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WO2015182619A1 - マイクロレンズアレイ及びマイクロレンズアレイを含む光学系 - Google Patents

マイクロレンズアレイ及びマイクロレンズアレイを含む光学系 Download PDF

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WO2015182619A1
WO2015182619A1 PCT/JP2015/065136 JP2015065136W WO2015182619A1 WO 2015182619 A1 WO2015182619 A1 WO 2015182619A1 JP 2015065136 W JP2015065136 W JP 2015065136W WO 2015182619 A1 WO2015182619 A1 WO 2015182619A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
microlens
plane
microlens array
array
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2015/065136
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
大介 関
佳代子 藤村
岡野　正登
幸暢 西尾
智仁 桑垣内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nalux Co Ltd
Original Assignee
Nalux Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nalux Co Ltd filed Critical Nalux Co Ltd
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Priority to DE112015002502.2T priority patent/DE112015002502B4/de
Priority to JP2016523513A priority patent/JP6664621B2/ja
Publication of WO2015182619A1 publication Critical patent/WO2015182619A1/ja
Priority to US15/359,716 priority patent/US10443811B2/en
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Ceased legal-status Critical Current

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    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V5/00—Refractors for light sources
    • F21V5/002—Refractors for light sources using microoptical elements for redirecting or diffusing light
    • F21V5/004—Refractors for light sources using microoptical elements for redirecting or diffusing light using microlenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/0006—Arrays
    • G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
    • G02B3/0043—Inhomogeneous or irregular arrays, e.g. varying shape, size, height
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21Y—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
    • F21Y2115/00—Light-generating elements of semiconductor light sources
    • F21Y2115/30—Semiconductor lasers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0009—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
    • G02B19/0014—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4233—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application
    • G02B27/425—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application in illumination systems

