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WO2023112713A1 - フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物 - Google Patents

フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物 Download PDF

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Definitions

  • the fluoropolyether group-containing acrylic compound of the present invention includes a perfluoropolyether group as a group having a low refractive index, an amide bond as a group for improving compatibility with a photopolymerization initiator, an acrylic group or an ⁇ -substituted acrylic group, it has a low refractive index and is compatible with a photopolymerization initiator to form a transparent composition. It can also be used as a material for fluorine-containing active energy curable compositions that can be cured by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams.
  • Rf 2 having such a structure include the following structures. -CF2CF2O- ( CF2CF2CF2O ) q -CF2CF2- _ _ (Wherein, q is an integer of 4 to 200, preferably 10 to 150.)
  • r is an integer of 1 to 6, preferably 2 to 4
  • C r F 2r O may be linear or branched
  • s is an integer of 0 to 6 , preferably an integer of 1 to 4
  • t is an integer of 1 to 100, preferably an integer of 5 to 80
  • u is an integer of 1 to 100, preferably an integer of 5 to 80
  • t+u is 2
  • An integer of ⁇ 200, preferably an integer of 10 to 150, s + t + u is an integer of 4 to 200, preferably an integer of 10 to 150.
  • v is an integer of 5 to 200, preferably an integer of 10 to 150.

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Abstract

下式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物が、低い屈折率を有し、かつ一般的な光重合開始剤と相溶して透明な組成物を形成できる。　Ｖ2－Ｒｆ2－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b'］2-a　（１） （Ｒｆ2は炭素数１～６のパーフルオロアルキレン基と酸素原子によって構成される数平均分子量５００～４０，０００の２価のパーフルオロポリエーテル基。Ｙ2は炭素数１～２０の（ｂ'＋１）価の有機基。Ｘ2はアクリル基又はα置換アクリル基を含有する１価の有機基で、１分子中に平均して少なくとも１個の前記アクリル基もしくはα置換アクリル基を含有する。Ｒ1は水素原子又は炭素数１～８の１価の炭化水素基。Ｖ2は水素原子、フッ素原子、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b'］2-aで表される１価の基。ａは０又は１。ｂ'は１～１０の整数。）

Description

フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物
　本発明は、低い屈折率を有し、かつ光重合開始剤と相溶して透明な組成物を形成できるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物に関する。
　従来、紫外線などの光照射により硬化可能なフッ素化合物としては、側鎖にパーフルオロアルキル基を有する重合性モノマー、例えば、アクリル酸含フッ素アルキルエステルやメタクリル酸含フッ素アルキルエステルを含む重合体が広く知られている。これらの含フッ素アクリル系化合物は、紫外線照射による優れた硬化特性と高透明性、低屈折率を利用した光学系材料への利用が広く試みられている。例えば、特開平６－１３６０６２号公報（特許文献１）には、側鎖に含フッ素アクリル系化合物の反射防止膜用途への応用が、また特開平５－３２７４９号公報（特許文献２）には、光ファイバーのコーティング材としての用途が示されている。
　一方、これらの含フッ素アクリル系化合物は、屈折率を更に低下させるなどの目的のためフッ素含有率を増加させると、非フッ素化有機化合物への溶解性が低下し、一般的な光重合開始剤にも溶解しなくなるため透明な硬化物が得られない、又は結晶性が増加し透明性が失われるなどの問題点があり、一定値以下の屈折率を有する透明な硬化物を得ることは困難であった。
　そのような状況の中、本発明者らは含フッ素アクリル系化合物の開発を進めており、例えば、特開２００６－２３３１７２号公報（特許文献３）に示すような紫外線硬化が可能であり、低い屈折率を有する透明な硬化物を形成可能な含フッ素硬化性組成物を提案している。
　これらの組成物は低い屈折率を有する透明な硬化物を形成可能であるものの、一方で、これらの組成物にはパーフルオロポリエーテル基により変性された光重合開始剤を別途合成しなければならないという問題もあった。
特開平６－１３６０６２号公報 特開平５－３２７４９号公報 特開２００６－２３３１７２号公報
　本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、低い屈折率を有し、かつ光重合開始剤と相溶して透明な組成物を形成できるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物を提供することを目的とする。
　本発明者らは、上記目的を達成するために更なる検討を重ねた結果、下記一般式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物が、低い屈折率を有し、かつ一般的な光重合開始剤と相溶して透明な組成物を形成できることを見出し、本発明をなすに至った。
　　Ｖ2－Ｒｆ2－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-a　　　　　（１）
（式中、Ｒｆ2は炭素数１～６のパーフルオロアルキレン基と酸素原子によって構成される数平均分子量５００～４０，０００の２価のパーフルオロポリエーテル基である。Ｙ2は独立に炭素数１～２０の（ｂ’＋１）価の有機基である。Ｘ2は独立にアクリル基又はα置換アクリル基を含有する１価の有機基であり、かつ１分子中に平均して少なくとも１個の前記アクリル基もしくはα置換アクリル基を含有する。Ｒ1は水素原子又は炭素数１～８の１価の炭化水素基である。Ｖ2は水素原子、フッ素原子、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基である。ａは０又は１である。ｂ’は１～１０の整数である。）
　従って、本発明は、下記のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物を提供する。
［１］
　下記一般式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
　　Ｖ2－Ｒｆ2－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-a　　　　　（１）
