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WO2016035285A1 - 硬化性シリコーン組成物、硬化性ホットメルトシリコーン、および光デバイス - Google Patents

硬化性シリコーン組成物、硬化性ホットメルトシリコーン、および光デバイス Download PDF

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WO2016035285A1
WO2016035285A1 PCT/JP2015/004292 JP2015004292W WO2016035285A1 WO 2016035285 A1 WO2016035285 A1 WO 2016035285A1 JP 2015004292 W JP2015004292 W JP 2015004292W WO 2016035285 A1 WO2016035285 A1 WO 2016035285A1
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WO
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sio
mol
mass
curable
group
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2015/004292
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English (en)
French (fr)
Inventor
春菜 山▲崎▼
吉武　誠
涼太 道源
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Dow Corning Toray Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP2016546297A priority patent/JP6607644B2/ja
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Priority to EP15838940.3A priority patent/EP3190156B1/en
Priority to KR1020177008961A priority patent/KR102419245B1/ko
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    • C08G77/80—Siloxanes having aromatic substituents, e.g. phenyl side groups

Definitions

  • the present invention relates to a curable silicone composition, a curable hot melt silicone, and an optical device.
  • the curable silicone composition is cured and forms a cured product having excellent heat resistance, cold resistance, electrical insulation, weather resistance, water repellency, and transparency, and thus is used in a wide range of industrial fields.
  • the cured product is less likely to be discolored than other organic materials and has a small decrease in physical physical properties, and thus is suitable as an optical material.
  • Patent Document 1 proposes a liquid silicone resin composition for a light-emitting diode (LED) element, which comprises an alkenyl group-containing silicone resin, a silicon-bonded hydrogen atom-containing organopolysiloxane, and a hydrosilylation reaction catalyst. .
  • Patent Document 2 includes a sheet-shaped silicone resin composition for a light emitting diode (LED), which includes an alkenyl group-containing silicone resin, a silicon-bonded hydrogen atom-containing organopolysiloxane, and a hydrosilylation reaction catalyst.
  • Patent Document 3 discloses a solvent-soluble alkenyl group-containing organopolysiloxane produced by a hydrosilylation reaction between an alkenyl group-containing organopolysiloxane and a silicon atom-bonded hydrogen atom-containing organopolysiloxane, and a silicon atom-bonded hydrogen atom-containing organopolysiloxane.
  • Examples include curable organopolysiloxane compositions comprising a siloxane and a hydrosilylation reaction catalyst.
  • Patent Document 4 discloses an organopolysiloxane having at least two alkenylsilyl groups in one molecule and at least 2 in one molecule.
  • these materials have a problem that they have surface adhesiveness at 25 ° C., and are insufficient in hot melt properties, which is insufficient for actual application. Further, as the brightness of LED packages increases, these materials are required to have further heat resistance / light resistance, but there is a problem that they are insufficient.
  • An object of the present invention is to provide a curable silicone composition that cures to give a cured product having excellent heat resistance and light resistance, and curable properties that are non-flowable at room temperature, have low surface tackiness, and are easily melted by heating It is to provide hot melt silicone.
  • Another object of the present invention is to provide an optical device with high reliability.
  • the curable silicone composition of the present invention is (A) Average unit formula: (R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 4 O 1/2 ) e (Wherein, R 1, R 2, R 3 is different same or a phenyl group, an alkyl group or alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms, provided that 40 of R 1 hereinafter mol%, 30 mol% or more of R 2, 10 mol% of R 3 or less is an alkenyl group, 30 to 60 mol% of the sum of R 1, R 2, R 3 is a phenyl group, R 4 is A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is a number from 0 to 0.2, b is a number from 0.2 to 0.5, and c is from 0.3 to 0.8.
  • D is a number from 0 to 0.5, e is a number from 0 to 0.1, c + d is a number from 0.3 to 0.8, and a + b + c + d is 1. .) 100 parts by mass of an organopolysiloxane represented by (B) Average unit formula: (R 5 3 SiO 1/2 ) f (R 5 2 SiO 2/2 ) g (R 5 SiO 3/2 ) h (SiO 4/2 ) i (R 6 O 1/2 ) j (Wherein R 5 is the same or different and is a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, provided that 10 to 70 mol% of all R 5 are A phenyl group, at least one of all R 5 is an alkenyl group, R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, f is a number of 0.01 to
  • the amount of silicon-bonded hydrogen atoms in this component is 0.5 to 2.0 mol with respect to a total of 1 mol of alkenyl groups in components (A) and (B).
  • hydrosilylation reaction catalyst characterized in that it comprises at least an amount sufficient to promote the hydrosilylation reaction of the present composition.
  • the curable hot melt silicone of the present invention is (A) Average unit formula: (R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 4 O 1/2 ) e (Wherein, R 1, R 2, R 3 is different same or a phenyl group, an alkyl group or alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, 1 to 6 carbon atoms, provided that 40 of R 1 hereinafter mol%, 30 mol% or more of R 2, 10 mol% of R 3 or less is an alkenyl group, 30 to 60 mol% of the sum of R 1, R 2, R 3 is a phenyl group, R 4 is A hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is a number from 0 to 0.2, b is a number from 0.2 to 0.5, and c is a number from 0 to 0.8.
  • D is a number from 0 to 0.5, e is a number from 0 to 0.1, c + d is a number from 0.3 to 0.8, and a + b + c + d is 1.) 100 parts by mass of an organopolysiloxane represented by (B) Average unit formula: (R 5 3 SiO 1/2 ) f (R 5 2 SiO 2/2 ) g (R 5 SiO 3/2 ) h (SiO 4/2 ) i (R 6 O 1/2 ) j (Wherein R 5 is the same or different and is a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, provided that 10 to 70 mol% of all R 5 are A phenyl group, at least one of all R 5 is an alkenyl group, R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, f is a number of 0.01 to 0.3,
  • the amount of silicon-bonded hydrogen atoms in this component is 0.5 to 2.0 mol with respect to a total of 1 mol of alkenyl groups in components (A) and (B).
  • hydrosilylation reaction catalyst formed by hydrosilylation reaction of a curable silicone composition comprising at least an amount sufficient to promote the hydrosilylation reaction of the present composition to such an extent that no cured product is formed. It is non-flowable at 25 ° C. and has a melt viscosity at 100 ° C. of 5,000 Pa ⁇ s or less.
  • the optical device of the present invention is characterized in that the optical semiconductor element is sealed, protected or coated with the above curable silicone composition or the cured product of the above curable hot melt silicone.
  • the curable silicone composition of the present invention is characterized by being cured to give a cured product having excellent heat resistance and light resistance.
  • the curable hot melt silicone of the present invention is non-flowable at room temperature, has low surface tackiness, and is easily melted by heating. Furthermore, the optical device of the present invention is characterized by long life and excellent reliability.
  • Schematic sectional view showing an example of an optical device manufactured by the manufacturing method of the present invention 1 is a schematic perspective view of the optical device shown in FIG.
  • Schematic sectional view showing an example of another optical device manufactured by the manufacturing method of the present invention Schematic oblique perspective view showing an example of another optical device manufactured by the manufacturing method of the present invention
  • (A) component is an average unit formula: (R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2 ) b (R 3 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 4 O 1/2 ) e It is organopolysiloxane represented by these.
  • R 1 , R 2 and R 3 are the same or different and are a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms.
  • the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group, and a methyl group is preferable.
  • the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, and a hexenyl group, and a vinyl group and an allyl group are preferable.
  • R 1 or less 30 mole% or more of R 2, 10 mol% of R 3 or less is an alkenyl group
  • R 1, R 2, 30 ⁇ 60 mol% of the total R 3 is a phenyl group It is.
  • R 1 is 35 mol% or less
  • R 2 is 35 mol% or more
  • R 3 is 5 mol% or less.
  • Is an alkenyl group, and 35 to 55 mol% of the total of R 1 , R 2 and R 3 is preferably a phenyl group.
  • this composition can be used at 10 mol% or less of R 1 , R 2 It is preferable that 45 mol% or more and 10 mol% or less of R 3 is an alkenyl group, and 35 to 55 mol% of the total of R 1 , R 2 , and R 3 is a phenyl group.
  • R 4 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • alkyl group include the same alkyl groups as described above, and a methyl group and an ethyl group are preferable.
  • a is a number in the range of 0 to 0.2
  • b is a number in the range of 0.2 to 0.5
  • c is a number in the range of 0.3 to 0.8
  • D is a number in the range of 0 to 0.5
  • e is a number in the range of 0 to 0.1
  • c + d is a number in the range of 0.3 to 0.8
  • a + b + c + d is 1.
  • c is a number in the range of 0.4 to 0.8
  • d is a number in the range of 0 to 0.3
  • e is in the range of 0 to 0.05.
  • c + d is a number within the range of 0.4 to 0.8
  • a + b + c + d is 1.
  • a is within the range of 0 to 0.10 because it is easy to prepare a curable hot melt silicone that is non-flowable at room temperature, has low surface tackiness, and can be easily melted by heating, using this composition.
  • B is a number in the range of 0.2 to 0.4
  • c is a number in the range of 0.5 to 0.8
  • d is in the range of 0 to 0.2.
  • e is a number in the range of 0 to 0.05
  • c + d is a number in the range of 0.5 to 0.8
  • a + b + c + d is 1.
  • Examples of such component (A) include the following organopolysiloxanes.
  • Me, Ph, and Vi represent a methyl group, a phenyl group, and a vinyl group, respectively.
  • Me 3 SiO 1/2 0.15
  • MeVi SiO 2/2 0.25
  • PhSiO 3/2 0.60
  • HO 1/2 0.04
  • Me 3 SiO 1/2 0.15
  • the component (B) is an optional component for adjusting the viscosity of the present composition and adjusting the hardness and mechanical strength of the resulting cured product.
  • R 5 is the same or different phenyl group, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms.
  • this alkyl group include the same alkyl groups as described above, preferably a methyl group.
  • this alkenyl group the alkenyl group similar to the above is illustrated, Preferably, they are a vinyl group and an allyl group.
  • 10 to 70 mol% of the total R 5 is a phenyl group.
  • a cured product having sufficiently high mechanical strength and excellent heat resistance and light resistance can be obtained.
  • composition can be used to prepare a curable hot melt silicone that is non-flowable at room temperature, has low surface tackiness, and is easily melted by heating, 20 to 60 mol% of all R 5 are phenyl groups. Preferably there is.
  • R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group.
  • this alkyl group include the same alkyl groups as those described above for R 4 , preferably a methyl group or an ethyl group.
  • f is a number in the range of 0.01 to 0.3
  • g is a number in the range of 0.4 to 0.99
  • h is a number in the range of 0 to 0.2
  • i is a number in the range of 0 to 0.2
  • j is a number in the range of 0 to 0.1
  • h + i is a number in the range of 0 to 0.2
  • f + g + h + i is 1.
  • Examples of such component (B) include the following organopolysiloxanes.
  • Me, Ph, and Vi represent a methyl group, a phenyl group, and a vinyl group, respectively.
  • the content of the component (B) is an amount in the range of 0 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), and has a sufficiently high mechanical strength and heat resistance.
  • the amount is in the range of 0 to 120 parts by weight, in the amount of 0 to 100 parts by weight, or in the range of 0 to 40 parts by weight. An amount is preferred.