Definitions

  • the present invention relates to a microlens array and an optical system including the microlens array.
  • Diffusion elements for realizing a smooth intensity distribution of diffused light are in demand in a wide range of applications such as general lighting such as room lights, light sources for industrial use optical sensors, and screens for image display.
  • a Gaussian diffusion element that realizes a Gaussian distribution by refracting incident light is well known.
  • a Gaussian diffusing element consists of a continuous rough surface with a completely random height distribution.
  • a Gaussian diffuser with a rough surface made of sand, such as glass, is used as a mold, with irregularities on a plastic material, or specs obtained by interfering with light from a coherent light source.
  • a material obtained by exposing a random light amount distribution called “L” to a plastic material using a base material obtained by exposing a random light distribution is known.
  • Gaussian diffusers provide a natural and smooth intensity distribution of light, but the distribution is roughly out of the range of the Gaussian distribution, so design freedom is small and a wide light distribution angle should be realized. As a result, the transmittance decreases.
  • the Gaussian diffuser has the characteristics that the surface looks like a grainy texture or is prone to speckle, so it looks like a screen that requires a smooth surface appearance and texture. It is not suitable for various uses.
  • microlens array instead of a Gaussian diffuser have been proposed for applications that require higher transmittance or a distribution that deviates from the Gaussian distribution.
  • the intensity distribution of the emitted light can be controlled by adjusting the shape of the microlens.
  • a microlens array with a small interval between microlenses has the disadvantage that light waves from each microlens interfere with each other, resulting in diffracted waves due to the periodic structure of the array, and unevenness in the light intensity distribution. is there.
  • the radius of curvature of the microlens is reduced, there is a problem that the intensity distribution of the light diverged by the diffraction generated at the aperture of the microlens is uneven.
  • a microlens array has been proposed in which the unevenness of the light intensity distribution due to interference and diffraction is reduced by varying the arrangement, surface shape, and aperture shape of the microlens.
  • a focusing plate for focusing a camera has been developed that suppresses unevenness of diffused luminance due to diffraction derived from the periodic structure of the microlens array by imparting randomness to the arrangement of the microlenses (Patent Document 1 and Patent Document 2).
  • a microlens array has been developed in which various elements such as an array of microlenses, a surface shape, and an aperture shape are provided with randomness (Patent Document 3).
  • JP-A 62-56005 Patent No. 2503485
  • JP-A-3-192232 Patent No. 2881877
  • microlens arrays and optical systems that include microlens arrays with varying arrangements or shapes to reduce unevenness in the intensity distribution of light, including those resulting from diffraction of a single microlens aperture. is there.
  • the microlens array according to the first aspect of the present invention is a microlens array composed of N microlenses arranged on the xy plane. Projection points of the lens apexes of the respective microlenses onto the xy plane are in the vicinity of the lattice points of the reference lattice structure on the xy plane where the lattice interval in a predetermined direction is D / M (millimeters) where M is a positive integer.
  • the distance between two opposite sides of the microlens is substantially equal to D with the boundary line of the microlens as the lens side, and the distance from the projection point of the lens vertex to the xy plane to the projection line of the side to the xy plane But And Where the refractive index of the material of each microlens is n, the radius of curvature in the predetermined direction near the center is R (millimeter), and the focal length is f (millimeter), Meet.
  • the distance between two sides forming the lens boundary line facing each other, which corresponds to the opening of the microlens, is appropriately varied, thereby causing diffraction of the opening of a single microlens. Unevenness in the intensity distribution of light including objects can be reduced.
  • the reference lattice structure on the xy plane is a rectangular array or a hexagonal array.
  • the lens apex position is shifted from the lattice point in the predetermined direction by ⁇ i , thereby being generated between adjacent microlenses.
  • the microlens opening formed by the boundary changes by ⁇ i , It is.
  • the boundary between adjacent microlenses becomes a perpendicular bisector of a line segment connecting adjacent lens vertices, and the step between adjacent lens surfaces at the boundary is It does not occur.
  • the reference lattice structure on the xy plane is a rectangular array in which the interval in the x direction is Dx and the interval in the y direction is Dy,
  • the positions of the projection points of the apexes of the microlenses on the xy plane are arranged so as to be shifted from the corresponding lattice positions by ( ⁇ xi , ⁇ yi ).
  • the reference lattice structure on the xy plane is a rectangular array in the x direction and the y direction, and x near the center of each microlens.
  • the radius of curvature in the direction is Rx (millimeters)
  • the radius of curvature in the y direction is Ry (millimeters).
  • a microlens array according to a fifth embodiment of the first aspect of the present invention comprises: To further satisfy.
  • microlens array according to the sixth embodiment of the first aspect of the present invention comprises: To further satisfy.
  • the vertex position of the microlens is 0 to 0.55 / (n ⁇ 1) (micrometer) in the direction perpendicular to the xy plane.
  • the range varies uniformly.
  • the so-called dark spots are reduced by shifting the phase from the plurality of microlenses by shifting the vertex positions of the plurality of microlenses from each other in the xy plane, that is, the direction perpendicular to the lattice plane. be able to.
  • the maximum absolute value of ⁇ i is set to
  • the optical system according to the second aspect of the present invention includes a light source having a minimum wavelength of light to be emitted of ⁇ (micrometer) and a microlens array, and causes the light from the light source to diverge by the microlens array.
  • the microlens array is composed of N microlenses arranged on the xy plane, and the projection point on the xy plane of the lens apex of each microlens is a grid interval in a predetermined direction, and M is a positive integer.
  • the distance between two opposing sides of the microlens is substantially equal to D with the boundary of the microlens as the lens side, and is arranged in the vicinity of the lattice point of the reference lattice structure on the xy plane, which is D / M (millimeter).
  • the distance from the projection point of the lens vertex to the xy plane to the projection line of the side to the xy plane is And
  • the refractive index of the material of each microlens is n
  • the radius of curvature in the predetermined direction near the center is R (millimeter)
  • the focal length is f (millimeter)
  • the distance between the two sides forming the opposing lens boundary line corresponding to the opening of the microlens is appropriately dispersed to cause diffraction of the opening of a single microlens.
  • the unevenness of the intensity distribution of light containing can be reduced.
  • the microlens of the microlens array includes: To further satisfy.
  • the microlens of the microlens array includes: To further satisfy.
  • the apex position of the microlens varies uniformly in the range of 0 to ⁇ / (n ⁇ 1) in the direction perpendicular to the xy plane.
  • the so-called dark spots are reduced by shifting the phase from the plurality of microlenses by shifting the vertex positions of the plurality of microlenses from each other in the xy plane, that is, the direction perpendicular to the lattice plane. be able to.
  • the optical system according to the fourth embodiment of the second aspect of the present invention includes n light sources having different wavelengths ⁇ 1, ⁇ 2, ⁇ n, where ⁇ multi is a remainder obtained by dividing ⁇ multi by ⁇ i, Assuming that Remi ⁇ ( ⁇ i / 10) or Remi> (9 ⁇ i / 10) is a constant determined to satisfy all i, the vertex position of the microlens is from 0 to ⁇ multi in the direction perpendicular to the xy plane. / Uniformly distributed within the range of (n-1).
  • FIG. 3B is an enlarged view of a range where the angle ⁇ of FIG. 3A is minus 11 degrees to minus 7 degrees.
  • FIG. 2 is a view showing a cross section of a microlens array 100.
  • FIG. It is a figure which shows the area
  • FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an optical system according to Example 2.
  • FIG. 6 is a diagram showing an intensity distribution of light in the x-axis direction (horizontal direction) obtained by the optical system of Example 2.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating an intensity distribution of light in the y-axis direction (vertical direction) obtained by the optical system of Example 2.
  • 6 is a diagram illustrating a configuration of an optical system according to Example 3.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a light source optical system of an optical system according to Example 3.
  • FIG. 1 is a diagram showing a microlens array according to an embodiment of the present invention.
  • the microlens array includes a plurality of microlenses having substantially the same shape arranged in a plane. A characteristic configuration of the microlens array of the present invention will be described later.
  • FIG. 2 is a view showing a cross section of a conventional microlens array 100A. Light incident perpendicularly to the left plane of FIG. 2 is refracted by the convex surface of the microlens 1000A of FIG. The left plane in FIG. 2 is referred to as the bottom surface of the microlens array 100A.
  • a z-axis is defined as a straight line that passes through the apex of the microlens 1000A and is perpendicular to the bottom surface. The positive direction of the z-axis is the light traveling direction.
  • FIG. 2 is a view showing a cross section including the z-axis of the microlens 1000A.
  • the z-axis is indicated by OP.
  • the convex surface of the microlens 1000 ⁇ / b> A may be expressed by the following formula as an example.
  • r is the distance from the z-axis of the lens
  • c is the central curvature of the lens and satisfies the following relationship with the central curvature radius R.
  • ⁇ n is a coefficient.
  • the convex surface of the microlens 1000 ⁇ / b> A may be expressed by the following formula as another example.
  • r is a distance from the z-axis.
  • c is the central curvature of the axisymmetric term.
  • the central curvature radius Rx in the x-axis direction and the central curvature radius Ry in the y-axis direction are expressed by the following equations in consideration of the secondary coefficient ⁇ nm .
  • the angles formed by the light rays L1 and L2 perpendicularly incident on the bottom surface of the microlens array 100A and passing through the periphery of the microlens 1000A are the same as the z axis. This angle is called the angle of divergence and is represented by ⁇ .
  • the focal length of the micro lens 1000A is f and the aperture width is D
  • the angle ⁇ can be expressed by the following equation.
  • the focal length f of the microlens 1000A can be expressed by the following equation, where n is the refractive index of the material of the microlens array and R is the center curvature.
  • the intensity distribution of the diverged light is caused by the interference due to the arrangement of the plurality of microlenses and the diffraction due to the opening of the single microlens. It is known that unevenness occurs. Such unevenness in the intensity distribution of light appears particularly prominently when a coherent light source such as a laser diode is used.
  • FIG. 3B is an enlarged view of the range where the angle ⁇ of FIG. 3A is minus 11 degrees to minus 7 degrees.
  • the horizontal axis represents the divergence angle ⁇
  • the vertical axes in FIGS. 3A and 3B represent the relative values of the light intensity.
  • the unit of the angle ⁇ is degrees.
  • the thin line represents the light intensity
  • the thick line represents the moving average of the light intensity of 1 degree in width.
  • a thick line value at ⁇ 9.0 degrees represents an average value of thin line values in the range of ⁇ 8.5 degrees to ⁇ 9.5 degrees.
  • the light intensity distribution includes a component with a period of about 0.5 degrees indicated by a thin line and a component with a period of several degrees indicated by a thick line.
  • a component with a period of about 0.5 degrees indicated by a thin line is caused by interference due to the arrangement of a plurality of microlenses, and a component with a period of several degrees indicated by a thick line is a single microlens.
  • the intensity of the thick line is 0.3 or more in the range of about ⁇ 12 degrees to about +12 degrees, and the peak of the mountain at the outermost position of the above range, that is, the position where the absolute value of the angle is the largest.
  • the difference in strength from the bottom of the inner valley is the largest. Therefore, the angular difference between the peak of the peak at the position where the absolute value of the angle is the largest and the peak of the peak of the position where the absolute value of the angle is the second largest is the period ⁇ , and the intensity distribution of the light emitted by the microlens array Used as a parameter.
  • the angle difference between the peak of the peak with the largest absolute value and the peak of the peak with the second largest absolute value is, for example, a least-squares fit with the sum of two Gaussian functions. It may be determined by determining the interval between two Gaussian peaks.
  • the horizontal axis of FIG. 4B represents the divergence angle ⁇ , and the vertical axis of FIG. 4B represents the relative value of the light intensity.
  • the unit of the angle ⁇ is degrees.
  • the horizontal axis in FIG. 5B represents the divergence angle ⁇ , and the vertical axis in FIG. 5B represents the relative value of the light intensity.
  • the unit of the angle ⁇ is degrees.
  • the horizontal axis in FIG. 6B represents the angle of divergence ⁇ , and the vertical axis in FIG. 6B represents the relative value of the light intensity.
  • the unit of the angle ⁇ is degrees.
  • FIG. 4B and the microlens in FIG. 5B have different opening widths D.
  • FIG. The range of the divergence angle ⁇ where the light intensity is greater than 0.2 is about ⁇ 10 degrees to about +10 in FIG. 4B and about ⁇ 17 degrees to about +17 in FIG. 5B.
  • the period ⁇ is about 3 degrees in both FIG. 4B and FIG. 5B.
  • the angle of divergence at which the light intensity is greater than 0.2 is from about ⁇ 17 degrees to about +17 in FIG. 5B and from about ⁇ 9 degrees to about +9 in FIG. 6B.
  • the period ⁇ is about 3 degrees in FIG. 5B and about 2 degrees in FIG. 6B.
  • FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the central curvature of the microlens and the period ⁇ .
  • the horizontal axis in FIG. 7 represents the central curvature (1 / R) of the microlens
