WO2015029704A1

WO2015029704A1 - 表示パネル

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Publication number: WO2015029704A1
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Inventors: 寿史渡辺; 昌行兼弘; 仲西　洋平
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Filing date: 2014-08-04
Publication date: 2015-03-05
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Abstract

　表示パネル（１０）は、基板（１１）および基板上に保持された表示媒体層（１４）を備え、表示領域（ＲＡ）および表示領域の外側の額縁領域（ＲＦ）が規定されており、額縁領域の内側において基板および表示媒体層を貫通する孔（１０Ａ）が形成されており、孔を囲むように配置された孔周辺シール部を備え、孔周辺シール部は、孔を囲む環状または少なくとも１つの開放部（２３Ａ）を有する途切れた環状の第１シール部（１３Ａ）と、第１シール部が規定する環の一部または少なくとも１つの開放部に対応する位置に設けられた少なくとも１つの第２シール部（１９Ａ、３３）とを含む。

Description

表示パネル

　本発明は、表示領域に孔が設けられた表示パネルに関する。

　一般に、透過型の液晶表示装置は、液晶パネル、バックライトユニット、液晶パネルに各種の電気信号を供給するための回路基板や電源、および、これらを収容する筐体などを備えている。

　液晶パネルには、複数の画素が配列された表示領域（アクティブエリア）と、その外側に位置する額縁領域（非アクティブエリア）とが設けられている。表示領域には、画素電極やＴＦＴなどが設けられており、画像や映像が表示される。一方、額縁領域には、液晶材料を基板間に封止するためのシール材、走査線または信号線に接続された配線やモノリシックに形成された駆動回路、外部駆動回路に接続される端子などが配置されており、画像や映像の表示のために用いられない。

　液晶パネルの額縁領域は、表示に寄与しない領域であるので、狭小化されることが好ましい。しかし、液晶パネルの狭額縁化が年々進んではいるものの、額縁領域を無くすことは原理的に困難である。

　以前から、表示パネルの額縁領域を狭小化する、あるいは、目立たなくする方法が検討されている。本出願人は、特許文献１において、表示パネルの観察者側に透光性カバーを設ける表示装置を開示している。この表示装置において、透光性カバーの端部には、レンズとして機能する凸曲面部分が設けられている。

　透光性カバーの凸曲面部分（レンズ部）は、典型的には、表示パネルの額縁領域と、額縁領域近傍の表示領域の一部（以下、周辺表示領域と呼ぶ場合がある）とを覆うように配置される。周辺表示領域に配列された画素（周辺画素）から出射された光は、レンズ部で屈折し、その結果、額縁領域の前方に画像が拡大されて表示される。これにより、額縁領域が目立ちにくくなる、あるいは、額縁領域が存在しないように見える。

　上記のような表示装置を用いれば、例えばスマートフォンなどの携帯型の電子機器において、観察者側パネル面の略全域を表示領域として提供することが可能になる。このような電子機器は、機器のサイズに対して情報表示が可能な領域が大きいので、機器の小型化という観点から有利である。

国際公開第２０１０／０８９９９８号特開２００５－４６３５２号公報特開２００９－４７９０２号公報特開２００４－３２９６９４号公報

　上記のように、観察者側面（パネル前面）の全体を表示に利用しようとする試みがなされているが、額縁領域を完全に無くしてしまうと、従来、パネルの前面に配置されていた物理的なボタンやカメラ等を設けるスペースが無くなる。これに対し、本願出願人は、国際出願第ＰＣＴ／ＪＰ２０１４／０５４９６６号において、表示パネルの額縁領域内側すなわち表示領域内に貫通孔を設け、この貫通孔にボタン等を設置する構成を開示している。

　液晶パネルの表示領域に貫通孔を設ける構成自体は、例えば、特許文献２～４にも開示されている。特許文献２および３には、貫通孔を避けるようにして画素を駆動するための配線を巡らせる構成を有する表示装置が開示されている。また、特許文献４には、孔の周辺に設けられるシール材やスペーサについて記載がある。

　しかし、本発明者が検討した結果、従来の構成では、表示パネルに貫通孔を設けたときに、孔の周りで表示品位が低下しやすくなることが分かった。

　本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、孔を有する表示パネルにおいて、孔周りの表示品位の低下を防止することをその目的とする。

　本発明の実施形態による表示パネルは、基板および前記基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部を備え、前記孔周辺シール部は、前記孔を囲む環状または少なくとも１つの開放部を有する途切れた環状の第１シール部と、前記第１シール部が規定する環の一部または前記少なくとも１つの開放部に対応する位置に設けられた少なくとも１つの第２シール部とを含む。

　ある実施形態において、前記第１シール部は、前記少なくとも１つの開放部を有する途切れた環状に形成されており、前記少なくとも１つの第２シール部は、前記少なくとも１つの開放部によって形成された開口を塞ぐ封止部材である。

　ある実施形態において、前記第１シール部は、環状に形成されており、前記少なくとも１つの第２シール部は、前記第１シール部が規定する環の一部分と重なるように設けられた凸状構造体である。

　ある実施形態において、前記凸状構造体の厚さは、前記表示媒体層の厚さの３０％～１００％の厚さである。

　ある実施形態において、前記第１シール部は、少なくとも１つの開放部を有する途切れた環状を為すように前記基板上に付与されたシール材料から形成されており、前記少なくとも１つの第２シール部は、前記シール材料の前記開放部に対応する位置に設けられている。

　本発明の実施形態による表示パネルは、基板および前記基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記孔を形成する前に前記基板上において前記孔を形成する位置に付与された点状または面状のシール材を面内方向に拡張することによって形成される孔周辺シール部を備え、前記シール材の拡張を妨げる制限構造が設けられている。

　ある実施形態において、前記制限構造は、前記孔周辺シール部の外側に密着して前記孔周辺シール部を囲う環状の土手構造体である。

　本発明の実施形態による表示パネルは、基板および前記基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、前記基板上に設けられ前記表示領域を覆う層状体とを備え、前記孔の周囲において、前記層状体が設けられていない環状の領域が形成されており、前記環状の領域に前記孔周辺シール部が配置されている。

　ある実施形態において、前記基板は対向基板であり、前記層状体はカラーフィルタ層を含む。

　本発明の実施形態による電子機器は、上記いずれかの表示パネルと、前記表示パネルの前記孔に配置された入出力デバイスとを備える。

　本発明の実施形態による液晶パネルの製造方法は、一対の基板を用意する工程と、前記一対の基板のうちの一方の基板の外周に沿って閉じた環状の外側シール材を付与するとともに、前記外側シール材の内側の領域の所定の位置において、途切れた環状、点状または面状に孔周辺シール材を付与する工程と、前記一方の基板における、前記外側シール材の内側かつ前記孔周辺シール材の外側の位置に、液晶材料を滴下する工程と、前記液晶材料が滴下された一方の基板と他方の基板とを貼り合わせる工程であって、前記一対の基板間で前記孔周辺シール材を押し延ばした後に硬化させることによって環状または面状の孔周辺シール部を形成するとともに、前記液晶材料を前記一対の基板間に広げる工程と、前記環状または面状の孔周辺シール部の内側に貫通孔を形成する工程とを包含する。