（式中、Ｒｆ2は炭素数１～６のパーフルオロアルキレン基と酸素原子によって構成される数平均分子量５００～４０，０００の２価のパーフルオロポリエーテル基である。Ｙ2は独立に炭素数１～２０の（ｂ’＋１）価の有機基である。Ｘ2は独立にアクリル基又はα置換アクリル基を含有する１価の有機基であり、かつ１分子中に平均して少なくとも１個の前記アクリル基もしくはα置換アクリル基を含有する。Ｒ1は水素原子又は炭素数１～８の１価の炭化水素基である。Ｖ2は水素原子、フッ素原子、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基である。ａは０又は１である。ｂ’は１～１０の整数である。）
［２］
　一般式（１）において、Ｒｆ2が下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 （式中、ｃは単位毎に独立に２～６の整数である。ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉはそれぞれ０～２００の整数で、ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＝４～２００である。これら各単位は直鎖状であっても分岐状であってもよく、また、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉが付された括弧内に示される各繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。）
で表される２価のパーフルオロポリエーテル基である［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
［３］
　一般式（１）において、Ｒｆ2が下記構造式
－ＣＦ2ＣＦ2Ｏ－（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）q－ＣＦ2ＣＦ2－
（式中、ｑは４～２００の整数である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 （式中、ｒは１～６の整数で、ＣrＦ2rＯは直鎖状であっても分岐状であってもよく、ｓは０～６の整数、ｔ、ｕはそれぞれ１～２００の整数、ｔ＋ｕは２～２００の整数、ｓ＋ｔ＋ｕは４～２００の整数である。ｖは５～２００の整数である。）
で表される２価のパーフルオロポリエーテル基から選ばれるものである［１］又は［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
［４］
　一般式（１）において、Ｒ1が水素原子であり、ａが１である［１］～［３］のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
［５］
　一般式（１）において、Ｙ2が下記のいずれかで表されるものである［１］～［４］のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 （式中、＊はＮと結合する結合手であり、＊＊はＸ2と結合する結合手である。）
［６］
　一般式（１）において、Ｘ2が下記構造式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 （式中、Ｒ2は独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であり、Ｗは単結合、又はエーテル結合、エステル結合及びウレタン結合から選ばれる１種又は２種以上を含んでいてもよい２価又は３価の炭化水素基であり、ｎは１又は２である。）
で表されるものである［１］～［５］のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
［７］
　一般式（１）において、Ｘ2が下記のいずれかで表されるものである［１］～［６］のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 ［８］
　式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物が、下記式のいずれかで表されるものである［１］～［７］のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式中、Ｘ2は上記と同じである。ｑは４～２００の整数、ｒは１～６の整数で、ＣrＦ2rＯは直鎖状であっても分岐状であってもよく、ｓは０～６の整数、ｔ、ｕはそれぞれ１～２００の整数、ｔ＋ｕは２～２００の整数、ｓ＋ｔ＋ｕは４～２００の整数である。）
［９］
　温度２５℃、波長５８９ｎｍの条件における屈折率が１．３９０以下である［１］～［８］のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
　本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、低い屈折率を有し、かつ光重合開始剤と相溶して透明な組成物を形成できる。このため、本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、光学部品用等の含フッ素活性エネルギー線硬化性組成物の材料として有用である。
　本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、下記一般式（１）で表されることを特徴とする。
　　Ｖ2－Ｒｆ2－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-a　　　　　（１）
（式中、Ｒｆ2は炭素数１～６のパーフルオロアルキレン基と酸素原子によって構成される数平均分子量５００～４０，０００の２価のパーフルオロポリエーテル基である。Ｙ2は独立に炭素数１～２０の（ｂ’＋１）価の有機基である。Ｘ2は独立にアクリル基又はα置換アクリル基を含有する１価の有機基であり、かつ１分子中に平均して少なくとも１個の前記アクリル基もしくはα置換アクリル基を含有する。Ｒ1は水素原子又は炭素数１～８の１価の炭化水素基である。Ｖ2は水素原子、フッ素原子、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基である。ａは０又は１である。ｂ’は１～１０の整数である。）
　なお、本発明において「アクリル化合物」とは、アクリル基、α置換アクリル基を有する化合物の総称であり、各種重合体の側鎖や末端に任意の方法で２個以上のアクリル基、α置換アクリル基を導入した化合物も含む。また、本発明において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方又は両方を示し、「（メタ）アクリル基」とは、アクリル基とメタクリル基の一方又は両方を示し、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の一方又は両方を示す。
　本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、低屈折率性を有する基としてのパーフルオロポリエーテル基と、光重合開始剤との相溶性向上基としてのアミド結合と、アクリル基もしくはα置換アクリル基とを有することから、低い屈折率を有し、かつ光重合開始剤と相溶して透明な組成物を形成できる。また、紫外線や電子線等の活性エネルギー線により硬化可能な含フッ素活性エネルギー硬化性組成物の材料として使用できる。
　本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、構造中にアミド構造を有することを必須とする。アミド構造が水素結合アクセプターとして作用することで、光重合開始剤中の水素原子との相互作用により光重合開始剤との相溶性が向上し、結果として該化合物は光重合開始剤と相溶して透明な組成物を形成できる。
　上記式（１）において、Ｒｆ2は炭素数１～６のパーフルオロアルキレン基と酸素原子によって構成される数平均分子量５００～４０，０００の２価のパーフルオロポリエーテル基であり、Ｒｆ2は、炭素数１～６、特に以下の炭素数１～３のパーフルオロオキシアルキレン構造を主な繰り返し単位として有するものが好適である。
－ＣＦ2Ｏ－
－ＣＦ2ＣＦ2Ｏ－
－ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2Ｏ－
－ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ－
　これらの構造は、いずれか一つの単独重合体、あるいは複数の構造からなるランダム、ブロック重合体でもよい。
