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WO2022138710A1 - 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、アルミニウム支持体の製造方法 - Google Patents

平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、アルミニウム支持体の製造方法 Download PDF

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WO2022138710A1
WO2022138710A1 PCT/JP2021/047540 JP2021047540W WO2022138710A1 WO 2022138710 A1 WO2022138710 A1 WO 2022138710A1 JP 2021047540 W JP2021047540 W JP 2021047540W WO 2022138710 A1 WO2022138710 A1 WO 2022138710A1
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WO
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group
aluminum
printing plate
aluminum support
recording layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2021/047540
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English (en)
French (fr)
Inventor
睦 松浦
佑介 小沢
啓佑 有村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Priority to EP21910850.3A priority patent/EP4269120A4/en
Priority to JP2022571544A priority patent/JP7780457B2/ja
Publication of WO2022138710A1 publication Critical patent/WO2022138710A1/ja
Priority to US18/338,821 priority patent/US20230331018A1/en
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Ceased legal-status Critical Current

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    • C25D11/06—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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    • C25D11/24—Chemical after-treatment
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
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    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F7/00—Rotary lithographic machines
    • B41F7/20—Details
    • B41F7/24—Damping devices

Definitions

  • the present invention relates to a lithographic printing plate original plate, a method for manufacturing a lithographic printing plate, a printing method, and a method for manufacturing an aluminum support.
  • the aluminum support used for the lithographic printing plate has the surface of the aluminum plate sanded (roughened) to give unevenness from the viewpoint of improving the stain resistance and the printing resistance when the lithographic printing plate is used. It is known to do.
  • a flat plate printing plate original plate having an aluminum support and an image recording layer arranged on the aluminum support, and the aluminum support is on an aluminum plate and an aluminum plate.
  • the image recording layer is arranged on the anodic oxide film side of the aluminum support, including the arranged aluminum anodic oxide film, and the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a non-contact three-dimensional roughness meter.
  • the flat plate printing plate original plate having a density of 3000 pieces / mm 2 or more of recesses having a depth of 0.70 ⁇ m or more from the center line and obtained by measuring a range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m is described.
  • a treatment of cleaning with a cleaner may be performed in order to remove stains during printing. It is required that the printing durability does not deteriorate even when the treatment with such a cleaner is carried out. Such performance is also referred to as oil-based cleaner printing resistance.
  • the present inventors have examined the lithographic printing plate original plate described in Patent Document 1, and have clarified that there is a problem that the printing durability of the oil-based cleaner is inferior.
  • a lithographic printing plate original plate having an aluminum support and an image recording layer arranged on the aluminum support.
  • the aluminum support comprises an aluminum plate and an anodic oxide film of aluminum placed on the aluminum plate.
  • the image recording layer is placed on the anodic oxide film side of the aluminum support,
  • a convex portion having a height from the average surface of 0.80 ⁇ m or more obtained by measuring a range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a non-contact three-dimensional roughness meter.
  • a planographic printing plate original plate according to (1) wherein the area ratio of the convex portion having a height from the average surface of 0.80 ⁇ m or more is 13% or less.
  • the aluminum support comprises an aluminum plate and an anodic oxide film of aluminum placed on the aluminum plate.
  • the image recording layer is placed on the anodic oxide film side of the aluminum support, Density of recesses having a depth of 0.40 ⁇ m or more from the average surface obtained by measuring the range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a non-contact three-dimensional roughness meter.
  • Planographic printing plate original plate with 4000 pieces / mm 2 or more.
  • the height from the average surface obtained by measuring the range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a non-contact three-dimensional roughness meter is 0.80 ⁇ m or more.
  • the depth from the average surface obtained by measuring the range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a non-contact three-dimensional roughness meter is 0.20 ⁇ m or more.
  • the height from the average surface obtained by measuring the range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a non-contact three-dimensional roughness meter is 0.80 ⁇ m or more.
  • the area ratio of the convex part is 10% or less
  • the actual area Sx obtained by the approximate three-point method from the three-dimensional data obtained by measuring the area of 25 ⁇ m ⁇ 25 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using an interatomic force microscope at 512 ⁇ 512 points.
  • the flat plate printing plate original plate according to (1) wherein the surface area ratio ⁇ S calculated from the geometrically measured area S0 by the formula (1) described later is 20% or more.
  • the planographic printing plate original plate according to (13) which has a surface area ratio of 45% or more.
  • the area ratio of the convex part is 10% or less, Density of recesses having a depth of 0.20 ⁇ m or more from the average surface obtained by measuring a range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a non-contact three-dimensional roughness meter. Is 6000 pieces / mm 2 or more, The actual area Sx obtained by the approximate three-point method from the three-dimensional data obtained by measuring the area of 25 ⁇ m ⁇ 25 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using an interatomic force microscope at 512 ⁇ 512 points.
  • the flat plate printing plate original plate according to (1) wherein the surface area ratio ⁇ S calculated from the geometrically measured area S0 by the formula (1) described later is 45% or more.
  • the surface roughness Ra obtained by measuring the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a contact type surface roughness meter is 0.45 ⁇ m or less, according to (1) to (17).
  • the anodic oxide film has micropores and The micropore communicates with the large-diameter hole extending from the surface of the anodic oxide film to a depth of 10 to 1000 nm and the bottom of the large-diameter hole, and extends from the communication position to a depth of 20 to 2000 nm.
  • Consists of The average diameter on the surface of the anodic oxide film of the large-diameter hole is 15 to 60 nm.
  • a method for manufacturing a lithographic printing plate which comprises a removing step of removing an unexposed portion of an image-exposed lithographic printing plate original plate.
  • a printing method comprising a printing step of supplying at least one of printing ink and dampening water to remove an unexposed portion of an image-like exposed lithographic printing plate precursor on a printing press for printing.
  • the temperature of the hydrochloric acid-treated solution is 30 ° C. or lower, the total amount of electricity is 400 C / dm 2 or less, and the alternating current waveform is in the hydrochloric acid-treated solution which may contain sulfuric acid with respect to the aluminum plate.
  • It has a hydrochloric acid electrolysis treatment step of producing a roughened aluminum plate by performing AC electrolysis at a peak current value of 80 A / dm 2 or less.
  • the hydrochloric acid treatment liquid contains sulfuric acid
  • the ratio of the content of sulfuric acid to the content of hydrochloric acid is 0.1 or less.
  • Manufacturing method of aluminum support (23) After the hydrochloric acid electrolysis treatment step Anodizing step of applying anodizing treatment to the roughened aluminum plate to form an anodizing film of aluminum on the aluminum plate, and An aluminum plate on which an anodized film is formed is etched to increase the diameter of the micropores in the anodized film, and a pore-wide treatment process. 22.
  • a lithographic printing plate original plate having excellent oil-based cleaner printing resistance when made into a lithographic printing plate.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of an aluminum support. It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform diagram used for the electrochemical roughening process in the manufacturing method of an aluminum support. It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening treatment using alternating current in the manufacturing method of an aluminum support.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of an aluminum support. It is a schematic diagram of the anodizing treatment apparatus used for the anodizing treatment in the fabrication of an aluminum support.
  • the present invention will be described in detail.
  • the description of the constituent elements described below may be based on the representative embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
  • the numerical range represented by using "-" means a range including the numerical values before and after "-" as the lower limit value and the upper limit value.
  • the notation of a group in the compound represented by the formula if no substitution or unsubstituted is described, and if the group can further have a substituent, other special provisions are made. Unless not, the group includes not only an unsubstituted group but also a group having a substituent.
  • R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group
  • R is an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, an unsubstituted. It means "represents a heterocyclic group or a substituted heterocyclic group”.
  • the first embodiment of the slab printing plate original plate of the present invention is a slab printing plate original plate having an aluminum support and an image recording layer arranged on the aluminum support, wherein the aluminum support is an aluminum plate.
  • An image recording layer is placed on the anodic oxide film side of the aluminum support, including an aluminum anodic oxide film placed on an aluminum plate, and an image of the aluminum support using a non-contact three-dimensional roughness meter.
  • It is a flat plate printing plate original plate having a density of 4000 pieces / mm 2 or more of recesses having a depth from the average surface of 0.40 ⁇ m or more and obtained by measuring a range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface on the recording layer side. ..
  • a second embodiment of the slab printing plate original plate of the present invention is a slab printing plate original plate having an aluminum support and an image recording layer arranged on the aluminum support, wherein the aluminum support is an aluminum plate.
  • An image recording layer is placed on the anodic oxide film side of the aluminum support, including an aluminum anodic oxide film placed on an aluminum plate, and an image of the aluminum support using a non-contact three-dimensional roughness meter.
  • It is a flat plate printing plate original plate having an area ratio of a convex portion having a height from an average surface of 0.80 ⁇ m or more and an area ratio of 20% or less, which is obtained by measuring a range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface on the recording layer side.
  • the two are different in that the density of the recesses having a predetermined depth is defined in the first embodiment, whereas the area ratio of the convex portions having a predetermined height is defined in the second embodiment.
  • the density of the recesses having a predetermined depth in the first embodiment and the area ratio of the convex portions having a predetermined height in the second embodiment which are the characteristic points of each embodiment, will be described.
  • the density of the recesses (hereinafter, also referred to as “first specific recesses”) having a depth from the surface of 0.40 ⁇ m or more is 4000 pieces / mm 2 or more.
  • the density of the first specific recess is preferably 6000 pieces / mm 2 or more, and 8000 pieces / More preferably mm 2 or more.
  • the upper limit of the density of the first specific recess is not particularly limited, but is preferably 20000 pieces / mm 2 or less, and more preferably 16000 pieces / mm 2 or less.
  • the density of the first specific recess refers to a value measured as follows. First, using a non-contact three-dimensional roughness meter (VertScan, manufactured by Ryoka System Co., Ltd.), a range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side is non-contact and the resolution is 0.01 ⁇ m. Scan with to obtain 3D data. The contents of the VertScan device and the measurement conditions are as follows.
  • the average surface is intended to be a surface located at an average height of all measurement data on the surface of the aluminum support on the image recording layer side in the measurement region (400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m).
  • the measurement is performed at 5 points per sample, the number of predetermined recesses is calculated at each point, then the average value is obtained, converted into the number per unit area ( ⁇ m 2 ), and the first specific recess is obtained.
  • the area ratio of the convex portion (hereinafter, also referred to as “specific convex portion”) having a height from the surface of 0.80 ⁇ m or more is 20% or less.
  • the area ratio of the specific convex portion is preferably 13% or less, more preferably 10% or less, further preferably 8% or less, particularly preferably 7% or less, and less than 3%. More preferably, 2% or less is most preferable.
  • the lower limit of the area ratio of the specific convex portion is not particularly limited, but is preferably 0% or more, and more preferably 0.2% or more.
  • the area ratio of the specific convex portion means a value measured as follows. First, using a non-contact three-dimensional roughness meter (VertScan, manufactured by Ryoka System Co., Ltd.), a range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side is non-contact and the resolution is 0.01 ⁇ m. Scan with to obtain 3D data. The contents of the VertScan device and the measurement conditions are as follows.
  • the area ratio of the specific convex portion is not particularly limited, but 20% or less is preferable in that the effect of the present invention is more excellent. That is, in the first embodiment of the lithographic printing plate original plate of the present invention, it can be obtained by measuring a range of 400 ⁇ m ⁇ 400 ⁇ m on the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a non-contact three-dimensional roughness meter.
  • the density of the first specific concave portion may be 4000 pieces / mm 2 or more, and the area ratio of the specific convex portion may be 20% or less.
  • the area ratio of the specific convex portion in the first embodiment of the lithographic printing plate original plate of the present invention is preferably 13% or less, more preferably 10% or less, still more preferably 8% or less, in that the effect of the present invention is more excellent. , 7% or less is particularly preferable.
  • the lower limit of the area ratio of the specific convex portion is not particularly limited, but is preferably 0% or more, and more preferably 0.3% or more.
  • the density of the first specific recess is not particularly limited, but 4000 pieces / mm 2 or more is preferable in that the effect of the present invention is more excellent. That is, in the second embodiment of the lithographic printing plate original plate of the present invention, the area ratio of the specific convex portion may be 20% or less, and the density of the first specific concave portion may be 4000 pieces / mm 2 or more.
  • the density of the first specific recesses in the second embodiment of the lithographic printing plate original plate of the present invention is preferably 6000 pieces / mm 2 or more, and more preferably 8000 pieces / mm 2 or more in that the effect of the present invention is more excellent.
  • the upper limit of the density of the first specific recess is not particularly limited, but is preferably 20000 pieces / mm 2 or less, and more preferably 16000 pieces / mm 2 or less.
  • the density of the recesses (hereinafter, also simply referred to as “second specific recesses”) having a depth from the average surface of 0.20 ⁇ m or more is not particularly limited, but is often 3000 pieces / mm 2 or more. In that the effect of the present invention is more excellent, 6000 pieces / mm 2 or more is preferable, and 8000 pieces / mm 2 or more is more preferable.
  • the upper limit of the density of the second specific recess is not particularly limited, but is preferably 20000 pieces / mm 2 or less, and more preferably 16000 pieces / mm 2 or less.
  • the method for measuring the second specific recess is first, using a non-contact three-dimensional roughness meter (VertScan, manufactured by Ryoka System Co., Ltd.) similar to the above-mentioned measurement of the density of the first specific recess under the same conditions. And the obtained 3D data is image-analyzed using software (SX Viewer, manufactured by Ryoka System Co., Ltd.), and the number of recesses whose depth from the average plane obtained is 0.20 ⁇ m or more. Ask for. The measurement is performed at 5 points per sample, the number of predetermined recesses is calculated at each point, then the average value is obtained, converted into the number per unit area ( ⁇ m 2 ), and the second specific recess is obtained. The density of.
  • the surface area ratio ⁇ S refers to a value measured as follows. Specifically, the aluminum support is cut into a size of 1 cm square, set on a horizontal sample table on a piezo scanner, the cantilever is approached to the sample surface, and when the region where the atomic force acts is reached, XY Scan in the direction, at which time the unevenness of the sample is captured by the displacement of the piezo in the Z direction. Use a piezo scanner that can scan 150 ⁇ m in the XY direction and 10 ⁇ m in the Z direction.
  • the cantilever has a resonance frequency of 130 to 200 kHz and a spring constant of 7 to 20 N / m (OMCL-AC200-TS, manufactured by Olympus Corporation), and is measured in DFM mode (Dynamic Force Mode). Further, the reference plane is obtained by correcting the slight inclination of the sample by approximating the obtained three-dimensional data to the least squares. In addition, the measurement measures 25 ⁇ 25 ⁇ m on the surface at 512 ⁇ 512 points.
  • the resolution in the X direction is 0.05 ⁇ m
  • the resolution in the Y direction is 1.9 ⁇ m in the Y direction
  • the resolution in the Z direction is 1 nm
  • the scan speed is 18 ⁇ m / sec.
  • the surface roughness Ra obtained by measuring the surface of the aluminum support on the image recording layer side using a contact type surface roughness meter.
  • a contact type surface roughness meter Is not particularly limited, but is often 0.50 ⁇ m or less, and is preferably 0.45 ⁇ m or less, more preferably 0.40 ⁇ m or less, still more preferably 0.35 ⁇ m or less, in that the effect of the present invention is more excellent.
  • the lower limit of the surface roughness Ra is not particularly limited, but is preferably 0.1 ⁇ m or more, and more preferably 0.12 ⁇ m or more.
  • the average roughness is measured according to JIS B 0601).
  • the area ratio of the specific convex portion is 10% or less in that the effect of the present invention is more excellent
  • the second specification Examples thereof include a lithographic printing plate original plate in which the density of the recesses is 6000 pieces / mm 2 or more and the surface area ratio ⁇ S is 45% or more.
  • the area ratio of the specific convex portion is 10% or less and the area ratio of the specific convex portion is 10% or less in that the effect of the present invention is more excellent.
  • the area ratio of the specific convex portion is 10% or less and the area ratio of the specific convex portion is 10% or less in that the effect of the present invention is more excellent.
  • the lithographic printing plate original plate in which the area ratio ⁇ S is 45% or more can be mentioned.
  • the area ratio of the specific convex portion is 7% or less and the area ratio of the specific convex portion is 7% or less in that the effect of the present invention is more excellent.
  • the area ratio of the specific convex portion is 7% or less and the area ratio of the specific convex portion is 7% or less in that the effect of the present invention is more excellent.
  • the lithographic printing plate original plate in which the area ratio ⁇ S is 45% or more can be mentioned.
  • the value of the brightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the aluminum support on the image recording layer side is preferably 68 to 90, more preferably 75 to 90.
  • the value of a * in the L * a * b * color system is preferably -4 to 4
  • the value of b * is preferably -4 to 4.
  • L * a * b * color system L * , a * and b * are measured five times using a color difference meter (for example, CR-221, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.). Use the average value.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of a lithographic printing plate original plate of the present invention.
  • the planographic printing plate original plate 10 shown in FIG. 1 has an aluminum support 12a and an image recording layer 16 arranged on the aluminum support 12a, and as shown in FIG. 1, the aluminum support 12a and an image recording It is preferable to further have an undercoat layer 14 between the layer 16 and the layer 16.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of the aluminum support 12a.
  • the aluminum support 12a has a laminated structure in which an aluminum plate 18 and an aluminum anodic oxide film 20a (hereinafter, also simply abbreviated as “anodic oxide film 20a”) are laminated in this order.
  • anodic oxide film 20a aluminum anodic oxide film 20a
  • the anodic oxide film 20a in the aluminum support 12a is located on the image recording layer 16 side. That is, the lithographic printing plate original plate 10 has an aluminum plate 18, an anodic oxide film 20a, an undercoat layer 14, and an image recording layer 16 in this order. Further, as shown in FIG. 2, the anodic oxide film 20a preferably has micropores 22a extending from the surface thereof toward the aluminum plate 18 side.
  • the term micropore is a commonly used term for a pore in an anodic oxide film, and does not specify the size of the pore.
  • the undercoat layer 14 is not an indispensable configuration, but is a layer arranged as needed.
  • each configuration of the lithographic printing plate original plate 10 will be described in detail.
  • the aluminum plate 18 (aluminum support) is a metal whose main component is aluminum, which is dimensionally stable, and is made of aluminum or an aluminum alloy.
  • Examples of the aluminum plate 18 include a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and a plastic film or paper on which aluminum (alloy) is laminated or vapor-deposited.
  • the foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon element, iron element, manganese element, copper element, magnesium element, chromium element, zinc element, bismuth element, nickel element, titanium element and the like, and the foreign element in the alloy.
  • the content of is 10% by mass or less.
  • the composition of the aluminum plate 18 is not limited, and publicly known materials (for example, JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, and JIS A 3005) can be appropriately used.
  • the width of the aluminum plate 18 is preferably about 400 to 2000 mm, and the thickness is preferably about 0.1 to 0.6 mm. This width or thickness can be appropriately changed according to the size of the printing machine, the size of the printing plate, and the user's wishes.
  • the anodized film 20a is a film generally formed on the surface of the aluminum plate 18 by anodizing treatment, and this film is substantially perpendicular to the surface of the film and is extremely fine in which each individual is uniformly distributed. It is preferable to have a micropore 22a.
  • the micropore 22a extends from the surface of the anodic oxide film 20a on the image recording layer 16 side (the surface of the anodic oxide film 20a on the side opposite to the aluminum plate 18 side) along the thickness direction (aluminum plate 18 side).
  • the average diameter (average opening diameter) of the micropores 22a in the anodized film 20a on the surface of the anodized film is preferably 10 to 150 nm, more preferably 10 to 100 nm.
  • 15 to 100 nm is more preferable, 15 to 60 nm is particularly preferable, 20 to 50 nm is more particularly preferable, and 25 to 40 nm is most preferable.
  • the same effect can be obtained regardless of whether the inner diameter of the pore is wider or narrower than the surface layer.
  • the average diameter of the micropores 22a is 400 ⁇ 600 nm in the obtained 4 images obtained by observing the surface of the anodized film 20a with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000 times.
  • the diameter (diameter) of the micropores existing in the range of 2 is measured and averaged. If the shape of the micropore 22a is not circular, the diameter equivalent to the circle is used.
  • the "circle equivalent diameter” is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.
  • the depth of the micropore 22a is not particularly limited, but is preferably 10 to 3000 nm, more preferably 50 to 2000 nm, and even more preferably 300 to 1600 nm.
  • the depth is an average value obtained by taking a photograph (150,000 times) of a cross section of the anodic oxide film 20a and measuring the depths of 25 or more micropores 22a.
  • the shape of the micropore 22a is not particularly limited, and in FIG. 2, it is a substantially straight tubular (substantially cylindrical) shape, but it may be a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). Further, the shape of the bottom portion of the micropore 22a is not particularly limited, and may be curved (convex) or planar.
  • the undercoat layer 14 is a layer arranged between the aluminum support 12a and the image recording layer 16, and improves the adhesion between the two. As described above, the undercoat layer 14 is a layer provided as needed, and may not be included in the planographic printing plate original plate.
  • the composition of the undercoat layer is not particularly limited, but it is preferable to contain polyvinylphosphonic acid from the viewpoint of suppressing ink adhesion in non-image areas while maintaining printing resistance.
  • polyvinyl phosphonic acid those disclosed in US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 are used. be able to.
  • the composition of the undercoat layer is not particularly limited, but it is preferable to contain a compound containing a betaine structure from the viewpoint of good stain resistance and neglectability.
  • the betaine structure refers to a structure having at least one cation and at least one anion. Normally, the number of cations and the number of anions are equal and neutral as a whole, but in the present invention, when the number of cations and the number of anions are not equal, the amount required to cancel the charge. Having the counter ion of is also a betaine structure.
  • the betaine structure is preferably any of the following formulas (1), (2), and (3).
  • a ⁇ represents a structure having an anion
  • B + represents a structure having a cation
  • L 0 represents a linking group.
  • * Represents a connection site (connection position).
  • a ⁇ preferably represents a structure having anions such as carboxylate, sulfonate, phosphonate, and phosphinate
  • B + preferably represents a structure having cations such as ammonium, phosphonium, iodonium, and sulfonium. ..
  • L0 represents a linking group.
  • L 0 includes a divalent linking group, -CO-, -O-, -NH-, a divalent aliphatic group, and a divalent aromatic group. , Or a combination thereof is preferable.
  • L 0 is a trivalent linking group.
  • the linking group is preferably a linking group having 30 or less carbon atoms, including the carbon number of the substituent which may be described later.
  • Specific examples of the linking group include an alkylene group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms) and an arylene group such as a phenylene group and a xylylene group (preferably 5 to 15 carbon atoms). More preferably, the number of carbon atoms is 6 to 10).
  • linking groups may further have a substituent.
  • substituent a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, a monoalkylamino group, Examples thereof include a dialkylamino group, a monoarylamino group, and a diarylamino group.
