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WO2012090810A1 - 液晶表示装置 - Google Patents

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WO2012090810A1
WO2012090810A1 PCT/JP2011/079607 JP2011079607W WO2012090810A1 WO 2012090810 A1 WO2012090810 A1 WO 2012090810A1 JP 2011079607 W JP2011079607 W JP 2011079607W WO 2012090810 A1 WO2012090810 A1 WO 2012090810A1
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WO
WIPO (PCT)
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pixels
contact hole
pixel
liquid crystal
display device
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2011/079607
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English (en)
French (fr)
Inventor
由紀 川島
田坂 泰俊
海瀬 泰佳
登 中西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
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Priority to CN201180058831.9A priority Critical patent/CN103250092B/zh
Priority to JP2012550877A priority patent/JP5602881B2/ja
Priority to US13/990,891 priority patent/US8941804B2/en
Publication of WO2012090810A1 publication Critical patent/WO2012090810A1/ja
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134336Matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/40Arrangements for improving the aperture ratio

Definitions

  • the present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device in which a contact hole for connecting a common wiring and a common electrode is formed.
  • FPD thin flat panel display
  • Some FPDs use liquid crystal, light emitting diodes (LEDs), organic electroluminescence (organic EL), or the like as display elements.
  • LEDs light emitting diodes
  • organic EL organic electroluminescence
  • display devices using liquid crystals are actively researched and developed from the advantages of thinness, light weight, and low power consumption.
  • FIG. 6 shows a schematic configuration of a pixel of such a liquid crystal display device.
  • the pixel 41 is generally provided with a gate bus line 7 and a source bus line 8 orthogonal to each other, and is a common wiring that is a wiring for forming an auxiliary capacitor (Cs). 9 is provided in parallel with the gate bus line 7.
  • the common electrode 4 and the pixel electrode 6 are provided so as to overlap each other, and a thin film transistor (TFT) is provided as a switching element (active element) at the intersection of the gate bus line 7 and the source bus line 8.
  • TFT thin film transistor
  • Patent Document 1 discloses a configuration in which contact holes for connecting a common electrode and a common wiring are arranged in a staggered manner at a ratio of one for a plurality of pixels. As a result, the wiring resistance is reduced by connecting the high-resistance common electrode and the low-resistance common wiring, and the probability that the bus line and the common electrode are short-circuited via the contact hole is reduced.
  • Patent Document 1 discloses a configuration in which contact holes are not provided in all the pixels, and the contact holes are arranged in a staggered manner with respect to four pixels.
  • the pixel portion provided with the contact hole may appear streaks. For example, when the contact holes 12 are arranged with periodicity as shown in FIG. 7, streaks appear on the display panel 15 in an oblique direction (in the direction of the arrow N in the figure), which deteriorates the appearance. This becomes more remarkable as the degree of decrease in the aperture ratio due to the formation of the contact hole is larger.
  • an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of reducing the wiring resistance of the common electrode and preventing the display quality from being reduced. is there.
  • a liquid crystal display device is provided with a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate and corresponding to each column of the plurality of pixels.
  • a liquid crystal display device comprising: a liquid crystal layer sandwiched between a substrate and a second substrate facing the substrate; and a plurality of the pixels included in a certain partition region being repeatedly arranged, the liquid crystal display device being included in the partition region Any one of the above contact Is one of the four contact holes closest to the other contact hole, or one of the four contact holes closest to the other contact hole, and is closest to itself.
  • the display screen is more visible when the contact holes are arranged in the oblique direction than in the vertical direction or the horizontal direction. Not disturb.
  • one contact hole is provided for each source bus line. This is because, if the same number of contact holes are not arranged in all the source bus lines in the partition region, a difference in load occurs between the bus lines, which may degrade the display quality of the liquid crystal display device. Therefore, one (the same number) contact holes are arranged on all source bus lines in the partition region.
  • the contact hole is disposed at a position that satisfies the above two requirements.
  • the contact hole pixels are appropriately dispersed, so that the contact hole can be prevented from appearing as a streak or the like on the display screen.
  • the contact hole is used to connect the common electrode and the common wiring, the wiring resistance of the common electrode can be reduced. That is, according to one embodiment of the present invention, it is possible to realize both suppression of display quality deterioration due to contact holes and reduction of wiring resistance of the common electrode.
  • the liquid crystal display device In the liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention, two angles formed by two diagonal lines formed by four contact holes closest to one contact hole and the gate bus line in the partition region.
  • the contact hole pixels are appropriately dispersed by arranging one contact hole pixel in all the source bus lines in the partition region, so that the contact hole is appropriately distributed on the display screen. It is possible to prevent it from appearing as a streak or the like.
  • the contact hole since the contact hole is used to connect the common electrode and the common wiring, the wiring resistance of the common electrode can be reduced. That is, according to one embodiment of the present invention, it is possible to realize both suppression of display quality deterioration due to contact holes and reduction of wiring resistance of the common electrode.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating a schematic configuration of the pixel 1 of the liquid crystal display device according to the present embodiment.
  • 3 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the pixel 1 shown in FIG.
  • the pixel array is configured by arranging a plurality of pixels in a matrix, and a plurality of source bus lines are arranged corresponding to each column of the plurality of pixels and arranged corresponding to each row of the plurality of pixels.
  • a plurality of gate bus lines are arranged.