　このような構造を有するＲｆ2の例としては、例えば、以下の構造を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 （式中、ｃは単位毎に独立に２～６の整数である。ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉはそれぞれ０～２００の整数で、ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＝４～２００である。これら各単位は直鎖状であっても分岐状であってもよく、また、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉが付された括弧内に示される各繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。）
　上記式において、ｃは単位毎にそれぞれ独立して２～６、好ましくは２～４の整数である。ｃが１である場合は、フッ素原子と酸素原子の電子吸引性に起因して該化合物中のアミド結合が加水分解を受けやすくなり、保存に伴い分解が進行してしまうため、ｃは単位毎にそれぞれ独立して２～６の整数であることが好ましい。
　また、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉはそれぞれ０～２００の整数、好ましくは、ｄは０～１００の整数、ｅは５～１００の整数、ｆは５～１００の整数、ｇは０～１００の整数、ｈは０～１００の整数、ｉは０～１００の整数であり、ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＝４～２００であり、好ましくは１０～１５０であり、より好ましくは３０～１５０である。
　上記式において、各単位は直鎖状であっても分岐状であってもよい。また、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉが付された括弧内に示される各繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。
　Ｒｆ2は、該当する構造部分の数平均分子量が、５００～４０，０００、好ましくは２，０００～２５，０００の範囲に含まれていればよく、その分子量分布（又は重合度分布）については特に限定されるものではない。数平均分子量が５００未満ではフッ素原子含有率の低下により屈折率が高くなってしまい、４０，０００を超えると粘度増加によるハンドリング性の低下と、フッ素原子含有率の増加による重合開始剤との相溶性低下が無視できない度合いになる。なお、本発明において、分子量（又は重合度もしくは繰り返し単位の数）は、フッ素系溶剤を展開溶媒としたゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析によるポリスチレン換算の数平均分子量（又は数平均重合度）として求めてもよく、1Ｈ－ＮＭＲ分析及び19Ｆ－ＮＭＲ分析に基づくフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の末端構造と主鎖構造との特性ピーク強度比率から算出される数平均分子量（又は数平均重合度）でもよい（以下、同じ）。
　このような構造を有するＲｆ2の好適な例としては、例えば、以下の構造を挙げることができる。
－ＣＦ2ＣＦ2Ｏ－（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）q－ＣＦ2ＣＦ2－
（式中、ｑは４～２００、好ましくは１０～１５０の整数である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （式中、ｒは１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ＣrＦ2rＯは直鎖状であっても分岐状であってもよく、ｓは０～６の整数、好ましくは１～４の整数であり、ｔは１～１００の整数、好ましくは５～８０の整数であり、ｕは１～１００の整数、好ましくは５～８０の整数であり、ｔ＋ｕは２～２００の整数、好ましくは１０～１５０の整数、ｓ＋ｔ＋ｕは４～２００の整数、好ましくは１０～１５０の整数である。ｖは５～２００の整数、好ましくは１０～１５０の整数である。）
　Ｒｆ2の最も好適な例は以下の構造である。一般的に、Ｒｆ2の末端部分はフッ素原子の電子吸引性により反応性が高く、加水分解を生じやすいが、Ｒｆ2が以下の構造である場合、Ｒｆ2の末端部分がＣ2Ｆ4基、より好ましくはＣＦ（ＣＦ3）基により遮蔽されているため、加水分解が生じ難く、長期保存においても分解が進行しないため特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （式中、ｒ、ｓ、ｔ、ｕ、ｖは上記と同じである。）
　上記式（１）において、Ｒ1は水素原子又は炭素数１～８、好ましくは１～６の１価の炭化水素基である。１価の炭化水素基として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等のアルキル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ1として、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基であり、特に好ましくは水素原子である。
　上記式（１）において、Ｙ2は独立に炭素数１～２０、好ましくは１～８の（ｂ’＋１）価の有機基であり、好ましくはエーテル結合を含んでいてもよい炭素数１～２０、好ましくは１～８の（ｂ’＋１）価の炭化水素基である。Ｙ2の特に好ましい構造としては、以下のものを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、＊はＮと結合する結合手であり、＊＊はＸ2と結合する結合手である。）
　上記式（１）において、Ｘ2は独立にアクリル基又はα置換アクリル基を含有する１価の有機基であり、かつ１分子中に平均して少なくとも１個の前記アクリル基もしくはα置換アクリル基を含有する。
　Ｘ2としては、下記式で表される構造が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （式中、Ｒ2は独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であり、Ｗは単結合、又はエーテル結合、エステル結合及びウレタン結合から選ばれる１種又は２種以上を含んでいてもよい２価又は３価の炭化水素基であり、ｎは１又は２である。）
　上記式において、Ｗは単結合、又はエーテル結合、エステル結合及びウレタン結合から選ばれる１種又は２種以上を含んでいてもよい２価又は３価の炭化水素基であり、２価又は３価の炭化水素基としては、下記式で表される基を例示することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 （式中、＊は一般式（１）中のＹ2と結合する結合手であり、＊＊は酸素原子と結合する結合手である。）
　Ｘ2としては、下記式で表される構造が更に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　上記式（１）において、Ｖ2は水素原子、フッ素原子、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基であり、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基である。
　Ｖ2が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基である場合、１分子中に平均して少なくとも２個以上のアクリル基もしくはα置換アクリル基を含有するため、該化合物を用いた組成物は網目状のネットワークを形成し、力学特性に優れる硬化物が得られる。なお、Ｖ2が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基である場合、式（１）中に存在する複数のＲ1、Ｙ2、Ｘ2、b’、ａはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
　上記式（１）において、ａは０又は１であり、好ましくは１である。
　上記式（１）において、ｂ’は１～１０の整数であり、好ましくは１又は２である。
　上記式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物としては、下記式で表されるものが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、Ｘ2、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、ｕは上記と同じである。）
　上記式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物としては、下記式で表されるものが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （式中、Ｘ2、ｒ、ｓ、ｔ、ｕは上記と同じである。）
　一般式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物において、例えば、Ｖ2が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基である下記一般式（２）
