WO2021200627A1 - フッ素樹脂フィルム及びその製法 - Google Patents
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Definitions
- Molding strain due to the manufacturing method remains in the ordinary heat-meltable fluororesin film.
- the film of the present invention has a thermal expansion / contraction rate of -1 to + 1% for both MD and TD by appropriately controlling the cooling conditions of the resin film during molding, with little distortion in each direction and sufficiently uniform.
- haze is 8% or less even when the thickness is 100 to 200 ⁇ m, and the transparency is excellent. Therefore, even in the laminated body having such a film layer, it is considered that the strain is small and the film is sufficiently uniform, so that the thermal shock resistance is excellent, the deformation is suppressed, and the dimensional stability is excellent.
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Abstract
テトラフルオロエチレン系ポリマーで構成されるフィルムであって、厚さが100~200μmであり、ヘイズが8%以下であり、180℃にて30分加熱後の熱伸縮率がその流れ方向及び幅方向ともに-1%以上+1%以下である、フィルム。
Description
本発明は、テトラフルオロエチレン系ポリマーのフィルム及びその製造方法に関する。
電子機器の軽量化・コンパクト化が進むなか、機器内の配線量やスペース制限への対策として、軽量で柔軟性を備えた配線材料としてフレキシブルプリント配線板(FPC)が広く採用されている。近年、プリント配線板における伝送信号の高速化に伴い、信号の高周波化が進んでいる。これに伴い、FPCには、高周波領域での低誘電特性(低誘電率、低誘電正接)が強く要求されている。かかる要求に対し、FPCに用いられる基材フィルムとして、従来のポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)に代えて、低誘電特性を有する液晶ポリマー(LCP)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)などから構成される基材フィルムが提案されている。
一方、電子機器のデザイン性向上の追求に伴い、フレキシブルディスプレイやタッチパネルなどのフレキシブルデバイスや、LEDなどの半導体素子をリフローして使用する電子機器等、人目に触れる箇所でFPCが使用される機会が増えている。このような電子機器等では、FPCは透明性を兼ね備えることが必要となる。
一方、電子機器のデザイン性向上の追求に伴い、フレキシブルディスプレイやタッチパネルなどのフレキシブルデバイスや、LEDなどの半導体素子をリフローして使用する電子機器等、人目に触れる箇所でFPCが使用される機会が増えている。このような電子機器等では、FPCは透明性を兼ね備えることが必要となる。
PIフィルムは耐熱性に優れるものの、透明性には課題がある。PETフィルムは透明性には優れるが耐熱性が低く、フレキシブルプリント配線板で使用する場合、リフロー時の熱による基材の反りや寸法変化が課題になる。ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のテトラフルオロエチレン系ポリマーは、高い透明度を有し、耐薬品性、撥水撥油性、耐熱性、電気特性等の物性に優れており、PI、LCP、SPS、PPSといった材料と比べても低誘電率、低誘電正接であるため、透明かつリフロー耐性に優れたFPCの基材フィルムとして使用し得る。
一方、テトラフルオロエチレン系ポリマーは寸法安定性が悪く、回路加工の段階で位置ずれが生じやすい。そのため、特許文献1では、フィルムを製膜後にアニーリング処理(熱処理)でその歪みを除去する方法が提案されている。
一方、テトラフルオロエチレン系ポリマーは寸法安定性が悪く、回路加工の段階で位置ずれが生じやすい。そのため、特許文献1では、フィルムを製膜後にアニーリング処理(熱処理)でその歪みを除去する方法が提案されている。
テトラフルオロエチレン系ポリマーは結晶性を有し、その結晶は溶融成形体の冷却過程で成長しやすいので、得られるフィルムは、光線透過率は高くてもヘイズが大きくなりやすい。また、フィルムが厚くなると、特許文献1の方法のように熱処理をしてもひずみが解消されにくい上、寸法安定性が悪いために、熱処理によってフィルムの平坦性が損なわれる場合がある。
本発明者は、鋭意検討した結果、寸法安定性が良く、ヘイズが低く、回路形成での歩留まりが良く、透明性と耐熱性を両立可能なフィルムを見出した。
本発明の目的は、上記特性を備えたフィルム及びその製造方法の提供である。
本発明の目的は、上記特性を備えたフィルム及びその製造方法の提供である。
本発明は、下記の態様を有する。
<1>テトラフルオロエチレン系ポリマーで構成された押出成形フィルムであって、厚さが100~200μmであり、ヘイズが8%以下であり、180℃にて30分加熱後の熱伸縮率がフィルムの流れ方向及び幅方向ともに-1~+1%である、フィルム。
<2>前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、テトラフルオロエチレンに基づく単位及びペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含むテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>のフィルム。
<3>前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>又は<2>のフィルム。
<4>前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融温度が260~320℃である、<1>~<3>のいずれかのフィルム。
<1>テトラフルオロエチレン系ポリマーで構成された押出成形フィルムであって、厚さが100~200μmであり、ヘイズが8%以下であり、180℃にて30分加熱後の熱伸縮率がフィルムの流れ方向及び幅方向ともに-1~+1%である、フィルム。
<2>前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、テトラフルオロエチレンに基づく単位及びペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含むテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>のフィルム。
<3>前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>又は<2>のフィルム。
<4>前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融温度が260~320℃である、<1>~<3>のいずれかのフィルム。
<5>前記<1>~<4>のいずれかのフィルムをTダイキャスト法により製造する方法であって、前記テトラフルオロエチレン系ポリマーをダイから溶融状態で吐出して押出成形し、温度制御された2本のロール間にフィルムを挟み込んで冷却させる操作を含む、製造方法。
<6>前記温度制御された2本のロールの温度が、一方が150~250℃であり、もう一方が80~150℃である、<5>の製造方法。
<7>混練部及び前記混練部に接続されたホッパーを有する押出成形装置を備え、前記ホッパーに溶融温度が260~320℃であるテトラフルオロエチレン系ポリマーのペレットを投入して、前記混練部で溶融及び混練された溶融混練物をTダイから吐出してフィルムを製造するに際し、前記ホッパーの前記混練部との接続部における前記ペレットの温度を(前記溶融温度-200)~(前記溶融温度-100)℃の範囲に調整した後、前記ペレットを前記混練部に供給する操作をさらに含む、<5>又は<6>の製造方法。
<8>前記ペレットの直径が1.0~4.0mmである、<5>~<7>のいずれかの製造方法。
<6>前記温度制御された2本のロールの温度が、一方が150~250℃であり、もう一方が80~150℃である、<5>の製造方法。
<7>混練部及び前記混練部に接続されたホッパーを有する押出成形装置を備え、前記ホッパーに溶融温度が260~320℃であるテトラフルオロエチレン系ポリマーのペレットを投入して、前記混練部で溶融及び混練された溶融混練物をTダイから吐出してフィルムを製造するに際し、前記ホッパーの前記混練部との接続部における前記ペレットの温度を(前記溶融温度-200)~(前記溶融温度-100)℃の範囲に調整した後、前記ペレットを前記混練部に供給する操作をさらに含む、<5>又は<6>の製造方法。
<8>前記ペレットの直径が1.0~4.0mmである、<5>~<7>のいずれかの製造方法。
<9>前記ホッパーが、第1段部と、前記第1段部より前記混練部側に配置された第2段部とを備える多段式のホッパーである、<5>~<8>のいずれかの製造方法。
<10>前記ホッパーの前記混練部に最も近い段部内の圧力が1000Pa以下である、<5>~<9>のいずれかの製造方法。
<11>前記押出成形装置が、前記混練部の軸方向の前記ホッパーと反対側に接続されたTダイと、前記混練部と前記Tダイとの間に設けられた静止型混合器とを備える、<5>~<10>のいずれかの製造方法。
