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WO2012111186A1 - 透明樹脂基板 - Google Patents

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WO2012111186A1
WO2012111186A1 PCT/JP2011/067908 JP2011067908W WO2012111186A1 WO 2012111186 A1 WO2012111186 A1 WO 2012111186A1 JP 2011067908 W JP2011067908 W JP 2011067908W WO 2012111186 A1 WO2012111186 A1 WO 2012111186A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
epoxy resin
substrate
transparent resin
refractive index
resin substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2011/067908
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English (en)
French (fr)
Inventor
牧野 繁男
航 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
PRINTEC Corp
Air Water Inc
Original Assignee
PRINTEC Corp
Air Water Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by PRINTEC Corp, Air Water Inc filed Critical PRINTEC Corp
Publication of WO2012111186A1 publication Critical patent/WO2012111186A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/32Epoxy compounds containing three or more epoxy groups
    • C08G59/3218Carbocyclic compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/16Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer formed of particles, e.g. chips, powder or granules
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/10Semiconductor bodies
    • H10F77/16Material structures, e.g. crystalline structures, film structures or crystal plane orientations
    • H10F77/169Thin semiconductor films on metallic or insulating substrates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2262/00Composition or structural features of fibres which form a fibrous or filamentary layer or are present as additives
    • B32B2262/10Inorganic fibres
    • B32B2262/101Glass fibres
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2361/00Phenoplast, aminoplast
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2363/00Epoxy resins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
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    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202LCD, i.e. liquid crystal displays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133302Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Definitions

  • the present invention relates to a transparent resin substrate having colorless transparency obtained from an epoxy resin composition. More specifically, the present invention relates to a transparent resin substrate having colorless transparency obtained from an epoxy resin composition containing a trifunctional hydrogenated epoxy resin.
  • a liquid crystal display comprising an epoxy resin sheet such as a cured product obtained by curing an epoxy resin composition containing an acid anhydride curing agent and a curing catalyst on an epoxy resin as a plastic material that can replace glass as a substrate material.
  • Transparent resin substrates for elements have been proposed (see Patent Document 1 and Patent Document 2).
  • a transparent laminate has been proposed by using a bisphenol type epoxy resin as a high refractive index resin and a hydrogenated bisphenol type epoxy resin as a low refractive index resin (see Patent Document 5).
  • the proposed transparent laminated plate is a hydrogenated bisphenol type epoxy resin, which has a low glass transition temperature, resulting in a decrease in heat resistance of the resulting cured product.
  • epoxy resins with high heat resistance are mostly polyfunctional epoxy resins, and these epoxy resins are usually colored, and are colorless and transparent, and require flat panel displays, various display panels, and solar cells. It is unsuitable for such applications.
  • the present invention is intended to fundamentally solve these problems of the prior art.
  • the present invention is colorless and excellent in transparency, and has a refractive index close to that of glass fiber (glass cloth). It is an object of the present invention to provide a colorless and transparent resin substrate having a high glass transition temperature and excellent heat resistance.
  • the present invention provides a transparent resin substrate having an excellent performance of being colorless and excellent in transparency and excellent in heat resistance even when glass fibers are used.
  • the transparent resin substrate of the present invention is used for applications such as a liquid crystal display element substrate, an organic EL display element substrate, a display element plastic substrate, a circuit forming plastic substrate, an active matrix display substrate, and a solar cell transparent substrate. Suitable.
  • the present invention uses a specific hydrogenated epoxy resin having a refractive index close to that of glass fiber and having a high glass transition temperature and excellent heat resistance.
  • the object is to provide a transparent resin substrate having high heat resistance.
  • the present invention includes the following transparent resin substrates. [1] A transparent resin substrate obtained from an epoxy resin composition containing an epoxy resin (a) represented by the following general formula (1) and having a refractive index in the range of 1.52 to 1.58.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • the refractive index of the epoxy resin composition containing the epoxy resin (a) and the bifunctional or higher functional epoxy resin is in the range of 1.52 to 1.58, and the epoxy resin composition is cured.
  • the transparent resin substrate as described above, wherein the transparent resin substrate is a plastic substrate for display elements, a plastic substrate for circuit formation, an active matrix display substrate, or a transparent substrate for solar cells.
  • the refractive index with the glass fiber can be approximated, and even if the glass fiber is included in the resin substrate, the transparency is improved.
  • a transparent resin substrate capable of ensuring high transparency without being damaged is provided.
  • the epoxy resin (a) the glass transition temperature of the resin composition can be improved, and the high heat resistance of the transparent resin substrate can be ensured.
  • Transparent resin substrate that is colorless and highly transparent and has high heat resistance and high durability and reliability even when glass fibers are included in the resin substrate according to the present invention. It became possible to provide.
  • FIG. 1 is an NMR analysis chart of the trifunctional hydrogenated epoxy resin used in Example 1.
  • FIG. 2 is an IR analysis chart of the trifunctional hydrogenated epoxy resin used in Example 1.
  • the epoxy resin (a) used in the present invention is a tri- or higher functional hydrogenated epoxy resin represented by the following general formula (1).
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 1, R 2 and R 3 are methyl groups
  • R 4, R 5, those R 6, and R 7 is a hydrogen atom
  • the glycidyl ether group is preferably bonded to the para position of the 6-membered cyclic group.
  • the trifunctional or higher functional hydrogenated epoxy resin (a) represented by the formula (1) has a refractive index of 1.52 particularly when the refractive index of the glass fiber is, for example, 1.554. From 1.53 to 1.58, preferably from 1.53 to 1.57.
  • the refractive index of the epoxy resin (a) is preferably in the range of n ⁇ 0.03 to n + 0.03, where n is the refractive index of the glass fiber. In the case of less than n ⁇ 0.03, or in the case of n + 0,03 or more, transparency is impaired due to a difference in refractive index from glass fiber.
  • the glass transition temperature of the resin using the trifunctional or higher hydrogenated epoxy resin (a) described in the general formula (1) is 150 ° C. or higher, more preferably 170 ° C.
  • the hydrogenated epoxy resin (a) is preferably 20% or more, more preferably 40%, based on the total amount of the epoxy resin. % Or more is preferable.
  • the epoxy resin (a) used in the present invention can be appropriately prepared based on the description in the present specification. For example, a method obtained by reacting an epichlorohydrin with a phenol compound corresponding to the following general formula (2) and hydrogenating the resulting aromatic epoxy resin can be mentioned. Examples of such a phenol compound include a phenol compound represented by the following general formula (2).
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 have the same meaning as in General Formula (1).
