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WO2008092650A2 - Verfahren und prägefolie zum selektiven übertragen mindestens einer funktionsschicht auf ein substrat - Google Patents

Verfahren und prägefolie zum selektiven übertragen mindestens einer funktionsschicht auf ein substrat Download PDF

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WO2008092650A2
WO2008092650A2 PCT/EP2008/000703 EP2008000703W WO2008092650A2 WO 2008092650 A2 WO2008092650 A2 WO 2008092650A2 EP 2008000703 W EP2008000703 W EP 2008000703W WO 2008092650 A2 WO2008092650 A2 WO 2008092650A2
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WO
WIPO (PCT)
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layer
light
laser beam
functional layer
substrate
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/EP2008/000703
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English (en)
French (fr)
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WO2008092650A3 (de
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Norbert Lutz
Andreas Schilling
Walter Kurz
Jürgen Hermann
Norbert Schmidt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Leonhard Kurz Stiftung and Co KG
Original Assignee
Leonhard Kurz Stiftung and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Publication of WO2008092650A3 publication Critical patent/WO2008092650A3/de
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Ceased legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/048—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using irradiation by energy or particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
    • B41M5/38207—Contact thermal transfer or sublimation processes characterised by aspects not provided for in groups B41M5/385 - B41M5/395
    • B41M5/38214—Structural details, e.g. multilayer systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material

Definitions

  • the invention relates to a method for selectively transferring at least one functional layer, such as a color layer, from a carrier layer of a stamping foil to a substrate by means of an intense light beam, in particular a laser beam, and a stamping foil provided for this purpose.
  • the stamping foil has the carrier layer and the at least one
  • a CO 2 laser of wavelength 10.6 microns for example, a Nd: YAG laser of wavelength 1064 nm or a doubled Nd: YAG laser of wavelength 532 nm is used.
  • a Nd: YAG laser of wavelength 1064 nm or a doubled Nd: YAG laser of wavelength 532 nm is used.
  • other, known per se laser are applicable to at least one functional layer, such as a color layer, from the carrier layer of the embossing film partially transferred to a substrate.
  • the substrate is, for example, a card or a plate of a suitable plastic material.
  • a laser beam it can also be, for example, another intense light beam, because it is particularly important to specifically heat a region.
  • Contour sharpness and the resolution of the selectively transferred to the substrate selectively at least one functional layer, in particular a color layer, leave desires open.
  • the invention is therefore based on the object, a method of the type mentioned, with which a contour-selective transfer of the at least one functional layer, such as a color layer, is achieved by a carrier layer of a stamping foil on a substrate, and to provide a stamping film provided therefor.
  • a carrier layer is used, which at least largely absorbs the light or laser beam, so that the light or laser beam on the at least one functional layer, such as a color layer, sharp contiguous effect around the at least one functional layer, in particular color layer, contour sharp selectively or transfer to the substrate and to fix it to the substrate.
  • the light or laser beam is largely absorbed when at least 50% of the radiation is absorbed by the carrier layer, especially when at least 80% of the radiation is absorbed.
  • remaining radiation portions not absorbed by the carrier layer can be absorbed by the at least one functional layer, in particular by a colored layer, and / or by the substrate.
  • the contour sharpness of the areas of the at least one functional layer transferred to the substrate is assessed on the basis of the theoretically traceable contour. If a deviation of the contour of the areas of the at least one functional layer transmitted to the substrate from the theoretically desired contour with the naked eye and normal distance to the substrate, i. at a distance between eye and substrate of about 25 to 35 cm, not recognizable, so there is contour sharpness.
  • a carrier layer which is a layer structure or a composite layer of a light or Laser beam transmissive layer and a light or laser beam absorbing layer.
  • the light or laser beam transparent layer is preferably formed according to the invention of a film.
  • This film consists, for example, of polyethylene terephthalate (PET), which in particular has a film thickness in the range from 6 to 250 ⁇ m, e.g. a thickness of 19 microns, has.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a layer structure can be used, wherein the light or laser beam absorbing layer is likewise formed by a film which is laminated together with the light or laser beam-permeable film.
  • CO 2 lasers may be black polyethylene or polypropylene film, which strongly absorb their radiation.
  • a layer structure is used, wherein the light- or laser-beam-absorbing layer is formed by a coating of the light- or laser-transmissive film.
  • a layer structure wherein the light- or laser-beam-absorbing coating is formed by a replication lacquer layer with a black-mirror structure.
  • a black mirror structure is, for example, a cross grating made of base gratings with periods d smaller than a cutoff wavelength ⁇ at the shortwave end in the spectrum of the one used
  • This structure is then provided with a metallic coating, preferably an opaque metallic coating.
  • Such relief structures absorb almost all of the incident light and scatter only a small fraction of the incident light.
  • the percentage of light absorbed depends on the structure depth h in a non-linear manner and can be selected by choosing Structure depth h in the above range are controlled to about 99%, in which case, the flatter the relief structure, the more incident light is scattered back and the less light is absorbed - and vice versa.
  • a cross grating instead of a cross grating, to use a normal line grating or another relief structure as a black mirror structure, in which the minimum distance adjacent local maxima is smaller than the cutoff wavelength of the light or laser light used.
  • the depth-to-width ratio, ie the ratio of the structure depth (average distance between maxima and minima) to these distances is less than 0.5, preferably less than 1 to choose.