<12>前記テトラフルオロエチレン系ポリマーをTダイから溶融状態で吐出し、前記溶融状態のテトラフルオロエチレン系ポリマーを最初の冷却ロールに接触する前に非接触式加熱部で加熱する操作をさらに含む、<5>~<11>のいずれかの製造方法。
<13>前記Tダイ内における前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの温度と前記最初の冷却ロールの温度との差が250℃以下である、<12>の製造方法。
<14>前記Tダイ内における前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの温度と前記非接触式加熱部の温度との差の絶対値が70℃以下である、<12>又は<13>の製造方法。
<10>前記ホッパーの前記混練部に最も近い段部内の圧力が1000Pa以下である、<5>~<9>のいずれかの製造方法。
<11>前記押出成形装置が、前記混練部の軸方向の前記ホッパーと反対側に接続されたTダイと、前記混練部と前記Tダイとの間に設けられた静止型混合器とを備える、<5>~<10>のいずれかの製造方法。
<12>前記テトラフルオロエチレン系ポリマーをTダイから溶融状態で吐出し、前記溶融状態のテトラフルオロエチレン系ポリマーを最初の冷却ロールに接触する前に非接触式加熱部で加熱する操作をさらに含む、<5>~<11>のいずれかの製造方法。
<13>前記Tダイ内における前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの温度と前記最初の冷却ロールの温度との差が250℃以下である、<12>の製造方法。
<14>前記Tダイ内における前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの温度と前記非接触式加熱部の温度との差の絶対値が70℃以下である、<12>又は<13>の製造方法。
<15>前記<1>~<4>のいずれかのフィルムからなる層と、かかるフィルム以外の基材からなる基材層とを有する、積層体。
本発明によれば、寸法安定性が良く、ヘイズが低く、回路形成での歩留まりが良く、透明性と耐熱性を両立可能なフィルム及びその製造方法が提供される。本発明によれば、特にアンテナ基板の基材として好まれる100μm前後の厚いフィルムを提供できる。本発明のフィルムは、無色透明で低損失なアンテナ基板として有用である。
以下の用語は、以下の意味を有する。
「フィルムの厚さ」は、接触式厚み計DG-525H(小野測器社製)にて、測定子AA-026(Φ10mm、SR7)を使用して、フィルムの厚さを、幅方向に距離が等しくなるように10点測定した測定値の平均値である。
「ポリマーの溶融温度」は、示差走査熱量測定(DSC)法で測定した融解ピークの最大値に対応する温度である。
ポリマーにおける「単位」とは、モノマーの重合により形成された前記モノマー1分子に基づく原子団を意味する。単位は、重合反応によって直接形成された単位であってもよく、ポリマーを処理することによって前記単位の一部が別の構造に変換された単位であってもよい。以下、モノマーaに基づく単位を、単に「モノマーa単位」とも記す。
「ポリマーのガラス転移点」は、動的粘弾性測定(DMA)法でポリマーを分析して測定される値である。
「フィルムの厚さ」は、接触式厚み計DG-525H(小野測器社製)にて、測定子AA-026(Φ10mm、SR7)を使用して、フィルムの厚さを、幅方向に距離が等しくなるように10点測定した測定値の平均値である。
「ポリマーの溶融温度」は、示差走査熱量測定(DSC)法で測定した融解ピークの最大値に対応する温度である。
ポリマーにおける「単位」とは、モノマーの重合により形成された前記モノマー1分子に基づく原子団を意味する。単位は、重合反応によって直接形成された単位であってもよく、ポリマーを処理することによって前記単位の一部が別の構造に変換された単位であってもよい。以下、モノマーaに基づく単位を、単に「モノマーa単位」とも記す。
「ポリマーのガラス転移点」は、動的粘弾性測定(DMA)法でポリマーを分析して測定される値である。
本発明のフィルムは、テトラフルオロエチレン系ポリマー(以下、「Fポリマー」とも記す。)で構成された押出成形フィルムであって、厚さが100~200μmであり、ヘイズが8%以下であり、180℃にて30分加熱後の熱伸縮率がフィルムの流れ方向(以下、MDと記す。)及び幅方向(以下、TDと記す。)ともに、-1~+1%である。
本発明のフィルムは、巻き取られた状態のロールフィルムであってもよい。
また、本発明のフィルムからなる層と本発明のフィルム以外の基材からなる基材層とを有する、本発明の積層体としては、本発明のフィルムと金属箔を積層してなる積層体が好ましい。この本発明のフィルムと金属箔を積層してなる積層体は、所定の長さに切断するとともに、金属箔を伝送回路(ビアを含む。)に加工すれば、FPCとして好適に使用でき、例えば無色透明で電気特性に優れるアンテナ基板として好適である。
なお、上記本発明のフィルムからなる層を以下「Fポリマー層」といい、本発明のフィルム以外の基材からなる基材層を、特に言及しない限り、以下単に「基材層」という。
本発明のフィルムは、巻き取られた状態のロールフィルムであってもよい。
また、本発明のフィルムからなる層と本発明のフィルム以外の基材からなる基材層とを有する、本発明の積層体としては、本発明のフィルムと金属箔を積層してなる積層体が好ましい。この本発明のフィルムと金属箔を積層してなる積層体は、所定の長さに切断するとともに、金属箔を伝送回路(ビアを含む。)に加工すれば、FPCとして好適に使用でき、例えば無色透明で電気特性に優れるアンテナ基板として好適である。
なお、上記本発明のフィルムからなる層を以下「Fポリマー層」といい、本発明のフィルム以外の基材からなる基材層を、特に言及しない限り、以下単に「基材層」という。
通常の熱溶融性フッ素樹脂のフィルムには、その製法(押出成形による溶融成形法)に起因する成形歪が残存する。本発明のフィルムは、成形中における樹脂フィルムの冷却条件を後述のとおり適切に制御することにより、MD及びTDともに-1~+1%の熱伸縮率で、各々の方向の歪みが小さく充分に均一化され、寸法安定性に優れるとともに、厚さが100~200μmであっても、ヘイズが8%以下となり、透明性に優れる。
したがって、かかるフィルム層を有する積層体においても、歪みが小さく充分に均一化されているため、熱衝撃性に優れるとともに変形が抑制され、寸法安定性に優れると考えられる。例えば、金属箔を基材層とする本発明の積層体は、それをプリント配線板に加工するに際してスルーホール又はビアを形成する際の熱衝撃耐性が高く、結果として断線が生じにくいプリント配線板が得られやすい。
したがって、かかるフィルム層を有する積層体においても、歪みが小さく充分に均一化されているため、熱衝撃性に優れるとともに変形が抑制され、寸法安定性に優れると考えられる。例えば、金属箔を基材層とする本発明の積層体は、それをプリント配線板に加工するに際してスルーホール又はビアを形成する際の熱衝撃耐性が高く、結果として断線が生じにくいプリント配線板が得られやすい。
なお、フィルムの熱伸縮率は次のようにして測定される。まずフィルムから、MDに沿った2辺及びTDに沿った2辺を有する12cm角の正方形状の試験片を切り出す。次に、得られた試験片の表面に、MD及びTDに、それぞれ長さ10cmの線分を描画する。次に、この試験片を180℃のオーブンに30分間入れて加熱した後に取り出し、25℃まで自然冷却してから、再度、線分の長さを測定する。
熱伸縮率は、式:{(加熱前の線分の長さ)-(加熱後の線分の長さ)}/(加熱前の線分の長さ)×100に従って計算される値である。すなわち、熱伸縮率は、加熱前後における線分の長さの変化率(百分率)である。なお、マイナスはフィルムの伸長を表し、プラスはフィルムの収縮を表す。
本発明のフィルムの熱伸縮率は、フィルムのMD及びTDともに-1~+1%であり、それぞれ-0.8~+0.8%が好ましく、-0.5~+0.5%がより好ましい。熱伸縮率が上記範囲であれば、加熱された場合でも、フィルムの歪みに起因するシワがより生じにくくなる。
熱伸縮率は、式:{(加熱前の線分の長さ)-(加熱後の線分の長さ)}/(加熱前の線分の長さ)×100に従って計算される値である。すなわち、熱伸縮率は、加熱前後における線分の長さの変化率(百分率)である。なお、マイナスはフィルムの伸長を表し、プラスはフィルムの収縮を表す。
本発明のフィルムの熱伸縮率は、フィルムのMD及びTDともに-1~+1%であり、それぞれ-0.8~+0.8%が好ましく、-0.5~+0.5%がより好ましい。熱伸縮率が上記範囲であれば、加熱された場合でも、フィルムの歪みに起因するシワがより生じにくくなる。
本発明におけるFポリマーは、テトラフルオロエチレン(TFE)に基づく単位(TFE単位)を含むポリマーである。本発明におけるFポリマーは熱溶融性であり、その溶融温度は260~320℃が好ましく、275~315℃がより好ましく、290~310℃がさらに好ましい。かかる場合、Fポリマーの成形加工性と、本発明のフィルムの機械強度がバランスしやすい。
Fポリマーのガラス転移点は75~125℃が好ましく、80~100℃がより好ましい。
Fポリマーのガラス転移点は75~125℃が好ましく、80~100℃がより好ましい。
Fポリマーとしては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、TFE単位及びペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)に基づく単位(PAVE単位)を含むポリマー(PFA)、ヘキサフルオロプロペン(HFP)に基づく単位を含むポリマー(FEP)が挙げられ、PFAであるのが好ましい。PAVEとしては、CF2=CFOCF3、CF2=CFOCF2CF3及びCF2=CFOCF2CF2CF3(PPVE)が好ましく、PPVEがより好ましい。
Fポリマーは、極性官能基を有するのが好ましい。極性官能基は、Fポリマー中の単位に含まれていてもよく、Fポリマーの主鎖の末端基に含まれていてもよい。後者の態様としては、重合開始剤、連鎖移動剤等に由来する末端基として極性官能基を有するFポリマー、Fポリマーをプラズマ処理や電離線処理して得られる極性官能基を有するFポリマーが挙げられる。極性官能基としては、水酸基含有基及びカルボニル基含有基が好ましい。
