JP2010026040A - 電気光学装置及び電子機器、並びに電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、比較的簡単な構成でラビングスジの発生を抑制する。
【解決手段】電気光学装置（１００）は、一対の基板（１０，２０）のうち一方の基板上に設けられた走査線（３ａ）及びデータ線（６ａ）と、データ線に電気的に接続されたトランジスタ（３０）と、画素領域（１０ａ）に設けられており、トランジスタと第１コンタクトホール（８１）を介して電気的に接続される第１電極（９ａ）と、周辺領域に設けられた第２電極（９ｂ）と、第２電極と第２コンタクトホール（８２）を介して電気的に接続されており、第２電極に所定の電位を供給する電位供給線（８０）と、第１電極及び前記第２電極を覆うように設けられた配向膜（１６）とを備えている。本発明では特に、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールは、基板上で平面的に見て、所定の方向に沿って夫々形成されている。
【選択図】図７

Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器、並びに該電気光学装置の製造方法の技術分野に関する。

この種の電気光学装置は、例えばスイッチング素子である薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）が設けられたＴＦＴアレイ基板及び対向基板間に、液晶が封入されることによって構成される。ＴＦＴアレイ基板及び対向基板の液晶に接する面には、電圧無印加時における液晶分子の配列を揃えるために、ラビング処理が施された配向膜が夫々設けられる。

ラビング処理は、例えば配向膜の表面を擦ることによって施されるが、この際、基板における段差等の影響により、配向膜にラビングスジが生じてしまうことがある。ラビングスジは、表示される画像の品質を低下させるおそれがあるため、例えば特許文献１では、基板とラビングロールとの相対進行方向及びラビングロールの回転方向を規定することで、ラビングスジの発生を抑制するという技術が開示されている。

特開２００３−２１５５９３号公報

しかしながら、上述した技術においては、ラビング処理における各種条件を変更することが求められるため、例えばラビング処理を施す装置自体を変更せねばならず、コストの増大を招いてしまうおそれがある。また、単に配向膜を擦ることでラビング処理を施す場合と比べると、処理が複雑化してしまう。このように、上述した技術には、実践上の不都合が生じてしまうという技術的問題点がある。

本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、比較的簡単な構成でラビングスジの発生を抑制することが可能な電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器、並びに該電気光学装置の製造方法を提供することを課題とする。

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の基板と、前記一対の基板のうち一方の基板上に、互いに交差するように設けられた走査線及びデータ線と、前記データ線に電気的に接続されたトランジスタと、前記一方の基板上の画素領域に設けられており、前記トランジスタと第１コンタクトホールを介して電気的に接続される第１電極と、前記一方の基板上の前記画素領域の周辺に位置する周辺領域に設けられた第２電極と、前記第２電極と第２コンタクトホールを介して電気的に接続されており、前記第２電極に所定の電位を供給する電位供給線と、前記第１電極及び前記第２電極を覆うように設けられた配向膜とを備え、前記第１コンタクトホール及び前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、所定の方向に沿って夫々形成されている。

本発明の電気光学装置によれば、その動作時には、例えばデータ線から第１電極への画像信号の供給が制御されつつ走査線から走査信号が供給され、所謂アクティブマトリクス方式による画像表示が行われる。尚、画像信号は、データ線及び第１電極間に電気的に接続されたスイッチング素子であるトランジスタが走査線から供給される走査信号に応じてオンオフされることによって、データ線からトランジスタを介して、所定のタイミングで第１電極に供給される。第１電極に画像信号が供給されることで、例えば一対の基板間に挟持された液晶層には画像を表示させるための電圧が印加される。第１電極は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料からなる透明電極であり、第１コンタクトホールを介して、トランジスタと電気的に接続されている。第１電極は、典型的には、データ線及び走査線の交差に対応して、基板上において表示領域となるべき領域にマトリクス状に複数設けられる。