  • the vertical axis in FIG. 7 represents the period ⁇ .
  • the unit of the horizontal axis is 1 / mm
  • the unit of the vertical axis is degrees. 7 indicates a curve obtained by fitting the relationship between the central curvature (1 / R) and the period ⁇ using the following equation.
  • the square of the period ⁇ is proportional to the center curvature (1 / R).
  • FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the aperture width D of the microlens and the period ⁇ . 8 represents the aperture width D of the microlens, and the vertical axis in FIG. 8 represents the period ⁇ .
  • the unit of the horizontal axis is millimeter, and the unit of the vertical axis is degree. According to FIG. 8, there is no significant correlation between the period ⁇ and the opening width D.
  • FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the refractive index difference between the microlens material and the surrounding medium and the period ⁇ .
  • the horizontal axis in FIG. 9 represents the refractive index difference (n ⁇ 1) between the microlens material and the surrounding medium
  • the vertical axis in FIG. 9 represents the period ⁇ .
  • the unit of the vertical axis is degrees.
  • the dotted line in FIG. 9 shows a curve obtained by fitting the relationship between the refractive index difference (n ⁇ 1) of the microlens material and the surrounding medium and the period ⁇ by the following equation.
  • the square of the period ⁇ is proportional to the refractive index difference (n ⁇ 1) of the microlens material and the surrounding medium.
  • FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the wavelength ⁇ of the incident beam and the period ⁇ .
  • the horizontal axis in FIG. 10 represents the wavelength ⁇ of the incident beam
  • the vertical axis in FIG. 10 represents the period ⁇ .
  • the unit of the horizontal axis is a micrometer
  • the unit of the vertical axis is degrees.
  • the dotted line in FIG. 10 shows a curve obtained by fitting the relationship between the wavelength ⁇ of the incident beam and the period ⁇ using the following equation.
  • the square of the period ⁇ is proportional to the wavelength ⁇ of the incident beam.
  • FIG. 11 is a view showing a cross section of the microlens array 100. Light incident on the bottom surface of the microlens array 100 in FIG. 11 is refracted by the convex surface of the microlens 1000 in FIG. A straight line passing through the apex of the microlens 1000 and perpendicular to the bottom surface is taken as the z-axis. The positive direction of the z-axis is the light traveling direction. An x-axis and a y-axis that pass through the apex of the microlens 1000 and are orthogonal to each other in a plane perpendicular to the z-axis are defined.
  • FIG. 11 is a view showing a cross section including the micro lens 1000z axis. In FIG. 11, the z-axis is indicated by Op.
  • Equation (3) By substituting Equation (3) and Equation (4) into Equation (5), the following equation is obtained.
  • the variance of the variation amount ⁇ of the lens surface boundary position is ⁇ 2 , it is preferable to satisfy the following relationship. However, It is.
  • Equation (7) and (8) Assuming a d-line of 0.5876 um as the wavelength of light from the light source, the following relationship is preferably satisfied. Unless the lower limits of Equations (7) and (8) are satisfied, the component generated by diffraction due to the aperture cannot be made sufficiently small. If the upper limit of the expressions (7) and (8) is exceeded, the uniformity of the intensity distribution of the divergent light will be reduced, and the tangent angle of the microlens will become tight, making it difficult to manufacture.
  • the period ⁇ of the component caused by interference caused by the arrangement of a plurality of microlenses represented by thin lines in FIGS. 3A and 3B will be considered. If the period of the array, that is, the aperture width of the microlens is D (millimeter) and the wavelength of light is ⁇ (micrometer), ⁇ can be expressed as follows from the diffraction equation.
  • Equation (3) Equation (3) and ( 15) M can be represented by the following formula: Using equation (1), the following equation is obtained:
  • ⁇ must be clearly greater than ⁇ , and M is preferably greater than 3. Therefore, it is preferable that the following relationship is established. If the d-line 0.5876 um is assumed as the wavelength of light from the light source, it is preferable that the following relationship holds. More preferably, M is greater than 10. Therefore, it is more preferable that the following relationship is established.
  • FIG. 12 is a diagram showing a region of the opening width D and the divergence angle ⁇ satisfying the equations (17) and (19).
  • the horizontal axis of FIG. 12 represents the opening width D
  • the vertical axis of FIG. 12 represents the divergence angle ⁇ .
  • the unit of the horizontal axis is millimeter and the unit of the vertical axis is degree. It can be seen that the present invention is very effective even when the aperture width D of the microlens is on the order of several tens of um and the divergence angle ⁇ is wide.
  • FIG. 13 is a diagram showing a state in which the apex of the microlens is fixed to the lattice point of the reference lattice of the square arrangement and the opening width is changed.
  • a discontinuous step occurs at the boundary between adjacent microlenses. Such a step may cause unnecessary stray light or may adversely affect the mold release when manufacturing by injection molding.
  • FIG. 14A first, the vertices of a plurality of microlenses are arranged at the lattice points of a reference lattice having a rectangular arrangement with lattice intervals Dx and Dy, and then the vertices of the plurality of microlenses are separated from the lattice points in the lattice plane.
  • the microlens is an axis target
  • the boundary between adjacent microlenses becomes a perpendicular bisector of the line connecting the adjacent lens vertices, and a step between adjacent lens surfaces occurs at the boundary. Absent.
  • microlens When the microlens is axially asymmetric, a deviation occurs from the perpendicular bisector, and the deviation is negligible if the component orthogonal to the lattice of ⁇ is sufficiently smaller than the lattice spacing Dx or Dy. .
  • the boundary of the microlens is called a side. In the case of a rectangular reference grid, the distance between two opposing sides of the microlens is approximately equal to Dx or Dy.
  • FIG. 14B is a diagram illustrating a state in which vertices of a plurality of microlenses are first arranged at lattice points of a reference lattice having a hexagonal arrangement, and then the vertices of the plurality of microlenses are moved from the lattice points in the lattice plane.
  • the direction of the lattice is represented by l, m, and n
  • the three types of lattice intervals can be represented by Dl / 2, Dm / 2, and Dn / 2.
  • the distance between the two opposing sides of the microlens is approximately equal to Dl, Dm, or Dn.
  • FIG. 14C is an enlarged view of a portion surrounded by a circle in FIG. 14B.
  • the lens surface shape of the microlens may be a so-called free-form surface, and the amount of change in aperture in that case may be determined by calculating the curvature of the microlens cross section for each periodic reference lens arrangement direction.
  • the uneven intensity distribution due to interference due to the periodic structure of the microlens array remains.
  • the apex of the microlens is shifted from the lattice point of the reference lattice within the lattice plane, the periodic structure itself of the microlens array is disturbed, so that unevenness in intensity distribution due to the periodic structure is reduced.
  • the effect of disturbing the interference peak of low-order diffracted light is weak only by positional deviation in the lattice plane, and as a result, a dark spot having a very weak intensity may occur in the vicinity of 0 degrees.
  • the phase shift is evenly distributed in 2 ⁇ .
  • the lens position shift ⁇ z in the optical axis direction is uniformly distributed in the range of 0 ⁇ ⁇ zi ⁇ m ⁇ / (n ⁇ 1). This condition can be met. (However, m is an integer equal to or greater than 1.)
  • ⁇ z is smaller, so that it is uniformly distributed in the range of 0 ⁇ ⁇ zi ⁇ / (n ⁇ 1). Is desirable.
  • Example 1 Embodiment 1 is a microlens array in which spherical microlens surfaces are arranged with a square lattice as a reference lattice, as shown in FIG.
  • the specifications of the microlens array of Example 1 are shown below.
  • Micro lens lens center radius of curvature R 0.095mm
  • Reference grid interval D 0.082 mm
  • Element thickness 1.0 mm
  • the element thickness of the microlens means the distance from the apex to the bottom surface.
  • the two orthogonal directions of the square lattice are defined as the x direction and the y direction, and the lens vertices of the microlens are uniformly distributed within a range of ⁇ 7.6 um in the x direction and ⁇ 7.6 um in the y direction from the reference lattice position. Yes.
  • FIG. 15 is a diagram showing an intensity distribution of light obtained when a light beam having a wavelength of 0.5876 micrometers is incident on the bottom surface of the microlens array of Example 1 in a vertical direction and is diverged.
  • the horizontal axis in FIG. 15 represents the divergence angle ⁇
  • the vertical axis in FIG. 15 represents the relative value of the light intensity.
  • the unit of the angle ⁇ is degrees.
  • the thin line represents the light intensity
  • the thick line represents the moving average of the light intensity of 1 degree in width.
  • the microlens array of Example 1 can provide a more uniform illumination distribution than the conventional microlens array.
  • FIG. 16 is a diagram illustrating a configuration of the optical system according to the second embodiment.
  • the optical system according to the second embodiment includes a laser diode light source 200, a collimator lens 300, and a microlens array 102.
  • the laser wavelength of the laser diode light source 200 is 780 nanometers.
  • the collimator lens 300 is an aspheric lens made of BK7.
  • the incident surface and the exit surface can be expressed by the following equations, where a straight line connecting the centers of curvature of the entrance surface and the exit surface is the z axis, and the distance from the z axis is r.
  • Other specifications regarding the collimator lens 300 are as follows. Distance from light source to incident surface: 1.0mm Element thickness: 1.0 mm Refractive index of material: 1.511 Here, the element thickness means the center thickness of the collimator lens 300.
  • the microlens array 102 is an array of free-form microlens surfaces with a square lattice as a reference lattice.
  • a straight line that passes through the lens apex and is perpendicular to the bottom surface of the microlens array 102 is defined as the z-axis, and in the plane perpendicular to the z-axis, the two directions of the square lattice are defined as the x-axis and y-axis. It can be expressed as Here, r is the distance from the z-axis of the lens. c is the central curvature of the axisymmetric term.
  • the central curvature radius Rx in the x-axis direction and the central curvature radius Ry in the y-axis direction are expressed by the following equations in consideration of a second-order coefficient.
  • the lens surface center radius of curvature of the microlens is different between the x direction and the y direction.
  • R x 0.25 mm
  • R y 0.33 mm It becomes.
  • Reference grid interval D 0.2 mm
  • Element thickness 0.5mm
  • Material refractive index (acrylic): 1.486 ( ⁇ 780 nm, ie 0.78 ⁇ m)
  • the element thickness of the microlens means the distance from the apex to the bottom surface.
  • the lens vertices of the microlens are uniformly distributed in an ellipse having an x-direction radius of 13.3 um and a y-direction radius of 15.0 um centered on the reference lattice position.
  • FIG. 17A is a diagram showing an intensity distribution of light in the x-axis direction (horizontal direction) obtained by the optical system of Example 2.
  • the horizontal axis in FIG. 17A represents the divergence angle ⁇
  • the vertical axis in FIG. 17A represents the relative value of the light intensity.
  • the unit of the angle ⁇ is degrees.
  • the thin line represents the light intensity
  • the thick line represents the moving average of the light intensity of 1 degree in width.
  • FIG. 17B is a diagram showing an intensity distribution of light in the y-axis direction (vertical direction) obtained by the optical system of Example 2.
  • the horizontal axis of FIG. 17B represents the divergence angle ⁇
  • the vertical axis of FIG. 17B represents the relative value of the light intensity.
  • the unit of the angle ⁇ is degrees.
  • the thin line represents the light intensity
  • the thick line represents the moving average of the light intensity of 1 degree in width.
  • the microlens array of Example 1 can provide a more uniform illumination distribution than the conventional microlens array.
  • FIG. 18A is a diagram illustrating a configuration of an optical system according to the third embodiment.
  • the optical system of the third embodiment includes a light source optical system 2100, a screen 103 that is a microlens array, a free-form curved mirror 2200, and a front glass 2300.
  • FIG. 18B is a diagram illustrating a configuration of a light source optical system 2100 of the optical system according to the third embodiment.
  • the light source optical system 2100 includes laser diodes 200A, 200B, and 200C, collimator lenses 300A, 300B, and 300C, a dichroic mirror 400, a mirror 500, and a MEMS mirror 600.
  • the optical system of Example 3 is a head-mounted display using lasers 200A, 200B, and 200C having three different oscillation wavelengths of 0.45 ⁇ m, 0.53 ⁇ m, and 0.65 ⁇ m as light sources.
  • the lights oscillated from the three laser diodes 200A, 200B and 200C are collimated by collimator lenses 300A, 300B and 300C, respectively, and then combined into one beam by the dichroic mirror 400.
  • the combined beam is deflected by the MEMS mirror 600 and scanned on the microlens array 103.
  • an intermediate image is drawn on the microlens array 103.
  • the intermediate image is magnified by the microlens array 103 and then reflected by the free-form mirror 2200 and the front glass 2300 to form a virtual image 2400. If the intensity distribution of the light emitted by the microlens 103 is uneven, the virtual image may be uneven or the brightness of the virtual image may change when the viewpoint is shifted.
  • the apex positions of the plurality of microlenses are uniformly distributed in an ellipse having a radius of 12.3 ⁇ m in the x-axis direction and a radius of 12.8 ⁇ m in the y-axis direction from the reference lattice position, and a maximum range of 2.65 ⁇ m in the z-axis direction. It is arranged so as to vary uniformly.
  • the microlens surface is an aspherical surface that is the target of the axis, and a straight line that passes through the apex of the lens and is perpendicular to the bottom surface can be represented by the following equation, where the z-axis is r and the distance from the z-axis is r.
  • the parameters of the microlens surface are as follows. Lens surface center radius of curvature R: 0.1 mm Cornic k: -1.0 Other specifications of the microlens array 103 are as follows.
  • the unevenness of the intensity distribution of the light emitted from the microlens array is small, and the unevenness of the brightness of the virtual image is also suppressed.