水酸基含有基としては、アルコール性水酸基を含有する基が好ましく、-CF2CH2OH及び-C(CF3)2OHがより好ましい。
カルボニル基含有基はカルボニル基(>C(O))を含む基であり、カルボニル基含有基としては、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、イソシアネート基、カルバメート基(-OC(O)NH2)、酸無水物残基(-C(O)OC(O)-)、イミド残基(-C(O)NHC(O)-等)及びカーボネート基(-OC(O)O-)が好ましく、酸無水物残基がより好ましい。
水酸基含有基としては、アルコール性水酸基を含有する基が好ましく、-CF2CH2OH及び-C(CF3)2OHがより好ましい。
カルボニル基含有基はカルボニル基(>C(O))を含む基であり、カルボニル基含有基としては、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、イソシアネート基、カルバメート基(-OC(O)NH2)、酸無水物残基(-C(O)OC(O)-)、イミド残基(-C(O)NHC(O)-等)及びカーボネート基(-OC(O)O-)が好ましく、酸無水物残基がより好ましい。
Fポリマーがカルボニル基含有基を有する場合、Fポリマーにおけるカルボニル基含有基の数は、主鎖の炭素数1×106個あたり、10~5000個が好ましく、100~3000個がより好ましく、800~1500個がさらに好ましい。なお、Fポリマーにおけるカルボニル基含有基の数は、ポリマーの組成または国際公開第2020/145133号に記載の方法によって定量できる。
Fポリマーとしては、TFE単位及びPAVE単位を含む、極性官能基を有するポリマー(1)、及び、TFE単位及びPAVE単位を含み全単位に対してPAVE単位を2.0~5.0モル%含む、極性官能基を有さないポリマー(2)が好ましい。
これらのFポリマーは、成形物中において微小球晶を形成しやすく、他の成分との密着性が高まりやすい。その結果、表面平滑性、接着性と電気特性に優れた成形物を、より得られやすい。
これらのFポリマーは、成形物中において微小球晶を形成しやすく、他の成分との密着性が高まりやすい。その結果、表面平滑性、接着性と電気特性に優れた成形物を、より得られやすい。
ポリマー(1)は、TFE単位、PAVE単位及び極性官能基を有するモノマーに基づく単位を含むポリマーであるのが好ましく、全単位に対して、これらの単位をこの順に、90~99モル%、0.5~9.97モル%、0.01~3モル%、含むポリマーであるのがより好ましい。また、極性官能基を有するモノマーとしては、無水イタコン酸、無水シトラコン酸及び5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物(以下、「NAH」とも記す。)が好ましい。ポリマー(1)の具体例としては、国際公開第2018/16644号に記載されるポリマーが挙げられる。
ポリマー(2)は、TFE単位及びPAVE単位のみからなり、全単位に対して、TFE単位を95.0~98.0モル%、PAVE単位を2.0~5.0モル%含有するのが好ましい。ポリマー(2)におけるPAVE単位の含有量は、全単位に対して、2.1~5.0モル%が好ましく、2.2~5.0モル%がより好ましい。
なお、ポリマー(2)が極性官能基を有さないとは、ポリマー主鎖を構成する炭素原子数の1×106個あたりに対して、ポリマーが有する極性官能基の数が500個未満であることを意味する。上記極性官能基の数は100個以下が好ましく、50個未満がより好ましい。上記極性官能基の数の下限は、通常、0個である。
ポリマー(2)は、ポリマー鎖の末端基として極性官能基を生じない、重合開始剤や連鎖移動剤等を使用して製造してもよく、極性官能基を有するFポリマー(重合開始剤に由来する極性官能基をポリマーの主鎖の末端基に有するFポリマー等)をフッ素化処理して製造してもよい。フッ素化処理の方法としては、フッ素ガスを使用する方法(特開2019-194314号公報等を参照)が挙げられる。
なお、ポリマー(2)が極性官能基を有さないとは、ポリマー主鎖を構成する炭素原子数の1×106個あたりに対して、ポリマーが有する極性官能基の数が500個未満であることを意味する。上記極性官能基の数は100個以下が好ましく、50個未満がより好ましい。上記極性官能基の数の下限は、通常、0個である。
ポリマー(2)は、ポリマー鎖の末端基として極性官能基を生じない、重合開始剤や連鎖移動剤等を使用して製造してもよく、極性官能基を有するFポリマー(重合開始剤に由来する極性官能基をポリマーの主鎖の末端基に有するFポリマー等)をフッ素化処理して製造してもよい。フッ素化処理の方法としては、フッ素ガスを使用する方法(特開2019-194314号公報等を参照)が挙げられる。
本発明のフィルムは、Fポリマー以外の他の樹脂を含んでいてもよい。但し、フィルムに含まれるFポリマーの含有量は80質量%以上が好ましく、100質量%がさらに好ましい。Fポリマー以外の他の樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリイミド前駆体であるポリアミック酸、アクリル樹脂、フェノール樹脂、液晶性ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、多官能シアン酸エステル樹脂、多官能マレイミド-シアン酸エステル樹脂、多官能性マレイミド樹脂、ビニルエステル樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン、ポリアリルスルホン、芳香族ポリアミド樹脂、芳香族ポリエーテルアミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリアリルエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテルが挙げられる。
本発明のフィルムは、例えば無機フィラー、有機フィラー、チキソ性付与剤、消泡剤、シランカップリング剤、脱水剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、離型剤、表面処理剤、粘度調節剤、難燃剤等をさらに含んでいてもよい。
無機フィラーとしては、窒化ホウ素フィラー、ベリリアフィラー(ベリリウムの酸化物のフィラー)、ケイ酸塩フィラー(シリカフィラー、ウォラストナイトフィラー、タルクフィラー)、及び、金属酸化物(酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン等)フィラーが好ましい。また、無機フィラーは、その表面の少なくとも一部が表面処理されていてもよい。かかる表面処理に用いられる表面処理剤としては、多価アルコール、飽和脂肪酸、そのエステル、アミン、パラフィンワックス、シランカップリング剤、シリコーン、ポリシロキサンが挙げられる。
無機フィラーの形状は、粒状、針状(繊維状)、板状などのいずれでもよく、具体的な形状としては、球状、鱗片状、層状、葉片状、杏仁状、柱状、鶏冠状、等軸状、葉状、雲母状、ブロック状、平板状、楔状、ロゼット状、網目状、角柱状が挙げられる。
無機フィラーの形状は、粒状、針状(繊維状)、板状などのいずれでもよく、具体的な形状としては、球状、鱗片状、層状、葉片状、杏仁状、柱状、鶏冠状、等軸状、葉状、雲母状、ブロック状、平板状、楔状、ロゼット状、網目状、角柱状が挙げられる。
以下、本発明のフィルムの製造方法について説明する。本発明のフィルムは、フィルムの歪みを調整できる観点から、好適にはTダイキャスト法(Tダイによる溶融押出法)により製造できる。
Tダイキャスト法によるフィルムのMD及びTDの歪みは、溶融状態のFポリマーの状態(温度、流動性)と冷却条件とに依存し、Tダイから吐出される溶融したFポリマーが冷却ロールにて結晶化するまでの状態によって決定される点を、本発明者らは知見した。換言すると、上記Fポリマーの状態と冷却条件とを適切に設定してFポリマーの結晶化を制御すれば、得られるフィルムのMD及びTDの熱収縮率(歪み)が所定範囲に収束し、かつ結晶成長の抑制に起因して、100~200μmという比較的厚いフィルムでも低ヘイズを達成できる点を、本発明者らは知見した。
Tダイキャスト法によるフィルムのMD及びTDの歪みは、溶融状態のFポリマーの状態(温度、流動性)と冷却条件とに依存し、Tダイから吐出される溶融したFポリマーが冷却ロールにて結晶化するまでの状態によって決定される点を、本発明者らは知見した。換言すると、上記Fポリマーの状態と冷却条件とを適切に設定してFポリマーの結晶化を制御すれば、得られるフィルムのMD及びTDの熱収縮率(歪み)が所定範囲に収束し、かつ結晶成長の抑制に起因して、100~200μmという比較的厚いフィルムでも低ヘイズを達成できる点を、本発明者らは知見した。
本発明のフィルムの製造方法は、FポリマーをTダイから溶融状態で吐出して押出成形し、温度制御された2本のロール間にフィルムを挟み込んで冷却させる操作を含む(本法1)。好適には、前記温度制御された2本のロールの温度が、一方が150~250℃であり、もう一方が80~150℃である。さらに好適には、前記温度制御された2本のロールの1本が、150~250℃に制御された金属ロールであり、もう1本が80~150℃に制御された金属弾性ロールである。
図1は、本法1に使用されるフィルムの製造装置の一実施形態を示す概略図である。図1に示す製造装置10は、Tダイ20と、Tダイ20の鉛直下方に配置された第1冷却ロール(最初の冷却ロール)30と、急冷ロール301と、第1冷却ロール30に併設された第2冷却ロール40と、フィルム1を巻き取る巻取りロール50と、巻取りロール50と第2冷却ロール40との間に配置された搬送ロール61、62を有している。
また、第1冷却ロール30に、エアーナイフ70をさらに備えていてもよく、備えていることが好ましい。
また、第1冷却ロール30に、エアーナイフ70をさらに備えていてもよく、備えていることが好ましい。