　　Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-a］2　　　　　（２）
（式中、Ｒｆ2、Ｒ1、Ｙ2、Ｘ2、ａ、ｂ’は上記と同じである。）
で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の好適な合成方法としては、例えば、先ず下記一般式（３）
　　Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｘ3］2　　　　　（３）
（式中、Ｒｆ2は上記と同じであり、Ｘ3はハロゲン原子又は非置換もしくはフッ素置換アルコキシ基である。）
で表される分子鎖末端に酸ハライド又はエステルを有するフルオロポリエーテル基含有化合物に、下記一般式（４）
　　Ｈ－ＮＲ1 a［Ｙ2［ＯＨ］b’］2-a　　　　　（４）
（式中、Ｒ1、Ｙ2、ａ、ｂ’は上記と同じである。）
で表されるアミノアルコール化合物をアミド化反応させることにより、中間体であるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物を得る。
　ここで、上記式（３）中のＸ3はハロゲン原子、又は好ましくは炭素数１～１０、より好ましくは炭素数１～６の非置換もしくはフッ素置換アルコキシ基であり、具体的には、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基等のアルコキシ基、これらの基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロイソプロポキシ基等のフッ素置換アルコキシ基が挙げられる。
　上記式（３）で表される分子鎖末端に酸ハライド又はエステルを有するフルオロポリエーテル基含有化合物として、具体的には、下記に示すものが挙げられる。
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｃｌ］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｆ］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－ＣＨ3］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ2Ｈ5］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ3Ｈ7］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ4Ｈ9］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ5Ｈ11］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ6Ｈ13］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－ＣＦ3］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ2Ｆ5］2
Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－ＣＨ（ＣＦ3）2］2
（式中、Ｒｆ2は上記と同じである。）
　また、上記式（４）で表されるアミノアルコール化合物としては、下記に示すものが例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　式（３）で表される分子鎖末端に酸ハライド又はエステルを有するフルオロポリエーテル基含有化合物と、式（４）で表されるアミノアルコール化合物との反応割合は、式（３）で表される分子鎖末端に酸ハライド又はエステルを有するフルオロポリエーテル基含有化合物の酸ハライド又はエステル基の総モル数に対して、式（４）で表されるアミノアルコール化合物を１～１２倍モル、特に１．２～６倍モル使用して反応させることが望ましい。式（４）で表されるアミノアルコール化合物がこれより少なすぎると、目的のフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物を得ることが困難となる場合がある。
　このアミド化反応は、上記式（３）で表される分子鎖末端に酸ハライド又はエステルを有するフルオロポリエーテル基含有化合物と、式（４）で表されるアミノアルコール化合物を混合し、反応温度０～１００℃、好ましくは０～８０℃で、１分～４８時間、特に１０分～１２時間反応を行うことが望ましい。反応温度が低すぎると反応が十分に進行しないまま反応が停止してしまう場合があり、高すぎると望まぬ副反応や原料の分解などが起こる場合がある。
　上記のアミド化反応は、溶剤が存在しなくても実施可能であるが、必要に応じて溶剤で希釈してもよい。このとき希釈溶剤は、広く一般に用いられている有機溶剤を利用することができるが、沸点が目的とする反応温度以上でかつ反応を阻害しないものが好ましい。このような溶剤としては、例えば、ｍ－キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤等の部分フッ素変性された溶剤が望ましく、特にｍ－キシレンヘキサフロライドが好ましい。
　溶剤を使用する場合、その使用量は、式（３）で表される分子鎖末端に酸ハライド又はエステルを有するフルオロポリエーテル基含有化合物１００質量部に対して、好ましくは５～２，０００質量部であり、より好ましくは５０～５００質量部である。これより少なければ溶剤による希釈の効果が薄くなり、多ければ希釈度が高くなりすぎて反応速度の低下を招く場合がある。
　反応終了後、未反応の式（４）で表されるアミノアルコール化合物や希釈溶剤を減圧留去、抽出、吸着等の公知の方法で除去することが好ましい。
　このように一般式（３）で表される分子鎖末端に酸ハライド又はエステルを有するフルオロポリエーテル基含有化合物と、一般式（４）で表されるアミノアルコール化合物をアミド化反応させることで、下記一般式（５）で表されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物を得ることができる。
　　Ｒｆ2［Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2［ＯＨ］b’］2-a］2　　　　　（５）
（式中、Ｒｆ2、Ｒ1、Ｙ2、ａ、ｂ’は上記と同じである。）
　このような式（５）で表されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物としては、下記に示すものが例示できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （式中、Ｒｆ2は上記と同じである。）
　次いで、上記で得られた式（５）で表されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物に（メタ）アクリル基を導入することにより、目的とする式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物を得ることができる。
　式（５）で表されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物に（メタ）アクリル基を導入する方法としては、式（５）で表されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物を（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物と反応させる方法が挙げられる。
　（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物としては、下記に示すものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物は、フルオロポリエーテル基含有アルコール化合物の水酸基量の合計に対して等モル以上を仕込み反応させ、水酸基をすべて反応させてもよいが、フルオロポリエーテル基含有アルコール化合物１モルに対して平均して１モル以上の（メタ）アクリル基を導入させればよく、水酸基を過剰とさせることで、未反応の（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物を残存させないようにしてもよい。具体的には、反応系中のフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物量をｘモル、フルオロポリエーテル基含有アルコール化合物の水酸基量の合計をｙモルとした場合、（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物はｘモル以上２ｙモル以下であることが望ましく、特に好ましくはｘモル以上でかつ０．６ｙモル以上１．４ｙモル以下である。少なすぎる場合、（メタ）アクリル基が全く導入されないフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物が残存する可能性が高くなり、多すぎる場合、未反応の（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物の除去が困難となる。
