 de impresión molecular en el substrato 4410. Los monómeros funcionales 4444 en el polímero se asocian con su monómero 4412 y 4414 funcional de imagen en el .espejo, que se llega a fijar en su lugar en el material 4410 de substrato. La mezcla de polímero entonces se cura tal que las moléculas 4440 funcionales artificiales se forman en la cavidad 4442 de impresión e imitan la molécula 4420 de plantilla tanto de forma estérica como química. Las moléculas 4444 funcionales artificiales entonces se remueven del substrato 4410 como se describe en la presente.

XIV. Método para Modificar la Superficie de un Molde de Litografía de Impresión para Impartir Características de Superficie a los Productos Moldeados En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe un método para modificar la superficie de un molde de litografía de impresión. En algunas modalidades, el método incluye además impartir características de superficie a un producto moldeado. En algunas modalidades, el producto moldeado incluye un producto moldeado aislado. En algunas modalidades, el producto moldeado aislado se forma usando una técnica de litografía de impresión no humectante. En algunas modalidades, el producto moldeado incluye un lente de contacto, un dispositivo médico, y similar. En particular, la superficie -de un material polimérico de baja energía superficial, resistente a solvente, o más particularmente un molde de PFPE se modifica por un paso de modificación de superficie, en donde el paso de modificación de superficie incluye, sin limitación, uno o más de tratamiento con plasma, tratamiento químico, adsorción de moléculas, combinaciones de los mismos, o similares. En algunas modalidades, las moléculas adsorbidas durante el paso de modificación de superficie incluyen, sin limitación, uno o más de polielectrolitos , poli (alcohol vinílico) , alquil-halosilanos, ligandos, combinaciones de los mismos o similares. En algunas modalidades, las estructuras, partículas, u objetos obtenidos de los moldes tratados en la superficie se pueden modificar por los tratamientos de superficie en el molde. En algunas modalidades, la modificación incluye la pre-orientación de moléculas o porciones con las moléculas que incluyen los productos moldeados. En algunas modalidades, la pre-orlentación de las moléculas o porciones imparte ciertas propiedades a los productos moldeados, incluyendo catalítica, humectable, adhesiva, no pegajosa, interactiva o no interactiva, cuando el producto moldeado se coloca en otro ambiente. En algunas modalidades, estas propiedades se usan para facilitar las interacciones con tejido biológico o para impedir la interacción con tejidos biológicos. Las aplicaciones de la materia actualmente descrita incluyen sensores, arreglos, implantes médicos, diagnósticos médicos, detección de enfermedades y medios de separación.

XV. Métodos para Exponer Selectivamente la Superficie en un Artículo a un Agente También se describe en la presente un método para exponer selectivamente la superficie de un artículo a un agente. En algunas modalidades, el método incluye: (a) proteger una primera porción de la superficie del artículo con un sistema de enmascaramiento, en donde el sistema de enmascaramiento incluye una máscara elastomérica en contacto conformacional con la superficie del artículo; y b) aplicar un agente que se va a gravar con patrones dentro del sistema de enmascaramiento a una segunda porción de la superficie del artículo, en tanto que se impide la aplicación del agente a la primera porción protegida por el sistema de enmascaramiento. En algunas modalidades, la máscara elastomérica incluye una pluralidad de canales, en algunas modalidades, cada uno de los canales tiene una dimensión en sección transversal de menos de aproximadamente 1 milímetro. En algunas modalidades, cada uno de los canales tiene una dimensión en sección transversal de menos de aproximadamente 1 micrón. En algunas modalidades, cada uno de los canales tiene una dimensión en sección transversal de menos -de aproximadamente 100 nm. En algunas modalidades, cada uno ele los canales tiene una dimensión en sección transversal de aproximadamente 1 nm. En algunas modalidades, el agente hincha la máscara elastomérica menos de 25 %. En algunas modalidades, el agente incluye un material electroluminiscente orgánico o un precursor del mismo. En algunas modalidades, el método incluye además permitir que el material electroluminiscente orgánico se forme del agente en la segunda porción de la superficie, y establezca comunicación eléctrica entre el material electroluminiscente orgánico y un circuito eléctrico. En algunas modalidades, el agente incluye un líquido o se porta en un líquido. En algunas modalidades, el agente incluye el producto de depósito de vapor químico. En algunas modalidades, el agente incluye un producto de depósito de una fase gaseosa. En algunas modalidades, el agente incluye un producto de depósito de haz de electrones, vaporación, o chisporroteo. En algunas modalidades, el agente incluye un producto de depósito electroquímico. En algunas modalidades, el agente incluye un producto de depósito sin electrodos. En algunas modalidades, el agente se aplica de un precursor fluido. En algunas modalidades, incluye una solución o suspensión de un compuesto inorgánico. En algunas modalidades, el compuesto inorgánico se endurece en la segunda porción de la superficie del artículo.

En algunas modalidades, el precursor líquido incluye una suspensión de partículas en un portador fluido. En algunas modalidades, el método incluye además permitir que el portador fluido se disipe, depositando de este modo las partículas en la primera región de la superficie del artículo. En algunas modalidades, el precursor líquido incluye un agente químicamente activo en un portador fluido. En algunas modalidades, el método incluye además permitir que el portador fluido se disipe, depositando de este modo el agente químicamente activo en la primera región de la superficie del artículo . En algunas modalidades, el agente químicamente activo incluye un precursor de polímero. En algunas modalidades, el método incluye además formar un artículo polimérico del precursor de polímero. En algunas modalidades, el agente químicamente activo incluye un agente capaz de promover depósito de un material. En algunas modalidades, el agente químicamente activo incluye un grabador ácido. En algunas modalidades, el método incluye además permitir que la segunda porción de la superficie del artículo se grave. En algunas modalidades, el método incluye además remover la máscara elastomérica del sistema de enmascaramiento de la primera porción de la superficie del artículo en tanto que se deja el agente adherido a la segunda porción de la superficie del artículo.

XVI . Métodos para Formar Membranas Diseñadas La materia actualmente descrita también describe un método para formar una membrana diseñada. En algunas modalidades, se forma una plantilla no humectante con patrones al poner en contacto un material líquido, tal como un material de PFPE, con un substrato con patrones y tratar el primer material líquido, por ejemplo, al curar a través de exposición a luz UV para formar una plantilla no humectante con patrones. El substrato con patrones incluye una pluralidad de depresiones o cavidades configuradas en una forma específica tal que la plantilla no humectante con patrones incluye una pluralidad de características de extrusión. La plantilla no humectante con patrones se pone en contacto con un segundo material líquido, por ejemplo, una resina fotocurable. Se aplica entonces una fuerza a la plantilla no humectante con patrones para disipar una cantidad en exceso de un s-egundo material líquido o "capa de escoria". El segundo material líquido entonces se trata, por ejemplo, al curar a través de exposición a luz UV para formar una estructura interconectada que incluye una pluralidad de agujeros específicos del tamaño y forma. La estructura interconectada entonces remueve de la plantilla no humectante. En algunas modalidades, la estructura interconectada se usa como una membrana para separaciones .

XVII. Métodos para Inspeccionar Procesos y Productos por Procesos Será importante inspeccionar los objetos/estructuras/partículas descritos en la presente para exactitud de forma, colocación y utilidad. Esta inspección puede permitir que se tomen acciones correctivas o se remuevan o mitiguen los defectos . Las variedad de planteamientos y dispositivos de monitoreo útiles para estas inspecciones incluyen: calibradores de aire, que usan presión neumática y flujo neumático para medir o clasificar atributos dimensionales; máquinas y sistemas de balanceo, que miden y/o corrigen dinámicamente el balanceo de la máquina o componentes; microscopios biológicos, que se usan típicamente para estudiar organismos y sus procesos vitales; calibradores de agujeros e ID, que se diseñan para medición o valoración dimensional de diámetros internos, baroscopios, que son herramientas de inspección con tubos ópticos rígidos o flexibles para inspección interior de agujeros, hoyos, cavidades y similares; calibradores, que usan típicamente un movimiento deslizante preciso para mediciones interiores, exteriores, profundas o graduales, algunos de los cuales se usan para comparar o transferir dimensiones; sondas de CMM, que son transductores que convierten mediciones físicas en señales eléctricas, usando varios sistemas de medición dentro de la estructura de la sonda; instrumentos de apariencia y color, que por ejemplo, se usan típicamente para medir las propiedades de pinturas y revestimientos incluyendo color, brillo, claridad óptica y transparencia; sensores de color, que registran artículos por contraste, color verdadero, o índice traslúcido, y se basan en uno de los modelos de color, más comúnmente el modelo de RGB (rojo, verde, azul) ; máquina de medición de coordenadas, que son sistemas mecánicos diseñados para mover una sonda de medición para determinar las coordenadas de puntos en una superficie de pieza de trabájecalibradores de profundidad, que se usan para medir la profundidad de agujeros, cavidades u otras características de los componentes; microscopios digitales/de vídeo, que usan tecnología digital para presentar la imagen aumentada; lecturas digitales, que son pantallas especializadas para lecturas de dimensión y posición de calibradores de inspección y escalas lineales, o codificadores giratorios en las máquinas herramientas; calibradores dimensionales e instrumentos, que proporcionan mediciones cuantitativas de los atributos dimensionales y de forma del producto o componente tal como espesor de pared, profundidad, altura, longitud, I.D., O.D., ahusamiento o agujero; escáneres dimensionales y de perfil, que obtienen información bidimensional o tridimensional a cerca de un objeto y están disponibles en una amplia variedad de configuraciones y tecnologías; microscopios electrónicos, que usan un haz enfocado de electrones en lugar de luz para "formar en imagen" el espécimen y obtener información con respecto a su estructura y composición; fibrascopios , que son herramientas de inspección con tubos ópticos flexibles para inspección interior de agujeros, hoyos y cavidades, calibradores fijos, que se diseñan para tener acceso a un atributo específico en base a una calibración comparativa, e incluyen Calibradores de Ángulo, Calibradores de Bola, Calibradores Centrales, Calibradores de Tamaño de Perforación, Calibradores de Hoj illas, Calibradores de Banda, Calibradores de Dientes de Engrane, Calibrador o Material de Calce, Calibradores de Tubo, Calibradores de Radio, Calibradores de Tornillo o Separación Roscada, Calibradores de Ahusamiento, Calibradores de Tubo, Calibradores de Normas Norteamericanas (Hoja/Placa) , Calibradores de Soldadura y Calibradores de Alambres; Calibradores de especialidad/ forma, que se usan para inspeccionar parámetros tal como redondez, angularidad, simetría, derechura, llanura, descentramiento, ahusamiento y concentridad; bloques calibradores, que se fabrican a grados precisos de tolerancia de fabricadores de calibradores para calibración, verificación y ajuste de calibradores fijos y comparativos; calibradores de altura, que se usan para medir la altura de componentes o características de productos; indicadores y comparadores, que miden donde se amplifica el movimiento lineal de un husillo o sonda de precisión; accesorios de inspección y calibración, tal como peajes de marcación y disposición, incluyendo herramientas manuales, suministros y accesorios para medición dimensional, marcación, disposición u otras aplicaciones de talleres de máquinas tal como puntas de trazar punzones de transferencia, divisores y fluido de trazado; interferómetros , que se usan para medir distancia en términos de longitud de onda y para determinar longitudes de onda de fuente de luz particulares, micrómetros láser, que miden distancias extremadamente pequeñas usando tecnología láser; niveles, que son herramientas mecánicas o electrónicas que miden la inclinación de una superficie con relación a la superficie de la tierra; equipo de alineación de máquinas, que se usa para alinear partes giratorias o en movimiento y componentes de máquina; amplificadores, que son instrumentos de inspección que se usan para aumentar un producto o detalle de parte mediante un sistema de lentes; calibradores principales y de ajuste, que proporcionan normas dimensionales para calibrar otros calibradores; microscopios de medición, que se usan por fabricantes de herramientas para medir las propiedades de las herramientas, y se usa frecuentemente para medición dimensional con menores potencias de aumento para permitir imágenes más brillosas y agudas combinadas con un campo amplio de visión; microscopios metalúrgicos, que se usan para inspección metalúrgica, micrómetros, que son instrumentos de calibración dimensional de precisión que incluye un husillo esmerilado y un yunque montado en un armazón de acero en forma de C. También están disponibles micrómetros láser sin contacto; microscopios (todos los tipos) , que son instrumentos que son capaces de producir una imagen aumentada de un objeto pequeño; microscopios ópticos/de luz, que se usa la porción visible o casi visible del espectro electromagnético; comparadores ópticos, que son instrumentos que proyectan una imagen aumentada o perfil aumentado de una parte sobre una pantalla para comparación a un perfil o escala sobrepuesta normal; calibradores de obturador/espiga, que se usan para una valoración "con huelgo/sin huelgo" de agujero y dimensiones de ranuras o ubicaciones comparadas a tolerancias especificadas; transportadores y calibradores de ángulo, que miden el ángulo entre dos superficies de una parte o montaje; calibradores de anillo, que se usan para valoración "con huelgo/sin huelgo" en comparación a tolerancias dimensionales especificadas o atributos de espigas, ejes o pernos roscados; reglas y escalas que son escalas graduadas planas usadas para medición longitudinal, y que para aplicaciones OEM, frecuentemente se usan escalas lineales electrónicas o digitales; calibrador-es de presión, que se usan en ajustes de producción donde se deben repetir frecuentemente mediciones de espesor o diametrales específicas con precisión y exactitud; microscopios de especialidad, que se usan para aplicaciones especializadas que incluyen metalurgia, gemología, o usan técnicas especializadas tal como acústica o microondas para realizar su función; escuadras, que se usan para indicar si dos superficies de una parte o montaje están perpendiculares; estiletes, sondas y cantilever, que son vástagos en forma de varilla delgada y puntas o puntos de contacto usados para sondear superficies en unión con profilómetros , SPM, CMM, calibradores y escáneres dimensionales; profilómetros de superficie, que miden perfiles superficiales, rugosidad, ondulación y otros parámetros de acabado al explorar con un estilete mecánico a través de la muestra o a través de métodos sin contacto; calibradores de rosca, que son instrumentos dimensionales para medir el tamaño de rosca, que son instrumentos dimensionales para medir el tamaño, separación y otros parámetros de las roscas; y videoscopios , que son herramientas de inspección que capturan imágenes -desde dentro de los agujeros, hoyos o cavidades.

XVIII. Técnicas de Moldeo Abierto De acuerdo a algunas modalidades, las partículas descritas en la presente se forman en un molde abierto. El moldeo abierto puede reducir el número de pasos y secuencias de los eventos requeridos durante el moldeo de partículas y puede mejorar la velocidad de evaporación del solvente del material precursor de partículas, incrementando de este modo la eficiencia y la velocidad de la producción de las partículas . Con referencia a la Figura 47, la superficie o plantilla 4700 incluye cavidades o depresiones 4702 formadas en la misma. Una sustancia 4704, que puede ser, pero no se limita a un líquido, un polvo, una pasta, un gel, un sólido al licuado, combinaciones de los mismos, y similares, -entonces se deposita en la superficie 4700. La sustancia 4704 se introduce en las depresiones 4702 de la superficie 4700 y se remueve 4706 la sustancia en exceso que permanece en la superficie 4700. La sustancia en exceso 4704 se puede remover de la superficie por sin limitarse a cuchilla, aplicación de presión con un substrato, electrostática, magnética, fuerzas gravitacionales , presión de aire, combinaciones de los mismos, y similares. Entonces, la sustancias 4704 que permanece en las depresiones 4702 se endurece en las partículas 4708, por, pero sin limitarse a, fotocuración, termocuración, evaporación de solvente, oxidación o polimerización reductiva, cambio de temperatura, combinaciones de los mismos y similares. Después de que se endurece la sustancia 4704, las partículas 4708 se recolectan de las depresiones 4702. De acuerdo a algunas modalidades, la superficie 4700 se configura tal que se logre la fabricación de partículas en alto rendimiento. En algunas modalidades, la superficie se configura, por ejemplo, plana, cilindrica, esférica, curva, lineal o un arreglo tipo banda transportadora, un arreglo tipo impresión por huecogravado (tal como se describe en las patentes de los Estados Unidos Nos. 4,557,195 y 4,905,594, todas las cuales se incorporan en la presente como referencia en su totalidad), en arreglos de hojas grandes, en arreglos de hojas de múltiples capas, combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo a estas modalidades, algunas depresiones en la superficie pueden estar en una etapa de ser rellenadas con la sustancia en tanto que en otra -estación de las superficies se está removiendo la sustancia en exceso. Entre tanto, aún otra estación de la superficie puede estar endureciendo la sustancia y aún otra estación que es responsable de la recolección de las partículas de las depresiones. En estas modalidades, se fabrican partículas de manera eficiente y efectiva en alto rendimiento. En algunas modalidades, el método y sistema son continuos, en otras modalidades, el método y sistema son por lotes, y en algunas modalidades, el método y sistema son una combinación de continuo y por lotes. La composición de la superficie 4700 misma se puede fabricar de virtualmente cualquier material que sea químicamente, físicamente y comercialmente viable para un proceso particular que se va a llevar a cabo. De acuerdo a algunas modalidades, el material para la fabricación de la superficie 4700 es un material descrito -en la presente. De manera más particular, el material de la superfi-cie 4700 -es un material que tiene una baja energía superficial, no es humeetable, es altamente inerte de forma química, un material polimérico de baja energía superficial resistente a solvente, un material elastomérico resistente a solvente, combinaciones de los mismos, y similares. De manera aún más particular, el material del cual se fabrica la superficie 4700 es un material de perfluoropoliéter, un material de silicón, un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastómero termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis, combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo a algunas modalidades, las depresiones 4702 en la superficie 4700 son depresiones de formas y tamaños particulares. Las depresiones 4702 pueden ser, pero no se limitan a, de forma regular, de forma irregular, de forma variable y similares. En algunas modalidades, las depresiones 4702 son, pero no se limitan a, depresiones arqueadas, depresiones con ángulos rectos, depresiones ahusadas, en forma de diamante, esféricas, rectangulares, triangulares, polimórficas , en forma molecular, en forma de proteína, combinaciones de los mismos, y similares. En algunas modalidades, las depresiones 4702 se pueden cargar de manera eléctrica y/o química tal que los monómeros funcionales dentro de la sustancia 4704 se atraen y/o repelen, dando por resultado de este modo una partícula funcional como se describe en otra parte de la presente. De acuerdo a algunas modalidades, la depresión 4702 es menos de aproximadamente 1 mm en una dimensión. De acuerdo a algunas modalidades, la depresión es menos de aproximadamente 1 mn en su dimensión en sección transversal más grande. En otras modalidades, la depresión incluye una dimensión que está entre aproximadamente 20 nm y aproximadamente 1 mm. En otras modalidades, la depresión está entre aproximadamente 20 nm y aproximadamente 500 micrones en una dimensión y/o en una dimensión más grande. De manera más particular, la depresión está entre aproximadamente 50 nm y aproximadamente 250 micrones en una dimensión y/o en una dimensión más grande. De acuerdo a modalidades de la presente invención, una sustancia descrita en la presente, por ejemplo, un fármaco, ADN, ARN, una molécula biológica, un material súper absorbente, combinaciones de los mismos, y similares puede ser la sustancia 4704 que se deposita en las depresiones 4702 y se moldea en una partícula. De acuerdo a aún modalidades adicionales, la sustancia 4704 que se va a moldear es, pero no se limita a, un polímero, una solución, un monómero, una pluralidad de monómeros, un iniciador de polimerización, un catalizador de polimerización, un precursor inorgánico, un precursor metálico, un agente farmacéutico, una marca, un material magnético, un material paramagnético, un ligando, un péptido de penetración celular, un porógeno, un agente tensioactivo, una pluralidad de líquidos invisibles, un solvente, una especie cargada, combinaciones de los mismos, y similares. En aún modalidades adicionales , las partícula 4708 es, pero no se limita a, polímeros orgánicos, partículas cargadas, electretos poliméricos (poli ( fluoruro de vinilideno) , etilen-propileno fluorado con Teflón, politetrafluoroetilenos) , agentes terapéuticos, fármacos, vectores génicos no virales, AR i , partículas virales, sustancias polimorfas, combinaciones de los mismos, y similares . De acuerdo a modalidades de la invención, la sustancia 4704 que se va a moldear en las partículas 4708 se deposita en la superficie 4700 de plantilla. En algunas modalidades, la sustancia 4704 está en forma líquida y por lo tanto fluye en las depresiones 4702 de la superficie 4700 de acuerdo a técnicas descritas en la presente. De acuerdo a otras modalidades, la sustancia 4704 toma otra forma física, tal como por ejemplo, un polvo, un gel, una pasta o similar, tal que una fuerza u otra manipulación, tal como calentamiento similar, se puede requerir para asegurar que la sustancia 4704 se llegue a introducir en las depresiones 4702. Esta fuerza que puede ser útil al introducir la sustancia 4704 en las depresiones 4702 puede ser, pero no se limita a, vibración, centrífuga, electrostática, magnética, calentamiento, electromagnética, gravedad, compresión, combinaciones de las mismas, y similares. La fuerza también se puede utilizar en modalidades donde la sustancia 4704 es un líquido para asegurar adicionalmente que la sustancia 4704 entre en las depresiones 4702. Después de la introducción de la sustancia 4704 en la superficie 4700 de plantilla y depresiones 4702 de la misma, se remueve la sustancia en exceso de la superficie 4700 en algunas modalidades. La remoción de la sustancia 4704 en exceso se puede lograr al acoplar la superficie 4700 con una segunda superficie 4712 tal que la sustancia en exceso se exprima. La segunda superficie 4712 puede ser, pero no se limita a, una superficie plana, una superficie arqueada, y similar. En algunas modalidades, la segunda superficie 4712 se pone en contacto con la superficie 4700 de plantilla. De acuerdo a otras modalidades, la segunda superficie 4712 se pone dentro de una distancia predeterminada de la superficie 4700 de plantilla. De acuerdo a algunas modalidades, la segunda superficie 4712 se coloca con respecto a la superficie 4700 de plantilla normal al plano de la superficie 4700 de plantilla. De acuerdo a otras modalidades, la segunda superficie 4712 acopla la superficie 4700 de plantilla con un ángulo de contacto predeterminado. De acuerdo a aún modalidades adicionales, la segunda superficie 4712 puede ser una superficie arqueada, tal como un cilindro, y se puede enrollar con respecto a la superficie 4700 de plantilla para remover la sustancia en exceso. De acuerdo a aún modalidades adicionales, la segunda superficie 4712 está compuesta de una composición que repele o atrae la sustancia en exceso, tal como por ejemplo, una sustancia no humectante, una sustancia hidrófoba que repele una sustancia hidrófila, y similares. De acuerdo a otras modalidades, la sustancia 4704 en exceso se puede remover de la superficie 4700 de plantilla por cuchilla, o pasando de otro modo una cuchilla a través de la superficie 4700 de plantilla. De acuerdo a algunas modalidades, la cuchilla 4714 está compuesta de un metal, caucho, polímero, material basado en silicio, vidrio, sustancia hidrófoba, sustancia hidrófila, combinaciones de las mismos, y similares. En algunas modalidades, la cuchilla 4714 se coloca a la superficie 4700 -de •contacto y limpia la sustancia en exceso. En otras modalidades, la cuchilla 4714 se coloca a una distancia predeterminada de la superficie 4700 y se pasa a través de la superficie 4700 para remover la sustancia en exceso de la superficie 4700 de plantilla. La cuchilla 4714 de distancia se coloca desde la superficie 4700 y la velocidad a la cual se jala la cuchilla 4714 a través de la superficie 4700 es variable y se determina por las propiedades del material de la cuchilla 4714, superficie 4700 de plantilla, sustancia 4704 que se va a moldear, combinaciones de los mismos, y similares. La limpieza con cuchilla y técnicas similares se describen en Lee et al., Two-Polymer Microtransfer Molding for Highly Layered Microstructures, Adv. Mater., 17, 2481-2485,2005, que se incorporan en la presente como referencia en su totalidad. La sustancia 4704 en las depresiones 4702 entonces se endurece para formar partículas 4708. El endurecimiento de la sustancia 4704 se puede lograr por un método y al utilizar un material descrito en la presente. De acuerdo a algunas modalidades, el endurecimiento se logra por, pero no se limita a, evaporación de solvente, fotocuración, termocuración, enfriamiento, combinaciones de los mismos, y similares. Después de que la sustancia 4704 se ha endurecido, las partículas 4708 se recolectan de las depresiones 4702. De acuerdo a algunas modalidades, la partícula 4708 se recolecta al poner en contacto la partícula 4708 con un artículo que tiene afinidad para las partículas 4708 que es mayor que la afinidad entre la partícula 4708 y la depresión 4702. A manera de ejemplo, pero no limitación, la partícula 4708 s-e recolecta al poner en contacto la partícula 4708 con una sustancia adhesiva que se adhiere a la partícula 4708 con mayor afinidad que la afinidad entre la partícula 4708 y la depresión 4702 de plantilla. De acuerdo a algunas modalidades, la sustancia de recolección es, pero no se limita a, agua, solventes orgánicos, carbohidratos, epoxis, ceras, alcohol polivinílico, polivinil-pirrolidona, polibutilacrilato, policiano-acrilatos , polimetil-metacrilato, combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo a aún modalidades adicionales, la sustancia 4704 en las depresiones 4702 forma una partícula porosa por moldeado con solvente. De acuerdo a otras modalidades, las partículas 4708 se recolectan al someter la combinación de partícula/depresión y/o superficie de plantilla a una fuerza física o energía tal que las partículas 4708 se liberen de la depresión 4702. En algunas modalidades, la fuerza es, pero no se limita a, centrifugación, disolución, vibración, ultrasonido, megasonido, gravedad, flexión de la plantilla, succión, tracción electrostática, repulsión electrostática, magnetismo, manipulación física de la plantilla, combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas 4708 se purifican después de que se recolectan. En algunas modalidades, las partículas 4708 se purifican de la sustancia de recolección. La recolección puede ser, pero no se limita a, centrifugación, separación, vibración, gravedad, diálisis, filtración, tamizado, electroforesis, corriente de gas, magnetismo, separación electrostática, combinaciones de los mismos, y similares.