  • the betaine structure is represented by the formula (i), the formula (ii), or the formula (iii) in that at least one of printing resistance, stain resistance, neglectability, and image visibility is more excellent.
  • the structure represented by the formula (i) is more preferable. * Represents a connecting site.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R 1 and R 2 are linked to each other.
  • the ring structure may have a heteroatom such as an oxygen atom.
  • a 5- to 10-membered ring is preferable, and a 5- or 6-membered ring is more preferable.
  • the number of carbon atoms in R 1 and R 2 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20.
  • R 1 and R 2 a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group is preferable because the effect of the present invention is more excellent.
  • L 1 represents a divalent linking group, -CO-, -O-, -NH-, a divalent aliphatic group (eg, an alkylene group), a divalent aromatic group (eg, a phenylene group), Alternatively, a combination thereof is preferable.
  • L 1 a linear alkylene group having 3 to 5 carbon atoms is preferable.
  • a ⁇ represents an anion-bearing structure, preferably carboxylate, sulfonate, phosphonate, or phosphinate. Specifically, the following structure can be mentioned.
  • L 1 is a linear alkylene group having 4 or 5 carbon atoms and A ⁇ is a sulfonate
  • L 1 is a linear alkylene group having 4 carbon atoms and A combination in which A ⁇ is sulfonate is more preferable.
  • L 2 represents a divalent linking group, -CO-, -O-, -NH-, a divalent aliphatic group (eg, an alkylene group), and a divalent aromatic group (i).
  • a phenylene group or a combination thereof is preferable.
  • B + represents a structure having a cation, and a structure having ammonium, phosphonium, iodonium, or sulfonium is preferable. Among them, a structure having ammonium or phosphonium is preferable, and a structure having ammonium is more preferable.
  • Examples of the structure having a cation include a trimethylammonio group, a triethylammonio group, a tributylammonio group, a benzyldimethylammonio group, a diethylhexylammonio group, a (2-hydroxyethyl) dimethylammonio group and a pyridinio group.
  • Examples thereof include an N-methylimidazolio group, an N-acridinio group, a trimethylphosphonio group, a triethylphosphonio group, and a triphenylphosphonio group.
  • L 3 represents a divalent linking group, -CO-, -O-, -NH-, a divalent aliphatic group (eg, an alkylene group), a divalent aromatic group (eg, a divalent aromatic group). , Phenylene group), or a combination thereof is preferable.
  • a ⁇ represents a structure having an anion, and carboxylate, sulfonate, phosphonate, or phosphinate is preferable, and the details and preferred examples thereof are the same as A ⁇ in the formula (i).
  • R 3 to R 7 each independently represent a hydrogen atom or a substituent (preferably 1 to 30 carbon atoms), and at least one of R 3 to R 7 represents a linking site.
  • At least one of R 3 to R 7 which is a linking site may be linked to another site in the compound via a substituent as at least one of R 3 to R 7 , or may be linked to another site in the compound by a single bond. It may be directly connected to other parts.
  • Substituents represented by R 3 to R 7 include a halogen atom, an alkyl group (including a cycloalkyl group and a bicycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group and a bicycloalkenyl group), an alkynyl group and an aryl group.
  • the above compound is preferably a polymer containing a repeating unit having a betaine structure (hereinafter, also simply referred to as “specific polymer”) in that the effect of the present invention is more excellent.
  • a repeating unit having a betaine structure the repeating unit represented by the formula (A1) is preferable.
  • R 101 to R 103 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom.
  • L represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include -CO-, -O-, -NH-, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof.
  • L1 -CO-O-divalent aliphatic group- L2: -CO-O-divalent aromatic group- L3: -CO-NH-divalent aliphatic group- L4: -CO-NH-divalent aromatic group- L5: -CO-divalent aliphatic group- L6: -CO-divalent aromatic group- L7: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aliphatic group- L8: -CO-divalent aliphatic group-O-CO-divalent aliphatic group- L9: -CO-divalent aromatic group-CO-O-divalent aliphatic group- L10: -CO-divalent aromatic group-O-CO-divalent aliphatic group- L11: -CO-divalent aliphatic group
  • Examples of the divalent aliphatic group include an alkylene group, an alkenylene group, and an alkynylene group.
  • Examples of the divalent aromatic group include an aryl group, and a phenylene group or a naphthylene group is preferable.
  • X represents a betaine structure.
  • X is preferably a structure represented by the above-mentioned formula (i), formula (ii), or formula (iii).
  • L is L1 or L3
  • X is a structure represented by the formula (i)
  • a combination in which A ⁇ in the formula (i) is a triflate group is preferable.
  • the content of the repeating unit having a betaine structure in the specific polymer is not particularly limited, and is often 20 to 95% by mass, and the effect of the present invention is more excellent. On the other hand, 50 to 95% by mass is preferable, and 60 to 90% by mass is more preferable.
  • the specific polymer may contain a repeating unit other than the repeating unit having the betaine structure.
  • the specific polymer may contain a repeating unit having a structure that interacts with the surface of the aluminum support 12a (hereinafter, also simply referred to as “interaction structure”).
  • the interaction structure include a carboxylic acid structure, a carboxylate structure, a sulfonic acid structure, a sulfonate structure, a phosphonic acid structure, a phosphonate structure, a phosphate ester structure, a phosphate ester salt structure, and a ⁇ -diketone structure.
  • phenolic hydroxyl groups, and examples thereof include structures represented by the following formulas.
  • a carboxylic acid structure a carboxylate structure, a sulfonic acid structure, a sulfonate structure, a phosphonic acid structure, a phosphonate structure, a phosphate ester structure, or a phosphate ester salt structure is preferable.
  • R 11 to R 13 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkynyl group, or an alkenyl group
  • M, M 1 and M 2 independently represent a hydrogen atom and a metal, respectively.
  • B represents a boron atom.
  • the repeating unit having an interaction structure is preferably a repeating unit represented by the formula (A2).
  • R 201 to R 203 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group (preferably 1 to 6 carbon atoms), or a halogen atom.
  • L represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include -CO-, -O-, -NH-, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof. Specific examples of L composed of combinations include the same as the above formula (A1) and the following L17 and L18. L17: -CO-NH- L18: -CO-O- Among L1 to L18, L1 to L4, L17, or L18 is preferable.
  • Q represents an interaction structure, and the preferred embodiment is the same as described above.
  • the content of the repeating unit having an interaction structure in the specific polymer is not particularly limited, but 1 to 40% by mass is added to all the repeating units constituting the specific polymer in that the effect of the present invention is more excellent. It is preferable, 3 to 30% by mass is more preferable.
  • the specific polymer may contain a repeating unit having a radically polymerizable reactive group.
  • the radically polymerizable reactive group include additive-polymerizable unsaturated bonding groups (eg, (meth) acryloyl group, (meth) acrylamide group, (meth) acrylonitrile group, allyl group, vinyl group, vinyloxy group, and alkynyl. Groups) and functional groups capable of chain transfer (mercapto groups, etc.) can be mentioned.
  • a specific polymer containing a repeating unit having a radically polymerizable reactive group can be obtained by introducing a radically polymerizable reactive group by the method described in JP-A-2001-312068.
  • the content of the repeating unit having a radically polymerizable reactive group in the specific polymer is not particularly limited, but the effect of the present invention is more excellent, and the content is 1 to 30 with respect to all the repeating units constituting the specific polymer.
  • the mass% is preferable, and 3 to 20% by mass is more preferable.
  • the content of the compound having the betaine structure in the undercoat layer 14 is not particularly limited, but is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, based on the total mass of the undercoat layer.
  • the upper limit is 100% by mass.
  • the undercoat layer 14 containing the compound having a betaine structure may be in the form of containing other compounds.
  • the undercoat layer may be in the form of containing a compound having a hydrophilic group.
  • the hydrophilic group include a carboxylic acid group and a sulfonic acid group.
  • the compound having a hydrophilic group may further have a radically polymerizable reactive group.
  • the image recording layer 16 is preferably an image recording layer that can be removed with printing ink and / or dampening water. Hereinafter, each component of the image recording layer 16 will be described.
  • the image recording layer 16 preferably contains an infrared absorber.
  • the infrared absorber preferably has maximum absorption in the wavelength range of 750 to 1400 nm.
  • infrared absorption having maximum absorption in the wavelength range of 750 to 1400 nm, which is not easily affected by the white light, is absorbed.
  • the agent By using the agent, a lithographic printing plate original plate having excellent developability can be obtained.
  • the infrared absorber a dye or a pigment is preferable.
  • the dye examples include commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Handbook of Dyes” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970). Specific examples of the dye include cyanine dye, squarylium dye, pyrylium salt, nickel thiolate complex, and indorenin cyanine dye. Of these, cyanine pigments or indorenin cyanine pigments are preferable, cyanine pigments are more preferable, and cyanine pigments represented by the following formula (a) are even more preferable.
  • X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -N (R 9 ) (R 10 ), -X 2 -L 1 , or a group shown below.
  • R 9 and R 10 each independently represent an aromatic hydrocarbon group, an alkyl group, or a hydrogen atom, and R 9 and R 10 may be bonded to each other to form a ring. Of these, a phenyl group is preferable.
  • X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom
  • L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may contain a hetero atom (N, S, O, halogen atom, Se).
  • X a ⁇ is defined in the same manner as Z a ⁇ described later
  • Ra represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an amino group, and a halogen atom.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. Further, R 1 and R 2 may be coupled to each other to form a ring, and when forming a ring, it is preferable to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent (eg, an alkyl group). As the aromatic hydrocarbon group, a benzene ring group or a naphthalene ring group is preferable.
  • Y 1 and Y 2 each independently represent a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms.
  • R 3 and R 4 each independently represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent (for example, an alkoxy group).
  • R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms.
  • Za ⁇ represents a counter anion. However, if the cyanine dye represented by the formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not required, Za ⁇ is not required.
  • Za ⁇ examples include halide ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, and sulfonate ion, and perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, or aryl sulfonate ion. preferable.
  • the infrared absorbing dye only one kind may be used, two or more kinds may be used in combination, or an infrared absorbing agent other than the infrared absorbing dye such as a pigment may be used in combination.
  • the pigment the compounds described in paragraphs [0072] to [0076] of JP-A-2008-195018 are preferable.
  • the content of the infrared absorber is preferably 0.05 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 20% by mass, based on the total mass of the image recording layer 16.
  • the image recording layer 16 preferably contains a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator a compound that generates a radical by the energy of light, heat or both, and initiates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group (so-called radical polymerization initiator) is preferable.
  • the polymerization initiator include a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator.
  • the polymerization initiator the polymerization initiator described in paragraphs [0115] to [0141] of JP-A-2009-255434 can be used.
  • an oxime ester compound or an onium salt such as a diazonium salt, an iodonium salt, and a sulfonium salt is preferable from the viewpoint of reactivity and stability.
  • the content of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer 16.
  • the image recording layer 16 preferably contains a polymerizable compound.
  • a polymerizable compound an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond is preferable. Among them, a compound having at least one (preferably two) terminal ethylenically unsaturated bonds is more preferable. So-called radically polymerizable compounds are more preferable.
  • the polymerizable compound for example, the polymerizable compound exemplified in paragraphs [0142] to [0163] of JP-A-2009-255434 can be used.
  • a urethane-based addition-polymerizable compound produced by using an addition reaction of isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
  • a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (A) is added to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in Japanese Patent Publication No. 48-041708.
  • Examples thereof include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule.
  • CH 2 C (R 4 ) COOCH 2 CH (R 5 ) OH (A) (However, R 4 and R 5 indicate H or CH 3. )
  • the content of the polymerizable compound is preferably 3 to 80% by mass, more preferably 10 to 75% by mass, based on the total mass of the image recording layer 16.
  • the image recording layer 16 preferably contains a binder polymer.
  • the binder polymer include known binder polymers. Specific examples of the binder polymer include acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, methacrylic resin, polystyrene resin, novolak type phenol resin, polyester resin, and synthetic rubber. , And natural rubber.
  • the binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image portion.
  • a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer.
  • the crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
  • the binder polymer for example, the binder polymer disclosed in paragraphs [0165] to [0172] of JP-A-2009-255434 can be used.
  • the content of the binder polymer is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 5 to 70% by mass, based on the total mass of the image recording layer 16.
  • the image recording layer 16 may contain a surfactant in order to promote on-machine developability at the start of printing and to improve the coated surface condition.
  • the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants.
  • the surfactant for example, the surfactant disclosed in paragraphs [0175] to [0179] of JP-A-2009-255434 can be used.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer 16.
  • the image recording layer 16 preferably contains a color-developing agent, and more preferably contains an acid color-developing agent.
  • the "color former” used in the present disclosure means a compound having a property of developing or decoloring a color or decoloring by a stimulus such as light or acid and changing the color of the image recording layer, and the "acid color former" is used. It means a compound having a property of developing or decoloring and changing the color of an image recording layer by heating in a state of receiving an electron-accepting compound (for example, a proton such as an acid).
  • the acid color-developing agent has partial skeletons such as lactone, lactam, salton, spiropyran, ester, and amide, and these partial skeletons are rapidly opened or cleaved when contacted with an electron-accepting compound. Colorless compounds are preferred.
  • Examples of such acid color formers are 3,3-bis (4-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide (referred to as "crystal violet lactone") and 3,3-bis (4).
  • -Dimethylaminophenyl) phthalide 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (4-diethylamino-2-methylphenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3-( 1,2-dimethylindole-3-yl) phthalide, 3- (4-dimethylaminophenyl) -3- (2-methylindole-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindole-) 3-yl) -5-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (1,2-dimethylindole-3-yl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (9-ethy
  • the color former used in the present disclosure is preferably at least one compound selected from the group consisting of a spiropyran compound, a spiroxazine compound, a spirolactone compound, and a spirolactam compound from the viewpoint of color development. ..
  • the hue of the dye after color development is preferably green, blue or black from the viewpoint of visibility.
  • the acid color-developing agent is preferably a leuco dye from the viewpoint of color-developing property and visibility of the exposed portion.
  • the leuco dye is not particularly limited as long as it is a dye having a leuco structure, but it is preferably having a spiro structure, and more preferably a spirolactone ring structure.
  • the leuco dye is preferably a leuco dye having a phthalide structure or a fluorane structure from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
  • the leuco dye having the phthalide structure or the fluorane structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-1) to (Le-3) from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. Is preferable, and it is more preferable that the compound is represented by the following formula (Le-2).
  • ERG independently represents an electron donating group
  • X 1 to X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkylanilino group
  • X 5 to X 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group
  • Y 1 and Y 2 independently represent C or N
  • Y 1 is N. If there is, X 1 is absent, if Y 2 is N, then X 4 is absent, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 are respectively.
  • Independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group.
  • the electron donating groups in the ERGs of the formulas (Le-1) to (Le-3) include amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, and heteroaryls from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
  • the electron-donating group in the ERG is an aryl group having a substituent at at least one ortho position or a hetero having a substituent at at least one ortho position from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is preferably a disubstituted amino group having an aryl group, and more preferably a disubstituted amino group having a phenyl group having a substituent at at least one ortho position and an electron donating group at the para position.
  • a phenyl group having a substituent and having an electron donating group at the para position and an aryl group having an electron donating group or a heteroaryl group having an electron donating group are particularly preferable.
  • the ortho position in an aryl group or a heteroaryl group other than the phenyl group is the bond position next to the 1-position when the bond position with the other structure of the aryl group or the heteroaryl group is the 1-position. (For example, second place, etc.).
  • an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heteroarylamino group, and a dialkylamino are used from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
  • X1 to X4 in the formulas (Le- 1 ) to (Le- 3 ) may be hydrogen atoms or chlorine atoms independently from the viewpoint of color development and visibility of the exposed part. It is preferably a hydrogen atom, more preferably a hydrogen atom.
  • X 5 to X 10 in the formula (Le-2) or the formula (Le-3) are independently, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed part, hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, aryl group.
  • Y 1 and Y 2 in the formulas (Le-1) to (Le-3) is C from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion, and Y 1 and Y 2 are used. It is more preferable that both of them are C.
  • Ra 1 in the formulas (Le-1) to (Le-3) is preferably an alkyl group or an alkoxy group, and more preferably an alkoxy group, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is preferably a methoxy group, more preferably a methoxy group.
  • Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-1) to (Le-3) are preferably hydrogen atoms or alkyl groups independently from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is more preferably an alkyl group and even more preferably a methyl group.
  • the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-4) to (Le-6) from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. Is more preferable, and it is further preferable that the compound is represented by the following formula (Le-5).
  • ERG independently represents an electron donating group
  • X 1 to X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkylanilino group
  • Y 1 and Y 2 independently represent C or N, where X 1 does not exist when Y 1 is N and X 4 exists when Y 2 is N.
  • Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group
  • Rb 1 to Rb 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, respectively.
  • ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 and Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-4) to (Le-6) are the formulas (Le-1) to the formulas (Le-1) to the formulas (Le-1) to Rb 4, respectively. It is synonymous with ERG, X1 to X4 , Y1, Y2 , Ra1 and Rb1 to Rb4 in Le - 3 ), and the preferred embodiment is also the same.
  • the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure is a compound represented by any of the following formulas (Le-7) to (Le-9) from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. Is more preferable, and a compound represented by the following formula (Le-8) is particularly preferable.
  • X 1 to X 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkylanilino group, and Y 1 and Y 2 independently represent each other. Representing C or N, if Y 1 is N, then X 1 does not exist, if Y 2 is N, then X 4 does not exist, and Ra 1 to Ra 4 are independent of hydrogen. Representing an atom, an alkyl group or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, and Rc 1 and Rc 2 independently represent an aryl group or an aryl group, respectively. Represents a heteroaryl group.
  • X1 to X4 , Y1 and Y2 in the formulas (Le- 7 ) to (Le - 9 ) are X1 to X4, Y1 and Y2 in the formulas (Le - 1 ) to the formula (Le - 3). It has the same meaning as Y 2 , and the preferred embodiment is also the same.
  • Ra 1 to Ra 4 in the formula (Le-7) or the formula (Le-9) are preferably alkyl groups or alkoxy groups independently from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is more preferably an alkoxy group, and even more preferably a methoxy group.
  • Rb 1 to Rb 4 in the formulas (Le-7) to (Le-9) were independently substituted with a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is preferably an aryl group, more preferably an alkyl group, and even more preferably a methyl group.
  • Rc 1 and Rc 2 in the formula (Le-8) are preferably phenyl groups or alkylphenyl groups, and are phenyl groups, independently from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. Is more preferable.
  • Rc 1 and Rc 2 in the formula (Le-8) are independently an aryl group having a substituent at at least one ortho position, or at least, from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion. It is preferably a heteroaryl group having a substituent at one ortho position, more preferably an aryl group having a substituent at at least one ortho position, and a phenyl group having a substituent at at least one ortho position. It is more preferable to have a phenyl group having a substituent at at least one ortho position and an electron donating group at the para position. Examples of the above-mentioned substituents in Rc 1 and Rc 2 include substituents described later.
  • X 1 to X 4 are hydrogen atoms and Y 1 and Y 2 are C from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
  • Rb 1 and Rb 2 are independently substituted aryl groups with an alkyl group or an alkoxy group from the viewpoint of color development and visibility of the exposed portion.
  • Rb 1 and Rb 2 are independently aryl groups or heteroaryl groups, respectively, and the aryl group is used.
  • Rb 1 , Rb 2 , Rc 1 and Rc 2 include amino groups, alkylamino groups, arylamino groups and heteroarylaminos from the viewpoint of color development and visibility of exposed areas.
  • dialkylamino group monoalkyl monoarylamino group, monoalkyl monoheteroarylamino group, diarylamino group, diheteroarylamino group, monoarylmonoheteroarylamino group, alkoxy group, allyloxy group, heteroallyloxy group, Alternatively, it is preferably an alkyl group, more preferably an alkoxy group, an allyloxy group, a heteroaryloxy group, or an alkyl group, and even more preferably an alkoxy group.
  • the acid color-developing agent preferably contains a compound represented by the following formula (Le-10) from the viewpoint of color-developing property and visibility of the exposed portion.
  • Ar 1 independently represents an aryl group or a heteroaryl group
  • Ar 2 independently represents an aryl group having a substituent at at least one ortho position, or at least 1 Represents a heteroaryl group having a substituent at one ortho position.
  • Ar 1 in the formula (Le-10) is synonymous with Rb 1 and Rb 2 in the formulas (Le-7) to (Le-9), and the preferred embodiments are also the same.
  • Ar 2 in the formula (Le-10) is synonymous with Rc 1 and Rc 2 in the formulas (Le-7) to (Le-9), and the preferred embodiments are also the same.
  • the alkyl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) may be linear, may have a branch, or may have a ring structure. Further, the number of carbon atoms of the alkyl group in the formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 8, and further preferably 1 to 4. It is preferably 1 or 2, and particularly preferably 1. The number of carbon atoms of the aryl group in the formulas (Le-1) to (Le-10) is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 10, and even more preferably 6 to 8.
  • the aryl group in the formulas (Le-1) to (Le-10) include a phenyl group, a naphthyl group, an anthrasenyl group, a phenanthrenyl group and the like which may have a substituent.
  • the heteroaryl group in the formulas (Le-1) to (Le-10) may have a substituent, such as a frill group, a pyridyl group, a pyrimidyl group, a pyrazoyl group, and a thiophenyl group. Can be mentioned.
  • each group such as a monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a dialkylanilino group, an alkylamino group and an alkoxy group in the formulas (Le-1) to (Le-10) is , May have substituents.
  • the substituents include an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a halogen atom, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heteroarylamino group, a dialkylamino group, a monoalkyl monoarylamino group and a monoalkyl monoheteroaryl.
  • Examples of the leuco dye having a phthalide structure or a fluorine structure that are preferably used include the following compounds.
  • Me represents a methyl group.
  • ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63. , GN-169, and crystal violet lactone are preferable because the film to be formed has a good visible light absorption rate.
  • color formers may be used alone or in combination of two or more kinds of components.
  • the content of the color former is preferably 0.5 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer.
  • the image recording layer 16 may further contain a compound other than the above, if necessary.
  • examples of other compounds include colorants, baking agents, polymerization inhibitors, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, and low particles disclosed in paragraphs [0181] to [0190] of JP-A-2009-255434.
  • examples include molecular hydrophilic compounds.
  • a hydrophobic precursor which can convert an image recording layer into hydrophobic when heat is applied disclosed in paragraphs [0191] to [0217] of JP2012-187907. Fine particles), low molecular weight hydrophilic compounds, fat sensitizers (eg, phosphonium compounds, nitrogen-containing low molecular weight compounds, ammonium group-containing polymers), and chain transfer agents.
  • the lithographic printing plate original plate of the present invention may include the aluminum support 12a described above, the undercoat layer 14, and other layers other than the image recording layer 16.
  • a protective layer may be included on the image recording layer 16 as necessary to prevent scratches and the like from being generated in the image recording layer 16, to block oxygen, and to prevent ablation during high-illuminance laser exposure.