　本発明の実施形態による表示装置によれば、表示面に貫通孔を有する表示パネルを用いた表示装置において、孔周辺での表示品位の低下を防止することができる。

本発明の実施形態１による液晶パネルの製造工程を説明するための図であり、（ａ１）～（ａ４）はそれぞれ別の工程を示す。実施形態１の液晶表示装置１００の構成を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図である。（ａ）は、孔周りの配線の一例を示す図であり、（ｂ）はパネル断面図である。レンズ部を有する透光性カバーを備えた形態を説明する図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図である。本発明の実施形態２による液晶パネルの製造工程を説明するための図であり、（ａ１）および（ａ２）はそれぞれ別の工程を示し、（ｂ１）および（ｂ２）は、ある実施形態における（ａ１）および（ａ２）に対応する断面図であり、（ｃ１）および（ｃ２）は、別の実施形態における（ａ１）および（ａ２）に対応する断面図である。実施形態２の液晶表示装置の構成を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図である。実施形態２の液晶表示装置の構成を示す図であり、ＯＤＦ法によって液晶層を形成する場合の液晶滴下位置などを示す平面図である。本発明の実施形態３による液晶パネルの製造工程を説明するための図であり、（ａ１）～（ａ４）はそれぞれ別の工程を示し、（ｂ１）および（ｂ２）は、ある実施形態における（ａ１）および（ａ２）に対応する断面図であり、（ｃ１）および（ｃ２）は、別の実施形態における（ａ１）および（ａ２）に対応する断面図である。本発明の実施形態４による液晶パネルの製造工程を説明するための図であり、（ａ１）～（ａ４）はそれぞれ別の工程を示し、（ｂ１）～（ｂ３）は、（ａ１）～（ａ３）に対応する断面図である。本発明の実施形態５による液晶パネルの製造工程を説明するための図であり、（ａ１）～（ａ４）はそれぞれ別の工程を示し、（ｂ１）～（ｂ３）は、（ａ１）～（ａ３）に対応する断面図である。実施形態５の液晶表示装置の孔周りの構成を示す部分拡大図である。実施形態５の液晶表示装置の構成を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図である。実施形態５の液晶表示装置の構成を示す図であり、（ａ）はＯＤＦ法によって液晶層を形成する場合の液晶滴下位置などを示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図であり、（ｃ）は基板貼り合わせ後における（ｂ）に対応する断面図である。その他の実施形態における液晶パネルの製造工程を説明するための図であり、（ａ１）～（ａ４）はそれぞれ別の工程を示す。その他の実施形態における液晶パネルの製造工程を説明するための図であり、（ａ１）～（ａ４）はそれぞれ別の工程を示す。参考例の液晶パネルの製造工程を説明するための図であり、（ａ１）～（ａ４）はそれぞれ別の工程を示し、（ｂ１）～（ｂ４）は、（ａ１）～（ａ４）に対応する断面図である。

　まず、本発明の実施の形態を説明する前に、表示領域に孔を設けた表示パネルにおいて生じ得る孔周りの表示不良の発生要因について説明する。

　本出願人は、国際出願第ＰＣＴ／ＪＰ２０１４／０５４９６６号において、表示領域に貫通孔が形成された表示装置を開示している。この貫通孔には、ボタンや十字キー、カメラなど種々の入力デバイスが配置される。参考のために、国際出願第ＰＣＴ／ＪＰ２０１４／０５４９６６号の開示内容の全てを本明細書に援用する。

　表示パネルとして例えば液晶パネルの表示領域に貫通孔を設ける場合、基板間に液晶材料を適切に封止するためには、孔の部分から液晶材料が漏れないようにしなければならない。このために、基板周縁部に沿って外枠のシール部を配するとともに、基板を貫通する孔の周りにもシール部を配して、基板間に液晶材料を封止する必要がある。

　図１６（ａ１）～（ａ４）、（ｂ１）～（ｂ４）は、参考例による液晶パネルの製造方法を示す。

　まず、図１６（ａ１）、（ｂ１）に示すように、一方の基板（ここではＴＦＴ基板１１）の周縁部に沿って、所定の幅のシール材（外側シール材９３Ｂ）が設けられる。外側シール材９３Ｂは、基板貼り合わせ後に液晶材料を注入するために用いられる注入口の部分を除いて環状に設けられる。

　このとき、後の工程で貫通孔１０Ａ（図１６（ａ３）および（ｂ３）参照）を形成する領域の周囲にも、シール材（孔周辺シール材９３Ａ）が設けられる。本参考例の製造方法では、孔１０Ａからの液晶材料の漏れを防止するために、孔１０Ａを形成すべき領域を囲むようにして、閉じた環状のシール材９３Ａが設けられている。

　次に、図１６（ａ２）、（ｂ２）に示すように、シール材９３Ａ、９３Ｂが付与された基板と、他方の基板（ここでは対向基板１２）とが貼り合わされる。ただし、この貼り合わせ工程において、図１６（ｂ２’）に示すように、孔周辺シール材９３Ａが他方の基板１２に接した時点で、孔周辺シール材９３Ａの内側に密閉空間が形成されて空気が抜けなくなる。

　この場合に、図１６（ｂ２）に示すように、両基板１１、１２に対して比較的強い圧力を加えたとしても、孔の周辺ではセル厚が大きくなる傾向があることが、本発明者らによって確認された。特に、約１０ｍｍ以下の小さい口径の孔を設ける場合、空気が抜けにくくなり、孔の周囲で他の領域よりセル厚が大きくなりやすいことがわかった。

　その後、両基板１１、１２を貫通する孔１０Ａを形成し（図１６（ａ３）、（ｂ３））、さらに液晶材料を真空注入法によって注入することで液晶層１４を形成し、最後に注入口を樹脂１９Ｂで封止することによって（図１６（ａ４）、（ｂ４））、液晶パネル９０が得られる。

　しかしながら、上記のような方法で液晶パネルを作製すると、孔１０Ａの周辺で、表示ムラ（コントラスト比の低下、輝度の低下、色度の変化など）、視野角特性の悪化、応答速度の低下など、様々な不良が発生する場合がある。これは、上記のように、孔１０Ａの周辺では、セル厚が他の部分よりも厚くなっているからである。

　これに対し、本発明者は、孔周りでの表示品位の低下を防止するためには、孔の周辺に配されるシール材の内側に密閉空間が形成されないように、空気の逃げ道がある状態で基板の貼り合わせ工程を行うことが有効であることを見出した。あるいは、孔周りのシール材を閉じた環状に付与することなく、点状あるいは面状に付与し、これを押し延ばすようにしてシール部を形成する方法が有効であることを見出した。このようにすれば、孔周りでもセル厚を均一にすることができるので、表示品位の低下を防止することができる。

　以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態にかかる表示パネルをより詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。

（実施形態１）
　図１（ａ１）～（ａ４）は、実施形態１による液晶パネルの製造工程の一部を示す斜視図である。

　まず、公知の方法によってＴＦＴ基板１１および対向基板１２を作製した後、図１（ａ１）に示すように、片側の基板（ここではＴＦＴ基板１１）上に、シール材１３が付与される。

　シール材１３は、公知のディスペンサ装置を用いて、例えば、約１ｍｍの幅を有する線状に設けられる。シール材１３の材料としては、紫外線硬化性や熱硬化性の樹脂材料（アクリル樹脂など）を用いることができ、例えば、積水化学工業社製のＵＶ硬化性シール剤「フォトレック」などを使用することができる。

　シール材１３を付与する工程において、ＴＦＴ基板１１の周縁部には、外枠状の外側シール材１３Ｂ’が設けられ、また、後の工程で貫通孔１０Ａ（図１（ａ３）参照）を形成する領域の周囲には、孔周辺シール材１３Ａ’が設けられる。孔周辺シール材１３Ａ’は、外側シール材１３Ｂ’で囲まれた領域の内部に設けられる。

　外側シール材１３Ｂ’は、基板１１の端面にまで延びる部分を含んでおり、この部分が、真空注入法によって液晶材料を注入する際の注入口２３Ｂを形成する。

　また、孔周辺シール材１３Ａ’は、開放部２３Ａを有する環状（すなわち、途切れた環状）に設けられる。なお、図１（ａ１）～（ａ４）には、開放部２３Ａを１カ所にだけ設ける形態が示されているが、複数の開放部２３Ａが設けられていても良い。この場合、複数の開放部２３Ａは、例えば、孔周辺シール材１３Ａ’を等分割するように配置されていてよい。