  • Specific examples of such a phenol compound include 1- [ ⁇ -methyl- ⁇ - (4′-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [ ⁇ ′, ⁇ ′-bis (4 ′′ -hydroxyphenyl) ethyl] benzene, 1- [ ⁇ -methyl- ⁇ - (2′-methyl-4′-hydroxy-5′-tertiarybutylphenyl) ethyl] -4- [ ⁇ ′, ⁇ ′-bis (2 ′′ -methyl-4 ′′- Hydroxy-5 ′′ -tertiarybutylphenyl) ethyl] benzene, 1- [ ⁇ -methyl- ⁇ - (3′-tertiarybutyl-4′-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [ ⁇ ′, ⁇ ′-bis (3 ′′ -tertiarybutyl-4′-hydroxy
  • Such a phenol compound can be obtained by, for example, protons such as hydrochloric acid according to the method described in JP-A-62-84035. Although it can be obtained by reacting phenols with isopropenyl acetophenone under an acid catalyst, it is not limited to this method, and can also be obtained as a commercial product (for example, Honshu Chemical Co., Ltd.) "Tri P-PA "," TrisX-PA “, etc.). In order to react the phenol compound with epichlorohydrin to form an aromatic epoxy resin, it can be produced by a known method in which dehydrochlorination is performed in the presence of an alkali such as sodium hydroxide. By hydrogenating this, the hydrogenated epoxy resin (a) of the present invention is obtained.
  • protons such as hydrochloric acid according to the method described in JP-A-62-84035.
  • isopropenyl acetophenone under an acid catalyst it is not limited to this method, and can also be obtained as a commercial product (
  • the epoxy resin composition of the present invention comprises a trifunctional or higher functional hydrogenated epoxy resin (a) as described above, an epoxy resin component containing a bifunctional or higher functional epoxy resin, and a curing agent for epoxy resin.
  • This embodiment is a preferred embodiment of the present invention.
  • bifunctional or higher functional epoxy resin examples include bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type and bisphenol type epoxy resins such as hydrogenated products thereof, glycidyl ether type epoxy resins such as polypropylene glycol diglycidyl ether type epoxy resins, Ester type epoxy resins such as diglycidyl phthalate type epoxy resin, novolak type epoxy resins such as phenol novolak type and cresol novolak type, bisphenol A novolak type epoxy resins and their hydrogenated products, triphenolmethane type epoxy resin, etc.
  • Nitrogen-containing cyclic polyfunctional epoxy resins such as naphthalene type aromatic resins, biphenyl type epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, ether ester type epoxy resins, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′,
  • An epoxy resin having an alicyclic structure such as 4′-epoxycyclohexanecarboxylate can be used.
  • the transparent resin substrate of the present invention can be obtained by curing the epoxy resin composition of the present invention.
  • the effect method is not particularly limited, and a conventionally known method can be used.
  • an effective curing agent can be used and, if necessary, curing can be performed in the presence of a curing accelerator.
  • the curing agent for epoxy resin is not particularly limited as long as it does not impair transparency, but in general, acid anhydrides, amines, polyhydric phenols, imidazoles, Bronsted acid salts, organic acids About hydrazides, dicyandiamide, polycarboxylic acids and the like are listed.
  • acid anhydrides include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, methyl nadic acid anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl anhydride
  • acid anhydrides include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, methyl nadic acid anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl anhydride
  • hexahydrophthalic acid methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, and methyl hydrogenated nadic anhydride.
  • curing agents may be used alone or in combination of two or more.
  • an acid anhydride curing agent it is preferable to use a curing accelerator in combination.
  • the curing accelerator include 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, tertiary amines such as triethylenediamine, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenyl
  • examples thereof include imidazoles such as imidazole, phosphorus compounds such as triphenylphosphine and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, quaternary ammonium salts, organometallic salts, and derivatives thereof.
  • the blending ratio of the epoxy resin and the acid anhydride curing agent is preferably set to 0.5 to 1.5 equivalents of acid anhydride group with respect to 1 equivalent of epoxy group in the epoxy resin, 0.8 to 1.2 equivalents are more preferred.
  • epoxy resin curing agents include amines such as ethylenediamine, propylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, their amine adducts, metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, m-xylylenediamine, 3,9- Aromatic, aliphatic and alicyclic amines such as bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraspiro [5,5] undecane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, benzyldimethylamine, 3 such as 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, 1-5azabicyclo (4,3,0) -nonene-7 Grade amines and their salts, and other amine curing agents Imidazoles such as 2-methylimidazo
  • curing agents may be used alone or in combination of two or more.
  • curing agents for epoxy resins include polyphenols such as bisphenol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, phenol novolacs, cresol novolacs, trishydroxyphenylmethanes, aralkyl polyphenols, biphenyl type phenols, And cyclopentadiene polyphenols, catechol, resorcin, hydroquinone and the like. These curing agents may be used alone or in combination of two or more. These epoxy resin curing agents may be used singly or in combination of two or more.
  • the blending ratio of the epoxy resin and the curing agent is not particularly limited, but is usually 0.01 to 200 parts by weight, preferably 0.1 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin component.
  • the cationic curing agent can increase the transparency of the epoxy resin.
  • the cationic curing agent include aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, ammonium salts, aluminum chelates, and boron trifluoride amine complexes. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the proportion of the cationic curing agent is not particularly limited, but is usually in the range of 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin component.
  • the epoxy resin composition used for the transparent resin substrate of the present invention the following components can be added and blended as necessary within a range that is not colored and does not impair transparency.
  • the epoxy resin composition of the present invention include metal oxides such as aluminum oxide and magnesium oxide, silicon compounds such as fine powder silica, fused silica and crystalline silica, transparent fillers such as Gatas beads, and metal water such as aluminum hydroxide. Examples thereof include oxides, mica, kaolin, quartz powder, bentonite, graphite, molybdenum disulfide.
  • solvents may be used alone or in combination of two or more. Usually, the range of 0.1 to 100 parts by weight is appropriate for 100 parts by weight of the epoxy resin component.
  • a known additive can be blended as necessary within a range that does not impair the object of the present invention. Examples of such additives include flame retardants, ion adsorbents, coupling agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, and other property improvers.
  • the epoxy resin composition of the present invention is used as a resin varnish after being dissolved and dispersed in a solvent as necessary.
  • solvent examples include, but are not limited to, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone, ethyl acetate, butyl acetate, inobutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methanol, Examples thereof include ethanol, isopropyl alcohol, 2-butanol, diacetone alcohol, N, N′-dimethylacetamide and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • E glass or NE glass which is generally used as a glass fiber for resin reinforcement as alkali-free glass, is generally used from the effect of improving impact resistance. preferable. Furthermore, it is preferable to treat the glass fiber surface with a silane coupling agent or the like for the purpose of improving impact resistance.
  • the refractive index of the glass fiber is preferably in the range of 1.52 to 1.58, and more preferably in the range of 1.53 to 1.57. If the refractive index of glass fiber is this range, the transparent resin substrate excellent in transparency can be obtained.