　また、反応の際には、必要に応じて適当な溶剤で希釈して反応を行ってもよい。このような溶剤としては、フルオロポリエーテル基含有アルコール化合物の水酸基、（メタ）アクリル基を含有するイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応しない溶剤であれば特に制限なく用いることができ、具体的には、トルエン、キシレン、イソオクタンなどの炭化水素系溶剤、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、ｍ－キシレンヘキサフロライド［別名：ヘキサフルオロメタキシレン］、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤などが挙げられる。この溶剤は、反応後に減圧留去等の公知の手法で除去してもよく、目的の用途に応じてそのまま希釈溶液として使用してもよい。
　溶剤の使用量は特に限定されないが、反応成分の全合計質量に対して１０倍以下が好ましい。溶剤の使用量が多すぎると、反応速度が大幅に低下する場合がある。
　また、反応の際には、必要に応じて重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては特に制限はないが、通常、アクリル化合物の重合禁止剤として用いられるものを用いることができる。具体的には、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ジブチルヒドロキシトルエン等を挙げることができる。
　重合禁止剤の使用量は反応条件、反応後の精製条件、最終的な使用条件から決定すればよく、特に制限はされないが、通常、反応成分の全合計質量に対して０．０１～５，０００ｐｐｍ、特に好ましくは０．１～５００ｐｐｍである。
　また、反応の際には、反応の速度を増加するために適切な触媒を加えてもよい。触媒としては、例えば、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクタン酸第１錫などのアルキル錫エステル化合物、テトライソプロポキシチタン、テトラｎ－ブトキシチタン、テトラキス（２－エチルヘキソキシ）チタン［別名：オルトチタン酸テトラキス（２－エチルヘキシル）］、ジプロポキシビス（アセチルアセトナ）チタン、チタニウムイソプロポキシオクチレングリコール等のチタン酸エステル又はチタンキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムキレート、カルボン酸ビスマス化合物等が例示される。これらはその１種に限定されず、２種もしくはそれ以上の混合物として使用できるが、特に毒性と反応性の面からチタン化合物やビスマス化合物の使用が好ましい。
　これらの触媒を反応成分の全合計質量に対して、０．０１～２質量％、好ましくは０．０５～１質量％加えることにより、反応速度を増加させることができる。
　上記反応は０～１２０℃、好ましくは１０～１００℃の温度で、１分～５００時間、好ましくは１０分～４８時間行う。反応温度が低すぎると反応速度が遅くなりすぎる場合があり、反応温度が高すぎると副反応として（メタ）アクリル基の重合が起きてしまう可能性がある。
　反応終了後、未反応のイソシアネート化合物及び溶剤等を留去、吸着、濾過、洗浄等の方法で除去することで、上記式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物を得ることができる。
　また、反応停止の際に、メタノール、エタノール等のアルコール化合物を系内に添加し、未反応のイソシアネート化合物とウレタン結合を形成させてもよい。生成したウレタン（メタ）アクリレート類は、未反応のイソシアネート化合物と同様の方法で除去できるが、残存させたまま使用することもできる。
　また、式（５）で表されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物に（メタ）アクリル基を導入する別の方法としては、式（５）で表されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物を（メタ）アクリル酸ハライドと反応させてエステルを形成する方法が挙げられる。
　（メタ）アクリル酸ハライドとしては、下記に示すものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 （式中、Ｘはフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子である。）
　特にアクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリドが好ましい。
　（メタ）アクリル酸ハライドは、フルオロポリエーテル基含有アルコール化合物の水酸基量の合計に対して等モル以上を仕込み反応させ、水酸基をすべて反応させることが望ましい。具体的には、反応系中のフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物中の水酸基量に対して、（メタ）アクリル酸ハライドを１～６倍モル、特に１．２～４倍モル使用して反応させることが望ましい。少なすぎる場合、（メタ）アクリル基が導入されないフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物が残存する可能性が高くなる。
　フルオロポリエーテル基含有アルコール化合物に（メタ）アクリル酸ハライドを反応させるエステル生成反応には、受酸剤を用いることが好ましく、上記式（５）で表されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物、（メタ）アクリル酸ハライド、及び受酸剤を混合攪拌する。受酸剤はトリエチルアミン、ピリジン、尿素などが使用できる。
　受酸剤の使用量は、（メタ）アクリル酸ハライドのモル数に対して０．９～３倍程度が望ましい。少なすぎるとトラップされない酸が多く残存することになり、多すぎると余剰となる受酸剤の除去が困難になる。
　また、反応の際には、必要に応じて適当な溶剤で希釈して反応を行ってもよい。このような溶剤としては、フルオロポリエーテル基含有アルコール化合物の水酸基、（メタ）アクリル酸ハライドのハロゲン原子と反応しない溶剤であれば特に制限なく用いることができ、具体的には、トルエン、キシレン、イソオクタンなどの炭化水素系溶剤、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、ｍ－キシレンヘキサフロライド［別名：ヘキサフルオロメタキシレン］、ベンゾトリフロライド等のフッ素変性芳香族炭化水素系溶剤、メチルパーフルオロブチルエーテル等のフッ素変性エーテル系溶剤などが挙げられる。この溶剤は、反応後に減圧留去等の公知の手法で除去してもよく、目的の用途に応じてそのまま希釈溶液として使用してもよい。
　溶剤の使用量は特に限定されないが、反応成分の全合計質量に対して１０倍以下が好ましい。溶剤の使用量が多すぎると、反応速度が大幅に低下する場合がある。
　上記反応は０～１２０℃、好ましくは１０～１００℃の温度で、１分～５００時間、好ましくは１０分～４８時間行う。反応温度が低すぎると反応速度が遅くなりすぎる場合があり、反応温度が高すぎると副反応として（メタ）アクリル基の重合が起きてしまう可能性がある。
　反応終了後、未反応の（メタ）アクリル酸ハライド及び溶剤等を留去、吸着、濾過、洗浄等の方法で除去することで、上記式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物を得ることができる。
　本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の温度２５℃、波長５８９ｎｍ条件における屈折率は１．３９０以下であることが好ましく、より好ましくは１．３８０以下であり、更に好ましくは１．３７０以下である。このような屈折率を有する場合、光学部品用途において有用な低屈折率の硬化物を形成できる。なお、屈折率は、例えばアッベ屈折計等の屈折計により測定できる。本発明において、上記条件における屈折率を１．３９０以下とするには、フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物が炭素数１～６のパーフルオロアルキレン基と酸素原子によって構成される数平均分子量５００～４０，０００の２価のパーフルオロポリエーテル基を有する必要がある。
