WO2015122083A1 - 光学素子及びその製造方法，該光学素子を有する表示装置，電子機器，及び照明装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、可視範囲を切り替え可能な光学素子において、入射光の侵入に起因して生じる電気泳動粒子の帯電量の低下を緩和させると共に、動作の安定性を確保することを目的とする。本発明に係る光学素子（１１）は、互いの主面が対向するように配置された第１及び第２の透明基板（２１，２２）と、第１の透明基板（２１）の主面側に配置された導電性遮光パターン（３０）と、第２の透明基板（２２）の主面に配置された透明導電膜（５０）と、第１の透明基板（２１）上に配置された複数の光透過領域（４０）と、隣接する各光透過領域（４０）の間に配置された電気泳動素子（６０）と、を有し、外部から印加する電界により電気泳動粒子（６１）の分散状態が変化して、透過光の出射方向の範囲が変化する、という構成を採っている。

Description

光学素子及びその製造方法，該光学素子を有する表示装置，電子機器，及び照明装置

　本発明は、透過光の射出方向の範囲を可変制御する光学素子及びその製造方法，該光学素子を有する表示装置，電子機器，及び照明装置に関する。

　液晶表示装置は、携帯電話機，ＰＤＡ（Personal Digital Assistant），ＡＴＭ（Automatic Teller Machine），パーソナルコンピュータ等といった種々の情報処理装置における表示装置として用いられており、近年では、可視範囲の広い液晶表示装置が実用化されている。

　こうした液晶表示装置としては、背面から入射される光の出射方向を調整する光学素子を内部に搭載すると共に、この光学素子に向けて一様に光を射出するバックライトと、映像を表示する液晶ディスプレイと、を有する構成が一般的に知られている。

　また、液晶表示装置には、大型ディスプレイ化・多目的化に伴い、様々な配光特性が要求されるようになってきている。

　特に、情報漏洩の観点から、他人に覗き込まれないように可視範囲を制限したいという要求や、不必要な方向には光を出射しないようにしたいとの要求があり、これに応える光学素子としては、ディスプレイの可視範囲（又は出射範囲）を制限することが可能な光学フィルムが提案され実用化されている。

　しかし、上記光学フィルムを採用した液晶表示装置においては、複数の方向から同時にディスプレイを見る場合に、該光学フィルムをその都度取り外す必要があり、このことは、ユーザに煩雑な処理を課すと共に時間のロスを招くため、取り外すといった手間を掛けることなく、広い可視範囲と狭い可視範囲の各状態を任意のタイミングで実現したい、という要求が高まっている。

　このため、かかる要求に応じて、ディスプレイの可視範囲を広視野モードと狭視野モードとの間で切り替え可能な光学素子が提案されている。

　こうした光学素子としては、例えば、図３５に示す断面図のように、対向配置した２枚の透明基板４２１，４２２を使用して、透明感光性樹脂層を露光・現像し、加熱により硬化させて光透過領域４４０を形成し、この光透過領域４４０の間に電気泳動素子４６０を配置するという構成を採った光学素子４１０がある。ここでは、各透明基板４２１，４２２と光透過領域４４０との間に、それぞれ透明導電膜４５１，４５２が形成されている。

　このように、透明基板４２１上に平面的に独立して配列した高アスペクト比である光透過領域４４０の間に電気泳動素子４６０が配置された光学素子４１０では、外部から透明導電膜４５１，４５２を介して印加する電界によって電気泳動素子４６０の分散状態を制御することにより、光（入射光）７５０の出射状態に係る狭視野モード，広視野モードという２つ状態を任意に実現するという構成を採っている。
　すなわち、外部から印加する電界を調整することにより、図３５（ａ）に示す狭視野モードと図３５（ｂ）に示す広視野モードとを任意に切り替え、これにより光７５０に係る２つの出射状態を実現している。

　また、電気泳動素子の応用技術としては、例えば、下記の特許文献１又は２のような技術内容が知られている。

　特許文献１に開示された光学素子５１０は、図３６に示す断面図のように、透明基板５２１と、透明基板５２１の表面に形成された透明導電膜５５１と、この透明導電膜５５１の上面５５１ａにて互いに離間して形成された複数の光透過領域５４０と、これらの各光透過領域５４０の相互間に配置された電気泳動素子５６０と、を有すると共に、光透過領域５４０の上面５４０ａ側には、光透過領域５４０側の表面に別の透明導電膜５５２を備えた別の透明基板５２２が配置されている。

　特許文献２に開示された電気泳動表示素子６１０は、図３７に示す断面図のように、基材６２０に形成した凹部６２０Ａと、凹部６２０Ａの底面に設けられたアルミ電極６５０と、凹部６２０Ａに配置された電気泳動素子６６０と、基材６２０の上面に設けられた透明電極６５１と、この透明電極６５１の上面に設けられた接着剤６９０と、この接着剤６９０の上面に設けられた透明基材６２１と、を備えている。

ＵＳ７，７５１，６６７号公報 特開２００２－１２２８９１号公報

　しかしながら、特許文献１における光学素子５１０のような構成の場合には、図３８に示すように、電気泳動素子５６０が光７５０に対して露出しているため、電気泳動素子５６０に光７５０が侵入することによって起こる光劣化により、電気泳動素子５６０の動作電圧（電気泳動素子５６０を動作させるために必要となる電圧値）が上昇するという問題が生じる。すなわち、電気泳動素子５６０の動作電圧は、電気泳動素子５６０の表面帯電量に依存するため、上記光劣化により該帯電量が低下していくことで該動作電圧が上昇し、光学素子５１０の動作性能が低下するという不都合が生じる。また、図３５を参照して説明した光学素子４１０についても、これと同様の不都合がある。

　さらに、特許文献２に開示された電気泳動表示素子６１０では、基材６２０に形成した凹部６２０Ａの底面に、真空スパッタでアルミ電極６５０を形成するという構成を採っているため、凹部６２０Ａの側壁に意図しないアルミ層が形成されることから、電気泳動表示素子６１０の正常な動作を安定的に確保できないという不都合がある。

（発明の目的）
　本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、特に、入射光の侵入に起因して生じる電気泳動素子の帯電量の低下を緩和させると共に、動作の安定性を確保する光学素子及びその製造方法，該光学素子を有する表示装置，電子機器，及び照明装置の提供を目的とする。

　上記目的を達成するために、本発明にかかる光学素子では、互いの主面が対向するように配置された第１及び第２の透明基板と、前記第１の透明基板の主面側に配置された導電性遮光パターンと、前記第２の透明基板の主面に配置された透明導電膜と、前記第１の透明基板上に配置された複数の光透過領域と、隣接する前記各光透過領域の間に配置された、特定の電荷を帯び且つ遮光性の電気泳動粒子と透過性の分散剤とから成る電気泳動素子と、を有し、前記導電性遮光パターンと前記透明導電膜との間の電位差が外部から調整されることにより、前記電気泳動粒子の分散状態が変化して、前記各光透過領域及び分散剤を透過する光の出射方向の範囲が変化する、という構成を採っている。

　また、本発明にかかる表示装置では、映像を表示する表示面を備えたディスプレイと、このディスプレイの前記表示面上に配置された上記光学素子と、を有する、という構成を採っている。
　加えて、本発明にかかる他の表示装置では、映像を表示する表示面を備えた液晶ディスプレイと、この液晶ディスプレイの背面側に配置されて当該液晶ディスプレイに光を照射するバックライトと、前記液晶ディスプレイと前記バックライトとの間に配置された上記光学素子と、を有するように構成されている。

　さらに、本発明にかかる電子機器では、映像を外部に向けて表示する表示手段を備えた電子機器本体を有すると共に、前記表示手段として前述した表示装置を装備する、という構成を採っている。

　また、本発明にかかる照明装置では、上記光学素子と、この光学素子が有する前記第１の透明基板の背面に設けられた光源と、を有する、という構成を採っている。

　さらに、本発明にかかる光学素子の製造方法では、第１の透明基板の主面に導電性遮光パターンを形成する遮光パターン形成工程と、この導電性遮光パターンが形成された前記第１の透明基板の主面側に、透明感光性樹脂を積層する感光性樹脂積層工程と、この積層された透明感光性樹脂に向けて、積層方向に対する平行光から成る露光光を照射する露光光照射工程と、この露光光が照射された透明感光性樹脂に対して現像処理を施すことにより、複数に区画された光透過領域を形成する透過領域形成工程と、表面に透明導電膜が形成された第２の透明基板を、当該透明導電膜が前記光透過領域側を向くように設置する透明基板設置工程と、前記各光透過領域の相互間に存する間隙部分に、特定の電荷を帯びた遮光性の電気泳動粒子と透過性の分散剤との混合物である電気泳動素子を充填して光吸収層を形成する泳動素子充填工程と、を含み、前記露光光照射工程では、前記導電性遮光パターンの少なくとも一部が、前記各光透過領域の相互間に存する間隙部分に位置するように前記露光光を照射すること、を特徴とする。

　本発明によれば、特に、光が入射する側の電極を遮光導電膜による導電性遮光パターンで形成したことから、入射光の侵入に起因して生じる電気泳動素子の帯電量の低下を緩和させると共に、動作の安定性を確保する光学素子及びその製造方法，該光学素子を有する表示装置，電子機器，及び照明装置の提供が可能となる。

