WO2010143682A1

WO2010143682A1 - 光反射膜の製造方法

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Publication number: WO2010143682A1
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Inventors: 和宏沖; 市橋　光芳
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Priority date: 2009-06-11
Filing date: 2010-06-10
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Abstract

　透明性が高く、光反射性に優れる、複数のコレステリック液晶層を有する光反射膜を安定的に製造可能な方法を提供する。　コレステリック液晶相を固定してなる、少なくとも２つの光反射層を有する光反射膜の製造方法であって、コレステリック液晶相を固定してなる第１の光反射層の上で、硬化性の液晶組成物をコレステリック液晶相の状態にする第１の工程、及び前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射して硬化反応を進行させ、コレステリック液晶相を固定して第２の光反射層を形成する第２の工程を含み、第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の光の強度を少なくとも低下させる作用のある部材を介して、前記硬化性の液晶組成物に、紫外線を照射する光反射膜の製造方法である。

Description

光反射膜の製造方法

　本発明はコレステリック液晶相を固定してなる光反射層を積層した光反射膜であって、主に建造物及び車両等の窓の遮熱に利用される赤外線反射膜の製造方法に関する。

　近年、環境・エネルギーへの関心の高まりから省エネに関する工業製品へのニーズは高く、その一つとして住宅及び自動車等の窓ガラスの遮熱、つまり日光による熱負荷を減少させるのに効果のある、ガラス及びフィルムが求められている。日光による熱負荷を減少させるのには、太陽光スペクトルの可視光領域または赤外領域のいずれかの太陽光線の透過を防ぐことが必要である。

　断熱・遮熱性の高いエコガラスとしてよく用いられるのがＬｏｗ－Ｅペアガラスと呼ばれる熱放射を遮断する特殊な金属膜をコーティングした複層ガラスである。特殊な金属膜は、例えば特許文献１に開示された真空成膜法により複数層を積層することで作製できる。真空成膜よって作製される、これらの特殊な金属膜のコーティングは反射性能に非常に優れるものの、真空プロセスは生産性が低く、生産コストが高い。また、金属膜を使うと、電磁波を同時に遮蔽してしまうために携帯電話等の使用では、電波障害を引き起こしたり、自動車に使用した場合にはＥＴＣが使えないなどの問題がある。
　特許文献２には、金属微粒子を含有する層を有する熱線反射性透明基材が提案されている。金属微粒子を含有する膜は、可視光の透過性能に優れるものの、遮熱に大きく関与する波長７００～１２００ｎｍの範囲の光に対する反射率が低く、遮熱性能を高くできないという問題がある。
　また、特許文献３には、赤外線吸収色素を含む層を有する熱線遮断シートが開示されている。赤外線吸収色素を利用すると、日射透過率を下げることができるものの、日射の吸収による膜面温度上昇と、その熱の再放出によって遮熱性能が低下するという問題がある。

　また、特許文献４には、所定の特性の位相差フィルムと反射型円偏光板とを有する、赤外線に対する反射能を有する積層光学フィルムが開示され、該位相差フィルムとして、コレステリック液晶相を利用した例が開示されている。
　また、特許文献５には、可視光透過性サブストレートと赤外光反射性コレステリック液晶層とを備えた赤外光反射性物品が開示されている。
　また、特許文献６には、複数のコレステリック液晶層を備えた偏光素子が開示されているが、この様な、コレステリック液晶層を積層してなる積層体は、主には、可視光領域の光を効率的に反射させる用途に供せられるものである。

　ところで、コレステリック液晶層を複数備えた積層体を作製する方法の一例として、以下の方法がある。まず、コレステリック液晶材料を基板等の表面に塗布し、その塗膜を乾燥・加熱して、コレステリック液晶相とし、紫外線を照射して硬化反応を進行させ、その配向を固定して１層を形成する。その後、これらの操作を繰り返して、複数層の積層体を製造する方法である。
　また、特許文献７には、重合性液晶に紫外線を照射することによって硬化させてコレステリック液晶層を形成する方法では、紫外線の照度を調整することが提案されている。

特開平６－２６３４８６号公報特開２００２－１３１５３１号公報特開平６－１９４５１７号公報特許第４１０９９１４号公報特表２００９－５１４０２２号公報特許第３５００１２７号公報特許第４００８３５８号公報

　上記積層体の製造方法例では、各層を形成するごとに、紫外線を照射して硬化反応を進行させるため、初期に形成された層には、繰り返し紫外線が照射されることになる。本発明者が検討した結果、この様な過剰な紫外線照射によって、層中の材料（主には液晶）の劣化が起こり、積層体全体の透明性が低下するという問題があることがわかった。上記した通り、特許文献７には、紫外線の照度を一定範囲内に調整することで、広領域のコレステリック液晶フィルムを作製する方法が開示されている。しかし、液晶相を固定してなる複数の層を有する積層体を作製する際には、紫外線の照度を調整するだけでは、層中の材料の劣化による透明性の低下を抑制するのは困難である。

　本発明は、上記諸問題に鑑みなされたものであって、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層を複数有する光反射膜の製造において、紫外線照射によって生じる透明性の低下を防止することを課題とする。より具体的には、本発明は、透明性が高く、光反射性に優れる、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層を複数有する光反射膜を、安定的に製造可能な方法を提供することを課題とする。