  • the content of the component (B) is in an amount in the range of 0 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Furthermore, since it is possible to prepare a curable hot-melt silicone that is non-flowable at room temperature, has low surface tackiness, and can be easily melted by heating, it is preferably in the range of 0 to 30 parts by mass.
  • Component (C) is an average composition formula for crosslinking component (A) and component (B): R 7 k H l SiO (4-kl) / 2 It is the organohydrogen polysiloxane represented by these.
  • R 7 is a phenyl group or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • this alkyl group include the same alkyl groups as described above, preferably a methyl group.
  • 10 to 70 mol% of all R 7 are phenyl groups.
  • k is a number in the range of 1.0 to 2.5
  • l is a number in the range of 0.01 to 0.9
  • k + l is 1.5 to 3.0.
  • k is a number within the range of 1.2 to 2.3.
  • l is a number in the range of 0.1 to 0.8
  • k + l is a number in the range of 2.0 to 2.7.
  • k is 1.5 to 2.2 because it is easy to prepare a curable hot-melt silicone that is non-flowable at room temperature, has low surface tackiness, and easily melts by heating, using this composition.
  • the number is in a range
  • l is a number in the range of 0.1 to 0.8
  • k + l is a number in the range of 2.0 to 2.7.
  • Examples of such component (C) include the following organopolysiloxanes.
  • Me and Ph represent a methyl group and a phenyl group, respectively.
  • Ph 2 Si (OSiMe 2 H) 2 ie, Ph 0.67 Me 1.33 H 0.67 SiO 0.67 MePhSi (OSiMe 2 H) 2 , ie, Ph 0.33 Me 1.67 H 0.67 SiO 0.67 PhSi (OSiMe 2 H) 3 , ie, Ph 0.25 Me 1.50 H 0.75 SiO 0.75 (HMe 2 SiO 1/2 ) 0.6 (PhSiO 3/2 ) 0.4 , ie Ph 0.40 Me 1.20 H 0.60 SiO 0.90
  • the content of component (C) is in the range of 0.5 to 2.0 moles of silicon-bonded hydrogen atoms in this component with respect to a total of 1 mole of alkenyl groups in components (A) and (B). Further, since a cured product having sufficiently high mechanical strength and excellent heat resistance and light resistance can be obtained, an amount within the range of 0.5 to 1.8 mol. It is preferable that Moreover, when preparing a curable hot melt silicone using this composition, the silicon-bonded hydrogen in this component with respect to 1 mol in total of the alkenyl groups in the component (A) and the component (B). The amount is preferably within the range of 0.7 to 1.5 moles of atoms.
  • the component (D) is a hydrosilylation catalyst for promoting the hydrosilylation reaction of the composition.
  • Examples of such component (D) include platinum-based catalysts, rhodium-based catalysts, and palladium-based catalysts, and platinum-based catalysts are preferred because they can significantly accelerate the curing of the composition.
  • Examples of the platinum-based catalyst include platinum fine powder, chloroplatinic acid, alcohol solution of chloroplatinic acid, platinum-alkenylsiloxane complex, platinum-olefin complex, and platinum-carbonyl complex, and platinum-alkenylsiloxane complex is particularly preferable. .
  • alkenylsiloxane examples include 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, Examples thereof include alkenyl siloxanes in which part of the methyl groups of these alkenyl siloxanes are substituted with ethyl groups, phenyl groups, and the like, and alkenyl siloxanes in which the vinyl groups of these alkenyl siloxanes are substituted with allyl groups, hexenyl groups, and the like.
  • 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is preferred because the platinum-alkenylsiloxane complex has good stability.
  • the amount of component (D) added is an amount that promotes the hydrosilylation reaction. Specifically, the amount of metal atoms in this component is 0 by mass relative to the total amount of components (A) to (C).
  • the amount is preferably in the range of 0.01 to 500 ppm, more preferably in the range of 0.01 to 100 ppm, particularly the amount in the range of 0.01 to 50 ppm. It is preferable that This is because if the amount of component (D) is at least the lower limit of the above range, the hydrosilylation reaction of the present composition can be sufficiently promoted, whereas if it is below the upper limit of the above range, the resulting curing is obtained. This is because problems such as coloring are less likely to occur in objects.
  • the present composition may contain (E) a reaction inhibitor as an optional component for adjusting the curing reaction of the present composition.
  • a reaction inhibitor as an optional component for adjusting the curing reaction of the present composition.
  • alkynes such as 2-methyl-3-butyn-2-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, and 2-phenyl-3-butyn-2-ol.
  • Enyne compounds such as 3-methyl-3-penten-1-yne and 3,5-dimethyl-3-hexen-1-yne; 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7 Examples include tetravinylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetrahexenylcyclotetrasiloxane, and benzotriazole.
  • the content of the component (E) is not limited, but is preferably in the range of 0.0001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the components (A) to (D).
  • the present composition may contain a phosphor in order to convert the emission wavelength from the optical semiconductor element.
  • a phosphor examples include oxide phosphors, oxynitride phosphors, nitride phosphors, sulfide phosphors, and oxysulfide phosphors that are widely used in light emitting diodes (LEDs). And yellow, red, green, and blue light emitting phosphors.
  • oxide phosphors include yttrium, aluminum, and garnet-based YAG green-yellow light-emitting phosphors containing cerium ions, terbium, aluminum, garnet-based TAG yellow light-emitting phosphors containing cerium ions, and Examples include silicate green to yellow light emitting phosphors containing cerium and europium ions.
  • the oxynitride phosphors include silicon, aluminum, oxygen, and nitrogen-based sialon-based red to green light-emitting phosphors containing europium ions.
  • nitride-based phosphors include calcium, strontium, aluminum, silicon, and nitrogen-based casoon-based red light-emitting phosphors containing europium ions.
  • sulfide-based phosphors include ZnS-based green color phosphors including copper ions and aluminum ions.
  • oxysulfide phosphors include Y 2 O 2 S red light-emitting phosphors containing europium ions. Two or more of these phosphors may be used in combination.
  • the composition may contain an adhesion-imparting agent for improving the adhesion.
  • an adhesion-imparting agent an organosilicon compound having at least one alkoxy group bonded to a silicon atom in one molecule is preferable.
  • the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, and a methoxyethoxy group, and a methoxy group is particularly preferable.
  • Examples of the group other than the alkoxy group bonded to the silicon atom of the organosilicon compound include halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups such as an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, and a halogenated alkyl group; Glycidoxyalkyl groups such as 3-glycidoxypropyl group and 4-glycidoxybutyl group; 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group and the like
  • Examples include epoxycyclohexylalkyl groups; epoxyalkyl groups such as 3,4-epoxybutyl groups and 7,8-epoxyoctyl groups; acrylic group-containing monovalent organic groups such as 3-methacryloxypropyl groups; and hydrogen atoms.
  • This organosilicon compound preferably has an alkenyl group or a group capable of reacting with a silicon atom-bonded hydrogen atom in the composition, and specifically, preferably has a silicon atom-bonded hydrogen atom or an alkenyl group. Moreover, since it can provide favorable adhesiveness to various types of substrates, the organosilicon compound preferably has at least one epoxy group-containing monovalent organic group in one molecule. Examples of such organosilicon compounds include organosilane compounds, organosiloxane oligomers, and alkyl silicates.
  • Examples of the molecular structure of the organosiloxane oligomer or alkyl silicate include linear, partially branched linear, branched, cyclic, and network, particularly linear, branched, and network. Preferably there is.
  • organosilicon compounds include silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane;
  • Examples thereof include a mixture of a siloxane compound having at least one atom-bonded hydroxy group and at least one silicon atom-bonded alkenyl group, methyl polysilicate, ethyl polysilicate, and epoxy group-containing ethyl polysilicate.
  • This adhesion-imparting agent is preferably a low-viscosity liquid, and the viscosity is not limited, but it is preferably in the range of 1 to 500 mPa ⁇ s at 25 ° C.
  • the content of the adhesion-imparting agent is not limited, but is preferably in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the present composition.
  • the present composition includes a silicone component having no silicon atom-bonded hydrogen atom as an optional component; inorganic filling such as silica, titanium oxide, glass, alumina, zinc oxide, etc.
  • Agent Fine organic resin powder such as polymethacrylate resin; may contain heat-resistant agent, dye, pigment, flame retardant.
  • the curable hot melt silicone of the present invention is 100 parts by mass of the above component (A), Component (B) 0 to 40 parts by mass, Component (C) ⁇ the amount by which silicon atom-bonded hydrogen atoms in this component is 0.5 to 2.0 mol relative to a total of 1 mol of alkenyl groups in components (A) and (B) ⁇ , And component (D) (amount sufficient to promote the hydrosilylation reaction of the composition)
  • a curable silicone composition comprising at least a non-flowable composition at 25 ° C. and a melt viscosity at 100 ° C. of 5,000 Pa ⁇ s or less.
  • the components (A) to (D) and other optional components are as described above.
  • the hydrosilylation reaction of the curable silicone composition to such an extent that a cured product is not formed means that the curing reaction of the curable silicone composition is stopped halfway.
  • the hydrosilylation reaction is continued until 50% to 90% of the alkenyl group or silicon-bonded hydrogen atom in the curable silicone composition is consumed, that is, until the conversion of the reaction is 50% to 90%. It is preferable to proceed.
  • This conversion rate can be obtained from the difference in reaction heat using, for example, a differential scanning calorimeter (DSC).
  • the present hot melt silicone is non-flowable at 25 ° C. and has a melt viscosity at 100 ° C. of 5,000 Pa ⁇ s or less, preferably in the range of 10 to 3,500 Pa ⁇ s.
  • non-fluidity means that the material does not flow in an unloaded state.
  • the ring-and-ball method of a hot melt adhesive specified in JIS K 6863-1994 “Testing method for softening point of hot melt adhesive” In order to show a state below the softening point measured by the softening point test method according to, that is, to be non-flowable at 25 ° C, the softening point needs to be higher than 25 ° C.
  • the melt viscosity at 100 ° C. is within the above range, a curable hot melt silicone having good adhesion after cooling to 25 ° C. after hot melt is obtained.
  • the softening point of the present hot melt silicone is higher than 25 ° C, but is preferably lower than 50 ° C. That is, the present hot melt silicone preferably has a melt viscosity of 2,000 Pa ⁇ s or more at 50 ° C., more preferably the melt viscosity at 50 ° C. is more than twice the melt viscosity at 100 ° C.
  • melt viscosity at 50 ° C. is not less than the above lower limit, and the melt viscosity at 50 ° C. is not less than the above lower limit with respect to the melt viscosity at 100 ° C. This is because it exhibits low hot melt properties.
  • the hot melt silicone can be processed into various shapes, for example, a sheet shape, a powder shape, or a tablet shape having a thickness of 5 ⁇ m to 5 mm.
  • the obtained hot-melt silicone having various shapes can be converted into a cured product having a desired shape by various methods such as lamination, compression molding, and transfer molding.
  • the optical device of the present invention is characterized in that an optical semiconductor element is sealed, protected, or coated with the above curable silicone composition or a cured product of the above curable hot melt silicone.
  • an optical semiconductor element a light emitting diode element is exemplified.
  • a light emitting diode (LED) is illustrated as such an optical device.
  • the present invention also relates to an optical device provided with a convex cured product.
  • 1 to 4 show an optical device in which an LED 2 is mounted on a substrate 1 having a flat surface and a convex cured product 3 is provided.