本発明の第１実施形態における光学素子を示す断面図のうち、図１（ａ）は狭視野モード（狭視野状態）であり、図１（ｂ）は広視野モード（広視野状態）である。 図１に開示した光学素子の広視野モードにおける導電性遮光パターンと透明導電膜との電位の様子を示す断面図である。 図１に開示した光学素子の狭視野モードにおける導電性遮光パターンと透明導電膜との電位の様子を示す断面図のうち、図３（ａ）は電気泳動粒子の表面電荷が負電荷（－）の場合であり、図３（ｂ）は電気泳動粒子の表面電荷が正電荷（＋）の場合である。 図１に開示した光学素子において、透明導電膜の近傍に電気泳動粒子を配置した場合を示す図のうち、図４（ａ）は入射光と電気泳動粒子との関係を示す断面図であり、図４（ｂ）は当該配置構造における輝度の様子を示す特性図である。 図１に開示した光学素子において、導電性遮光パターンの近傍に電気泳動粒子を配置した場合を示す図のうち、図５（ａ）は入射光と電気泳動粒子との関係を示す断面図であり、図５（ｂ）は当該配置構造における輝度の様子を示す特性図である。 本第１実施形態における光学素子として、正方形パターンの構造を採用した場合の概要を示す斜視図である。 本第１実施形態における光学素子として、長方形パターンの構造を採用した場合の概要を示す斜視図である。 本第１実施形態における光学素子として、ストライプパターンの構造を採用した場合の概要を示す斜視図である。 図６に開示した正方形パターンの構造である光学素子における光透過領域及び電気泳動素子の平面形状を示す概略図である。 図７に開示した長方形パターンの構造である光学素子における光透過領域及び電気泳動素子の平面形状を示す概略図である。 図８に開示したストライプパターンの構造である光学素子における光透過領域及び電気泳動素子の平面形状を示す概略図である。 図１に開示した光学素子の製造方法における各工程の様子を、その進行順に則して、図１２（ａ）→図１２（ｂ）→図１２（ｃ）→図１２（ｄ）→図１２（ｅ）→図１２（ｆ）の順に示した断面図である。 図１２に開示した光学素子の製造方法における各工程の順序のうちで、図１２（ｅ），図１２（ｆ）にかかる工程の順序を入れ替えた場合の様子を、図１３（ａ）→図１３（ｂ）→図１３（ｃ）→図１３（ｄ）→図１３（ｅ）→図１３（ｆ）という進行順に則して示した断面図である。 第１実施形態において、導電性遮光パターンと光透過領域との相対的な位置がずれた状態で製造された光学素子を示す断面図である。 図１２に開示した光学素子の製造方法における各工程のうちの、図１２（ｃ）及び図１２（ｄ）にかかる工程に代えて、導電性遮光パターンをフォトマスクとして用いて光透過領域を形成するという工程を採用した場合の様子を、図１５（ａ）→図１５（ｂ）→図１５（ｃ）→図１５（ｄ）→図１５（ｅ）→図１５（ｆ）という進行順の通りに示した断面図である。 実施形態１の光学素子における垂直入射光の軌道の様子を示す断面図である。 本発明の第２実施形態における光学素子の狭視野モードを示す断面図である。 本発明の第２実施形態における光学素子の広視野モードを示す断面図である。 図１７及び１８に開示した光学素子の製造方法における各工程の様子を、その進行順に則して、図１９（ａ）→図１９（ｂ）→図１９（ｃ）→図１９（ｄ）→図１９（ｅ）→図１９（ｆ）の順に示した断面図である。 図１９に開示した光学素子の製造方法における各工程のうちの、図１９（ｃ）及び図１９（ｄ）にかかる工程に代えて、導電性遮光パターンをフォトマスクとして用いて光透過領域を形成するという工程を採用した場合の様子を、図２０（ａ）→図２０（ｂ）→図２０（ｃ）→図２０（ｄ）→図２０（ｅ）→図２０（ｆ）という進行順の通りに示した断面図である。 本発明の第３実施形態にかかる、光透過領域が剥き出しの状態にある光学素子を示す断面図である。 本発明の第３実施形態にかかる、光透過領域の表面に保護カバー膜が形成された状態にある光学素子を示す断面図である。 本発明の第４実施形態における光学素子の狭視野モードを示す断面図である。 本発明の第４実施形態における光学素子の広視野モードを示す断面図である。 第４実施形態において、導電性遮光パターンと光透過領域との相対的な位置がずれた状態で製造された光学素子を示す断面図である。 本発明の第５実施形態における光学素子の狭視野モードを示す断面図である。 本発明の第５実施形態における光学素子の広視野モードを示す断面図である。 第５実施形態において、導電性遮光パターンと光透過領域との相対的な位置がずれた状態で製造された光学素子を示す断面図である。 図１等に開示した光学素子を内部に搭載した、本発明のその他の実施形態における表示装置の構成を示す断面図である。 図１等に開示した光学素子を内部に固定した、本発明のその他の実施形態における表示装置の構成を示す断面図である。 図１等に開示した光学素子を表示画面に搭載した、本発明のその他の実施形態における表示装置の構成を示す断面図である。 図１等に開示した光学素子を表示画面に固定した、本発明のその他の実施形態における表示装置の構成を示す断面図である。 本発明のその他の実施形態における電子機器のうち、図３３（ａ）はタッチパネルにより入力する機器を、図３３（ｂ）はタッチパネルとキーボードとマウスとにより入力する機器をそれぞれ示す概略図である。 図１等に開示した光学素子を搭載した、本発明のその他の実施形態における照明光学装置の構成を示す断面図である。 光出射の２つの状態を切り替え可能な光学素子における動作原理を示す図のうち、図３５（ａ）は狭視野モードを，図３５（ｂ）は広視野モードをそれぞれ示す断面図である。 関連技術における光学素子を例示した断面図である。 関連技術における電気泳動表示素子を示す断面図である。 図３６に開示した光学素子における垂直入射光の軌道の様子を示す断面図である。 本発明の第６実施形態における光学素子を示す断面図であり、図３９（ａ）は狭視野モードを、図３９（ｂ）は広視野モードをそれぞれ示す断面図である。 本発明の第６の実施形態における表示装置の効果を示す図であり、（ａ）は透明基板と導電性遮光パターンの間に反射防止パターンがない場合の入射光の軌道の様子を示す図であり、（ｂ）は反射防止パターンがある場合の入射光の軌道の様子を示す図である。 本発明の第７実施形態における光学素子を示す断面図であり、図４１（ａ）は狭視野モードを、図４１（ｂ）は広視野モードをそれぞれ示す断面図である。 本発明の第７実施形態の光学素子における入射光および外光の軌道の様子を示す図である。

　以下、図面を参照しながら、本発明を実施するための形態（以下「実施形態」という。）について説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成要素については同一の符号を用いる。また、図面に描かれた形状は、実際の寸法及び比率とは必ずしも一致していない。

〔第１実施形態〕
　本発明における光学素子の第１実施形態を、図１乃至図１６に基づいて説明する。

（基本的構成）
　図１は本第１実施形態の光学素子を示す断面図であり、図１（ａ）は狭視野モード（狭視野状態）、図１（ｂ）は広視野モード（広視野状態）を示している。
　図１に示すように、本第１実施形態の光学素子１１は、第１の透明基板２１と、この第１の透明基板２１の表面（主面）２１ａに形成された導電性遮光パターン３０と、この導電性遮光パターン３０と相補的な位置に形成されると共にその上面４０ａを頂面とする互いに離間した複数の光透過領域４０と、この各光透過領域４０の上面４０ａに配置された透明導電膜５０及び第２の透明基板２２と、導電性遮光パターン３０と光透過領域４０と透明導電膜５０との間の空隙に配置された電気泳動素子６０とを備えている。
　電気泳動素子６０は、電気泳動粒子６１と分散剤６２の混合物である。なお、光透過領域４０及び分散剤６２の各断面については、見やすくするために、ハッチングを省略して図示する。

　図１（ａ）に示す狭視野モードは、各光透過領域４０の間隙に配された電気泳動素子６０中の電気泳動粒子６１が分散剤６２内に分散することによって実現している（図２参照）。

　これに対して図１（ｂ）に示す広視野モードは、電気泳動粒子６１を導電性遮光パターン３０の近傍に凝集させることにより実現している（図３参照）。
　ここでは、透明導電膜５０に対する導電性遮光パターン３０の相対電位を、電気泳動粒子６１の表面電荷とは逆の極性とすることで、電気泳動粒子６１を導電性遮光パターン３０の近傍に集めている。

　すなわち、図３（ａ）に示すように、電気泳動粒子６１の表面電荷が負電荷（－）の場合には、導電性遮光パターン３０を正極とする。また、図３（ｂ）に示すように、電気泳動粒子６１の表面電荷が正電荷（＋）の場合には、導電性遮光パターン３０を負極とする。

　仮に、導電性遮光パターン３０の極性が、電気泳動粒子６１の表面電荷と同じ極性となるように設定した場合には、図４（ａ）に示すように、電気泳動粒子６１が透明導電膜５０の近傍に集まることから、入射光７５０が電気泳動粒子６１によって遮光され（×印を参照）、すなわち、透明導電膜５０の近傍に凝集した電気泳動粒子６１によって入射光７５０の通過が阻害される角度（電気泳動粒子６１が入射光７５０の通過を阻害する角度）が生じるため、図４（ｂ）に示すように、輝度が低下する角度が発生することとなる。

　これに対して、上述したように、電気泳動粒子６１を導電性遮光パターン３０の近傍に集めた場合には、図５（ａ）に示すように、電気泳動粒子６１による入射光７５０への干渉が発生しないため、図５（ｂ）に示すように、輝度が低下するような角度は発生せず、良好な輝度を確保することが可能となる。

　以上の構成内容をまとめると、互いの主面が対向するように配置された第１及び第２の透明基板（２１及び２２）と、第１の透明基板２１の主面２１ａ側に配置された導電性遮光パターン３０と、第２の透明基板２２の主面２２ａに配置された透明導電膜５０と、第１の透明基板２１上に配置された複数の光透過領域４０と、隣接する各光透過領域４０の間に配置された、特定の電荷を帯び且つ遮光性の電気泳動粒子６１と透過性の分散剤６２とから成る電気泳動素子６０と、を有する光学素子１１は、導電性遮光パターン３０と透明導電膜５０との間の電位差が外部から調整されることにより、電気泳動粒子６１の分散状態が変化して、各光透過領域４０及び分散剤６２を透過する光の出射方向の範囲が変化する、という構成を採っている。
　光透過領域４０は、導電性遮光パターン３０と相補的な位置に配置されている。