XVIII.A. Partículas Formadas de Moldeo Abierto De acuerdo a algunas modalidades, las depresiones 4702 se hacen de un tamaño y forma tal que las partículas formadas de las mismas elaborarán las sustancias polimorfas de los profármacos . La formación de un fármaco de partículas 4708 de tamaños y formas específicas puede incrementar la eficiencia, eficacia, potencia y similares, de una sustancia de fármaco. Para más de polimorfas, ver Lee et al., Crystalliztion on Confined Engineered Surfaces: A Method to Control Crystal Size and Genérate Different Polymorphs, J. Am. Chem. Soc, 127 (43), 14982 -14983, 2005, que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. De acuerdo a algunas modalidades, las partículas 4708 forman partículas poliméricas superabsorbentes . Los ejemplos de materiales poliméricos superabsorbe tes que se pueden hacer en partículas 4708 de acuerdo a la presente invención, incluyen, pero no se limitan a, poliacrilatos , ácido poliacrílico, poliacrilamida, éteres de celulosa, poli (óxido de etileno) , poli (alcohol vinílioo) , polisuccinimidas , polímeros de poliacrilonitrilo, combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo a modalidades adicionales, estos polímeros superabsorbentes se pueden mezclar o reticular con otros polímeros, o sus monómeros se pueden co-polimerizar con otros monómeros, o similares. De acuerdo aun a modalidades adicionales, un almidón se inserta en estos polímeros. De acuerdo a modalidades adicionales, la partícula 4708 formada de los métodos y materiales de la presente invención incluye, pero no se limita a, partículas entre 20 nm y 10 micrones de un fármaco, una partícula cargada, un electreto polimérico, un agente terapéutico, una partícula viral, una sustancia polimorfa, una partícula superabsorbente , combinaciones de los mismos, y similares. De acuerdo a algunas modalidades, el material líquido que se va a moldear se dispersa en un molde sin sustrato asociado con el molde, tal que el molde tiene poros abiertos. Debido a que el molde está abierto, se presenta la evaporación en los poros. Entonces, la primera sustancia introducida en el molde se puede solidificar o curar por los métodos descritos en la presente. Debido a que la primera sustancia se dejo evaporar en el molde abierto, hay volumen vacío en la depresión del molde para recibir una segunda sustancia. Después de que se introduce la segunda sustancia en el volumen vacío de las depresiones del molde, la combinación se puede tratar para solidificar o curar la segunda sustancia. Se puede realizar la curación por cualquiera de los métodos descritos en la presente y la primera y segunda sustancias se pueden adherir entre sí al utilizar métodos y materiales descritos en la presente. Por lo tanto, se puede formar una partícula de micro- o nano-escala de más de una capa de material .

XVIV. Revestimiento de Semilla De acuerdo a algunas modalidades de la presente invención, los materiales y métodos descritos en la presente se usan para revestir semillas. Con referencia ahora a la Figura 48, para revestir semillas, las semillas se suspenden en una solución liquida 4808. La solución líquida que contiene las semillas 4808 se deposita en una plantilla 4802, donde la plantilla incluye una depresión 4812. La solución líquida que contiene la semilla 4808 se pone en las depresiones 4812 y el líquido se endurece de modo tal que la semilla se llega a revestir. Las semillas revestidas entonces se recolectan de las depresiones 4810. La recolección de las semillas revestidas se puede lograr por un método de recolección descrito en la presente. De acuerdo a algunas modalidades, la plantilla 4802 se genera al introducir un precursor líquido de plantilla al núcleo 4800 que contiene un patrón que enmascarará la plantilla 4802. El precursor líquido de plantilla entonces se endurece para formar la plantilla 4802. El precursor líquido de plantilla puede ser un material descrito en la presente y se puede endurecer por un método y material descrito en la presente. Por ejemplo, el precursor líquido de plantilla puede ser un precursor líquido de PFPE y contener un componente curable (por ejemplo, UV, foto, termo, combinaciones de los mismos y similar) . De acuerdo a este ejemplo, el precursor líquido de PFPE se introduce en el núcleo 4800 y se trata con radiación UV para curar el PFPE líquido en forma sólida. De acuerdo a modalidades adicionales, la solución líquida que contiene la semilla 4808 se deposita en una plataforma 4804 que se configura para intercalar la solución líquida 4808 con la plantilla 4802. Cuando la solución líquida 4808 se ha intercalado en las depresiones 4812 de la plantilla 4802, la solución líquida que contiene la semilla 4808 se endurece tal que la semilla se reviste en una material solidificado 4810. El endurecimiento puede ser por un método y sistema descritos en la presente, que incluye, pero no se limita a, fotocuración, termocuración, evaporación y similar. Después del endurecimiento de la solución líquida 4808, la plataforma 4804 y la plantilla 4802 se remueven entre sí y las semillas revestidas solidificadas 4810 se recolectan de la plantilla 4802 y/o la superficie de la plataforma 4804. La recolección puede ser cualquiera de los métodos de recolección descritos en la presente. El revestimiento de semillas con los revestimientos y métodos descritos en la presente puede, pero no se limita a, preparación de la semilla para envasado, preparación de semillas revestidas de un tamaño uniforme, preparación de semillas con un revestimiento uniforme, preparación de semillas con una forma revestida uniforme, eliminación de agentes tensioactivos , conservación de la viabilidad de la semilla, combinaciones de los mismos y similares. Las técnicas de revestimiento de semillas compatibles con la presente invención se describen en la Patente de los Estados Unidos No. 4,245,432, que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad.

XX . Identificadores En algunas modalidades, la invención se refiere a formulaciones que comprenden un identificador, artículos marcados con un identificador , y métodos para detectar un identificador . En general, los identificadores incorporan una "marca" única, o un grupo de "marca" en o sobre el artículo que es invisible al usuario final del artículo, virtualmente incapaz de ser falsificado, no se puede remover el artículo sin destruirlo o alterarlo, y es inofensivo al artículo o su usuario final. En algunas modalidades, el identificador comprende una pluralidad de micro- o nano-partículas , fabricadas de acuerdo con los materiales y métodos descritos en la presente, y tiene una forma, tamaño, composición, material definido y similares. En otras modalidades, las micro- o nano-partículas descritas en la presente pueden incluir sustancias que actúen como un identificador . En aún otras modalidades, el identificador puede incluir un código de barras o código similar con hasta millones de letras, número, forma o similar, combinaciones que hacen a la identificación del identificador única y no copiable. En algunas modalidades, las partículas de la copia de partículas en plantillas no humectables (PRINT) se usan como identificadores . Las partículas PRINT, fabricadas de acuerdo a modalidades de fabricación de partículas descritas en la presente, pueden contener una o más características únicas. Las características únicas de la partícula, imparte información de identificación específica a la partícula en tanto que vuelve a la partícula no copiable. En algunas modalidades, la partícula se puede detectar e identificar por: materiales inorgánicos, materiales poliméricos, moléculas orgánicas, porciones fluorescentes, porciones fosforescentes, moléculas de tinte, segmentos mas densos, segmentos menos densos, materiales magnéticos, iones, materiales quimioluminiscentes , moléculas que responden a un estímulo, segmentos volátiles, materiales fotocrónicos , materiales termocrómicos , identificación de radiofrecuencia, detección de luz infrarroja, detección de códigos de barras, espectroscopia de raman mejorada en superficie (SERS) y combinaciones de los mismos. En otras modalidades, los materiales inorgánicos son uno o más de los siguientes: óxido de hierro, metales de tierras raras y de transición, materiales nucleares, materiales semiconductores, nanopartículas inorgánicas, nanopartículas metálicas, alúmina, titania, zirconia, itria, fosfato de zirconio o gánate de itrio-aluminio . En algunas modalidades, las moléculas PRINT se elaboran en una o más formas únicas y/o tamaños únicos y se usan como un identificador . En otra modalidad preferida, las partículas PRINT se elaboran en una o más formas y/o tamaños únicos y se componen de uno o más de los siguientes para el uso en la detección: materiales inorgánicos, materiales poliméricos, moléculas orgánicas, porciones fluorescentes, porciones fosforescentes, moléculas de tinte, segmentos más densos, segmentos menos densos, materiales magnéticos, iones, materiales quimioluminiscentes , moléculas que responden a un estímulo, segmentos volátiles, materiales fotocrómicos , materiales termocrómicos , y combinaciones de los mismos. En aun otra modalidad, las partículas PRINT se elaboran con una porosidad deseada. En algunas modalidades, la marca o identificador puede ser una forma, una signatura química, una signatura espectroscópica, material, un tamaño, una densidad, y combinaciones de los mismos . Es deseable configurar el identificador para suministrar más información que solo su presencia. En algunas modalidades, se prefiere hacer que el identificador también codifique información tal como fecha de producto, fecha de vencimiento, origen de producto, destino de producto, identidad de la fuente, tipo, condiciones de producción, composición del material, o similar. Adicionalmente, la capacidad adicional para contener aleatoriedad o singularidad es una característica de un identificador preferido. La aleatoriedad y/o exclusividad de un identificador en base a la especificidad de la forma puede impartir un nivel de exclusividad no encontrado con otra tecnología de identificadores . De acuerdo a otras modalidades, el identificador se configura de materiales que pueden sobrevivir a procesos de uso y fabricación rudos . En otra modalidad, el identificador se puede revestir con una sustancia que pueda resistir procesos de uso y/o fabricación rudo o condiciones rudas. En otras modalidades, las partículas PRINT se codifican de manera distinguible con atributos tal como forma, tamaño, carga ylo funcionalidad química que se asignan a un significado particular, tal como la fuente o identidad de artículos marcados con las partículas. En algunas modalidades, el identificador de partículas se configura con una forma predeterminada y está entre aproximadamente 20 nm y aproximadamente 100 micrones en una dimensión más amplia. En otras modalidades, el identificador de partícula se moldea en una configuración predeterminada y está entre aproximadamente 50 nm y aproximadamente 50 micrones en una dimensión más amplia. En algunas modalidades, el identificador de partícula -está entre aproximadamente 500 nm y aproximadamente 50 micrones en una dimensión más amplia. En algunas modalidades, el identificador de partículas es menos de 1000 nm de diámetro. En otras modalidades, el identificador de partículas es menos de 500 nm en su diámetro más amplio. En algunas modalidades, el identificador de partículas está entre aproximadamente 250 nm y aproximadamente 500 nm en una dimensión más amplia. En algunas modalidades, el identificador de partículas está entre aproximadamente 100 nm y aproximadamente 250 nm en su dimensión más amplia o ancha. En aun otras modalidades, el identificador de partícula está entre aproximadamente 200 nm y aproximadamente 100 nm en su diámetro más ancho. La solicitud publicada de Patente de los Estados Unidos No. 2005 / 0218540 , incorporada en la presente como referencia en su totalidad, describe partículas específicas de tamaño y formas, inorgánicas, que se pueden usar en combinación con la presente descripción . En algunas modalidades, el identificador de partículas se puede incorporar en pulpa de papel o fibras tejidas, tintas de impresión, toneres de impresoras y copiadoras, barnices, aspersiones, polvos, pinturas, vidrio, materiales de construcción, plásticos moldeados obstruidos, metales fundidos, combustibles, fertilizantes, explosivos, cerámicas, materias primas, artículos de consumidor terminados, artefactos históricos, productos farmacéuticos, especímenes biológicos, organismos biológicos, equipo de laboratorio y similares. De acuerdo a algunas modalidades, se incorpora una combinación de moléculas en las partículas PRINT para producir una asignatura espectral única en la detección. En otras modalidades, una metodología de fabricación de original, molde o partículas, tal como la metodología de fabricación de partículas descrita en la presente, se puede diseñar de manera racional para producir características o patrones en elementos individuales del original, molde o partículas, y estas características o patrones entonces se pueden incorporar en algunas o todas las partículas ya sea a través de las copia de molde y original o por estructuración directa de la partícula. Los métodos para producir estas características o patrones adicionales pueden incluir grabado químico o físico, fotolitografía, litografía con haz de electrones, litografía con sonda de exploración, litografía con haz iónico, hendidura, deformación mecánica, -disolución, deposito de material, modificación química, transformación química, u otros métodos para controlar la adición, remoción, procesamiento, modificación, o estructuración del material. Estas características se pueden usar para asignar un significado particular, tal como por ejemplo, la fuente o identidad de artículos marcados con los identificadores de partícula . Los identificadores de partícula, tal como se describen en la presente, permiten una variedad de métodos para "interrogar" las partículas para confirmar la autenticidad de un artículo o dato. Algunas de las modalidades incluyen marcas que se pueden ver y comparar a simple vista. Otras modalidades incluyen características que se pueden ver con microscopía óptica, microscopía electrónica, o microscopía de sonda de exploración. Otras modalidades requieren exposición de la marca a un estímulo energético, tal como cambios de temperatura, radiación de una frecuencia particular, rayos X, IR, radio, UV, infrarrojo, visible, espectrocospía de Raman, o similar. Otras modalidades comprenden el acceso a una base de datos y la comparación de la información. Aun modalidades adicionales se pueden ver usando métodos de fluorescencia o fosforescencia. Otras modalidades incluyen características que se pueden detectar usando instrumentos de cuenta de partículas, tal como citometría de flujo. Otras modalidades incluyen características que se pueden detectar con espectroscopia atómica, incluyendo absorción atómica, emisión atómica, espectrometría de masas, y espectroscopia de rayos x. Modalidades aun adicionales incluyen características que se pueden detectar por espectroscopia de Raman, y espectroscopia de resonancia magnética nuclear. Otras modalidades requieren métodos electroanalíticos para detección. Las modalidades aun adicionales requieren separación cromatográfica . Otras modalidades incluyen características que se pueden detectar con métodos térmicos o radioquímicos tal como termogravimetría, termoanálisis diferencial, calorimetría de exploración diferencial, contadores de escintilación, y métodos de ilusión de isótopos. De acuerdo a algunas modalidades, el identificador de partículas se configura en la forma de una marca de identificación de radiofrecuencia (RFID) . El objeto de un sistema de RFID es llevar datos y hacer los datos accesibles como leíbles por máquina. Los sistemas de RFID se categorizan típicamente como ya sea "activo" o "pasivo". En un sistema de RFID activo, las marcas se accionan por una batería interna, y los datos escritos en las marcas activas se pueden re-escribir y modificar. En un sistema de RFID pasivo, las marcas operan sin ninguna fuente interna de energía y usualmente se programan, codifican, o imprimen con un -conjunto único de datos que no se puede modificar, es invisible a los sentidos humanos, es virtualmente indestructible, virtualmente no reproducible y leíble por máquina. Un sistema de RFID pasivo típico comprende dos componentes: un lector y una marca pasiva. El componente principal de cada sistema de RFID pasivo es la información llevada en las marcas que corresponde a señales de RF codificadas que típicamente se envían desde el lector. Los sistemas de RFID activos incluyen típicamente una memoria que almacena datos, un transceptor de RF que soporta comunicaciones de RF de largo alcance con un lector de largo alcance, y una interfaz que soporta comunicaciones de corto alcance con un lector de corto alcance sobre un enlace seguro. En algunas modalidades, el identificador de micro- o nano-partículas se puede codificar o imprimir con información de RFID. De acuerdo a estas modalidades, se puede usar un lector de RFID para leer los datos codificados. En otras modalidades de la presente invención, los métodos y materiales descritos aquí se pueden utilizar para imprimir datos de RFID y señales en una marca de RFID. De acuerdo a otras modalidades, se habilita la autenticación e identificación de artículos. Algunas de las modalidades se pueden usar en los campos de materiales regulados tal como narcóticos, contaminantes y explosivos. Otras modalidades se pueden usar para seguridad en papeles y tintas. Aun modalidades adicionales se pueden utilizar como medidas anti-falsificación. Se pueden usar otras modalidades en productos farmacéuticos, incluyendo formulaciones y envasado. Se pueden usar modalidades adicionales en materiales a granel, incluyendo resinas plásticas, películas, materiales de petróleo, pinturas, textiles, adhesivos, revestimientos y selladores, por nombrar unos pocos. Se pueden usar otras modalidades en artículos de consumidor. Se pueden usar modalidades aun adicionales en marcas y hologramas. Se pueden usar otras modalidades para impedir la falsificación en artículos coleccionables y deportivos. Aun modalidades adicionales se pueden usar en mediciones de seguimiento y puntos de fuente. De acuerdo a un ejemplo, un identificador de partículas de la presente invención se puede usar para detectar especímenes biológicos. De acuerdo a este ejemplo, un sensor magnetoelectrónico puede detectar especímenes biológicos magnéticamente marcados. Por ejemplo, se pueden usar partículas magnéticas para marcación biológica al revestir las partículas como un anticuerpo adecuado que sólo se unirá al analito específico (virus, bacterias, etc.). Entonces puede probar la presencia de ese analito, al mezclar la solución de prueba con el identificador . La solución preparada entonces se puede aplicar sobre un chip de circuito integrado que contiene un arreglo de elementos sensores magneto-resistivos (GMR) gigantes . Los elementos sensores se revisten individualmente con el anticuerpo específico de interés. Un analito en la solución se unirá al sensor y llevará con el la marca magnética cuyo campo magnético de confinación actuará en el sensor de GMR y alterará su resistencia. Al monitorizar eléctricamente un arreglo de estos sensores de GMR químicamente revestidos, se genera un ensayo estadístico de la concentración del analito en la solución de prueba . De acuerdo a otro ejemplo, como se muestra en la Figura 49, una identidad estructural de una partícula 4900 puede ser una identificación 4910 del tipo "Código de barras". De acuerdo a este ejemplo, los elementos 4910 de identificación de "Código de barras" se fabrican en partículas 4900 al producir características estructurales en un original o plantilla que se transfieren al molde y las partículas 4900 durante la fabricación PRINT. En la Figura 49, por ejemplo, se usa grabado tipo Bosch para procesar un original que introduce un patrón reconocible ("líneas de grabado Bosch) de las paredes laterales de las partículas individuales 4900. El número, morfología y/o patrón de características en las paredes laterales de las partículas se puede definir al controlar las condiciones específicas de grabación Bosch, tiempo o número de interacciones de grabación Bosch usadas para procesar el original del cual se derivan las partículas. La Figura 49A muestra dos distintas partículas derivadas del mismo original que muestran un similar patrón de par-ed lateral que resulta del proceso específico de grabación tipo Bosch usado en el original. En este caso, este patrón se puede reconocer usando formación de imágenes de SEM e identifica estas partículas como que se originan del mismo original . En algunas modalidades, los identificadores fabricados de acuerdo a los métodos y materiales descritos en la presente se pueden fabricar con un tamaño, forma y funcionalidad química controlada. De acuerdo a algunas modalidades, los identificadores se fabrican de una resina fotoresistente usando fotolitografía para controlar el tamaño y/o forma de los identificadores . En algunas modalidades, los identificadores son partículas que tienen un lado sustancialmente plano, o formas que no son sólidos geométricos. De acuerdo en algunas modalidades, los identificadores fabricados por los materiales y métodos de la presente invención se pueden reconocer en base a la forma, o pluralidad de formas, o relación de formas conocidas de los identificadores . En modalidades adicionales, los identificadores se pueden hacer de partículas en un arreglo direccionable, partículas de jano en las cuales se disuelve un polímero monómero en un solvente, se moldea y se deja que se evapore el solvente, luego se rellena el resto del molde con un material diferente, marca diferente, fluorescencia diferente o similar. En otras modalidades, se forman identificadores con líneas de grabación Bosch en sus lados tal como "códigos de barra". En algunas modalidades, los identificadores se fabrican para que se incluyan en formulaciones farmacéuticas . De acuerdo a estas modalidades, los materiales de los identificadores son materiales aprobados por la FDA o útiles en la formulación del producto farmacéutico. De acuerdo a otras modalidades, se fabrican identificadores por los materiales y métodos de la presente invención que forman identificadores "inteligentes". Un identificador inteligente puede contener sensores o transmisores que permiten que los fabricantes, proveedores de materias primas o consumidores finales conozcan, por ejemplo, si el material se ha procesado de la especificación o está maltratado, sometido a esfuerzo o similar . De acuerdo a otras modalidades, las partículas de identificador fabricadas de los materiales y métodos de la presente invención se pueden configurar tal como las partículas de código de barra descritas en Nicewarner-Pena, S.R. , et, al . , Science, 294, 137-141 (2001), que se incorpora en la presente como referencia en su totalidad. La descripción adicional y el uso de identificadores y sistemas asociados útiles con la presente invención se puede encontrar en las patentes de los Estados Unidos Nos. 6,946,671; 6,893,489; 6,936,828; y Solicitudes Publicadas de Patentes de los Estados Unidos Nos. 2005/0205846, 2005/0171701; 2004/0120857; 2004/0046644; 2004/0046642; 2003/0194578; 2005/0258240; 2004/0101469; 2004/0142106; 2005/0009206; 2005/0272885; 2006/0014001, cada uno de las cuales se incorporan en la presente como referencia en su totalidad. Las siguientes referencias se incorporan en la presente por referencia en su totalidad, incluyendo cada referencia citada en la presente: Jackman, et. al., Anal. Chem., 70, 280-2287 (1998); Moran et al . , Appl. Phys, Lett., 78, 3741-3743 (2001); Lee et al . , Adv. Mater., 17, 2481-2485 (2005); Yin et al., Adv. Water., 13, 267-271 (2001); Barlon and Odom, Nano. Lett., 4, 1525-152? (2004); Patente de los Estados Unidos No. 6,355,198; 6,752,942; y Solicitud Publicada de Patente de los Estados Unidos No. 2002/0006978.

Ejemplos Se han incluido los siguientes Ejemplos para proporcionar guía a un experto en la técnica para practicar las modalidades representativas de la materia actualmente descrita. En vista de la presente descripción y el nivel general de habilidad en la técnica, aquellos expertos pueden apreciar que los siguientes ejemplos se propone que sean solo de ejemplo y que se pueden emplear numerosos cambios, modificaciones y alteraciones sin apartarse del alcance de la materia anteriormente descrita.

Ejemplo 1 Procedimiento representativo para síntesis y curación de perfluoropoliéteres fotocurables En algunas modalidades, la síntesis y curación -de material de PFPE de la materia actualmente descrita se realiza al usar el método descrito por Rolland, J.P., et al., J. Am. Che . Soc, 204 , 126 , 2322 -2323 . De forma breve, este método comprende la funcionalización de metacrilato de un diol de PFPE comercialmente disponible (Mn = 3800 g/mol) con metacrilato de isocianatoetilo . La fotocuración subsiguiente del material se logra a través de la mezcla con 1 % en peso de 2 , 2-diometoxi-2-fenilacetofenona y disposición a radiación UV (? = 365 nm) . De manera más particular, en una preparación típica de dimetacrilato de perfluoropoliéter (PFPE, DMA) , se adicionó poli (óxido de tetrafluoroetileno-co-óxido de difluorometileno) a, ? diol (ZDOL, Mn promedio ca, 3 , 800 g/mol, 95 %, Aldrich Chemical Company, Milwaukee, Wiosconsin, Estados Unidos de América) ( 5 . 7227 g, 1 . 5 mmol) a un matraz de fondo redondo seco de 50 mL se purgó con argón durante 15 minutos. Entonces se adicionó metacrilato de 2-isocianatoetilo (???, 99 %, Aldrich) ( 0 . 43 mL, 3 . 0 mmol) mediante jeringas junto con 1 , 1 , 2-triclorotrifluoroetano (Freon 113 . 99 %, Aldrich) (2 mL) , y diacetato de dibutilestaño (DBTDA, 99 %, Aldrich) ( 50 j^iL) . La solución se sumerge en un baño de aceite y se deja agitar a 50°C durante 24 horas. La solución entonces se hace pasar a través de una columna cromatográfica (alumina, Freon 113 , 2 x 5 cm) . La evaporación del solvente produce un aceite viscoso, incoloro, claro, que se purificó adicionalmente por paso a través de un filtro de poliétersulfona de 0.22 µp? En un procedimiento representativo de curación para PFPE DMA, se adicionó 1 % en peso de 2 , 2-dimetoxi-2-fenil-acetofenona (DMPA, 99 % Aldrich) , (0.05 g, 2.0 mmol) a PFPE DMA (5 g, 1.2 mmol) junto con 2 mL de Freon 113 hasta que se formó una solución clara. Después de la remoción del solvente, el aceite viscoso turbio se hace pasar a través de un filtro de poliétersulfona de 0.22 µ?t? para remover cualquier DMPA que no se dispersó en el PFPE DMA. El PFPE DMA filtrado entonces se irradió con una fuente de UV (Electro-Lite Corporation, Danbury, Connecticut, Estados Unidos de América, cámara de curación UV modelo no. 81432-ELC-500 , ? = 365 nm) en tanto que se deja bajo una purga de nitrógeno durante 10 min. Esto dio por resultado un material parecido a goma, ligeramente amarillo, claro.