Fポリマーは、Tダイ20に接続された押出機(図示せず)内で加熱により溶融され、Tダイ20内に供給される。溶融状態のFポリマーは、Tダイ20のリップ21から、第1冷却ロール30に向かって吐出される。次いで、吐出された溶融状態のFポリマーは、第1冷却ロール30に接触するとともに、急冷ロール301で第1冷却ロール30に挟み込まれて冷却される。さらに、Fポリマーは、第2冷却ロール40を通過後、搬送ローラ61、62で搬送される。その後、Fポリマーはフィルム1として巻取りロール50に巻き取られる。第1冷却ロール30としては、温度制御が可能な金属ロールを用いるのが好ましく、急冷ロール301としては、金属弾性ロールを用いるのが好ましい。
金属弾性ロールとしては、表面がステンレス鋼などの金属材料で構成され、この表面金属材料と軸ロールとの間が流体やゴムなどの弾性材料で充填されたロールが挙げられる。金属弾性ロールは、例えば、略円柱状の回転自在に設けられた軸ロールと、この軸ロールの外周面を覆うように配置され、フィルム状物に接触する円筒形の金属製薄膜と、これら軸ロールおよび金属製薄膜の間に封入された流体とからなる。前記流体により金属弾性ロールは弾性を示し、低線圧でロール圧着成形が可能である特質があり、本発明では、かかる特質を活かし、フィルム冷却条件の制御に寄与している。
軸ロールの材質としては、ステンレス鋼が挙げられる。金属製薄膜は、ステンレス鋼からなり、その厚さは2~5mmであるのが好ましい。金属製薄膜は、屈曲性又は可撓性であるのが好ましく、かつ、溶接継ぎ部のないシームレス構造であるのが好ましい。このような金属製薄膜を備えた金属弾性ロールは、耐久性に優れると共に、金属製薄膜を鏡面化すれば通常の鏡面ロールと同様の取り扱いができる。表面平滑性に優れたフィルムを得る観点から、金属弾性ロールの表面が鏡面ロールであるとより好ましい。金属弾性ロールの市販品としては、日立造船株式会社のUFロール、千葉機械工業株式会社のSFロールが挙げられる。
軸ロールの材質としては、ステンレス鋼が挙げられる。金属製薄膜は、ステンレス鋼からなり、その厚さは2~5mmであるのが好ましい。金属製薄膜は、屈曲性又は可撓性であるのが好ましく、かつ、溶接継ぎ部のないシームレス構造であるのが好ましい。このような金属製薄膜を備えた金属弾性ロールは、耐久性に優れると共に、金属製薄膜を鏡面化すれば通常の鏡面ロールと同様の取り扱いができる。表面平滑性に優れたフィルムを得る観点から、金属弾性ロールの表面が鏡面ロールであるとより好ましい。金属弾性ロールの市販品としては、日立造船株式会社のUFロール、千葉機械工業株式会社のSFロールが挙げられる。
溶融状態のFポリマーを、好適には金属弾性ロールである急冷ロール301で、好適には金属ロールである第1冷却ロール30に挟み込んで冷却することで、フィルムを急速に冷却して結晶の成長を抑制しヘイズを下げられ、かつ、第1冷却ロールと急冷ロールとに挟み込まれたフィルムにかかる歪みの蓄積を下げられる。
第1冷却ロール30の温度は150~250℃が好ましく、急冷ロール301の温度は、フィルムを急速に冷却できる観点から80~150℃が好ましい。なお、第1冷却ロール、急冷ロールのいずれも、熱媒を通過させる機構を有する構成が好ましく、熱媒が軸方向に往復して繰り返し通過する複式の機構を有する構成が好ましい。第1冷却ロールの温度、急冷ロールの温度は、いずれも熱媒の温度を意味する。
急冷ロールが金属弾性ロールである場合は、金属弾性ロール自体の特性を損なわない温度範囲であるのが好ましい。
第1冷却ロール30の温度は150~250℃が好ましく、急冷ロール301の温度は、フィルムを急速に冷却できる観点から80~150℃が好ましい。なお、第1冷却ロール、急冷ロールのいずれも、熱媒を通過させる機構を有する構成が好ましく、熱媒が軸方向に往復して繰り返し通過する複式の機構を有する構成が好ましい。第1冷却ロールの温度、急冷ロールの温度は、いずれも熱媒の温度を意味する。
急冷ロールが金属弾性ロールである場合は、金属弾性ロール自体の特性を損なわない温度範囲であるのが好ましい。
本法1では、溶融状態のFポリマーが、第1冷却ロール30に急冷ロール301で挟み込まれた直後の位置に、エアーナイフ70をさらに備えていることが好ましい。エアーナイフ70は、溶融状態のFポリマーが第1冷却ロール30に接触する線上に、スリットノズルよりスリット状空気流を第1冷却ロール30の幅方向に線状に均一に吹き付けることで、溶融状態のFポリマーを冷却するとともに第1冷却ロール30に押し付ける役割を持つ。急冷ロール301と同様に、Fポリマーの冷却効率を上げて、得られるフィルムのヘイズを抑えるとともに、熱伸縮率を下げる効果がある。
エアーナイフから吹き出す空気の温度は150~200℃が好ましく、170~200℃がより好ましい。150℃以上であればフィルムの熱伸縮率が小さくなり、200℃以下であれば、ヘイズが小さくなりやすい。
エアーナイフから吹き出す空気の流速は10~20m/秒が好ましい。
エアーナイフから吹き出す空気の温度は150~200℃が好ましく、170~200℃がより好ましい。150℃以上であればフィルムの熱伸縮率が小さくなり、200℃以下であれば、ヘイズが小さくなりやすい。
エアーナイフから吹き出す空気の流速は10~20m/秒が好ましい。
本発明のフィルムの製造方法は、本法1において、例えば、図2に示す押出成形装置11を使用して、溶融温度が260~320℃であるFポリマーのペレットからフィルムを製造する方法をさらに含む(本法2)。
図2は、本法2において使用される押出成形装置の一実施形態を示す概念図である。なお、以下の説明では、図2中の右側(溶融混練物の移送方向の前方)を「先端」、左側(上記移送方向の後方)を「基端」として説明する。
図2は、本法2において使用される押出成形装置の一実施形態を示す概念図である。なお、以下の説明では、図2中の右側(溶融混練物の移送方向の前方)を「先端」、左側(上記移送方向の後方)を「基端」として説明する。
図2に示す押出成形装置11は、ホッパー2と、ホッパー2に連通する混練部3とを備える。本実施形態の混練部3は、シリンダ31と、シリンダ31内に回転可能に設けられた1本のスクリュー32とを有する単軸混練機で構成されている。単軸混練機を使用すれば、ペレットを溶融混練する際に、Fポリマーが劣化するのを防止しやすい。
この場合、スクリュー32の全長をL(mm)とし、直径をD(mm)としたとき、直径Dに対する全長Lの比で表される有効長(L/D)は、30~45がより好ましい。有効長が上記範囲であれば、Fポリマーの劣化を防止しつつ、Fポリマーに対して充分な剪断応力を付与でき、溶融混練物の温度ムラを低減しやすい。
この場合、スクリュー32の全長をL(mm)とし、直径をD(mm)としたとき、直径Dに対する全長Lの比で表される有効長(L/D)は、30~45がより好ましい。有効長が上記範囲であれば、Fポリマーの劣化を防止しつつ、Fポリマーに対して充分な剪断応力を付与でき、溶融混練物の温度ムラを低減しやすい。
シリンダ31の基端側には、ギアボックス33と、モータ34とが順に配置されている。モータ34の回転軸341の先端部には、ギア(図示せず)が接続され、このギアがギアボックス33内の所定のギア(図示せず)に噛み合っている。
ギアボックス33では、回転軸341の回転運動を加速又は減速して、回転軸331に伝達する。回転軸331の先端部は、スクリュー32の基端側に接続されている。
かかる構成により、モータ34の回転をスクリュー32に伝達して、スクリュー32を所定の回転速度で回転させる。その結果、溶融混練物は、図2中基端側(左側)から先端側(右側)に向かって移送される。
ギアボックス33では、回転軸341の回転運動を加速又は減速して、回転軸331に伝達する。回転軸331の先端部は、スクリュー32の基端側に接続されている。
かかる構成により、モータ34の回転をスクリュー32に伝達して、スクリュー32を所定の回転速度で回転させる。その結果、溶融混練物は、図2中基端側(左側)から先端側(右側)に向かって移送される。
また、シリンダ31の外周部には、ヒータ35が設けられている。シリンダ31内に供給されたペレット(Fポリマー)は、ヒータ35の加熱により溶融されつつ、スクリュー32の回転により混合(混練)かつ先端側に向かって移送される。これにより、ペレットは、溶融及び混練されて、その溶融混練物がシリンダ31の先端開口部311から押し出される。
シリンダ31の先端側(混練部3の軸方向のホッパー2と反対側)には、Tダイ5が配置されている。シリンダ31の先端開口部311から押し出された溶融混練物は、Tダイ5の下端開口(吐出口)から吐出され、以後は本法1で述べたとおり、Fポリマーのフィルムが製造される。ここで、図2のTダイ5は、図1(又は後述する図3)におけるTダイ20に対応すると理解すればよい。なお、図示しないが、Tダイ5にもヒータが設けられている。
シリンダ31の先端側(混練部3の軸方向のホッパー2と反対側)には、Tダイ5が配置されている。シリンダ31の先端開口部311から押し出された溶融混練物は、Tダイ5の下端開口(吐出口)から吐出され、以後は本法1で述べたとおり、Fポリマーのフィルムが製造される。ここで、図2のTダイ5は、図1(又は後述する図3)におけるTダイ20に対応すると理解すればよい。なお、図示しないが、Tダイ5にもヒータが設けられている。
本実施形態では、シリンダ31(混練部3)とTダイ5との間には、静止型混合器(スタティックミキサー)6が設けられている。この静止型混合器6は、溶融混練物の流路を分割、転換又は反転して、溶融混練物を撹拌するエレメントである。
かかる静止型混合器6の設置により、溶融混練物に対して不要な外力を加えないでよいので、溶融混練物の劣化を抑制して均一に混練できる。
かかる静止型混合器6の設置により、溶融混練物に対して不要な外力を加えないでよいので、溶融混練物の劣化を抑制して均一に混練できる。
シリンダ31の基端側には、ホッパー2が配置されている。本実施形態のホッパー2は、ロート状の第1段部21と、第1段部21より混練部3(シリンダ31)側に配置されたロート状の第2段部22とを備える2段式のホッパーで構成されている。
第1段部21には、ヒータ211と、ポンプP1とが接続されている。これにより、第1段部21内に供給されたペレットを減圧状態で加熱できる。
第1段部21は、接続部212を介して第2段部22に接続されている。
第2段部22には、ヒータ221と、ポンプP2とが接続されている。これにより、第2段部22内に供給されたペレットを減圧状態で加熱できる。
第2段部22は、接続部222を介してシリンダ31に接続されている。