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Abstract

　単一のマイクロレンズの開口の回折に起因するものを含む光の強度分布のむらを低減するように、配列または形状をばらつかせたマイクロレンズアレイを提供する。本発明によるマイクロレンズアレイは、ｘｙ平面上に配置されたＮ個のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイである。それぞれのマイクロレンズのレンズ頂点のｘｙ平面への投影点は、所定の方向の格子間隔が、Ｍを正の整数としてＤ／Ｍ（ミリメータ）であるｘｙ平面上の基準格子構造の格子点の近傍に配置され、マイクロレンズの境界線をレンズの辺としてマイクロレンズの対向する二辺の間隔はほぼＤに等しく、レンズ頂点のｘｙ平面への投影点から辺のｘｙ平面への投影線までの距離が　Ｄ／２＋εｉ であり、それぞれのマイクロレンズの材料の屈折率をｎ、中心近傍の該所定の方向の曲率半径をＲ（ミリメータ）、焦点距離をｆ（ミリメータ）として、以下の関係を満たす。

Description

マイクロレンズアレイ及びマイクロレンズアレイを含む光学系
　本発明は、マイクロレンズアレイ及びマイクロレンズアレイを含む光学系に関する。
　拡散される光の滑らかな強度分布を実現するための拡散素子は、室内灯などの一般照明、工業用途の光センサの光源系、画像表示用のスクリーンなど幅広い用途において需要がある。
　拡散される光の滑らかな強度分布を実現するための光学素子として、入射してきた光線を屈折させることでガウス分布の拡散分布を実現させるガウス拡散素子が良く知られている。ガウス拡散素子は、完全にランダムな高さ分布を備えた連続な粗面からなる。ガウス拡散素子として、ガラスなどの母材を砂掛けにより粗面としたものを金型として用い、プラスチック材料の上に凹凸を転写したものや、コヒーレント光源からの光を干渉させることで得られるスペックルと呼ばれるランダムな光量分布を露光することで得られる母材を金型として用い、プラスチック材料の上に凹凸を転写したものなどが公知である。これらのガウス拡散素子は自然で滑らかな光の強度分布が得られる反面、その分布は概略でガウス分布の範囲から外れることがないので設計の自由度が小さい上に、広い配光角を実現しようとすると透過率が低下する。また、ガウス拡散素子には、表面が粒状感のあるざらついた質感に見えたり、スペックルが生じやすかったりという特性があるので、表面の見た目や質感が滑らかであることが要求されるスクリーンのような用途には適当でない。
　より高い透過率やガウス分布から外れた分布が要求される用途に対して、ガウス拡散板の代わりに、マイクロレンズアレイを用いる技術が数多く提案されている。マイクロレンズアレイにおいては、マイクロレンズの形状を調整することで発散される光の強度分布をコントロールすることができる。また、粗面と比べて高い透過率を得ることが可能である。しかしながら、マイクロレンズの間隔が小さいマイクロレンズアレイは、それぞれのマイクロレンズからの光の波面が干渉した結果、その配列の周期構造による回折波が生じ、光の強度分布にむらが発生するという欠点がある。また、マイクロレンズの曲率半径が小さくなると、マイクロレンズの開口自体で発生する回折により発散される光の強度分布にむらが生じるという問題もある。
　そこで、マイクロレンズの配列、面形状や開口の形状をばらつかせることで、干渉や回折による光の強度分布のむらを低減させたマイクロレンズアレイが提案されている。たとえば、マイクロレンズの配列にランダム性を持たせることで、マイクロレンズアレイの周期構造由来の回折による拡散輝度のむらを抑制する、カメラのピント合わせ用の焦点板が開発されている（特許文献１及び特許文献２）。また、マイクロレンズの配列、面形状や開口の形状などの様々な要素にランダム性を備えさせたマイクロレンズアレイが開発されている（特許文献３）。
　しかし、上記の特許文献を含む先行技術は、光の強度分布のむらを低減させるために配列及び形状をどのようにばらつかせるについて十分に開示していない。また、小型の素子で発散角の大きな分布を達成するには曲率半径の小さなマイクロレンズが必要となるので、レンズアレイの周期構造ではなく単一のマイクロレンズの開口の回折による光の強度分布のむらが問題となる。しかし、単一のマイクロレンズの開口の回折に起因するものを含む光の強度分布のむらを低減するように、配列または形状をばらつかせたマイクロレンズアレイ及びマイクロレンズアレイを含む光学系は開発されていない。
特開昭６２－５６００５号公報（特許２５０３４８５） 特開平３－１９２２３２号公報（特許２８８１８７７） 特表２００６－５００６２１号公報
したがって、単一のマイクロレンズの開口の回折に起因するものを含む光の強度分布のむらを低減するように、配列または形状をばらつかせたマイクロレンズアレイ及びマイクロレンズアレイを含む光学系に対するニーズがある。
　本発明の第１の態様によるマイクロレンズアレイは、ｘｙ平面上に配置されたＮ個のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイである。それぞれのマイクロレンズのレンズ頂点のｘｙ平面への投影点は、所定の方向の格子間隔が、Ｍを正の整数としてＤ／Ｍ（ミリメータ）であるｘｙ平面上の基準格子構造の格子点の近傍に配置され、マイクロレンズの境界線をレンズの辺としてマイクロレンズの対向する二辺の間隔はほぼＤに等しく、レンズ頂点のｘｙ平面への投影点から辺のｘｙ平面への投影線までの距離が
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000015
 であり、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000016
 とし、それぞれのマイクロレンズの材料の屈折率をｎ、中心近傍の該所定の方向の曲率半径をＲ（ミリメータ）、焦点距離をｆ（ミリメータ）として、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000018
 を満たす。
　本態様のマイクロレンズアレイによれば、マイクロレンズの開口に相当する、対向するレンズ境界線をなす二辺の間隔を適切にばらつかせることにより、単一のマイクロレンズの開口の回折に起因するものを含む光の強度分布のむらを低減することができる。
　本発明の第１の態様の第１の実施形態によるマイクロレンズアレイは、ｘｙ平面上の該基準格子構造が矩形配列または六方配列である。
　基準格子構造が矩形配列の場合には、Ｍ＝１であり、基準格子構造が六方配列の場合には、Ｍ＝２である。
　本発明の第１の態様の第２の実施形態によるマイクロレンズアレイにおいては、レンズ頂点位置が格子点から該所定の方向にηｉだけずれて配置されることで、隣接するマイクロレンズ間に生じる境界によって形成されるマイクロレンズの開口がεｉ変化し、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000019
 である。
　本実施形態によれば、隣接するマイクロレンズの境界は、マイクロレンズが軸対象の場合には、隣接するレンズ頂点を結ぶ線分の垂直二等分線となり、境界において隣接するレンズ面の段差が生じることはない。
　本発明の第１の態様の第３の実施形態によるマイクロレンズアレイにおいては、ｘｙ平面上の該基準格子構造は、ｘ方向の間隔がＤｘ、ｙ方向の間隔がＤｙの矩形配列であり、それぞれのマイクロレンズの頂点のｘｙ平面への投影点の位置が、対応する格子位置から（ηｘｉ，ηｙｉ）だけずれるように配置されている。
　本発明の第１の態様の第４の実施形態によるマイクロレンズアレイにおいては、ｘｙ平面上の該基準格子構造がｘ方向及びｙ方向の矩形配列であり、それぞれのマイクロレンズの中心近傍の、ｘ方向の曲率半径がＲｘ（ミリメータ）であり、ｙ方向の曲率半径がＲｙ（ミリメータ）である．
　本発明の第１の態様の第５の実施形態によるマイクロレンズアレイは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000020
 をさらに満たす。
　本発明の第１の態様の第６の実施形態によるマイクロレンズアレイは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000021
 をさらに満たす。
　本発明の第１の態様の第７の実施形態によるマイクロレンズアレイにおいては、マイクロレンズの頂点位置が、ｘｙ平面に垂直な方向に０から０．５５／（ｎ-１）（マイクロメータ）の範囲で一様にばらついている。
　本実施形態によれば、複数のマイクロレンズの頂点位置をｘｙ平面、すなわち格子面に垂直な方向にも互いにずらすことで、複数のマイクロレンズからの位相をずらすことによって、いわゆるダークスポットを低減することができる。
　本発明の第１の態様の第８の実施形態によるマイクロレンズアレイにおいては、εｉの絶対値の最大値を|εi|ｍａｘとして、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000022
 が満たされる。
　本発明の第２の態様による光学系は、発光する光の波長の最小値がλ（マイクロメータ）である光源とマイクロレンズアレイとを含み、該光源からの光を該マイクロレンズアレイによって発散させるように構成された光学系である。該マイクロレンズアレイは、ｘｙ平面上に配置されたＮ個のマイクロレンズからなり、それぞれのマイクロレンズのレンズ頂点のｘｙ平面への投影点は、所定の方向の格子間隔が、Ｍを正の整数としてＤ／Ｍ（ミリメータ）であるｘｙ平面上の基準格子構造の格子点の近傍に配置され、マイクロレンズの境界線をレンズの辺としてマイクロレンズの対向する二辺の間隔はほぼＤに等しく、レンズ頂点のｘｙ平面への投影点から辺のｘｙ平面への投影線までの距離が
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000023
 であり、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000024
 とし、それぞれのマイクロレンズの材料の屈折率をｎ、中心近傍の該所定の方向の曲率半径をＲ（ミリメータ）、焦点距離をｆ（ミリメータ）として、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000026
 を満たすように構成されている。
　本態様の光学系によれば、マイクロレンズの開口に相当する、対向するレンズ境界線をなす二辺の間隔を適切にばらつかせることにより、単一のマイクロレンズの開口の回折に起因するものを含む光の強度分布のむらを低減することができる。
　本発明の第２の態様の第１の実施形態による光学系は、該マイクロレンズアレイのマイクロレンズが、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000027
 をさらに満たす。
　本発明の第２の態様の第２の実施形態による光学系は、該マイクロレンズアレイのマイクロレンズが、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000028
 をさらに満たす。
　本発明の第２の態様の第３の実施形態による光学系においては、マイクロレンズの頂点位置が、ｘｙ平面に垂直な方向に０からλ／（ｎ-１）の範囲で一様にばらついている。
　本実施形態によれば、複数のマイクロレンズの頂点位置をｘｙ平面、すなわち格子面に垂直な方向にも互いにずらすことで、複数のマイクロレンズからの位相をずらすことによって、いわゆるダークスポットを低減することができる。
　本発明の第２の態様の第４の実施形態による光学系においては、ｎ個の異なる波長λ１、λ２、、、λｎの光源を備え、λｍｕｌｔｉは、λｍｕｌｔｉをλｉで割った余りをＲｅｍｉとして、Ｒｅｍｉ＜（λｉ／１０）またはＲｅｍｉ＞（９λｉ／１０）を全てのｉに対して満たすように定められた定数であるとして、マイクロレンズの頂点位置が、ｘｙ平面に垂直な方向に０からλｍｕｌｔｉ／（ｎ-１）の範囲で一様にばらついている。
本発明の一実施形態によるマイクロレンズアレイを示す図である。 従来技術のマイクロレンズアレイの断面を示す図である。 ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．０７［ｍｍ］のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。 図３Ａの角度θがマイナス１１度からマイナス７度の範囲を拡大した図である。 ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．０５［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光による像を示す図である。 ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．０５［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。 ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．１［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光による像を示す図である。 ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．１［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。 ｎ＝１．５、Ｒ＝０．１５［ｍｍ］、Ｄ＝０．１［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光による像を示す図である。 ｎ＝１．５、Ｒ＝０．１５［ｍｍ］、Ｄ＝０．１［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。 マイクロレンズの中心曲率と周期αとの関係を示す図である。 マイクロレンズの開口幅Ｄと周期αとの関係を示す図である。 マイクロレンズの材料及び周囲の媒体の屈折率差と周期αとの関係を示す図である。 入射ビームの波長λと周期αとの関係を示す図である。 マイクロレンズアレイ１００の断面を示す図である。 式（１７）及び式（１９）を満たす開口幅Ｄ及び発散の角度θの領域を示す図である。 正方配列の基準格子の格子点にマイクロレンズの頂点を固定し、開口幅を変化させた状態を示す図である。 最初に矩形配列の基準格子の格子点に複数のマイクロレンズの頂点を配置し、その後、格子面内において複数のマイクロレンズの頂点を格子点から移動させた状態を示す図である。 最初に六方配列の基準格子の格子点に複数のマイクロレンズの頂点を配置し、その後、格子面内において複数のマイクロレンズの頂点を格子点から移動させた状態を示す図である。 図１４Ｂの円で囲った部分の拡大図である。