  • the material used for the protective layer include materials (water-soluble polymer compounds, inorganic layered compounds, etc.) described in paragraphs [0213] to [0227] of JP-A-2009-255434.
  • the method for producing the aluminum support used in the platen original plate of the present invention is not particularly limited, but the aluminum plate may be treated with hydrochloric acid which may contain sulfuric acid in that a predetermined aluminum support can be efficiently produced.
  • the liquid temperature of the hydrochloric acid treatment liquid is 30 ° C. or less
  • the total amount of electricity involved in the anode reaction of the aluminum plate is 400 C / dm 2 or less
  • the peak current value of the AC current waveform is 80 A / dm 2 or less. It is preferable to have a hydrochloric acid electrolysis treatment step of applying AC electrolysis to produce a roughened aluminum plate.
  • the ratio of the content of sulfuric acid to the content of hydrochloric acid is preferably 0.1 or less.
  • the roughened aluminum plate is subjected to an anodic oxidation treatment to form an aluminum anodic oxide film on the aluminum plate. It is preferable to have an oxidation treatment step.
  • the aluminum plate on which the anodizing film is formed is subjected to an etching treatment to increase the diameter of micropores in the anodizing film. It is preferable to have a pore wide processing step.
  • a mechanical roughening treatment may be performed before the hydrochloric acid electrolysis treatment step.
  • the mechanical roughening treatment method include a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, a ball grain method in which the aluminum surface is sanded with a polishing ball and an abrasive, JP-A-6-135175 and Tokusho.
  • a brush grain method for sanding the surface with a nylon brush and an abrasive described in Japanese Patent Publication No. 50-040047 can be used.
  • the temperature of the hydrochloric acid treatment liquid is 30 ° C. or lower in the hydrochloric acid treatment liquid which may contain sulfuric acid for the aluminum plate, and aluminum is used.
  • the total amount of electricity involved in the anodic reaction of the plate is 400 C / dm 2 or less, the peak current value of the AC current waveform is 80 A / dm 2 or less, and AC electrolysis is performed to produce a roughened aluminum plate. It is preferably a processing step.
  • the above-mentioned lithographic printing plate original plate (first embodiment and second embodiment of the lithographic printing plate original plate) described above is efficiently produced by subjecting such hydrochloric acid electrolysis treatment and anodizing treatment described later. can do.
  • Hydrochloric acid is contained in the hydrochloric acid treatment liquid, and the hydrochloric acid concentration is preferably 5 to 30 g / L, more preferably 10 to 20 g / L.
  • the hydrochloric acid treatment liquid may contain sulfuric acid.
  • the sulfuric acid concentration in the hydrochloric acid-treated solution is preferably 2.0 g / L or less, more preferably 1.0 g / L or less, and 0.5 g / L. Is even more preferable.
  • the lower limit of the sulfuric acid concentration in the hydrochloric acid-treated solution is not particularly limited, and may be more than 0 g / L.
  • the hydrochloric acid treatment liquid may contain aluminum ions.
  • the concentration of aluminum ions is preferably 1.0 to 30.0 g / L, more preferably 5.0 to 20.0 g / L.
  • the hydrochloric acid treatment liquid contains sulfuric acid, the ratio of the content of sulfuric acid to the content of hydrochloric acid is preferably 0.1 or less.
  • the lower limit is not particularly limited, and may be more than 0.
  • the temperature of the hydrochloric acid-treated solution is 30 ° C. or lower, preferably 26 ° C. or lower, and more preferably 23 ° C. or lower.
  • the lower limit is not particularly limited, but is preferably 10 ° C. or higher, and more preferably 15 ° C. or higher.
  • the total amount of electricity (the total amount of electricity participating in the anode reaction of the aluminum plate at the end of the hydrochloric acid electrolysis treatment) is preferably 400 C / dm 2 or less, more preferably 350 C / dm 2 or less.
  • the lower limit of the total amount of electricity is not particularly limited, but 50 C / dm 2 or more is preferable, and 100 C / dm 2 or more is more preferable.
  • the peak current value of the AC current waveform is preferably 80 A / dm 2 or less, and more preferably 70 A / dm 2 or less.
  • the peak current value is preferably 10 A / dm 2 or more, and more preferably 20 A / dm 2 or more.
  • FIG. 3 is a graph showing an example of an alternating waveform current waveform diagram used for hydrochloric acid electrolysis treatment.
  • ta is the anode reaction time
  • ct is the cathode reaction time
  • tp is the time from 0 to the peak of the current
  • Ia is the peak current on the anode cycle side
  • Ic is the peak current on the cathode cycle side. Is.
  • the time tp from 0 to the peak of the current is preferably 1 to 10 msec.
  • the conditions for one cycle of AC used for the hydrochloric acid electrolysis treatment are that the ratio ct / ta of the anode reaction time ta and the cathode reaction time ct of the aluminum plate is 1 to 20, the amount of electricity Qc at the anode and the amount of electricity at the anode of the aluminum plate.
  • the Qa ratio Qc / Qa is preferably in the range of 0.3 to 20, and the anode reaction time ta is preferably in the range of 5 to 1000 msec.
  • the current density is the peak value of the trapezoidal wave, and it is preferable that both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current are in the above-mentioned range (80 A / dm 2 or less).
  • FIG. 4 is a side view showing an example of a radial cell in a hydrochloric acid electrolysis treatment using alternating current.
  • 50 is a main electrolytic cell
  • 51 is an AC power supply
  • 52 is a radial drum roller
  • 53a and 53b are main poles
  • 54 is an electrolytic solution supply port
  • 55 is an electrolytic solution
  • 56 is a slit
  • 57 is an electrolytic solution passage.
  • 58 is an auxiliary anode
  • 60 is an auxiliary anode tank
  • W is an aluminum plate.
  • the aluminum plate W is wound around a radial drum roller 52 immersed in the main electrolytic cell 50 and placed, and is electrolyzed by the main poles 53a and 53b connected to the AC power supply 51 during the transfer process.
  • the electrolytic solution 55 is supplied from the electrolytic solution supply port 54 to the electrolytic solution passage 57 between the radial drum roller 52 and the main poles 53a and 53b through the slit 56.
  • the aluminum plate W treated in the main electrolytic cell 50 is then electrolyzed in the auxiliary anode tank 60.
  • An auxiliary anode 58 is arranged to face the aluminum plate W in the auxiliary anode tank 60, and the electrolytic solution 55 is supplied so as to flow in the space between the auxiliary anode 58 and the aluminum plate W.
  • an alkali etching treatment is performed after the mechanical roughening treatment when the above-mentioned mechanical roughening treatment is performed and before and after the above-mentioned hydrochloric acid electrolysis treatment step. Is preferable.
  • the alkali etching treatment performed before the hydrochloric acid electrolysis treatment if the mechanical roughening treatment is not performed, rolling oil, stains, natural oxide film, etc. on the surface of the aluminum base material (rolled aluminum), etc. For the purpose of removing It is done for the purpose of changing to the surface to have.
  • the etching amount is preferably 0.1 to 10 g / m 2 and more preferably 1 to 5 g / m 2 .
  • the etching amount is 1 to 10 g / m 2 , the rolling oil, dirt, natural oxide film and the like on the surface are sufficiently removed.
  • the etching amount is preferably 3 to 20 g / m 2 , and more preferably 5 to 15 g / m 2 .
  • the alkaline etching treatment performed immediately after the hydrochloric acid electrolysis treatment is performed for the purpose of dissolving the smut generated in the acidic electrolytic solution and dissolving the uneven edge portion formed by the hydrochloric acid electrolysis treatment. Since the unevenness formed by the hydrochloric acid electrolysis treatment differs depending on the type of the electrolytic solution, the optimum etching amount also differs, but the etching amount of the alkali etching treatment performed after the hydrochloric acid electrolysis treatment is 0 to 0.5 g / m 2 . Is preferable, and 0 to 0.3 g / m 2 is more preferable.
  • alkali used in the alkaline solution examples include Kasei alkali and alkali metal salts.
  • an aqueous solution of caustic soda is preferable.
  • the concentration of the alkaline solution can be determined according to the etching amount, but is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 10 to 35% by mass.
  • the concentration of aluminum ions is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 3 to 8% by mass.
  • the temperature of the alkaline solution is preferably 20 to 90 ° C.
  • the processing time is preferably 0 to 120 seconds.
  • Examples of the method of contacting the aluminum base material with the alkaline solution include a method of passing the aluminum base material through a tank containing an alkaline solution, a method of immersing the aluminum base material in a tank containing an alkaline solution, and a method of immersing the aluminum base material in a tank containing an alkaline solution.
  • a method of spraying an alkaline solution on the surface of an aluminum base material can be mentioned.
  • ⁇ Desmat treatment> In the method for producing an aluminum support of the present invention, it is preferable that after performing a hydrochloric acid electrolysis treatment or an alkali etching treatment, pickling (desmat treatment) is performed in order to remove corrosive organisms remaining on the surface.
  • the acid used for example, nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like are generally used, but other acids may be used.
  • the desmat treatment for example, the aluminum base material is brought into contact with an acidic solution having a concentration of 0.5 to 30% by mass (containing 0.01 to 5% by mass of aluminum ions) such as hydrochloric acid, nitric acid, and sulfuric acid. Do it by.
  • a method of bringing the aluminum base material into contact with the acidic solution for example, a method of passing the aluminum base material through a tank containing an acidic solution, a method of immersing the aluminum base material in a tank containing an acidic solution, and a method of immersing the aluminum base material in a tank containing an acidic solution.
  • a method of spraying an acidic solution on the surface of an aluminum base material can be mentioned. Since the surface condition of the aluminum base material after the desmat treatment affects the subsequent growth of the natural oxide film, the acid selection, concentration, and temperature conditions are appropriately selected according to the purpose.
  • ⁇ Washing treatment> In the method for producing an aluminum support of the present invention, it is preferable to wash with water after the above-mentioned steps of each treatment are completed. In particular, the washing with water at the end of the process affects the growth of the natural oxide film after that, so it is necessary to use pure water, well water, tap water, etc. sufficiently.
  • the anodic oxidation treatment step is a step of subjecting a roughened aluminum plate to an anodic oxidation treatment after the above-mentioned hydrochloric acid electrolysis treatment step to form an aluminum anodic oxide film on the aluminum plate.
  • the procedure of the anodizing treatment step is not particularly limited, and a known method can be mentioned.
  • an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid or the like can be used as the electrolytic bath.
  • the concentration of sulfuric acid may be 100 to 300 g / L.
  • the conditions for the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, and for example, the liquid temperature is 5 to 70 ° C. (preferably 10 to 60 ° C.) and the current density is 0.5 to 60 A / dm 2 (preferably 5 to 5 to 60 ° C.). 60 A / dm 2 ), voltage 1 to 100 V (preferably 5 to 50 V), electrolysis time 1 to 100 seconds (preferably 5 to 60 seconds), and film amount 0.1 to 5 g / m 2 (preferably 0. 2 to 3 g / m 2 ).
  • the anodizing treatment step is a step of performing anodizing treatment using phosphoric acid from the viewpoint of improving the adhesion between the aluminum support and the image recording layer.
  • pore-wide processing process In the pore-wide treatment step, after the above-mentioned anodizing treatment step, the aluminum plate on which the anodic oxide film is formed is subjected to an etching treatment to increase the diameter of the micropores in the anodic oxide film (pore diameter enlargement treatment). It is a process.
  • the pore-wide treatment can be performed by contacting the aluminum plate obtained by the above-mentioned anodizing treatment step with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution.
  • the contact method is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spraying method.
  • the undercoat layer forming step is a step of forming an undercoat layer on the aluminum support obtained in the pore wide treatment step.
  • the method for producing the undercoat layer is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying a coating liquid for forming an undercoat layer containing a predetermined compound (for example, a compound having a betaine structure) onto an anodic oxide film of an aluminum support. It is preferable that the coating liquid for forming the undercoat layer contains a solvent. Examples of the solvent include water and organic solvents.
  • a method of applying the coating liquid for forming the undercoat layer various known methods can be mentioned. For example, bar coater coating, rotary coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating can be mentioned.
  • the coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 to 100 mg / m 2 .
  • the image recording layer forming step is a step of forming an image recording layer on the undercoat layer.
  • the method for forming the image recording layer is not particularly limited, and for example, a coating liquid for forming an image recording layer containing a predetermined component (infrared absorber, polymerization initiator, polymerizable compound, etc. described above) is applied onto the undercoat layer.
  • the method can be mentioned. It is preferable that the coating liquid for forming an image recording layer contains a solvent. Examples of the solvent include water and organic solvents. Examples of the method for applying the coating liquid for forming an image recording layer include the methods exemplified as the method for applying the coating liquid for forming an undercoat layer.
  • the coating amount (solid content) of the image recording layer varies depending on the application, but is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 .
  • the method for manufacturing the protective layer is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying a protective layer forming coating liquid containing a predetermined component on the image recording layer.
  • the micropore 22a in the anodic oxide film 20a has a substantially straight tubular shape, but if the average diameter of the micropore on the surface of the anodic oxide film is within a predetermined range, the micropore has another structure. May be.
  • the aluminum support 12b includes an aluminum plate 18 and an anodic oxide film 20b having a micropore 22b composed of a large-diameter hole portion 24 and a small-diameter hole portion 26. You may.
  • the micropores 22b in the anodized film 20b communicate with the large-diameter hole portion 24 extending from the surface of the anodized film to a position at a depth of 10 to 1000 nm (depth D: see FIG.
  • the large-diameter hole portion 24 is composed of a small-diameter hole portion 26 extending from the communication position to a position having a depth of 20 to 2000 nm.
  • the large-diameter hole portion 24 and the small-diameter hole portion 26 will be described in detail below.
  • the average diameter of the large-diameter hole portion 24 on the surface of the anodic oxide film 20b is the same as the average diameter of the micropore 22a on the surface of the anodic oxide film in the above-mentioned anodic oxide film 20a, preferably 10 to 100 nm, and is stain resistant. From the viewpoint of the balance between property and image visibility, 15 to 100 nm is more preferable, 15 to 60 nm is further preferable, 20 to 50 nm is particularly preferable, and 25 to 40 nm is particularly preferable.
  • the method for measuring the average diameter on the surface of the anodic oxide film 20b of the large-diameter hole portion 24 is the same as the method for measuring the average diameter on the surface of the anodic oxide film of the micropores 22a in the anodic oxide film 20a.
  • the bottom of the large-diameter hole portion 24 is located at a depth of 10 to 1000 nm (hereinafter, also referred to as a depth D) from the surface of the anodic oxide film. That is, the large-diameter hole portion 24 is a hole portion extending from the surface of the anodic oxide film in the depth direction (thickness direction) by 10 to 1000 nm.
  • the depth is preferably 10 to 200 nm.
  • the depth is an average value obtained by taking a photograph (150,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20b, measuring the depths of 25 or more large-diameter hole portions 24, and averaging them.
  • the shape of the large-diameter hole portion 24 is not particularly limited, and examples thereof include a substantially straight tubular (substantially cylindrical) shape and a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction). preferable.
  • the small-diameter hole portion 26 is a hole portion that communicates with the bottom portion of the large-diameter hole portion 24 and extends further in the depth direction (thickness direction) from the communication position.
  • the average diameter of the small-diameter hole portion 26 at the communication position is smaller than the average diameter of the large-diameter hole portion, and is preferably 13 nm or less. Above all, 11 nm or less is preferable, and 10 nm or less is more preferable.
  • the lower limit is not particularly limited, but it is often 5 nm or more.
  • the surface may be observed with the above-mentioned FE-SEM to obtain the average diameter of the small-diameter hole portion. If the shape of the small diameter hole portion 26 is not circular, the diameter equivalent to a circle is used.
  • the "circle equivalent diameter” is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.
  • the bottom portion of the small diameter hole portion 26 is located at a position extending 20 to 2000 nm in the depth direction from the communication position with the large diameter hole portion 24.
  • the small-diameter hole portion 26 is a hole portion that extends further in the depth direction (thickness direction) from the communication position with the large-diameter hole portion 24, and the depth of the small-diameter hole portion 26 is 20 to 2000 nm.
  • the depth is preferably 500 to 1500 nm.
  • the depth is an average value obtained by taking a photograph (50,000 times) of the cross section of the anodic oxide film 20b, measuring the depths of 25 or more small-diameter holes.
  • the shape of the small-diameter hole portion 26 is not particularly limited, and examples thereof include a substantially straight tubular (substantially cylindrical) shape and a conical shape whose diameter decreases in the depth direction, and a substantially straight tubular shape is preferable.
  • the method for manufacturing the aluminum support 12b is not particularly limited, but a manufacturing method in which the following steps are sequentially performed is preferable.
  • (Aluminum electrolysis treatment step) A step of subjecting an aluminum plate to the above-mentioned hydrochloric acid electrolysis treatment (first anodic oxidation treatment step) A step of anodicating a roughened aluminum plate (pore wide treatment step)
  • first anodic oxidation treatment step A step of contacting the obtained aluminum plate having an anodic oxide film with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution to increase the diameter of micropores in the anodic oxide film
  • Second anodic oxidation treatment step Aluminum obtained in the pore wide treatment step. Step of anodizing the plate
  • a known method can be referred to.
  • the undercoat layer 14 may not be included in the lithographic printing plate original plate as described above.
  • the image recording layer may be formed after hydrophilization treatment is performed on the aluminum support.
  • the hydrophilization treatment include known methods disclosed in paragraphs [0109] to [0114] of JP-A-2005-254638. Among them, hydrophilicity is obtained by immersing in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate and potassium silicate, or by applying a hydrophilic vinyl polymer or a hydrophilic compound to form a hydrophilic undercoat layer. It is preferable to carry out the conversion treatment. Hydrophilization treatments of alkali metal silicates such as sodium silicate and potassium silicate with aqueous solutions are described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. It can be done according to the methods and procedures.
  • the method for manufacturing a lithographic printing plate is usually an exposure process in which a lithographic printing plate original plate is exposed to an image (image exposure) to form an exposed portion and an unexposed portion, and an image-like exposed lithographic printing plate original plate is not produced. It has a step of removing an exposed portion. More specifically, one aspect of the method for manufacturing a lithographic printing plate is an exposure step of exposing a lithographic printing plate original plate to an image (image exposure) to form an exposed portion and an unexposed portion, and a pH of 2 to 12.
  • Examples thereof include a removal step of removing an unexposed portion of the lithographic printing plate original plate with the developing solution of the above, and a method of manufacturing the lithographic printing plate including.
  • another aspect of the method for manufacturing a stencil printing plate is an exposure step of exposing a stencil printing plate original plate to an image (image exposure) to form an exposed portion and an unexposed portion, and printing ink and wetting.
  • Examples thereof include an on-machine development step of supplying at least one of water to remove an unexposed portion of a flat plate printing plate original plate exposed in an image on a printing machine, and a method for manufacturing a flat plate printing plate including.
  • the method for manufacturing a lithographic printing plate includes a step of exposing the lithographic printing plate original plate to an image (image exposure).
  • the image exposure is performed by, for example, laser exposure through a transparent original image having a line image or a halftone dot image, or laser light scanning with digital data.
  • the wavelength of the light source is preferably 750 to 1400 nm.
  • an image recording layer containing an infrared absorber which is a sensitizing dye having absorption in this wavelength range, is preferably used.
  • Examples of the light source that emits light having a wavelength of 750 to 1400 nm include a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays.
  • the output is preferably 100 mW or more
  • the exposure time per pixel is preferably 20 microseconds or less
  • the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 .
  • the exposure mechanism may be any of an inner drum system, an outer drum system, and a flatbed system. Image exposure can be performed by a conventional method using a platesetter or the like. In the case of the on-board development method described later, after the lithographic printing plate original plate is mounted on the printing machine, the image exposure of the lithographic printing plate original plate may be performed on the printing machine.
  • the image-exposed slab printing plate original plate is a method of removing the unexposed part with a developing solution having a pH of 2 to 12 (developing solution processing method), or an unexposed part with at least one of printing ink and dampening water on a printing machine. Is developed by a method of removing (on-machine development method).
  • the image-exposed lithographic printing plate original plate is processed with a developing solution having a pH of 2 to 14, and the image recording layer in the non-exposed portion is removed to manufacture a lithographic printing plate.
  • the developing solution contains a compound (specific compound) having at least one acid group selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a phosphonic acid group and a phosphinic acid group and one or more carboxyl groups, and has a pH.
  • a developer of 5 to 10 is preferable.
  • a method of developing treatment in the case of manual processing, for example, a method of sufficiently impregnating a sponge or cotton wool with a developing solution, processing while rubbing the entire lithographic printing plate original plate, and sufficiently drying after the processing is completed can be mentioned.
  • a method of immersing the lithographic printing plate precursor in a vat or a deep tank containing a developing solution for about 60 seconds, stirring the plate, and then rubbing the lithographic printing plate precursor with absorbent cotton or a sponge to sufficiently dry the plate is mentioned. Be done.
  • the protective layer is removed by a pre-washing step, then developed with an alkaline developer, then the alkali is removed by a post-washing step, the gum treatment is performed by a gum drawing step, and the drying step is performed. do.
  • development and gum removal can be performed simultaneously with one liquid.
  • a polymer is preferable, and a water-soluble polymer compound and a surfactant are more preferable.
  • This treatment may be a method of immersing in the developer once or a method of immersing in two or more times. Above all, the method of immersing in the developer once or twice is preferable.
  • the exposed lithographic printing plate original plate may be passed through a developing solution tank in which the developing solution is accumulated, or the developing solution may be sprayed onto the plate surface of the exposed lithographic printing plate original plate from a spray or the like. Even when immersed in the developing solution more than once, the same developing solution or a developing solution (fatigue solution) in which the components of the image recording layer are dissolved or dispersed by the developing process is used twice.
  • a one-component development process one-component process
  • the developing process it is preferable to use a rubbing member, and it is preferable to install a rubbing member such as a brush in the developing bath for removing the non-image portion of the image recording layer.
  • the development process is carried out according to a conventional method, preferably at a temperature of 0 to 60 ° C, more preferably 15 to 40 ° C.
  • the exposed lithographic printing plate precursor is immersed in a developer and rubbed with a brush, or externally. This can be done by pumping up the processing liquid charged in the tank, spraying it from a spray nozzle, and rubbing it with a brush.
  • These development processes can also be performed a plurality of times in succession.
  • the developer can be pumped up from an external tank, sprayed from a spray nozzle, rubbed with a brush, and then sprayed again from the spray nozzle and rubbed with a brush.
  • the developing process is performed using an automatic developing machine, the developing solution becomes tired due to an increase in the processing amount, so it is preferable to restore the processing capacity by using a replenishing solution or a fresh developing solution.
  • a gum coater and an automatic developing machine conventionally known for PS plates (Presented Plate) and CTP (Computer to Plate) can also be used.