本発明では、画素領域に設けられた第１電極に加えて、画素領域の周囲に位置する周辺領域に第２電極が設けられている。ここで「画素領域」とは、表示される画像に寄与する領域を指しており、一方「周辺領域」とは、画素領域の周囲に位置する画像に寄与しない領域を指している。周辺領域には、例えばデータ線等に対する画像信号等の書き込み始めに位置し、かかる配線の電位が安定し難い部分や、製造時に配向膜に対するラビング処理の削りカスが除去され難く残存し易い部分等が含まれる。このため、周辺領域には、第１電極を模擬するダミー電極として第２電極が形成される。

第２電極は、第２コンタクトホールを介して電位供給線と電気的に接続されている。電位供給線からは、第２電極に対して所定の電位が供給される。所定の電位は、例えば第１電極に供給される画像信号に応じた電位であってもよいし、画像信号によらない電位であってもよい。画像信号によらない電位が供給される場合には、例えば周辺領域に設けられた複数の第２電位に対して、夫々同一の固定電位が供給される。尚、第２電極は、典型的には、電位供給線と直接電気的に接続される。即ち、第２電極には、第１電極のようにトランジスタが電気的に接続されていなくてもよい。

上述した第１電極及び第２電極上には、夫々を覆うように配向膜が設けられる。配向膜は、所定の方向にラビング処理が施されており、これにより、電圧無印加時における液晶層の液晶分子の配列が揃えられる。ラビング処理では、例えば配向膜の表面を擦ることで、所定方向に沿った溝が形成される。

配向膜には、例えば基板上に配向膜が配置された状態でラビング処理が施される。このため、基板表面に段差があると、この段差に起因して、配向膜に意図しないラビングスジが生じてしまうおそれがある。特に、基板表面に第１電極及び第２電極が配置される一方の基板は、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールの存在によって段差ができやすい。即ち、一方の基板及び液晶層間に配置される配向膜には、ラビングスジが生じ易い。

また、例えば第１電極は走査線及びデータ線に対応して設けられているため、第１電極における第１コンタクトホールに起因するラビングスジは、互いに揃ったスジとなり、比較的目立たない。これに対し、第２電極における第２コンタクトホールは、仮に第１コンタクトホールと比べて数が少ない場合であっても、第１コンタクトホールと揃わないように配置されることで、ラビンスジが目立ってしまうおそれがある。

ここで本発明では特に、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールは、基板上で平面的に見て、所定の方向に沿って揃うように夫々形成されている。尚、ここでの「所定の方向」とは、上述したように、配向膜に施されるラビング処理の方向である。即ち、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールは、夫々ラビング処理が施される方向に沿って揃うように形成されている。尚、ラビング方向は、典型的には１つの方向であるが、複数の方向にラビング処理を施す場合には、その中の一の方向に対して第１及び第２コンタクトホールの位置を揃えることにより、後述の効果は得られる。

上述したように第１及び第２コンタクトホールが形成されれば、配向膜にラビング処理を施す際に、第１及び第２コンタクトホールに起因して配向膜に生じるラビングスジの数を減少させることができる。具体的には、第１及び第２コンタクトホールは、一の第１コンタクトホールに起因して生じるラビングスジと、一の第２コンタクトホールに起因して生じるラビングスジとが重なるような位置に形成されているため、夫々のラビングスジが重複する分、ラビングスジの数を減少させることができる。ラビングスジの数を減少させることで、ラビングスジに起因したスジムラ等による画質の低下を抑制することが可能となる。

以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、ラビングスジの発生を効果的に抑制することができる。従って、高品質な画像を表示することが可能である。

本発明の電気光学装置の一態様では、前記所定の方向は、前記基板上で平面的に見て、前記走査線又は前記データ線の延在する方向である。

この態様によれば、所定の方向（即ち、ラビング方向）が、基板上で平面的に見て、走査線又はデータ線の延在する方向であるため、第１電極における第１コンタクトホールと、第２電極における第２コンタクトホールとの位置を容易に揃えることができる。