  • a glass fiber woven fabric or non-woven fabric can be used.
  • a prepreg can be prepared by impregnating, heating and drying the varnish of the epoxy resin composition in the glass fiber (glass woven fabric, glass cloth, glass nonwoven fabric, etc.) as described above.
  • the drying conditions are not particularly limited, but a drying temperature of 80 ° C. to 170 ° C. and a drying time of 1 to 20 minutes are preferable.
  • one sheet of this prepreg, or a plurality of sheets as necessary, are stacked and heated and pressed to cure the resin composition, thereby obtaining a transparent resin substrate.
  • the heating and pressing conditions are not particularly limited, but a temperature of 140 ° C. to 220 ° C., a pressure of 1 to 5 MPa, and a time of 10 minutes to 180 minutes are preferable.
  • the glass fiber content of the transparent resin substrate should be in the range of 30 to 70% by weight. preferable. If it is this range, high impact resistance, sufficient transparency, and heat resistance can be ensured by the reinforcing effect of glass fiber.
  • the transparent resin substrate of the present invention in order to be colorless and transparent, the light transmittance at a wavelength of 550 nm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and most preferably It is 88% or more. When the light transmittance is lower than 80%, transparency is inferior due to coloring or fogging of the resin substrate, and display performance cannot be sufficiently exhibited.
  • the difference in refractive index between the glass fiber and the epoxy resin composition is preferably 0.02 or less, and more preferably 0.01 or less.
  • Example 1 3 obtained by hydrogenating an aromatic epoxy resin represented by the following formula (4) obtained by reacting epichlorohydrin with a phenol compound represented by the following formula (3) as the epoxy resin (a) of the present invention.
  • a functional hydrogenated epoxy resin (I) was used.
  • the trifunctional hydrogenated epoxy resin (I) is a trifunctional hydrogenated epoxy resin represented by the general formula (1), wherein R 1 , R 2 and R 3 are methyl groups, and R 4 , R 5 , R 6 And R 7 is a hydrogen atom, and each glycidyl ether group is bonded to the para position of a 6-membered ring group, and has a refractive index of 1.547.
  • the trifunctional hydrogenated epoxy resin (I) used in this example is a trifunctional hydrogenated epoxy resin represented by the general formula (1).
  • R 1 , R 2 and R 3 is a methyl group
  • R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 are hydrogen atoms
  • the glycidyl ether groups each correspond to those bonded to the para position of the 6-membered ring group
  • the ratio of the number of hydrogen atoms / the number of hydrogen atoms on the aromatic carbon is 54/4, but the actual value of the signal derived from the hydrogen atom on the aliphatic carbon (chemical shift 0.5 to 4.3) / aromatic It was confirmed that the ratio of the area values of signals derived from hydrogen atoms on group carbon (chemical shift 6.8 to 7.2) also corresponded to this value.
  • an IR analysis chart of the trifunctional hydrogenated epoxy resin (I) is shown in FIG. 2, and the IR analysis chart also supported the above conclusion.
  • a glass cloth (Nittobo # 3313 type; refractive index: 1.554) is impregnated with the above epoxy resin varnish, heated at 140 ° C. for 4 minutes to remove the solvent, and the epoxy resin is semi-cured to prepare a prepreg. Prepared.
  • One prepreg was press molded at 170 ° C. and 2 MPa for 2 hours with a press machine to obtain a transparent resin substrate having a thickness of 0.08 mm. About the obtained transparent resin substrate, the light transmittance and the glass transition temperature were measured. The measurement results are shown in Table 1.
  • Example 2 70 parts by weight of trifunctional hydrogenated epoxy resin (I) used in Example 1, trisphenol type trifunctional epoxy resin; chemical name: 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [ 4- [1,1-bis [4-([2,3-epoxypropoxy] phenyl)] ethyl] phenyl] propane; 30 parts by weight of refractive index 1.606), methylhexahydrophthalic anhydride as a curing agent 78 parts by weight (“Rikacid MH-700” manufactured by Nippon Nippon Chemical Co., Ltd.) and 1 part of tetraphenylphosphonium bromide (“TPP-PB” manufactured by Hokuko Chemical) as a curing accelerator were added, and 50 parts by weight of methyl ethyl ketone was added thereto.
  • TPP-PB tetraphenylphosphonium bromide
  • the varnish of the epoxy resin composition was prepared by stirring and dissolving at normal temperature.
  • the refractive index of this epoxy resin composition was 1.563.
  • a prepreg was prepared, and one sheet of this prepreg was press-molded at 170 ° C. and 2 MPa for 2 hours with a press machine, thereby forming a 0.08 mm thick transparent resin substrate. Obtained. About the obtained transparent resin substrate, the light transmittance and the glass transition temperature were measured. The measurement results are shown in Table 1.
  • Example 3 50 parts by weight of the trifunctional hydrogenated epoxy resin (I) used in Example 1, 50 parts by weight of hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (“YX8000” refractive index 1.500 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), curing agent As a compound, 79 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride (“Ricacid MH-700” manufactured by Nippon Nippon Chemical Co., Ltd.) and 1 part of tetraphenylphosphonium bromide (“TPP-PB” manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) as a curing accelerator, 30 parts by weight of methyl ethyl ketone was added thereto and dissolved by stirring at room temperature to prepare a varnish of an epoxy resin composition.
  • Ricacid MH-700 manufactured by Nippon Nippon Chemical Co., Ltd.
  • TPP-PB tetraphenylphosphonium bromide
  • the refractive index of this epoxy resin composition was 1.523.
  • a prepreg was prepared, and one sheet of this prepreg was press-molded at 170 ° C. and 2 MPa for 2 hours with a press machine, thereby forming a 0.08 mm thick transparent resin substrate. Obtained. About the obtained transparent resin substrate, the light transmittance and the glass transition temperature were measured. The measurement results are shown in Table 1.
  • Example 4 40 parts by weight of the trifunctional hydrogenated epoxy resin (I) used in Example 1, 60 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (“E828” refractive index 1.540 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), as a curing agent, 83 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride (“Rikacid MH-700” manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.) and 1 part of tetraphenylphosphonium bromide (“TPP-PB” manufactured by Hokuko Chemical) as a curing accelerator
  • An epoxy resin composition varnish was prepared by adding 30 parts by weight of methyl ethyl ketone and stirring and dissolving at room temperature. The refractive index of this epoxy resin composition was 1.546.
  • Example 1 a prepreg was prepared, and one sheet of this prepreg was press-molded at 170 ° C. and 2 MPa for 2 hours with a press machine, thereby forming a 0.08 mm thick transparent resin substrate. Obtained. About the obtained transparent resin substrate, the light transmittance and the glass transition temperature were measured. The measurement results are shown in Table 1.
