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WO2023008528A1 - ポリチオール組成物及びその応用 - Google Patents

ポリチオール組成物及びその応用 Download PDF

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WO2023008528A1
WO2023008528A1 PCT/JP2022/029134 JP2022029134W WO2023008528A1 WO 2023008528 A1 WO2023008528 A1 WO 2023008528A1 JP 2022029134 W JP2022029134 W JP 2022029134W WO 2023008528 A1 WO2023008528 A1 WO 2023008528A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
compound
polythiol
composition
polythiol composition
peak area
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2022/029134
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
中野将太郎
正和 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
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Priority to JP2023538621A priority patent/JPWO2023008528A1/ja
Priority to KR1020247000301A priority patent/KR20240018587A/ko
Priority to CN202280045209.2A priority patent/CN117561236A/zh
Priority to US18/576,179 priority patent/US20240308957A1/en
Publication of WO2023008528A1 publication Critical patent/WO2023008528A1/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • C08G18/7628—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic containing only one aromatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the aromatic ring by means of an aliphatic group
    • C08G18/7642—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic aromatic containing only one aromatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the aromatic ring by means of an aliphatic group containing at least two isocyanate or isothiocyanate groups linked to the aromatic ring by means of an aliphatic group having a primary carbon atom next to the isocyanate or isothiocyanate groups, e.g. xylylene diisocyanate or homologues substituted on the aromatic ring
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
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    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041—Lenses

Definitions

  • the present disclosure relates to polythiol compositions and their applications.
  • Plastic lenses which are lenses containing resin, are lighter than inorganic lenses, are less likely to crack, and can be dyed.
  • various studies have been made so far on lenses containing thiourethane resin (see, for example, Patent Documents 1 to 3).
  • Patent Document 1 JP-A-63-46213
  • Patent Document 2 JP-A-2-270859
  • Patent Document 3 JP-A-7-252207
  • a thiourethane resin is usually produced using a polythiol composition and a polyisocyanate compound as raw materials.
  • thiourethane resins there are cases where it is required to further improve the heat resistance.
  • An object of one aspect of the present disclosure is to provide a polythiol composition capable of producing a thiourethane resin with excellent heat resistance and its application.
  • Means for solving the above problems include the following aspects. ⁇ 1> A polythiol composition containing a polythiol compound, Containing compound C1 having a retention time of 32.0 minutes to 35.0 minutes in high performance liquid chromatography measurement under the following measurement conditions A, The peak area of the compound C1 in the high performance liquid chromatography measurement is 0.50 or more relative to the total peak area of 100 of the compounds contained in the polythiol composition.
  • the compound C1 has a molecular weight of 426, The polythiol composition according to ⁇ 1>.
  • the compound C1 is a polythiol compound, The polythiol composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>.
  • ⁇ 4> Further, it contains compound C2 whose retention time in the high performance liquid chromatography measurement is 16.0 minutes to 19.0 minutes, The peak area of the compound C2 in the high performance liquid chromatography measurement is 1.39 or more with respect to 100 of the total peak area of the compounds contained in the polythiol composition.
  • ⁇ 5> Furthermore, it contains a polythiol compound (XA) containing three or more mercapto groups as a main component,
  • the peak area in the high performance liquid chromatography measurement of the compound (XB) in which at least one of the three or more mercapto groups in the polythiol compound (XA) is replaced with a group represented by the following formula (N1) is is less than 1.10 with respect to 100 of the total peak area of the compounds contained in the polythiol composition
  • the peak area in the high performance liquid chromatography measurement of the compound (XC) in which at least one of the three or more mercapto groups in the polythiol compound (XA) is replaced with a hydroxyl group is the peak area of the compound contained in the polythiol composition. is less than 2.40 for a total peak area of 100;
  • the polythiol compound (XA) is 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, and at least one selected from the group consisting of 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane;
  • the polythiol composition according to ⁇ 5> is 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, and at least one selected from the group consisting of
  • a polyiso (thio) cyanate compound The polythiol composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, A polymerizable composition for optical materials containing ⁇ 8>
  • the polyiso(thio)cyanate compound includes pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, bis(isocyanatocyclohexyl)methane, 2,5-bis(isocyanate), natomethyl)bicyclo-[2.2.1]-heptane, 2,6-bis(isocyanatomethyl)bicyclo-[2.2.1]-heptane, tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, and including at least one selected from the group consisting of phenylene diisocyanates, The polymerizable composition for optical materials
  • ⁇ 9> A resin that is a cured product of the polymerizable composition for optical materials according to any one of ⁇ 7> or ⁇ 8>.
  • ⁇ 10> A molded article containing the resin according to ⁇ 9>.
  • ⁇ 11> An optical material containing the resin according to ⁇ 9>.
  • ⁇ 12> A lens containing the resin according to ⁇ 9>.
  • a polythiol composition capable of producing a thiourethane resin with excellent heat resistance and its application are provided.
  • a numerical range represented using “to” means a range including the numerical values described before and after “to” as lower and upper limits.
  • the term “step” includes not only independent steps, but also if the intended purpose of the step is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other steps. .
  • the amount of each component contained in the composition is the total amount of the multiple substances present in the composition unless otherwise specified.
  • the upper limit or lower limit of one numerical range may be replaced with the upper or lower limit of another numerical range described step by step. .
  • the upper or lower limits of the numerical ranges may be replaced with the values shown in the examples.
  • the polythiol compositions of the present disclosure are A polythiol composition containing a polythiol compound, Containing compound C1 having a retention time of 32.0 minutes to 35.0 minutes in high-performance liquid chromatography measurement (hereinafter also simply referred to as "high-performance liquid chromatography measurement") under the following measurement conditions A,
  • the peak area of compound C1 in high performance liquid chromatography measurement is 0.50 or more relative to the total peak area of 100 of the compounds contained in the polythiol composition, A polythiol composition.
  • thiourethane resin having excellent heat resistance can be produced.
  • polythiol composition means a composition containing at least one polythiol compound.
  • the polythiol compound contained in the polythiol composition is also referred to as "polythiol component.”
  • the polythiol composition may contain components other than the polythiol compound as impurities.
  • the polythiol composition preferably contains at least one polythiol compound as a main component.
  • the polythiol composition contains at least one polythiol compound as a main component
  • the total content of at least one polythiol compound relative to the total amount of the polythiol composition is 50% or more. do.
  • the total content of at least one polythiol compound relative to the total amount of the polythiol composition is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and even more preferably 80% or more.
  • the expression that the composition “includes a certain component (hereinafter referred to as “component X”) as a main component” means the content of component X (when component X consists of two or more compounds means that the total content of two or more compounds) is 50% or more of the total amount of the composition.
  • the content of component X, which is the main component, is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and still more preferably 80% or more, relative to the total amount of the composition.
  • % in the explanation of the term “contained as a main component” is the component relative to the total area of all peaks of the composition (e.g., polythiol composition) determined by high-performance liquid chromatography under the above measurement conditions A. It means the ratio (area %) of the total area of all peaks of X (eg, at least one polythiol compound).
  • polythiol compositions include polythiol compositions containing known polythiol compounds.
  • the polythiol compound is not particularly limited as long as it contains two or more thiol groups (also known as mercapto groups).
  • thiol groups also known as mercapto groups.
  • the polythiol compound refer to the above-mentioned known documents (that is, JP-A-63-46213, JP-A-2-270859, JP-A-7-252207, WO 2008/047626, etc.) as appropriate. can.
  • the polythiol composition of the present disclosure contains compound C1.
  • Compound C1 is a compound having a retention time of 32.0 to 35.0 minutes in high performance liquid chromatography measurement under measurement conditions A.
  • the polythiol composition of the present disclosure may contain only one type of compound C1, or may contain two or more types.
  • Compound C1 may or may not be a polythiol compound, but is preferably a polythiol compound.
  • Compound C1 is an effective component for improving the heat resistance of the thiourethane resin produced using the polythiol composition.
  • the peak area of the compound C1 relative to the total peak area of 100 of the compounds contained in the polythiol composition in high performance liquid chromatography measurement (hereinafter simply referred to as the "peak area of compound C1") is When it is 0.50 or more, the effect of improving the heat resistance of the produced thiourethane resin is exhibited.
  • the upper limit of the peak area of compound C1 is preferably 10.0, more preferably 5.0, from the viewpoint of the hue of the thiourethane resin to be produced.
  • the molecular weight of compound C1 is 426, for example.
  • the molecular weight referred to here is a value measured by high performance liquid chromatography mass spectrometry under measurement condition B below.
  • Measurement condition B As a column, YMC-Pack (registered trademark) C18RS manufactured by YMC Co., Ltd.
  • Compound C1 having a molecular weight of 426 and being a polythiol compound includes the following compound (C1-1a), the following compound (C1-1b), the following compound (C1-1c), the following compound (C1-2a), It preferably contains at least one selected from the group consisting of the following compound (C1-2b), the following compound (C1-2c), and the following compound (C1-2d).
  • Compound C2 The polythiol composition of the present disclosure preferably further contains compound C2. Thereby, the heat resistance of the manufactured thiourethane resin is further improved.
  • Compound C2 is a compound having a retention time of 16.0 to 19.0 minutes in high performance liquid chromatography measurement under measurement conditions A. When the polythiol composition of the present disclosure contains compound C2, only one type of compound C2 may be contained, or two or more types may be contained. Compound C2 may or may not be a polythiol compound.
  • the peak area of compound C2 relative to the total peak area of 100 of the compounds contained in the polythiol composition in the high-performance liquid chromatography measurement under measurement conditions A (hereinafter also simply referred to as the "peak area of compound C2") is 1.39 or more. is preferably Thereby, the heat resistance of the manufactured thiourethane resin is further improved.
  • the upper limit of the peak area of compound C2 is preferably 10.0, more preferably 5.0, from the viewpoint of the hue of the thiourethane resin to be produced.
  • the polythiol composition of the present disclosure preferably further contains a polythiol compound (XA) containing 3 or more mercapto groups as a main component.
  • the polythiol compound (XA) is a polythiol compound containing three or more mercapto groups.
  • the compound C1 is not included in the scope of the polythiol compound (XA).
  • the polythiol composition of the present disclosure contains compound C2, and the aforementioned compound C2 is a "polythiol compound containing three or more mercapto groups", the scope of the polythiol compound (XA) includes: Compound C2 shall not be included.
  • the polythiol compound (XA) is 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, and It is preferably at least one selected from the group consisting of 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane.
  • 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane is a polythiol compound represented by the following formula (1)
  • 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane is a polythiol compound represented by the following formula (2)
  • 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane is a polythiol compound represented by the following formula (3)
  • 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane is a polythiol compound represented by the following formula (4).
  • a more preferred embodiment of the polythiol compound (XA) is A mode containing 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane (hereinafter also referred to as "polythiol component A1") as a main component, and 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, and 5 ,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane (hereinafter collectively referred to as "polythiol component A2”) as a main component.
  • the polythiol composition of each aspect may contain at least one component other than the main component (for example, other polythiol compounds, components other than the polythiol compound, etc.).
  • the peak area of the compound C1 is 0.50 or more from the viewpoint of the heat resistance of the thiourethane resin to be produced. Even in the aspect in which the polythiol compound (XA) contains the polythiol component A1 as a main component, the peak area of the compound C1 is preferably 1.00 or more, more preferably 1.00 or more, from the viewpoint of further improving the heat resistance of the thiourethane resin to be produced. is greater than or equal to 1.20.
  • the upper limit of the peak area of the compound C1 is preferably 10.0, more preferably 5, from the viewpoint of the hue of the thiourethane resin to be produced. .0.
  • the compound C1 in the embodiment in which the polythiol compound (XA) contains the polythiol component A1 as a main component is preferably the aforementioned compound (C1-1).
  • the peak area of the compound C1 is 0.50 or more from the viewpoint of the heat resistance of the thiourethane resin to be produced.
  • the peak area of the compound C1 is preferably 2.30 or more, from the viewpoint of further improving the heat resistance of the thiourethane resin to be produced. It is more preferably 2.50 or more, and still more preferably 2.65 or more.
  • the upper limit of the peak area of the compound C1 is preferably 10.0, more preferably 5, from the viewpoint of the hue of the thiourethane resin to be produced. .0.
  • the compound C1 in the embodiment in which the polythiol compound (XA) contains the polythiol component A2 as a main component is preferably the aforementioned compound (C1-2a), the aforementioned compound (C1-2b), and the aforementioned compound (C1-2c). At least one selected from the group consisting of
  • the peak area of the compound C2 is preferably 1.39 or more from the viewpoint of the heat resistance of the thiourethane resin to be produced. Even in the aspect in which the polythiol compound (XA) contains the polythiol component A1 as a main component, the peak area of the compound C2 is more preferably 2.40 or more from the viewpoint of further improving the heat resistance of the thiourethane resin to be produced. , more preferably 2.70 or more, more preferably 2.90 or more.
  • the upper limit of the peak area of the compound C2 is preferably 10.0, more preferably 5, from the viewpoint of the hue of the thiourethane resin to be produced. .0.
  • the peak area of the compound C2 is preferably 1.39 or more from the viewpoint of the heat resistance of the thiourethane resin to be produced.
  • the peak area of the compound C2 is more preferably 1.40 or more, and further Preferably it is 1.41 or more.
  • the upper limit of the peak area of the compound C2 is preferably 10.0, more preferably 5, from the viewpoint of the hue of the thiourethane resin to be produced. .0.
  • the polythiol composition of the present disclosure contains a polythiol compound (XA) as a main component
  • a polythiol compound (XB) as a main component
  • the peak area of the compound (XB) in which at least one of the three or more mercapto groups in the polythiol compound (XA) is replaced with a group represented by the following formula (N1) by high-performance liquid chromatography is determined by the polythiol composition.
  • the peak area in high performance liquid chromatography measurement of the compound (XC) in which at least one of the three or more mercapto groups in the polythiol compound (XA) is replaced with a hydroxyl group is the total peak area of the compounds contained in the polythiol composition. It is preferably less than 2.40 out of 100.
  • Compound (XB) is a compound in which at least one of the three or more mercapto groups in polythiol compound (XA) is replaced with a group represented by formula (N1)
  • Compound (XC) is a compound obtained by replacing at least one of the three or more mercapto groups in polythiol compound (XA) with a hydroxyl group.
  • the polythiol composition of the present disclosure does not contain compound (XB), or even if it contains compound (XB), the peak area of compound (XB) in high performance liquid chromatography measurement is the total peak of the compounds contained in the polythiol composition It is preferably less than 1.10 with respect to 100 of the area.
  • the peak area of the compound (XB) is preferably 100% of the total peak area of the compounds contained in the polythiol composition. is less than 1.10, more preferably less than 0.50, more preferably less than 0.25, and even more preferably less than 0.10.