実施例１のマイクロレンズアレイの底面に垂直方向に波長０.５８７６マイクロメータの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。 実施例２の光学系の構成を示す図である。 実施例２の光学系によって得られるｘ軸方向（水平方向）光の強度分布を示す図である。 実施例２の光学系によって得られるｙ軸方向（鉛直方向）光の強度分布を示す図である。 実施例３の光学系の構成を示す図である。 実施例３の光学系の光源光学系の構成を示す図である。
　図１は、本発明の一実施形態によるマイクロレンズアレイを示す図である。マイクロレンズアレイは、平面に配置されたほぼ同一形状の複数のマイクロレンズを含む。本発明のマイクロレンズアレイの特徴的な構成については後で説明する。
　図２は、従来技術のマイクロレンズアレイ１００Ａの断面を示す図である。図２の左側の平面に垂直に入射した光が、図２のマイクロレンズ１０００Ａの凸面によって屈折される。図２の左側の平面をマイクロレンズアレイ１００Ａの底面と呼称する。マイクロレンズ１０００Ａの頂点を通り、底面に垂直な直線をｚ軸とする。ｚ軸の正の方向は、光の進む方向とする。マイクロレンズ１０００Ａの頂点を通り、ｚ軸に垂直な面内に互いに直交するｘ軸及びｙ軸を定める。図２は、マイクロレンズ１０００Ａのｚ軸を含む断面を示す図である。図２においてｚ軸をＯＰで示す。
　マイクロレンズ１０００Ａの凸面は、一例として以下の式で表現されるものであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000029
 ここで、ｒはレンズのｚ軸からの距離であり、ｃはレンズの中心曲率であって中心曲率半径Ｒと以下の関係を満たす。αｎは係数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000030
　また、マイクロレンズ１０００Ａの凸面は、他の例として以下の式で表現されるものであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000031
 ここで、ｒはｚ軸からの距離である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000032
 ｃは軸対称項の中心曲率である。ｘ軸方向の中心曲率半径Ｒｘ及びｙ軸方向の中心曲率半径Ｒｙは、２次の係数αｎｍも考慮して以下の式で表現される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000033
　図２において、マイクロレンズアレイ１００Ａの底面に垂直に入射し、マイクロレンズ１０００Ａの周縁を通過する光線Ｌ１及びＬ２がｚ軸となす角度は等しい。この角度を発散の角度と呼称し、θで表す。マイクロレンズ１０００Ａの焦点距離をｆ、開口幅をＤとすると、角度θは以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000034
 また、マイクロレンズ１０００Ａの焦点距離ｆはマイクロレンズアレイの材料の屈折率をｎ、中心曲率をＲとすれば、以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000035
　ところで、従来技術のマイクロレンズアレイによって光ビームを発散させた場合に、複数のマイクロレンズの配列に起因する干渉及び単一のマイクロレンズの開口に起因する回折によって、発散された光の強度分布にむらが生じることが知られている。このような光の強度分布にむらは、レーザーダイオードなどのコヒーレントな光源を用いたときに特に顕著に現れる。
　図３Ａは、ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．０７［ｍｍ］のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。
　図３Ｂは、図３Ａの角度θがマイナス１１度からマイナス７度の範囲を拡大した図である。
　図３Ａ及び図３Ｂの横軸は発散の角度θを表し、図３Ａ及び図３Ｂの縦軸は光の強度の相対値を表す。角度θの単位は度である。
　図３Ａ及び図３Ｂにおいて、細い線は光の強度を表し、太い線は、光の強度の、幅１度の移動平均を表す。たとえば、－９．０度における太い線の値は、－８．５度から－９．５度の範囲の細い線の値の平均値を表す。図３Ｂによると、光の強度分布には、細い線で示される、周期が約０．５度の成分と太い線で示される、周期が数度の成分とが存在する。細い線で示される周期が約０．５度の成分は、複数のマイクロレンズの配列に起因する干渉によって生じるものであり、太い線で示される周期が数度の成分は、単一のマイクロレンズの開口に起因する回折によって生じるものである。本例のように、マイクロレンズの開口幅が数１０ｕｍオーダーを超えるようなスケールのマイクロレンズアレイにおいては、マイクロレンズの開口に起因する回折によって生じる成分の方が大きくなる。
　図３Ａによると太い線による強度は、約－１２度から約＋１２度の範囲で０．３以上であり、上記の範囲の最も外側、すなわち、角度の絶対値が最も大きい位置の山の頂点とその内側の谷の底との強度差が最も大きい。そこで、角度の絶対値が最も大きい位置の山の頂点と角度の絶対値が二番目に大きい位置の山の頂点との角度差を周期αとし、マイクロレンズアレイによって発散された光の強度分布のパラメータとして使用する。角度の絶対値が最も大きい位置の山の頂点と角度の絶対値が二番目に大きい位置の山の頂点との角度差は、一例として、二つのガウス関数の足しあわせで最少二乗フィットし、二つのガウスピークの間隔を求めることによって定めてもよい。
　上述の太い線で示される、周期が数度の成分が、マイクロレンズのどのような形状の影響を受けるのかについて検討する。
　図４Ａは、ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．０５［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光による像を示す図である。
　図４Ｂは、ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．０５［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。図４Ｂの横軸は発散の角度θを表し、図４Ｂの縦軸は光の強度の相対値を表す。角度θの単位は度である。
　図５Ａは、ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．１［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光による像を示す図である。
　図５Ｂは、ｎ＝１．５、Ｒ＝０．０７５［ｍｍ］、Ｄ＝０．１［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。図５Ｂの横軸は発散の角度θを表し、図５Ｂの縦軸は光の強度の相対値を表す。角度θの単位は度である。
　図６Ａは、ｎ＝１．５、Ｒ＝０．１５［ｍｍ］、Ｄ＝０．１［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光による像を示す図である。
　図６Ｂは、ｎ＝１．５、Ｒ＝０．１５［ｍｍ］、Ｄ＝０．１［ｍｍ］のマイクロレンズの底面に垂直方向に波長５５０ｎｍの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。図６Ｂの横軸は発散の角度θを表し、図６Ｂの縦軸は光の強度の相対値を表す。角度θの単位は度である。
　図４Ｂのマイクロレンズと図５Ｂのマイクロレンズは、開口の幅Ｄが異なる。光の強度が０．２より大きくなる発散の角度θの範囲は、図４Ｂにおいては約－１０度から約＋１０であり、図５Ｂにおいては約－１７度から約＋１７である。周期αは、図４Ｂ及び図５Ｂにおいてともに約３度である。
　図５Ｂのマイクロレンズと図６Ｂのマイクロレンズは、中心曲率半径Ｒが異なる。光の強度が０．２より大きくなる発散の角図５Ｂにおいては約－１７度から約＋１７であり、図６Ｂにおいては約－９度から約＋９である。周期αは、図５Ｂにおいて約３度であり、図６Ｂにおいて約２度である。
　図７は、マイクロレンズの中心曲率と周期αとの関係を示す図である。図７の横軸は、マイクロレンズの中心曲率（１／Ｒ）を表し、図７の縦軸は周期αを表す。横軸の単位は、１／ミリメータであり、縦軸の単位は度である。なお、図７の点線は、中心曲率（１／Ｒ）と周期αとの関係を以下の式でフィッティングした曲線を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000036
 このように、周期αの二乗と中心曲率（１／Ｒ）とは比例する。
　図８は、マイクロレンズの開口幅Ｄと周期αとの関係を示す図である。図８の横軸は、マイクロレンズの開口幅Ｄを表し、図８の縦軸は周期αを表す。横軸の単位は、ミリメータであり、縦軸の単位は度である。図８によると、周期αと開口幅Ｄとの間の顕著な相関は認められない。
　図９は、マイクロレンズの材料及び周囲の媒体の屈折率差と周期αとの関係を示す図である。図９の横軸は、マイクロレンズの材料及び周囲の媒体の屈折率差（ｎ－１）を表し、図９の縦軸は周期αを表す。縦軸の単位は度である。なお、図９の点線は、マイクロレンズの材料及び周囲の媒体の屈折率差（ｎ－１）と周期αとの関係を以下の式でフィッティングした曲線を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000037
 このように、周期αの二乗とマイクロレンズの材料及び周囲の媒体の屈折率差（ｎ－１）とは比例する。
　図１０は、入射ビームの波長λと周期αとの関係を示す図である。図１０の横軸は、入射ビームの波長λを表し、図１０の縦軸は周期αを表す。横軸の単位は、マイクロメータであり、縦軸の単位は度である。なお、図１０の点線は、入射ビームの波長λと周期αとの関係を以下の式でフィッティングした曲線を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000038
 このように、周期αの二乗と入射ビームの波長λとは比例する。
　式（２）及び上記の結果から以下の式が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000039
　ここで、マイクロレンズの開口を定めるマイクロレンズのレンズ面境界の位置がずれることの、発散の角度θへの影響について検討する。
　図１１は、マイクロレンズアレイ１００の断面を示す図である。図１１のマイクロレンズアレイ１００の底面に入射した光が、図１１のマイクロレンズ１０００の凸面によって屈折される。マイクロレンズ１０００の頂点を通り、底面に垂直な直線をｚ軸とする。ｚ軸の正の方向は、光の進む方向とする。マイクロレンズ１０００の頂点を通り、ｚ軸に垂直な面内に互いに直交するｘ軸及びｙ軸を定める。図１１は、マイクロレンズ１０００ｚ軸を含む断面を示す図である。図１１においてｚ軸をＯｐで示す。
　図１１に示されるように、レンズ面の境界位置がε変化することで発散の角度θがΔθだけ変化する。式（１）を使用して、εとΔθの関係は、以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000040
　Δθは、十分に小さいので以下の関係が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000041
　任意の二つのマイクロレンズを選択したときに、二つのマイクロレンズによる発散の角度の変化Δθの差が、周期αの半分であれば、マイクロレンズの開口に起因する回折によって生じる成分は打ち消しあって小さくなる。すなわち、以下の関係が成立するときにマイクロレンズの開口に起因する回折によって生じる成分は打ち消しあって小さくなる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000042
　式（５）に式（３）及び式（４）を代入して以下の式が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000043
　複数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイ全体において、複数のマイクロレンズの開口に起因する回折によって生じる成分を小さくするには、レンズ面の境界位置の変化量εをばらつかせるのが好ましい。レンズ面の境界位置の変化量εの分散をσ２としたとき、以下の関係を満たすのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000044
 ただし、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000045
 である。
　光源の光の波長としてｄ線０．５８７６ｕｍを想定すれば、以下の関係を満たすのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000046
 式（７）、（８）の下限を満たさないと、開口に起因する回折によって生じる成分を十分に小さくすることができない。また式（７）、（８）の上限を超えると発散される光の強度分布の一様性が低下し、また、マイクロレンズの接線角がきつくなり製造が困難になる。
　さらに、以下の関係を満たすのがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000048
　また、さらに以下の関係を満たすのがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000050
　レンズ面の境界位置の変化量εの絶対値の最大値を｜ε｜ｍａｘとして以下の関係を満たすのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000051
 また、以下の関係を満たすのがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000052
　ここで、図３Ａ及び図３Ｂにおいて細い線で表される、複数のマイクロレンズの配列に起因する干渉によって生じる成分の周期βについて検討する。配列の周期すなわちマイクロレンズの開口幅をＤ（ミリメータ）、光の波長をλ（マイクロメータ）とすると、回折の式よりβは以下のように示すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000053
　単一のマイクロレンズの開口に起因する回折によって生じる成分の周期αと、複数のマイクロレンズの配列に起因する干渉によって生じる成分の周期βとの比をＭとすると、式（３）及び式（１５）を使用して、Ｍは以下の式で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000054
 式（１）を使用して以下の式が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000055