  • an automatic developer for example, a method in which a developer charged in a developer tank or a developer charged in an external tank is pumped up by a pump and sprayed from a spray nozzle for processing, in a tank filled with a developer.
  • a method of dipping and transporting the printing plate with a guide roll in the liquid for processing, or a so-called disposable processing method of supplying and processing a substantially unused developer in the required amount for each plate. Can also be applied.
  • those having a rubbing mechanism with a brush, molton or the like are more preferable.
  • a commercially available automatic developing machine (Clean Out Unit C85 / C125, Clean-Out Unit + C85 / 120, FCF 85V, FCF 125V, FCF News (manufactured by Glunaz & Jensen)), and Azura CX85, AzuraCX125. (AGFA GRAPHICS) can be used. It is also possible to use an apparatus in which a laser exposure unit and an automatic developing unit are integrated.
  • the image-exposed lithographic printing plate original plate is manufactured as a lithographic printing plate by supplying printing ink and dampening water on the printing machine to remove the image recording layer in the non-image area.
  • the flat plate printing plate original plate is directly mounted on the printing machine without any development liquid treatment after the image exposure, or the flat plate printing plate original plate is mounted on the printing machine and then the image is exposed on the printing machine. Then, when printing is performed by supplying printing ink and dampening water, in the early stage of printing, in the non-image area, the supplied printing ink and / or dampening water is used to record the image of the unexposed area.
  • the layer is dissolved or dispersed and removed, exposing a hydrophilic surface to that portion.
  • the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface.
  • the printing ink or dampening water may be supplied first to the plate surface, but the printing ink is supplied first in order to prevent the dampening water from being contaminated by the removed image recording layer component. It is preferable to do so. In this way, the lithographic printing plate original plate is developed on the printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.
  • an exposure step of exposing a flat plate printing plate original plate to an image to form an exposed portion and an unexposed portion, and supplying at least one of printing ink and dampening water are supplied.
  • a printing method including a printing step of removing an unexposed portion of a flat plate printing plate original plate exposed to an image on a printing machine and performing printing can be mentioned.
  • the entire surface of the lithographic printing plate precursor may be heated.
  • Example 1 ⁇ Alkaline etching treatment> An aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass was sprayed onto an aluminum plate at a temperature of 70 ° C. to perform an etching treatment. Then, it was washed with water by spraying. The amount of aluminum dissolved on the surface to be subjected to the electrochemical roughening treatment later was 5 g / m 2 .
  • ⁇ Desmat treatment using acidic aqueous solution> a desmat treatment was performed using an acidic aqueous solution. Specifically, an acidic aqueous solution was sprayed onto an aluminum plate to perform a desmat treatment for 3 seconds.
  • an acidic aqueous solution used for the desmat treatment an aqueous solution of sulfuric acid 150 g / L was used. The liquid temperature was 30 ° C.
  • an electrolytic solution having a hydrochloric acid concentration of 13 g / L, an aluminum ion concentration of 15 g / L, and a sulfuric acid concentration of 1.0 g / L was used to perform an electrochemical roughening treatment using an AC current.
  • the temperature of the electrolytic solution was 25 ° C.
  • the aluminum ion concentration was adjusted by adding aluminum chloride.
  • the AC current waveform is a sinusoidal wave with symmetrical positive and negative waveforms, the frequency is 50 Hz, the anode reaction time and cathode reaction time in one AC current cycle are 1: 1, and the current density is the peak current value of the AC current waveform. It was 35 A / dm 2 .
  • the amount of electricity was 300 C / dm 2 in total of the amount of electricity stored in the anodic reaction by the aluminum plate, and the electrolytic treatment was carried out in 4 steps with an energization interval of 75 C / dm 2 for 2.5 seconds.
  • a carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate. Then, it was washed with water.
  • ⁇ Alkaline etching treatment> The aluminum plate after the electrochemical roughening treatment was subjected to etching treatment by spraying an aqueous solution of caustic soda having a caustic soda concentration of 5% by mass and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass at a temperature of 45 ° C.
  • the amount of aluminum dissolved in the surface subjected to the electrochemical roughening treatment was 0.2 g / m 2 . Then, it was washed with water.
  • a desmat treatment was performed using an acidic aqueous solution. Specifically, an acidic aqueous solution was sprayed onto an aluminum plate to perform a desmat treatment for 3 seconds.
  • an acidic aqueous solution used for the desmat treatment an aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L was used.
  • the liquid temperature was 35 ° C.
  • the first stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus by direct current electrolysis having the structure shown in FIG.
  • Anodizing was performed under the conditions shown in Table 1 using an electrolytic solution (aqueous solution) containing sulfuric acid to form an anodized film having a predetermined film thickness.
  • the "electrolyte solution concentration (g / L)" column in Table 1 indicates the concentration of sulfuric acid.
  • the aluminum plate 616 is conveyed as shown by an arrow in FIG.
  • the aluminum plate 616 is charged to (+) by the feeding electrode 620 in the feeding tank 612 in which the electrolytic solution 618 is stored.
  • the aluminum plate 616 is conveyed upward by the roller 622 in the power feeding tank 612, turned downward by the nip roller 624, and then conveyed toward the electrolytic treatment tank 614 in which the electrolytic solution 626 is stored, and is conveyed by the roller 628. Turns horizontally.
  • the aluminum plate 616 is charged to (-) by the electrolytic electrode 630 to form an anodic oxide film on the surface thereof, and the aluminum plate 616 leaving the electrolytic treatment tank 614 is conveyed to a subsequent step.
  • a roller 622, a nip roller 624, and a roller 628 constitute a direction changing means
  • the aluminum plate 616 has a roller 622, a nip roller 624, and an aluminum plate 616 in the inter-tank portion between the feeding tank 612 and the electrolytic treatment tank 614. It is conveyed in a chevron shape and an inverted U shape by a roller 628.
  • the feeding electrode 620 and the electrolytic electrode 630 are connected to a DC power supply 634.
  • a tank wall 632 is arranged between the power supply tank 612 and the electrolysis treatment tank 614.
  • the anodized aluminum plate was immersed in a caustic soda aqueous solution having a temperature of 40 ° C., a caustic soda concentration of 5% by mass, and an aluminum ion concentration of 0.5% by mass, and subjected to pore-wide treatment. Then, it was washed with water by spraying.
  • the second stage anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus by direct current electrolysis having the structure shown in FIG.
  • Anodizing was performed under the conditions shown in Table 1 using an electrolytic solution (aqueous solution) containing sulfuric acid to form an anodized film having a predetermined film thickness, and an aluminum support was prepared.
  • the "electrolyte solution concentration (g / L)" column in Table 1 indicates the concentration of sulfuric acid.
  • Examples 2 to 35, Comparative Examples 1 to 4> The liquid temperature and current density of the electrolytic solution in the ⁇ electrochemical roughening treatment> in Example 1 are the peak current value of the AC current waveform, the total amount of electricity, the conditions of the anodic oxidation treatment, and the conditions of pore wide.
  • An aluminum support was prepared according to the same procedure as in Example 1 except that the modifications were made as shown in Table 1.
  • the value of Ra was measured by the method described above. These results are shown in Table 3 described later.
  • the depths of the large and small diameter holes were measured by the method described above. These results are shown in Table 3 below.
  • An undercoat layer is formed on the surface of the anodic oxide film of each aluminum support produced above using any of the undercoat layer coating liquids 1 to 3 described later, and an image recording layer described later is formed on the formed undercoat layer.
  • An image recording layer was formed using any of the coating liquids 1 to 3.
  • the combinations of the undercoat layer coating liquid and the image recording layer coating liquid to be used are as shown in Table 2 below.
  • a coating layer was further formed on the image recording layer by using a protective layer coating liquid.
  • the formulations used in each Example and Comparative Example are shown in Table 3 below.
  • the "Undercoat layer coating liquid” column of Table 2 indicates the type of the undercoat layer coating liquid used, "1" is the undercoat layer coating liquid 1, “2” is the undercoat layer coating liquid 2, and “3” is the undercoat. Represents the layer coating liquid 3.
  • the “image recording layer coating liquid” column of Table 2 indicates the type of the image recording layer coating liquid used, “1” is the image recording layer coating liquid 1, “2” is the image recording layer coating liquid 2, and " 3 ”represents the image recording layer coating liquid 3.
  • the “protective layer coating liquid” column in Table 2 indicates the type of protective layer coating liquid used, “1” represents the protective layer coating liquid 1, and "-” indicates that the protective layer coating liquid is not used. show.
  • Formula A is adopted in Example 1, and in Formula A, as shown in Table 2, the primer layer is formed by using the primer layer coating solution 1, and the image recording layer is formed. It indicates that the image recording layer was formed by using the coating liquid 1.
  • Table 3 the procedure for forming each layer will be described in detail later.
  • Undercoat layer coating liquid 1 The following components were mixed to prepare an undercoat layer coating solution 1.
  • -Compound for undercoat layer (P-1, 11% by mass aqueous solution below): 0.10502 parts by mass-Sodium gluconate: 0.07000 parts by mass-Surfactant (Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0. 00159 parts by mass, preservative (Biohope L, manufactured by KAI Kasei Co., Ltd.): 0.00149 parts by mass, water: 2.87190 parts by mass
  • Undercoat layer coating liquid 2 The following components were mixed to prepare an undercoat layer coating liquid 2.
  • -Compound for undercoat layer P-1, 11% by mass aqueous solution: 0.0788 parts by mass-Hydroxyethyldiiminodiacetic acid: 0.0280 parts by mass-Sodium ethylenediamine tetraacetate-Quahydrate: 0.0499% by mass Part ⁇
  • Surface active agent Emarex (registered trademark) 710, Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0.0016 parts by mass ⁇
  • Preservative Biohope L, Keiai Kasei Co., Ltd.
  • 0.0015 parts by mass ⁇ Water 2.8701 parts by mass
  • Undercoat layer coating liquid 3 The following components were mixed to prepare an undercoat layer coating liquid 3.
  • -Compound for undercoat layer P-1, 11% by mass aqueous solution: 0.0788 parts by mass-Sodium gluconate: 0.0700 parts by mass-Surfactant (Emarex (registered trademark) 710, Nippon Emulsion Co., Ltd. ): 0.0016 parts by mass, preservative (Biohope L, Keiai Kasei Co., Ltd.): 0.0015 parts by mass, water: 2.8780 parts by mass
  • any one of the image recording layer coating liquids 1 to 3 was bar-coated, and then oven-dried at 120 ° C. for 40 seconds, and the dry coating amount was 1.3 g.
  • An image recording layer of / m 2 was formed, and a lithographic printing plate original plate was obtained.
  • Image recording layer coating liquid 1 The following components were mixed to prepare an image recording layer coating liquid 1.
  • 1-methoxy-2-propanol 4.4852 parts by mass
  • methanol 2.2838 parts by mass
  • microgel solution 1 2. 3256 parts by mass
  • Neostan U-600 bismuth-based polycondensation catalyst, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd., 0.11 part
  • the reaction solution was cooled to room temperature (25 ° C.), and methyl ethyl ketone was added to synthesize a solution of urethane acrylate (corresponding to the polymerizable compound M-1) having a solid content of 50% by mass.
  • Microgel 1 was synthesized by the following procedure.
  • Image recording layer coating liquid 2 The following components were mixed to prepare an image recording layer coating liquid 2.
  • Neostan U-600 bismuth-based polycondensation catalyst, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd., 0.11 part by mass
  • the reaction solution was cooled to room temperature (25 ° C.), and methyl ethyl ketone was added to synthesize a solution of a polymerizable compound (M-2) which is a urethane acrylate having a solid content of 50% by mass.
  • M-2 polymerizable compound
  • a polymerizable compound (M) in a tetrahydrofuran (THF) eluent using a recycled GPC (equipment: LC908-C60, column: JAIGEL-1H-40 and 2H-40 (manufactured by Nippon Analytical Industry Co., Ltd.)).
  • the molecular weight fractionation of the solution of -2) was carried out.
  • the weight average molecular weight was 20,000.
  • aqueous phase component was added to the oil phase component and mixed, and the obtained mixture was emulsified at 12,000 rpm for 16 minutes using a homogenizer to obtain an emulsion. 16.8 g of distilled water was added to the obtained emulsion, and the obtained liquid was stirred at room temperature for 10 minutes. Next, the stirred liquid was heated to 45 ° C., and the mixture was stirred for 4 hours while maintaining the liquid temperature at 45 ° C. to distill off ethyl acetate from the above liquid.
  • Image recording layer coating liquid 3 The following components were mixed to prepare an image recording layer coating liquid 3.
  • the protective layer coating liquid 1 was bar-coated on the image recording layer of the aluminum support on which the image recording layer was formed, and then oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount was 0.80 g / m 2 . A protective layer was formed.
  • Protective layer coating liquid 1 The following components were mixed to prepare a protective layer coating solution 1.
  • -Water 1.0161 parts by mass-Metro's SM04: 0.0600 parts by mass-FS-102 (17% aqueous dispersion): 0.1177 parts by mass-Rapisol A-80 (80% aqueous solution): 0.0063 parts by mass
  • the density of the solid image begins to decrease by the same method as above, except that a step of wiping the plate surface with a cleaner (manufactured by Fujifilm Co., Ltd., multi-cleaner) is provided.
  • the number of prints at the time when it was visually recognized was calculated.
  • the obtained number of prints is defined as the number of evaluation prints.
  • the index value obtained by the following formula (X) was calculated using the standard number of prints and the number of evaluation prints, and evaluation was performed according to the following criteria.
  • Formula (X): Index value (Standard number of prints-Evaluation number of prints) / Standard number of prints The larger the index value, the smaller the change in print resistance even when the step of wiping the plate surface with a cleaner is added.
  • the index value is 98% or more and less than 100% 5: The index value is 95% or more and less than 98% 4: The index value is 80% or more and less than 95% 3: The index value is 60% or more and less than 80% 2: The index value is 40% or more and less than 60% 1: The index value is less than 40%
  • the column “1st specific recess (piece / mm 2 )” represents the density of the 1st specific recess (piece / mm 2 ).
  • the “second specific recess (piece / mm 2 )” column represents the density (piece / mm 2 ) of the second specific recess.
  • the "specific convex portion area ratio (%)” column represents the area ratio (%) of the specific convex portion.
  • Example 11 the evaluation of the oil-based cleaner printing resistance is "5".
  • Example 11 the number of the first specific concave portions is less than 6000 / mm 2 , but the number of the second specific convex portions is 6000 / mm 2 or more, so that the evaluations are the same as those of Examples 9 and 11. ing.
  • the effect is more excellent when the number of the second specific convex portions is 6000 pieces / mm 2 or more. From Examples 12 to 14, it was most excellent when the area ratio of the specific convex portion was 10% or less, the number of the second specific concave portions was 6000 pieces / mm 2 or more, and the surface area ratio ⁇ S was 45% or more. It was confirmed that the effect was obtained. From Examples 15 to 19, it was confirmed that the effect is more excellent when the area ratio of the specific convex portion is 10% or less and the surface area ratio ⁇ S is 20% or more. Further, it was confirmed that the effect is more excellent when the area ratio of the specific convex portion is 10% or less and the surface area ratio ⁇ S is 45% or more.
  • Example 18 and Example 23 From the comparison between Example 18 and Example 23, it was confirmed that the effect is more excellent when the area ratio of the specific convex portion is 7% or less and the surface area ratio ⁇ S is 20% or more. From the comparison between Example 15 and Example 20, it was confirmed that the effect is more excellent when the area ratio of the specific convex portion is 7% or less and the surface area ratio ⁇ S is 45% or more.
  • Examples 36 to 39> The liquid temperature and current density of the electrolytic solution in the ⁇ electrochemical roughening treatment> in Example 1 are the peak current value of the AC current waveform, the total amount of electricity, the conditions of the anodic oxidation treatment, and the conditions of pore wide.
  • An aluminum support was prepared according to the same procedure as in Example 1 except that the modifications were made as shown in Table 4.
  • the values of the density of the second specific concave portion, the area ratio of the specific convex portion, the surface area ratio ⁇ S, and the surface roughness Ra on the surface of the anodic oxide film opposite to the aluminum plate side are described above. Measured by method. These results are shown in Table 5 below. Further, regarding the produced aluminum support, the average diameter on the surface of the anodic oxide film in the large-diameter hole portion in the anodic oxide film having micropores (surface layer average diameter) and the average diameter at the communication position of the small-diameter hole portion (internal average diameter). , And the depths of the large and small diameter holes were measured by the method described above. These results are shown in Table 5 below.