  • the LED 2 and the electrode (not shown) on the substrate 1 are connected by a wire or the like (not shown).
  • the optical device of the present invention shown in FIGS. 1 and 2 is manufactured by dropping the above curable silicone composition onto the substrate 1 so as to cover the LED 2 and curing the composition to form a convex cured product 3. can do.
  • the convex cured product 3 since the convex cured product 3 is hemispherical, it can control the light emission direction or suppress the front luminance from becoming too high. Optical properties can be exhibited.
  • FIG. 3 shows an optical device provided with a slightly flat dome-shaped convex cured product 3 unlike FIG.
  • the LED 2 and the electrode (not shown) on the substrate 1 are connected by a wire or the like (not shown).
  • the convex cured product 3 is slightly flat, the thickness of the optical device can be suppressed.
  • FIG. 4 shows an optical device provided with a semi-cylindrical convex cured product 3, unlike FIG. As in the case of FIG. 1 and FIG. 2, the LED 2 and the electrode (not shown) on the substrate 1 are connected by a wire or the like (not shown).
  • the convex cured product 3 since the convex cured product 3 has a semi-cylindrical shape, the convex cured product 3 can be disposed relatively densely on the substrate 1.
  • FIG. 5 shows an optical device having a reflector 4 around the LED 2, unlike FIGS. 1 to 4.
  • the optical device of the present invention shown in FIG. 5 has an LED 2 and a reflective material 4 on a substrate 1, and further includes a convex cured product 3.
  • the LED 2 and the electrode (not shown) on the substrate 1 are connected by a wire or the like (not shown).
  • the optical device of the present invention shown in FIG. 5 is manufactured by dropping the above-described curable silicone composition into the frame of the reflector 4 so as to cover the LED 2 and curing the composition to form a convex cured product 3. can do.
  • an optical device similar to FIG. 5 can be manufactured by adhering a lens after filling the inside of the frame with a sealing material.
  • the filling process of the sealing material and lens formation are performed. Since the steps can be performed simultaneously, the optical device manufacturing process can be simplified. Furthermore, since it is not necessary to adhere the lens and the sealing material, light reflection between the lens and the sealing material can be eliminated.
  • the curable silicone composition, curable hot melt silicone, and optical device of the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples.
  • the hardness of the cured product of the curable silicone composition, the degree of coloring, and the surface tackiness of the curable hot melt silicone at 25 ° C, the melt viscosity at 50 ° C and 100 ° C, and the conversion rate of the reaction were measured as follows.
  • Me, Ph, and Vi represent a methyl group, a phenyl group, and a vinyl group, respectively.
  • a sheet-like cured product was produced by press molding the curable silicone composition at 180 ° C. for 1 hour. The hardness of the sheet-like cured product was measured with a type D durometer defined in JIS K 6253.
  • the curable silicone composition was cured by holding at 180 ° C. for 1 hour to prepare a specimen having a thickness of 2 mm.
  • the coloring degree of the test specimen was measured at the initial stage and after heating at 180 ° C. for 240 hours. Coloring degree is measured using a spectrophotometer, JIS Z 8729-1980 L * a in the "L * a * b * color system and L * u * v * display method of the object color by color system" * B *
  • the value of b * used in the color system was used as an index of the degree of coloring in the yellow direction.
  • melt viscosity of curable hot melt silicone The melt viscosity at 50 ° C. and 100 ° C. of the curable hot-melt silicone was measured using a AR plate rheometer manufactured by TA Instruments, using a cone plate having a diameter of 20 mm and a cone angle of 2 °, and a shear rate of 1 / s. Measured with
  • reaction conversion rate About curable hot melt silicone and the curable silicone composition which is the raw material, the calorific value of the hydrosilylation reaction was measured using a differential scanning calorimeter (DSC) XDSC7000 manufactured by Seiko Instruments Inc. The reaction conversion rate of hot melt silicone was determined.
  • DSC differential scanning calorimeter
  • X The amount of heat measured when the curable silicone composition was cured.
  • Y The amount of heat measured when the curable hot melt silicone was cured.
  • the curable silicone composition or the curable hot melt silicone of the present invention is used for compression molding at 150 ° C. for 5 minutes to form a dome-shaped cured product. After curing at 150 ° C. for 2 hours, the optical device shown in FIG. 1 was produced.
  • This optical device was made to emit light with electricity at 700 mA at 85 ° C. under 85% relative humidity. After 100 hours, the light radiant flux (mW) was measured after taking out and emitting 30 mA, and the initial light radiant flux retention was calculated.
  • Example 8 When the curable silicone composition prepared in Example 1 was heated at 120 ° C. for 20 minutes, a curable hot melt silicone that was non-flowable at 25 ° C. and had low surface tack was obtained.
  • the curable hot melt silicones had melt viscosities at 50 ° C. and 100 ° C. of 8,060 Pa ⁇ s and 180 Pa ⁇ s, respectively, and a reaction conversion rate of 65%.
  • this curable hot melt silicone was heated at 180 ° C., it was once melted and then cured to give a cured product having no hot melt property within 5 minutes.
  • Example 9 When the curable silicone composition prepared in Example 2 was heated at 120 ° C. for 30 minutes, a curable hot melt silicone that was non-flowable at 25 ° C. and had low surface tack was obtained.
  • the melt viscosity at 50 ° C. and 100 ° C. of this curable silicone hot melt was 10,100 Pa ⁇ s and 100 Pa ⁇ s, respectively, and the reaction conversion rate was 66%.
  • this curable hot melt silicone was heated at 180 ° C., it was once melted and then cured to give a cured product having no hot melt property within 5 minutes.
  • Example 10 When the curable silicone composition prepared in Example 3 was heated at 120 ° C. for 20 minutes, a curable hot melt silicone that was non-flowable at 25 ° C. and had low surface tack was obtained.
  • the melt viscosities of this curable hot melt silicone at 50 ° C. and 100 ° C. were 12,000 Pa ⁇ s and 3,050 Pa ⁇ s, respectively, and the reaction conversion rate was 73%.
  • this curable hot melt silicone was heated at 180 ° C., it was once melted and then cured to give a cured product having no hot melt property within 5 minutes.
  • Example 11 When the curable silicone composition prepared in Example 4 was heated at 120 ° C. for 10 minutes, a curable hot melt silicone that was non-flowable at 25 ° C. and had low surface tack was obtained.
  • the melt viscosities of this curable hot melt silicone at 50 ° C. and 100 ° C. were 2,580 Pa ⁇ s and 27 Pa ⁇ s, respectively, and the reaction conversion rate was 70%.
  • this curable hot melt silicone was heated at 180 ° C., it was once melted and then cured to give a cured product having no hot melt property within 5 minutes.
  • Example 12 When the curable silicone composition prepared in Example 5 was heated at 120 ° C. for 10 minutes, a curable hot melt silicone that was non-flowable at 25 ° C. and had low surface tack was obtained.
  • the melt viscosity at 50 ° C. and 100 ° C. of this curable hot melt silicone was 10,400 Pa ⁇ s and 152 Pa ⁇ s, respectively, and the reaction conversion rate was 74%.
  • this curable hot melt silicone was heated at 180 ° C., it was once melted and then cured to give a cured product having no hot melt property within 5 minutes.
  • Example 13 When the curable silicone composition prepared in Example 6 was heated at 120 ° C. for 10 minutes, a hot-melt silicone that was non-flowable at 25 ° C. and had low surface tack was obtained.
  • the melt viscosities of this curable hot melt silicone at 50 ° C. and 100 ° C. were 12,200 Pa ⁇ s and 158 Pa ⁇ s, respectively, and the reaction conversion rate was 60%.
  • this curable hot-melt silicone was heated at 180 ° C., it was once melted and then cured to give a cured product having no hot-melt property within 5 minutes.
  • Example 14 When the curable silicone composition prepared in Example 7 was heated at 120 ° C. for 10 minutes, a curable hot melt silicone that was non-flowable at 25 ° C. and had low surface tack was obtained.
  • the melt viscosity at 50 ° C. and 100 ° C. of the curable hot melt silicone was 12,700 Pa ⁇ s and 3,400 Pa ⁇ s, respectively, and the reaction conversion rate was 58%.
  • this curable hot melt silicone was heated at 180 ° C., it was once melted and then cured to give a cured product having no hot melt property within 5 minutes.
  • Comparative Example 5 When the curable silicone composition prepared in Comparative Example 2 was heated at 120 ° C. for 5 minutes, 10 minutes, and 15 minutes, it was found that in any case, a cured product was obtained and it did not have hot melt properties. .
  • Comparative Example 6 When the curable silicone composition prepared in Comparative Example 4 was heated at 120 ° C. for 5 minutes, 10 minutes, and 15 minutes, it was found that in all cases, a cured product was obtained and it did not have hot melt properties. .
  • the curable silicone composition of the present invention gives a cured product excellent in light resistance and heat resistance, it is suitable for applications requiring durability such as optical devices.
  • the hot melt silicone of the present invention is non-flowable at 25 ° C., has low surface tackiness, is easily melted by heating, and is cured to be equivalent to a cured product obtained from the curable silicone composition. Since it gives a cured product having excellent light resistance and heat resistance, it is suitable for a sealing material for semiconductor devices and hot melt adhesives that require heat resistance and light resistance.
  • the curable silicone hot melt of the present invention has curability in addition to the hot melt property, it is suitable for the above-described applications requiring durability.
  • the optical device of the present invention is suitable for an optical device that requires high durability because the optical semiconductor element is sealed, protected, or covered with a silicone cured product having excellent light resistance and heat resistance. .