例えば、第１電極が走査線及びデータ線の交差に対応してマトリクス状に設けられているとすると、第１コンタクトホールも同様に、走査線及びデータ線の交差に対応してマトリクス状に設けられる。即ち、第１コンタクトホールは、第１電極の配置に応じて、自動的に所定の方向に沿って揃うように夫々形成される。よって、第２コンタクトホールを、第１コンタクトホールが揃っている方向に対応させて配置すれば、より容易に第１コンタクトホールと第２コンタクトホールの位置を決定することができる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記所定の方向は、前記基板上で平面的に見て、前記走査線及び前記データ線と夫々交差する対角方向である。

この態様によれば、所定の方向（即ち、ラビング方向）が、基板上で平面的に見て、走査線及びデータ線と夫々交差する対角方向であるため、第１電極における第１コンタクトホールと、第２電極における第２コンタクトホールとの位置を容易に揃えることができる。

例えば、第１電極が走査線及びデータ線の交差に対応してマトリクス状に設けられているとすると、第１コンタクトホールも同様に、走査線及びデータ線の交差に対応してマトリクス状に設けられる。この場合、第１コンタクトホールは、走査線及びデータ線の延在する方向に加えて、対角方向（例えば、直角に交わる走査線及びデータ線の延在する方向に対して斜め４５度の方向）に沿って揃うように夫々形成される。よって、第２コンタクトホールを、第１コンタクトホールが揃っている方向に対応させて配置すれば、より容易に第１コンタクトホールと第２コンタクトホールの位置を決定することができる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第２電極は、前記周辺領域に複数設けられていると共に、少なくとも部分的に、互いに電気的に接続されている。

この態様によれば、第２電極は、周辺領域に複数設けられており、典型的には、第１電極と同様に、走査線及びデータ線に対応するように設けられている。第２電極の各々には、画像の表示を安定させるために、例えば所定の電位が供給される。即ち、複数の第２電極には、夫々同一の電位が供給される。

本態様では、第２電極は、少なくとも部分的に、互いに電気的に接続されている。即ち、複数の第２電極のいくつかは、互いに電気的に接続されている。このため、電気的に接続されている第２電極には、１つの第２コンタクトホールによって所定の電位を供給することができる。即ち、第２コンタクトホールを、複数の第２電極の各々について設けなくともよい。よって、装置全体での第２コンタクトホールの数を減少させることができる。第２コンタクトホールの数が減少することにより、第２コンタクトホールの段差に起因して生じるラビングスジの発生を効果的に抑制することができる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、前記第１コンタクトホールより小さい。

この態様によれば、第２コンタクトホールの大きさが、基板上で平面的に見て、第１コンタクトホールより小さくされているため、第２コンタクトホールに起因して生じるラビングスジは、第１コンタクトホールに起因して生じるラビングスジと比べて小さく（細く）なる。よって、第２コンタクトホールに起因して生じるラビングスジは、第１コンタクトホールに起因して生じるラビングスジと重なることで、極めて目立たない状態となる。従って、ラビングスジによって画質が低下してしまうことを効果的に防止することが可能である。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、前記第１コンタクトホールと同じ大きさである。

この態様によれば、第２コンタクトホールの大きさが、基板上で平面的に見て、第１コンタクトホールと同じ大きさであるため、第２コンタクトホールに起因して生じるラビングスジは、第１コンタクトホールに起因して生じるラビングスジと比べて概ね同じ大きさ（太さ）になる。よって、第２コンタクトホールに起因して生じるラビングスジは、第１コンタクトホールに起因して生じるラビングスジと重なることで、極めて目立たない状態となる。従って、ラビングスジによって画質が低下してしまうことを効果的に防止することが可能である。

また、第１及び第２コンタクトホールの大きさが互いに同じであることにより、各コンタクトホールを夫々同様の工程で形成することが可能となる。即ち、第１コンタクトホールを形成する場合と、第２コンタクトホールを形成する場合とで、製造工程を変えなくとも済む。よって、製造工程の高度複雑化を防止することが可能である。