　次に、図１（ａ２）に示すように、ＴＦＴ基板１１と対向基板１２とを貼り合わせる。この工程において、孔周辺シール材１３Ａ’は開放部２３Ａを有しているので、ＴＦＴ基板１１と対向基板１２とを貼り合わせた後にも、孔周辺シール材１３Ａ’の内側の空間が、その外側の空間に連通している。すなわち、基板貼り合わせ工程において、孔周辺シール材１３Ａ’の内側が密閉空間となることはなく、空気が抜ける状態が維持される。これにより、孔周辺シール材１３Ａ’が付与された領域においても、他の領域と同様のセルギャップが維持される。

　このようにして、セルギャップが面内で均一な状態のままＴＦＴ基板１１と対向基板１２とを対向配置させた後、熱や紫外線によってシール材１３を硬化させることによって、外側シール部１３Ｂや孔周辺シール部１３Ａが形成されるとともに、基板１１、１２の貼り合わせ工程が完了する。なお、対向基板１２の基板面全体にわたって、高さが揃った複数のフォトスペーサを設けておくことによって、パネル面全体にわたってセルギャップを所望の厚さに維持しやすい。

　次に、図１（ａ３）に示すように、孔周辺シール部１３Ａの内側において、ＴＦＴ基板１１および対向基板１２を貫通する貫通孔１０Ａ（孔１０Ａ）が形成される。孔１０Ａは、例えば、スクライブ（レーザスクライブまたはメカニカルスクライブ）によって、あるいは、レーザやドリルなどを用いて、あるいは、ウォータジェットによって形成することができる。

　さらに、孔１０Ａを形成した後、孔周辺シール部１３Ａの開放部２３Ａに対応する位置に、封止樹脂１９Ａが配される。封止樹脂１９Ａは、孔周辺シール部１３Ａの開放部２３Ａを、孔１０Ａの内側から埋めるようにして設けられる。封止樹脂１９Ａの材料としては、例えば、積水化学工業社製の感光性樹脂封口材を用いることができる。

　このようにして、液晶注入口２３Ｂを除いて、外部に対して封止された空間が基板１１、１２間に形成され、いわゆる空セルが完成する。本実施形態において、孔１０Ａの周りは、孔周辺シール部１３Ａと、封止樹脂１９Ａとによって封止されている。

　その後、図１（ａ４）に示すように、空セルを真空環境下に配置し、液晶注入口２３Ｂを液晶材料に接触させた状態で大気圧下に戻すことで、差圧を利用して空セル内に液晶材料を注入する。そして、空セル内が液晶で満たされた後は、液晶注入口２３Ｂを封止樹脂１９Ｂでパネル外側から封止し、液晶材料を基板間に完全に密封することによって液晶層１４を形成する。これにより、液晶パネル１０が完成する。

　このようにして作製された本実施形態の液晶パネル１０では、孔１０Ａの付近のセル厚が厚くなることがないので、表示ムラ（コントラスト比、輝度の低下、色度の変化など）の発生、視野角の悪化、応答速度の低下などが防止される。

　以下、図１（ａ１）～（ａ４）に示すようにして作製された液晶パネル１０を備える液晶表示装置１００を説明する。

　図２（ａ）および（ｂ）は、本実施形態の液晶表示装置１００を示す平面図および断面図である。なお、液晶表示装置１００は、液晶パネル１０を備える限り、種々の電子機器であってよい。本明細書では、液晶パネル１０を備える電子機器全般を「液晶表示装置」と称することがある。

　液晶表示装置（あるいは電子機器）１００は、例えば、携帯型ゲーム機、スマートフォン、モバイルフォン、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）、タブレット型端末、電子ブックリーダー、音楽プレーヤー、カメラ、電子辞書、電子ノート、ナビゲーションシステム、表示装置、パーソナルコンピュータ、ウェアラブルコンピュータ、腕時計、遊戯機、テレビジョン、インフォメーションディスプレイなどであってもよい。

　また、以下には、液晶層を表示媒体層として用いる液晶表示装置を例示するが、本発明はこれに限られるものではない。電気泳動表示装置、エレクトロウェッティング表示装置など、液晶材料以外の液状材料を表示媒体層に用いる種々の電子機器において、以下に説明する構成と同様の構成を適用することができる。

　図２（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶表示装置１００は、液晶パネル１０と、液晶パネル１０の背面側に配置された回路基板２０とを備えている。また、液晶表示装置１００は透過型の液晶表示装置であり、液晶パネル１０と回路基板２０との間にはバックライト４０が設けられている。

　バックライト４０は、ＬＥＤなどの光源に加え、導光板、拡散板、反射板などの光学素子を備えるエッジライト型のバックライトであってもよいし、面発光素子等を用いて構成された直下型（面発光型）のバックライトであってもよい。

　液晶パネル１０は、画素がアレイ状に配置されたＴＦＴ基板（アクティブマトリクス基板）１１と、ＴＦＴ基板１１に対向する対向基板１２と、これら一対の基板間に保持される液晶層１４とを備えている。また、ＴＦＴ基板１１および対向基板１２の外側面には、偏光板や位相差フィルムなどからなる光学フィルム層１５が粘着層を介して貼りつけられている。

　液晶表示装置１００の表示モードは種々のものであって良い。例えば、フルカラー表示を行う垂直配向（ＶＡ）モードの場合、ＴＦＴ基板１１には、ＴＦＴおよびこれに接続される画素電極が各画素ごとに設けられ、対向基板１２には、共通電極や、カラーフィルタ、ブラックマトリクスなどが設けられる。また、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ　Ｆｉｅｌｄ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなどの横電界モードの場合、ＴＦＴ基板１１には、複数のスリットや細長電極部分を有する画素電極と、この画素電極との間に横電界を生じさせるための共通電極とが設けられる。また、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ）を利用する表示モードでは、光学フィルム層１５は設けられていなくても良い。

　本実施形態の液晶表示装置１００において、額縁領域ＲＦの内側（すなわち、表示領域ＲＡ）には、パネルを貫通する孔１０Ａが設けられている。また、図１を用いて説明したように、孔１０Ａの周りには、開放部２３Ａを有する孔周辺シール部１３Ａ、および、当該開放部２３Ａによって形成された開口を封止する封止樹脂１９Ａが設けられている。この構成において、液晶層１４は、パネル周縁に設けられた外側シール部１３Ｂおよび注入口封止樹脂１９Ｂ、孔周辺シール部１３Ａ、さらに、封止樹脂１９Ａによって、一対の基板１１、１２の間に密封されている。

　なお、本明細書では、液晶パネル１０の周辺に形成された額縁領域ＲＦの内側の領域を、便宜上、表示領域ＲＡと呼んでいるが、表示領域ＲＡには、表示に寄与しない領域（額縁領域以外の非表示領域）が含まれていても良い。図２（ｂ）に示すように、本実施形態では、孔１０Ａの周辺において、表示領域ＲＡ内に非表示領域ＲＦ２が形成されている。非表示領域ＲＦ２には、孔１０Ａ自体や孔周辺シール部１３Ａ、あるいは、孔１０Ａ近辺の光漏れを防止する遮光部材（図示せず）が設けられた領域などが含まれる。

　孔１０Ａの直径は任意の大きさであって良いが、例えば、約１ｍｍ～約１５ｍｍに設定される。孔１０Ａの径が１０ｍｍ以下の場合、本発明の実施形態による構成を採用することが、孔周りの表示品位の低下を防止するために特に有効である。また、ここでは、孔１０Ａの平面形状が円形である場合を例示しているが、四角形など他の平面形状を有していても良い。