  • a metal layer to apply a color layer or a layer which absorbs the light or laser light to the black mirror structure with particles or colorants which absorb the light or laser light.
  • the replication lacquer layer with the black mirror structure forms an antireflection coating for the light source used, in particular laser, when the lateral dimensions are smaller than the wavelength of the light or laser radiation.
  • the reflection on such an anti-reflection layer is for example 0.2% of the incident light or laser beam, so that 99.8% of the light or
  • Laser beam are coupled into the light or laser beam absorbing layer.
  • a layer structure can be used, wherein the replication lacquer layer with the black mirror structure at the light or
  • Laser beam facing away from the inside of the layer structure is provided so that the conversion of the light beam or laser beam energy into heat energy takes place in the vicinity of the at least one functional layer. It has proved to be particularly advantageous if a layer structure is used, the black mirror structure being provided with a metallization or with another coating which absorbs the light or laser beam used, in particular a metal oxide coating.
  • a metallization is a metal layer, which is realized for example by vacuum evaporation, sputtering or the like.
  • the metallization may consist, for example, of Al, Ni, Au, Ag, Cu or alloys of these metals or the like.
  • the replication lacquer layer with the black mirror structure is provided on the inside of the layer structure facing away from the light or laser beam, then it is expedient for the replication lacquer layer with the black mirror structure to be covered with an intermediate layer which lies between the replication lacquer layer and the surface at least one functional layer is provided.
  • the embossing foil used for the method accordingly has the carrier layer and furthermore the at least one functional layer which can be detached from the carrier layer.
  • the embossing foil is irradiated in regions with the light or laser beam, wherein the carrier layer is heated in the irradiated areas due to their absorbing properties for the radiation used. In the heated areas, a connection is formed between the at least one functional layer and the substrate, in particular by gluing. The non-fixed to the substrate areas of the at least one functional layer are then removed from the substrate together with the carrier layer.
  • a smooth contour sharp selective, ie area wise, transfer of at least one functional layer, such as a color layer, from the carrier layer of the embossing film to a substrate is possible if a layer structure is used, wherein between the carrier layer and the at least one functional layer, in particular color layer, a release layer is provided.
  • This release layer may consist of a suitable wax or silicone material known per se.
  • the release layer can be subtracted from the substrate either as part of the carrier layer after irradiation together with the carrier layer or as part of the at least one functional layer remain in the irradiated areas on the substrate.
  • the at least one functional layer has in particular a color layer.
  • a color layer both an opaque colored layer and a transparent colored layer are referred to.
  • the color layer can be monochromatic or have a different color in regions.
  • the coloring may show two or more different colors arranged in a regular pattern or a random pattern.
  • the at least one functional layer further comprises, in particular, an adhesive layer, in particular a hot-melt adhesive layer.
  • the at least one functional layer may comprise a release layer, which is arranged facing the carrier layer and in the irradiated areas the detachment behavior of the at least one
  • the release layer is formed in particular colorless transparent.
  • the at least one functional layer may comprise further layers, such as primer layers, lacquer layers, etc.
  • FIG. 1 Show it: FIG. 1 in sections, greatly enlarged and not to scale, an embossing foil and a substrate spaced therefrom in cross-section,
  • FIG. 2 is a sectional view, similar to FIG. 1, of the embossing foil in combination with the substrate in cross section, whereby a light or laser beam is also illustrated;
  • FIG. 3 shows a section-wise representation of the substrate similar to FIG. 2, with the functional layer selectively transferred by means of a light or laser beam, in cross-section, FIG.
  • FIG. 4 shows in sections an embodiment of a stamping film according to the invention, which is used in a method according to the invention, on a substrate in cross section,
  • FIG. 5 is a sectional view, similar to FIG. 4, of another embodiment of a stamping film according to the invention on a substrate in cross-section, which is used in the method according to the invention.
  • Figure 6 is a Figures 4 and 5 similar sections of yet another embodiment of an embossing film according to the invention for carrying out the method according to the invention on a substrate in cross section, and
  • FIG. 7 shows the detail VII in FIG. 5 in a further enlarged, not to scale representation.
  • FIG. 1 shows an embossing foil 10 and a dimensionally stable substrate 12, which is spaced therefrom and has a cross section.
  • the stamping foil 10 has a carrier layer 14 and a functional layer 16 in the form of a color layer. Between the carrier layer 14 and the functional layer 16 is a release layer 18 is provided to assist the detachment of the functional layer 16 from the carrier layer 14 when the functional layer 16 is selectively transferred to the substrate 12 by means of a laser beam. This is indicated in Figure 2, wherein the laser beam is illustrated by the arrow 20.
  • a carrier layer 14 is used according to the invention, which at least largely absorbs the laser beam 20, so that the Laser beam 20 on the color layer 16 contour sharp effect.
  • the contour-sharp effectiveness of the laser beam 20 is indicated in Figure 2 by the dashed lines 22.
  • the irradiated areas of the carrier layer 14 absorb the radiation and heat up, whereby the immediately adjacent regions of the functional layer 16 are heated.
  • the functional layer 16 is in this case made of a material, in particular a thermoplastic material or lacquer, which softens when heated at least slightly and can be connected to an adjacent substrate, optionally under pressure.
  • the at least one functional layer may further comprise an adhesive layer which faces the substrate, softens when heated and a fixation of Regions of the ink layer on the substrate allows.