　上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］　コレステリック液晶相を固定してなる、少なくとも２つの光反射層を有する光反射膜の製造方法であって、
　コレステリック液晶相を固定してなる第１の光反射層の上で、硬化性の液晶組成物をコレステリック液晶相の状態にする第１の工程、及び
　前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射して硬化反応を進行させ、コレステリック液晶相を固定して第２の光反射層を形成する第２の工程を含み、
　第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の紫外線の強度を少なくとも低下させる作用のある部材を介して、前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射する光反射膜の製造方法。
［２］　コレステリック液晶相を固定してなる、少なくとも２つの光反射層を有する光反射膜の製造方法であって、
　コレステリック液晶相を固定してなる第１の光反射層の上で、硬化性の液晶組成物をコレステリック液晶相の状態にする第１の工程、及び
　前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射して硬化反応を進行させ、コレステリック液晶相を固定して第２の光反射層を形成する第２の工程を含み、
　第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の光を含まない紫外線を、前記硬化性の液晶組成物に照射する光反射膜の製造方法。
［３］　前記第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の光を含まず、且つ波長３４０ｎｍを超え３６５ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度分布を有する紫外線を、前記硬化性の液晶組成物に照射する［１］又は［２］の方法。
［４］　第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の紫外線をカットするフィルタを介して、前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射する［１］～［３］のいずれかの方法。
［５］　第２の工程において、波長３６５ｎｍ以下の紫外線をカットするフィルタを介して、前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射する［１］又は［２］の方法。
［６］　第１の光反射層が、紫外線吸収能を有する基板上に存在し、第２の工程において、該基板を介して、前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射する［１］～［５］のいずれかの方法。
［７］　前記紫外線吸収能を有する基板が、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層を少なくとも有する基板、又は紫外線吸収剤を含有する基板である［６］の方法。
［８］　前記紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である［７］の方法。
［９］　第２の光反射層の厚みが３μｍ以上である［１］～［８］のいずれかの方法。
［１０］　第１及び第２の光反射層が、互いに逆向きの旋回性のキラル剤を含有する［１］～［９］のいずれかの方法。
［１１］　基板の一方の表面上に、互いに逆方向の円偏光を反射する第１及び第２の光反射層を少なくとも有する光反射膜を製造する［１］～［１０］のいずれかの方法。
［１２］　基板の双方の表面上に、互いに逆方向の円偏光を反射する第１及び第２の光反射層を少なくとも有する光反射膜を製造する［１］～［１０］のいずれかの方法。
［１３］　反射する最大波長のピーク（極大値）が７００ｎｍ以上に１つ以上ある光反射膜を製造する［１］～［１２］のいずれかの方法。
［１４］　反射する最大波長のピーク（極大値）が８００～１３００ｎｍの範囲に１つ以上ある光反射膜を製造する［１］～［１３］のいずれかの方法。
［１５］　建造物又は車両の窓に使用される遮熱用の光反射膜を製造する［１］～［１４］のいずれかの方法。

　本発明によれば、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層を複数有する光反射膜の製造において、層中の材料が劣化することによって生じる透明性の低下を防止することができる。より具体的には、本発明は、透明性が高く、光反射性に優れる、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層を複数有する光反射膜を、安定的に製造可能な方法を提供することができる。

本発明の製造方法によって製造される光反射膜の一例の断面図である。本発明の製造方法によって製造される光反射膜の他の例の断面図である。本発明の製造方法によって製造される光反射膜の他の例の断面図である。本発明に使用可能な紫外線吸収剤の紫外線吸収曲線である。

　以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本発明は、コレステリック液晶相を固定してなる、少なくとも２つの光反射層を有する光反射膜の製造方法に関する。本発明の製造方法によって製造される光反射膜の例を図１～図３にそれぞれ示す。
　図１に示す光反射膜１０は、基板１２の一方の表面上に形成された、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層１４ａ及び１４ｂを有し、図２に示す光反射膜１０’は、さらにその上に、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層１６ａ及び１６ｂを有する。また、図３に示す光反射膜１０”も光反射膜１０’と同様、４つの光反射層を有するが、光反射膜１０”では、基板の双方の表面上に２層ずつ配置されていて、即ち、図３に示す光反射膜１０”は、基板１２の一方の表面上に、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層１４ａ及び１４ｂと、並びに他方の表面上に、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層１６ａ及び１６ｂとを有する。

　図１～図３中にそれぞれ示す光反射膜１０、１０’及び１０”は、各光反射層が、コレステリック液晶相を固定してなるので、当該コレステリック液晶相の螺旋ピッチに基づいて、特定の波長の光を反射する光選択反射性を示す。例えば、隣接する光反射層（１４ａと１４ｂ、１６ａと１６ｂ）が、同程度の螺旋ピッチを有するとともに、互いに逆向きの旋光性を示していると、同程度の波長の左及び右円偏光のいずれも反射することができるので好ましい。例えば、図１の光反射膜１０の一例として、光反射層１４ａ及び１４ｂのうち、光反射層１４ａが右旋回性のキラル剤を含有する液晶組成物からなり、光反射層１４ｂが左旋回性のキラル剤を含有する液晶組成物からなり、光反射層１４ａ及び１４ｂで、螺旋ピッチが同程度ｄ_１４ｎｍである例が挙げられる。また、図２及び図３の光反射膜１０’及び１０”のそれぞれの一例として、光反射層１４ａ及び１４ｂの関係が光反射膜１０の上記例と同様であり、光反射層１６ａが右旋回性のキラル剤を含有する液晶組成物からなり、光反射層１６ｂが左旋回性のキラル剤を含有する液晶組成物からなり、光反射層１６ａ及び１６ｂで螺旋ピッチが同程度ｄ_１６ｎｍであり、及びｄ_１４≠ｄ_１６を満足する例が挙げられる。この条件を満足する光反射膜１０’及び１０”は、上記光反射膜１０の例と同様の効果を示すとともに、さらに、光反射層１６ａ及び１６ｂによって、反射される光の波長帯域が拡張し、広帯域の光反射性を示す。