  • Example 5 20 parts by weight of the trifunctional hydrogenated epoxy resin (I) used in Example 1, and 80 parts by weight of a trisphenol type trifunctional epoxy resin (“TECHMORE VG3101L” refractive index 1.606 manufactured by Printec Co., Ltd.) 78 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride (“Rikacid MH-700” manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.) as the agent and 1 part of tetraphenylphosphonium bromide (“TPP-PB” manufactured by Hokuko Chemical) as the curing accelerator Then, 50 parts by weight of methyl ethyl ketone was added thereto and dissolved by stirring at room temperature to prepare a varnish of an epoxy resin composition.
  • a trisphenol type trifunctional epoxy resin (“TECHMORE VG3101L” refractive index 1.606 manufactured by Printec Co., Ltd.)
  • TPP-PB tetraphenylphosphonium bromide
  • the refractive index of this epoxy resin composition was 1.572.
  • a prepreg was prepared, and one sheet of this prepreg was press-molded at 170 ° C. and 2 MPa for 2 hours with a press machine, thereby forming a 0.08 mm thick transparent resin substrate. Obtained. About the obtained transparent resin substrate, the light transmittance and the glass transition temperature were measured. The measurement results are shown in Table 1.
  • Trisphenol type trifunctional epoxy resin (Comparative Example 1) Trisphenol type trifunctional epoxy resin; chemical name: 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4-([2,3-epoxypropoxy]] Phenyl)] ethyl] phenyl] propane; 100 parts by weight of refractive index 1.606), 78 parts by weight of methylhexahydrophthalic anhydride (“Ricacid MH-700” manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.), curing accelerator As a mixture, 1 part of tetraphenylphosphonium bromide (“TPP-PB” manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) was blended, 50 parts by weight of methyl ethyl ketone was added thereto, and the mixture was stirred and dissolved at room temperature to prepare a varnish of an epoxy resin composition.
  • TPP-PB tetraphenylphosphonium bromide
  • the refractive index of this epoxy resin composition was 1.602.
  • a prepreg was prepared, and one sheet of this prepreg was press-molded at 170 ° C. and 2 MPa for 2 hours with a press machine, thereby forming a 0.08 mm thick transparent resin substrate. Obtained. About the obtained transparent resin substrate, the light transmittance and the glass transition temperature were measured. The measurement results are shown in Table 1.
  • Comparative Example 2 100 parts by weight of hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation “YX8000” refractive index 1.500), methyl hexahydrophthalic anhydride (“Ricacid MH-700” manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.) as a curing agent 80 parts by weight, 1 part of tetraphenylphosphonium bromide (“TPP-PB” manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) is added as a curing accelerator, 20 parts by weight of methyl ethyl ketone is added to this, and dissolved by stirring at room temperature. A varnish of the resin composition was prepared. The refractive index of this epoxy resin composition was 1.510.
  • Example 1 a prepreg was prepared, and one sheet of this prepreg was press-molded at 170 ° C. and 2 MPa for 2 hours with a press machine, thereby forming a 0.08 mm thick transparent resin substrate. Obtained. About the obtained transparent resin substrate, the light transmittance and the glass transition temperature were measured. The measurement results are shown in Table 1.
  • Example 1 a prepreg was prepared, and one sheet of this prepreg was press-molded at 170 ° C. and 2 MPa for 2 hours with a press machine, thereby forming a 0.08 mm thick transparent resin substrate. Obtained. About the obtained transparent resin substrate, the light transmittance and the glass transition temperature were measured. The measurement results are shown in Table 1.
  • the present invention provides a colorless and transparent resin substrate that is colorless and excellent in transparency, has a refractive index close to that of glass fiber (glass cloth), has a high glass transition temperature, and has excellent heat resistance. To do.
  • the present invention provides a transparent resin substrate having an excellent performance of being colorless and excellent in transparency and excellent in heat resistance even when glass fibers are used.