　本発明が有効となるには、αがβより明らかに大きくなければならず、Ｍが３より大きいのが好ましい。したがって、以下の関係が成立するのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000056
 光源の光の波長としてｄ線０．５８７６ｕｍを想定すれば、以下の関係が成立するのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000057
 また、Ｍが１０より大きいのがより好ましい。したがって、以下の関係が成立するのがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000059
　図１２は、式（１７）及び式（１９）を満たす開口幅Ｄ及び発散の角度θの領域を示す図である。図１２の横軸は開口幅Ｄを表し、図１２の縦軸は発散の角度θを表す。横軸の単位はミリメータであり、縦軸の単位は度である。本発明はマイクロレンズの開口幅Ｄが数１０ｕｍのオーダーでも、発散の角度θが広い場合には非常に効果的であることが判る。
　式（１）を使用して、式（１６）乃至式（１９）からθを消去すれば、式（２０）乃至式（２３）が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000063
　たとえば、式（７）を満たすように、複数のマイクロレンズの開口幅Ｄを変化させる方法について説明する。
　図１３は、正方配列の基準格子の格子点にマイクロレンズの頂点を固定し、開口幅を変化させた状態を示す図である。この場合は隣り合うマイクロレンズの境界に不連続な段差が生じる。このような段差は不必要な迷光の原因となったり、射出成型で製造する際に離型に悪影響を与えたりすることがある。
　図１４Ａは、最初に、格子間隔がＤｘ及びＤｙである矩形配列の基準格子の格子点に複数のマイクロレンズの頂点を配置し、その後、格子面内において複数のマイクロレンズの頂点を格子点から移動させた状態を示す図である。この場合に、隣接するマイクロレンズの境界は、マイクロレンズが軸対象の場合には、隣接するレンズ頂点を結ぶ線分の垂直二等分線となり、境界において隣接するレンズ面の段差が生じることはない。マイクロレンズが軸非対称の場合には、垂直二等分線からずれが生じるが、そのずれ量は、εの格子と直交する成分が格子間隔ＤｘまたはＤｙよりも十分に小さければ無視できる量である。マイクロレンズの境界を辺と呼称する。矩形配列の基準格子の場合に、マイクロレンズの対向する２辺の間隔は、ほぼＤｘまたはＤｙに等しい。
　このとき、マイクロレンズアレイの格子方向への位置ずれ量をηｉ、ηｉ＋１、、、とすれば以下の関係が成立する。ここで、ｉはそれぞれの格子を識別する整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000064
 したがって、レンズ頂点の位置ずれの分散σηを開口の位置ずれに必要な分散σの２の平方根倍とすれば適当な開口ずれが得られることが判る。
　図１４Ｂは、最初に六方配列の基準格子の格子点に複数のマイクロレンズの頂点を配置し、その後、格子面内において複数のマイクロレンズの頂点を格子点から移動させた状態を示す図である。ここで、格子の方向をｌ、ｍ及びｎで表すと、３種類の格子間隔は、Ｄｌ／２、Ｄｍ／２及びＤｎ／２で表せる。この場合に、マイクロレンズの対向する２辺の間隔は、ほぼ、Ｄｌ、ＤｍまたはＤｎに等しい。
　図１４Ｃは、図１４Ｂの円で囲った部分の拡大図である。
　マイクロレンズのレンズ面形状はいわゆる自由曲面でもよく、その場合の開口の変化量は周期的な基準レンズ配列方向ごとにマイクロレンズ断面の曲率を算出して定めてやればよい。
　マイクロレンズの開口に起因する回折による強度分布のむらを打ち消しても、マイクロレンズアレイの周期構造に起因する干渉による強度分布のむらは残る。マイクロレンズの頂点を基準格子の格子点から格子面内でずらした場合、マイクロレンズアレイの周期構造自体が乱れるので、周期構造による強度分布のむらも低減する。しかし、格子面内の位置ずれだけでは低次の回折光の干渉ピークを乱す効果は弱く、結果として０度付近に強度が非常に弱いダークスポットが生じる場合がある。このようなダークスポットを低減するには、複数のマイクロレンズの頂点位置を光軸方向、すなわち格子面に垂直な方向にも互いにずらすことで、複数のマイクロレンズからの位相をずらすことが効果的である。
　干渉による強度分布のむらを打ち消すには位相のずれが２πの中に均等に分布していることが望ましい。波長λの光源に対して、位相ずれが均等に分布するには、光軸方向のレンズ位置ずれηｚを０≦ηｚｉ＜ｍλ／（ｎ-１）の範囲に一様に分布させることで、この条件を満たすことができる。（ただし、ｍは１以上の整数。）加工や配光の制御を考慮すると、ηｚは小さい方が有利なので、０≦ηｚｉ＜λ／（ｎ-１）の範囲に一様に分布させるのが望ましい。
　以下に本発明の実施例について説明する。
実施例１
　実施例１は、図１に示すように、球面のマイクロレンズ面を、正方格子を基準格子として配列したマイクロレンズアレイである。実施例１のマイクロレンズアレイの仕様を以下に示す。
　マイクロレンズレンズ面中心曲率半径Ｒ：０．０９５ｍｍ
　基準格子間隔Ｄ：０．０８２ｍｍ
　素子厚み：１．０ｍｍ
　材料屈折率（アクリル）：１．４９２
ここで、マイクロレンズの素子厚みとは、頂点から底面までの距離を意味する。
　正方格子の直交する２方向をｘ方向及びｙ方向として、マイクロレンズのレンズ頂点は、基準格子位置からｘ方向は±７．６ｕｍ、ｙ方向は±７．６ｕｍの範囲で一様に分布させている。
　このとき、Ｄ２／２ｆ＝０．０１７４となり、式（２１）及び式（２３）は満たされる。また、σ＝０．００７６／√６＝０．００３１ｍｍとなり、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000065
 となるので式（８）及び式（１０）は満たされる。
　図１５は、実施例１のマイクロレンズアレイの底面に垂直方向に波長０.５８７６マイクロメータの光ビームを入射させ発散さたときに得られる光の強度分布を示す図である。図１５の横軸は発散の角度θを表し、図１５の縦軸は光の強度の相対値を表す。角度θの単位は度である。図１５において、細い線は光の強度を表し、太い線は、光の強度の、幅１度の移動平均を表す。
　図１５の太い線の強度分布を、図３Ａの太い線の強度分布と比較すると、図１５では、図３Ａのαで示される大きな強度差を生じる部分が存在していない。したがって、実施例１のマイクロレンズアレイによって、従来のマイクロレンズアレイよりもより一様な照度分布が得られる。
実施例２
　図１６は、実施例２の光学系の構成を示す図である。実施例２の光学系は、レーザーダイオード光源２００、コリメータレンズ３００、及びマイクロレンズアレイ１０２からなる。レーザーダイオード光源２００のレーザの波長は、７８０ナノメータである。
　コリメータレンズ３００はＢＫ７を材料とする非球面レンズである。入射面及び射出面は、入射面及び射出面の曲率中心を結ぶ直線をｚ軸とし、ｚ軸からの距離をｒとして以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000067
入射面のパラメータは以下のとおりである。
　Ｒ＝２．４６２ｍｍ，ｋ＝-１
射出面のパラメータは以下のとおりである。
　Ｒ＝-０．９７９ｍｍ，ｋ＝-１
コリメータレンズ３００に関するその他の仕様は以下のとおりである。
　光源から入射面までの距離：１．０ｍｍ
　素子厚み：１．０ｍｍ
　材料の屈折率：１．５１１
ここで、素子厚みとは、コリメータレンズ３００の中心厚を意味する。
　マイクロレンズアレイ１０２は、自由曲面のマイクロレンズ面を、正方格子を基準格子として配列したものである。
　レンズ頂点を通り、マイクロレンズアレイ１０２の底面に垂直な直線をｚ軸とし、ｚ軸に垂直な面内において、正方格子の２方向をｘ軸及びｙ軸として、マイクロレンズ面は、以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000068
 ここで、ｒはレンズのｚ軸からの距離である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000069
 ｃは軸対称項の中心曲率である。ｘ軸方向の中心曲率半径Ｒｘ及びｙ軸方向の中心曲率半径Ｒｙは、２次の係数も考慮して以下の式で表現される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000070
 自由曲面を定める係数は
　１／ｃ＝０，ｋ＝０
　α２０＝２．０，α０２＝１．５
他の係数αｎｍは０である。
二次の係数を考慮すると、マイクロレンズのレンズ面中心曲率半径はｘ方向とｙ方向で異なり
　Ｒｘ：０．２５ｍｍ
　Ｒｙ：０．３３ｍｍ
となる。
　マイクロレンズアレイ１０２のその他の仕様は以下のとおりである。
　基準格子間隔Ｄ：０．２ｍｍ
　素子厚み：０．５ｍｍ
　材料屈折率（アクリル）：１．４８６（λ＝７８０ｎｍ、すなわち０．７８μｍ）
ここで、マイクロレンズの素子厚みとは、頂点から底面までの距離を意味する。
　マイクロレンズのレンズ頂点は基準格子位置を中心とし、ｘ方向半径１３．３ｕｍ、ｙ方向半径１５．０ｕｍの楕円の中に一様に分布させている。
　このとき、ｘｚ面の焦点距離をｆｘ、ｙｚ面の焦点距離をｆｙとすると、Ｄ２／（２ｆｘλ）＝０．０５６、Ｄ２／（２ｆｙλ）＝０．０４４となり、式（２０）は満たされる。また、σｘ＝０．００１３３／√８＝０．００４７ｍｍとなり、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000071
 となるので式（７）は満たされる。さらに、σｙ＝０．００５３ｍｍとなり、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000072
 となるので式（７）は満たされる。
　図１７Ａは、実施例２の光学系によって得られるｘ軸方向（水平方向）光の強度分布を示す図である。図１７Ａの横軸は発散の角度θを表し、図１７Ａの縦軸は光の強度の相対値を表す。角度θの単位は度である。図１７Ａにおいて、細い線は光の強度を表し、太い線は、光の強度の、幅１度の移動平均を表す。
　図１７Ｂは、実施例２の光学系によって得られるｙ軸方向（鉛直方向）光の強度分布を示す図である。図１７Ｂの横軸は発散の角度θを表し、図１７Ｂの縦軸は光の強度の相対値を表す。角度θの単位は度である。図１７Ｂにおいて、細い線は光の強度を表し、太い線は、光の強度の、幅１度の移動平均を表す。
　図１７Ａ及び図１７Ｂの太い線の強度分布を、図３Ａの太い線の強度分布と比較すると、図１７Ａ及び図１７Ｂでは、図３Ａのαで示される大きな強度差を生じる部分が存在していない。したがって、実施例１のマイクロレンズアレイによって、従来のマイクロレンズアレイよりもより一様な照度分布が得られる。
実施例３
　図１８Ａは、実施例３の光学系の構成を示す図である。実施例３の光学系は、光源光学系２１００と、マイクロレンズアレイであるスクリーン１０３と、自由曲面ミラー２２００と、フロントグラス２３００とを含む。
　図１８Ｂは、実施例３の光学系の光源光学系２１００の構成を示す図である。光源光学系２１００は、レーザーダイオード２００Ａ、２００Ｂ及び２００Ｃと、コリメータレンズ３００Ａ、３００Ｂ及び３００Ｃと、ダイクロイックミラー４００と、ミラー５００と、ＭＥＭＳミラー６００とを含む。
　実施例３の光学系は、０．４５ｕｍ、０．５３ｕｍ、０．６５ｕｍの三つの異なる発振波長のレーザ２００Ａ、２００Ｂ及び２００Ｃを光源とした、ヘッドマウントディスプレイである。三つのレーザーダイオード２００Ａ、２００Ｂ及び２００Ｃから発振された光は、それぞれコリメータレンズ３００Ａ、３００Ｂ及び３００Ｃで平行光束とされたのちに、ダイクロイックミラー４００で一本のビームに合波される。合波されたビームは、ＭＥＭＳミラー６００で偏向されマイクロレンズアレイ１０３上を走査する。レーザーダイオード２００Ａ、２００Ｂ及び２００ＣをＭＥＭＳミラー６００と同期して変調することで、マイクロレンズアレイ１０３上に中間像が描画される。中間像はマイクロレンズアレイ１０３で発散の角度を拡大され後に、自由曲面ミラー２２００及びフロントグラス２３００で反射されて虚像２４００を形成する。マイクロレンズ１０３によって発散される光の強度分布にむらがあると、虚像にもむらが生じたり視点をずらした際に虚像の明るさが変化したりするので不都合である。
　スクリーンとして使用されるマイクロレンズアレイ１０３は、Ｄｘ＝０．１ｍｍ、Ｄｙ＝０．０５ｍｍの矩形格子を基準格子とするマイクロレンズアレイである。複数のマイクロレンズの頂点位置は基準格子位置からｘ軸方向の半径１２．３ｕｍ、ｙ軸方向の半径１２．８ｕｍの楕円の中に一様にばらつき、ｚ軸方向には最大２．６５ｕｍの範囲で一様にばらつくように配置されている。
　マイクロレンズ面は、軸対象な非球面であり、レンズ頂点を通り底面に垂直な直線をｚ軸とし、ｚ軸からの距離をｒとして以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000074
 マイクロレンズ面のパラメータは以下のとおりである。
　レンズ面中心曲率半径Ｒ：０．１ｍｍ
　コーニックｋ：－１．０
マイクロレンズアレイ１０３のその他の仕様は以下のとおりである。
　素子厚み：１．０ｍｍ
　材料屈折率（アクリル）：１．４９２
　このとき、
　Ｄｘ２／２ｆ／０．４５＝０．０５５
　Ｄｘ２／２ｆ／０．５３＝０．０４６
　Ｄｘ２／２ｆ／０．６５＝０．０３８
　Ｄｙ２／２ｆ／０．４５＝０．０５５
　Ｄｙ２／２ｆ／０．５３＝０．０４６
　Ｄｙ２／２ｆ／０．６５＝０．０３８
となり、いずれも式（２０）を満たす。
　また、
　σｘ＝０．００４３５ｍｍ、σｙ＝０．０４１７ｍｍとなるので、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000076
となり、λ＝０．５３マイクロメータに対して、式（７）、式（９）及び式（１１）を満たす。また、λ＝０．４５マイクロメータ、λ＝０．６５マイクロメータに対して式（７）を満たす。
　さらに、
　２．６６／０．４５＝０．４５×５＋０．４１
　２．６６／０．５３＝０．５３×５＋０．０１
　２．６６／０．６５＝０．６５×４＋０．０６
となり、２．６５を波長で割った余りは、０．４１、０．０．０１、０．０６であり、以下の関係が満たされる。
　０．４１／０．４５＞０．９
　０．０１／０．５３＜０．１
　０．０６／０．６５＜０．１
　そこで、複数のマイクロレンズの頂点位置を格子面に垂直方向に０から２．６６マイクロメータの範囲で一様にばらつかせて、三波長について複数のマイクロレンズからの位相をずらすことによって、いわゆるダークスポットを低減することができる。
　実施例３のヘッドマウントディスプレイは、マイクロレンズアレイから発散される光の強度分布のむらが小さく、虚像の輝度むらも抑制されている。

