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WO2015141765A1 - サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤 - Google Patents

サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤 Download PDF

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WO2015141765A1
WO2015141765A1 PCT/JP2015/058197 JP2015058197W WO2015141765A1 WO 2015141765 A1 WO2015141765 A1 WO 2015141765A1 JP 2015058197 W JP2015058197 W JP 2015058197W WO 2015141765 A1 WO2015141765 A1 WO 2015141765A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
general formula
compound represented
diol
compound
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2015/058197
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English (en)
French (fr)
Inventor
中村　剛希
長瀬　久人
雄太 藤野
渡辺　克之
泰司 勝又
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to EP19163120.9A priority patent/EP3521279B1/en
Priority to EP15765614.1A priority patent/EP3121170B1/en
Priority to EP20208339.0A priority patent/EP3800185B1/en
Publication of WO2015141765A1 publication Critical patent/WO2015141765A1/ja
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Priority to US16/043,363 priority patent/US10428042B2/en
Ceased legal-status Critical Current

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    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to a compound useful for the production of salacinol and a production method thereof. Furthermore, this invention relates to the manufacturing method of a salacinol, the protection method and deprotection method of a diol group, and the protective agent of a diol group.
  • Salacia reticulata a creeping tree belonging to the genus Salacia
  • Salacinol is a component contained in plants of the genus Salacia such as Salacia reticulata, and has strong ⁇ -glucosidase inhibitory activity (Non-patent Document 1).
  • Salacinol is obtained from, for example, an extract of a plant of the genus Salacia (Patent Document 1).
  • Patent Documents 2, 3 and 4 various production methods by synthesis of salacinol and its analogs have been studied.
  • Patent Document 2 describes a production method in which a cyclic sulfate protected with a benzylidene group is reacted with a thioarabinitol derivative protected with a benzyl group.
  • Patent Document 3 describes a production process in which a cyclic sulfate protected with a benzylidene group is reacted with a thioarabinitol derivative protected with a benzyl group.
  • Patent Document 4 describes a production method in which a cyclic sulfate protected with an isopropylidene group is reacted with thio-D-arabinitol.
  • the functional group When organic synthesis is performed using a compound having a functional group such as an amino group, a hydroxy group, or a carboxy group, the functional group is usually protected in order to prevent the functional group from affecting the reaction. Further, when there are two or more functional groups, in order to selectively react only the target functional group, other functional groups are protected.
  • the protecting group not only stably protects the target functional group, but also needs to be easily removed as necessary. Therefore, it is important in organic synthesis that only a protecting group bonded to a specific functional group is deprotected under appropriate conditions. For example, various protecting groups have been developed as protecting groups for amino groups, hydroxy groups, or carboxy groups (Non-patent Document 2).
  • a protective group for a 1,2-diol group or a 1,3-diol group (hereinafter sometimes referred to as “diol group”), a cyclic acetal, a cyclic ketal, a cyclic orthoester, and the like are known.
  • An alkoxycarbonylethylidene group is known as a protective group for the diol group (Non-patent Document 3).
  • Patent Document 2 has disadvantages such as (1) a low yield and (2) a complicated operation is required because a hydrogenation reaction is used for the deprotection reaction. This method is not satisfactory.
  • the method described in Patent Document 3 has disadvantages such as (1) using hexafluoroisopropanol, which is harmful to the human body and has a large environmental load, as a reaction solvent. This method is not satisfactory.
  • the method described in Patent Document 4 has disadvantages such as (1) low yield and (2) long reaction time. This method is not satisfactory. Further, as described in Non-Patent Document 3, for example, a diol group can be protected by an alkoxycarbonylethylidene group in the presence of a base.
  • the conventional production methods of salacinol are (1) low yield, (2) complicated operation is required, (3) use a solvent that is harmful to the human body and has a large environmental impact, (4) There are problems such as long reaction time. Therefore, there is a strong demand for a more excellent industrial production method for salacinol. Furthermore, there is a strong demand for methods for protecting and deprotecting diol groups.
  • An object of the present invention is to provide a novel compound useful for the production of salacinol and a novel method for producing salacinol. Moreover, the subject of this invention is providing the protection method of a diol group, a protective agent, and the deprotection method useful for manufacture of a salacinol, etc.
  • the present inventors have found that the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (7a) are useful for the production of salacinol. It was found to be an intermediate. Furthermore, the present inventors have found that salacinol can be industrially produced from the compound represented by the general formula (1a) and the compound represented by the general formula (7a). Furthermore, the present inventors have found a method for protecting and deprotecting a diol group that is useful for the production of salacinol, and completed the present invention.
  • R 2 represents the general formula (2) (Wherein R 4a , R 4b , R 4c and * have the same meanings as described above); R 3 represents the formula (3) (Wherein * has the same meaning as described above), [1] or [2].
  • R 2 and R 3 taken together are represented by the general formula (4) (Wherein, X 1 and * have the same meaning as described above), and the compound according to [1] or [2].
  • the compound is dimethyl 2-((4aS, 8aR) -6-phenyltetrahydro [1,3] dioxino [5,4-d] [1,3] dioxin-2-yl) malonate, dimethyl 2- ( (4R, 5S) -5-hydroxy-4- (hydroxymethyl) -1,3-dioxan-2-yl) malonate, dimethyl 2-((4aR, 8aS) -2,2-dioxidetetrahydro [1,3 ] Dioxino [5,4-d] [1,3,2] dioxathin-6-yl) malonate, (4S, 5S) -4-(((2R, 3S, 4S) -3,4-dihydroxy-2- (Hydroxymethyl) tetrahydro-1H-thiophen-1-ium-1-yl) methyl-2- (1,3-dimethoxy-1,3-dioxopropan-2-yl) -1,3-diox
  • a 1,2-diol group or a 1,3-diol group in the presence of a base is represented by the general formula (19) (Wherein R 1a , R 1b and * have the same meanings as described above), a 1,2-diol group or 1,3-diol group, Protection method.
  • the compound of the present invention is useful as an intermediate for producing salacinol.
  • the production method of the present invention is useful as a production method of salacinol.
  • the protecting group for the diol group of the present invention is a novel protecting group, and the protecting agent and method of the present invention are useful as a protecting group, a protecting method and a deprotecting method for a diol group.
  • a halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • C 1-3 alkyl group means a methyl, ethyl, propyl or isopropyl group.
  • C 1-6 alkyl group means a linear or branched C 1-6 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl and hexyl groups.
  • C 2-6 alkenyl group means a linear or branched C 2-6 alkenyl group such as vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, isobutenyl, 1,3-butadienyl, pentenyl and hexenyl groups.
  • the C 2-3 alkylene group means an ethylene or propylene group.
  • An aryl group means a phenyl or naphthyl group.
  • An al C 1-6 alkyl group means an al C 1-6 alkyl group such as benzyl, diphenylmethyl, trityl, phenethyl and naphthylmethyl groups.
  • the C 1-6 alkoxy group is a linear or branched C 1-6 such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, pentyloxy and hexyloxy groups.
  • An alkoxy group is meant.
  • a C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group means a C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group such as a methoxymethyl and 1-ethoxyethyl group.
  • the C 2-6 alkanoyl group means a linear or branched C 2-6 alkanoyl group such as acetyl, propionyl, valeryl, isovaleryl and pivaloyl groups.
  • An aroyl group means a benzoyl or naphthoyl group.
  • An acyl group means a formyl group, a C 2-6 alkanoyl group or an aroyl group.
  • C 1-6 alkoxycarbonyl group means linear or branched C 2-6 alkyloxycarbonyl such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl and 1,1-dimethylpropoxycarbonyl groups Means group.
  • An aryloxycarbonyl group means a phenyloxycarbonyl or naphthyloxycarbonyl group.
  • the C 1-6 alkylamino group is a linear or branched chain such as methylamino, ethylamino, propylamino, isopropylamino, butylamino, sec-butylamino, tert-butylamino, pentylamino and hexylamino groups.
  • Di (C 1-6 alkyl) amino group means dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, diisopropylamino, dibutylamino, di (tert-butyl) amino, dipentylamino, dihexylamino, (ethyl) (methyl) amino and A linear or branched di (C 1-6 alkyl) amino group such as a (methyl) (propyl) amino group is meant.
  • the C 1-6 alkylthio group means a C 1-6 alkylthio group such as methylthio, ethylthio and propylthio groups.
  • the C 1-3 alkylsulfonyl group means a C 1-3 alkylsulfonyl group such as methylsulfonyl and ethylsulfonyl groups.
  • the C 1-6 alkylsulfonyl group means a C 1-6 alkylsulfonyl group such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl and propylsulfonyl groups.
  • the arylsulfonyl group means benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl or naphthalenesulfonyl group.
  • the C 1-6 alkylsulfonyloxy group means a C 1-6 alkylsulfonyloxy group such as methylsulfonyloxy, ethylsulfonyloxy and propylsulfonyloxy groups.
  • the arylsulfonyloxy group means benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy or naphthalenesulfonyloxy group.
  • Monocyclic nitrogen-containing heterocyclic groups are azetidinyl, pyrrolidinyl, pyrrolinyl, pyrrolyl, piperidyl, tetrahydropyridyl, pyridyl, homopiperidinyl, octahydroazosyl, pyrazolyl, piperazinyl, pyrazinyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, homopiperazinyl, triazolyl and tetrazolyl groups
  • a monocyclic nitrogen-containing heterocyclic group containing only a nitrogen atom as a hetero atom forming a ring such as The monocyclic oxygen-containing heterocyclic group means a tetrahydrofuranyl, furanyl, tetrahydropyranyl or pyranyl group.
  • the monocyclic sulfur-containing heterocyclic group means a thienyl group and the like.
  • a monocyclic nitrogen-containing / oxygen heterocyclic group is a monocyclic nitrogen-containing / oxygen heterocyclic group containing only a nitrogen atom and an oxygen atom as heterogeneous atoms forming a ring such as oxazolyl, isoxazolyl, osadiazolyl and morpholinyl groups. Means group.
  • Bicyclic nitrogen-containing heterocyclic group includes indolinyl, indolyl, isoindolinyl, isoindolyl, benzimidazolyl, indazolyl, benzotriazolyl, quinolyl, tetrahydroquinolinyl, quinolyl, tetrahydroisoquinolinyl, isoquinolinyl, quinolidinyl, It means a bicyclic heterocyclic group containing only a nitrogen atom as a hetero atom forming a ring such as cinnolinyl, furatazinyl, quinazolinyl, dihydroquinoxalinyl, quinoxalinyl, naphthyridinyl, purinyl, pteridinyl and quinuclidinyl groups.
  • Bicyclic oxygen-containing heterocyclic groups include rings such as 2,3-dihydrobenzofuranyl, benzofuranyl, isobenzofuranyl, 1,3-benzodioxanyl and 1,4-benzodioxanyl groups.
  • the bicyclic sulfur-containing heterocyclic group is a bicyclic sulfur-containing heterocyclic group containing only a sulfur atom as a hetero atom forming a ring such as 2,3-dihydrobenzothienyl and benzothienyl groups. means.
  • Bicyclic nitrogen-containing / sulfur heterocyclic groups include bicyclic inclusions containing only nitrogen and sulfur atoms as heterogeneous atoms forming a ring such as benzothiazolyl, benzisothiazolyl, and benzothiadiazolyl. Nitrogen / sulfur heterocyclic group.
  • a bicyclic heterocyclic group is a bicyclic nitrogen-containing heterocyclic group, a bicyclic oxygen-containing heterocyclic group, a bicyclic sulfur-containing heterocyclic group, or a bicyclic nitrogen-containing group. -An oxygen heterocyclic group or a bicyclic nitrogen-containing / sulfur heterocyclic group.
  • the heterocyclic group means a monocyclic heterocyclic group or a bicyclic heterocyclic group.
  • a C 3-8 cycloalkyl ring means a cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane or cyclooctane ring.
  • a C 5-8 cycloalkyl ring means a cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane or cyclooctane ring.
  • a non-aromatic sulfur-containing heterocycle means a tetrahydrothiophene ring or the like.
  • the non-aromatic nitrogen-containing / oxygen heterocyclic ring means a non-aromatic nitrogen-containing / oxygen heterocyclic ring containing only a nitrogen atom and a sulfur atom as hetero atoms forming a ring such as morpholine and oxazepan ring.
  • the non-aromatic nitrogen-containing / sulfur heterocyclic ring means a thiomorpholine ring or the like.
  • Non-aromatic heterocycle means non-aromatic nitrogen-containing heterocycle, non-aromatic oxygen-containing heterocycle, non-aromatic sulfur-containing heterocycle, non-aromatic nitrogen-containing / oxygen heterocycle or non-aromatic nitrogen-containing / sulfur heterocycle. Means a ring.
  • the silyl group means trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, tributylsilyl, tert-butyldimethylsilyl or tert-butyldiphenylsilyl group.
  • the leaving group means a halogen atom, a C 1-6 alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group. These groups may be substituted with one or more groups selected from the substituent group B.
  • Hydroxy protecting groups include all groups that can be used as protecting groups for conventional hydroxy groups. W. Greene et al., Protective Groups in Organic Synthesis, 4th edition, 16-366, 2007, John Wiley & Sons , INC.). Specific examples include a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, an al C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group, an acyl group, a C 1-6 alkoxycarbonyl group, Examples thereof include a C 1-6 alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydropyranyl group, and a silyl group. These groups may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • Amino protecting groups include all groups that can be used as protecting groups for ordinary amino groups. W. Greene et al., Protective Groups in Organic Synthesis, 4th edition, pages 696-926, 2007, John Wiley & Sons , INC.). Specific examples include an al C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a C 1-6 alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or Examples include silyl groups. These groups may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the carboxy protecting group includes all groups that can be used as protecting groups for ordinary carboxy groups. W. Greene et al., Protective Groups in Organic Synthesis 4th Edition, 533-646, 2007, John Wiley & Sons , INC.). Specific examples include a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, an aryl group, an al C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxy C 1-6 alkyl group, a silyl group, and the like. These groups may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • each substituent group has the following meaning.