  • the transparent resin substrate of the present invention is used for applications such as a liquid crystal display element substrate, an organic EL display element substrate, a display element plastic substrate, a circuit forming plastic substrate, an active matrix display substrate, and a solar cell transparent substrate. Suitable.

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Abstract

 本発明は、無色で且つ透明性に優れ、屈折率がガラス繊維(ガラスクロス)に近似しており、得られた硬化物のガラス転移温度が高く、耐熱性に優れた無色透明樹脂基板を提供する。 本発明により、式(1)で示され、屈折率が、1.52から1.58の範囲にある3官能以上の特定水添エポキシ樹脂(a)を含むエポキシ樹脂組成物から得られる透明樹脂基板が提供される。本発明の透明樹脂基板は、ガラス繊維を使用しても、無色で透明性に優れ、且つ耐熱性に優れるという優れた性能を有するものであって、液晶表示素子用基板、有機EL表示素子用基板などの、表示素子用プラスチック基板、及び回路形成用プラスチック基板、アクティブマトリックス表示基板、太陽電池用透明基板などの用途に適する。

Description

透明樹脂基板
 本発明は、エポキシ樹脂組成物から得られる無色透明性を有する透明樹脂基板に関する。さらに詳しくは、3官能性の水素化エポキシ樹脂が配合されたエポキシ樹脂組成物から得られる無色透明性を有する透明樹脂基板に関するものである。
 液晶ディスプレイ、ELディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及び太陽電池などにはガラス基板が広く用いられている。しかしながら、ガラスは割れやすい、屈曲性がない、重量が重く軽量化し難いなどの理由から、近年基板用の材料として、ガラスに代わり得る各種のプラスチック素材が検討されている。
 基板用の材料としてガラスに代替し得るプラスチック材料として、エポキシ樹脂に酸無水物系硬化剤及び硬化触媒を含むエポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物のようなエポキシ樹脂シートからなる液晶表示素子用透明樹脂基板が提案されている(特許文献1、特許文献2参照)。
 しかしながら、これらエポキシ樹脂シートやその他の樹脂製シートは、いずれもガラス基板に比べ線膨張係数が大きいため、熱の影響による発生する膨張及び収縮の影響によって、例えば液晶表示素子の電極形成時やカラーフィルター形成時に、位置ずれが生じる問題があった。
 線膨張係数を低減するため、樹脂にガラスパウダーやガラスクロスなどの無機フィラーを配合して、材料を複合化することが行われている。例えば、エポキシ樹脂に球状無機酸化物を分散させて、線膨張係数を5.00×10−5/℃以下に抑制することが試みられている(特許文献3参照)。また、エポキシ樹脂及びガラスクロスを含む樹脂シートも提案されている(特許文献4参照)。
 ガラスクロスを用いた場合には、線膨張係数の低減効果は大きいが、樹脂とガラスクロスの屈折率の差により、透明性が損なわれるため基板用材料として使用することが難しかった。そのために、ガラスクロスを用いた場合の透明性改善についての提案も行なわれている。
 ガラスクロスの屈折率により近づけるために、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を用い、この樹脂組成物をガラスクロスに含浸、硬化して透明樹脂基板を作製することが試みられている。このような目的で、高屈折率樹脂として、ビスフェノール型のエポキシ樹脂、低屈折率樹脂として、水添ビスフェノール型のエポキシ樹脂を用いることで、透明積層板が提案されている(特許文献5参照)。
 しかしながら、提案された透明積層板は、水添ビスフェノール型のエポキシ樹脂は、ガラス転移温度が低く、得られる硬化物の耐熱性が低下してしまうので、高温で長時間の信頼特性や、耐久性が要求される用途へは適用できないという問題を抱えている。
 一方、耐熱性の高いエポキシ樹脂は、多官能のエポキシ樹脂が多く、これらのエポキシ樹脂は、通常着色しており、無色で且つ透明性を要求されるフラットパネルディスプレイ、各種表示パネル、太陽電池用などの用途には不向きである。
特開平6−337408号公報 特開平7−199165号公報 特開2002−351353号公報 特開2004−51960号公報 特開2009−66931号公報
 そこで、本発明はこれら従来技術の問題を根本的に解決しようとするものであり、本発明は、無色で且つ透明性に優れ、屈折率がガラス繊維(ガラスクロス〉に近似しており、得られた硬化物のガラス転移温度が高く、耐熱性に優れた無色透明樹脂基板を提供しようとするものである。
 本発明は、ガラス繊維を使用しても、無色で透明性に優れ、且つ耐熱性に優れるという優れた性能を有する透明樹脂基板を提供するものである。
 本発明の透明樹脂基板は、液晶表示素子用基板、有機EL表示素子用基板などの、表示素子用プラスチック基板、及び回路形成用プラスチック基板、アクティブマトリックス表示基板、太陽電池用透明基板などの用途に適する。
 本発明は、屈折率がガラス繊維に近似しており、且つガラス転移温度が高い、耐熱性に優れた特定水添エポキシ樹脂を用いることで、ガラスに代替可能な、無色で透明性が高く、高耐熱性を有する、透明樹脂基板を提供することにある。
 本発明は、以下の各透明樹脂基板を包含するものである。
[1]下記一般式(1)で示され、屈折率が、1.52から1.58の範囲にあるエポキシ樹脂(a)を含むエポキシ樹脂組成物から得られる透明樹脂基板。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
(式中、R、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれが同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を示す。)
[2]前記エポキシ樹脂組成物が、さらにガラス繊維を含むことを特徴とする[1]に記載の透明樹脂基板。
[3]前記エポキシ樹脂組成物が、さらに2官能以上のエポキシ樹脂を含むことを特徴とする[1]または[2]に記載の透明樹脂基板。
[4]前記エポキシ樹脂(a)と、前記2官能以上のエポキシ樹脂とを含むエポキシ樹脂組成物の屈折率が1.52から1.58の範囲にあり、該エポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる透明樹脂基板のガラス転移温度が150℃以上であることを特徴とする[3]に記載の透明樹脂基板。
[5]透明樹脂基板が、表示素子用プラスチック基板、回路形成用プラスチック基板、アクティブマトリックス表示基板、太陽電池用透明基板である前記したいずれかの透明樹脂基板。
 本発明において、一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)を用いることによって、ガラス繊維との屈折率を近似させることができ、ガラス繊維が樹脂基板に包含されていても、透明性を損なうことがなく、透明性を高く確保することができる透明樹脂基板が提供される。
 さらに当該エポキシ樹脂(a)を用いることによって、樹脂組成物のガラス転移温度の向上が可能となり、透明樹脂基板の高耐熱性を確保することができる。
 本発明によってガラス繊維が樹脂基板に包含されていても、ガラスに代替可能な、無色で透明性が高く、且つ高温での耐久性や信頼性に優れた、高い耐熱性を有する、透明樹脂基板を提供することが可能となった。
 第1図は、実施例1で用いた3官能水添エポキシ樹脂のNMR分析チャートである。
 第2図は、実施例1で用いた3官能水添エポキシ樹脂のIR分析チャートである。
 本発明において使用されるエポキシ樹脂(a)は、下記一般式(1)で示される3官能以上の水添エポキシ樹脂である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
 式中、R、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれが同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を示す。
 上記一般式(1)において、R、R及びRがメチル基であり、R、R、R、及びRが水素原子であるものは、原料入手の容易さ及び硬化物の耐熱性の点において好ましいものであり、また、グリシジルエーテル基は、それぞれ6員環基のパラ位に結合していることが望ましい。
 この前記式(1)で示される3官能以上の水添エポキシ樹脂(a)は、特にガラス繊維の屈折率が例えば1.554である場合、この水添エポキシ樹脂の屈折率は、1.52から1.58であること、好ましくは1.53から1.57であることが望ましい。
 エポキシ樹脂(a)の屈折率は、ガラス繊維の屈折率をnとすると、n−0.03からn+0.03の範囲のものであることが望ましい。n−0.03未満の場合、またはn+0,03以上の場合は、ガラス繊維との屈折率の差により、透明性が損なわれる。
 また、前述一般式(1)に記載の、3官能以上の水添エポキシ樹脂(a)を用いた樹脂のガラス転移温度は、150℃以上であること、さらに好ましくは170℃以上であることが望ましい。ガラス転移温度が、150℃未満である場合、樹脂の耐熱性が低いために、透明樹脂基板としての耐熱性が低下し、高温の長時間での信頼性や、耐久性に問題を起こす恐れがある。また、アクティブマトリックスタイプの液晶表示素子基板に用いた場合に、TFT素子形成工程で変形し、表面形状に問題を起こすなどの表示素子用基板などの製造工程において問題となることがあり得る。