Ejemplo 2 Fabricación Representativa de un Dispositivo de PFPE DMA En algunas modalidades, se fabricó un dispositivo de PFPE DMA, tal como un estampado, de acuerdo al método descrito por Rolland, J.P. , et al. , J. Am Chem. Soc. , 2004, 126, 2322-2323. De forma breve, el PFPE DMA que contiene un fotoiniciador , tal como DMPA, se revistió de forma giratoria (800 rpm) a un espesor de 20 µ?? en una oblea de Si que contiene el patrón deseado del polímero foto-resistente. Esta oblea revestida entonces se colocó en la cámara de curación de U y se irradió durante 6 segundos. De manera separada, se produjo una capa gruesa (aproximadamente 5 mm) del material al verter el fotoiniciador que contiene PFPE DMA en un molde que circunda la oblea de Si que contiene el patrón deseado del polímero fotorresistente . Esta oblea se irradió con luz UV durante un minuto. Después de esto, la capa gruesa se removió. La capa gruesa entonces se colocó en la parte superior de la capa delgada tal que los patrones en las dos capas se alinearon de manera precisa, y luego el dispositivo completo se irradió durante 10 minutos. Una vez terminado, el dispositivo completo se desprendió de la oblea de Si con ambas capas adheridas conjuntamente.

Ejemplo 3 Fabricación de partículas aisladas usando litografía de impresión no humectante 3.1 Fabricación de partículas de PEG trapezoidal de 200 nm Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio probado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (Ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA liquido al área deseada. El aparato entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se liberó del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Se generan superficies no humectantes, planas, uniformes al tratar una oblea de silicio limpiada con solución de "piraña" (solución ( acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro ( 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito de vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 fiL de PEG-diacrilato en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca en la parte superior de este. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña porción para empujar el PEG-diacrilato en exceso. La presión usada fue al menos aproximadamente 100 N/cm2. El aparato completo se somete a luz UV (? 0 365 nm) durante diez minutos en tanto que esta bajo purga de nitrógeno. Se observan las partículas después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 14) . 3.2. Fabricación de partículas de PEG cónicas de 500 nm Se genera un molde perfluoropoliéter con patrones (PFPE) al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cónicas de 500 nm (ver Figura 12). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato <n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución de "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado : eróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito de vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ? de PEG-diacrilato en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones colocado en la parte superior de este. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que -esta bajo purga de nitrógeno. Las partículas se observan después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de -exploración (SEM) (ver Figura 15) . 3.3 Fabricación de Partículas de PEG en Forma de Flecha de 3 µp? Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) -con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de flecha de 3 p (ver Figura 11). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito de vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 iL de PEG-diacrilato en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE grabado con patrones colocado en la parte superior de este. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo purga de nitrógeno. Se observan las partículas después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SE ) (ver Figura 16) . 3.4 Fabricación de partículas de PEG rectangulares en 200 nm x 750 nm x 250 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) -que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas rectangulares de 200 nm x 750 nm x 250 nm. Se usa un molde de poli tdimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso del fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito en vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 ??? de PEG-diacrilato en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan las partículas después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 17) . 3.5 Fabricación de partículas de trimetilolpropano-triacrilato (TMPTA) trapezoidales de 200 nm. Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de argón. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla TMPTA con 1 % en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro ( 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?. de TMPTA en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el TMPTA en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan las partículas después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 18) . 3.6 Fabricación de partículas de trimetilolpropano-triacrilato (TMPTA) cónicas de 500 nm Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado en patrones con formas cónicas de 500 nm (ver Figura 12). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla TMPTA con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?. de TMPTA en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el exceso de TMPTA. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo purga de nitrógeno. Se observan las partículas después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SE ) (ver Figura 19). Además, la Figura 20 muestra una micrografía electrónica de exploración de partículas cónicas aisladas de 500 nm de TMPTA, que se han impreso usando una modalidad del método de litografía de impresión no humectante actualmente descrito y se han recolectado mecánicamente usando una cuchilla. La capacidad para recolectar las partículas de esta manera ofrece evidencia concluyente de la ausencia de una "capa de escoria" . 3.7 Fabricación de partículas de TMPTA en forma de flecha de 3 µp? Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de flecha de 3 \m (ver Figura 11). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz uv (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla TMPTA con 1 % en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado : eróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?· de TMPTA en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el TMPTA en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos bajo una purga de nitrógeno. Se observan las partículas después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . 3.8 Fabricación de partículas de poli (ácido láctico) (PLA) trapezoidales de 200 nm Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) -con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde -de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se calienta un gramo de (3S)-cis-3 , 6-dimetil-l , 4-dioxano-2 , 5-diona (LA) por arriba de su temperatura de fusión (92°C) a 110°C y se adicionan aproximadamente 20 ? de catalizador de octoato estanoso/iniciador al monómero l quido. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 L de catalizador que contiene LA fundido en la oblea de silicio tratada precalentada a 110°C y el molde de PFPE grabado con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el monómero en exceso. El aparato completo entonces se coloca en un horno a 110°C durante 15 horas. Se observan las partículas después del enfriamiento a temperatura ambiente y la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 21) . Adicionalmente, la Figura 22 es una micrografía electrónica de exploración de partículas trapezoidales aisladas de 200 nm de poli (ácido láctico) (PLA) , que se han impreso usando una modalidad del método de litografía de impresión no humectante, actualmente descrito y recolectado mecánicamente usando una cuchilla. La capacidad para recolectar partículas de esta manera ofrece evidencia concluyente de la ausencia de una "capa de escoria" . 3 . 9 Fabricación de partículas de (PLA) en forma de flecha de 3 Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de flecha de 3 jum (ver Figura 11 ) . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se calienta un gramo de ( 3 S)-cis-3 , 6-dimetil-l , 4-dioxano-2 , 5-diona (LA) por arriba de su temperatura de fusión ( 92°C) a 110°C y se adicionan aproximadamente 20 L de catalizador de octoato estanoso/iniciador al monómero líquido. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución<acuosa) de ácido sulfúrico concentrado ¡peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro ( 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 de catalizador que contiene LA fundida en la oblea de silicio tratada precalentada a 110°C y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el monómero en exceso. El aparato completo entonces se coloca en un horno a 110°C durante 15 horas. Se observan las partículas después del enfriamiento a temperatura ambiente y la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 23). 3.10 Fabricación de partículas de (PLA) de forma cónica de 500 nm Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cónicas de 500 nm (ver Figura 12) . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz uv (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se calienta un gramo de (3S)-cis-3 , 6-dimetil-l , 4-dioxano-2 , 5-diona (LA) por arriba de su temperatura de fusión (92°C) a 110°C y se adicionan aproximadamente 20 µ??? de catalizador de octoato estanoso/iniciador al monómero líquido. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas, al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 ?? de catalizador que contiene LA fundida en la oblea de silicio precalentada a 110°C y el molde de PFPE grabado con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el exceso de monómero. El aparato completo entonces se coloca en un horno a 110°C. Las partículas se observan después del enfriamiento a temperatura ambiente y separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 24) . 3.11 Fabricación de partículas de poli(pirrol) (Ppy) trapezoidales de 200 nm Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado ¡peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se adicionan 50 |1L de una solución 1:1 v:v de tetrahidrofurano :pirrol a 50 ??? de ácido perclórico al 70 % (acuoso) . Se forma rápidamente una solución café, homogénea, clara y se desarrolla en pirrol sólido negro en 15 minutos. Una gota de esta solución café clara (antes de terminar la polimerización) se coloca en una oblea de silicio tratada y en un aparato de estampado y se aplica una presión para remover la solución en exceso. El aparato entonces se coloca en horno al vacío durante 15 horas para remover el THF y agua. Se observan las partículas usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 25) después de la liberación del vacío y separación del molde de PFPE y oblea de silicio tratada. 3.12 Fabricación de partículas (Ppy) en forma de flechas de 3 |M Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de flecha de 3 Jim (ver Figura 11). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado:peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (IH, IH, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se adicionan 50 iL de una solución 1:1 v:v de tetrahidrofurano :pirrol a 50 µ,?, de ácido perclórico al 70 % (acuoso) . Se forma rápidamente una solución café, homogénea, clara y se desarrolla en pirrol sólido negro en 15 minutos. Una gota de esta solución café clara (antes de terminar la polimerización) se coloca en una oblea de silicio tratada y en un aparato de estampado y se aplica una presión para remover la solución en exceso. El aparato entonces se coloca en horno al vacío durante 15 horas para remover el THF y agua. Se observan las partículas usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 26) después de la liberación del vacío y separación del molde de PFPE y oblea de silicio tratada. 3.13 Fabricación de partículas de (Ppy) cónicas de 500 nm Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cónicas de 500 nm (ver Figura 12). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (IH, IH, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se adicionan 50 \1L de una solución 1:1 v:v de tetrahidrofurano :pirrol a 50 µ?, de ácido perclóri-co al 70 % (acuoso) . Se forma rápidamente una solución café, homogénea, clara y se desarrolla en pirrol sólido negro en 15 minutos. Una gota de esta solución café clara (antes de terminar la polimerización) se coloca en una oblea de silicio tratada y en un aparato de estampado y se aplica una presión para remover la solución en exceso. El aparato entonces se coloca en horno al vacío durante 15 horas para remover el THF y agua. Se observan las partículas usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 27) después de la liberación del vacío y separación del molde de PFPE y oblea de silicio tratada. 3.14 Encapsulación de ADN fluorescentemente marcado dentro de partículas de PEG trapezoidales de 200 nm Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Se adicionan 20 ?? de agua y 20 |iL de monómero de PEG-diacrilato a 8 nanomoles de oligonucleótido de ADN de 24 pb que se ha marcado con un tinte fluorescente, CY-3. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 \ÍL de la solución de PEG de diacrilato en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica a una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Las partículas se observan después de la separación el molde -de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía fluorescente confocal (ver Figura 28) . Adicionalmente, la Figura 28A muestra una micrografía confocal fluorescente de nanopartículas de PEG trapezoidal de 200 nm, que contiene hebras de ADN de 24 mer que se marcan con CY-3. La Figura 28B es micrografía óptica de las partículas trapezoidales aisladas de 200 nm de PEG diacrilato que contienen ADN fluorescentemente marcado. La Figura 28C es la transposición de las imágenes proporcionadas en las Figuras 28A y 28B, que muestra que cada partícula contiene ADN. 3.15 Encapsulacion de nanopartículas de magnetita dentro de partículas de PEG cónicas de 500 nm Se genera un molde perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cónicas de 5?0 nm (ver Figura 12). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado ¡peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se sintetizaron nanopart culas de magnetita rematadas con citrato por reacción de cloruro férrico (40 mL de una solución acuosa de 1 M) y cloruro ferroso (10 mL de una solución de ácido clorhídrico acuoso 2 ) que se adiciona a amoniaco (500 mL de una solución acuosa a 0.7 M) . El precipitado resultante se recolecta por centrifugación y entonces se agita en ácido perclórico 2 M. Los sólidos finales se recolectan por centrifugación. Se suspenden 0.290 g de estas nanoparticulas estabilizadas con perclorato en 50 mL de agua y se calienta en 90°C en tanto que se agita. Entonces, se adicionan 0.106 g de citrato de sodio. La solución se agita a 90°C durante 30 minutos para producir una solución acuosa de nanoparticulas de óxido de hierro estabilizadas con citrato. Se adicionan 50 L de esta solución a 50 [iL a una solución de PEG-diacrilato en un microtubo. Este microtubo se somete a vórtice durante diez segundos. Después de esto, entonces se colocan 50 L de esta solución de PEG-diacrilato/partículas en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica a una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato/partículas en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo purga de nitrógeno. Se observan las partículas de PEG-diacrilato que contienen nanopartículas después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía óptica. 3.16 Fabricación de partículas aisladas en superficies de vidrio usando "doble estampado" Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotomiciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Se genera una superficie no humectante plana al fotocurar una película de PFPE-DMA en un portaobjeto de vidrio, de acuerdo al procedimiento resumido para generar un molde de PFPE-DMA con patrones . Se presionan 5 ?^ de la solución de PEG-diacrilato/fotoiniciador entre el molde de PFPE-DMA y la superficie plana de PFPE-DMA, y se aplica presión para exprimir el monómero de PEG-diacrilato en exceso. El molde de PFPE-DMA entonces se remueve de la superficie plana de PFPE-DMA y se determina contra un portaobjetos de microscopio de vidrio limpio y se fotocura usando radiación UV (? = 365 m) durante 10 minutos en tanto que -está en una purga de nitrógeno. Se observan las partículas después del enfriamiento a temperatura ambiente y separación del molde de PFPE y el portaobjetos de vidrio de microscopio, usando microscopía electrónica de exploración (SEM) (ver Figura 29) . 3.17 Encapsulación de virus en nanopartículas de PEG-diacrilato Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un -sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. Suspensiones de Virus Adeno-Asociados o virus no marcados o fluorescentemente marcados se adicionan a esta solución de monómero de PEG-diacrilato y se mezclan completamente. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado : eróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ??? de la solución de PEG de diacrilato/virus en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica a una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas que contienen virus después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de transmisión o en el caso de virus fluorescentemente marcados, microscopía de fluorescencia confocal . 3.18 Encapsulacion de proteínas en nanopartículas de PEG-diacrilato Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Las soluciones de proteína no marcada o fluorescentemente marcada se adicionan a esta solución de monómero de PEG-diacrilato y se mezclan completamente. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado ¡peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ ? de la solución de PEG de diacrilato/virus en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica a una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Las partículas que contienen proteínas se observan después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando métodos tradicionales de -ensayo o en el caso de proteínas fluorescentemente marcadas, microscopía de fluorescente confocal . 3.19 Partículas de titania de 200 nm Se puede generar un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm, tal como se muestra en la Figura 13. Se puede usar un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se puede someter a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original -de silicio. De manera separada, se disuelve 1 g de Pluronic P123 en 12 g de etanol absoluto. Esta solución se adiciona a una solución de 2.7 mL de ácido clorhídrico concentrado y 3.88 mL de etóxido de titanio (IV) . Se pueden generar superficies no humectantes , uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado ¡peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se pueden colocar 50 ??? de la solución de gel coloidal en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato -entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica a una pequeña presión para empujar el precursor de gel coloidal en exceso. El aparato completo entonces se coloca a parte hasta que ha solidificado la solución de gel coloidal. Después de la solidificación del gel coloidal, la oblea de silicio se puede remover del PFPE con patrones y se presentará en las partículas. 3.20 Fabricación de partículas de sílice de 200 nm Se puede generar un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato ( PFPE-D A) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm, tal como se muestra en la Figura 13. Se puede usar entonces un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se puede someter a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se disuelven 2 g de Pluronic P123 en 30 g de agua y 120 g de HC1 2 M se adiciona con agitación a 35°C. A esta solución, se adicionan 8.50 g de TEOS con agitación a 35°C durante 20 horas. Se pueden generar entonces superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado :peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctil ) silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 |1L de la solución de gel coloidal en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se -coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el precursor de gel coloidal en exceso. El aparato completo entonces se coloca aparte hasta que ha solidificado el precursor de gel coloidal . Las partículas se deben observar después de la separación del molde de PFPE y la oblea de sílice tratado usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . 3.21 Fabricación de Partículas de Titania Impurificadas con Europio de 200 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13) . Se usa un molde ele poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se disuelve 1 g de Pluronic P123 y 0.51 g de EuCl3 0 7 H20 en 12 g de etanol absoluto. Esta solución se adiciona a una solución de 2.7 mL de ácido clorhídrico concentrado y 3.88 mL de etóxido de titanio (IV) . Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante evaporación con vapor en un desecador durante 20 minutos . Después de esto, entonces se colocan 50 µ?· de la solución -de gel coloidal en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una presión para empujar el precursor de gel coloidal en exceso. El aparato completo entonces se coloca aparte hasta que ha solidificado el precursor del gel coloidal. Entonces, después de que ha solidificado el precursor de gel coloidal, el molde de PFPE y la oblea de silicio tratada se separan y las partículas se deben observar usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . 3.22 Encapsulación de Nanopartículas de CdSe Dentro de Partículas de PEG de 200 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13) . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se disuelve 0.5 g de citrato de sodio y 2 mL de perclorato de cadmio 0.04 M en 45 mL de agua, y el pH se ajusta de la solución a 9 con NaOH 0.1 M. La solución se burbujea con nitrógeno durante 15 minutos. Se adicionan 2 mL de ?,?-dimetilselenourea 1 M a la solución y se calienta en un horno de microondas durante 60 segundos. Se adicionan 50 µL de esta solución a 50 L de una solución de PEG-diacrilato en un microtubo. Este microtubo se somete a vórtice durante 10 segundos. Se colocan 50 µL de esta solución de PEG-diacrilato/partículas de CdSe en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Las partículas de PEG-diacrilato con nanopartículas encapsuladas de CdSe se observarán después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando TEM o microscopía de fluorescencia. 3.23 Copia Sintética de Partículas de Adenovirus Usando Litografía de Impresión no Humectante Se genera una fabricación de molde de plantilla u "original" de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) al expresar partículas de adenovirus en una oblea de silicio. Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original. De manera separada, se mezcla TMPTA con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?, de TMPTA en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones -se coloca encima de esto. El substrato se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el TMPTA en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se reservan copias sintéticas de virus después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) o microscopía electrónica de transmisión (TEM) . 3.24 Copia Sintética de Proteína de Hemoglobina de Lombriz Usando Litografía de Impresión no Humectante Se genera una fabricación de molde de plantilla u "original" de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) al dispersar proteína de hemoglobina de lombriz en una oblea de silicio. Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz ?? (? = 365 ?p?) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original. De manera separada, se mezcla TMPTA con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de sili-cio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30% 1:1) con tricloro(lH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito por vapor en un desecador durante 20 minutos.

Después de esto, entonces se colocan 50 µL de TMPTA en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el TMPTA en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se reservan copias sintéticas de virus después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) o microscopía electrónica de transmisión (TEM) . 3.25 Diseño de Combinación de Productos Terapéuticos en Nanopartículas de 100 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas cúbicas de 100 nm. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Otros agentes terapéuticos (es decir, fármacos de molécula pequeña, proteínas, polisacáridos , ADN, etc.), agentes de selección de objetivo de tejido (péptidos y ligandos de penetración celular, hormonas, anticuerpos, etc.), agentes de liberación/transfección de productos terapéuticos (otras formulaciones de monómeros de liberación controlada, lípidos catiónicos, etc.) y agentes mejoradores de miscibilidad (co-solventes, monómeros cargados, etc.) se adicionan a la solución de precursor de polímero de una manera de combinación. Las superficies no humectantes, uniformes, planas se generan al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?. de la solución de precursor de partículas generado por combinación en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA entonces se separa de la oblea tratada, las partículas se pueden recolectar, y se establece el efecto terapéutico de cada nanopartícula generada por combinación. Al repetir esta metodología con diferentes formulaciones de partícula, se pueden detectar rápidamente muchas combinaciones de agentes terapéuticos, agentes de selección de objetivo de tejido, agentes de liberación, y otros compuestos importantes, para determinar la combinación óptima para una aplicación terapéutica deseada. 3.26 Fabricación de una Membrana de PEG Específica de la Forma Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con agujeros cilindricos de 3 ¡±m que son de 5 m de profundidad. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona .

Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiado con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro(lH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?, de PEG-diacrilato en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE grabado con patrones se coloca encima de •esto. El substrato entonces se coloca -en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el PEG-diacrilato en exceso. El aparato entero se somete entonces a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observará una membrana interconectada después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . La membrana se liberará de la superficie al remojar en agua y al dejarla levantar de la superficie. 3.27 Recolección de Partículas de PEG por Formación de Hielo Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) grabado con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas de cilindro de 5 µp?. El substrato entonces se somete a purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona .

Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al revestir un portaobjetos de vidrio con PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . El portaobjetos entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El substrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libera del portaobjetos. Después de esto, entonces se coloca 0.1 mL de PEG-diacrilato en el substrato plano de PFPE-DMA y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se purga con nitrógeno durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas de PEG después de la separación del molde de PFPE-DMA y substrato usando microscopía óptica. Se aplica agua a la superficie del substrato y el molde que contiene las partículas . Se usa un empaque para confinar el agua a la ubicación deseada. El aparato entonces se coloca en un congelador a una temperatura de -10°C durante 30 minutos. El hielo que contiene partículas de PEG se desprende del molde de PFPE-DMA y el substrato y se deja fundir, produciendo una solución acuosa que contiene partículas de PEG. 3.28 Recolección de Partículas de PEG con Vinil-Pirrolidona Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas de cilindro de 5 µ??. El substrato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, y luego se aplica luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al revestir un portaobjetos de vidrio con PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . El portaobjetos entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El substrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libera de este portaobjetos.

Después de esto, entonces se coloca 0.1 mL de PEG-diacrilato en el substrato plano de PFPE-DMA y el molde de PFPE -con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se purga con nitrógeno durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas de PEG después de la separación del molde de PFPE-D A y el substrato usando microscopía. En algunas modalidades, el material incluye una superficie adhesiva o pegajosa. En algunas modalidades, el material incluye carbohidratos, epoxies, ceras, alcohol polivinílico, polivinil-pirrolidona, polibutil-acrilato, policiano-acrilatos , polimetil-metacrilato. En algunas modalidades, la recolección o colección de las partículas incluyen enfriar agua para formar hielo (por ejemplo, en contacto con las partículas) , gota de n-vinil-2-pirrolidona que contiene 5 % de fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona se coloca en un portaobjeto de vidrios limpio. El molde de PFPE-DMA que contiene las partículas se coloca con el lado con patrones hacia debajo de la gota de n-vinil-2-pirrolidona . El portaobjetos se somete a una purga de nitrógeno durante 5 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) durante 5 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El portaobjetos se remueve, y el molde se desprende de la polivinil-pirrolidona y las partículas. Las partículas en la polivinil-pirrolidona se observaron con microscopía óptica. La película del polivinil-pirrolidona que contiene las partículas se disolvió en agua. Se usó diálisis para remover la polivinil-pirrolidona, dejando una solución acuosa que contiene partículas de PEG de 5 µ?p. 3.29 Recolección de Partículas de PEG con Alcohol Polivinílico . Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato ( PFPE-DMA.) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas de cilindro de 5 µ??. El substrato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-oetona. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al revestir un portaobjetos de vidrios con PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. El portaobjetos entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El substrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libera del portaobjetos. Después de esto, entonces se coloca 0.1 mL de PEG-diacrilato en el substrato plano de PFPE-DMA y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se purga con nitrógeno durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan las partículas de PEG después de la separación del molde de PFPE-DMA y substrato usando microscopía óptica. De manera separada, se prepara una solución de alcohol polivinílico al 5 % en peso (PVOH) en etanol (EtOH) . La solución se reviste de forma giratoria en un portaobjetos de vidrios y se deja secar. El molde de PFPE-DMA que contiene las partículas se coloca con el lado con patrones hacia en el portaobjetos de vidrios y se aplica presión. El molde entonces se desprende del PVOH y las partículas. Las partículas en el PVOH se observaron con microscopía óptica. La película de PVOH que contiene las partículas se disolvió en agua. Se usó diálisis para remover el PVOH, dejando una solución acuosa que contiene partículas de PEG de 5 µp?. 3.30 Fabricación de Partículas de Fosfatidilcolina de 200 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos seguido por luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. Después de -esto, se colocan 20 mg de la fosfatidilcolina en la oblea de silicio tratada y se calienta a 60 grados C. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la fosfatidilcolina en exceso. El aparato completo entonces se deja aparte hasta que ha solidificado la fosfatidilcolina . Se observan las partículas después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . 3.31 Funcionalización de Partículas de PEG con FITC Partículas de poli (etilenglicol) (PEG) con 5 por ciento en peso de aminoetil-metacrilato, se crearon. Se observan las partículas en el molde de PFPE después de la separación del molde de PFPE y el substrato de PFPE usando microscopía óptica. De manera separada, se creó una solución que contiene 10 por ciento en peso de fluoresceína-isotiocianato (FITC) en dimetilsulfóxido (DMSO) . Después de esto, el molde que contiene las partículas se expuso a la solución de FITC durante una hora. Se enjuagó el FITC en exceso de la superficie del molde con DMSO seguido por agua desionizada (DI) . Las partículas marcadas se observaron con microscopía de fluorescencia, con una longitud de onda de excitación de 492 nm y una longitud de onda de emisión de 529 nm. 3.32 Encapsulación de Doxorrubicina Dentro de Partículas de PEG Cónicas de 500 nm Se generó un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas cónicas de 500 nm (ver Figura 12). Se usó un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El mol-de de PFPE-DMA completamente curado entonces se liberó del original de silicio. Se generaron superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se formuló una solución de doxorrubicina al 1 % en peso de PEG-diacrilato con 1 % en peso de fotoiniciador . Después de esto, entonces se colocaron 50 µ?. de esta solución de PEG-diacrilato/doxorrubicina en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se colocó encima de esto. El substrato entonces se colocó en un aparato de moldeo y se aplicó una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato/doxorrubicina en exceso. La pequeña presión en este ejemplo fue al menos aproximadamente 100 N/cm2. El aparato completo entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observaron partículas de PEG-diacrilato que contiene doxorrubicina después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía fluorescente (ver Figura 42). 3.33 Encapsulación de Avidina (60 kDa) en Partículas de PEG de 160 nm Se generó un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-D A) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas cilindricas de 160 nm (ver Figura 43). Se usó un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA liquido al área deseada. El aparato entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se liberó del original de silicio. Se generaron superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro(lH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se formuló una solución de 1 % en peso de avidina en PEG-monometac ilato : PEG diacrilato 30:70 con 1 % en peso de fotoiniciador . Después de esto, se colocaron entonces 50 µ?-? de esta solución de PEG/avidina en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se colocó encima de esto. El substrato entonces se colocó en un aparato de moldeo y se aplicó una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato/avidina en exceso. La pequeña presión en este ejemplo fue al menos aproximadamente 100 N/cm2. El aparato completo entonces se sometió a luz UV ( (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno.