　また、透明導電膜５０に対する導電性遮光パターン３０の相対電位が、電気泳動粒子６１の表面電荷とは逆の極性となるように調整されることで、電気泳動粒子６１が導電性遮光パターン３０の近傍に集まる、という構成を採っている。

　ここで、光学素子１１に、透明導電膜５０に対する導電性遮光パターン３０の極性が電気泳動粒子６１の電荷とは逆の極性となるように電界を印加する電界印加手段３５を設けるように構成してもよい。

　これ以降では、電気泳動粒子６１の表面電荷が負電荷（－）の場合における構成内容を説明するが、電気泳動粒子６１の表面電荷が正電荷（＋）の場合においても、導電性遮光パターン３０の極性を逆にすることにより、同様に対応可能である。

（具体的構成）
　次に、光学素子１１の構成内容を、図１に基づいて、より詳細に説明する。

　光学素子１１は、前述の通り、第１の透明基板２１を有している。
　本第１実施形態では、この第１の透明基板２１として、ガラス基板製，ＰＥＴ（Poly Ethylene Terephthalate）製，ＰＣ（Poly Carbonate）製，又はＰＥＮ（Poly
Ethylene Naphthalate）製のものを採用した。

　また、第１の透明基板２１の主面上には、導電性遮光パターン３０が形成されている。
　この導電性遮光パターン３０の構成材料としては、アルミニウムやクロム，銅，酸化クロム，カーボンナノチューブ等の遮光性導電材料を好適に採用することができ、本第１実施形態では、アルミニウムを採用した。
　加えて、導電性遮光パターン３０の膜厚は、１０［ｎｍ］～１０００［ｎｍ］の範囲が好適であり、本第１実施形態では、これを３００［ｎｍ］とした。

　さらに、第１の透明基板２１上の導電性遮光パターン３０と相補的な位置には、光透過領域４０が形成されている。
　ここでの「相補的な位置」とは、図１等に示す通り、第１の透明基板２１の主面上において、導電性遮光パターン３０と光透過領域４０とが交互に配置された位置関係をいい、導電性遮光パターン３０と光透過領域４０とが相互に交わることなく（重なることなく）配置された状態が好ましい。

　光透過領域４０の高さは、３［μｍ］～３００［μｍ］の範囲が好適であり、本第１実施形態では、これを６０［μｍ］とした。
　また、光透過領域４０の幅（光透過パターン幅）は、１［μｍ］～１５０［μｍ］の範囲が好適であり、本第１実施形態では、これを２０［μｍ］とした。
　さらに、光透過領域４０の相互間の幅（遮光パターン幅）は、０．２５［μｍ］～４０［μｍ］の範囲が好適であり、本第１実施形態では、これを５［μｍ］とした。

　各光透過領域４０の相互間には、上記の通り、電気泳動粒子６１と分散剤６２の混合物である電気泳動素子６０が配置されている。

　次いで、各光透過領域４０と電気泳動素子６０との配置例として、図６乃至図８，及びこれら各図に対応する図９乃至１１に示した３つの例を説明する。

　図６の斜視図に示す正方形パターンの構造の例（第１例）では、図９に示すように、光透過領域４０及び電気泳動素子６０（導電性遮光パターン３０）の平面形状が、正方形の格子状を成している。
　すなわち、この場合の光学素子１１は、各光透過領域４０の幅に相当する光透過パターン幅４１ａと光透過パターン幅４２ａとが等しくなるように形成され、電気泳動素子６０の幅（光透過領域４０の相互間の幅）に相当する遮光パターン幅４１ｂと遮光パターン幅４２ｂとも等しくなるように形成されている。

　図７の斜視図に示す長方形パターンの構造の例（第２例）では、図１０に示すように、光透過領域４０及び電気泳動素子６０（導電性遮光パターン３０）の平面形状が、長方形の格子状を成している。
　すなわち、この場合の光学素子１１は、光透過パターン幅４１ａよりも光透過パターン幅４２ａの方が長くなるように形成されている（４１ａ＜４２ａ）。一方で、遮光パターン幅４１ｂ，遮光パターン幅４２ｂの長さは、等しくなるように形成されている。

　図８の斜視図に示すストライプパターンの構造の例（第３例）では、図１１に示すように、光透過領域４０及び電気泳動素子６０（導電性遮光パターン３０）の平面形状が、ストライプ状を成している。
　すなわち、この場合の光学素子１１は、各光透過領域４０による光透過パターン幅４１ａと、電気泳動素子６０の遮光パターン幅４１ｂとが、交互に連続するように配置されている。

　加えて、図６乃至図９に示すＡ－Ｂ方向における可視角度は、約±３０°に制限される。

（光学素子の製造方法）
　ここでは、本第１実施形態にかかる光学素子の製造方法を、その各工程を例示する図１２に基づいて説明する。（光学素子１１の製造方法は、以下に示す各工程を含む。）

　まず、図１２（ａ）のように、第１の透明基板２１の表面（主面）に導電性遮光パターン３０を形成し（遮光パターン形成工程）、次いで、図１２（ｂ）のように、導電性遮光パターン３０が形成された第１の透明基板２１の主面側に、ネガ型のフォトレジスト膜として透明感光性樹脂層４１を積層して形成する（感光性樹脂積層工程）。
　なお、透明感光性樹脂層４１は、後述する透過領域形成工程を経て光透過領域４０となる部材である。

　次に、図１２（ｃ）のように、マスクパターン７１を備えたフォトマスク７０を通して、透明感光性樹脂層４１に露光光７５を照射することにより、透明感光性樹脂層４１を露光する（露光光照射工程）。
　この露光光照射工程に際しては、マスクパターン７１の位置が導電性遮光パターン３０と重なるように、フォトマスク７０と第１の透明基板２１との位置を調整する制御を行う（位置制御工程）。

　次いで、露光された透明感光性樹脂層４１に対して現像処理を施すことにより、図１２（ｄ）に示すような、互いに離間した複数の光透過領域４０を形成する（透過領域形成工程）。

　続いて、図１２（ｅ）のように、光透過領域４０の表面上に、透明導電膜５０を備えた第２の透明基板２２を設置する（透明基板設置工程）。

　そして、図１２（ｆ）のように、導電性遮光パターン３０と光透過領域４０と透明導電膜５０とで形成された空隙に、電気泳動素子６０を充填する（泳動素子充填工程）。

　この図１２に基づく上記説明では、透明基板設置工程に続いて泳動素子充填工程を実行するという方法を示したが、この２つの工程については、その順番を逆にしても、同様に光学素子１１を製造することができる。

　すなわち、図１３に示すように、図１３（ａ）から図１３（ｄ）に至る各工程内容を、上記図１２（ａ）乃至図１２（ｄ）に基づく説明と同様に実施した後、図１３（ｅ）から図１３（ｅ）へと続く順序の通りに、光透過領域４０の間に電気泳動素子６０を充填する
泳動素子充填工程を、透明基板設置工程に先立って実行し、その後に、光透過領域４０及び電気泳動素子６０の表面上に透明導電膜５０を備えた第２の透明基板２２を設置する透明基板設置工程を実施するようにしてもよい。

　また、上述したように、フォトマスク７０を用いて透明感光性樹脂層４１を露光する際に、マスクパターン７１の位置が導電性遮光パターン３０の位置からずれた場合には、図１４に示すように、導電性遮光パターン３０と一部重なった位置に光透過領域４０が配置された構造の光学素子１１Ｅとなる。
　しかし、このように光透過領域４０の一部が導電性遮光パターン３０と重なって配置された場合でも、図１４に示すように、導電性遮光パターン３０の一部は、電気泳動素子６０側に露出しているため、電気泳動粒子６１を有効に動作させることができる。

　ここで、透明感光性樹脂層４１のパターニングは、図１５（ｃ）及び図１５（ｄ）に示すように、導電性遮光パターン３０をフォトマスクとして用い、第１の透明基板２１の裏面側から露光光７５を照射することにより行ってもよい（照射形成工程）。

　すなわち、図１５に示す通り、図１２（ｃ）及び図１２（ｄ）を参照して説明した露光光照射工程及び透過領域形成工程に代えて、この照射形成工程を採用し、図１５（ａ）→図１５（ｂ）→図１５（ｃ）→図１５（ｄ）→図１５（ｅ）→図１５（ｆ）という順序で、同様に光学素子１１を製造するようにしてもよい。

　このように、導電性遮光パターン３０をフォトマスクとして用いることで、光透過領域４０と導電性遮光パターン３０との相対的な位置が自ずと相補的な関係になる、という効果を得ることができ、その結果、導電性遮光パターン３０が露出した状態を確保することが可能となる。

　ここで、上記露光に用いる露光光７５は、図１２，図１３，及び図１５に示す通り、積層方向（透明感光性樹脂層４１等を積層する方向）に対する平行光である。また、この露光光７５の光源としては、ＵＶ光源を用いており、本第１実施形態における上記露光光照射工程又は照射形成工程では、波長３６５［ｎｍ］のＵＶ光を露光光７５として照射する。

　この照射に際しての露光量は、１００［ｍＪ／ｃｍ^２］～１０００［ｍＪ／ｃｍ^２］の範囲が好適であり、本第１実施形態では、該露光量を２００［ｍＪ／ｃｍ^２］に設定して露光光７５を照射した。

　次に、光学素子１１の製造方法を、図１２を参照して、各構成部材の材質等と共に更に詳しく説明する。

　まず、ガラス，ＰＥＴ，ＰＣ，又はＰＥＮからなる第１の透明基板２１の主面に、導電性遮光パターン３０を形成し（図１２（ａ）：遮光パターン形成工程）、その上に透明感光性樹脂層４１を形成する（図１２（ｂ）：感光性樹脂積層工程）。

　これらの工程にかかる導電性遮光パターン３０には、上述の通り、アルミニウム，クロム，銅，酸化クロム，又はカーボンナノチューブ等の遮光性導電材料を用いることができ、本第１実施形態では、アルミニウムを用いて導電性遮光パターン３０を形成した。