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Abstract

　（Ａ）特定の平均単位式で表されるオルガノポリシロキサン、（Ｂ）特定の平均単位式で表される任意のオルガノポリシロキサン、（Ｃ）特定の平均組成式で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン、および（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒から少なくともなる硬化性シリコーン組成物、およびこの組成物を、硬化物を形成しない程度にヒドロシリル化反応してなる、２５℃で非流動性であり、１００℃での溶融粘度が５,０００Ｐa・ｓ以下である硬化性ホットメルトシリコーン。この硬化性シリコーン組成物は、硬化して、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を与える。また、この硬化性ホットメルトシリコーンは、室温において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融する。

Description

硬化性シリコーン組成物、硬化性ホットメルトシリコーン、および光デバイス
　本発明は、硬化性シリコーン組成物、硬化性ホットメルトシリコーン、および光デバイスに関する。
　硬化性シリコーン組成物は、硬化して、優れた耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、耐候性、撥水性、透明性を有する硬化物を形成することから、幅広い産業分野で利用されている。特に、その硬化物は、他の有機材料と比較し変色しにくく、また、物理的物性の低下が小さいため、光学材料として適している。例えば、特許文献１には、アルケニル基含有シリコーンレジン、ケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサン、およびヒドロシリル化反応用触媒からなる、発光ダイオード（ＬＥＤ）素子用液状シリコーンレジン組成物が提案されている。
　一方、近年、新たな発光ダイオード（ＬＥＤ）の製造プロセスのために、室温で固体状もしくは半固体状の材料が提案されている。例えば、特許文献２には、アルケニル基含有シリコーンレジン、ケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサン、およびヒドロシリル化反応用触媒からなる、発光ダイオード（ＬＥＤ）用のシート状シリコーンレジン組成物が挙げられ、特許文献３には、アルケニル基含有オルガノポリシロキサンとケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサンのヒドロシリル化反応により生成される、溶媒可溶性のアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、およびケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサン、およびヒドロシリル化反応用触媒からなる硬化性オルガノポリシロキサン組成物が挙げられ、特許文献４には、一分子中に少なくとも２個のアルケニルシリル基を有するオルガノポリシロキサン、一分子中に少なくとも２個のヒドロシリル基を有するオルガノポリシロキサン、ヒドロシリル化反応用触媒、および反応抑制剤を含むシリコーンレジン用組成物を半硬化させてなるシリコーンレジンシートが挙げられる。
　しかしながら、これらの材料は、２５℃において表面粘着性があり、また、ホットメルト性が十分でなく、実際の応用には不十分であるという課題がある。さらに、ＬＥＤパッケージの高輝度化に伴い、これらの材料には、さらなる耐熱性／耐光性が求められているが、不十分であるという課題がある。
特開２００４－１８６１６８号公報 特開２００９－２３５３６８号公報 特開２００９－２４２６２７号公報 特開２０１１－２１９５９７号公報
　本発明の目的は、硬化して、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を与える硬化性シリコーン組成物、および室温において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融する硬化性ホットメルトシリコーンを提供することにある。また、本発明の他の目的は、信頼性の高い光デバイスを提供することにある。
　本発明の硬化性シリコーン組成物は、
（Ａ）平均単位式：
(Ｒ１ ３ＳiＯ１／２)ａ(Ｒ２ ２ＳiＯ２／２)ｂ(Ｒ３ＳiＯ３／２)ｃ(ＳiＯ４／２)ｄ(Ｒ４Ｏ１／２)e
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基であり、ただし、Ｒ１の４０モル％以下、Ｒ２の３０モル％以上、Ｒ３の１０モル％以下がアルケニル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の合計の３０～６０モル％がフェニル基であり、Ｒ４は水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基であり、ａは０～０.２の数であり、ｂは０.２～０.５の数であり、ｃは０.３～０.８の数であり、ｄは０～０.５の数であり、ｅは０～０.１の数であり、かつ、ｃ＋ｄが０.３～０.８の数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１である。）
で表されるオルガノポリシロキサン　１００質量部、
（Ｂ）平均単位式：
(Ｒ５ ３ＳiＯ１／２)ｆ(Ｒ５ ２ＳiＯ２／２)ｇ(Ｒ５ＳiＯ３／２)ｈ(ＳiＯ４／２)ｉ(Ｒ６Ｏ１／２)ｊ
（式中、Ｒ５は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基であり、ただし、全Ｒ５の１０～７０モル％はフェニル基であり、全Ｒ５の少なくとも１個はアルケニル基であり、Ｒ６は水素原子または炭素原子数１～６アルキル基であり、ｆは０.０１～０.３の数であり、ｇは０.４～０.９９の数であり、ｈは０～０.２の数であり、ｉは０～０.２の数であり、ｊは０～０.１の数であり、かつ、ｈ＋ｉは０～０.２の数であり、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉは１である。）
で表されるオルガノポリシロキサン　０～１５０質量部、
（Ｃ）平均組成式：
Ｒ７ ｋＨｌＳiＯ(４－ｋ－ｌ)／２
（式中、Ｒ７はフェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基であり、ただし、全Ｒ７の１０～７０モル％はフェニル基であり、ｋは１.０～２.５の数であり、ｌは０.０１～０.９の数であり、かつ、ｋ＋ｌは１.５～３.０の数である。）
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン｛（Ａ）成分と（Ｂ）成分中のアルケニル基の合計１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０.５～２.０モルとなる量｝、および
（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒　本組成物のヒドロシリル化反応を促進するのに十分な量
から少なくともなることを特徴とする。
　また、本発明の硬化性ホットメルトシリコーンは、
（Ａ）平均単位式：
(Ｒ１ ３ＳiＯ１／２)ａ(Ｒ２ ２ＳiＯ２／２)ｂ(Ｒ３ＳiＯ３／２)ｃ(ＳiＯ４／２)ｄ(Ｒ４Ｏ１／２)e
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基であり、ただし、Ｒ１の４０モル％以下、Ｒ２の３０モル％以上、Ｒ３の１０モル％以下がアルケニル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の合計の３０～６０モル％がフェニル基であり、Ｒ４は水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基であり、ａは０～０.２の数であり、ｂは０.２～０.５の数であり、ｃは０～０.８の数であり、ｄは０～０.５の数であり、ｅは０～０.１の数であり、かつ、ｃ＋ｄが０.３～０.８の数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１である。）
で表されるオルガノポリシロキサン　１００質量部、
（Ｂ）平均単位式：
(Ｒ５ ３ＳiＯ１／２)ｆ(Ｒ５ ２ＳiＯ２／２)ｇ(Ｒ５ＳiＯ３／２)ｈ(ＳiＯ４／２)ｉ(Ｒ６Ｏ１／２)ｊ
（式中、Ｒ５は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基であり、ただし、全Ｒ５の１０～７０モル％はフェニル基であり、全Ｒ５の少なくとも１個はアルケニル基であり、Ｒ６は水素原子または炭素原子数１～６アルキル基であり、ｆは０.０１～０.３の数であり、ｇは０.４～０.９９の数であり、ｈは０～０.２の数であり、ｉは０～０.２の数であり、ｊは０～０.１の数であり、かつ、ｈ＋ｉは０～０.２の数であり、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉは１である。）
で表されるオルガノポリシロキサン　０～４０質量部、
（Ｃ）平均組成式：
Ｒ７ ｋＨｌＳiＯ(４－ｋ－ｌ)／２
（式中、Ｒ７はフェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基であり、ただし、全Ｒ７の１０～７０モル％はフェニル基であり、ｋは１.０～２.５の数であり、ｌは０.０１～０.９の数であり、かつ、ｋ＋ｌは１.５～３.０の数である。）
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン｛（Ａ）成分と（Ｂ）成分中のアルケニル基の合計１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０.５～２.０モルとなる量｝、および
（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒　本組成物のヒドロシリル化反応を促進するのに十分な量
から少なくともなる硬化性シリコーン組成物を、硬化物を形成しない程度にヒドロシリル化反応してなる、２５℃で非流動性であり、１００℃での溶融粘度が５,０００Ｐa・ｓ以下であることを特徴とする。
　さらに、本発明の光デバイスは、上記の硬化性シリコーン組成物または上記の硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物で光半導体素子が封止、保護、または被覆をされてなることを特徴とする。
　本発明の硬化性シリコーン組成物は、硬化して、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を与えるという特徴がある。また、本発明の硬化性ホットメルトシリコーンは、室温において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融するという特徴がある。さらに、本発明の光デバイスは、高寿命で信頼性に優れるという特徴がある。
本発明の製造方法により製造される光デバイスの一例を示す概略断面図 図１に示す光デバイスの概略斜透視視図 本発明の製造方法により製造される他の光デバイスの一例を示す概略断面図 本発明の製造方法により製造される他の光デバイスの一例を示す概略斜透視視図 本発明の製造方法により製造される他の光デバイスの一例を示す概略断面図
　はじめに、本発明の硬化性シリコーン組成物を詳細に説明する。
　（Ａ）成分は、平均単位式：
(Ｒ１ ３ＳiＯ１／２)ａ(Ｒ２ ２ＳiＯ２／２)ｂ(Ｒ３ＳiＯ３／２)ｃ(ＳiＯ４／２)ｄ(Ｒ４Ｏ１／２)e
で表されるオルガノポリシロキサンである。
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基である。このアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が例示され、好ましくは、メチル基である。また、このアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基が例示され、好ましくは、ビニル基、アリル基である。
　なお、Ｒ１の４０モル％以下、Ｒ２の３０モル％以上、Ｒ３の１０モル％以下がアルケニル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の合計の３０～６０モル％がフェニル基である。さらに、機械的強度が十分に高く、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を得ることができることから、Ｒ１の３５モル％以下、Ｒ２の３５モル％以上、Ｒ３の５モル％以下がアルケニル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の合計の３５～５５モル％がフェニル基であることが好ましい。また、本組成物を用いて、室温において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融する硬化性ホットメルトシリコーンを調製しやすいことから、Ｒ１の１０モル％以下、Ｒ２の４５モル％以上、Ｒ３の１０モル％以下がアルケニル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の合計の３５～５５モル％がフェニル基であることが好ましい。
　式中、Ｒ４は水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基である。このアルキル基としては、前記と同様のアルキル基が例示されるが、好ましくは、メチル基、エチル基である。
　式中、ａは０～０.２の範囲内の数であり、ｂは０.２～０.５の範囲内の数であり、ｃは０.３～０.８の範囲内の数であり、ｄは０～０.５の範囲内の数であり、ｅは０～０.１の範囲内の数であり、かつ、ｃ＋ｄが０.３～０.８の範囲内の数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１である。さらに、機械的強度が十分に高く、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を得ることができることから、ａは０～０.１０の範囲内の数であり、ｂは０.２～０.４の範囲内の数であり、ｃは０.４～０.８の範囲内の数であり、ｄは０～０.３の範囲内の数であり、ｅは０～０.０５の範囲内の数であり、かつ、ｃ＋ｄが０.４～０.８の範囲内の数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１であることが好ましい。また、本組成物を用いて、室温において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融する硬化性ホットメルトシリコーンを調製しやすいことから、ａは０～０.１０の範囲内の数であり、ｂは０.２～０.４の範囲内の数であり、ｃは０.５～０.８の範囲内の数であり、ｄは０～０.２の範囲内の数であり、ｅは０～０.０５の範囲内の数であり、かつ、ｃ＋ｄが０.５～０.８の範囲内の数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１であることが好ましい。
　このような（Ａ）成分としては、次のようなオルガノポリシロキサンが例示される。なお、式中、Ｍe、Ｐh、Ｖiはそれぞれメチル基、フェニル基、ビニル基を表す。
(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２５(ＰhＳiＯ３／２)０.７５(ＨＯ１／２)０.０２