　本発明の製造方法によって製造される光反射膜の一例は、反射する最大波長のピーク（極大値）が、７００ｎｍ以上である、いわゆる赤外線反射膜である。赤外線反射膜は、反射する光の波長のピークが、８００～１３００ｎｍの範囲に１つ以上あるのが好ましい。例えば、図２及び図３中に示す光反射膜の様に、４層以上の光反射層を有する態様では、右旋光性及び左旋光性の光反射層１４ａ及び１４ｂと、右旋光性及び左旋光性の光反射層１６ａ及び１６ｂとが、螺旋ピッチが互いに逆であると、８００～１３００ｎｍの範囲に、光反射層１４ａ及び１４ｂによって反射される光のピークと、光反射層１６ａ及び１６ｂによって反射される光のピーク、即ち当該範囲に反射する光の波長ピークを２つ（例えば、１０００ｎｍと１２００ｎｍ）有する赤外線反射膜とすることができる。波長７００ｎｍ以上の光に対する選択反射性は、一般的には、螺旋ピッチが５００～１３５０ｎｍ程度（好ましくは５００～９００ｎｍ程度、より好ましくは５５０～８００ｎｍｎｍ程度）であり、及び厚みが１μｍ～８μｍ程度（好ましくは３～８μｍ程度）のコレステリック液晶層によって達成される。層の形成に用いる材料（主には液晶材料及びキラル剤）の種類及びその濃度等を調整することで、所望の螺旋ピッチの光反射層を形成することができ、また、キラル剤又は液晶材料そのものを選択することで、所望の旋光性のコレステリック液晶相とすることができる。また層の厚みは、塗布量を調整することで所望の範囲とすることができる。

　本発明は、図１～図３に示す光反射膜の様に、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層を複数有する光反射膜の製造方法に関する。当該光反射層は、硬化性の液晶組成物をコレステリック液晶相とした後に、紫外線を照射して硬化反応を進行させて、当該配向状態を固定して形成される。各層を形成するたびに、硬化性液晶組成物の塗布、乾燥、及び紫外線照射、の工程を繰り返すので、初期に形成される層（例えば図１～図３では、光反射層１４ａ）は、その後、他の光反射層（例えば、図１～図３では、光反射層１４ｂ）を形成するたびに、紫外線の照射を受けてしまう。この様な過度な紫外線の照射は、層中に含有される材料（主には液晶材料）を劣化させ、それに起因して、層及び光反射膜全体の透明性が低下する。本発明の製造方法によれば、初期に形成される光反射層が、その後、他の光反射層の形成工程の際に、繰り返し紫外線の照射を受けても、透明性を過度に低下させず、高い透明性を維持するとともに、複数の光反射層を積層することで優れた光反射性を示す、光反射膜を製造することができる。

　なお、本発明の製造方法が、図１～図３に示す態様の光反射膜、及び上記詳細に説明した例の製造方法に限定されないことは言うまでもなく、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層を２以上有する光反射膜のいずれの製造にも利用することができる。

　以下、本発明の製造方法について詳細に説明する。
　本発明の光反射膜の製造方法は、コレステリック液晶相を固定してなる第１の光反射層の上で、硬化性の液晶組成物をコレステリック液晶相の状態にする第１の工程、及び前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射して硬化反応を進行させ、コレステリック液晶相を固定して第２の光反射層を形成する第２の工程を含み、第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の紫外線の強度を少なくとも低下させる作用のある部材を介して、前記硬化性の液晶組成物に、紫外線を照射することを特徴とする。

　本発明の製造方法に従って、図１に示す光反射膜１０の態様を製造する例について説明する。
　まず、ガラス板又はポリマーフィルム等からなる基板１２の表面に、光反射層１４ａを形成する。光反射層１４ａは、例えば、基板１２の表面に、硬化性の液晶組成物を塗布し、乾燥してコレステリック液晶相とし、その後、紫外線を照射して硬化反応を進行させて、コレステリック液晶相を固定して、形成することができる。前記硬化性液晶組成物は、コレステリック液晶相を示すために、右旋回性又は左旋回性のキラル剤、及び／又は、不斉炭素原子を有する液晶材料を含有する。
　なお、光反射層１４ａは、同様の操作で仮支持体上に形成した層を、基板１２上に転写して形成した層であってもよい。

　次に、光反射層１４ａの表面に、光反射層１４ｂを形成するために、硬化性液晶組成物を塗布する。当該硬化性液晶組成物も、光反射層１４ａと同様、コレステリック液晶相を示すために、右旋回性又は左旋回性のキラル剤、及び／又は、不斉炭素原子を有する液晶材料を含有する。特に、光反射層１４ａの形成に用いられるキラル剤と異なる方向の旋回性のキラル剤、例えば、光反射層１４ａの形成に用いられる液晶組成物が右旋回性のキラル剤を含有する態様では、左旋回性のキラル剤を、及び光反射層１４ａの形成に用いられる液晶組成物が左旋回性のキラル剤を含有する態様では、右旋回性のキラル剤を、含有しているのが好ましい。上記硬化性の液晶組成物は、溶媒に材料を溶解及び／又は分散した、塗布液として調製されるのが好ましい。前記塗布液の塗布は、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法等の種々の方法によって行うことができる。また、インクジェット装置を用いて、液晶組成物をノズルから吐出して、光反射層１４ａの表面に塗布することもできる。

　次に、光反射層１４ａの表面に塗布され、塗膜となった硬化性液晶組成物を、コレステリック液晶相の状態にする。前記硬化性液晶組成物が、溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗膜を乾燥し、溶媒を除去することで、コレステリック液晶相の状態にすることができる場合がある。また、コレステリック液晶相への転移温度とするために、所望により、前記塗膜を加熱してもよい。例えば、一旦等方性相の温度まで加熱し、その後、コレステリック液晶相転移温度まで冷却する等によって、安定的にコレステリック液晶相の状態にすることができる。液晶層１４ｂの形成に用いる、前記硬化性液晶組成物の液晶相転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃の範囲内であることが好ましく、１０～１５０℃の範囲内であることがより好ましい。１０℃未満であると液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるために冷却工程等が必要となることがある。また２００℃を超えると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にするために高温を要し、熱エネルギーの浪費、基板の変形、変質等からも不利になる。なお、前記硬化性液晶組成物に利用可能な種々の材料については後述する。