  • the contour of the functional layer 16 selectively transferred to the substrate 12 is illustrated in FIG.
  • FIG. 4 shows a design of an embossing foil 10 according to the invention, in which the carrier layer 14 is formed by a layer structure comprising a laser-beam-permeable layer 24 and a laser-beam-absorbing layer 26.
  • the laser beam transmissive layer 24 is preferably formed by a film 28.
  • the film 28 consists for example of PET and has, for example, a thickness of> 6 microns. Small PET film thicknesses are advantageous in terms of resolution or contour sharpness.
  • the laser beam absorbing layer 26 may also comprise a film 30, in the case of using a CO 2 laser, for example a black polyethylene film or a black polypropylene film laminated with the film 28, or a coating 32 of the Laser-ray-permeable film 28 may be formed.
  • the reference numeral 16 is also in Figure 4 is a functional layer in the form of a colored layer and the reference numeral 18 denotes a release layer between the functional layer 16 and the carrier layer 14.
  • the reference numeral 20 designates the laser beam in FIG. 4, with which the functional layer 16 is selectively transferred to a substrate 12 in a contour-sharp manner.
  • the contour of the region of the functional layer 16 to be transferred from the embossing film 10 to the substrate 12 is again illustrated by the dashed lines 22.
  • a laser-beam-permeable film 28 with a laser-beam-absorbing coating 32 is used as the layer structure for the carrier layer 14, it is advantageous if the laser-beam-absorbing coating 32 is formed by a replication lacquer layer 34 with a black-mirror structure 36 which is suitable for the laser beam 20 forms a so-called anti-reflection layer.
  • the black-mirror structure 36 On the side next to the black-mirror structure 36, which is also referred to as a moth-eye structure, 4% of the radiation is reflected by the laser beam 20, for example of the order of magnitude, which is illustrated by the arrow 38 in FIG. That is, on the order of 96% of the laser beam 20 are coupled into the replication lacquer layer 34 on the order of. This 96% proportion is illustrated in FIG. 5 by the arrow 40.
  • the reflection of the laser beam 20 at the black mirror structure 36 is on the order of 0.2%, ie, on the order of 99.8% are coupled into the replication lacquer layer 34. This latter proportion is indicated in Figure 5 by the arrow 42.
  • the difference between the indicated by the arrows 40 and 42 shares is therefore on the order of 3.8%.
  • the replication lacquer layer 34 is provided with a metallization 44 or with another coating which absorbs the laser radiation used, for example a metal oxide coating.
  • a metallization 44 is a metallization 44 or with another coating which absorbs the laser radiation used, for example a metal oxide coating.
  • Thin-film metallization which is applied to the replication lacquer layer 34, for example by vacuum evaporation, cathode sputtering or the like (see FIG. 7).
  • the layer thickness of a thin layer is ⁇ 10 ⁇ m.
  • Such a design has the advantage that, in addition to the black mirror structure 36, the reflection of the laser beam 20 indicated by the arrow 38 in the case of metals, such as aluminum or copper, depending on the wavelength, is approximately 90% and that the Reflection of the laser beam 20 in the region of the black mirror structure 36, for example, 10%, so that laterally next to the black mirror structure 36 indicated by the arrow 40 energy input into the replication lacquer layer 34 about 10% and in the range Mirror structure 36 indicated by the arrow 42 is on the order of about 90%.
  • FIG. 5 illustrates a carrier layer 14, wherein the replication lacquer layer 34 with the black mirror structure 36 is provided on the outer side 46 of the layer structure or carrier layer 14 of the embossing film 10 facing the laser beam 20.
  • a further improvement of the contour sharpness during the transfer of the functional layer 16 from the carrier layer 14 to a substrate 12 can be realized by using a layer structure for the carrier layer 14 of the embossing film 10 according to the invention, the replication lacquer layer 34 having the black mirror structure 36 the inside of the carrier layer 14 facing away from the laser beam 20 is provided, and the replication lacquer layer 34 is covered with an optional intermediate layer 48 which is provided between the replication lacquer layer 34 and the functional layer 16, as FIG. 6 illustrates.
  • the black mirror structure 36 is provided with a metallization 44 or with another coating which absorbs the laser radiation used, for example a metal oxide coating.
  • the optional intermediate layer 48 according to FIG. 6 is provided on the metallization.
  • the reference numeral 18 also denotes the release layer between the carrier layer 14 and the functional layer 16 of the stamping foil 10 according to the invention in FIGS. 5 and 6.
  • FIG. 7 shows detail VII from FIG. 5 in a further enlarged, not to scale representation.
  • the metallization 44 can be recognized on the replication lacquer layer 34, also in the area of the black mirror structure 36.

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Abstract

Es wird ein Verfahren zum selektiven konturenscharfen Übertragen mindestens einer Funktionsschicht (16), wie einer Farbschicht, von einer Trägerlage (14) einer Prägefolie (10) auf ein Substrat (12) mittels eines intensiven Lichtstrahles, vorzugsweise eines Laserstrahls (20), sowie eine Prägefolie (10) beschrieben, die den intensiven Licht- oder Laserstrahl (20) zumindest großteils absorbiert, so dass der intensive Licht- oder Laserstrahl (20) an der mindestens einen Funktionsschicht (16), wie einer Farbschicht, derartig wirksam wird, dass die Funktionsschicht (16) konturscharf selektiv an das Substrat (12) übertragen wird.