  • a gate bus line 7 for supplying a scanning signal and a source bus line 8 for supplying a data signal are provided orthogonally to form an auxiliary capacitor (Cs).
  • a common line 9 is provided in parallel with the gate bus line 7.
  • the common electrode 4 and the pixel electrode 6 are provided so as to overlap each other, and the liquid crystal display device according to the present embodiment is a horizontal electric field mode liquid crystal display device.
  • a thin film transistor (TFT) is provided as a switching element (active element) at the intersection of the gate bus line 7 and the source bus line 8. The gate electrode of the TFT is connected to the gate bus line 7, the drain electrode is connected to the pixel electrode 6, and the source electrode is connected to the source bus line 8.
  • the TFT substrate 32 (first substrate) made of the transparent substrate 21 having the alignment film 17 and the TFTs, and the counter substrate 33 made of the transparent substrate 31 having the alignment film 17 (
  • the liquid crystal layer 40 is sandwiched through the alignment film 17 between the pair of substrates.
  • a phase difference plate, a polarizing plate, and the like are provided on the outside of the pair of substrates (surface opposite to the opposing surfaces of both substrates) as necessary.
  • the TFT substrate 32 includes a TFT on the surface facing the counter substrate 33 on the transparent substrate.
  • the TFT has a semiconductor layer 22, a gate insulating film 23, a gate electrode 26, a first interlayer insulating film 24, a second interlayer insulating film 25, a pixel electrode 6, a drain electrode 27, and a source electrode 28.
  • the TFT gate electrode 26 on the TFT substrate 32 is formed of a part of the gate bus line 7, and the TFT source electrode 28 is formed of a part of the source bus line 8.
  • the semiconductor layer 22 includes a channel region 22a made of an intrinsic semiconductor into which no impurity is implanted and an impurity implanted region 22b made of an extrinsic semiconductor (P-type semiconductor or N-type semiconductor) into which the impurity is implanted. .
  • a drain region 29 and a source region 30 are formed in the impurity implantation region 22b.
  • a drain electrode 27 is connected to the drain region 29 in the semiconductor layer 22 through a contact hole 11 formed in the gate insulating film 23 and the first interlayer insulating film 24 covering the semiconductor layer 22.
  • a source electrode 28 is connected to the source region 30 through a contact hole 12 formed in the gate insulating film 23 and the first interlayer insulating film 24.
  • the drain electrode 27 is electrically connected to the pixel electrode 6 through the through hole 10 provided in the second interlayer insulating film 25 covering the gate bus line 7 and the source bus line 8.
  • the pixel electrode 6 is disposed on the TFT substrate 32 so as to overlap the common electrode 4, but the insulating film 14 is provided between the two electrodes.
  • the common electrode 4 when the common electrode 4 is formed of a transparent conductor, the common electrode 4 overlapping with the pixel electrode 6 transmits light, so that the transmission aperture ratio is increased, which contributes to the improvement of the overall transmittance. it can.
  • another common electrode 4 may also be formed on the counter substrate 33 side. When the other common electrode 4 is thus formed on the counter substrate 33 side, a vertical electric field can be formed between the pixel electrode 6 and the vertical alignment mode can be applied to the liquid crystal mode.
  • the contact hole 2 for connecting the common electrode 4 and the common wiring 9 via the through hole 10 ′ formed in the second interlayer insulating film 25 has the first hole.
  • An interlayer insulating film 24 is formed.
  • the contact holes 2 are not necessarily formed in all the pixels 1, but are formed in some of the pixels 1 and are formed by thinning out to some extent. The detailed formation position of the contact hole 2 will be described below.
  • the common electrode 4 of the pixel 1 When a transparent electrode such as an indium tin oxide (ITO) electrode is used as the common electrode 4 of the pixel 1, the wiring resistance value is higher than that of other electrodes such as the gate electrode 26, and the display quality such as crosstalk is reduced. May cause.
  • the common wiring 9 is formed of a gate electrode layer such as a gate electrode metal, it has a lower resistance than the common electrode 4. Therefore, in the present embodiment, the common electrode 4 and the common wiring 9 are connected via the contact hole 2. Accordingly, it is possible to reduce the deterioration of display quality by reducing the wiring resistance of the common electrode 4.
  • the contact holes 2 are preferably formed by being appropriately dispersed and thinned.
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing the arrangement position of the contact hole 2 in the present embodiment.
  • the pixel array 5 is formed by repeatedly arranging a plurality of pixels 1 included in a fixed rectangular partition region 20. Therefore, the partition area 20 is a constituent unit of the pixel array 5.
  • 13 shown in the figure is a pixel 1 in which the contact hole 2 is formed (hereinafter referred to as a contact hole pixel), whereas 3 shown in the figure is a pixel 1 in which the contact hole 2 is not formed. It is.
  • one pixel 1 is composed of three subpixels (R pixel, G pixel, and B pixel).
  • the contact hole 2 is defined as a subpixel. Either one is formed (in the case of this figure, B pixel).
  • the contact hole 2 does not need to be formed over the entire contact hole pixel 13 and may be formed in any one of the sub-pixels constituting the pixel 1.
  • the subpixels are not limited to R pixels, G pixels, and B pixels, and may be four or more subpixels, and are not particularly limited.
  • the four contact hole pixels 13 that are closest to the pixel P that is one contact hole pixel 13 in the partition region 20 are specified.
  • the above-mentioned pixel P is included in a quadrangle formed by these four pixels Q1 to Q4.