　本実施形態において、液晶表示装置１００は、表示領域ＲＡ内に設けられた孔１０Ａに配置された入出力デバイス３０を備えている。入出力デバイス３０は、例えば、押下型の電気スイッチであり、例えば、スマートフォンに設けられたハードウェアボタンがこれに該当する。

　ここで、入出力デバイス３０についてより詳細に説明する。液晶表示装置１００において、入出力デバイス３０は、液晶パネル１０の孔１０Ａの内部に配置されており、コネクタを介して回路基板２０に接続されている。なお、本実施形態では、液晶パネル１０と回路基板２０との間に配置されるバックライト４０にも貫通孔が設けられており、入出力デバイス３０は、液晶パネル１０およびバックライト４０を貫通する孔を通って回路基板２０に接続されている。

　入出力デバイス３０は、ユーザからの入力を受け取る物理的・電気的なスイッチ、ボタンや、外光を受光することができる光学素子、あるいは、音声出力デバイスや、発光デバイスなど、種々のデバイスであってよい。

　より具体的には、入出力デバイス３０は、ユーザからの入力（直接操作）を受け取る、押しボタン、方向キー（十字キー）、アナログスティック、タッチパネル（タッチセンサ）、ロータリスイッチ（ボリュームコントローラ）、回転式セレクタ（ジョグダイヤル）、トグルスイッチ、トラックボール、トラックパッド、スティック型ポインティングデバイス、ハードウェアキーボードなどであってよい。

　また、入出力デバイス３０は、光学的な入力を受け取る、撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサなど）、光学素子（ファイバオプティックフェイスプレートなど）、光学センサ（照度センサや近接センサなど）を含む。その他、温度センサ、マイクロフォン、ＨＤＭＩ（登録商標）やＵＳＢなどの入力端子、プラグやコンセントなどの配線端子などであってよい。

　さらに、入出力デバイス３０は、スピーカーなどの音声出力装置や、ＬＥＤなどの発光デバイスなどであっても良く、あるいは、液晶パネル１０とは別個に独立して動作する表示デバイスなどであってもよい。

　これらの入出力デバイス３０は、表示パネルの背面側に配置される回路基板２０に対して、物理的、電気的あるいは光学的に接続されている。入出力デバイス３０からの信号、または、入出力デバイス３０への信号は、回路基板２０に設けられた各種処理装置において処理／生成されてよい。

　入出力デバイス３０として、例えば、ボリュームコントローラを用いる場合、入出力デバイス３０は、例えば、液晶パネル１０の観察者側面から突出する部分を有していても良い。また、入出力デバイス３０は、液晶パネル１０から突出する部分として、孔１０Ａの口径よりも大きい径を有する拡幅部分（例えば、図３（ｂ）参照）を有していても良い。この拡幅部分によって孔周りの非表示領域ＲＦ２を隠すようにすれば、入出力デバイス３０と表示画面との一体感を向上させることができる。なお、拡幅部分は、孔１０Ａを介して、入出力デバイス３０を回路基板２０に実装した後に、入出力デバイス３０に対して固定するようにして設けてもよい。

　また、入出力デバイス３０は、着脱可能な部分を含んでいても良く、例えば、液晶パネル１０の孔１０Ａの内部に配置され回路基板２０と接続される動作部と、動作部に対して着脱可能なスティック部とから構成されていてもよい。この場合、動作部に設けられた嵌合孔やネジ穴に、必要に応じてユーザがスティック部を装着することによって、アナログコントローラなどの入力デバイスとして使用することができる。

　ここで、ＴＦＴ基板１１における、孔１０Ａの周囲の配線について説明する。孔１０Ａの周囲では、例えば、特許文献２および３に開示されているように、マトリクス配線が、孔１０Ａを避けるように形成されていてよい。

　図３（ａ）は、孔１０Ａの周りにおけるＴＦＴ基板１１上の配線の一例を示す。図示するように、孔１０Ａの周囲において、垂直方向に延びるソース配線４および水平方向に延びるゲート配線２の双方が、孔１０Ａを迂回するように設けられている。この構成において、孔１０Ａの周辺以外ではマトリクス状に画素を設けることができ、ゲート配線２およびソース配線４に接続されたＴＦＴを介して画素に信号を供給することにより、画像などを表示することができる。なお、画素に設けられるＴＦＴのチャネルは、アモルファスシリコン、結晶性を示す低温ポリシリコン、あるいは、Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体などの酸化物半導体などから形成されていて良い。

　ただし、孔１０Ａを迂回させて配線を行うことで、孔１０Ａの周囲には、画素を配置できない領域（別配線領域ＲＦ３）が形成されることがある。この場合、表示に利用することができない別配線領域ＲＦ３は、光漏れを防止するために、ブラックマトリクスで覆われていても良い。

　また、図３（ｂ）に示すように、液晶パネル１０の観察者側表面から突出する拡幅部分を入出力デバイス３０が有する場合、この部分によって観察者から別配線領域ＲＦ３を隠すようにしても良い。

　本実施形態の液晶表示装置１００は、その他の種々の態様を有し得る。例えば、液晶パネル１０の表示領域内（例えば、孔および入出力デバイスの周囲）に、入出力デバイス３０に関連する画像を表示できるように液晶表示装置１００が構成されていてもよい。例えば、入出力デバイス３０としてボリュームコントローラを設ける場合、ユーザの操作により決定された現在のボリュームの大きさを、入出力デバイス３０の周囲に表示させることができる。

　このように入出力デバイス３０に関連する情報をその周辺に表示させることによって、ユーザの利便性を高めることができる。また、現在の入出力デバイス３０の機能がどのようなものであるかを、表示画像によってユーザに認識させることも可能である。したがって、入出力デバイス３０を多目的に使用しやすいという利点も得られる。

　このような孔周りの表示画像の制御は、公知の画像処理装置（画像処理部）によって行うことが可能である。画像処理装置は、例えば、回路基板２０上に設けられた演算処理ユニットやグラフィック処理ユニット、メモリなどを含んでいて良い。画像処理装置は、入出力デバイス３０からの信号に基づいて画像データを生成することができ、これにより、入出力デバイス３０の周囲に関連画像を表示させることができる。

　また、液晶パネル１０の観察者側において、タッチパネルが設けられていてもよい。タッチパネルは公知の構成を有していて良く、アウトセル型、オンセル型、またはインセル型のタッチパネルを任意に利用することができる。なお、インセル型のタッチパネルでは、液晶パネル１０の内部において、タッチセンサを構成する電極（複数のセンサ配線）等が設けられる。

　図４（ａ）および（ｂ）は、本実施形態の変形例の液晶表示装置１０２を示す図である。図４（ａ）はユーザ側から見たときの平面図、図４（ｂ）は、図４（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図である。

　図４（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶表示装置１０２においても、液晶パネル１０に孔１０Ａが設けられ、孔１０Ａに対応する位置には入出力デバイス３０（ここでは押しボタン型スイッチ）が設けられている。入出力デバイス３０は、回路基板２０と接続されている。

　液晶表示装置１０２では、液晶パネル１０の観察者側に、透光性カバー６０が設けられている。透光性カバー６０は、ガラスやプラスチックなどの透光性の材料から形成されており、液晶パネル１０から出射された光を観察者側に透過させることができる。また、透光性カバー６０は、液晶パネル１０の孔１０Ａに対応する位置において孔を有しており、入出力デバイス３０をユーザが操作できるように、これを露出させている。

　さらに、孔１０Ａの周囲において、透光性カバー６０は、表面が曲面の部分を有している。この曲面部分は、レンズ部６０Ｂとして機能する。なお、レンズ部６０Ｂの周りには平坦部６０Ａが設けられており、液晶パネル１０の大部分は平坦部６０Ａによって覆われている。また、液晶表示装置１０２では、表示パネル１０の外周縁（額縁領域ＲＦが形成されている領域）においても、透光性カバー６０に別のレンズ部（周辺レンズ部）６０Ｃが設けられている。

