WO2025178005A1

WO2025178005A1 - 無機粒子含有組成物

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Publication number: WO2025178005A1
Application number: PCT/JP2025/005264
Authority: WO
Inventors: 知紀石川
Original assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Current assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date: 2024-02-22
Filing date: 2025-02-18
Publication date: 2025-08-28
Anticipated expiration: 2026-08-22

Abstract

本発明は、分散安定性に優れる無機粒子含有組成物を提供することを目的とする。本発明は、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種と、カルコゲン化亜鉛と、分散剤とを含む、無機粒子含有組成物である。

Description

無機粒子含有組成物

本発明は、無機粒子含有組成物に関する。より詳しくは、光学材料、塗料、コーティング剤、インク等の塗膜形成等に有用な無機粒子含有組成物に関する。

気相法等の乾式法や高温での焼成等で得られる金属酸化物等の無機粒子は一般的に結晶性や無機物が有する物性等に優れる傾向があるものの、粒子が凝集することから、光学材料等に用いるためには、一次粒子又はそれに近いレベルに解砕し分散させる必要があった。このような課題に対して、無機粒子を分散させる技術が種々開発されており、シロキサンポリマー、シランカップリング剤等のシラン化合物、カルボン酸系分散剤、リン系分散剤等の分散剤の存在下で解砕処理を行う方法等が報告されている（例えば特許文献１～３参照）。

特開２００６－３１６２６４号公報特開２００６－１７７５号公報国際公開第２０１９／２４０１５４号

上述の通り、従来、無機粒子の凝集体を解砕する種々の技術が開発されているものの、無機粒子は凝集しやすいため、一度凝集体を解砕しても経時的に凝集し、分散性が低下するという課題があり、より均一な塗膜を形成するうえで、分散安定性に優れる無機粒子含有組成物が求められていた。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、分散安定性に優れる無機粒子含有組成物を提供することを目的とする。

本発明者は、無機粒子を含む組成物について種々検討したところ、無機粒子として酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩に対して、カルコゲン化亜鉛と分散剤とを用いることにより、分散安定性に優れるものとなることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

本発明は、以下の無機粒子含有組成物等を包含する。
〔１〕酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種と、カルコゲン化亜鉛と、分散剤とを含む、無機粒子含有組成物。
〔２〕上記分散剤は、極性官能基を有する化合物を含む、上記〔１〕に記載の無機粒子含有組成物。
〔３〕上記極性官能基は、スルフィニル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、カルボキシ基、アルコキシシリル基及び水酸基からなる群より選択される少なくとも１種である、上記〔２〕に記載の無機粒子含有組成物。
〔４〕上記分散剤は、下記式（１）；

（式中、Ｘ^１は、置換基を有してもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）で表される構成単位（Ｕ１）を有する硫黄含有重合体を含む、上記〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の無機粒子含有組成物。
〔５〕上記分散剤は、リン酸基及び／又はリン酸エステル基を有するリン酸系化合物を含む、上記〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の無機粒子含有組成物。
〔６〕上記リン酸系化合物は、下記式（２）；

（式中、Ｒ^１は、同一又は異なって、水素原子又は有機基を表す。Ｒ^２は、同一又は異なって、炭素数２～２０のアルキレン基を表す。ａは、１～３の整数である。ｎは、０～２０の整数である。）で表される化合物である、上記〔５〕に記載の無機粒子含有組成物。
〔７〕上記リン酸系化合物は、分子量が９８～２０００である、上記〔５〕又は〔６〕に記載の無機粒子含有組成物。
〔８〕上記硫黄含有重合体の含有割合が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計１００質量％に対して、１～３０質量％である、上記〔４〕に記載の無機粒子含有組成物。
〔９〕上記リン酸系化合物の含有割合が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計１００質量％に対して、０．５～１０質量％である、上記〔５〕～〔７〕のいずれかに記載の無機粒子含有組成物。
〔１０〕上記〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の無機粒子含有組成物と重合性単量体とを含む、重合性組成物。
〔１１〕無機粒子含有組成物を製造する方法であって、該製造方法は、カルコゲン化亜鉛と分散剤との存在下で、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の粒子の凝集体を解砕する工程を含む、無機粒子含有組成物の製造方法。
〔１２〕上記分散剤は、極性官能基を有する化合物を含む、上記〔１１〕に記載の無機粒子含有組成物の製造方法。
〔１３〕上記極性官能基は、スルフィニル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、カルボキシ基、アルコキシシリル基及び水酸基からなる群より選択される少なくとも１種である、上記〔１１〕又は〔１２〕に記載の無機粒子含有組成物の製造方法。
〔１４〕上記分散剤は、下記式（１）；

（式中、Ｘ^１は、置換基を有してもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）で表される構成単位（Ｕ１）を有する硫黄含有重合体を含む、上記〔１１〕～〔１３〕のいずれかに記載の無機粒子含有組成物の製造方法。
〔１５〕上記分散剤は、リン酸基及び／又はリン酸エステル基を有するリン酸系化合物を含む、上記〔１１〕～〔１４〕のいずれかに記載の無機粒子含有組成物の製造方法。

本発明の無機粒子含有組成物は、上述の構成よりなり、分散安定性に優れるため、光学材料、塗料、コーティング剤、インク等に好適に用いることができる。

以下に本発明の好ましい形態について具体的に説明するが、本発明は以下の記載のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。なお、以下に記載される本発明の個々の好ましい形態を２又は３以上組み合わせた形態も、本発明の好ましい形態に該当する。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を意味し、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を意味し、「（メタ）アクリロイル」は「アクリロイル」または「メタクリロイル」を意味する。また（メタ）アクリレートを（メタ）アクリル酸エステルということもある。

本発明の無機粒子含有組成物は、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種（以下、Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物ともいう。）と、カルコゲン化亜鉛と、分散剤とを含むものであり、分散安定性に優れるため、このような組成物を用いることにより均一な塗膜を形成することができる。
上記無機粒子含有組成物において、カルコゲン化亜鉛が酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩のゼータ電位の絶対値を高めることにより、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の分散安定性が向上するものと考えられる。

上記組成物におけるカルコゲン化亜鉛の含有割合は、特に制限されないが、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の合計１００質量％に対して、１～１５０質量％であることが好ましい。カルコゲン化亜鉛の含有割合としてより好ましくは２～１００質量％であり、更に好ましくは３～５０質量％であり、特に好ましくは５～３５質量％である。

上記組成物における分散剤の含有割合は、特に制限されないが、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計１００質量％に対して、１～３０質量％であることが好ましい。分散剤の含有割合が１質量％以上である場合、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の分散性をより高めることができる。また、組成物中の有機系分散剤の量が少ないほど、塗膜を形成した際の塗膜の屈折率が高まる。分散剤の含有割合が３０質量％以下である場合、塗膜を形成した際の塗膜の屈折率をより高めることができる。分散剤の含有割合としてより好ましくは２～２５質量％であり、更に好ましくは５～２２質量％であり、特に好ましくは１０～２０質量％である。

上記無機粒子含有組成物が分散剤として硫黄含有重合体を含む形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記組成物が硫黄含有重合体を含む場合、その含有割合は、特に制限されないが、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計１００質量％に対して、１～３０質量％であることが好ましい。硫黄含有重合体の含有割合が１質量％以上である場合、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の分散性をより高めることができる。硫黄含有重合体の含有割合が３０質量％以下である場合、塗膜を形成した際の塗膜の屈折率をより高めることができる。硫黄含有重合体の含有割合としてより好ましくは２～２５質量％であり、更に好ましくは４～２０質量％であり、特に好ましくは５～１５質量％である。

上記無機粒子含有組成物が分散剤としてリン酸系化合物を含む形態もまた、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記組成物がリン酸系化合物を含む場合、その含有割合は、特に制限されないが酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計１００質量％に対して、０．５～１０質量％であることが好ましい。リン酸系化合物の含有割合が０．５質量％以上である場合、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の分散性をより高めることができ、リン酸系化合物の含有割合が１０質量％以下である場合、塗膜を形成した際の塗膜の屈折率をより高めることができる。リン酸系化合物の含有割合としてより好ましくは１～９質量％であり、更に好ましくは２～８質量％であり、特に好ましくは３～７質量％である。

上記組成物における酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の合計の含有割合は、特に制限されないが、組成物中の固形分１００質量％に対して１０～９９質量％であることが好ましい。酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の合計の含有割合が１０質量％以上である場合、塗膜を形成した際の屈折率をより高めることができる。酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の合計の含有割合としてより好ましくは２５～９５質量％であり、更に好ましくは４０～９０質量％であり、特に好ましくは６０～８５質量％である。

上記組成物における酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の合計の含有割合は、組成物１００質量％に対して５～９９質量％であることが好ましい。より好ましくは１０～７０質量％であり、更に好ましくは１０～４５質量％である。

本発明の無機粒子含有組成物は、分散安定性に優れる。例えば、分散安定性は、製造直後の無機粒子含有組成物１０ｇを１０ｍＬサンプル瓶に充填し、４０℃にて３０日間静置し、目視により、静置後の無機粒子含有組成物における層分離、固化の有無、組成物の粘度の変化で評価することができる。また、静置後の無機粒子含有組成物の分散粒子径（Ｄｄ）を評価し、粒径の変化が元（製造直後）の分散粒子径を１００％とした場合に、４０℃にて３０日間静置後の分散粒子径が５００％以下となることも好ましい状態である。より好ましくは３００％以下であり、更に好ましくは２００％以下であり、一層好ましくは１５０％以下であり、特に好ましくは１２０％以下である。

以下では、本発明の無機粒子含有組成物に含まれる必須成分及び任意成分について更に説明する。

＜酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩＞
本発明の無機粒子含有組成物に含まれる酸化ジルコニウム、酸化チタンは、それぞれ、ジルコニウムの酸化物、チタンの酸化物であれば特に制限されない。
チタン酸塩は、ＡＢＯ_３（式中、ＡはＴｉ以外の金属元素であり、ＢはＴｉである。）で表される化合物であればよい。

上記酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩は、結晶化度が８０％以上であることが好ましい。結晶化度としては８５％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９４％以上がよりさらに好ましく、９８％以上が特に好ましい。上記結晶化度は、上記結晶子径と同様に粉末Ｘ線回折測定により求めることができ、粉末Ｘ線回折測定により得られた値を酸化ジルコニウム、酸化チタン又はチタン酸塩の結晶化度として採用することができる。

上記チタン酸塩ＡＢＯ_３におけるＡはチタン以外の金属元素であればよいが、上記金属としてはＬｉ、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金属；Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ等のアルカリ土類金属；Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｒｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｎｂ、Ｗ等の遷移金属；Ｃｅ、Ｄｙ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｈｏ、Ｌａ、Ｌｕ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｓｃ、Ｔｂ、Ｔｍ、Ｙ、Ｙｂ等の希土類金属が挙げられる。
上記Ａとして好ましくはアルカリ土類金属であり、より好ましくはバリウム、ストロンチウムである。さらに好ましくはバリウムである。

上記酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の形態は特に制限されず、一次粒子であっても、一次粒子が凝集した二次粒子を含むものであってもよい。

本発明の無機粒子含有組成物中の上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の分散粒子径（Ｄｄ）は、５～６０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは８～５０ｎｍであり、さらに好ましくは１０～４５ｎｍ、特に好ましくは１０～３５ｎｍである。
上記分散粒子径（Ｄｄ）は、動的光散乱法（ＤＬＳ）による粒度分布測定方法により測定された、体積基準の粒度分布における５０％粒子径である。
上記分散粒子径（Ｄｄ）の測定装置としては、濃厚系粒径アナライザーＦＰＡＲ－１０００（大塚電子株式会社）を用いることが好ましい。上記の測定方法において、無機粒子含有組成物が溶媒を含む液状物である場合は、該組成物をそのまま、あるいは必要に応じて該溶媒で希釈したものを測定試料とする。無機粒子含有組成物が固体状である場合は、該組成物に含まれる分散剤を溶解し得る溶媒、好ましくは無機粒子含有組成物の製造方法において後述する溶媒の中でも好ましい溶媒（例えばシクロペンタノン、Ｎ－メチルピロリドン、ベンジルアルコール）を混合、攪拌することにより調製したものを測定試料とする。いずれの場合においても測定試料における濃度は、通常は、無機粒子含有組成物に含まれる酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩の合計の濃度として１～２質量％程度であるが、測定にあたり、散乱光量、多重散乱の有無により適宜濃度調整すればよい。

上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物は、平均一次粒子径（Ｄ１）が１～５０ｎｍであることが好ましい。このような無機粒子含有組成物を製膜した場合に、透明性により優れた塗膜が得られる。上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の平均一次粒子径（Ｄ１）としてより好ましくは３～４５ｎｍであり、更に好ましくは５～４０ｎｍであり、一層好ましくは７～３０ｎｍであり、特に好ましくは１０～２５ｎｍである。
上記平均一次粒子径（Ｄ１）としては、結晶性の上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物を含むものである場合は結晶子径Ｄｃを、結晶性のＺｒ又はＴｉ含有酸化物を含まないものである場合は比表面積径Ｄｓを採用する。結晶性のＺｒ又はＴｉ含有酸化物を含むか否かは、粉末Ｘ線回折測定により確認することができる。たとえば、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物及び／又はその凝集体を試料とし、得られたＸ線回折パターンより、解析ソフト（リガク社製、ＰＤＸＬ２）を用い判定することができる。

上記結晶子径Ｄｃとしては、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物若しくはその凝集体の粉末Ｘ線回折測定を行い、得られたＸ線回折チャートにおける回折線のうち、回折強度が最も大きい回折線（最強線）の半値全幅を測定し、Ｓｃｈｅｒｒｅｒの式を用いて求めた値を採用する。ここで回折強度は回折線のピークトップの高さを意味する。解析ソフトとして、たとえば、解析ソフト（リガク社製、ＰＤＸＬ２）を用いることができる。
上記粉末Ｘ線回折測定を行う装置、条件等は、特に制限されないが、たとえば、装置としては、全自動多目的Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂ（リガク社製）を用いることができ、測定条件は、実施例に示した条件を採用することが好ましい。
比表面積径Ｄｓとしては、対象となる粒子（上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物若しくはその凝集体）の比表面積、真密度の値を用いて下記式により求めることができる。
Ｄｓ（ｍ）＝６／（ρ・Ｓ）
ρ[ｇ／ｍ^３]：該粒子又はその凝集体の真密度、ピクノメーターにより求めることができる。
Ｓ［ｍ^２／ｇ］：該粒子又はその凝集体の比表面積、ＢＥＴ法により測定することができる。

上記無機粒子含有組成物は上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の分散粒子径（Ｄｄ）／平均一次粒子径（Ｄ１）が０．５～２．３であることが好ましく、より好ましくは０．８～２であり、更に好ましくは１～１．８であり、特に好ましくは１～１．５である。

上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の形状は、特に限定されず、不定形、粒状、板状、柱状、針状等のいずれであってもよいが、粒状が好ましく、粒状の中でも球状が好ましい。なお、上記粒状とは、アスペクト比が１．５以下の偏りのない形状を意味する。上記無機粒子の形状としては、粒子内で最も長い径を最も短い径で除した値をアスペクト比とした場合に、５以下であることが好ましく、更に２以下である事が好ましく、１．５以下であることが最も好ましい。

＜カルコゲン化亜鉛＞
本発明の無機粒子含有組成物に含まれるカルコゲン化亜鉛は、亜鉛のカルコゲン化物であれば特に制限されず、亜鉛元素と第１６族元素（酸素、硫黄、セレン、テルル、ポロニウム、リバモリウム）とを含有する化合物であればよい。
カルコゲン化亜鉛として好ましくは酸化亜鉛（ＺｎＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、及びテルル化亜鉛（ＺｎＴｅ）等であり、より好ましくは酸化亜鉛、硫化亜鉛であり、更に好ましくは酸化亜鉛である。

上記カルコゲン化亜鉛の平均一次粒子径は特に制限されないが、１～５０ｎｍであることが好ましい。カルコゲン化亜鉛の平均一次粒子径としてより好ましくは５～４０ｎｍであり、さらに好ましくは７～３０ｎｍであり、特に好ましくは１０～２５ｎｍである。カルコゲン化亜鉛の平均一次粒子径は以下のとおり測定することができる。
上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物と同様に、カルコゲン化亜鉛が結晶性のカルコゲン化亜鉛を含むものである場合は結晶子径Ｄｃを、結晶性のカルコゲン化亜鉛を含まないものである場合は比表面積径Ｄｓを採用することができる。結晶子径Ｄｃ、比表面積径Ｄｓの測定方法は酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩の場合と同様に行うことができる。

上記カルコゲン化亜鉛の形状は、特に限定されず、不定形、粒状、板状、柱状、針状等のいずれであってもよいが、粒状が好ましく、粒状の中でも球状が好ましい。なお、上記粒状とは、アスペクト比が１．５以下の偏りのない形状を意味する。上記無機粒子の形状としては、粒子内で最も長い径を最も短い径で除した値をアスペクト比とした場合に、５以下であることが好ましく、更に２以下であることが好ましく、１．５以下であることが最も好ましい。

＜分散剤＞
本発明の無機粒子含有組成物に含まれる分散剤は、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物に対して分散性を発揮する化合物であれば特に制限されないが、極性官能基を有する化合物を含むものであることが好ましい。

上記極性官能基としては、特に制限されないが好ましくは中性又は酸性の極性官能基である。中性又は酸性の極性官能基として好ましくは、スルフィニル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、カルボキシ基、アルコキシシリル基、水酸基等である。
上記分散剤が極性官能基として、スルフィニル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、カルボキシ基、アルコキシシリル基及び水酸基からなる群より選択される少なくとも１種を有する化合物を含む形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記極性官能基としてより好ましくはスルフィニル基、リン酸基、リン酸エステル基である。
本発明の無機粒子含有組成物が、上記分散剤としてスルフィニル基を有する分散剤とリン酸基及び／又はリン酸エステル基を有する分散剤とを含む形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。