　また、透明感光性樹脂層４１の形成方法としては、例えば、スリットダイコータ，ワイヤコータ，アプリケータ，ドライフィルム転写，スプレイ塗布，スクリーン印刷等といった成膜方法の何れかを用いることができる。
　こうした成膜方法により、本第１実施形態では、３０［μｍ］～３００［μｍ］の範囲内が妥当である透明感光性樹脂層４１の厚さを、６０［μｍ］となるように形成した。

　透明感光性樹脂層４１に用いる透明感光性樹脂としては、例えば、化薬マイクロケム（Microchem）社の化学増幅型フォトレジスト（商品名「ＳＵ－８」）を採用することができる。この透明感光性樹脂の特徴は、次のとおりである。

　第１の特徴は、紫外線を照射することにより光開始剤が酸を発生し、このプロトン酸を触媒として硬化性モノマーを重合させるエポキシ系（具体的にはビスフェノールＡノボラックのグリシジルエーテル誘導体）のネガレジストであるという点にある。
　第２の特徴は、可視光領域において、非常に透明性の高い特性を有しているという点である。

　第３の特徴としては、透明感光性樹脂に含まれる硬化性モノマーは、硬化前の分子量が比較的小さいため、シクロペンタノンやプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＥＧＭＥＡ），ガンマブチルラクトン（ＧＢＬ），イソブチルケトン（ＭＩＢＫ）などの溶媒に非常に良く溶けることから、厚膜形成が容易であるという点が挙げられる。

　第４の特徴は、近紫外領域の波長においても光透過性が非常に良いため、厚膜であっても紫外線を透過させるという特徴を有している点である。

　第５の特徴は、前述したような各特徴を有することから、アスペクト比が３以上の高アスペクト比のパターンを形成できるという点にある。

　第６の特徴は、硬化性モノマーには官能基が多く存在していることから、硬化後、非常に高密度な架橋となり、熱的にも化学的にも非常に安定であるという点である。このため、パターン形成後の加工も容易となる。

　もっとも、本第１実施形態では、透明感光性樹脂層４１として前述の化学増幅型フォトレジスト（商品名「ＳＵ－８」）を採用したが、これに限られるものではなく、すなわち、同様の特性を有するものであれば、どのような光硬化性材料を用いてもよい。

　次に、上述した露光光照射工程では、フォトマスク７０のマスクパターン７１を用いて、透明感光性樹脂層４１をパターニングする（図１２（ｃ））。

　この工程での露光に用いる露光光７５は平行光であり、本第１実施形態では、積層方向に対して平行な方向に出射する。
　また、上述の通り、露光光７５の光源としてＵＶ光を用いた本第１実施形態では、波長が３６５［ｎｍ］であり且つ露光量が２００［ｍＪ／ｃｍ^２］であるＵＶ光を露光光７５として照射した。

　次いで、露光後においては、透明感光性樹脂層４１に対して現像処理を施す。
　すなわち、透明感光性樹脂層４１に現像を実施し、次に熱アニール（熱アニール処理）を１２０［℃］かつ３０［分］という条件で実施することにより、透明感光性樹脂層４１に、複数に区画された光透過領域４０が形成される（図１２（ｄ）：透過領域形成工程）。

　ここで形成された各光透過領域４０相互間のスペース幅（遮光パターン幅）は、上述の通り５［μｍ］である。
　また、上記「ＳＵ－８」で形成した場合における光透過領域４０の屈折率は、１．５～１．６となる。

　続いて、光透過領域４０の上に、透明導電膜５０を備えた第２の透明基板２２を配置する（図１２（ｅ）：透明基板設置工程）。この第２の透明基板２２は、接着剤（図示せず）によって第１の透明基板２１の外周部で固定する。この固定の際に用いる接着剤は、熱硬化性，ＵＶ硬化性の何れを用いてもよい。

　最後に、第１の透明基板２１と第２の透明基板２２と光透過領域４０との間の空隙（導電性遮光パターン３０と透明導電膜５０と光透過領域４０との間の空隙）に、電気泳動粒子６１と分散剤６２の混合物である電気泳動素子６０を充填する（図１２（ｆ）：泳動素子充填工程）。

　なお、上述の通り、図１２（ｅ）にかかる透明導電膜５０を備えた第２の透明基板２２を配置させる工程（透明基板設置工程）と、図１２（ｆ）に示した各光透過領域４０の相互間に存するスペース（間隙部分）に電気泳動素子６０を充填する工程（泳動素子充填工程）と、の順序関係を入れ替えて光学素子１１を製造してもよい（図１３（ｅ），（ｆ））。
　また、同様に、透明感光性樹脂層４１のパターニングは、導電性遮光パターン３０をフォトマスクとして用いると共に、第１の透明基板２１の裏面側から露光光７５を照射することによって行うようにしてもよい（図１５（ｃ），（ｄ））。

　このように、導電性遮光パターン３０をフォトマスクとして用いれば、光透過領域４０と導電性遮光パターン３０との相対的な位置が、自ずと相補的な関係になるため、導電性遮光パターン３０が露出した状態を確保することが可能となる。

　上記露光に用いる露光光７５としても平行光を採用し、光源としてＵＶ光源を用いている本第１実施形態では、波長３６５［ｎｍ］のＵＶ光を露光光７５として照射した。
　その際、１００［ｍＪ／ｃｍ^２］～１０００［ｍＪ／ｃｍ^２］の範囲内が好適である露光量については、ここでも２００［ｍＪ／ｃｍ^２］となるように設定した。

（第１実施形態の効果等）
　本第１実施形態における光学素子１１では、光が入射する側の電極を遮光導電膜による導電性遮光パターン３０で形成するという構成を採ったことから、図１６に示すように、電気泳動素子６０が垂直入射光に曝されることを防止できるため、電気泳動素子６０の光劣化による動作電圧の上昇を抑制することが可能となる。

　また、上述した各製造工程により精度よく製造される光学素子１１によれば、良好な動作安定性を確保した上での光線方向制御が実現できるため、光学素子としての信頼性の向上を図ることが可能となる。

　したがって、光学素子１１を用いることで、入射光による電気泳動素子の帯電量の低下を緩和し、動作電圧の上昇を抑制すると共に、素子の正常な動作を安定的に確保することができる。

　さらに、上記のように構成された光学素子１１では、広視野モードにおいて電気泳動粒子６１が導電性遮光パターン３０の表面近傍へと集まることにより、急峻に透過率が低下する特異角度の発生を回避することができるため、良好な光学特性を実現することが可能となる。

　すなわち、垂直入射光の電気泳動素子への入射を抑制すべく上記構成を採った光学素子１１によれば、入射光による電気泳動素子の劣化を抑制することができるため、入射光の侵入に起因して生じる電気泳動素子の帯電量の低下を緩和させることが可能となり、併せて、動作の安定性を確保することができる。

〔第２実施形態〕
　本発明における光学素子の第２実施形態を、図１７乃至２０に基づいて説明する。ここで、前述した第１実施形態と同等の構成部材については、同一の符号を用いるものとし、その説明は省略する。

（全体的構成）
　図１７は本第２実施形態の光学素子の狭視野モードを示す断面図、図１８は本第２実施形態の光学素子の広視野モードを示す断面図である。
　図１７及び図１８に示すように、本第２実施形態における光学素子１２では、前述の第１実施形態と同様に、導電性遮光パターン３０及び光透過領域４０を配置した第１の透明基板２１において、光透過領域４０の上面４０ａ及び側面４０ｂに保護カバー膜８０を配置している点に特徴がある。

　この保護カバー膜８０の膜厚は、１０［ｎｍ］から１０００［ｎｍ］の範囲内が好適であり、本第２実施形態では、これを２００［ｎｍ］とした。
　また、保護カバー膜８０の構成材料としては、シリコン酸化膜やシリコン窒化膜，シリコン酸窒化膜，パラキシリレン樹脂（以下パリレンと略称する），メタクリル樹脂等を採用することができ、本第２実施形態では、この内からシリコン酸化膜を採用した。

　ここで、図１７及び図１８では、保護カバー膜８０が、導電性遮光パターン３０の表面３０ａにも形成された状態を示すが、この表面３０ａを覆うことは必須の要素ではなく、すなわち、光透過領域４０の上面４０ａ及び側面４０ｂが覆われるように構成すれば、後述する効果を有効に得ることができる。

　すなわち、以上の構成によれば、光透過領域４０の露出部分である上面４０ａと側面４０ｂが保護カバー膜８０によって覆われることで、光透過領域４０と電気泳動素子６０との接触を防止することができるため、電気泳動素子６０に因る光透過領域４０表面のダメージ等の発生を抑止することが可能となる。
　したがって、その結果、電気泳動素子６０の動作状態が変化しないという安定的な構造となり、良好な動作安定性の光線方向制御を実現することができる。

　また、電気泳動素子６０を保持する環境として、前述の第１実施形態における構成内容に保護カバー膜８０が加わることで機密性が向上するため、光学素子としての良好な信頼性を得ることができる。

（光学素子の製造方法）
　次に、本第２実施形態における光学素子１２の製造方法を、その各工程を例示する図１９に基づいて説明する。

　まず、ガラス，ＰＥＴ，ＰＣ，又はＰＥＮからなる第１の透明基板２１の表面に導電性遮光パターン３０を形成し（図１９（ａ）：遮光パターン形成工程）、その上に透明感光性樹脂層４１を形成する（図１９（ｂ）：感光性樹脂積層工程）。
　導電性遮光パターン３０の構成材料，及び透明感光性樹脂層４１の形成方法と膜厚及び材料については、前述の第１実施形態と同様である。

　次に、マスクパターン７１を備えたフォトマスク７０を通して、透明感光性樹脂層４１に平行光である露光光７５を照射することにより、透明感光性樹脂層４１を露光する（図１９（ｃ）：露光光照射工程）。