　このように構成された液晶表示装置１０２において、透光性カバー６０にレンズ部６０Ｂが設けられているので、孔１０Ａ周辺に配置された非表示領域ＲＦ２の近傍の画素から出射された光は、レンズ部６０Ｂ（ここでは、レンズ部６０Ｂのユーザ側表面）において屈折する。これにより、孔１０Ａ周辺の画素が形成する画像が拡大されて、非表示領域上ＲＦ２の前面に表示される。したがって、孔１０Ａ周辺の非表示領域ＲＦ２を観察者から目立ちにくくすることができる。

　ここで、レンズ部６０Ｂが有するレンズ曲面の形状（より具体的には、断面においてレンズ曲面が形成する曲線）は、曲率半径Ｒ１（または曲率ｃ）と非球面係数（コーニック定数）ｋとを用いて、例えば下記の非球面式によって表わすことができる。
　非球面式：ｆ（ｘ）＝Ｙ－ｃｘ²／（１＋（１－（１＋ｋ）ｃ²ｘ²）^1/2）

　ただし、ｃ＝１／Ｒ１、ｘはレンズ頂上（レンズ部６０Ｂと平坦部６０Ａとの境界）からの水平方向距離、Ｙはレンズ頂上における高さ（平坦部６０Ａにおける透光性カバー６０の厚さ）である。曲率半径Ｒ１、コーニック定数ｋ、透光性カバー６０の厚さＹなどは、非表示領域ＲＦ２の幅などに応じて適宜設定されてよい。

　より具体的なレンズ部６０Ｂの形状については、例えば、国際公開第２０１０／０７０８７１号において詳細に記載されている。本発明の実施形態においても、国際公開第２０１０／０７０８７１号に記載のレンズ面形状を適用することができる。なお、周辺レンズ部６０Ｃのレンズ面形状も同様であってよい。

　また、孔１０Ａの周囲において、レンズ部６０Ｂの形状は、例えば回転体の一部であることが好ましい。なお、回転体とは、平面図形をそれと同平面に位置する直線の周りに３６０°回転することにより得られる立体図形を意味する。本実施形態においてレンズ部６０Ｂは、回転軸から離れた位置に設けられた平面図形であって、回転軸の側に曲線の線分を有する平面図形を回転させることによって得られる回転体を含む形状を有していてよい。

　また、レンズ部６０Ｂ、６０Ｃは、図４（ｂ）に示したような片側が凸曲面のレンズ形態に限られず、例えば、フレネルレンズを用いて構成されていても良い。また、観察者側表面と背面との双方が、凸曲面を有するように構成されていてもよい。また、透光性カバー６０は、孔１０Ａの周囲に設けられたレンズ部と、レンズ部から表示パネルの表面に向かって傾斜する傾斜部とを有し、孔１０Ａの周りのみを選択的に覆うような形態であってもよい。

　以上、実施形態１の表示パネルについて説明したが、本実施形態では、孔１０Ａの周りは、孔周辺シール部１３Ａと、封止樹脂１９Ａとの別個の２つのシール部によって封止されている。このような構成において、孔１０Ａの周囲でもセル厚を均一に保つことができるので、表示品位の低下を防止することができる。

（実施形態２）
　図５（ａ１）および（ａ２）は、実施形態２による液晶パネルの製造工程の一部を示す斜視図であり、図５（ｂ１）および（ｃ１）は、図５（ａ１）に対応する断面図であり、図５（ｂ２）および（ｃ２）は、図５（ａ２）に対応する断面図である。なお、図５（ｂ１）、（ｂ２）と、図５（ｃ１）、（ｃ２）とは、それぞれ別の形態の液晶パネルを示している。

　図５（ａ１）に示すように、本実施形態では、ＴＦＴ基板１１上に付与される孔周辺シール材１３Ａ’の開放部２３Ａに対応する位置において、樹脂などから形成される構造体３３が予め設けられている。そして、図５（ａ２）に示すように、基板を貼り合わせる工程において、孔周辺シール材１３Ａ’が押し延ばされることによって、構造体３３を含むようにして閉じた環状の孔周辺シール部１３Ａが形成される。

　このように構造体３３を例えばＴＦＴ基板１１上に予め設けておくことで、実施形態１のように、孔周辺シール部１３Ａの開放部２３Ａを、後の工程で封止樹脂１９Ａによって封止する必要が無くなるので、製造工程を簡略化することができる。

　上記の構造物３３は、ＴＦＴ基板１１側に設けても良いが、図５（ｂ１）および（ｃ１）に示すように、対向基板１２側に設けることもできる。この場合、対向基板１２側にフォトスペーサを設ける工程と同じ工程において、構造物３３を設けるようにすればよい。

　フォトスペーサは、公知のフォトリソグラフィ工程を利用して形成することができ、上記の構造物３３は、フォトリソグラフィ工程におけるマスクの変更だけで製造工程を増やすことなく形成することができる。

　構造物３３は、図５（ｂ１）に示すように、単一の部材から構成されていても良いし、図５（ｃ１）に示すように、複数の部材から構成されていてもよい。いずれの場合にも、図５（ｂ２）および（ｃ２）に示すように、基板貼り合わせ工程において、開放部２３Ａを有する孔周辺シール材１３Ａ’が、押し延ばされて閉じた環状になることを補助することができる。構造体３３を設けることで、開放部２３Ａを埋めるように押し広げられるシール材の分量が少なくて済むので、環状の閉じた孔周辺シール部１３Ａを形成し易い。

　構造体３３の厚さ３３ｔ（図５（ｂ１）参照）は、セルギャップ（表示媒体層の厚さ）１４ｔ（図５（ｂ２）参照）の３０％～１００％の厚さに設定されることが好ましい。このような厚さに設定することで、基板貼り合わせ後に孔周辺シール部１３Ａが繋がった形状（閉じた環状）になりやすい。

　シール材１３Ａ’の内側に密閉空間が形成されないようにするためには、図５（ｃ１）および（ｃ２）に示すように、構造体３３が隙間を有していることが有利である。しかし、この場合には、貼り合わせ後に閉じたシール部１３Ａが完成しない可能性が、図５（ｂ１）および（ｂ２）に示した形態に比べれば高くなる。このような点を考慮し、構造物３３の形状や厚さを適宜選択することが好ましい。

　本実施形態において、複数の開放部を有する途切れた環状の孔周辺シール材１３Ａを付与するとともに、これらの複数の開放部に対応する位置に複数の構造物３３を予めそれぞれ設けておいても良いことは言うまでもない。

　このようにして、空セルを作製した後、実施形態１と同様に、液晶注入工程および貫通孔１０Ａの形成工程が行われる。これによって、表示領域に孔が設けられた液晶パネルを得ることができる。

　ただし、本実施形態では、基板貼り合わせ工程後に、孔１０Ａが、閉じた孔周辺シール部１３Ａ（および構造物３３）によって既に囲まれているため、実施形態１の場合とは異なり、液晶注入工程を行ってから貫通孔１０Ａを形成することも可能である。さらに、本実施形態では、基板貼り合わせ工程の前に、液晶材料を基板上に付与しておくことも可能である。以下、このような方法により作製される液晶表示装置を説明する。

　図６（ａ）および（ｂ）は、本実施形態の液晶表示装置２００を示す平面図および断面図である。液晶表示装置２００は、基板貼り合わせ前に、一方の基板上に液晶材料を滴下しておく、液晶滴下法：ＯＤＦ（Ｏｎｅ　Ｄｒｏｐ　Ｆｉｌｌ）法によって、液晶層を形成した形態である。この場合、外側シール部１３Ｂに、液晶注入口を設ける必要はなく、外側シール部１３Ｂは、閉じた環状に設けられる。