  • the peak area of the compound (XB) is preferably 100% of the total peak area of the compounds contained in the polythiol composition. is less than 1.10, more preferably less than 0.50, and even more preferably less than 0.10.
  • the polythiol composition of the present disclosure does not contain compound (XC), or even if it contains compound (XC), the peak area of compound (XC) in high performance liquid chromatography measurement is the total peak of the compounds contained in the polythiol composition It is preferably less than 2.40 for an area of 100.
  • the peak area of the compound (XC) is, relative to the total peak area of 100 of the compounds contained in the polythiol composition, It is preferably less than 2.40, more preferably less than 1.20, and even more preferably less than 0.10.
  • the peak area of the compound (XC) is, relative to the total peak area of 100 of the compounds contained in the polythiol composition, It is preferably less than 2.40, more preferably less than 2.00, even more preferably less than 1.00, and even more preferably less than 0.10.
  • the polythiol composition of the present disclosure when the contents of compound (XB) and compound (XC) are limited as described above, unintended polymerization of polythiol compound (XA) in the polythiol composition is suppressed. , and as a result, thickening is suppressed. Therefore, the polythiol composition of this aspect has an excellent pot life (that is, it has a long pot life).
  • Compound (XB) is a compound obtained by replacing at least one of the three or more mercapto groups in polythiol compound (XA) with a group represented by formula (N1) above. Examples of compound (XB) are shown below, but compound (XB) is not limited to the following examples.
  • Compound (XC) is a compound obtained by replacing at least one of the three or more mercapto groups in polythiol compound (XA) with a hydroxyl group. Examples of compound (XC) are shown below, but compound (XC) is not limited to the following examples.
  • the polythiol composition of the present disclosure may contain other polythiol compounds other than the polythiol compounds described above.
  • Other polythiol compounds include, for example, methanedithiol, 1,2-ethanedithiol, 1,2,3-propanetrithiol, pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate).
  • production method A Method for producing polythiol composition.
  • production method A The polythiol composition of the present disclosure described above is produced, for example, by the following production method (hereinafter also referred to as “production method A”).
  • Production method A is a method for producing a polythiol composition, including the step of reacting a thiourethane resin and an active hydrogen compound to produce the polythiol composition of the present disclosure.
  • the polythiol composition of the present disclosure can be produced using a thiourethane resin as a starting material.
  • the thiourethane resin reacts with the active hydrogen compound, the reaction chemically decomposes the thiourethane resin, and the polythiol composition of the present disclosure is obtained as a decomposition product of the thiourethane resin.
  • thiourethane resin A thiourethane resin is the starting material in process A.
  • the thiourethane resin is not particularly limited. Mention may be made of the thiourethane resins described.
  • a thiourethane resin is usually produced as a reaction product of a polyisocyanate compound and a polythiol composition as raw materials.
  • thiourethane resins include: Thiourethane resin obtained from high refractive index lens materials MR-6, MR-7, MR-8, MR-8Plus, MR-60, MR-10, MR-20 (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.); EYAS1.60 (manufactured by HOYA Corporation); etc.
  • the thiourethane resin is preferably recovered in at least one of the spectacle lens manufacturing process, the spectacle manufacturing process, and the spectacle disposal process. According to this aspect, it is possible to recycle the thiourethane resin, which is the material of the spectacle lenses.
  • the process of manufacturing an eyeglass lens means a process of preparing a resin by preparing a monomer that is a resin raw material and subjecting it to cast polymerization, and/or a process of cutting a resin molding to obtain an eyeglass lens.
  • the manufacturing process of spectacles means the process of manufacturing spectacles by combining spectacle lenses and other members such as spectacle frames,
  • the process of discarding eyeglasses means a process of discarding manufactured but unnecessary eyeglasses, used eyeglasses, and the like.
  • thiourethane resin which is a material for spectacle lenses, can be generated as a waste product.
  • a thiourethane resin produced in at least one of these processes is used as a starting material, and this thiourethane resin is reacted with an active hydrogen compound to obtain a polythiol composition of the present disclosure as a decomposition product of the thiourethane resin.
  • the production method A by using the used thiourethane resin for the production of the polythiol composition, it is possible to reduce the amount of the thiourethane resin that is incinerated and discarded. It is possible to reduce the generation of greenhouse gases such as carbon dioxide, nitrogen monoxide and sulfur dioxide; and air pollutants such as sulfur oxides and nitrogen oxides. In addition, since thiourea is not used in the production of the polythiol compound, there is no production of waste water containing thiourea, making the production method environmentally friendly.
  • production method A is effective as a method for recycling thiourethane resin.
  • the polythiol composition of the present disclosure containing compound C1 is obtained. This point is effective in ensuring the traceability of materials.
  • the starting material preferably contains cutting waste (for example, cutting powder and/or cutting pieces; the same shall apply hereinafter) containing thiourethane resin.
  • cutting waste for example, cutting powder and/or cutting pieces; the same shall apply hereinafter
  • the thiourethane resin and the active hydrogen compound are reacted by contacting the cutting waste containing the thiourethane resin and the active hydrogen compound.
  • the reactivity between the active hydrogen compound and the thiourethane resin in the starting material is excellent, so that the polythiol composition can be produced more effectively.
  • the active hydrogen compound functions as a decomposing agent for the starting thiourethane resin. From the viewpoint of the above functions, the active hydrogen compound is preferably at least one selected from the group consisting of amine compounds and alcohol compounds.
  • the amine compound is preferably an amine compound containing at least one of an amino group and a monoalkylamino group and having a total number of amino groups and monoalkylamino groups of 1 to 6 (preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2). .
  • the molecular weight of the amine compound is preferably 1000 or less, more preferably 500 or less, still more preferably 300 or less, and still more preferably 200 or less.
  • the lower limit of the molecular weight of the amine compound is, for example, 45 or more, preferably 59 or more, more preferably 60 or more.
  • Examples include amine compounds containing at least one of an amino group and a monoalkylamino group and having a total number of amino groups and monoalkylamino groups of 1 or 2 and having a molecular weight of 300 or less.
  • amine compounds include alkylamines having 2 to 10 carbon atoms, aralkylamines having 7 to 10 carbon atoms (eg, benzylamine), dialkylamines having 2 to 10 carbon atoms (eg, di-n-butylamine ), alkyldiamines having 2 to 10 carbon atoms (e.g., ethylenediamine, bis(2-aminoethyl) ether), alkyltriamines having 2 to 10 carbon atoms (e.g., bis(2-aminoethyl)amine), 2 to 10 carbon atoms, 10 hydroxyalkylamines (eg, monoethanolamine), bis(hydroxyalkyl)amines having 2 to 10 carbon atoms (eg, bis(hydroxyethyl)amine), cyclic amines having 2 to 10 carbon atoms (eg, morpholine), Secondary amines such as alkyl(hydroxyalkyl)amines having 2 to 10 carbon atoms (eg, benzy
  • the alcohol compound may be a monoalcohol compound containing only one hydroxy group, or a polyol compound containing two or more hydroxy groups.
  • the molecular weight of the alcohol compound is preferably 1000 or less, more preferably 500 or less, still more preferably 300 or less, and still more preferably 200 or less.
  • the lower limit of the molecular weight of the alcohol compound is, for example, 40 or more, preferably 50 or more, more preferably 60 or more.
  • the alcohol compound preferably includes an alcohol compound having a boiling point of 135°C to 250°C (hereinafter also referred to as "alcohol compound A").
  • the boiling point means the boiling point under 1 atmosphere (101325 Pa).
  • the proportion of alcohol compound A in the total amount of alcohol compounds is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 60% by mass to 100% by mass, and still more preferably 80% by mass to 100% by mass. be.
  • reaction solvent In the step of producing the polythiol composition, it is preferable to react the thiourethane resin and the active hydrogen compound in the presence of the reaction solvent.
  • the reaction solvent include hydrocarbon compounds having 5 to 12 carbon atoms (preferably 6 to 10, more preferably 7 to 9), ether compounds having 4 to 12 carbon atoms, ketone compounds having 3 to 12 carbon atoms, and 4 carbon atoms. Ester compounds having 1 to 12 carbon atoms, alcohol compounds having 2 to 12 carbon atoms, and nitrile compounds having 2 to 12 carbon atoms are preferred.
  • the hydrocarbon compound is preferably hexane, heptane, octane, nonane, decane, xylene, mesitylene, or toluene, more preferably heptane, octane, nonane, xylene, mesitylene, or toluene, and particularly preferably , xylene or toluene.
  • the ether compound is preferably diethyl ether, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dimethoxyethane or 1,4-dioxane, and particularly preferably dimethoxyethane.
  • the ketone compound is preferably acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, or 2-octanone, and particularly preferably methyl isobutyl ketone.
  • the above ester compound is preferably ethyl acetate, butyl acetate, or pentyl acetate, and particularly preferably pentyl acetate.
  • the above alcohol compound is preferably ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-octanol, 2-octanol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, or methyl cellosolve, Benzyl alcohol or ethylene glycol is particularly preferred.
  • the nitrile compound is preferably acetonitrile or propionitrile, particularly preferably acetonitrile.
  • the compound used as the reaction solvent may be of one type or two or more types.
  • the step of producing a polythiol composition is preferably a step of reacting a thiourethane resin and an active hydrogen compound to produce a polythiol composition and a polyamine compound.
  • a decomposition reaction occurs in which the thiourethane resin is decomposed into a polythiol composition and a polyamine compound by an active hydrogen compound as a decomposing agent.
  • the active hydrogen compound is an amine compound
  • the decomposition reaction is an aminolysis reaction
  • the active hydrogen compound is an alcohol compound
  • the decomposition reaction is an alcoholysis reaction.
  • the step of generating a polythiol composition includes contacting a resin mixture containing a thiourethane resin with an active hydrogen compound to react the thiourethane resin in the resin mixture with the active hydrogen compound to form a polythiol composition. It may be a step of generating
  • a resin mixture containing a thiourethane resin further contains components other than the thiourethane resin.
  • Components other than the thiourethane resin include resins other than the thiourethane resin, inorganic materials for lens production (for example, glass), and the like.
  • Resins other than the thiourethane resin are not particularly limited. for example; A hybrid material of a thiourethane resin and a urethane resin, produced by adding a polyol compound to raw materials when producing a thiourethane resin; A hybrid material of a thiourethane resin and a urea resin, produced by adding a polyamine compound to raw materials when producing a thiourethane resin; etc. are also included in the scope of resin mixtures containing thiourethane resins and resins other than thiourethane resins.
  • Polyolefin film that protects the surface of resin moldings for making eyeglass lenses
  • a hard coat or primer coat that protects the surface of a resin molded body for making eyeglass lenses
  • a resin material for fixing a resin molded body when cutting a resin molded body for making eyeglass lenses, Tape or tape glue used to fix the glass mold used when making a resin molded body for making eyeglass lenses, etc. are also mentioned.
  • the resin mixture preferably contains, as a resin other than the thiourethane resin, at least one selected from the group consisting of polycarbonate resin, polyallyl carbonate resin, acrylic resin, urethane resin, and episulfide resin. These resins, like thiourethane resins, are also resins that can be used as materials for spectacle lenses.
  • the resin mixture containing the thiourethane resin is preferably recovered in at least one of the spectacle lens manufacturing process, the spectacle manufacturing process, and the spectacle disposal process.
  • the spectacle lens manufacturing process, the spectacle manufacturing process, and the spectacle disposal process are as described above.
  • the resin mixture containing the thiourethane resin preferably contains cutting waste containing the thiourethane resin.
  • the step of producing a polythiol composition is a step of reacting a thiourethane resin with an active hydrogen compound to produce the polythiol composition of the present disclosure to obtain a reaction mixture containing the polythiol composition as the target product. good too.
  • Components other than the polythiol composition in the reaction mixture include the reaction solvent described above, residues of raw materials (thiourethane resin and/or active hydrogen compound), impurities contained in the raw materials, and the like.
  • Production method A may include a separation step of separating the target polythiol composition from the reaction mixture containing the polythiol composition.
  • the separation method in the separation step is not particularly limited, and known methods can be applied. Separation methods in the separation step include filtration, decantation, extraction, distillation, drying (including drying under reduced pressure), purification (for example, column chromatography), and the like. A plurality of methods may be used in combination as the separation method.
  • a method for separating the polythiol composition includes a method of extracting with an organic solvent or an inorganic solvent capable of dissolving the polythiol compound.
  • Common purification methods such as column purification, distillation purification, recrystallization purification, and salt extraction are used as methods for purifying the polythiol composition.
  • the separation step includes filtering the reaction mixture containing the polythiol composition and the polyamine derivative to obtain the polythiol composition as a filtrate. and/or obtaining as filtrate a mixture containing a polyurea compound that is a polyamine derivative.
  • the separating step comprises obtaining a filtrate comprising the polythiol composition as a filtrate
  • separating the polythiol composition from the filtrate provides the polythiol composition.
  • filtering a reaction mixture comprising the polythiol composition and the polyamine compound to obtain a filtrate comprising the polythiol composition
  • obtaining an aqueous extract containing an alkali metal salt of the polythiol composition by adding a base containing an alkali metal to the filtrate containing the polythiol composition and then adding water for extraction; adding an acid to an aqueous extract containing an alkali metal salt of the polythiol composition to obtain an aqueous liquid containing the polythiol composition
  • Obtaining an extract containing the polythiol composition by adding a hydrocarbon compound having 5 to 12 carbon atoms as an extraction solvent to an aqueous liquid containing the polythiol composition for extraction; separating the polythiol composition from an extract containing the polythiol
  • An acid is then added here to return the alkali metal salt of the polythiol composition to the polythiol composition.
  • the polythiol composition is extracted from the resulting aqueous liquid containing the polythiol composition with the extraction solvent to obtain an extract containing the polythiol composition.
  • the polythiol composition is separated from the obtained extract containing the polythiol composition. According to this example, even when the filtrate containing the polythiol composition contains many components other than the polythiol composition, a polythiol composition having a higher purity of the polythiol component as the main component can be obtained.
  • the alkali metal in the alkali metal-containing base is preferably sodium, potassium or lithium, more preferably sodium or potassium.
  • Bases containing alkali metals include sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium propoxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like.
  • a base containing an alkali metal can be added to the filtrate in the form of an alcohol solution (methanol solution, ethanol solution, etc.), if necessary.
  • the acid added to the water extract containing the alkali metal salt of the polythiol composition includes hydrochloric acid, carbonic acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, formic acid, oxalic acid, and the like.
  • the number of extraction solvents may be one, or two or more.
  • preferred modes of the extraction solvent are the same as the preferred modes of the reaction solvent described above.
  • the reaction solvent and the extraction solvent may be the same or different.