Se observaron las partículas de PEG que contienen avidina después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía de fluorescencia. 3.34 Encapsulación de 2-fluoro-2-desoxi-d-glucosa en Partículas de PEG de 80 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio de 6 pulgadas grabado con patrones con formas cilindricas de 80 nm. El substrato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloroQH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se formula una solución de 0.5 % en peso de 2-fluoro-2-desoxi-d-glucosa (FDG) en PEG-monometacrilato : PEG-diacrilato 30:70 con 1 % -en peso de fotoiniciador . Después de esto, entonces se colocan 200 µS, de esta solución de PEG/FDG en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE grabado con patrones se colocó encima de esto.

El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución de PEG/FDG en exceso. La pequeña presión debe ser al menos aproximadamente 100 N/cm2. El aparato completo entonces se somete a luz UV ( (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observaron partículas de PEG que contienen FDG después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración. 3.35 ADN Encapsulado en Partículas de Poli (ácido láctico) ¾n Forma de Barra de 200 nm x 200 nm 1 ,µt? Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas de barra de 200 nm x 200 nm x 1 um. El substrato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con tricloro ( 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silaño mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se formula una solución de 0.01 % en peso de ADN de 24 pares de base y 5 % en peso de poli (ácido láctico) en etanol . Entonces se colocan 200 µ?.. de esta solución de etanol en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución de PEG/FDG en exceso. La pequeña presión debe ser al menos aproximadamente 100 N/cm2. El aparato completo entonces se coloca bajo vacío durante 2 horas. Las partículas de poli (ácido láctico) que contienen ADN se observaron después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía óptica. 3.36 Partículas de Paclitaxel de 100 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato ( PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con formas cónicas de 500 nm (ver Figura 12). Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE- DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se formuló una solución de paclitaxel al 5 % en peso en etanol. Después de esto, entonces se colocaron 100 µ?. de esta solución de paclitaxel en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se colocó encima de esto. El substrato entonces se colocó en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución en exceso. La presión aplicada fue al menos aproximadamente 100 N/cm2. El aparato completo entonces se coloca bajo vacío durante 2 horas. La separación del molde y superficie produjeron aproximadamente partículas de paclitaxel esféricas de 100 nm, que se observaron con microscopía electrónica de exploración. 3.37 Partículas Triangulares Funcionalizadas en un Lado Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio de 6 pulgadas grabado con patrones con triángulos rectos de 0.6 µp? ? 0.8 |M x 1 |im. El substrato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito de vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se formula una solución aminoetil-metacrilato al 5 % en peso en PEG-monometacrilato : PEG-diacrilato 30:70 con 1 % en peso de fotoiniciador . Después de esto, entonces se colocan 20? ??? de esta solución de monómero en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución en exceso. La pequeña presión debe ser al menos aproximadamente 100 N/cm2. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas de PEG que contienen aminoetil-metactrilato en el molde después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía óptica. De manera separada, se crea una solución que contiene 10 por ciento en peso de fluoresceína-isotiocianato (FITC) en dimetilsulfóxido (DMSO) . Después de esto, el molde que contiene las partículas se expone a solución de FITC durante una hora. El FITC en exceso se enjuaga de la superficie de molde cono DMSO seguido por agua desionizada (DI) . Las partículas, marcadas sólo en una cara, se observaron con microscopía de fluorescencia, con una longitud de onda de excitación de 492 nm y una longitud de onda de emisión de 529 nm. 3.38 Formación de una Cavidad de Unión a Proteína Impresa y una Proteína Artificial Las moléculas de proteína deseada se adsorben en un substrato de mica para crear una plantilla de original. Una mezcla de PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene un monómero con un disacárido covalentemente uni-do, y 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona como un fotoiniciador se vertió sobre el sustrato. El substrato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de mica, creando cavidades tipo polisacárido que exhiben reconocimiento selectivo para la molécula de proteína que se imprimió. El molde polimérico se remoja en solución de NaOH/NaCIO para remover las proteínas de plantilla. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) con triclorodH, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo) -silano mediante depósito con vapor en un desecador durante 20 minutos. De manera separada, se formuló una solución de 25 % (p/p) de ácido metacrílico (MAA) , 25 % de dietil-aminoetilmetacrilato (DEAEM) , y 48 % de PEG-diacrilato con 2 % en peso de fotoiniciador . Después de esto, entonces se colocaron 200 (1L de esta solución de monómero en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE/disacárido con patrones se colocó encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. La remoción del molde produce moléculas de proteína artificial que tienen un tamaño, forma y funcionalidad química similar como la molécula de proteína de plantilla original . 3.39 Relleno de Plantilla con "Gota Móvil" Se coloca un molde (6 pulgadas de diámetro) con un patrón de 5 x 5 x 10 micrones en una superficie inclinada que tiene un ángulo de 20 grados a la horizontal. Entonces, se coloca un conjunto de 100 µ?, de gotas de 98 % de PEG-diacrilato y 2 % de fotoiniciador en la superficie del molde en un extremo más alto. Cada gota entonces se deslizará hacia abajo dejando la traza con cavidades rellenas. Después de que todas las gotas alcanzan el extremo inferior, el molde se pone en horno de UV, se purga con nitrógeno durante 15 minutos y luego se cura durante 15 minutos. Las partículas se recolectaron en portaobjetos de vidrios usando adhesivo de cianoacrilato . No se detectó escoria y se confirmó la monodispersidad de las partículas primero usando microscopía óptica y luego microscopía electrónica de exploración. 3.40 Relleno de Plantilla a Través de Inmersión Se sumergió un molde de tamaño 0.5 x 3 cm con plantilla de 3 x 3 x 8 micrones en el frasco con solución de 98 % de PEG-diacrilato y 2 % de fotoiniciador . Después de 30 segundos, el molde se retira a una velocidad de aproximadamente 1 iran por segundo. Entonces, el molde se pone en un horno de UV, se purga con nitrógeno durante 15 minutos y luego se cura durante 15 minutos. Las partículas se recolectan en el portaobjetos de vidrio usando adhesivo de cianoacrilato. No se detectó escoria y se confirmó la monodispersidad de las partículas usando microscopía óptica. 3.41 Relleno de Plantilla por Asistencia de Voltaje Se puede aplicar un voltaje de aproximadamente 3000 voltios CD a través de una sustancia que se va a moldear, tal como PEG. El voltaje hace que el proceso de relleno sea más fácil puesto que cambia el ángulo de contacto de la sustancia en la plantilla con patrones . 3.42 Fabricación de Partículas de PEG en Forma de Cubo de 2 µp? por Inmersión Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con cubos de 2 |im x 2 pm x l ¡iiti. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona.

El metacrilato fluorescentemente marcado se adiciona a esta solución de monómero de PEG-diacrilato y se mezcla completamente. El molde se sumerge en esta solución y se retira lentamente. El molde se somete a luz UV durante 10 minutos bajo purga de nitrógeno. Las partículas se recolectan al color cianoacrilato sobre un portaobjetos de vidrio, colocando el molde en contacto con el cianoacrilato, y dejando que cure el cianoacrilato. El molde se remueve de la película curada, dejando las partículas atrapadas en la película. El cianoacrilato se disuelve usando acetona, y las partículas se recolectan en una solución de acetona, y se purifican con centrifugación. Se observan las partículas usando microscopía electrónica de exploración (SEM) después del secado (ver Figuras 61A y 6IB) .

Ejemplo 4 Moldeo de Características para Aplicaciones de Semiconductores 4.1 Fabricación de Líneas de 140 nm Separadas por 70 nm en TMPTA Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con líneas de 140 nm separadas por 70 nm. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla TMPTA con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. Se generan superficies uniformes, planas al tratar una oblea de silicio tratada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) y al tratar la oblea con un promotor de adhesión (trimetoxisilil-propil-metacrilato) . Después de esto, entonces se colocan 50 ?? de TMPTA en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para asegurar un contacto conformacional . El aparato completo se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan los rasgos o características después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía de fuerza atómica (AFM) (ver Figura 30). 4.2 Moldeo de una Solución de Poliestireno Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con líneas de 140 nm separadas por 70 nm. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se disuelve el poliestireno en 1 a 99 % en peso de tolueno. Se generan superficies uniformes, planas al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) y tratando la oblea con un promotor de adhesión. Después de esto, entonces se colocan 50 µ??? de la solución de poliestireno en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para asegurar un contacto conformacional . El aparato completo entonces se somete a vacío durante este periodo de tiempo para remover el solvente. Se observan las características después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía de fuerza atómica (AFM) y microscopía electrónica de exploración (SEM) . 4.3 Moldeo de Características Aisladas en Superficies Compatibles con Microelectrónicas Usando "Doble Estampado" Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con líneas de 140 nm separadas por 70 nm. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA liquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla TMPTA con 1 % en peso de un fotoiniciador, 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona . Se genera una superficie no humectante, plana al fotocurar una película de PFPE-DMA sobre un portaobjetos de vidrio, de acuerdo al procedimiento resumido para generar un molde de PFPE-DMA con patrones . Se presionan 50 µL· de la solución de TMPTA/fotoiniciador entre el molde de PFPE-DMA y la superficie plana de PFPE-DMA, y se aplica presión para aplicar el monómero de TMPTA en exceso. El molde de PFPE-DMA entonces se remueve de la superficie plana de PFPE-DMA y se presiona contra una oblea de silicio/óxido de silicio, plana, limpia y se fotocura usando radiación UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan las características aisladas de poli (TMPTA) después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio/óxido de silicio, usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . 4.4 Fabricación de Estructuras de Titania de 200 nm para Microelectrónicas Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona usando un substrato de silicio grabado con patrones con lineas de 140 nm separadas por 70 nm. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se disuelve 1 g de Pluronic P123 en 12 g de etanol absoluto. Esta solución se adiciona a una solución de 2.7 mL de ácido clorhídrico concentrado y 3.88 mL de etóxido de titanio (IV) . Se generan superficies uniformes, planas al tratar una oblea de silicio/óxido de silicio con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrogeno al 30 % 1:1) y secado. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?? de la solución de gel coloidal en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el precursor de gel coloidal en exceso. El aparato completo entonces se pone aparte hasta que ha solidificado el precursor de gel coloidal. Se observarán estructuras de óxido después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) 4.5 Fabricación de Estructuras de Sílice de 200 nm para Microelectrónicas Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con líneas de 140 nm separadas por 70 nm. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se disuelven 2 g de Pluronic P123 en 30 g de agua y 120 g de HCl 2 M se adicionan en tanto que se agitan a 35°C. A esta solución, se adicionan 8.50 g de TEOS con agitación a 35°C durante 20 horas. Se generan superficies uniformes, planas al tratar una oblea de silicio/óxido de silicio con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrogeno al 30 % 1:1) y secado. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?-? de solución de gel coloidal en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el precursor de gel coloidal en exceso. El aparato completo entonces se pone aparte hasta que ha solidificado el precursor de gel coloidal. Se observarán estructuras de óxido después de la separación de molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . 4.6 Fabricación de Estructuras de Titania Impurificadas con Europio de 200 nm para Microelectrónicas Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con líneas de 140 nm separadas por 70 nm. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se disuelve 1 g de Pluronic P123 y 0.51 g de EuCl3 o 6 H20 en 12 g de etanol absoluto. Esta solución se adiciona a una solución de 2.7 mL de ácido clorhídrico concentrado y 3.88 mL de etóxido de titanio (IV). Se generan superficies uniformes, planas al tratar una oblea de silicio/óxido de silicio con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) y secado. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?. de la solución de gel coloidal en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE grabado con patrones se coloca encima de éste. El substrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar el precursor de gel coloidal en exceso. El aparato completo entonces se pone aparte hasta que ha solidificado el precursor del gel coloidal . Se observarán estructuras de óxido después de la separación del molde de PFPE y la obl-ea de silicio tratada usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . 4.7 Fabricación de Características "Libre de Escoria" Aisladas para Microelectrónicas Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un substrato de silicio grabado con patrones con líneas de 140 nm separadas por 70 nm. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos hasta que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla TMPTA con 1 % en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas capaces de adherirse al material resistente al tratar una oblea de silicio limpiada con solución "piraña" (solución (acuosa) de ácido sulfúrico concentrado: peróxido de hidrógeno al 30 % 1:1) y al tratar la oblea con una mezcla de un promotor de adhesión, (trimetoxisilil-propil-metacrilato) y un agente de silano no humectante (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctilo-trimetoxisilano) . La mezcla puede variar desde 100 % del promotor de adhesión al 100 % del silano no humectante. Después de esto, entonces se colocan 50 fiL de TMPTA en la oblea de silicio tratada y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de éste. El substrato se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para asegurar un contacto conformacional y para empujar el TMPTA en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV <? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan características después de la separación del molde de PFPE y la oblea de silicio tratada usando microscopía de fuerza atómica (AF ) y microscopía electrónica de exploración (SEM) .

Ejemplo 5 Moldeo de Plantillas Naturales y Diseñadas 5.1 Fabricación de un Molde de Perfluoropoliéter-Dimetacrilato (PFPE-DMA) de una Plantilla Generada Usando Litografía con Haz de Electrones Se genera una plantilla u "original" para la fabricación de molde de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) usando litografía de haz de electrones por revestimiento giratorio de un polímero resistente de bicapa de 200 , 000 M PMMA y 900 , 000 MW PMMA sobre una oblea de silicio con óxido térmico de 500 nm, y exponiendo esta capa resistente a un haz de electrones que está trasladándose a un patrón preprogramado . La capa resistente se revela en solución de isopropanol :metil-isobutil-cetona 3 : 1 para remover las regiones expuestas de la capa resistente. Se forma un patrón metálico correspondiente en la superficie de óxido de silicio ale vaporar Cr 5 nm y Au 15 nm sobre la superficie cubierta con capa resistente y al levantar la película residual de PMMA/Cr/Au en acetona a reflujo. Este patrón se transfiere a la superficie subyacente de óxido de silicio por grabado con iones reactivos con plasma de CF4 /02 y remoción de la película de Cr/Au en agua regia (ver Figura 31 ) . Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área grabada con patrones del original . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV <? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original. Este molde se puede usar para la fabricación de partículas usando litografía de impresión no humectante como se especifica en los Ejemplos 3 . 3 y 3 . 4 de Fabricación de Partículas . 5.2 Fabricación de un Molde de Perfluoropolieter-Dimetacrilato (PFPE-DMA) de una Plantilla Generada Usando Fotolitografía. Se genera una plantilla u "original" para fabricación de molde de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) usando fotolitografía por revestimiento giratorio de una película de polímero fotorresistente SU-8 en una oblea de silicio. Esta capa resistente se hornea en una placa caliente a 95°C y se expone a través de una fotomáscara pre-grabada con patrones. La oblea se hornea nuevamente a 95°C y se revela usando una solución reveladora comercial para remover la capa resistente en SU-8 no expuesta. La superficie con patrones resultante se cura completamente a 175°C. Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original, y se puede formar en imagen por microscopía óptica para revelar el molde de PFPE-DMA con patrones (ver Figura 32) . 5.3 Fabricación de un Molde de Perfluoropoliéter-Dimetacrilato (PFPE-DMA) de una Plantilla Generada de Partículas Dispersas de Virus de Mosaico de Tabaco Se genera una plantilla u "original" para la fabricación de molde de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) al dispersar partículas de virus de mosaico de tabaco (TMV) en una oblea de silicio (Figura 33a) . Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original. La morfología del molde entonces se puede confirmar usando microscopía de fuerza atómica (Figura 33b) . 5.4 Fabricación de un Molde de Perfluoropoliéter-Dimetacrilato (PFPE-DMA) de una Plantilla Generada de Micelas de Copolímero de Bloque Se genera una plantilla u "original" para la fabricación de molde de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) al dispersar micelas de copolímero de bloque de poliestireno-poliisopreno en una superficie de mica recién escindida. Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original . La morfología del molde entonces se puede confirmar usando microscopía de fuerza atómica (Figura 34) . 5.5 Fabricación de un Molde de Perfluoropoliéter-Dimetacrilato (PFPE-DMA) de una Plantilla Generada de Polímeros de Escobilla Se genera una plantilla u "original" para la fabricación de molde de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) al dispersar polímeros de escobilla de poli(butil-acrilato) en una superficie de mica recién escindida. Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original. La morfología del molde -entonces se puede confirmar usando microscopía de fuerza atómica (Figura 5.6 Fabricación de un Molde de Perfluoropoliéter-Dimetacrilato (PFPE-DMA) de una Plantilla Generada de Proteína de Hemoglobina de Lombriz Se genera una plantilla u "original" para la fabricación de molde de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) al dispersar proteínas de hemoglobina de lombriz en una superficie de mica recién escindida. Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original . La morfología del molde entonces se puede confirmar usando microscopía de fuerza atómica. 5.7 Fabricación de un Molde de Perfluoropoliéter-Dimetacrilato (PFPE-DMA) de una Plantilla Generada de Nanoestructuras de ADN con Patrones Se genera una plantilla u "original" para la fabricación de molde de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) al dispersar nanoestructuras de ADN en una superficie de mica recién escindida. Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original. Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde -de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original. La morfología del molde entonces se puede confirmar usando microscopía de fuerza atómica. 5.8 Fabricación de un Molde de Perfluoropolieter-Dimetacrilato (PFPE-DMA) de una Plantilla Generada de Nanotubos de Carbono Se genera una plantilla u "original" para la fabricación de molde de perfluoropoliéter-dimetacrilato (PFPE-DMA) al dispersar o al hacer crecer nanotubos de carbono en una oblea de óxido de silicio. Este original se puede usar para grabar un molde con patrones al vertir PFPE-DMA que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre el área con patrones del original . Se usa un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original. La morfología del molde entonces se puede confirmar usando microscopía de fuerza atómica.

Ejemplo 6 Método para Elaborar Nanoestructuras Monodispersas que Tienen Pluralidad de Formas y Tamaños En algunas modalidades, la materia actualmente descrita describe una nueva técnica litografía blanda "de arriba abajo"; litografía de impresión no humectante (NoWIL) que permite que se generen nanoestructuras completamente aisladas al aprovechar la inherente baja energía superficial y resistencia al hinchamiento de los materiales curados basados en PFPE. La materia actualmente descrita proporciona una nueva técnica litografía blanda "de arriba a abajo"; litografía de impresión no humectante (NoWIL) que permite que se generan nanoestructuras completamente aisladas al aprovechar la inherente baja energía superficial y resistencia a hinchamiento de materiales basados en PFPE curado. Sin que se desee que se una a ninguna teoría particular, un aspecto clave de la NoWIL es que tanto el molde elastomérico como la superficie por debajo de la gota del monómero o resina no son humectantes a esta gota. Si la gota humecta esta superficie, inevitablemente estará presente una capa delgada de escoria aún si se ejercen altas presiones en el molde. Cuando tanto el molde elastomérico como la superficie no son humectantes (es decir, un molde de PFPE y superficie fluorada) , el líquido se confina sólo a las características del molde y se elimina la capa de escoria como un sello que se forma entre el molde elastomérico y la superficie bajo una ligera presión. De esta manera, la materia actualmente descrita proporciona por primera vez un método litográfico, blando, general, simple para producir nanopartículas de casi cualquier material, tamaño y forma que se limitan sólo por el original usado para generar el molde. Usando NoWlL, se generaron nanopartículas del compuesto de 3 diferentes polímeros de una variedad de originales de silicio diseñados. Los patrones representativos incluyen, pero no se limitan a, flechas de 3 µ?? (ver Figura 11), formas cónicas que son de 500 nm en la base y convergencia a < 50 nm en la punta (ver Figura 12), y estructuras trapezoidales de 200 nm (ver Figura 13). La prueba definitiva que todas las partículas fueron en realidad "libres de escoria" se demostró por la capacidad para recolectar mecánicamente estas partículas al empujar simplemente una cuchilla sobre la superficie. Ver Figuras 20 y 22. El polietilenglicol (PEG) es un material de interés para aplicaciones de distribución de fármacos debido a que está fácilmente disponible, no es tóxico y es biocompatible .

El uso de nanopartículas de PEG generadas por microemulsiones inversas para que se use como vectores de distribución génica se ha reportado anteriormente. K. McAllister et al., Journal of the American Chemical Society 124, 15198-15207 (25 de diciembre de 2002) . En la materia actualmente descrita, se realiza NoWIL usando un PEG-diacrilato comercialmente disponible y mezclándolo con 1 % en peso de un fotoiniciador , 1-hidroxiciclohexil-fenil-ceton . Se generaron moldes de PFPE de una variedad de sustratos de silicio con patrones usando un oligómero de PFPE funcionalizado con dimetacrilato (PFPE-D A) como se describe anteriormente. Ver, J. P. Rolland, E. C. Hagberg, G. M. Denison, K. R. Cárter, J. M. DeSimone, Angewandte Chemie-International Edición 43, 5796-5799 (2004). En una modalidad, se generaron superficies no humectantes, uniformes, sólidas al usar una oblea de silicio tratada con un fluoroalquil-triclorosilano o al moldear una película de PFPE-DMA en una superficie plana y fotocurando. Entonces se colocó una gota pequeña de PEG-diacrilato en la superficie no humectante y el molde de PFPE con patrones se colocó encima de esto. El substrato entonces se colocó en un aparato de moldeo y se aplicó una pequeña presión para empujar el PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante diez minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observaron las partículas después de la separación del molde de PFPE y substrato no humectante plano usando microscopía óptica, microscopía electrónica de exploración (SEM) , y microscopía de fuerza atómica (AFM) . El poli (ácido láctico) (PLA) y derivados del mismo, tal como poli ( láctido-co-glicólido) (PLGA), ha tenido un impacto considerable en las comodidades de dispositivos médicos y distribución de fármacos debido a que es biodegradable. Ver, K. E. Uhrich, S. M. Cannizzaro, R. S. Langer, K . M. Shakesheff, Chemical Reviews 99, 3181-3198 (noviembre de 1999); A. C. Albertsson, I. K. Varma, Biomacromolecules 4, 1466-1486 (Nov-Dic, 2003) . Como con sistemas basados en PEG, se ha progreso hacia la fabricación de partículas de PLGA a través de varias técnica ele dispersión que dan por resultado distribuciones de tamaño y se militan estrictamente a formas esféricas. Ver, C. Cui, S. P. Schwendeman, Langmuir 34, 8426 (2001) . La materia actualmente descrita demuestra el uso de NoWIL para generar partículas discretas de PLA con control total sobre la distribución de tamaño y forma. Por ejemplo, en una modalidad, se calentó un gramo de (3S) -cis-3 , '6-dimetil-1 , 4-dioxano-2 , 5-diona por arriba de su temperatura de fusión a 110°C y se adicionó aproximadamente 20 L de catalizador de octoato estanoso/iniciador al monómero líquido. Entonces se colocó una gota de la solución de monómero de PLA en un aparato de moldeo precalentado que contuvo un substrato plano no humectante y molde. Se aplicó una pequeña presión como se describe anteriormente para empujar el monómero de PLA en exceso. El aparato se dejó calentar a 110°C durante 15 horas hasta que se terminó la polimerización. El molde de PFPE-DMA y el substrato no humectante plano entonces se separaron para revelas las partículas de PLA. Para demostrar adicionalmente la versatilidad de NoWIL, se generaron partículas compuestas de un polímero conductor, polipirrol (PPy) . Las partículas de PPy se han formado usando métodos de dispersión, ver, M. R. Simmons, P. A. Chaloner, S. P. Armes, Langmuir 11, 4222 (1995), así como técnicas a la "cera perdida", ver, P. Jiang, J. F. Bertone, V. L. Colvin, Science 291, 453 (2001). La materia actualmente descrita demuestra por primera vez, control completo sobre la distribución de tamaño y forma de partículas de PPy. Se conoce que el pirrol polimeriza instantáneamente cuando se pone en contacto con oxidantes tal como ácido perclórico. Dravid et al . , ha mostrado que esta polimerización se puede retardar por la adición de tetrahidrofurano (THF) al pirrol. Ver, M. Su, M. Islam, L. Fu, N. Q. Wu. V. P. Dravid, Applied Physics Letters 84, 4200-4202 (24 de mayo de 2004). La materia actualmente descrita aprovecha esta propiedad en la formación de partículas de PPy con NoWIL. Por ejemplo, se adicionaron 50 µL de una solución 1:1 v/v de THF:pirrol a 50 µL de ácido perclórico al 70 %. Una gota de esta solución café claro (antes de terminar la polimerización) en el aparato de moldeo y presión aplicada para remover la solución en exceso. El aparato entonces se colocó en un horno al vacio durante la noche para remover el THF y agua. Se fabricaron partículas de PPy con buena fidelidad usando los mismos originales como se describe anteriormente. De manera importante, las propiedades de los materiales y los mecanismos de polimerización de PLA, PEG y PPy son completamente diferentes. Por ejemplo, en tanto que PLA es un polímero semicris talino de lato módulo formado usando polimerización de abertura de anillo catalizada con metal a alta temperatura, el PEG es un sólido sedoso maleable que se fotocuró por radicales libres, y el PPy es un polímero conductor polimerizado usando oxidantes rudos. El hecho que se puede usar NoWIL para fabricar partículas de estas diversas clases de materiales poliméricos que requirieron condiciones de reacción muy diferentes acentúa su generalidad e importancia. Además de su capacidad para controlar de manera precisa el tamaño y forma de las partículas, la NoWIL ofrece tremendas oportunidades para la encapsulacion fácil de agentes en nanopartículas . Como se describe en los Ejemplos 3-14, la NoWIL se puede usar para encapsular una hebra -de ADN 24-mer marcada con CY-3 dentro de las partículas de PEG trapezoidales de 200 nm descritas anteriormente. Esto se logró al adicionar simplemente el ADN a la solución de monómero /agua y al moldearlos como se describe. Fueron capaces de confirmar la encapsulación al observar las partículas usando microscopía de fluorescencia confocal (ver Figura 28) . El planteamiento actualmente descrito ofrece una distinta ventaja con respecto a otros métodos de encapsulación ya que no se requieren agentes tensioact ivos , agentes de condensación y similares. Adicionalmente , la fabricación de partículas monodispersas de 200 nm que contiene ADN representa un paso de avance hacia virus artificiales. Por consiguiente, un hospedador de agentes biológicamente importantes, tal como fragmentos génicos, productos farmacéuticos, oligonucleót idos , y virus se puede encapsular por este método. El método también es tratable a agentes no biológicamente orientados, tal como nanopart í culas metálicas, cristales o catalizadores. Además, la simplicidad de este sistema permite el ajuste directo de las propiedades de las partículas, tal como densidad de reticulación, carga y composición por la adición de otros comonómeros, y generación por combinación de formulaciones de partículas que se pueden adaptar para aplicaciones específicas. Por consiguiente, la NoWIL es un método altamente versátil para la producción de nanoes tructuras discretas, aisladas de casi cualquier tamaño y forma. Las formas presentadas en la presente fueron formas no arbitrarias diseñadas. La NoWIL se puede usar fácilmente para moldear y copiar formas no diseñadas encontradas en la naturaleza, tal como virus, cristales, proteínas y similares. Además, la técnica puede generar partículas de una amplia variedad de materiales orgánicos e inorgánicos que contienen casi cualquier carga. El método es simplemente elegante ya que no comprende agentes tensioactivos complejos o condiciones de reacción para generar nanopartículas . Finalmente, el proceso se puede amplificar a una escala industrial al usar litografía blanda existente, tecnología de rodillos, ver, Y. N. Xia, D. Qin, -G . M. Whitesides, Advanced Materials 8, 1015-1017 (Dic, 1997), o métodos de impresión por esparcido.