ホッパー2(第1段部21及び第2段部22)の内表面(内周面)は、樹脂膜で被覆されているのが好ましい。すなわち、ホッパー2の内表面が樹脂ライニングされているのが好ましい。これにより、軟化したペレットがホッパー2の内表面に付着するのを充分に防止できる。なお、樹脂膜の構成材料としては、PTFE等のフッ素樹脂が挙げられる。
第1段部21には、ヒータ211と、ポンプP1とが接続されている。これにより、第1段部21内に供給されたペレットを減圧状態で加熱できる。
第1段部21は、接続部212を介して第2段部22に接続されている。
第2段部22には、ヒータ221と、ポンプP2とが接続されている。これにより、第2段部22内に供給されたペレットを減圧状態で加熱できる。
第2段部22は、接続部222を介してシリンダ31に接続されている。
ホッパー2(第1段部21及び第2段部22)の内表面(内周面)は、樹脂膜で被覆されているのが好ましい。すなわち、ホッパー2の内表面が樹脂ライニングされているのが好ましい。これにより、軟化したペレットがホッパー2の内表面に付着するのを充分に防止できる。なお、樹脂膜の構成材料としては、PTFE等のフッ素樹脂が挙げられる。
本法2で使用されるペレットは、Fポリマー以外の成分を含んでいてもよいが、Fポリマーの含有量が、好ましくは80質量%以上であるのが好ましく、100質量%であるのがさらに好ましい。Fポリマー以外の成分としては、上述した他の樹脂や添加剤が挙げられる。
また、ペレットの形状としては、球状、円柱状が挙げられ、円柱状が好ましい。ペレットの直径は、1.0~4.0mmが好ましい。かかる直径のペレットであれば、ホッパー2でのブリッジ(詰まり)を防ぎつつ、ホッパー2で加熱した際に、その内部まで充分に加熱(加温)できる。
また、ペレットの形状としては、球状、円柱状が挙げられ、円柱状が好ましい。ペレットの直径は、1.0~4.0mmが好ましい。かかる直径のペレットであれば、ホッパー2でのブリッジ(詰まり)を防ぎつつ、ホッパー2で加熱した際に、その内部まで充分に加熱(加温)できる。
本法2では、Fポリマーのペレットをホッパー2内において予め加熱した後、混練部3に供給し、混練部3内で溶融及び混練された溶融混練物をTダイ5から吐出してフィルムを製造する。この際、ホッパー2の混練部3との接続部222におけるペレットの温度を(X-200)~(X-100)℃の範囲に調整する。なお、Xは、Fポリマーの溶融温度である。ホッパー2の混練部3との接続部222におけるペレットの温度は、(X-175)~(X-125)℃が好ましい。具体的なペレットの温度は70~225℃が好ましく、105~195℃がより好ましい。この場合、ペレットの軟化によるホッパー2内でのブリッジが生じにくい。また、混練部3内における溶融混練物の温度ムラが充分に減少するので、均一な厚さを有し、フィッシュアイの発生が防止されたフィルムが得られやすい。
第2段部22(混練部3に最も近い段部)内の圧力は、第1段部21の圧力より低いのが好ましく、1000Pa以下が好ましく、100Pa以下がより好ましい。これにより、ペレット内の空気を充分に除去でき、空気による断熱層の形成を阻止して、混練部3において溶融混練物に温度ムラが生じるのを防止しやすい。
軟化したペレットは、混練部3に供給される。スクリュー32の回転速度は、10~50ppmが好ましい。ヒータ35による加熱温度は、(X+30)~(X+50)℃がより好ましい。
上記条件でペレットを溶融混練すれば、均質で温度ムラの少ない溶融混練物が形成されやすい。その結果、本発明のフィルムがより得られやすい。
溶融混練物は、静止型混合器6を介して、Tダイ5に供給され、Tダイ5から吐出される。Tダイ5から吐出された溶融混練物は、本法1にて記載のとおりフィルム化され、巻き取りロールに巻き取られる。
また、押出成形装置11は、必要に応じて、切断機を有していてもよい。
軟化したペレットは、混練部3に供給される。スクリュー32の回転速度は、10~50ppmが好ましい。ヒータ35による加熱温度は、(X+30)~(X+50)℃がより好ましい。
上記条件でペレットを溶融混練すれば、均質で温度ムラの少ない溶融混練物が形成されやすい。その結果、本発明のフィルムがより得られやすい。
溶融混練物は、静止型混合器6を介して、Tダイ5に供給され、Tダイ5から吐出される。Tダイ5から吐出された溶融混練物は、本法1にて記載のとおりフィルム化され、巻き取りロールに巻き取られる。
また、押出成形装置11は、必要に応じて、切断機を有していてもよい。
本法2によれば、サージング現象を高度に抑制しつつ、過度の熱履歴を与えずにポリマーを均一に溶融及び混練して、フィルムが成形される。このため、欠陥(フィッシュアイ)の少ない、短手方向にも充分な長さを有する幅広のフィルムを容易に製造できる。
本発明のフィルムにおけるフィッシュアイの数は、フィルム1m2あたり、0.05個未満であるのが好ましい。フィッシュアイの数の下限は、0個である。
本発明のフィルムにおけるフィッシュアイの数は、フィルム1m2あたり、0.05個未満であるのが好ましい。フィッシュアイの数の下限は、0個である。
本発明のフィルムの製造方法は、本法1又は本法2において、FポリマーをTダイから溶融状態で吐出し、溶融状態のFポリマーを最初の冷却ロールに接触する前に非接触式加熱部で加熱する方法をさらに含む(本法3)。
図3は、本法3に使用されるフィルム製造装置の一実施形態を示す概略図である。図3に示す製造装置101は、本法1における製造装置10において、Tダイ20と第1冷却ロール30との間において、対向配置された一対のヒータ(非接触式加熱部)80をさらに有している以外は製造装置10と同様である。
図3は、本法3に使用されるフィルム製造装置の一実施形態を示す概略図である。図3に示す製造装置101は、本法1における製造装置10において、Tダイ20と第1冷却ロール30との間において、対向配置された一対のヒータ(非接触式加熱部)80をさらに有している以外は製造装置10と同様である。
Fポリマーは、Tダイ20に接続された押出機(図示せず)内で加熱により溶融され、Tダイ20内に供給される。溶融状態のFポリマーは、Tダイ20のリップ21から、第1冷却ロール30に向かって吐出される。次いで、吐出された溶融状態のFポリマーは、一対のヒータ80同士の間を通過する際に、ヒータ80に接触することなく加熱され、第1冷却ロール30に接触するとともに、急冷ロール301で第1冷却ロール30に押し付けられて冷却される。このときに、第1冷却ロール30に接する接線と垂直方向に設置されたエアーナイフ70で、スリット状空気流を第1冷却ロール30の幅方向に線状に均一に吹き付けることで、溶融状態のFポリマーを冷却するとともに第1冷却ロール30に押し付けてもよい。さらに、Fポリマーは、第2冷却ロール40を通過後、搬送ローラ61、62で搬送され、フィルム1として巻取りロール50に巻き取られる。
かかる構成によれば、Tダイ20から吐出された溶融状態のFポリマーは、第1冷却ロール30に至る間においても、ヒータ80での加熱により高い温度に維持される。このため、第1冷却ロール30に向かって流下する溶融状態のFポリマーは、比較的高い流動性を維持するので、その自重や第1冷却ロール30の引張り力により延伸されたような状態となりにくい。その結果、溶融状態のFポリマーは、フィルム化の際にボーイング現象の発生(FポリマーのMD及びTDへの配向)が抑制され、上述のようなMD及びTDの歪み(熱伸縮率)の小さいフィルムが得られると推察される。
特に、図3に示す構成では、Tダイ20から吐出されたFポリマーを、その厚さ方向の両側からヒータ80で加熱するため、厚さ方向における温度の均一性が高く、上記ボーイング現象の発生を抑制する効果に優れる。また、ボーイング現象の発生を抑制する効果をより向上させる観点からは、Fポリマーの幅方向における温度も均一にできるように、ヒータ80を構成するのが好ましい。この場合、例えば、ヒータ80の幅を、Fポリマーの幅方向の長さより充分に大きく設計すればよい。
Tダイ20内におけるFポリマーの温度をX1[℃]と規定し、ヒータ80の温度をZ1[℃]と規定したとき、その差の絶対値(|X1-Z1|)は、70℃以下が好ましく、30~50℃がより好ましい。この場合、Fポリマーの変質を防止しつつ、Fポリマーの温度を第1冷却ロール30に至るまで充分に高く維持できる。なお、ダイ温度とダイリップ温度が異なる場合、X1はダイ温度を意味する。
また、第1冷却ロール30の温度をY1[℃]と規定したとき、差(X1-Y1)は、250℃以下が好ましく、200℃以下がより好ましく、125~175℃がさらに好ましい。この場合、Fポリマーの第1冷却ロール30による冷却の程度がより適度になるため、得られるフィルム1にMD及びTDの歪みが残存しにくく、冷却不足による変形も好適に防止できる。具体的には、Y1は、好ましくは150~250℃である。
また、第1冷却ロール30の温度をY1[℃]と規定したとき、差(X1-Y1)は、250℃以下が好ましく、200℃以下がより好ましく、125~175℃がさらに好ましい。この場合、Fポリマーの第1冷却ロール30による冷却の程度がより適度になるため、得られるフィルム1にMD及びTDの歪みが残存しにくく、冷却不足による変形も好適に防止できる。具体的には、Y1は、好ましくは150~250℃である。
また、第1冷却ロール30による冷却の際にも、ボーイング現象の発生を抑制する効果をより向上させる観点からは、FポリマーのMD及びTDにおける温度を均一にできるように、第1冷却ロール30を構成するのが好ましい。
したがって、第1冷却ロール30は、熱媒を通過させる機構を有する構成が好ましく、熱媒が軸方向に往復して繰り返し通過する複式の機構を有する構成が好ましい。なお、第1冷却ロール30の温度Y1は、熱媒の温度を意味する。
したがって、第1冷却ロール30は、熱媒を通過させる機構を有する構成が好ましく、熱媒が軸方向に往復して繰り返し通過する複式の機構を有する構成が好ましい。なお、第1冷却ロール30の温度Y1は、熱媒の温度を意味する。
なお、図3に示す構成では、一対のヒータ80が配置されているが、一方のみ配置するようにしてもよい。また、非接触式加熱部は、ヒータ80に代えて、熱風を吹き付けるブロー装置で構成してもよい。