  • the separation step comprises obtaining a mixture comprising the polyurea compound as a filtrate or a residue from decantation or extraction
  • the active hydrogen compound preferably amine compound and/or alcohol compound
  • the polyurea compound and the active hydrogen compound in the mixture are allowed to react, thereby producing a polyamine compound as a raw material for a thiourethane resin.
  • the polyamine compound as a raw material for the thiourethane resin can be obtained.
  • Production method A may include other steps than the above steps, if necessary.
  • Other steps include, for example; a sieving step of sieving the thiourethane resin prior to the step of forming the polythiol composition; washing the thiourethane resin prior to forming the polythiol composition; crushing and/or pulverizing the thiourethane resin prior to forming the polythiol composition; etc. More specific examples of other steps are shown below.
  • Manufacturing method A is Before the step of generating the polythiol composition, the cutting waste containing the thiourethane resin is classified to obtain a powder containing the thiourethane resin having a smaller average particle size than the cutting waste. It's okay.
  • the powder and the active hydrogen compound are brought into contact with each other to allow the thiourethane resin in the powder to react with the active hydrogen compound.
  • Classification methods include sieving, centrifugation, and the like.
  • the following sieving process can be referred to for the aspect of performing sieving as classification.
  • Manufacturing method A is Before the step of generating the polythiol composition, a sieving step of sieving the cutting powder containing the thiourethane resin to obtain a powder containing the thiourethane resin that has passed through the sieve may be included.
  • the powder and the active hydrogen compound are brought into contact to react the thiourethane resin in the powder and the active hydrogen compound.
  • the nominal opening of the sieve defined by JIS Z-8801-1:2019 is, for example, 0.1 mm to 20 mm, preferably 0.1 mm to 10 mm, more preferably 0.1 mm to 5 mm, and further It is preferably 0.1 mm to 2 mm, more preferably 0.3 mm to 2 mm, still more preferably 0.5 mm to 1.5 mm.
  • the method for producing a polythiol composition according to production method A comprises: A washing step of washing the powder containing the thiourethane resin with a hydrocarbon compound having 5 to 12 carbon atoms as a washing solvent may be included before the step of producing the polythiol composition.
  • a washing step of washing the powder containing the thiourethane resin with a hydrocarbon compound having 5 to 12 carbon atoms as a washing solvent may be included before the step of producing the polythiol composition.
  • the powder washed in the washing step is brought into contact with the active hydrogen compound, whereby the thiourethane resin in the powder and the active hydrogen compound are brought into contact with each other. React with a hydrogen compound.
  • the number of hydrocarbon compounds used as the washing solvent may be one, or two or more. Preferred aspects of the hydrocarbon compound as the washing solvent are the same as the above-described preferred aspects of the hydrocarbon compound as the reaction solvent. However, the reaction solvent and the washing solvent may be the same or different.
  • the washing method in the washing step is not particularly limited, and a known method such as adding the above washing solvent to the thiourethane resin powder and mixing can be applied.
  • the manufacturing method A includes the sieving process and the washing process described above, it is preferable to perform the sieving process and the washing process in this order. In this case, since it is not necessary to wash the cutting powder that has not passed through the sieve, the amount of washing solvent used can be further reduced.
  • polymerizable composition for optical material The polymerizable composition for optical materials of the present disclosure (hereinafter also referred to as “polymerizable composition of the present disclosure") is A polyiso (thio) cyanate compound, the aforementioned polythiol composition of the present disclosure; contains
  • the polymerizable composition of the present disclosure contains the polythiol composition of the present disclosure described above, it exhibits the same effects as the polythiol composition of the present disclosure.
  • polyiso (thio) cyanate compound The polyiso(thio)cyanate compound is not particularly limited as long as it is a compound having at least two iso(thio)cyanate groups in one molecule.
  • Specific examples of polyiso (thio) cyanate compounds include: Tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, heptamethylene diisocyanate, octamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate methyl ester, lysine triisocyanate , aliphatic polyisocyanate compounds such as xylylene diisocyanate; isophorone diisocyanate, bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, bis(isocyanatocyclohexyl)methane, dicyclohexy
  • Polyiso(thio)cyanate compounds include halogen-substituted products such as chlorine-substituted products and bromine-substituted products thereof, alkyl-substituted products, alkoxy-substituted products, nitro-substituted products, prepolymer-type modified products with polyhydric alcohols, and carbodiimides. Modified products, urea modified products, buret modified products, dimerization or trimerization reaction products, etc. can also be used.
  • Polyisocyanate compounds are preferred, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, bis(isocyanatocyclohexyl)methane, 2,5-bis(isocyanatomethyl)bicyclo-[2.2.1] - containing at least one selected from heptane, 2,6-bis(isocyanatomethyl)bicyclo-[2.2.1]-heptane, tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, and phenylene diisocyanate is preferred.
  • the mixing ratio of the polythiol composition and the polyiso(thio)cyanate compound is not particularly limited.
  • the molar ratio of the mercapto group of the polythiol compound and the iso(thio)cyanate group of the polyiso(thio)cyanate compound contained in the polythiol composition is preferably 0.5 to 3.0, more preferably 0.6 to 2.0, and preferably 0.8 to 1.3 More preferred.
  • the mixing ratio is within the above range, it tends to be possible to satisfy various performances such as refractive index and heat resistance required for a plastic lens or the like in a well-balanced manner.
  • the polymerizable composition of the present disclosure may contain components other than the polythiol composition and the polyiso(thio)cyanate compound.
  • Other ingredients include polymerization catalysts, internal release agents, resin modifiers, chain extenders, cross-linking agents, radical scavengers, light stabilizers, UV absorbers, antioxidants, oil-soluble dyes, fillers, adhesion Blue ink agents such as property improvers, antibacterial agents, antistatic agents, dyes, fluorescent whitening agents, fluorescent pigments, and inorganic pigments are included.
  • polymerization catalysts include tertiary amine compounds, inorganic or organic acid salts thereof, metal compounds, quaternary ammonium salts, organic sulfonic acids, and the like.
  • An acidic phosphate ester can be used as the internal release agent.
  • acidic phosphates include phosphate monoesters and phosphate diesters, each of which can be used alone or in combination of two or more.
  • resin modifiers include episulfide compounds, alcohol compounds, amine compounds, epoxy compounds, organic acids and their anhydrides, olefin compounds including (meth)acrylate compounds, and the like.
  • the polymerizable composition of the present disclosure can be obtained by mixing the above components.
  • the resin of the present disclosure is a cured product of the polymerizable composition of the present disclosure described above.
  • the resin of the present disclosure is obtained by curing the polymerizable composition of the present disclosure described above.
  • Curing of the polymerizable composition can be carried out by polymerizing the monomers (specifically, the polythiol composition and the polyiso(thio)cyanate compound; hereinafter the same) in the polymerizable composition.
  • the polymerizable composition may be subjected to treatment such as filtration and degassing.
  • Polymerization conditions e.g., polymerization temperature, polymerization time, etc.
  • Polymerization catalyst for polymerizing the monomers in the polymerizable composition include the composition of the composition, the type and amount of monomers in the composition, and the type of polymerization catalyst in the composition.
  • the polymerization temperature include -50°C to 150°C, 10°C to 150°C, and the like.
  • the polymerization time is, for example, 1 hour to 200 hours, 1 hour to 80 hours, and the like.
  • a polymer obtained by polymerization of monomers may be subjected to a treatment such as annealing to obtain the resin.
  • Annealing temperatures include 50° C. to 150° C., 90° C. to 140° C., 100° C. to 130° C., and the like.
  • the molded article of the present disclosure contains the resin of the present disclosure.
  • the molded article of the present disclosure is obtained by curing the polymerizable composition of the present disclosure, similarly to the resin of the present disclosure. Preferred conditions for curing the polymerizable composition, ie, polymerization of the monomers in the polymerizable composition, are as described above.
  • Cast polymerization is an example of a preferred method for producing the molded article of the present disclosure.
  • the polymerizable composition is injected between molding molds held by gaskets, tapes, or the like. At this time, if necessary, defoaming treatment, filtration treatment, or the like may be performed.
  • the composition is cured between the molding molds to obtain a cured product.
  • the cured product is removed from the molding mold to obtain a molded body containing the resin.
  • Polymerization of the above monomers may be carried out by heating the polymerizable composition. This heating can be performed, for example, by using a heating device having a mechanism for heating the object to be heated in an oven, in water, or the like.
  • the optical material of the present disclosure contains the resin of the present disclosure.
  • the optical material of the present disclosure like the resin of the present disclosure, is obtained by curing the polymerizable composition of the present disclosure. Preferred conditions for curing the polymerizable composition, ie, polymerization of the monomers in the polymerizable composition, are as described above.
  • Optical materials include lenses (eg, eyeglass lenses, camera lenses, polarized lenses), light emitting diodes (LEDs), and the like.
  • lenses eg, eyeglass lenses, camera lenses, polarized lenses
  • LEDs light emitting diodes
  • the optical material of the present disclosure may include a coating layer formed on one side or both sides of the resin of the present disclosure (or a molded article containing the resin of the present disclosure).
  • coating layers include a primer layer, a hard coat layer, an antireflection layer, an antifogging coat layer, an antifouling layer, and a water repellent layer.
  • Each of these coating layers may be formed independently, or may be formed by stacking a plurality of coating layers. When the coating layer is formed on both sides, the same coating layer may be formed on each side, or different coating layers may be formed on each side.
  • the components of the coating layer can be appropriately selected depending on the purpose.
  • Components of the coating layer include, for example, resins (e.g., urethane resins, epoxy resins, polyester resins, melamine resins, polyvinyl acetal resins, etc.), infrared absorbers, light stabilizers, antioxidants, photochromic compounds, dyes, Pigments, antistatic agents and the like can be mentioned.
  • room temperature means 25°C unless otherwise specified.
  • the purity (%) of the polythiol component A1 in the polythiol composition means the peak of the polythiol component A1 with respect to the total peak area of the compounds contained in the polythiol composition, which is obtained by high-performance liquid chromatography under the measurement conditions A described above. It means the area ratio (area %).
  • Table 1 shows the above HPLC of polythiol composition X1, The peak area ratio of the polythiol component A1 (specifically, the peak area ratio to the total peak area of the compounds contained in the polythiol composition. Same below.), Peak area ratio of compound C1, Peak area ratio of compound C2, The peak area ratio of compound (XB) and the peak area ratio of compound (XC) are shown.
  • Polythiol component A1 is 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane
  • Compound C1 is a polythiol compound with a molecular weight of 426 and a retention time of 32.0 to 35.0 minutes
  • Compound C2 is a polythiol compound having a retention time of 16.0 minutes to 19.0 minutes
  • compound (XB) represents at least one of the mercapto groups in polythiol component A1 by formula (N1).
  • Compound (XC) is a compound in which at least one of the mercapto groups in polythiol component A1 is replaced with a hydroxyl group.
  • each compound is the result of high performance liquid chromatography (HPLC) measurement under measurement condition A described above, the result of liquid chromatography mass spectrometry measurement under measurement condition B described above, and the polythiol component A1, which is the main component. was deduced based on the structure of Compound C1 in this Comparative Example 1 and Example 1 described later is presumed to be the compound (C1-1) described above.
  • HPLC high performance liquid chromatography
  • the polymerizable composition was filtered under reduced pressure with a PTFE (polytetrafluoroethylene) filter, and then sufficiently degassed under a reduced pressure of 600 Pa until foaming was no longer observed.
  • the degassed polymerizable composition was injected between a pair of glass molds fixed with tape, and then the pair of glass molds were placed in an oven and the temperature inside the oven was set at 10°C. Next, the temperature inside the oven was raised from 10° C. to 120° C. over 38 hours.
  • the monomers (polyisocyanate compound and polythiol composition) in the polymerizable composition after degassing are polymerized, and the molded article containing the thiourethane resin R1 (that is, the polymerizable composition A hardened product) was formed.
  • the inside of the oven was cooled, and after cooling, the pair of glass molds was removed from the oven, and then the molded body was removed from the pair of glass molds to obtain a molded body.
  • a lens was manufactured by cutting the molded body obtained above.
  • Refractive index (ne) Using a Pulfrich refractometer KPR-30 manufactured by Shimadzu Corporation, the refractive index (ne) at a wavelength of 546.1 nm (mercury e-line) was measured at 20°C.
  • - Specific gravity d Measured by the Archimedes method at 20°C.
  • Example 1 ⁇ Production of polythiol composition> - Preparation of thiourethane resin powder - Cutting powder generated during lens manufacturing (that is, cutting) in Comparative Example 1 was collected to obtain thiourethane resin powder R1 (that is, powder containing thiourethane resin R1).
  • a polythiol composition was separated from the reaction mixture by subjecting the reaction mixture obtained in the reaction step to a separation step including extraction and the like. Details will be described below.
  • the reaction mixture obtained in the reaction step was cooled to 60° C. and then filtered to remove solids. 144.3 g of a 31% sodium hydroxide aqueous solution was added to the obtained filtrate, and the mixture was stirred at 25°C. To this, 150 g of water was added to extract soluble components, and the resulting water extract was washed with 50 g of toluene at 25°C. Stirred. A soluble component was extracted with toluene to obtain a toluene extract.
  • the toluene extract was washed with 160 g of water at 40° C., then washed with 160 g of 0.1% aqueous ammonia at 40° C., and then washed twice with 160 g of water at 40° C. to obtain polythiol.
  • a toluene solution of the composition was obtained.
  • Toluene was distilled off from the resulting toluene solution using a rotary evaporator.
  • the resulting mixture was subjected to removal of low boiling point components with a vacuum pump and filtration through a 1 micron PTFE membrane filter in this order to give 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane. (That is, polythiol component A1) was obtained as a main component of 86.2 g of the polythiol composition (above, separation step).
  • a polymerizable composition, a molded article, and a lens were produced in the same manner as in Comparative Example 1, except that the polythiol composition X1 used in Comparative Example 1 was changed to the polythiol composition obtained in Example 1.
  • Example 1 contains compound C1 having a retention time of 32.0 minutes to 35.0 minutes, and the peak area of compound C1 in the high performance liquid chromatography measurement is the sum of the compounds contained in the polythiol composition.
  • Example 1 using a polythiol composition having a peak area of 100 of 0.50 or more compared with Comparative Example 1 using a polythiol composition having a peak area of compound C1 of less than 0.50, the heat resistance A thiourethane resin with excellent properties (that is, a lens with a high Tg) could be produced.
  • a mixture of the polythiol composition of Comparative Example 1 and the polythiol composition of Example 1 is also useful.
  • the peak area of compound C1 is 0.50.
  • the polymerizable composition was filtered under reduced pressure with a PTFE (polytetrafluoroethylene) filter, and then sufficiently degassed under a reduced pressure of 600 Pa until foaming was no longer observed.