　次に、コレステリック液晶相の状態となった塗膜に、紫外線を照射して、硬化反応を進行させるが、本発明では、この工程において、波長３４０ｎｍ以下の紫外線の強度を少なくとも低下させる作用のある部材を介して、前記塗膜に、紫外線を照射する。紫外線照射に利用される光源としては、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ等が挙げられる。これらは通常、波長２００～４５０ｎｍ程度の光を放射する。水銀ランプは、３６５ｎｍを主波長とし、２５４ｎｍ、３０３ｎｍ、３１３ｎｍの紫外線を効率よく放射するランプである。メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプは、いずれも２００ｎｍ～４５０ｎｍまで広範囲にわたり紫外線スペクトルを放射し、水銀ランプに比べ３００～４５０ｎｍの長波長紫外線の出力が高いのが特長である。本発明では、いずれの光源を用いても、波長３４０ｎｍ以下の紫外線の強度を少なくとも低下させる作用のある部材を介して照射するので、３４０ｎｍ～２００ｎｍの光の強度が少なくとも低下、好ましくはカットされた、紫外光が照射されることになる。一般的には、短波長になるほどエネルギーは高いので、材料の劣化等に影響するのは、短波長側、即ち波長３００ｎｍ未満の短波長の紫外線であると考えられていた。しかし、本発明者が鋭意検討した結果、驚くべきことに、波長３００ｎｍ以下の光を全てカットした紫外線や、波長２４０ｎｍ以下の光を全てカットした紫外線を硬化反応に利用しても、当該紫外線が複数回照射された光反射層は、不透明化してしまうことがわかった。さらに検討を重ねた結果、従来、材料の劣化にはあまり影響されていないと考えられていた、３００ｎｍを越える比較的長波長の紫外線の照射が、液晶材料の劣化に大きく影響していることがわかった。この知見に基づいてさらに検討を重ねた結果、材料の劣化による不透明化には、波長３４０ｎｍ近傍の紫外線が照射されたか否かが大きく影響することがわかった。さらに検討した結果、波長３４０ｎｍ以下の紫外線の強度を少なくとも低下する、好ましくはカットする、フィルタや紫外線吸収層等の部材を介して、紫外線を照射すると、繰り返し紫外線が照射されても、層中の材料（特に液晶材料）の劣化を防止でき、透明性を高く維持できるとともに、光反射層として充分な強度及び光反射特性を有する層を、安定的にしかも迅速に形成できることを見出した。

　本発明の他の態様では、この工程において、波長３４０ｎｍ以下の光を含まない紫外線を、前記硬化性の液晶組成物に照射する。光源として、波長３４０ｎｍを超える波長範囲にのみ放射分布を有する光源を用いることによって実施することができる。また、波長３４０ｎｍ以下の波長範囲に放射分布を有する光源を用いる場合であっても、上記と同様３４０ｎｍ以下の光をカットするフィルタ等の部材を介して照射することで、波長３４０ｎｍ以下の光を含まない紫外線を、前記硬化性の液晶組成物に照射することができる。

　この工程では、紫外線を照射することによって、前記液晶組成物の硬化反応が進行し、コレステリック液晶相が固定されて、光反射層１４ｂが形成される。光反射層１４ｂを形成するために紫外線を照射すると、すでに形成されている光反射層１４ａにも紫外線の一部が照射される。本発明では、波長３４０ｎｍ以下の紫外線の強度が少なくとも低下している紫外線を照射して、又は波長３４０ｎｍ以下の光を含まない紫外線を、前記硬化性の液晶組成物に照射して、光反射層１４ｂの硬化反応を進行させるので、上記した通り、光反射層１４ａ中の材料（主には液晶材料）の劣化を抑制できる。また、波長３４０ｎｍ以下の紫外線の強度を低下しても、例えば、エチレン性重合性基を有する重合性成分を含有する液晶組成物の重合反応は、迅速にしかも安定的に進行するので、高い透明性を有するとともに、光反射性及び強度も良好な光反射層１４ｂを迅速に且つ安定的に形成することができる。

　この工程の一例では、紫外線カットフィルタが用いられる。上記した通り、通常、紫外線用光源ランプから出射する紫外光の波長範囲は、２００～４５０ｎｍ程度である。本発明では、光源から出射される上記波長範囲の紫外線のうち、波長３４０ｎｍ以下の紫外線をカットする紫外線カットフィルタであれば、いずれも用いることができる。例えば、波長３４０ｎｍ以下の紫外線をカットする紫外線カットフィルタ、及び波長３６５ｎｍ以下の紫外線をカットする紫外線カットフィルタ等が挙げられる。例えば、市販品としては、ＤＵＶカットフィルタ（ウシオ電機製；波長３４０ｎｍ以下のカットフィルタ）を挙げることができる。また、前記性質を有するものであれば、市販品を用いることもできる。一方、波長３００ｎｍ以下の紫外線、波長２４０ｎｍ以下の紫外線、をカットするフィルタを使用しても、上記した通り、紫外線照射による光反射層の不透明化を防止することはできないので、これらの紫外線カットフィルタは、本発明の方法には適さない。一方、紫外線カットフィルタとしては、より長波長の紫外線もカットするフィルタを使用すると、硬化反応が遅延化し、膜強度が不十分になったり、または選択反射特性が不十分になる場合がある。本発明では、波長３６５ｎｍを超える紫外線にはなんら影響を与えない、紫外線カットフィルタ、又は後述する紫外線吸収層等の部材を利用するのが好ましく、３４０ｎｍ以下の波長をカットするフィルタを用いるのが最も好ましい。言い換えれば、本発明では、前記工程において、３４０ｎｍ以下の波長の光を含まない紫外線を照射する。膜強度の観点からは、３４０ｎｍ以下の波長の光を含まず、且つ３４０ｎｍを超え３６５ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度分布を有する紫外線を利用するのがより好ましい。