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Abstract

本発明は、平版印刷版としたときに油性クリーナー耐刷性に優れる平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、および、アルミニウム支持体の製造方法を提供する。本発明の平版印刷版原版は、アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、画像記録層が、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置され、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が２０％以下である。

Description

平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、アルミニウム支持体の製造方法
　本発明は、平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、および、アルミニウム支持体の製造方法に関する。
　平版印刷版に用いられるアルミニウム支持体は、平版印刷版としたときの耐汚れ性および耐刷性を向上させる点から、アルミニウム板の表面を砂目立て（粗面化処理）して、凹凸を付与することが知られている。
　例えば、特許文献１においては、「アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、画像記録層が、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置され、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の密度が３０００個／ｍｍ２以上である平版印刷版原版。」が記載されている。
国際公開第２０１９／０８７５１６号
　平版印刷版原版を用いて得られる平版印刷版を用いて印刷を行う際に、印刷途中で汚れを除去するためにクリーナーで洗浄する処理が施される場合がある。このようなクリーナーによる処理を実施した際でも、耐刷性が低下しないことが求められている。このような性能を、油性クリーナー耐刷性ともいう。
　本発明者らは、特許文献１に記載された平版印刷版原版について検討したところ、油性クリーナー耐刷性が劣る問題があることを明らかとした。
　本発明は、平版印刷版としたときに油性クリーナー耐刷性に優れる、平版印刷版原版を提供することを課題とする。
　また、本発明は、平版印刷版の製造方法、印刷方法、および、アルミニウム支持体の製造方法を提供することを課題とする。
　本発明者らは、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
（１）　アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
　アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
　画像記録層が、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置され、
　非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が２０％以下である、平版印刷版原版。
（２）　平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が１３％以下である、（１）に記載の平版印刷版原版。
（３）　平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が１０％以下である、（１）または（２）に記載の平版印刷版原版。
（４）　平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が７％以下である、（１）～（３）のいずれかに記載の平版印刷版原版。
（５）　アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
　アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
　画像記録層が、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置され、
　非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部の密度が４０００個／ｍｍ２以上である、平版印刷版原版。
（６）　平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部の密度が６０００個／ｍｍ２以上である、（５）に記載の平版印刷版原版。
（７）　平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部の密度が８０００個／ｍｍ２以上である、（５）または（６）に記載の平版印刷版原版。
（８）　非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が２０％以下である、（５）～（７）のいずれかに記載の平版印刷版原版。
（９）　非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．２０μｍ以上である凹部の密度が６０００個／ｍｍ２以上である、（１）～（８）のいずれかに平版印刷版原版。
（１０）　原子間力顕微鏡を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、後述する式（１）により算出される表面積比ΔＳが２０％以上である、（１）～（９）のいずれかに記載の平版印刷版原版。
（１１）　表面積比ΔＳが２５％以上である、（１０）に記載の平版印刷版原版。
（１２）　表面積比ΔＳが４５％以上である、（１０）または（１１）に記載の平版印刷版原版。
（１３）　非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が１０％以下であり、
　原子間力顕微鏡を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、後述する式（１）により算出される表面積比ΔＳが２０％以上である、（１）に記載の平版印刷版原版。
（１４）　表面積比が４５％以上である、（１３）に記載の平版印刷版原版。
（１５）　平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が７％以下である、（１３）に記載の平版印刷版原版。
（１６）　平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が７％以下であり、表面積比が４５％以上である、（１３）に記載の平版印刷版原版。
（１７）　非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が１０％以下であり、
　非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．２０μｍ以上である凹部の密度が６０００個／ｍｍ２以上であり、
　原子間力顕微鏡を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、後述する式（１）により算出される表面積比ΔＳが４５％以上である、（１）に記載の平版印刷版原版。
（１８）　接触式表面粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を測定して得られる表面粗さＲａが、０．４５μｍ以下である、（１）～（１７）のいずれかに記載の平版印刷版原版。
（１９）　陽極酸化皮膜がマイクロポアを有し、
　マイクロポアが、陽極酸化皮膜表面から深さ１０～１０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０～２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
　大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径が１５～６０ｎｍであり、
　小径孔部の連通位置における平均径が大径孔部の平均径より小さい、（１）～（１８）のいずれかに記載の平版印刷版原版。
（２０）　（１）～（１９）のいずれかに記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
　画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、平版印刷版の製造方法。
（２１）　（１）～（１９）のいずれかに記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
　印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。
（２２）　（１）～（１９）のいずれかに記載の平版印刷版原版に用いるアルミニウム支持体の製造方法であって、
　アルミニウム板に対して、硫酸を含んでいてもよい塩酸処理液中にて、塩酸処理液の液温が３０℃以下で、電気量の総和が４００Ｃ／ｄｍ２以下で、かつ、交流電流波形のピーク電流値が８０Ａ／ｄｍ２以下で、交流電解を施し、粗面化されたアルミニウム板を作製する塩酸電解処理工程を有し、
　塩酸処理液が硫酸を含む場合には、塩酸の含有量に対する硫酸の含有量の比が、０．１以下である、
　アルミニウム支持体の製造方法。
（２３）　塩酸電解処理工程の後に、
　粗面化されたアルミニウム板に対して、陽極酸化処理を施し、アルミニウム板上にアルミニウムの陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理工程と、
　陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム板に対して、エッチング処理を施し、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させるポアワイド処理工程と、
　をこの順で有する、（２２）に記載のアルミニウム支持体の製造方法。
　本発明によれば、平版印刷版としたときに油性クリーナー耐刷性に優れる、平版印刷版原版を提供できる。
　また、本発明によれば、平版印刷版の製造方法、印刷方法、および、アルミニウム支持体の製造方法を提供できる。
本発明の平版印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。 アルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 アルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。 アルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。 アルミニウム支持体の他の実施形態の模式的断面図である。 アルミニウム支持体の作製における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換または無置換を記していない場合、その基がさらに置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、その基は、無置換の基のみならず、置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Ｒはアルキル基、アリール基または複素環基を表す」との記載があれば、「Ｒは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基または置換複素環基を表す」ことを意味する。
　本発明の平版印刷版原版の第１実施態様は、アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、画像記録層が、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置され、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部の密度が４０００個／ｍｍ２以上である、平版印刷版原版である。
　本発明の平版印刷版原版の第２実施態様は、アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、画像記録層が、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置され、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が２０％以下である、平版印刷版原版である。
　第１実施態様において所定の深さの凹部の密度が規定されているのに対して、第２実施態様において所定の高さの凸部の面積率が規定されている点で、両者は異なる。
　以下では、まず、それぞれの実施態様の特徴点である、第１実施態様の所定の深さの凹部の密度、および、第２実施態様の所定の高さの凸部の面積率について説明する。
［凹部の密度］
　本発明の平版印刷版原版の第１実施態様においては、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部（以下、「第１特定凹部」ともいう。）の密度が４０００個／ｍｍ２以上である。
　中でも、油性クリーナー耐刷性がより優れる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、第１特定凹部の密度は６０００個／ｍｍ２以上が好ましく、８０００個／ｍｍ２以上がより好ましい。第１特定凹部の密度の上限は特に制限されないが、２００００個／ｍｍ２以下が好ましく、１６０００個／ｍｍ２以下がより好ましい。
　本発明において、第１特定凹部の密度は、以下のようにして測定した値をいう。
　まず、非接触三次元粗さ計（ＶｅｒｔＳｃａｎ、（株）菱化システム製）を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を、非接触で、分解能０．０１μｍで走査して３次元データを求める。なお、上記ＶｅｒｔＳｃａｎの装置内容および測定条件は以下の通りである。
（１）装置内容
　ＣＣＤカメラ：Ｓｏｎｙ　ＨＲ－５７
　対物レンズ：×１０
　鏡筒：×１
　波長フィルター：５３０ｗｈｉｔｅ
（２）測定条件
　測定モード：ｗａｖｅ
　視野レンジ：４００μｍ×４００μｍ
　スキャンレンジ：スタート＋６μｍ、ストップ－１０μｍ
　次いで、得られた３次元データをソフトウェア（ＳＸビュア、（株）菱化システム製）を用いて画像解析し、「完全補間」→「面補正多項式」→「二次」→「粒子解析」を選択して、得られる平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部の個数を求める。なお、平均面とは、測定領域（４００μｍ×４００μｍ）内におけるアルミニウム支持体の画像記録層側の表面の全測定データの高さ値を平均した高さに位置する面を意図する。
　測定は１サンプルにつき５箇所測定し、それぞれの箇所において所定の凹部の個数を算出して、その後、それらの平均値を求め、単位面積（μｍ２）当たりの個数に換算し、第１特定凹部の密度とする。
［凸部の面積率］
　本発明の平版印刷版原版の第２実施態様においては、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部（以下、「特定凸部」ともいう。）の面積率が２０％以下である。
　中でも、本発明の効果がより優れる点で、特定凸部の面積率は１３％以下が好ましく、１０％以下がより好ましく、８％以下がさらに好ましく、７％以下が特に好ましく、３％未満がより特に好ましく、２％以下が最も好ましい。特定凸部の面積率の下限は特に制限されないが、０％以上が好ましく、０．２％以上がより好ましい。
　本発明において、特定凸部の面積率は、以下のようにして測定した値をいう。
　まず、非接触三次元粗さ計（ＶｅｒｔＳｃａｎ、（株）菱化システム製）を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を、非接触で、分解能０．０１μｍで走査して３次元データを求める。なお、上記ＶｅｒｔＳｃａｎの装置内容および測定条件は以下の通りである。
（１）装置内容
　ＣＣＤカメラ：Ｓｏｎｙ　ＨＲ－５７
　対物レンズ：×１０
　鏡筒：×１
　波長フィルター：５３０ｗｈｉｔｅ
（２）測定条件
　測定モード：ｗａｖｅ
　視野レンジ：４００μｍ×４００μｍ
　スキャンレンジ：スタート＋６μｍ、ストップ－１０μｍ
　次いで、得られた３次元データをソフトウェア（ＳＸビュア、（株）菱化システム製）を用いて画像解析し、得られる平均面からの深さが０．８０μｍ以上である凸部を抽出し、４００μｍ×４００μｍの範囲における凸部の面積率を求める。
　測定は１サンプルにつき５箇所測定し、それぞれの箇所において所定の凸部の面積率を算出して、その後、それらの平均値を求め、特定凸部の面積率とする。
　なお、上述した本発明の平版印刷版原版の第１実施態様において、特定凸部の面積率は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２０％以下が好ましい。つまり、本発明の平版印刷版原版の第１実施態様において、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、第１特定凹部の密度が４０００個／ｍｍ２以上であり、かつ、特定凸部の面積率が２０％以下であってもよい。
　本発明の平版印刷版原版の第１実施態様における特定凸部の面積率は、本発明の効果がより優れる点で、１３％以下が好ましく、１０％以下がより好ましく、８％以下がさらに好ましく、７％以下が特に好ましい。特定凸部の面積率の下限は特に制限されないが、０％以上が好ましく、０．３％以上がより好ましい。
　また、上述した本発明の平版印刷版原版の第２実施態様において、第１特定凹部の密度は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、４０００個／ｍｍ２以上が好ましい。つまり、本発明の平版印刷版原版の第２実施態様において、特定凸部の面積率が２０％以下であり、かつ、第１特定凹部の密度が４０００個／ｍｍ２以上であってもよい。
　本発明の平版印刷版原版の第２実施態様における第１特定凹部の密度は、本発明の効果がより優れる点で、６０００個／ｍｍ２以上が好ましく、８０００個／ｍｍ２以上がより好ましい。第１特定凹部の密度の上限は特に制限されないが、２００００個／ｍｍ２以下が好ましく、１６０００個／ｍｍ２以下がより好ましい。
　以下、本発明の平版印刷版原版の構成についてより詳細に詳述するが、特段の記載がない限り、以下で説明する構成は上述した第１実施態様および第２実施態様の両方に関連する構成である。
［凹部の密度］
　本発明の平版印刷版原版（第１実施態様および第２実施態様）において、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．２０μｍ以上である凹部（以下、単に「第２特定凹部」ともいう。）の密度は特に制限されないが、３０００個／ｍｍ２以上の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、６０００個／ｍｍ２以上が好ましく、８０００個／ｍｍ２以上がより好ましい。第２特定凹部の密度の上限は特に制限されないが、２００００個／ｍｍ２以下が好ましく、１６０００個／ｍｍ２以下がより好ましい。
　上記第２特定凹部の測定方法は、まず、上述した第１特定凹部の密度の測定と同様の非接触三次元粗さ計（ＶｅｒｔＳｃａｎ、（株）菱化システム製）を用いて同様の条件にて測定を行い、得られた３次元データをソフトウェア（ＳＸビュア、（株）菱化システム製）を用いて画像解析し、得られる平均面からの深さが０．２０μｍ以上である凹部の個数を求める。
　測定は１サンプルにつき５箇所測定し、それぞれの箇所において所定の凹部の個数を算出して、その後、それらの平均値を求め、単位面積（μｍ２）当たりの個数に換算し、第２特定凹部の密度とする。
［表面積比ΔＳ］
　本発明の平版印刷版原版（第１実施態様および第２実施態様）において、原子間力顕微鏡を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、下記式（１）により算出される表面積比ΔＳが、本発明の効果がより優れる点で、２０％以上であることが好ましく、２５％以上であることがより好ましく、３５％以上であることがさらに好ましく、４５％以上であることが特に好ましい。表面積比ΔＳの上限は特に制限されないが、７０％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましい。
　ΔＳ＝（Ｓｘ－Ｓ０）／Ｓ０×１００（％）　・・・（１）
　本発明において、表面積比ΔＳは、以下のようにして測定した値をいう。
　具体的には、アルミニウム支持体を１ｃｍ角の大きさに切り取って、ピエゾスキャナー上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、ＸＹ方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をＺ方向のピエゾの変位でとらえる。ピエゾスキャナーは、ＸＹ方向について１５０μｍ、Ｚ方向について１０μｍ、走査可能なものを使用する。カンチレバーは共振周波数１３０～２００ｋＨｚ、バネ定数７～２０Ｎ／ｍのもの（ＯＭＣＬ－ＡＣ２００－ＴＳ、オリンパス社製）を用い、ＤＦＭモード（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｏｄｅ）で測定する。また、求めた３次元データを最小二乗近似することにより試料のわずかな傾きを補正し基準面を求める。
　また、計測は、表面の２５×２５μｍを５１２×５１２点測定する。Ｘ方向の分解能は０．０５μｍ、Ｙ方向の分解能は、Ｙ方向は１．９μ、Ｚ方向の分解能は１ｎｍ、スキャン速度は１８μｍ／ｓｅｃとする。
［表面粗さＲａ］
　本発明の平版印刷版原版（第１実施態様および第２実施態様）において、接触式表面粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を測定して得られる表面粗さＲａは特に制限されないが、０．５０μｍ以下の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、０．４５μｍ以下が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３５μｍ以下がさらに好ましい。表面粗さＲａの下限は特に制限されないが、０．１μｍ以上が好ましく、０．１２μｍ以上がより好ましい。
　本発明において、表面粗さＲａ（算術平均粗さＲａ）とは、蝕針計で測定した粗さ曲線から、その中心線の方向に測定長さＬの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、それに直交する軸をＹ軸として、粗さ曲線をＹ＝ｆ（Ｘ）で表したとき、次の式で与えられた値をμｍ単位で表したものである（Ｌの決定および平均粗さの計測はＪＩＳ Ｂ ０６０１に従う）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　本発明の平版印刷版原版（第１実施態様および第２実施態様）の好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、特定凸部の面積率が１０％以下であり、第２特定凹部の密度が６０００個／ｍｍ２以上であり、かつ、上記表面積比ΔＳが４５％以上である、平版印刷版原版が挙げられる。
　本発明の平版印刷版原版（第１実施態様および第２実施態様）の他の好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、特定凸部の面積率が１０％以下であり、かつ、上記表面積比ΔＳが２０％以上である、平版印刷版原版が挙げられる。
　本発明の平版印刷版原版（第１実施態様および第２実施態様）の他の好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、特定凸部の面積率が１０％以下であり、かつ、上記表面積比ΔＳが４５％以上である、平版印刷版原版が挙げられる。
　本発明の平版印刷版原版（第１実施態様および第２実施態様）の他の好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、特定凸部の面積率が７％以下であり、かつ、上記表面積比ΔＳが２０％以上である、平版印刷版原版が挙げられる。
　本発明の平版印刷版原版（第１実施態様および第２実施態様）の他の好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、特定凸部の面積率が７％以下であり、かつ、上記表面積比ΔＳが４５％以上である、平版印刷版原版が挙げられる。
　また、本発明においては、視認性を向上させる点から、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面、すなわち、陽極酸化皮膜の表面の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値は、６８～９０が好ましく、７５～９０がより好ましい。
　また、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊の値は、－４～４が好ましく、ｂ＊の値は、－４～４が好ましい。
　ここで、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊、ａ＊およびｂ＊は、色彩色差計（例えば、ＣＲ－２２１、コニカミノルタ（株）製）を用いて、５回測定した際の平均値を採用する。
　図１は、本発明の平版印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。
　図１に示す平版印刷版原版１０は、アルミニウム支持体１２ａと、アルミニウム支持体１２ａ上に配置された画像記録層１６とを有しており、図１に示す通り、アルミニウム支持体１２ａと画像記録層１６との間に、さらに下塗り層１４を有していることが好ましい。
　図２は、アルミニウム支持体１２ａの一実施形態の模式的断面図である。アルミニウム支持体１２ａは、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０ａ（以下、単に「陽極酸化皮膜２０ａ」とも略す。）とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体１２ａ中の陽極酸化皮膜２０ａは、画像記録層１６側に位置する。つまり、平版印刷版原版１０は、アルミニウム板１８、陽極酸化皮膜２０ａ、下塗り層１４、および、画像記録層１６をこの順で有する。
　また、陽極酸化皮膜２０ａは、図２に示す通り、その表面からアルミニウム板１８側に向かってのびるマイクロポア２２ａを有していることが好ましい。なお、ここではマイクロポアという用語は、陽極酸化皮膜中のポアを表す一般的に使われる用語であり、ポアのサイズを規定するものではない。
　なお、後段で詳述するように、下塗り層１４は必須の構成ではなく、必要に応じて配置される層である。
　以下、平版印刷版原版１０の各構成について詳述する。
［アルミニウム板］
　アルミニウム板１８（アルミニウム支持体）は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。アルミニウム板１８としては、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウム（合金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムもしくは紙が挙げられる。
　アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素元素、鉄元素、マンガン元素、銅元素、マグネシウム元素、クロム元素、亜鉛元素、ビスマス元素、ニッケル元素、および、チタン元素等があり、合金中の異元素の含有量は１０質量％以下である。アルミニウム板１８としては、純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含むものでもよい。
　アルミニウム板１８としては、その組成が制限されるものではなく、公知公用の素材のもの（例えば、ＪＩＳ Ａ １０５０、ＪＩＳ Ａ １１００、ＪＩＳ Ａ ３１０３、および、ＪＩＳ Ａ ３００５）を適宜利用できる。
　また、アルミニウム板１８の幅は４００～２０００ｍｍ程度が好ましく、厚みはおよそ０．１～０．６ｍｍ程度が好ましい。この幅または厚みは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさ、および、ユーザーの希望により適宜変更できる。
［陽極酸化皮膜］
　陽極酸化皮膜２０ａは、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に一般的に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２ａを有していることが好ましい。マイクロポア２２ａは、画像記録層１６側の陽極酸化皮膜２０ａ表面（アルミニウム板１８側とは反対側の陽極酸化皮膜２０ａ表面）から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびる。
　陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径（平均開口径）は、１０～１５０ｎｍであることが好ましく、１０～１００ｎｍであることがより好ましい。中でも、耐汚れ性、および、画像視認性のバランスの点から、１５～１００ｎｍがさらに好ましく、１５～６０ｎｍが特に好ましく、２０～５０ｎｍがより特に好ましく、２５～４０ｎｍが最も好ましい。ポアの内部径は、表層よりも広がっても狭まっても同様の効果が得られる。
　マイクロポア２２ａの平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００×６００ｎｍ２の範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を測定し、平均した値である。
　なお、マイクロポア２２ａの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
　マイクロポア２２ａの深さは特に制限されないが、１０～３０００ｎｍが好ましく、５０～２０００ｎｍがより好ましく、３００～１６００ｎｍがさらに好ましい。
　なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ａの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上のマイクロポア２２ａの深さを測定し、平均した値である。
　マイクロポア２２ａの形状は特に制限されず、図２では、略直管状（略円柱状）であるが、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア２２ａの底部の形状は特に制限されず、曲面状（凸状）であっても、平面状であってもよい。
［下塗り層］
　下塗り層１４は、アルミニウム支持体１２ａと画像記録層１６との間に配置される層であり、両者の密着性を向上させる。なお、上述したように、下塗り層１４は、必要に応じて設けられる層であり、平版印刷版原版に含まれていなくてもよい。
　下塗り層の構成は特に制限されないが、耐刷性を維持しつつ、非画像部のインキ付着性を抑制する点から、ポリビニルホスホン酸を含有することが好ましい。
　ここで、ポリビニルホスホン酸としては、米国特許第３，２７６，８６８号明細書、同第４，１５３，４６１号明細書および同第４，６８９，２７２号明細書に開示されているものを用いることができる。
　下塗り層の構成は特に制限されないが、耐汚れ性および放置払い性が良好となる点から、ベタイン構造を含む化合物を含有することが好ましい。
　ここで、ベタイン構造とは、少なくとも１つのカチオンと少なくとも１つのアニオンとを有する構造をいう。なお、通常、カチオンの数とアニオンの数とは等しく、全体として中性であるが、本発明では、カチオンの数とアニオンの数とが等しくない場合は、電荷を打ち消すために、必要な量のカウンターイオンを有することも、ベタイン構造とする。
　ベタイン構造は、次に示す式（１）、式（２）、および、式（３）で表される構造のいずれかであることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式中、Ａ－はアニオンを有する構造を表し、Ｂ＋はカチオンを有する構造を表し、Ｌ０は連結基を表す。＊は、連結部位（連結位置）を表す。
　Ａ－は、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、および、ホスフィナート等のアニオンを有する構造を表すことが好ましく、Ｂ＋は、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、および、スルホニウム等のカチオンを有する構造を表すことが好ましい。
　Ｌ０は、連結基を表す。式（１）および式（３）においては、Ｌ０としては二価の連結基が挙げられ、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが好ましい。式（２）においては、Ｌ０としては三価の連結基が挙げられる。
　上記連結基は、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数３０以下の連結基であることが好ましい。
　上記連結基の具体例としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０）、並びに、フェニレン基およびキシリレン基等のアリーレン基（好ましくは炭素数５～１５、より好ましくは炭素数６～１０）が挙げられる。
　なお、これらの連結基は、置換基をさらに有していてもよい。
　置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、および、ジアリールアミノ基が挙げられる。
　ベタイン構造としては、耐刷性、耐汚れ性、放置払い性、および、画像視認性の少なくとも１つがより優れる点で、式（ｉ）、式（ｉｉ）、または、式（ｉｉｉ）で表される構造が好ましく、式（ｉ）で表される構造がより好ましい。＊は、連結部位を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式（ｉ）において、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロ環基を表し、Ｒ１とＲ２とは互いに連結し、環構造を形成してもよい。
　環構造は、酸素原子等のヘテロ原子を有していてもよい。環構造としては、５～１０員環が好ましく、５または６員環がより好ましい。
　Ｒ１およびＲ２中の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　Ｒ１およびＲ２として、本発明の効果がより優れる点で、水素原子、メチル基、または、エチル基が好ましい。
　Ｌ１は、二価の連結基を表し、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、二価の脂肪族基（例えば、アルキレン基）、二価の芳香族基（例えば、フェニレン基）、または、それらの組み合わせが好ましい。
　Ｌ１としては、炭素数３～５の直鎖アルキレン基が好ましい。
　式（ｉ）において、Ａ－は、アニオンを有する構造を表し、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、または、ホスフィナートが好ましい。
　具体的には、以下の構造が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式（ｉ）において、Ｌ１が炭素数４または５の直鎖アルキレン基であり、かつ、Ａ－がスルホナートである組み合わせが好ましく、Ｌ１が炭素数４の直鎖アルキレン基であり、かつ、Ａ－がスルホナートである組み合わせがより好ましい。
　式（ｉｉ）において、Ｌ２は、二価の連結基を表し、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、二価の脂肪族基（例えば、アルキレン基）、二価の芳香族基（例えば、フェニレン基）、または、それらの組み合わせが好ましい。
　Ｂ＋は、カチオンを有する構造を表し、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、または、スルホニウムを有する構造が好ましい。中でも、アンモニウムまたはホスホニウムを有する構造が好ましく、アンモニウムを有する構造がより好ましい。
　カチオンを有する構造としては、例えば、トリメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、トリブチルアンモニオ基、ベンジルジメチルアンモニオ基、ジエチルヘキシルアンモニオ基、（２－ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニオ基、ピリジニオ基、Ｎ－メチルイミダゾリオ基、Ｎ－アクリジニオ基、トリメチルホスホニオ基、トリエチルホスホニオ基、および、トリフェニルホスホニオ基が挙げられる。
　式（ｉｉｉ）において、Ｌ３は二価の連結基を表し、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、二価の脂肪族基（例えば、アルキレン基）、二価の芳香族基（例えば、フェニレン基）、または、それらの組み合わせが好ましい。
　Ａ－は、アニオンを有する構造を表し、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、または、ホスフィナートが好ましく、その詳細および好ましい例は、式（ｉ）におけるＡ－と同様である。
　Ｒ３～Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基（好ましくは炭素数１～３０）を表し、Ｒ３～Ｒ７の少なくとも１つは、連結部位を表す。
　連結部位であるＲ３～Ｒ７の少なくとも１つは、Ｒ３～Ｒ７の少なくとも１つとしての置換基を介して化合物中の他の部位へ連結してもよいし、単結合により化合物中の他の部位へ直結してもよい。
　Ｒ３～Ｒ７で表される置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、並びに、シリル基が挙げられる。
　上記化合物は、本発明の効果がより優れる点で、ベタイン構造を有する繰り返し単位を含む高分子（以後、単に「特定高分子」とも称する）であることが好ましい。ベタイン構造を有する繰り返し単位としては、式（Ａ１）で表される繰り返し単位が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式中、Ｒ１０１～Ｒ１０３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。Ｌは、単結合、または、二価の連結基を表す。
　二価の連結基としては、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが挙げられる。