  • the degassed polymerizable composition was injected between a pair of glass molds fixed with tape, and then the pair of glass molds were placed in an oven and the temperature inside the oven was set to 25°C. Next, the temperature inside the oven was raised from 25° C. to 120° C. over 24 hours.
  • the monomers (polyisocyanate compound and polythiol composition) in the polymerizable composition after degassing are polymerized, and the molded article containing the thiourethane resin R2 (that is, the polymerizable composition A hardened product) was formed.
  • the inside of the oven was cooled, and after cooling, the pair of glass molds was removed from the oven, and then the molded body was removed from the pair of glass molds to obtain a molded body of Reference Example 1.
  • a lens of Reference Example 1 was manufactured by cutting the molded article of Reference Example 1 obtained above.
  • Example 2 ⁇ Production of polythiol composition> Cutting powder generated during the manufacture (ie, cutting) of the lens in Reference Example 1 was collected to obtain thiourethane resin powder R2 (ie, powder containing thiourethane resin R2).
  • the resulting mixture was subjected to removal of low boiling point components by a vacuum pump and filtration through a 1 micron PTFE membrane filter in this order to give 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3, 6,9-trithiundecane, 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, and 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6 ,9-trithiaundecane (that is, polythiol component A2) as a main component was obtained (19.49 g, separation step).
  • HPLC High Performance Liquid Chromatography
  • Table 2 shows the above HPLC of the polythiol composition, The peak area ratio of the polythiol component A2 (specifically, the peak area ratio to the total peak area of the compounds contained in the polythiol composition. Same below.), Peak area ratio of compound C1, Peak area ratio of compound C2, The peak area ratio of compound (XB) and the peak area ratio of compound (XC) are shown.
  • Polythiol component A2 includes 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-tri thiaundecane, and 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane,
  • Compound C1 is a polythiol compound with a molecular weight of 426 and a retention time of 32.0 to 35.0 minutes;
  • Compound C2 is a polythiol compound having a retention time of 16.0 minutes to 19.0 minutes, and compound (XB) represents at least one of the mercapto groups in polythiol component A2 by formula (N1).
  • Compound (XC) is a compound in which at least one of the mercapto groups in polythiol component A2 is replaced with a hydroxyl group.
  • the structure of each compound is the result of high performance liquid chromatography (HPLC) measurement under measurement condition A described above, the result of liquid chromatography mass spectrometry measurement under measurement condition B described above, and the polythiol component A2, which is the main component.
  • HPLC high performance liquid chromatography
  • a polymerizable composition, a molded article, and a lens were produced in the same manner as in Reference Example 1, except that the polythiol composition X2 used in Reference Example 1 was changed to the polythiol composition obtained in Example 2.
  • Example 2 using a polythiol composition with a peak area of 100 or more of 0.50 or more, a thiourethane resin with excellent heat resistance (that is, a lens with a high Tg) could be produced.

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Abstract

ポリチオール化合物を含有するポリチオール組成物であって、特定の測定条件Ａによる高速液体クロマトグラフィー測定における保持時間が３２．０分～３５．０分である化合物Ｃ１を含有し、前記高速液体クロマトグラフィー測定における前記化合物Ｃ１のピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して０．５０以上である、ポリチオール組成物。

Description

ポリチオール組成物及びその応用
　本開示は、ポリチオール組成物及びその応用に関する。
　樹脂を含むレンズであるプラスチックレンズは、無機レンズに比べ軽量で割れ難く、染色が可能なため、近年、メガネレンズ、カメラレンズ等の用途に急速に普及してきている。
　例えば、チオウレタン樹脂を含むレンズについて、これまでに様々な検討がなされている（例えば、特許文献１～３参照）。
特許文献１：特開昭６３－４６２１３号公報
特許文献２：特開平２－２７０８５９号公報
特許文献３：特開平７－２５２２０７号公報
　チオウレタン樹脂は、通常、ポリチオール組成物及びポリイソシアネート化合物を原料として製造される。
　チオウレタン樹脂について、耐熱性をより向上させることが求められる場合がある。
　本開示の一態様の課題は、耐熱性に優れたチオウレタン樹脂を製造することができるポリチオール組成物及びその応用を提供することである。
　上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞　ポリチオール化合物を含有するポリチオール組成物であって、
　下記測定条件Ａによる高速液体クロマトグラフィー測定における保持時間が３２．０分～３５．０分である化合物Ｃ１を含有し、
　前記高速液体クロマトグラフィー測定における前記化合物Ｃ１のピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して０．５０以上である、
ポリチオール組成物。
－測定条件Ａ－
　カラムとして、株式会社ワイエムシイ製のＹＭＣ－Ｐａｃｋ（登録商標） ＯＤＳ－Ａ
（粒子径Ｓ:５μｍ、細孔径：１２ｎｍ、カラム形状：Φ６ｍｍ×１５０ｍｍ）を用い、
　移動相として、アセトニトリル／０．０１ｍｏｌ／Ｌ－リン酸二水素カリウム水溶液＝６０／４０（ｖｏｌ／ｖｏｌ）の混合溶液を用い、
　測定溶液として、ポリチオール組成物１６０ｍｇとアセトニトリル１０ｍＬとの混合溶液を用い、
　検出器として、測定波長２３０ｎｍの紫外線検出器を用い、
　カラム温度を４０℃とし、
　流量を１．０ｍＬ／ｍｉｎとし、
　注入量を２μＬとする条件。
＜２＞　前記化合物Ｃ１の分子量が、４２６である、
＜１＞に記載のポリチオール組成物。
＜３＞　前記化合物Ｃ１が、ポリチオール化合物である、
＜１＞又は＜２＞に記載のポリチオール組成物。
＜４＞　更に、前記高速液体クロマトグラフィー測定における保持時間が１６．０分～１９．０分である化合物Ｃ２を含有し、
　前記高速液体クロマトグラフィー測定における前記化合物Ｃ２のピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、１．３９以上である、
＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載のポリチオール組成物。
＜５＞　更に、メルカプト基を３つ以上含むポリチオール化合物（ＸＡ）を主成分として含有し、
　前記ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを下記式（Ｎ１）で表される基に置き換えた化合物（ＸＢ）の、前記高速液体クロマトグラフィー測定におけるピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、１．１０未満であり、
　前記ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを水酸基に置き換えた化合物（ＸＣ）の、前記高速液体クロマトグラフィー測定におけるピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、２．４０未満である、
＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載のポリチオール組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式（Ｎ１）中、＊は、結合位置を表す。
＜６＞　前記ポリチオール化合物（ＸＡ）が、
４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン、
４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、
４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、及び、
５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンからなる群から選択される少なくとも１種である、
＜５＞に記載のポリチオール組成物。
＜７＞　ポリイソ（チオ）シアネート化合物と、
　＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載のポリチオール組成物と、
を含有する、光学材料用重合性組成物。
＜８＞　前記ポリイソ（チオ）シアネート化合物は、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２，５－ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、２，６－ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、トリレンジイソシアネート、４，４'－ジフェニルメタンジイソシアネート、及びフェニレンジイ
ソシアネートからなる群から選択される少なくとも１種を含む、
＜７＞に記載の光学材料用重合性組成物。
＜９＞　＜７＞又は＜８＞のいずれか１つに記載の光学材料用重合性組成物の硬化物である樹脂。
＜１０＞　＜９＞に記載の樹脂を含む成形体。
＜１１＞　＜９＞に記載の樹脂を含む光学材料。
＜１２＞　＜９＞に記載の樹脂を含むレンズ。
　本開示の一態様によれば、耐熱性に優れたチオウレタン樹脂を製造することができるポリチオール組成物及びその応用が提供される。
 
　本開示において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本開示において、「工程」との用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
　本開示において、組成物に含まれる各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
　本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
〔ポリチオール組成物〕
　本開示のポリチオール組成物は、
　ポリチオール化合物を含有するポリチオール組成物であって、
　下記測定条件Ａによる高速液体クロマトグラフィー測定（以下、単に「高速液体クロマトグラフィー測定」ともいう）における保持時間が３２．０分～３５．０分である化合物Ｃ１を含有し、
　高速液体クロマトグラフィー測定における化合物Ｃ１のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して０．５０以上である、
ポリチオール組成物である。
（測定条件Ａ）
　カラムとして、株式会社ワイエムシイ製のＹＭＣ－Ｐａｃｋ（登録商標） ＯＤＳ－Ａ
（粒子径Ｓ:５μｍ、細孔径：１２ｎｍ、カラム形状：Φ６ｍｍ×１５０ｍｍ）を用い、
　移動相として、アセトニトリル／０．０１ｍｏｌリン酸二水素カリウム水溶液＝６０／４０（ｖｏｌ／ｖｏｌ）の混合溶液を用い、
　測定溶液として、ポリチオール組成物１６０ｍｇとアセトニトリル１０ｍＬとの混合溶液を用い、
　検出器として、測定波長２３０ｎｍの紫外線検出器を用い、
　カラム温度を４０℃とし、
　流量を１．０ｍＬ／ｍｉｎとし、
　注入量を２μＬとする条件である。
　上記カラムとしては、例えば、ＹＭＣ－Ｐａｃｋ　ＯＤＳ－Ａ（ワイエムシィ社製）を用いることができる。
　本開示のポリチオール組成物をチオウレタン樹脂の原料の一つとして用いることにより、耐熱性に優れたチオウレタン樹脂を製造できる。
（ポリチオール組成物）
　本開示において、ポリチオール組成物とは、少なくとも１種のポリチオール化合物を含有する組成物を意味する。
　本開示では、ポリチオール組成物に含有されるポリチオール化合物を、「ポリチオール成分」とも称する。
　ポリチオール組成物には、不純物として、ポリチオール化合物以外の成分が含有されていてもよい。
　ポリチオール組成物は、少なくとも１種のポリチオール化合物を主成分として含むことが好ましい。
　ここで、「ポリチオール組成物は、少なくとも１種のポリチオール化合物を主成分として含む」とは、ポリチオール組成物の全量に対する少なくとも１種のポリチオール化合物の総含有量が、５０％以上であることを意味する。
　ポリチオール組成物の全量に対する少なくとも１種のポリチオール化合物の総含有量は、好ましくは６０％以上であり、より好ましくは７０％以上であり、更に好ましくは８０％以上である。
　同様に、本開示において、組成物が、ある成分（以下、「成分Ｘ」とする）を「主成分として含む」とは、成分Ｘの含有量（成分Ｘが２種以上の化合物からなる場合には、２種以上の化合物の総含有量）が、組成物の全量に対し、５０％以上であることを意味する。
　主成分である成分Ｘの含有量は、組成物の全量に対し、好ましくは６０％以上であり、より好ましくは７０％以上であり、更に好ましくは８０％以上である。
　上記の「主成分として含む」との語の説明中における「％」は、上記測定条件Ａでの高速液体クロマトグラフィーによって求められる、組成物（例えばポリチオール組成物）の全ピークの合計面積に対する成分Ｘ（例えば少なくとも１種のポリチオール化合物）の全ピークの合計面積の比率（面積％）を意味する。
　ポリチオール組成物としては、公知のポリチオール化合物を含むポリチオール組成物が挙げられる。