Ejemplo 7 Síntesis de Perfluoropoliéteres Funcionales 7.1 Síntesis de Krytox" (DuPont, Wilmington, Delaware, Estados Unidos de América) Diol que se Va a Usar como un PFPE Funcional CsF 7.2 Síntesis de Krytox" (DuPont, Wilmington, Delaware, Estados Unidos de América) Diol que se Va a Usar como PFPE Funcional CF2=CFOCF2CF(CF3)OCFÍCF2COOCH3 7.3 Síntesis de Krytox^ (DuPont, Wilmington, Delaware, Estados Unidos de América) Diol que se Va a Usar como un PFPE Funcional 7.4 Ejemplo de Krytox (DuPont, Wilmington, Delaware, Estados Unidos de América) diol que se va a usar como un PFPE funcional raw = 2436 7.5. Síntesis de un Precursor de PFPE de Múltiples Brazos -PFPE- -OH en donde, X incluye, pero no se limita a un isocianato, un cloruro ácido, un epoxi, y un halógeno; R incluye, pero no se limita a un acrilato, un metacrilato, un estireno, un epoxi, y una amina; el circulo representa cualquier molécula muítifuncional, tal como un compuesto cíclico. PFPE puede ser cualquier material de perfluoropoliéter como se describe en la presente, que incluye, pero no se limita a un material de perfluoropoliéter que incluye una estructura como sigue: 7.6 Síntesis de un Precursor de PFPE Hiper-ramificado Red de PFPE Hiper-ramificado, reticulado en donde, PFPE puede ser cualquier otro material de perfluoropoliéter como se describe en la presente, que incluye, pero no se limita a un material de perfluoropoliéter que incluye una estructura como sigue: Ejemplo 8 Síntesis de reticuladores degradables para partículas PRINT hidrolizables Se sintetizó disulfuro de bis (etilen-metacrilato) (DEDSMA) usando métodos descritos en Li et al . Macromolecules 2005, 38, 8155-8162 a partir de disulfuro de 2-hidroxietano y cloruro de metacroilo (Esquema 8 de reacción) . De manera análoga, se sintetizó disulfuro de bis (8-hidroxi-3 , 6- dioxaoctil-metacrilato) (TEDSMA) a partir de disulfuro de bis (8-hidroxi-3 , 6-dioxaoctil) (Lang et al. Langmuir 1994, 10, 197-210). Se adicionó lentamente cloruro de metacroilo (0.834 g, 8 mmol) a una solución agitada de disulfuro -de bis (8- hidroxi-3 , 6-dioxaoctilo) (0.662 g, 2 mmol) y trietilamina (2 mL) en acetonitrilo (30 mL) enfriado en un baño de hielo. La reacción se dejó calentar a temperatura ambiente y se agitó durante 16 horas. La mezcla se diluyó con solución de NaOH al 5 % (50 mL) y se agitó durante 1 hora adicional. La mezcla se extrajo con 2 x 60 mL de cloruro de metileno, la capa orgánica se lavó 3 x 100 mL de NaOH 1 M, se secó con K2CO2 anhidro, y se filtró. La remoción del solvente produjo 0.860 g del TEDSMA como un aceite amarillo pálido. RM -1!! (CDC13) d = 611 (2H, s) , 5.55 (2H, s), 4.29 (4H, t) , 3.51 - 3.8 (16H, m) , 2.85 (4H, t) , 1.93 (6H, s) .

Esquema 8 de reacción DEDSMA 8.1 Fabricación de partículas de DEDSMA positivamente cargadas de 2 µ?? Se generó un molde de perfluoropoliéter (PFPE) -con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con rectángulos de 2 µ??. Se usó un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se liberó del original de silicio. De manera separada, se preparó una mezcla compuesta de cloruro de acriloxietiltrimetilamonio (24.4 mg) , DEDSMA (213.0 mg) , Poliflúor 570 (2.5 mg) , dietoxiacetofenona (5.0 mg) , metanol (39.0 mg) , acetonitrilo (39.0 mg) , agua (8.0 mg) y N,N-dimetilformamida (6.6 mg) . La mezcla se transfirió directamente sobre la superficie de PFPE-DMA con patrones y se cubrió con una superficie de PFPE-DMA sin patrones, separada. El molde y la superficie se colocaron en el aparato de moldeo, se purgó con N2 durante diez minutos, y se colocó bajo al menos 500 N/cm2 de presión durante 2 horas. El aparato completo entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 40 minutos en tanto que se mantiene la purga de nitrógeno. Las partículas de DEDSMA se recolectaron en portaobjeto de vidrios usando adhesivo de cianoacrilato . Las partículas se purificaron al disolver la capa de adhesivo con acetona seguido por centrifugación de las partículas suspendi-das (ver Figura 62 y 63 ) . 8.2 Encapsulación de calceína dentro de partículas de DEDSMA positivamente cargadas de 2 Jim Se generó un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con rectángulos de 2 Jim. Se usó un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el TFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo purga bajo nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se liberó del original de silicio. De manera separada, se preparó una mezcla compuesta de cloruro de acriloxietiltrimetilamonio (3.4 mg) , DEDSMA (29.7 mg) , calceína (0.7 mg) , Poliflúor 570 (0.35 mg) , dietoxiacetofenona (0.7 mg) , metanol (5.45 mg) , acetonitrilo (5.45 mg, agua (1.11 mg) y N,N-dimetilformamida (6.6 mg) . Esta mezcla se transfirió directamente en la superficie de PFPE-DMA con patrones y se cubrió con una superficie de PFPE-DMA sin patrones separadas . El molde y la superficie se colocaron en el aparato de moldeo, se purgan con N2 durante 10 minutos, y se colocan bajo al menos 500 N/cm2 de presión durante 2 horas. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 40 minutos en tanto que se mantiene la purga de nitrógeno. Se recolectaron partículas de DEDSMA que contienen calceína en portaobjeto de vidrio usando adhesivo de cianoacrilat . Las partículas se purificaron al disolver la capa de adhesivo con acetona seguido por centrifugación en las partículas suspendidas (ver Figura 64) . 8.3 Encapsulación de ADN de plásmido en partículas de DEDSMA cargadas Se generó un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con rectángulos de 2 µp?. Se usó un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que -está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se liberó del original de silicio. De manera separada, se adicionaron secuencialmente 0.5 g de ADN de plásmido marcado con fluoresceína (Mirus Biotech) como una solución de 0.25 g L en amortiguador TE y 2.0 µg de vector de control de ß-galactosidada pSV (Promega) como una solución de 1.0 g L de un amortiguador TE a una mezcla compuesta de cloruro de acriloxietiltrimetilamonio (1.44 mg) , DEDSMA (12.7 mg) , Poliflúor 570 ( Polysciences , 0.08 mg) , 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona (0.28 mg) , metanol (5.96 mg) , acetonitrilo (5.96 mg) , agua (0.64 mg) , y N, N-dimetilformamida (14.1-6 mg) . Esta mezcla se transfirió directamente en la superficie de PFPE-DMA con patrones y se cubrió con una superficie de PFPE-DMA sin patrón, separada. El molde y la superficie se colocaron en el aparato de moldeo, se purgan con N2 durante diez minutos, y se colocan bajo al menos 500 N/cm2 de presión durante 2 horas. El aparato completo entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 40 minutos en tanto que se mantiene purga de nitrógeno. Estas partículas se recolectaron en portaobjetos de vidrio usando adhesivo de cianoacrilato . Las partículas se purificaron al disolver la capa de adhesivo con acetona seguido por centrifugación de las partículas suspendidas (ver Figura 65) . 8.4 Encapsulación de ADN de plásmido en partículas de PEG Se generó un molde de perfluoropoliéter (PFPE) -con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con rectángulos de 2 µp. Sé usó un molde de poli (dimetilsiloxano) para confinar el PFPE-DMA líquido al área deseada. El aparato entonces se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se liberó del original de silicio. De manera separada, se adicionaron secuencialmente 0.5 µg de ADN de plásmido marcado con fluoresceína (Mirus Biotech) como una solución de 0.25 µg/ L en amortiguador TE y 2.0 g da vector de control de ß-galactosidasa pSV (Promega) como una solución de 1.0 µg/ L en amortiguador TE a una mezcla compuesta de cloruro de acriloxietiltrimetilamonio (1.2 mg) , diacrilato de polietilenglicol (n=9) (10.56 mg) , Poliflúor 570 (Polysciences , 0.12 mg) , dietoxiacetofenona (0.12 mg) , metanol (1.5 mg) , agua (0.31 mg) , y N, N-dimetilformamida (7.2 mg) . La mezcla se transfirió directamente sobre superficie de PFPE-DMA con patrones y se cubrió con una superficie de PFPE-DMA sin patrones separada. El molde y la superficie se colocaron en el aparato de moldeo, se purgan con N2 durante diez minutos, y luego se colocan bajo al menos 500 N/cm2 de presión durante 2 horas. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 40 minutos en tanto que se mantiene purga de nitrógeno. Estas partículas se recolectaron en portaobjetos de vidrio usando adhesivo de cianoacrilato . Las partículas se purificaron al disolver la capa de adhesivo con acetona seguido por centrifugación de las partículas suspendidas (ver Figura 66) . Las siguientes referencias pueden proporcionar información y técnicas para complementar algunas de las técnicas y parámetros de los presentes ejemplos, por lo tanto, las referencias se incorporan como referencia en la presente en su totalidad incluyendo cualquiera y todas las referencias citadas en la presente. Li. Y., and Armes, S. P. Synthesis and Chemical Degradation of Branched Vinyl Polymers Prepared via ARTP: Use of a Cleavable Disulfide-Based Branching Agent.

Macromolecules 2005: 38: 8155-8162; y Lang, H. , Duschl, C, y Vogel, H . (1994), A new class of thiolipids for the attachment of lipid bilayers on gold surfaces . Langmuir 10, 197-210.

Ejemplo 9 Captación Celular de PRINT - Efecto de Carga 9.1 Fabricación de partículas PEC neutrales fluorescentemente marcadas, cilindricas de 200 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cilindricas de 200 nm (ver Figura 67) . El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos antes de la aplicación de luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) diacrilato (n=9), con 28 % en peso de PEG-metacrilato (n=9), 2 % en peso de azobisisobutironitrilo (AIBN) y 0.25 % en peso de metacrilato de rodamina. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al revestir un portaobjeto de vidrios con PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2,2-dietoxiacetofenona. El portaobjetos entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El sustrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libera del portaobjetos. Después de esto, se transfieren uniformemente 0.1 mL de la mezcla de monómeros sobre la superficie de PFPE- 5 DMA plana y luego el molde de PFPE-DMA con patrones se coloca en la parte superior de este. La superficie y el molde entonces se colocan en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña cantidad de presión para remover cualquier solución de monómero en exceso. El aparato completo se purga con nitrógeno ^ durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan las partículas de PEG neutrales después de la separación del molde de PFPE-DMA y el sustrato usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . El proceso de 5 recolección empieza al rociar una capa delgada de monómeros de cianoacrilato sobre el molde de PFPE-DMA rellena con partículas . El molde de PFPE-DMA se coloca inmediatamente en un portaobjeto de vidrios y el cianoacrilato se deja polimerizar de una manera aniónica durante un minuto. El molde ^ se remueve y las partículas se incrustan en la capa de adhesivo soluble (ver Figura 68), que proporciona dispersiones de partícula coloidales, recolectadas, aisladas en la disolución de la capa de polímero adhesivo soluble en acetona. Las partículas incrustadas en la capa de recolección, o 5 dispersadas en acetona se pueden visualizar por SEM. El poli (cianoacrilato) disuelto puede permanecer con las partículas en solución se puede remover mediante centrifugación . 9.2 Fabricación de partículas de PEG catiónicamente cargadas, al 14 % en peso, fluorescentemente marcadas, cilindricas de 200 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona con sustrato de silicio lavado con patrones con formas cilindricas de 200 nm (ver Figura 67) . El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos antes de la aplicación de luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) diacrilato (n=9) con 14 % -en peso de PEG metacrilato (n=9) , 14 % en peso de cloruro de 2-acriloxietiltrimetilamonio (AETMAC) 2 % en peso de azobisisobutironitrilo (AIBN) , y 0.25 % en peso de metacrilato de rodamina. Las superficies no humectantes, uniformes, planas se generan al revestir un portaobjetos de vidrios con PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona . El portaobjetos entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El sustrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libera del portaobjetos. Después de esto, se transfieren uniformemente 0.1 mL de la mezcla de monómero sobre la superfi-cie plana de PFPE-DMA y luego el molde de PFPE-DMA con patrones se coloca en la parte superior de esto. La superficie y el molde entonces se colocan en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña cantidad de presión para remover cualquier solución de monómero en exceso. El aparato completo se purga con nitrógeno durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Las nanopartículas de PEG catiónicamente cargadas se observan después de la separación del molde de PFPE-DMA y el sustrato usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . El proceso de recolección empieza al rociar una capa delgada de monómero de cianoacrilato en el molde de PFPE-DMA relleno con partículas. El molde de PFPE-DMA se coloca inmediatamente sobre un portaobjeto de vidrios y se deja que el cianoacrilato polimerice de una manera aniónica durante un minuto. El molde se remueve y las partículas se incrustan en capa de adhesivo soluble (ver Figura 68), que proporciona dispersiones de partículas coloidales, recolectadas, aisladas en la disolución de la capa de polímero de adhesivo soluble en acetona. Las partículas incrustadas en la capa de recolección o dispersadas en acetona se pueden visualizar por SEM. El poli (cianoacrilato) disuelto puede permanecer con las partículas en solución, se puede remover por centrifugación. 9 . 3 Fabricación de partículas de PEG, catiónicamente cargadas, 28 % en peso, fluorescentemente marcadas, cilindricas, de 200 nm Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio gravado con patrones con formas cilindricas de 200 nm (ver Figura 67 ) . El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos antes de la aplicación de luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) diacrilato (n=9 ) con 28 % en peso de cloruro de 2 -acriloxietiltrimetilamonio (AETMAC) , 2 % en peso de azobisisobutironitrilo (AIBN) , y 0 . 25 % en peso de metacrilato de rodamina. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al revestir un portaobjeto de vidrios con PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona . El portaobjetos entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) en tanto que esta bajo una purga de nitrógeno. El sustrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libera del portaobjetos. Después de esto, se transfieren uniformemente 0.1 mL de la mezcla de monómero sobre la superficie plana de PFPE-DMA y el molde de PFPE-DMA con patrones se coloca en la parte superior de esto. La superficie y el molde entonces se colocan en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña cantidad de presión para remover cualquier solución de monómero en exceso. El aparato completo se purga con nitrógeno durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan nanopartículas de PEG catiónicamente cargadas después de la separación del molde de PFPE-DMA y el sustrato usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . El proceso de recolección empieza al rociar una capa delgada de monómero de cianoacrilato sobre el molde de PFPE-DMA relleno con las partículas . El molde de PFPE-DMA se coloca inmediatamente sobre un portaobjeto de vidrios y se deja que el cianoacrilato se polimerice de una manera aniónica durante un minuto. El molde se remueve y las partículas se incrustan en capa de adhesivo soluble (ver Figura 68) , que proporciona dispersión de partículas coloidales, recolectadas, aisladas en la disolución de la capa de polímero adhesivo soluble en acetona. Las partículas incrustadas en la capa de recolección o dispersadas en acetona se pueden visualizar por SEM. El poli (cianoacrilato) disuelto puede permanecer con las partículas en solución, se puede remover mediante centrifugación. 9.4 Captación celular de partículas PRINT de PEG neutrales cilindricamente formadas de 200 nm Las partículas de PEG cilindricas neutrales de 2?0 nm (relación de aspecto = 1.1, partículas de 200 nm x 200 nm) fabricadas usando PRINT se dispersaron en 250 µ?. de agua para ser usadas en experimentos de captación celular. Estas partículas se expusieron a células NIH 3T3 (embriónicas de ratón) a una concentración final de partículas de 60 g/mL) . Las partículas y las células se incubaron durante 4 horas a C02 al 5 % a 37°C. Las células entonces se caracterizaron mediante microscopía confocal (ver Figura 69) y se valoraron las toxicidades celulares usando un ensayo de MTT (ver Figura 70) . 9.5 Captación celular de partículas PRINT de PEG catiónicamente cargadas, 14 % en peso, cilindricamente formadas, de 200 nm Las partículas de PEG, cilindricas, -de 200 nm, catiónicamente cargadas, 14 % en peso (relación de aspecto = 1.1, partículas de 200 nm x 200 nm) fabricadas usando PRINT se dispersaron en 250 µL de agua para ser usadas en experimentos de captación celular. Estas partículas se expusieron a células NIH 3T3 (embriónicas de ratón) a una concentración final de partículas de 60 g/mL) . Las partículas y las células se incubaron durante 4 horas a C02 al 5 % a 37°C. Las células entonces se caracterizaron mediante microscopía confocal (ver Figura 69) y se valoraron las toxicidades celulares usando un ensayo de MTT (ver Figura 70) . 9.6 Captación celular de partículas PRINT de PEG catiónicamente cargadas, al 28 % en peso, cilindricamente formadas, de 200 nm Las partículas de PEG, cilindricas, de 200 nm, catiónicamente cargadas, 28 % en peso (relación de aspecto = 1.1, partículas de 200 nm x 200 nm) fabricadas usando PRINT se dispersaron en 250 L de agua para ser usadas en experimentos de captación celular. Estas partículas se expusieron a células NIH 3T3 (embriónicas de ratón) a una concentración final de partículas de 60 µg/mL) . Las partículas y las células se incubaron durante 4 horas a CO2 al 5 % a 37°C. Las células entonces se caracterizaron mediante microscopía confocal (ver Figura 69) y se valoraron las toxicidades celulares usando un ensayo de MTT (ver Figura 70) .

Ejemplo 10 Captación celular de partículas PRINT, efecto de tamaño 10.1 Fabricación de partículas de PEG, catiónicamente cargadas, al 14 % en peso, fluorescentemente marcadas, cilindricas de 200 nm, repetición Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato ( PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cilindricas de 200 nm (ver Figura 67) . El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos antes de la aplicación de luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con PEG metacrilato al 14 % en peso (n=9), 14 % en peso de cloruro de 2-acriloxietiltrimetilamonio (AETMAC) , azobisisobutironitrilo a 2 % en peso (AIBN) , y 0.25 % en peso de metacrilato de rodamina. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al revestir un portaobjeto de vidrio con PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2,2-dietoxiacetofenona. El portaobjetos se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) en tanto que está bajo una pur-ga de nitrógeno. El sustrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libara del portaobjetos. Después de esto, se transfieren uniformemente 0.1 mL de la mezcla de monómero en la superficie plana de PFPE-DMA y luego el molde de PFPE-DMA con patrones se coloca en la parte superior de esto. La superficie y el molde entonces se colocan en un aparato de moldeado y se aplica una pequeña cantidad de presión para remover cualquier solución de monómero en exceso. El aparato completo se purga con nitrógeno durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas de PEG catiónicamente cargadas después de la separación del molde de PFPE-DMA y sustrato usando microscopía electrónica de exploración (SEM) . El proceso de recolección empieza al rociar una capa delgada de monómero de cianoacrilato sobre el molde de PFPE-DMA relleno con las partículas. El molde de PFPE-DMA se coloca inmediatamente en un portaobjeto de vidrios y se deja que el cianoacrilato se polimerice de una manera aniónica durante un minuto. El molde se remueve y las partículas se incrustan en capa de adhesivo soluble (ver Figura 68) , que proporciona dispersiones de partículas coloidales, recolectadas, aisladas en la disolución de la capa de polímero de adhesivo soluble en acetona. Las partículas incrustadas en la capa de recolección o dispersadas en acetona se pueden visualizar por SEM. El poli (cianoacrilato) disuelto puede permanecer con las partículas en solución, se puede remover mediante centrifugación. 10.2 Fabricación de partículas de PEG catiónicamente cargadas, al 14 % en peso, fluorescentemente marcadas, cúbicas, de 2 pm x 2 µ? x 1 µ?? Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cúbicas de 2 |im x 2 jim x l ¡uim.