尚、本態様における「同じ」とは、厳密に同一であることを要せず、上述した効果が得られる程度に近い状態であることを意味する。言い換えれば、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールの大きさを互いに近付けることによっても、上述した効果は相応に得られる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、前記第１コンタクトホールと同じ形状である。

この態様によれば、第２コンタクトホールの形状が、基板上で平面的に見て、第１コンタクトホールと同じ形状であるため、第２コンタクトホールに起因して生じるラビングスジは、第１コンタクトホールに起因して生じるラビングスジと比べて概ね同じ形状になる。よって、第２コンタクトホールに起因して生じるラビングスジは、第１コンタクトホールに起因して生じるラビングスジと重なることで、極めて目立たない状態となる。従って、ラビングスジによって画質が低下してしまうことを効果的に防止することが可能である。

また、第１及び第２コンタクトホールの形状が互いに同じであることにより、各コンタクトホールを夫々同様の工程で形成することが可能となる。即ち、第１コンタクトホールを形成する場合と、第２コンタクトホールを形成する場合とで、製造工程を変えなくとも済む。よって、製造工程の高度複雑化を防止することが可能である。

尚、本態様における「同じ」とは、厳密に同一であることを要せず、上述した効果が得られる程度に近い状態であることを意味する。言い換えれば、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールの形状を互いに近付けることによっても、上述した効果は相応に得られる。

加えて、上述した第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールの大きさを互いに同じにする態様と組み合わせれば、より顕著に効果を得ることも可能である。

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を備える。

本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、ラビングスジが抑制され、高品質な表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。

本発明の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、一対の基板のうち一方の基板上に、互いに交差するように走査線及びデータ線を設ける配線工程と、前記一方の基板上における画素領域において、前記データ線に電気的に接続されたトランジスタ及び第１電極を、第１コンタクトホールを介して互いに電気的に接続する第１接続工程と、前記一方の基板上における前記画素領域の周辺に位置する周辺領域において、所定の電位を供給する電位供給線及び第２電極を、第２コンタクトホールを介して互いに電気的に接続する第２接続工程と、前記一方の基板上に形成された配向膜に、所定の方向にラビング処理を施すラビング工程とを含み、前記第１コンタクトホール及び前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、前記所定の方向に沿って夫々形成される。

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、先ず配線工程において、一対の基板のうち一方の基板上に、互いに交差するように走査線及びデータ線が設けられる。データ線は、第１接続工程において、第１電極と電気的に接続される。具体的には、一方の基板上における画素領域において、データ線に電気的に接続されたトランジスタ及び第１電極が、第１コンタクトホールを介して互いに電気的に接続される。

また、一方の基板上における画素領域の周辺に位置する周辺領域においては、所定の電位を供給する電位供給線及び第２電極が、互いに電気的に接続される。電位供給線及び第２電極は、第２接続工程において、第２コンタクトホールを介して互いに電気的に接続される。

ラビング工程では、一対の基板上に配置された配向膜に、所定の方向にラビング処理が施される。一対の基板間には、挟持工程において、ラビング処理が施された配向膜を介して液晶層が挟持される。

本発明では特に、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールは、基板上で平面的に見て、所定の方向に沿って揃うように夫々形成される。よって、ラビングスジの数を減少させ、ラビングスジに起因したスジムラ等による画質の低下を抑制することが可能となる。従って、製造された電気光学装置に、高品質な画像を表示させることが可能である。

尚、本発明の電気光学装置の製造方法においても、上述した本発明の電気光学装置における各種態様と同様の各種態様を採ることが可能である。

本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための最良の形態から明らかにされる。

以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。

＜電気光学装置＞
本実施形態に係る電気光学装置について、図１から図１４を参照して説明する。尚、以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとり説明する。