　ポリチオール化合物としては、チオール基（別名：メルカプト基）を２つ以上含む化合物であれば特に制限はない。
　ポリチオール化合物については、前述した公知文献（即ち、特開昭６３－４６２１３号公報、特開平２－２７０８５９号公報、特開平７－２５２２０７号公報、国際公開第２００８／０４７６２６号公報等）を適宜参照できる。
（化合物Ｃ１）
　本開示のポリチオール組成物は、化合物Ｃ１を含有する。
　化合物Ｃ１は、測定条件Ａによる高速液体クロマトグラフィー測定における保持時間が３２．０分～３５．０分である化合物である。
　本開示のポリチオール組成物は、化合物Ｃ１を１種のみ含有してもよいし、２種以上含有してもよい。
　化合物Ｃ１は、ポリチオール化合物であってもよいしポリチオール化合物でなくてもよいが、ポリチオール化合物であることが好ましい。
　化合物Ｃ１は、ポリチオール組成物を用いて製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性を向上させるために有効な成分である。
　本開示のポリチオール組成物では、高速液体クロマトグラフィー測定における、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対する上記化合物Ｃ１のピーク面積（以下、単に「化合物Ｃ１のピーク面積」ともいう）は、０．５０以上であることに
より、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性を向上させる効果が発揮される。
　化合物Ｃ１のピーク面積の上限は、製造されるチオウレタン樹脂の色相の観点から、好ましくは１０．０であり、より好ましくは５．０である。
　化合物Ｃ１の分子量は、例えば４２６である。
　ここでいう分子量は、下記測定条件Ｂによる高速液体クロマトグラフィー質量分析により測定される値である。
（測定条件Ｂ）
　カラムとして、株式会社ワイエムシイ製のＹＭＣ－Ｐａｃｋ（登録商標） Ｃ１８ＲＳ
（粒子径Ｓ:３μｍ、カラム形状：Φ４．６ｍｍ×２５０ｍｍ）を用い、
　移動相として、１０ｍＭ酢酸アンモニウム水溶液／アセトニトリル＝３０／７０（ｖｏｌ／ｖｏｌ）の混合溶液を用い、
　検出器として、測定波長２３０ｎｍの紫外線検出器を用い、
　カラム温度を４０℃とし、
　流量を０．９ｍＬ／ｍｉｎとし、
　質量分析条件として以下の条件を適用した測定条件である。
　Ionization Mode：ESI+
　Capillary Voltage：3.0 kV
　Cone Voltage：20 V
　Extractor：4V
　Source Temp：120 ℃
　Desolvation Temp：400 ℃
　Cone Gas Flow：50 L/Hr
　Desolvation Gas Flow：800 L/Hr
　Mass：m/z 50-800
　分子量が４２６であり、且つ、ポリチオール化合物である場合の化合物Ｃ１は、下記化合物（Ｃ１－１ａ）、下記化合物（Ｃ１－１ｂ）、下記化合物（Ｃ１－１ｃ）、下記化合物（Ｃ１－２ａ）、下記化合物（Ｃ１－２ｂ）、下記化合物（Ｃ１－２ｃ）、及び下記化合物（Ｃ１－２ｄ）からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
（化合物Ｃ２）
　本開示のポリチオール組成物は、更に、化合物Ｃ２を含有することが好ましい。
　これにより、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性がより向上する。
　化合物Ｃ２は、測定条件Ａによる高速液体クロマトグラフィー測定における保持時間が１６．０分～１９．０分である化合物である。
　本開示のポリチオール組成物が化合物Ｃ２を含有する場合、含有される化合物Ｃ２は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　化合物Ｃ２は、ポリチオール化合物であってもよいしポリチオール化合物でなくてもよい。
　上記測定条件Ａによる高速液体クロマトグラフィー測定における、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対する化合物Ｃ２のピーク面積（以下、単に「化合物Ｃ２のピーク面積」ともいう）は、１．３９以上であることが好ましい。
　これにより、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性がより向上する。
　化合物Ｃ２のピーク面積の上限は、製造されるチオウレタン樹脂の色相の観点から、好ましくは１０．０であり、より好ましくは５．０である。
（ポリチオール化合物（ＸＡ））
　本開示のポリチオール組成物は、更に、メルカプト基を３つ以上含むポリチオール化合物（ＸＡ）を主成分として含有することが好ましい。
　ここで、ポリチオール化合物（ＸＡ）は、メルカプト基を３つ以上含むポリチオール化合物である。但し、前述の化合物Ｃ１が「メルカプト基を３つ以上含むポリチオール化合物」である場合、ポリチオール化合物（ＸＡ）の範囲には、化合物Ｃ１は含まれないものとする。同様に、本開示のポリチオール組成物が化合物Ｃ２を含有する場合であって、前述の化合物Ｃ２が「メルカプト基を３つ以上含むポリチオール化合物」である場合、ポリチオール化合物（ＸＡ）の範囲には、化合物Ｃ２は含まれないものとする。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）は、
４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン、
４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、
４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、及び、
５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンからなる群から選択される少なくとも１種である
ことが好ましい。
　ここで、
　４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタンは、下記式（１）で表されるポリチオール化合物であり、
　４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンは、下記式（２）で表されるポリチオール化合物であり、
　４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンは、下記式（３）で表されるポリチオール化合物であり、
　５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンは、下記式（４）で表されるポリチオール化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　ポリチオール化合物（ＸＡ）のより好ましい態様としては、
４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン（以下、「ポリチオール成分Ａ１」ともいう）を主成分として含む態様、並びに、
４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、及び５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン（以下、これら３つの化合物をまとめて「ポリチオール成分Ａ２」ともいう）を主成分として含む態様
が挙げられる。
　各態様のポリチオール組成物は、主成分以外のその他の成分（例えば、その他のポリチオール化合物、ポリチオール化合物以外の成分、等）を少なくとも１種含有していてもよい。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様において、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性の観点から、化合物Ｃ１のピーク面積は、０．５０以上である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様においても、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性をより向上させる観点から、化合物Ｃ１のピーク面積は、好ましくは１．００以上、より好ましくは１．２０以上である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様において、化合物Ｃ１のピーク面積の上限は、製造されるチオウレタン樹脂の色相の観点から、好ましくは１０．０であり、より好ましくは５．０である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様における化合物Ｃ１として、好ましくは前述の化合物（Ｃ１－１）である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様においても、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性の観点から、化合物Ｃ１のピーク面積は、０．５０以上である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様においても、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性をより向上させる観点から、化合物Ｃ１のピーク面積は、好ましくは２．３０以上であり、より好ましくは２．５０以上であり、更に好ましくは２．６５以上である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様において、化合物Ｃ１のピーク面積の上限は、製造されるチオウレタン樹脂の色相の観点から、好ましくは１０．０であり、より好ましくは５．０である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様における化合物Ｃ１として、好ましくは、前述の化合物（Ｃ１－２ａ）、前述の化合物（Ｃ１－２ｂ）、及び前述の化合物（Ｃ１－２ｃ）からなる群から選択される少なくとも１種である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様において、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性の観点から、化合物Ｃ２のピーク面積は、好ましくは１．３９以上である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様においても、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性をより向上させる観点から、化合物Ｃ２のピーク面積は、より好ましくは２．４０以上であり、更に好ましくは２．７０以上であり、更に好ましくは２．９０以上である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様において、化合物Ｃ２のピーク面積の上限は、製造されるチオウレタン樹脂の色相の観点から、好ましくは１０．０であり、より好ましくは５．０である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様においても、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性の観点から、化合物Ｃ２のピーク面積は、好ましくは１．３９以上である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様においても、製造されるチオウレタン樹脂の耐熱性をより向上させる観点から、化合物Ｃ２のピーク面積は、より好ましくは１．４０以上、更に好ましくは１．４１以上である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）がポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様において、化合物Ｃ２のピーク面積の上限は、製造されるチオウレタン樹脂の色相の観点から、好ましくは１０．０であり、より好ましくは５．０である。
　本開示のポリチオール組成物がポリチオール化合物（ＸＡ）を主成分として含有する場合、本開示のポリチオール組成物において、
　ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを下記式（Ｎ１）で表される基に置き換えた化合物（ＸＢ）の、高速液体クロマトグラフィー測定におけるピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、１．１０未満であり、
　ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを水酸基に置き換えた化合物（ＸＣ）の、高速液体クロマトグラフィー測定におけるピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、２．４０未満である
ことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式（Ｎ１）中、＊は、結合位置を表す。
　化合物（ＸＢ）は、ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを式（Ｎ１）で表される基に置き換えた化合物であり、
　化合物（ＸＣ）は、ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを水酸基に置き換えた化合物である。
　化合物（ＸＢ）及び化合物（ＸＣ）は、いずれも、ポリチオール組成物中におけるポリチオール化合物（ＸＡ）の重合を促進し、ポリチオール組成物を増粘させ、その結果、ポリチオール組成物のポットライフを短くする化合物である。
　本開示のポリチオール組成物は、化合物（ＸＢ）を含有しないか、又は、含有する場合でも、高速液体クロマトグラフィー測定における、化合物（ＸＢ）のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、１．１０未満であることが好ましい。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）が、ポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様の化合物（ＸＢ）である場合、化合物（ＸＢ）のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対し、好ましくは１．１０未満であり、より好ましくは０．５０未満であり、更に好ましくは０．２５未満であり、更に好ましくは０．１０未満である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）が、ポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様の化合物（ＸＢ）である場合、化合物（ＸＢ）のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対し、好ましくは１．１０未満であり、より好ましくは０．５０未満であり、更に好ましくは０．１０未満である。
　本開示のポリチオール組成物は、化合物（ＸＣ）を含有しないか、又は、含有する場合でも、高速液体クロマトグラフィー測定における、化合物（ＸＣ）のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、２．４０未満であることが好ましい。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）が、ポリチオール成分Ａ１を主成分として含む態様の化合物（ＸＣ）である場合、化合物（ＸＣ）のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、好ましくは２．４０未満であり、より好ましくは１．２０未満であり、更に好ましくは０．１０未満である。
　ポリチオール化合物（ＸＡ）が、ポリチオール成分Ａ２を主成分として含む態様の化合物（ＸＣ）である場合、化合物（ＸＣ）のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、好ましくは２．４０未満であり、より好ましくは２．００未満であり、更に好ましくは１．００未満であり、更に好ましくは０．１０未満である。
　本開示のポリチオール組成物において、化合物（ＸＢ）及び化合物（ＸＣ）の含有量が上記のように制限されている場合には、ポリチオール組成物中におけるポリチオール化合物（ＸＡ）の意図しない重合が抑制され、その結果、増粘が抑制される。このため、かかる態様のポリチオール組成物は、ポットライフに優れる（即ち、ポットライフが長い）。
　化合物（ＸＢ）は、ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを上記式（Ｎ１）で表される基に置き換えた化合物である。
　以下、化合物（ＸＢ）の例を示すが、化合物（ＸＢ）は以下の例には限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　化合物（ＸＣ）は、ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを水酸基に置き換えた化合物である。
　以下、化合物（ＸＣ）の例を示すが、化合物（ＸＣ）は以下の例には限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　本開示のポリチオール組成物は、上述したポリチオール化合物以外のその他のポリチオール化合物を含んでいてもよい。