El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos antes de la aplicación de luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con PEG metacrilato al 14 % en peso (n=9), 14 % en peso de cloruro de 2-acriloxietiltrimetilamonio (AETMAC) , azobisisobutironitrilo a 2 % en peso (AIBN) , y 0.25 % en peso de metacrilato de rodamina. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al revestir un portaobjeto de vidrio con PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona. El portaobjetos se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) en tanto que -está bajo una purga de nitrógeno. El sustrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libera del portaobjetos. Después de esto, se transfieren uniformemente 0.1 mL de la mezcla de monómero en la superficie plana de PFPE-DMA y luego el molde de PFPE-DMA con patrones se coloca en la parte superior de esto. La superficie y el molde entonces se colocan en un aparato de moldeado y se aplica una pequeña cantidad de presión para remover cualquier solución de monómero en exceso. El aparato completo se purga con nitrógeno durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas de PEG catiónicamente cargadas después de la separación del molde de PFPE-DMA y sustrato usando microscopía electrónica de exploración (SEM) , microscopía óptica y de fluorescencia (excitación ? = 526 nm, emisión ? = 555 nm) . El proceso de recolección empieza al rociar una capa delgada de monómero de cianoacrilato sobre el molde de PFPE-DMA rell-eno con las partículas . El molde óe PFPE-DMA se coloca inmediatamente en un portaobjeto de vidrios y se deja que el cianoacrilato se polimerice de una manera aniónica durante un minuto. El molde se remueve y las partículas se incrustan en capa de adhesivo soluble, que proporciona dispersiones de partículas coloidales, recolectadas, aisladas en la disolución de la capa de polímero de adhesivo soluble en acetona. Las partículas incrustadas en la capa de recolección o dispersadas en acetona se pueden visualizar por SEM. El poli (cianoacrilato) disuelto puede permanecer con las partículas en solución, se puede remover mediante centrifugación. 10 . 3 Fabricación de partículas de PEG catiónicamente cargadas, al 14 % en peso, fluorescentemente marcadas, cúbicas, en 5 µ??? x 5 p x 5 p Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cúbicas de 5 |M x 5 pm x 5 µp, El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos antes de la aplicación de luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9 ) con PEG metacrilato al 14 % en peso (n=9 ) , 14 % en peso de cloruro de 2-acriloxietiltrimetilamonio (AETMAC) , azobisisobutironitrilo a 2 % en peso (AIBN) , y 0 . 25 % en peso de metacrilato de rodamina. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al revestir un portaobjeto de vidrio con PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona . El portaobjetos se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El sustrato de PFPE-DMA completamente curado, plano se libera del portaobjetos. Después de esto, se transfieren uniformemente 0.1 mL de la mezcla de monómero en la superficie plana de PFPE-DMA y luego el molde de PFPE-DMA con patrones se coloca en la parte superior de esto. La superficie y el molde entonces se colocan en un aparato de moldeado y se aplica una pequeña -cantidad de presión para remover cualquier solución de monómero en exceso. El aparato completo se purga con nitrógeno durante 10 minutos, luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas de PEG catiónicamente cargadas después de la separación del molde de PFPE-DMA y sustrato usando microscopía electrónica de exploración (SEM), microscopía óptica y de fluorescencia (excitación ? = 526 nm, emisión ? = 555 nm) . El proceso de recolección empieza al rociar una capa delgada de monómero de cianoacrilato sobre el molde de PFPE-DMA relleno con las partículas. El molde de PFPE-DMA se coloca inmediatamente en un portaobjeto de vidrios y se deja que el cianoacrilato se polimerice de una manera aniónica durante un minuto. El molde se remueve y las partículas se incrustan en capa de adhesivo soluble, que proporciona dispersiones de partículas coloidales, recolectadas, aisladas en la disolución de la capa de polímero de adhesivo soluble en acetona. Las partículas incrustadas en la capa de recolección o dispersadas en acetona se pueden visualizar por SEM. El poli (cianoacrilato) disuelto puede permanecer con las partículas en solución, se puede remover mediante centrifugació . 10.4 Captación celular de partículas PRINT de PEG catiónicamente cargadas, al 14 % en peso, cilindricamente formadas de 200 nm, repetición Las partículas de PEG, cilíndri-cas , de 200 nm, catiónicamente cargadas al 14 % (relación de aspecto = 1.1, partículas de 200 nm x 200 nm) fabricadas usando PRINT se dispersaron en 250 |JL de agua para ser usadas en experimentos de captación celular. Estas partículas se expusieron a células NIH 3T3 (embriónicas de ratón) a una concentración final de partículas de 60 µg/mL) . Las partículas y las células se incubaron durante 4 horas a C02 al 5 % a 37°C. Las células entonces se caracterizaron mediante microscopía confocal (ver Figura 71) . 10.5 Captación celular de partículas PRINT de PEG cationicamente cargadas, al 14 % en peso, de forma cónica, de 2 µ??? x 2 p x 1 pía Las partículas de PEG, cúbicas de 2 im x 2 pm x 1 µp? cationicamente cargadas, al 14 % fabricadas usando PRINT se dispersaron en 250 µ?. de agua para ser usadas en experimentos de captación celular. Estas partículas se expusieron a células NIH 3T3 (embriónicas de ratón) a una concentración final de partículas de 60 g mL) . Las partículas y las células se incubaron durante 4 días en C02 al 5 % a 37°C. Las células entonces se caracterizaron mediante microscopía confocal (ver Figura 71) . 10.6 Captación celular de partículas PRINT de PEG cationicamente cargadas, al 14 % en peso, en forma cúbica de 5 pm x 5 µp? x 5 p Las partículas de PEG, cúbicas, de 5 µ?t? x 5 x 5 µp? cationicamente cargadas, al 14 % fabricadas usando PRINT se dispersaron en 250 µL de agua para ser usadas en experimentos de captación celular. Estas partículas se expusieron a células NIH 3T3 (embriónicas de ratón) a una concentración final de partículas de 60 µg/mL) . Las partículas y las células se incubaron durante 4 horas en C02 al 5 % a 37°C. Las células entonces se caracterizaron mediante microscopía confocal (ver Figura 71) Ejemplo 11 Captación celular de partículas PRINT de DEDSMA 11.1 Captación celular de partículas PRINT de DEDSMA Las partículas de DEDSMA fabricadas usando PRINT se dispersaron en 250 µ]-? de agua para ser usadas en experimentos de captación celular. Estas partículas se expusieron a células NIH 3T3 (embriónicas de ratón) a una concentración final de partículas de 60 g/mL. Las partículas y las células se incubaron durante 4 horas en C02 al 5 % a 37°C. Las células entonces se caracterizaron mediante microscopía confocal.

Ejemplo 12 Radiomarcación de partículas PRINT 12.1 Síntesis de partículas PRINT cúbicas de 2 µ?? x 2 jiro x 1 µt? radiomarcadas con 14C Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cúbicas de 2 µp? x 2 µp? ? ? µ??. El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos antes de la aplicación de luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato <n=9) con clorhidrato de 2-aminoetilmetacrilato (AEM) al 30 % en peso, y 2 , 2-dietoxiacetofenona al 1 % en peso. La solución de monómero se aplica al molde al rociar una mezcla diluida (10X) de los monómeros con alcohol isopropílico . Se coloca una hoja de polietileno sobre el molde, y se empuja fuera con un rodillo cualquier burbuja residual de aire. La hoja se jala lentamente del molde a una velocidad de 1 pulgada/minuto. El molde entonces se somete a purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El proceso de recolección empieza al rociar una capa delgada de monómero de cianoacrilato sobre el molde de PFPE-DMA relleno con partículas. El molde de PFPE-DMA se coloca inmediatamente sobre un portaobjeto de vidrios y se deja que el cianoacrilato polimerice de una manera anióni-ca durante un minuto. El molde se remueve y las partículas se incrustan en la capa de adhesivo soluble, que proporciona dispersiones de partículas coloidales, recolectadas, aisladas en la disolución de la capa de polímero adhesivo soluble en acetona. Las partículas incrustadas en la capa de recolección o dispersadas en acetona se pueden visualizar por SEM, y microscopía óptica. El poli (cianoacrilato) disuelto puede permanecer con las partículas en solución, o se puede remover mediante centrifugación. Las partículas purificadas, secas entonces se exponen a anhídrido acético marcado con 14C en diclorometano seco en la presencia de trietilamina, y 4-dimetilaminopiridina durante 24 horas (ver Figura 72) . Los reactivos sin reaccionar se remueven mediante centrifugación. La eficiencia de reacción se monitoriza al medir la radioactividad emitida en un frasco de escintilación. 12.2 Síntesis de partículas PRINT cilindricas de 200 nm radiornarcadas con 14C Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-D A) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas cilindricas de 200 nm. El aparato entonces se somete a una purga de nitrógeno durante 10 minutos antes de la aplicación de luz UV (? = 365 nm) durante 10 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con clorhidrato de 2-aminoetilmetacrilato (AEM) al 30 % en peso, y 2,2-dietoxiacetofenona al 1 % en peso. La solución de monómero se aplica al molde al rociar una mezcla diluida (10X) de los monómeros con alcohol isopropílico . Se coloca una hoja de polietileno sobre el molde, y se empuja fuera con un rodillo cualquier burbuja residual de aire. La hoja se jala lentamente del molde a una velocidad de 1 pulgada/minuto. El molde entonces se somete a purga de nitrógeno durante 10 minutos, luego se aplica luz UV (? = 365 nm) en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El proceso de recolección empieza al rociar una capa delgada de monómero de cianoacrilato sobre el molde de PFPE-DMA relleno con partículas. El molde de PFPE-DMA se coloca inmediatamente sobre un portaobjeto de vidrios y sé deja que el cianoacrilato polimerice de una manera aniónica durante un minuto . El molde se remueve y las partículas se incrustan en la capa de adhesivo soluble, que proporciona dispersiones de partículas coloidales, recolectadas, aisladas en la disolución de la capa de polímero adhesivo soluble en acetona. Las partículas incrustadas en la capa de recolección o dispersadas en acetona se pueden visualizar por SE , y microscopía óptica. El poli (cianoacrilato) disuelto puede permanecer con las partículas en solución, o se puede remover mediante centrifugación. Las partículas purificadas, secas entonces se exponen a anhídrido acético marcado con 1C en diclorometano seco en la presencia de trietilamina, y 4-dimetilaminopiridina durante 24 horas (ver Figura 72). Los reactivos sin reaccionar se remueven mediante centrifugación. La eficiencia de reacción se monitoriza al medir la radioactividad emitida en un frasco de escintilacion. 12.3 Fabricación de partículas de gadolinio-PEG colgantes Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de pilar de 3 x 3 x ll um. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona . Se mezclan 20 µ?. de cloroformo, 70 µ? de monómero de PEG diacrilato y 30 fiL de DPTA-PEG-acrilato . Se liberan superficies no humectantes, uniformes, planas al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) , que contiene 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona sobre una oblea de silicio y luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Después de esto, entonces se coloca 50 ??? de la solución de PEG-acrilato en la superficie no humectante y el molde de PFPE con patrones se coloca encima de esto. El sustrato .entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica a una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas después de la separación del molde de PFPE. Las partículas se recolectan utilizando una capa de adhesivo de sacrificio y se verifica mediante microscopía de DIC. Estas partículas se tratan de manera subsiguiente con una solución acuosa de Gd(N03)3. Estas partículas entonces se dispersan en un gel de agarosa y se examinan perfiles de formación de imágenes ponderados con Ti utilizando un instrumento de resonancia magnética con cabezal 3T de Siemens Allegra 31 (ver Figura 73) . 12.4 Formación de una partícula que contiene el ligador de CDI Se genera un molde de perfluoropoliéter {PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato ( PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de 200 nm. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona . Se mezclan 70 µ?. del monómero de PEG diacrilato y 30 µ?, del monómero de CDI-PEG. De manera específica, el monómero de CDI-PEG se sintetizó al adicionar 1 , 1 ' -carbonil-diimidazol (CDI) a una solución de PEG (n = 400) -monometacrilato en cloroformo. Esta solución se dejó agitar durante la noche. Esta solución entonces se purificó adicionalmente por una extracción por agua fría. El CDI-PEG monometacrilato resultante entonces se aisló mediante vacío. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2,2'-dietoxi-acetofenona sobre una oblea de silicio y -entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?. de la solución de PEG-diacrilato en la superficie no humectante y el molde de PFP con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña cantidad para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga nitrógeno. Se observan partículas después de la separación del molde de PFPE. Las partículas se recolectan usando una tapa de adhesivo de sacrificio y se verifican mediante electroscopia de DIC. Este ligador se puede utilizar para unir un objetivo que contiene amina de una partícula (ver Figura 74) . 12.5 Enlace de avidina al ligador de CDI Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de 200 nm. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona . Se mezclan 70 µ?? del monomero de PEG diacrilato y 30 |1L del monomero de CDI-PEG. De manera específica, el monomero de CDI-PEG se sintetizó al adicionar 1 , 1 ' -carbonil-diimidazol (CDI) a una solución de PEG (n = 400) -monometacrilato en cloroformo. Esta solución se dejó agitar durante la noche. Esta solución entonces se purificó adicionalmente por una extracción por agua fría. El CDI-PEG monometacrilato resultante entonces se aisló mediante vacío. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2,2'-dietoxi-acetofenona sobre una oblea de silicio y entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Después de esto, entonces se colocan 50 µ?_ de la solución de PEG-diacrilato en la superficie no humectante y el molde de PFP con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña cantidad para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga nitrógeno. Se observan partículas después de la separación del molde de PFPE. Las partículas se reciclan usando una tapa de adhesivo de sacrificio y se verifican mediante microscopía de DIC. Estas partículas que contienen el grupo ligador de CDI se trataron de manera subsiguiente con solución acuosa de avidina fluorescentemente marcada. Estas partículas se dejaron agitar a temperatura ambiente durante cuatro horas. Estas partículas entonces se aislaron mediante centrifugación y enjugaron con agua desionizada. Se confirmó la unión mediante microscopía confocal (ver Figura 75) . 12.6 Fabricación de partículas de PEG que seleccionan como objetivo el receptor de HER2 Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de 200 nm. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador , 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona . Se mezclan 70 ?; del monómero de PEG diacrilato y 30 µ?> del monómero de CDI-PEG. De manera específica, el monómero de CDI-PEG se sintetizó al adicionar 1 , 1 ' -carbonil-diimidazol (CDI) a una solución de PEG (n = 400) -monometacrilato en cloroformo. Esta solución se dejó agitar durante la noche. Esta solución entonces se purificó adicionalmente por una extracción por agua fría. El CDI-PEG monometacrilato resultante entonces se aisló mediante vacío. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2,2'-dietoxi-acetofenona sobre una oblea de silicio y entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Después de esto, entonces se colocan 50 XL de la solución de PEG-diacrilato en la superficie no humectante y el molde de PFP con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña cantidad para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga nitrógeno. Se observan partículas después de la separación del molde de PFPE. Las partículas se reciclan usando una tapa de adhesivo de sacrificio y se verifican mediante microscopía de DIC. Estas partículas que contienen el grupo ligador de CDI se trataron subsiguientemente con solución acuosa de avidina fluorescentemente marcada. Estas partículas se dejaron agitar a temperatura ambiente durante cuatro horas. Estas partículas entonces se aislaron mediante centrifugación y se enjugaron con agua desionizada. Estas partículas marcadas con avidina entonces se trataron con fragmentos de FAB biotinilados . Se confirmó la unión mediante microscopía confocal (ver Figura 76) . 12.7 Fabricación de partículas de PEG que seleccionan como objetivo linfoma no de Hodgkin Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de 200 nm. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 2,2'-dietoxi-acetofenona. Se mezclan 10 µ?, del monómero de PEG diacrilato y 30 µ?, del monómero de CDI-PEG. De manera específica, el monómero de CDI-PEG se sintetizó al adicionar 1 , 1 ' -carbonil-diimidazol (CDI) a una solución de PEG (n = 400) -monometacrilato en cloroformo. Esta solución se dejó agitar durante la noche. Esta solución entonces se purificó adicionalmente por una extracción por agua fría. El CDI-PEG monometacrilato resultante entonces se aisló mediante vacío. Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2,2'-dietoxi-acetofenona sobre una oblea de silicio y entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Después de esto, entonces se colocan 50 ?, de la solución de PEG-diacrilato en la superficie no humectante y el molde de PFP con patrones se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña cantidad para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga nitrógeno. Se observan partículas después de la separación del molde de PFPE. Las partículas se reciclan usando una tapa de adhesivo de sacrificio y se verifican mediante microscopía de DIC. Estas partículas que contienen el grupo ligador de CDI se trataron de manera subsiguiente con solución acuosa de avidina fluorescentemente marcada. Estas partículas se dejaron agitar a temperatura ambiente durante cuatro horas. Estas partículas entonces se aislaron mediante centrifugación y se enjugaron con agua desionizada. Estas partículas marcadas con avidina entonces se trataron con SUP-B8 biotinilado (péptido específico a la inmunoglobulina de superficie específica (slg) conocida como el idiotipo, que es distinta del slg de todas las células no neoplásticas del paciente) (ver Figura 77) . 12.8 Densidad de malla controlada: estudio fantasma y ensayo de captación celular/MTT Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxiacetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de pilares de 3 x 3 x 11 (im. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) -diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona . Se mezclan 56 µ? del monómero de PEG diacrilato, 19 de PEG monometacrilato, 10 g de cloruro de 2-acriloxietiltrimetilamonio (AETMAC) y 23 µ?. de una doxorrubicina (26 mg/mL) . Se generan superficies no humectantes, uniformes, planas al verter un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona sobre una oblea de silicio y luego se somete a luz UV (? = 366 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Después de esto, entonces se colocan 50 jiL de la solución de PEG-diacrilato en la superficie no humectante y el molde de PFP con patrones y se coloca encima de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato de exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan las partículas después de la separación del molde de PFPE. Las partículas se recolectan utilizando una capa de adhesivo de sacrificio y se verifica mediante microscopía de DIC. Estas partículas entonces se dispersaron en una solución acuosa y se expusieron a líneas de células de fibroblastos e briónicas de ratón NIH 3T3 a una concentración de nanopartículas de 50 g mL. Las partículas y las células se incubaron durante 48 horas en C02 al 5 % a 37 °C. Las células entonces se caracterizaron mediante microscopía confocal y ensayo de MTT. 12.9 Fabricación de partículas por métodos de inmersión Un molde (5104) con un tamaño de 0.5 x 3 cm con 392 depresiones (5106) con patrones, de 3 x 3 x 8 micrones se sumergió en el frasco (5102) con solución de 98 % de PEG-diacrilato y 2 % de fotoiniciador . Después de 30 segundos, el molde se retiró a una velocidad de aproximadamente 1 mm por segundo. El proceso se muestra esquemáticamente en la Figura 51. Entonces, el molde se pone en un horno -de UV, se purga con nitrógeno durante 15 minutos y luego se cura durante 15 minutos . Las partículas entonces se recolectaron en un portaobjeto de vidrios usando un adhesivo de cianoacrilato . No se detectó escoria y se confirmó la monodispersidad de las partículas usando microscopio óptico, como se muestra en la imagen de la Figura 54. Adicionalmente, como es evidente en la Figura 54, el material contenido en las depresiones formó un menisco con los lados de las depresiones, como se muestra por el número 5402 de referencia. Este menisco, -cuando se cura forma un lente en una porción de la partícula. 12.10 Fabricación de Partículas por Movimiento de Gotas. Un molde (5200) , de 6 pulgadas de diámetro con depresiones (5206) de patrón de 5 x 5 x 10 micrones se colocó en una superficie inclinada que tiene un ángulo de 20 grados (5210) a la horizontal. Entonces, se colocó un conjunto de gotas de 100 microlitros (5204) en la superficie del molde en un extremo más alto. Cada gota se desliza hacia abajo del molde dejando una traza de depresiones rellenas (5208) . El proceso se muestra esquemáticamente en la Figura 52. Después de que todas las gotas alcanzan el extremo inferior del molde, el molde se pone en un horno de UV, se purga con nitrógeno durante 15 minutos y luego se cura durante 15 minutos. Las partículas se recolectaron en un portaobjetos de vidrio usando adhesivo de cianoacrilato . No se detectó escoria y se confirmó la monodispersidad de las partículas primero usando microscopio óptico (Figura 55) y luego por microscopio electrónico de exploración (Figura 55) . Adicionalmente, como es evidente en la Figura 55, el material contenido en las depresiones formó un menisco con los lados de las depresiones, como se muestra por el número 5502 de referencia. Este menisco, cuando se curó formó un lente en una porción de la partícula.

Ejemplo 13 Estudios en Ratones de Control Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2-dietoxi-acetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de 200 nm. El aparato entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio. De manera separada, se mezcla un poli (etilenglicol ) (PEG) diacrilato (n=9) con 1 % en peso de un fotoiniciador, 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona . Se mezclaron 70 µ,?· de monómero de PEG diacrilato y 30 uL de monómero de CDI-PEG. Específicamente, el monómero de CDI-PEG se sintetizó al adicionar 1 , 1 ' -carbonil-diimidazol (CDI) a una solución de PEG (n=400) -monometilacrilato en cloroformo. Esta solución se dejó agitar durante la noche. Esta solución entonces se purificó adicionalmente por una extracción con agua fría. El CDI-PEG-monometacrilato resultante entonces se aisló mediante vacío. Se generaron superficies no humectantes, uniformes, planas al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona sobre una oblea de sílice y luego se sometió a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Después de esto, entonces se colocaron 50 ??? de la solución de PEG-diacrilato en la superficie no humectante y el molde de PFPE con patrones se colocó en la parte sustrato de esto. El sustrato entonces se coloca en un aparato de moldeo y se aplica una pequeña presión para empujar la solución de PEG-diacrilato en exceso. El aparato completo entonces se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 15 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. Se observan partículas después de la separación del molde de PFPE. Las partículas se recolectaron utilizando una capa de adhesivo de sacrificio y se verificaron mediante microscopía de DIC. Estas partículas que contienen el grupo ligador de CDI se trataron de manera subsiguiente con solución acuosa de avidina fluorescentemente marcada. Estas partículas se dejaron asentar a temperatura ambiente durante cuatro horas. Estas partículas entonces se aislaron mediante centrifugación y se enjuagaron con agua desionizada. Estas partículas marcadas con avidina entonces se trataron con biotina. Se administró una solución (2.5 mg de nanopartículas de avidina/biotina/200 uL de solución salina) a 4 ratones transgénicos Neu (2.5 mg de nanopartículas de avidina/biotina/200 uL de solución salina) cada 14 días durante 2 ciclos (total de 28 días) versus un grupo de control de 4 ratones transgénicos Neu que se trató con 200 uL de solución salina cada 14 días durante 2 ciclos (total 28 días) . Ambos conjuntos de ratones no parecieron producir efectos secundarios adversos de cualquier tratamiento.

Ejemplo 14 Fabricación de Partículas 14.1 Síntesis de Partículas de PEG Catiónicas de 200 nm para Farmacocinética Se genera un molde de perfluoropoliéter (PFPE) con patrones al vertir un PFPE-dimetacrilato (PFPE-DMA) que contiene 2 , 2 ' -dietoxi-acetofenona sobre un sustrato de silicio grabado con patrones con formas de 200 nm. El aparato se purga con nitrógeno durante 10 minutos, y luego se somete a luz UV (? = 365 nm) durante 6 minutos en tanto que está bajo una purga de nitrógeno. El molde de PFPE-DMA completamente curado entonces se libera del original de silicio, y se sopla con aire para remover el polvo. De manera separada, se preparó una solución que contiene 84 % en mol de PEG-diacrilato, 5 % en mol de PEG-monoacrilato, 10 % en mol de clorhidrato de aminoetilmetacrilato, y 1 % en mol de fotoiniciador . El molde se colocó en una campana de humo y la solución de hidrogel-monómero se atomizó sobre el molde. Entonces se colocó una hoja de polietileno sobre el molde y se removieron las burbujas por presión manual con un rodillo. La cubierta de polietileno se removió lentamente para rellenar las cámaras de las partículas . La combinación de molde/solución se colocó en una cámara de curación de UV, se purgó durante 10 minutos con nitrógeno, y se curó por UV durante 8 minutos . La combinación de partícula/molde se colocó en el revestidor giratorio y el revestidor giratorio se arrancó a aproximadamente 1000 rpm. Se pusieron aproximadamente 20 mL de nitrocelulosa en el centro del molde giratorio y se dejó curar durante 1 minuto en tanto que se gira. La nitro-celulosa entonces se levantó cuidadosamente del molde con las partículas unidas y se colocó en un frasco. Entonces se adicionó acetona para disolver la celulosa y dejar las partículas. Las partículas se purificaron mediante centrifugación, y luego se cernieron a través de un tamiz de malla 100. La acetona restante se aspiró cuidadosamente y las partículas se secaron bajo nitrógeno. 14.2 Síntesis de Partículas de Triacrilato de 200 nm Se prepararon moldes adecuados para fabricación PRINT de partículas de 200 x 200 x 200 nm al mezclar precursor de PFPE-dimetacrilato funcionalizado en el extremo que contiene 0.1 % de fotoiniciador de dietoxiacetofenona (DEAP) sobre una plantilla de original que contiene postes de 200 x 200 x 200 nm. El precursor de PFPE telequélico se polimerizó por UV bajo un manto de nitrógeno en un caucho reticulado (el "molde"). El molde entonces se desprendió del original, revelando cavidades de patrones de 200 x 200 x 200 nm en el molde. Entonces se disolvió una parte de trimetilolpropano-triacrilato que contiene 10 % de DEAP ("resina de triacrilato") en 10 partes de metanol y se revistió por rociado sobre el lado con patrones del molde hasta que se logró cobertura completa. Se colocó una hoja delgada de polietileno sobre el lado con patrones del molde y se selló al molde al aplicar manualmente una pequeña cantidad de presión. La hoja de polietileno entonces se desprendió lentamente del molde (aproximadamente 1 mm/segundo) , permitiendo el relleno capilar de las cavidades en el molde. Se extrajo la resina de triacrilato en exceso en la entrecara de PFPE/polietileno y se removió del molde conforme se desprendió la hoja de polietileno. Una vez que se desprendió completamente del molde la hoja de polietileno, se removió cualquier gota residual macroscópica de resina de triacrilato del molde. La resina de triacrilato que rellena las cavidades con patrones en el molde entonces se polimerizo por UV bajo un manto de nitrógeno durante aproximadamente 5 minutos. La solución de colodión (Fisher Scientific) entonces se moldeó giratoriamente en el lado con patrones del molde para producir una película fuerte basada en nitrocelulosa. La película entonces se desprendió del molde para remover las partículas por transferencia adhesiva a la película de nitrocelulosa. La película de nitrocelulosa entonces se disolvió en acetona. Las partículas se purificaron de la nitrocelulosa disuelta por un proceso repetitivo de sedimentar las partículas, decantar la solución de nitrocelulosa/acetona, y re-suspensión a las partículas en acetona clara. Este proceso se repitió hasta que toda la nitrocelulosa se separó de las partículas .