＜第１実施形態＞
先ず、第１実施形態に係る電気光学装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここに図１は、第１実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線断面図である。尚、図１及び図２では、説明の便宜上、後に詳述するダミー電極やダミー電極に電気的に接続される各種配線等を適宜省略している。

図１及び図２において、第１実施形態に係る電気光学装置１００では、本発明の「一対の基板」の一例であるＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基板２０は、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、液晶層５０が封入されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素電極が設けられた画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。

シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（即ち、基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材５２に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域１０ａ又は画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。

シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。尚、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。

周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。

ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域には、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。

図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図２では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ＩＴＯ等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。

画素電極９ａは、本発明の「第１電極」の一例であり、対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成されている。画像表示領域１０ａは、本発明の「画素領域」の一例である。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ上には、配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。配向膜１６は、ラビング処理が施されており、電圧無印加時の液晶分子の配列を揃える機能を有している。ラビング処理については、後に詳述する。

対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されている。遮光膜２３は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板２０において、遮光膜２３によって非開口領域が規定され、遮光膜２３によって区切られた領域が、例えばプロジェクタ用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜２３をストライプ状に形成し、該遮光膜２３と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。

遮光膜２３上には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向するように形成されている。また遮光膜２３上には、画像表示領域１０ａにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図２には図示しないカラーフィルタが形成されるようにしてもよい。対向基板２０の対向面上における、対向電極２１上には、配向膜２２が形成されている。

尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。

次に、第１実施形態に係る電気光学装置の画素部の電気的な構成について、図３を参照して説明する。ここに図３は、第１実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。

図３において、画像表示領域１０ａを構成するマトリクス状に形成された複数の画素の各々には、画素電極９ａ及び、本発明の「トランジスタ」の一例であるＴＦＴ３０が形成されている。ＴＦＴ３０は、画素電極９ａに電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置１００の動作時に画素電極９ａをスイッチング制御する。画像信号が供給されるデータ線６ａは、ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。

ＴＦＴ３０のゲートには、走査線３ａが電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置１００は、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎが所定のタイミングで書き込まれる。画素電極９ａを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、対向基板２０に形成された対向電極２１（図１参照）との間で一定期間保持される。

液晶層５０（図２参照）を構成する液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。例えば、ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射される。

ここで保持された画像信号がリークすることを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１（図２参照）との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。蓄積容量７０は、画像信号の供給に応じて各画素電極９ａの電位を一時的に保持する保持容量として機能する容量素子である。蓄積容量７０の一方の電極は、画素電極９ａと並列してＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続され、他方の電極は、定電位となるように、電位固定の容量線３００に電気的に接続されている。蓄積容量７０によれば、画素電極９ａにおける電位保持特性が向上し、コントラスト向上やフリッカの低減といった表示特性の向上が可能となる。

次に、第１実施形態に係る電気光学装置特有の構成及び電気光学装置の製造方法について、図４から図６を参照して詳細に説明する。ここに図４は、第１実施形態に係る電気光学装置の構成を概略的に示す平面図である。また図５は、コンタクトホールにおける段差によるラビングスジの発生を示す概念図であり、図６は、比較例に係る電気光学装置におけるラビングスジの発生を示す概念図である。尚、図４では、説明の便宜上、図１及び図２で示した詳細な部材を適宜省略しており、この点は以降の図についても同様であるものとする。

図４において、第１実施形態に係る電気光学装置１００における画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域には、本発明の「第２電極」の一例であるダミー電極９ｂが設けられている。ダミー電極９ｂは、典型的には、画像表示領域１０ａを囲うように設けられている。尚、ここでは、１列のダミー電極９ｂが、画像表示領域１０ａを囲うように設けられている場合を図示しているが、周辺領域には、複数列のダミー電極９ｂが設けられていてもよい。即ち、周辺領域に設けられるダミー電極９ｂの数は特に限定されない。ダミー電極９ｂは、第２コンタクトホール８２を介して、電位供給線８０と夫々電気的に接続されている。これにより、ダミー電極９ｂには、外部回路接続端子１０２から入力される共通電位ＬＣＣＯＭが供給される。即ち、ダミー電極９ｂには、互いに同一の電位が供給されている。