　図７は、ＯＤＦ法によって液晶パネルを製造する工程を説明するための図である。以下、液晶パネルの作製工程を説明する。

　まず、図５（ａ１）に示した場合と同様に、対向基板１１において、後に付与する孔周辺シール材１３Ａ’の開放部２３Ａに対応する領域に、セル厚の３０％～１００％の高さを有する構造物３３を形成する。構造体３３の幅は、開放部２３Ａの幅に応じて選択することができ、例えば、０．１ｍｍ～４ｍｍ程度に設定される。

　次に、公知のディスペンサ装置を用いて、ＴＦＴ基板１１上に、孔周辺シール材１３Ａ’および外側シール材１３Ｂ’を付与する。各シール材１３Ａ’、１３Ｂ’の幅は、例えば、１ｍｍ程度に設定される。ただし、外側シール材１３Ｂ’は、図５（ａ１）に示す場合とは異なり、注入口２３Ｂを含まない閉じた環状に設けられる。

　次に、図７に示すように、真空下において、ＴＦＴ基板１１上のパネル中央部付近の位置ＯＤに液晶材料を滴下する。この液晶材料の滴下位置ＯＤは、外側シール材１３Ｂ’の内側かつ孔周辺シール材１３Ａ’の外側の領域内である。

　その後、２枚の基板１１、１２を貼り合わせ、シール材１３Ａ’、１３Ｂ’と液晶材料とが接する前、かつ、孔周辺シール材１３Ａ’の開放部２３Ａが構造物３３を伝って繋がった後に、熱や紫外線によりシール材１３Ａ’、１３Ｂ’を硬化させ、孔周辺シール部１３Ａおよび外側シール部１３ｂを形成する。この工程において、液晶材料は基板面上の全体に広がり、パネル内に充填される。

　最後に、スクライブ工程やレーザ、ドリルまたはウォータジェットを用いて孔１０Ａを貫通させることによって、液晶パネルが完成する。

　なお、シール材１３Ａ’の開放部２３Ａの長さは、基板を貼り合せた途端に開放部２３Ａが埋まってしまうことがないように、０．５ｍｍ以上はあったほうが好ましい。ただし、５ｍｍを超えると、最終的に閉じた環状のシール部１３Ａが形成されないことが多くなる。したがって、開放部２３Ａの長さは、０．５ｍｍ以上５．０ｍｍ以下であることが好ましい。

　以上、実施形態２の表示パネルについて説明したが、本実施形態では、孔１０Ａの周りは、孔周辺シール部１３Ａと、構造物３３との別個の二つのシール部材によって封止されている。このような構成において、孔１０Ａの周囲でもセル厚を均一に保つことができるので、表示品位の低下を防止することができる。

（実施形態３）
　図８（ａ１）～（ａ４）は、本実施形態による液晶パネルの製造工程の一部を示す斜視図である。図８（ｂ１）および（ｃ１）は、図８（ａ１）に対応する断面図であり、図８（ｂ２）および（ｃ２）は、図８（ａ２）に対応する断面図である。なお、図８（ｂ１）、（ｂ２）と、図８（ｃ１）、（ｃ２）とは、それぞれ別の形態の液晶パネルを示している。

　本実施形態では、実施形態１および２とは異なり、孔周辺シール部１３Ａを形成するためのシール材１３Ａ’を、片側の基板上において、開放部を有する途切れた環状にではなく、点または面状に付与し、これを押し広げるようにして孔周辺シール部１３Ａを形成する。以下、具体的に説明する。

　まず、ＴＦＴ基板１１および対向基板１２を準備するが、本実施形態では、図８（ｂ１）および（ｃ１）に示すように、対向基板１２において、後の工程で孔を形成する場所に、構造物３３が設けられている。この構造物３３は、典型的には、形成すべき孔１０Ａの大きさと同程度の大きさに設けられる。

　次に、図８（ａ１）に示すように、ＴＦＴ基板１１上に、公知の方法により、ディスペンサなどを用いてシール材１３Ａ’、１３Ｂが付与される。本実施形態でも、ＴＦＴ基板１１の周縁部には外側シール材１３Ｂ’が設けられ、また、後の工程で貫通孔１０Ａ（図１（ａ３）参照）が形成される領域には孔周辺シール材１３Ａ’が設けられる。孔周辺シール材１３Ａ’は、外側シール材１３Ｂ’で囲まれた領域の内部の所定位置に設けられる。

　ただし、本実施形態では、孔周辺シール材１３Ａ’は、ＴＦＴ基板１１上に、点または面状に付与される。すなわち、実施形態１および２とは異なり、孔周辺シール材１３Ａ’は、その内側に空間が設けられないように付与される。

　その後、図８（ａ２）に示すように、一対の基板が貼り合わせられる。このとき、図８（ｂ２）および（ｃ２）に示すように、構造物３３と孔周辺シール材１３Ａ’とが接触し、シール材１３Ａ’が押し広げられる。これによって、孔周辺シール材１３Ａ’は、孔１０Ａが形成される領域を超えて、その外側にまで広がる。

　この貼り合わせ工程において、孔周辺シール材１３Ａ’は、図１６に示した参考例のように、内側に密封空間を形成することがないので、孔周辺シール材１３Ａ’の周囲においてセル厚が増大することが防止される。

　構造物３３の高さは、例えば、セル厚の３０％～１００％の厚さに設定される。このような厚さにすることで、基板貼り合わせ工程において、構造物３３によって適切にシール材を広げることができる。特に、図８（ｃ２）に示すように、構造物３３が複数の部材から構成されているほうが、貼り合わせ圧力が比較的小さくても、シール材を好適に押し広げ易い場合があるので、生産性を向上させることができる。

　なお、構造物３３の平面形状を適切に選択することによって、形成される孔周辺シール部１３Ａの形状を制御することが可能である。このため、形成される孔１０Ａに近い平面形状を有する構造物３３を設け、その中央部にシール材料を付与してシール部を形成することが好ましい。

（実施形態４）
　図９（ａ１）～（ａ４）は、実施形態４の液晶パネルの製造工程の一部を示す斜視図である。また、図９（ｂ１）～（ｂ３）は、図９（ａ１）～（ａ３）に対応するｘ－ｘ線に沿った断面図である。

　本実施形態では、実施形態３のように、孔が形成される領域１０Ａ’と重なるように構造物３３を設けるのではなく、孔形成領域１０Ａ’の周囲に、内壁を有する土手状の環状構造物３４が設けられている。構造物３４は、典型的には、図９（ｂ１）に示すように、対向基板１２上に設けられ、孔形成領域１０Ａ’の外側を囲うように設けられている。

　構造物３４が設けられていることによって、図９（ｂ２）に示されるように、基板を貼り合わせる工程で、シール材１３Ａ’の広がりが、構造物３４によって制止される。これにより、所望の形状の孔周辺シール部１３Ａを得ることができる。このようにして、土手（ダム）となる構造物３４によってシール材１３Ａ’をせき止めるので、シール幅１３Ｗ（図９（ｂ２）参照）を精密に制御できるという利点が得られる。

　その後、図９（ａ３）および（ｂ３）に示すように、貫通孔１０Ａが形成される。貫通孔１０Ａの周囲は、孔周辺シール部１３Ａおよび構造物３４によって囲まれる。孔周辺シール部１３Ａの幅は、構造物３４によって精密に制御されるので、非表示領域を低減しながら液晶層への不純物の混入等を適切に防止することができる。