　この露光に用いる露光光７５の露光量は、１００［ｍＪ／ｃｍ^２］～１０００［ｍＪ／ｃｍ^２］の範囲内が好適であり、本第２実施形態においても、この露光量が２００［ｍＪ／ｃｍ^２］となるように設定して照射した。
　また、この照射に先立って、マスクパターン７１の位置が導電性遮光パターン３０と重なるように、前述の第１実施形態と同様、フォトマスク７０と第１の透明基板２１との位置調整にかかる制御を行うようにしてもよい（位置制御工程）。

　そして、露光後における透明感光性樹脂層４１に現像を実施し、次に熱アニールを１２０［℃］かつ３０［分］という条件で実施することにより、導電性遮光パターン３０が露出すると共に、この露出した状態の導電性遮光パターン３０と相補的な位置に複数の光透過領域４０が形成される（図１９（ｄ）：透過領域形成工程）。

　ここで形成された各光透過領域４０の相互間のスペース幅は５［μｍ］であり、上記化学増幅型フォトレジスト（商品名「ＳＵ－８」）で形成した光透過領域４０の屈折率は１．５～１．６となる。

　続いて、本第２実施形態では、光透過領域４０の上に保護カバー膜８０を形成する（図１９（ｅ）：保護カバー形成工程）。
　このとき、保護カバー膜８０は、図１９（ｅ）に示すように、導電性遮光パターン３０の上にも形成される。しかし、少なくとも光透過領域４０の上面４０ａ及び側面４０ｂが覆われていればよく、必ずしもこのように導電性遮光パターン３０を覆う必要はない。

　また、本第２実施形態では、上述の通り、保護カバー膜８０の構成材料として、シリコン酸化膜を採用すると共に、その膜厚が２００［ｎｍ］となるように形成した。

　これ以降は、保護カバー膜８０で覆われた各光透過領域４０の上に、前述の第１実施形態と同様、透明導電膜５０を備えた第２の透明基板２２を設置し（図１９（ｆ）：透明基板設置工程）、次いで、第１の透明基板２１と第２の透明基板２２との間の空隙（保護カバー膜８０と透明導電膜５０とで形成された空隙）に電気泳動素子６０を充填する（図１９（ｇ）：泳動素子充填工程）。

　ここで、透明感光性樹脂層４１のパターニングは、図２０（ｃ）及び図２０（ｄ）に示すように、導電性遮光パターン３０をフォトマスクとして用い、第１の透明基板２１の裏面側から露光光７５を照射することで行うようにしてもよい（照射形成工程）。

　すなわち、図２０に示すように、この照射形成工程を、図１９（ｃ）及び図１９（ｄ）にかかる露光光照射工程及び透過領域形成工程に代えて採用し、図２０（ａ）→図２０（ｂ）→図２０（ｃ）→図２０（ｄ）→図２０（ｅ）→図２０（ｆ）という順序で、同様に光学素子１２を製造するようにしてもよい。

　このような背面露光を行うことにより、導電性遮光パターンに対して自己整合的に透明感光性樹脂層４１から光透過領域４０を形成でき、設計通りの開口率を確保することが可能となる。また、マスク費用を１枚分削減することができるため、コストの削減を図ることも可能となる。

　なお、ここでの露光に用いる露光光７５の露光量についても、１００［ｍＪ／ｃｍ^２］～１０００［ｍＪ／ｃｍ^２］の範囲内が好適であり、ここでも該露光量が２００［ｍＪ／ｃｍ^２］となるように設定して照射した。

（第２実施形態の効果等）
　本第２実施形態における光学素子１２では、光透過領域４０の露出部分である上面４０ａと側面４０ｂとを保護カバー膜８０によって覆うという構成を採用したため、光透過領域４０を構成する材料に対して溶解や膨潤などといった影響を与えるような材料から成る電気泳動素子６０を用いた場合でも、光透過領域４０と電気泳動素子６０との接触が防止
されることから、電気泳動素子６０による光透過領域４０への影響が発生せず、その結果として、良好な動作安定性の光線方向制御を実現することが可能となる。

　併せて、電気泳動素子６０の周辺環境に、保護カバー膜８０を加えたことより、機密性が向上することから、光学素子への良好な信頼性を付加することが可能となる。
　その他の構成及び製造方法にかかる工程については、前述の第１実施形態において述べた内容と同様であり、他に生じる作用及び効果も同様である。

〔第３実施形態〕
　本発明における光学素子の第３実施形態及びその変形例を、図２１及び２２に基づいて説明する。ここでは、上述した第１及び第２実施形態と同等の構成部材に、同一の符号を用いるものとし、その説明は省略する。

　図２１は本第３実施形態の、光透過領域が剥き出しの状態にある光学素子を示す断面図、図２２は本第３実施形態の、光透過領域の表面に保護カバー膜が形成された状態にある光学素子を示す断面図である。
　図２１及び図２２に示すように、本第３実施形態における光学素子１３Ａでは、上述した第１実施形態における光学素子１１と同様の構成に加えて、光透過領域４０と透明導電膜５０との間に接着層９０を介在させた点に特徴がある。

　すなわち、この光学素子１３Ａでは、上述した第１実施形態と同様に、第１の透明基板２１上に導電性遮光パターン３０，光透過領域４０が順次形成されており、この光透過領域４０の上に配置された接着層９０を介して、透明導電膜５０及び第２の透明基板２２が取り付けられている。

　接着層９０の膜厚は、１［ｕｍ］から１００［ｕｍ］の範囲が好適であり、本第３実施形態では、これを１０［ｕｍ］とした。
　また、接着層９０の構成材料としては、ＵＶ硬化性や熱硬化性の透明な樹脂を採用することができ、本第３実施形態では、光透過領域４０の構成材料と同じ樹脂を採用した。

　このように、光透過領域４０と透明導電膜５０との間に接着層９０を設けることで、光透過領域４０と透明導電膜５０との間への電気泳動粒子６１の侵入を防止することができる。

　ここで、仮に、光透過領域４０と透明導電膜５０との間へ侵入した電気泳動粒子６１（侵入電気泳動粒子）が存在する場合には、透明導電膜５０と導電性遮光パターン３０との間に電界を形成して、電気泳動素子６０の中の電気泳動粒子６１を導電性遮光パターン３０の近傍へと集める際に、当該侵入電気泳動粒子が、そこから光透過領域４０の側面の高さに相当する距離を移動する必要が生じるため、余分な移動時間が必要となり、迅速な動作に支障をきたすこととなる。

　しかし、本第３実施形態では、上述した通り、光透過領域４０－透明導電膜５０間への電気泳動粒子６１の侵入を防止すべく、上述の通り接着層９０を設けたため、電界形成に起因して電気泳動粒子６１が移動するに際して、上記侵入電気泳動粒子が導電性遮光パターン３０の近傍まで移動するのに要する時間を省略することができ、これにより、動作の迅速性を確保することが可能となる。

　また、電界形成に際して、上記侵入電気泳動粒子のすべてが移動できずに、その一部が残存することに起因した光透過率の低下を防止することができる。

（変形例）
　本第３実施形態の変形例における光学素子１３Ｂは、図２１に示すように、前述の第２実施形態における光学素子１２と同様の構成内容に加えて、上記同様の接着層９０を設けた点に特徴がある。

　すなわち、この光学素子１３Ｂでは、前述の第２実施形態と同様に、保護カバー膜８０が形成された光透過領域４０の上に接着層９０が配置され、この接着層９０を介して透明導電膜５０及び第２の透明基板２２が取り付けられている。
　接着層９０の膜厚及び構成材料については、上記同様である。

（第３実施形態の効果等）
　本第３実施形態にて説明した、保護カバー膜８０がない構造である光学素子１３Ａと、保護カバー膜８０が形成された構造である光学素子１３Ｂとは、双方共に、光透過領域４０と透明導電膜５０との間への電気泳動粒子６１の侵入を防止するための接着層９０を有している。
　このため、電気泳動粒子６１の内の一部が、光学素子の製造工程において、上記侵入電気泳動粒子として配置されてしまうという不都合を未然に防止できることから、透明導電膜５０と導電性遮光パターン３０との間に電界を形成することにより電気泳動粒子６１を導電性遮光パターン３０の近傍へと集める際に、余分な移動時間の発生を抑止することが可能となる。

　また、電界形成に際して、光透過領域４０と透明導電膜５０との間から導電性遮光パターン３０の近傍までの移動を要する上記侵入電気泳動粒子が、一部残存してしまうことに起因する光透過率の低下を、有効に防ぐことができる。
　その他の構成及び製造方法にかかる工程については、上述した第１及び第２実施形態にて述べた内容と同様であり、他に生じる作用及び効果も同様である。

〔第４実施形態〕
　本発明における光学素子の第４実施形態を、図２３乃至２５に基づいて説明する。
　ここで、前述した第１乃至第３実施形態と同等の構成部材については、同一の符号を用いるものとし、その説明は省略する。

　図２３は本第４実施形態の光学素子の狭視野モードを示す断面図、図２４は本第４実施形態の光学素子の広視野モードを示す断面図である。
　図２３及び図２４に示すように、本第４実施形態における光学素子１４では、上述した第１実施形態における光学素子１１と同様の構成に加えて、第１の透明基板２１の上に設けた別の透明導電膜（第２透明導電膜）５４を有する点に特徴がある。
　すなわち、第１の透明基板２１の上に別の透明導電膜５４を配置し、この別の透明導電膜５４の上に導電性遮光パターン３０と光透過領域４０とを順次形成し配置させている。

　別の透明導電膜５４の膜厚は、１０［ｎｍ］から１０００［ｎｍ］の範囲内が適当であり、本第４実施形態では、これを１００［ｎｍ］とした。
　別の透明導電膜５４の構成材料としては、ＩＴＯ，ＺｎＯ，又はＩＧＺＯ等を採用することができ、本第４実施形態では、これらの中からＩＴＯを採用した。