  • Substituent group A one or more groups selected from a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an amino group that may be protected, a hydroxy group that may be protected, a carboxy group that may be protected, and a substituent group B
  • Substituent group B halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, aryl group which may be substituted with a halogen atom, a C 1 optionally substituted by a halogen atom -6 alkoxy groups.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbons include pentane, hexane, and cyclohexane.
  • Examples of halogenated hydrocarbons include methylene chloride, chloroform or 1,2-dichloroethane.
  • Examples of alcohols include methanol, ethanol, propanol, 2-propanol, butanol or 2-methyl-2-propanol.
  • Examples of ethers include diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, anisole, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether.
  • esters examples include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate.
  • ketones examples include acetone, 2-butanone and 4-methyl-2-pentanone.
  • nitriles examples include acetonitrile.
  • amides include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone.
  • sulfoxides examples include dimethyl sulfoxide.
  • Aromatic hydrocarbons include benzene, toluene or xylene.
  • ureas examples include 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone.
  • organic acids include formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, phthalic acid, fumaric acid, oxalic acid, tartaric acid, maleic acid, citric acid, succinic acid, malic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid or It means camphor sulfonic acid and the like.
  • An acid means an inorganic acid or an organic acid.
  • Inorganic base means sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, tripotassium phosphate, tert-butoxy potassium, sodium ethoxide, sodium methoxide or sodium hydride, etc. To do.
  • the organic base examples include propylamine, diethylamine, dibutylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 2,6-lutidine, 4-dimethylaminopyridine, tetraethylammonium hydroxide, diazabicycloundecene, diazabicyclononene, guanidine, N-methylimidazole, morpholine, N-methylmorpholine and the like can be mentioned.
  • the base means an inorganic base or an organic base.
  • the C 1-3 alkylsulfonyl group and arylsulfonyl group of R 8 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the acyl group of R 9 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • the C 2-3 alkylene group of Y 1 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • preferable compounds include the following compounds.
  • R 2 and R 3 together are represented by the general formula (4) (Wherein, X 1 and * have the same meaning as described above) are preferred.
  • R 5 is an aryl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A
  • a phenyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A Are more preferable
  • a compound that is a phenyl group which may be substituted with one or more groups selected from the substituent group B is more preferable.
  • preferred production methods include the following production methods.
  • a production method using a compound in which R 1a and R 1b are carboxy protecting groups is preferred.
  • the carboxy protecting group for R 1a and R 1b is a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A, and one or more groups selected from the substituent group A.
  • a silyl group that may be substituted with a group is preferred, a C 1-6 alkyl group that may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A is more preferred, and a C 1-6 alkyl group is more preferred.
  • a C 1-3 alkyl group is particularly preferred.
  • R 4a , R 4b and R 4c are each a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A, and one or more groups selected from substituent group A
  • a C 2-6 alkenyl group which may be substituted with one or more, an al C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, and one or more selected from Substituent Group A
  • a C 1-6 alkoxycarbonyl group which may be substituted with one group
  • a C 1-6 alkylsulfonyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A, and one selected from Substituent Group A
  • a production method using a compound in which R 5 is an aryl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A is preferred, and R 5 is substituted with one or more groups selected from Substituent Group A.
  • a production method using a compound that is a good phenyl group is more preferred, and a production method using a compound that is a phenyl group optionally substituted with one or more groups selected from the substituent group B is more preferred.
  • a production method using a compound in which R 6 is a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A is preferred, and one or more groups selected from substituent group B
  • the production method using a compound which is a C 1-6 alkyl group which may be substituted with is more preferable, the production method using a compound which is a C 1-6 alkyl group is more preferable, and the compound which is a C 1-3 alkyl group is The production method used is more preferred.
  • a production method using a compound in which R 7 is a C 1-3 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from substituent group A is preferred, and one or more groups selected from substituent group B
  • a production method using a compound having a C 1-3 alkyl group which may be substituted with is more preferred, and a production method using a compound having a C 1-3 alkyl group is more preferred.
  • R 8 is a C 1-3 alkylsulfonyl group which may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A or an arylsulfonyl which may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A
  • a production method using a compound which is a group is preferred, and a C 1-3 alkylsulfonyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group B or one or more groups selected from Substituent Group B
  • a production method using a compound which is an arylsulfonyl group which may be substituted is more preferable, and a production method using a compound which is an arylsulfonyl group which may be substituted with one or more groups selected from the substituent group B is more preferable.
  • a production method using a compound in which R 9 is an acyl group which may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A is preferred, and R 9 is substituted with one or more groups selected from Substituent Group B.
  • a production method using a compound having a good C 2-6 alkanoyl group is more preferred, and a production method using a compound having a C 2-6 alkanoyl group is more preferred.
  • the compound represented by the general formula (1c) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (8) with the compound represented by the general formula (9) in the presence of a base.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides and aromatic hydrocarbons, and these solvents may be used in combination.
  • Preferred solvents include ethers, esters, ketones, nitriles and amides, with ethers being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but it may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (8). Is preferred.
  • Examples of the base used in this reaction include inorganic bases, preferably tert-butoxy potassium, sodium ethoxide and sodium methoxide, and more preferably tert-butoxy potassium.
  • the amount of the base used is 0.01 to 5 times mol, preferably 0.02 to 2 times mol, more preferably 0.03 to 1 times mol, of the compound represented by the general formula (8).
  • the amount of the compound represented by the general formula (9) is 1.0 to 2.0 times mol, preferably 1.0 to 1.5 times mol, more preferably 1.0 to 1.2 times the amount of the compound represented by the general formula (8). Double mole.
  • the reaction temperature may be ⁇ 20 to 100 ° C., preferably ⁇ 10 to 80 ° C., more preferably ⁇ 5 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the solvent used in the hydrogenation reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, ketones Nitriles, amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water and these solvents may be used in combination.
  • Preferred solvents include alcohols, ethers, esters, ketones, nitriles and amides, with alcohols and esters being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (1c). Is preferred.
  • Examples of the catalyst used in this reaction include ruthenium, rhodium, palladium, platinum and nickel catalysts, such as Raney nickel, palladium-carbon (Pd / C), rhodium-carbon (Rh / C), Adams catalyst (Adams 'catalyst: PtO 2 ) and Pearlman's catalyst (Pd (OH) 2 ) are preferred, and palladium-carbon and Pearlman's catalyst are more preferred.
  • the amount of the catalyst used is 0.001 to 10%, preferably 0.01 to 0.2%, more preferably 0.05 to 0.1% with respect to the compound represented by the general formula (1c).
  • the reaction temperature may be ⁇ 20 to 100 ° C., preferably ⁇ 10 to 80 ° C., more preferably ⁇ 5 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the solvent used in the hydrolysis reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • halogenated hydrocarbons alcohols, ethers, ketones, nitriles, amides, sulfoxides
  • Preferred solvents include alcohols, ethers, nitriles and water, with alcohols being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (1c). Is preferred.
  • Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids and organic acids, and hydrochloric acid, sulfuric acid, trifluoroacetic acid and p-toluenesulfonic acid are preferable.
  • the amount of the acid used is 0.001 to 2 times mol, preferably 0.005 to 1.5 times mol, more preferably 0.01 to 1 times mol, of the compound represented by the general formula (1c).
  • the reaction temperature may be ⁇ 20 to 100 ° C., preferably ⁇ 10 to 80 ° C., more preferably ⁇ 5 to 60 ° C.
  • the reaction time may be 5 minutes to 50 hours, preferably 5 minutes to 24 hours, and more preferably 5 minutes to 6 hours.
  • the compound represented by the general formula (17) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (15) with the compound represented by the general formula (16).
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles Amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include ethers, esters, ketones, nitriles and amides, with amides being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but it may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (15). Is preferred.
  • the amount of the compound represented by the general formula (16) is 0.8 to 5 times mol, preferably 0.9 to 4 times mol, more preferably 1 to 3 times that of the compound represented by the general formula (15). Double mole.
  • the reaction temperature may be 10 to 200 ° C, preferably 20 to 150 ° C, more preferably 30 to 100 ° C.
  • the reaction time may be 30 minutes to 24 hours, preferably 1 hour to 18 hours, and more preferably 1.5 hours to 12 hours.
  • the compound represented by the general formula (18) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (17) with a base.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • Preferred solvents include alcohols, ethers, esters, ketones, nitriles, amides and sulfoxides, with alcohols being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but it may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (17). Is preferred.
  • Examples of the base used in this reaction include inorganic bases and organic bases, and potassium carbonate, tert-butoxypotassium, triethylamine and pyridine are preferable.
  • the amount of the base used is 0.9 to 5 times mol, preferably 0.95 to 3 times mol, more preferably 1 to 2 times mol, of the compound represented by the general formula (17).
  • the compound represented by the general formula (10) can be produced by deprotecting the compound represented by the general formula (18).
  • Examples of the deprotection reaction include W.W. W. Greene et al., Protective Groups in Organic Synthesis, 4th edition, pages 272-279, 2007, John Wiley & Sons (John Wiley & Sons, INC.). Specific examples include a hydrolysis reaction using a base.
  • the solvent used in the hydrolysis reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, ketones, nitriles. , Amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferable solvents include alcohols, ethers, esters, ketones, nitriles, amides, sulfoxides and water, and a mixed solvent of alcohols and water is more preferable.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (18). Is preferred.
  • Examples of the base used for the hydrolysis reaction include inorganic bases, and sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable.
  • the amount of the base used is 1 to 20 times mol, preferably 1 to 15 times mol, more preferably 1 to 10 times mol, of the compound represented by the general formula (18).
  • the reaction temperature may be 10 to 200 ° C, preferably 20 to 150 ° C, more preferably 30 to 100 ° C.
  • the reaction time may be 10 minutes to 12 hours, preferably 20 minutes to 8 hours, more preferably 30 minutes to 4 hours.
  • Preferred solvents include ethers, esters, ketones, nitriles, amides and aromatic hydrocarbons, with esters and aromatic hydrocarbons being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (10). Is preferred.
  • Examples of the base used in this reaction include inorganic bases and organic bases, and sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium methoxide, triethylamine and pyridine are preferable.
  • the amount of the base used is 1 to 10 times mol, preferably 1 to 5 times mol, more preferably 1 to 3 times mol, of the compound represented by the general formula (10).
  • the amount of the compound represented by the general formula (11) is 0.9 to 5 times mol, preferably 0.95 to 3 times mol, more preferably 1 to 2 times the compound represented by the general formula (10). Double mole.
  • the reaction temperature may be -10 to 60 ° C, preferably 0 to 50 ° C, more preferably 10 to 40 ° C.
  • the reaction time may be 30 minutes to 12 hours, preferably 1 hour to 8 hours, more preferably 1.5 hours to 4 hours.
  • the compound represented by the general formula (7a) can be produced by reacting the compound represented by the general formula (12) with an acid, followed by a reduction reaction.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, ketones , Nitriles, amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water, and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferable solvents include alcohols, ethers and water, and a mixed solvent of ethers and water is more preferable.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but it may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (12). Is preferred.
  • Examples of the reducing agent used in this reaction include hydrogenated complex compounds such as lithium aluminum hydride, sodium triacetoxyborohydride, sodium cyanoborohydride and sodium borohydride; borane; sodium and sodium amalgam. It is done. Further, electrolytic reduction using copper or platinum as a cathode; catalytic reduction using Raney nickel, platinum oxide or palladium black, reduction using “zinc-acid”, or the like can also be used.
  • a preferred reducing agent is sodium borohydride.
  • a solid sodium borohydride or a solution of sodium borohydride can be used.
  • the amount of the reducing agent to be used is 1 to 5 times mol, preferably 1 to 4 times mol, more preferably 1 to 3 times mol, of the compound represented by the general formula (12).
  • Examples of the base used in the hydrolysis reaction include inorganic bases and organic bases, and sodium hydroxide, potassium carbonate and sodium methoxide are preferred.
  • the amount of the base used is 0.001 to 3 times mol, preferably 0.005 to 1 times mol, more preferably 0.01 to 0.5 times mol, of the compound represented by the general formula (7a).
  • R 1a and R 1b are carboxy protecting groups are preferred.
  • the carboxy protecting group for R 1a and R 1b is a C 1-6 alkyl group which may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A, and one or more groups selected from the substituent group A.
  • a silyl group that may be substituted with a group is preferred, a C 1-6 alkyl group that may be substituted with one or more groups selected from Substituent Group A is more preferred, and a C 1-6 alkyl group is more preferred.
  • a C 1-3 alkyl group is particularly preferred.
  • the C 1-6 alkyl group of R 6 may be substituted with one or more groups selected from the substituent group A.
  • R 6 is preferably a compound also C 1-6 alkyl group substituted by one or more groups selected from substituent group B, and more preferably compounds which are C 1-6 alkyl groups, C 1- More preferred are compounds that are 3 alkyl groups.
  • the amount of the compound represented by the general formula (9) to be used is 1.0 to 2.0 times mol, preferably 1.0 to 1.5 times mol, more preferably 1.0 to 1.5 times the amount of the compound represented by the general formula (20). 1.2 moles.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction.
  • aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, alcohols, ethers, esters, ketones , Nitriles, amides, sulfoxides, aromatic hydrocarbons, ureas and water and these solvents may be used as a mixture.
  • Preferred solvents include alcohols, ethers, esters, ketones, nitriles and water, with alcohols, ethers, esters and water being more preferred.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but may be 1 to 50 times (v / w), 1 to 15 times (v / w) the compound represented by the general formula (21). Is preferred.
  • the protecting group for the diol group represented by the above is easily deprotected by a base.