  • Any one contact hole pixel 13 included in the partition region 20 according to the present embodiment is any one of the four pixels Q1 to Q4 closest to the pixel P, or any one of the pixels Q1 to Q4. It is another pixel P.
  • any one contact hole pixel 13 included in the partition region 20 is any of the four contact hole pixels 13 closest to the other contact hole pixels 13 or the closest to the other contact hole pixels 13.
  • the contact hole pixels 13 are arranged on the pixel array 5 in an oblique direction. This is because the visibility of the display screen is not hindered when the contact hole pixels 13 are arranged in an oblique direction rather than in the vertical direction or the horizontal direction. The above is the first requirement for the arrangement position of the contact hole pixel 13.
  • FIG. 5 is a diagram schematically showing the pixel array 5.
  • the pixel interval is reduced, and the pixel interval is not particularly limited to this.
  • a contact hole pixel 13 is disposed on the gate bus line G9 in the source bus line S1, and one contact hole pixel 13 is disposed on the source bus line S1. It is only arranged.
  • a contact hole pixel 13 is disposed on the gate bus line G3, and only one contact hole pixel 13 is disposed in the source bus line S2.
  • the contact hole pixel 13 is arranged on any one of the gate bus lines. In this way, one contact hole pixel 13 is arranged for one source bus line 8 in the partition region 20.
  • the contact hole pixels 13 are arranged at positions that satisfy the above two requirements. As a result, the contact hole pixels 13 are appropriately dispersed on the pixel array 5, so that the contact hole pixels 13 can be prevented from appearing as streaks on the display screen.
  • the contact hole 2 is for connecting the common electrode 4 and the common wiring 9 in the first place, the wiring resistance of the common electrode 4 can be reduced. That is, according to the present embodiment, it is possible to realize both the suppression of the display quality deterioration caused by the contact hole 2 and the reduction of the wiring resistance of the common electrode 4.
  • the interval between the contact hole pixels 13 adjacent in the row direction is a reduction width of the wiring resistance of the common electrode 4 and a decrease in the aperture ratio due to the arrangement of the contact hole pixels 13. Is determined in consideration of the permissible amount and the display quality. The same applies to the distance between one contact hole pixel 13 and the four contact hole pixels 13 closest thereto.
  • the partition region has a length in the column direction of 40 pixels, and the row direction length. Is preferably a rectangular region having a length of 40 pixels.
  • the partition region has a length of 80 pixels in the column direction and 80 in the row direction. It is preferable that it is a rectangular area which is the length of the above-mentioned pixel.
  • a liquid crystal display device in which the contact holes are appropriately dispersed can be obtained by repeatedly arranging certain partition regions in which the contact holes are appropriately dispersed.
  • the pixel includes a plurality of subpixels, and the contact hole is formed in any of the plurality of subpixels. It is said.
  • the common electrode is formed of a transparent conductor.
  • the common electrode that overlaps the pixel electrode is a transparent conductor that transmits light
  • the transmission aperture ratio can be expanded, and the overall transmittance can be improved.
  • another common electrode is formed on the second substrate.
  • a vertical electric field can be formed between the pixel electrode and the vertical alignment mode can be applied to the liquid crystal mode.
  • Two liquid crystal display devices were manufactured in compliance with the above two requirements for the arrangement positions of the contact hole pixels (pixels in which the contact holes are formed).
  • a liquid crystal display device in which partition areas of 40 pixels ⁇ 40 pixels were repeatedly arranged was manufactured.
  • the contact is made such that the two angles formed by the two diagonal lines formed by the four contact hole pixels closest to one contact hole pixel and the gate bus line are 45 degrees, respectively. Hall pixels were arranged.
  • the interval between the contact hole pixels arranged on two adjacent gate bus lines is set to 9 pixels.
  • a liquid crystal display device in which partitioned areas of 80 pixels ⁇ 80 pixels were repeatedly arranged was produced.
  • two angles formed by two diagonal lines formed by the four contact hole pixels closest to one contact hole pixel and the gate bus line are 45 degrees and 66.8 degrees, respectively.
  • Contact hole pixels were arranged so that In addition, the distance between contact hole pixels arranged on two adjacent gate bus lines is 11 pixels.
  • the difference between the two angles formed by the two diagonal lines formed by the four contact hole pixels closest to one contact hole pixel and the gate bus line in the partition region is less than 30 degrees.
  • a liquid crystal display device with good display quality can be obtained with less noticeable stripes on the display screen.
  • the above two angles are 45 degrees or close to 45 degrees, respectively. It turned out that it is preferable to set it as an angle.
  • the liquid crystal display device according to the present invention can be suitably used for a display device of an electronic device such as a personal computer, a mobile phone, a portable information terminal, a portable music player, or a digital camera.