Description

Verfahren und Präqefolie zum selektiven Übertragen mindestens einer
Funktionsschicht auf ein Substrat
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum selektiven Übertragen mindestens einer Funktionsschicht, wie einer Farbschicht, von einer Trägerlage einer Prägefolie auf ein Substrat mittels eines intensiven Lichtstrahls, insbesondere eines Laserstrahls, sowie eine hierfür vorgesehene Prägefolie.
Die Prägefolie weist dabei die Trägerlage und die mindestens eine
Funktionsschicht auf, welche von der Trägerlage ablösbar ist.
Zur Durchführung des Verfahrens kommt beispielsweise ein Cθ2-Laser der Wellenlänge 10,6 μm, ein Nd:YAG-Laser der Wellenlänge 1064 nm oder ein verdoppelter Nd:YAG-Laser der Wellenlänge 532 nm zur Anwendung. Selbstverständlich sind auch andere, an sich bekannte Laser anwendbar, um mindestens eine Funktionsschicht, wie eine Farbschicht, von der Trägerlage der Prägefolie bereichsweise auf ein Substrat zu übertragen. Bei dem Substrat handelt es sich z.B. um eine Karte oder ein Plättchen aus einem geeigneten Kunststoffmaterial. Anstelle eines Laserstrahles kann es sich beispielsweise auch um einen anderen intensiven Lichtstrahl handeln, weil es insbesondere darum geht, gezielt einen Bereich zu erhitzen.
Bei einem solchen Verfahren ergibt sich bislang das Problem, dass die
Konturschärfe und die Auflösung der auf das Substrat selektiv übertragenen mindestens einen Funktionsschicht, insbesondere einer Farbschicht, Wünsche offen lassen.
Deshalb liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art, mit welchem eine konturscharfe selektive Übertragung der mindestens einen Funktionsschicht, wie einer Farbschicht, von einer Trägerlage einer Prägefolie auf ein Substrat erzielt wird, und eine hierfür vorgesehene Prägefolie zu schaffen. Diese Aufgabe wird verfahrensgemäß durch die Merkmale des Anspruches 1 gelöst. Dabei wird eine Trägerlage verwendet wird, die den Licht- oder Laserstrahl zumindest großteils absorbiert, so dass der Licht- oder Laserstrahl an der mindestens einen Funktionsschicht, wie einer Farbschicht, konturscharf wirksam wird, um die mindestens eine Funktionsschicht, insbesondere Farbschicht, konturscharf selektiv an oder auf das Substrat zu übertragen und an diesem zu fixieren.
Der Licht- oder Laserstrahl wird großteils absorbiert, wenn mindestens 50% der Strahlung von der Trägerlage absorbiert wird, insbesondere wenn mindestens 80% der Strahlung absorbiert wird. Verbleibende, nicht von der Trägerlage absorbierte Strahlungsanteile können, je nach Ausgestaltung der mindestens einen Funktionsschicht oder des Substrats, von der mindestens einen Funktionsschicht, insbesondere von einer Farbschicht, und/oder vom Substrat absorbiert werden.
Allerdings kommt es bei dem erfindungsgemäßen Verfahren vorteilhafter weise nicht darauf an, ob im Bereich der mindestens einen Funktionsschicht eine geringfügige Absorption der verwendeten Strahlung stattfindet oder nicht. Das Verfahren funktioniert auch dann, wenn keinerlei Strahlung im Bereich der mindestens einen Funktionsschicht absorbiert wird.
Die Konturenschärfe der auf das Substrat übertragenen Bereiche der mindestens einen Funktionsschicht wird anhand der theoretisch auszubildenden Kontur beurteilt. Ist eine Abweichung der Kontur der auf das Substrat übertragenen Bereiche der mindestens einen Funktionsschicht von der theoretisch gewünschten Kontur mit bloßem Auge und normalem Abstand zum Substrat, d.h. bei einem Abstand zwischen Auge und Substrat von etwa 25 bis 35 cm, nicht erkennbar, so liegt Konturenschärfe vor.
Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, wenn eine Trägerlage verwendet wird, die ein Schichtengebilde bzw. einen Schichtverbund aus einer Licht- oder Laserstrahl-durchlässigen Schicht und einer Licht- oder Laserstrahlabsorbierenden Schicht ist.
Die Licht- oder Laserstrahl-durchlässige Schicht ist erfindungsgemäß vorzugsweise von einer Folie gebildet. Diese Folie besteht beispielsweise aus Polyethylenterephthalat (PET), die insbesondere eine Foliendicke im Bereich von 6 bis 250 μm, z.B. eine Dicke von 19 μm, besitzt.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann ein Schichtengebilde verwendet werden, wobei die Licht- oder Laserstrahlabsorbierende Schicht ebenfalls von einer Folie gebildet ist, die mit der Lichtoder Laserstrahl-durchlässigen Folie zusammenlaminiert ist. Im Falle des Einsatzes von Cθ2-Lasern kann es sich dabei um schwarze Polyethylen- bzw. Polypropylen-Folie handeln, die deren Strahlung stark absorbieren. Ein solches Laminat ist relativ teuer. Deshalb besteht eine andere Möglichkeit erfindungsgemäß darin, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Licht- oder Laserstrahl-absorbierende Schicht von einer Beschichtung der Licht- oder Laserstrahl-durchlässigen Folie gebildet ist.
Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, wenn erfindungsgemäß ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Licht- oder Laserstrahlabsorbierende Beschichtung von einer Replizierlackschicht mit einer Black- Mirror-Struktur gebildet ist. Eine derartige Black-Mirror-Struktur ist beispielsweise ein Kreuzgitter aus Basisgittern mit Perioden d kleiner als eine Grenzwellenlänge λ am kurzwelligen Ende im Spektrum des verwendeten
Lichts oder Laserlichts, vorzugsweise des sichtbaren Lichtes, d.h. λ = 380 bis 420 nm, und weist eine optisch wirksame Strukturtiefe h, das ist die Profiltiefe des Kreuzgitters multipliziert mit dem Brechungsindex der Lackschicht, vorzugsweise im Bereich h = 50 bis 500 nm, auf. Diese Struktur wird anschließend mit einer metallischen Beschichtung, vorzugsweise einer opaken metallischen Beschichtung, versehen. Solche Reliefstrukturen absorbieren fast das gesamte einfallende Licht und streuen nur einen kleinen Bruchteil des einfallenden Lichtes zurück. Der Prozentsatz des absorbierten Lichtes hängt in nicht linearer Weise von der Strukturtiefe h ab und kann durch Wahl der Strukturtiefe h im oben genannten Bereich bis etwa 99 % gesteuert werden, wobei gilt, je flacher die Reliefstruktur ist, um so mehr einfallendes Licht wird zurückgestreut und um so weniger Licht wird absorbiert - und umgekehrt. Weiterhin ist es auch möglich, anstelle eines Kreuzgitters auch ein normales Liniengitter oder eine sonstige Reliefstruktur als Black-Mirror-Struktur einzusetzen, bei der der minimale Abstand benachbart lokaler Maxima kleiner als die Grenzwellenlänge des verwendeten Lichts oder Laserlichts ist. Das Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis, d.h. das Verhältnis der Strukturtiefe (mittlerer Abstand zwischen Maxima und Minima) zu diesen Abständen ist kleiner als 0,5, vorzugsweise kleiner als 1 zu wählen. Weiter ist es auch möglich, anstelle einer Metallschicht eine das Licht oder Laserlicht absorbierende Farbschicht oder eine Schicht mit das Licht oder Laserlicht absorbierenden Partikeln oder Farbmitteln auf die Black-Mirror-Struktur aufzubringen.
Die Replizierlackschicht mit der Black-Mirror-Struktur bildet für die zur Anwendung gelangende Lichtquelle, insbesondere Laser, eine Entspiegelungsschicht, wenn die lateralen Dimensionen kleiner als die Wellenlänge der Licht- oder Laserstrahlung sind. Die Reflexion an einer derartigen Entspiegelungsschicht beträgt beispielsweise 0,2% des auftreffenden Licht- oder Laserstrahls, so dass 99,8% des Licht- oder
Laserstrahls in die Licht- oder Laserstrahl-absorbierende Schicht eingekoppelt werden.
Erfindungsgemäß kann ein Schichtengebilde verwendet werden, wobei die Replizierlackschicht mit der Black-Mirror-Struktur an der dem Licht- oder
Laserstrahl zugewandten Außenseite des Schichtengebildes vorgesehen ist. Eine weitere Optimierung der Konturschärfe der selektiv auf ein Substrat übertragenen mindestens einen Funktionsschicht, insbesondere einer Farbschicht, ergibt sich, wenn ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Replizierlackschicht mit der Black-Mirror-Struktur an der vom Licht- oder
Laserstrahl abgewandten Innenseite des Schichtengebildes vorgesehen ist, so dass die Umwandlung der Lichtstrahl- oder Laserstrahlenergie in Wärmeenergie in der Nähe der mindestens einen Funktionsschicht erfolgt. Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, wenn ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Black-Mirror-Struktur mit einer Metallisierung oder mit einer sonstigen, den verwendeten Licht- oder Laserstrahl absorbierenden Beschichtung, insbesondere einer Metalloxid-Beschichtung, versehen ist. Bei einer Metallisierung handelt es sich um eine Metallschicht, die beispielsweise durch Vakuumbedampfen, Kathodenzerstäuben oder dergleichen realisiert wird. Die Metallisierung kann z.B. aus AI, Ni, Au, Ag, Cu oder Legierungen aus diesen Metallen o. dgl. bestehen.
Ist die Replizierlackschicht mit der Black-Mirror-Struktur an der vom Licht- oder Laserstrahl abgewandten Innenseite des Schichtengebildes vorgesehen, so ist es zweckmäßig, wenn die Replizierlackschicht mit der Black-Mirror-Struktur mit einer Zwischenschicht bedeckt ist, die zwischen der Replizierlackschicht und der mindestens einen Funktionsschicht vorgesehen ist.
Die für das Verfahren eingesetzte Prägefolie weist demnach die Trägerlage und weiterhin die mindestens eine Funktionsschicht auf, die von der Trägerlage ablösbar ist. Die Prägefolie wird mit dem Licht- oder Laserstrahl bereichsweise bestrahlt, wobei die Trägerlage aufgrund ihrer für die eingesetzte Strahlung absorbierenden Eigenschaften in den bestrahlten Bereiche erwärmt wird. In den erwärmten Bereichen wird eine Verbindung zwischen der mindestens einen Funktionsschicht und dem Substrat ausgebildet, insbesondere durch Kleben. Die nicht am Substrat fixierten Bereiche der mindestens einen Funktionsschicht werden anschließend zusammen mit der Trägerlage vom Substrat abgezogen.