　上記組み合わせからなるＬの具体例を、以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がＸに結合する。
    Ｌ１：－ＣＯ－Ｏ－二価の脂肪族基－
    Ｌ２：－ＣＯ－Ｏ－二価の芳香族基－
    Ｌ３：－ＣＯ－ＮＨ－二価の脂肪族基－
    Ｌ４：－ＣＯ－ＮＨ－二価の芳香族基－
    Ｌ５：－ＣＯ－二価の脂肪族基－
    Ｌ６：－ＣＯ－二価の芳香族基－
    Ｌ７：－ＣＯ－二価の脂肪族基－ＣＯ－Ｏ－二価の脂肪族基－
    Ｌ８：－ＣＯ－二価の脂肪族基－Ｏ－ＣＯ－二価の脂肪族基－
    Ｌ９：－ＣＯ－二価の芳香族基－ＣＯ－Ｏ－二価の脂肪族基－
  Ｌ１０：－ＣＯ－二価の芳香族基－Ｏ－ＣＯ－二価の脂肪族基－
  Ｌ１１：－ＣＯ－二価の脂肪族基－ＣＯ－Ｏ－二価の芳香族基－
  Ｌ１２：－ＣＯ－二価の脂肪族基－Ｏ－ＣＯ－二価の芳香族基－
  Ｌ１３：－ＣＯ－二価の芳香族基－ＣＯ－Ｏ－二価の芳香族基－
  Ｌ１４：－ＣＯ－二価の芳香族基－Ｏ－ＣＯ－二価の芳香族基－
  Ｌ１５：－ＣＯ－Ｏ－二価の芳香族基－Ｏ－ＣＯ－ＮＨ－二価の脂肪族基－
  Ｌ１６：－ＣＯ－Ｏ－二価の脂肪族基－Ｏ－ＣＯ－ＮＨ－二価の脂肪族基－
　二価の脂肪族基としては、アルキレン基、アルケニレン基、および、アルキニレン基が挙げられる。
　二価の芳香族基としては、アリール基が挙げられ、フェニレン基またはナフチレン基が好ましい。
　Ｘは、ベタイン構造を表す。Ｘは、上述した式（ｉ）、式（ｉｉ）、または、式（ｉｉｉ）で表される構造が好ましい。
　特に、式（Ａ１）においては、ＬはＬ１またはＬ３であり、Ｘは式（ｉ）で表される構造であり、式（ｉ）中のＡ－がスルホナート基である組み合わせが好ましい。
　特定高分子中におけるベタイン構造を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されず、２０～９５質量％の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、５０～９５質量％が好ましく、６０～９０質量％がより好ましい。
　特定高分子は、上記ベタイン構造を有する繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
　特定高分子は、アルミニウム支持体１２ａの表面と相互作用する構造（以後、単に「相互作用構造」とも称する）を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。
　相互作用構造としては、例えば、カルボン酸構造、カルボン酸塩構造、スルホン酸構造、スルホン酸塩構造、ホスホン酸構造、ホスホン酸塩構造、リン酸エステル構造、リン酸エステル塩構造、β－ジケトン構造、および、フェノール性水酸基が挙げられ、例えば、下記に示す式で表される構造が挙げられる。中でも、カルボン酸構造、カルボン酸塩構造、スルホン酸構造、スルホン酸塩構造、ホスホン酸構造、ホスホン酸塩構造、リン酸エステル構造、または、リン酸エステル塩構造が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記式中、Ｒ１１～Ｒ１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、または、アルケニル基を表し、Ｍ、Ｍ１およびＭ２は、それぞれ独立に、水素原子、金属原子（例えば、Ｎａ，Ｌｉ等のアルカリ金属原子）、または、アンモニウム基を表す。Ｂは、ホウ素原子を表す。
　相互作用構造を有する繰り返し単位は、式（Ａ２）で表される繰り返し単位が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　式中、Ｒ２０１～Ｒ２０３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１～６）、または、ハロゲン原子を表す。
　Ｌは、単結合、または、二価の連結基を表す。二価の連結基としては、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが挙げられる。
　組み合わせからなるＬの具体例としては、上記式（Ａ１）と同じもの、および、下記Ｌ１７およびＬ１８が挙げられる。
  Ｌ１７：－ＣＯ－ＮＨ－
  Ｌ１８：－ＣＯ－Ｏ－
　Ｌ１～Ｌ１８の中では、Ｌ１～Ｌ４、Ｌ１７、または、Ｌ１８が好ましい。
　Ｑは相互作用構造を表し、好ましい態様は上述したものと同じである。
　特定高分子中における相互作用構造を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、１～４０質量％が好ましく、３～３０質量％がより好ましい。
　特定高分子は、ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。
　ラジカル重合性反応性基としては、付加重合可能な不飽和結合基（例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、（メタ）アクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基、および、アルキニル基）、および、連鎖移動が可能な官能基（メルカプト基等）が挙げられる。
　ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含む特定高分子は、特開２００１－３１２０６８号公報に記載の方法でラジカル重合性反応性基を導入することで得ることができる。ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含む特定高分子を用いることにより、未露光部では優れた現像性を発現し、露光部では重合によって現像液の浸透性が抑制され、アルミニウム支持体１２ａと画像記録層１６との間の接着性および密着性がさらに向上する。
　特定高分子中におけるラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、１～３０質量％が好ましく、３～２０質量％がより好ましい。
　下塗り層１４中における上記ベタイン構造を有する化合物の含有量は特に制限されないが、下塗り層全質量に対して、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましい。上限としては、１００質量％が挙げられる。
　なお、上記では、ベタイン構造を有する化合物を含む下塗り層１４について述べたが、下塗り層は他の化合物を含む形態であってもよい。
　例えば、下塗り層は、親水性基を有する化合物を含む形態であってもよい。親水性基としては、カルボン酸基、スルホン酸基等が挙げられる。
　親水性基を有する化合物は、さらに、ラジカル重合性反応性基を有していてもよい。
［画像記録層］
　画像記録層１６としては、印刷インキおよび／または湿し水により除去可能な画像記録層であることが好ましい。
　以下、画像記録層１６の各構成成分について説明する。
＜赤外線吸収剤＞
　画像記録層１６は、赤外線吸収剤を含むことが好ましい。
　赤外線吸収剤は、７５０～１４００ｎｍの波長域に極大吸収を有することが好ましい。特に、機上現像型の平版印刷版原版では、白灯下の印刷機で機上現像される場合があるため、白灯の影響の受けにくい７５０～１４００ｎｍの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤を用いることにより、現像性に優れた平版印刷版原版を得ることができる。
　赤外線吸収剤としては、染料または顔料が好ましい。
　染料としては、市販の染料、および、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知の染料が挙げられる。
　染料としては、具体的には、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、および、インドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素またはインドレニンシアニン色素が好ましく、シアニン色素がより好ましく、下記式（ａ）で表されるシアニン色素がさらに好ましい。
　式（ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式（ａ）中、Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、－Ｎ（Ｒ９）（Ｒ１０）、－Ｘ２－Ｌ１、または、以下に示す基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基、アルキル基、または、水素原子を表し、Ｒ９とＲ１０とが互いに結合して環を形成してもよい。中でも、フェニル基が好ましい。
　Ｘ２は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｌ１はヘテロ原子（Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅ）を含んでいてもよい炭素数１～１２の炭化水素基を表す。
　Ｘａ －は後述するＺａ －と同様に定義され、Ｒａは、水素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、また、ハロゲン原子を表す。
　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１２の炭化水素基を表す。また、Ｒ１とＲ２とは互いに結合し環を形成してもよく、環を形成する際は５員環または６員環を形成していることが好ましい。
　Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基（例えば、アルキル基）を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基またはナフタレン環基が好ましい。
　Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、硫黄原子または炭素数１２個以下のジアルキルメチレン基を表す。
　Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、置換基（例えば、アルコキシ基）を有していてもよい炭素数２０個以下の炭化水素基を表す。
　Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１２個以下の炭化水素基を表す。
　また、Ｚａ－は、対アニオンを表す。ただし、式（ａ）で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ－は必要ない。Ｚａ－としては、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、および、スルホン酸イオンが挙げられ、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、または、アリールスルホン酸イオンが好ましい。
　上記赤外線吸収染料は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落［００７２］～［００７６］に記載の化合物が好ましい。
　赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層１６全質量に対して、０．０５～３０質量％が好ましく、０．１～２０質量％がより好ましい。
＜重合開始剤＞
　画像記録層１６は、重合開始剤を含むことが好ましい。
　重合開始剤としては、光、熱またはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始する化合物（いわゆる、ラジカル重合開始剤）が好ましい。重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられる。
　重合開始剤としては、具体的には、特開２００９－２５５４３４号公報の段落［０１１５］～［０１４１］に記載される重合開始剤が使用できる。
　なお、重合開始剤として、反応性および安定性の点から、オキシムエステル化合物、または、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、および、スルホニウム塩等のオニウム塩が好ましい。
　重合開始剤の含有量は、画像記録層１６全質量に対して、０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましい。
＜重合性化合物＞
　画像記録層１６は、重合性化合物を含むことが好ましい。
　重合性化合物としては、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物が好ましい。中でも、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個（好ましくは２個）以上有する化合物がより好ましい。いわゆる、ラジカル重合性化合物がより好ましい。
　重合性化合物としては、例えば、特開２００９－２５５４３４号公報の段落［０１４２］～［０１６３］に例示される重合性化合物が使用できる。
　また、イソシアネートとヒドロキシル基との付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適である。その具体例としては、特公昭４８－０４１７０８号公報に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（Ａ）で示されるヒドロキシル基を含むビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含むビニルウレタン化合物等が挙げられる。
　ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ５）ＯＨ　　　（Ａ）
（ただし、Ｒ４およびＲ５は、ＨまたはＣＨ３を示す。）
　重合性化合物の含有量は、画像記録層１６全質量に対して、３～８０質量％が好ましく、１０～７５質量％がより好ましい。
＜バインダーポリマー＞
　画像記録層１６は、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
　バインダーポリマーとしては、公知のバインダーポリマーが挙げられる。バインダーポリマーとしては、具体的には、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、および、天然ゴムが挙げられる。
　バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
　バインダーポリマーとしては、例えば、特開２００９－２５５４３４号公報の段落［０１６５］～［０１７２］に開示されるバインダーポリマーを使用できる。
　バインダーポリマーの含有量は、画像記録層１６全質量に対して、５～９０質量％が好ましく、５～７０質量％がより好ましい。
＜界面活性剤＞
　画像記録層１６は、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために、界面活性剤を含んでいてもよい。
　界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、および、フッ素系界面活性剤が挙げられる。
　界面活性剤としては、例えば、特開２００９－２５５４３４号公報の段落［０１７５］～［０１７９］に開示される界面活性剤を使用できる。
　界面活性剤の含有量は、画像記録層１６全質量に対して、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。
＜発色剤＞
　画像記録層１６は、発色剤を含むことが好ましく、酸発色剤を含むことがより好ましい。
　本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色または消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色または消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、および、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環もしくは開裂する無色の化合物が好ましい。
　このような酸発色剤の例としては、３，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド（“クリスタルバイオレットラクトン”と称される。）、３，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）フタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（１，２－ジメチルインドール－３－イル）フタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１，２－ジメチルインドール－３－イル）－５－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（１，２－ジメチルインドール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（９－エチルカルバゾール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（２－フェニルインドール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（１－メチルピロール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、
　３，３－ビス〔１，１－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３，３－ビス〔１，１－ビス（４－ピロリジノフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラブロモフタリド、３，３－ビス〔１－（４－ジメチルアミノフェニル）－１－（４－メトキシフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３，３－ビス〔１－（４－ピロリジノフェニル）－１－（４－メトキシフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３－〔１，１－ジ（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）エチレン－２－イル〕－３－（４－ジエチルアミノフェニル）フタリド、３－〔１，１－ジ（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）エチレン－２－イル〕－３－（４－Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルアミノフェニル）フタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３－（２－メチル－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド等のフタリド類、
　４，４－ビス－ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、Ｎ－ハロフェニル－ロイコオーラミン、Ｎ－２，４，５－トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン－Ｂ－アニリノラクタム、ローダミン－（４－ニトロアニリノ）ラクタム、ローダミン－Ｂ－（４－クロロアニリノ）ラクタム、３，７－ビス（ジエチルアミノ）－１０－ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、４－ニトロベンゾイルメチレンブルー、
　３，６－ジメトキシフルオラン、３－ジメチルアミノ－７－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－クロロフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－ジエチルアミノ－６，７－ジメチルフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ブチルアミノ－７－メチルフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－ジベンジルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－オクチルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－ジ－ｎ－ヘキシルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’－フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（３’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’，３’－ジクロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（３’－トリフルオロメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’－フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－Ｎ－イソペンチル－Ｎ－エチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、
　３－Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－エチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－６－クロロ－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－クロロ－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メトキシ－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－エトキシ－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－モルホリノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジメチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ペンチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－プロピル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－プロピル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソブチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソブチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソペンチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－プロピルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ヘキシルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－オクチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、
　３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－イソブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－エトキシエチル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－エトキシエチル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－メトキシプロピル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－メトキシプロピル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－エトキシプロピル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－エトキシプロピル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－テトラヒドロフルフリル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（４’－メチルフェニル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－エチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－（３’－メチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、２，２－ビス〔４’－（３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチルフルオラン）－７－イルアミノフェニル〕プロパン、３－〔４’－（４－フェニルアミノフェニル）アミノフェニル〕アミノ－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－〔４’－（ジメチルアミノフェニル）〕アミノ－５，７－ジメチルフルオラン等のフルオラン類、
　３－（２－メチル－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－ｎ－プロポキシカルボニルアミノ－４－ジ－ｎ－プロピルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－メチルアミノ－４－ジ－ｎ－プロピルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－メチル－４－ジｎ－ヘキシルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４，７－ジアザフタリド、３，３－ビス（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－４－アザフタリド、３，３－ビス（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４または７－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４または７－アザフタリド、３－（２－ヘキシルオキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４または７－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－フェニルインドール－３－イル）－４または７－アザフタリド、３－（２－ブトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－フェニルインドール－３－イル）－４または７－アザフタリド３－メチル－スピロ－ジナフトピラン、３－エチル－スピロ－ジナフトピラン、３－フェニル－スピロ－ジナフトピラン、３－ベンジル－スピロ－ジナフトピラン、３－メチル－ナフト－（３－メトキシベンゾ）スピロピラン、３－プロピル－スピロ－ジベンゾピラン－３，６－ビス（ジメチルアミノ）フルオレン－９－スピロ－３’－（６’－ジメチルアミノ）フタリド、３，６－ビス（ジエチルアミノ）フルオレン－９－スピロ－３’－（６’－ジメチルアミノ）フタリド等のフタリド類、
　その他、２’－アニリノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－イソペンチル）アミノ－３’－メチルスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン－３－オン、２’－アニリノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－（４－メチルフェニル））アミノ－３’－メチルスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン、３’－Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ－６’－Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン、２’－（Ｎ－メチル－Ｎ－フェニル）アミノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－（４－メチルフェニル））アミノスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン等が挙げられる。
　中でも、本開示に用いられる発色剤は、発色性の点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、および、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
　発色後の色素の色相としては、可視性の点から、緑、青または黒であることが好ましい。
　また、上記酸発色剤は、発色性、および、露光部の視認性の点から、ロイコ色素であることが好ましい。
　上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
　また、上記ロイコ色素としては、発色性、および、露光部の視認性の点から、フタリド構造またはフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
　更に、上記フタリド構造またはフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、および、露光部の視認性の点から、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式（Ｌｅ－２）で表される化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧは、それぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ５～Ｘ１０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基を表し、Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、ＣまたはＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、および、露光部の視認性の点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、または、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、または、アリーロキシ基であることがより好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基またはモノアリールモノヘテロアリールアミノ基であることがさらに好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
　また、上記ＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、および、露光部の視認性の点から、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基または少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基を有する二置換アミノ基であることが好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基を有する二置換アミノ基であることがより好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基とアリール基またはヘテロアリール基とを有するアミノ基であることがさらに好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基と電子供与性基を有するアリール基または電子供与性基を有するヘテロアリール基とを有するアミノ基であることが特に好ましい。
　なお、本開示において、フェニル基以外のアリール基またはヘテロアリール基におけるオルト位は、アリール基またはヘテロアリール基の他の構造との結合位置を１位とした場合の上記１位の隣の結合位置（例えば、２位等）を言うものとする。
　さらに、上記アリール基またはヘテロアリール基が有する電子供与性基としては、発色性、および、露光部の視認性の点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、または、アルキル基が好ましく、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、または、アルキル基がより好ましく、アルコキシ基がさらに好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ１～Ｘ４は、それぞれ独立に、発色性、および、露光部の視認性の点から、水素原子、または、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　式（Ｌｅ－２）または式（Ｌｅ－３）におけるＸ５～Ｘ１０は、それぞれ独立に、発色性、および、露光部の視認性の点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヘテロアリーロキシカルボニル基またはシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、または、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、または、アリール基であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＹ１およびＹ２は、発色性、および、露光部の視認性の点から、少なくとも一方がＣであることが好ましく、Ｙ１およびＹ２の両方がＣであることがより好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲａ１は、発色性、および、露光部の視認性の点から、アルキル基またはアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立に、発色性、および、露光部の視認性の点から、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。
　また、上記フタリド構造またはフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、および、露光部の視認性の点から、下記式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式（Ｌｅ－５）で表される化合物であることがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）中、ＥＲＧは、それぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、ＣまたはＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
　式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）におけるＥＲＧ、Ｘ１～Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、および、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＥＲＧ、Ｘ１～Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、および、Ｒｂ１～Ｒｂ４と同義であり、好ましい態様も同様である。
　更に、上記フタリド構造またはフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、および、露光部の視認性の点から、下記式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）のいずれかで表される化合物であることがさらに好ましく、下記式（Ｌｅ－８）で表される化合物であることが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）中、Ｘ１～Ｘ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、ＣまたはＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１～Ｒａ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒｃ１およびＲｃ２は、それぞれ独立に、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＸ１～Ｘ４、Ｙ１およびＹ２は、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ１～Ｘ４、Ｙ１およびＹ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｌｅ－７）または式（Ｌｅ－９）におけるＲａ１～Ｒａ４は、それぞれ独立に、発色性、および、露光部の視認性の点から、アルキル基またはアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることがさらに好ましい。
　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立に、発色性、および、露光部の視認性の点から、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。
　式（Ｌｅ－８）におけるＲｃ１およびＲｃ２は、それぞれ独立に、発色性、および、露光部の視認性の点から、フェニル基、または、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