　構造物３４の厚さ３４ｔ（図９（ｂ１）参照）は、例えば、セルギャップ１４ｔ（図９（ｂ２）参照）の３０％～１００％に設定される。また、構造物３４は、画素領域に形成されるフォトスペーサと同工程で形成されてよく、構造物３４の高さをセルギャップと同程度に設定することで、構造物３４自体をスペーサとして利用することもできる。

（実施形態５）
　図１０（ａ１）～（ａ４）は、実施形態５の液晶パネルの製造工程の一部を示す斜視図である。また、図１０（ｂ１）～（ｂ３）は、図１０（ａ１）～（ａ３）に対応するｘ－ｘ線に沿った断面図である。

　本実施形態では、実施形態４のように、シール材１３Ａ’の広がりを制止するための構造物３４を別途に設けるのではなく、基板上に設けられる層状体の端面を孔の周囲に配置させる（すなわち、層状体の開口部を孔周辺に設ける）ことによって、シール材１３Ａ’の広がりを抑える。これによって、基板貼り合わせ工程において、シール材１３Ａ’を所定の領域に押し広げることができる。

　図１０（ｂ１）に示すように、対向基板１２に設けられる層状体３５には、カラーフィルタ層（１～２μｍ）や、オーバーコート層（２～３μｍ）が含まれていて良い。また、ＴＦＴ基板１１に設けられる層状体３５としては、ＴＦＴを覆う無機保護膜（約０．２μｍ）や有機絶縁材料などから形成される平坦化膜（２～３μｍ）が含まれていて良い。

　層状体３５が形成されていない領域３６は、セル厚が厚くなっている領域である。孔形成領域１０Ａ’がこの内側に配置されるように、上記のセル厚が厚くなっている領域３６（すなわち、層状体３５の開口領域３６）が形成される。

　このように層状体３５の開口領域３６を設けておくことで、図１０（ａ１）および（ｂ１）に示すように点または面状にシール材１３Ａ’を付与し、その後、図１０（ａ２）および（ｂ２）に示すように基板の貼り合わせを行ったときに、シール材１３Ａ’の広がりが、層状体３５の端面近傍で制止される。これは、セル厚が大きい開口領域３６では、シール材１３Ａ’が押し広げられやすいが、層状体３５が存在する領域ではセル厚が小さくなるので、シール材１３Ａ’が間隙に入り込みにくくなるからである。ただし、シール材１３Ａ’は、層状体３５が存在する領域にも、少しは侵入する場合がある。なお、表示部におけるセル厚１４ｔは、表示モードにもよるが、例えば、約３μｍ程度に設定される。

　基板が貼り合わされた後、シール材１３Ａ’は熱や紫外線などによって硬化させられる。硬化されたシール材１３Ａ’は、層状体３５の開口領域３６、すなわち、孔形成領域１０Ａ’と、その外側の所定幅の領域とを覆うように設けられる。

　その後、図１０（ａ３）および（ｂ３）に示すように、孔１０Ａが形成されるが、実施形態４と同様に、孔１０Ａの周りは、孔周辺シール部１３Ａによって封止される。さらに、液晶材料を真空注入法にて空セルに注入し、注入口を封止することで液晶パネルが完成する。

　図１１は、孔１０Ａの周辺を拡大して示す図である。上記のように、セル厚が厚くなっている開口領域３６と、画素形成領域ＲＡ’との間に、スペーサ３８Ｂを設けても良い。特に、孔１０Ａの形状が曲線部分を含む場合には、画素がマトリクス状に配列されていると、図示するように、画素非配列領域が孔１０Ａの四方に形成されることがある。この領域に配置されるスペーサ３８Ｂは、下地としてオーバーコート層などが形成された上に配置され、画素領域内に配置される柱状スペーサと同じ高さを有している場合にも、所望のセル厚を維持するように機能する。したがって、画素領域内に配置される柱状スペーサと同時に形成することが容易である。この場合、従来の製造プロセスにおいて露光マスクを変更するだけで足りるので、製造工程を複雑化する必要がない。ただし、図示するように、セル厚が厚い領域３６においてスペーサ３８Ａを設けても良い。この場合のスペーサ３８Ａの高さは、他のスペーサ３８Ｂの高さよりも高いものであってよい。

　図１２（ａ）および（ｂ）は、本実施形態の液晶表示装置５００を示す平面図および断面図である。液晶表示装置５００は、基板貼り合わせ前に一方の基板上に液晶材料を滴下するＯＤＦ法によって、液晶層を形成した場合の形態である。この場合、外側シール材１３Ｂに液晶注入口を設ける必要はなく、外側シール材１３Ｂは閉じた環状に設けられる。

　図１３（ａ）～（ｃ）は、ＯＤＦ法によって液晶パネルを製造する場合の工程を説明するための図である。具体的には下記の工程によって液晶パネルを作製することができる。

　まず、ＴＦＴ基板１１と対向基板１２とを用意する。図１３（ｂ）に示すように、対向基板１２に設けるブラックマトリクスやカラーフィルタ層１８ａやオーバーコート層１８ｂ、ＴＦＴ基板１１に設ける保護層（パッシベーション層）１７ａや有機層間絶縁層１７ｂには、開口領域３６が設けられる。これにより、表示画素領域３７におけるセル厚（約３μｍ）よりも、開口領域３６におけるセル厚が約４μｍほど厚くなる。

　また、ＴＦＴ基板１１上において、シール材１３Ａ’は、孔１０Ａを形成する領域の中央部に、形成すべき孔１０Ａの形状に対応する形状で付与される。また、シール材１３Ａ’を付与した後、図１３（ａ）に示すように、液晶材料が、真空下で、ＴＦＴ基板１１の中央部付近の位置ＯＤに滴下される。

　その後、図１３（ｂ）および（ｃ）に示すように、対向基板１２とＴＦＴ基板１１とを貼りあわせることにより、シール材料１３Ａ’が広がってゆく。同時に、液晶材料もパネル面内の全体に広がっていく。

　このとき、セル厚が大きい開口領域３６では、シール材料１３Ａ’が広がるスピードは速いが、セル厚が小さい表示画素領域３７では、シール材料１３Ａ’が広がるスピードが遅い。したがって、セル厚が大きい開口領域３６の全体を広がるようにシール材１３Ａ’が押し延ばされる。

　なお、表示画素領域３７にもシール材１３Ａ’が入り込まないわけではないので、開口領域３６のエッジから画素（画素電極／対向電極１６のエッジ）までの間隔Ｌ（図１３（ｂ）参照）を、多少は設けておいたほうがよい。孔１０Ａの形状にもよるが、間隔Ｌの適正値は、０．１ｍｍ～１ｍｍ程度である。

　このようにして基板の貼り合せ工程を行うが、シール材と液晶材料が接触する前、かつシール材がセル厚が厚い領域３６に十分広がった後に、熱や紫外線によりシールを硬化させる。

　その後、スクライブやレーザ、ドリルなどの方法で孔を空けることによって、液晶パネルが得られる。

　なお、カラーフィルタ層に含まれるブラックマトリクス層は、孔１０Ａの周りに残しておいても良い。これにより、孔周りでの光漏れを効果的に防止することができる。

（その他の実施形態）
　その他の実施形態として、例えば、図１４（ａ１）～（ａ４）に示すように、一方の基板１１上に開放部２３Ａを有する途切れた環状の孔周辺シール材１３Ａ’を孔形成領域１０Ａ’を囲うように設け、これを他方の基板１２と圧着することで、環を閉じるようにして孔周辺シール部１３Ａを形成するようにしてもよい。この場合、開放部２３Ａの長さを、例えば、０．１ｍｍ～５．０ｍｍ程度に設定することが好ましい。

　このようにして形成された環状の孔周辺シール部１３Ａは、シール材１３Ａ’の押し延ばしによって開放部２３Ａが閉じられたものであるので、開放部２３Ａに対応する部分において、他の部分より狭い幅を有していても良い。