 この水添エポキシ樹脂(a)は、前記のガラス繊維との屈折率、及びガラス転移温度の両方を満足させるために、エポキシ樹脂総量に対し、好ましくは20%以上であること、さらに好ましくは40%以上含有されていることが好ましい。この水添エポキシ樹脂の含有量が低すぎる場合、屈折率がガラス繊維との差が大きくなり、透明性に劣る樹脂基板となるおそれがあり、さらに樹脂のガラス転移温度が150℃未満となって、樹脂基板の耐熱性が問題となるおそれがある。
 本発明において使用されるエポキシ樹脂(a)は、本願明細書の記載に基づいて適宜調製することができる。例えば、下記一般式(2)に対応するフェノール化合物にエピクロルヒドリンを反応させて、得られる芳香族エポキシ樹脂を水素化することによって得る方法を挙げることができる。
 このような、フェノール化合物として、下記一般式(2)で表わされるフェノール化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
 一般式(2)中、R、R、R、R、R、R、及びRは、前記一般式(1)と同じ意味である。
 このようなフェノール化合物の具体例として、1−[α−メチル−α−(4’−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α’,α’−ビス(4”−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン、1−[α−メチル−α−(2’−メチル−4’−ヒドロキシ−5’−三級ブチルフェニル)エチル]−4−[α’,α’−ビス(2”−メチル−4”−ヒドロキシ−5”−三級ブチルフェニル)エチル]ベンゼン、1−[α−メチル−α−(3’−三級ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α’,α’−ビス(3”−三級ブチル−4”−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン、1−[α−メチル−α−(3’−メチル−4’−ヒドロキシ−5’−三級ブチルフェニル)エチル]−4−[α’,α’−ビス(3”−メチル−4”−ヒドロキシ−5”−三級ブチルフェニル)エチル]ベンゼン、1−[α−メチル−α−(3’,5’−ジメチル−4’−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α’,α’−ビス(3”,5”−ジメチル−4”−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン、1−[α−メチル−α−(2’,5’−ジメチル−4’−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α’,α’−ビス(2”,5”−ジメチル−4”−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼンなどを挙げることができる。このようなフェノ−ル化合物は、たとえば特開昭62−84035号公報に記載の方法に従い、塩酸等のプロトン酸触媒下でフェノール類とイソプロペニルアセトフェノンとを反応させて得ることができるが、この方法に限定されるものではない。また、市販品として入手することも可能である(たとえば本州化学(株)製「TrisP−PA」「TrisX−PA」など)。
 前記フェノール化合物をエピクロルヒドリンと反応させて芳香族エポキシ樹脂とするには、水酸化ナトリウム等のアルカリ存在下で脱塩化水素を行う公知の方法により製造することができる。これを水素化することにより本発明の水添エポキシ樹脂(a)が得られる。
 本発明の水添エポキシ樹脂(a)を調製する方法の例として、特開平2006−188605号公報に記載の方法を引用することができるが、これに限定されるものではない。
 本発明のエポキシ樹脂組成物が、前記のような本発明の3官能以上の水添エポキシ樹脂(a)と、2官能以上のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂成分とエポキシ樹脂用硬化剤とを配合してなるものである態様は、本発明の好ましい態様である。
 2官能以上のエポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型及びこれらの水添化物等のビスフェノール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、フタル酸ジグリシジルエステル型エポキシ樹脂等のエステル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型等のノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂およびこれらの水添化物、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂等のトリスフェノール型の多官能エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型やテトラグリシジルジアミノジフェニルメタン型、テトラグリシジルメタキシレンジアミン型、ヒダントイン型等の含窒素環型多官能エポキシ樹脂、ナフタレン型等の芳香族型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、エーテルエステル型エポキシ樹脂、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式構造を有するエポキシ樹脂などを用いることができる。これらのエポキシ樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 本発明の透明樹脂基板は、本発明のエポキシ樹脂組成物を硬化させることにより得ることができる。効果の方法としては、特に制限はなく従来公知の方法を用いることができる。たとえば、有効な硬化剤を用いて、必要に応じて硬化促進剤の存在下で硬化させることもできる。
 エポキシ樹脂用硬化剤としては、透明性を損なうものでなければ、特に制限されないが、一般的には、酸無水物類、アミン類、多価フェノール類、イミダゾール類、ブレンステッド酸塩類、有機酸ヒドラジド類、ジシアンジアミド頃、ポリカルボン酸類等が上げられる。例えば、酸無水物類として、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水メチルナジック酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水トリアルキルテトラヒドロフタル酸、メチル水添無水ナジック酸などが上げられる。中でも透明性が優れることから、無水メチルヘキサヒドロフタル酸やメチル水添無水ナジック酸が好ましい。これらの硬化剤は、単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
 酸無水物系硬化剤を使用する場合は、硬化促進剤を併用することが好ましい。この硬化促進剤としては、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン等の3級アミン類、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のリン化合物、四級アンモニウム塩、有機金属塩類、及びこれらの誘導体などが上げられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
 エポキシ樹脂と酸無水物系硬化剤との配合割合は、エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対し、酸無水物基が0.5~1.5当量に設定することが好ましく、0.8~1.2当量がより好ましい。
 エポキシ樹脂用硬化剤としては、例えばアミン類として、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、これらのアミンアダクト、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、m−キシリレンジアミン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラスピロ[5,5]ウンデカン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン等の芳香族、脂肪族及び脂環族アミン類、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、1−5アザビシクロ(4,3,0)−ノネン−7等の3級アミン類及びその塩類等が上げられ、その他アミン系硬化剤としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、ジシアンジアミド、ポリアミド等のアミド類、ジヒドラジド等のヒドラジド化合物類、メチルイミダゾリン、2−エチル−4−メチルイミダゾリン等のイミダゾリン系化合物類等が上げられる。これらの硬化剤は、単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
 エポキシ樹脂用硬化剤としては、例えば多価フェノール類として、ビスフェノール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノールノボラック類、クレゾールノボラック類、トリスヒドロキシフェニルメタン類、アラルキルポリフェノール類、ビフェニル型フェノール類、ジシクロペンタジエンポリフェノール類、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン等が上げられる。これらの硬化剤は、単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