　このように、第１の透明基板２１と導電性遮光パターン３０との間に別の透明導電膜５４を介在させるという構成を採れば、図２５に示す光学素子１４Ｅように、その製造工程において、導電性遮光パターン３０と光透過領域４０とが理想的な位置からずれたような場合でも、別の透明導電膜５４を用いて電気泳動素子６０を有効に動作させることが可能となる。

　また、導電性遮光パターン３０に断線等が発生した場合でも、別の透明導電膜５４によって導通が確保できるため、導電性遮光パターン３０の断線による動作不良等の発生を防ぐことが可能となり、その結果、良好な動作安定性の光線方向制御を実現できる光学素子の製造が可能となる。

（第４実施形態の効果等）
　本第４実施形態における光学素子１４では、外部から電界を印加することができる別の透明導電膜５４を第１の透明基板２１上に設け、この上に導電性遮光パターン３０を形成するという構成及び製造工程を採用したため、導電性遮光パターン３０に断線や位置ずれ（製造状況に起因する電気泳動素子６０との相対的な位置ずれ）等が生じた場合でも、別の透明導電膜５４を用いて有効にモード切替制御等を実現することができる。
　その他の構成及び製造方法にかかる工程については、上述した第１乃至第３実施形態にて述べた内容と同様であり、他に生じる作用及び効果も同様である。

〔第５実施形態〕
　本発明における光学素子の第５実施形態を、図２６乃至２８に基づいて説明する。
　ここでは、前述した第１乃至第４実施形態と同等の構成部材に、同一の符号を用いるものとし、その説明は省略する。

　図２６は本第５実施形態の光学素子の狭視野モードを示す断面図、図２７は本第５実施形態の光学素子の広視野モードを示す断面図である。
　図２６，図２７に示すように、本第５実施形態における光学素子１５では、上述した第１実施形態における光学素子１１と同様の構成に加えて、第１の透明基板２１において、そこに形成した導電性遮光パターン３０の上に設けた別の透明導電膜（第３透明導電膜）５５を有する点に特徴がある。
　すなわち、第１の透明基板２１上に配置した導電性遮光パターン３０の上に別の透明導電膜５５を配置して、この別の透明導電膜５５の上に光透過領域４０を形成し配置させている。

　別の透明導電膜５５の膜厚は、１０［ｎｍ］から１０００［ｎｍ］の範囲が好適であり、本第５実施形態では、該膜厚を１００［ｎｍ］とした。
　また、別の透明導電膜５５の構成材料としては、ＩＴＯやＺｎＯ，ＩＧＺＯ等を採用することができ、本第５実施形態においてもＩＴＯを採用した。

（第５実施形態の効果等）
　上記の通り、導電性遮光パターン３０が形成された第１の透明基板２１の上に別の透明導電膜５５を配設すれば、図２８に示す光学素子１５Ｅのように、導電性遮光パターン３０と光透過領域４０との相対的な位置関係がずれた場合でも、別の透明導電膜５５により電気泳動素子６０を有効に動作させることができる。
　また、導電性遮光パターン３０に断線等が発生したような場合でも、前述の第４実施形態と同様に、別の透明導電膜５５によって導通が確保できるため、導電性遮光パターン３０の断線に起因した動作不良等の発生も防ぐことができる。

　さらに、光学素子１５等は、導電性遮光パターン３０を形成した後に別の透明導電膜５５を形成する、という工程を経て製造されるため、導電性遮光パターン３０のパターン形成による別の透明導電膜５５へのダメージ等が発生しないため（導電性遮光パターン３０のパターン形成時に、別の透明導電膜５５に対して損傷等を加える心配がないため）、別の透明導電膜５５による導通は確実に確保することができ、その結果、より良好な動作安定性の光線方向制御を実現することが可能となる。
　その他の構成及び製造方法にかかる工程については、上述した第１乃至第４実施形態にて述べた内容と同様であり、他に生じる作用及び効果も同様である。

〔第６実施形態〕
　本発明における光学素子の第６実施形態を、図３９乃至４０に基づいて説明する。
　ここでは、前述した第１乃至第５実施形態と同等の構成部材に、同一の符号を用いるものとし、その説明は省略する。

　図３９は本第６実施形態の光学素子を示す断面図で、図３９（ａ）は狭視野モードを、図３９（ｂ）は広視野モードをそれぞれ示す。図３９（ａ），（ｂ）に示すように、本第６実施形態における光学素子７１０では、上述した第１実施形態における光学素子１１と同様の構成に加えて、第１の透明基板２１において、そこに形成した導電性遮光パターン３０と第１の透明基板２１の間に設けた反射防止パターン８００を有する点に特徴がある。

　すなわち、第１の透明基板２１上に反射防止パターン８００及び導電性遮光パターン３０を順次配置して、この反射防止パターン８００及び導電性遮光パターン３０が形成されていない第１の透明基板２１の上に光透過領域４０を形成し配置させている。

　反射防止パターン８００の構成材料としては、ＩＴＯやＣｒ₂Ｏ₃や窒化チタンや窒化アルミやカーボンナノワイヤ等を採用することができ、本第６実施形態においてもＩＴＯを採用した。

　また、反射防止パターン８００の膜厚は、１０［ｎｍ］から１０００［ｎｍ］の範囲が好適であり、本第６実施形態では、当該膜厚を１００［ｎｍ］とした。

（第６実施形態の効果等）
　図４０（ａ）に示すように、第１の透明基板２１の表面に直接導電性遮光パターン３０を配置すると、第１の透明基板２１と導電性遮光パターン３０の界面で入射光７５０が反射して反射光７８０が出射することで画質が低下する。これに対して図４０（ｂ）に示すように、第１の透明基板２１と導電性遮光パターン３０の間に反射防止パターン８００を配置することで、反射光７８０の発生を防止できるため、画質低下を防止することができる。

〔第７実施形態〕
　本発明における光学素子の第７実施形態を、図４１乃至４２に基づいて説明する。
　ここでは、前述した第１乃至第６実施形態と同等の構成部材に、同一の符号を用いるものとし、その説明は省略する。

　図４１は本第７実施形態の光学素子を示す断面図であり、図４１（ａ）は狭視野モードを、図４１（ｂ）は広視野モードをそれぞれ示す。図４１（ａ），（ｂ）に示すように、本第７実施形態における光学素子８１０では、上述した第６実施形態における光学素子７１０と同様の構成に加えて、透明導電膜５０側から光を入射するように、光学素子の表裏面が逆になるように配置されている。

（第７実施形態の効果等）
　上記の通り、光入射側に透明導電膜５０を配置し、光出射側に導電性遮光パターン３０及び反射防止パターン８００を配置することで、図４２に示すように、導電性遮光パターン３０の表面には常に電気泳動粒子６１が配置されている為に、入射光７５０の反射による二重像の発生が防止可能であり、外光８５０の導電性遮光パターン３０の表面での反射も反射防止パターン８００によって防止されるので、外光反射によるコントラストの低下も防止することができる。

　その他の構成及び製造方法にかかる工程については、上述した第１乃至第６実施形態にて述べた内容と同様であり、他に生じる作用及び効果も同様である。

〔その他の実施形態〕
　以上、各実施形態において説明した光学素子は、液晶表示装置だけではなく、表示パネルを備えた他の表示装置、例えば有機ＥＬディスプレイや無機ＥＬディスプレイ，ＬＥＤディスプレイ，プラズマディスプレイ等にも適用することができる。
　また、本発明にかかる光学素子の使用形態としては、表示パネルの表面に直に貼り付けて使用する形態や、表示装置内に搭載する形態など、種々の使用形態を想定することができる。

　そこで、こうした種々の使用形態における構成内容を、図２９乃至図３４に基づいて具体的に説明する。

　また、これらの各図では、上述した第１実施形態の光学素子１１と同様のものを各種表示装置等に適用した例を示したが、これに代えて、第２乃至第７実施形態で説明した各光学素子（１２乃至１５、７１０、８１０等）を適用するようにしてもよい。
　そこで以下では、特に記載がない限り、上記各光学素子１１乃至１５、７１０、８１０等を、光学素子１０と総称して各説明を行う。

（表示装置）
　まず、本発明の他の実施形態における、光学素子１０を内部に搭載する表示装置を、図２９乃至図３２に基づいて説明する。

　まず、図２９に示す表示装置１１０は、光学制御素子２００と、この光学制御素子２００を照明する面状光源（バックライト）３００と、光学制御素子２００と面状光源３００との間に設けられた光学素子１０と、を有している。

　光学素子１０は、上述した各実施形態で説明した通り、狭視野モードと広視野モードを実現可能な構成を採っている。

　面状光源３００は、図２９に示すように、冷陰極管に代表される光源３１０と、この光源３１０からの入射光をその表面から一様に射出する導光板３２０と、この導光板３２０の裏面から射出した光を表面方向に向けて反射する反射シート３３０と、導光板３２０から入射する光を拡散させる拡散板３４０と、この拡散板３４０を介して導光板３２０から入射する光の輝度を向上させる第１及び第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂと、からなり、この第１及び第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂを通過した光が、光学素子１０を介して光学制御素子２００に入射するという構成を採っている。

　より具体的に説明すると、導光板３２０は、アクリル樹脂等からなると共に、その一方の端面に光源３１０から入射した光が内部を伝播し、表面（所定の側面）側から一様に射出されるように構成されている。

　導光板３２０の裏面側には、該裏面から射出した光を表面方向に向けて反射する反射シート３３０が設けられ、さらに、導光板３２０の他方の端面及び側面にも同様に、これら各面から射出した光を表面方向に向けて反射する反射手段（図示せず）が設けられている。

　導光板３２０の表面から射出された光は、拡散板３４０及び第１，第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂを介して光学制御素子２００へと入射するように構成されている。

　拡散板３４０は、導光板３２０から入射する光を拡散させるためのものである。
　導光板３２０の左右端では、その構造上、射出した光の輝度が異なるため、この導光板３２０からの光を拡散板３４０で拡散させる、という構成を採っている。