  • the protective group for the diol group represented by the general formula (19) is a step of deprotecting a benzylidene group or the like widely used as a protective group for the diol group (for example, a hydrogenation reaction using a catalyst and in the presence of an acid). In the hydrolysis reaction etc.), it is not deprotected.
  • the group represented by the general formula (19) as a protecting group for the diol group, the diol group can be selectively protected and deprotected even when two or more diol groups are present in the molecule. became.
  • the compound obtained by the above production method can be isolated and purified by a usual method such as extraction, crystallization, distillation or column chromatography.
  • the compound obtained by the above production may be used as it is in the next reaction without isolation.
  • the present invention can use any crystalline form, hydrate or solvate.
  • Example 3 To a solution of 53.0 g of dimethyl 2-((4R, 5S) -5-hydroxy-4- (hydroxymethyl) -1,3-dioxane-2-yl) malonate in 800 mL of methylene chloride was added 112 mL of triethylamine at ⁇ 5 ° C. or less. Thereafter, a solution of 21.8 mL of thionyl chloride in 500 mL of methylene chloride was added dropwise at -5 ° C or lower. After stirring at 5 ° C. or lower for 20 minutes, water was added to the reaction mixture.
  • Example 6 1.24 g of (2R, 3S, 4S) -3,4-bis (benzyloxy) -2-((benzyloxy) methyl) tetrahydrothiophene and dimethyl 2-((4aR, 8aS) -2,2-dioxidetetrahydro [ 1,3] Dioxino [5,4-d] [1,3,2] dioxathin-6-yl) malonate 1.01 g of acetone in 1.5 mL was added at 25 ° C. with 31 ⁇ L of 2,6-lutidine at 70 ° C. Stir for 24 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and the solvent was distilled off under reduced pressure.
  • Example 7 (4S, 5S) -4-(((1S, 2R, 3S, 4S) -3,4-bis (benzyloxy) -2-((benzyloxy) methyl) tetrahydro-1H-thiophen-1-ium-1 -Yl) methyl) -2- (1,3-dimethoxy-1,3-dioxopropan-2-yl) -1,3-dioxane-5-yl sulfate in 440 mg of methanol in 4.4 mL of methanol at 25 ° C. Diethylamine (73 ⁇ L) was added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 1 hour.
  • Example 8 (2S, 3S) -4-((1R, 2R, 3S, 4S) -3,4-bis (benzyloxy) -2-((benzyloxy) methyl) tetrahydro-1H-thiophen-1-ium-1- Yl) -1,3-dihydroxybutan-2-yl sulfate (240 mg) in acetic acid (1 mL) was added 20% palladium hydroxide / carbon (24 mg) at 25 ° C., and the mixture was stirred at 50 ° C. for 2 hours in a hydrogen atmosphere. The reaction mixture was cooled to room temperature and the insoluble material was removed by filtration. As a result of measuring 1 H-NMR and HPLC, disappearance of raw materials and production of salacinol were confirmed.
  • Example 10 (4S, 5S) -4-(((1S, 2R, 3S, 4S) -3,4-bis ((4-methoxybenzyl) oxy) -2-(((4-methoxybenzyl) oxy) methyl) tetrahydro -1H-thiophen-1-ium-1-yl) methyl) -2- (1,3-dimethoxy-1,3-dioxopropan-2-yl) -1,3-dioxan-5-yl sulfate 500 mg To a 5.0 mL methanol solution was added 74 ⁇ L of diethylamine at 25 ° C., and the mixture was stirred at 25 ° C. for 3 hours.
  • Example 14 Diethyl 2-((4R, 5S) -5-hydroxy-4- (hydroxymethyl) -1,3-dioxan-2-yl) malonate 2.45 g of methylene chloride in 40 mL of methylene chloride was added 4.44 mL of triethylamine at -5 ° C. or lower. After the addition, a solution of 913 ⁇ L of thionyl chloride in 21 mL of methylene chloride was added dropwise at ⁇ 5 ° C. After stirring at 5 ° C. or lower for 20 minutes, water was added to the reaction mixture.
  • Example 15 500 mg of (2R, 3S, 4S) -2- (hydroxymethyl) tetrahydrothiophene-3,4-diol and diethyl 2-((4aR, 8aS) -2,2-dioxidetetrahydro [1,3] dioxino [5 4-d] [1,3,2] dioxathin-6-yl) malonate 1.24 g of acetone and 1.5 mL of acetone were added with 31 ⁇ L of 2,6-lutidine at 25 ° C. and stirred at 70 ° C. for 13 hours.
  • the aqueous layer was separated and washed with ethyl acetate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. As a result of measuring 1 H-NMR and HPLC of the obtained residue, production of salacinol was confirmed, and the reaction rate was 97%.
  • Example 17 (3R, 4R, 5R) -5- (Hydroxymethyl) tetrahydrofuran-2,3,4-triol (120 g) in methanol (840 mL) was added dropwise acetyl chloride (22.0 mL) at 10 ° C. or lower, and at 20 to 30 ° C. for 2 hours. Stir. To the reaction mixture was added 63 mL of 28% sodium methoxide / methanol solution, methanol was distilled off under reduced pressure, and 800 mL of acetonitrile and 480 g of p-toluenesulfonyl chloride were added.
  • Example 19 S-(((2S, 3S, 4R) -5-methoxy-3,4-bis ((4-methylphenyl) sulfonyloxy) tetrahydrofuran-2-yl) methyl) Ethanethioate 119 g of methanol in 463 mL of methanol in nitrogen atmosphere Then, 30.2 g of potassium carbonate was added and stirred at 25 ° C. for 1 hour, and then stirred at 60 ° C. for 1 hour. The reaction mixture was cooled to 15 ° C., and 170 g of 50% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 25 ° C. or lower. The reaction mixture was stirred at 60 ° C.
  • the reaction mixture was cooled to 5 ° C., and 75 mL of 6 mol / L hydrochloric acid was added dropwise while maintaining the internal temperature at 20 ° C. or lower.
  • Ethyl acetate and water were added.
  • the organic layer was separated, washed successively with 25% aqueous sodium chloride solution, 7.5% aqueous sodium bicarbonate and 25% aqueous sodium chloride solution and 25% aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled under reduced pressure. Left.
  • 50 mL of ethyl acetate was added and dissolved by heating, and then 100 mL of hexane was added.
  • Example 21 (2R, 3S, 4S) -4-Hydroxy-2- (hydroxymethyl) tetrahydrothiophen-3-yl 4-methylbenzoate (2.68 g) was dissolved in a mixture of 15 mL of methanol and 10 mL of tetrahydrofuran, and 28% sodium methoxide / 58 mg of methanol solution was added and stirred at room temperature for 4 hours. The solvent was removed under reduced pressure. Ethyl acetate and water were added to the obtained residue. The aqueous layer was separated and washed with ethyl acetate. The organic layer was extracted with water.
  • Example 23 To a solution of 280 mg of dimethyl 2- (4-phenyl-1,3-dioxolan-2-yl) malonate in 2 mL of ethyl acetate and 2 mL of water was added 146 mg of diethylamine at 25 ° C., and the mixture was stirred at 25 ° C. for 2 hours. The organic layer was separated, washed successively with water, 1 mol / L hydrochloric acid and saturated aqueous sodium chloride solution and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. As a result of measuring 1 H-NMR of the obtained residue, it was confirmed that 1-phenylethane-1,2-diol was produced, and the reaction rate was 96%.
  • the compound of the present invention is useful as an intermediate for producing salacinol useful as a physiologically active substance, and the production method of the present invention is useful as a production method of salacinol.

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Abstract

　本発明の課題は、サラシノールの製造に有用な新規化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤を提供することである。一般式（１）（式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、水素原子またはカルボキシ保護基であり；Ｒ2は、ヒドロキシ基などであり、Ｒ3は、ヒドロキシ基などである。）で表される化合物は、サラシノールの製造に有用な化合物である。

Description

サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤
　本発明は、サラシノールの製造に有用な化合物およびそれらの製造法に関する。さらに、本発明は、サラシノールの製造法、ジオール基の保護方法および脱保護方法、並びにジオール基の保護剤に関する。
　インドの伝統医学ではサラシア属（Ｓａｌａｃｉａ）に属するツル性樹木であるサラシア・レティキュラータ（Ｓａｌａｃｉａ　ｒｅｔｉｃｕｌａｔａ）が糖尿病の治療に用いられている。サラシノールは、サラシア・レティキュラータなどのサラシア属植物に含まれる成分であり、強いα－グルコシダーゼ阻害活性を有する（非特許文献１）。サラシノールは、たとえば、サラシア属植物の抽出物より得られる（特許文献１）。しかし、サラシア属植物は供給量が少なく、容易に入手することが難しい。そのため、サラシノールおよびその類縁体の合成による製造法が種々検討されている（特許文献２、３および４）。
　特許文献２には、ベンジリデン基で保護された環状硫酸エステルにベンジル基で保護されたチオアラビニトール誘導体を反応させる製造法が記載されている。
　特許文献３には、ベンジリデン基で保護された環状硫酸エステルにベンジル基で保護されたチオアラビニトール誘導体を反応させる製造法が記載されている。
　特許文献４は、イソプロピリデン基で保護された環状硫酸エステルにチオ－Ｄ－アラビニトールを反応させる製造法が記載されている。
　アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基などの官能基を有する化合物を用いて有機合成を行う場合、その官能基が反応に影響を及ぼすことを防ぐために、通常、官能基を保護することが行われる。また、官能基が２以上ある場合、目的の官能基のみを選択的に反応させるため、他の官能基を保護することが行われる。
　保護基は、対象とする官能基を安定に保護するだけでなく、必要に応じて、容易に除去されることが必要である。そのため、特定の官能基に結合した保護基のみを、適当な条件で脱保護することは、有機合成において重要である。
　たとえば、アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基の保護基として、種々の保護基が開発されている（非特許文献２）。また、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基（以下、「ジオール基」と称することもある。）の保護基として、環状アセタール、環状ケタールおよび環状オルトエステルなどが知られている。
　ジオール基の保護基として、アルコキシカルボニルエチリデン基が知られている（非特許文献３）。
　一方、ｐ－トルエンスルホン酸の存在下、２－（ヒドロキシメチル）ヘプタノールにエトキシメチレンマロン酸ジエチルを反応させ、２－（５－ペンチル－１，３－ジオキサン－２－イル）マロン酸ジエチルを製造する方法が知られている（特許文献５）。
特許第３０３０００８号公報 特許第５０５３４９４号公報 特許第４９３９９３４号公報 特開２００２－１７９６７３号公報 ドイツ国特許ＤＥ１９５２５３１４号明細書
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，　Ｖｏｌ．３８，　Ｎｏ．４８．　ｐｐ．８３６７－８３７０（１９９７） Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，第４版，Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，ＩＮＣ（２００７） Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．２，　Ｎｏ．１８．　ｐｐ．２８０９－２８１１（２０００）
　特許文献２に記載の方法は、（１）収率が低い、（２）脱保護反応に水素添加反応を使用するため煩雑な操作が必要である、などの欠点を有する。この方法は、満足できるものではない。
　特許文献３に記載の方法は、（１）反応溶媒として、人体に対して有害であり、環境負荷が大きいヘキサフルオロイソプロパノールを使用する、などの欠点を有する。この方法は、満足できるものではない。
　特許文献４に記載の方法は、（１）収率が低い、（２）反応時間が長い、などの欠点を有する。この方法は、満足できるものではない。
　また、非特許文献３にも記載の通り、たとえば、塩基の存在下、アルコキシカルボニルエチリデン基によってジオール基を保護することができる。しかし、脱保護反応は、（１）過剰の塩基が必要である、（２）加熱が必要である、などの欠点を有する。また、ヒドロキシ基の保護基に比べ、ジオール基の保護基の種類は少ない。
　さらに、特許文献５において、得られた２－（５－ペンチル－１，３－ジオキサン－２－イル）マロン酸ジエチルは、引き続き、還元され、他の化合物に誘導される。この方法の目的は、ジオール基の保護ではない。
　従来のサラシノールの製造法は、（１）収率が低い、（２）煩雑な操作が必要である、（３）人体に対して有害であり、環境負荷が大きい溶媒を使用する、（４）反応時間が長い、などの問題点を有する。そのため、サラシノールのさらに優れた工業的製造法が強く求められている。さらに、ジオール基の保護方法および脱保護方法が強く求められている。
　本発明の課題は、サラシノールの製造に有用な新規化合物およびサラシノールの新規な製造法を提供することである。
　また、本発明の課題は、サラシノールの製造などに有用な、ジオール基の保護方法、保護剤および脱保護方法を提供することである。
　このような状況下において、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、一般式（１）で表される化合物および一般式（７ａ）で表される化合物が、サラシノールの製造のための有用な中間体であることを見出した。さらに本発明者らは、一般式（１ａ）で表される化合物および一般式（７ａ）で表される化合物から、サラシノールを工業的に製造することができることを見出した。さらに本発明者らは、サラシノールの製造などに有用な、ジオール基の保護方法および脱保護方法を見出し、本発明を完成させた。
　本発明は、下記を提供する。
［１］　一般式（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり；Ｒ2は、ヒドロキシ基であり、且つ、Ｒ3は、ヒドロキシ基であるか；Ｒ2は、一般式（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子またはヒドロキシ保護基であり；＊は、結合位置である。）で表される基であり、且つ、Ｒ3は、式（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 （式中、＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基であるか；または、Ｒ2およびＲ3は、一緒になって、一般式（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 （式中、Ｘ1は、一般式（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 （式中、Ｒ5は、置換されてもよいアリール基であり；＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基または式（６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 （式中、＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基であり；＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基である。）で表される化合物。
［２］　Ｒ1aおよびＲ1bが、同一または異なって、カルボキシ保護基である、［１］に記載の化合物。
［３］　Ｒ2およびＲ3が、ヒドロキシ基である、［１］または［２］に記載の化合物。
［４］　Ｒ2が、一般式（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 （式中、Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4cおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基であり；Ｒ3が、式（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 （式中、＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基である、［１］または［２］に記載の化合物。
［５］　Ｒ2およびＲ3が、一緒になって、一般式（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 （式中、Ｘ1および＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基である、［１］または［２］に記載の化合物。
［６］　Ｒ5が、置換されてもよいフェニル基である［１］、［２］または［５］に記載の化合物。