上記分散剤の分子量（分散剤が重合体の場合、重量平均分子量）としては特に制限されないが、例えば、９８～５０００であることが好ましい。より好ましくは、１５０～３５００であり、更に好ましくは２００～３０００である。
上記分散剤が重合体の場合、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定することができる。

（スルホン酸基を有する分散剤）
上記スルホン酸基を有する分散剤としては特に制限されないが、例えば、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、２－アクリルアミドエタンスルホン酸、２－アクリルアミドプロパンスルホン酸、２－メタクリルアミドプロパンスルホン酸、および２－メタクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、２－ヒドロキシ－３－（２－プロペニルオキシ）プロパンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマーおよびその誘導体を重合したものが挙げられる。誘導体とはエステルや、塩などの従来公知の化合物が挙げられる。

（カルボキシ基を有する分散剤）
上記カルボキシ基を有する分散剤としては特に制限されないが、ポリアクリル酸；（メタ）アクリル酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸系単量体と不飽和ポリアルキレングリコール系単量体との共重合体；不飽和カルボン酸系単量体とスチレン等の芳香族系単量体との共重合体；不飽和カルボン酸系単量体とアクリル酸エステルとの共重合体、及び、これらのアンモニウム塩、有機アミン塩、アルカリ金属塩等が挙げられる。

（アルコキシシリル基を有する分散剤）
上記アルコキシシリル基を有する分散剤としては特に限定されず、３―（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β－メトキシエトキシ）シラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。

（水酸基を有する分散剤）
上記水酸基を有する分散剤としては特に限定されず、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルなどのポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類等が挙げられる。

（スルフィニル基を有する分散剤）
上記無機粒子含有組成物がスルフィニル基を有する分散剤を含む形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記スルフィニル基を有する分散剤としては、特に制限されないが、下記式（１）；

（式中、Ｘ^１は、置換基を有してもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）で表される構造単位（Ｕ１）を有する硫黄含有重合体が好ましい。
上記硫黄含有重合体は、上記式（１）で表される構成単位を有する限り特に制限されず、構成単位（Ｕ１）を１つ以上有すればよいが、複数有することが好ましく、また、構成単位（Ｕ１）を繰り返し単位として有することがより好ましく、繰返し単位として複数有することがより好ましい。

上記式（１）において、Ｘ^１は、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、トリフェニレン基、ビフェニレン基、フェナントリレン基等が挙げられる。なかでも、重合体の光分散がより小さくなる点で、上記２価の芳香族炭化水素基は、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、ビフェニレン基、トリフェニレン基であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましい。

上記Ｘ^１で表される上記２価の芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基（「置換基α」とも称する）としては、特に制限されないが、好ましくは、反応性官能基、ハロゲン原子、又は、置換基（「置換基β」とも称する。）を有してもよい、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、もしくは硫黄含有炭化水素基が挙げられる。

上記反応性官能基としては、酸性官能基、塩基性官能基、硬化性官能基、及びこれらの官能基を含む基等が挙げられる。上記酸性官能基としては、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ）、リン酸基（－ＯＰＯ（ＯＨ）_２）、水酸基（－ＯＨ）、スルホ基（－ＳＯ_３Ｈ）、ホスホン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）_２）、ホスフィン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）－）等が挙げられる。上記塩基性官能基としてはアミノ基、アンモニウム基、イミノ基、アミド基、イミド基、マレイミド基等の塩基性官能基等が挙げられる。上記硬化性官能基としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、メタリル基等の反応性二重結合を有する基等の反応性不飽和結合を有する基；エポキシ基、オキセタン基等の反応性環状エーテル基を有する基等の反応性イオン結合を有する基、メルカプト基（－ＳＨ）等が挙げられる。

上記これらの官能基を含む基としては、例えば、上述した酸性官能基、塩基性官能基、又は硬化性官能基と、炭化水素鎖や結合基とを有する基等が挙げられる。すなわち、本発明においては、上記反応性官能基には、上述した酸性官能基、塩基性官能基や硬化性官能基だけでなく、これらの官能基と結合鎖を含む基も含まれる。上記結合鎖としては、アルキレン基、アリーレン基等の２価の炭化水素基や、エーテル、エステル、カルボニル、アミド等の結合基や、これらの組み合わせ等が挙げられる。例えば、上記反応性官能基としてカルボキシ基が好ましいという場合、上記反応性官能基として、カルボキシ基、及び／又は、カルボキシ基を含む基が好ましいことを意味する。

上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、なかでも、臭素原子が好ましい。
上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、２，２－ジメチルブチル基、２，３－ジメチルブチル基、ヘプチル基等が挙げられる。上記アルキル基としては、炭素数１～１８のアルキル基が好ましく、炭素数１～６のアルキル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。

上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、フェノキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。上記アルコキシ基としては、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
上記アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、トリフェニル基等が挙げられる。なかでも、フェニル基が好ましい。上記アリール基の炭素数は、６～３０であることが好ましく、６～１８であることがより好ましく、６～１２であることが更に好ましい。

上記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキシル基、フェニルオクチル基等が挙げられる。上記アラルキル基の炭素数は、７～１４であることが好ましく、７～９であることがより好ましい。
上記硫黄含有炭化水素基としては、例えば、アルキルチオ基、アリールチオ基等が挙げられる。上記硫黄含有炭化水素基の炭素数は、１～８であることが好ましく、１～６であることがより好ましく、１～４であることが更に好ましい。

上記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、及び、硫黄含有炭化水素基は、更に置換基（置換基β）を有していてもよい。上記置換基βとしては、アルキル基、ハロゲン原子等が挙げられ、これらの好ましい形態は、上記置換基αとしてのアルキル基、ハロゲン原子等と同様である。

上記置換基αの中でも、後述する溶媒に対する硫黄含有重合体の溶解性が優れるものとなり易い観点から、アルキル基が好ましく、炭素数１～１８のアルキル基がより好ましく、炭素数１～６のアルキル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
また、上記置換基αとしては、上記硬化性官能基が好ましく、中でもメルカプト基が好ましい。硫黄含有重合体が置換基αとしてメルカプト基を有することにより、硬化反応性等の反応性に優れるとともに屈折率が高いものとなり易い。これらの官能基もしくはこれらの官能基を含む基を置換基として有する硫黄含有重合体を用いた場合、本発明の無機粒子含有組成物からは、耐熱性や耐溶剤性に優れる硬化物膜が得られ易い傾向がある。メルカプト基を含む基としては、チオアルキル基、チオアリール基が好ましく、チオアルキル基がより好ましい。

上記硫黄含有重合体がメルカプト基を有する場合、その量は特に制限されないが、メルカプト基の量としては全芳香環（全構成単位）１００モル％に対して、１～３００モル％であることが好ましい。より好ましくは５～２００モル％であり、更に好ましくは１０～５０モル％である。
硫黄含有重合体におけるメルカプト基の量は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ＩＣＰ、ＧＰＣ、ＩＲ、元素分析により測定することができる。

Ｘ^１で表される上記２価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基αの数は、特に限定されない。後述する無機粒子含有組成物の製造に用いる溶媒に対する硫黄含有重合体の溶解性等を調整したり、屈折率等を微妙に制御する等の目的で適宜選択すればよい。上記置換基の数は、例えば、１～６であることが好ましく、１～３であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。上記２価の芳香族炭化水素基において、上記置換基αが結合する位置は特に制限されない。
上記構成単位（Ｕ１）において置換基αが２個以上ある場合、置換基αの種類は同一であっても異なっていてもよい。

上記硫黄含有重合体が構成単位（Ｕ１）を複数有する場合、各構成単位（Ｕ１）における、上記２価の芳香族炭化水素基の種類、上記２価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基αの種類、数、結合位置等は、同じであっても異なっていてもよい。
上記構成単位（Ｕ１）において、２価の芳香族炭化水素基にスルフィニル基（－Ｓ（＝Ｏ）－）が結合する位置、２価の芳香族炭化水素基に対する他方の主鎖の結合位置、これらの位置関係はいずれも特に制限されない。

上記硫黄含有重合体が構成単位（Ｕ１）を複数有する場合、各構成単位（Ｕ１）における、スルフィニル基（－Ｓ（＝Ｏ）－）が上記２価の芳香族炭化水素基に結合する位置は同じであっても異なっていてもよいし、２価の芳香族炭化水素基に対する他方の主鎖の結合位置は同じであっても異なっていてもよい。また各構成単位（Ｕ１）における、２価の芳香族炭化水素基にスルフィニル基が結合する位置と、２価の芳香族炭化水素基に対する他方の主鎖の結合位置との位置関係は、同じであっても異なっていてもよい。

上記構成単位（Ｕ１）の好ましい実施形態の一つとして、例えば、上記Ｘ^１で表される２価の芳香族炭化水素基がフェニレン基である形態が挙げられる。Ｘ^１で表される２価の芳香族炭化水素基がフェニレン基である構成単位（Ｕ１）を構成単位（Ｕ１－１）とも称する。
上記フェニレン基は置換基（「置換基α－１」とも称する）を有していてもよいし、有していなくてもよい。上記置換基α－１の種類は、上記置換基αと同様であり、好ましい形態も同様である。

上記フェニレン基に結合する置換基α－１の総数は０～４の整数であり、好ましくは１～３であり、より好ましくは１又は２であり、さらに好ましくは１である。上記置換基α－１の位置は特に制限されず、スルフィニル基が結合するフェニレン基の炭素原子を１位としたとき、置換基α－１の位置はフェニレン基の２位であってもよいし、３位であってもよいし、４位であってもよい。中でも、４位又は２位が好ましく、４位がより好ましい。

上記構成単位（Ｕ１－１）において、スルフィニル基が結合するフェニレン基の炭素原子を１位としたとき、フェニレン基に対する他方の主鎖の結合位置は特に制限されない。フェニレン基の２位であってもよいし、３位であってもよいし、４位であってもよい。中でも、２位又は３位が好ましく、３位がより好ましい。

上記硫黄含有重合体）は、上記構成単位（Ｕ１－１）を複数含むことが好ましく、また、繰返し単位として含むことが好ましく、繰返し単位として複数含むことがより好ましい。上記硫黄含有重合体が上記構成単位（Ｕ１－１）を複数含む場合、各構成単位（Ｕ１－１）における、Ｘ^１で表されるフェニレン基に結合する置換基α－１の種類、数、結合位置、フェニレン基におけるスルフィニル基の結合位置、他方の主鎖の結合位置等は同じであってもよいし、異なっていてもよい。

上記硫黄含有重合体は、構成単位として上記構成単位（Ｕ１）を少なくとも１個有すればよい。よって、上記硫黄含有重合体は、１個又は複数の構成単位（Ｕ１）のみからなる重合体であってもよいし、上記構成単位（Ｕ１）と、上記構成単位（Ｕ１）以外の構成単位を含む重合体であってもよい。上記構成単位（Ｕ１）以外の構成単位を、他の構成単位とも称する。上記他の構成単位は１種でもよいし２種以上であってもよい。

上記硫黄含有重合体における上記構成単位（Ｕ１）の含有割合は、特に制限されないが、硫黄含有重合体中の全構成単位の合計含有量１００モルに対して、構成単位（Ｕ１）の含有量が１～１００モルであることが好ましい。より好ましくは５モル以上であり、さらに好ましくは１０モル以上である。一方、より好ましくは９８モル以下であり、さらに好ましくは９５モル以下であり、特に好ましくは９０モル以下である。上記硫黄含有重合体の好ましい一実施形態における構成単位（Ｕ１－１）の含有量についても同様である。

上記他の構成単位としては、特に制限されないが、下記式（３）で表される構成単位（Ｕ２）及び／又は下記式（４）で表される構成単位（Ｕ３）であることが好ましい。

（式中、Ｘ^２は、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）

（式中、Ｘ^３は、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）
すなわち、上記硫黄含有重合体が、上記構成単位（Ｕ１）を含み、さらに上記構成単位（Ｕ２）及び／又は上記構成単位（Ｕ３）を含む重合体であることは、上記硫黄含有重合体における好ましい実施形態の一つである。

上記構成単位（Ｕ２）におけるＸ^２、上記構成単位（Ｕ３）におけるＸ^３で各々表される２価の芳香族炭化水素基の種類、２価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基の種類、数、結合位置等は、これらの好ましい形態を含め、上記構成単位（Ｕ１）におけるＸ^１で表される２価の芳香族炭化水素基の種類、２価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基αの種類、数、結合位置等と同様であり、構成単位（Ｕ１）における説明を準用することができる。

上記構成単位（Ｕ２）、上記構成単位（Ｕ３）においても、好ましい実施形態の一つとして、上記Ｘ^２、上記Ｘ^３で各々表される２価の芳香族炭化水素基がフェニレン基である形態が挙げられる。Ｘ^２、Ｘ^３でそれぞれ表される２価の芳香族炭化水素基がフェニレン基である構成単位を構成単位（Ｕ２－１）、構成単位（Ｕ３－１）とも称する。構成単位（Ｕ２－１）、構成単位（Ｕ３－１）における、フェニレン基に結合する置換基の種類、数、結合位置、フェニレン基におけるスルフィド基、スルホニル基の結合位置、他方の主鎖の結合位置等はこれらの好ましい形態を含め、構成単位（Ｕ１－１）における、フェニレン基に結合する置換基α－１の種類、数、結合位置、フェニレン基におけるスルフィニル基の結合位置、他方の主鎖の結合位置等と同様であり、構成単位（Ｕ１―１）における説明を準用することができる。

上記硫黄含有重合体は、上記構成単位（Ｕ２－１）及び／又は上記構成単位（Ｕ３－１）を複数含んでいてもよいし、また、繰返し単位として含んでいてもよいし、繰返し単位として複数含んでいてもよい。上記硫黄含有重合体が上記構成単位（Ｕ２－１）及び／又は上記構成単位（Ｕ３－１）を複数含む場合、各構成単位（Ｕ２－１）、（Ｕ３－１）における、Ｘ^２、Ｘ^３でそれぞれ表されるフェニレン基に結合する置換基の種類、数、結合位置、フェニレン基におけるスルフィド基、スルホニル基の結合位置、他方の主鎖の結合位置等は同じであってもよいし、異なっていてもよい。

上記硫黄含有重合体において、上記構成単位（Ｕ１）、上記構成単位（Ｕ２）、及び上記構成単位（Ｕ３）の合計含有量は、特に制限されないが、全構成単位の合計含有量１００モルに対する上記合計含有量が、１～１００モルであることが好ましい。より好ましくは３０モル以上であり、さらに好ましくは５０モル以上であり、さらに好ましくは８０モル以上である。

上記硫黄含有重合体における、全構成単位の合計含有量１００モルに対する上記構成単位（Ｕ１）の含有量の好ましい範囲は、上述したとおりであるが、残部が上記構成単位（Ｕ２）及び（Ｕ３）の合計含有量であることが好ましい。
上記硫黄含有重合体において構成単位（Ｕ１）、（Ｕ２）、（Ｕ３）が各々構成単位（Ｕ１－１）、（Ｕ２－１）、（Ｕ３－１）である場合、全構成単位の合計含有量１００モルに対する、上記構成単位（Ｕ１－１）、上記構成単位（Ｕ２－１）、及び上記構成単位（Ｕ３－１）の合計含有量の好ましい範囲は、上記の構成単位（Ｕ１）、上記構成単位（Ｕ２）、及び上記構成単位（Ｕ３）の合計含有量の場合と同様である。

上記硫黄含有重合体において、上記構成単位（Ｕ２）の含有量は、特に制限されないが、上記構成単位（Ｕ１）の含有量１００モルに対し、０～９９００モルであることが好ましい。より好ましくは０．０１モル以上であり、さらに好ましくは１．０モル以上であり、特に好ましくは５モル以上である。一方、より好ましくは９００モル以下であり、さらに好ましくは５００モル以下であり、さらにより好ましくは１００モル以下であり、特に好ましくは９５モル以下である。上記硫黄含有重合体において構成単位（Ｕ２）が構成単位（Ｕ２－１）である場合、上記構成単位（Ｕ２－１）の含有量の好ましい範囲は、上記の構成単位（Ｕ２）の含有量の場合と同様である。

上記硫黄含有重合体において、上記構成単位（Ｕ３）の含有量は、特に制限されないが、上記構成単位（Ｕ１）の含有量１００モルに対し、０～９９００モルであることが好ましい。より好ましくは０．０１モル以上であり、さらに好ましくは１．０モル以上であり、特に好ましくは５モル以上である。一方、より好ましくは９００モル以下であり、さらに好ましくは５００モル以下であり、さらにより好ましくは１００モル以下であり、特に好ましくは９５モル以下である。上記硫黄含有重合体において構成単位（Ｕ３）が構成単位（Ｕ３－１）である場合、上記構成単位（Ｕ３－１）の含有量の好ましい範囲は、上記の構成単位（Ｕ３）の含有量の場合と同様である。

上記硫黄含有重合体の製造方法は、特に制限されない。例えば、芳香族ジスルフィド化合物及び／又は芳香族チオール化合物を含む単量体成分を酸化重合する重合工程を含む製造方法が好ましく、中でも、該重合工程を行った後に、該重合工程により得られた重合体を酸化する酸化工程を含む製造方法がより好ましい。上記製造方法により上記構成単位（Ｕ１）を有する硫黄含有重合体を効率よく製造することができる。