　その他のポリチオール化合物としては、例えば、メタンジチオール、１，２－エタンジチオール、１，２，３－プロパントリチオール、ペンタエリスリトールテトラキス（２－メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ビス（メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ジメルカプトメチル－１，４－ジチアン、テトラキス（メルカプトメチルチオメチル）メタン、テトラキス（２－メルカプトエチルチオメチル）メタン、テトラキス（３－メルカプトプロピルチオメチル）メタン、ビス（２，３－ジメルカプトプロピル）スルフィド、２，５－ジメルカプトメチル－１，４－ジチアン、２、５－ジメルカプト－１，４－ジチアン、２，５－ジメルカプトメチル－２，５－ジメチル－１，４－ジチアン、１，１，３，３－テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，１，２，２－テトラキス（メルカプトメチルチオ）エタン、４，６－ビス（メルカプトメチルチオ）－１，３－ジチアン、等が挙げられる。
〔ポリチオール組成物の製造方法（製法Ａ）〕
　上述した本開示のポリチオール組成物は、例えば、以下の製造方法（以下、「製法Ａ」ともいう）によって製造される。
　製法Ａは、チオウレタン樹脂と活性水素化合物とを反応させて本開示のポリチオール組成物を生成させる工程を含む、ポリチオール組成物の製造方法である。
　製法Ａによれば、チオウレタン樹脂を出発原料として、本開示のポリチオール組成物を製造することができる。
　製法Ａでは、チオウレタン樹脂と活性水素化合物とが反応し、この反応によってチオウレタン樹脂が化学的に分解され、チオウレタン樹脂の分解物として、本開示のポリチオール組成物が得られると考えられる。
（チオウレタン樹脂）
　チオウレタン樹脂は、製法Ａにおける出発原料である。
　チオウレタン樹脂としては特に制限はなく、例えば、特開昭６３－４６２１３号公報、特開平２－２７０８５９号公報、特開平７－２５２２０７号公報、国際公開第２００８／０４７６２６号公報等の公知文献に記載されているチオウレタン樹脂が挙げられる。
　チオウレタン樹脂は、通常、ポリイソシアネート化合物及びポリチオール組成物を原料とし、これらの反応生成物として製造される。
　チオウレタン樹脂としては、例えば；
高屈折率レンズ材料であるＭＲ－６、ＭＲ－７、ＭＲ－８、ＭＲ－８Ｐｌｕｓ、ＭＲ－６０、ＭＲ－１０、ＭＲ－２０（以上、三井化学株式会社製）から得られるチオウレタン樹脂；
ＥＹＡＳ１．６０（ＨＯＹＡ株式会社製）；
等が挙げられる。
　チオウレタン樹脂は、メガネレンズの製造過程、メガネの製造過程、及びメガネの廃棄過程のうちの少なくとも１つにおいて回収されたものであることが好ましい。この態様によれば、メガネレンズの材料であるチオウレタン樹脂のリサイクルが実現される。
　ここで、
　メガネレンズの製造過程とは、樹脂原料であるモノマーを調合して注型重合することにより樹脂を製造する過程及び／又は樹脂成形体を切削加工してメガネレンズを得る過程を意味し、
　メガネの製造過程とは、メガネレンズとメガネフレーム等の他の部材とを組み合わせてメガネを製造する過程を意味し、
　メガネの廃棄過程とは、製造したが不要となったメガネ、使用済みのメガネ等を廃棄する過程を意味する。
　いずれの過程でも、廃棄物として、メガネレンズの材料であるチオウレタン樹脂が発生し得る。
　本態様では、これらの過程うちの少なくとも１つにおいて生じたチオウレタン樹脂を出発物質として用い、このチオウレタン樹脂と活性水素化合物とを反応させ、チオウレタン樹脂の分解物として、本開示のポリチオール組成物を得る。
　上述したように、製法Ａでは、ポリチオール組成物の製造のために、使用済みのチオウレタン樹脂を使用することにより、焼却廃棄されるチオウレタン樹脂の量を低減することが可能となり、その結果、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化硫黄等の温室効果ガス；及び；硫黄酸化物、窒素酸化物等の大気汚染物質；の発生の低減が可能となる。また、ポリチオール化合物の製造にチオ尿素を使用しないため、チオ尿素を含有する廃水の生成が無く、環境にやさしい製造法である。
　上述したとおり、製法Ａは、チオウレタン樹脂のリサイクル方法として有効である。
　かかる製法Ａにより、化合物Ｃ１を含有する本開示のポリチオール組成物が得られる。この点は、材料のトレーサビリティ（追跡可能性）を確保する点で有効である。
　上記出発原料は、チオウレタン樹脂を含む切削加工屑（例えば、切削加工粉及び／又は切削加工片。以下同じ。）を含むことが好ましい。
　この態様におけるポリチオール組成物を生成させる工程では、チオウレタン樹脂を含む切削加工屑と、活性水素化合物と、を接触させることにより、上記チオウレタン樹脂と上記活性水素化合物とを反応させる。
　この態様では、活性水素化合物と、出発原料中のチオウレタン樹脂との反応性により優れるので、ポリチオール組成物をより効果的に生成させることができる。
（活性水素化合物）
　活性水素化合物は、出発原料であるチオウレタン樹脂に対する分解剤として機能する。
　上記機能の観点から、活性水素化合物としては、アミン化合物及びアルコール化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
－アミン化合物－
　アミン化合物としては、アミノ基及びモノアルキルアミノ基の少なくとも一方を含みアミノ基及びモノアルキルアミノ基の総数が１～６（好ましくは１～３、より好ましくは１又は２）であるアミン化合物が好ましい。
　チオウレタン樹脂との反応性をより向上させる観点から、アミン化合物の分子量は、好ましくは１０００以下であり、より好ましくは５００以下であり、更に好ましくは３００以下であり、更に好ましくは２００以下である。
　アミン化合物の分子量の下限は、例えば４５以上であり、好ましくは５９以上であり、より好ましくは６０以上である。
　好ましいアミン化合物の一例として、
アミノ基及びモノアルキルアミノ基の少なくとも一方を含みアミノ基及びモノアルキルアミノ基の総数が１又は２である分子量３００以下のアミン化合物が挙げられる。
　アミン化合物として、具体的には、例えば、炭素数２～１０のアルキルアミン、炭素数７～１０のアラルキルアミン（例えば、ベンジルアミン）、炭素数２～１０のジアルキルアミン（例えば、ジｎ－ブチルアミン）、炭素数２～１０のアルキルジアミン（例えば、エチレンジアミン、ビス（２－アミノエチル）エーテル）、炭素数２～１０のアルキルトリアミン（例えば、ビス（２－アミノエチル）アミン）、炭素数２～１０のヒドロキシアルキルアミン（例えば、モノエタノールアミン）、炭素数２～１０のビス（ヒドロキシアルキル）アミン（例えば、ビス（ヒドロキシエチル）アミン）、炭素数２～１０の環状アミン（例えば、モルホリン）、炭素数２～１０のアルキル（ヒドロキシアルキル）アミンのような２級アミン（例えば、メチルエタノールアミン、イソプロピルエタノールアミン）等が挙げられる。
　アミン化合物としては、ベンジルアミン、ジｎ－ブチルアミン、エチレンジアミン、又はモノエタノールアミンが好ましい。
－アルコール化合物－
　アルコール化合物は、ヒドロキシ基を１つのみ含むモノアルコール化合物であってもよいし、ヒドロキシ基を２つ以上含むポリオール化合物であってもよい。
　チオウレタン樹脂との反応性をより向上させる観点から、アルコール化合物の分子量は、好ましくは１０００以下であり、より好ましくは５００以下であり、更に好ましくは３００以下であり、更に好ましくは２００以下である。
　アルコール化合物の分子量の下限は、例えば４０以上であり、好ましくは５０以上であり、より好ましくは６０以上である。
　アルコール化合物は、好ましくは、沸点が１３５℃～２５０℃であるアルコール化合物（以下、「アルコール化合物Ａ」ともいう）を含む。
　本開示において、沸点とは、１気圧（１０１３２５Ｐａ）下における沸点を意味する。
　アルコール化合物の全量中に占めるアルコール化合物Ａの割合は、好ましくは５０質量
％～１００質量％であり、より好ましくは６０質量％～１００質量％であり、更に好ましくは８０質量％～１００質量％である。
　アルコール化合物として、
好ましくは、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、２－オクタノール、２－エチル－１－ヘキサノール、１－デカノール、１－ノナノール、１－オクタノール、１－ヘプタノール、１－ヘキサノール、１－ペンタノール、プロピレングリコール、又はエチレングリコールであり、
より好ましくは、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、１－デカノール、１－ノナノール、１－オクタノール、１－ヘプタノール、１－ヘキサノール、１－ペンタノール、プロピレングリコール、又はエチレングリコールであり、
更に好ましくは、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、２－オクタノール、１－オクタノール、１－ヘプタノール、１－ヘキサノール、１－ペンタノール、又はプロピレングリコールである。
（反応溶媒）
　ポリチオール組成物を生成させる工程では、反応溶媒の存在下で、チオウレタン樹脂と活性水素化合物とを反応させることが好ましい。
　反応溶媒としては、炭素数５～１２（好ましくは６～１０、より好ましくは７～９）の炭化水素化合物、炭素数４～１２のエーテル化合物、炭素数３～１２のケトン化合物、炭素数４～１２のエステル化合物、炭素数２～１２のアルコール化合物、炭素数２～１２のニトリル化合物が好ましい。
　上記炭化水素化合物として、好ましくは、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、キシレン、メシチレン、又はトルエンであり、より好ましくは、ヘプタン、オクタン、ノナン、キシレン、メシチレン、又はトルエンであり、特に好ましくは、キシレン又はトルエンである。
　上記エーテル化合物として、好ましくはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン又は１，４－ジオキサンであり、特に好ましくはジメトキシエタンである。
　上記ケトン化合物として、好ましくはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、又は２－オクタノンであり、特に好ましくはメチルイソブチルケトンである。
　上記エステル化合物として、好ましくは酢酸エチル、酢酸ブチル、又は酢酸ペンチルであり、特に好ましくは酢酸ペンチルである。
　上記アルコール化合物として、好ましくはエタノール、１－プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、１－ペンタノール、１－オクタノール、２－オクタノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、又はメチルセロソルブであり、特に好ましくはベンジルアルコール又はエチレングリコールである。
　上記ニトリル化合物として、好ましくはアセトニトリル又はプロピオニトリルであり、特に好ましくはアセトニトリルである。
　上記反応溶媒として使用される化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
（ポリチオール組成物を生成させる工程の好ましい態様）
　ポリチオール組成物を生成させる工程は、チオウレタン樹脂と、活性水素化合物と、を反応させ、ポリチオール組成物及びポリアミン化合物を生成させる工程であることが好ましい。
　かかる好ましい態様では、チオウレタン樹脂が、分解剤としての活性水素化合物により、ポリチオール組成物とポリアミン化合物とに分解される分解反応が起こる。
　活性水素化合物がアミン化合物である場合、上記分解反応は、加アミン分解反応であり
、活性水素化合物がアルコール化合物である場合、上記分解反応は、加アルコール分解反応である。
（チオウレタン樹脂を含む樹脂混合物）
　ポリチオール組成物を生成させる工程は、チオウレタン樹脂を含む樹脂混合物と、活性水素化合物と、を接触させることにより、樹脂混合物中のチオウレタン樹脂と、活性水素化合物と、を反応させてポリチオール組成物を生成させる工程であってもよい。
　チオウレタン樹脂を含む樹脂混合物は、更に、チオウレタン樹脂以外の成分を含む。
　チオウレタン樹脂以外の成分としては、チオウレタン樹脂以外の樹脂、レンズ作製用の無機材料（例えばガラス）、等が挙げられる。
　チオウレタン樹脂以外の樹脂としては特に制限はない。
　例えば；
チオウレタン樹脂を製造する際、原料にポリオール化合物を加えることによって製造された、チオウレタン樹脂とウレタン樹脂とのハイブリット材料；
チオウレタン樹脂を製造する際、原料にポリアミン化合物を加えることによって製造された、チオウレタン樹脂とウレア樹脂とのハイブリット材料；
等も、チオウレタン樹脂とチオウレタン樹脂以外の樹脂とを含む樹脂混合物の範囲に含まれる。
　また、チオウレタン樹脂以外の樹脂としては、
メガネレンズ作製用の樹脂成形体の表面を保護するポリオレフィン製フィルム、
メガネレンズ作製用の樹脂成形体の表面を保護するハードコート又はプライマーコート、メガネレンズ作製用の樹脂成形体を研磨する際に使用する研磨剤、
メガネレンズ作製用の樹脂成形体を切削加工する際に樹脂成形体を固定するための樹脂材料、
メガネレンズ作製用の樹脂成形体を作成する際に使用するガラスモールドを固定するために使用されるテープ又はテープ糊、
等も挙げられる。
　樹脂混合物は、チオウレタン樹脂以外の樹脂として、ポリカーボネート樹脂、ポリアリルカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、及びエピスルフィド樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
　これらの樹脂も、チオウレタン樹脂と同様に、メガネレンズの材料として用いられ得る樹脂である。
　チオウレタン樹脂を含む樹脂混合物は、メガネレンズの製造過程、メガネの製造過程、及びメガネの廃棄過程のうちの少なくとも１つにおいて回収されたものであることが好ましい。
　メガネレンズの製造過程、メガネの製造過程、及びメガネの廃棄過程については前述したとおりである。
　チオウレタン樹脂を含む樹脂混合物は、チオウレタン樹脂を含む切削加工屑を含むことが好ましい。
（ポリチオール組成物を含む反応混合物）
　ポリチオール組成物を生成させる工程は、チオウレタン樹脂と、活性水素化合物と、を反応させて本開示のポリチオール組成物を生成させ、目的物としてのポリチオール組成物を含む反応混合物を得る工程であってもよい。
　反応混合物における、ポリチオール組成物以外のその他の成分としては、前述した反応
溶媒、原料（チオウレタン樹脂及び／又は活性水素化合物）の残留物、原料中に含まれていた不純物等が挙げられる。
（分離工程）
　製法Ａは、上記ポリチオール組成物を含む反応混合物から、目的物としてのポリチオール組成物を分離する分離工程を含んでもよい。
　分離工程における分離の方法には特に制限はなく、公知の方法を適用できる。
　分離工程における分離の方法としては、濾過、デカンテーション、抽出、蒸留、乾燥（減圧乾燥を含む）、精製（例えばカラムクロマトグラム）等が挙げられる。分離の方法として、複数の方法を併用してもよい。
　例えば、ポリチオール組成物の分離方法としては、ポリチオール化合物を溶解することが可能な有機溶媒又は無機溶媒で抽出する方法があげられる。
　ポリチオール組成物の精製方法としては、カラム精製、蒸留精製、再結晶精製、造塩抽出などの一般的な精製方法が使用される。
　ポリチオール組成物を生成させる工程が、上述した、ポリチオール組成物及びポリアミン化合物を生成させる工程である場合、分離工程は、ポリチオール組成物及びポリアミン誘導体を含む反応混合物を濾過することにより、濾液としてポリチオール組成物を含む濾液を得ること、及び、濾物としてポリアミン誘導体であるポリウレア化合物を含む混合物を得ることの少なくとも一方を含むことが好ましい。
　分離工程が、濾液としてポリチオール組成物を含む濾液を得ることを含む場合、濾液からポリチオール組成物を分離することにより、ポリチオール組成物が得られる。
　この場合の分離工程の一例として、
　ポリチオール組成物及びポリアミン化合物を含む反応混合物を濾過することにより、ポリチオール組成物を含む濾液を得ることと、
　ポリチオール組成物を含む濾液に、アルカリ金属を含む塩基を添加し、次いで水を添加して抽出を行うことにより、ポリチオール組成物のアルカリ金属塩を含む水抽出液を得ることと、
　ポリチオール組成物のアルカリ金属塩を含む水抽出液に酸を添加し、ポリチオール組成物を含む水性液体を得ることと、
　ポリチオール組成物を含む水性液体に、抽出溶媒としての炭素数５～１２の炭化水素化合物を添加して抽出を行うことにより、ポリチオール組成物を含む抽出液を得ることと、
　ポリチオール組成物を含む抽出液からポリチオール組成物を分離することと、
を含む方法が挙げられる。
　この一例では、まず、ポリチオール組成物を含む濾液中のポリチオール組成物をアルカリ金属塩に転化し、次いで水で抽出を行うことにより、ポリチオール組成物のアルカリ金属塩を含む水抽出液を得る。次いでここに、酸を添加することにより、ポリチオール組成物のアルカリ金属塩をポリチオール組成物に戻す。得られたポリチオール組成物を含む水性液体からポリチオール組成物を、上記抽出溶媒によって抽出し、ポリチオール組成物を含む抽出液を得る。得られたポリチオール組成物を含む抽出液から、ポリチオール組成物を分離する。
　この一例によれば、ポリチオール組成物を含む濾液中に、ポリチオール組成物以外のその他の成分が多く含まれる場合においても、主成分としてのポリチオール成分の純度がより高いポリチオール組成物が得られる。
　上記一例において、アルカリ金属を含む塩基におけるアルカリ金属として、好ましくは、ナトリウム、カリウム又はリチウムであり、より好ましくはナトリウム又はカリウムである。
　アルカリ金属を含む塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、等が挙げられる。
　アルカリ金属を含む塩基は、必要に応じ、アルコール溶液（メタノール溶液、エタノール溶液、等）の形態で、濾液に添加することができる
　上記一例において、ポリチオール組成物のアルカリ金属塩を含む水抽出液に添加される酸としては、塩酸、炭酸、硝酸、硫酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、等が挙げられる。