［７］　化合物が、ジメチル　２－（（４ａＳ，８ａＲ）－６－フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３］ジオキシン－２－イル）マロナート、ジメチル　２－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－ヒドロキシ－４－（ヒドロキシメチル）－１，３－ジオキサン－２－イル）マロナート、ジメチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナート、（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート、（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－２－（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート、（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－２－（（（４－メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート、ジエチル　２－（（４ａＳ，８ａＲ）－６－フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３］ジオキシン－２－イル）マロナート、ジエチル　２－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－ヒドロキシ－４－（ヒドロキシメチル）－１，３－ジオキサン－２－イル）マロナート、ジエチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナートおよび（４Ｓ，５Ｓ）－２－（１，３－ジエトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファートから選択される化合物である、［１］に記載の化合物。
［８］　一般式（１ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を、一般式（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることを特徴とする、サラシノールの製造法。
［９］　Ｒ1aおよびＲ1bが、カルボキシ保護基であり；Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cが、水素原子である、［８］に記載の製造法。
［１０］　一般式（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 （式中、Ｒ5は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を、一般式（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 （式中、Ｒ6は、置換されてもよいＣ1-6アルキル基であり；Ｒ1aおよびＲ1bは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｃ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ5は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｃ）で表される化合物を、脱保護反応させ、一般式（１ｄ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｄ）で表される化合物を、硫黄含有化合物と反応させ、必要に応じて酸化反応させ、一般式（１ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ａ）で表される化合物を、一般式（７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることを特徴とする、サラシノールの製造法。
［１１］　Ｒ5が、置換されてもよいフェニル基である、［１０］に記載の製造法。
［１２］　Ｒ1aおよびＲ1bが、カルボキシ保護基であり；Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cが、水素原子である、［１０］または［１１］に記載の製造法。
［１３］　一般式（７ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 （式中、Ｒ4baは、ｐ－トルオイル基である。）で表される化合物。
［１４］　一般式（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 （式中、Ｒ7は、置換されてもよいＣ1-3アルキル基である。）で表される化合物を、一般式（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 （式中、Ｌ1は、脱離基であり；Ｒ4baは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
 （式中、Ｒ4baおよびＲ7は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１２）で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させ、一般式（７ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 （式中、Ｒ4baは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（７ａ）で表される化合物を、脱保護反応させることを特徴とする、式（７ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 で表される化合物の製造法。
［１５］　一般式（１３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 （式中、Ｒ7は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を、一般式（１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
 （式中、Ｒ8は、置換されてもよいＣ1-3アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基であり；Ｌ2は、脱離基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 （式中、Ｒ7およびＲ8は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１５）で表される化合物を、一般式（１６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 （式中、Ｒ9は、置換されてもよいアシル基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 （式中、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１７）で表される化合物を、塩基と反応させ、一般式（１８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
 （式中、Ｒ7およびＲ8は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１８）で表される化合物を、脱保護反応させ、一般式（１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 （式中、Ｒ7は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１０）で表される化合物を、一般式（１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 （式中、Ｒ4baおよびＬ1は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物と反応させ、一般式（１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 （式中、Ｒ4baおよびＲ7は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１２）で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させ、一般式（７ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 （式中、Ｒ4baは、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（７ａ）で表される化合物を、脱保護反応させることを特徴とする、式（７ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 で表される化合物の製造法。
［１６］　１，２－ジオール基または１，３－ジオール基に、塩基の存在下、一般式（１９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基を反応させることを特徴とする、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の保護方法。
［１７］　一般式（２０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 （式中、Ｙ1は、置換されてもよいＣ2-3アルキレン基である。）で表される化合物の、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基に、塩基の存在下、一般式（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ6は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を反応させ、一般式（２１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＹ1は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を製造することを特徴とする、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の保護方法。
［１８］　一般式（９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ6は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を含有する、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の保護剤。
［１９］　一般式（１９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基によって保護された、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基に、塩基を反応させることを特徴とする、保護された１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の脱保護方法。
［２０］　一般式（２１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＹ1は、上記と同様な意味を有する。）で表される、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基が保護された化合物に、塩基を反応させ、一般式（２０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
 （式中、Ｙ1は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を製造することを特徴とする、保護された１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の脱保護方法。
　本発明の化合物は、サラシノールを製造するための中間体として有用である。本発明の製造法は、サラシノールの製造法として有用である。さらに本発明のジオール基の保護基は、新規な保護基であり、本発明の保護剤および方法は、ジオール基の保護基、保護方法および脱保護方法として有用である。
　以下、本発明を詳細に説明する。
　本発明において、特にことわらない限り、％は、質量百分率を意味する。
　本発明において、特にことわらない限り、各用語は、次の意味を有する。
　ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味する。
　Ｃ1-3アルキル基とは、メチル、エチル、プロピルまたはイソプロピル基を意味する。
　Ｃ1-6アルキル基とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ペンチルおよびヘキシル基などの直鎖状または分岐状のＣ1-6アルキル基を意味する。
　Ｃ2-6アルケニル基とは、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、１，３－ブタジエニル、ペンテニルおよびヘキセニル基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ2-6アルケニル基を意味する。
　Ｃ2-3アルキレン基とは、エチレンまたはプロプレン基を意味する。
　アリール基とは、フェニルまたはナフチル基などを意味する。
　アルＣ1-6アルキル基とは、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、フェネチルおよびナフチルメチル基などのアルＣ1-6アルキル基を意味する。
　Ｃ1-6アルコキシ基とは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、ペンチルオキシおよびヘキシルオキシ基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ1-6アルコキシ基を意味する。
　Ｃ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基とは、メトキシメチルおよび１－エトキシエチル基などのＣ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基を意味する。
　Ｃ2-6アルカノイル基とは、アセチル、プロピオニル、バレリル、イソバレリルおよびピバロイル基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ2-6アルカノイル基を意味する。
　アロイル基とは、ベンゾイルまたはナフトイル基などを意味する。
　アシル基とは、ホルミル基、Ｃ2-6アルカノイル基またはアロイル基などを意味する。
　Ｃ1-6アルコキシカルボニル基とは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルおよび１，１－ジメチルプロポキシカルボニル基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ2-6アルキルオキシカルボニル基を意味する。
　アリールオキシカルボニル基とは、フェニルオキシカルボニルまたはナフチルオキシカルボニル基などを意味する。
　Ｃ1-6アルキルアミノ基とは、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ｓｅｃ－ブチルアミノ、ｔｅｒｔ－ブチルアミノ、ペンチルアミノおよびヘキシルアミノ基などの直鎖状または分岐鎖状のＣ1-6アルキルアミノ基を意味する。
　ジ（Ｃ1-6アルキル）アミノ基とは、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ（ｔｅｒｔ－ブチル）アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、（エチル）（メチル）アミノおよび（メチル）（プロピル）アミノ基などの直鎖状または分岐鎖状のジ（Ｃ1-6アルキル）アミノ基を意味する。
　Ｃ1-6アルキルチオ基とは、メチルチオ、エチルチオおよびプロピルチオ基などのＣ1-6アルキルチオ基を意味する。
　Ｃ1-3アルキルスルホニル基とは、メチルスルホニルおよびエチルスルホニル基などのＣ1-3アルキルスルホニル基を意味する。
　Ｃ1-6アルキルスルホニル基とは、メチルスルホニル、エチルスルホニルおよびプロピルスルホニル基などのＣ1-6アルキルスルホニル基を意味する。
　アリールスルホニル基とは、ベンゼンスルホニル、ｐ－トルエンスルホニルまたはナフタレンスルホニル基などを意味する。
　Ｃ1-6アルキルスルホニルオキシ基とは、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシおよびプロピルスルホニルオキシ基などのＣ1-6アルキルスルホニルオキシ基を意味する。
　アリールスルホニルオキシ基とは、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ－トルエンスルホニルオキシまたはナフタレンスルホニルオキシ基などを意味する。
　単環の含窒素複素環式基とは、アゼチジニル、ピロリジニル、ピロリニル、ピロリル、ピペリジル、テトラヒドロピリジル、ピリジル、ホモピペリジニル、オクタヒドロアゾシル、ピラゾリル、ピペラジニル、ピラジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ホモピペラジニル、トリアゾリルおよびテトラゾリル基などの環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む単環の含窒素複素環式基を意味する。
　単環の含酸素複素環式基とは、テトラヒドロフラニル、フラニル、テトラヒドロピラニルまたはピラニル基などを意味する。
　単環の含硫黄複素環式基とは、チエニル基などを意味する。
　単環の含窒素・酸素複素環式基とは、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オイサジアゾリルおよびモルホリニル基などの環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む単環の含窒素・酸素複素環式基を意味する。
　単環の含窒素・硫黄複素環式基とは、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、チオモルホリニル、１－オキシドチオモルホリニルおよび１，１－ジオキシドチオモルホリニル基などの環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む単環の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
　単環の複素環式基とは、単環の含窒素複素環式基、単環の含酸素複素環式基、単環の含硫黄複素環式基、単環の含窒素・酸素複素環式基または単環の含窒素・硫黄複素環式基などを意味する。
　二環式の含窒素複素環式基とは、インドリニル、インドリル、イソインドリニル、イソインドリル、ベンズイミダゾリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、キノリル、テトラヒドロキノリニル、キノリル、テトラヒドロイソキノリニル、イソキノリニル、キノリジニル、シンノリニル、フラタジニル、キナゾリニル、ジヒドロキノキサリニル、キノキサリニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニルおよびキヌクリジニル基などの環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む二環式複素環式基を意味する。
　二環式の含酸素複素環式基とは、２，３－ジヒドロベンゾフラニル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、１，３－ベンゾジオキサニルおよび１，４－ベンゾジオキサニル基などの環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む二環式の含酸素複素環式基を意味する。
　二環式の含硫黄複素環式基とは、２，３－ジヒドロベンゾチエニルおよびベンゾチエニル基などの環を形成する異項原子として硫黄原子のみを含む二環式の含硫黄複素環式基を意味する。
　二環式の含窒素・酸素複素環式基とは、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾモルホリニル、ジヒドロピラノピリジル、ジヒドロジオキシノピリジルおよびジヒドロピリドオキサジニル基などの環を形成する異項原子として窒素原子および酸素原子のみを含む二環式の含窒素・酸素複素環式基を意味する。
　二環式の含窒素・硫黄複素環式基とは、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリルおよびベンゾチアジアゾリル基などの環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む二環式の含窒素・硫黄複素環式基を意味する。
　二環式の複素環式基とは、二環式の含窒素複素環式基、二環式の含酸素複素環式基、二環式の含硫黄複素環式基、二環式の含窒素・酸素複素環式基または二環式の含窒素・硫黄複素環式基などを意味する。
　複素環式基とは、単環の複素環式基または二環式の複素環式基を意味する。
　Ｃ3-8シクロアルキル環とは、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンまたはシクロオクタン環を意味する。
　Ｃ5-8シクロアルキル環とは、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンまたはシクロオクタン環を意味する。
　非芳香族含窒素複素環とは、アゼチジン、ピロリジン、ピペリジン、ホモピペリジン、ピペラジンおよびホモピペラジン環などの環を形成する異項原子として窒素原子のみを含む非芳香族含窒素複素環を意味する。
　非芳香族含酸素複素環とは、オキセタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３－ジオキサンおよび１，４－ジオキサン環などの環を形成する異項原子として酸素原子のみを含む非芳香族含酸素複素環を意味する。
　非芳香族含硫黄複素環とは、テトラヒドロチオフェン環などを意味する。
　非芳香族含窒素・酸素複素環とは、モルホリンおよびオキサゼパン環などの環を形成する異項原子として窒素原子および硫黄原子のみを含む非芳香族含窒素・酸素複素環を意味する。
　非芳香族含窒素・硫黄複素環とは、チオモルホリン環などを意味する。
　非芳香族複素環とは、非芳香族含窒素複素環、非芳香族含酸素複素環、非芳香族含硫黄複素環、非芳香族含窒素・酸素複素環または非芳香族含窒素・硫黄複素環を意味する。
　シリル基とは、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、トリブチルシリル、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルまたはｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基などを意味する。
　脱離基とは、ハロゲン原子、Ｃ1-6アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基を意味する。これらの基は、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　ヒドロキシ保護基としては、通常のヒドロキシ基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、16～366頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons, INC.）に記載されている基が挙げられる。
　具体例としては、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、アルＣ1-6アルキル基、Ｃ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基、アシル基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、Ｃ1-6アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　アミノ保護基としては、通常のアミノ基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、696～926頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons, INC.）に記載されている基が挙げられる。
　具体例としては、アルＣ1-6アルキル基、Ｃ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、Ｃ1-6アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはシリル基などがあげあれる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　カルボキシ保護基としては、通常のカルボキシ基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、533～646頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons, INC.）に記載されている基が挙げられる。
　具体例としては、Ｃ1-6アルキル基、Ｃ2-6アルケニル基、アリール基、アルＣ1-6アルキル基、Ｃ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基またはシリル基などが挙げられる。これらの基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　本明細書において、各置換基群は、次の意味を有する。