Claims (14)

  1. 　ｘｙ平面上に配置されたＮ個のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイであって、それぞれのマイクロレンズのレンズ頂点のｘｙ平面への投影点は、所定の方向の格子間隔が、Ｍを正の整数としてＤ／Ｍ（ミリメータ）であるｘｙ平面上の基準格子構造の格子点の近傍に配置され、マイクロレンズの境界線をレンズの辺としてマイクロレンズの対向する二辺の間隔はほぼＤに等しく、レンズ頂点のｘｙ平面への投影点から辺のｘｙ平面への投影線までの距離が
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
     であり、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
     とし、それぞれのマイクロレンズの材料の屈折率をｎ、中心近傍の該所定の方向の曲率半径をＲ（ミリメータ）、焦点距離をｆ（ミリメータ）として、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
     を満たすマイクロレンズアレイ。
  2. 　ｘｙ平面上の該基準格子構造が矩形配列または六方配列である請求項１に記載のマイクロレンズアレイ。
  3. 　レンズ頂点位置が格子点から該所定の方向にηｉだけずれて配置されることで、隣接するマイクロレンズ間に生じる境界によって形成されるマイクロレンズの開口がεｉ変化し、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
     である請求項１または２に記載のマイクロレンズアレイ。
  4. 　ｘｙ平面上の該基準格子構造は、ｘ方向の間隔がＤｘ、ｙ方向の間隔がＤｙの矩形配列であり、それぞれのマイクロレンズの頂点のｘｙ平面への投影点の位置が、対応する格子位置から（ηｘｉ，ηｙｉ）だけずれるように配置された請求項３に記載のマイクロレンズアレイ。
  5. 　ｘｙ平面上の該基準格子構造がｘ方向及びｙ方向の矩形配列であり、それぞれのマイクロレンズの中心近傍の、ｘ方向の曲率半径がＲｘ（ミリメータ）であり、ｙ方向の曲率半径がＲｙ（ミリメータ）である請求項１から４のいずれかに記載のマイクロレンズアレイ。
  6. Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
     をさらに満たす請求項１から５のいずれかに記載のマイクロレンズアレイ。
  7. Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
     をさらに満たす請求項１から６のいずれかに記載のマイクロレンズアレイ。
  8. 　マイクロレンズの頂点位置が、ｘｙ平面に垂直な方向に０から０．５５／（ｎ-１）（マイクロメータ）の範囲で一様にばらついた請求項１から７のいずれかに記載のマイクロレンズアレイ。
  9. 　εｉの絶対値の最大値を|εi|ｍａｘとして、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
     を満たす請求項１から８のいずれかに記載のマイクロレンズアレイ。
  10. 　発光する光の波長の最小値がλ（マイクロメータ）である光源とマイクロレンズアレイとを含み、該光源からの光を該マイクロレンズアレイによって発散させるように構成された光学系であって、
    　該マイクロレンズアレイは、ｘｙ平面上に配置されたＮ個のマイクロレンズからなり、それぞれのマイクロレンズのレンズ頂点のｘｙ平面への投影点は、所定の方向の格子間隔が、Ｍを正の整数としてＤ／Ｍ（ミリメータ）であるｘｙ平面上の基準格子構造の格子点の近傍に配置され、マイクロレンズの境界線をレンズの辺としてマイクロレンズの対向する二辺の間隔はほぼＤに等しく、レンズ頂点のｘｙ平面への投影点から辺のｘｙ平面への投影線までの距離が
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000009
     であり、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000010
     とし、それぞれのマイクロレンズの材料の屈折率をｎ、中心近傍の該所定の方向の曲率半径をＲ（ミリメータ）、焦点距離をｆ（ミリメータ）として、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000011
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000012
     を満たすように構成された光学系。
  11. 　該マイクロレンズアレイのマイクロレンズが、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000013
     をさらに満たす請求項１０に記載の光学系。
  12. 　該マイクロレンズアレイのマイクロレンズが、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000014
     をさらに満たす請求項１０または１１に記載の光学系。
  13. 　マイクロレンズの頂点位置が、ｘｙ平面に垂直な方向に０からλ／（ｎ-１）の範囲で一様にばらついた請求項１０から１２のいずれかに記載の光学系。
  14. 　ｎ個の異なる波長λ１、λ２、、、λｎの光源を備え、λｍｕｌｔｉは、λｍｕｌｔｉをλｉで割った余りをＲｅｍｉとして、Ｒｅｍｉ＜（λｉ／１０）またはＲｅｍｉ＞（９λｉ／１０）を全てのｉに対して満たすように定められた定数であるとして、マイクロレンズの頂点位置が、ｘｙ平面に垂直な方向に０からλｍｕｌｔｉ／（ｎ-１）の範囲で一様にばらついた請求項１０から１３のいずれかに記載の光学系。
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WO (1) WO2015182619A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018225438A1 (ja) * 2017-06-05 2018-12-13 アルプス電気株式会社 レンズ
US10393927B2 (en) 2015-04-06 2019-08-27 Nalux Co., Ltd. Diffuser and method for manufacturing the same
WO2021079923A1 (ja) 2019-10-25 2021-04-29 デクセリアルズ株式会社 拡散板、表示装置、投影装置及び照明装置
WO2022138725A1 (ja) * 2020-12-23 2022-06-30 京セラ株式会社 拡散板、発光デバイス及びセンサモジュール
JP2024012499A (ja) * 2019-11-06 2024-01-30 デクセリアルズ株式会社 マイクロレンズアレイ及び投影型画像表示装置
US12517288B2 (en) 2020-12-18 2026-01-06 Dexerials Corporation Diffusion plate, display device, projection device, lighting device, and remote sensing light source