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Abstract

 本発明に係る液晶表示装置の区画領域(20)内の任意の1つの画素P(コンタクトホール画素(13))を選ぶ。画素Pは、他の画素Pに最も近接する4つの画素Q1~Q4(コンタクトホール画素(13))のいずれかであるか、自身に最も近接する4つの画素Q1~Q4によって形成される四角形に含まれる画素であると共に他の画素Pに最も近接する4つの画素Q1~Q4のいずれかである。さらに、4つの画素Q1~Q4によって形成される四角形の2つの対角線とゲートバスライン(線分AB)とがなす2つの角度の差が30度未満である。また、区画領域(20)内の各ソースバスラインには1つのコンタクトホール画素(13)が配置されている。

Description

液晶表示装置
 本発明は、液晶表示装置に関し、特に、共通配線と共通電極とを接続するコンタクトホールが形成された液晶表示装置に関する。
 近年では、従来主流であったブラウン管を使用した表示装置から、薄型のフラットパネルディスプレイ(FPD)の表示装置が広く利用されるようになっている。FPDには、表示素子として液晶、発光ダイオード(LED)、または、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)等を利用したものがある。中でも液晶を利用した表示装置は、薄型、軽量、および、低消費電力という利点から、その研究開発が盛んに行われている。
 このような液晶表示装置の画素の概略構成を図6に示す。図6に示すように、一般的に画素41には、ゲートバスライン7と、ソースバスライン8とが直交して設けられており、補助容量(Cs)を形成するための配線である共通配線9がゲートバスライン7と平行に設けられている。一方、共通電極4と画素電極6とは重畳して設けられ、ゲートバスライン7およびソースバスライン8の交差部には、スイッチング素子(アクティブ素子)として薄膜トランジスタ(TFT)が設けられている。ここで、共通電極4の配線に比較的抵抗の高い材料を用いた場合、クロストーク等の表示不良が懸念される。
 そこで、上記の表示不良を解決するために、共通電極と共通配線とを接続するコンタクトホールを設けることによって、共通電極の配線抵抗を低減する技術が開発されている。例えば、特許文献1には、共通電極と共通配線とを接続するコンタクトホールを、複数の画素に対して1つの割合で千鳥状に配置する構成が開示されている。これによって、高抵抗な共通電極と低抵抗な共通配線とを接続することで配線抵抗を低減していると共に、コンタクトホールを介してバスラインと共通電極とがショートする確率を低減している。
日本国公開特許公報「特開2004-109248号公報(2004年4月8日公開)」
 共通電極と共通配線とを接続するコンタクトホールをすべての画素に設けてしまうと、表示パネルの開口率が低下することによる輝度の低下等の表示不良が生じてしまう。これに対して、上述した特許文献1には、すべての画素にコンタクトホールを設けず、4つの画素に対して1つの割合でコンタクトホールを千鳥状に配置する構成が開示されている。しかしながら、コンタクトホールが設けられている画素の距離、ならびに、その位置関係の周期性によっては、コンタクトホールが設けられている画素部分がスジに見えてしまう場合がある。例えば、図7に示すような周期性を持ってコンタクトホール12を配置した場合、表示パネル15上では斜め方向(図中の矢印N方向)にスジが見えてしまい、見栄えが悪くなってしまう。これは、コンタクトホールの形成による開口率の低下の度合いが大きいほど、より顕著になる。
 そこで、本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、共通電極の配線抵抗を低減すると共に、表示品位の低減を防ぐことが可能な液晶表示装置を提供することにある。
 本発明の一態様に係る液晶表示装置は、上記課題を解決するために、第1基板上にマトリクス状に配置された複数の画素と、複数の上記画素の各列に対応して配置された複数のソースバスラインと、複数の上記画素の各行に対応して配置された複数のゲートバスラインと、上記画素ごとに、上記第1基板上に形成された画素電極と、上記第1基板上に形成され、上記画素電極と重畳する共通電極と、複数の上記画素のいずれかに形成されたコンタクトホールを介して上記共通電極と接続された共通配線と、上記第1基板と、該第1基板と対向する第2基板との間に挟持された液晶層とを備え、一定の区画領域に含まれる複数の上記画素を繰り返し配列してなる液晶表示装置であって、上記区画領域に含まれる任意の1つの上記コンタクトホールは、他の上記コンタクトホールに最も近接する4つの上記コンタクトホールのいずれかであるか、他の上記コンタクトホールに最も近接する4つの上記コンタクトホールのいずれかであると共に、自身に最も近接する4つの上記コンタクトホールによって形成される四角形であって、上記四角形の2つの対角線と、上記ゲートバスラインとがなす2つの角度の差が30度未満である上記四角形に含まれる上記コンタクトホールであり、上記区画領域内において、各上記ソースバスラインには、1つの上記コンタクトホールが形成されていることを特徴としている。
 上記の構成によれば、上記の2つの角度の差を30度未満とすることによって、コンタクトホールをそれぞれ縦方向あるいは横方向に配列するよりも、斜め方向に配列した方が表示画面の視認性を妨げない。さらに、本発明の一態様に係る液晶表示装置においては、1つのソースバスラインにつき、1つのコンタクトホールが配置されている。これは、区画領域内において、すべてのソースバスラインにコンタクトホールを同じ数だけ配置しなかった場合、バスライン同士に負荷の差が発生し、液晶表示装置の表示品位を落とす可能性がある。そのため、区画領域内におけるすべてのソースバスラインに1つ(同数)のコンタクトホールを配置している。
 したがって、本発明の一態様に係る液晶表示装置においては、コンタクトホールは上記の2つの要件を満たすような位置に配置されている。これによって、コンタクトホール画素が適宜分散されることになるので、コンタクトホールが表示画面上にスジ等になって見えてしまうのを防ぐことができる。また、そもそもコンタクトホールは共通電極と共通配線とを接続するためのものであるので、共通電極の配線抵抗を低抵抗にすることが可能である。すなわち、本発明の一態様によれば、コンタクトホールに起因する表示品位の低下の抑制と、共通電極の配線抵抗の低減との双方を実現することができる。