　置換基群Ａ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されてもよいアミノ基、保護されてもよいヒドロキシ基、保護されてもよいカルボキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキルアミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ（Ｃ1-6アルキル）アミノ基、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキルチオ基。
　置換基群Ｂ：ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、ハロゲン原子で置換されてもよいアリール基、ハロゲン原子で置換されてもよいＣ1-6アルコキシ基。
　脂肪族炭化水素類としては、ペンタン、ヘキサンまたはシクロヘキサンなどが挙げられる。
　ハロゲン化炭化水素類としては、塩化メチレン、クロロホルムまたは１，２－ジクロロエタンなどが挙げられる。
　アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、２－プロパノール、ブタノールまたは２－メチル－２－プロパノールなどが挙げられる。
　エーテル類としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルまたはジエチレングリコールジエチルエーテルなどが挙げられる。
　エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピルまたは酢酸ブチルなどが挙げられる。
　ケトン類としては、アセトン、２－ブタノンまたは４－メチル－２－ペンタノンなどが挙げられる。
　ニトリル類としては、アセトニトリルなどが挙げられる。
　アミド類としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドまたはＮ－メチルピロリドンなどが挙げられる。
　スルホキシド類としては、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
　芳香族炭化水素類としては、ベンゼン、トルエンまたはキシレンなどが挙げられる。
　尿素類としては、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンなどが挙げられる。
　無機酸としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、リン酸、硫酸、ホウ酸またはフッ化水素酸などを意味する。
　有機酸としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸またはカンファースルホン酸などを意味する。
　酸とは、無機酸または有機酸を意味する。
　無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウム、ｔｅｒｔ－ブトキシカリウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシドまたは水素化ナトリウムなどを意味する。
　有機塩基としては、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、２，６－ルチジン、４－ジメチルアミノピリジン、水酸化テトラエチルアンモニウム、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、グアニジン、Ｎ－メチルイミダゾール、モルホリンまたはＮ－メチルモルホリンなどが挙げられる。
　塩基とは、無機塩基または有機塩基を意味する。
　Ｒ5のアリール基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ6のＣ1-6アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ7のＣ1-3アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ8のＣ1-3アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ9のアシル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｙ1のＣ2-3アルキレン基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　一般式（１）で表される化合物において、好ましい化合物としては、以下の化合物が挙げられる。
　Ｒ1aおよびＲ1bが、カルボキシ保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ1aおよびＲ1bのカルボキシ保護基としては、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ2-6アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基がより好ましく、Ｃ1-6アルキル基がさらに好ましく、Ｃ1-3アルキル基が特に好ましくい。
　Ｒ2およびＲ3が、ヒドロキシ基である化合物が好ましい。
　Ｒ2が、一般式（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
 （式中、Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4cおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基であり、Ｒ3が式（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
 （式中、＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物が好ましい。
　Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cが、水素原子、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ2-6アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基である化合物が好ましく、水素原子、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ1-6アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基である化合物がより好ましく、水素原子またはアシル基である化合物がさらに好ましく、水素原子である化合物が特に好ましい。
　Ｒ2およびＲ3が、一緒になって、一般式（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
 （式中、Ｘ1および＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基である化合物が好ましい。
　Ｒ5が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基である化合物が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいフェニル基である化合物がより好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいフェニル基である化合物がさらに好ましい。
　本発明の製造法において、好ましい製造法としては以下の製造法が挙げられる。
　Ｒ1aおよびＲ1bが、カルボキシ保護基である化合物を用いる製造法が好ましい。
　Ｒ1aおよびＲ1bのカルボキシ保護基としては、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ2-6アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基がより好ましく、Ｃ1-6アルキル基がさらに好ましく、Ｃ1-3アルキル基が特に好ましくい。
　Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cが、水素原子、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ2-6アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシカルボニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基である化合物を用いる製造法が好ましく、水素原子、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ1-6アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、水素原子またはアシル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましく、水素原子である化合物を用いる製造法が特に好ましい。
　Ｒ5が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいフェニル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいフェニル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　Ｒ6が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、Ｃ1-6アルキル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、Ｃ1-3アルキル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　Ｒ7が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-3アルキル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-3アルキル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、Ｃ1-3アルキル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　Ｒ8が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-3アルキルスルホニル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-3アルキルスルホニル基または置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基である化合物を用いる製造法さらに好ましい。
　Ｒ9が、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基である化合物を用いる製造法が好ましく、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ2-6アルカノイル基である化合物を用いる製造法がより好ましく、Ｃ2-6アルカノイル基である化合物を用いる製造法がさらに好ましい。
　次に本発明の製造法について説明する。
製造法１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ5およびＲ6は、上記と同様な意味を有する。）
（１－１）
　一般式（９）で表される化合物としては、たとえば、メトキシメチレンマロン酸ジメチルが知られている。
　一般式（１ｃ）で表される化合物は、塩基の存在下、一般式（８）で表される化合物を一般式（９）で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、エーテル類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（８）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、無機塩基が挙げられ、ｔｅｒｔ－ブトキシカリウム、ナトリウムエトキシドおよびナトリウムメトキシドが好ましく、ｔｅｒｔ－ブトキシカリウムがより好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（８）で表される化合物に対して0.01～5倍モル、好ましくは、0.02～2倍モル、より好ましくは、0.03～1倍モルである。
　一般式（９）で表される化合物の使用量は、一般式（８）で表される化合物に対して1.0～2.0倍モル、好ましくは、1.0～1.5倍モル、より好ましくは、1.0～1.2倍モルである。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-10～80℃が好ましく、-5～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（１－２）
　一般式（１ｄ）で表される化合物は、一般式（１ｃ）で表される化合物を脱保護反応させることにより、製造することができる。
　脱保護反応としては、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、第299～366頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などが挙げられる。
　具体的には、たとえば、触媒を用いる水素添加反応および酸を用いる加水分解反応などが挙げられる。
　水素添加反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、アルコール類およびエステル類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される触媒としては、たとえば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白金およびニッケル触媒が挙げられ、ラネーニッケル、パラジウム－炭素（Pd/C）、ロジウム－炭素（Rh/C）、アダムス触媒（Adams' catalyst:PtO2）およびパールマン触媒（Paarlman's catalyst: Pd(OH)2）が好ましく、パラジウム－炭素およびパールマン触媒がより好ましい。
　触媒の使用量は、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して0.001～10％、好ましくは、0.01～0.2％、より好ましくは、0.05～0.1％である。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-10～80℃が好ましく、-5～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
　加水分解反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される酸としては、無機酸および有機酸が挙げられ、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸およびｐ－トルエンスルホン酸が好ましい。
　酸の使用量は、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して、0.001～2倍モル、好ましくは、0.005～1.5倍モル、より好ましくは、0.01～1倍モルである。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-10～80℃が好ましく、-5～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
　一般式（８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
 （式中、Ｒ5は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物の１，３－ジオール基を一般式（１９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される基で保護する方法は、一般式（Ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
 （式中、Ｒ5および＊は、上記と同様な意味を有する。）で表される１，３－ジオール基の保護基を分解することなく、一般式（１ｃ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ5は、上記と同様な意味を有する。）で表される化合物を製造することができる。
　さらに、一般式（１９）で表されるジオール基の保護基は、一般式（Ａ）で表されるジオール基の保護基を脱保護する工程（たとえば、触媒を用いる水素添加反応および酸の存在下の加水分解反応）において、安定である。
　ジオール基の保護基として、一般式（１９）で表される基を用いることにより、分子内に２以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
（１－３）
　一般式（１ａ）で表される化合物は、一般式（１ｄ）で表される化合物を、塩基の存在下、硫黄含有化合物と反応させ、必要に応じて酸化反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、有機塩基が挙げられ、トリエチルアミンおよびジイソプロピルアミンが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（１ｄ）で表される化合物に対して0.8～5倍モル、好ましくは、1～3倍モル、より好ましくは、1.2～2倍モルである。
　この反応に使用される硫黄含有化合物としては、たとえば、二塩化硫黄、塩化チオニル、塩化スルフリルおよび三酸化硫黄が挙げられ、塩化チオニルが好ましい。
　硫黄含有化合物の使用量は、一般式（１ｄ）で表される化合物に対して0.8～5倍モル、好ましくは、0.9～3倍モル、より好ましくは、1～2倍モルである。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-15～70℃が好ましく、-10～40℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
　硫黄含有化合物として、二塩化硫黄および塩化チオニルを用いる場合、酸化反応させることが好ましい。
　酸化反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル類および芳香族炭化水素類が挙げられ、ハロゲン化炭化水素類およびニトリル類がより好ましい。
　酸化反応に用いられる酸化剤としては、特に限定されないが、過マンガン酸カリウム、四酸化ルテニウムおよび塩化ルテニウム（III）－過ヨウ素酸ナトリウムなどが好ましい。
　酸化剤の使用量は、一般式（１ｄ）で表される化合物に対して0.005～0.2倍モル、好ましくは、0.01～0.1倍モル、より好ましくは、0.02～0.05倍モルである。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-10～80℃が好ましく、-5～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
（１－４）
　一般式（７）で表される化合物として、たとえば、（２Ｒ，４Ｓ）－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン－３，４－ジオールが知られている。
　一般式（１ｂ）で表される化合物は、塩基の存在下、一般式（１ａ）で表される化合物を一般式（７）で表される化合物と反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ケトン類、ニトリル類およびスルホキシド類が挙げられ、ケトン類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ａ）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　　この反応に使用される塩基としては、無機塩基および有機塩基が挙げられ、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ピリジン、２，６－ルチジンおよび４－ジメチルアミノピリジンが好ましく、２，６－ルチジンがより好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（１ａ）で表される化合物に対して0.01～5倍モル、好ましくは、0.02～2倍モル、より好ましくは、0.03～1倍モルである。
　一般式（７）で表される化合物の使用量は、一般式（１ａ）で表される化合物に対して0.5～2倍モル、好ましくは、0.7～1.2倍モル、より好ましくは、0.8～1.1倍モルである。
　反応温度は、0～150℃であればよく、10～100℃が好ましく、25～80℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～72時間であればよく、30分間～50時間が好ましく、1時間～24時間がより好ましい。
　一般式（１ｂ）で表される化合物には、異性体（トランス体（１ｂ－１）およびシス体（１ｂ－２））が存在する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
 　本発明者らは、一般式（１ｂ－２）で表される化合物を加熱することにより、一般式（１ｂ－１）で表される化合物に変換されることを見出した。そのため、これらの異性体は、単離して次の反応に用いてもよいが、単離せずにそのまま次の反応に用いることが好ましい。
（１－５）
　サラシノールは、塩基の存在下、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることにより、製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類、エーテル類、エステル類および水がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１ｂ）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、無機塩基または有機塩基が挙げられ、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、２，６－ルチジン、４－ジメチルアミノピリジン、水酸化テトラエチルアンモニウム、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、グアニジンおよびモルホリンが好ましく、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンおよびモルホリンがより好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（１ｂ）で表される化合物に対して0.1～5倍モル、好ましくは、0.5～2倍モル、より好ましくは、0.8～1.5倍モルである。
　反応温度は、0～150℃であればよく、10～100℃が好ましく、25～80℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～72時間であればよく、30分間～50時間が好ましく、1時間～24時間がより好ましい。
　一般式（１９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表されるジオール基の保護基は、塩基により、容易に脱保護される。一方、ジオール基の保護基として汎用されるメチレン基、イロプロピリデン基（アセトニド）およびベンジリデン基などは、塩基により脱保護されにくい。
　ジオール基の保護基として、一般式（１９）で表される基を用いることにより、分子内に２以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
　一般式（１ｂ－２）で表される化合物を用いて反応を行った場合、サラシノールの異性体が生成する場合がある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
 　このような場合は、サラシノールの異性体は、単離せずに、そのまま加熱処理を行ってサラシノールに変換することが好ましい。
製造法２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
 （式中、Ｒ4ba、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｌ1およびＬ2は、上記と同様な意味を有する。）
（２－１）
　一般式（１３）で表される化合物としては、たとえば、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－（ヒドロキシメチル）－５－メトキシテトラヒドロフラン－３，４－ジオールが知られている。また、一般式（１３）で表される化合物は、系内で調製してもよい。
　一般式（１４）で表される化合物としては、たとえば、ｐ－トルエンスルホニルクロリドが知られている。
　一般式（１５）で表される化合物は、一般式（１３）で表される化合物を、塩基の存在下で、一般式（１４）で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、ニトリル類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１３）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、有機塩基が挙げられ、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジンおよびＮ－メチルイミダゾールが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（１３）で表される化合物に対して2.7～10倍モル、好ましくは、2.8～6倍モル、より好ましくは、2.9～4倍モルである。