　本発明の方法では、上記特性の紫外線カットフィルタを、紫外線の光源（例えばランプ）の出射面に直接取り付けてもよいし、又はルーバー及びカバー等の付帯設備に取り付けてもよい。

　この工程の他の例では、上記フィルタに代えて、又は上記フィルタとともに、紫外線吸収能を示す基板を利用することができる。具体的には、基板１２として、紫外線吸収性基板を用い、硬化性液晶組成物からなる塗膜に対して、当該紫外線吸収性基板を介して、より具体的には図１中の基板１２の裏面（光反射層１４ａが形成されていない側の面）から、紫外線を照射することで実施することができる。紫外線吸収性基板の例には、紫外線吸収層を有するガラス板及びポリマーフィルム等の基板、及びガラス板及びポリマーフィルム等の基板そのものが紫外線吸収剤を含有し、そのものが紫外線吸収能を有する基板のいずれもが含まれる。前記紫外線吸収性基板は、波長３４０ｎｍ以下の光を吸収して、強度を低下させる（好ましくは完全に吸収してカットする）作用を有することが好ましい。そのためには、基板に付加される紫外線吸収層、又は基板そのものが、後述する紫外線吸収剤を含有しているのが好ましい。

　紫外線の照射エネルギー量については特に制限はないが、一般的には、１００ｍＪ／ｃｍ^２～８００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましい。また、前記塗膜に紫外線を照射する時間については特に制限はないが、硬化膜の充分な強度及び生産性の双方の観点から決定されるであろう。

　硬化反応を促進するため、加熱条件下で紫外線照射を実施してもよい。また、紫外線照射時の温度は、コレステリック液晶相が乱れないように、コレステリック液晶相を呈する温度範囲に維持するのが好ましい。また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達せず、膜強度が不十分の場合には、窒素置換等の方法により、雰囲気中の酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がさらに好ましく、３％以下が最も好ましい。紫外線照射によって進行される硬化反応（例えば重合反応）の反応率は、層の機械的強度の保持等や未反応物が層から流出するのを抑える等の観点から、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがよりさらに好ましい。反応率を向上させるためには照射する紫外線の照射量を増大する方法や窒素雰囲気下あるいは加熱条件下での重合が効果的である。また、一旦重合させた後に、重合温度よりも高温状態で保持して熱重合反応によって反応をさらに推し進める方法や、再度紫外線を照射する（ただし、本発明の条件を満足する条件で照射する）方法を用いることもできる。反応率の測定は反応性基（例えば重合性基）の赤外振動スペクトルの吸収強度を、反応進行の前後で比較することによって行うことができる。

　本発明の製造方法によって製造される光反射膜の一例は、波長７００ｎｍ以上（より好ましくは８００～１３００ｎｍ）に少なくとも１つの反射ピークのある選択反射特性を示す、いわゆる赤外線反射膜である。赤外線反射特性は、上記した通り、螺旋ピッチを５００～１３５０ｎｍ（より好ましくは５００～９００ｎｍ、更に好ましくは、５５０～８００ｎｍ）程度とし、層の厚みを１～８μｍ（より好ましくは３～８μｍ）にすることで達成できる。即ち、赤外線反射膜の態様では、光反射層にはある程度の厚みが必要であるので、紫外線の照射がより過度になる傾向がある。よって、本発明の製造方法は、この様に、光反射層にある程度の厚み（例えば、３μｍ以上）が必要とされる、赤外線反射膜の製造方法として特に有用である。

　上記工程では、コレステリック液晶相が固定されて、光反射層１４ｂが形成される。ここで、液晶相を「固定化した」状態は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様である。それだけには限定されず、具体的には、通常０℃～５０℃、より過酷な条件下では－３０℃～７０℃の温度範囲において、該層に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を意味するものとする。本発明では、紫外線照射によって進行する硬化反応により、コレステリック液晶相の配向状態を固定する。よって光反射層の形成に用いる液晶組成物は、硬化性である。紫外線照射によって進行する硬化反応の例には、重合反応、及び架橋反応が含まれる。一例では、重合開始剤、及び重合成分（液晶化合物、キラル剤等であってもよいし、別途添加された重合性モノマーであってもよい）を含有する重合性の液晶組成物を、光反射層１４ａの表面に塗布し、コレステリック液晶相形成温度まで加熱し配向させた後、紫外線照射により重合反応を進行させて、当該配向状態を固定化して、光反射層を形成することができる。
　なお、本発明においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、最終的に光反射層中の液晶組成物がもはや液晶性を示す必要はない。例えば、液晶組成物が、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。

　この様にして、光反射層１４ａ及び光反射層１４ｂを有する、図１に示す構成の光反射膜１０を作製することができる。さらに、上記工程を繰り返すことで、図２及び図３に示す様な、４層以上の光反射層を有する光反射膜を作製することができる。
　本発明の製造方法に従って、図２に示す光反射膜１０’を作製する一例では、上記した方法で、基板１２上に、光反射層１４ａ、及び光反射層１４ｂを作製した後、光反射層１４ｂと同様にして、光反射層１４ｂの表面に、硬化性液晶組成物を用いて光反射層１６ａを形成し、さらに同様にして、光反射層１６ａの表面に、硬化性液晶組成物を用いて光反射層１６ｂを形成することができる。本態様では、光反射層１６ａ及び１６ｂをそれぞれ形成する際に行う紫外線照射を、上記所定の条件で行うので、すでに形成されている光反射層１４ａ及び１４ｂに紫外線が繰り返し照射されても、層中の材料の劣化を抑制でき、高い透明性を維持できる。