上記重合工程は、芳香族ジスルフィド化合物及び／又は芳香族チオール化合物を含む単量体成分を酸化重合する工程である。該工程により、少なくとも構成単位（Ｕ２）を繰返し単位として複数含む重合体を得ることができる。
上記酸化重合は、単量体成分を加熱溶融した状態で行うこともできるが、単量体成分を溶媒に分散又は溶解した組成物中で行うことが好ましい。なお、上記組成物、すなわち、単量体成分と溶媒とを含む組成物を原料組成物とも称し、重合反応が開始してから重合反応が終了するまでの組成物を反応組成物とも称する。また重合反応により得られた組成物を重合体組成物とも称する。

上記単量体成分としては、芳香族ジスルフィド化合物及び／又は芳香族チオール化合物を含む。これらの中でも、芳香族ジスルフィド化合物を含むことが好ましい。
上記芳香族ジスルフィド化合物としては、下記式（５）で表されるジアリールジスルフィド化合物がより好ましく、上記芳香族チオール化合物としては下記式（６）で表されるチオアリール化合物がより好ましい。

（式（５）及び（６）中、Ａ^１及びＡ^２は、同一又は異なって、置換基を有してもよい１価の芳香族炭化水素基を表す。）
Ａ^１及びＡ^２で表される上記１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、トリフェニル基、ビフェニル基、フェナントリル基等である。なかでも、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、又は、トリフェニル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。Ａ^１及びＡ^２で表される上記１価の芳香族炭化水素基が有してもよい置換基としては上記式（１）中のＸ^１で表される２価の芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基αと同様の基をあげることができ、置換基の数や芳香族炭化水素基への結合位置は上記式（１）中のＸ^１で表される２価の芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基の場合に準じる。

上記ジアリールジスルフィド化合物としては、ジフェニルジスルフィド化合物が好ましく、上記チオアリール化合物としてはベンゼンチオール化合物が好ましい。中でもジフェニルジスルフィド化合物が好ましい。これらの化合物は、置換基を有していてもよく、置換基の種類は上記ジアリールジスルフィド化合物、上記チオアリール化合物における置換基と同様である。

上記ジフェニルジスルフィド化合物が有することができる置換基の数は０～１０個であり、好ましくは１～８であり、より好ましくは２～６であり、さらに好ましくは２～４である。上記ジフェニルジスルフィド化合物におけるフェニル基に対する置換基の結合位置は特に制限されないが、ジスルフィド基が結合した炭素原子（１位）に対し、パラ位（４位）を含むことが好ましい。
上記ベンゼンチオール化合物が有することができる置換基の数は０～５個であり、好ましくは１～４であり、より好ましくは１～３であり、さらに好ましくは１～２である。上記ベンゼンチオール化合物におけるフェニル基に対する置換基の結合位置は特に制限されないが、メルカプト基が結合した炭素原子（１位）に対し、パラ位（４位）を含むことが好ましい。

上記ジフェニルスルフィド化合物の具体的としては、例えば、３，３’－ジメチルジフェニルジスルフィド、２，２’－ジメチルジフェニルジスルフィド、４，４’－ジメチルジフェニルジスルフィド（ビス（４－メチルフェニル）ジスルフィド）、２，２’，３，３’－テトラメチルジフェニルジスルフィド、２，２’，５，５’－テトラメチルジフェニルジスルフィド、２，２’，６，６’－テトラメチルジフェニルジスルフィド、３，３’，５，５’－テトラメチルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，５，５’－ヘキサメチルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，６，６’－ヘキサメチルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，５，５’，６，６’－オクタメチルジフェニルジスルフィド、２，２’－ジエチルジフェニルジスルフィド、３，３’－ジエチルジフェニルジスルフィド、２，２’，６，６’－テトラエチルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’－テトラエチルジフェニルジスルフィド、２，２’，５，５’－テトラエチルジフェニルジスルフィド、３，３’，５，５’－テトラエチルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，５，５’－ヘキサエチルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，６，６’－ヘキサエチルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，５，５’，６，６’－オクタエチルジフェニルジスルフィド、２，２’－ジプロピルジフェニルジスルフィド、３，３’－ジプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，６，６’－テトラプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’－テトラプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，５，５’－テトラプロピルジフェニルジスルフィド、３，３’，５，５’－テトラプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，５，５’－ヘキサプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，６，６’－ヘキサプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，５，５’，６，６’－オクタプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’－ジイソプロピルジフェニルジスルフィド、３，３’－ジイソプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，６，６’－テトライソプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’－テトライソプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，５，５’－テトライソプロピルジフェニルジスルフィド、３，３’，５，５’－テトライソプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，５，５’－ヘキサイソプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，６，６’－ヘキサイソプロピルジフェニルジスルフィド、２，２’，３，３’，５，５’，６，６’－オクタイソプロピルジフェニルジスルフィド等が挙げられる。

上記ベンゼンチオール化合物の具体的としては、例えば、３－メチルベンゼンチオール、２－メチルベンゼンチオール、４－メチルベンゼンチオール、チオフェノール（ベンゼンチオール）、２，３－ジメチルベンゼンチオール、２，５－ジメチルベンゼンチオール、２，６－ジメチルベンゼンチオール、３，５－ジメチルベンゼンチオール等が挙げられる。

上記ジスルフィド化合物は、チオール化合物の酸化によっても調製することができる。そのため、上記重合工程においては、上記ジスルフィド化合物の前駆体として、チオール化合物を使用することもできる。チオール化合物２分子を酸化的に結合させることにより、ジスルフィド化合物を得ることができる。上記酸化的に結合させる方法としては、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。

上記酸化重合は、特に限定されないが、キノン系化合物を用いる酸化重合や、触媒を用いる酸化重合が好ましい。廃液量が少なくて済む観点より、触媒を用いる酸化重合がより好ましい。触媒を用いる酸化重合としては、例えば、溶媒に上記単量体成分及び触媒を溶解又は分散させた組成物を加熱することにより、重合反応を行うことがより好ましい。上記触媒としては、特に限定されないが、バナジウム（Ｖ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタニウム（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）等の金属元素を含む物質が好ましく、１種又は２種以上を混合して用いることができる。

上記金属元素を含む物質の中でも、酸化重合に対する触媒活性が高い点で、金属元素としてバナジウム、鉄をそれぞれ含む物質（これらをそれぞれバナジウム含有物質、鉄含有物質とも称する）が好ましく、鉄含有物質がより好ましい。上記バナジウム含有物質としては、バナジウムを含む金属、バナジウム化合物分子内にＶ＝Ｏ結合を有するオキソバナジウム化合物が好ましい。上記オキソバナジウム化合物としては、例えば、バナジルアセチルアセトナート、オキソバナジウムサレン錯体、Ｎ，Ｎ’－ビスサリチリデンエチレンジアミンオキソバナジウム、フタロシアニンオキソバナジウム、テトラフェニルポルフィリンオキソバナジウム等が挙げられる。上記鉄含有物質としては、分子内に塩素を有する鉄化合物が好ましい。また酸化数が３以上の鉄を含む化合物が好ましい。そのような鉄含有物質としては、例えば、塩化第二鉄（Ｆｅ（Ｃｌ）_３）、５，１０，１５，２０－テトラフェニル－２１Ｈ，２３Ｈ－ポルフィン塩化鉄（ＩＩＩ）、トリフルオロメタンスルホン酸鉄（ＩＩＩ）等が挙げられる。

上記重合において用いる上記触媒の量は、特に制限されないが、上記単量体成分１００モル％に対する、上記触媒に含まれる金属元素の合計含有量が、０．００１～５０モル％の範囲であることが好ましく、触媒残差による物性への影響が小さくなる傾向がある観点から、３０モル％以下が好ましく、２０モル％以下がより好ましく、１０モル％以下がさらに好ましく、５モル％以下が特に好ましく、分子量が高い硫黄含有重合体が得られ易い観点から０．０１モル％以上がより好ましく、０．１モル％以上がさらに好ましく、１モル％以上が特に好ましい。

上記重合は、酸素存在下で行うことが好ましい。酸素存在下で行うことにより、酸化重合反応が促進される。よって上記重合は、酸素含有ガスの供給下で行うことが好ましい。例えば、重合反応中、気相部分に酸素含有ガスを供給する方法、重合反応中の反応組成物に酸素含有ガスをバブリングする方法等が採用される。酸化重合を促進し易い観点から、重合反応中の反応組成物に酸素含有ガスを連続的に供給する方法が好ましく、中でもバブリングする方法が好ましい。

酸素含有ガスは酸素分子（Ｏ_２）を含有するガスであることが好ましい。酸素含有ガスは酸素分子（Ｏ_２）以外のガス成分を含んでいてもよい。酸素含有ガスに含まれる酸素分子（Ｏ_２）以外のガス成分としては、特に制限されないが、好ましくは、ヘリウム（Ｈｅ）、ネオン（Ｎｅ）、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）、キセノン（Ｘｅ）、ラドン（Ｒｎ）等の希ガス類；窒素（Ｎ_２）などの不活性ガスが挙げられる。上記不活性ガス以外に炭酸ガス（ＣＯ_２）、水蒸気等が含まれていてもよい。
酸素含有ガスにおける酸素分子（Ｏ_２）の含有率は、特に制限されないが、常温（２５℃）、１気圧下において、酸素含有ガスにおける酸素分子（Ｏ_２）の体積割合が酸素含有ガス１００体積％に対し０．１～１００体積％であることが好ましい。より好ましくは、１～６０体積％であり、さらに好ましくは１０～３０体積％である。酸素含有ガスにおける残分は、例えば不活性ガスである。

酸素含有ガスとしては、特に制限されないが、例えば、酸素ガス、酸素と窒素との混合ガス、空気等が挙げられる。経済性に優れる観点から、空気を用いることが好ましい。酸素含有ガス中の水蒸気濃度は、特に制限されないが、１０００ｇ／ｍ^３以下が好ましく、１０ｇ／ｍ^３以下がより好ましく、１ｇ／ｍ^３以下が更に好ましく、０．１ｇ／ｍ^３以下が最も好ましく、乾燥空気が好ましい。
酸素含有ガスの供給量は、反応速度を促進でき且つ制御し易い観点から、反応組成物の総容積１ｍ^３あたり、１分間当たりの酸素（Ｏ_２）の供給量（供給速度）として、０．００００２ｍ^３／分～２ｍ^３／分であることが好ましく、より好ましくは０．０００１～０．２ｍ^３／分以上であり、さらに好ましくは０．０００２～０．０２ｍ^３／分以上である。

上記重合工程において、さらに酸及び／又はその塩を用いることが好ましい。上記触媒と共に酸及び／又はその塩を併用することにより、重合反応により得られる重合体の分子量を高い範囲まで制御し易くなり、短時間でも、高分子量の硫黄含有重合体が得られ易くなる。
上記酸としては、ブレンステッド酸が好ましく、中でも、酸解離定数が－１９～４である酸が好ましい。より好ましくは酸解離定数が３以下であり、また－８以上である。酸解離定数が－１９～４の酸としては、例えば、リン酸、硝酸、硫酸、過硫酸、亜硫酸、塩酸、臭化水素酸等の無機酸；メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、１０－カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、１，１，２，２－テトラフルオロエタンスルホン酸等のスルホン酸；クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸等のクロロカルボン酸；フルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸、パーフルオロプロピオン酸、パーフルオロ酪酸、４－フルオロ安息香酸等のフルオロカルボン酸等が挙げられる。なかでも、１０－カンファースルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、過硫酸が好ましい。

上記酸の塩としては、上記酸の塩であれば特に制限されないが、例えば、ナトリウム、カリウム等の周期律表第１族金属元素、マグネシウム、カルシウム等の周期律表第２族金属元素、アンモニウム等と上記酸との塩が好ましい。中でも、例えば、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム、トルエンスルホン酸ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム等が好ましい。上記酸及び／又はその塩は、１種のみ使用してもよいし、２種以上使用してもよい。酸及び／又はその塩の使用量は、単量体成分１００モル％に対し、０．０１～１００モル％であることが好ましく、０．１～１０モル％であることがより好ましく、０．５～５モル％であることが更に好ましい。

上記重合においては、溶媒を使用してもよい。上記溶媒は特に制限されないが、好ましい溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、１，１，２，２－テトラクロロエタン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、クロロベンゼン、１，２－ジクロロベンゼン、１，３－ジクロロベンゼン、Ｎ－メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、シクロペンチルメチルエーテル等が挙げられる。上記溶媒の使用量は特に制限されないが、原料である上記単量体成分１００質量部に対し、１～１００００質量部であることが好ましく、より好ましくは１０～１０００質量部である。上記溶媒の中でも、Ｎ－メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、シクロペンチルメチルエーテル等の非ハロゲン系溶媒を使用することが好ましい。

上記重合は、溶媒の沸点以下の温度で常圧で重合を行ってもよいし、リフラックス条件で重合を行ってもよいし、沸点以上の温度に加熱しながら加圧状態で重合を行ってもよい。上記重合において、重合温度は酸化重合が進行する温度であれば、特に限定されないが、安価な設備で酸化重合反応を行いやすい点で、０～２５０℃であることが好ましく、３０℃以上がより好ましく、５０℃以上が更に好ましく、一方、２００℃以下がより好ましく、１８０℃以下が更に好ましい。重合時間は、特に限定されないが、０．１～１００時間であることが好ましく、１～８０時間であることがより好ましく、５～５０時間であることがさらに好ましく、１０～２４時間であることが特に好ましい。

上述した酸化重合により、単量体成分として、上記式（５）で表されるジアリールジスルフィド化合物及び／又は上記式（６）で表されるチオアリール化合物を用いた場合には、通常、上記主鎖が、上記Ａ^１、Ａ^２で表される芳香族炭化水素基がスルフィド基（－Ｓ－）等により結合した構造の重合体、すなわち、上記構成単位（Ｕ１）、（Ｕ２）及び（Ｕ３）からなる群から選択される１種又は２種以上を構成単位とする重合体を含む組成物（重合体組成物）を得ることができる。

上記重合工程において上述した好ましい条件で酸化重合を行った場合、上記構成単位（Ｕ２）の含有割合が相対的に高い重合体が得られ易い。
同様に、単量体成分として、上記のジフェニルジスルフィド化合物及び／又はベンゼンチオール化合物を用いた場合には、主な構成単位として上記構成単位（Ｕ２－１）を主な構成単位として含む重合体を得ることができる。

上記重合工程により得られた重合体が、構成単位（Ｕ１－１）等の構成単位（Ｕ１）を有する重合体であれば、該重合体を上記硫黄含有重合体として用いることができる。
上記重合工程により得られた上記重合体における構成単位（Ｕ１）、（Ｕ１－１）の割合を高くする目的で、酸化工程に供することが好ましい。上記酸化工程は、上記重合工程で得られた重合体を酸化する工程である。

上記酸化工程は、酸化剤を使用した酸化反応を行う工程である。上記酸化剤としては、特に限定されず、公知のものを使用することができ、例えば、キノン系化合物、過安息香酸、メタクロロ過安息香酸、四酢酸鉛、酸酢酸タリウム、テトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、セリウム（ＩＶ）アセチルアセトネート、マンガン（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、過酸化物、塩素酸、次亜塩素酸、次亜塩素酸塩、次亜塩素酸を発生し得る化合物等が挙げられる。

なかでも、主鎖上に含まれる硫黄原子（スルフィド基、－Ｓ－）を適度に酸化して、スルフィニル基（－Ｓ（＝Ｏ）－）を形成することができる点で、過酸化物、塩素酸、次亜塩素酸、次亜塩素酸塩、及び次亜塩素酸を発生し得る化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を使用することがより好ましい。上記過酸化物としては、例えば、メタクロロ過安息香酸、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過酢酸、ｔ－ブチルハイドロパーオキシド等が挙げられる。上記酸化剤は、１種のみ使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。上記酸化剤の添加量は、重合体（Ｐ）中の硫黄原子１モルに対し、０．０１～１０００モルであることが好ましく、０．０５～５００モルであることがより好ましく、０．１～１００モルであることがより好ましく、０．２～２０モルであることが更に好ましい。

上記酸化反応の反応温度は、上記酸化反応が進行し易い観点から、０～２００℃あることが好ましく、１０℃以上がより好ましく、１５℃以上が更に好ましく、副反応を抑制し易い観点から１８０℃以下がより好ましく、１５０℃以下が更に好ましい。上記酸化反応の反応時間は、通常、０．１～１００時間であり、１～８０時間であることが好ましく、５～５０時間であることがより好ましく、１０～２４時間であることが更に好ましい。

スルホニル基（－Ｓ（－Ｏ）_２－）の含有量を多くしたい場合は、上述した反応時間よりも長時間で反応させればよい。また、この場合の酸化剤の添加量は、所望の硫黄原子の酸化反応が進行するのであれば特に限定されないが、通常、重合体中の硫黄原子１モルに対し、０．０１～１０００モルであることが好ましく、０．０５～５００モルであることがより好ましく、０．１～１００モルであることが更に好ましく、０．５～２０モルであることが特に好ましい。

上記酸化反応においては、溶媒を使用してもよい。使用する溶媒としては、上記重合工程において使用する溶媒と同様の溶媒が好ましく挙げられる。
上記酸化工程により、重合工程で得られた重合体に比べ、構成単位（Ｕ１）の割合が高い重合体を得ることができ、これを上記硫黄含有重合体として用いることができる。