　一般式（１４）で表される化合物の使用量は、一般式（１３）で表される化合物に対して2.7～10倍モル、好ましくは、3～6倍モル、より好ましくは、3～4倍モルである。
　反応温度は、-10～60℃であればよく、0～50℃が好ましく、10～40℃がより好ましい。
　反応時間は、30分間～24時間であればよく、1時間～12時間が好ましく、1.5時間～8時間がより好ましい。
（２－２）
　一般式（１６）で表される化合物としては、たとえば、チオ酢酸Ｓ－カリウムが知られている。
　一般式（１７）で表される化合物は、一般式（１５）で表される化合物を、一般式（１６）で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、アミド類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１５）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　一般式（１６）で表される化合物の使用量は、一般式（１５）で表される化合物に対して0.8～5倍モル、好ましくは、0.9～4倍モル、より好ましくは、1～3倍モルである。
　反応温度は、10～200℃であればよく、20～150℃が好ましく、30～100℃がより好ましい。
　反応時間は、30分間～24時間であればよく、1時間～18時間が好ましく、1.5時間～12時間がより好ましい。
（２－３）
　一般式（１８）で表される化合物は、一般式（１７）で表される化合物を塩基と反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類およびスルホキシド類が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１７）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、無機塩基および有機塩基が挙げられ、炭酸カリウム、ｔｅｒｔ－ブトキシカリウム、トリエチルアミンおよびピリジンが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（１７）で表される化合物に対して0.9～5倍モル、好ましくは、0.95～3倍モル、より好ましくは、1～2倍モルである。
　反応温度は、10～200℃であればよく、20～150℃が好ましく、30～100℃がより好ましい。
　反応時間は、30分間～12時間であればよく、1時間～8時間が好ましく、1.5時間～4時間がより好ましい。
　一般式［１８］で表される化合物は、単離して次の反応に用いてもよいが、単離せずにそのまま次の反応に用いることが好ましい。
（２－４）
　一般式（１０）で表される化合物は、一般式（１８）で表される化合物を脱保護反応させることにより製造することができる。
　脱保護反応としては、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、第272～279頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などが挙げられる。
　具体的には、たとえば、塩基を用いる加水分解反応などが挙げられる。
　加水分解反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および水が挙げられ、アルコール類および水の混合溶媒がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１８）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　加水分解反応に使用される塩基としては、無機塩基が挙げられ、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（１８）で表される化合物に対して1～20倍モル、好ましくは、1～15倍モル、より好ましくは、1～10倍モルである。
　反応温度は、10～200℃であればよく、20～150℃が好ましく、30～100℃がより好ましい。
　反応時間は、10分間～12時間であればよく、20分間～8時間が好ましく、30分間～4時間がより好ましい。
（２－５）
　一般式（１１）で表される化合物としては、たとえば、ｐ－トルオイルクロリドが知られている。
　一般式（１２）で表される化合物は、一般式（１０）で表される化合物を、塩基の存在下、一般式（１１）で表される化合物と反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、エステル類および芳香族炭化水素類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１０）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、無機塩基および有機塩基が挙げられ、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、トリエチルアミンおよびピリジンが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（１０）で表される化合物に対して1～10倍モル、好ましくは、1～5倍モル、より好ましくは、1～3倍モルである。
　一般式（１１）で表される化合物の使用量は、一般式（１０）で表される化合物に対して0.9～5倍モル、好ましくは、0.95～3倍モル、より好ましくは、1～2倍モルである。
　反応温度は、-10～60℃であればよく、0～50℃が好ましく、10～40℃がより好ましい。
　反応時間は、30分間～12時間であればよく、1時間～8時間が好ましく、1.5時間～4時間がより好ましい。
（２－６）
　一般式（７ａ）で表される化合物は、一般式（１２）で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させることにより製造することができる。
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類および水が挙げられ、エーテル類および水の混合溶媒がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（１２）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される酸としては、無機酸および有機酸が挙げられ、塩酸、硫酸、ｐ－トルエンスルホン酸およびカンファースルホン酸が好ましい。
　酸の使用量は、一般式（１２）で表される化合物に対して1～5倍モル、好ましくは、1～3倍モル、より好ましくは、1～2倍モルである。
　この反応に使用される還元剤としては、たとえば、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウムおよび水素化ホウ素ナトリウムなどの水素化錯化合物；ボラン；ナトリウムならびにナトリウムアマルガムが挙げられる。また、銅または白金を陰極に用いた電解還元；ラネーニッケル、酸化白金またはパラジウム黒を用いる接触還元ならびに「亜鉛－酸」を用いる還元などを用いることもできる。
　好ましい還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウムが挙げられる。水素化ホウ素ナトリウムの固体または水素化ホウ素ナトリウムの溶液を使用することができる。
　還元剤の使用量は、一般式（１２）で表される化合物に対して1～5倍モル、好ましくは、1～4倍モル、より好ましくは、1～3倍モルである。
　酸との反応の温度は、0～150℃であればよく、10～100℃が好ましく、20～80℃がより好ましい。
　酸との反応の時間は、10分間～12時間であればよく、20分間～8時間が好ましく、30分間～4時間がより好ましい。
　還元反応の温度は、-10～60℃であればよく、0～50℃が好ましく、10～40℃がより好ましい。
　還元反応の時間は、10分間～12時間であればよく、20分間～8時間が好ましく、30分間～4時間がより好ましい。
（２－７）
　式（７ｂ）で表される化合物は、一般式（７ａ）で表される化合物を脱保護反応させることにより製造することができる。
　脱保護反応としては、たとえば、Ｗ．グリーン（W.Greene）ら、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Protective Groups in Organic Synthesis）第4版、第255～265頁、2007年、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（John Wiley & Sons,INC.）に記載の方法などが挙げられる。
　具体的には、たとえば、塩基を用いる加水分解反応が挙げられる。
　加水分解反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類および水が挙げられ、アルコール類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（７ａ）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　加水分解反応に使用される塩基としては、無機塩基および有機塩基が挙げられ、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムおよびナトリウムメトキシドが好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（７ａ）で表される化合物に対して0.001～3倍モル、好ましくは、0.005～1倍モル、より好ましくは、0.01～0.5倍モルである。
　反応温度は、-10～80℃であればよく、0～60℃が好ましく、10～40℃がより好ましい。
　反応時間は、10分間～24時間であればよく、20分間～12時間が好ましく、30分間～8時間がより好ましい。
製造法３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）
　１，２－ジオール基または１，３－ジオール基に、塩基の存在下、一般式（１９）で表される基を反応させることにより、ジオール基を保護することができる。
　具体的には、一般式（２０）で表される化合物に、塩基の存在下、一般式（９）で表される化合物を反応させ、一般式（２１）で表される化合物を製造することにより、ジオール基を保護することができる。即ち、一般式（９）で表される化合物は、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の保護剤として有用である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ6およびＹ1は、上記と同様な意味を有する。）
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類および芳香族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類およびアミド類が挙げられ、エーテル類がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（２０）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される一般式（２０）で表される化合物としては、分子内にジオール基を有していれば、特に限定されない。
　具体的には、一般式（２０）で表される化合物は、たとえば、一般式（２０ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
 （式中、ｍは、０または１であり；ＲA、ＲBおよびＲCは、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されるアミノ基、保護されるヒドロキシ基、保護されるカルボキシ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ2-6アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアシル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキルアミノ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいジ（Ｃ1-6アルキル）アミノ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキルチオ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキルスルホニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリールスルホニル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい複素環式基であり；または、ＲAおよびＲBは、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ3-8シクロアルキル環または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。）で表すことができる。
　ＲA、ＲBおよびＲCが、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、保護されるアミノ基、保護されるヒドロキシ基、保護されるカルボキシ基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい複素環式基である化合物が好ましい。
　ＲAおよびＲBが、それらが結合する炭素原子と一緒になって、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ5-8シクロアルキル環または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい非芳香族複素環である化合物が好ましい。
　一般式（９）で表される化合物としては、以下の化合物が好ましい。
　Ｒ1aおよびＲ1bが、カルボキシ保護基である化合物が好ましい。
　Ｒ1aおよびＲ1bのカルボキシ保護基としては、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ2-6アルケニル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアリール基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいアルＣ1-6アルキル基、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルコキシＣ1-6アルキル基または置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいシリル基が好ましく、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基がより好ましく、Ｃ1-6アルキル基がさらに好ましく、Ｃ1-3アルキル基が特に好ましくい。
　Ｒ6のＣ1-6アルキル基は、置換基群Ａから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよい。
　Ｒ6が、置換基群Ｂから選ばれる一つ以上の基で置換されてもよいＣ1-6アルキル基である化合物が好ましく、Ｃ1-6アルキル基である化合物がより好ましく、Ｃ1-3アルキル基である化合物がさらに好ましい。
　一般式（９）で表される化合物の使用量は、一般式（２０）で表される化合物に対して、1.0～2.0倍モル、好ましくは、1.0～1.5倍モル、より好ましくは、1.0～1.2倍モルである。
　この反応に使用される塩基としては、無機塩基が挙げられ、ｔｅｒｔ－ブトキシカリウム、ナトリウムエトキシドおよびナトリウムメトキシドが好ましく、ｔｅｒｔ－ブトキシカリウムがより好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（２０）で表される化合物に対して、0.01～5倍モル、好ましくは、0.02～2倍モル、より好ましくは、0.03～1倍モルである。
　反応温度は、-20～100℃であればよく、-10～80℃が好ましく、-5～60℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～50時間であればよく、5分間～24時間が好ましく、5分間～6時間がより好ましい。
製造法４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）
　一般式（１９）で表される基によって保護された、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基に、塩基を反応させることにより、保護されたジオール基を脱保護することができる。
　具体的には、一般式（２１）で表される化合物に、塩基を反応させ、一般式（２０）で表される化合物を製造することにより、保護されたジオール基を脱保護することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＹ1は、上記と同様な意味を有する。）
　この反応に使用される溶媒としては、反応に影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
　好ましい溶媒としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類および水が挙げられ、アルコール類、エーテル類、エステル類および水がより好ましい。
　溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式（２１）で表される化合物に対して、1～50倍量（v/w）であればよく、1～15倍量（v/w）が好ましい。
　この反応に使用される塩基としては、無機塩基または有機塩基が挙げられ、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、２，６－ルチジン、４－ジメチルアミノピリジン、水酸化テトラエチルアンモニウム、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン、グアニジンおよびモルホリンが好ましく、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンおよびモルホリンがより好ましい。
　塩基の使用量は、一般式（２１）で表される化合物に対して0.1～5倍モル、好ましくは、0.5～2倍モル、より好ましくは、0.8～1.5倍モルである。
　反応温度は、0～150℃であればよく、10～100℃が好ましく、25～80℃がより好ましい。
　反応時間は、5分間～72時間であればよく、30分間～50時間が好ましく、1時間～24時間がより好ましい。
　一般式（１９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
 （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよび＊は、上記と同様な意味を有する。）で表されるジオール基の保護基は、塩基により、容易に脱保護される。一方、一般式（１９）で表されるジオール基の保護基は、ジオール基の保護基として汎用されるベンジリデン基などを脱保護する工程（たとえば、触媒を用いる水素添加反応および酸の存在下の加水分解反応など）において、脱保護されない。
　ジオール基の保護基として、一般式（１９）で表される基を用いることにより、分子内に２以上のジオール基が存在する場合においても、選択的にジオール基の保護および脱保護が可能になった。
　上記の製造法によって得られる化合物は、抽出、晶出、蒸留またはカラムクロマトグラフィーなどの通常の方法によって、単離精製することができる。また、上記の製造によって得られる化合物は、単離せずにそのまま次の反応に使用してもよい。
　上記の製造法によって得られる化合物に、結晶多形、水和物または溶媒和物が存在する場合、本発明は、すべての結晶形、水和物または溶媒和物を使用することができる。
　次に、本発明を参考例および実施例を挙げて説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
　特に記載のない場合、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにおける担体は、YAMAZEN社、FR-260 Hi-FlashTM Columnまたは和光純薬工業社、Wakogel C-200を使用した。
　溶離液における混合比は、容量比である。たとえば、「ヘキサン/酢酸エチル＝90/10～50/50」は、90％ヘキサン／10％酢酸エチルの溶離液を最終的に50％ヘキサン／50％酢酸エチルの溶離液へ変化させたことを意味する。
　NMRスペクトルは、内部基準としてテトラメチルシランを用い、Bruker AV300（Bruker社）またはJNM-AL400型（JEOL社）を用いて測定し、全δ値をppmで示した。
　各実施例において各略号は、以下の意味を有する。
Ａｃ：アセチル
Ｂｎ：ベンジル
Ｅｔ：エチル
Ｍｅ：メチル
Ｐｈ：フェニル
ＰＭＢ：４－メトキシベンジル
Ｔｏｌ：ｐ－トルオイル
Ｔｓ：４－メチルベンゼンスルホニル
ＤＭＳＯ－Ｄ6：重ジメチルスルホキシド
ｐｙｒｉｄｉｎｅ－Ｄ5：重ピリジン
ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー
参考例１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
 　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン－３，４－ジオール1.50gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド15mL溶液に、0℃で60％水素化ナトリウム2.00gを加え、5℃以下で1時間攪拌した後、0℃で臭化ベンジル4.50mLを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5～86/14）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－２－（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロチオフェン2.31gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.90(1H,dd,J=4.8,11.4Hz),3.04(1H,dd,J=5.0,11.4Hz),3.47-3.59(2H,m),3.69(1H,t,J=7.8Hz),4.10-4.21(2H,m),4.45-4.61(6H,m),7.25-7.35(15H,m)
参考例２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
 　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン－３，４－ジオール1.12gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド10mL溶液に、0℃で60％水素化ナトリウム1.49gを加え、5℃以下で30分攪拌した後、0℃で４－メトキシベンジルクロリド3.86mLを加え、25℃で6時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=95/5～86/14）で精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－２－（（（４－メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロチオフェン1.93gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.86(1H,dd,J=4.8,11.4Hz),3.03(1H,dd,J=5.2,11.4Hz),3.42-3.52(2H,m),3.64(1H,dd,J=7.2,8.1Hz),3.79-3.81(9H,m),4.03-4.16(2H,m),4.39-4.52(6H,m),6.84-6.87(6H,m),7.18-7.25(6H,m)
実施例１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
 　（４Ｓ，５Ｒ）－４－（ヒドロキシメチル）－２－フェニル－１，３－ジオキサン－５－オール20.0gおよびメトキシメチレンマロン酸ジメチル18.2gのテトラヒドロフラン200mL溶液に、25℃でｔｅｒｔ－ブトキシカリウム1.1gを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加え、テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体のジメチル　２－（（４ａＳ，８ａＲ）－６－フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３］ジオキシン－２－イル）マロナート21.3gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.75-3.81(11H,m),4.23-4.31(2H,m),5.30(1H,d,J=7.8Hz),5.60(1H,s),7.35-7.39(3H,m),7.44-7.50(2H,m)
実施例２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