本法1~本法3のいずれも、第1冷却ロール30に接触する前の溶融状態のFポリマーの厚さ(図1及び図3中、厚さt)は、100~200μmが好ましい。この場合、ヒータ80による加熱及び第1冷却ロール30による冷却の精度が向上し、得られるフィルム1にMD及びTDの歪みがより残存しにくくなる。
最終的に得られるフィルム1の厚さに対するTダイ20のリップ21の開度の比(ドロー比)が大きいと、Fポリマーに含まれるポリマーの分子鎖は強く延伸された状態となり、ポリマー分子が配向しやすい。その結果、フィルム1に残存するMD及びTDの歪みが大きくなる傾向がある。したがってドロー比は50以下が好ましい。
また、第1冷却ロール30の周速(図1及び図3中、周速S)も、フィルム1に残存するMD及びTDの歪みをより低減する観点から、2~20m/分がより好ましい。なお、第2冷却ロール40の温度は、30~90℃がより好ましい。
また、第1冷却ロール30の周速(図1及び図3中、周速S)も、フィルム1に残存するMD及びTDの歪みをより低減する観点から、2~20m/分がより好ましい。なお、第2冷却ロール40の温度は、30~90℃がより好ましい。
第1冷却ロール30から離脱した後のFポリマー(フィルム1)には、その表面に接着性官能基を導入し得る表面処理を施してもよい。かかる表面処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理等の放電処理、プラズマグラフト重合処理、電子線照射、エキシマUV光照射等の光線照射処理、火炎を使用したイトロ処理、金属ナトリウムを用いた湿式エッチング処理が挙げられる。
この表面処理により、フィルム1の表面には、ヒドロキシ基、カルボニル基、カルボキシ基等の極性性官能基が導入され、その結果、他の表面との接着性がより高まる。
この表面処理により、フィルム1の表面には、ヒドロキシ基、カルボニル基、カルボキシ基等の極性性官能基が導入され、その結果、他の表面との接着性がより高まる。
以下、本発明の積層体(以下、「本積層体」とも記す。)について説明する。
本積層体は、Fポリマー層(本発明のフィルムからなる層)と基材層とが、この順で積層された積層体である。本積層体は、本発明のフィルムと、本発明のフィルム以外の、フィルム状やシート状の基材とを、ロール・ツー・ロール方式で、例えばFポリマーの溶融温度~400℃でラミネートする方法や、重ね合わせてからFポリマーの溶融温度~400℃で熱プレスする方法で得るのが好ましい。
本積層体は、Fポリマー層(本発明のフィルムからなる層)と基材層とが、この順で積層された積層体である。本積層体は、本発明のフィルムと、本発明のフィルム以外の、フィルム状やシート状の基材とを、ロール・ツー・ロール方式で、例えばFポリマーの溶融温度~400℃でラミネートする方法や、重ね合わせてからFポリマーの溶融温度~400℃で熱プレスする方法で得るのが好ましい。
本積層体における基材層の材料としては、金属や樹脂が挙げられる。樹脂としては、熱可塑性樹脂、非熱溶融性樹脂、硬化性樹脂の未硬化物、硬化性樹脂の硬化物等が挙げられる。特に、金属及び耐熱樹脂が好ましい。
本積層体における基材層は、フィルム状やシート状の基材から形成された層であることが好ましい。フィルム状やシート状の基材としては、金属箔及び耐熱性樹脂フィルムが好ましい。
本積層体における基材層は、また、本発明のフィルムの表面上にコーティングやメッキ等の手段で形成された樹脂層や金属層であってもよい。
本積層体における基材層は、フィルム状やシート状の基材から形成された層であることが好ましい。フィルム状やシート状の基材としては、金属箔及び耐熱性樹脂フィルムが好ましい。
本積層体における基材層は、また、本発明のフィルムの表面上にコーティングやメッキ等の手段で形成された樹脂層や金属層であってもよい。
本積層体における基材層が金属箔から形成される層である場合、金属箔の表面の十点平均粗さは0.01μm以上0.5μm以下が好ましい。この場合、本発明のフィルムと金属箔とがより強固に密着しやすい。このため、膜厚精度が高い本発明のフィルムを有する積層体及びそれを加工して得られるプリント基板において、電気特性が顕著に発現しやすい。
具体的には、本積層体における基材層が金属箔からなる場合、本積層体のFポリマー層の周波数10GHzでの誘電正接は0.0001~0.0020が好ましい。
具体的には、本積層体における基材層が金属箔からなる場合、本積層体のFポリマー層の周波数10GHzでの誘電正接は0.0001~0.0020が好ましい。
金属箔の材質としては、鉄、銅、ニッケル、チタン、アルミニウム、これらの合金(ステンレス、ニッケル42合金等。)が挙げられる。金属箔としては、圧延銅箔及び電解銅箔が好ましい。
金属箔の表面は、防錆処理(クロメート等の酸化物皮膜等の形成)がされていてもよい。また、金属箔の表面は、シランカップリング剤により処理されていてもよい。その際の処理範囲は、金属箔の表面の一部であってもよく、表面の全部であってもよい。
金属箔の厚さは0.1~20μmが好ましく、0.5~10μmがより好ましい。
金属箔の表面は、防錆処理(クロメート等の酸化物皮膜等の形成)がされていてもよい。また、金属箔の表面は、シランカップリング剤により処理されていてもよい。その際の処理範囲は、金属箔の表面の一部であってもよく、表面の全部であってもよい。
金属箔の厚さは0.1~20μmが好ましく、0.5~10μmがより好ましい。
また、金属箔として、2層以上の金属箔を含むキャリア付金属箔を使用してもよい。キャリア付金属箔としては、キャリア銅箔(厚さ:10~35μm)と、剥離層を介してキャリア銅箔上に積層された極薄銅箔(厚さ:2~5μm)とからなるキャリア付銅箔が挙げられる。かかるキャリア付銅箔を使用すれば、MSAP(モディファイドセミアディティブ)プロセスによるファインパターンの形成が可能である。上記剥離層としては、ニッケル又はクロムを含む金属層、及び、この金属層を積層した多層金属層が好ましい。
キャリア付金属箔の具体例としては、福田金属箔粉工業株式会社製の商品名「FUTF-5DAF-2」が挙げられる。
キャリア付金属箔の具体例としては、福田金属箔粉工業株式会社製の商品名「FUTF-5DAF-2」が挙げられる。
本積層体の基材層は、気相成膜法及びめっき法により形成された金属層であってもよい。金属層は、例えば本発明のフィルムの表面に、スパッタリング法や無電解めっき法により金属のシード層を形成し、さらに電解めっき法によりシード層から金属を成長させて形成できる。シード層を形成する前に、本発明のフィルムの表面を表面処理してもよい。表面処理の方法としては、アニール処理、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、エキシマ処理、シランカップリング処理が挙げられる。
無電解めっき法でめっきする金属としては、銅、ニッケルが挙げられる。
シード層における金属としては、銅、ニッケル、クロム、ニクロム合金、チタン合金等が挙げられる。
電解めっき法でめっきする金属としては、銅が挙げられる。
無電解めっき法でめっきする金属としては、銅、ニッケルが挙げられる。
シード層における金属としては、銅、ニッケル、クロム、ニクロム合金、チタン合金等が挙げられる。
電解めっき法でめっきする金属としては、銅が挙げられる。
本積層体における基材層が耐熱性樹脂フィルムの層である場合、かかるフィルムは耐熱性樹脂の1種以上を含んでおり、単層フィルムであっても多層フィルムであってもよい。耐熱性樹脂フィルムには、ガラス繊維又は炭素繊維等が埋設されていてもよい。
基材層が耐熱性樹脂フィルムの層である場合、本積層体は、基材層の両面に本発明のフィルムを積層した構造の積層体であるのが好ましい。この場合、本発明のフィルムが耐熱性樹脂フィルムの両面に積層されるため、本積層体の線膨張係数が顕著に低下し、反りが生じにくい。
耐熱性樹脂としては、ポリイミド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアリルスルホン、芳香族ポリアミド、芳香族ポリエーテルアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリルエーテルケトン、ポリアミドイミド、液晶性ポリエステル、液晶性ポリエステルアミドが挙げられ、ポリイミド(特に、芳香族性ポリイミド)が好ましい。
基材層が耐熱性樹脂フィルムの層である場合、本積層体は、基材層の両面に本発明のフィルムを積層した構造の積層体であるのが好ましい。この場合、本発明のフィルムが耐熱性樹脂フィルムの両面に積層されるため、本積層体の線膨張係数が顕著に低下し、反りが生じにくい。
耐熱性樹脂としては、ポリイミド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアリルスルホン、芳香族ポリアミド、芳香族ポリエーテルアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリルエーテルケトン、ポリアミドイミド、液晶性ポリエステル、液晶性ポリエステルアミドが挙げられ、ポリイミド(特に、芳香族性ポリイミド)が好ましい。
両面に本発明のフィルムを有する耐熱性樹脂フィルムである本積層体において、その厚さ(総厚)は220μm以上が好ましく、250μm以上がより好ましい。上記厚さは、500μm以下が好ましい。かかる構成において、耐熱性樹脂フィルムの厚さに対する2つのFポリマー層の合計での厚さの比は0.8以上がより好ましい。上記比は、5以下が好ましい。
この場合、耐熱性樹脂フィルムの特性(高い降伏強度、難塑性変形性)とFポリマー層の特性(低い吸水性)とがバランスよく発揮される。
この場合、耐熱性樹脂フィルムの特性(高い降伏強度、難塑性変形性)とFポリマー層の特性(低い吸水性)とがバランスよく発揮される。
本積層体の具体例としては、金属箔と、その金属箔の少なくとも一方の表面にFポリマー層を有する金属張積層体、ポリイミドフィルムと、そのポリイミドフィルムの両方の表面にFポリマー層を有する多層フィルムが挙げられる。
本積層体であって、基材層が耐熱性樹脂フィルムである積層体の好適な態様としては、耐熱性樹脂フィルムが厚さ20~100μmのポリイミドフィルムであり、本発明のフィルム、ポリイミドフィルム、本発明のフィルムがこの順に直接接触して積層された3層フィルムが挙げられる。かかる態様における、2つの本発明のフィルムの厚さは、同じであり、100~200μmであるのが好ましい。また、ポリイミドフィルムの厚さに対する2つの本発明のフィルムの合計での厚さの比は、0.5~5が好ましい。かかる態様の積層体が、上述した積層体の効果を最も発現しやすい。