　以上のようにして得られる本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、低屈折率性を有する基としてのパーフルオロポリエーテル基と、光重合開始剤との相溶性向上基としてのアミド結合と、アクリル基もしくはα置換アクリル基とを有することから、低い屈折率を有し、かつ光重合開始剤と相溶して透明な組成物を形成できる。また、紫外線や電子線等の活性エネルギー線により硬化可能な含フッ素活性エネルギー硬化性組成物の材料として使用できる。
　以下、合成実施例、合成比較例、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記の例において、パーフルオロポリエーテル基の数平均分子量は19Ｆ－ＮＭＲ分析に基づくフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の末端構造と主鎖構造との特性ピーク強度比率から算出した値を示す。
［合成実施例１］フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－１）の合成
　乾燥窒素雰囲気下で、反応容器に、平均構造が下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 （ＲｆA1の数平均分子量：約４，４００）
で表される化合物（Ｉ）１００ｇ（０．０２５モル）、下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 で表される化合物（ｉ）１２．２ｇ（０．２０モル）、及びｍ－キシレンヘキサフロライド１００ｇを仕込み、乾燥窒素雰囲気下６０℃で３時間撹拌した。反応液のＩＲにより、－Ｃ（＝Ｏ）Ｆ結合に由来するバンドの消失を確認した。得られた反応液を水洗した後に減圧留去し、以下の構造式で示されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＩＩ）９２．３ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 （ＲｆA1の数平均分子量：約４，４００）
　乾燥空気雰囲気下、反応容器中で、前述の方法により得られたフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＩＩ）５０．０ｇ（水酸基量０．０２４モル）に、ＴＨＦ５０．０ｇと、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート３．６ｇ（０．０２４モル）を混合し、５０℃に加熱した。そこにカルボン酸ビスマス触媒（楠本化成製ＸＫ－６４０）０．１５ｇを添加し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、減圧留去を行い、液状高粘調物質４６．３ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記式で示されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－１）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 （ＲｆA1の数平均分子量：約４，４００）
［合成実施例２］フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－２）の合成
　乾燥窒素雰囲気下で、反応容器に、平均構造が下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
で表される化合物（ＩＩＩ）１００ｇ（０．０１７モル）、下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 で表される化合物（ｉ）８．５ｇ（０．１４モル）、及びｍ－キシレンヘキサフロライド１００ｇを仕込み、乾燥窒素雰囲気下６５℃で８時間撹拌した。反応液のＩＲにより、－Ｃ（＝Ｏ）Ｆ結合に由来するバンドの消失を確認した。得られた反応液を水洗した後に減圧留去し、以下の構造式で示されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＩＶ）９４．４ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
　乾燥空気雰囲気下、反応容器中で、前述の方法により得られたフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＩＶ）５０．０ｇ（水酸基量０．０１７モル）に、ｍ－キシレンヘキサフロライド５０．０ｇと、メタクリル酸クロリド３．６ｇ（０．０３４モル）と、トリエチルアミン４．４ｇ（０．０４３モル）を混合し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、水洗した後に減圧留去を行い、液状高粘調物質３９．９ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記式で示されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－２）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
［合成実施例３］フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－３）の合成
　乾燥空気雰囲気下、反応容器中で、合成実施例２と同様にして得られたフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＩＶ）５０．０ｇ（水酸基量０．０１７モル）に、ＴＨＦ５０．０ｇと、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート２．６ｇ（０．０１７モル）を混合し、５０℃に加熱した。そこにカルボン酸ビスマス触媒（楠本化成製ＸＫ－６４０）０．１５ｇを添加し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、減圧留去を行い、液状高粘調物質４８．３ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記式で示されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－３）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
［合成実施例４］フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－４）の合成
　乾燥空気雰囲気下、反応容器中で、合成実施例２と同様にして得られたフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＩＶ）５０．０ｇ（水酸基量０．０１７モル）に、ＴＨＦ５０．０ｇと、１，１－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート４．１ｇ（０．０１７モル）を混合し、５０℃に加熱した。そこにカルボン酸ビスマス触媒（楠本化成製ＸＫ－６４０）０．１５ｇを添加し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、減圧留去を行い、液状高粘調物質３７．３ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記式で示されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－４）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
［合成実施例５］フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－５）の合成
　乾燥窒素雰囲気下で、反応容器に、平均構造が下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 （ＲｆA3の数平均分子量：約１５，３００）
で表される化合物（Ｖ）１００ｇ（０．００６３モル）、下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 で表される化合物（ｉ）３．１ｇ（０．０５モル）、及びｍ－キシレンヘキサフロライド１００ｇを仕込み、乾燥窒素雰囲気下６５℃で８時間撹拌した。反応液のＩＲにより、－Ｃ（＝Ｏ）Ｆ結合に由来するバンドの消失を確認した。得られた反応液を水洗した後に減圧留去し、以下の構造式で示されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＶＩ）７３．２ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 （ＲｆA3の数平均分子量：約１５，３００）