 本発明の他の目的、特徴、および優れた点は、以下に示す記載によって十分分かるであろう。また、本発明の利点は、添付図面を参照した次の説明で明白になるであろう。
 本発明の一態様に係る液晶表示装置においては、区画領域内において、1つのコンタクトホールに最も近接する4つのコンタクトホールによって形成される四角形の2つ対角線と、ゲートバスラインとがなす2つの角度の差を30度未満とし、なおかつ、区画領域内におけるすべてのソースバスラインに1つのコンタクトホール画素を配置することによって、コンタクトホール画素が適宜分散されることになるので、コンタクトホールが表示画面上にスジ等になって見えてしまうのを防ぐことができる。また、そもそもコンタクトホールは共通電極と共通配線とを接続するためのものであるので、共通電極の配線抵抗を低抵抗にすることが可能である。すなわち、本発明の一態様によれば、コンタクトホールに起因する表示品位の低下の抑制と、共通電極の配線抵抗の低減との双方を実現することができる。
本発明の一実施形態に係るコンタクトホールの配置位置を概略的に示す図である。 本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の画素の概略構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る画素の断面を示す図である。 本発明の一実施形態に係る画素アレイを概略的に示す図である。 本発明の一実施形態に係る画素アレイを概略的に示す図である。 従来の液晶表示装置の画素の概略構成を示す図である。 従来の画素アレイを概略的に示す図である。
 以下では、本発明に係る液晶表示装置の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
 (液晶表示装置の構成)
 まず、本実施形態に係る液晶表示装置における画素アレイを構成する画素について、図2および図3を参照して説明する。図2は、本実施形態に係る液晶表示装置の画素1の概略構成を示す図である。図3は、図2に示す画素1のA-A’矢視断面図である。
 画素アレイは、複数の画素をマトリクス状に配置して構成されており、複数の画素の各列に対応して複数のソースバスラインが配置されると共に、複数の画素の各行に対応して配置された複数のゲートバスラインが配置されている。
 より詳細には、図2に示すように、走査信号を供給するゲートバスライン7と、データ信号を供給するソースバスライン8とが直交して設けられており、補助容量(Cs)を形成するための配線である共通配線9がゲートバスライン7と平行に設けられている。一方、共通電極4と画素電極6とは重畳して設けられており、本実施形態に係る液晶表示装置は横電界モードの液晶表示装置である。また、ゲートバスライン7およびソースバスライン8の交差部には、スイッチング素子(アクティブ素子)として薄膜トランジスタ(TFT)が設けられている。TFTのゲート電極がゲートバスライン7に接続され、ドレイン電極が画素電極6に接続され、ソース電極がソースバスライン8に接続されている。
 図3に示すように、画素1においては、配向膜17およびTFTを備えた透明基板21からなるTFT基板32(第1基板)と、配向膜17を備えた透明基板31からなる対向基板33(第2基板)とが互いに対向して配置され、これら一対の基板間に液晶層40が配向膜17を介して挟持された構成を有している。これら一対の基板の外側(両基板の対向面とは反対側の面)には、図示しない位相差板および偏光板等が必要に応じて各々設けられている。
 TFT基板32は、透明基板上における対向基板33との対向面上に、TFTを備えている。TFTは、半導体層22、ゲート絶縁膜23、ゲート電極26、第1層間絶縁膜24、第2層間絶縁膜25、画素電極6、ドレイン電極27、および、ソース電極28を有している。TFT基板32におけるTFTのゲート電極26は、ゲートバスライン7の一部からなっており、TFTのソース電極28は、ソースバスライン8の一部からなっている。また、半導体層22は、不純物が注入されていない真性半導体からなるチャネル領域22aと、不純物が注入された外因性半導体(P形半導体あるいはN形半導体)からなる不純物注入領域22bとを備えている。不純物注入領域22bには、ドレイン領域29およびソース領域30が形成されている。
 半導体層22におけるドレイン領域29には、半導体層22を覆うゲート絶縁膜23および第1層間絶縁膜24に形成されたコンタクトホール11を介して、ドレイン電極27が接続されている。同様に、ソース領域30には、ゲート絶縁膜23および第1層間絶縁膜24に形成されたコンタクトホール12を介して、ソース電極28が接続されている。また、ドレイン電極27は、ゲートバスライン7およびソースバスライン8を覆う第2層間絶縁膜25に設けられたスルーホール10を介して画素電極6に電気的に接続されている。この際、TFT基板32上において、画素電極6は共通電極4と重畳されて配置されているが、両電極間には絶縁膜14が設けられている。ここで、共通電極4を透明導電体によって形成すると、画素電極6と重畳する共通電極4が光を透過することから、透過開口率が拡大し、全体的な透過率の向上に寄与することができる。なお、対向基板33側にも、他の共通電極4が形成されている構成にしてもよい。このように対向基板33側に他の共通電極4を形成した場合、画素電極6との間に垂直方向の電界を形成することができるため、液晶モードに垂直配向モードを適用することができる。
 ここで、本実施形態に係る画素1においては、共通電極4と共通配線9とを第2層間絶縁膜25に形成されたスルーホール10’を介して接続するためのコンタクトホール2が、第1層間絶縁膜24に形成されている。このコンタクトホール2は必ずしもすべての画素1に形成されているわけではなく、一部の画素1に形成されており、ある程度間引いて形成されている。コンタクトホール2の詳しい形成位置については、以下に説明する。
 (コンタクトホール2の配置)