　上記一例において、抽出溶媒は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　分離態様Ｂにおいて、抽出溶媒の好ましい態様は、前述した反応溶媒の好ましい態様と同様である。
　但し、反応溶媒と抽出溶媒とは、同一であっても異なっていてもよい。
　分離工程が、濾物、又は、デカンテーション若しくは抽出による残渣として、ポリウレア化合物を含む混合物を得ることを含む場合、濾物又は残渣である、ポリウレア化合物を含む混合物に対し、活性水素化合物（好ましくはアミン化合物及び／又はアルコール化合物）を接触させることにより、混合物中のポリウレア化合物と活性水素化合物とを反応させ、これにより、チオウレタン樹脂の原料としてのポリアミン化合物を生成させることができる。ポリアミン化合物を含む反応混合物からポリアミン化合物を分離することにより、チオウレタン樹脂の原料としてのポリアミン化合物が得られる。
（その他の工程）
　製法Ａは、必要に応じ、上記工程以外のその他の工程を含んでいてもよい。
　その他の工程としては、例えば；
ポリチオール組成物を生成させる工程の前に、チオウレタン樹脂を篩にかける篩工程；
ポリチオール組成物を生成させる工程の前に、チオウレタン樹脂を洗浄する工程；
ポリチオール組成物を生成させる工程の前に、チオウレタン樹脂を破砕及び／又は粉砕する工程；
等が挙げられる。
　その他の工程のより具体的な例を以下に示す。
　製法Ａは、
　ポリチオール組成物を生成させる工程の前に、チオウレタン樹脂を含む切削加工屑を分級することにより、上記切削加工屑よりも平均粒子径が小さい、チオウレタン樹脂を含む粉体を得る分級工程を含んでもよい。
　この分級工程を含む場合のポリチオール組成物を生成させる工程では、上記粉体と上記活性水素化合物とを接触させることにより、上記粉体中のチオウレタン樹脂と上記活性水素化合物とを反応させる。
　分級の方法としては、篩分け、遠心分離、等が挙げられる。
　分級として篩分けを行う態様については、下記篩工程を参照できる。
　製法Ａは、
　ポリチオール組成物を生成させる工程の前に、チオウレタン樹脂を含む切削加工粉を篩にかけることにより、篩を通過した、チオウレタン樹脂を含む粉体を得る篩工程を含んでもよい。
　この篩工程を含む場合のポリチオール組成物を生成させる工程では、上記粉体と上記活性水素化合物とを接触させることにより、上記粉体中のチオウレタン樹脂と上記活性水素
化合物とを反応させる。
　上記篩には特に制限はない。
　篩のＪＩＳ　Ｚ－８８０１－１：２０１９で規定される公称目開きは、例えば０．１ｍｍ～２０ｍｍであり、好ましくは０．１ｍｍ～１０ｍｍであり、より好ましくは０．１ｍｍ～５ｍｍであり、更に好ましくは０．１ｍｍ～２ｍｍであり、更に好ましくは０．３ｍｍ～２ｍｍであり、更に好ましくは０．５ｍｍ～１．５ｍｍである。
　製法Ａに係るポリチオール組成物の製造方法は、
　ポリチオール組成物を生成させる工程の前に、チオウレタン樹脂を含む粉体を、洗浄溶媒としての炭素数５～１２の炭化水素化合物によって洗浄する洗浄工程を含んでもよい。
　この洗浄工程を含む場合のポリチオール組成物を生成させる工程では、洗浄工程で洗浄された上記粉体と、上記活性水素化合物と、を接触させることにより、上記粉体中のチオウレタン樹脂と上記活性水素化合物とを反応させる。
　洗浄溶媒としての炭化水素化合物は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　洗浄溶媒としての炭化水素化合物の好ましい態様は、前述した反応溶媒としての炭化水素化合物の好ましい態様と同様である。
　但し、反応溶媒と洗浄溶媒とは、同一であっても異なっていてもよい。
　洗浄工程における洗浄の方法には特に制限はなく、チオウレタン樹脂粉に対し、上記洗浄溶媒を加えて混合する方法等、公知の方法を適用できる。
　製法Ａが、前述した篩工程と洗浄工程とを含む場合、篩工程及び洗浄工程は、この順に実施することが好ましい。この場合、篩を通過しなかった切削加工粉を洗浄する必要がないので、洗浄溶媒の使用量をより低減できる。
〔光学材料用重合性組成物〕
　本開示の光学材料用重合性組成物（以下、「本開示の重合性組成物」ともいう）は、
　ポリイソ（チオ）シアネート化合物と、
　前述の本開示のポリチオール組成物と、
を含有する。
　本開示の重合性組成物は、前述の本開示のポリチオール組成物を含有するので、本開示のポリチオール組成物による効果と同様の効果を奏する。
（ポリイソ（チオ）シアネート化合物）
　ポリイソ（チオ）シアネート化合物としては、一分子中に少なくとも２個以上のイソ（チオ）シアネート基を有する化合物であれば、特に限定されない。
　ポリイソ（チオ）シアネート化合物として、具体的には、例えば；
　テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートメチルエステル、リジントリイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート化合物；
　イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、ジシクロヘキシルジメチルメタンジイソシアネート、２，５－ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、２，６－ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、３，８－ビス（イソ
シアナトメチル）トリシクロデカン、３，９－ビス（イソシアナトメチル）トリシクロデカン、４，８－ビス（イソシアナトメチル）トリシクロデカン、４，９－ビス（イソシアナトメチル）トリシクロデカン等の脂環族ポリイソシアネート化合物；
　トリレンジイソシアネート、４，４'－ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニ
ルスルフィド－４，４－ジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート化合物；
　２，５－ジイソシアナトチオフェン、２，５－ビス（イソシアナトメチル）チオフェン、２，５－ジイソシアナトテトラヒドロチオフェン、２，５－ビス（イソシアナトメチル）テトラヒドロチオフェン、３，４－ビス（イソシアナトメチル）テトラヒドロチオフェン、２，５－ジイソシアナト－１，４－ジチアン、２，５－ビス（イソシアナトメチル）－１，４－ジチアン、４，５－ジイソシアナト－１，３－ジチオラン、４，５－ビス（イソシアナトメチル）－１，３－ジチオラン等の複素環ポリイソシアネート化合物；
　ヘキサメチレンジイソチオシアネート、リジンジイソチオシアネートメチルエステル、リジントリイソチオシアネート、キシリレンジイソチオシアネート等の脂肪族ポリイソチオシアネート化合物；
　イソホロンジイソチオシアネート、ビス（イソチオシアナトメチル）シクロヘキサン、ビス（イソチオシアナトシクロヘキシル）メタン、シクロヘキサンジイソチオシアネート、メチルシクロヘキサンジイソチオシアネート、２，５－ビス（イソチオシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、２，６－ビス（イソチオシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、３，８－ビス（イソチオシアナトメチル）トリシクロデカン、３，９－ビス（イソチオシアナトメチル）トリシクロデカン、４，８－ビス（イソチオシアナトメチル）トリシクロデカン、４，９－ビス（イソチオシアナトメチル）トリシクロデカン等の脂環族ポリイソチオシアネート化合物；
　トリレンジイソチオシアネート、４，４－ジフェニルメタンジイソチオシアネート、ジフェニルジスルフィド－４，４－ジイソチオシアネート等の芳香族ポリイソチオシアネート化合物；
　２，５－ジイソチオシアナトチオフェン、２，５－ビス（イソチオシアナトメチル）チオフェン、２，５－イソチオシアナトテトラヒドロチオフェン、２，５－ビス（イソチオシアナトメチル）テトラヒドロチオフェン、３，４－ビス（イソチオシアナトメチル）テトラヒドロチオフェン、２，５－ジイソチオシアナト－１，４－ジチアン、２，５－ビス（イソチオシアナトメチル）－１，４－ジチアン、４，５－ジイソチオシアナト－１，３－ジチオラン、４，５－ビス（イソチオシアナトメチル）－１，３－ジチオラン等の含硫複素環ポリイソチオシアネート化合物等が挙げられる。
　ポリイソ（チオ）シアネート化合物は、これらから選択される少なくとも一種を含むことができる。
　また、ポリイソ（チオ）シアネート化合物としては、これらの塩素置換体、臭素置換体等のハロゲン置換体、アルキル置換体、アルコキシ置換体、ニトロ置換体、多価アルコールとのプレポリマー型変性体、カルボジイミド変性体、ウレア変性体、ビュレット変性体、ダイマー化あるいはトリマー化反応生成物等も使用できる。
　ポリイソ（チオ）シアネート化合物としては、
ポリイソシアネート化合物が好ましく、
ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２，５－ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、２，６－ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、トリレンジイソシアネート、４，４'－ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、及びフェニレンジイソシアネートから選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
　ポリチオール組成物とポリイソ（チオ）シアネート化合物との混合割合は特に限定されず、例えば、ポリチオール組成物に含まれるポリチオール化合物のメルカプト基とポリイソ（チオ）シアネート化合物のイソ（チオ）シアネート基のモル比（メルカプト基／イソ（チオ）シアネート基）が０．５～３．０であることが好ましく、０．６～２．０であることがより好ましく、０．８～１．３であることがさらに好ましい。混合割合が上記範囲内であると、プラスチックレンズ等として求められる屈折率、耐熱性等の種々の性能をバランスよく満たすことが可能となる傾向にある。
　本開示の重合性組成物は、ポリチオール組成物及びポリイソ（チオ）シアネート化合物以外のその他の成分を含んでいてもよい。
　その他の成分としては、重合触媒、内部離型剤、樹脂改質剤、鎖延長剤、架橋剤、ラジカル捕捉剤、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、油溶染料、充填剤、密着性向上剤、抗菌剤、帯電防止剤、染料、蛍光増白剤、蛍光顔料、無機顔料等のブルーインク剤などが挙げられる。
　重合触媒としては、３級アミン化合物、その無機酸塩又は有機酸塩、金属化合物、４級アンモニウム塩、有機スルホン酸等を挙げることができる。
　内部離型剤としては、酸性リン酸エステルを用いることができる。酸性リン酸エステルとしては、リン酸モノエステル、リン酸ジエステルを挙げることができ、それぞれ単独又は２種類以上混合して使用することできる。
　樹脂改質剤としては、例えば、エピスルフィド化合物、アルコール化合物、アミン化合物、エポキシ化合物、有機酸及びその無水物、（メタ）アクリレート化合物等を含むオレフィン化合物等が挙げられる。
　本開示の重合性組成物は、上記成分を混合して得ることができる。
〔樹脂〕
　本開示の樹脂は、上述した本開示の重合性組成物の硬化物である。
　本開示の樹脂は、上述した本開示の重合性組成物を硬化させることによって得られる。
　重合性組成物の硬化は、上記重合性組成物中のモノマー（具体的には、ポリチオール組成物及びポリイソ（チオ）シアネート化合物。以下同じ。）を重合させることによって行うことができる。重合の前処理として、重合性組成物に対し、濾過、脱気等の処理を施してもよい。
　重合性組成物中のモノマーを重合させるための重合条件（例えば、重合温度、重合時間等）は、組成物の組成、組成物中のモノマーの種類及び使用量、組成物中の重合触媒の種類及び使用量、後述のモールドを用いる場合にはモールドの性状、等を考慮し、適宜設定される。
　重合温度として、例えば、－５０℃～１５０℃、１０℃～１５０℃、等が挙げられる。
　重合時間として、例えば、１時間～２００時間、１時間～８０時間、等が挙げられる。
　本開示の樹脂を得る際、モノマーの重合によって得られた重合体に対し、アニール等の処理を施して樹脂を得てもよい。
　アニールの温度としては、５０℃～１５０℃、９０℃～１４０℃、１００℃～１３０℃、等が挙げられる。
　本開示の成形体は、本開示の樹脂を含む。
　本開示の成形体は、本開示の樹脂と同様に、本開示の重合性組成物を硬化させることに
よって得られる。
　重合性組成物の硬化、即ち、重合性組成物中のモノマーの重合の好ましい条件は、前述の通りである。
　本開示の成形体の好ましい製造方法の一例として、注型重合が挙げられる。
　注型重合では、はじめに、ガスケット又はテープ等で保持された成型モールド間に、上記重合性組成物を注入する。この際、必要に応じ、脱泡処理、濾過処理等を行ってもよい。
　次に、成型モールド間に注入された重合性組成物中のモノマーを重合させることにより、成型モールド間で組成物を硬化させて硬化物を得る。次いで、硬化物を成型モールドから外し、樹脂を含む成形体を得る。
　上記モノマーの重合は、重合性組成物を加熱することによって行ってもよい。この加熱は、例えば、オーブン中、水中等で加熱対象物を加熱する機構を備えた加熱装置を用いて行うことができる。
　注型重合では、成型モールドの形状を変えることにより、種々の形状の成形体（例えば、下記の光学材料）を得ることができる。
〔光学材料〕
　本開示の光学材料は、本開示の樹脂を含む。
　本開示の光学材料は、本開示の樹脂と同様に、本開示の重合性組成物を硬化させることによって得られる。
　重合性組成物の硬化、即ち、重合性組成物中のモノマーの重合の好ましい条件は、前述の通りである。
　光学材料としては、レンズ（例えば、眼鏡レンズ、カメラレンズ、偏光レンズ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、等が挙げられる。
　本開示の光学材料は、本開示の樹脂（又は本開示の樹脂を含む成形体）の片面又は両面に形成されたコーティング層を含んでいてもよい。
　コーティング層として、具体的には、プライマー層、ハードコート層、反射防止層、防曇コート層、防汚染層、撥水層等が挙げられる。
　これらのコーティング層はそれぞれ単独で形成してもよいし、複数のコーティング層を多層化して形成してもよい。両面にコーティング層を形成する場合、それぞれの面に同様なコーティング層を形成してもよいし、異なるコーティング層を形成してもよい。
　コーティング層の成分は、目的に応じて適宜選択できる。
　コーティング層の成分としては、例えば、樹脂（例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、等）、赤外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、フォトクロ化合物、染料、顔料、帯電防止剤等が挙げられる。
　メガネレンズ及びコーティング層については、例えば、国際公開第２０１７／０４７７４５号等の公知文献の記載を適宜参照できる。
 
　以下、本開示の実施例を示すが、本開示は以下の実施例には限定されない。
　以下、「室温」は、特に断りが無い限り、２５℃を意味する。
　以下、ポリチオール組成物中のポリチオール成分Ａ１の純度（％）とは、前述した測定条件Ａでの高速液体クロマトグラフィーによって求められる、ポリチオール組成物に含ま
れる化合物の合計ピーク面積に対するポリチオール成分Ａ１のピーク面積の比率（面積％）を意味する。
〔比較例１〕
＜ポリチオール組成物Ｘ１（比較用）の製造＞
　国際公開第２０１４／０２７４２７号の実施例Ａ－１における製造方法に従い、４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン（即ち、ポリチオール成分Ａ１）を主成分とするポリチオール組成物Ｘ１を製造した。
＜ポリチオール組成物Ｘ１の高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）測定＞
　ポリチオール組成物Ｘ１について、前述した測定条件Ａでの高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）測定を行った。カラムとしては、ＹＭＣ－Ｐａｃｋ　ＯＤＳ－Ａ（ワイエムシィ社製）を用いた。
　また、前述した測定条件Ｂでの液体クロマトグラフィー質量分析を行った。
　表１に、ポリチオール組成物Ｘ１の上記ＨＰＬＣにおける、
ポリチオール成分Ａ１のピーク面積比（詳細には、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積に対するピーク面積比。以下同じ。）、
化合物Ｃ１のピーク面積比、
化合物Ｃ２のピーク面積比、
化合物（ＸＢ）のピーク面積比、及び
化合物（ＸＣ）のピーク面積比
を示す。
　ここで、
ポリチオール成分Ａ１は、４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタンであり、
化合物Ｃ１は、保持時間が３２．０分～３５．０分である、分子量４２６のポリチオール化合物であり、
化合物Ｃ２は、保持時間が１６．０分～１９．０分である、ポリチオール化合物であり、化合物（ＸＢ）は、ポリチオール成分Ａ１中のメルカプト基のうちの少なくとも１つを式（Ｎ１）で表される基に置き換えた化合物であり、
化合物（ＸＣ）は、ポリチオール成分Ａ１中のメルカプト基のうちの少なくとも１つを水酸基に置き換えた化合物である。
　各化合物の構造は、前述した測定条件Ａでの高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）測定の結果と、前述した測定条件Ｂでの液体クロマトグラフィー質量分析の測定の結果と、主成分であるポリチオール成分Ａ１の構造と、に基づいて推定した。
　この比較例１及び後述の実施例１における化合物Ｃ１は、前述した化合物（Ｃ１－１）であると推定される。
＜重合性組成物及び成形体の製造＞
　攪拌装置のついたフラスコ中に、
重合触媒である二塩化ジブチルスズ（下記ポリイソシアネート化合物と下記ポリチオール組成物Ｘ１との合計量に対して１００質量ｐｐｍ）と、