Ejemplo 15 Síntesis de Polímero alizador OABCO ( <1 %) 15.1 Síntesis de PFPE-Diuretano-Dimetacrilato Primeramente, se miden 50 mL (0.0125 moles) de ZDOL 4000 y se adicionan a un matraz de fondo redondo de tres cuellos de 250 mL que se ha secado completamente en el horno. A esto se adicionan 50 mL de Solkano (1,1,1-3,3-pentaf luorobutano ) . El matraz está equipado con un condensador, septo de caucho, para la agitación magnética y equipado con una purga de nitrógeno. Bajo una purga estable de nitrógeno, el matraz se dejó purgar durante 10 minutos. A la solución clara, se inyectaron 3.879g (0.025 moles) (3.54 mL) de 2-isocianatoeti 1 -metacri lato (EIM) . Después de esto, se adicionan 0.2 % en peso (aproximadamente 0.1 mL) de catalizador de diacetato de dibutilestaño a la solución. De manera alternativa, se pueden adicionar catalizadores de amina terciaria tal como DABCOMR en concentraciones típicas de 1 % en peso. La solución se calienta a 50°C y se deja someter a reflujo durante 2-6 horas bajo una purga lenta constante de nitrógeno. El matraz se remueve del calor y se adicional 25 mL de Solkano al matraz para diluir adicionalmente la solución. Entonces, se prepara una columna instantánea usando alúmina neutral (el propósito de la columna instantánea es remover el catalizador residual y cualquier EIM sin reaccionar) . La columna es típicamente de 24 mm de diámetro y se rellena con aproximadamente 15 cm de alúmina. La alúmina se humecta primero al correr aproximadamente 50 mL de Solkano hasta que empieza a caer de la columna. La solución de reacción diluida entonces se hace pasar a través de la columna bajo ligera presión de nitrógeno. A la solución purificada, se adicionan 0.5 g (0.1-1.0 % en peso con relación a ZDOL) de fotoiniciador (particularmente fotoiniciadores útiles incluyen : 1 -hidroxiciclohexil - fenil - cetona , dietoxiacetofenona y dimetoxi - feni lacetofenona ) y se agita hasta que se disuelve completamente. La mayoría del Solkano se remueve de la solución mediante rotoevaporación . Las cantidades traza restantes se remueven al colocar el matraz bajo vacío durante 3 horas en tanto que se agita. La solución clara se volverá una mezcla turbia conforme se colisione el fotoiniciador inmiscible. Este método asegura que la cantidad máxima de fotoiniciador se disuelva en el aceite de PFPE. Finalmente, el aceite turbio se hace pasar a través de un filtro de poli ( éter-sul fona ) de 0.22 µp? . Se recolecta un aceite viscoso, blanco como agua, claro, en el fondo del recipiente de filtración al vacío. 15.2 Síntesis de Diuretano-Dimetacrilato Extendido en Cadena de PFPE Primeramente, se miden 50 g (0.0125 moles) de ZDOL 4000 y se adicionan a un matraz de fondo redondo de 250 mL de tres cuellos que se ha secado completamente en el horno. Se adicionan 50 mL de Solkano al matraz. El matraz está equipado con un condensador, septo de caucho, una barra de agitación magnética y equipado con una purga de nitrógeno. Bajo una purga estable de nitrógeno, el matraz se deja purgar durante 10 minutos. A la solución clara, se inyectan 1.389 g (0.00625 moles) (1.31 mL) de IPDI. Después de esto, se adicionan a la solución 0.2 % en peso (aproximadamente 0.1 mL) de catalizador de diacetato de dibutilestaño . De manera alternativa, se pueden adicionar catalizadores de amina terciaria tal como DABCO" en concentraciones típicas de 1 % en peso. La solución se calienta a 50°C y se deja al reflujo durante 2 horas bajo una purga lenta constante de nitrógeno (una burbuja cada segundo en el burbujeador) . La solución clara, se inyectan 1.9395 g (0.0125) (1.77 mL) de EIM y la solución se deja a reflujo a 50°C durante 2 horas adicionales bajo una purga lenta y constante de nitrógeno. La reacción se quita del calor y se adicionan 25 mL de solkano para diluir adicionalmente la solución. Se prepara una columna instantánea usando alúmina neutral (el propósito de la columna instantánea es remover el catalizador residual y cualquier EIM o IPDI sin reaccionar) . La columna es típicamente de 24 mm de diámetro y está rellena con aproximadamente 15 cm de alúmina. La alúmina se humecta primero al correr aproximadamente 50 mL de Solkano hasta que empieza a gotear de la columna. La solución diluida de reacción entonces se hace pasar a través de la columna bajo una ligera presión de nitrógeno. A la solución purificada, se adicionan 0.5 g (0.1-1.0 % en peso con relación a ZDOL) de fotoiniciador (los fotoiniciadores particularmente útiles incluyen: 1-hidroxiciclohexil-fenil-cetona, dietoxiacetofenona, y dimetoxi-fenilacetofenona) y se agita hasta que s-e disuelve completamente. La mayoría del Solkano se remueve de la solución mediante rotoevaporación. Las cantidades traza restantes se remueven al colocar el matraz bajo vacío durante 3 horas en tanto que se agita. La solución clara se volverá una mezcla turbia conforme se fraccione el fotoiniciador inmiscible. El método asegura que se disuelva la cantidad máxima de fotoiniciador en el aceite de PFPE. Finalmente, se hace pasar el aceite turbio a través de un filtro de poli (éter-sulfona) de 0.22 µp?. Se recolecta un aceite viscoso, blanco como agua, claro, en el fondo del recipiente de filtración por vacío. 15.3 Síntesis de PFPE-Diisocianato HO-CHj-CFiO-f-CFjCFjOH-CFjO-JCFf Solkano Mn Diacetato de dibutilestaño 50°C, 2 horas PFPE-diisocianato extendido en cadena Primeramente, se miden 50 g (0.0125 moles) de ZDOL 4000 y se adicionan a un matraz de fondo redondo de 250 mL -de tres cuellos que se ha secado completamente en el horno. Se adicionan al matraz 50 mL de Solkano. El matraz está equipado con un condensador, septo de caucho, una barra de agitación magnética y equipado con una purga de nitrógeno. Bajo una purga estable de nitrógeno, el matraz se deja purgar durante 10 minutos. A la solución clara, se inyectan 4.167 g (0.01875 moles) (3.93 mL) de IPDI. Después de esto, se adicionan a la solución 0.2 % en peso (aproximadamente 0.1 mL) de catalizador de diacetato de dibutilestaño . De manera alternativa, se pueden usar catalizadores de amina terciaria tal como DABCO" en concentraciones típicas de 1 % en peso. La solución se calienta a 50°C y se deja a reflujo durante 2 horas bajo una purga lenta y constante de nitrógeno. La reacción se juita del calor y se inyectan 25 mL de Solkano para diluir adicionalmente la solución. Se prepara una columna instantánea usando alúmina neutral (el propósito de la columna instantánea es remover el catalizador residual y cualquier IPDI sin reaccionar) . La columna es típicamente de 24 mm de diámetro y se rellena con aproximadamente 15 cm de alúmina. La alúmina se humecta primero al correr aproximadamente 50 mL de Solkano hasta que empieza a gotear de la columna. La solución de reacción diluida entonces se hace pasar a través de la columna bajo ligera presión de nitrógeno. Una vez que toda la solución se ha corrido, se hacen pasar 50 mL de Solkano a través de la columna para recolectar el producto residual. Para impedir la exposición a humedad, el matraz de recolección se sella a la columna usando parafina. La mayoría del Solkano se remueve de la solución mediante rotoevaporación. Las cantidades traza restantes se remueven al colocar el matraz bajo vacío durante 3 horas en tanto que se agita. El producto final es un aceite viscoso claro y se debe almacenar bajo vacío en un desecador. 15.4 Síntesis de PFPE-triol Primeramente, se miden 50 g (0.033 moles) de fluorolink-D (solvay solexis) y se adiciona un matraz de fondo redondo de 250 mL de tres cuellos que se ha secado completamente en un horno. Se adicional al matraz 50 mL de Solkano. El matraz está equipado con un condensador, septo de caucho, barra de agitación magnética, y equipado con una purga de nitrógeno. Bajo una purga constante de nitrógeno, se deja que el matraz se purgue durante 10 minutos . A la solución clara, se inyectan 5.6 g (0.0112 moles) de Desmodur^ N3600 (Bayer disuelto en 10 mL de de Solkano. Después de esto, se adiciona a la solución 0.2 % en peso (aproximadamente 0.1 mL) de catalizador de diacetato de dibutilestaño . De manera alternativa, se pueden usar catalizadores de amina terciaria tal como DABCO" en concentraciones típicas de 1 % en peso. La solución se calienta a 50°C y se deja a reflujo durante 2 horas bajo una purga lenta y constante de nitrógeno. La reacción se quita del calor y se inyectan 25 mL de Solkano para diluir adicionalmente la solución. Se prepara una columna instantánea usando alúmina neutral (el propósito de la columna instantánea es remover catalizador residual y cualquier Desmodur sin reaccionar) . La columna es típicamente de 24 mm de diámetro y se rellena con aproximadamente 15 cm de alúmina. La alúmina se humecta primero al correr aproximadamente 50 mL de Solkano hasta que empieza a gotear de la columna. La solución de reacción diluida entonces se hace pasar a través de la columna bajo ligera presión de nitrógeno. Una vez que se ha corrido toda la solución, se hacen pasar 50 mL de Solkano a través de la columna para recolectar el producto residual . La mayoría del Solkano se remueve de la solución mediante rotoevaporación. Las cantidades traza restantes se remueven al colocar el matraz bajo vacío durante 3 horas en tanto que se agita. El producto final es un aceite viscoso, blanco como agua, claro.

Ejemplo 16 Fabricación de Dispositivos de Materiales Sintetizados en Ejemplos 15.2, 15.3 y 15.4 Este ejemplo describe la fabricación de chips microfluídicos de los polímeros sintetizados en la presente. A una jeringa de 20 mL se adicionó lo siguiente: 20 g del material sintetizado en el Ejemplo 15.2 (material 2), 2 g del material sintetizado en el Ejemplo 15.4 (material 4), y 18.0 g del material sintetizado en el Ejemplo 15.3 (Material 3) . Los materiales se mezclaron completamente y se desgasificaron en un horno al vacío. La mezcla se depositó sobre plantilla de original con patrones a un espesor de 5 mm. De manera separada, una gota de los líquidos mezclados se revistió giratoriamente a 1000 rpm. Ambas capas se curaron en una cámara de UV a 365 mW/cm2 durante 10 minutos bajo nitrógeno. La capa de 5 mm de grueso se desprendió de la plantilla principal y se perforaron agujeros de entrada/salida. La capa se selló a la capa plana curada y se dejó hornear a 130°C durante 2 horas, formando una unión adhesiva entre las capas. Se pueden formar chips de múltiples capas por revestimiento giratorio de materiales frescos sobre las obleas con patrones y curación UV como se describe anteriormente. Se pueden alinear las capas gruesas en la parte superior de las nuevas capas y calentar para formar una unión adhesiva. Las capas entonces se pueden desprender conjuntamente y realinear a la siguiente capa. Este proceso se repite para cada capa consecutiva con muy fuerte adhesión. Se entenderá que se pueden hacer varios cambios de la materia actualmente descrita sin apartarse del alcance de la materia actualmente descrita. Adicionalmente, la descripción anterior es para el propósito de ilustración únicamente y no para el propósito de limitación. Se hace constar que con relación a esta fecha, el mejor método conocido por la solicitante para llevar a la práctica la citada invención, es el que resulta claro de la presente descripción de la invención.

Claims (1)