　第１，第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂは、導光板３２０から拡散板３４０を介して入射する光の輝度を向上させる機能を有する。
　第１のプリズムシート３５０ａは、一定方向に一定周期で配置した複数のプリズムからなり、第２のプリズムシート３５０ｂも、これと同様の構成を採っているが、各々における各プリズムの規則的な配置方向は、相互に交差するように構成されている。
　すなわち、第２のプリズムシート３５０ｂにおける各プリズムの規則的な配置方向が、第１のプリズムシート３５０ａにおける各プリズムの規則的な配置方向に対して交差する、という構成を採っている。
　これら第１，第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂが有効に機能するため、拡散板３４０にて拡散された光の指向性を強めることができる。

　光学制御素子２００は、液晶層２１０を、第１基板２２０ａと２２０ｂとで狭持した構造を有する。

　第１基板２２０ａには、一方の面（液晶層２１０側の面）にカラーフィルタ２３０が形成され、他方の面に第１の偏光板・位相差板２４０ａが設けられている。
　第２基板２２０ｂにおける液晶層２１０側の面とは反対の面には、第２の偏光板・位相差板２４０ｂが設けられている。

　カラーフィルタ２３０は、光を吸収する層よりなるブラックマトリクスにより区画された領域に、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の色フィルタがマトリクス状に配置されている。各色フィルタは、画素に対応しており、そのピッチは一定である。

　液晶層２１０は、制御装置（図示せず）からの制御信号に従って、画素単位に、透明状態と遮光状態との切替を行うことが可能であり、この状態切替により、入射した光を空間的に変調することができる。

　また、図３０に示す表示装置１２０のように、透明接着層２９０を用いて、光学素子１０を光
学制御素子２００における第２の偏光板・位相差板２４０ｂに貼り付けるという構成を採ってもよい。すなわち、この表示装置１２０は、前述した表示装置１１０が有する各構成内容に加え、光学制御素子２００と光学素子１０との間に介在する透明接着層２９０を有している。

　このように、光学素子１０における第２の透明基板２２側の面を光学制御素子２００に貼り付けるという構成を採ることで、両者間での散乱光の発生が抑制できるため、透過率が向上し、表示装置の輝度をさらに高めることが可能となる。

　以上のような構成を採った表示装置１１０及び１２０によれば、面状光源３００から受けた光学制御素子２００の照明用の光に対して、画面正面方向に収束させたり収束させなかったりといった制御を、光学素子１０にて事前に行うことができるため、観察者の嗜好に応じて、視野角が狭い状態と広い状態を適宜選択することが可能となる。

　次に、本発明にかかる光学素子１０を、光学制御素子２００（表示パネル）の表面に配置して使用する形態について説明する。

　図３１に示すように、表示装置１３０は、前述した表示装置１１０における各構成部材の配置を変更して構成したものである。
　すなわち、前述の表示装置１１０では、面状光源３００と光学素子１０と光学制御素子２００とを、この順に配設した構成を採っているのに対し、表示装置１３０では、この内の光学制御素子２００と光学素子１０とを入れ替えた配置構成となっているため、第１，第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂを通過した光によって、光学制御素子２００が直接的に照明される。

　この表示装置１３０では、第１，第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂを通過した光が、第２の偏光板・位相差板２４０ｂに入射し、この偏光板・位相差板２４０ｂを通過した光は、第２基板２２０ｂを介して液晶層２１０に入射すると共に、ここで画素単位に空間変調が施される。
　液晶層２１０を通過した光（変調光）は、カラーフィルタ２３０，第１基板２２０ａを順次通過して、第１の偏光板・位相差板２４０ａに入射する。
　第１の偏光板・位相差板２４０ａを通過した光は、光学素子１０を介して出射される。

　また、図３２に示す表示装置１４０のように、光学素子１０を、透明接着層２９０を介して光学制御素子２００の第１の偏光板・位相差板２４０ａに貼り付けるようにしてもよい。このように構成することで、光学素子１０と第１の偏光板・位相差板２４０ａとの界面における表面反射ロスを低減することができるため、表示装置の輝度をさらに高めることが可能となる。

　ここで、本実施形態にかかる表示装置の要点をまとめると、該表示装置は、映像を表示する表示面を備えたディスプレイ（光学制御素子２００）と、このディスプレイの上記表示面上に配置された光学素子１０と、を有するものであり、上記ディスプレイとしては、液晶ディスプレイ，プラズマディスプレイ，無機ELディスプレイ，フィールドエミッションディスプレイ，ブラウン管，又は蛍光表示管等を採用することができる。
　また、上記ディスプレイと光学素子１０とが透明接着層２９０で固定されている、という構成を採ってもよい。

　さらに、上記ディスプレイとして液晶ディスプレイを採用した場合には、本実施形態にかかる表示装置に、この液晶ディスプレイの背面側に配置されて当該液晶ディスプレイに光を照射するバックライトを設け、このバックライトと上記液晶ディスプレイとの間に光学素子１０を配置するように構成してもよい。
　この場合、上記液晶ディスプレイと光学素子１０とを透明接着層２９０にて固定するように構成してもよい。

　以上のような構成を採った表示装置１３０及び１４０によれば、該装置の最前面に配設された光学素子１０によって、光学制御素子２００から出射した光を、画面正面方向に収束させたり，収束させなかったりすることができる。
　すなわち、光学素子１０を通過した光が観察者に直接届くように構成したため、光学素子１０から出射した光の散乱・屈折・反射等が発生しないことから、光学素子を内部に搭載する表示装置に比べて、さらに解像度の高い鮮明な画像を提供することが可能となる。

　ここで、図２９乃至図３２では、光学制御素子２００の構成部材として、偏光板と位相差板とが積層された構造である第１及び第２の偏光板・位相差板２４０ａ，２４０ｂを用いた例を示したが、本実施形態における表示装置が有する構成部材は、かかる構造に限定されるものではない。
　すなわち、例えば、偏光板のみから成る（位相差板を有しない）部材を、第１，第２の偏光板・位相差板２４０ａ，２４０ｂの何れか一方又は双方に代えて採用するようにしてもよい。

　また、光学素子１０の表面には、傷つきがないようにするハードコート層や、外光の写りこみを防止する反射防止層等を形成するようにしてもよい。

（電子機器）
　本発明にかかる光学素子１０は、携帯電話機，ノート型パーソナルコンピュータ，フィーチャーフォン，スマートフォン，タブレット，又はＰＤＡ等といった携帯型の情報処理端末にも、広く適用することができる。
　そこで、こうした電子機器への適用例を示した図３３に基づいて、光学素子１０と，この光学素子１０が有する第１の透明基板２１の背面（主面２１ａとは反対の面：図１参照）に設けられた光源と、を備えた本実施形態の電子機器にかかる構成内容を説明する。

　図３３（ａ）に例示した電子機器１５０は、映像を外部に向けて表示する表示手段を備えた機器本体（電子機器本体）１５１内に、上述した各表示装置１１０，１２０，１３０，１４０の何れか１つを装備するという構成（上記スマートフォンに相当）を採っている。
　また、図３３（ｂ）に例示した電子機器１６０は、表示部１６１Ａ及び操作・制御部１６２Ｂを有する機器本体１６１と、ユーザによる操作用のマウス１６２とを備え、機器本体１６１（表示部１６１Ａ）内には、上述した各表示装置１１０，１２０，１３０，１４０の何れか１つが装備されている（上記ノート型パーソナルコンピュータに相当）。

　こうした電子機器としての情報処理端末では、該端末に備わる制御装置が、マウスやキーボードやタッチパネルなどの入力装置からの入力を受け付けると共に、必要な情報を表示手段として装備した表示装置上に表示させる、という制御を行う構成となっている。

　ここで、上述した各表示装置１１０，１２０，１３０，１４０の何れか１つを、プラズマ型の各種表示装置に適用するようにしてもよい。

（照明光学装置）
　続いて、本発明にかかる光学素子を搭載する本実施形態の照明光学装置（照明装置）の構成内容を、図３４に基づいて説明する。
　また、ここに示す照明光学装置１７０には、光学素子１０として、上述した第１乃至第３実施形態におけるマイクロルーバーの何れか１つを採用するものとする。

　照明光学装置１７０は、図３４に示すように、面状光源３００と光学素子１０とからなり面状光源３００は、上記同様、冷陰極管等の光源３１０と、ここからの入射光を表面から一様に射出する導光板３２０と、この導光板３２０の裏面から射出した光を表面方向へと反射する反射シート３３０と、導光板３２０からの入射光を拡散させる拡散板３４０と、この拡散板３４０を介して導光板３２０から入射する光の輝度を向上させる第１及び第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂと、を有している。

　アクリル樹脂などにより構成される導光板３２０は、光源３１０から一方の端面に入射した光が導光板３２０内を伝播して表面（所定の側面）側から一様に出射されるように構成されていて、その裏面側には、該裏面から出射した光を表面方向に反射する反射シート３３０が設けられている。導光板３２０の他方の端面及び側面にも、上記同様に反射手段（図示せず）が設けられている。

　導光板３２０の表面から出射された光は、拡散板３４０及び第１，第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂを介して光学素子１０に入射する。また、導光板３２０の左右端では、光の輝度に違いが生じるため、導光板３２０からの光を拡散板３４０にて拡散し、さらに、導光板３２０から拡散板３４０を介して入射する光の輝度を第１，第２のプリズムシート３５０ａ，３５０ｂが向上させるように構成されている。

　上述した照明光学装置１７０によれば、光学素子１０によって、面状光源３００からの出射光を画面正面方向に収束させたり収束させなかったりする、という構成となるため、広い範囲を照らすことができる光の出射角度が広い状態と，照明光学装置１７０の直下近辺だけを照らすことが出来る光の出射角度が狭い状態とを、観察者の嗜好に応じて選択することが可能となる。