　本発明の製造方法に従って、図３に示す光反射膜１０”を作製する一例では、上記した方法で、基板１２上に、光反射層１４ａ、及び光反射層１４ｂを作製した後、基板１２の裏面に、光反射層１４ｂと同様にして、硬化性液晶組成物を用いて光反射層１６ａを形成し、さらに同様にして、光反射層１６ａの表面に、硬化性液晶組成物を用いて光反射層１６ｂを形成することができる。本態様では、光反射層１６ａ及び１６ｂをそれぞれ形成する際に行う紫外線照射を、上記所定の条件で行うので、すでに形成されている光反射層１４ａ及び１４ｂに紫外線が繰り返し照射されても、層中の材料の劣化を抑制でき、高い透明性を維持できる。特に、光反射層１６ａ及び１６ｂの形成時に照射する紫外線を、上記特性のフィルタを介して照射するとともに、基板１２として紫外線吸収性基板を用い、その裏面（即ち、光反射層１６ａを形成する側の面）側から照射すると、フィルタの作用のみならず、基板１２の紫外線吸収性によっても、すでに存在する光反射層１４ａ及び１４ｂが紫外線によって劣化してしまうのを、さらに抑制することができる。勿論、基板１２として紫外線吸収性のない基板を用いても、所定の特性のフィルタを用いることで、又は、フィルタを用いなくても、紫外線吸収性基板を用いることで、高い透明性の光反射膜を製造することができる。

　また、本発明の製造方法に従って、図３に示す光反射膜１０”を作製する他の例では、まず、基板１２の表面に光反射層１４ａを、及び基板１２の裏面に光反射層１６ａを、順次又は同時に形成してもよく、その後、光反射層１４ａ及び１６ａの表面に、光反射層１４ｂ及び１６ｂを、順次又は同時に形成してもよい。

　次に、本発明の光反射膜の作製に利用可能な種々の材料について説明する。
１．光反射層形成用材料
　本発明の光反射膜では、光反射層の形成に、硬化性の液晶組成物を用いる。前記液晶組成物の一例は、棒状液晶化合物、光学活性化合物（キラル剤）、及び重合開始剤を少なくとも含有する。各成分を２種以上含んでいてもよい。例えば、重合性の液晶化合物と非重合性の液晶化合物との併用が可能である。また、低分子液晶化合物と高分子液晶化合物との併用も可能である。更に、配向の均一性や塗布適性、膜強度を向上させるために、水平配向剤、ムラ防止剤、ハジキ防止剤、及び重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも１種を含有していてもよい。また、前記液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤等を光学的性能を低下させない範囲で添加することができる。

（１）　棒状液晶化合物
　本発明に使用可能な棒状液晶化合物の例は、棒状ネマチック液晶化合物である。前記棒状ネマチック液晶化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。

　本発明に利用する棒状液晶化合物は、重合性であっても非重合性であってもよい。重合性基を有しない棒状液晶化合物については、様々な文献（例えば、Y. Goto et.al., Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1995, Vol. 260, pp.23-28）に記載がある。
　重合性棒状液晶化合物は、重合性基を棒状液晶化合物に導入することで得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、棒状液晶化合物の分子中に導入できる。重合性棒状液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１～６個、より好ましくは１～３個である。重合性棒状液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、ＡｄｖａｎｃｅｄＭａｔｅｒｉａｌｓ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１－２７２５５１号公報、同６－１６６１６号公報、同７－１１０４６９号公報、同１１－８００８１号公報、及び特開２００１－３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。２種類以上の重合性棒状液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性棒状液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。

（２）　光学活性化合物（キラル剤）
　前記液晶組成物は、コレステリック液晶相を示すものであり、そのためには、光学活性化合物を含有しているのが好ましい。但し、上記棒状液晶化合物が不正炭素原子を有する分子である場合には、光学活性化合物を添加しなくても、コレステリック液晶相を安定的に形成可能である場合もある。前記光学活性化合物は、公知の種々のキラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）から選択することができる。光学活性化合物は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。光学活性化合物（キラル剤）は、重合性基を有していてもよい。光学活性化合物が重合性基を有するとともに、併用する棒状液晶化合物も重合性基を有する場合は、重合性光学活性化合物と重合性棒状液晶合物との重合反応により、棒状液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、光学活性化合物から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性光学活性化合物が有する重合性基は、重合性棒状液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、光学活性化合物の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基又はアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
　また、光学活性化合物は、液晶化合物であってもよい。

　前記液晶組成物中の光学活性化合物は、併用される液晶化合物に対して、１～３０モル％であることが好ましい。光学活性化合物の使用量は、より少なくした方が液晶性に影響を及ぼさないことが多いため好まれる。従って、キラル剤として用いられる光学活性化合物は、少量でも所望の螺旋ピッチの捩れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物が好ましい。この様な、強い捩れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開２００３－２８７６２３公報に記載のキラル剤が挙げられ、本発明に好ましく用いることができる。

（３）　重合開始剤
　前記光反射層の形成に用いる液晶組成物は、重合性液晶組成物であるのが好ましく、そのためには、重合開始剤を含有しているのが好ましい。本発明では、紫外線照射により硬化反応を進行させるので、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。

　光重合開始剤の使用量は、液晶組成物（塗布液の場合は固形分）の０．１～２０質量％であることが好ましく、１～８質量％であることがさらに好ましい。

（４）　配向制御剤
　前記液晶組成物中に、安定的に又は迅速にコレステリック液晶相となるのに寄与する配向制御剤を添加してもよい。配向制御剤の例には、含フッ素(メタ)アクリレート系ポリマー、及び下記一般式（Ｘ１）～（Ｘ３）で表される化合物が含まれる。これらから選択される２種以上を含有していてもよい。これらの化合物は、層の空気界面において、液晶化合物の分子のチルト角を低減若しくは実質的に水平配向させることができる。尚、本明細書で「水平配向」とは、液晶分子長軸と膜面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が２０度未満の配向を意味するものとする。液晶化合物が空気界面付近で水平配向する場合、配向欠陥が生じ難いため、可視光領域での透明性が高くなり、また赤外領域での反射率が増大する。一方、液晶化合物の分子が大きなチルト角で配向すると、コレステリック液晶相の螺旋軸が膜面法線からずれるため、反射率が低下したり、フィンガープリントパターンが発生し、ヘイズの増大や回折性を示すため好ましくない。
　配向制御剤として利用可能な前記含フッ素(メタ)アクリレート系ポリマーの例は、特開２００７－２７２１８５号公報の［００１８］～［００４３］等に記載がある。