上述したように、硫黄含有重合体の好ましい形態として、上記構成単位（Ｕ１）におけるＸ^１で表される２価の芳香族炭化水素基等の主鎖を構成する２価の芳香族炭化水素基の少なくとも一つが置換基として反応性官能基を有する形態が挙げられるが、該形態の硫黄含有重合体を製造する方法としては、反応性官能基を置換基として有するジアリールジスルフィド化合物、チオアリール化合物を上記重合工程における単量体成分として用いる方法、上記酸化工程の前、若しくは、後に反応性官能基を導入する工程（反応性官能基導入工程）を有する製造方法が挙げられる。屈折率がより高く、反応性を有する硫黄含有重合体を製造する観点から、前記反応性官能基としてメルカプト基（－ＳＨ）を導入することが好ましい。置換基としてメルカプト基を有する硫黄含有重合体を製造する場合は、上記酸化工程の前、若しくは、後にメルカプト基を導入する工程（メルカプト基導入工程）を有することが好ましい。

上記メルカプト基導入工程は、上記重合工程又はさらに上記酸化工程で得られた硫黄含有重合体にメルカプト基を導入できれば、特に用いる方法に制限はないが、例えば、スルホン化剤及び還元性物質を反応させる工程であることが好ましい。

上記メルカプト基導入工程において用いることのできるスルホン化剤は、芳香族炭化水素基にスルホニル基を導入できる化合物であれば、特に制限されない。例えば、濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸、クロロスルホニル等が挙げられる。中でも、クロロスルホン酸が好ましい。上記スルホン化剤の使用量は、特に制限されないが、重合体１００質量％に対し、スルホン化剤を０．１～１００００質量％で用いることが好ましい。より好ましくは１質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上であり、また、より好ましくは１０００質量％以下、さらに好ましくは５００質量％以下である。

上記メルカプト基導入工程において用いることのできる還元性物質としては、特に制限されないが、例えば、水素化ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ブチルリチウム、ジボラン、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素リチウム、水素化トリ（ｓｅｃ－ブチル）ホウ素カリウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス（２－メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化トリブチルスズ、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド等の金属あるいは半金属の水素化物やその錯化合物（アート錯体）；金属スズ、金属亜鉛等の金属；鉄の２価イオン、スズの２価イオン等の低原子価金属イオンを含有する化合物；ギ酸、シュウ酸等の酸系有機化合物；トリフェニルホスフィン等のホスフィン系有機化合物；ヒドラジン等の無機化合物が好ましく挙げられる。これらの１種又は２種以上を用いることができる。これらの中でも金属が好ましく、金属亜鉛がより好ましい。亜鉛を用いた場合、上記重合工程において触媒に用いた重金属が残存していた場合でも該重金属を除去し易く、着色の抑制された、硫黄含有重合体が得られ易い。また上記還元性物質として金属を用いる場合、その形態は特に制限されないが、微粒子状であることが好ましい。上記還元性物質の使用量は、特に制限されないが、重合体１００質量％に対し、還元性物質を０．０１～１０００質量％で用いることが好ましい。より好ましくは０．１質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上であり、また、より好ましくは１００質量％以下、さらに好ましくは５０質量％以下である。

上記メルカプト基導入工程においては、用いる重合体に含まれる２価の芳香族炭化水素基に、スルホン化剤によりスルホニル基が導入され、該スルホニル基が還元性物質の作用によりメルカプト基に還元されるメカニズムで反応が進行すると考えられる。
上記重合体に対する、スルホン化剤、還元性物質の混合順序は特に制限されない。例えば、上記重合体にスルホン化剤を混合し、上記２価の芳香族炭化水素基にスルホニル基を導入する反応を行わせた後、スルホニル基が導入された重合体に、還元性物質を混合し、導入されたスルホニル基をメルカプト基に還元する反応を行わせる方法（１）、上記重合体にスルホン化剤及び還元性物質を実質的に同時に混合する方法（２）、上記重合体に還元性物質を先に混合し、次にスルホン化剤を混合する方法（３）等が挙げられる。中でも方法（１）が好ましい。

上記メルカプト基導入工程における反応は、溶媒中で行われることが好ましく、溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド又はスルホン系溶剤；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のアミド系溶剤；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、１，１，２，２－テトラクロロエタン、クロロベンゼン、１，２－ジクロロベンゼン、１，３－ジクロロベンゼン等の塩素化炭化水素類；シクロヘキサノン等のカルボニル化合物類；酢酸エチル等のエステル類；水が好ましく挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。これらの中でもスルホキシド系溶剤がより好ましく、スルホランがさらに好ましい。上記溶媒の使用量は特に制限されないが、上記メルカプト基導入工程において用いる重合体１００質量部に対し、０．５～５００００質量部であることが好ましく、より好ましくは１０～５０００質量部である。

上記メルカプト基導入工程における反応温度は、上記のスルホン化反応及び還元反応が進行する温度であれば、特に限定されないが、－２０～２５０℃であることが好ましく、－５℃以上がより好ましく、５℃以上が更に好ましく、また、副反応を抑制する点で、１５０℃以下がより好ましく、８０℃以下が更に好ましい。上記反応の反応時間は、特に限定されないが、０．１～１００時間であることが好ましく、０．５時間以上がより好ましく、２時間以上がさらに好ましく、また生産性に優れる観点から、５０時間以下であることがより好ましく、２０時間以下であることがさらに好ましい。

上記製造方法により、上記硫黄含有重合体を得ることができるが、上記重合工程で得られた重合体組成物は、上記重合工程で用いた溶媒の他、用いた触媒の残差（触媒残差）等の物質、いわゆる不純物を含む。また上記酸化工程により得られた重合体又は重合体を含む組成物は、酸等が残存している可能性がある。これらの不純物は本発明の無機粒子含有組成物の耐熱性等に影響することがあるため、硫黄含有重合体を単離するとともに、これらの不純物を低減することが好ましい。よって、上記硫黄含有重合体の製造方法は、精製工程をさらに含むことが好ましい。

上記精製工程において用いる精製方法としては、従来公知の精製方法を用いることができる。例えば、再沈殿法を用いることが好ましい。再沈殿法としては、特に限定されないが、例えば、上記重合体組成物を、塩酸酸性メタノール中に滴下して重合体を沈殿させ、これをろ過して沈殿物を得て、得られた沈殿物を水やメタノール等の低級アルコールで洗浄する方法等が挙げられる。上記精製工程としては、上記酸化工程で用いた酸化剤由来の成分や重合工程由来の不純物成分等を除去するために従来公知の吸着材を用いた方法を用いることもできる。上記再沈殿法と吸着材を用いる方法を併用することも好ましい。

上記硫黄含有重合体の製造方法においては、重合工程、酸化工程、反応性官能基導入工程、精製工程の他に、さらに他の工程を有していてもよい。上記他の工程としては、例えば、熟成工程、中和工程、希釈工程、乾燥工程、濃縮工程、溶媒置換工程、溶解工程等が挙げられる。これらの工程は、公知の方法により行うことができる。上述した製造方法により、上記硫黄含有重合体を得ることができる。

（リン酸基及び／又はリン酸エステル基を有する分散剤）
上記無機粒子含有組成物がリン酸基及び／又はリン酸エステル基を有する分散剤（以下、リン酸系化合物、もしくはリン酸系分散剤ともいう）を含む形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記リン酸系化合物としては、リン酸基及び／又はリン酸エステル基を有する限り特に制限されないが、下記式（２）；

（式中、Ｒ^１は、同一又は異なって、水素原子又は有機基を表す。Ｒ^２は、同一又は異なって、炭素数２～２０のアルキレン基を表す。ａは、１～３の整数である。ｎは、０～２０の整数である。）で表される化合物であることが好ましい。

上記式（２）において、Ｒ^１は、同一又は異なって、水素原子又は有機基であり、好ましくは有機基である。
上記有機基としては、特に制限されないが、ヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基が挙げられる。
上記有機基の炭素数としては特に制限されないが、１～２０であることが好ましい。より好ましくは１～１６であり、更に好ましくは１～１２であり、一層好ましくは１～８であり、特に好ましくは１～４である。
上記有機基における炭化水素基としては、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数２～２０のアルキニル基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアラルキル基等が挙げられる。

上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基（アミル基）、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、ｎ－イコシル基、ｉ－プロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、１－メチルブチル基、１－エチルプロピル基、２－メチルブチル基、ｉ－アミル基、ネオペンチル基、１，２－ジメチルプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、ｔ－アミル基、１，３－ジメチルブチル基、３，３－ジメチルブチル基、２－エチルブチル基、２－エチル－２－メチルプロピル基、１－メチルヘプチル基、２－エチルヘキシル基、１，５－ジメチルヘキシル基、ｔ－オクチル基、分岐したノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基、イコシル基等の脂肪族アルキル基；シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基（Ｃ７）、アダマンチル基（Ｃ１０）、シクロペンチルエチル基等の脂環式アルキル基が挙げられる。

上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ドデセニル基、オクタデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。
上記アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、ノニニル基、デシニル基、ドデシニル基、オクタデシニル基、イコシニル基等が挙げられる。

上記アリール基としては、例えば、フェニル基、ｏ－，ｍ－若しくはｐ－トリル基、２，３－若しくは２，４－キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニリル基、ベンズヒドリル基等が挙げられる。
上記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。

上記炭化水素基は、ヘテロ原子を有していてもよく、例えば、カルボニル基、アミド基、エーテル基、エステル基、水酸基、チオエーテル基等の置換基を有していてもよい。上記置換基として好ましくは、カルボニル基、アミド基、エーテル基、エステル基、水酸基であり、より好ましくはカルボニル基、エステル基である。
上記Ｒ^１がカルボニル構造を有し、Ｒ^２との連結部分がエステル構造となる形態は、好ましい実施形態の１つである。
上記有機基が（メタ）アクリロイル基である形態もまた、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記炭化水素基の炭素数には上記置換基の炭素数も含まれる。

上記有機基として好ましくはアルキル基、アルケニル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基（アミル基）、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基等の炭素数１～８の直鎖アルキル基；ｉ－プロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、１－メチルブチル基、１－エチルプロピル基、２－メチルブチル基、ｉ－アミル基、ネオペンチル基、１，２－ジメチルプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、ｔ－アミル基、１，３－ジメチルブチル基、３，３－ジメチルブチル基、２－エチルブチル基、２－エチル－２－メチルプロピル基、１－メチルヘプチル基、２－エチルヘキシル基、１，５－ジメチルヘキシル基、ｔ－オクチル基、１－エチルペンチル基等の炭素数１～８の分岐のアルキル基；ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等のアルケニル基である。

上記Ｒ^１の有機基が、ポリエステル構造を有する形態もまた、本発明の好ましい実施形態の１つであり、上記Ｒ^１が下記式；
－（Ｒ^１’－ＣＯＯ）_ｍ－Ｒ^１’’
（式中、Ｒ^１’は、炭素数１～１０のアルキレン基を表す。Ｒ^１’’は、炭素数１～４のアルキル基を表す。ｍは、１～１０の数である。）で表される形態も好ましい。

上記式（２）における－（Ｒ^２Ｏ）－で表されるオキシアルキレン基は、炭素数２～２０のオキシアルキレン基であり、オキシアルキレン基が２種以上存在する場合には、ランダム付加、ブロック付加、交互付加等のいずれの付加形態であってもよい。
上記－（Ｒ^２Ｏ）－で表されるオキシアルキレン基は、炭素数２～８のオキシアルキレン基が好ましく、より好ましくは、炭素数２～４のオキシアルキレン基である。
これらのオキシアルキレン基は、アルキレンオキシド付加物であり、このようなアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、イソブチレンオキシド、１－ブテンオキシド、２－ブテンオキシド、スチレンオキシド等が挙げられる。より好ましくは、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシドであり、更に好ましくは、エチレンオキシド、プロピレンオキシドである。

上記式（２）における－（Ｒ^２Ｏ）－で表されるオキシアルキレン基が、エチレンオキシドが付加したオキシエチレン基を含むものである場合、全オキシアルキレン基１００モル％中にオキシエチレン基を５０～１００モル％含むことが好ましい。より好ましくは６０～１００モル％、更に好ましくは７０～１００モル％であり、特に好ましくは８０～１００モル％であり、最も好ましくは９０～１００モル％である。

上記式（２）におけるａは、１～３の整数である。好ましくはａは１又は２である。
上記無機粒子含有組成物は、式（２）におけるａが１であるリン酸モノエステルと、ａが２であるリン酸ジエステルと、ａが３であるリン酸トリエステルの２種以上を含んでいてもよく、リン酸モノエステルとリン酸ジエステルとを含む形態は本発明の好ましい実施形態の１つである。

上記式（２）におけるｎは、０～２０の整数である。ｎとして好ましくは１～１５であり、より好ましくは２～１０であり、更に好ましくは３～８であり、特に好ましくは３～６である。
一態様において、ｎが１である形態も好ましい実施形態の１つである。
上記リン酸系化合物がオキシアルキレン基を有する場合、溶媒との親和性がより向上するため、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子及びチタン酸塩粒子の分散性がより高まる。

上記リン酸系化合物は、分子量が９８～２０００であることが好ましい。リン酸系化合物の分子量が上記範囲であることにより、酸化ジルコニウム、酸化チタン又はチタン酸塩の粒子間の細かい隙間により充分に入り込むことができ、分散性がより向上する。リン酸系化合物の分子量としてより好ましくは１８０～１８００であり、更に好ましくは２００～１５００であり、一層好ましくは２２０～１２００であり、特に好ましくは２４０～１０００である。
上記リン酸系化合物の分子量は、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）法、又はゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定することができる。

〔無機粒子含有組成物の製造方法〕
本発明は、無機粒子含有組成物を製造する方法であって、該製造方法は、カルコゲン化亜鉛と分散剤との存在下で、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の粒子の凝集体を解砕する工程を含む、無機粒子含有組成物の製造方法でもある。

上記無機粒子含有組成物の製造方法は、カルコゲン化亜鉛と分散剤との存在下で、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の粒子の凝集体を解砕する工程を含む限り特に制限されないが、上記解砕工程において、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体とカルコゲン化亜鉛と分散剤とを含む混合物を解砕することが好ましい。

上記無機粒子含有組成物の製造において用いる分散剤は、無機粒子含有組成物において述べた分散剤と同様のものを用いることができ、分散剤の好ましい形態についても、上述のとおりである。

上記解砕工程におけるカルコゲン化亜鉛の使用量は、特に制限されないが、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子及びチタン酸塩粒子の凝集体の合計１００質量％に対して、１～１５０質量％であることが好ましい。カルコゲン化亜鉛の使用量としてより好ましくは２～１００質量％であり、更に好ましくは３～５０質量％であり、特に好ましくは５～３５質量％である。

上記解砕工程における分散剤の使用量は、特に制限されないが、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子及びチタン酸塩粒子の凝集体の合計１００質量％に対して、１～３０質量％であることが好ましい。分散剤の使用量が１質量％以上である場合、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の解砕性をより向上させることができ、分散剤の使用量が３０質量％以下である場合、得られる組成物を用いて塗膜を形成した際の塗膜の屈折率をより高めることができる。分散剤の使用量としてより好ましくは２～２５質量％であり、更に好ましくは５～２２質量％であり、特に好ましくは１０～２０質量％である。

上記無機粒子含有組成物の製造方法において、分散剤として上記硫黄含有重合体を用いる形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記硫黄含有重合体の使用量は、特に制限されないが、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子及びチタン酸塩粒子の凝集体の合計１００質量％に対して、１～３０質量％であることが好ましい。硫黄含有重合体の使用量としてより好ましくは２～２５質量％であり、更に好ましくは４～２０質量％であり、特に好ましくは５～１５質量％である。

上記無機粒子含有組成物の製造方法において、分散剤として上記リン酸系化合物を用いる形態は、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記解砕工程におけるリン酸系化合物の使用量は、特に制限されないが、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子及びチタン酸塩粒子の凝集体の合計１００質量％に対して、０．５～１０質量％であることが好ましい。リン酸系化合物の使用量としてより好ましくは１～９質量％であり、更に好ましくは２～８質量％であり、特に好ましくは３～７質量％である。

上記解砕工程は、溶媒を用いずに行ってもよいが、溶媒の存在下で行うことが好ましい。
すなわち、上記酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の粒子の凝集体とカルコゲン化亜鉛と分散剤とを含む混合物は、さらに溶媒を含むことが好ましい。この場合、解砕による温度上昇等を抑え、マイルドな温度条件下で解砕を行える傾向がある。
上記溶媒は特に制限されないが、上記分散剤の溶解性に優れるものが好ましい。例えば、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、１，１，２，２－テトラクロロエタン、クロロベンゼン、１，２－ジクロロベンゼン、１，３－ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ニトロメタン、ニトロベンゼン、Ｎ－メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、シクロペンチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、シクロヘプタノン、トルエン、キシレン、プロピレングリコールモノメチルエチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、スルホラン等の非ハロゲン系溶媒等があげられ、１種又は２種以上を用いることができる。中でも、非ハロゲン系溶媒が好ましく、中でも、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールモノメチルエチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフレン、Ｎ－メチルピロリドン等からなる群から選択される少なくとも１種の溶媒を含むことがより好ましい。

上記解砕工程で用いる溶媒の量は特に制限されないが、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛及び分散剤の合計含有量１００質量部に対して、２０～１０００質量部であることが好ましく、６０～４００質量部であることがより好ましく、１００～２５０質量部であることがさらに好ましい。上記混合物における、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛及び分散剤の合計含有量１００質量部に対する上記溶媒の含有量の好ましい範囲についても同様である。

上記製造方法における解砕の方法（解砕方法とも称する）は、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体を、一次粒子である無機粒子に解砕する操作（解砕操作）を含むものであれば、特に制限されない。さらに無機粒子をさらに細かく粉砕する操作を含んでいてもよいが、凝集体を一次粒子径付近まで解砕することが好ましい。