　本実施形態では、光源３１０として、冷陰極管を例に挙げて説明したが、これに限定されるものではない。すなわち、白色ＬＥＤや３色ＬＥＤなどを光源として用いるようにしてもよい。また、本実施形態では、サイドライト型の光源を例に挙げて説明しているが（図２９乃至図３２，図３４参照）、これに限定されるものではなく、直下型の光源を用いる構成を採用してもよい。

　さらに、面状光源３００についても、本実施形態に挙げた内容に限定されるものでなく、ＬＥＤ照明や有機ＥＬ照明，無機ＥＬ照明，蛍光灯，電球といった光を発する光源が面状に配列されたものを採用するようにしてもよい。

　なお、上述した各実施形態は、光学素子及びその製造方法、該光学素子を有する表示装置，電子機器，及び照明装置における好適な具体例であり、技術的に好ましい種々の限定を付している場合もある。しかし、本発明の技術範囲は、特に本発明を限定する記載がない限り、これらの態様に限定されるものではない。

　この出願は２０１４年１月１１日に出願された日本出願特願２０１４－０２７４３０を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

　本発明は、液晶表示装置やＥＬディスプレイ，プラズマディスプレイ，ＦＥＤ（Field Emission Display），照明光学装置等に広く適用することが可能であり、透過光の射出方向の範囲を有効に制御することができる。

　　１０，１１，１２，１３Ａ，１３Ｂ，１４，１５　光学素子
　　１１Ｅ，１４Ｅ，１５Ｅ　光学素子
　　２１，２２　透明基板
　　２１ａ，２２ａ　主面
　　３０　導電性遮光パターン
　　３０ａ　表面
　　３５　電界印加手段
　　４０　光透過領域
　　４０ａ　上面
　　４０ｂ　側面
　　４１ａ，４２ａ　光透過パターン幅
　　４１ｂ，４２ｂ　遮光パターン幅
　　５０　透明導電膜
　　５４，５５　別の透明導電膜
　　６０　電気泳動素子
　　６１　電気泳動粒子
　　６２　分散剤
　　７０　フォトマスク
　　７１　マスクパターン
　　７５　露光光
　　８０　保護カバー膜
　　９０　接着層
　　１１０，１２０，１３０，１４０　表示装置
　　１５０，１６０　電子機器
　　１７０　照明光学装置
　　２００　光学制御素子（ディスプレイ）
　　２１０　液晶層
　　２２０ａ　第１基板
　　２２０ｂ　第２基板
　　２３０　カラーフィルタ
　　２４０ａ　第１の偏光板・位相差板
　　２４０ｂ　第２の偏光板・位相差板
　　２９０　透明接着層
　　３００　面状光源
　　３１０　光源
　　３２０　導光板
　　３３０　反射シート
　　３４０　拡散板
　　３５０ａ　第１のプリズムシート
　　３５０ｂ　第２のプリズムシート
　　４１０，５１０，７１０，８１０　光学素子
　　４２１，４２２，５２１　透明基板
　　４４０，５４０　光透過領域
　　４５１，４５２，５５１　透明導電膜
　　４６０，５６０，６６０　電気泳動素子
　　５２２　別の透明基板
　　５５２　別の透明導電膜
　　６１０　電気泳動表示素子
　　６２０　基材
　　６２０Ａ　凹部
　　６２１　透明基材
　　６５０　アルミ電極
　　６５１　透明電極
　　６９０　接着剤
　　７５０　光（入射光）
　　７８０　反射光
　　８００　反射防止パターン
　　８５０　外光

Claims (20)

1. 　互いの主面が対向するように配置された第１及び第２の透明基板と、
   　前記第１の透明基板の主面側に配置された導電性遮光パターンと、
   　前記第２の透明基板の主面に配置された透明導電膜と、
   　前記第１の透明基板上に配置された複数の光透過領域と、
   　隣接する前記各光透過領域の間に配置された、特定の電荷を帯び且つ遮光性の電気泳動粒子と透過性の分散剤とから成る電気泳動素子と、を有し、
   　前記導電性遮光パターンと前記透明導電膜との間の電位差が外部から調整されることにより、前記電気泳動粒子の分散状態が変化して、前記各光透過領域及び分散剤を透過する光の出射方向の範囲が変化する構成としたことを特徴とする光学素子。
2. 　互いの主面が対向するように配置された第１及び第２の透明基板と、
   　前記第１の透明基板の主面側に配置された導電性遮光パターンと、
   　前記第２の透明基板の主面に配置された透明導電膜と、
   　前記透明基板上に配置された複数の光透過領域と、
   　隣接する前記各光透過領域の間に配置された、特定の電荷を帯び且つ遮光性の電気泳動粒子と透過性の分散剤とから成る電気泳動素子と、
   　前記透明導電膜に対する前記導電性遮光パターンの相対電位が、前記電気泳動粒子の表面電荷とは逆の極性となるように電界を印加する電界印加手段と、を有することを特徴とした光学素子。
3. 　前記請求項１又は２に記載の光学素子において、
   　前記光透過領域が、前記導電性遮光パターンと相補的な位置に配置されていることを特徴とした光学素子。
4. 　前記請求項１乃至３の何れか１つに記載の光学素子において、
   　前記透明導電膜に対する前記導電性遮光パターンの相対電位が、前記電気泳動粒子の表面電荷とは逆の極性となるように調整されることで、当該電気泳動粒子が前記導電性遮光パターンの近傍に集まるように構成したことを特徴とする光学素子。
5. 　前記請求項１乃至４の何れか１つに記載の光学素子において、
   　前記光透過領域の表面及び側面に保護カバー膜が形成されていること、を特徴とする光学素子。
6. 　前記請求項５に記載の光学素子において、
   　前記保護カバー膜が、シリコン窒化膜，シリコン酸化膜，シリコン酸窒化膜，パラキシリレン樹脂，又はメタクリル樹脂の何れか１つであることを特徴とした光学素子。
7. 　前記請求項１乃至６の何れか１つに記載の光学素子において、
   　前記光透過領域と前記透明導電膜との間に透明接着層が配置されていること、を特徴とする光学素子。
8. 　前記請求項１乃至７の何れか１つに記載の光学素子において、
   　前記第１の透明基板の主面に別の透明導電膜が配置されており、
   　前記導電性遮光パターンが、当該別の透明導電膜の表面に配置されていること、を特徴とする光学素子。
9. 　前記請求項１乃至７の何れか１つに記載の光学素子において、
   　前記導電性遮光パターンが形成された前記第１の透明基板の主面上に別の透明導電膜が配置されており、
   　前記各光透過領域が、当該別の透明導電膜の表面に配置されていること、を特徴とする光学素子。
10. 　前記請求項１乃至９の何れか１つに記載の光学素子において、
    　前記導電性遮光パターンにおける前記第１の透明基板の主面側の面に、反射防止パターンが配置されていること、を特徴とする光学素子。
11. 　映像を表示する表示面を備えたディスプレイと、
    　このディスプレイの前記表示面上に配置された請求項１乃至１０の何れか１つに記載の光学素子と、を有することを特徴とした表示装置。
12. 　前記請求項１１に記載の表示装置において、
    　前記ディスプレイと前記光学素子とが透明接着層で固定されていること、を特徴とした表示装置。
13. 　前記請求項１１又は１２に記載の表示装置において、
    　前記ディスプレイは、液晶ディスプレイ，プラズマディスプレイ，無機ＥＬディスプレイ，フィールドエミッションディスプレイ，ブラウン管，又は蛍光表示管の何れか１つであること、を特徴とする表示装置。
14. 　映像を表示する表示面を備えた液晶ディスプレイと、
    　この液晶ディスプレイの背面側に配置されて、当該液晶ディスプレイに光を照射するバックライトと、
    　前記液晶ディスプレイと前記バックライトとの間に配置された請求項１乃至１０の何れか１つに記載の光学素子と、を有すること、を特徴とした表示装置。
15. 　前記請求項１４に記載の表示装置において、
    　前記液晶ディスプレイと前記光学素子とが透明接着層で固定されていること、を特徴とした表示装置。
16. 　映像を外部に向けて表示する表示手段を備えた電子機器本体を有すると共に、
    　前記表示手段として、前記請求項１１乃至１５の何れか１つに記載の表示装置を装備したこと、を特徴とする電子機器。
17. 　前記請求項１乃至１０の何れか１つに記載の光学素子と、
    　この光学素子が有する前記第１の透明基板の背面に設けられた光源と、を有すること、
    を特徴とした照明装置。
18. 　第１の透明基板の主面に導電性遮光パターンを形成する遮光パターン形成工程と、この導電性遮光パターンが形成された前記第１の透明基板の主面側に、透明感光性樹脂を積層する感光性樹脂積層工程と、
    　この積層された透明感光性樹脂に向けて、積層方向に対する平行光から成る露光光を照射する露光光照射工程と、
    　この露光光が照射された透明感光性樹脂に対して現像処理を施すことにより、複数に区画された光透過領域を形成する透過領域形成工程と、
    　表面に透明導電膜が形成された第２の透明基板を、当該透明導電膜が前記光透過領域側を向くように設置する透明基板設置工程と、
    　前記各光透過領域の相互間に存する間隙部分に、特定の電荷を帯びた遮光性の電気泳動粒子と透過性の分散剤との混合物である電気泳動素子を充填して光吸収層を形成する泳動素子充填工程と、を含み、
    　前記露光光照射工程では、前記導電性遮光パターンの少なくとも一部が、前記各光透過領域の相互間に存する間隙部分に位置するように前記露光光を照射すること、を特徴とした光学素子の製造方法。
19. 　前記請求項１８に記載の光学素子の製造方法において、
    　前記泳動素子充填工程を、前記透明基板設置工程に先立って実行すること、を特徴とした光学素子の製造方法。
20. 　前記請求項１８又は１９に記載の光学素子の製造方法において、
    　前記露光光照射工程では、前記露光光を、前記第１の透明基板の前記主面とは反対側（裏面側）から照射すること、を特徴とした光学素子の製造方法。

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