　以下、配向制御剤として利用可能な、下記一般式（Ｘ１）～（Ｘ３）について、順に説明する。

　式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ^１～Ｒ^３で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基又はフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、－ＣＯ－、―ＮＲａ－（Ｒａは炭素原子数が１～５のアルキル基又は水素原子）、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、－ＣＯ－、－ＮＲａ－、－Ｏ－、－Ｓ－及び－ＳＯ_２－からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１～１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２～１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６～１０であることが好ましい。

　式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０～５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３で表される置換基の好ましい範囲として挙げたものと同様である。ｍは、好ましくは１～３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。

　式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（ＸＩ）におけるＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３で表される置換基の好ましいものとして挙げたものと同様である。

　本発明において配向制御剤として使用可能な、前記式（Ｘ１）～（Ｘ３）で表される化合物の例には、特開２００５－９９２４８号公報に記載の化合物が含まれる。
　なお、本発明では、配向制御剤として、前記一般式（Ｘ１）～（Ｘ３）で表される化合物の一種を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。

　前記液晶組成物中における、一般式（Ｘ１）～（Ｘ３）のいずれかで表される化合物の添加量は、液晶化合物の質量の０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましく、０．０２～１質量％が特に好ましい。

２．　基板
　本発明の光反射膜は、基板上に形成することができる。基板としては、ガラス板及びポリマーフィルムのいずれも用いることができる。基板として用いるポリマーフィルムについては特に制限はない。用途によっては、可視光に対する透過性が高いポリマーフィルムが好ましく用いられるであろう。可視光に対する透過性が高いポリマーフィルムとしては、液晶表示装置等の表示装置の部材として用いられる種々の光学フィルム用のポリマーフィルムが挙げられる。前記基板としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルム；ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム；ポリイミドフィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、などが挙げられる。

　また、上記した通り、本発明の方法では、基板として紫外線吸収性の基板を用い、当該基板を介して、紫外線を照射してもよい。この態様に用いる紫外線吸収性基板は、波長３４０ｎｍ以下の紫外線に対して高い吸収性を示すのが好ましい。そのためには、当該波長域に吸収性を示す紫外線吸収剤を、基板として用いられるポリマーフィルム中に添加するのが好ましい。または当該紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層を有する基板を用いることもできる。支持体に、紫外線吸収性能を付与する手段については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。より具体的には、ＰＥＴシート等の支持体として用いられるポリマーフィルム中に、又は支持体等のポリマーフィルム上に形成されるアンダー層もしくは透明樹脂層等に、紫外線吸収剤を添加する方法などが挙げられる。前記紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾジチオール系、クマリン系、ベンゾフェノン系、サリチル酸エステル系、シアノアクリレート系等の紫外線吸収剤；酸化チタン、酸化亜鉛などが挙げられる。前記紫外線吸収剤の種類、配合量は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択される。特に好ましい前記紫外線吸収剤の例には、下記化合物及びその類縁体が挙げられる。下記化合物の吸収極大波長は、３４０ｎｍ以下である。図４にこれらの化合物の紫外線吸収曲線を示す。

　本発明の製造方法によって製造される光反射膜の一例は、波長７００ｎｍ以上（より好ましくは８００～１３００ｎｍ）に反射ピークのある選択反射特性を示す、いわゆる赤外線反射膜である。赤外線反射膜は、住宅、オフィスビル等の建造物、又は自動車等の車両の窓に、日射の遮熱用の部材として貼付される。又は、本発明の光反射膜をガラス板又はポリマーフィルム等の基板上に形成して作製した光反射板は、日射の遮熱用の部材そのもの（たとえば、遮熱用ガラス、遮熱用フィルム）として、その用途に供することができる。

　以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

１．基板の準備
　基板１として、富士フイルム（株）製ＰＥＴフィルムを準備した。
　また、後述する実施例８に用いたＵＶ吸収性基板２を、以下の通り作製した。
　下記に示す組成のＵＶ吸収層用塗布液を調製した。
ＵＶ吸収層の塗布液組成：
　・メチルエチルケトン　　　　　　　４０質量部
　・メトキシプロピルアセテート　　　１０質量部
　・アクリル樹脂（ダイヤナールＢＲ－１０６、三菱レイヨン株式会社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
　・下記式で表されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、Ｃｉｂａジャパン株式会社製）２．５質量部

　上記塗布液を富士フイルム（株）製ＰＥＴフィルム上にバー塗布し、１２０℃で７分間乾燥して、厚み３０μｍのＵＶ吸収層を形成した。この様にして、ＵＶ吸収性基板２を作製した。
　このＵＶ吸収性基板２が有するＵＶ吸収層は、波長３６５ｎｍ以下の波長の光の透過率を０．１％以下に低下させるものであった。

　また、後述する実施例９に用いたＵＶ吸収性基板３を、以下の通り作製した。
　ポリエチレンテレフタレート樹脂材料に、上記トリアゾール系紫外線吸収剤を１質量％混合して、温度２６０℃にて溶融混練し、溶融押し出し機（エクストルーダー）を用いて押出し成形して、ＰＥＴフィルムを作製した。これをＵＶ吸収性基板３として用いた。
　このＵＶ吸収性基板３は、波長３６５ｎｍ以下の波長の光の透過率を０．１％以下に低下させるものであった。

２．反射層の形成
　下記表に示す組成の塗布液（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）をそれぞれ調製した。