 これらのエポキシ樹脂用硬化剤は、1種を単独で使用してもよいが、2種以上を併用して使用することも可能である。
 前記エポキシ樹脂と硬化剤との配合割合は、特に制限されないが、通常エポキシ樹脂成分100重量部に対して0.01~200重量部、好ましくは0.1~150重量部の範囲である。
 また、硬化剤としてカチオン系硬化剤を含有してもよい。カチオン系硬化剤は、エポキシ樹脂の透明性を高めることができる。カチオン系硬化剤として、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が上げられる。これらの硬化剤は、単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。カチオン系硬化剤の配合割合は、特に制限されないが、通常エポキシ樹脂成分100重量部に対して0.1~10重量部、好ましくは0.2~5重量部の範囲である。
 本発明の透明樹脂基板に用いられる、エポキシ樹脂組成物としては、着色が無く、透明性を損なわない範囲で、必要に応じて次の成分を添加配合することができる。
 本発明のエポキシ樹脂組成物に、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等の金属酸化物、微粉末シリカ、溶融シリカ、結晶性シリカ等のケイ素化合物、ガタスビーズ等の透明フィラー、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、マイカ、カオリン、石英粉末、ベントナイト、グラファイト、二硫化モリブデン等が上げられる。これらの溶剤は、単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。通常前記エポキシ樹脂成分100重量部に対し、0.1~100重量部の範囲が適当である。
 その他、必要に応じて公知の添加剤を、本発明の目的が損なわれない範囲で配合することができる。このような添加剤として、難燃剤、イオン吸着剤、カップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、その他の特性向上剤を挙げることができる。
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、必要に応じて溶剤に溶解、分散して樹脂ワニスとして使用するものである。この溶剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イノブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、2−ブタノール、ジアセトンアルコール、N,N’−ジメチルアセトアミド等が上げられる。これらの溶剤は、単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
 本発明の透明樹脂基板に使用される、ガラス繊維としては、耐衝撃性を高める効果から、一般的には、無アルカリガラスとして樹脂強化用ガラス繊維として汎用されている、EガラスやNEガラスが好ましい。さらにガラス繊維には耐衝撃性を向上させる目的で、シランカップリング剤等により、ガラス繊維の表面を処理することが好ましい。
 ガラス繊維の屈折率は、1.52~1.58の範囲であることが好ましく、1.53~1.57の範囲であることがより好ましい。ガラス繊維の屈折率がこの範囲であれば、透明性に優れた透明樹脂基板を得ることができる。本発明では、ガラス繊維の織布、または不織布を使用することができる。
 前記のようなガラス繊維(ガラス織布、ガラスクロス、ガラス不織布など)に、エポキシ樹脂組成物のワニスを含浸漬、加熱、乾燥させることにより、プリプレグを作製することができる。乾燥条件は特に限定されるものではないが、乾燥温度80℃~170℃、乾燥時間1~20分間の範囲が好ましい。
 次にこのプリプレグを1枚、または必要に応じて複数枚重ね合わせ、加熱加圧成形することにより、樹脂組成物を硬化させ、透明樹脂基板を得ることができる。加熱加圧成形条件は、特に限定されるものではないが、温度140℃~220℃、圧力1~5MPa、時間10分~180分間の範囲が好ましい。
 高い透明性を確保した、耐熱性が高く、耐衝撃性にも優れた透明樹脂基板を得る為に、この透明樹脂基板のガラス繊維の含有率は、30~70重量%の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、ガラス繊維の補強効果で高い耐衝撃性と、充分な透明性、耐熱性を確保することができる。
 また、本発明の透明樹脂基板を用いる場合、無色で透明である為には、波長が550nmにおける光透過率が80%以上であることが好ましく、さらに好ましくは85%以上であり、最も好ましくは88%以上である。光透過率が80%より低い場合は、樹脂基板の着色や曇りにより透明性が劣り、表示性能が充分に発揮できない。
 かかる透明樹脂基板において、波長550nmにおける光透過率を80%以上にする為には、本発明のエポキシ樹脂組成物とガラス繊維の屈折率を一致させることが好ましい。優れた透明性を得るには、ガラス繊維とエポキシ樹脂組成物との屈折率差が、0.02以下であることが好ましく、さらに0.01以下であることがより好ましい。
 以下に本発明を、実施例を用いてより具体的に説明する。しかしながら、本発明は、これらの例によって何ら制限されるものではない。
(実施例1)
 本発明のエポキシ樹脂(a)として、下記式(3)で表されるフェノール化合物に、エピクロルヒドリンを反応させて得られる下記式(4)の芳香族エポキシ樹脂を水素化することによって得られた3官能水添エポキシ樹脂(I)を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
 3官能水添エポキシ樹脂(I)は、前記一般式(1)で示される3官能水添エポキシ樹脂において、R、R及びRがメチル基であり、R、R、R、及びRが水素原子で、グリシジルエーテル基はそれぞれ6員環基のパラ位に結合しているものであって、屈折率が1.547のものである。
 3官能水添エポキシ樹脂(I)を100重量部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製「リカシッドMH−700」)を78重量部、硬化促進剤として、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学製「TPP−PB」)を1部配合し、これにメチルエチルケトン50重量部を添加して、常温で攪拌溶解することにより、エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。このエポキシ樹脂組成物の屈折率は、1.545であった。
 本実施例において用いた3官能水添エポキシ樹脂(I)のH−NMR分析チャート[溶媒はCDCl(TMS入り)を使用した]を第1図に示す。本実施例において用いた3官能水添エポキシ樹脂(I)は、前記一般式(1)で示される3官能水添エポキシ樹脂であって、一般式(1)において、R、R及びRがメチル基であり、R、R、R、及びRが水素原子で、グリシジルエーテル基は、それぞれ6員環基のパラ位に結合したものに対応し、脂肪族炭素上の水素原子数/芳香族炭素上の水素原子数の比は54/4となるが、実際の脂肪族炭素上の水素原子由来のシグナルの面積値(化学シフト0.5~4.3)/芳香族炭素上の水素原子由来のシグナルの面積値(化学シフト6.8~7.2)の比もこの値に対応していることが確認された。
 なお、参考として3官能水添エポキシ樹脂(I)のIR分析チャートを図2に示したが、IR分析チャートも上記結論を支持する結果であった。
 次に、ガラスクロス(日東紡製#3313タイプ;屈折率1.554)に、上記エポキシ樹脂ワニスを含浸し、140℃で4分間加熱し溶剤を除去し、エポキシ樹脂を半硬化させてプリプレグを調製した。このプリプレグを1枚、プレス機にて、170℃、2MPaにて、2時間プレス成形することによって、厚み0.08mmの透明樹脂基板を得た。得られた透明樹脂基板について、光透過率、及びガラス転移温度を測定した。測定結果を表1に示した。
(実施例2)
 実施例1で用いた3官能水添エポキシ樹脂(I)を70重量部、トリスフェノール型3官能エポキシ樹脂;化学名:2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−([2,3−エポキシプロポキシ]フェニル)]エチル]フェニル]プロパン;屈折率1.606)を30重量部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製「リカシッドMH−700」)を78重量部、硬化促進剤として、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学製「TPP−PB」)を1部配合し、これにメチルエチルケトン50重量部を添加して、常温で攪拌溶解することにより、エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。このエポキシ樹脂組成物の屈折率は、1.563であった。
 次に、実施例1と同様に、プリプレグを調製し、このプリプレグを1枚、プレス機にて、170℃、2MPaにて、2時間プレス成形することによって、厚み0.08mmの透明樹脂基板を得た。得られた透明樹脂基板について、光透過率、及びガラス転移温度を測定した。測定結果を表1に示した。
(実施例3)