離型剤であるＺｅｌｅｃ－ＵＮ（Ｓｔｅｐａｎ社製；酸性リン酸エステル）（下記ポリイソシアネート化合物と下記ポリチオール組成物Ｘ１との合計量に対して１０００質量ｐｐｍ）と、
ポリイソシアネート化合物であるｍ－キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）（５２質量部）と、
上記で準備したポリチオール組成物Ｘ１（４８質量部）と、
を加え、室温（２５℃）で１時間攪拌混合し、透明な均一溶液である、重合性組成物を得た。
　次に、上記重合性組成物を、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製フィルターで減圧濾過した後、６００Ｐａの減圧下、発泡が認められなくなるまで十分脱気させた。この脱気後の重合性組成物を、テープで固定された一対のガラスモールド間に注入し、次いでこの一対のガラスモールドをオーブンに入れ、オーブン内温度を１０℃に設定した。次に、オーブン内温度を１０℃から１２０℃まで、３８時間かけて昇温した。以上の過程により、脱気後の重合性組成物中のモノマー（ポリイソシアネート化合物及びポリチオール組成物）を重合させ、一対のガラスモールド間で、チオウレタン樹脂Ｒ１を含む成形体（即ち、重合性組成物の硬化物）を形成させた。
　続いて、オーブン内を冷却し、冷却後、オーブンから一対のガラスモールドを取り出し、次いで一対のガラスモールドから成形体を外し、成形体を得た。
＜レンズの製造＞
　上記で得られた成形体を切削加工することにより、レンズを製造した。
＜レンズの測定及び評価＞
　得られたレンズについて、屈折率、耐熱性（ガラス転移温度（Ｔｇ））、及び比重ｄを、以下の方法によって測定した。
　結果を表１に示す。
・屈折率（ｎｅ）：島津製作所社製プルフリッヒ屈折計ＫＰＲ－３０を用いて、２０℃で、波長５４６．１ｎｍ（水銀ｅ線）における屈折率（ｎｅ）を測定した。
・耐熱性（Ｔｇ）：島津製作所製熱機械分析装置ＴＭＡ－６０を用い、ＴＭＡペネートレーション法（５０ｇ荷重、ピン先０．５ｍｍφ、昇温速度１０℃／ｍｉｎ）によってガラス転移温度（Ｔｇ）測定し、耐熱性の指標とした。Ｔｇが高い程、耐熱性に優れる。
・比重ｄ：２０℃にてアルキメデス法により測定した。
〔実施例１〕
＜ポリチオール組成物の製造＞
－チオウレタン樹脂粉の準備－
　比較例１におけるレンズの製造（即ち、切削加工）の際に生じた切削加工粉を集め、チオウレタン樹脂粉Ｒ１（即ち、チオウレタン樹脂Ｒ１を含む粉体）を得た。
－モノエタノールアミンによるチオウレタン樹脂Ｒ１の分解反応－
　チオウレタン樹脂粉Ｒ１（２００ｇ）を、冷却管を付けた１０００ｍＬのフラスコに全量装入し、ここに、モノエタノールアミン（富士フイルム和光純薬製）（８１．０ｇ；１．３２６ｍｏｌ）とトルエン（３８５．６ｇ）とを加え、９０℃で５時間加熱攪拌することにより、ポリチオール組成物を含む反応混合物を得た（以上、反応工程）。
－ポリチオール組成物の分離－
　反応工程で得られた反応混合物に対し、抽出等を含む分離工程を実施することにより、反応混合物からポリチオール組成物を分離した。以下、詳細を説明する。
　反応工程で得られた反応混合物を６０℃まで冷却し、次いで濾過により固形物を除去した。得られた濾液に、３１％水酸化ナトリウム水溶液１４４．３ｇを加えて２５℃で攪拌した。ここに、１５０ｇの水を加えて可溶成分を抽出し、生じた水抽出液を５０ｇのトルエンで２５℃にて洗浄した後、トルエンを２００ｇ追加し、３５％塩酸１５０ｇを加えて４０℃で攪拌した。トルエンで可溶成分を抽出し、トルエン抽出液を得た。このトルエン抽出液を、１６０ｇの水で４０℃にて洗浄し、次いで０．１％アンモニア水１６０ｇで４０℃にて洗浄し、次いで１６０ｇの水で４０℃にて２回洗浄することにより、ポリチオー
ル組成物のトルエン溶液を得た。
　得られたトルエン溶液からロータリーエバポレーターによってトルエンを留去した。得られた混合物に対し、真空ポンプによる低沸点成分の除去、及び、１ミクロンのＰＴＦＥ製メンブランフィルターによる濾過をこの順に施すことにより、４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン（即ち、ポリチオール成分Ａ１）を主成分とするポリチオール組成物を８６．２ｇ得た（以上、分離工程）。
＜ポリチオール組成物の高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）測定＞
　実施例１で得られたポリチオール組成物について、比較例１におけるＨＰＬＣと同様にして、ＨＰＬＣ測定を実施した。
　結果を表１に示す。
＜重合性組成物、成形体、及びレンズの製造＞
　比較例１で用いたポリチオール組成物Ｘ１を本実施例１で得られたポリチオール組成物に変更したこと以外は比較例１と同様にして、重合性組成物、成形体、及びレンズを製造した。
＜レンズの測定及び評価＞
　実施例１で得られたレンズについて、比較例１における方法と同様にして、屈折率、耐熱性、及び比重ｄを測定した。
　結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
　表１に示すように、保持時間が３２．０分～３５．０分である化合物Ｃ１を含有し、前記高速液体クロマトグラフィー測定における化合物Ｃ１のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して０．５０以上であるポリチオール組成物を用いた実施例１では、化合物Ｃ１のピーク面積が０．５０未満であるポリチオール組成物を用いた比較例１と比較して、耐熱性に優れるチオウレタン樹脂（即ち、Ｔｇが高いレンズ）を製造できた。
　比較例１におけるポリチオール組成物と、実施例１におけるポリチオール組成物と、を
混合した混合物も有用である。
　例えば、比較例１におけるポリチオール組成物９０質量部と、実施例１におけるポリチオール組成物１０質量部と、を混合した混合物では、化合物Ｃ１のピーク面積が０．５０となる。
〔参考例１〕
＜ポリチオール組成物Ｘ２の準備＞
　国際公開第２０１４／０２７４２８号の実施例Ｃ－１における製造方法に従い、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、及び５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン（即ち、ポリチオール成分Ａ２）を主成分とするポリチオール組成物Ｘ２を準備した。
＜重合性組成物及び成形体の製造＞
　攪拌装置のついたフラスコ中に、
重合触媒である二塩化ジメチルスズ（商品名：ネスチンＰ、本荘ケミカル社製）（下記ポリイソシアネート化合物と下記ポリチオール組成物Ｘ２との合計量に対して１００質量ｐｐｍ）と、
離型剤であるＺｅｌｅｃ－ＵＮ（Ｓｔｅｐａｎ社製；酸性リン酸エステル）（下記ポリイソシアネート化合物と下記ポリチオール組成物Ｘ２との合計量に対して１０００質量ｐｐｍ）と、
ポリイソシアネート化合物であるｍ－キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）（５０．８質量部）と、
上記で準備したポリチオール組成物Ｘ２（４９．２質量部）と、
を加え、室温で１時間攪拌混合し、透明な均一溶液である、重合性組成物を得た。
　次に、上記重合性組成物を、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製フィルターで減圧濾過した後、６００Ｐａの減圧下、発泡が認められなくなるまで十分脱気させた。この脱気後の重合性組成物を、テープで固定された一対のガラスモールド間に注入し、次いでこの一対のガラスモールドをオーブンに入れ、オーブン内温度を２５℃に設定した。次に、オーブン内温度を２５℃から１２０℃まで、２４時間かけて昇温した。以上の過程により、脱気後の重合性組成物中のモノマー（ポリイソシアネート化合物及びポリチオール組成物）を重合させ、一対のガラスモールド間で、チオウレタン樹脂Ｒ２を含む成形体（即ち、重合性組成物の硬化物）を形成させた。
　続いて、オーブン内を冷却し、冷却後、オーブンから一対のガラスモールドを取り出し、次いで一対のガラスモールドから成形体を外し、参考例１の成形体を得た。
＜レンズの製造＞
　上記で得られた参考例１の成形体を切削加工することにより、参考例１のレンズを製造した。
〔実施例２〕
＜ポリチオール組成物の製造＞
　上記参考例１におけるレンズの製造（即ち、切削加工）の際に生じた切削加工粉を集め、チオウレタン樹脂粉Ｒ２（即ち、チオウレタン樹脂Ｒ２を含む粉体）を得た。
－モノエタノールアミンによるチオウレタン樹脂Ｒ２の分解反応－
　チオウレタン樹脂粉Ｒ２(５０ｇ)を、冷却管を付けた５００ｍＬのフラスコに全量装入し、ここに、モノエタノールアミン（富士フイルム和光純薬製）（１９．７５ｇ；０．３２３ｍｏｌ）とキシレン１８０．２５ｇとを加え、１００℃で５時間加熱攪拌することに
より、ポリチオール組成物を含む反応混合物を得た（以上、反応工程）。
－ポリチオール組成物の分離－
　得られた反応混合物を３０℃まで冷却し、次いで濾過により固形物を除去した。生じた濾液を、２０ｇの３５％塩酸で２回洗浄することにより、濾液から過剰なアミンを除去した。得られた液体を５０ｇの水で２回洗浄することにより、ポリチオール組成物のキシレン溶液を得た。
　得られたキシレン溶液からロータリーエバポレーターによってキシレンを留去した。得られた混合物に対し、真空ポンプによる低沸点成分の除去、及び、１ミクロンのＰＴＦＥ製メンブランフィルターによる濾過をこの順に施すことにより、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、及び５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン（即ち、ポリチオール成分Ａ２）を主成分とするポリチオール組成物を１９．４９ｇ得た（以上、分離工程）。
＜ポリチオール組成物の高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）測定＞
　得られたポリチオール組成物について、前述した測定条件Ａでの高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）測定を行った。カラムとしては、ＹＭＣ－Ｐａｃｋ　ＯＤＳ－Ａ（ワイエムシィ社製）を用いた。
　また、前述した測定条件Ｂでの液体クロマトグラフィー質量分析を行った。
　表２に、ポリチオール組成物の上記ＨＰＬＣにおける、
ポリチオール成分Ａ２のピーク面積比（詳細には、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積に対するピーク面積比。以下同じ。）、
化合物Ｃ１のピーク面積比、
化合物Ｃ２のピーク面積比、
化合物（ＸＢ）のピーク面積比、及び
化合物（ＸＣ）のピーク面積比
を示す。
　ここで、
ポリチオール成分Ａ２は、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、及び５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンであり、
化合物Ｃ１は、保持時間が３２．０分～３５．０分である、分子量４２６のポリチオール化合物であり、
化合物Ｃ２は、保持時間が１６．０分～１９．０分である、ポリチオール化合物であり、化合物（ＸＢ）は、ポリチオール成分Ａ２中のメルカプト基のうちの少なくとも１つを式（Ｎ１）で表される基に置き換えた化合物であり、
化合物（ＸＣ）は、ポリチオール成分Ａ２中のメルカプト基のうちの少なくとも１つを水酸基に置き換えた化合物である。
　各化合物の構造は、前述した測定条件Ａでの高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）測定の結果と、前述した測定条件Ｂでの液体クロマトグラフィー質量分析の測定の結果と、主成分であるポリチオール成分Ａ２の構造と、に基づいて推定した。
　この実施例２における化合物Ｃ１は、前述した化合物（Ｃ１－２ａ）、前述した化合物（Ｃ１－２ｂ）、前述した化合物（Ｃ１－２ｃ）、及び前述した化合物（Ｃ１－２ｄ）からなる群から選択される少なくとも１種であると推定される。
＜重合性組成物、成形体、及びレンズの製造＞
　参考例１で用いたポリチオール組成物Ｘ２を本実施例２で得られたポリチオール組成物に変更したこと以外は参考例１と同様にして、重合性組成物、成形体、及びレンズを製造した。
＜レンズの測定及び評価＞
　実施例２で得られたレンズについて、実施例１における方法と同様にして、屈折率、耐熱性（Ｔｇ）、及び比重ｄを測定した。
　結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　表２に示すように、保持時間が３２．０分～３５．０分である化合物Ｃ１を含有し、前記高速液体クロマトグラフィー測定における化合物Ｃ１のピーク面積が、ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して０．５０以上であるポリチオール組成物を用いた実施例２では、耐熱性に優れるチオウレタン樹脂（即ち、Ｔｇが高いレンズ）を製造できた。
　２０２１年７月３０日に出願された日本国特許出願２０２１－１２６０３３号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (12)

  1. 　ポリチオール化合物を含有するポリチオール組成物であって、
    　下記測定条件Ａによる高速液体クロマトグラフィー測定における保持時間が３２．０分～３５．０分である化合物Ｃ１を含有し、
    　前記高速液体クロマトグラフィー測定における前記化合物Ｃ１のピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して０．５０以上である、
    ポリチオール組成物。
    －測定条件Ａ－
    　カラムとして、株式会社ワイエムシイ製のＹＭＣ－Ｐａｃｋ（登録商標） ＯＤＳ－Ａ
    （粒子径Ｓ:５μｍ、細孔径：１２ｎｍ、カラム形状：Φ６ｍｍ×１５０ｍｍ）を用い、
    　移動相として、アセトニトリル／０．０１ｍｏｌ／Ｌ－リン酸二水素カリウム水溶液＝６０／４０（ｖｏｌ／ｖｏｌ）の混合溶液を用い、
    　測定溶液として、ポリチオール組成物１６０ｍｇとアセトニトリル１０ｍＬとの混合溶液を用い、
    　検出器として、測定波長２３０ｎｍの紫外線検出器を用い、
    　カラム温度を４０℃とし、
    　流量を１．０ｍＬ／ｍｉｎとし、
    　注入量を２μＬとする条件。
  2. 　前記化合物Ｃ１の分子量が、４２６である、
    請求項１に記載のポリチオール組成物。
  3. 　前記化合物Ｃ１が、ポリチオール化合物である、
    請求項１又は請求項２に記載のポリチオール組成物。
  4. 　更に、前記高速液体クロマトグラフィー測定における保持時間が１６．０分～１９．０分である化合物Ｃ２を含有し、
    　前記高速液体クロマトグラフィー測定における前記化合物Ｃ２のピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、１．３９以上である、
    請求項１～請求項３のいずれか１項に記載のポリチオール組成物。
  5. 　更に、メルカプト基を３つ以上含むポリチオール化合物（ＸＡ）を主成分として含有し、
    　前記ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを下記式（Ｎ１）で表される基に置き換えた化合物（ＸＢ）の、前記高速液体クロマトグラフィー測定におけるピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、１．１０未満であり、
    　前記ポリチオール化合物（ＸＡ）における３つ以上のメルカプト基のうちの少なくとも１つを水酸基に置き換えた化合物（ＸＣ）の、前記高速液体クロマトグラフィー測定におけるピーク面積が、前記ポリチオール組成物に含まれる化合物の合計ピーク面積１００に対して、２．４０未満である、
    請求項１～請求項４のいずれか１項に記載のポリチオール組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    〔式（Ｎ１）中、＊は、結合位置を表す。〕
  6. 　前記ポリチオール化合物（ＸＡ）が、
    ４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン、
    ４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、
    ４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、及び、
    ５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンからなる群から選択される少なくとも１種である、
    請求項５に記載のポリチオール組成物。
  7. 　ポリイソ（チオ）シアネート化合物と、
    　請求項１～請求項６のいずれか１項に記載のポリチオール組成物と、
    を含有する、光学材料用重合性組成物。
  8. 　前記ポリイソ（チオ）シアネート化合物は、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２，５－ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、２，６－ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ－［２．２．１］－ヘプタン、トリレンジイソシアネート、４，４'－ジフェニルメタンジイソシアネート、及びフェニレンジイソシア
    ネートからなる群から選択される少なくとも１種を含む、
    請求項７に記載の光学材料用重合性組成物。
  9. 　請求項７又は請求項８のいずれか１項に記載の光学材料用重合性組成物の硬化物である樹脂。
  10. 　請求項９に記載の樹脂を含む成形体。
  11. 　請求項９に記載の樹脂を含む光学材料。
  12. 　請求項９に記載の樹脂を含むレンズ。
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