周辺領域は、画像表示領域１０ａの端部における液晶の配向や電位が安定し難く、加えて製造時に配向膜に対するラビング処理の削りカスが除去され難く残存し易い。周辺領域にダミー電極９ｂを設けることで、上述した不都合を少なくとも部分的に回避することができる。即ち、ダミー電極９ｂの存在により、画像表示領域１０ａにおいて、より安定した画像表示を行うことが可能となる。

ここで本実施形態では特に、画素電極９ａにおける第１コンタクトホール８１と、ダミー電極９ｂにおける第２コンタクトホール８２とは、走査線３ａ（図３参照）の延在する方向（即ち、図中のＸ方向）に沿って揃うように形成されている。言い換えれば、各行の第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２は、互いにＹ座標が同じとされている。

図５において、本実施形態に係る電気光学装置の製造時には、液晶層５０における液晶分子の配向方向を揃えるために、配向膜１６（図２参照）に対してラビング処理が施される。ラビング処理は、例えば配向膜の表面を所定の方向に沿って擦ることにより施される。これにより、配向膜の表面には、所定の方向に沿った微少な溝が形成される。ここで、ラビング処理を施す際、配向膜１６に比較的近い位置に配置される第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２に起因する段差は、配向膜１６にラビングスジを発生させてしまうおそれがある。ラビングスジは、ラビング方向に沿ったものであるが、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２の大きさに対応した幅ｗ０を有するため、ラビング処理によって意図的に形成される溝と比較すると太いものとなる。よって、ラビングスジは、表示される画像においてスジムラ等を発生させ、画質を低下させてしまうおそれがある。

図６において、仮に第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２が揃っておらず、ずれた状態で配置されているとすると、ラビングスジは、第１コンタクトホール８１に起因するものと、第２コンタクトホール８２に起因するものとが発生してしまう。即ち、比較的多くのラビングスジが発生してしまい、画質が大幅に低下してしまうおそれがある。

これに対し、本実施形態に係る電気光学装置は、上述したように、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２がＸ方向で揃うように形成されているため、ラビングスジの発生を抑制することができる。以下では、第１実施形態に係る電気光学装置の効果について、図７から図９を参照して詳細に説明する。ここに図７は、第１実施形態に係る電気光学装置の構成をラビングスジと共に示す平面図である。また図８及び図９は夫々、ラビングスジと各コンタクトホールの大きさとの関係を示す概念図である。

図７において、第１実施形態に係る電気光学装置１００では、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２が、Ｘ方向に沿って揃うように形成されているため、ラビング方向がＸ方向である場合に、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２に起因して生じるラビングスジは互いに重なる。よって、ダミー電極９ｂが存在していることにより、ラビングスジが増加してしまうことを防止できる。即ち、図６で示した比較例のように、多くのラビングスジが発生してしまうことを抑制できる。

尚、ラビング方向が図７に示す方向（Ｘ方向）である場合には、図の右端側に存在するダミー電極９ｂにおける第２コンタクトホール８２に起因して生じるラビングスジは、画像表示領域１０ａには影響を及ぼさない。よって、少なくとも左端側（即ち、ラビング方向の始点側）において、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２の位置が揃うように形成されていれば、上述した効果は発揮される。

図８において、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２の大きさ及び形状は、互いに同じである方がよい。この場合、第１コンタクトホール８１のＹ方向での幅（即ち、ラビングスジの太さに影響する幅）ｗ１と、第２コンタクトホール８２のＹ方向での幅ｗ２を同じにすることができる。これにより、第１コンタクトホール８１に起因して発生するラビングスジの太さと、第２コンタクトホール８２に起因して発生するラビングスジの大きさを揃えることができる。よって、第１コンタクトホール８１に起因するラビングスジに、第２コンタクトホール８２に起因するラビングスジが重なった場合であっても、ラビングスジの太さは変化しない。よって、画質の低下を防止できる。尚、このような効果は、第２コンタクトホール８２の大きさを、第１コンタクトホール８１よりも小さくすることによっても実現可能である。