　なお、基板１１、１２の貼り合わせ後に、孔周辺シール部１３Ａの環が閉じていないときには、実施形態１において説明したように、封止樹脂１９Ａによって開口を塞ぐようにしても良い。

　また、図１５（ａ１）～（ａ４）に示すように、孔形成領域１０Ａ’に、点状または面状にシール材１３Ａ’を設け、これを基板貼り合わせ時に押し広げることによって、孔周辺シール部１３を形成するようにしても良い。

　以上、本発明の実施形態を説明したが種々の改変が可能であることは言うまでもない。例えば、上記には表示パネルとして液晶パネルを用いる例を説明したが、これに限られない。表示パネルとしては、電気泳動方式の表示パネル、エレクトロウェッティング方式の表示パネルなど、液状の表示媒体層を有する表示パネルに対して本発明を適用することができる。

　本明細書は、以下の項目に記載の表示パネル、電子機器、および、液晶パネルの製造方法を開示している。

　[項目１]
　基板および基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部を備え、前記孔周辺シール部は、前記孔を囲む環状または少なくとも１つの開放部を有する途切れた環状の第１シール部と、前記第１シール部が規定する環の一部または前記少なくとも１つの開放部に対応する位置に設けられた少なくとも１つの第２シール部とを含む、表示パネル。

　項目１に記載の表示パネルによれば、孔の周囲でのセル厚の増大を防止することができるので、表示品位を向上させることができる。

　[項目２]
　前記第１シール部は、前記少なくとも１つの開放部を有する途切れた環状に形成されており、前記少なくとも１つの第２シール部は、前記少なくとも１つの開放部によって形成された開口を塞ぐ封止部材である、項目１に記載の表示パネル。

　項目２に記載の表示パネルによれば、基板間に表示媒体層を適切に保持させることができる。

　[項目３]
　前記第１シール部は、環状に形成されており、前記少なくとも１つの第２シール部は、前記第１シール部が規定する環の一部分と重なるように設けられた凸状構造体である、項目１に記載の表示パネル。

　項目３に記載の表示パネルによれば、基板間に表示媒体層を適切に保持させることができる。

　[項目４]
　前記凸状構造体の厚さは、前記表示媒体層の厚さの３０％～１００％の厚さである、項目３に記載の表示パネル。

　項目４に記載の表示パネルによれば、基板間に表示媒体層を適切に保持させることができる。

　[項目５]
　前記第１シール部は、少なくとも１つの開放部を有する途切れた環状を為すように前記基板上に付与されたシール材料から形成されており、前記少なくとも１つの第２シール部は、前記シール材料の前記開放部に対応する位置に設けられている、項目１から４のいずれかに記載の表示パネル。

　項目５に記載の表示パネルによれば、孔の周囲でのセル厚の増大を好適に防止しながら、基板間に表示媒体層を適切に保持させることができる。

　[項目６]
　基板および基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記孔を形成する前に前記基板上において前記孔を形成する位置に付与された点状または面状のシール材を面内方向に拡張することによって形成される孔周辺シール部を備え、前記シール材の拡張を妨げる制限構造が設けられている、表示パネル。

　項目６に記載の表示パネルによれば、孔の周囲でのセル厚の増大を防止しながら、孔周辺シール部の形状を制御することができるので、表示品位を向上させることができる。

　[項目７]
　前記制限構造は、前記孔周辺シール部の外側に密着して前記孔周辺シール部を囲う環状の土手構造体である、項目６に記載の表示パネル。

　項目７に記載の表示パネルによれば、所望の形状のシール部を形成しやすい。

　[項目８]
　基板および基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、前記基板上に設けられ前記表示領域を覆う層状体とを備え、前記孔の周囲において、前記層状体が設けられていない環状の領域が形成されており、前記環状の領域に前記孔周辺シール部が配置されている、表示パネル。

　項目８に記載の表示パネルによれば、孔の周囲でのセル厚の増大を防止しながら、孔周辺シール部の形状を制御することができるので、表示品位を向上させることができる。

　[項目９]
　前記基板は対向基板であり、前記層状体はカラーフィルタ層を含む、項目８に記載の表示パネル。

　項目９に記載の表示パネルによれば、対向基板状のカラーフィルタ層に開口を設けるなどして、孔周辺シール部を適切に形成することができる。

　[項目１０]
　項目１から９のいずれかに記載の表示パネルと、前記表示パネルの前記孔に配置された入出力デバイスとを備える電子機器。

　項目１０に記載の電子機器によれば、表示領域に入出力デバイスが設けられた電子機器において、孔周囲での表示品位を向上させることができる。

　[項目１１]
　一対の基板を用意する工程と、前記一対の基板のうちの一方の基板の外周に沿って閉じた環状の外側シール材を付与するとともに、前記外側シール材の内側の領域の所定の位置において、途切れた環状、点状または面状に孔周辺シール材を付与する工程と、前記一方の基板における、前記外側シール材の内側かつ前記孔周辺シール材の外側の位置に、液晶材料を滴下する工程と、前記液晶材料が滴下された一方の基板と他方の基板とを貼り合わせる工程であって、前記一対の基板間で前記孔周辺シール材を押し延ばした後に硬化させることによって環状または面状の孔周辺シール部を形成するとともに、前記液晶材料を前記一対の基板間に広げる工程と、前記環状または面状の孔周辺シール部の内側に貫通孔を形成する工程とを包含する、液晶パネルの製造方法。

　項目１１の液晶パネルの製造方法によれば、液晶滴下法を利用して、表示領域に孔が設けられた液晶パネルを製造することができ、また、孔周辺での表示品位の低下が防止される。

　本発明の実施形態による表示パネルは、携帯型ゲーム機、スマートフォン等の種々の電子機器において広く利用される。

１００　液晶表示装置（電子機器）
１０　液晶パネル
１０Ａ　貫通孔
１１　ＴＦＴ基板
１２　対向基板
１３　シール材
１３Ａ　孔周辺シール部
１３Ｂ　外側シール部
１４　液晶層
１５　光学フィルム層
２０　駆動回路
３０　入出力デバイス
３５　層状体（カラーフィルタ層や層間絶縁膜など）
４０　バックライト
ＲＦ　額縁領域（非アクティブエリア）
ＲＦ２　非表示領域（孔周辺）
ＲＡ　表示領域（アクティブエリア）

Claims

　基板および前記基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、
　前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部を備え、
　前記孔周辺シール部は、前記孔を囲む環状または少なくとも１つの開放部を有する途切れた環状の第１シール部と、前記第１シール部が規定する環の一部または前記少なくとも１つの開放部に対応する位置に設けられた少なくとも１つの第２シール部とを含む、表示パネル。
　前記第１シール部は、前記少なくとも１つの開放部を有する途切れた環状に形成されており、前記少なくとも１つの第２シール部は、前記少なくとも１つの開放部によって形成された開口を塞ぐ封止部材である、請求項１に記載の表示パネル。
　前記第１シール部は、環状に形成されており、前記少なくとも１つの第２シール部は、前記第１シール部が規定する環の一部分と重なるように設けられた凸状構造体である、請求項１に記載の表示パネル。
　基板および前記基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、
　前記孔を形成する前に前記基板上において前記孔を形成する位置に付与された点状または面状のシール材を面内方向に拡張することによって形成される孔周辺シール部を備え、前記シール材の拡張を妨げる制限構造が設けられている、表示パネル。
　基板および前記基板上に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、
　前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、
　前記基板上に設けられ前記表示領域を覆う層状体とを備え、
　前記孔の周囲において、前記層状体が設けられていない環状の領域が形成されており、前記環状の領域に前記孔周辺シール部が配置されている、表示パネル。