(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.３０(ＰhＳiＯ３／２)０.７０(ＨＯ１／２)０.０１
(Ｍe３ＳiＯ１／２)０.１５(ＭeＶiＳiＯ２／２)０.２５(ＰhＳiＯ３／２)０.６０(ＨＯ１／２)０.０４
(Ｍe３ＳiＯ１／２)０.１５(ＭeＶiＳiＯ２／２)０.２５(ＰhＳiＯ３／２)０.６０(ＨＯ１／２)０.０４
(Ｍe３ＳiＯ１／２)０.０５(ＭeＶiＳiＯ２／２)０.２８(ＰhＳiＯ３／２)０.６７(ＨＯ１／２)０.０４
(Ｍe３ＳiＯ１／２)０.０２(ＭeＶiＳiＯ２／２)０.２８(ＰhＳiＯ３／２)０.７０(ＨＯ１／２)０.０４
(Ｍe２ＶiＳiＯ１／２)０.０３(ＭeＶiＳiＯ２／２)０.２７(ＰhＳiＯ３／２)０.７０(ＨＯ１／２)０.０４
(Ｍe３ＳiＯ１／２)０.０５(ＭeＶiＳiＯ２／２)０.３０(ＰhＳiＯ３／２)０.４５(ＳiＯ４／２)０.２０(ＨＯ１／２)０.０４
　（Ｂ）成分は、本組成物の粘度を調整し、得られる硬化物の硬さと機械的強度を調整するための任意成分であり、平均単位式：
(Ｒ５ ３ＳiＯ１／２)ｆ(Ｒ５ ２ＳiＯ２／２)ｇ(Ｒ５ＳiＯ３／２)ｈ(ＳiＯ４／２)ｉ(Ｒ６Ｏ１／２)ｊ
で表されるオルガノポリシロキサンである。
　式中、Ｒ５は、同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基である。このアルキル基としては、前記と同様のアルキル基が例示され、好ましくは、メチル基である。また、このアルケニル基としては、前記と同様のアルケニル基が例示され、好ましくは、ビニル基、アリル基である。なお、式中、全Ｒ５の１０～７０モル％はフェニル基であるが、さらに、機械的強度が十分に高く、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を得ることができ、また、本組成物を用いて、室温において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融する硬化性ホットメルトシリコーンを調製しやすいことから、全Ｒ５の２０～６０モル％がフェニル基であることが好ましい。
　また、式中、Ｒ６は水素原子またはアルキル基である。このアルキル基としては、前記Ｒ４と同様のアルキル基が例示され、好ましくは、メチル基、エチル基である。
　また、式中、ｆは０.０１～０.３の範囲の数であり、ｇは０.４～０.９９範囲の数であり、ｈは０～０.２の範囲の数であり、ｉは０～０.２の範囲の数であり、ｊは０～０.１の範囲の数であり、かつ、ｈ＋ｉは０～０.２の範囲の数であり、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉは１である。
　このような（Ｂ）成分としては、次のようなオルガノポリシロキサンが例示される。なお、式中、Ｍe、Ｐh、Ｖiはそれぞれメチル基、フェニル基、ビニル基を表す。
ＶiＭe２ＳiＯ(ＳiＭeＰhＯ)１８ＳiＭe２Ｖi、すなわち、(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＭeＰhＳiＯ２／２)０.９０
ＶiＭe２ＳiＯ(ＳiＭe２Ｏ)２０(ＳiＰh２Ｏ)８ＳiＭe２Ｖi、すなわち、(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(Ｍe２ＳiＯ２／２)０.５０(Ｐh２ＳiＯ２／２)０.４０
 (ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＭeＰhＳiＯ２／２)０.８０(ＰhＳiＯ３／２)０.１０(ＨＯ１／２)０.０２
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.２０(ＭeＰhＳiＯ２／２)０.７０(ＳiＯ４／２)０.１０(ＨＯ１／２)０.０１
　本組成物において、（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して０～１５０質量部の範囲内となる量であり、さらに、機械的強度が十分に高く、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を得ることができることから、０～１２０重量部の範囲内となる量、０～１００重量部の範囲内となる量、または０～４０重量部の範囲内となる量であることが好ましい。
　また、本組成物を用いて硬化性ホットメルトシリコーンを調製する場合には、（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して０～４０質量部の範囲内となる量であり、さらに、室温において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融する硬化性ホットメルトシリコーンを調製できることから、０～３０質量部の範囲内であることが好ましい。
　（Ｃ）成分は、（Ａ）成分および（Ｂ）成分を架橋するための、平均組成式：
Ｒ７ ｋＨｌＳiＯ(４－ｋ－ｌ)／２
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。
　式中、Ｒ７はフェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基である。このアルキル基としては、前記と同様のアルキル基が例示され、好ましくは、メチル基である。なお、（Ｂ）成分中、全Ｒ７の１０～７０モル％はフェニル基である。
　また、式中、ｋは１.０～２.５の範囲内の数であり、ｌは０.０１～０.９の範囲内の数であり、かつ、ｋ＋ｌは１.５～３.０の範囲内の数であり、さらに、機械的強度が十分に高く、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を得ることができることから、ｋが１.２～２.３の範囲内の数であり、ｌが０.１～０.８の範囲内の数であり、かつ、ｋ＋ｌが２.０～２.７の範囲内の数であることが好ましい。また、本組成物を用いて、室温において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融する硬化性ホットメルトシリコーンを調製しやすいことから、ｋが１.５～２.２の範囲内の数であり、ｌが０.１～０.８の範囲内の数であり、かつ、ｋ＋ｌが２.０～２.７の範囲内の数であることが好ましい。
　このような（Ｃ）成分としては、次のようなオルガノポリシロキサンが例示される。なお、式中、Ｍe、Ｐhはそれぞれメチル基、フェニル基を表す。
Ｐh２Ｓi(ＯＳiＭe２Ｈ)２、すなわち、Ｐh０.６７Ｍe１.３３Ｈ０.６７ＳiＯ０.６７
ＭｅＰｈＳi(ＯＳiＭe２Ｈ)２、すなわち、Ｐh０.３３Ｍe１.６７Ｈ０.６７ＳiＯ０.６７
ＰhＳi(ＯＳiＭe２Ｈ)３、すなわち、Ｐh０.２５Ｍe１.５０Ｈ０.７５ＳiＯ０.７５
(ＨＭe２ＳiＯ１／２)０.６(ＰhＳiＯ３／２)０.４、すなわち、Ｐh０.４０Ｍe１.２０Ｈ０.６０ＳiＯ０.９０
　（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分および（Ｂ）成分中のアルケニル基の合計１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０.５～２.０モルの範囲内となる量であり、さらに、機械的強度が十分に高く、かつ、耐熱性および耐光性に優れた硬化物を得ることができることから、０.５～１.８モルの範囲内となる量であることが好ましい。また、本組成物を用いて、硬化性ホットメルトシリコーンを調製する場合には、（Ａ）成分および（Ｂ）成分中のアルケニル基の合計１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０.７～１.５モルの範囲内となる量であることが好ましい。
　（Ｄ）成分は、本組成物のヒドロシリル化反応を促進するためのヒドロシリル化反応用触媒である。このような（Ｄ）成分としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒が例示され、本組成物の硬化を著しく促進できることから白金系触媒が好ましい。この白金系触媒としては、白金微粉末、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金－アルケニルシロキサン錯体、白金－オレフィン錯体、白金－カルボニル錯体が例示され、特に、白金－アルケニルシロキサン錯体が好ましい。このアルケニルシロキサンとしては、１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン、１,３,５,７－テトラメチル－１,３,５,７－テトラビニルシクロテトラシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのメチル基の一部をエチル基、フェニル基等で置換したアルケニルシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのビニル基をアリル基、ヘキセニル基等で置換したアルケニルシロキサンが例示される。特に、この白金－アルケニルシロキサン錯体の安定性が良好であることから、１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサンであることが好ましい。
　（Ｄ）成分の添加量は、ヒドロシリル化反応を促進する量であり、具体的には、（Ａ）～（Ｃ）成分の合計量に対して、本成分中の金属原子が質量単位で０.０１～５００ｐｐｍの範囲内となる量であることが好ましく、さらには、０.０１～１００ｐｐｍの範囲内となる量であることが好ましく、特には、０.０１～５０ｐｐｍの範囲内となる量であることが好ましい。これは、（Ｄ）成分の添加量が上記範囲の下限以上であると、本組成物のヒドロシリル化反応を十分に促進できるからであり、一方、上記範囲の上限以下であると、得られる硬化物に着色等の問題を生じにくくなるからである。
　本組成物には、本組成物の硬化反応を調整するための任意の成分として、（Ｅ）反応抑制剤を含有してもよい。このような（Ｅ）成分としては、２－メチル－３－ブチン－２－オール、３，５－ジメチル－１－ヘキシン－３－オール、２－フェニル－３－ブチン－２－オール等のアルキンアルコール；３－メチル－３－ペンテン－１－イン、３,５－ジメチル－３－ヘキセン－１－イン等のエンイン化合物；１,３,５,７－テトラメチル－１,３,５,７－テトラビニルシクロテトラシロキサン、１,３,５,７－テトラメチル－１,３,５,７－テトラヘキセニルシクロテトラシロキサン、ベンゾトリアゾールが例示される。（Ｅ）成分の含有量は限定されないが、上記（Ａ）成分～（Ｄ）成分の合計１００質量部に対して０.０００１～５質量部の範囲内であることが好ましい。
　さらに、本組成物には、光半導体素子からの発光波長を変換するために、蛍光体を含有してもよい。この蛍光体としては、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）に広く利用されている、酸化物系蛍光体、酸窒化物系蛍光体、窒化物系蛍光体、硫化物系蛍光体、酸硫化物系蛍光体等からなる黄色、赤色、緑色、および青色発光蛍光体が挙げられる。酸化物系蛍光体としては、セリウムイオンを包含するイットリウム、アルミニウム、ガーネット系のＹＡＧ系緑色～黄色発光蛍光体、セリウムイオンを包含するテルビウム、アルミニウム、ガーネット系のＴＡＧ系黄色発光蛍光体、および、セリウムやユーロピウムイオンを包含するシリケート系緑色～黄色発光蛍光体が例示される。酸窒化物系蛍光体としては、ユーロピウムイオンを包含するケイ素、アルミニウム、酸素、窒素系のサイアロン系赤色～緑色発光蛍光体が例示される。窒化物系蛍光体としては、ユーロピウムイオンを包含するカルシウム、ストロンチウム、アルミニウム、ケイ素、窒素系のカズン系赤色発光蛍光体が例示される。硫化物系蛍光体としては、銅イオンやアルミニウムイオンを包含するＺｎＳ系緑色発色蛍光体が例示される。酸硫化物系蛍光体としては、ユーロピウムイオンを包含するＹ２Ｏ２Ｓ系赤色発光蛍光体が例示される。これらの蛍光体を２種以上組み合わせて用いてもよい。
　また、本組成物には、その接着性を向上させるための接着付与剤を含有してもよい。この接着付与剤としては、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を一分子中に少なくとも１個有する有機ケイ素化合物が好ましい。このアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基が例示され、特に、メトキシ基が好ましい。また、この有機ケイ素化合物のケイ素原子に結合するアルコキシ基以外の基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基等のハロゲン置換もしくは非置換の一価炭化水素基；３－グリシドキシプロピル基、４－グリシドキシブチル基等のグリシドキシアルキル基；２－(３,４－エポキシシクロヘキシル)エチル基、３－(３,４－エポキシシクロヘキシル)プロピル基等のエポキシシクロヘキシルアルキル基；３,４－エポキシブチル基、７,８－エポキシオクチル基等のエポキシアルキル基；３－メタクリロキシプロピル基等のアクリル基含有一価有機基；水素原子が例示される。この有機ケイ素化合物は本組成物中のアルケニル基またはケイ素原子結合水素原子と反応し得る基を有することが好ましく、具体的には、ケイ素原子結合水素原子またはアルケニル基を有することが好ましい。また、各種の基材に対して良好な接着性を付与できることから、この有機ケイ素化合物は一分子中に少なくとも１個のエポキシ基含有一価有機基を有するものであることが好ましい。このような有機ケイ素化合物としては、オルガノシラン化合物、オルガノシロキサンオリゴマー、アルキルシリケートが例示される。このオルガノシロキサンオリゴマーあるいはアルキルシリケートの分子構造としては、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、環状、網状が例示され、特に、直鎖状、分枝鎖状、網状であることが好ましい。このような有機ケイ素化合物としては、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２－(３,４－エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合物；一分子中にケイ素原子結合アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子、およびケイ素原子結合アルコキシ基をそれぞれ少なくとも１個ずつ有するシロキサン化合物、ケイ素原子結合アルコキシ基を少なくとも１個有するシラン化合物またはシロキサン化合物と一分子中にケイ素原子結合ヒドロキシ基とケイ素原子結合アルケニル基をそれぞれ少なくとも１個ずつ有するシロキサン化合物との混合物、メチルポリシリケート、エチルポリシリケート、エポキシ基含有エチルポリシリケートが例示される。この接着付与剤は低粘度液状であることが好ましく、その粘度は限定されないが、２５℃において１～５００ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。また、本組成物において、この接着付与剤の含有量は限定されないが、本組成物の合計１００質量部に対して０.０１～１０質量部の範囲内であることが好ましい。
　また、本組成物には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意の成分として、ケイ素原子結合水素原子を有さないシリコーン成分；シリカ、酸化チタン、ガラス、アルミナ、酸化亜鉛等の無機質充填剤；ポリメタクリレート樹脂等の有機樹脂微粉末；耐熱剤、染料、顔料、難燃性付与剤を含有してもよい。
　次に、本発明の硬化性ホットメルトシリコーンを詳細に説明する。
　本発明の硬化性ホットメルトシリコーンは、