図９において、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２の形状は、互いに異なっていてもよい。即ち、第１コンタクトホール８１のＹ方向での幅ｗ１と、第２コンタクトホール８２のＹ方向での幅ｗ２を同じにすることができるのであれば、図８で示した場合と同様に、ラビングスジの太さは変化しない。よって、画質の低下を防止できる。

次に、第１実施形態に係る電気光学装置の変形例について、図１０及び図１１を参照して説明する。ここに図１０及び図１１は夫々、第１実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図である。

図１０において、配向膜１６に施されるラビング処理のラビング方向が、データ線６ａの延在する方向（即ち、Ｙ方向）である場合には、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２は、Ｙ方向に沿って揃うように形成されればよい。このようにすれば、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２に起因して生じるラビングスジは互いに重なる。よって、ダミー電極９ｂが存在していることにより、ラビングスジが増加してしまうことを防止できる。

図１１において、配向膜１６に施されるラビング処理のラビング方向が、図に示すような、Ｘ方向及びＹ方向に交わる方向である場合には、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２は、ラビング方向に沿って揃うように形成されればよい。このようにすれば、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２に起因して生じるラビングスジは互いに重なる。このように、第１コンタクトホール８１及び第２コンタクトホール８２を、ラビング方向に沿って揃うように形成すれば、ダミー電極９ｂが存在していることにより、ラビングスジが増加してしまうことを防止できる。

以上説明したように、第１実施形態に係る電気光学装置によれば、ラビングスジの発生を効果的に抑制することができる。従って、高品質な画像を表示することが可能である。

＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態に係る電気光学装置について、図１２から図１４を参照して説明する。ここに図１２は、第２実施形態に係る電気光学装置の構成を概略的に示す平面図であり、図１３及び図１４は夫々、第２実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図である。尚、第２実施形態は、上述の第１実施形態と比べて、ダミー電極の構成が異なり、その他の構成については概ね同様である。このため第２実施形態では、第１実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。また、図１２から図１４では、図７等に示した第１実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付している。

図１２において、第２実施形態に係る電気光学装置１００は、ダミー電極９ｂがベタ状に設けられている。即ち、上述した第１実施形態において図７等で示した複数のダミー電極９ｂが、互いに電気的に接続されている状態とされている。このようにすれば、ダミー電極９ｂには、より少ない数の第２コンタクトホール８２で共通電位ＬＣＣＯＭを供給することができる。即ち、第２コンタクトホール８２を、複数のダミー電極９ｂの各々について設けなくともよい。よって、装置全体での第２コンタクトホール８２の数を減少させることができる。第２コンタクトホール８２の数が減少することにより、第２コンタクトホール８２の段差に起因して生じるラビングスジの発生を効果的に抑制することができる。従って、画質が低下してしまうことを効果的に防止できる。

図１３において、ダミー電極９ｂは、図１２で示したようなベタ状ではなく、複数のダミー電極９ｂが接合部９０によって電気的に接続されている構成であってもよい。この場合も、上述した場合と同様に、第２コンタクトホール８２の数を減少させることができる。従って、第２コンタクトホール８２の段差に起因して生じるラビングスジの発生を効果的に抑制することができる。

図１４において、ダミー電極９ｂは、全てが互いに電気的に接続されていなくてもよい。即ち、ダミー電極９ｂは、部分的に電気的に接続されているだけでもよい。この場合にも、上述した場合と同様に、第２コンタクトホール８２の数を減少させることができる。従って、第２コンタクトホール８２の段差に起因して生じるラビングスジの発生を効果的に抑制することができる。このような構成は、例えばダミー電極９ｂを互いに電気的に接続することが困難である箇所が存在する場合であっても実現可能である。