本積層体であって、基材層が耐熱性樹脂フィルムである積層体の好適な態様としては、耐熱性樹脂フィルムが厚さ20~100μmのポリイミドフィルムであり、本発明のフィルム、ポリイミドフィルム、本発明のフィルムがこの順に直接接触して積層された3層フィルムが挙げられる。かかる態様における、2つの本発明のフィルムの厚さは、同じであり、100~200μmであるのが好ましい。また、ポリイミドフィルムの厚さに対する2つの本発明のフィルムの合計での厚さの比は、0.5~5が好ましい。かかる態様の積層体が、上述した積層体の効果を最も発現しやすい。
ここで、本積層体の最表面(Fポリマー層の基材層と反対側の表面)は、その線膨張性や接着性を一層向上させるために、さらに表面処理されてもよい。
表面処理の方法としては、アニール処理、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、エキシマ処理、シランカップリング処理が挙げられる。
アニール処理における条件は、温度を120~180℃とし、圧力を0.005~0.015MPaとし、時間を30~120分間とするのが好ましい。
プラズマ処理に用いるガスとしては、酸素ガス、窒素ガス、希ガス(アルゴン等)、水素ガス、アンモニアガス、酢酸ビニルが挙げられる。これらのガスは、1種を使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
表面処理の方法としては、アニール処理、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、エキシマ処理、シランカップリング処理が挙げられる。
アニール処理における条件は、温度を120~180℃とし、圧力を0.005~0.015MPaとし、時間を30~120分間とするのが好ましい。
プラズマ処理に用いるガスとしては、酸素ガス、窒素ガス、希ガス(アルゴン等)、水素ガス、アンモニアガス、酢酸ビニルが挙げられる。これらのガスは、1種を使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
基材層が金属箔である本積層体(Fポリマー層付金属箔)の金属箔をエッチング加工し、伝送回路を形成してプリント基板が得られる。具体的には、金属箔をエッチング処理して所定の伝送回路に加工する方法や、金属箔を電解めっき法(セミアディティブ法(SAP法)、MSAP法等)によって所定の伝送回路に加工する方法によって、プリント基板を製造できる。
Fポリマー層付金属箔から製造されたプリント基板は、金属箔から形成された伝送回路とFポリマー層とをこの順に有する。プリント基板の構成の具体例としては、伝送回路/Fポリマー層/プリプレグ層、伝送回路/Fポリマー層/プリプレグ層/Fポリマー層/伝送回路が挙げられる。
かかるプリント基板の製造においては、伝送回路上に層間絶縁膜を形成してもよく、伝送回路上にカバーレイフィルムを積層してもよい。これらの層間絶縁膜及びカバーレイフィルムは、本発明のフィルムで形成してもよい。
Fポリマー層付金属箔から製造されたプリント基板は、金属箔から形成された伝送回路とFポリマー層とをこの順に有する。プリント基板の構成の具体例としては、伝送回路/Fポリマー層/プリプレグ層、伝送回路/Fポリマー層/プリプレグ層/Fポリマー層/伝送回路が挙げられる。
かかるプリント基板の製造においては、伝送回路上に層間絶縁膜を形成してもよく、伝送回路上にカバーレイフィルムを積層してもよい。これらの層間絶縁膜及びカバーレイフィルムは、本発明のフィルムで形成してもよい。
以上、本発明のフィルム、その製造方法及び本発明の積層体について説明したが、本発明は、前述した実施形態の構成に限定されない。
例えば、本発明のフィルム及び本発明の積層体は、前述した構成において、他の任意の構成を追加してもよいし、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されていてよい。
また、本発明の製造方法は、上記実施形態の構成において、他の任意の工程を追加で有してもよいし、同様の作用を生じる任意の工程と置換されていてよい。
例えば、本発明のフィルム及び本発明の積層体は、前述した構成において、他の任意の構成を追加してもよいし、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されていてよい。
また、本発明の製造方法は、上記実施形態の構成において、他の任意の工程を追加で有してもよいし、同様の作用を生じる任意の工程と置換されていてよい。
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。各成分の詳細を以下に示す。
[Fポリマー]
Fポリマー1:TFE単位、NAH単位及びPPVE単位を、この順に98.0モル%、0.1モル%、1.9モル%含む、酸無水物基を有するポリマー(溶融温度300℃)
Fポリマー2:TFE単位及びPPVE単位を、この順に98.0モル%、2.0モル%含む、官能基を有さないポリマー(溶融温度300℃)
なお、Fポリマー1はカルボニル基含有基を、主鎖炭素数1×106個あたり、1000個有し、Fポリマー2は、40個有する。
[ペレット]
ペレット1:Fポリマー1のペレット(直径:2.2mm)
[ヘイズの測定]
各実施例等で得たフィルムのヘイズ(曇り度)は、JIS K 7136に準拠し、NDH5000(日本電色工業社製)を使用して測定した。
[熱伸縮率]
JISK7133:1999に準拠し、120mm×120mmのサイズにフィルムを切り出したのち、フィルム流れ方向(MD)と幅方向(TD)に100mmの標線を書き、標線の長さを測定した。そのフィルムを180℃のオーブンに静置して30分加熱した後、25℃まで自然冷却してから、標線の長さを再度測定し、下記の式に従って伸縮率を計算した。
式:{(加熱前の標線の長さ)-(加熱後の標線の長さ)}/(加熱前の標線の長さ)×100
[フィルム外観]
フィルムを平滑なガラスの表面に静置し、反り(うねり)の有無を確認し、以下の基準にて評価した。
〇:反り(うねり)が確認されない。
×:反り(うねり)が確認される。
[Fポリマー]
Fポリマー1:TFE単位、NAH単位及びPPVE単位を、この順に98.0モル%、0.1モル%、1.9モル%含む、酸無水物基を有するポリマー(溶融温度300℃)
Fポリマー2:TFE単位及びPPVE単位を、この順に98.0モル%、2.0モル%含む、官能基を有さないポリマー(溶融温度300℃)
なお、Fポリマー1はカルボニル基含有基を、主鎖炭素数1×106個あたり、1000個有し、Fポリマー2は、40個有する。
[ペレット]
ペレット1:Fポリマー1のペレット(直径:2.2mm)
[ヘイズの測定]
各実施例等で得たフィルムのヘイズ(曇り度)は、JIS K 7136に準拠し、NDH5000(日本電色工業社製)を使用して測定した。
[熱伸縮率]
JISK7133:1999に準拠し、120mm×120mmのサイズにフィルムを切り出したのち、フィルム流れ方向(MD)と幅方向(TD)に100mmの標線を書き、標線の長さを測定した。そのフィルムを180℃のオーブンに静置して30分加熱した後、25℃まで自然冷却してから、標線の長さを再度測定し、下記の式に従って伸縮率を計算した。
式:{(加熱前の標線の長さ)-(加熱後の標線の長さ)}/(加熱前の標線の長さ)×100
[フィルム外観]
フィルムを平滑なガラスの表面に静置し、反り(うねり)の有無を確認し、以下の基準にて評価した。
〇:反り(うねり)が確認されない。
×:反り(うねり)が確認される。
[例1]
(1)フィルムの製造
Fポリマー1を350℃の押出機に投入後、1600mm幅のTダイから厚さ125μmとなるように押出した。ダイ温度は350℃、ダイリップ温度は370℃であった。押し出された溶融状態のFポリマー1は、90℃に制御された、金属弾性ロールである急冷ロール301で、200℃の第1冷却ロール30に挟み込まれ、次いで第1冷却ロールに向けて、第1冷却ロールに接する接線と垂直方向に設置されたエアーナイフ(高さ50mm)から、風速15m/秒で200℃のスリット状空気流を第1冷却ロール30の幅方向に線状に均一に吹き付けて第1冷却ロール30に押し付けられ、続いて90℃の第2冷却ロール40を通過後、90℃に加熱した巻取りロール61、62に引き取られて巻き取られた。得られたフィルム(以下、PFAフィルム1と称する)のヘイズは3%、180℃で30分加熱後の熱伸縮率はMDが0.2%、TDが-0.3%であった。
なお、押出機の混練部の前段にはホッパーが接続されており、Fポリマー1の投入は、ホッパーにペレット1を投入し、ホッパー内で100Pa以下の減圧処理と加熱処理をして、接続部におけるFポリマーの温度が180℃となる様に調整して行った。また、Tダイから押し出された溶融状態のFポリマー1には、急冷ロールと第1ロールに接触する前に、非接触式のヒータで320℃に加熱処理を施した。
(2)アンテナ基板の製造と評価
PFAフィルム1に、ロール・ツー・ロール方式で、ニッケルクロム合金を厚さ10nmとなるようにスパッタリングしてニッケルクロム合金層を形成し、次いで、該ニッケルクロム合金層の上に、銅を厚さ200nmとなるようにスパッタリングして銅層を形成した。さらに、銅層の上に、ドライフィルムレジストを90℃でロールラミネートした後、メッシュ幅が6μmとなるように露光し、現像した。
硫酸銅電解銅めっきにより、メッシュ部分を厚さ6μmとなるまでめっきした。その後、ドライフィルムレジストを剥離し、次いで、スパッタリングで形成させた銅層及びニッケルクロム合金層をエッチングにより除去して、アンテナ基板を得た。
得られたアンテナ基板の電気抵抗を測定し、導通が取れているかの評価を、導通している(〇)/導通していない(×)として行った。また、アンテナ基板のメッシュアンテナ形成後のヘイズを、上記した方法で測定した。
フィルム製造条件及びフィルム特性、アンテナとしての性能評価結果を表1に示す。
(1)フィルムの製造