　乾燥空気雰囲気下、反応容器中で、前述の方法により得られたフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＶＩ）５０．０ｇ（水酸基量０．００６３モル）に、ＴＨＦ５０．０ｇと、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート０．９８ｇ（０．００６３モル）を混合し、５０℃に加熱した。そこにカルボン酸ビスマス触媒（楠本化成製ＸＫ－６４０）０．１５ｇを添加し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、減圧留去を行い、液状高粘調物質３２．８ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記式で示されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－５）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 （ＲｆA3の数平均分子量：約１５，３００）
［合成実施例６］フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－６）の合成
　乾燥窒素雰囲気下で、反応容器に、平均構造が下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
で表される化合物（ＩＩＩ）１００ｇ（０．０１７モル）、下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 で表される化合物（ｉｉ）１２．８ｇ（０．１４モル）、及びｍ－キシレンヘキサフロライド１００ｇを仕込み、乾燥窒素雰囲気下６５℃で８時間撹拌した。反応液のＩＲにより、－Ｃ（＝Ｏ）Ｆ結合に由来するバンドの消失を確認した。得られた反応液を水洗した後に減圧留去し、以下の構造式で示されるフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＶＩＩ）８８．７ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
　乾燥空気雰囲気下、反応容器中で、前述の方法により得られたフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（ＶＩＩ）５０．０ｇ（水酸基量０．０３３モル）に、ＴＨＦ５０．０ｇと、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート５．１ｇ（０．０３３モル）を混合し、５０℃に加熱した。そこにカルボン酸ビスマス触媒（楠本化成製ＸＫ－６４０）０．１５ｇを添加し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、減圧留去を行い、液状高粘調物質３６．６ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記式で示されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－６）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
［合成比較例１］フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－７）の合成
　乾燥窒素雰囲気下で、反応容器に、平均構造が下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
で表される化合物（ＩＩＩ）１００ｇ（０．０１７モル）、下記式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 で表される化合物（ｉｉｉ）６．６ｇ（０．０５１モル）、ｍ－キシレンヘキサフロライド５０．０ｇ、トリエチルアミン５．２ｇ（０．０５１モル）を混合し、５０℃下２４時間攪拌した。加熱終了後、水洗した後に減圧留去を行い、液状高粘調物質３４．４ｇを得た。1Ｈ－ＮＭＲ及びＩＲの結果から下記式で示されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－７）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 （ＲｆA2の数平均分子量：約５，８００）
化合物の屈折率の評価
　化合物の屈折率は、アッベ屈折計（アタゴ社製：ＤＲ－Ａ１）を用い、温度：２５℃、波長：５８９ｎｍにおいて測定した。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
［実施例１～６、比較例１］
化合物の光重合開始剤との相溶性の評価
　上記合成実施例１～６で得られたフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－１）～（Ａ－６）又は合成比較例１で得られたフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－７）と、光重合開始剤（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン又は２－ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド）とを下記に示す配合量にて混合し、配合組成物を得た。得られた配合組成物の外観を目視観察により下記基準で評価した。結果を表２に示す。
配合Ａ：フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物　１００質量部と、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン　１質量部を配合
　　○（良）　：配合Ａの配合組成物の外観が均一である。
　　×（不良）：配合Ａの配合組成物の外観が不均一である。
配合Ｂ：フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物　１００質量部と、２－ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド　１質量部を配合
　　○（良）　：配合Ｂの配合組成物の外観が均一である。
　　×（不良）：配合Ｂの配合組成物の外観が不均一である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000054
　本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－１）～（Ａ－６）は、低い屈折率を示し、また、本発明のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－１）～（Ａ－６）を用いた実施例１～６は、光重合開始剤との相溶性に優れていた。一方、構造中にアミド結合を含有しないフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－７）は、低い屈折率を示すものの、該フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物（Ａ－７）を用いた比較例１は、光重合開始剤との相溶性に劣っていた。

Claims (9)

  1. 　下記一般式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
    　　Ｖ2－Ｒｆ2－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-a　　　（１）
    （式中、Ｒｆ2は炭素数１～６のパーフルオロアルキレン基と酸素原子によって構成される数平均分子量５００～４０，０００の２価のパーフルオロポリエーテル基である。Ｙ2は独立に炭素数１～２０の（ｂ’＋１）価の有機基である。Ｘ2は独立にアクリル基又はα置換アクリル基を含有する１価の有機基であり、かつ１分子中に平均して少なくとも１個の前記アクリル基もしくはα置換アクリル基を含有する。Ｒ1は水素原子又は炭素数１～８の１価の炭化水素基である。Ｖ2は水素原子、フッ素原子、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ1 a［Ｙ2（Ｘ2）b’］2-aで表される１価の基である。ａは０又は１である。ｂ’は１～１０の整数である。）
  2. 　一般式（１）において、Ｒｆ2が下記式