以上説明したように、第２実施形態に係る電気光学装置によれば、第２コンタクトホール８２の数を減少させることができるため、より効果的にラビングスジの発生を効果的に抑制することができる。従って、より高品質な画像を表示することが可能である。

＜電子機器＞
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図１５は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。

図１５に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇに入射される。

液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、Ｒ及びＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。

ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。

尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂ及び１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。

尚、図１５を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器、並びに該電気光学装置の製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。

第１実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図である。 図１のＨ−Ｈ´線断面図である。 第１実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成する各種素子、配線等の等価回路図である。 第１実施形態に係る電気光学装置の構成を概略的に示す平面図である。 コンタクトホールにおける段差によるラビングスジの発生を示す概念図である。 比較例に係る電気光学装置におけるラビングスジの発生を示す概念図である。 第１実施形態に係る電気光学装置の構成をラビングスジと共に示す平面図である。 ラビングスジと各コンタクトホールの大きさとの関係を示す概念図（その１）である。 ラビングスジと各コンタクトホールの大きさとの関係を示す概念図（その２）である。 第１実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図（その１）である。 第１実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図（その２）である。 第２実施形態に係る電気光学装置の構成を概略的に示す平面図である。 第２実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図（その１）である。 第２実施形態に係る電気光学装置の変形例を示す平面図（その２）である。 電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。

符号の説明

３ａ…走査線、６ａ…データ線、９ａ…画素電極、９ｂ…ダミー電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１６，２２…配向膜、２０…対向基板、３０…ＴＦＴ、５０…液晶層、８０…電位供給線、８１…第１コンタクトホール、８２…第２コンタクトホール、９０…接合部、１００…電気光学装置、１０２…外部回路接続端子

Claims (9)

1. 一対の基板と、
   前記一対の基板のうち一方の基板上に、互いに交差するように設けられた走査線及びデータ線と、
   前記データ線に電気的に接続されたトランジスタと、
   前記一方の基板上の画素領域に設けられており、前記トランジスタと第１コンタクトホールを介して電気的に接続される第１電極と、
   前記一方の基板上の前記画素領域の周辺に位置する周辺領域に設けられた第２電極と、
   前記第２電極と第２コンタクトホールを介して電気的に接続されており、前記第２電極に所定の電位を供給する電位供給線と、
   前記第１電極及び前記第２電極を覆うように設けられた配向膜と
   を備え、
   前記第１コンタクトホール及び前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、所定の方向に沿って夫々形成されている
   ことを特徴とする電気光学装置。
2. 前記所定の方向は、前記基板上で平面的に見て、前記走査線又は前記データ線の延在する方向であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記所定の方向は、前記基板上で平面的に見て、前記走査線及び前記データ線と夫々交差する対角方向であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
4. 前記第２電極は、前記周辺領域に複数設けられていると共に、少なくとも部分的に、互いに電気的に接続されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、前記第１コンタクトホールより小さいことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、前記第１コンタクトホールと同じ大きさであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、前記第１コンタクトホールと同じ形状であることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. 請求項１から７のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
9. 一対の基板のうち一方の基板上に、互いに交差するように走査線及びデータ線を設ける配線工程と、
   前記一方の基板上における画素領域において、前記データ線に電気的に接続されたトランジスタ及び第１電極を、第１コンタクトホールを介して互いに電気的に接続する第１接続工程と、
   前記一方の基板上における前記画素領域の周辺に位置する周辺領域において、所定の電位を供給する電位供給線及び第２電極を、第２コンタクトホールを介して互いに電気的に接続する第２接続工程と、
   前記一方の基板上に形成された配向膜に、所定の方向にラビング処理を施すラビング工程と
   を含み、
   前記第１コンタクトホール及び前記第２コンタクトホールは、前記基板上で平面的に見て、前記所定の方向に沿って夫々形成される
   ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

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