上記（Ａ）成分　１００質量部、
上記（Ｂ）成分　０～４０質量部、
上記（Ｃ）成分｛（Ａ）成分と（Ｂ）成分中のアルケニル基の合計１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０.５～２.０モルとなる量｝、および
上記（Ｄ）成分（本組成物のヒドロシリル化反応を促進するのに十分な量）
から少なくともなる硬化性シリコーン組成物を、硬化物を形成しない程度にヒドロシリル化反応してなる、２５℃で非流動性であり、１００℃での溶融粘度が５,０００Ｐa・ｓ以下であることを特徴とする。
　本発明の硬化性ホットメルトシリコーンを調製するための硬化性シリコーン組成物において、（Ａ）成分～（Ｄ）成分およびその他任意の成分については上記のとおりである。
　本ホットメルトシリコーンにおいて、上記硬化性シリコーン組成物を、硬化物を形成しない程度にヒドロシリル化反応するとは、上記硬化性シリコーン組成物の硬化反応を途中で止めることを意味し、具体的には、上記硬化性シリコーン組成物中のアルケニル基またはケイ素結合水素原子のいずれか少ない方が５０％～９０％を消費されるまで、すなわち反応の転化率が５０％～９０％となるまでヒドロシリル化反応を進行させることが好ましい。この転化率は、例えば、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて、反応熱の差から求めることができる。
　本ホットメルトシリコーンは２５℃において非流動性で、１００℃の溶融粘度が５,０００Ｐa・ｓ以下、好ましくは、１０～３,５００Ｐa・ｓの範囲内である。ここで、非流動性とは、無負荷の状態で流動しないことを意味し、例えば、ＪＩＳ　Ｋ　６８６３－１９９４「ホットメルト接着剤の軟化点試験方法」で規定されるホットメルト接着剤の環球法による軟化点試験方法で測定される軟化点未満での状態を示し、つまり、２５℃において非流動性であるためには、軟化点が２５℃よりも高い必要がある。２５℃において非流動性であると、該温度での形状保持性が良好で、表面粘着性の低い硬化性ホットメルトシリコーンが得られるからである。また、１００℃の溶融粘度が上記の範囲内であると、ホットメルト後、２５℃に冷却した後の密着性が良好な硬化性ホットメルトシリコーンが得られる。また、本ホットメルトシリコーンの軟化点は２５℃よりも高いが、５０℃よりも低いことが好ましい。すなわち、本ホットメルトシリコーンは、５０℃で２,０００Ｐa・ｓ以上の溶融粘度を有することが好ましく、さらに、５０℃の溶融粘度が１００℃の溶融粘度の２倍以上であることが好ましく、さらには、２５倍以上であることが好ましい。これは、５０℃の溶融粘度が上記の下限以上であり、５０℃の溶融粘度が１００℃の溶融粘度に対して、上記の下限以上であると、２５℃において非流動性で、表面粘着性が低く、良好なホットメルト性を示すからである。
　本ホットメルトシリコーンはさまざまな形状に加工することができ、たとえば、厚さが５μｍ～５ｍｍのシート状、粉体状、もしくはタブレット状とすることができる。得られたさまざまな形状のホットメルトシリコーンを、ラミネーション、圧縮成形、トランスファー成形など、さまざまな方法で所望の形状の硬化物へと変換することができる。
　次に、本発明の光デバイスを説明する。
　本発明の光デバイスは、光半導体素子が上記の硬化性シリコーン組成物または上記の硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物により封止、保護、または被覆されていることを特徴とする。この光半導体素子としては、発光ダイオード素子が例示される。また、このような光デバイスとしては、発光ダイオード（ＬＥＤ）が例示される。
　本発明は凸状硬化物を備える光デバイスにも関する。図１乃至図４は、平坦な表面を有する基板１上にＬＥＤ２を搭載しており、更に、凸状硬化物３を備える光デバイスを示す。なお、ＬＥＤ２と基板１上の図示を省略する電極とは図示を省略するワイヤ等で接続されている。
　図１及び図２に示す本発明の光デバイスは上記の硬化性シリコーン組成物を、ＬＥＤ２を被覆するように基板１上に滴下し、硬化させて、凸状硬化物３を形成することによって製造することができる。図１及び図２に示す本発明の光デバイスでは凸状硬化物３が半球状であるために、光の射出方向を制御したり、正面輝度が高くなり過ぎることを抑制することができ、優れた光学特性を発揮することができる。
　図３は、図１とは異なり、やや扁平なドーム状の凸状硬化物３を備える光デバイスを示す。なお、図１及び図２の場合と同様に、ＬＥＤ２と基板１上の図示を省略する電極とは図示を省略するワイヤ等で接続されている。図３に示す本発明の光デバイスでは凸状硬化物３がやや扁平であるために、光デバイスの厚みを抑制することができる。
　図４は、図１とは異なり、半円筒形状の凸状硬化物３を備える光デバイスを示す。なお、図１及び図２の場合と同様に、ＬＥＤ２と基板１上の図示を省略する電極とは図示を省略するワイヤ等で接続されている。図４に示す本発明の光デバイスでは凸状硬化物３が半円筒状であるために、凸状硬化物３を基板１上に比較的密に配置することができる。
　図１乃至図４に示す態様では、基板１表面に滴下された硬化性シリコーン組成物の広がりを防止するダム材（突部）を基板１の表面に形成する必要がない。したがって、平坦な表面を備える基板１であっても、半球状、半円筒形状、ドーム形状等の凸状硬化物３を容易に製造することができる。また、硬化性シリコーン組成物の広がりを防止するためのダム材が不要となるため、本発明の製造方法で得られる光デバイスは、ダイシングによりダム材を切断する必要がない。
　一方、図５は、図１乃至図４とは異なり、ＬＥＤ２の周囲に反射材４を有する光デバイスを示す。図５に示す本発明の光デバイスは、基板１上にＬＥＤ２と反射材４を有し、更に、凸状硬化物３を備える。なお、ＬＥＤ２と基板１上の図示を省略する電極とは図示を省略するワイヤ等で接続されている。図５に示す本発明の光デバイスは上記の硬化性シリコーン組成物を、ＬＥＤ２を被覆するように反射材４の枠内に滴下し、硬化させて、凸状硬化物３を形成することによって製造することができる。従来、枠内を封止材で充填させた後に、レンズを接着させて図５に類似の光デバイスを製造することができるが、本発明の製造方法では、封止材の充填工程とレンズ形成工程を同時に実施することができるので、光デバイスの製造工程を簡略化できる。さらに、レンズと封止材を接着させる必要が無くなるため、レンズと封止材との間での光反射を解消することもできる。
　本発明の硬化性シリコーン組成物、硬化性ホットメルトシリコーン、および光デバイスを実施例と比較例により詳細に説明する。硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さ、着色度、および硬化性ホットメルトシリコーンの２５℃における表面粘着性、５０℃および１００℃の溶融粘度、反応の転化率を次のようにして測定した。また、式中、Ｍe、Ｐh、Ｖiはそれぞれメチル基、フェニル基、ビニル基を表す。
［硬化物の硬さ］
　硬化性シリコーン組成物を１８０℃で１時間プレス成形することによりシート状の硬化物を作製した。このシート状硬化物の硬さをＪＩＳ　Ｋ　６２５３に規定されるタイプＤデュロメータにより測定した。
［硬化物の着色度］
　硬化性シリコーン組成物を１８０℃で１時間保持して硬化させ、厚み２ｍｍの試験体を作製した。この試験体の初期および１８０℃で２４０時間加熱した後の着色度を測定した。着色度は、分光測色計を用いて測定し、ＪＩＳ　Ｚ　８７２９-1980「Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系及びＬ＊ｕ＊ｖ＊表色系による物体色の表示方法」におけるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で用いられるｂ＊の値を黄色方向への着色度の指標として用いた。
［硬化性ホットメルトシリコーンの表面粘着性］
　硬化性ホットメルトシリコーンの２５℃における表面粘着性を指触により観察した。
［硬化性ホットメルトシリコーンの溶融粘度］
　硬化性ホットメルトシリコーンの５０℃および１００℃の溶融粘度を、ティー・エイ・インスツルメント社製のＡＲ５５０レオメーターにより、直径２０ｍｍ、コーン角２°のコーンプレートを用いて、せん断速度１／ｓで測定した。
［反応の転化率］
　硬化性ホットメルトシリコーンおよびその原料である硬化性シリコーン組成物について、セイコーインスツルメント社製示差走査熱量計（ＤＳＣ）ＸＤＳＣ７０００を用いてヒドロシシリル化反応の発熱量を測定し、下記の数式から硬化性ホットメルトシリコーンの反応転化率を求めた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 　Ｘ：硬化性シリコーン組成物を硬化させた際に測定された熱量。
　Ｙ：硬化性ホットメルトシリコーンを硬化させた際に測定された熱量。
［光デバイスの信頼性試験］
　光半導体素子を実装したセラミック基板上に、本発明の硬化性シリコーン組成物もしくは硬化性ホットメルトシリコーンを用いて、１５０℃で５分間圧縮成形し、ドーム状の硬化物を形成させた後、オーブン中で１５０℃、２時間後硬化させ、図１で示される光デバイスを作製した。
　この光デバイスを８５％相対湿度下、８５℃で７００ｍＡで通電発光させた。１００時間後、取り出し、３０ｍＡ発光させた時の光放射束（ｍＷ）を測定し、初期の光放射束の保持率を算出した。
［実施例１］
　平均単位式：
(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.３(ＰhＳiＯ３／２)０.７(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を７.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　６２.１質量部、平均単位式：：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　１０.０質量部、式：
Ｐh２Ｓi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.６０質量％含有するオルガノポリシロキサン　２７.９質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.０モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で１ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表１に示した。
［実施例２］
　平均単位式：
(Ｍe３ＳiＯ２／２)０.０５(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２８(ＰhＳiＯ３／２)０.６７(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を６.６質量％含有するオルガノポリシロキサン　６７.１質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　１０.０質量部、式：
ＰhＭeＳi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.７５質量％含有するオルガノポリシロキサン　２２.９質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.００モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で１ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表１に示した。
［実施例３］
　平均単位式：
(Ｍe３ＳiＯ２／２)０.０２(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２８(ＰhＳiＯ３／２)０.７０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を６.５質量％含有するオルガノポリシロキサン　５０.２質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　１０.０質量部、平均式：
Ｍe２ＨＳｉＯ(ＳiＰh２Ｏ)２.５ＳiＭe２Ｈ
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.３２質量％含有するオルガノポリシロキサン　９.９質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.００モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で５.５ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表１に示した。
［実施例４］
　平均単位式：
(Ｍe３ＳiＯ２／２)０.０２(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２８(ＰhＳiＯ３／２)０.７０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を６.５質量％含有するオルガノポリシロキサン　５６.２質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　１０.０質量部、平均式：
Ｍe２ＨＳｉＯ(ＳiＰh２Ｏ)２.５ＳiＭe２Ｈ
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.３２質量％含有するオルガノポリシロキサン　３.８質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.００モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で５.５ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表１に示した。
［実施例５］
　平均単位式：
(Ｍe３ＳiＯ２／２)０.０２(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２８(ＰhＳiＯ３／２)０.７０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を６.５質量％含有するオルガノポリシロキサン　６７.３質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　１０.０質量部、式：
Ｐh２Ｓi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.６０質量％含有するオルガノポリシロキサン　２２.７質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.００モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で５.５ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表１に示した。
［実施例６］
　平均単位式：
(Ｍe３ＳiＯ２／２)０.０２(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２８(ＰhＳiＯ３／２)０.７０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を６.５質量％含有するオルガノポリシロキサン　７０.６質量部、式：