　また、式（Ｌｅ－８）におけるＲｃ１およびＲｃ２は、それぞれ独立に、発色性、および、露光部の視認性の点から、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基、または、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基であることが好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基であることがより好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するフェニル基であることがさらに好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基であることが特に好ましい。Ｒｃ１およびＲｃ２における上記置換基としては、後述する置換基が挙げられる。
　また、式（Ｌｅ－８）において、発色性、および、露光部の視認性の点から、Ｘ１～Ｘ４が水素原子であり、Ｙ１およびＹ２がＣであることが好ましい。
　更に、式（Ｌｅ－８）において、発色性、および、露光部の視認性の点から、Ｒｂ１およびＲｂ２がそれぞれ独立に、アルキル基またはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましい。
　更にまた、式（Ｌｅ－８）において、発色性、および、露光部の視認性の点から、Ｒｂ１およびＲｂ２がそれぞれ独立に、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、電子供与性基を有するアリール基であることがさらに好ましく、パラ位に電子供与性基を有するフェニル基であることが特に好ましい。
　また、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｒｃ１およびＲｃ２における上記電子供与性基としては、発色性、および、露光部の視認性の点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、または、アルキル基であることが好ましく、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、または、アルキル基であることがより好ましく、アルコキシ基であることがさらに好ましい。
　また、酸発色剤としては、発色性、および、露光部の視認性の点から、下記式（Ｌｅ－１０）で表される化合物を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式（Ｌｅ－１０）中、Ａｒ１は、それぞれ独立に、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ａｒ２は、それぞれ独立に、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基、または、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基を表す。
　式（Ｌｅ－１０）におけるＡｒ１は、式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ１およびＲｂ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｌｅ－１０）におけるＡｒ２は、式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｃ１およびＲｃ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
　また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、１～４であることがさらに好ましく、１または２であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、６～１０であることがより好ましく、６～８であることがさらに好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるアリール基として具体的には、置換基を有していてもよい、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、および、フェナントレニル基等が挙げられる。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるヘテロアリール基として具体的には、置換基を有していてもよい、フリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラゾイル基、および、チオフェニル基等が挙げられる。
　また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、および、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヘテロアリーロキシカルボニル基、および、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。
　好適に用いられる上記フタリド構造またはフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。なお、Ｍｅはメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ＥＴＡＣ、ＲＥＤ５００、ＲＥＤ５２０、ＣＶＬ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、ＢＬＵＥ２２０、Ｈ－３０３５、ＢＬＵＥ２０３、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４（以上、福井山田化学工業（株）製）、ＯＲＡＮＧＥ－ＤＣＦ、Ｖｅｒｍｉｌｉｏｎ－ＤＣＦ、ＰＩＮＫ－ＤＣＦ、ＲＥＤ－ＤＣＦ、ＢＬＭＢ、ＣＶＬ、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、ＴＨ－１０７（以上、保土ヶ谷化学（株）製）、ＯＤＢ、ＯＤＢ－２、ＯＤＢ－４、ＯＤＢ－２５０、ＯＤＢ－ＢｌａｃｋＸＶ、Ｂｌｕｅ－６３、Ｂｌｕｅ－５０２、ＧＮ－１６９、ＧＮ－２、Ｇｒｅｅｎ－１１８、Ｒｅｄ－４０、Ｒｅｄ－８（以上、山本化成（株）製）、クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製）等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ＥＴＡＣ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、Ｈ－３０３５、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、Ｂｌｕｅ－６３、ＧＮ－１６９、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。
　これらの発色剤は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
　発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．５～１０質量％であることが好ましく、１～５質量％であることがより好ましい。
　画像記録層１６は、さらに必要に応じて、上記以外の他の化合物を含んでいてもよい。
　他の化合物としては、特開２００９－２５５４３４号公報の段落［０１８１］～［０１９０］に開示される着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、および、低分子親水性化合物等が挙げられる。
　また、他の化合物としては、特開２０１２－１８７９０７号公報の段落［０１９１］～［０２１７］に開示される、疎水化前駆体（熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子）、低分子親水性化合物、感脂化剤（例えば、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー）、および、連鎖移動剤も挙げられる。
［その他の層］
　本発明の平版印刷版原版は、上述したアルミニウム支持体１２ａ、下塗り層１４、および、画像記録層１６以外の他の層を含んでいてもよい。
　例えば、画像記録層１６における傷等の発生防止、酸素遮断、および、高照度レーザー露光時のアブレーション防止のため、必要に応じて、画像記録層１６の上に保護層を含んでいてもよい。
　保護層に用いられる材料としては、例えば、特開２００９－２５５４３４号公報の段落［０２１３］～［０２２７］等に記載される材料（水溶性高分子化合物、無機質の層状化合物等）が挙げられる。
［アルミニウム支持体の製造方法］
　本発明の平版印刷版原版に用いられるアルミニウム支持体の製造方法は特に制限されないが、効率よく所定のアルミニウム支持体を製造できる点で、アルミニウム板に対して、硫酸を含んでいてもよい塩酸処理液中にて、塩酸処理液の液温が３０℃以下で、アルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が４００Ｃ／ｄｍ２以下で、交流電流波形のピーク電流値が８０Ａ／ｄｍ２以下で、交流電解を施し、粗面化されたアルミニウム板を作製する塩酸電解処理工程を有することが好ましい。
　なお、塩酸処理液が硫酸を含む場合には、塩酸の含有量に対する硫酸の含有量の比が、０．１以下であることが好ましい。
　また、本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上記塩酸電解処理工程後に、粗面化されたアルミニウム板に対して、陽極酸化処理を施し、アルミニウム板上にアルミニウムの陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理工程を有していることが好ましい。
　さらに、本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上記陽極酸化処理工程後に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム板に対して、エッチング処理を施し、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させるポアワイド処理工程を有していることが好ましい。
　以下、上述した各工程ならびに任意の処理について詳述する。
＜機械的粗面化処理＞
　本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、塩酸電解処理工程の前に、機械的粗面化処理を施していてもよい。
　機械的粗面化処理方法としては、例えば、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、特開平６－１３５１７５号公報および特公昭５０－０４００４７号公報に記載されているナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法を用いることができる。
＜塩酸電解処理工程＞
　本発明のアルミニウム支持体の製造方法が有する塩酸電解処理工程は、アルミニウム板に対して、硫酸を含んでいてもよい塩酸処理液中にて、塩酸処理液の液温が３０℃以下で、アルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が４００Ｃ／ｄｍ２以下で、交流電流波形のピーク電流値が８０Ａ／ｄｍ２以下で、交流電解を施し、粗面化されたアルミニウム板を作製する塩酸電解処理工程であることが好ましい。
　本発明においては、このような塩酸電解処理を施し、後述する陽極酸化処理を施すことにより、上述した平版印刷版原版（平版印刷版原版の第１実施態様および第２実施態様）を効率よく製造することができる。
　塩酸処理液中には塩酸が含まれており、塩酸濃度は、５～３０ｇ／Ｌであることが好ましく、１０～２０ｇ／Ｌであることがより好ましい。
　塩酸処理液は、硫酸を含んでいてもよい。塩酸処理液が硫酸を含む場合、塩酸処理液中の硫酸濃度は、２．０ｇ／Ｌ以下であることが好ましく、１．０ｇ／Ｌ以下であることがより好ましく、０．５ｇ／Ｌであることがさらに好ましい。塩酸処理液が硫酸を含む場合、塩酸処理液中の硫酸濃度の下限は特に制限されず、０ｇ／Ｌ超が挙げられる。
　塩酸処理液は、アルミニウムイオンを含んでいてもよい。塩酸処理液がアルミニウムイオンを含む場合、アルミニウムイオンの濃度は、１．０～３０．０ｇ／Ｌであることが好ましく、５．０～２０．０ｇ／Ｌであることがより好ましい。
　塩酸処理液が硫酸を含む場合、塩酸の含有量に対する硫酸の含有量の比が、０．１以下であることが好ましい。下限は特に制限されず、０超が挙げられる。
　塩酸処理液の液温が３０℃以下であり、２６℃以下が好ましく、２３℃以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０℃以上が好ましく、１５℃以上がより好ましい。
　本発明においては、電気量の総和（塩酸電解処理が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和）は、４００Ｃ／ｄｍ２以下が好ましく、３５０Ｃ／ｄｍ２以下がより好ましい。電気量の総和の下限は特に制限されないが、５０Ｃ／ｄｍ２以上が好ましく、１００Ｃ／ｄｍ２以上がより好ましい。
　交流電流波形のピーク電流値は、８０Ａ／ｄｍ２以下が好ましく、７０Ａ／ｄｍ２以下がより好ましい。上記ピーク電流値は、１０Ａ／ｄｍ２以上が好ましく、２０Ａ／ｄｍ２以上がより好ましい。
　塩酸電解処理の交流電流波形は、サイン波、矩形波、台形波、および、三角波等を用いることができる。周波数は０．１～２５０Ｈｚが好ましい。
　図３は、塩酸電解処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
　図３において、ｔａはアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐは電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流である。台形波において、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐは１～１０ｍｓｅｃが好ましい。塩酸電解処理に用いる交流の１サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間ｔａとカソード反応時間ｔｃの比ｔｃ／ｔａが１～２０、アルミニウム板がアノード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量Ｑａの比Ｑｃ／Ｑａが０．３～２０、アノード反応時間ｔａが５～１０００ｍｓｅｃ、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ｉａ、カソードサイクル側Ｉｃともに上述した範囲（８０Ａ／ｄｍ２以下）であることが好ましい。
　交流を用いた塩酸電解処理には図４に示した装置を用いることができる。
　図４は、交流を用いた塩酸電解処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
　図４において、５０は主電解槽、５１は交流電源、５２はラジアルドラムローラ、５３ａおよび５３ｂは主極、５４は電解液供給口、５５は電解液、５６はスリット、５７は電解液通路、５８は補助陽極、６０は補助陽極槽、Ｗはアルミニウム板である。電解槽を２つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
　アルミニウム板Ｗは主電解槽５０中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ５２に巻装され、搬送過程で交流電源５１に接続する主極５３ａおよび５３ｂにより電解処理される。電解液５５は、電解液供給口５４からスリット５６を通じてラジアルドラムローラ５２と主極５３ａおよび５３ｂとの間の電解液通路５７に供給される。主電解槽５０で処理されたアルミニウム板Ｗは、次いで、補助陽極槽６０で電解処理される。この補助陽極槽６０には補助陽極５８がアルミニウム板Ｗと対向配置されており、電解液５５が補助陽極５８とアルミニウム板Ｗとの間の空間を流れるように供給される。
＜アルカリエッチング処理＞
　本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上述した機械的粗面化処理を施した場合の機械的粗面化処理の後や、上述した塩酸電解処理工程の前後に、アルカリエッチング処理を施すことが好ましい。
　なお、塩酸電解処理より前に行われるアルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行っていない場合には、アルミニウム基材（圧延アルミ）の表面の圧延油、汚れ、および、自然酸化皮膜等を除去することを目的として、また、既に機械的粗面化処理を行っている場合には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解させ、急峻な凹凸を滑らかなうねりを持つ表面に変えることを目的として行われる。
　アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行わない場合、エッチング量は、０．１～１０ｇ／ｍ２であるのが好ましく、１～５ｇ／ｍ２であるのがより好ましい。エッチング量が１～１０ｇ／ｍ２であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等の除去が十分に行われる。
　アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行う場合、エッチング量は、３～２０ｇ／ｍ２であるのが好ましく、５～１５ｇ／ｍ２であるのがより好ましい。
　塩酸電解処理の直後に行うアルカリエッチング処理は、酸性電解液中で生成したスマットを溶解させることと、塩酸電解処理により形成された凹凸のエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。塩酸電解処理で形成される凹凸は電解液の種類によって異なるためにその最適なエッチング量も異なるが、塩酸電解処理後に行うアルカリエッチング処理のエッチング量は、０～０．５ｇ／ｍ２であることが好ましく、０～０．３ｇ／ｍ２であることがより好ましい。
　アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、および、アルカリ金属塩が挙げられる。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。
　アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、１～５０質量％が好ましく、１０～３５質量％がより好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解している場合には、アルミニウムイオンの濃度は、０．０１～１０質量％が好ましく、３～８質量％がより好ましい。アルカリ溶液の温度は２０～９０℃が好ましい。処理時間は０～１２０秒が好ましい。
　アルミニウム基材をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム基材をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム基材をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、および、アルカリ溶液をアルミニウム基材の表面に噴きかける方法が挙げられる。
＜デスマット処理＞
　本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、塩酸電解処理またはアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する腐食性生物を除去するために酸洗い（デスマット処理）が行われるのが好ましい。
　用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、および、塩酸等が一般的であるが、その他の酸を用いてもよい。
　上記デスマット処理は、例えば、上記アルミニウム基材を塩酸、硝酸、および、硫酸等の濃度０．５～３０質量％の酸性溶液（アルミニウムイオン０．０１～５質量％を含有する。）に接触させることにより行う。
　アルミニウム基材を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム基材を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム基材を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、および、酸性溶液をアルミニウム基材の表面に噴きかける方法が挙げられる。
　デスマット処理後のアルミニウム基材の表面状態は、その後の自然酸化皮膜成長に影響するため、酸の選択や、濃度、温度条件は、目的に応じて適宜選定される。
＜水洗処理＞
　本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上述した各処理の工程終了後には水洗を行うことが好ましい。特に工程最後に行う水洗は、その後の自然酸化皮膜成長に影響するため、純水、井水、水道水等を用い、十分に行う必要がある。
＜陽極酸化処理工程＞
　上記陽極酸化処理工程は、上述した塩酸電解処理工程後に、粗面化されたアルミニウム板に対して、陽極酸化処理を施し、アルミニウム板上にアルミニウムの陽極酸化皮膜を形成する工程である。
　ここで、上記陽極酸化処理工程の手順は、特に限定されず、公知の方法が挙げられる。
　陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、および、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、１００～３００ｇ／Ｌが挙げられる。
　陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温５～７０℃（好ましくは１０～６０℃）、電流密度０．５～６０Ａ／ｄｍ2（好ましくは５～６０Ａ／ｄｍ2）、電圧１～１００Ｖ（好ましくは５～５０Ｖ）、電解時間１～１００秒（好ましくは５～６０秒）、および、皮膜量０．１～５ｇ／ｍ2（好ましくは０．２～３ｇ／ｍ2）が挙げられる。
　本発明においては、アルミニウム支持体と画像記録層との密着性をより高くする点から、陽極酸化処理工程が、リン酸を用いて陽極酸化処理を施す工程であることが好ましい。
＜ポアワイド処理工程＞
　上記ポアワイド処理工程は、上述した陽極酸化処理工程後に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム板に対して、エッチング処理を施し、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる処理（孔径拡大処理）工程である。
　ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法およびスプレー法が挙げられる。
［平版印刷版原版の製造方法］
　上述した本発明の平版印刷版原版を製造する方法は、上述した本発明のアルミニウム支持体の製造方法に引き続き、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
（下塗り層形成工程）ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム支持体上に下塗り層を形成する工程
（画像記録層形成工程）下塗り層上に画像記録層を形成する工程
　以下、各工程の手順について詳述する。
＜下塗り層形成工程＞
　下塗り層形成工程は、ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム支持体上に下塗り層を形成する工程である。
　下塗り層の製造方法は特に制限されず、例えば、所定の化合物（例えば、ベタイン構造を有する化合物）を含む下塗り層形成用塗布液をアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜上に塗布する方法が挙げられる。
　下塗り層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
　下塗り層形成用塗布液の塗布方法としては、公知の種々の方法が挙げられる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、および、ロール塗布が挙げられる。
　下塗り層の塗布量(固形分)は、０．１～１００ｍｇ／ｍ２が好ましい。
＜画像記録層形成工程＞
　画像記録層形成工程は、下塗り層上に画像記録層を形成する工程である。
　画像記録層の形成方法は特に制限されず、例えば、所定の成分（上述した、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物等）を含む画像記録層形成用塗布液を下塗り層上に塗布する方法が挙げられる。
　画像記録層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
　画像記録層形成用塗布液の塗布方法は、下塗り層形成用塗布液の塗布方法として例示した方法が挙げられる。
　画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．３～３．０ｇ／ｍ２が好ましい。
　なお、画像記録層上に保護層を設ける場合、保護層の製造方法は特に制限されず、例えば、所定の成分を含む保護層形成用塗布液を画像記録層上に塗布する方法が挙げられる。
　上記実施形態において、陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａが略直管状の形態について述べたが、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が所定の範囲内であれば、マイクロポアは他の構造であってもよい。
　例えば、図５に示すように、アルミニウム支持体１２ｂが、アルミニウム板１８と、大径孔部２４と小径孔部２６とから構成されるマイクロポア２２ｂを有する陽極酸化皮膜２０ｂとを含む形態であってもよい。
　陽極酸化皮膜２０ｂ中のマイクロポア２２ｂは、陽極酸化皮膜表面から深さ１０～１０００ｎｍ（深さＤ：図５参照）の位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置からさらに深さ２０～２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部２６とから構成される。
　以下に、大径孔部２４と小径孔部２６について詳述する。
　大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径は、上述した陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径と同じで、１０～１００ｎｍであることが好ましく、耐汚れ性、および、画像視認性のバランスの点から、１５～１００ｎｍがより好ましく、１５～６０ｎｍがさらに好ましく、２０～５０ｎｍが特に好ましく、２５～４０ｎｍが特に好ましい。
　大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。
　大径孔部２４の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ１０～１０００ｎｍ（以後、深さＤとも称する）に位置する。つまり、大径孔部２４は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向（厚み方向）に１０～１０００ｎｍのびる孔部である。上記深さは、１０～２００ｎｍが好ましい。
　なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上の大径孔部２４の深さを測定し、平均した値である。
　大径孔部２４の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、および、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
　小径孔部２６は、図５に示すように、大径孔部２４の底部と連通して、連通位置よりさらに深さ方向（厚み方向）に延びる孔部である。
　小径孔部２６の連通位置における平均径は、大径孔部の平均径より小さく、１３ｎｍ以下が好ましい。中でも、１１ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、５ｎｍ以上の場合が多い。
　小径孔部２６の平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００×６００ｎｍ２の範囲に存在するマイクロポア（小径孔部）の径（直径）を５０個測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０ｂ上部（大径孔部のある領域）を切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０ｂ表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
　なお、小径孔部２６の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
　小径孔部２６の底部は、上記の大径孔部２４との連通位置からさらに深さ方向に２０～２０００ｎｍのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部２６は、上記大径孔部２４との連通位置からさらに深さ方向（厚み方向）にのびる孔部であり、小径孔部２６の深さは２０～２０００ｎｍである。なお、上記深さは、５００～１５００ｎｍが好ましい。
　なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（５万倍）をとり、２５個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
　小径孔部２６の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、および、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
　なお、上記アルミニウム支持体１２ｂの製造方法は特に制限されないが、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
（塩酸電解処理工程）アルミニウム板に上述した塩酸電解処理を施す工程
（第１陽極酸化処理工程）粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
（ポアワイド処理工程）第１陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
（第２陽極酸化処理工程）ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム板を陽極酸化する工程
　各工程の手順は、公知の方法を参照できる。
　また、上記図１においては下塗り層１４を用いた態様について述べたが、上述したように、下塗り層は平版印刷版原版に含まれていてなくてもよい。
　下塗り層を設けない場合、アルミニウム支持体上に親水化処理を施した後、画像記録層を形成してもよい。
　親水化処理としては、特開２００５－２５４６３８号公報の段落［０１０９］～［０１１４］に開示される公知の方法が挙げられる。中でも、ケイ酸ソーダおよびケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬させる方法、または、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法により、親水化処理を行うのが好ましい。
　ケイ酸ソーダおよびケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第２，７１４，０６６号明細書および米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。
［平版印刷版の製造方法］
　次に、平版印刷版原版を用いて平版印刷版を製造する方法について記載する。
　平版印刷版の製造方法は、通常、平版印刷版原版を画像様に露光（画像露光）し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する工程とを有する。
　より具体的には、平版印刷版の製造方法の一つの態様は、平版印刷版原版を画像様に露光（画像露光）し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、ｐＨ２～１２の現像液により平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む平版印刷版の製造方法が挙げられる。
　また、平版印刷版の製造方法の他の一つの態様は、平版印刷版原版を画像様に露光（画像露光）し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する機上現像工程と、を含む平版印刷版の製造方法が挙げられる。
　以下、これらの態様について詳述する。
　平版印刷版の製造方法は、上記平版印刷版原版を、画像様に露光（画像露光）する工程を含む。画像露光は、例えば、線画像または網点画像を有する透明原画を通したレーザー露光、または、デジタルデータによるレーザー光走査で行われる。
　光源の波長は、７５０～１４００ｎｍが好ましい。波長７５０～１４００ｎｍの光を出射する光源の場合は、この波長域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を含む画像記録層が好ましく用いられる。
　波長７５０～１４００ｎｍの光を出射する光源としては、赤外線を放射する固体レーザーおよび半導体レーザーが挙げられる。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上が好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内が好ましく、照射エネルギー量は１０～３００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、および、フラットベッド方式のいずれでもよい。
　画像露光は、プレートセッター等を用いて常法により行うことができる。なお、後述する機上現像方式の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で平版印刷版原版の画像露光を行ってもよい。
　画像露光された平版印刷版原版は、ｐＨ２～１２の現像液により未露光部を除去する方式（現像液処理方式）、または、印刷機上で印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方により未露光部分を除去する方式（機上現像方式）で現像処理される。
＜現像液処理方式＞
　現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、ｐＨが２～１４の現像液により処理され、非露光部の画像記録層が除去されて平版印刷版が製造される。
　現像液としては、リン酸基、ホスホン酸基およびホスフィン酸基よりなる群から選ばれる少なくとも１つ以上の酸基と、１つ以上のカルボキシル基とを有する化合物（特定化合物）を含み、ｐＨが５～１０である現像液が好ましい。
　現像処理の方法としては、手処理の場合、例えば、スポンジまたは脱脂綿に現像液を十分に含ませ、平版印刷版原版全体を擦りながら処理し、処理終了後は十分に乾燥する方法が挙げられる。浸漬処理の場合は、例えば、現像液の入ったバットまたは深タンクに平版印刷版原版を約６０秒間浸して撹拌した後、脱脂綿またはスポンジ等で平版印刷版原版を擦りながら十分乾燥する方法が挙げられる。
　現像処理には、構造の簡素化、および、工程を簡略化した装置が用いられることが好ましい。
　従来の現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ性現像液により現像を行い、その後、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する。
　なお、現像およびガム引きを１液で同時に行うこともできる。ガムとしては、ポリマーが好ましく、水溶性高分子化合物、および、界面活性剤がより好ましい。
　さらに、前水洗工程も行うことなく、保護層の除去、現像およびガム引きを１液で同時に行うことが好ましい。また、現像およびガム引きの後に、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
　本処理は、上記現像液に１回浸漬する方法であってもよいし、２回以上浸漬する方法であってもよい。中でも、上記現像液に１回または２回浸漬する方法が好ましい。
　浸漬は、現像液が溜まった現像液槽中に露光済みの平版印刷版原版をくぐらせてもよいし、露光済みの平版印刷版原版の版面上にスプレー等から現像液を吹き付けてもよい。
　なお、現像液に２回以上浸漬する場合であっても、同じ現像液、または、現像液と現像処理により画像記録層の成分の溶解または分散した現像液（疲労液）とを用いて２回以上浸漬する場合は、１液での現像処理（１液処理）という。
　また、現像処理では、擦り部材を用いることが好ましく、画像記録層の非画像部を除去する現像浴には、ブラシ等の擦り部材が設置されることが好ましい。
　現像処理は、常法に従って、好ましくは０～６０℃、より好ましくは１５～４０℃の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る、または、外部のタンクに仕込んだ処理液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けてブラシで擦る等により行うことができる。これらの現像処理は、複数回続けて行うこともできる。例えば、外部のタンクに仕込んだ現像液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けてブラシで擦った後に、再度スプレーノズルから現像液を吹き付けてブラシで擦る等により行うことができる。自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量の増大により現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させることが好ましい。
　本開示における現像処理には、従来、ＰＳ版（Ｐｒｅｓｅｎｓｉｔｉｚｅｄ Ｐｌａｔｅ）およびＣＴＰ（コンピュータ・トゥ・プレート）用に知られているガムコーターおよび自動現像機も用いることができる。自動現像機を用いる場合、例えば、現像液槽に仕込んだ現像液、または、外部のタンクに仕込んだ現像液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けて処理する方式、現像液が満たされた槽中に液中ガイドロール等によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方式、および、実質的に未使用の現像液を一版毎に必要な分だけ供給して処理するいわゆる使い捨て処理方式のいずれの方式も適用できる。どの方式においても、ブラシおよびモルトン等によるこすり機構があるものがより好ましい。例えば、市販の自動現像機（Ｃｌｅａｎ　Ｏｕｔ　Ｕｎｉｔ　Ｃ８５／Ｃ１２５、Ｃｌｅａｎ－Ｏｕｔ　Ｕｎｉｔ＋　Ｃ８５／１２０、ＦＣＦ　８５Ｖ、ＦＣＦ　１２５Ｖ、ＦＣＦ　Ｎｅｗｓ（Ｇｌｕｎｚ　＆　Ｊｅｎｓｅｎ社製））、および、Ａｚｕｒａ　ＣＸ８５、Ａｚｕｒａ　ＣＸ１２５、Ａｚｕｒａ　ＣＸ１５０（ＡＧＦＡ　ＧＲＡＰＨＩＣＳ社製）を利用できる。また、レーザー露光部と自動現像機部分とが一体に組み込まれた装置を利用することもできる。