 画素1の共通電極4に酸化インジウムスズ(ITO)電極等の透明電極を用いる場合、ゲート電極26等の他の電極と比較して配線抵抗値が高くなり、クロストーク等の表示品位の低下を引き起こす可能性がある。ここで、共通配線9は、ゲート電極メタル等のゲート電極レイヤで形成しているため、共通電極4と比較して低抵抗である。そこで、本実施形態では、コンタクトホール2を介して共通電極4と共通配線9とを接続している。これによって、共通電極4の配線抵抗を下げることによって、表示品位の低下を軽減させることが可能である。しかし、この場合、コンタクトホール2を形成することによる画素開口率の低下、および、コンタクトホール2に起因する歩留まりの低下等が懸念される。さらには、コンタクトホール2の配置位置によっては、コンタクトホール2が形成されている画素1がスジ等になって見えてしまう虞がある。そのため、コンタクトホール2は適当に分散させ、間引いて形成することが好ましい。
 そこで、本発明者らは、コンタクトホール2の配置位置に応じた表示品位について種々調査したところ、以下の形態が最も表示品位を損ねず、共通電極4の配線抵抗を低抵抗化することができることを見出した。その形態について、図1を参照して説明する。図1は、本実施形態におけるコンタクトホール2の配置位置を概略的に示す図である。
 図1に示すように、本実施形態に係る画素アレイ5は、一定の矩形の区画領域20に含まれる複数の画素1を繰り返し配列してなる。したがって、区画領域20が画素アレイ5の構成単位である。ここで、図に示す13は、コンタクトホール2が形成された画素1(以下、コンタクトホール画素と称す)であり、これに対して図に示す3は、コンタクトホール2が形成されていない画素1である。本実施形態では、図4に示すように、1つの画素1は3つの副画素(R画素、G画素、B画素)から構成されており、コンタクトホール画素13においてはコンタクトホール2を副画素のいずれか1つに形成している(本図の場合は、B画素)。このように、コンタクトホール2は、コンタクトホール画素13全体に渡って形成する必要はなく、画素1を構成する副画素のいずれか1つに形成すればよい。また、副画素は、R画素、G画素、および、B画素に限らず、4つ以上の副画素であってもよく、特に限定はない。
 本実施形態に係る画素アレイ5におけるコンタクトホール画素13の配置位置の要件は2つある。まず、1つ目について説明する。図1に示すように、区画領域20内の1つのコンタクトホール画素13である画素Pに最も近接する4つのコンタクトホール画素13である画素Q1~Q4を特定する。それら4つの画素Q1~Q4によって形成される四角形に上記の画素Pが含まれている。本実施形態に係る区画領域20に含まれる任意の1つのコンタクトホール画素13は、画素Pに最も近接する4つの画素Q1~Q4のいずれかであるか、画素Q1~Q4のいずれかであると共に他の画素Pである。すなわち、区画領域20に含まれる任意の1つのコンタクトホール画素13は、他のコンタクトホール画素13に最も近接する4つのコンタクトホール画素13のいずれかであるか、他のコンタクトホール画素13に最も近接する4つのコンタクトホール画素13のいずれかであると共に、自身に最も近接する4つのコンタクトホール画素13によって形成される四角形に含まれるコンタクトホール画素13である。
 さらに、本実施形態においては、上記の4つの画素Q1~Q4によって形成される四角形の2つの対角線と、ゲートバスライン(線分AB)とがなす2つの角度の差が30度未満である。すなわち、abs{∠ABQ1(=∠ABQ4)-∠BAQ2(=∠BAQ3)}<30度を満たすように、画素Q1~Q4は画素Pの周囲に配置されている。このように、∠ABQ1および∠BAQ2の差が30度未満であれば、コンタクトホール画素13は画素アレイ5上を斜め方向に配置されることになる。これは、コンタクトホール画素13をそれぞれ縦方向あるいは横方向に配列するよりも、斜め方向に配列した方が表示画面の視認性を妨げないためである。以上が、コンタクトホール画素13の配置位置の1つ目の要件である。
 続いて、2つ目の要件について説明する。図1に示すように、区画領域20内の任意の1つのコンタクトホール画素13は、区画領域20内において、いずれかのソースバスライン8に個別に配置されている。これについて、図5を参照して分かりやすく説明する。図5は、画素アレイ5を概略的に示す図である。本図では、コンタクトホール画素13の配置位置を分かりやすくするために画素間隔を縮めて図示しているのであって、画素間隔は特にこれに限定されるわけではない。
 図5に示すように、区画領域20内においては、ソースバスラインS1にはゲートバスラインG9上にコンタクトホール画素13が配置されており、該ソースバスラインS1には1つのコンタクトホール画素13が配置されているのみである。また、ソースバスラインS2にはゲートバスラインG3上にコンタクトホール画素13が配置されており、該ソースバスラインS2には1つのコンタクトホール画素13が配置されているのみである。ソースバスラインS3~S9においても同様にして、いずれか1つのゲートバスライン上にコンタクトホール画素13が配置されているのみである。このように、区画領域20内においては、1つのソースバスライン8につき、1つのコンタクトホール画素13が配置されている。これは、区画領域20内において、すべてのソースバスライン8にコンタクトホール画素13を同じ数だけ配置しなかった場合、バスライン同士に負荷の差が発生し、液晶表示装置の表示品位を落とす可能性がある。そのため、区画領域20内におけるすべてのソースバスライン8に1つのコンタクトホール画素13を配置することが好ましい。以上が、コンタクトホール画素13の配置位置の2つ目の要件である。
 したがって、本実施形態に係る画素アレイ5においては、コンタクトホール画素13は上記の2つの要件を満たすような位置に配置されている。これによって、コンタクトホール画素13が画素アレイ5上に適宜分散されることになるので、コンタクトホール画素13が表示画面上にスジ等になって見えてしまうのを防ぐことができる。また、そもそもコンタクトホール2は共通電極4と共通配線9とを接続するためのものであるので、共通電極4の配線抵抗を低抵抗にすることが可能である。すなわち、本実施形態によれば、コンタクトホール2に起因する表示品位の低下の抑制と、共通電極4の配線抵抗の低減との双方を実現することができる。
 ところで、行方向に隣接するコンタクトホール画素13同士の間隔(図1に示した間隔D)は、共通電極4の配線抵抗の下げ幅、および、コンタクトホール画素13を配置することによる開口率の低下の許容量、ならびに、表示品位をそれぞれ鑑みて決定される。これは、1つのコンタクトホール画素13と、それに最も近接する4つのコンタクトホール画素13との距離についても同様である。