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、ｃは単位毎に独立に２～６の整数である。ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉはそれぞれ０～２００の整数で、ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＝４～２００である。これら各単位は直鎖状であっても分岐状であってもよく、また、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉが付された括弧内に示される各繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。）
    で表される２価のパーフルオロポリエーテル基である請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
  3. 　一般式（１）において、Ｒｆ2が下記構造式
    －ＣＦ2ＣＦ2Ｏ－（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）q－ＣＦ2ＣＦ2－
    （式中、ｑは４～２００の整数である。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、ｒは１～６の整数で、ＣrＦ2rＯは直鎖状であっても分岐状であってもよく、ｓは０～６の整数、ｔ、ｕはそれぞれ１～２００の整数、ｔ＋ｕは２～２００の整数、ｓ＋ｔ＋ｕは４～２００の整数である。ｖは５～２００の整数である。）
    で表される２価のパーフルオロポリエーテル基から選ばれるものである請求項１又は２に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
  4. 　一般式（１）において、Ｒ1が水素原子であり、ａが１である請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
  5. 　一般式（１）において、Ｙ2が下記のいずれかで表されるものである請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、＊はＮと結合する結合手であり、＊＊はＸ2と結合する結合手である。）
  6. 　一般式（１）において、Ｘ2が下記構造式
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｒ2は独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であり、Ｗは単結合、又はエーテル結合、エステル結合及びウレタン結合から選ばれる１種又は２種以上を含んでいてもよい２価又は３価の炭化水素基であり、ｎは１又は２である。）
    で表されるものである請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
  7. 　一般式（１）において、Ｘ2が下記のいずれかで表されるものである請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
  8. 　式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物が、下記式のいずれかで表されるものである請求項１～７のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ｘ2は上記と同じである。ｑは４～２００の整数、ｒは１～６の整数で、ＣrＦ2rＯは直鎖状であっても分岐状であってもよく、ｓは０～６の整数、ｔ、ｕはそれぞれ１～２００の整数、ｔ＋ｕは２～２００の整数、ｓ＋ｔ＋ｕは４～２００の整数である。）
  9. 　温度２５℃、波長５８９ｎｍの条件における屈折率が１．３９０以下である請求項１～８のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025105140A1 (ja) * 2023-11-17 2025-05-22 Ａｇｃ株式会社 化合物、ポリマー、レジスト組成物、レジスト膜、及び光学素子

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6099160A (ja) * 1983-09-19 1985-06-03 ミネソタ　マイニング　アンド　マニユフアクチユアリング　コンパニ− ペルフルオロポリエ−テル組成物
JPH0532749A (ja) 1991-07-29 1993-02-09 Nippon Kayaku Co Ltd ウレタン（メタ）アクリレート、これを用いた樹脂組成物、光フアイバー用コーテイング剤及び硬化物
JPH06136062A (ja) 1992-10-21 1994-05-17 Nippon Oil & Fats Co Ltd 含フッ素硬化性組成物及び含フッ素硬化被膜
JPH11349651A (ja) * 1998-06-09 1999-12-21 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及び硬化物
JP2006233172A (ja) 2005-01-27 2006-09-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 含フッ素硬化性組成物
WO2010016452A1 (ja) * 2008-08-08 2010-02-11 Dic株式会社 フッ素化合物及びそれを用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JP2011213837A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Unimatec Co Ltd 含フッ素ポリエーテル化合物、その製造方法およびそれを含有する硬化性組成物
JP2017002216A (ja) * 2015-06-12 2017-01-05 信越化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物及び物品
WO2022244675A1 (ja) * 2021-05-18 2022-11-24 信越化学工業株式会社 含フッ素アクリル組成物、含フッ素活性エネルギー線硬化性組成物及び物品

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6099160A (ja) * 1983-09-19 1985-06-03 ミネソタ　マイニング　アンド　マニユフアクチユアリング　コンパニ− ペルフルオロポリエ−テル組成物
JPH0532749A (ja) 1991-07-29 1993-02-09 Nippon Kayaku Co Ltd ウレタン（メタ）アクリレート、これを用いた樹脂組成物、光フアイバー用コーテイング剤及び硬化物
JPH06136062A (ja) 1992-10-21 1994-05-17 Nippon Oil & Fats Co Ltd 含フッ素硬化性組成物及び含フッ素硬化被膜
JPH11349651A (ja) * 1998-06-09 1999-12-21 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及び硬化物
JP2006233172A (ja) 2005-01-27 2006-09-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 含フッ素硬化性組成物
WO2010016452A1 (ja) * 2008-08-08 2010-02-11 Dic株式会社 フッ素化合物及びそれを用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JP2011213837A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Unimatec Co Ltd 含フッ素ポリエーテル化合物、その製造方法およびそれを含有する硬化性組成物
JP2017002216A (ja) * 2015-06-12 2017-01-05 信越化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化性組成物及び物品
WO2022244675A1 (ja) * 2021-05-18 2022-11-24 信越化学工業株式会社 含フッ素アクリル組成物、含フッ素活性エネルギー線硬化性組成物及び物品

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP4450529A4

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025105140A1 (ja) * 2023-11-17 2025-05-22 Ａｇｃ株式会社 化合物、ポリマー、レジスト組成物、レジスト膜、及び光学素子

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