Ein problemloser konturscharfer selektiver, d.h. bereichsweiser, Transfer der mindestens einen Funktionsschicht, wie einer Farbschicht, von der Trägerlage der Prägefolie auf ein Substrat ist möglich, wenn ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei zwischen der Trägerlage und der mindestens einen Funktionsschicht, insbesondere Farbschicht, eine Ablöseschicht vorgesehen ist. Diese Ablöseschicht kann aus einem geeigneten, an sich bekannten Wachs- oder Silikonmaterial bestehen. Dabei kann die Ablöseschicht entweder als Bestandteil der Trägerlage nach der Bestrahlung zusammen mit der Trägerlage vom Substrat abgezogen werden oder als Bestandteil der mindestens einen Funktionsschicht in den bestrahlten Bereichen auf dem Substrat verbleiben.
Die mindestens eine Funktionsschicht weist insbesondere eine Farbschicht auf. Als Farbschicht wird sowohl eine opake farbige Schicht wir auch eine transparente farbige Schicht bezeichnet. Dabei kann die Farbschicht einfarbig sein oder bereichsweise eine unterschiedliche Einfärbung aufweisen. So kann die Einfärbung zwei oder mehr unterschiedliche Farben zeigen, die in einem regelmäßigen Muster oder einem Zufallsmuster angeordnet sind.
Die mindestens eine Funktionsschicht umfasst insbesondere weiterhin eine Kleberschicht, insbesondere eine Heißkleberschicht.
Wie bereits oben dargestellt, kann die mindestens eine Funktionsschicht eine Ablöseschicht umfassen, die der Trägerlage zugewandt angeordnet ist und in den bestrahlten Bereichen das Ablöseverhalten der mindestens einen
Funktionsschicht vom der Trägerlage verbessert. Die Ablöseschicht ist dabei insbesondere farblos transparent ausgebildet.
Die mindestens eine Funktionsschicht kann weitere Schichten, wie Haftvermittlerschichten, Lackschichten, usw. umfassen.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe wird gegenständlich durch die Merkmale des Patentanspruches 12 gelöst. Bevorzugte Aus- bzw. Weiterbildungen der erfindungsgemäßen Prägefolie sind in den Ansprüchen 13 bis 27 gekennzeichnet.
Weitere Einzelheiten, Merkmale und Vorteile ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung der Erfindung in Kombination mit den anliegenden Zeichnungen.
Es zeigen: Figur 1 abschnittweise, stark vergrößert und nicht maßstabgetreu eine Prägefolie und ein davon beabstandet gezeichnetes Substrat im Querschnitt,
Figur 2 eine der Figur 1 ähnliche abschnittweise Darstellung der Prägefolie in Kombination mit dem Substrat im Querschnitt, wobei auch ein Licht- oder Laserstrahl verdeutlicht ist,
Figur 3 eine der Figur 2 ähnliche abschnittweise Darstellung des Substrates mit der mit Hilfe eines Licht- oder Laserstrahls selektiv übertragenen Funktionsschicht im Querschnitt, ,
Figur 4 abschnittweise eine Ausführungsform einer bei einem erfindungsgemäßen Verfahren zur Anwendung gelangenden, erfindungsgemäßen Prägefolie auf einem Substrat im Querschnitt,
Figur 5 eine der Figur 4 ähnliche abschnittweise Darstellung einer anderen Ausführungsform einer bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Anwendung gelangenden, erfindungsgemäßen Prägefolie auf einem Substrat im Querschnitt,
Figur 6 eine den Figuren 4 und 5 ähnliche abschnittweise Darstellung noch einer anderen Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Prägefolie zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens auf einem Substrat im Querschnitt, und
Figur 7 in einer weiter vergrößerten, nicht maßstabgetreuen Darstellung das Detail VII in Figur 5.
Figur 1 zeigt eine Prägefolie 10 und ein davon beabstandet gezeichnetes, formstabiles Substrat 12 im Querschnitt. Die Prägefolie 10 weist eine Trägerlage 14 und eine Funktionsschicht 16 in Form einer Farbschicht auf. Zwischen der Trägerlage 14 und der Funktionsschicht 16 ist eine Ablöseschicht 18 vorgesehen, um die Ablösung der Funktionsschicht 16 von der Trägerlage 14 zu unterstützen, wenn die Funktionsschicht 16 mit Hilfe eines Laserstrahls selektiv auf das Substrat 12 übertragen wird. Das ist in Figur 2 angedeutet, wobei der Laserstrahl durch den Pfeil 20 verdeutlicht ist.