上記解砕工程で用いるＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体は、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の粒子が凝集した粒子を意味する。上記酸Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体においてはＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子が一次粒子として複数存在し、これらが凝集している。上記製造方法に用いるＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体として好ましくは、下記式で示されるように、平均一次粒子径（Ｄ１）に対する平均二次粒子径（Ｄ２）の比である凝集度（Ｒ）が５以上である粒子である。
凝集度（Ｒ）＝平均二次粒子径（Ｄ２）／平均一次粒子径（Ｄ１）
上記式において、平均一次粒子径（Ｄ１）、平均二次粒子径（Ｄ２）における単位（例えばｎｍ）は同じものを用いる。

上記平均二次粒子径（Ｄ２）は、動的光散乱法（ＤＬＳ）による粒度分布測定方法により、測定された、体積基準の粒度分布における５０％粒子径である。
上記平均二次粒子径（Ｄ２）の測定装置としては、濃厚系粒径アナライザーＦＰＡＲ－１０００（大塚電子株式会社）を用いることが好ましい。
上記の測定方法において測定試料は以下のようにして調整されたものを用いる。すなわち、１０ｃｃスクリュー管に、測定するＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体（粉末）０．０４ｇを秤取し、ベンジルアルコール８ｇを添加したものを、室温雰囲気で、振とう処理を２分間、超音波照射処理を１分間、振とう処理を２分間、超音波照射処理を１分間、および振とう処理を２分間、この順で行った後、得られた液を測定試料とする。上記振とう処理は振とう機（アズワン社製、ＴＵＢＥ　ＭＩＸＥＲ　ＴＲＩＯ、品番：ＨＭ－１Ｎ）を用いて行い、超音波照射処理は超音波装置（ブランソン社製、ＢＲＡＮＳＯＮＩＣ、品番：５５１０Ｊ－ＤＴＨ）を用いて行う。ただし、測定にあたり、散乱光量、多重散乱の有無に応じて、ベンジルアルコールを用いて適宜濃度調整すればよい。

上記製造方法において、上記解砕は、得られる無機粒子含有組成物における分散粒子径（Ｄｄ）が、用いた上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の平均二次粒子径（Ｄ２）より小さく、且つ、下記式で示される解砕度（ｒ）が５未満となるように行うことが好ましい。上記解砕度（ｒ）が３以下となるまで行うことがより好ましく、上記解砕度（ｒ）が２以下となるまで行うことがさらに好ましい。
解砕度（ｒ）＝Ｄｄ／Ｄ１
上記式において、Ｄｄは上記無機粒子含有組成物における分散粒子径（Ｄｄ）（単位：ｎｍ）であり、Ｄ１は用いた上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の平均一次粒子径（Ｄ１）（単位：ｎｍ）である。

上記解砕工程で用いるＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の平均一次粒子径（Ｄ１）は、特に制限されないが、平均一次粒子径（Ｄ１）が１～５０ｎｍであることが好ましい。このようなＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体を平均一次粒子径（Ｄ１）近くまで解砕すると、得られる上無機粒子含有組成物を塗膜とした場合に、透明性により優れたものとなる。Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の平均一次粒子径（Ｄ１）としてより好ましくは３～４５ｎｍであり、更に好ましくは５～４０ｎｍであり、一層好ましくは７～３０ｎｍであり、特に好ましくは１０～２５ｎｍである。

解砕工程で用いるＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体は、結晶性のジルコニウムの酸化物及び／又はチタンの酸化物を含むことが好ましい。結晶性のジルコニウムの酸化物、チタンの酸化物の結晶化度の好ましい範囲は、無機粒子含有組成物に含まれる酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩について述べたとおりである。また、上記結晶化度は、粉末Ｘ線回折測定により求めることができる。

上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体における平均二次粒子径（Ｄ２）は、特に制限されないが、５～２５０００ｎｍであることが好ましい。上記平均二次粒子径（Ｄ２）を上記範囲とすることにより、得られる無機粒子含有組成物が光透過性に優れたものとなり易い傾向がある。上記平均二次粒子径（Ｄ２）は、より好ましくは２００００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１００００ｎｍ以下であり、特に好ましくは８０００ｎｍ以下である。下限値はより好ましくは２５ｎｍ以上であり、さらに好ましくは３５ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。

上記解砕工程で用いるＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体における平均一次粒子径（Ｄ１）、上記製造方法により得られる無機粒子含有組成物中のＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の平均一次粒子径（Ｄ１）の定義、分散粒子径（Ｄｄ）の定義、及び、これらの測定方法は、上述の無機粒子含有組成物に含まれるＺｒ又はＴｉ含有酸化物についての平均一次粒子径（Ｄ１）、分散粒子径（Ｄｄ）及びこれらの測定方法と同様である。

上述したように、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体としては、上記凝集度（Ｒ）が５以上であるものを用いることが好ましいが、上記凝集度（Ｒ）としては、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１５以上である。上限値は特に制限されないが、好ましくは１０００以下であり、より好ましくは５００以下であり、さらに好ましくは３００以下である。

上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の比表面積としては特に制限されないが、１～３００ｍ^２／ｇであることが好ましい。より好ましくは１０～２００ｍ^２／ｇであり、更に好ましくは１５～１５０ｍ^２／ｇである。
Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の比表面積は、ＢＥＴ法により測定された値であり、具体的には実施例に記載の方法により測定することができる。

上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の構造は、特に制限されず、多孔質構造であってもよいし、緻密な構造であってもよい。また中空形状であってもよい。上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の形状は、特に限定されず、不定形、粒状、板状、柱状、針状等のいずれであってもよいが、粒状が好ましく、粒状の中でも球状が好ましい。なお、上記粒状とは、アスペクト比が１．５以下の偏りのない形状を意味する。

上記解砕工程で用いＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の製造方法は特に制限されず、例えば、従来公知の湿式法、乾式法等により製造することができる。
具体的には例えば、シュウ酸塩の熱分解等の固体原料を熱分解させてＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子を得る固相合成法、金属アルコキシドを有機溶媒中で加水分解及び縮合反応させる方法や金属硝酸塩、硫酸塩、塩化物等の金属無機塩よりアルカリ水溶液中で酸化物を析出させる方法等の液相合成法、その液相合成法で得られた金属水酸化物又は金属酸化物を高温で焼成する方法；ＴｉＣｌ_４等の金属塩化物の加熱蒸気を加熱酸素と反応させ、高温気相で金属酸化物からなる粒子を形成させる方法等の気相反応法等が好ましく挙げられる。中でも気相反応法が好ましい。

二酸化チタンの製造方法としては、チタンアルコキシドの加水分解生成物を含水アルコール中又は有機酸中で水熱処理する方法、ＴｉＣｌ_４の加熱蒸気を加熱酸素と反応させ、高温気相でＴｉＯ_２粒子を形成させる塩素法、ＴｉＯＳＯ_４の水溶液を熱加水分解して得られる沈殿であるＡｎａｔａｓｅ型のＴｉＯ_２微粒子を８００～１０００℃で焼成し成長させる硫酸法等が好ましく挙げられる。中でも塩素法、硫酸法が好ましい。

上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体として、市販品を用いることもできる。
上記酸化ジルコニウム粒子の市販品としては、第一稀元素化学工業株式会社製；酸化ジルコニウムＵＥＰ－１００、ＵＥＰ－５０、ＵＥＰ、新日本電工株式会社製；酸化ジルコニウムＰＣＳ－９０、ＰＣＳ－６０、株式会社アイテック製；Ｚｉｒｃｏｎｅｏ－Ｃｐ、Ｚｉｒｃｏｎｅｏ－Ｒｐ等が挙げられる。
上記酸化チタン粒子の市販品としては、例えば、日本アエロジル株式会社製；ＡＥＲＯＸＩＤＥ（Ｒ）ＴｉＯ２　Ｐ－２５、ＡＥＲＯＸＩＤＥ（Ｒ）ＴｉＯ２　Ｐ－９０、ＡＥＲＯＸＩＤＥ（Ｒ）ＴｉＯ２　Ｔ－８０５、ＡＥＲＯＸＩＤＥ（Ｒ）ＴｉＯ２　ＮＫＴ－９０、テイカ株式会社製；微粒子酸化チタンＭＴ－０５、ＭＴ－１００ＳＡ、ＭＴ－１００ＨＤ、ＭＴ－５００Ｂ、石原産業株式会社製；高純度酸化チタンＰＴ－６０１Ａ、ＴＴＯ－５１（Ａ）、堺化学工業株式会社製；触媒担体用チタニアＳＳＰ－Ｍ、ＳＳＰ－Ｎ、ＳＴＲ－１００Ｎ、富士チタン工業株式会社製；マイクロチタンＴＡＦ－１５００Ｊ、ＴＡＦ－５００Ｊ、株式会社レゾナック・ホールディングス製；スーパータイタニアＦ－２、Ｆ－４Ａ、Ｆ－６Ａ等が挙げられる。
上記チタン酸塩粒子の市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製；チタン酸バリウムナノ粒子等が挙げられる。

上記解砕工程で用いるカルコゲン化亜鉛は、カルコゲン化亜鉛粒子の凝集体であっても、分散体であってもよい。
例えば、カルコゲン化亜鉛の凝集体は、上述の酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩と同様に、湿式法、乾式法等により製造することができる。

上記解砕工程で用いるカルコゲン化亜鉛は、亜鉛のカルコゲン化物であれば特に制限されず、亜鉛元素と第１６族元素（酸素、硫黄、セレン、テルル、ポロニウム、リバモリウム）とを含有する化合物であればよい。
カルコゲン化亜鉛として好ましくは酸化亜鉛（ＺｎＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、及びテルル化亜鉛（ＺｎＴｅ）等であり、より好ましくは酸化亜鉛、硫化亜鉛であり、更に好ましくは酸化亜鉛である。
上記解砕工程で用いるカルコゲン化亜鉛の平均一次粒子径は特に制限されないが、１～５０ｎｍであることが好ましい。カルコゲン化亜鉛の平均一次粒子径としてより好ましくは５～４０ｎｍであり、さらに好ましくは７～３０ｎｍであり、特に好ましくは１０～２５ｎｍである。上記平均一次粒子径については、無機粒子含有組成物におけるカルコゲン化亜鉛の平均一次粒子径と同様の意味であり、同様の測定方法により求めることができる。
酸化亜鉛としては、市販の酸化亜鉛の凝集体や分散体を用いることができる。
酸化亜鉛の凝集体の市販品としては、堺化学工業株式会社製；ＦＩＮＥＸ－５０、ＦＩＮＥＸ－３０、ＦＩＮＥＸ－５０ＬＰ、ＦＩＮＥＸ－３３Ｗ、ＦＩＮＥＸ－５２Ｗ－ＬＰ２、ＦＩＮＥＸ－３３Ｗ－ＬＰ２、ＦＩＮＥＸ－５０Ｓ－ＬＰ２、ＦＩＮＥＸ－３０Ｓ－ＬＰＴ、ＦＩＮＥＸ－５０－ОＴＳ、石原産業株式会社製；超微粒子酸化亜鉛ＦＺО－５０等が挙げられる。
酸化亜鉛の分散体としては、堺化学工業株式会社製；ＤＩＦ－５ＣＳ、ＤＩＦ－ＡＷ４ОＰ－３Ｗ等があげられる。

上記解砕方法としては、遊星ミルを用いる方法、アトライターを用いる方法、ジェットミルを用いる方法、振動ボールミルを用いる方法、ボールミルを用いる方法、ビーズを用いる方法が挙げられる。これらの中でも、ビーズを用いる方法が好ましい。短時間で解砕することができる傾向があるためである。

ビーズを用いる方法において、用いるビーズの材質、硬度は特に制限されない。用いる粒子の種類（Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物）、一次粒子の大きさ、凝集の強さ等により適宜選択すればよい。上記ビーズの材質としては、例えば、ガラス、アルミナ、ジルコン（ジルコニア・シリカ系セラミックス）、ジルコニア、窒化ケイ素、スチール等の無機材料、樹脂材料が挙げられる。解砕する凝集体が結晶性の酸化ジルコニウム粒子及び／又は酸化チタン粒子の凝集体である場合、上記ビーズの材質としてはジルコニアが好ましく、上記ビーズのモース硬度としては８～１０の範囲が好ましい。

上記ビーズの平均粒径は特に制限されない。用いる粒子の種類（Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物）、一次粒子の大きさ、凝集力等により適宜選択すればよいが、通常、平均粒径が０．０１ｍｍ～２ｍｍの範囲内のビーズを用いる。好ましくは０．０２ｍｍ以上、より好ましくは０．０４ｍｍ以上である。好ましくは１ｍｍ以下であり、より好ましくは０．５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは０．１ｍｍ以下であり、特に好ましくは０．０８ｍｍ以下である。
解砕するＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の平均一次粒子径（Ｄ１）に対するビーズの平均粒径の比が、１００～１００００の範囲となるビーズを用いることが好ましい。該比は、２００～８０００がより好ましく、５００～５０００がさらに好ましい。

上記ビーズの平均粒径は、個数基準の平均粒径であり、通常は、ビーズの光学顕微鏡像より個々のビーズの粒径（直径）を測定し、個数基準の粒度分布を求め、５０％径を該ビーズの平均粒径として採用する。
上記ビーズとしては、市販品を用いることができる。例えば、ＹＴＺ（Ｒ）ボール（Φ０．０１５ｍｍ、０．０３ｍｍ、０．０５ｍｍ、０．１ｍｍ、０．２ｍｍ、０．３ｍｍ）、アルミナボールＨＤ、ＨＤ－１１、ＳＳＡ－９９５、ＳＳＡ－９９９Ｗ、ＳＳＡ－９９９Ｓ（以上、ニッカトー株式会社製）、ＮＺ１０、ＮＺ３０、ＮＺ５０、ＮＺ３０ＨＬＣ、ＮＺ５０ＨＬＣ（以上、ニイミ産業株式会社製）等が挙げられる。

上記ビーズを用いる方法において、ビーズの使用量は、特に制限されないが、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体１質量部に対するビーズの割合が１～５０質量部となるようにビーズを用いることが好ましい。上記割合は、より好ましくは５～３０質量部であり、さらに好ましくは１０～２０質量部である。

上記ビーズを用いる方法としては、例えば、ペイントシェーカーを用いる方法、ビーズミルを用いる方法が挙げられる。
上記ペイントシェーカーを用いる方法の場合、ビーズを用いてＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体を解砕することができれば、特に制限する条件はなく、平均一次粒子径をできるだけ低減することなく、分散粒子径を低減する条件を選択することが好ましい。このような観点から、好ましい振動速度は１００～１０００ｃｐｍであり、好ましい振動幅は７５０ｃｐｍであり、好ましい処理時間は１～２４時間である。
上記方法において用いることのできる装置としては、市販の装置をあげることができ、例えば、Ｎｏ．４８８試験用分散機（ペイントシェーカー・ペイントコンディショナー）（株式会社東洋精機製作所製）、分散機スタンダードモデル（株式会社セイワ技研製）等が挙げられる。

上記ビーズミルを用いる方法の場合、ビーズを用いてＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体を解砕することができれば、特に制限する条件はなく、平均一次粒子径をできるだけ低減することなく、分散粒子径を低減する条件を選択することが好ましい。このような観点から、好ましい回転数は５００ｒｐｍ～８０００ｒｐｍであり、好ましい周速は５～２０ｍ／ｓであり、好ましい処理時間は１～２４時間であり、循環式の場合の好ましいパス回数は５～５００回であり、好ましい流量は０．１～１００Ｌ／分である。
上記方法において用いることのできる装置としては、市販の装置をあげることができ、例えば、レディーミルＲＭＢ、イージーナノＲＭＢ、イージーナノＲＭＢＩＩ型、Ｎｅｏ―アルファミルＮＡＭ、サンドグラインダーＢＳＧ、サンドグラインダーＥＳＧ（以上、アイメックス株式会社製）、ラボスターミニＬＭＺ０１５、ラボスターミニＤＭＳ６５、ラボスターミニＨＦＭ０２、ラボスターＬＭＺ０６、ラボスターＬＭＥ０７５、ナノ・ゲッター、ＭＡＸナノ・ゲッター（以上、アシザワ・ファインテック株式会社製）等が挙げられる。

上記ビーズを用いる方法においては、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛及び分散剤の混合物を上記ビーズと混合し、解砕することが好ましく、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛、分散剤及び上記溶媒の混合物を上記ビーズと混合し、解砕を行うことがより好ましい。

上記解砕工程において、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛、分散剤及び上記溶媒以外の他の成分を更に共存させることができる。上記混合物においてもまた、他の成分を共存させることができる。
上記他の成分としては、例えば、オレイン酸等のカルボン酸系化合物、ベンジルアルコール、シクロヘキシルアルコール等のアルコール系化合物、３―（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート等のシラン化合物、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３７８等の表面調整剤（表面張力調整剤）等が挙げられる。上記他の成分の含有量は、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の合計１００質量部に対し、０．００１～１０質量部であることが好ましい。より好ましくは０．００５～５質量部以下であり、さらに好ましくは１質量部以下である。一方、より好ましくは０．０１質量部以上であり、さらに好ましくは０．１質量部以上である。

上記ビーズを用いる方法においては、解砕後、得られた組成物よりビーズを除去することが好ましい。ビーズを除去する手段としては、ろ過、遠心分離等が挙げられる。
上述した製造方法により、無機粒子含有組成物が得られるが、上記製造方法は、上記解砕工程後にさらに他の工程を有していてもよい。上記他の工程としては精製工程が挙げられる。例えば、上記ビーズを用いる方法において生成したビーズの摩耗粉や、原料に用いたＺｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体の一部が解砕されずに残留した場合には該残留物を除去するために、ろ過等の精製工程を行うことができる。