Fポリマー1を350℃の押出機に投入後、1600mm幅のTダイから厚さ125μmとなるように押出した。ダイ温度は350℃、ダイリップ温度は370℃であった。押し出された溶融状態のFポリマー1は、90℃に制御された、金属弾性ロールである急冷ロール301で、200℃の第1冷却ロール30に挟み込まれ、次いで第1冷却ロールに向けて、第1冷却ロールに接する接線と垂直方向に設置されたエアーナイフ(高さ50mm)から、風速15m/秒で200℃のスリット状空気流を第1冷却ロール30の幅方向に線状に均一に吹き付けて第1冷却ロール30に押し付けられ、続いて90℃の第2冷却ロール40を通過後、90℃に加熱した巻取りロール61、62に引き取られて巻き取られた。得られたフィルム(以下、PFAフィルム1と称する)のヘイズは3%、180℃で30分加熱後の熱伸縮率はMDが0.2%、TDが-0.3%であった。
なお、押出機の混練部の前段にはホッパーが接続されており、Fポリマー1の投入は、ホッパーにペレット1を投入し、ホッパー内で100Pa以下の減圧処理と加熱処理をして、接続部におけるFポリマーの温度が180℃となる様に調整して行った。また、Tダイから押し出された溶融状態のFポリマー1には、急冷ロールと第1ロールに接触する前に、非接触式のヒータで320℃に加熱処理を施した。
(2)アンテナ基板の製造と評価
PFAフィルム1に、ロール・ツー・ロール方式で、ニッケルクロム合金を厚さ10nmとなるようにスパッタリングしてニッケルクロム合金層を形成し、次いで、該ニッケルクロム合金層の上に、銅を厚さ200nmとなるようにスパッタリングして銅層を形成した。さらに、銅層の上に、ドライフィルムレジストを90℃でロールラミネートした後、メッシュ幅が6μmとなるように露光し、現像した。
硫酸銅電解銅めっきにより、メッシュ部分を厚さ6μmとなるまでめっきした。その後、ドライフィルムレジストを剥離し、次いで、スパッタリングで形成させた銅層及びニッケルクロム合金層をエッチングにより除去して、アンテナ基板を得た。
得られたアンテナ基板の電気抵抗を測定し、導通が取れているかの評価を、導通している(〇)/導通していない(×)として行った。また、アンテナ基板のメッシュアンテナ形成後のヘイズを、上記した方法で測定した。
フィルム製造条件及びフィルム特性、アンテナとしての性能評価結果を表1に示す。
[例2]
Fポリマー1の代わりにFポリマー2を用い、第1冷却ロールにて、溶融状態のFポリマー2へエアーナイフによる空気吹付を行わなかった以外は、例1の(1)と同様にしてフィルムを製造した(PFAフィルム2)。得られたPFAフィルム2を用いて、例1の(2)と同様にアンテナ基板及びアンテナを作成し、同様に評価した。フィルム製造条件及びフィルム特性、アンテナとしての性能評価結果を表1に示す。
Fポリマー1の代わりにFポリマー2を用い、第1冷却ロールにて、溶融状態のFポリマー2へエアーナイフによる空気吹付を行わなかった以外は、例1の(1)と同様にしてフィルムを製造した(PFAフィルム2)。得られたPFAフィルム2を用いて、例1の(2)と同様にアンテナ基板及びアンテナを作成し、同様に評価した。フィルム製造条件及びフィルム特性、アンテナとしての性能評価結果を表1に示す。
[例3]
Fポリマー1をTダイから厚さ125μmとなるように押出し、急冷ロール301を用いず(すなわち、急冷ロール301と第1冷却ロール30への挟み込みを行わず)、かつ、第1冷却ロールにて、溶融状態のFポリマー1へのエアーナイフによる空気吹付を行わずに、第1冷却ロールを経由してフィルムを巻き取った以外は、例1の(1)と同様にしてフィルムを製造した(PFAフィルム3)。得られたPFAフィルム3を用いて、例1の(2)と同様にアンテナ基板及びアンテナを作成し、同様に評価した。
得られたPFAフィルム3のフィルム製造条件及びフィルム特性、アンテナとしての性能評価結果を表1に示す。PFAフィルム3は第1冷却ロールへの密着性が悪く、フィルムと第1冷却ロールの間に空気が入り込んだ痕である、「エアー痕」が見られ、外観は不良であった。
Fポリマー1をTダイから厚さ125μmとなるように押出し、急冷ロール301を用いず(すなわち、急冷ロール301と第1冷却ロール30への挟み込みを行わず)、かつ、第1冷却ロールにて、溶融状態のFポリマー1へのエアーナイフによる空気吹付を行わずに、第1冷却ロールを経由してフィルムを巻き取った以外は、例1の(1)と同様にしてフィルムを製造した(PFAフィルム3)。得られたPFAフィルム3を用いて、例1の(2)と同様にアンテナ基板及びアンテナを作成し、同様に評価した。
得られたPFAフィルム3のフィルム製造条件及びフィルム特性、アンテナとしての性能評価結果を表1に示す。PFAフィルム3は第1冷却ロールへの密着性が悪く、フィルムと第1冷却ロールの間に空気が入り込んだ痕である、「エアー痕」が見られ、外観は不良であった。
本発明のフィルムは、透明かつ寸法安定性に優れるため、アンテナのカバー材として有用である。また、本発明のフィルムは金属積層板(樹脂付金属箔)に容易に加工でき、得られる加工物品は、透明性を備えるフレキシブルプリント基板、アンテナ部品、プリント基板、スポーツ用具、食品工業用品等の、フレキシブルデバイス機器をはじめとし、デザイン性を重視するウェアラブル機器、医療機器等、様々な分野への適用が可能である。
なお、2020年03月31日に出願された日本特許出願2020-062167号の明細書、特許請求の範囲、要約書および図面の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
なお、2020年03月31日に出願された日本特許出願2020-062167号の明細書、特許請求の範囲、要約書および図面の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
1…フィルム、10,101…製造装置、20…Tダイ、21…リップ、30…第1冷却ロール、301…急冷ロール、40…第2冷却ロール、50…巻取りロール、61、62…搬送ロール、70…エアーナイフ、80…ヒータ、t…厚さ、S…周速、11…押出成形装置、2…ホッパー、21…第1段部、211…ヒータ、212…接続部、P1…ポンプ、22…第2段部、221…ヒータ、222…接続部、P2…ポンプ、3…混練部、31…シリンダ、311…先端開口部、32…スクリュー、33…ギアボックス、331…回転軸、34…モータ、341…回転軸、35…ヒータ、5…Tダイ、6…静止型混合器、L…全長、D…直径
Claims (15)
- テトラフルオロエチレン系ポリマーで構成された押出成形フィルムであって、厚さが100~200μmであり、ヘイズが8%以下であり、180℃にて30分加熱後の熱伸縮率がフィルムの流れ方向及び幅方向ともに-1~+1%である、フィルム。
- 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、テトラフルオロエチレンに基づく単位及びペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含むテトラフルオロエチレン系ポリマーである、請求項1に記載のフィルム。
- 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、請求項1又は2に記載のフィルム。
- 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融温度が260~320℃である、請求項1~3のいずれか1項に記載のフィルム。
- 請求項1~4のいずれか1項に記載のフィルムをTダイキャスト法により製造する方法であって、前記テトラフルオロエチレン系ポリマーをダイから溶融状態で吐出して押出成形し、温度制御された2本のロール間にフィルムを挟み込んで冷却させる操作を含む、製造方法。
- 前記温度制御された2本のロールの温度が、一方が150~250℃であり、もう一方が80~150℃である、請求項5に記載の製造方法。
- 混練部及び前記混練部に接続されたホッパーを有する押出成形装置を備え、前記ホッパーに溶融温度が260~320℃であるテトラフルオロエチレン系ポリマーのペレットを投入して、前記混練部で溶融及び混練された溶融混練物をTダイから吐出してフィルムを製造するに際し、前記ホッパーの前記混練部との接続部における前記ペレットの温度を(前記溶融温度-200)~(前記溶融温度-100)℃の範囲に調整した後、前記ペレットを前記混練部に供給する操作をさらに含む、請求項5又は6に記載の製造方法。
- 前記ペレットの直径が1.0~4.0mmである、請求項5~7のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記ホッパーが、第1段部と、前記第1段部より前記混練部側に配置された第2段部とを備える多段式のホッパーである、請求項5~8のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記ホッパーの前記混練部に最も近い段部内の圧力が1000Pa以下である、請求項5~9のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記押出成形装置が、前記混練部の軸方向の前記ホッパーと反対側に接続されたTダイと、前記混練部と前記Tダイとの間に設けられた静止型混合器とを備える、請求項5~10のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーをTダイから溶融状態で吐出し、前記溶融状態のテトラフルオロエチレン系ポリマーを最初の冷却ロールに接触する前に非接触式加熱部で加熱する操作をさらに含む、請求項5~11のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記Tダイ内における前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの温度と前記最初の冷却ロールの温度との差が250℃以下である、請求項12に記載の製造方法。
- 前記Tダイ内における前記テトラフルオロエチレン系ポリマーの温度と前記非接触式加熱部の温度との差の絶対値が70℃以下である、請求項12又は13に記載の製造方法。
- 請求項1~4のいずれか1項に記載のフィルムからなる層と、かかるフィルム以外の基材からなる基材層とを有する、積層体。
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