Um die Funktionsschicht 16 von der Trägerlage 14 der Prägefolie 10 mit Hilfe des Laserstrahls 20 konturscharf selektiv festhaftend auf das Substrat 12 zu übertragen und am Substrat 12 zu fixieren, wird erfindungsgemäß eine Trägerlage 14 verwendet, die den Laserstrahl 20 zumindest größtenteils absorbiert, so dass der Laserstrahl 20 an der Farbschicht 16 konturscharf wirksam wird. Die konturscharfe Wirksamkeit des Laserstrahls 20 ist in Figur 2 durch die strichlierten Linien 22 angedeutet. Die bestrahlten Bereiche der Trägerlage 14 absorbieren die Strahlung und erwärmen sich, wodurch auch die unmittelbar angrenzenden Bereiche der Funktionsschicht 16 erwärmt werden. Die Funktionsschicht 16 ist hierbei aus einem Material, insbesondere einem thermoplastischen Material oder Lack, gebildet, das bei Erwärmung zumindest geringfügig erweicht und sich mit einem angrenzenden Substrat, gegebenenfalls unter Druck, verbinden lässt. Nach einem Abkühlen der erweichten Bereiche der Funktionsschicht 16 haften diese am Substrat 12. Ist eine Farbschicht vorhanden, die bei Erwärmung nicht erweicht, so kann die mindestens eine Funktionsschicht weiterhin eine Kleberschicht umfassen, die dem Substrat zugewandt ist, bei Erwärmung erweicht und eine Fixierung von Bereichen der Farbschicht am Substrat ermöglicht.
Der konturscharf selektiv auf das Substrat 12 übertragene Bereich der Funktionsschicht 16 ist in Figur 3 verdeutlicht.
Figur 4 zeigt eine Ausbildung einer erfindungsgemäßen Prägefolie 10, bei welcher die Trägerlage 14 von einem Schichtengebilde aus einer Laserstrahl- durchlässigen Schicht 24 und einer Laserstrahl-absorbierenden Schicht 26 gebildet ist. Die Laserstrahl-durchlässige Schicht 24 ist vorzugsweise von einer Folie 28 gebildet. Die Folie 28 besteht beispielsweise aus PET und besitzt beispielsweise eine Dicke von > 6 μm. Kleine PET-Foliendicken sind bezüglich der Auflösung bzw. Konturschärfe vorteilhaft. Die Laserstrahl-absorbierende Schicht 26 kann ebenfalls von einer Folie 30., im Falle des Einsatzes eines CO2-Lasers beispielsweise einer schwarzen Polyethylen-Folie oder eine schwarzen Polypropylen-Folie, die mit der Folie 28 zusammenlaminiert ist, oder von einer Beschichtung 32 der Laserstrahldurchlässigen Folie 28 gebildet sein.
Mit. der Bezugsziffer 16 ist auch in Figur 4 eine Funktionsschicht in Form einer Farbschicht und mit der Bezugsziffer 18 eine Ablöseschicht zwischen der Funktionsschicht 16 und der Trägerlage 14 bezeichnet. Mit der Bezugsziffer 20 ist in Figur 4 der Laserstrahl bezeichnet, mit welchem die Funktionsschicht 16 konturscharf selektiv auf ein Substrat 12 übertragen wird. Die Kontur des von der Prägefolie 10 auf das Substrat 12 zu übertragenden Bereichs der Funktionsschicht 16 ist wiederum durch die strichlierten Linien 22 verdeutlicht.
Kommt als Schichtengebilde für die Trägerlage 14 eine Laserstrahldurchlässige Folie 28 mit einer Laserstrahl-absorbierenden Beschichtung 32 zur Anwendung, so ist es vorteilhaft, wenn die Laserstrahl-absorbierende Beschichtung 32 von einer Replizierlackschicht 34 mit einer Black-Mirror- Struktur 36 gebildet ist, die für den Laserstrahl 20 eine sogenannte Entspiegelungsschicht bildet.
Seitlich neben der auch als Mottenaugenstruktur bezeichneten Black-Mirror- Struktur 36 werden vom Laserstrahl 20 beispielsweise größenordnungsmäßig 4% der Strahlung reflektiert, was in Figur 5 durch den Pfeil 38 verdeutlicht ist. Das heißt, größenordnungsmäßig 96% des Laserstrahls 20 werden in die Replizierlackschicht 34 eingekoppelt. Dieser 96%-Anteil ist in Figur 5 durch den Pfeil 40 verdeutlicht. Im Vergleich hierzu beträgt die Reflexion des Laserstrahls 20 an der Black-Mirror-Struktur 36 größenordnungsmäßig 0,2%, d.h. größenordnungsmäßig 99,8% werden in die Replizierlackschicht 34 eingekoppelt. Dieser zuletzt genannte Anteil ist in Figur 5 durch den Pfeil 42 angedeutet. Die Differenz der durch die Pfeile 40 und 42 angedeuteten Anteile beträgt also größenordnungsmäßig 3,8%. Um diese Differenz ganz wesentlich zu vergrößern und damit die Konturschärfe der selektiv auf ein Substrat 12 zu übertragenden Funktionsschicht 16 wesentlich zu verbessern, ist es bevorzugt, wenn bei der erfindungsgemäßen Prägefolie 10 die Replizierlackschicht 34 mit einer Metallisierung 44 oder mit einer sonstigen, die verwendete Laserstrahlung absorbierenden Beschichtung, beispielsweise einer Metalloxid-Beschichtung, versehen wird. Bei einer Metallisierung 44 handelt es sich um eine
Dünnschichtmetallisierung, die beispielsweise durch Vakuumbedampfen, Kathodenzerstäuben o. dgl. auf die Replizierlackschicht 34 aufgebracht wird (siehe Figur 7). Die Schichtdicke einer Dünnschicht liegt bei < 10 μm. Eine derartige Ausbildung weist den Vorteil auf, dass seitlich neben der Black-Mirror- Struktur 36 die durch den Pfeil 38 angedeutete Reflexion des Laserstrahls 20 im Falle von Metallen, wie beispielsweise Aluminium oder Kupfer, je nach Wellenlänge, zirka 90% beträgt und dass die Reflexion des Laserstrahls 20 im Bereich der Black-Mirror-Struktur 36 größenordnungsmäßig beispielsweise 10% beträgt, so dass seitlich neben der Black-Mirror-Struktur 36 der durch den Pfeil 40 angedeutete Energieeintrag in die Replizierlackschicht 34 etwa 10% und im Bereich der Black-Mirror-Struktur 36 durch den Pfeil 42 angedeutet größenordnungsmäßig ca. 90% beträgt. Die Differenz zwischen diesen durch die Pfeile 40 und 42 verdeutlichten Energieeinträgen beträgt also ca. 80%, d.h. sie ist sehr groß, so dass sich eine konturscharfe selektive Übertragung der Funktionsschicht 16 von der Trägerlage 14 der erfindungsgemäßen Prägefolie 10 auf das Substrat 12 ergibt.