〔重合性組成物〕
本発明の無機粒子含有組成物は、そのままでも、無機粒子の機能を発揮し得る機能性コーティング剤等として各種用途に用いることができるが、例えば得られる膜を硬化物膜（塗膜）としたり、基材との密着性を高めたりする等の目的で従来公知の重合性単量体や樹脂成分を添加しさらに付加価値を高めて上記の用途等に用いることもできる。
例えば、無機粒子含有組成物に、塗料やインクに用いられる従来公知の表面張力調整剤を添加することにより、成膜性やインプリント成型性を調整することもできる。
本発明は、無機粒子含有組成物と重合性単量体とを含む重合性組成物でもある。
上記重合性組成物を塗膜形成に用いることは、本発明の好ましい実施形態の１つである。

上記重合性組成物における重合性単量体の割合は特に制限されないが、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計１００質量％に対して０．５～２００質量％であることが好ましい。より好ましくは２～１００質量％であり、更に好ましくは５～７５質量％であり、特に好ましくは１０～５０質量％である。

重合性組成物における酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計の含有割合は、特に制限されないが、重合性組成物１００質量％に対して１～９９質量％であることが好ましい。酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計の含有割合が１質量％以上である場合、塗膜を形成した際の屈折率をより高めることができる。酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計子の含有割合としてより好ましくは５～９０質量％であり、更に好ましくは５～７５質量％であり、特に好ましくは１０～５０質量％である。

上記重合性組成物における酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計の含有割合は、組成物中の固形分１００質量％に対して１５～９５質量％であることが好ましい。より好ましくは３５～９０質量％であり、更に好ましくは５０～８２質量％である。

上記重合性組成物に含まれる重合性単量体は、重合性官能基を有する単量体であれば特に制限されないが、例えば、エチレン性不飽和基を有する化合物、分子内に開環重合性基を２個以上有する化合物、分子内にイソシアネート基を２個以上含む化合物、分子内にオキサゾリン基を２個以上含む化合物等が挙げられる。

エチレン性不飽和基を有する化合物としては特に制限されないが、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタアクリルアミド基、アリル基、又は、ビニル基、マレイミド基等のラジカル硬化性基及び／又は付加硬化性基を有する化合物が挙げられ、具体例としては、ジビニルベンゼン等の芳香族ビニル系モノマー；ジアリルフタレート、ジアリルベンゼンホスホネート等の芳香族アリル系モノマー；Ｎ－ベンジル（メタ）アクリルアミド、４－アクリロイルモルフォリン等の（メタ）アクリルアミドモノマー；酢酸ビニル等のビニルエステルモノマー；ビス（４－ビニルチオフェニル）スルフィド、フェニルビニルスルフィド等のビニルチオエーテル；（ジ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸ベンジル、９，９－ビス（４－（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、（９Ｈ－フルオレン－９，９－ジイル）ビス（４，１－フェニレン）ジ（メタ）アクリレート等のフルオレン骨格を有するジ（メタ）アクリレート、トリス［２－（メタ）アクリロイルオキシエチル］トリアジンベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸（１－ナフチル）メチル、２－ナフタレン（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸（デカヒドロ－１，４：５，８－ジメタノナフタレン）－２－イル、４－フェニルベンジル（メタ）アクリレート、２－フェニルベンジル（メタ）アクリレート等のビフェニルメチル（メタ）アクリレート、４，４’－ビス（メタ）アクリルオキシメチルビフェニル、ｏ－フェニルフェノールエチル（メタ）アクリレート、フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、ｏ－フェニルフェノール－（ＥＯ）付加－（メタ）アクリレート、ｏ－フェニルフェノール－（ＥＯ）２－（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ－（ＥＯ）付加－（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳ－（ＥＯ）付加－（メタ）アクリレート、ウレンタン（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ビス（４－メタクリロイルチオフェニル）スルフィド等の硫黄含有（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－ヘプタフルオロデシル、アダマンチル骨格を有する（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル系モノマー；トリアリルシアヌレート；グリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート等が挙げられる。

分子内に開環重合性基を２個以上有する化合物としては特に制限されないが、エポキシ基、オキセタン基、エチレンスルフィド基、アジリジン基等の開環重合性基を有する化合物が挙げられ、具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、フルオレン系エポキシ化合物、ブロモ置換基を有する芳香族エポキシ化合物等の芳香族エポキシ化合物；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ６００）とエピハロヒドリンとの縮合反応により得られるもの等の脂肪族エポキシ化合物、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、イプシロン－カプロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス－（３，４－エポキシシクロヘキシル）アジペート等の脂環式エポキシ化合物、水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、水添ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、水添ビスフェノールＦ型エポキシ化合物等の水添エポキシ化合物、１，２－ビス〔（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル〕エタン、ジペンタエリスリトールテトラキス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル等の脂肪族オキセタン化合物；フェノールノボラックオキセタン、ビフェニル骨格を有するジオキセタン化合物（宇部興産社製、ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ（登録商標）ＯＸＢＰ）、フェニル骨格を有するジオキセタン化合物（宇部興産社製、ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ（登録商標）ＯＸＴＰ）、フルオレン骨格を有するジオキセタン化合物等の芳香族オキセタン化合物、ビス（２，３－エピチオプロピル）スルフィド、ビス（２，３－エピチオプロピル）ジスルフィド、１，３－ビス（２，３－エピチオプロピルチオ）シクロヘキサン等の脂肪族エピスルフィド化合物；１，２－ビス（２，３－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，３－ビス（２，３－エピチオプロピルチオ）ベンゼン等の芳香族エピスルフィド化合物；３－メルカプトプロピレンスルフィド、４－メルカプトブテンスルフィド等のメルカプト基含有エピチオ化合物等があげられる。

分子内にイソシアネート基を２個以上含む化合物としては特に制限されないが、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジントリイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート化合物；イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、４，９－ビス（イソシアナトメチル）トリシクロデカン等の脂環族ポリイソシアネート化合物；トリレンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルスルフィド－４，４－ジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート化合物；４，５－ビス（イソシアナトメチル）－１，３－ジチオラン等の複素環ポリイソシアネート化合物；ビス（イソチオシアナトエチル）ジスルフィド等の脂肪族ポリイソチオシアネート化合物；３，９－ビス（イソチオシアナトメチル）トリシクロデカン、４，８－ビス（イソチオシアナトメチル）トリシクロデカン等の脂環族ポリイソチオシアネート化合物；トリレンジイソチオシアネート等の芳香族ポリイソチオシアネート化合物；２，５－ジイソチオシアナトチオフェン、２，５－ビス（イソチオシアナトメチル）チオフェン等の含硫複素環ポリイソチオシアネート化合物等があげられる。

分子内にオキサゾリン基を２個以上含む化合物としては、例えば、２，２’－（１，３－フェニレン）ビス－（２－オキサゾリン）、日本触媒製、エポクロス（登録商標）等のオキサゾリン基含有ポリマー等があげられる。

重合性単量体として好ましくはエチレン性不飽和基を有する化合物であり、より好ましくは（メタ）アクリル基を有する化合物であり、更に好ましくは芳香族基を有する（メタ）アクリル系モノマーである。

上記重合性組成物は、上記Ｚｒ又はＴｉ含有酸化物の粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛、分散剤、溶媒及び重合性単量体以外のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては上述の表面調整剤、重合開始剤、光増感剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、顔料、染料、酸化防止剤、樹脂、反応性希釈剤、光安定剤、可塑剤、非反応性化合物、連鎖移動剤、熱重合開始剤、嫌気重合開始剤、重合禁止剤、無機充填剤、有機充填剤、カップリング剤等の密着向上剤、熱安定剤、防菌・防カビ剤、難燃剤、艶消し剤、消泡剤、レベリング剤、湿潤・分散剤、沈降防止剤、増粘剤・タレ防止剤、色分かれ防止剤、乳化剤、スリップ・スリキズ防止剤、皮張り防止剤、乾燥剤、防汚剤、帯電防止剤、導電剤（静電助剤）等が挙げられる。

記重合開始剤としては特に制限されず、従来公知の熱重合開始剤、光重合開始剤を適宜選択して用いることができ、例えば、アミノベンゾエート系開始剤、アセトフェノン系開始剤、ベンゾイン系開始剤、ベンゾフェノン系開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤、オキシムエステル系開始剤、カチオン性開始剤等が挙げられる。上記重合開始剤は、市販されているものを使用することができ、例えば、ＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ社製の「Ｅｓａｃｕｒｅ　Ａ１９８」、「Ｏｍｎｉｐｏｌ　ＡＳＡ」「Ｏｍｎｉｒａｄ　ＥＤＢ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　ＥＨＡ」、Ｒａｈｎ　ＡＧ社製の「ＧＥＮＯＰＯＬ　ＡＢ－１」「ＧＥＮＯＰＯＬ　ＡＢ－２」等のアミノベンゾエート系開始剤や、ＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ社製の「Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７」、「Ｅｓａｃｕｒｅ　ＫＩＰ　１５０」、「Ｅｓａｃｕｒｅ　ＫＩＰ　１６０」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４」等のアセトフェノン系開始剤や、ＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ社製の「Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ－Ｌ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９」等のアシルフォスフィンオキサイド系開始剤や、ＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ社製の「Ｏｍｎｉｒａｄ　１３１２」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　１３１４」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　１３１６」等のオキシムエステル系開始剤や、ＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ社製の「Ｏｍｎｉｃａｔ　２５０」、「Ｏｍｎｉｃａｔ　４３２」等のカチオン性開始剤などが挙げられる。
上記重合開始剤の含有量は特に制限されないが、たとえば、上記重合性単量体１００質量％に対して、０．０１～２０質量％の範囲であることが好ましく、０．０５～１０質量％であることが更に好ましく、０．１～５質量％であることが更により好ましい。

光増感剤としては特に制限されず、従来公知の光増感剤を適宜選択して用いることができ、例えば、ＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ社製の「Ｏｍｎｉｒａｄ　ＩＴＸ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　ＤＥＴＸ」、「Ｏｍｎｉｒａｄ　ＤＥＴＸ」等のチオキサントン系光増感剤や、「Ｅｓａｃｕｒｅ３６４４」等のクマリン系光増感剤等が挙げられる。
上記光増感剤の含有量は特に制限されないが、たとえば、上記重合性単量体１００質量％に対して、０．０１～２０質量％の範囲であることが好ましく、０．０５～１０質量％であることが更に好ましく、０．１～５質量％であることが更により好ましい。

紫外線吸収剤としては特に制限されず、従来公知の紫外線吸収剤を適宜選択して用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製ＴＩＮＵＶＩＮ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ４７９等のトリアジン系紫外線吸収剤や、ＴＩＮＵＶＩＮ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ３６０、ＴＩＮＵＶＩＮ９００、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８、ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。

光安定化剤としては特に制限されず、従来公知の光安定化剤を適宜選択して用いることができ、例えば、アデカスタブＬＡ－５２、アデカスタブＬＡ－５７、アデカスタブＬＡ－６３Ｐ、アデカスタブＬＡ－６８、アデカスタブＬＡ－７２、アデカスタブＬＡ－７７、アデカスタブＬＡ－８１、アデカスタブＬＡ－８２、アデカスタブＬＡ－８７、アデカスタブＬＡ－４０２ＸＰ、アデカスタブＬＡ－５０２ＸＰ（いずれもＡＤＥＫＡ社製）、チヌビン１１１ＦＤＬ、チヌビン１２３、チヌビン１４４（ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）［｛３，５－ビス（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル｝メチル］ブチルマロネート）、チヌビン２９２（ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケートとメチル１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジルセバケートとの混合物）、チヌビン５１００（いずれもＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

上記重合性組成物を硬化する方法は、特に制限されず、例えば、加熱による方法（熱硬化）、活性エネルギー線を用いる方法など従来公知の方法を用いることができる。加熱による方法の場合、加熱温度は、特に制限されないが、５０～４００℃が好ましく、１００～３００℃がより好ましい。また加熱時間は、特に制限されないが、０．０１～１０時間が好ましく、０．１～２時間がより好ましい。上記活性エネルギー線を用いる方法の場合、活性エネルギー線としては紫外線、または電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。紫外線照射を行う場合、紫外線照射量（積算露光量）は特に制限されないが、０．００１～１００Ｊ／ｃｍ^２の範囲となるよう照射することが好ましく、より好ましくは、０．０１～５０Ｊ／ｃｍ^２、さらに好ましくは０．０５～１０Ｊ／ｃｍ^２である。光源としては、各種水銀灯、ＬＥＤ等を用いることができるが、超高圧水銀ランプやメタルハライドランプ、ＬＥＤが好ましい。

上記重合性組成物を用いて塗膜を形成する方法としては特に制限されないが、基材等に塗布して塗膜を形成することが好ましい。
塗布により塗膜を形成する場合、塗布方法は、特に制限されず、従来公知の方法を採用することができる。中でも、スピン塗布、バーコート塗布、スキージ塗布、インクジェット塗布、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等が好ましい。塗布する厚みは、特に制限されず、得られる膜の用途等に応じて適宜選択すればよい。例えば光学材料として用いる場合、得られる膜の厚みが０．０１～１０００μｍとなるよう塗布厚みを調整することが好ましい。上記塗布厚みは、より好ましくは０．１～１００μｍであり、さらに好ましくは０．５～１０μｍである。

上記塗膜形成において、塗布した膜（塗膜）に対し、加熱および／または活性エネルギー線照射を行うことが好ましい。塗膜に含まれる溶媒を、加熱することにより蒸発除去することができる。また、加熱することにより、又は活性エネルギー線照射を行うことにより、塗膜に含まれる重合性単量体等の反応を促進し硬化膜を得ることができる。

上記塗膜形成において、加熱をする場合、加熱温度は、特に制限されないが、５０～４００℃が好ましく、１００～３００℃がより好ましい。また加熱時間は、特に制限されないが、０．０１～１０時間が好ましく、０．１～２時間がより好ましい。

上記活性エネルギー線としては紫外線、または電子線が好ましく、紫外線がより好ましい。紫外線照射を行う場合、紫外線照射量（積算露光量）は特に制限されないが、好ましい量としては上述のとおりである。

上記重合性組成物を塗布する基材は、特に制限されないが、例えば、ガラス板、石英板、有機樹脂フィルム、有機樹脂成型物、これらの表面に透明無機酸化物層を有するフィルム、シート、板等の光透過性基板；Ｓｉ半導体基板、ＩｎＧａＡｓ等の化合物半導体基板等の受光基板；ＬＥＤ、有機ＥＬ、レーザーダイオード（半導体レーザー）等の発光基板等が好ましい。

上記重合性組成物を用いて塗膜を形成した後、金型、樹脂型を用いてナノインプリント成型法等によりパターンを形成することも本発明の好ましい実施形態の一つである。
パターン形成方法としては特に制限されないが、上述の方法等により基板に重合性組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜形成工程で得られた塗膜に凹凸パターンを有するモールドを押圧してパターンを形成する工程を含むことが好ましい。

上記パターン形成工程において用いられるモールドは、表面に凹凸からなる転写パターンが形成されたものであれば特に制限されないが、モールド表面の材質としては、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、エポキシ樹脂、石英、ガラス等が挙げられる。

上記モールド表面の表面張力としては特に制限されないが、４０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。より好ましくは３５ｍＮ／ｍ以下であり、更に好ましくは３０ｍＮ／ｍ以下であり、特に好ましくは２５ｍＮ／ｍ以下である。

〔用途〕
本発明の無機粒子含有組成物、重合性組成物は、光学材料、オプトデバイス部材、表示デバイス部材等の光学用途を始め、機械部品材料、電気・電子部品材料、自動車部品材料、土木建築材料等の各種用途において、成型材料あるいは成型材料用原料、コーティング剤あるいはコーティング剤用原料、ナノインプリントリソグラフィ等のナノ粒子インク等として好ましく使用される。

例えば、上記無機粒子含有組成物、重合性組成物は、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種を含むため、特に、光学材料、オプトデバイス部材、表示デバイス部材の製造に好適に使用することができる。具体的な用途として、例えば、眼鏡レンズ、ＶＲ（仮想現実）、ＡＲ（拡張現実）、ＭＲ（複合現実）を可能とするデジタル眼鏡・ゴーグル・ディスプレイ、（デジタル）カメラや携帯電話用カメラや車載カメラ等のカメラ用撮像レンズ、光ビーム集光レンズ、光拡散用レンズ等のレンズ、ＬＥＤ用封止材、光学用接着剤、光学用粘接着材、光伝送用接合材料、フィルター、回折格子、回折光学素子、プリズム、光案内子、ウォッチガラス、表示装置用のカバーガラス等の透明ガラスやカバーガラス等の光学材料用途；フォトセンサー（光学センサー（ＣＭＯＳセンサー、ＴＯＦセンサー等））、フォトスイッチ、ＬＥＤ、マイクロＬＥＤ、発光素子、光導波管、合波器、分波器、断路器、光分割器、光ファイバー接着剤等のオプトデバイス部材用途；ＬＣＤや有機ＥＬやＰＤＰ等の表示素子用基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、タッチパネル等に使用するインデックスマッチング材、ディスプレイ保護膜、ディスプレイバックライト、導光板、反射防止フィルム、防曇フィルム、ＬＥＤ・有機ＥＬ等光取出し向上剤等の表示デバイス部材用途；無機製、ガラス製、または樹脂製等の基板上に精密・薄膜化可能な回折光学素子、レンズ等を形成できるインプリント成型が適用可能な用途；ウエハレベルオプティクス等が挙げられる。これらの中でも撮像レンズ、ＶＲ（仮想現実）、ＡＲ（拡張現実）、ＭＲ（複合現実）を可能とするデジタル眼鏡・ゴーグル・ディスプレイ、フィルター、回折格子、回折光学素子、プリズム、光案内子、ＬＥＤ、マイクロＬＥＤ、発光素子、カラーフィルター、タッチパネルがより好ましい。