＜機上現像方式＞
　機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で印刷インキと湿し水とを供給することにより、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が製造される。
　即ち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像液処理を施すことなく、そのまま印刷機に装着するか、または、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、印刷インキと湿し水とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された印刷インキおよび／または湿し水によって、未露光部の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、印刷インキでもよく、湿し水でもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給することが好ましい。
　このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。つまり、本発明の印刷方法の一態様としては、平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程とを有する印刷方法が挙げられる。
　本発明に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の製造方法においては、現像方式を問わず、必要に応じて、画像露光前、画像露光中、または、画像露光から現像処理までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。
　以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により制限的に解釈されるべきものではない。
［アルミニウム支持体の製造］
　厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板（アルミニウム合金板）に対し、下記処理を施し、アルミニウム支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
［実施例１］
＜アルカリエッチング処理＞
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、および、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ２であった。
＜酸性水溶液を用いたデスマット処理＞
　次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。
＜電気化学的粗面化処理＞
　次に、塩酸濃度１３ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１５ｇ／Ｌ、および、硫酸濃度１．０ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は２５℃で行った。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
　交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で３５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で３００Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は７５Ｃ／ｄｍ2ずつ２．５秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
＜アルカリエッチング処理＞
　電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、および、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ２であった。その後、水洗処理を行った。
＜酸性水溶液を用いたデスマット処理＞
　次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液としては、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌおよびアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は、３５℃であった。
＜第１段階の陽極酸化処理＞
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。硫酸を含む電解液（水溶液）を用いて、表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。なお、表１中の「電解液濃度（ｇ／Ｌ）」欄は、硫酸の濃度を表す。
　図６に示す陽極酸化処理装置６１０において、アルミニウム板６１６は、図６中矢印で示すように搬送される。電解液６１８が貯溜された給電槽６１２にてアルミニウム板６１６は給電電極６２０によって（＋）に荷電される。そして、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２においてローラ６２２によって上方に搬送され、ニップローラ６２４によって下方に方向変換された後、電解液６２６が貯溜された電解処理槽６１４に向けて搬送され、ローラ６２８によって水平方向に方向転換される。次いで、アルミニウム板６１６は、電解電極６３０によって（－）に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽６１４を出たアルミニウム板６１６は後工程に搬送される。陽極酸化装置６１０において、ローラ６２２、ニップローラ６２４、およびローラ６２８によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２と電解処理槽６１４との槽間部において、ローラ６２２、ニップローラ６２４、およびローラ６２８により、山型および逆Ｕ字型に搬送される。給電電極６２０と電解電極６３０とは、直流電源６３４に接続されている。給電槽６１２と電解処理槽６１４との間には、槽壁６３２が配置されている。
＜ポアワイド処理＞
　上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度４０℃、カセイソーダ濃度５質量％、および、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
＜第２段階の陽極酸化処理＞
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。硫酸を含む電解液（水溶液）を用いて、表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体を作製した。なお、表１中の「電解液濃度（ｇ／Ｌ）」欄は、硫酸の濃度を表す。
＜実施例２～３５、比較例１～４＞
　実施例１中の＜電気化学的粗面化処理＞中の電解液の液温、電流密度は交流電流波形のピーク電流値、電気量の総和、陽極酸化処理の条件、および、ポアワイドの条件を表１に記載されるように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、アルミニウム支持体を作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
　作製したアルミニウム支持体について、陽極酸化皮膜のアルミニウム板側とは反対側の表面における第１特定凹部の密度、第２特定凹部の密度、特定凸部の面積率、表面積比ΔＳ、および、表面粗さＲａの値を上述した方法により測定した。これらの結果を後述する表３に示す。
　また、作製したアルミニウム支持体について、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径（表層平均径）、小径孔部の連通位置における平均径（内部平均径）、ならびに、大径孔部および小径孔部の深さを、上述した方法により測定した。これらの結果を下記表３に示す。
　上記で作製した各アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜表面に対して、後述する下塗り層塗布液１～３のいずれかを用いて下塗り層を形成して、形成した下塗り層上に後述する画像記録層塗布液１～３のいずれかを用いて画像記録層を形成した。
　用いる下塗り層塗布液および画像記録層塗布液の組み合わせは以下の表２に示す通りである。以下の表２に示すように、処方Ｂ～Ｄの場合には、画像記録層上にさらに保護層塗布液を用いて、塗布層を形成した。
　各実施例および比較例にて使用した処方は、後述する表３に示す。
　表２の「下塗り層塗布液」欄は、用いた下塗り層塗布液の種類を表し、「１」は下塗り層塗布液１を、「２」は下塗り層塗布液２を、「３」は下塗り層塗布液３を表す。
　表２の「画像記録層塗布液」欄は、用いた画像記録層塗布液の種類を表し、「１」は画像記録層塗布液１を、「２」は画像記録層塗布液２を、「３」は画像記録層塗布液３を表す。
　表２の「保護層塗布液」欄は、用いた保護層塗布液の種類を表し、「１」は保護層塗布液１を表し、「－」は保護層塗布液を使用していないことを表す。
　例えば、後述する表３に示すように実施例１では処方Ａを採用しており、処方Ａでは、表２に示すように、下塗り層塗布液１を用いて下塗り層を形成し、画像記録層塗布液１を用いて画像記録層を形成したことを表す。
　各層の形成手順は、後段で詳述する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
［下塗り層の形成］
　上記で作製した各アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜表面に対して、下塗り層塗布液１～３のいずれかを乾燥塗布量が１００ｍｇ／ｍ２になるよう塗布して、下塗り層を形成した。
（下塗り層塗布液１）
　以下成分を混合して、下塗り層塗布液１を調製した。
・下塗り層用化合物（下記Ｐ－１、１１質量％水溶液）：０．１０５０２質量部
・グルコン酸ナトリウム：０．０７０００質量部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン株式会社製）：０．００１５９質量部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成株式会社製）：０．００１４９質量部
・水：２．８７１９０質量部
Ｐ－１（以下、構造式参照）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
（下塗り層塗布液２）
　以下成分を混合して、下塗り層塗布液２を調製した。
・下塗り層用化合物（上記Ｐ－１、１１質量％水溶液）：０．０７８８質量部
・ヒドロキシエチルジイミノ二酢酸：０．０２８０質量部
・エチレンジアミン四酢酸ナトリウム・４水和物：０．０４９９質量部
・界面活性剤（エマレックス（登録商標）　７１０、日本エマルジョン（株））：０．００１６質量部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株））：０．００１５質量部
・水：２．８７０１質量部
（下塗り層塗布液３）
　以下成分を混合して、下塗り層塗布液３を調製した。
・下塗り層用化合物（上記Ｐ－１、１１質量％水溶液）：０．０７８８質量部
・グルコン酸ナトリウム：０．０７００質量部
・界面活性剤（エマレックス（登録商標）　７１０、日本エマルジョン（株））：０．００１６質量部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株））：０．００１５質量部
・水：２．８７８０質量部
［画像記録層の形成］
　下塗り層を形成したアルミニウム支持体の下塗り層上に、画像記録層塗布液１～３のいずれかをバー塗布し、次に、１２０℃で４０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が１．３ｇ／ｍ２の画像記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
（画像記録層塗布液１）
　以下成分を混合して、画像記録層塗布液１を調製した。
・赤外線吸収剤（ＩＲ－１）：０．０２０００質量部
・発色剤（Ｓ－１）：０．０２５００質量部
・電子受容型重合開始剤（Ｉｎｔ－１）：０．１１０００質量部
・電子供与型重合開始剤（ＴＰＢ）：０．０２５００質量部
・重合性化合物（Ｍ－１）：０．２７５００質量部
・アニオン界面活性剤（Ａ－１）：０．００６００質量部
・フッ素系界面活性剤（Ｗ－１）：０．００４１６質量部
・２－ブタノン：４．３６０２質量部
・１－メトキシ－２－プロパノール：４．４８５２質量部
・メタノール：２．２８３８質量部
・ミクロゲル液１：２．３２５６質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
［重合性化合物Ｍ－１の合成方法］
　タケネートＤ－１６０Ｎ（ポリイソシアネート トリメチロールプロパンアダクト体、三井化学株式会社製、４．７部）、アロニックスＭ－４０３（東亞合成株式会社製、タケネートＤ－１６０ＮのＮＣＯ価とアロニックスＭ－４０３の水酸基価が１：１となる量）、ｔ－ブチルベンゾキノン（０．０２部）、およびメチルエチルケトン（１１．５部）の混合溶液を６５℃に加熱した。反応溶液に、ネオスタンＵ－６００（ビスマス系重縮合触媒、日東化成株式会社製、０．１１部）を加え、６５℃で４時間加熱した。反応溶液を室温（２５℃）まで冷却し、メチルエチルケトンを加えることで、固形分が５０質量％のウレタンアクリレート（重合性化合物Ｍ－１に該当）の溶液を合成した。リサイクル型ＧＰＣ（機器：ＬＣ９０８－Ｃ６０、カラム：ＪＡＩＧＥＬ－１Ｈ－４０および２Ｈ－４０（日本分析工業株式会社製））を用いて、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の溶離液にて、ウレタンアクリレート溶液の分子量分画を実施した。重量平均分子量は２０,０００であった。
［ミクロゲル液１の合成方法］
　以下の手順によってミクロゲル１を合成した。
（多価イソシアネート化合物の調製）
　イソホロンジイソシアネート（１７．７８質量部、８０モル当量）と下記多価フェノール化合物（１）（７．３５質量部、２０モル当量）との酢酸エチル（２５．３１質量部）を含む懸濁溶液に、ビスマストリス（２－エチルヘキサノエート）（ネオスタンＵ－６００、日東化成株式会社製、０．０４３質量部）を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を５０℃に設定し、３時間撹拌して多価イソシアネート化合物（１）の酢酸エチル溶液（５０質量％）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
（ミクロゲルの調製）
　下記油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を４５℃で４時間撹拌後、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ ＳＡ１０２、サンアプロ株式会社製）の１０質量％水溶液（５．２０ｇ）を加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水を用いて固形分濃度を２０質量％に調整し、ミクロゲル液１を得た。光散乱法により平均粒径を測定したところ、０．２８μｍであった。
－油相成分－
・（成分１）酢酸エチル：１２．０質量部
・（成分２）トリメチロールプロパン（６モル当量）とキシレンジイソシアネート（１８モル当量）とを付加させた後、片末端メチル化ポリオキシエチレン（１モル当量、オキシエチレン単位の繰返し数：９０）を付加させた付加体（５０質量％酢酸エチル溶液、三井化学株式会社製）：３．７６質量部
・（成分３）多価イソシアネート化合物（１）（５０質量％酢酸エチル溶液として）：１５．０質量部
・（成分４）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５４質量部
・（成分５）スルホン酸塩型界面活性剤（パイオニンＡ－４１－Ｃ、竹本油脂株式会社製）の１０％酢酸エチル溶液：４．４２質量部
－水相成分－
・蒸留水：４６．８７質量部
（画像記録層塗布液２）
　以下成分を混合して、画像記録層塗布液２を調製した。
・赤外線吸収剤（ＩＲ－１）：０．０２０３質量部
・赤外線吸収剤（ＩＲ－２）：０．００６８質量部
・発色剤（Ｓ－２）：０．０１２０質量部
・発色剤（Ｓ－３）：０．０３００質量部
・電子受容型重合開始剤（Ｉｎｔ－１）：０．０９８１質量部
・電子供与型重合開始剤（ＴＰＢ）：０．０２７０質量部
・重合性化合物（Ｍ－２）：０．３５３６質量部
・トリクレシルホスフェート：０．０４５０質量部
・アニオン界面活性剤（Ａ－１）：０．０１６２質量部
・フッ素系界面活性剤（Ｗ－１）：０．００４２質量部
・２－ブタノン：５．３１５５質量部
・１－メトキシ－２－プロパノール：２．８８２５質量部
・メタノール：２．３３９１質量部
・ミクロゲル液２：２．８７７９質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
［重合性化合物（Ｍ－２）の合成方法］
　タケネートＤ－１６０Ｎ（ポリイソシアネート　トリメチロールプロパンアダクト体、三井化学（株）製、４．７質量部）、アロニックスＭ－４０３（東亞合成（株）製、タケネートＤ－１６０ＮのＮＣＯ価とアロニックスＭ－４０３の水酸基価が１：１となる量）、ｔ－ブチルベンゾキノン（０．０２質量部）、およびメチルエチルケトン（１１．５質量部）の混合溶液を６５℃に加熱した。反応溶液に、ネオスタンＵ－６００（ビスマス系重縮合触媒、日東化成（株）製、０．１１質量部）を加え、６５℃で４時間加熱した。反応溶液を室温（２５℃）まで冷却し、メチルエチルケトンを加えることで、固形分が５０質量％のウレタンアクリレートである重合性化合物（Ｍ－２）の溶液を合成した。リサイクル型ＧＰＣ（機器：ＬＣ９０８－Ｃ６０、カラム：ＪＡＩＧＥＬ－１Ｈ－４０および２Ｈ－４０（日本分析工業（株）製））を用いて、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の溶離液にて、重合性化合物（Ｍ－２）の溶液の分子量分画を実施した。重量平均分子量は２０，０００であった。
［ミクロゲル液２の合成方法］
－油相成分の調製－
　多官能イソシアネート化合物（ＰＭ－２００：万華化学製）：６．６６ｇと、三井化学株式会社製の「タケネート（登録商標）Ｄ－１１６Ｎ（トリメチロールプロパン（ＴＭＰ）とｍ－キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）とポリエチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＯ９０）との付加物（下記構造）」の５０質量％酢酸エチル溶液：５．４６ｇと、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．２４ｇと、酢酸エチル：１４．４７ｇと、竹本油脂株式会社製のパイオニン（登録商標）Ａ－４１－Ｃ：０．４５ｇを混合し、室温（２５℃）で１５分撹拌して油相成分を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
－水相成分の準備－
　水相成分として、蒸留水４７．２ｇを準備した。
－マイクロカプセル形成工程－
　油相成分に水相成分を添加して混合し、得られた混合物を、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１６分間乳化させて乳化物を得た。
　得られた乳化物に蒸留水１６．８ｇを添加し、得られた液体を室温で１０分撹拌した。次いで、撹拌後の液体を４５℃に加熱し、液温を４５℃に保持した状態で４時間撹拌することにより、上記液体から酢酸エチルを留去した。次いで、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ ＳＡ１０２、サンアプロ株式会社製）の１０質量％水溶液５．１２ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ミクロゲル液２が得られた。ミクロゲル液２中のミクロゲルの体積平均粒径はレーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ－９２０（株式会社堀場製作所製）により測定したところ、１６５ｎｍであった。
（画像記録層塗布液３）
　以下成分を混合して、画像記録層塗布液３を調製した。
・赤外線吸収剤（ＩＲ－１）：０．０２０３質量部
・赤外線吸収剤（ＩＲ－２）：０．００６８質量部
・発色剤（Ｓ－２）：０．０１２０質量部
・発色剤（Ｓ－３）：０．０３００質量部
・電子受容型重合開始剤（Ｉｎｔ－１）：０．０９８１質量部
・電子供与型重合開始剤（ＴＰＢ）：０．０２７０質量部
・重合性化合物（Ｍ－２）：０．３５３６質量部
・トリクレシルホスフェート：０．０１２５質量部
・アニオン界面活性剤（Ａ－１）：０．０１６２質量部
・パイオニンＡ－４１－Ｃ（竹本油脂製、７０％メタノール溶液）：０．００８１質量部
・フッ素系界面活性剤（Ｗ－１）：０．００４２質量部
・２－ブタノン：５．３１５５質量部
・１－メトキシ－２－プロパノール：２．８８２５質量部
・メタノール：２．３３９１質量部
・ミクロゲル液２：２．８７７９質量部
［保護層の形成］
　画像記録層を形成したアルミニウム支持体の画像記録層上に、保護層塗布液１をバー塗布し、次に、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が０．８０ｇ／ｍ２の保護層を形成した。
（保護層塗布液１）
　以下成分を混合して、保護層塗布液１を調製した。
・水：１．０１６１質量部
・メトローズＳＭ０４：０．０６００質量部
・ＦＳ－１０２（１７％水分散液）：０．１１７７質量部
・ラピゾールＡ－８０（８０％水溶液）：０．００６３質量部
［評価方法］
＜油性クリーナー耐刷性＞
　各実施例および比較例にて得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ　ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ　Ｔ－６０００ＩＩＩにて、外面ドラム回転数１０００ｒｐｍ、レーザー出力７０％、および、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。露光画像にはベタ画像および２０μｍドットＦＭ（Frequency Modulation）スクリーンの５０％網点チャートを含むようにした。
　得られた露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付けた。Ｅｃｏｌｉｔｙ－２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とＶａｌｕｅｓ－Ｇ（Ｎ）墨インキ（大日本インキ化学工業（株）製）とを用い、ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１００００枚の印刷速度で、特菱アート（７６．５ｋｇ）紙に印刷を行った。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため、印刷物上のインキ濃度が低下した。ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数を基準印刷枚数とした。
　次に、５，０００枚印刷する毎に、クリーナー（富士フイルム（株）製、マルチクリーナー）で版面を拭く工程を設けた以外は、上記と同様の方法で、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数を求めた。得られた印刷枚数を評価印刷枚数とする。
　次に、基準印刷枚数と評価印刷枚数とを用いて、以下の式（Ｘ）で求められる指標値を算出して、以下の基準に従って、評価した。
　式（Ｘ）：指標値＝（基準印刷枚数－評価印刷枚数）／基準印刷枚数
　指標値が大きいほど、クリーナーで版面を拭く工程を加えた場合であっても、耐刷性の変化が小さいといえ、油性クリーナー耐刷に優れるものといえる。
－評価基準－
６：指標値が９８％以上１００％未満である
５：指標値が９５％以上９８％未満である
４：指標値が８０％以上９５％未満である
３：指標値が６０％以上８０％未満である
２：指標値が４０％以上６０％未満である
１：指標値が４０％未満である
　表３中、「第１特定凹部（個／ｍｍ２）」欄は、第１特定凹部の密度（個／ｍｍ２）を表す。
　表３中、「第２特定凹部（個／ｍｍ２）」欄は、第２特定凹部の密度（個／ｍｍ２）を表す。
　表３中、「特定凸部面積率（％）」欄は、特定凸部の面積率（％）を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
　上記表３に示すように、本発明の平版印刷版原版の場合、所望の効果が得られることが確認された。
　実施例１～５の比較より、第１特定凹部の数が６０００個／ｍｍ２以上の場合（好ましくは、８０００個／ｍｍ２以上の場合）、より効果が優れることが確認された。
　実施例５と６との比較より、特定凸部の面積率が１０％以下の場合（好ましくは、８％以下の場合）、より効果が優れることが確認された。
　実施例７と８との比較より、特定凸部の面積率が１３％以下の場合、より効果が優れることが確認された。また、実施例８と実施例９～１０との比較より、特定凸部の面積率が１０％以下の場合、より効果が優れることが確認された。また、実施例９～１０と実施例１２との比較より、特定凸部の面積率が３％未満の場合、より効果が優れることが確認された。
　また、実施例９と１１とは共に油性クリーナー耐刷性の評価が「５」となっている。実施例１１では第１特定凹部の数が６０００個／ｍｍ２未満であるが、第２特定凸部の数が６０００個／ｍｍ２以上であるため、実施例９と１１とは同じ評価となっている。つまり、第２特定凸部の数が６０００個／ｍｍ２以上である場合、より効果が優れることが確認された。
　実施例１２～１４より、特定凸部の面積率が１０％以下であり、第２特定凹部の数が６０００個／ｍｍ２以上であり、表面積比ΔＳが４５％以上である場合、最も優れた効果が得られることが確認された。
　実施例１５～１９より、特定凸部の面積率が１０％以下であり、表面積比ΔＳが２０％以上である場合、より効果が優れることが確認された。また、特定凸部の面積率が１０％以下であり、表面積比ΔＳが４５％以上である場合、より効果が優れることが確認された。
　実施例１８と実施例２３との比較より、特定凸部の面積率が７％以下であり、表面積比ΔＳが２０％以上である場合、より効果が優れることが確認された。
　実施例１５と実施例２０との比較より、特定凸部の面積率が７％以下であり、表面積比ΔＳが４５％以上である場合、より効果が優れることが確認された。
＜実施例３６～３９＞
　実施例１中の＜電気化学的粗面化処理＞中の電解液の液温、電流密度は交流電流波形のピーク電流値、電気量の総和、陽極酸化処理の条件、および、ポアワイドの条件を表４に記載されるように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、アルミニウム支持体を作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
　作製したアルミニウム支持体について、陽極酸化皮膜のアルミニウム板側とは反対側の表面における第２特定凹部の密度、特定凸部の面積率、表面積比ΔＳ、および、表面粗さＲａの値を上述した方法により測定した。これらの結果を下記表５に示す。
　また、作製したアルミニウム支持体について、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径（表層平均径）、小径孔部の連通位置における平均径（内部平均径）、ならびに、大径孔部および小径孔部の深さを、上述した方法により測定した。これらの結果を下記表５に示す。
　得られたアルミニウム支持体を用いて、上述した［下塗り層の形成］および［画像記録層の形成］の手順を実施して平版印刷版原版を作製し、＜油性クリーナー耐刷性＞の評価を実施した。結果を下表５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
　上記表５に示すように、本発明の平版印刷版原版の場合、所望の効果が得られることが確認された。
　実施例１５と１６との比較より、特定凸部の面積率が１３％以下の場合、より効果が優れることが確認された。また、実施例１６と１７との比較より、特定凸部の面積率が１０％以下の場合、より効果が優れることが確認された。また、実施例１７と１８との比較より、特定凸部の面積率が３％未満の場合、より効果が優れることが確認された。
　ｔａ　アノード反応時間
　ｔｃ　カソード反応時間
　ｔｐ　電流が０からピークに達するまでの時間
　Ｉａ　アノードサイクル側のピーク時の電流
　Ｉｃ　カソードサイクル側のピーク時の電流
　１０　　平版印刷版原版
　１２ａ，１２ｂ　　アルミニウム支持体
　１４　　下塗り層
　１６　　画像記録層
　１８　アルミニウム板
　２０ａ，２０ｂ　　陽極酸化皮膜
　２２ａ，２２ｂ　　マイクロポア
　２４　　大径孔部
　２６　　小径孔部
　５０　主電解槽
　５１　交流電源
　５２　ラジアルドラムローラ
　５３ａ，５３ｂ　主極
　５４　電解液供給口
　５５　電解液
　５６　補助陽極
　６０　補助陽極槽
　Ｗ　アルミニウム板
　６１０　陽極酸化処理装置
　６１２　給電槽
　６１４　電解処理槽
　６１６　アルミニウム板
　６１８，６２６　電解液
　６２０　給電電極
　６２２，６２８　ローラ
　６２４　ニップローラー
　６３０　電解電極
　６３２　槽壁
　６３４　直流電源
 

Claims (23)

  1. 　アルミニウム支持体と、前記アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
    　前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
    　前記画像記録層が、前記アルミニウム支持体の前記陽極酸化皮膜側に配置され、
    　非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が２０％以下である、平版印刷版原版。
  2. 　前記平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が１３％以下である、請求項１に記載の平版印刷版原版。
  3. 　前記平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が１０％以下である、請求項１または２に記載の平版印刷版原版。
  4. 　前記平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が７％以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  5. 　アルミニウム支持体と、前記アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
    　前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
    　前記画像記録層が、前記アルミニウム支持体の前記陽極酸化皮膜側に配置され、
    　非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部の密度が４０００個／ｍｍ２以上である、平版印刷版原版。
  6. 　前記平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部の密度が６０００個／ｍｍ２以上である、請求項５に記載の平版印刷版原版。
  7. 　前記平均面からの深さが０．４０μｍ以上である凹部の密度が８０００個／ｍｍ２以上である、請求項５または６に記載の平版印刷版原版。
  8. 　非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が２０％以下である、請求項５～７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  9. 　非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．２０μｍ以上である凹部の密度が６０００個／ｍｍ２以上である、請求項１～８のいずれか１項に平版印刷版原版。
  10. 　原子間力顕微鏡を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、下記式（１）により算出される表面積比ΔＳが２０％以上である、請求項１～９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
    　ΔＳ＝（Ｓｘ－Ｓ０）／Ｓ０×１００（％）　・・・（１）
  11. 　前記表面積比ΔＳが２５％以上である、請求項１０に記載の平版印刷版原版。
  12. 　前記表面積比ΔＳが４５％以上である、請求項１０または１１に記載の平版印刷版原版。
  13. 　非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が１０％以下であり、
    　原子間力顕微鏡を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、下記式（１）により算出される表面積比ΔＳが２０％以上である、請求項１に記載の平版印刷版原版。
    　ΔＳ＝（Ｓｘ－Ｓ０）／Ｓ０×１００（％）　・・・（１）
  14. 　前記表面積比が４５％以上である、請求項１３に記載の平版印刷版原版。
  15. 　前記平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が７％以下である、請求項１３に記載の平版印刷版原版。
  16. 　前記平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が７％以下であり、前記表面積比が４５％以上である、請求項１３に記載の平版印刷版原版。
  17. 　非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの高さが０．８０μｍ以上である凸部の面積率が１０％以下であり、
    　非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、平均面からの深さが０．２０μｍ以上である凹部の密度が６０００個／ｍｍ２以上であり、
    　原子間力顕微鏡を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、下記式（１）により算出される表面積比ΔＳが４５％以上である、請求項１に記載の平版印刷版原版。
    　ΔＳ＝（Ｓｘ－Ｓ０）／Ｓ０×１００（％）　・・・（１）
  18. 　接触式表面粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面を測定して得られる表面粗さＲａが、０．４５μｍ以下である、請求項１～１７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  19. 　前記陽極酸化皮膜がマイクロポアを有し、
    　前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ１０～１０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０～２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
    　前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が１５～６０ｎｍであり、
    　前記小径孔部の前記連通位置における平均径が大径孔部の平均径より小さい、請求項１～１８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  20. 　請求項１～１９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
    　画像様露光された前記平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、平版印刷版の製造方法。
  21. 　請求項１～１９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
    　印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された前記平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。
  22. 　請求項１～１９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版に用いるアルミニウム支持体の製造方法であって、
    　アルミニウム板に対して、硫酸を含んでいてもよい塩酸処理液中にて、前記塩酸処理液の液温が３０℃以下で、電気量の総和が４００Ｃ／ｄｍ２以下で、かつ、交流電流波形のピーク電流値が８０Ａ／ｄｍ２以下で、交流電解を施し、粗面化されたアルミニウム板を作製する塩酸電解処理工程を有し、
    　前記塩酸処理液が硫酸を含む場合には、塩酸の含有量に対する硫酸の含有量の比が、０．１以下である、
    　アルミニウム支持体の製造方法。
  23. 　前記塩酸電解処理工程の後に、
    　粗面化されたアルミニウム板に対して、陽極酸化処理を施し、前記アルミニウム板上にアルミニウムの陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理工程と、
    　陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム板に対して、エッチング処理を施し、前記陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させるポアワイド処理工程と、
    　をこの順で有する、請求項２２に記載のアルミニウム支持体の製造方法。
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