1. REIVINDICACIONES Habiéndose descrito la invención como antecede, se reclama como propiedad lo contenido en las siguientes reivindicaciones : 1. Composiciones de nanopartículas , caracterizadas porque comprende: una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde, en donde la partícula es menor de aproximadamente 100 um en una dimensión más ancha. 2. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende un material biocompatible . 3. Composición de conformidad con la reivindicación 2, caracterizada porque el material biocompatible se selecciona del grupo que consiste de un poli (etilenglicol ) , un poli (ácido láctico), un poli (ácido láctico-co-ácido glicolico) , una lactosa, una fosfatidilcolina, un poliláctido, un poliglicólido, una hidroxipropilcelulosa, una cera, un poliéster, un polianhídrido, una poliamida, un polímero basado en fósforo, un poli (cianoacrilato) , un poliuretano, un poliortoéster , un polidihidropirano, un poliacetal, un polímero biodegradable, un polipéptido, un hidrogel, un carbohidrato y combinaciones de los mismos . 4. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porgue la partícula comprende un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, un ligador. 5. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula incluye un agente terapéutico y un componente biocompatible reticulado. 6. Composición de conformidad con la reivindicación 5, caracterizada porque el componente biocompatible reticulado se configura para bioreabsorberse durante un tiempo predeterminado. 7. Composición de conformidad con la reivindicación 6, caracterizada porque el reticulador bioreabsorbible comprende polímeros funcionalizados con un grupo disulfuro. 8. Composición de conformidad con la reivindicación 5, caracterizada porque el componente biocompatible tiene una densidad de reticulación de menos de aproximadamente 0.50. 9. Composición de conformidad con la reivindicación 5, caracterizada porque el componente biocompatible tiene una densidad de reticulación de más de aproximadamente 0.50. 10. Composición de conformidad con la reivindicación 5, caracterizada porque el componente biocompatible se funcionaliza con un grupo no biodegradable. 11. Composición de -conformidad con la reivindicación 5, caracterizada porque el componente biocompatible se funcionaliza con un grupo biodegradable. 12. Composición de conformidad con la reivindicación 11, caracterizada porque el grupo biodegradable es un grupo disulfuro. 13. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende una carga predeterminada. 14. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende un potencial zeta predeterminado . 15. Composición de conformidad con la reivindicación 2, caracterizada porque el material biocompatible tiene una densidad de reticulación de menos de aproximadamente 0.50. 16. Composición de conformidad con la reivindicación 2, caracterizada porque el material biocompatible tiene una densidad de reticulación de menos de aproximadamente 0.50. 17. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende un material bioreabsorbible . 18. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula se configura para reaccionar a un estímulo. 19. Composición de conformidad con la reivindicación 18, caracterizada porque la partícula se configura para degradarse al menos parcialmente de la reacción con el estímulo. 20. Composición de conformidad con la reivindicación 18, caracterizada porque el estímulo comprende un ambiente reductor, un pH predeterminado, un subproducto celular, o un componente celular. 21. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula incluye un material magnético. 22. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende una partícula cargada, un electreto polimérico, un agente terapéutico, un vector génico no viral, una partícula viral, una sustancia polimorfa, o un polímero súper absorbente. 23. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el agente terapéutico se selecciona del grupo que consiste de un fármaco, un agente, un modificador, un regulador, una terapia, un tratamiento y combinaciones de los mismos . 24. Composición de conformidad con la reivindicación 23, caracterizada porque el agente terapéutico se selecciona del grupo que consiste de un producto biológico, un ligando, un oligopéptido, una enzima, un ADN, un oligonucleótido, ARN, ARNsi , un tratamiento de cáncer, un tratamiento viral, un tratamiento bacteriano, un tratamiento autoinmunitario, un tratamiento fungoideo, un agente psicoterapéutico, un fármaco cardiovascular, un modificador sanguíneo, un fármaco gastrointestinal, un fármaco respiratorio, un fármaco antiartrítico, un fármaco de diabetes, un anticonvulsivo, un regulador de metabolismo óseo, un fármaco de esclerosis múltiple, una hormona, un agente de tracto urinario, un inmunosupresor , un producto oftálmico, una vacuna, un sedante, una terapia de disfunción sexual, un anestésico, un fármaco de migraña, un agente de infertilidad, un producto de control de peso, y combinaciones de los mismos. 25. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el producto de diagnostico se selecciona del grupo que consiste de un agente de formación de imágenes, un agente de rayos x, un agente RI, un agente de ultrasonido, un agente nuclear, un radiotrazador, un radiofarmacéutico, un isótopo, un agente de contraste, una marca fluorescente, una marca radiomarcada, y combinaciones de los mismos. 26. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la forma de la partícula se selecciona del grupo que consiste de sustancialmente no esférica, sustancialmente viral, sustancialmente bacteriana, sustancialmente celular, sustancialmente una varilla, sustancialmente quiral y combinaciones de los mismos . 27. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la forma de la partícula se selecciona del grupo que consiste de sustancialmente forma de varilla en donde la varilla es menos de aproximadamente 200 nm de diámetro. 28. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la forma de la partícula se selecciona del grupo que consiste de sustancialmente en forma de varilla en donde la varilla es menos de aproximadamente 2 nm de diámetro. 29. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende además un enlace carbono-carbono . 30. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el agente terapéutico o agente de diagnóstico ligador se asocia con la partícula. 31. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el agente terapéutico o agente de diagnóstico o ligador se acoplan físicamente con la partícula . 32. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el agente terapéutico o agente de diagnóstico o ligador se acopla químicamente con la partícula . 33. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el agente terapéutico o agente de diagnostico o ligador se abarca sustancialmente dentro de la partícula. 34. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el agente terapéutico o agente de diagnóstico o ligador se abarca al menos parcialmente dentro de la partícula. 35. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el agente terapéutico o de diagnóstico se acopla con el exterior de la partícula. 36. Composición de conformidad con la reivindicación 4, caracterizada porque el ligador se selecciona del grupo que consiste de sulfuros, aminas, ácidos carboxílieos , cloruros ácidos, alcoholes, alquenos, haluros de alquenos, haluros de alquilo, isocianatos, imidazoles, haluros, azidas, grupos éster de N-hidroxisuccimidilo (NHS) , acetilenos, ácido dietilentriaminapentaacético (DPTA) y combinaciones de los mismos. 37. Composición de conformidad con la reivindicación 36, caracterizada porque además comprende una molécula modificadora acoplada químicamente con el ligador. 38. Composición de conformidad con la reivindicación 37, caracterizada porque la molécula modificadora se selecciona del grupo que consiste de tintes, marcas fluorescentes, marcas radiornarcadas , agentes de contraste, ligandos, ligandos de selección de objetivo, péptidos, aptámeros, anticuerpos, agentes farmacéuticos, proteínas, ADN, ARN, AR si y fragmentos de los mismos. 39. Composición de conformidad con la reivindicación 18, caracterizada porque el estímulo se selecciona del grupo que consiste de pH, radiación, oxidación, reducción, concentración iónica, temperatura, campos eléctrico o magnético alternante, fuerzas acústicas, fuerzas ultrasónicas, tiempo y combinaciones de los mismos. 40. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque además comprende una pluralidad de partículas, en donde las partículas tienen una masa sustancialmente uniforme. 41. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque además comprende una pluralidad de partículas, en donde las partículas están sustancialmente monodispersas. 42. Composición de conformidad con la reivindicación 41, caracterizada porque las partículas están sustancialmente monodispersas en tamaño o forma. 43. Composición de conformidad con la reivindicación 41, caracterizada porque las partículas están sustancialmente monodispersas en el área superficial. 44. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque además comprende una pluralidad de partículas que tiene una distribución normalizada de tamaño de entre aproximadamente 0.80 y aproximadamente 1.20. 45. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque además comprende una pluralidad de partículas que tienen una distribución normalizada de tamaño de entre aproximadamente 0.90 y aproximadamente 1.10. 46. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque además comprende una pluralidad de partículas que tienen una distribución normalizada de tamaño de entre aproximadamente 0.95 y aproximadamente 1.05. 47. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque además comprende una pluralidad de partículas que tienen una distribución normalizada de tamaño de entre aproximadamente 0.99 y aproximadamente 1.01. 48. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque además comprende una pluralidad de partículas que tienen una distribución normalizada de tamaño de entre aproximadamente 0.999 y aproximadamente 1.001. 49. Composición de conformidad con las reivindicaciones 44 a 48, caracterizada porque la distribución normalizada de tamaño se selecciona del grupo que consiste de un tamaño lineal, un volumen, una forma tridimensional, área superficial, masa y forma. 50. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque además comprende una pluralidad de partículas en donde las partículas están monodispersa en área superficial, volumen, masa, forma tridimensional o una dimensión lineal más ancha. 51. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula tiene una dimensión más ancha de menos de aproximadamente 50 um. 52. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula tiene una dimensión más ancha de entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 10 micrones . 53. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula tiene una dimensión más ancha de entre aproximadamente 5 nm y aproximadamente 1 micron. 54. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la dimensión es una dimensión en sección transversal. 55. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porgue la dimensión es una dimensión circunferencial . 56. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende una composición orgánica. 57. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende un polímero. 58. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende una composición orgánica. 59. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula se configura del grupo que consiste de sustancialmente un triangulo, sustancialmente plana que tiene un espesor de aproximadamente 2 nm, sustancialmente un disco plano que tiene un espesor de entre aproximadamente 2 nm y aproximadamente 200 nm, y sustancialmente en forma de búmeran. 60. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula está sustancialmente revestida con un revestimiento. 61. Composición de conformidad con la reivindicación 60, caracterizada porque el revestimiento incluye un azúcar. 62. Composición de conformidad con la reivindicación 61, caracterizada porque el azúcar se selecciona del grupo que consiste de glucosa, sacarosa, maltosa, derivados de carbohidrato y combinaciones de los mismos . 63. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula comprende 18F. 64. Composición de conformidad con la reivindicación 22, caracterizada porque el polímero súper absorbente se selecciona del grupo que consiste de poliacrilatos , ácido poliacrílico, HEMA, acrilatos neutralizados, acrilato de sodio, acrilato de amonio, metacrilatos , poliacrilamida, éteres de celulosa, poli (óxido de etileno) , poli (alcohol vinílico) , polisuccinimidas , polímeros de poliacrilonitrilo, combinaciones de los polímeros anteriores mezclados o reticulados con untamente, combinaciones de los polímeros anteriores que tienen monómeros co-polimerizados con monómeros y otro polímero, combinaciones de los polímeros anteriores con almidón, y combinaciones de los mismos. 65. Composición de conformidad con la reivindicación 1, caracterizada porque la partícula tiene una relación de área superficial a volumen mayor que aquella de una esfera. 66. Partícula, caracterizada porque comprende: una composición orgánica que comprende una forma sustancialmente predeterminada que corresponde sustancialmente a un molde, en donde la forma es menos de aproximadamente 100 um en una dimensión más ancha. 67. Partícula de conformidad con la reivindicación 66, caracterizada porque la composición orgánica comprende además un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, o un ligador . 68. Partícula de conformidad con la reivindicación 67, caracterizada porque la composición orgánica comprende un material biocompatible . 69. Partícula de conformidad con la reivindicación 67, caracterizada porque el agente terapéutico se selecciona del grupo que consiste un fármaco, un producto biológico, un liando, un oligopéptido, un tratamiento de cáncer, un tratamiento viral, un tratamiento bacteriano, un tratamiento autoinmunitario, un tratamiento fungoideo, un agente psicoterapéutico, un fármaco cardiovascular, un modificador sanguíneo, un fármaco gastrointestinal, un fármaco respiratorio, un fármaco antiartrítico, un fármaco de diabetes, un anticonvulsivo, un regulador de metabolismo óseo, un fármaco de esclerosis múltiple, una hormona, un agente de tracto urinario, un inmunosupresor, un producto oftálmico, una vacuna, un sedante, una terapia de disfunción sexual, un anestésico, un fármaco de migraña, un agente de infertilidad, un producto de control de peso y combinaciones de los mismos . 70. Nanopartícula, caracterizada porque comprende: una partícula fabricada de un material líquido en una depresión de un molde, en donde un ángulo de contacto entre el material líquido y el molde se configura tal que el líquido rellena sustancialmente de forma pasiva la depresión, en donde la partícula tiene una dimensión más ancha de menos de aproximadamente 250 micrones. 71. Partícula de conformidad con la reivindicación 70, caracterizada porque el material líquido forma un menisco con un borde de la depresión. 72. Partícula de conformidad con la reivindicación 71, caracterizada porque una porción de la partícula se configura con un lente definido por el menisco. 73. Nanopartícula, caracterizada porque comprende: una partícula que refleja una forma de una depresión de un molde, en donde el molde comprende un fluoropolímero y en donde la partícula tiene una dimensión más grande de menos de aproximadamente 100 micrones. 74. Nanopartícula, caracterizada porque comprende: una partícula preparada por un proceso que comprende : proporcionar una plantilla, en donde la plantilla define una depresión entre aproximadamente 1 nanometros y aproximadamente 100 micrones en dimensión promedio; rellenar la depresión; y endurecer la sustancia en la depresión tal que la partícula se moldea dentro de la depresión. 75. Nanopartícula, caracterizada porque comprende: una partícula fabricada de un material líquido en un molde, en donde el líquido humecta parcialmente el molde, y en donde la partícula es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión. 76. Nanopartícula, caracterizada porque comprende: una partícula fabricada de un material líquido en un molde, en donde el líquido no humecta el molde, y en donde la partícula es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión. 77. Método para elaborar una nanopartícula, caracterizado porque comprende: colocar un material que comprende un líquido a una depresión en un molde de fluoropolímero, en donde la depresión es menos de aproximadamente 100 um en una dimensión más ancha; endurecer el material para hacer una partícula; y remover la partícula de la depresión. 78. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque la partícula incluye un agente terapéutico seleccionado del grupo que consiste de: un fármaco, un producto biológico, un tratamiento de cáncer, un tratamiento viral, un tratamiento bacteriano, un tratamiento auto-inmunitario, un tratamiento fungoideo, una enzima, una proteína, una secuencia de nucleótidos, un antígeno, un anticuerpo, un producto de diagnóstico y combinaciones de los mismos . 79. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende, antes del paso de colocación, adicionar un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, o un grupo de enlace con el material. 80. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende, después del paso de colocación, dar por infusión un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, o un grupo de enlace en el material. 81. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende, después del paso de endurecimiento, dar por infusión un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, o un grupo de enlace en el material. 82. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende, después del paso de remoción, dar por infusión un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, o un grupo de enlace en el material. 83. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende, después del paso de endurecimiento, unir un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, o un grupo de enlace con una superficie del material. 84. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende cargar una cantidad predeterminada de un agente terapéutico, un agente de diagnóstico, un grupo de enlace, o una combinación de los mismos en la partícula. 85. Método de conformidad con la reivindicación 79 caracterizado porque el agente terapéutico, el agente de diagnóstico o el grupo de enlace no se modifica antes del mezclado . 86. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque la depresión en menos de aproximadamente 10 um en la dimensión más ancha. 87. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque la depresión está entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 1 micrón en la dimensión más ancha. 88. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque la depresión está entre aproximadamente 1 nm y 500 nm a la dimensión más ancha. 89. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque la depresión está entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 150 nm en la dimensión más ancha. 90. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque la partícula tiene una forma seleccionada del grupo que consiste de sustancialmente no esférica, sustancialmente en forma viral, sustancialmente en forma bacteriana, sustancialmente en forma celular, sustancialmente en forma de varilla, sustancialmente en forma quiral, sustancialmente en triangulo, sustancialmente en forma de disco plano, sustancialmente en forma de búmeran y combinaciones de los mismos . 91. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque la varilla es menos de aproximadamente 200 nm de diámetro. 92. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque el disco plano tiene un espesor de aproximadamente 2 nm. 93. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque el disco plano tiene un espesor de menos de aproximadamente 200 nm. 94. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende revestir la partícula. 95. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque el molde de fluoropolímero se forma de un material seleccionado del grupo que consiste de perfluoropoliéter, perfluoropoliéter fotocurable, termofluoropoliéter térmicamente curable, y una combinación de perfluoropoliéter fotocurable y perfluoropoliéter térmicamente curable . 96. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende incluir un agente terapéutico con el material . 97. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende incluir un agente de diagnóstico con el material. 98. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque, además comprende tratar una célula con la partícula. 99. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque además comprende antes del paso de endurecimiento, remover el material en exceso del molde tal que sustancialmente todo el material restante reciba sustancialmente dentro de la depresión. 100. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque el molde comprende un material polimérico de baja energía superficial. 101. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque el molde se forma de un material seleccionado del grupo que consiste de un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastómero termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero fluorado u oligómero fluorado que se pueden polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. 102. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque el molde comprende perfluoropoliéter . 103. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque el material comprende una solución que contiene un fármaco. 104. Método de conformidad con la reivindicación 77, caracterizado porque el endurecimiento es evaporación. 105. Método para elaborar una nanopartícula, caracterizado porque comprende: colocar un material en una depresión definida en un molde de fluoropolimero; tratar el material en la depresión para formar una partícula; y remover la partícula de la depresión. 106. Método de conformidad con la reivindicación 105, caracterizado porque el fluoropolimero comprende una baja energía superficial . 107. Método de conformidad con la reivindicación 106, caracterizado porque el perfluoropolimero comprende un perfluoropoliéter . 108. Método de conformidad con la reivindicación 105, caracterizado porque el tratamiento es evaporación. 109. Método de conformidad con la reivindicación 105, caracterizado porque la depresión es menos de 500 micrones en una dimensión más grande. 110. Método de moldeo abierto, caracterizado porque comprende : proporcionar una plantilla, en donde la plantilla incluye una depresión de menos de aproximadamente 100 micrones en dimensión promedio y en donde la plantilla comprende un material polimérico de baja energía superficial; distribuir una sustancia que comprende un líquido en la depresión; y endurecer la sustancia en la depresión tal que una partícula se moldee dentro de la depresión. 111. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque además comprende después del paso de distribución, aplicar una fuerza a la plantilla para remover la sustancia no contenida dentro de la depresión. 112. Método de conformidad con la reivindicación 111, caracterizado porque la fuerza se aplica con un sustrato que tiene una superficie configurada para acoplar la plantilla. 113. Método de conformidad con la reivindicación 111, caracterizado porque la fuerza aplicada a la plantilla es una presión manual. 11 . Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque comprende además hacer pasar una cuchilla a través de la plantilla para remover la sustancia no contenida dentro de la depresión. 115. Método de conformidad con la reivindicación A3€ 114, caracterizado porque la cuchilla se selecciona del grupo que consiste de una cuchilla metálica, una cuchilla de caucho, una cuchilla a base de silicio, una cuchilla a base de polímero, una cuchilla de aire, y combinaciones de las mismas. 116. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la plantilla se selecciona del grupo que consiste un cilindro sustancialmente girable, una banda transportadora, un proceso de rodillo a rodillo, un proceso por lotes y un proceso continuo. 117. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la sustancia en la depresión se endurece por evaporación. 118. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la sustancia en la depresión se endurece por un proceso químico. 119. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la sustancia en la depresión se endurece al tratar la sustancia con luz UV. 120. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la sustancia en la depresión se endurece por un cambio de temperatura. 121. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la sustancia en la depresión se endurece al tratar la sustancia con energía térmi-ca. 122. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la sustancia en la depresión se endurece por evaporación de una sustancia portadora. 123. Método de conformidad con la reivindicación 112, caracterizado porque comprende además dejar la sustancia en su posición en la plantilla para reducir la evaporación de la sustancia de la depresión. 124. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque además comprende recolectar la partícula de la depresión después de endurecer la sustancia. 125. Método de conformidad con la reivindicación 124, caracterizado porque la recolección comprende aplicar un artículo que tiene una afinidad para las partículas que es mayor que una afinidad entre las partículas y la plantilla. 126. Método de conformidad con la reivindicación 125, caracterizado porque el paso de recolección comprende poner en contacto la partícula con una sustancia adhesiva. 127. Método de conformidad con la reivindicación 126, caracterizado porque la adhesión entre la partícula y la sustancia adhesiva es mayor que una fuerza adhesiva entre la partícula y la plantilla. 128. Método de conformidad con la reivindicación 125, caracterizado porque el artículo de recolección se selecciona de uno o más del grupo que consiste de adhesivos solubles en agua, adhesivos solubles en acetona, y adhesivos solubles en solventes orgánicos. 129. Método de conformidad con la reivindicación 125, caracterizado porque el articulo de recolección se selecciona de uno o más del grupo que consiste agua, solventes orgánicos, carbohidratos, epoxies, ceras, alcoholes polivinílieos , poli (vinil-pirrolidonas ) , poli (ácido acrílico) , poli (butil-acrilatos ) , policiano-acrilatos , celulosas, gelatinas, poli (hidroxietil-metacrilatos ) , y poli(metil-metacrilato) . 130. Método de conformidad con la reivindicación 124, caracterizado porque además comprende purificar la partícula después de recolectar la partícula. 131. Método de conformidad con la reivindicación 130 caracterizado porque la purificación de la partícula comprende purificar la partícula de una sustancia de recolección. 132. Método de conformidad con la reivindicación 130, caracterizado porque la purificación se selecciona del grupo que consiste centrifugación, separación, cromatografía, vibración, gravedad, diálisis, filtración, tamizado, electroforesis , corriente de gas, magnetismo, separación electrostática, combinaciones de los mismos, y similares. 133. Método de conformidad con la reivindicación 124, caracterizado porque la partícula se recolecta por centrifugación, disolución, vibración, ultrasonido, megasonido, gravedad, flexión de la plantilla, succión, atracción electrostática, repulsión electrostática, magnetismo, manipulación física de la plantilla, combinaciones de los mismos, y similares. 134 . Método de conformidad con la reivindicación 110 , caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial es sustancialmente resistente a solventes . 135 . Método de conformidad con la reivindicación 134 , caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial tiene una energía superficial de menos de aproximadamente 23 dinas/cm. 136 . Método de conformidad con la reivindicación 134 , caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial tiene una energía superficial de menos de aproximadamente 19 dinas/cm. 137 . Método de conformidad con la reivindicación 134 , caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial tiene una energía superficial de menos de aproximadamente 15 dinas/cm. 138 . Método de conformidad con la reivindicación 134 , caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial tiene una energía superficial menor de aproximadamente 12 dinas/cm. 139 . Método de conformidad con la reivindicación 134 , caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial tiene una energía superficial menor de aproximadamente 8 dinas/cm. 140. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial para la plantilla compren de un material elastomérico resistente al solventes. 141. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial para la plantilla se selecciona del grupo que consiste de un material de perfluoropoliéter, un material de silicón, un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastómero termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. 142. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la sustancia que se va a moldear se selecciona del grupo que consiste de un polímero, una solución, un monómero, una pluralidad de monómeros, un iniciador de polimerización, un catalizador de polimerización, un precursor inorgánico, un precursor metálico, un agente farmacéutico, una marca, un material magnético, un material paramagnético, un ligando, un péptido de penetración celular, un porógeno, un agente tensioactivo, una pluralidad de líquidos invisibles, un solvente, y una especie cargada. 143. Método de conformidad con la reivindicación 110, caracterizado porque la partícula comprende polímeros orgánicos, polímeros súper absorbentes, partículas cargadas, electretos poliméricos (poli (fluoruro de vinilideno) , etileno-propileno fluorado con Teflón, politetrafluoroetileno) , agentes terapéuticos, fármacos, vectores génicos no virales, ADN, AR , ARNi, partículas virales, sustancias polimorfas, combinaciones de los mismos, y similares. 144. Método para cargar una depresión de nano-escala, caracterizado porque comprende: proporcionar una plantilla con patrones que definen una depresión de nano-escala; sumergir la plantilla con patrones en una sustancia que se va a moldear en la depresión de nano-escala; permitir que la sustancia entre a la depresión; y remover la plantilla con patrones de la sustancia. 145. Método de conformidad con la reivindicación 144, caracterizado porque la plantilla comprende un material polimérico de baja energía superficial. 146. Método de conformidad con la reivindicación 144, caracterizado porque la plantilla comprende PFPE. 147. Método para rellenar una depresión de nano-escala, caracterizado porque comprende: proporcionar una plantilla, en donde la plantilla define una depresión de nano-escala; colocar una sustancia que se va a moldear en la depresión de nano-escala sobre la plantilla; y permitir que la sustancia entre a la depresión de nano-escala . 148. Método de conformidad con la reivindicación 147, caracterizado porque la plantilla comprende un material polimérico de baja energía superficial. 149. Método de conformidad con la reivindicación 147 caracterizado porque la plantilla comprende PFPE. 150. Método para modelar estructuras de nano-escala, caracterizado porque comprende: configurar un ángulo de contacto entre un líquido que se va a moldear y un molde de plantilla para que sea un ángulo predeterminado tal que el líquido rellene pasivamente una depresión de nano-escala definida en el molde de plantilla . 151. Método de conformidad con la reivindicación 150, caracterizado porque el ángulo de contacto se modifica al aplicar un voltaje a líquido. 152. Método de conformidad con la reivindicación 150, caracterizado porque el ángulo de contacto se modifica al aplicar un voltaje a la plantilla. 153. Método de conformidad con la reivindicación 150, caracterizado porque el líquido forma un menisco con una porción de la depresión de nano-escala. 154. Método de conformidad con la reivindicación 153, caracterizado porque una porción de una partícula fabricada de la depresión de nano-escala forma un lente como resultado del menisco. 155. Método para formar una nano-partícula, caracterizado porque comprende: introducir una primera sustancia que se va a moldear en una depresión de nano-escala de una plantilla; evaporar un componente de solvente de la primera sustancia; y curar la primera sustancia en la depresión de nano-escala para formar una partícula. 156. Método de conformidad con la reivindicación 155, caracterizado porque además comprende: adicionar una segunda sustancia a la depresión de nano-escala después de la evaporación y curación de la primera sustancia tal que se forme una partícula que tiene dos composiciones . 157. Método de conformidad con la reivindicación 156, caracterizado porque la plantilla comprende un material polimérico de baja energía superficial. 158. Método de conformidad con la reivindicación 157, caracterizado porque la plantilla comprende PFPE. 159. Método para rellenar una depresión de nano-escala, caracterizado porque comprende: proporcionar una plantilla, en donde la plantilla define una depresión en nano-escala; colocar una sustancia que se va a moldear en la plantilla; y aplicar un voltaje a través de una sustancia para ayudar a la sustancia a entrar a la depresión de nano-escala. 160. Método para formar una nano-partícula, caracterizado porque comprende: configurar una plantilla con una permeabilidad predeterminada, en donde la plantilla define una depresión de nano-escala; someter la plantilla con un sustrato que tiene una permeabilidad predeterminada; permitir que la sustancia entre a la depresión de nano-escala; y endurecer la sustancia en la depresión de nano-escala . 161. Método para tratar un paciente, caracterizado porque comprende : proporcionar una plantilla con patrones que definen una depresión, en donde la depresión es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más ancha, y en donde la plantilla con patrones comprende un material polimérico de baja energía superficial; aplicar una depresión de material tal que el material entre a la depresión; endurecer el material para formar una nano-particula; remover la nano-part cula de la depresión; y administrar una cantidad terapéuticamente efectiva de la nano-particula a un paciente. 162. Método de conformidad con la reivindicación 161, caracterizado porque la nano-particula trata un paciente al interactuar con una membrana celular . 163. Método de conformidad con la reivindicación 161, caracterizado porque la nano-particula trata un paciente al experimentar captación intracelular . 164. Método de conformidad con la reivindicación 161, caracterizado porque la nano-particula induce una respuesta inmunitaria. 165. Método de conformidad con la reivindicación 161, caracterizado porque la nano-particula interactúa con un receptor celular. 166. Método de conformidad con la reivindicación 161, caracterizado porque el material polimérico de baja energía superficial comprende perfluoropoliéter . 167. Método de tratamiento, caracterizado porque comprende : administrar una cantidad terapéuticamente efectiva a una partícula que tiene una forma predeterminada y una dimensión más ancha de menos de aproximadamente 100 um a un paciente. 168. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula experimenta captación intracelular . 169. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque comprende además un producto terapéutico o de diagnóstico abarcado al menos parcialmente dentro de la partícula. 170. Método de conformidad con la reivindicación 169, caracterizado porque el producto terapéutico o de diagnostico se acopla al exterior de la partícula. 171. Método de conformidad con la reivindicación 169, caracterizado porque el producto terapéutico se selecciona del grupo que consiste un fármaco, un producto biológico, un tratamiento anti-cáncer, un tratamiento antiviral, un tratamiento anti-bacteriano, un tratamiento auto-inmunitario, un tratamiento fungoideo, y combinaciones de los mismos . 172. Método de conformidad con la reivindicación 169, caracterizado porque el producto de diagnóstico se selecciona del grupo que consiste un agente de formación de imágenes, un agente de rayos x, un agente de MRI, un agente de ultrasonido, un agente nuclear, un radiotrazador , un radiofarmacéutico, un isótopo, un agente de contraste, una marca fluorescente, una marca radiomarcada, y combinaciones de los mismos . 173. Método de conformidad con la reivindicación 169, caracterizado porque el producto terapéutico se selecciona del grupo que consiste un agente psicoterapéutico, un fármaco cardiovascular, un modificador sanguíneo, un fármaco gastrointestinal, un fármaco respiratorio, un fármaco antiartrítico, un fármaco de diabetes, un anticonvulsivo, un regulador de metabolismo óseo, un fármaco de esclerosis múltiple, una hormona, un agente de tracto urinario, un inmunosupresor, un producto oftálmico, una vacuna, un sedante, una terapia de disfunción sexual, un anestésico, un fármaco de migraña, un agente de infertilidad, un producto de control de peso y combinaciones de los mismos. 174. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula es menos de aproximadamente 10 p en una dimensión. 175. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula está entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 1 micrón en una dimensión. 176. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula está entre aproximadamente 1 nm y aproximadamente 200 nm en una dimensión. 177. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula es sustancialmente no esférica, sustancialmente de forma viral, sustancialmente de forma bacteriana, sustancialmente en forma de proteína, sustancialmente en forma celular, sustancialmente en forma de varilla, sustancialmente en forma quiral, sustancialmente un triangulo, sustancialmente un disco plano con un espesor de aproximadamente 2 nm, sustancialmente un disco plano con un espesor de entre 2 nm y aproximadamente 1 um, y sustancialmente en forma de bumerang. 178. Método de conformidad con la reivindicación 148, caracterizado porque la partícula está sustancialmente en forma de varilla y donde la varilla es menos de aproximadamente 200 nm de diámetro. 179. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula está sustancialmente revestida . 180. Método de conformidad con la reivindicación 179, caracterizado porque el revestimiento incluye un revestimiento basado en carbohidrato. 181. Método de conformidad con la reivindicación 180, caracterizado porque el carbohidrato se selecciona del grupo que consiste glucosa, sacarosa, maltosa, derivados de los mismos, y combinaciones de los mismos. 182. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula incluye un material orgánico. 183. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula se moldea de una plantilla con patrones que comprende un material polimérico de baja energía superficial. 184. Método de conformidad con la reivindicación 167, caracterizado porque la partícula se funcionaliza con un ligando de selección de objetivo. 185. Método para distribuir un tratamiento, caracterizado porque comprende: formar una partícula de un compuesto de tratamiento, la partícula que tiene una forma predeterminada y que es menos de aproximadamente 100 um en una dimensión; y administrar la partícula a una ubicación de la lesión. 186. Método para recolectar una nano-partícula de un artículo, caracterizado porque comprende: proporcionar un artículo que define una depresión, en donde la depresión es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más grande; formar una partícula en la depresión; aplicar, al artículo, un material que tiene una afinidad para la partícula que es mayor que una afinidad entre el artículo y la partícula; y separar el material del artículo en donde el material permanece unido a la partícula. 187. Método de conformidad con la reivindicación 186, caracterizado porque el paso de aplicación comprende tratar el material para incrementar la afinidad del material a la partícula. 188. Método de conformidad con la reivindicación 186, caracterizado porque el paso de separación comprende aplicar una fuerza a al menos uno del artículo, el material o combinaciones de los mismos. 189. Método de conformidad con la reivindicación 187, caracterizado porque el paso de tratamiento comprende enfriar el material. 190. Método de conformidad con la reivindicación 187, caracterizado porque el paso del tratamiento comprende uno del grupo que consiste de endurecimiento del material, modificación química de una superficie de la partícula para incrementar la afinidad entre el material y la partícula, modificación química de una superficie del material para incrementar la afinidad entre la partícula y el material, un tratamiento UV, un tratamiento térmico, y combinaciones de IOS mismos . 191. Método de conformidad con la reivindicación 186, caracterizado porque el artículo comprende un material de baja energía superficial. 192. Método de conformidad con la reivindicación 186, caracterizado porque el articulo comprende un material de perfluoropoliéter . 193. Método de conformidad con la reivindicación 191, caracterizado porque el material de baja energía superficial comprende un material seleccionado del grupo que consiste de un material de fluoroolefina, un material de acrilato, un material de silicón, un material estirénico, un elastomero termoplástico fluorado (TPE) , un fluoropolímero de triazina, un material de perfluorociclobutilo, una resina epoxi fluorada, y un monómero fluorado u oligómero fluorado que se puede polimerizar o reticular por una reacción de polimerización de metátesis. 194. Método de conformidad con la reivindicación 186, caracterizado porque el material se selecciona del grupo que consiste de carbohidratros , epoxies, ceras, alcohol polivinílico, polivinilpirrolidona, polibutil-acrilato, policianos-acrilatos , polimetil-metacrilato, poli (ácido acrilico) , celulosa, gelatina, y combinaciones de los mismos. 195. Método de conformidad con la reivindicación 187, caracterizado porque el paso de tratamiento incluye promover una interacción química entre el material y las partículas . 196. Método de conformidad con la reivindicación 187, caracterizado porque el paso de tratamiento incluye promover una interacción física entre el material y las partículas . 197. Método de conformidad con la reivindicación 196 caracterizado porque la interacción física es un atropamiento físico. 198. Método para modificar una superficie de una nano-partícula, caracterizado porque comprende: proporcionar un artículo que define una depresión y hacer que una partícula se forme en la misma; aplicar a la partícula una solución que contiene grupos modificadores de moléculas; y promover una reacción entre una primera porción de los grupos modificadores de las moléculas y al menos una porción de una superficie de la partícula. 199. Método de conformidad con la reivindicación 198, caracterizado porque en donde una segunda porción de los grupos modificadores de moléculas se deja sin reaccionar. 200. Método de conformidad con la reivindicación 198, caracterizado porque además comprende remover los grupos modificadores sin reaccionar de las moléculas. 201. Método de conformidad con la reivindicación 198, caracterizado porque el grupo modificador de moléculas se une químicamente a la partícula a través de un grupo de e4nlace . 202. Método de conformidad con la reivindicación 201, caracterizado porque el grupo de enlace se selecciona de un grupo que consiste de sulfuros, aminas, ácidos carboxílieos , cloruros de ácido, alcoholes, alquenos, haluros de alquilo, isocianatos, imidazoles, haluros, ácido dietilentriaminapentaacético (DPTA) , azidas, acetilenos, grupo éster de N-hidroxisuccimidilo (NHS) , y combinaciones de los mismos . 203. Método de conformidad con la reivindicación 201, caracterizado porque el grupo modificador se selecciona de un grupo que consiste de tintes, marcas de fluorescencia, marcas radiomarcadas , agentes de contraste, ligandos, péptidos, aptameros, anticuerpos, agentes farmacéuticos, proteínas, ADN, AR , ARNsi, y fragmentos de los mismos. 204. Sistema para recolectar una pluralidad de nano-partícula de un artículo, caracterizado porque comprende: un artículo que define una pluralidad de depresiones en donde las depresiones son menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión y en donde las partículas se forman dentro de las depresiones; un material que tiene una afinidad para las partículas que es mayor que una afinidad entre las partículas y el artículo; un aplicador configurado para separar las partículas del artículo. 205. Método de conformidad con la reivindicación 204, caracterizado porque el artículo comprende un material polimérico de baja energía superficial. 206. Sistema de partículas, caracterizado porque comprende : un sustrato; y una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde, en donde la partícula es menos de aproximadamente 100 um en una dimensión más ancha; en donde la partícula se acopla con el sustrato. 207. Sistema de conformidad con la reivindicación 206, caracterizado porque además comprende una pluralidad de partículas arregladas en dos arreglos dimensionales en el sustrato . 208. Sistema de conformidad con la reivindicación 206, caracterizado porque la partícula comprende además un compuesto activo. 209. Sistema de conformidad con la reivindicación 208, caracterizado porque el componente activo se selecciona del grupo que consiste de un fármaco, un agente, un reactivo, y combinaciones de los mismos. 210. Sistema para modificar al menos una porción de una nano-partícula, caracterizado porque comprende: un sustrato acoplado con una partícula que tiene una dimensión mayor de menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión y se fabrican en un molde; y una solución que tiene un grupo modificador de moléculas ; en donde la solución se configura para promover una reacción entre las moléculas y la partícula en el contacto de al menos una porción de la partícula con la solución. 211. Método para revestimiento, caracterizado porque comprende : suspender una semilla en una solución líquida; depositar la solución líquida que contiene la semilla en una plantilla, en donde la plantilla comprende un material polimérico de baja energía superficial; y endurecer la solución líquida en las depresiones tal que la semilla se revista con la solución líquida endurecida. 212. Identificador, caracterizado porque comprende: una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde, en donde la partícula es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más grande; y en donde la partícula incluye una característica identificadota . 213. Método para elaborar un identificador, caracterizado porque comprende: colocar el material en un molde formado de un material no humectable, de baja energía superficial, en donde el molde es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más grande, y en donde el molde incluye una característica identificadora; curar el material para elaborar una partícula; y remover la partícula del molde. 214. Un artículo seguro, caracterizado porque comprende : un artículo acoplado con un identificador que comprende una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde, en donde la partícula es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más grande, y en donde la partícula incluye una característica identificadora. 215. Método para elaborar un artículo seguro, caracterizado porque comprende: colocar el material en un molde formado de un material no humectable de baja energía superficial, en donde el molde es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más grande, y en donde el molde incluye una característica identificadota; curar el material para hacer una partícula; remover la partícula del molde; y acoplar la partícula con un artículo. 216. Sistema para asegurar un artículo, caracterizado porque comprende: producir un identificador que comprende una partícula que tiene una forma que corresponde a un molde, en donde la partícula es menos de aproximadamente 100 micrones en una dimensión más grande, y en donde la partícula incluye una característica identificadora; incorporar el identificador con un artículo que se va a asegurar; analizar el artículo para detectar y leer la característica identificadota; y comparar la característica identificadora con una característica esperada. 217. Partícula de identificación, caracterizada porque comprende: un identificador fabricado de un polímero fotoresistente, en donde el identificador se configura en dimensión usando fotoligrafía . 218. Partícula de identificación, caracterizada porque comprende: un identificador moldeado de un molde, en donde el molde comprende material polimérico de baja energía superficial, y en donde el identificación incluye una superficie sustancialmente plana. 219. Partícula de identificación de conformidad con la reivindicación 218, caracterizada porque además comprende líneas de grabación Bosch en una superficie del identificador . 220. Partícula de identificación de conformidad con la reivindicación 218, caracterizada porque el identificador comprende además funcionalidad química. 221. Partícula de identificación de conformidad con la reivindicación 218, caracterizada porque el identificador comprende además un censor activo. 222. Método de identificación de nano-partícula, caracterizado porque comprende: proporcionar un identificador configurado y dimensionado en una forma predeterminada; reconocer el identificador de acuerdo a la forma del identificador . 223. Nano-partícula caracterizada porque se forma por el proceso que comprende: proporcionar una plantilla que comprende un material polimérico de baja energía superficial, en donde la plantilla define una depresión de nano-escala; colocar un líquido que se va a moldear en la plantilla, en donde el líquido tiene un ángulo de contacto predeterminado con una superficie de la plantilla tal que el líquido entre pasivamente a la depresión de nano-escala; y formar una partícula de líquido en la depresión de nano-escala.