Ｐh２Ｓi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.６０質量％含有するオルガノポリシロキサン　２９.４質量部（上記オルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.１モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で５.５ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表１に示した。
［実施例７］
　平均単位式：
(Ｍe３ＳiＯ２／２)０.０２(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２８(ＰhＳiＯ３／２)０.７０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を６.５質量％含有するオルガノポリシロキサン　４９.４質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　３０.０質量部、式：
Ｐh２Ｓi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.６０質量％含有するオルガノポリシロキサン　２３.２質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０.８モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で４.０ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さ、着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表１に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
［実施例８］
　実施例１で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で２０分間加熱したところ、２５℃において非流動性であり、表面粘着性が低い硬化性ホットメルトシリコーンが得られた。この硬化性ホットメルトシリコーンの５０℃および１００℃における溶融粘度は、それぞれ、８,０６０Ｐa・ｓおよび１８０Ｐa・ｓであり、反応転化率は６５％であった。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを１８０℃で加熱したところ、一旦溶融した後、硬化し、５分以内にホットメルト性を持たない硬化物を与えた。
　この硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表２に示した。
［実施例９］
　実施例２で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で３０分間加熱したところ、２５℃において非流動性であり、表面粘着性が低い硬化性ホットメルトシリコーンが得られた。この硬化性シリコーンホットメルトの５０℃および１００℃における溶融粘度は、それぞれ、１０,１００Ｐa・ｓおよび１００Ｐa・ｓであり、反応転化率は６６％であった。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを１８０℃で加熱したところ、一旦溶融した後、硬化し、５分以内にホットメルト性を持たない硬化物を与えた。
　この硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表２に示した。
［実施例１０］
　実施例３で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で２０分間加熱したところ、２５℃において非流動性であり、表面粘着性が低い硬化性ホットメルトシリコーンが得られた。この硬化性ホットメルトシリコーンの５０℃および１００℃における溶融粘度は、それぞれ、１２,０００Ｐa・ｓおよび３,０５０Ｐa・ｓであり、反応転化率は７３％であった。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを１８０℃で加熱したところ、一旦溶融した後、硬化し、５分以内にホットメルト性を持たない硬化物を与えた。
　この硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表２に示した。
［実施例１１］
　実施例４で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で１０分間加熱したところ、２５℃において非流動性であり、表面粘着性が低い硬化性ホットメルトシリコーンが得られた。この硬化性ホットメルトシリコーンの５０℃および１００℃における溶融粘度は、それぞれ、２,５８０Ｐa・ｓおよび２７Ｐa・ｓであり、反応転化率は７０％であった。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを１８０℃で加熱したところ、一旦溶融した後、硬化し、５分以内にホットメルト性を持たない硬化物を与えた。
　この硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表２に示した。
［実施例１２］
　実施例５で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で１０分間加熱したところ、２５℃において非流動性であり、表面粘着性が低い硬化性ホットメルトシリコーンが得られた。この硬化性ホットメルトシリコーンの５０℃および１００℃における溶融粘度は、それぞれ、１０,４００Ｐa・ｓおよび１５２Ｐa・ｓであり、反応転化率は７４％であった。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを１８０℃で加熱したところ、一旦溶融した後、硬化し、５分以内にホットメルト性を持たない硬化物を与えた。
　この硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表２に示した。
［実施例１３］
　実施例６で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で１０分間加熱したところ、２５℃において非流動性であり、表面粘着性が低いホットメルト性シリコーンが得られた。この硬化性ホットメルトシリコーンの５０℃および１００℃における溶融粘度は、それぞれ、１２,２００Ｐa・ｓおよび１５８Ｐa・ｓであり、反応転化率は６０％であった。この硬化性ホットメルトシリコーンを１８０℃で加熱したところ、一旦溶融した後、硬化し、５分以内にホットメルト性を持たない硬化物を与えた。
　この硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表２に示した。
［実施例１４］
　実施例７で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で１０分間加熱したところ、２５℃において非流動性であり、表面粘着性が低い硬化性ホットメルトシリコーンが得られた。この硬化性ホットメルトシリコーンの５０℃および１００℃の溶融粘度は、それぞれ、１２,７００Ｐa・ｓおよび３,４００Ｐa・ｓであり、反応転化率は５８％であった。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを１８０℃で加熱したところ、一旦溶融した後、硬化し、５分以内にホットメルト性を持たない硬化物を与えた。
　この硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性ホットメルトシリコーンを用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表２に示した。
［比較例１］
　平均単位式：
(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２５(Ｐh２ＳiＯ２／２)０.３０(ＰhＳiＯ３／２)０.４５(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を４.９質量％含有するオルガノポリシロキサン　７１.７質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　１０.０質量部、式：
ＰhＭeＳi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.７５質量％含有するオルガノポリシロキサン　１８.３質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.００モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で１ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表３に示した。
［比較例２］
　平均単位式：
(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.１０(Ｍe２ＳiＯ２／２)０.１５(ＰhＳiＯ３／２)０.７５(ＨＯ１／２)０.０３
で表される、ビニル基を４.９質量％含有するオルガノポリシロキサン　６７.８質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　２０.０質量部、式：
Ｐh２Ｓi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.６０質量％含有するオルガノポリシロキサン　１８.３質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.００モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で１ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表３に示した。
［比較例３］
　平均単位式：
(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.１０(Ｍe２ＳiＯ２／２)０.１５(ＰhＳiＯ３／２)０.７５(ＨＯ１／２)０.０３
で表される、ビニル基を４.９質量％含有するオルガノポリシロキサン　６４.０質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　１０.０質量部、式：
Ｐh２Ｓi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.６０質量％含有するオルガノポリシロキサン　２６.０質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１.２６モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.００モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で１ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表３に示した。
［比較例４］
　平均単位式：
(ＶiＭeＳiＯ２／２)０.２５(Ｍe２ＳiＯ２／２)０.２０(ＰhＳiＯ３／２)０.５５(ＨＯ１／２)０.０１
で表される、ビニル基を４.９質量％含有するオルガノポリシロキサン　７６.０質量部、平均単位式：
(ＶiＭe２ＳiＯ１／２)０.１０(ＰhＭeＳiＯ２／２)０.９０(ＨＯ１／２)０.０２
で表される、ビニル基を２.０質量％含有するオルガノポリシロキサン　２４.０質量部、式：
Ｐh２Ｓi(ＯＳiＭe２Ｈ)２
で表される、ケイ素原子結合水素原子を０.６０質量％含有するオルガノポリシロキサン　２７.０質量部（上記２種のオルガノポリシロキサン中のビニル基１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が１.００モルとなる量）、白金の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン錯体の１,３－ジビニル－１,１,３,３－テトラメチルジシロキサン溶液（本組成物に対して白金金属が質量単位で１ｐｐｍとなる量）、１－エチニルシクロヘキサン－１－オール（本組成物に対して質量単位で１００ｐｐｍとなる量）を混合して、硬化性シリコーン組成物を調製した。
　この硬化性シリコーン組成物の硬化物の硬さおよび着色度を測定した。また、この硬化性シリコーン組成物を用いて作製した光デバイスの信頼性試験を行った。これらの結果を表３に示した。
［比較例５］
　比較例２で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で５分間、１０分間、および１５分間加熱したところ、いずれの場合も硬化物が得られ、ホットメルト性を有していないことがわかった。
［比較例６］
　比較例４で調製した硬化性シリコーン組成物を１２０℃で５分間、１０分間、および１５分間加熱したところ、いずれの場合も硬化物が得られ、ホットメルト性を有していないことがわかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　本発明の硬化性シリコーン組成物は、耐光性および耐熱性に優れた硬化物を与えるので、光デバイスをはじめ、耐久性が求められる用途に好適である。また、本発明のホットメルト性シリコーンは、２５℃において非流動性で、表面粘着性が低く、加熱により容易に溶融した後、硬化し、前記硬化性シリコーン組成物から得られる硬化物と同等の耐光性および耐熱性に優れた硬化物を与えるので、耐熱性、耐光性が求められる半導体装置の封止材やホットメルト接着剤などに好適である。また、本発明の硬化性シリコーンホットメルトは、ホットメルト性に加えて、硬化性を有するので、耐久性が求められる上記の用途に好適である。また、本発明の光デバイスは、光半導体素子が耐光性および耐熱性に優れたシリコーン硬化物によって、封止、保護、あるいは被覆されているので、高い耐久性が求められる光デバイスに好適である。
　１　基板
　２　ＬＥＤ
　３　凸状硬化物
　４　反射材

Claims (6)

  1. （Ａ）平均単位式：
    (Ｒ１ ３ＳiＯ１／２)ａ(Ｒ２ ２ＳiＯ２／２)ｂ(Ｒ３ＳiＯ３／２)ｃ(ＳiＯ４／２)ｄ(Ｒ４Ｏ１／２)e
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基であり、ただし、Ｒ１の４０モル％以下、Ｒ２の３０モル％以上、Ｒ３の１０モル％以下がアルケニル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の合計の３０～６０モル％がフェニル基であり、Ｒ４は水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基であり、ａは０～０.２の数であり、ｂは０.２～０.５の数であり、ｃは０.３～０.８の数であり、ｄは０～０.５の数であり、ｅは０～０.１の数であり、かつ、ｃ＋ｄが０.３～０.８の数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１である。）
    で表されるオルガノポリシロキサン　１００質量部、
    （Ｂ）平均単位式：
    (Ｒ５ ３ＳiＯ１／２)ｆ(Ｒ５ ２ＳiＯ２／２)ｇ(Ｒ５ＳiＯ３／２)ｈ(ＳiＯ４／２)ｉ(Ｒ６Ｏ１／２)ｊ
    （式中、Ｒ５は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基であり、ただし、全Ｒ５の１０～７０モル％はフェニル基であり、全Ｒ５の少なくとも１個はアルケニル基であり、Ｒ６は水素原子または炭素原子数１～６アルキル基であり、ｆは０.０１～０.３の数であり、ｇは０.４～０.９９の数であり、ｈは０～０.２の数であり、ｉは０～０.２の数であり、ｊは０～０.１の数であり、かつ、ｈ＋ｉは０～０.２の数であり、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉは１である。）