また、上記無機粒子含有組成物、重合性組成物は、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種を含み、屈折率が高いため、高屈折率成型材料、あるいは高屈折率成型材料用原料、高屈折率膜形成用コーティング剤、あるいは高屈折率膜形成用コーティング剤用原料として、上記の用途、特に上記の光学材料、オプトデバイス部材、表示デバイス部材、ナノインプリントリソグラフィ等のナノ粒子インクの製造に好ましく用いることができる。

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「％」は「質量％」を意味するものとする。

［酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩、カルコゲン化亜鉛に関する評価］
各実施例、比較例で用いた酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、チタン酸塩粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛における結晶構造、結晶化度、平均一次粒子径（Ｄ１）、比表面積、組成は以下のようにして測定した。

＜結晶構造の評価方法＞
各実施例、比較例で用いた酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、チタン酸塩粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛を試料として、結晶構造、結晶化度は、Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂ（リガク社製）を用いて測定した。測定条件は以下のとおりである。
Ｘ線源：ＣｕＫα（０．１５４ｎｍ）
Ｘ線出力設定：４５ｋＶ、２００ｍＡ
サンプリング幅：０．０２００°
スキャンスピード：５．００００°／ｍｉｎ
測定範囲：５～９０°
測定温度：２５℃
結晶構造は、各実施例、比較例で用いた酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、チタン酸塩粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛を試料とし、得られたＸ線回折パターンにより判定した。

＜平均一次粒子径（Ｄ１）＞
各実施例、比較例で用いた無機粒子の凝集体が酸化ジルコニウム（結晶性）を無機成分とするものである場合は、Ｘ線回折測定を行い、得られたＸ線回折パターンにおいて回折強度が最も大きい回折線（最強線）の半値全幅より結晶子径を求め、求めた値を平均一次粒子径（Ｄ１）とした。実施例５、６以外の実施例において用いた各無機粒子の凝集体においては格子面（１１－１）の回折線が最強線となっており、格子面（１１－１）の回折線の半値全幅を測定し、得られた値より解析ソフト（ＰＤＸＬ２）を用いて結晶子径Ｄｃ（１１－１）の値を算出し、得られた値を、用いた各無機粒子の凝集体の平均一次粒子径（Ｄ１）とした。実施例５、６において用いた各無機粒子の凝集体が酸化チタン（結晶性）を無機成分とするものである場合においては格子面（１０１）の回折線が最強線となっており、該回折線の半値全幅より上記の場合と同様にして結晶子径Ｄｃ（１０１）の値を算出し、得られた値を、用いた各無機粒子の凝集体の平均一次粒子径（Ｄ１）とした。Ｘ線回折測定を行った装置及び条件は結晶構造の場合と同様である。実施例１～７において用いたカルコゲン化亜鉛が酸化亜鉛（結晶性）を無機成分とするものである場合においては格子面（１０１）の回折線が最強線となっており、該回折線の半値全幅より上記の場合と同様にして結晶子径Ｄｃ（１０１）の値を算出し、得られた値を、用いた各無機粒子の平均一次粒子径（Ｄ１）とした。Ｘ線回折測定を行った装置および条件は結晶構造の場合と同様である。

＜比表面積＞
各実施例、比較例で用いた無機粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛の比表面積は、ＢＥＬＳＯＲＰ－ＭＲ６（マイクロトラック・ベル製）を用いて、ＢＥＴ法によりＢＥＴ比表面積を測定した。測定試料は、無機粒子の凝集体を２５℃の真空乾燥機中で、２０時間、真空乾燥したものを試料とした。

　＜組成＞
各実施例、比較例で用いた酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、チタン酸塩粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛を試料として、蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）を行い、金属元素、硫黄、塩素の含有量を評価した。具体的には、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、チタン酸塩粒子の凝集体、カルコゲン化亜鉛について蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）により検出された各金属元素、硫黄、塩素の含有質量の合計に対する各元素の含有質量の割合を求めた。

［無機粒子含有組成物に関する評価］
各実施例、比較例で得られた無機粒子含有組成物における分散粒子径（Ｄｄ）は以下のようにして測定した。

＜分散粒子径（Ｄｄ）＞
各実施例、比較例で得られた無機粒子含有組成物を用いて、以下のようにして試料を調製し、濃厚系粒径アナライザーＦＰＡＲ－１０００（大塚電子株式会社）により、体積基準の粒度分布を測定し、それぞれ１０％粒子径をＤ１０、５０％粒子径をＤ５０、９９％粒子径をＤ９９とし、５０％粒子径（Ｄ５０）を、測定した無機粒子含有組成物の分散粒子径（Ｄｄ）とした。
（測定試料の調製方法）
各実施例、比較例で得られた無機粒子含有組成物を、各組成物に含まれる無機粒子の濃度として３質量％程度となるよう、各実施例で用いた溶媒（Ｄ）で希釈したものを測定試料とした。なお、測定にあたり、散乱光量、多重散乱の有無に応じて適宜濃度調整を行った。

［各合成例で得られた硫黄含有重合体に関する評価］
各合成例で得られた硫黄含有重合体の平均分子量等は以下のようにして測定した。
　＜重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）＞
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により、下記の条件で測定して、各合成例で得られた硫黄含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）を求めた。
装置１：ＳＨＩＭＡＤＺＵ社製、ＣＢＭ－２０Ａ
装置２：アジレント・テクノロジー社製　１２６０　Ｉｎｆｉｎｉｔｙ
検出器：示差屈折率検出器（ＲＩ）（ＳＨＩＭＡＤＺＵ社製、ＳＰＤ－２０ＭＡ）、及び、紫外可視赤外分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ社製、ＳＰＤ－２０ＭＡ）
カラム：ＴＯＳＯＨ社製、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｎ
カラム温度：４０℃
流速：０．３ｍｌ／ｍｉｎ
検量線：Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ　Ｓｔａｎｄａｒｄｓ
溶離液：クロロホルム、テトラヒドロフラン

＜ＭＡＬＤＩ（飛行時間型質量分析）＞
各合成例で得られた硫黄含有重合体について、下記の条件でＭＡＬＤＩ測定を行った。
装置：飛行時間型質量分析装置（Ｂｒｕｋｅｒ　ＡｕｔｏｆｌｅｘＩＩＩ）
サンプル調製：１．０ｇのテトラヒドロフランに約２ｍｇの測定試料、マトリックス剤として、２０ｍｇの２，５－ジヒドロキシ安息香酸、イオン化剤として、２．０ｍｇのヨウ化ナトリウムを溶解させ、調整した溶液を測定用ターゲットプレートに塗布後、室温で１００分程乾燥した。

　＜^１Ｈ－ＮＭＲ＞
各合成例で得られた硫黄含有重合体について、下記の条件で^１Ｈ－ＮＭＲ測定を行った。
装置：日本電子株式会社製、核磁気共鳴装置（４００ＭＨｚ）
測定溶媒：重ジクロロメタン、重クロロホルム
サンプル調製：得られた重合体の数ｍｇ～数十ｍｇを測定溶媒に溶解した。

　＜^１３Ｃ－ＮＭＲ＞
各合成例で得られた硫黄含有重合体について、下記の条件で^１３Ｃ－ＮＭＲ測定を行った。
装置：日本電子株式会社製、核磁気共鳴装置（４００ＭＨｚ）
測定溶媒：重クロロホルム
サンプル調製：各合成例で得られた硫黄含有重合体の数十ｍｇ～数百ｍｇを測定溶媒に溶解した。

　＜ＩＲ＞
各合成例で得られた硫黄含有重合体について、下記の条件でＩＲ測定を行った。
装置：ＪＡＳＣＯ社製フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ／ＩＲ－６１００）
サンプル調製：約２ｍｇのサンプルを約３００ｍｇの乾燥臭化カリウム（ＫＢｒ）で希釈した。混合物を乳鉢及び乳棒ですりつぶし、成型した。

＜元素含有比率Ｏ／Ｓ比＞
各合成例で得られた硫黄含有重合体が１０％濃度になるようにシクロヘキサノン溶媒に溶解し、重合体溶液を調製した。該重合体溶液０．２５ｍｌを、シリコンウェハ上にスピンコートすることにより製膜した試料を用いて、ＪＥＯＬ社製光電子分光装置（ＪＰＳ－９０１０ＴＲ、ＸＰＳ装置、光源：Ｍｇ、Ｘ線出力：４００Ｗ）を用い、硫黄原子の２ｐ軌道由来のピーク強度と酸素原子の１ｓ軌道由来のピーク強度を測定し、その積分比を計算することでＯ／Ｓ比を算出した。必要に応じて、炭素原子の１ｓ軌道由来のピーク強度も測定し、その結果も考慮してＯ／Ｓ比を算出した。また、硫黄原子ピークについては、スルフィドとジスルフィドのピークにピーク分離できるものに関して、スルフィド／ジスルフィド比も算出した。なお、測定方法及び結合エネルギーの位置等は、Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（ＪＥＯＬ社、１９９１年３月発行）を参考とした。^１Ｈ－ＮＭＲ測定により、スルフィドとスルホキシドのピーク分離が可能であるものに関しては、それぞれの積分比を計算することでＯ／Ｓ比を算出した。

＜結合エネルギー＞
各合成例で得られた硫黄含有重合体が１０％濃度になるようにシクロヘキサノン溶媒に溶解し、重合体溶液を調製した。該重合体溶液０．２５ｍｌを、シリコンウェハ上にスピンコートすることにより製膜した試料を用いて、ＪＥＯＬ社製光電子分光装置（ＪＰＳ－９０１０ＴＲ、ＸＰＳ装置）を用い、硫黄原子の２ｐ３／２軌道のピーク位置より結合エネルギーを計測した。

＜有機元素分析＞
各合成例で得られた硫黄含有重合体について、下記の装置で元素分析測定を行った。
装置：ジェイ・サイエンス・ラボＪＭ１０

［各実施例、比較例で作製したコーティング膜の評価］
各実施例、比較例で作製したコーティング膜に関する各評価は以下のようにして行った。
＜ＵＶ照射によるコーティング膜の硬化方法＞
各実施例、比較例で作製したコーティング膜付きスライドガラスにおける硬化膜の作製は、エリアＵＶ照射器を用いてコーティング膜付きスライドガラスのコーティング膜にＵＶ照射することでコーティング膜の硬化を行い成膜した。装置は以下の通りである。
装置：エリアＵＶ照射システム（シーシーエス株式会社製）
電源：ＰＳＣＣ－６００４８－ＮＬ（シーシーエス株式会社製）
照射波長：３６５ｎｍ
照射強度：１００ｍＷ／ｃｍ^２

＜膜の屈折率、膜厚の評価方法＞
各実施例、比較例で得られたコーティング膜の屈折率、膜厚は、各実施例、比較例で作製したコーティング膜付きスライドガラスにおけるコーティング膜の反射スペクトルより求めた。屈折率は下記の装置を用い、測定した反射率から算出した５８９ｎｍにおける屈折率の値、膜厚の値を評価した。各実施例、比較例で得られた硬化膜の屈折率、膜厚についても同様の方法で求めた。
装置：フィルメトリクス社製膜厚測定システムＦ－２０
標準ファイバーステージＳＳ－１　（スポット径１．５ｍｍ）

　＜膜の透明性（ヘイズ）の評価方法＞
透明性は、ヘイズの測定により判定した。
各実施例、比較例で作製したコーティング膜付きスライドガラスのヘイズ測定を行い、得られた測定値より、基板として用いたスライドガラス基板のヘイズ測定値を差引いたものを、コーティング膜のヘイズとした。各実施例、比較例で得られた硬化膜のヘイズについても同様の方法で求めた。
ヘイズは下記の装置を用いた。
装置：日本電色工業社製濁度計ＨＡＺＥ　ＭＥＴＥＲ　ＮＤＨ５０００

（硫黄含有重合体の合成）
［合成例１］
＜硫黄含有重合体（Ｐｏ１ａ）の製造＞
３．０Ｌの三口フラスコに、ジフェニルジスルフィド（２１８．３３ｇ、１．００ｍｏｌ）、ビス（４－メチルフェニル）ジスルフィド（４９．２１ｇ、０．２０ｍｏｌ）、塩化鉄（ＩＩＩ）（９．７３ｇ、６０．００ｍｍｏｌ）、（＋）－ＣＳＡ（（＋）－１０－カンファースルホン酸）（２．７９ｇ、１２．００ｍｍｏｌ）、Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_８（ペルオキソ二硫酸ナトリウム）（２．５７ｇ、１２．００ｍｍｏｌ）を加えた。次いで、三口フラスコを１６０℃に加熱しながら窒素フロー（２０ｍＬ／分）を１０分間行った後、空気バブリング（１５０ｍＬ／分）に切り替え、４０時間攪拌することで酸化重合を行った。重合終了後、空気バブリングを停止し、Ｎ－メチルピロリドンを２４０ｍＬ加えて１０分間撹拌した。次いで、反応液を室温まで冷却し、さらに溶媒としてＴＨＦ（２．２Ｌ）を加え、１０分間攪拌後、純水を１９２ｍＬ加え、５分間攪拌した。次いで、ナスフラスコを氷冷バスで氷冷しながら、トリクロロイソシアヌル酸（１２２．１１ｇ、０．６６ｍｏｌ）を添加し、２時間攪拌後、亜鉛粉末（３１．５３ｇ、０．４８ｍｏｌ）を加え、室温で１４時間攪拌した。反応終了後、反応液にメタノール（１２Ｌ）を加えることで生成物を析出させ、析出した沈殿を濾過後、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行うことで、白色の硫黄含有重合体（Ｐｏ１ａ）粉末を得た。収率は９２％であった。得られた硫黄含有重合体（Ｐｏ１ａ）の構造は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ＸＰＳ、ＩＣＰ、ＩＲ、ＧＰＣ、元素分析、ＭＡＬＤＩ測定により同定した。その結果、^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_２Ｃｌ_２，４００ＭＨｚ，ｐｐｍ）：δ＝７．５６（ｍ，１７Ｈ），δ＝７．１９（ｍ，６Ｈ），２．３５（ｍ，３Ｈ）、ＸＰＳよりスルフィド基：スルホキシド基：スルホン酸基＝４５：５５：０ｍｏｌ％であることが確認され、ＩＲより、２５７０ｃｍ^－１付近にメルカプト由来のピークが観測され、ＧＰＣより、Ｍｗ＝２４００、Ｍｎ＝１１５０と確認され、末端構造を－ＳＨと確認した。Ｍｎ＝１１５０より、末端の芳香環（構成単位）の割合は、全芳香環（全構成単位）１００モル％に対して９．５モル％であることが確認された。

　＜硫黄含有重合体（Ｐｏ１）の製造＞
２．０Ｌの三口フラスコに、上記硫黄含有重合体（Ｐｏ１ａ）を２００．０ｇ加え、スルホランを溶媒として１．１Ｌ添加した。次いで、三口フラスコを１３０℃に加熱しながら窒素フロー（０．５Ｌ／分）を１０分間行った後、室温になるまで放冷した。放冷後、水冷バスに三口フラスコを浸し、窒素フロー（０．２５Ｌ／分）を行いながら、クロロ硫酸９８．３ｇ．を徐々に滴下した。滴下完了後、室温で２時間撹拌し、再び、三口フラスコを水冷バスで冷却しながら亜鉛１６．６ｇを添加し、１４時間攪拌した。反応終了後、得られた反応溶液をメタノール５．５Ｌに滴下することで生成物を析出させ、析出した沈殿を濾過後、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行うことで、重合体（Ｐｏ１）粉末を得た。収率は９０％であった。得られた重合体（Ｐｏ１）の構造は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ＩＣＰ、ＧＰＣ、ＩＲ、元素分析により同定した。その結果、^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，６００ＭＨｚ，ｐｐｍ）：δ＝７．５３（ｍ，１０Ｈ），δ＝７．２４（ｍ，１２Ｈ），２．３４（ｍ，３Ｈ）、ＩＲより、２５７０ｃｍ^－１付近にメルカプト由来のピークが観測され、ＧＰＣより、Ｍｗ＝２３７０、Ｍｎ＝１１５０と確認でき、全芳香環に対して２７．７ｍｏｌ％のチオール（－ＳＨ）基が存在することを確認した。重合体（Ｐｏ１ａ）のチオール（－ＳＨ）基の含有量が全芳香環（全構成単位）１００モル％に対して９．５モル％であると考えられることから、本反応で導入されたメルカプト基の量は１８．２ｍｏｌ％であると考えられる。元素分析により反応前の硫黄含有重合体（Ｐｏ１ａ）よりも硫黄含有重合体（Ｐｏ１）は、硫黄原子重量比が増加していることを確認した。