 　ジメチル　２－（（４ａＳ，８ａＲ）－６－フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３］ジオキシン－２－イル）マロナート20.4gの酢酸エチル70mL溶液に、25℃で20%水酸化パラジウム/炭素1.24gを加え、水素雰囲気下（5MPa）で4時間攪拌した。不溶物を濾去した後、溶媒を減圧留去し、無色油状物のジメチル　２－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－ヒドロキシ－４－（ヒドロキシメチル）－１，３－ジオキサン－２－イル）マロナート15.7gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：2.40(1H,s),2.70(1H,s),3.44-3.56(2H,m),3.68(1H,d,J=7.2Hz),3.76-3.85(9H,m),4.11-4.21(1H,m),5.15(1H,d,J=7.2Hz)
実施例３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
 　ジメチル　２－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－ヒドロキシ－４－（ヒドロキシメチル）－１，３－ジオキサン－２－イル）マロナート53.0gの塩化メチレン800mL溶液に、-5℃以下でトリエチルアミン112mL加えた後、塩化チオニル21.8mLの塩化メチレン500mL溶液を-5℃以下で滴下した。5℃以下で20分攪拌した後、反応混合物に水を加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸、水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物の塩化メチレン265mLおよびアセトニトリル265mL混合溶液を、過ヨウ素酸ナトリウム159gおよび塩化ルテニウム(III)n水和物1.25gの水530mL溶液に、0℃で滴下し、20分攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを加え、5分攪拌した。不溶物を濾去した後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をメタノールおよび水から再結晶し、白色固体のジメチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナート42.3gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：3.70(1H,d,J=7.8Hz),3.77(3H,s),3.78(3H,s),3.82(1H,d,J=10.5Hz),4.01-4.11(1H,m),4.31(1H,dd,J=5.0,10.5Hz),4.56(1H,dd,J=5.0,10.5Hz),4.54-4.75(2H,m),5.27(1H,d,J=7.8Hz)
実施例４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
 　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン－３，４－ジオール500mgおよびジメチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナート1.14gのアセトン1.5mL溶液に、25℃で２，６－ルチジン31μLを加え、70℃で13時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、アセトンを加え、固形物を濾取し、白色固体の（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート1.20gを得た。
　1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、トランス／シス比は78/22であった。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.56-3.63(2H,m),3.62-3.73(8H,m),3.42-4.08(6H,m),4.14(1H,dd,J=5.3,10.2Hz),4.22-4.29(2H,m),4.47-4.53(1H,m),5.21(1H,d,J=7.5Hz),5.57(2H,s),6.13(2H,m)
実施例５
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
 （５－１）
　（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート（トランス/シス=78/22）2.90gの水14.5mLおよび酢酸エチル14.5mL混合溶液に、25℃でジエチルアミン756μLを加え、25℃で50分攪拌した。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体の（２Ｓ，３Ｓ）－４－（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）－１，３－ジヒドロキシブタン－２－イル　サルファート（サラシノール）1.05gを得た。
1H-NMR(pyridine-D5)δ値：4.32-4.39(3H,m),4.51-4.66(5H,m),4.75-4.82(1H,m),4.91-5.05(1H,m),5.09-5.14(2H,m),5.23-5.27(1H,m)
（５－２）
　（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート（トランス/シス=78/22）500mgの水2.5mLおよびメタノール2.5mL混合溶液に、25℃でトリエチルアミン220μLを加え、25℃で5時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は97％であった。
（５－３）
　（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート（トランス/シス=78/22）500mgの水2.5mLおよびトルエン2.5mL混合溶液に、25℃でプロピルアミン220μLを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は96％であった。
（５－４）
　（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート（トランス/シス=78/22）500mgの水2.5mLおよびトルエン2.5mL混合溶液に、25℃でジブチルアミン212μLを加え、25℃で4時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物のHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は85％であった。
（５－５）
　（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート（トランス/シス=78/22）1gの水10mL溶液を70℃で8時間攪拌した後、溶媒を減圧留去した。得られた油状物の水5mLおよびメタノール5mL混合溶液に、25℃でピリジン203μLおよびアニリン287μLを加え、50℃で13時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加えた。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物をメタノールから再結晶し、白色固体のサラシノール485mgを得た。
実施例６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
 　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－２－（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロチオフェン1.24gおよびジメチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナート1.01gのアセトン1.5mL溶液に、25℃で２，６－ルチジン31μLを加え、70℃で24時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=99/1～95/5）で精製し、無色油状物の（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－２－（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート1.32gを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.56-3.66(7H,m),3.72-3.76(2H,m),3.88-4.16(7H,m),4.24-4.38(2H,m),4.51-4.64(7H,m),4.76-4.79(1H,m),5.17(1H,d,J=7.2Hz),7.33-7.37(15H,m)
実施例７
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
 　（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－２－（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート440mgのメタノール4.4mL溶液に、25℃でジエチルアミン73μLを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0～92/8）で精製し、白色固体の（２Ｓ，３Ｓ）－４－（（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－２－（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）－１，３－ジヒドロキシブタン－２－イル　サルファート240mgを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.61-3.65(2H,m),3.74-4.05(6H,m),4.09-4.14(1H,m),4.17-4.23(1H,m),4.36-4.41(1H,m),4.50-4.80(9H,m)6.01(1H,d,J=6.0Hz),7.23-7.39(15H,m)
実施例８
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
 　（２Ｓ，３Ｓ）－４－（（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－２－（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）－１，３－ジヒドロキシブタン－２－イル　サルファート240mgの酢酸1mL溶液に、25℃で20%水酸化パラジウム/炭素24mgを加え、水素雰囲気下、50℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、不溶物を濾去した。
　1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、原料の消失およびサラシノールの生成が確認された。
実施例９
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
 　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－２－（（（４－メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロチオフェン1.00gおよびジメチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナート671mgのアセトン1mL溶液に、25℃で２，６－ルチジン18μLを加え、70℃で13時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=90/10）で精製し、白色固体の（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－２－（（（４－メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート1.10gを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.52-4.17(25H,m),4.21-4.28(2H,m),4.41-4.58(7H,m),4.64-4.69(1H,m),5.16(1H,d,J=7.5Hz),6.88-6.93(6H,m),7.16-7.28(6H,m)
実施例１０
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
 　（４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－２－（（（４－メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート500mgのメタノール5.0mL溶液に、25℃でジエチルアミン74μLを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム/メタノール=100/0～94/6）で精製し、白色固体の（２Ｓ，３Ｓ）－４－（（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－２－（（（４－メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）－１，３－ジヒドロキシブタン－２－イル　サルファート300mgを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：3.49-3.99(17H,m),4.06-4.21(2H,m),4.28-4.31(1H,m),4.38-4.66(8H,m),4.76-4.79(1H,m),6.00(1H,d,J=6.0Hz),6.30-6.93(6H,m),7.16-7.28(6H,m)
実施例１１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
 　（２Ｓ，３Ｓ）－４－（（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－２－（（（４－メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）－１，３－ジヒドロキシブタン－２－イル　サルファート300mgのトリフルオロ酢酸1.2mLおよび水0.2mL混合溶液を25℃で2時間攪拌した。
　1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、原料の消失およびサラシノールの生成が確認された。
実施例１２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
 　（４Ｓ，５Ｒ）－４－（ヒドロキシメチル）－２－フェニル－１，３－ジオキサン－５－オール5.00gおよびエトキシメチレンマロン酸ジエチル5.7gのテトラヒドロフラン50mL溶液に、25℃でｔｅｒｔ－ブトキシカリウム267mgを加え、25℃で1時間攪拌した。反応混合物にトルエンを加え、テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=16/84～33/67）で精製し、白色固体のジエチル　２－（（４ａＳ，８ａＲ）－６－フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３］ジオキシン－２－イル）マロナート3.54gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.24-1.31(6H,m),3.65(1H,d,J=7.8Hz),3.65-3.82(4H,m)4.19-4.27(6H,m),5.30(1H,d,J=7.8Hz),5.61(1H,s),7.35-7.39(3H,m),7.45-7.49(2H,m)
実施例１３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
 　ジエチル　２－（（４ａＳ，８ａＲ）－６－フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３］ジオキシン－２－イル）マロナート3.54gのメタノール18mL溶液に、25℃で0.5mol/L塩酸／メタノール溶液800μLを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物にトリエチルアミン50μLを加え、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=33/67～0/100）で精製し、無色油状物のジエチル　２－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－ヒドロキシ－４－（ヒドロキシメチル）－１，３－ジオキサン－２－イル）マロナート2.45gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.24-1.30(6H,m),2.37(1H,s),2.75(1Hs),3.44-3.56(2H,m),3.63(1H,d,J=7.5Hz),3.78-3.86(3H,m),4.16-4.26(5H,m),5.15(1H,d,J=7.5Hz)
実施例１４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
 　ジエチル　２－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－ヒドロキシ－４－（ヒドロキシメチル）－１，３－ジオキサン－２－イル）マロナート2.45gの塩化メチレン40mL溶液に、-5℃以下でトリエチルアミン4.44mLを加えた後、塩化チオニル913μLの塩化メチレン21mL溶液を、-5℃で滴下した。5℃以下で20分攪拌した後、反応混合物に水を加えた。有機層を分取し、1mol/L塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物の塩化メチレン10mLおよびアセトニトリル10mL混合溶液を、過ヨウ素酸ナトリウム6.64gおよび塩化ルテニウム(III)n水和物52.2mgの水25mL溶液に、0℃で滴下し、20分攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、水、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを加え、5分攪拌した。不溶物を濾去した後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=84/16～60/40）で精製し、白色固体のジエチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナート2.10gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：1.25-1.30(6H,m),3.65(1H,d,J=7.8Hz),3.80(1H,dd,J=10.5,10.5Hz),4.02-4.11(1H,m),4.18-4.35(5H,m),4.52-4.57(1H,m),4.63-4.72(2H,m),5.26(1H,d,J=7.8Hz)
実施例１５
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
 　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン－３，４－ジオール500mgおよびジエチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナート1.24gのアセトン1.5mL溶液に、25℃で２，６－ルチジン31μLを加え、70℃で13時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、アセトンを加え、固形物を濾取し、白色固体の（４Ｓ，５Ｓ）－２－（１，３－ジエトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート1.01gを得た。
1H-NMRを測定した結果、トランス／シス比は81/19であった。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：1.19(6H,dd,J=7.0,13.6Hz),3.54-4.21(17H,m),4.45-4.51(1H,m),5.20(1H,m),5.68-5.71(1H,m),6.12-6.14(2H,m)
実施例１６
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
 　（４Ｓ，５Ｓ）－２－（１，３－ジエトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート（トランス/シス=81/19）500mgの水2.5mLおよび酢酸エチル2.5mL混合溶液に、25℃でジエチルアミン123μLを加え、25℃で9時間攪拌した。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物の1H-NMRおよびHPLCを測定した結果、サラシノールの生成が確認され、反応率は、97％であった。
実施例１７
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
 　（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）－５－(ヒドロキシメチル)テトラヒドロフラン－２,３,４－トリオール120gのメタノール840mL溶液に、10℃以下で、アセチルクロリド22.0mLを滴下し、20～30℃で2時間攪拌した。反応混合物に28％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液63mLを加え、メタノールを減圧留去し、アセトニトリル800mLおよびｐ－トルエンスルホニルクロリド480gを加えた。内温を25℃以下に保ちながらトリエチルアミン323mLおよびＮ－メチルイミダゾール25.2mLの混合物を滴下した後、30℃で2.5時間攪拌した。反応混合物に水900mLを加え、30℃で2時間攪拌し、酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、25％塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にエタノール1.9Lを加え、加熱溶解し、冷却しながら晶析させた。内温35℃でメタノール800mLを加え、25℃で2時間攪拌した。固形物を濾取し、白色固体の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－２－メトキシ－５－（（（４－メチルフェニル）スルホニルオキシ）メチル）テトラヒドロフラン－３，４－ジイル　ビス（４－メチルベンゼンスルホナート）47gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.77-7.64(6H,m),7.41-7.32(6H,m),5.04(0.26H,t,J=6.9Hz),4.79(0.74H,dd,J=1.2,6.0Hz),4.80-4.65(2H,m),4.43(0.74H,m),4.34(0.26H,m),4.25-4.19(0.26H,m),4.12-4.04(1.74H,m),3.21(0.78H,s),3.16(2.22H,s),2.48-2.45(3H,m).
実施例１８
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
 　（３Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）－２－メトキシ－５－（（（４－メチルフェニル）スルホニルオキシ）メチル）テトラヒドロフラン－３，４－ジイル　ビス（４－メチルベンゼンスルホナート）200gのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド585mL溶液に窒素雰囲気下でチオ酢酸Ｓ－カリウム65.6gを加え、70℃で2時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水、25％塩化ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加えた。有機層を分取し、7.5％炭酸水素ナトリウム水溶液、1mol/L塩酸および25％塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、活性炭3gで処理した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去し、赤褐色油状物のＳ－（（（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－５－メトキシ－３，４－ビス（（４－メチルフェニル）スルホニルオキシ）テトラヒドロフラン－２－イル）メチル）　エタンチオアート161.5gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.79-7.69(4H,m),7.40-7.32(4H,m),5.04-4.75(3H,m),4.33-4.26(1H,m),3.24(2.13H,s),3.22(0.87H,s),3.19-2.98(2H,m),2.75-2.45(6H,m),2.31(0.87H,s),2.29(2.13H,s).