    で表されるオルガノポリシロキサン　０～１５０質量部、
    （Ｃ）平均組成式：
    Ｒ７ ｋＨｌＳiＯ(４－ｋ－ｌ)／２
    （式中、Ｒ７はフェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基であり、ただし、全Ｒ７の１０～７０モル％はフェニル基であり、ｋは１.０～２.５の数であり、ｌは０.０１～０.９の数であり、かつ、ｋ＋ｌは１.５～３.０の数である。）
    で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン｛（Ａ）成分と（Ｂ）成分中のアルケニル基の合計１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０.５～２.０モルとなる量｝、および
    （Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒　本組成物のヒドロシリル化反応を促進するのに十分な量
    から少なくともなる硬化性シリコーン組成物。
  2. 　さらに、（Ｅ）反応抑制剤を（Ａ）成分～（Ｄ）成分の合計１００質量部に対して０.０００１～５質量部含有する、請求項１に記載の硬化性シリコーン組成物。
  3. （Ａ）平均単位式：
    (Ｒ１ ３ＳiＯ１／２)ａ(Ｒ２ ２ＳiＯ２／２)ｂ(Ｒ３ＳiＯ３／２)ｃ(ＳiＯ４／２)ｄ(Ｒ４Ｏ１／２)e
    （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基であり、ただし、Ｒ１の４０モル％以下、Ｒ２の３０モル％以上、Ｒ３の１０モル％以下がアルケニル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の合計の３０～６０モル％がフェニル基であり、Ｒ４は水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基であり、ａは０～０.２の数であり、ｂは０.２～０.５の数であり、ｃは０～０.８の数であり、ｄは０～０.５の数であり、ｅは０～０.１の数であり、かつ、ｃ＋ｄが０.３～０.８の数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは１である。）
    で表されるオルガノポリシロキサン　１００質量部、
    （Ｂ）平均単位式：
    (Ｒ５ ３ＳiＯ１／２)ｆ(Ｒ５ ２ＳiＯ２／２)ｇ(Ｒ５ＳiＯ３／２)ｈ(ＳiＯ４／２)ｉ(Ｒ６Ｏ１／２)ｊ
    （式中、Ｒ５は同じかまたは異なる、フェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基、もしくは炭素原子数２～６のアルケニル基であり、ただし、全Ｒ５の１０～７０モル％はフェニル基であり、全Ｒ５の少なくとも１個はアルケニル基であり、Ｒ６は水素原子または炭素原子数１～６アルキル基であり、ｆは０.０１～０.３の数であり、ｇは０.４～０.９９の数であり、ｈは０～０.２の数であり、ｉは０～０.２の数であり、ｊは０～０.１の数であり、かつ、ｈ＋ｉは０～０.２の数であり、ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉは１である。）
    で表されるオルガノポリシロキサン　０～４０質量部、
    （Ｃ）平均組成式：
    Ｒ７ ｋＨｌＳiＯ(４－ｋ－ｌ)／２
    （式中、Ｒ７はフェニル基、炭素原子数１～６のアルキル基であり、ただし、全Ｒ７の１０～７０モル％はフェニル基であり、ｋは１.０～２.５の数であり、ｌは０.０１～０.９の数であり、かつ、ｋ＋ｌは１.５～３.０の数である。）
    で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン｛（Ａ）成分と（Ｂ）成分中のアルケニル基の合計１モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が０.５～２.０モルとなる量｝、および
    （Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒　本組成物のヒドロシリル化反応を促進するのに十分な量
    から少なくともなる硬化性シリコーン組成物を、硬化物を形成しない程度にヒドロシリル化反応してなる、２５℃で非流動性であり、１００℃での溶融粘度が５,０００Ｐa・ｓ以下である硬化性ホットメルトシリコーン。
  4. 　硬化性シリコーン組成物が、さらに、（Ｅ）反応抑制剤を（Ａ）成分～（Ｄ）成分の合計１００質量部に対して０.０００１～５質量部含有する、請求項３に記載の硬化性ホットメルトシリコーン。
  5. 　シート状、粉体状、もしくはタブレット状である、請求項３または４に記載の硬化性ホットメルトシリコーン。
  6. 　請求項１または２に記載の硬化性シリコーン組成物もしくは請求項３または４に記載の硬化性ホットメルトシリコーンの硬化物で光半導体素子が封止、保護、または被覆されてなる光デバイス。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016136243A1 (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性粒状シリコーン組成物、およびその製造方法
WO2021132711A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01 ダウ・東レ株式会社 積層体及びそれからなる電子部品

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106062080A (zh) * 2014-03-12 2016-10-26 横滨橡胶株式会社 固化性树脂组合物
EP3365391A4 (en) * 2015-10-19 2019-06-12 Dow Corning Toray Co., Ltd. MELT SILICONE COMPOSITION CURABLE BY ACTIVE ENERGY RADIATION, CURED PRODUCT THEREOF, AND FILM PRODUCTION PROCESS
CN109963911A (zh) * 2016-11-02 2019-07-02 陶氏东丽株式会社 反应性热熔硅酮填充容器及用于制造反应性热熔硅酮的方法
CN107501942B (zh) * 2017-08-29 2020-10-02 北京康美特科技股份有限公司 可模塑成型的有机硅树脂、组合物及其半导体发光元件
US11591440B2 (en) * 2017-10-31 2023-02-28 Dow Toray Co., Ltd. Method for producing organopolysiloxane cured product, organopolysiloxane cured product, layered product, and optical part
KR102720409B1 (ko) * 2018-07-11 2024-10-22 가부시끼가이샤 레조낙 반도체 장치의 제조 방법, 열경화성 수지 조성물 및 다이싱·다이본딩 일체형 필름
JP7366052B2 (ja) * 2018-10-18 2023-10-20 ダウ・東レ株式会社 硬化性シリコーン組成物及びその硬化物、積層体及びその製造方法、並びに光学装置又は光学ディスプレイ
KR102883828B1 (ko) 2018-10-18 2025-11-11 다우 도레이 캄파니 리미티드 경화성 실리콘 조성물 및 이의 경화물, 적층체 및 이의 제조 방법, 및 광학 장치 또는 광학 디스플레이
KR20210148205A (ko) * 2019-03-29 2021-12-07 다우 도레이 캄파니 리미티드 경화성 실리콘 조성물, 그의 경화물 및 그의 제조 방법
CN112409950B (zh) * 2019-08-23 2022-06-28 光宝光电(常州)有限公司 增黏剂、有机硅封装胶组合物及有机硅封装胶
EP4073146B1 (en) * 2019-12-11 2024-02-21 EMPA Eidgenössische Materialprüfungs- und Forschungsanstalt Siloxane based polymeric liquid material and method for preparing the same
CN115485350B (zh) 2020-05-07 2025-04-22 美国陶氏有机硅公司 有机硅混合压敏粘合剂及其制备方法和在不均匀表面上的用途
CN115516056B (zh) 2020-05-07 2025-04-25 美国陶氏有机硅公司 有机硅混合压敏粘合剂及其制备方法和在用于（光）电子装置制造的保护性膜中使用的方法
KR20230009907A (ko) 2020-05-07 2023-01-17 다우 실리콘즈 코포레이션 (메트)아크릴레이트 작용성 실리콘 및 이의 제조 및 사용 방법
JP7584838B2 (ja) * 2020-11-26 2024-11-18 デュポン・東レ・スペシャルティ・マテリアル株式会社 ホットメルト性シリコーン組成物、封止剤、ホットメルト接着剤、及び光半導体装置
WO2022138336A1 (ja) * 2020-12-25 2022-06-30 ダウ・東レ株式会社 硬化性シリコーン組成物、その硬化物および積層体

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6429482A (en) * 1987-07-23 1989-01-31 Toray Silicone Co Organopolysiloxane hot-melt adhesive
JP2008001828A (ja) * 2006-06-23 2008-01-10 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
JP2010508377A (ja) * 2006-08-28 2010-03-18 ダウ・コーニング・コーポレイション 光学部品およびシリコーン組成物および光学部品の成型方法
JP2011099075A (ja) * 2009-11-09 2011-05-19 Nitto Denko Corp 熱可塑性シリコーン樹脂用組成物
WO2011102272A1 (ja) * 2010-02-19 2011-08-25 東レ株式会社 蛍光体含有シリコーン硬化物、その製造方法、蛍光体含有シリコーン組成物、その組成物前駆体、シート状成型物、ｌｅｄパッケージ、発光装置およびｌｅｄ実装基板の製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3996195A (en) * 1974-11-15 1976-12-07 Shinetsu Chemical Company Curable organosilicon compositions
JP2004186168A (ja) 2002-11-29 2004-07-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 発光ダイオード素子用シリコーン樹脂組成物
US7595113B2 (en) 2002-11-29 2009-09-29 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. LED devices and silicone resin composition therefor
JP5420141B2 (ja) 2006-03-01 2014-02-19 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性シリコーンレジン組成物および硬化物
US7858198B2 (en) 2007-04-10 2010-12-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phosphor-containing adhesive silicone composition, composition sheet formed of the composition, and method of producing light emitting device using the sheet
JP5972511B2 (ja) 2008-03-31 2016-08-17 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物およびその硬化物
JP2011219597A (ja) 2010-04-08 2011-11-04 Nitto Denko Corp シリコーン樹脂シート
JP5992666B2 (ja) * 2011-06-16 2016-09-14 東レ・ダウコーニング株式会社 架橋性シリコーン組成物及びその架橋物
JP6046395B2 (ja) * 2012-06-29 2016-12-14 東レ・ダウコーニング株式会社 反応性シリコーン組成物、反応性熱可塑体、硬化物、および光半導体装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6429482A (en) * 1987-07-23 1989-01-31 Toray Silicone Co Organopolysiloxane hot-melt adhesive
JP2008001828A (ja) * 2006-06-23 2008-01-10 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
JP2010508377A (ja) * 2006-08-28 2010-03-18 ダウ・コーニング・コーポレイション 光学部品およびシリコーン組成物および光学部品の成型方法
JP2011099075A (ja) * 2009-11-09 2011-05-19 Nitto Denko Corp 熱可塑性シリコーン樹脂用組成物
WO2011102272A1 (ja) * 2010-02-19 2011-08-25 東レ株式会社 蛍光体含有シリコーン硬化物、その製造方法、蛍光体含有シリコーン組成物、その組成物前駆体、シート状成型物、ｌｅｄパッケージ、発光装置およびｌｅｄ実装基板の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3190156A4 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016136243A1 (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性粒状シリコーン組成物、およびその製造方法
WO2021132711A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01 ダウ・東レ株式会社 積層体及びそれからなる電子部品
JP2021107149A (ja) * 2019-12-27 2021-07-29 ダウ・東レ株式会社 積層体及びそれからなる電子部品
CN115052742A (zh) * 2019-12-27 2022-09-13 陶氏东丽株式会社 层叠体以及由该层叠体构成的电子零件
JP7560231B2 (ja) 2019-12-27 2024-10-02 ダウ・東レ株式会社 積層体及びそれからなる電子部品

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