 本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
 〔実施形態の総括〕
 以上のように、本発明の一態様に係る液晶表示装置においては、上記区画領域は、上記列の方向の長さが40個分の上記画素の長さであり、上記行の方向の長さが40個分の上記画素の長さである矩形領域であることが好ましい。
 また、本発明の一態様に係る液晶表示装置においては、上記区画領域は、上記列の方向の長さが80個分の上記画素の長さであり、上記行の方向の長さが80個分の上記画素の長さである矩形領域であることが好ましい。
 上記の構成によれば、コンタクトホールが適宜分散されている一定の区画領域を繰り返し配列することによって、上記のコンタクトホールが適宜分散された液晶表示装置が得られる。
 また、本発明の一態様に係る液晶表示装置においては、上記画素は、複数の副画素から構成されており、上記コンタクトホールは、複数の上記副画素のいずれかに形成されていることを特徴としている。
 上記の構成によれば、画素を構成する複数の副画素のいずれかにコンタクトホールを形成することで十分にコンタクトホールに起因する表示品位の低下の抑制と、共通電極の配線抵抗の低減との双方を実現することができる。
 また、本発明の一態様に係る液晶表示装置においては、上記共通電極は、透明導電体により形成されていることを特徴としている。
 上記の構成によれば、画素電極と重畳する共通電極は光が透過する透明導電体であるため、透過開口率が拡大し、全体的な透過率の向上に寄与することができる。
 また、本発明の一態様に係る液晶表示装置においては、上記第2基板には、他の上記共通電極が形成されていることを特徴としている。
 上記の構成によれば、第2基板側に共通電極を形成した場合、画素電極との間に垂直方向の電界を形成することができるため、液晶モードに垂直配向モードを適用することができる。
 発明の詳細な説明の項においてなされた具体的な実施形態または実施例は、あくまでも、本発明の技術内容を明らかにするものであって、そのような具体例にのみ限定して狭義に解釈されるべきものではなく、本発明の精神と次に記載する請求の範囲内で、いろいろと変更して実施することができるものである。
 以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これら実施例に限定されるものではない。
 上述のコンタクトホール画素(コンタクトホールが形成されている画素)の配置位置の2つの要件を遵守して2つの液晶表示装置を作製した。まず、1つ目の液晶表示装置においては、40画素×40画素の区画領域を繰り返し配列してなる液晶表示装置を作製した。区画領域内においては、1つのコンタクトホール画素に最も近接する4つのコンタクトホール画素によって形成される四角形の2つ対角線と、ゲートバスラインとがなす2つの角度が、それぞれ45度となるようにコンタクトホール画素を配置した。また、隣り合う2つのゲートバスラインに配置されているコンタクトホール画素同士の間隔を9画素とした。作製した液晶表示装置の開口率を15%低下させたところ、表示画面上にスジ等は認められず、良好な表示品位が得られた。さらに、作製した液晶表示装置の開口率を30%低下させたところ、表示画面上のスジ等はほとんど認められず、良好な表示品位が得られた。
 続いて、2つ目の液晶表示装置においては、80画素×80画素の区画領域を繰り返し配列してなる液晶表示装置を作製した。区画領域内においては、1つのコンタクトホール画素に最も近接する4つのコンタクトホール画素によって形成される四角形の2つの対角線と、ゲートバスラインとがなす2つの角度が、それぞれ45度と66.8度となるようにコンタクトホール画素を配置した。また、隣り合う2つのゲートバスラインに配置されているコンタクトホール画素同士の間隔を11画素とした。作製した液晶表示装置の開口率を15%低下させたところ、表示画面上のスジ等はほとんど目立たず、良好な表示品位が得られた。さらに、作製した液晶表示装置の開口率を30%低下させたところ、表示画面上のスジ等はほとんど目立たず、良好な表示品位が得られた。
 以上のように、区画領域内において、1つのコンタクトホール画素に最も近接する4つのコンタクトホール画素によって形成される四角形の2つ対角線と、ゲートバスラインとがなす2つの角度の差を30度未満とし、なおかつ、区画領域内におけるすべてのソースバスラインに1つのコンタクトホール画素を配置することによって、表示画面上のスジ等は目立たず、良好な表示品位を持つ液晶表示装置が得られる。特に、前者の液晶表示装置の方が表示画面上にスジ等がほとんど認められず、より良好な表示品位が得られたことから、上記の2つの角度をそれぞれ45度、あるいは、45度に近い角度とすることが好ましいことが分かった。
 本発明に係る液晶表示装置は、パーソナルコンピュータ、携帯電話、携帯情報端末、携帯音楽再生機、または、デジタルカメラ等の電子機器の表示装置に好適に用いることができる。
 1  画素
 2  コンタクトホール
 3  コンタクトホールが形成されていない画素
 4  共通電極
 5  画素アレイ
 6  画素電極
 7  ゲートバスライン
 8  ソースバスライン
 9  共通配線
10  スルーホール
10’ スルーホール
11  コンタクトホール
12  コンタクトホール
13  コンタクトホールが形成されている画素
14  絶縁膜
15  表示パネル
17  配向膜
20  区画領域
21  透明基板
22  半導体層
22a チャネル領域
22b 不純物注入領域
23  ゲート絶縁膜
24  第1層間絶縁膜
25  第2層間絶縁膜
26  ゲート電極
27  ドレイン電極
28  ソース電極
29 ドレイン領域
30  ソース領域
31  透明基板
32  TFT基板
33  対向基板
40  液晶層
41  画素

Claims (6)

  1.  第1基板上にマトリクス状に配置された複数の画素と、
     複数の上記画素の各列に対応して配置された複数のソースバスラインと、
     複数の上記画素の各行に対応して配置された複数のゲートバスラインと、
     上記画素ごとに、上記第1基板上に形成された画素電極と、