＜硫黄含有重合体（Ｐｏ１）のＳＨ基の定量＞
２０ｍＬの試験管に、硫黄含有重合体（Ｐｏ１）を２．０ｇ加えた後、１，２－エポキシシクロヘキサンを５．０ｇ添加し、８０℃で２時間撹拌した。反応終了後、ＴＨＦ（５ｍＬ）を加え、得られた溶液を塩酸酸性メタノール溶液５０ｍＬに滴下することで生成物を析出させ、析出した沈殿を濾過後、メタノールと純水で洗浄した。次いで、得られた粉末を室温で真空乾燥を行うことで、重合体（Ｐｏ１ｔ）粉末を得た。収率は８９％であった。得られた重合体（Ｐｏ１ｔ）の構造は、^１Ｈ－ＮＭＲ、ＩＣＰ、ＧＰＣ、ＩＲ、元素分析により同定した。その結果、^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，６００ＭＨｚ，ｐｐｍ）：δ＝７．５３（ｍ，６Ｈ），δ＝７．２４（ｍ，８Ｈ）、３．１６（ｍ，１Ｈ）、２．６９（ｍ，１Ｈ）、２．３４（ｍ，２Ｈ）、１．７９（ｍ，４Ｈ）、１．３２（ｍ，４Ｈ）、ＩＲより、２５７０ｃｍ^－１付近にメルカプト由来のピークが観測され、ＧＰＣより、Ｍｗ＝２４１０、Ｍｎ＝１１５０と確認でき、元素分析により重合体中の塩素原子含有量は検出限界以下であり、反応前の硫黄含有重合体（Ｐｏ１）よりも重合体（Ｐｏ１ｔ）は、硫黄原子の重量比が増加していることを確認した。^１Ｈ－ＮＭＲより、重合体（Ｐｏ１ｔ）中に全芳香環中の２７．７ｍｏｌ％にメルカプト基が導入されたことを確認した。以上のことから、重合体（Ｐｏ１）は、全芳香環の２７．７ｍｏｌ％にメルカプト基が導入されていることが分かり、ＧＰＣのＭｎより全構成単位に対して末端に９．５ｍｏｌ％のメルカプト基が存在することが算出でき、側鎖に１８．２ｍｏｌ％のメルカプト基が導入されたことを確認した。

［実施例１］
５０ｍＬプラスチックボトルに、株式会社ニッカトー製ジルコニアボールＹＴＺ（０．０５ｍｍ）を６０ｇ、酸化ジルコニウム粒子ＵＥＰ－５０（第一稀元素化学工業株式会社製）（以下、ＺｒＯ_２（１）ともいう）を５．５１ｇ、硫黄含有重合体として合成例１で得られた硫黄含有重合体（Ｐｏ１）を０．７０ｇ、カルコゲン化亜鉛として酸化亜鉛粒子ＦＩＮＥＸ－５０（堺化学工業株式会社製）（以下、ＺｎＯ（１）ともいう）を０．４９ｇ、リン酸系化合物としてトリエチレングリコールモノメチルエーテルリン酸エステルを含む混合物（以下、リン酸系分散剤（１）ともいう）を０．２８ｇ、溶媒としてシクロペンタノンを１３ｇ投入した後、株式会社東洋精機製作所製ペイントシェーカーにて室温で５時間解砕した。解砕終了後、分散液組成物が得られ、分散液組成物中に含まれるジルコニアボールＹＴＺ（０．０５ｍｍ）を濾過によって分離することで、乳白色の組成物である無機粒子含有組成物（１）を得た。得られた無機粒子含有組成物（１）について、分散粒子径（Ｄｄ）、について評価した結果を表３に示す。なお、用いたリン酸系分散剤（１）は、上記式（２）で表される化合物であり、式（２）におけるＲ^１、Ｒ^２、ａ及びｎを表１に示す。また、用いたＺｒＯ_２（１）、ＺｎＯ（１）の結晶構造、平均一次粒子径（Ｄ１）、比表面積および組成（金属元素、硫黄、塩素の含有量）についての評価結果を表２に示す。なお、表２に示した金属元素、硫黄、塩素の含有量は、ＺｒＯ_２（１）、ＺｎＯ（１）について蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）により検出された金属元素、硫黄、塩素の各含有質量の合計量（合計質量）に対する各元素の含有質量の割合（質量％）である。
また、表３に、無機粒子含有組成物（１）を調製するために用いた各原料、配合比等を示す。表３中、硫黄含有重合体（Ｐｏ１）（質量％）、リン酸系分散剤（１）（質量％）、酸化ジルコニウム粒子（質量％）、酸化亜鉛（質量％）は、用いた硫黄含有重合体（Ｐｏ１）、リン酸系分散剤（１）、酸化ジルコニウム粒子、酸化亜鉛（質量％）との合計質量に対する硫黄含有重合体（Ｐｏ１）、リン酸系分散剤（１）、酸化ジルコニウム粒子、酸化亜鉛（質量％）のそれぞれの割合（質量％）を意味する。実施例１以外の各実施例、比較例の場合についても同様である。無機粒子含有組成物（１）についての分散安定性の評価として２３℃における９０日間、４０℃における１０日間、４０℃における３０日間の分散安定性（組成物における増粘、固化の有無）の評価を目視で行い、４０℃における３０日間後の無機粒子含有組成物（１）の分散粒子径（Ｄｄ）の確認を行った。分散安定性の評価した結果を表４に示す。

＜無機粒子含有組成物（１）を用いた膜評価＞
得られた上記無機粒子含有組成物（１）にＢＹＫ－３０７（ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製、表面張力調整剤）を、無機粒子含有組成物（１）の固形分１００質量部に対してＢＹＫ－３０７が０．０５質量部の割合となるよう添加混合し、無機粒子含有組成物（１－２）を調製した。得られた無機粒子含有組成物（１－２）を、ピペットを使用してスピンコーター上のスライドガラスに滴下し、１５００ｒｐｍの回転数で９０秒間スピンコートを行うことによりコーティング膜（１）を得た。得られたコーティング膜（１）の屈折率、膜厚およびヘイズを評価した結果、屈折率（ＮａＤ線（５８９ｎｍ）に対する屈折率）が１．９３であり、膜厚は１．１０μｍであり、ヘイズは０．１０％であった。
上記無機粒子含有組成物（１）に対して、ＵＶ硬化性モノマー等を混合することで重合性組成物（１）を調製し、得られた重合性組成物（１）を用いて硬化膜（１）を得た。具体的には以下のとおりである。上記無機粒子含有組成物（１）に対し、ＵＶ硬化性モノマーとして１－ナフチルメチルアクリレート（共栄社化学株式会社製、商品名：ライトアクリレートＮＭＴ－Ａ）とＯＧＳＯＬ　ＥＡ０２００（大阪ガスケミカル社製）の９：１（質量比）混合液を無機粒子含有組成物（１）の固形分１００質量部に対して３０質量部、表面張力調整剤としてＢＹＫ－３０７（ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製、表面張力調整剤）を無機粒子含有組成物（１）の固形分１００質量部に対して０．０５質量部、紫外線吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４０５（ＢＡＳＦ社製）を前記ＵＶ硬化性モノマー１００質量部に対して１．４質量部、光安定化剤としてアデカスタブＬＡ－８１を前記ＵＶ硬化性モノマー１００質量部に対して１．４質量部、光重合開始剤としてＯｍｎｉｐｏｌＡＳＡ（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）を前記ＵＶ硬化性モノマー１００質量部に対して３．１質量部、光増感剤としてＥｓａｃｕｒｅ３６４４（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）を前記ＵＶ硬化性モノマー１００質量部に対して１．０質量部の割合となるよう、各成分を添加、混合することにより、重合性組成物（１）を得た。
得られた重合性組成物（１）を、ピペットを使用してスピンコーター上のスライドガラスに滴下し、１５００ｒｐｍの回転数で９０秒間スピンコートを行った。作製したスライドガラス上のコーティング膜を、予め５０℃に加熱したホットプレート上に静置し、１分間加熱保持することにより乾燥した。次いで、乾燥したコーティング膜に対してＵＶ照射を窒素雰囲気下で９０秒間行うことでコーティング膜を硬化させ、ＵＶ硬化した膜を予め８０℃に加熱したホットプレート上に静置し、１０分間加熱保持後、更に予め１５０℃に加熱したホットプレート上に静置し、１０分間加熱保持することにより硬化膜（１）を得た。得られた硬化膜（１）の屈折率、膜厚およびヘイズを評価した結果、屈折率（ＮａＤ線（５８９ｎｍ）に対する屈折率）が１．８２であり、膜厚が１．１９μｍであり、ヘイズは０．０９％であった。硬化膜（１）についての各種評価結果を表４に示す。重合性組成物（１）についての分散安定性の評価として２３℃における９０日間、４０℃における１０日間、４０℃における３０日間の分散安定性の評価を行い、４０℃における３０日間後の重合性組成物（１）の分散粒子径（Ｄｄ）の確認を行った。分散安定性の評価した結果を表４に示す。

＜インプリント膜（１）の製造＞
上記重合性組成物（１）を用いてインプリント成型を行った。具体的には以下のとおりである。上記重合性組成物（１）を、ピペットを使用してスピンコーター上のスライドガラスに滴下し、２５００ｒｐｍの回転数で９０秒間スピンコートを行った。作製したスライドガラス上のコーティング膜を、予め５０℃に加熱したホットプレート上に静置し、１分間加熱保持することにより乾燥し、膜厚０．７５μｍの乾燥膜を得た。得られた乾燥膜を、ナノインプリント装置ＥＩＴＲＥ（Ｒ）３（ｏｂｄｕｃａｔ社製）を用いて１ｃｍ×１ｃｍ範囲内に間隔１．０μｍ、凸部上面の幅１μｍ、凹部底面の幅１μｍ、高さ１μｍ、ストライプ状にライン＆スペース形状が付与された透明レプリカフィルムモールド（１）に圧力０．５ＭＰａで３０秒間押し当て、６０ｍＷ／ｃｍ^２×１２０秒間ＵＶ照射することにより、透明レプリカフィルムモールド（１）が圧着されたインプリント硬化膜（１）を得た。その後、インプリント硬化膜（１）から透明レプリカフィルムモールド（１）を離型し、透明レプリカフィルムモールド（１）形状が転写されたパターンインプリント膜（１－２）を得た。インプリント膜（１－２）を予め８０℃に加熱したホットプレート上に静置し、１０分間加熱保持後、更に予め１５０℃に加熱したホットプレート上に静置し、１０分間加熱保持することによりインプリント膜（１）を得た。得られたインプリント膜（１）について、ストライプ状にライン＆スペース形状が転写されたパターン形状に対し垂直にガラスカッターを用いて切断し、パターン断面形状をＦＥ－ＳＥＭ（日本電子製：ＪＳＭ７６００Ｆ）を用いて倍率１万倍で転写パターン形状の断面を観察し、透明レプリカフィルムモールド（１）の形状を反映した転写パターン形状を９５％以上再現する事を確認し、インプリント成型が可能なことを確認した。また、ストライプ状のライン＆スペース形状の下層の硬化膜の残膜厚が０．０４μｍであることを断面の観察により確認した。得られたインプリント膜（１）の転写パターン形状が付与されていない硬化膜の範囲について、屈折率、膜厚およびヘイズを評価した結果、屈折率（ＮａＤ線（５８９ｎｍ）に対する屈折率が１．８９であり、膜厚が０．５０μｍであり、ヘイズは０．１２％であった。
なお、使用した透明レプリカフィルムモールド（１）は、シリコン系等の金属面の１ｃｍ×１ｃｍ範囲内に間隔１．０μｍ、凸部上面の幅１μｍ、凹部底面の幅１μｍ、高さ１μｍ、ストライプ状にライン＆スペース形状が付与された金属金型（１）から製造することができ、ＵＶ硬化性透明樹脂（１）を透明ＰＥＴフィルム等の基材に塗布し、フィルム塗布面を金属金型（１）へ押し付け、ＵＶ硬化又は熱硬化を行い、金属金型（１）からフィルムを離型することで、ＰＥＴフィルム上に金属金型（１）のパターン形状を反映した透明レプリカフィルムモールド（１）を得ることができる。
透明レプリカフィルムモールド（１）の製造に用いたＵＶ硬化性透明樹脂（１）は以下の通りであり、転写パターン形状の確認については、上記インプリント硬化膜（１）評価と同様の方法で確認を行い、金属金型（１）の形状を反映した転写パターン形状を９５％以上再現する事を確認した。
ＵＶ硬化性透明樹脂（１）：紫外線硬化型液状シリコーンゴム（ＰＤＭＳ）ＫＥＲ－４６９０－Ａ／Ｂ、信越化学工業株式会社製

　［実施例２～１４、比較例１～５］
酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩、カルコゲン化亜鉛、硫黄含有重合体（Ｐｏ１）、リン酸系分散剤、配合比、解砕時間等を表３に記載したものとする以外は、実施例１と同様にして、解砕処理を行い、実施例２～１４においては無機粒子含有組成物（２）～（１４）、比較例（１）～（５）においては無機粒子含有組成物（ｃ１）～（ｃ５）をそれぞれ製造した。更に、得られた各無機粒子含有組成物を用いて実施例１と同様に重合性組成物を調製し、これらについて実施例１と同様にして評価を行った。また、各重合性組成物を用いて実施例１と同様にして硬化膜を作成し、これらについても実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表４に示す。
なお、各実施例、比較例で用いたリン酸系分散剤及び酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩、酸化亜鉛は以下のとおりであり、結晶構造等を評価した結果を表２に示す。
リン酸系分散剤（１）：上記式（２）で表される化合物であり、式（２）におけるＲ^１、Ｒ^２、ａ及びｎを表１に示す。
リン酸系分散剤（２）：上記式（２）で表される化合物であり、式（２）におけるＲ^１、Ｒ^２、ａ及びｎを表１に示す。
リン酸系分散剤（３）：プライサーフ　Ａ２０８Ｆ、第一工業製薬株式会社製
リン酸系分散剤（４）：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１１１、ビックケミー・ジャパン社製
リン酸系分散剤（５）：ＫＡＹＡＭＥＲ　ＰＭ－２１、日本化薬株式会社製
ＺｒＯ_２（１）：ＵＥＰ－５０、酸化ジルコニウム、第一稀元素化学工業株式会社製
ＴｉＯ_２（１）：ＴＡＦ－１５００Ｊ、酸化チタン、富士チタン工業株式会社製
ＴｉＯ_２（２）：触媒担体用チタニアＳＳＰ－Ｍ、酸化チタン、堺化学工業株式会社製
ＴｉＯ_２（３）：超微粒子酸化チタンＳＴＲ－１００Ｎ、酸化チタン、堺化学工業株式会社製
ＢａＴｉＯ_３（１）：チタン酸バリウムナノ粒子、チタン酸バリウム、Ｍｅｒｃｋ社製
ＺｎＯ（１）：ＦＩＮＥＸ－５０、酸化亜鉛、堺化学工業株式会社製

表４に示すように、実施例１～１４において、無機粒子含有組成物の分散安定性の評価及び重合性組成物の分散安定性の評価において、２３℃における９０日間後、４０℃における３０日間後の分散性として分散粒子径に変化が無いことを確認した。比較例１～５については、２３℃における９０日間後、４０℃における１０日間後に増粘し、分散粒子径が高まり、無機粒子が凝集していることが確認され、４０℃における３０日間後では無機粒子含有組成物及び重合性組成物は固化することが確認された。結果として、実施例１～１４において、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩に対してカルコゲン化亜鉛として酸化亜鉛を混合した無機粒子含有組成物及びその重合性組成物は分散安定性が高いことが分かり、カルコゲン化亜鉛が酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩の分散性を向上させていることが確認された。

Claims

酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種と、カルコゲン化亜鉛と、分散剤とを含む、無機粒子含有組成物。
前記分散剤は、極性官能基を有する化合物を含む、請求項１に記載の無機粒子含有組成物。
前記極性官能基は、スルフィニル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、カルボキシ基、アルコキシシリル基及び水酸基からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項２に記載の無機粒子含有組成物。
前記分散剤は、下記式（１）；

（式中、Ｘ^１は、置換基を有してもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）で表される構成単位（Ｕ１）を有する硫黄含有重合体を含む、請求項１～３のいずれかに記載の無機粒子含有組成物。
前記分散剤は、リン酸基及び／又はリン酸エステル基を有するリン酸系化合物を含む、請求項１～４のいずれかに記載の無機粒子含有組成物。
前記リン酸系化合物は、下記式（２）；

（式中、Ｒ^１は、同一又は異なって、水素原子又は有機基を表す。Ｒ^２は、同一又は異なって、炭素数２～２０のアルキレン基を表す。ａは、１～３の整数である。ｎは、０～２０の整数である。）で表される化合物である、請求項５に記載の無機粒子含有組成物。
前記リン酸系化合物は、分子量が９８～２０００である、請求項５又は６に記載の無機粒子含有組成物。
前記硫黄含有重合体の含有割合が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計１００質量％に対して、１～３０質量％である、請求項４に記載の無機粒子含有組成物。
前記リン酸系化合物の含有割合が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸塩及びカルコゲン化亜鉛の合計１００質量％に対して、０．５～１０質量％である、請求項５～７のいずれかに記載の無機粒子含有組成物。
請求項１～９のいずれかに記載の無機粒子含有組成物と重合性単量体とを含む、重合性組成物。
無機粒子含有組成物を製造する方法であって、
該製造方法は、カルコゲン化亜鉛と分散剤との存在下で、酸化ジルコニウム、酸化チタン及びチタン酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の粒子の凝集体を解砕する工程を含む、無機粒子含有組成物の製造方法。
前記分散剤は、極性官能基を有する化合物を含む、請求項１１に記載の無機粒子含有組成物の製造方法。
前記極性官能基は、スルフィニル基、スルホン酸基、リン酸基、リン酸エステル基、カルボキシ基、アルコキシシリル基及び水酸基からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１１又は１２に記載の無機粒子含有組成物の製造方法。
前記分散剤は、下記式（１）；

（式中、Ｘ^１は、置換基を有してもよい２価の芳香族炭化水素基を表す。）で表される構成単位（Ｕ１）を有する硫黄含有重合体を含む、請求項１１～１３のいずれかに記載の無機粒子含有組成物の製造方法。
前記分散剤は、リン酸基及び／又はリン酸エステル基を有するリン酸系化合物を含む、請求項１１～１４のいずれかに記載の無機粒子含有組成物の製造方法。