実施例１９
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
 　Ｓ－（（（２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）－５－メトキシ－３，４－ビス（（４－メチルフェニル）スルホニルオキシ）テトラヒドロフラン－２－イル）メチル）　エタンチオアート119gのメタノール463mL溶液に窒素雰囲気下で炭酸カリウム30.2gを加え、25℃で1時間攪拌した後、60℃で1時間攪拌した。反応混合物を15℃に冷却し、25℃以下で50％水酸化ナトリウム水溶液170gを滴下した。反応混合物を60℃で1時間攪拌した後、10℃に冷却した。不溶物を濾去し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にトルエンを加え、溶媒を減圧留去し、赤褐色油状物の（1Ｓ，４Ｓ，7Ｓ）－３－メトキシ－２－オキサ－５－チアビシクロ［２．２．１］ヘプタン－７－オール35.4gを得た。
　得られた（1Ｓ，４Ｓ，7Ｓ）－３－メトキシ－２－オキサ－５－チアビシクロ［２．２．１］ヘプタン－７－オールに、トルエン213mL、テトラブチルアンモニウムクロリド1.82gおよび50％水酸化ナトリウム水溶液70.4gを加えた。混合物を10℃に冷却し、攪拌した後、ｐ－トルエンスルホニルクロリド37.1gを、内温15℃以下を保ちながら滴下した。混合物を25℃に昇温し、水およびトルエンを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物にトルエンおよび水を加えた。有機層を分取し、25％塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、活性炭3gで処理した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去し、橙色油状物の（1Ｓ，４Ｓ，7Ｓ）－３－メトキシ－２－オキサ－５－チアビシクロ［２．２．１］ヘプタン－７－イル　４－メチルベンゾアート38.6gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.94-7.89(2H,m),7.27-7.22(2H,m),5.58(0.37H,t)5.43(0.63H,t),5.34(0.63H,d,J=2.4Hz),4.97(0.37H,s),4.74-4.71(0.37H,m),4.67-4.65(0.63H,m),3.81(0.63H,t,J=2.4Hz),3.59(0.37H,d,J=2.4Hz),3.54(1.89H,s),3.40(1.11H,s),3.09(1.26H,d,J=1.5Hz)3.02-2.91(0.74H,m),2.41(3H,s).
実施例２０
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
 　（1Ｓ，４Ｓ，7Ｓ）－３－メトキシ－２－オキサ－５－チアビシクロ［２．２．１］ヘプタン－７－イル　４－メチルベンゾアート38.6gのテトラヒドロフラン386mL溶液に2mol/L塩酸77mLを加え、50℃で1時間攪拌した。反応混合物を5℃に冷却し、炭酸水素ナトリウム15.6gを加えた後、水素化ホウ素ナトリウム10.4gを内温を20℃以下に保ちながら加えた。同温度で10分攪拌した後、25℃で1.5時間攪拌した。反応混合物を5℃に冷却し、6mol/L塩酸75mLを内温を20℃以下に保ちながら滴下した。酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、25％塩化ナトリウム水溶液、7.5％炭酸水素ナトリウム水溶液および25％塩化ナトリウム水溶液の混合液ならびに25％塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物に酢酸エチル50mLを加え、加熱溶解した後、ヘキサン100mLを加えた。固形物を濾取し、白色固体の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン－３－イル　４－メチルベンゾアート12.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.90(2H,d,J=7.8Hz),7.25(2H,d,J=7.8Hz),5.37(1H,t,J=2.7Hz),4.55-4.47(1H,m),4.15-4.06(1H,m),4.03-3.97(1H,m),3.79-3.73(1H,m),3.69-3.66(1H,m),3.34-3.28(1H,m),3.08-3.02(1H,m),2.91(1H,br),2.42(3H,s).
実施例２１
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
 　（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－４－ヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン－３－イル　４－メチルベンゾアート2.68gをメタノール15mLおよびテトラヒドロフラン10mLの混合液に溶解し、28％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液58mgを加え、室温で4時間攪拌した。溶媒を減圧留去した。得られた残留物に酢酸エチルおよび水を加えた。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄した。有機層を水で抽出した。水層および抽出液を併せ、減圧下で水を留去し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロチオフェン－３,４－ジオール1.48gを得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ値：5.12(1H,d,J=4.5Hz),5.08(1H,d,J=4.5Hz),4.82(1H,t),3.99-3.92(1H,m),3.76-3.68(2H,m),3.39-3.31(1H,m),3.11-3.04(1H,m),2.91-2.84(1H,m),2.59-2.52(1H,m).
実施例２２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
 　１－フェニルエタン－１，２－ジオール10ｇおよびメトキシメチレンマロン酸ジメチル10.2gのテトラヒドロフラン50mL溶液に、25℃でｔｅｒｔ－ブトキシカリウム2.4gを加え、25℃で5.5時間攪拌した。反応混合物にトルエン40mLを加え、テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水および１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、無色油状物のジメチル　２－（４－フェニル－１，３－ジオキソラン－２－イル）マロナート6.2gを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ値：7.39-7.33(5H,m),5.90(0.5H,d,J=6.9Hz),5.73(0.5H,d,J=6.9Hz),5.11(1H,m),4.44-4.25(1H,m),3.80-3.78(6H,m),3.77-3.72(2H,m).
実施例２３
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
 （２３－１）
　ジメチル　２－（４－フェニル－１，３－ジオキソラン－２－イル）マロナート280mgの酢酸エチル2mLおよび水2mL溶液に、25℃でジエチルアミン146mgを加え、25℃で2時間攪拌した。有機層を分取し、水、１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、１－フェニルエタン－１，２－ジオールの生成が確認され、反応率は96％であった。
（２３－２）
　ジメチル　２－（４－フェニル－１，３－ジオキソラン－２－イル）マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で28％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液232mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、１－フェニルエタン－１，２－ジオールの生成が確認され、反応率は100％であった。
（２３－３）
　ジメチル　２－（４－フェニル－１，３－ジオキソラン－２－イル）マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で炭酸カリウム166mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、１－フェニルエタン－１，２－ジオールの生成が確認され、反応率は93％であった。
（２３－４）
　ジメチル　２－（４－フェニル－１，３－ジオキソラン－２－イル）マロナート280mgのメタノール2mL溶液に、25℃で炭酸水素ナトリウム100mgを加え、25℃で3時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、水、１mol/L塩酸および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧留去した。
　得られた残留物の1H-NMRを測定した結果、１－フェニルエタン－１，２－ジオールの生成が確認され、反応率は92％であった。
　本発明の化合物は、生理活性物質として有用なサラシノールを製造するための中間体として有用であり、本発明の製造法は、サラシノールの製造法として有用である。

Claims (20)

  1. 一般式（１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、
    Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり；
    Ｒ2は、ヒドロキシ基であり、且つ、Ｒ3は、ヒドロキシ基であるか；
    Ｒ2は、一般式（２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子またはヒドロキシ保護基であり；＊は、結合位置である。）で表される基であり、且つ、Ｒ3は、式（３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であるか；または、
    Ｒ2およびＲ3は、一緒になって、一般式（４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｘ1は、一般式（５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ｒ5は、置換されてもよいアリール基であり；＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基または式（６）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり；＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である。）で表される化合物。
  2. Ｒ1aおよびＲ1bが、同一または異なって、カルボキシ保護基である、請求項１に記載の化合物。
  3. Ｒ2およびＲ3が、ヒドロキシ基である、請求項１または２に記載の化合物。
  4. Ｒ2が、一般式（２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子またはヒドロキシ保護基であり；＊は、結合位置である。）で表される基であり；
    Ｒ3が、式（３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     （式中、＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である、請求項１または２に記載の化合物。
  5. Ｒ2およびＲ3が、一緒になって、一般式（４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     （式中、Ｘ1は、一般式（５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式中、Ｒ5は、置換されてもよいアリール基であり；＊は、結合位置である。）で表される基または式（６）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     （式中、＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基であり；＊は、前記と同様な意味を有する。）で表される基である、請求項１または２に記載の化合物。
  6. Ｒ5が、置換されてもよいフェニル基である、請求項１、２または５に記載の化合物。
  7. 化合物が、
    ジメチル　２－（（４ａＳ，８ａＲ）－６－フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３］ジオキシン－２－イル）マロナート、
    ジメチル　２－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－ヒドロキシ－４－（ヒドロキシメチル）－１，３－ジオキサン－２－イル）マロナート、
    ジメチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナート、
    （４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート、
    （４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（ベンジルオキシ）－２－（（ベンジルオキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート、
    （４Ｓ，５Ｓ）－４－（（（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ビス（（４－メトキシベンジル）オキシ）－２－（（（４－メトキシベンジル）オキシ）メチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－２－（１，３－ジメトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファート、
    ジエチル　２－（（４ａＳ，８ａＲ）－６－フェニルテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３］ジオキシン－２－イル）マロナート、
    ジエチル　２－（（４Ｒ，５Ｓ）－５－ヒドロキシ－４－（ヒドロキシメチル）－１，３－ジオキサン－２－イル）マロナート、
    ジエチル　２－（（４ａＲ，８ａＳ）－２，２－ジオキシドテトラヒドロ［１，３］ジオキシノ［５，４－ｄ］［１，３，２］ジオキサチイン－６－イル）マロナートおよび
    （４Ｓ，５Ｓ）－２－（１，３－ジエトキシ－１，３－ジオキソプロパン－２－イル）－４－（（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）－３，４－ジヒドロキシ－２－（ヒドロキシメチル）テトラヒドロ－１Ｈ－チオフェン－１－イウム－１－イル）メチル）－１，３－ジオキサン－５－イル　サルファートから選択される化合物である、請求項１に記載の化合物。
  8. 一般式（１ａ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基である。）で表される化合物を、一般式（７）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
     （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子またはヒドロキシ保護基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｂ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     （式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることを特徴とする、サラシノールの製造法。
  9. Ｒ1aおよびＲ1bが、カルボキシ保護基であり；Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cが、水素原子である、請求項８に記載の製造法。
  10. 一般式（８）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
     （式中、Ｒ5は、置換されてもよいアリール基である。）で表される化合物を、一般式（９）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり；Ｒ6は、置換されてもよいＣ1-6アルキル基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｃ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
     （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ5は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｃ）で表される化合物を、脱保護反応させ、一般式（１ｄ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｄ）で表される化合物を、硫黄含有化合物と反応させ、必要に応じて酸化反応させ、一般式（１ａ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ａ）で表される化合物を、一般式（７）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
     （式中、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、同一または異なって、水素原子またはヒドロキシ保護基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１ｂ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
     （式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１ｂ）で表される化合物を脱保護反応させることを特徴とする、サラシノールの製造法。
  11. Ｒ5が、置換されてもよいフェニル基である、請求項１０に記載の製造法。
  12. Ｒ1aおよびＲ1bが、カルボキシ保護基であり；Ｒ4a、Ｒ4bおよびＲ4cが、水素原子である、請求項１０または１１に記載の製造法。
  13. 一般式（７ａ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
     （式中、Ｒ4baは、ｐ－トルオイル基である。）で表される化合物。
  14. 一般式（１０）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
     （式中、Ｒ7は、置換されてもよいＣ1-3アルキル基である。）で表される化合物を、一般式（１１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
     （式中、Ｒ4baは、ｐ－トルオイル基であり；Ｌ1は、脱離基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
     （式中、Ｒ4baおよびＲ7は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１２）で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させ、一般式（７ａ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
     （式中、Ｒ4baは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（７ａ）で表される化合物を、脱保護反応させることを特徴とする、式（７ｂ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
     で表される化合物の製造法。
  15. 一般式（１３）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
     （式中、Ｒ7は、置換されてもＣ1-3アルキル基である。）で表される化合物を、一般式（１４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
     （式中、Ｒ8は、置換されてもよいＣ1-3アルキルスルホニル基または置換されてもよいアリールスルホニル基であり；Ｌ2は、脱離基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１５）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
     （式中、Ｒ7およびＲ8は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１５）で表される化合物を、一般式（１６）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
     （式中、Ｒ9は、置換されてもよいアシル基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１７）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
     （式中、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１７）で表される化合物を、塩基と反応させ、一般式（１８）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
     （式中、Ｒ7およびＲ8は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１８）で表される化合物を、脱保護反応させ、一般式（１０）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
     （式中、Ｒ7は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１０）で表される化合物を、一般式（１１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
     （式中、Ｒ4baは、ｐ－トルオイル基であり；Ｌ1は、脱離基である。）で表される化合物と反応させ、一般式（１２）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
     （式中、Ｒ4baおよびＲ7は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（１２）で表される化合物を、酸と反応させた後、還元反応させ、一般式（７ａ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
     （式中、Ｒ4baは、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を得た後、一般式（７ａ）で表される化合物を、脱保護反応させることを特徴とする、式（７ｂ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
     で表される化合物の製造法。
  16. 　１，２－ジオール基または１，３－ジオール基に、塩基の存在下、一般式（１９）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり：＊は、結合位置である。）で表される基を反応させることを特徴とする、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の保護方法。
  17. 　一般式（２０）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
     （式中、Ｙ1は、置換されてもよいＣ2-3アルキレン基である。）で表される化合物の、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基に、塩基の存在下、一般式（９）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり；Ｒ6は、置換されてもよいＣ1-6アルキル基である。）で表される化合物を反応させ、一般式（２１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
     （式中、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＹ1は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を製造することを特徴とする、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の保護方法。
  18. 　一般式（９）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり：Ｒ6は、置換されてもよいＣ1-6アルキル基である。）で表される化合物を含有する、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の保護剤。
  19. 　一般式（１９）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり：＊は、結合位置である。）で表される基によって保護された、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基に、塩基を反応させることを特徴とする、保護された１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の脱保護方法。
  20. 　一般式（２１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
     （式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、同一または異なって、水素原子またはカルボキシ保護基であり：Ｙ1は、置換されてもよいＣ2-3アルキレン基である。）で表される、１，２－ジオール基または１，３－ジオール基が保護された化合物に、塩基を反応させ、一般式（２０）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
     （式中、Ｙ1は、前記と同様な意味を有する。）で表される化合物を製造することを特徴とする、保護された１，２－ジオール基または１，３－ジオール基の脱保護方法。
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