（１）　調製した各塗布液を、ワイヤーバーを用いて、乾燥後の乾膜の厚みが６μｍになるように富士フイルム（株）製ＰＥＴフィルム（基板１）上に、室温にて塗布した。
（２）　室温にて３０秒間乾燥させてコレステリック液晶相とした後、１２５℃の雰囲気で２分間加熱し、その後９５℃でフュージョン製Ｄバルブ（ランプ９０ｍＷ／ｃｍ）にて、出力６０％で６～１２秒間ＵＶ照射し、コレステリック液晶相を固定して、膜（光反射層）を作製した。紫外線照射時におけるフィルタの使用の有無、使用したフィルタについては、下記表に示した。
（３）　複数層を積層する場合には、コレステリック液晶相の膜を形成し、室温まで冷却した後、上記工程（１）及び（２）を繰り返した。

　実施例８では、上記工程（１）において、上記で作製したＵＶ吸収性基板２上（ＵＶ吸収層の表面）に、各塗布液を塗布し、それ以外は上記と同様にして、光反射板を作製した。但し、紫外線照射時に別途フィルタを用いず、ＰＥＴフィルム上に形成したＵＶ吸収層をフィルタとして利用した。
　また、実施例９では、上記工程（１）において、上記で作製したＵＶ吸収性基板３上（ＵＶ吸収層の表面）に、各塗布液を塗布し、それ以外は上記と同様にして、光反射板を作製した。但し、紫外線照射時に別途フィルタを用いず、ＵＶ吸収性基板３そのものをＵＶ吸収層をフィルタとして利用した。
　上記方法により、下記表に示す光反射膜を作製した。
３．評価
　作製した各光反射膜について、反射極大波長、分光光度計を用いて可視光領域での透過率を測定し、評価した。また、各光反射膜のヘイズをヘイズメータで測定し、評価した。結果を下記表に示す。

　＊１　各層の厚みは３μｍ。
　＊２　基板側よりＵＶ照射。

４．膜強度評価
　実施例１と実施例３について、膜強度をＪＩＳ　Ｇ　０２０２に記載の方法に従って評価したところ、実施例１では光反射層の膜強度が２Ｈであり良好であったが、一方、実施例３の膜強度はＨであり、実施例１と比較して劣っていた。そこで、実施例３については、照射時間を６秒から１２秒に変更して照射時間を延長したところ、実施例１と同様の膜強度となった。
　この結果から、本発明では、波長３４０ｎｍ以上の紫外線をカットするフィルタを利用して、波長３４０ｎｍ以下の紫外光を含まず、及び３４０ｎｍを超え３６５ｎｍの波長域範囲の少なくとも一部に強度分布を有する紫外線を利用すると、不透明化の軽減が達成できるのみならず、短時間で充分な膜強度の光反射膜を形成できることが理解できる。

１０、１０’、１０”　光反射膜
１２　基板
１４ａ、１４ｂ、１６ａ、１６ｂ　光反射層

Claims

コレステリック液晶相を固定してなる、少なくとも２つの光反射層を有する光反射膜の製造方法であって、
　コレステリック液晶相を固定してなる第１の光反射層の上で、硬化性の液晶組成物をコレステリック液晶相の状態にする第１の工程、及び
　前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射して硬化反応を進行させ、コレステリック液晶相を固定して第２の光反射層を形成する第２の工程を含み、
　第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の紫外線の強度を少なくとも低下させる作用のある部材を介して、前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射する光反射膜の製造方法。
コレステリック液晶相を固定してなる、少なくとも２つの光反射層を有する光反射膜の製造方法であって、
　コレステリック液晶相を固定してなる第１の光反射層の上で、硬化性の液晶組成物をコレステリック液晶相の状態にする第１の工程、及び
　前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射して硬化反応を進行させ、コレステリック液晶相を固定して第２の光反射層を形成する第２の工程を含み、
　第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の光を含まない紫外線を、前記硬化性の液晶組成物に照射する光反射膜の製造方法。
前記第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の光を含まず、且つ波長３４０ｎｍを超え３６５ｎｍ以下の波長範囲の少なくとも一部に強度分布を有する紫外線を、前記硬化性の液晶組成物に照射する請求項１又は２に記載の方法。
第２の工程において、波長３４０ｎｍ以下の紫外線をカットするフィルタを介して、前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射する請求項１～３のいずれか１項に記載の方法。
第２の工程において、波長３６５ｎｍ以下の紫外線をカットするフィルタを介して、前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射する請求項１又は２に記載の方法。
第１の光反射層が、紫外線吸収能を有する基板上に存在し、第２の工程において、該基板を介して、前記硬化性の液晶組成物に紫外線を照射する請求項１～５のいずれか１項に記載の方法。
前記紫外線吸収能を有する基板が、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層を少なくとも有する基板、又は紫外線吸収剤を含有する基板である請求項６に記載の方法。
前記紫外線吸収剤が、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である請求項７に記載の方法。
第２の光反射層の厚みが３μｍ以上である請求項１～８のいずれか１項に記載の方法。
第１及び第２の光反射層が、互いに逆向きの旋回性のキラル剤を含有する請求項１～９のいずれか１項に記載の方法。
基板の一方の表面上に、互いに逆方向の円偏光を反射する第１及び第２の光反射層を少なくとも有する光反射膜を製造する請求項１～１０のいずれか１項に記載の方法。
基板の双方の表面上に、互いに逆方向の円偏光を反射する第１及び第２の光反射層を少なくとも有する光反射膜を製造する請求項１～１０のいずれか１項に記載の方法。
反射する最大波長のピーク（極大値）が７００ｎｍ以上に１つ以上ある光反射膜を製造する請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。
反射する最大波長のピーク（極大値）が８００～１３００ｎｍの範囲に１つ以上ある光反射膜を製造する請求項１～１３のいずれか１項に記載の方法。
建造物又は車両の窓に使用される遮熱用の光反射膜を製造する請求項１～１４のいずれか１項に記載の方法。