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107525040B (zh) * 2017-10-19 2024-08-02 佛山市升阳光学科技有限公司 一种光学透镜及应用其的口腔灯
CN107942520B (zh) * 2017-11-22 2020-09-25 东北师范大学 用于dmd数字光刻系统的匀光元件及其设计方法
CN108534086A (zh) * 2018-05-18 2018-09-14 江苏派欧汽车零部件有限公司 一种汽车尾部牌照灯
CN108919483A (zh) * 2018-06-21 2018-11-30 浙江大学 一种基于自由曲面透镜阵列的中空光束制备装置
US12092836B2 (en) * 2018-10-26 2024-09-17 Viavi Solutions Inc. Optical element and optical system
CN112394526A (zh) * 2019-08-19 2021-02-23 上海鲲游光电科技有限公司 多维摄像装置及其应用终端和方法
JP7705235B2 (ja) * 2019-10-25 2025-07-09 デクセリアルズ株式会社 拡散板、表示装置、投影装置及び照明装置
JP6841889B1 (ja) * 2019-11-06 2021-03-10 デクセリアルズ株式会社 マイクロレンズアレイ、投影型画像表示装置、マイクロレンズアレイの設計方法及びマイクロレンズアレイの製造方法
WO2021097747A1 (zh) * 2019-11-21 2021-05-27 南昌欧菲生物识别技术有限公司 微透镜阵列元件以及扩散片和电子设备
CN111510690B (zh) * 2020-04-12 2021-01-26 国科天成（北京）科技有限公司 基于微透镜阵列的真彩像增强器
WO2022107772A1 (ja) * 2020-11-17 2022-05-27 株式会社クラレ マイクロアレイ型拡散板
CN112540460A (zh) * 2020-12-29 2021-03-23 华东交通大学 基于tir与微透镜阵列组合的光学系统设计方法
CN112666639A (zh) * 2021-01-05 2021-04-16 江西欧迈斯微电子有限公司 微透镜阵列及其制作方法、匀光元件和成像模组
CN114321818B (zh) * 2022-01-11 2023-06-30 荣仪尚科光电技术(哈尔滨)有限公司 基于自由曲面的阵列式自然光匀化照明装置和方法
JP2023119945A (ja) * 2022-02-17 2023-08-29 株式会社ダイセル マイクロレンズアレイ、拡散板及び照明装置
CN115224583B (zh) * 2022-06-21 2026-01-06 嘉兴驭光光电科技有限公司 基于微透镜阵列的激光投射模组
CN115144939B (zh) * 2022-06-28 2024-07-26 合肥英拓光电技术有限公司 一种微透镜阵列、微透镜阵列制备方法和光学检测装置
TW202414039A (zh) * 2022-09-23 2024-04-01 揚明光學股份有限公司 透鏡陣列

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004072698A1 (ja) * 2003-02-17 2004-08-26 Nalux Co., Ltd. マイクロレンズアレイ一体型レンズ
WO2013179649A1 (ja) * 2012-05-30 2013-12-05 株式会社デンソー スクリーン部材及びヘッドアップディスプレイ装置
JP2014510952A (ja) * 2011-03-15 2014-05-01 エルジー・ケム・リミテッド マイクロレンズアレイシート及びこれを含むバックライトユニット

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2503485B2 (ja) 1987-03-11 1996-06-05 株式会社ニコン 焦点板及びその製造方法
JP2881877B2 (ja) 1989-12-21 1999-04-12 株式会社ニコン 焦点板
WO2002010804A1 (en) * 2000-07-31 2002-02-07 Rochester Photonics Corporation Structure screens for controlled spreading of light
CN1141603C (zh) * 2001-10-08 2004-03-10 上海交通大学 微透镜阵列型光漫透射器
US6859326B2 (en) 2002-09-20 2005-02-22 Corning Incorporated Random microlens array for optical beam shaping and homogenization
JP2005070631A (ja) * 2003-08-27 2005-03-17 Seiko Epson Corp スクリーン及びプロジェクタ
CN101305309B (zh) * 2005-09-30 2010-11-10 Limo专利管理有限及两合公司 用于使光均匀化的装置
DE102006047941B4 (de) * 2006-10-10 2008-10-23 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur Homogenisierung von Strahlung mit nicht regelmäßigen Mikrolinsenarrays
WO2012124983A2 (ko) * 2011-03-15 2012-09-20 주식회사 엘지화학 마이크로 렌즈 어레이 시트 및 이를 포함하는 백라이트 유닛

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004072698A1 (ja) * 2003-02-17 2004-08-26 Nalux Co., Ltd. マイクロレンズアレイ一体型レンズ
JP2014510952A (ja) * 2011-03-15 2014-05-01 エルジー・ケム・リミテッド マイクロレンズアレイシート及びこれを含むバックライトユニット
WO2013179649A1 (ja) * 2012-05-30 2013-12-05 株式会社デンソー スクリーン部材及びヘッドアップディスプレイ装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10393927B2 (en) 2015-04-06 2019-08-27 Nalux Co., Ltd. Diffuser and method for manufacturing the same
WO2018225438A1 (ja) * 2017-06-05 2018-12-13 アルプス電気株式会社 レンズ
WO2021079923A1 (ja) 2019-10-25 2021-04-29 デクセリアルズ株式会社 拡散板、表示装置、投影装置及び照明装置
JP2024012499A (ja) * 2019-11-06 2024-01-30 デクセリアルズ株式会社 マイクロレンズアレイ及び投影型画像表示装置
JP7634630B2 (ja) 2019-11-06 2025-02-21 デクセリアルズ株式会社 マイクロレンズアレイ及び投影型画像表示装置
US12517288B2 (en) 2020-12-18 2026-01-06 Dexerials Corporation Diffusion plate, display device, projection device, lighting device, and remote sensing light source
WO2022138725A1 (ja) * 2020-12-23 2022-06-30 京セラ株式会社 拡散板、発光デバイス及びセンサモジュール

Also Published As

Publication number Publication date
CN106461815A (zh) 2017-02-22
US10443811B2 (en) 2019-10-15
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JP6664621B2 (ja) 2020-03-13

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