     上記第1基板上に形成され、上記画素電極と重畳する共通電極と、
     複数の上記画素のいずれかに形成されたコンタクトホールを介して上記共通電極と接続された共通配線と、
     上記第1基板と、該第1基板と対向する第2基板との間に挟持された液晶層とを備え、
     一定の区画領域に含まれる複数の上記画素を繰り返し配列してなる液晶表示装置であって、
     上記区画領域に含まれる任意の1つの上記コンタクトホールは、
      他の上記コンタクトホールに最も近接する4つの上記コンタクトホールのいずれかであるか、
      他の上記コンタクトホールに最も近接する4つの上記コンタクトホールのいずれかであると共に、自身に最も近接する4つの上記コンタクトホールによって形成される四角形であって、上記四角形の2つの対角線と、上記ゲートバスラインとがなす2つの角度の差が30度未満である上記四角形に含まれる上記コンタクトホールであり、
     上記区画領域内において、各上記ソースバスラインには、1つの上記コンタクトホールが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  2.  上記区画領域は、上記列の方向の長さが40個分の上記画素の長さであり、上記行の方向の長さが40個分の上記画素の長さである矩形領域であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3.  上記区画領域は、上記列の方向の長さが80個分の上記画素の長さであり、上記行の方向の長さが80個分の上記画素の長さである矩形領域であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  4.  上記画素は、複数の副画素から構成されており、
     上記コンタクトホールは、複数の上記副画素のいずれかに形成されていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  5.  上記共通電極は、透明導電体により形成されていることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
  6.  上記第2基板には、他の上記共通電極が形成されていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103268045A (zh) * 2012-09-24 2013-08-28 厦门天马微电子有限公司 Tft阵列基板及其制作方法、液晶显示设备

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103474436B (zh) * 2013-09-18 2016-03-09 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
CN104049800B (zh) * 2014-05-30 2017-02-15 京东方科技集团股份有限公司 一种内嵌式触摸屏及显示装置
TWI526761B (zh) * 2014-08-20 2016-03-21 友達光電股份有限公司 液晶顯示面板
CN104699351B (zh) * 2015-04-01 2018-03-09 上海天马微电子有限公司 阵列基板、触控显示面板和触控显示装置
CN106775165B (zh) * 2017-01-06 2019-12-24 武汉华星光电技术有限公司 内嵌式触控显示面板及电子装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002207221A (ja) * 2001-01-11 2002-07-26 Seiko Epson Corp 液晶表示装置
JP2004109248A (ja) * 2002-09-13 2004-04-08 Nec Kagoshima Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2010026040A (ja) * 2008-07-16 2010-02-04 Seiko Epson Corp 電気光学装置及び電子機器、並びに電気光学装置の製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100850380B1 (ko) * 2002-09-03 2008-08-04 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 횡전계 모드 액정표시장치
JP4571845B2 (ja) * 2004-11-08 2010-10-27 シャープ株式会社 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置及びその駆動方法
EP2431794A4 (en) * 2009-05-13 2013-03-27 Sharp Kk Liquid crystal display panel and liquid crystal display device
JP4911793B2 (ja) * 2009-11-09 2012-04-04 東芝モバイルディスプレイ株式会社 液晶表示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002207221A (ja) * 2001-01-11 2002-07-26 Seiko Epson Corp 液晶表示装置
JP2004109248A (ja) * 2002-09-13 2004-04-08 Nec Kagoshima Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2010026040A (ja) * 2008-07-16 2010-02-04 Seiko Epson Corp 電気光学装置及び電子機器、並びに電気光学装置の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103268045A (zh) * 2012-09-24 2013-08-28 厦门天马微电子有限公司 Tft阵列基板及其制作方法、液晶显示设备

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