 実施例1で用いた3官能水添エポキシ樹脂(I)を50重量部、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX8000」屈折率1.500)を50重量部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製「リカシッドMH−700」)を79重量部、硬化促進剤として、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学製「TPP−PB」)を1部配合し、これにメチルエチルケトン30重量部を添加して、常温で攪拌溶解することにより、エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。このエポキシ樹脂組成物の屈折率は、1.523であった。
 次に、実施例1と同様に、プリプレグを調製し、このプリプレグを1枚、プレス機にて、170℃、2MPaにて、2時間プレス成形することによって、厚み0.08mmの透明樹脂基板を得た。得られた透明樹脂基板について、光透過率、及びガラス転移温度を測定した。測定結果を表1に示した。
 (実施例4)
 実施例1で用いた3官能水添エポキシ樹脂(I)を40重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「E828」屈折率1.540)を60重量部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製「リカシッドMH−700」)を83重量部、硬化促進剤として、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学製「TPP−PB」)を1部配合し、これにメチルエチルケトン30重量部を添加して、常温で攪拌溶解することにより、エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。このエポキシ樹脂組成物の屈折率は、1.546であった。
 次に、実施例1と同様に、プリプレグを調製し、このプリプレグを1枚、プレス機にて、170℃、2MPaにて、2時間プレス成形することによって、厚み0.08mmの透明樹脂基板を得た。得られた透明樹脂基板について、光透過率、及びガラス転移温度を測定した。測定結果を表1に示した。
(実施例5)
 実施例1で用いた3官能水添エポキシ樹脂(I)を20重量部、トリスフェノール型3官能エポキシ樹脂(プリンテック(株)製「TECHMORE VG3101L」屈折率1.606)を80重量部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製「リカシッドMH−700」)を78重量部、硬化促進剤として、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学製「TPP−PB」)を1部配合し、これにメチルエチルケトン50重量部を添加して、常温で攪拌溶解することにより、エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。このエポキシ樹脂組成物の屈折率は、1.572であった。
 次に、実施例1と同様に、プリプレグを調製し、このプリプレグを1枚、プレス機にて、170℃、2MPaにて、2時間プレス成形することによって、厚み0.08mmの透明樹脂基板を得た。得られた透明樹脂基板について、光透過率、及びガラス転移温度を測定した。測定結果を表1に示した。
 (比較例1)
 トリスフェノール型3官能エポキシ樹脂;化学名:2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−([2,3−エポキシプロポキシ]フェニル)]エチル]フェニル]プロパン;屈折率1.606)を100重量部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製「リカシッドMH−700」)を78重量部、硬化促進剤として、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学製「TPP−PB」)を1部配合し、これにメチルエチルケトン50重量部を添加して、常温で攪拌溶解することにより、エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。このエポキシ樹脂組成物の屈折率は、1.602であった。
 次に、実施例1と同様に、プリプレグを調製し、このプリプレグを1枚、プレス機にて、170℃、2MPaにて、2時間プレス成形することによって、厚み0.08mmの透明樹脂基板を得た。得られた透明樹脂基板について、光透過率、及びガラス転移温度を測定した。測定結果を表1に示した。
 (比較例2)
 水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX8000」屈折率1.500)を100重量部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製「リカシッドMH−700」)を80重量部、硬化促進剤として、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学製「TPP−PB」)を1部配合し、これにメチルエチルケトン20重量部を添加して、常温で攪拌溶解することにより、エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。このエポキシ樹脂組成物の屈折率は、1.510であった。
 次に、実施例1と同様に、プリプレグを調製し、このプリプレグを1枚、プレス機にて、170℃、2MPaにて、2時間プレス成形することによって、厚み0.08mmの透明樹脂基板を得た。得られた透明樹脂基板について、光透過率、及びガラス転移温度を測定した。測定結果を表1に示した。
 (比較例3)
 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「E828」屈折率1.540)を100重量部、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化製「リカシッドMH−700」)を86重量部、硬化促進剤として、テトラフェニルホスホニウムブロマイド(北興化学製「TPP−PB」)を1部配合し、これにメチルエチルケトン20重量部を添加して、常温で攪拌溶解することにより、エポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。このエポキシ樹脂組成物の屈折率は、1.540であった。
 次に、実施例1と同様に、プリプレグを調製し、このプリプレグを1枚、プレス機にて、170℃、2MPaにて、2時間プレス成形することによって、厚み0.08mmの透明樹脂基板を得た。得られた透明樹脂基板について、光透過率、及びガラス転移温度を測定した。測定結果を表1に示した。
 前記した実施例1~5及び比較例1~3で得たエポキシ樹脂組成物、及び透明樹脂基板について用いた、各種物性、特性の評価方法は次の通りである。
a)光透過率
 分光光度計(U3200;日立製作所製)を用いて、λ=550nmの全光線透過率を測定した。
 無色透明性である判定基準として、上記の光透過率が80%以上のものが、無色透明性良好であり、80%未満の場合は無色透明性に問題があると評価した。
b)ガラス転移温度Tg
 TMA法(5℃/分昇温)にて測定した。
c)屈折率
 アッベ屈折計2T(アタゴ製)にて測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 表1に示されているとおり、本発明のエポキシ樹脂(a)を用いた実施例1~5は、無色で透明性が良好で、且つ、ガラス転移温度が150℃以上であり、高い耐熱性を確保している。一方、本発明のエポキシ樹脂(a)を用いない、比較例1~3では、透明性に問題が発生し、また、ガラス転移温度が150℃未満で、耐熱性に問題があり、透明樹脂基板としての使用が難しいことが確認された。
 本発明は、無色で且つ透明性に優れ、屈折率がガラス繊維(ガラスクロス)に近似しており、得られた硬化物のガラス転移温度が高く、耐熱性に優れた無色透明樹脂基板を提供するものである。
 本発明は、ガラス繊維を使用しても、無色で透明性に優れ、且つ耐熱性に優れるという優れた性能を有する透明樹脂基板を提供するものである。
 本発明の透明樹脂基板は、液晶表示素子用基板、有機EL表示素子用基板などの、表示素子用プラスチック基板、及び回路形成用プラスチック基板、アクティブマトリックス表示基板、太陽電池用透明基板などの用途に適する。

Claims (5)

  1.  下記一般式(1)で示され、屈折率が、1.52から1.58の範囲にあるエポキシ樹脂(a)を含むエポキシ樹脂組成物から得られる透明樹脂基板。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
    (式中、R、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれが同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を示す。)
  2. 前記エポキシ樹脂組成物が、さらにガラス繊維を含むことを特徴とする請求項1に記載の透明樹脂基板。
  3.  前記エポキシ樹脂組成物が、さらに2官能以上のエポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の透明樹脂基板。
  4.  前記述エポキシ樹脂(a)と、前記2官能以上のエポキシ樹脂とを含むエポキシ樹脂組成物の屈折率が1.52から1.58の範囲にあり、該エポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる透明樹脂基板のガラス転移温度が150℃以上であることを特徴とする請求項3に記載の透明樹脂基板。
  5. 透明樹脂基板が、表示素子用プラスチック基板、回路形成用プラスチック基板、アクティブマトリックス表示基板、太陽電池用透明基板であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の透明樹脂基板。
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