Die Figur 5 verdeutlicht eine Trägerlage 14, wobei die Replizierlackschicht 34 mit der Black-Mirror-Struktur 36 an der dem Laserstrahl 20 zugewandten Außenseite 46 des Schichtengebildes bzw. der Trägerlage 14 der erfindungsgemäßen Prägefolie 10 vorgesehen ist. Eine weitere Verbesserung der Konturschärfe bei der Übertragung der Funktionsschicht 16 von der Trägerlage 14 auf ein Substrat 12 ist dadurch realisierbar, dass für die Trägerlage 14 der erfindungsgemäßen Prägefolie 10 ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Replizierlackschicht 34 mit der Black-Mirror-Struktur 36 an der vom Laserstrahl 20 abgewandten Innenseite der Trägerlage 14 vorgesehen ist, und die Replizierlackschicht 34 mit einer optionalen Zwischenschicht 48 bedeckt ist, die zwischen der Replizierlackschicht 34 und der Funktionsschicht 16 vorgesehen ist, wie die Figur 6 verdeutlicht. In den Figuren 5 und 6 ist die Black-Mirror-Struktur 36 mit einer Metallisierung 44 oder mit einer sonstigen, die verwendete Laserstrahlung absorbierenden Beschichtung, beispielsweise einer Metalloxid-Beschichtung, versehen. Die optionale Zwischenschicht 48 gemäß Figur 6 wird auf der Metallisierung vorgesehen.
Mit der Bezugsziffer 18 ist auch in den Figuren 5 und 6 die Ablöseschicht zwischen der Trägerlage 14 und der Funktionsschicht 16 der erfindungsgemäßen Prägefolie 10 bezeichnet.
Figur 7 zeigt in einer weiter vergrößerten, nicht maßstabgetreuen Darstellung das Detail VII aus Figur 5. Hierbei ist die Metallisierung 44 auf der Replizierlackschicht 34, auch im Bereich der Black-Mirror-Struktur 36, zu erkennen.
Bezugsziffernliste:
10 Prägefolie (für 16)
12 Substrat
14 Trägerlage (von 12)
16 Farbschicht (an 14)
18 Ablöseschicht (zwischen 14 und 16)
20 Pfeil/Laserstrahl
22 strichlierte Linie/ Konturschärfe
24 Laserstrahl-durchlässige Schicht (von 14)
26 Laserstrahl-absorbierende Schicht (von 14)
28 Folie (für 24)
30 Folie (für 26)
32 Beschichtung (von 28 für 26)
34 Replizierlackschicht (für 32)
36 Black-Mirror-Struktur (an 34)
38 Pfeil/Reflexion (von 20)
40 Pfeil/Absorption (von 20 in 26)
42 Pfeil/Anteil (von 20 unter 36)
44 Metallisierung (von 34)
46 Außenseite (von 14)
48 Zwischenschicht (zwischen 34 und 16)

Claims

Patentansprüche:
1. Verfahren zum selektiven Übertragen mindestens einer Funktionsschicht (16), wie einer Farbschicht, von einer Trägerlage (14) einer Prägefolie (10) auf ein Substrat (12) mittels eines intensiven Lichtstrahls, insbesondere eines Laserstrahls (20), dadurch gekennzeichnet, dass eine Trägerlage (14) verwendet wird, die den intensiven Licht- oder Laserstrahl (20) zumindest großteils absorbiert, so dass der intensive
Licht- oder Laserstrahl (20) an der mindestens einen Funktionsschicht (16), konturscharf wirksam wird, um die mindestens eine Funktionsschicht (16) konturscharf selektiv an das Substrat (12) zu übertragen.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass eine Trägerlage (14) verwendet wird, die ein Schichtengebilde aus einer Licht- oder Laserstrahl-durchlässigen Schicht (24) und einer Lichtoder Laserstrahl-absorbierenden Schicht (26) ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Licht- oder Laserstrahl-durchlässige Schicht (24) von einer Folie (28) gebildet ist.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Licht- oder Laserstrahl-absorbierende Schicht (26) von einer weiteren Folie (30) gebildet ist, die mit der Licht- oder Laserstrahl-durchlässigen Folie (24) zusammenlaminiert ist.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Licht- oder Laserstrahl-absorbierende Schicht (26) von einer Beschichtung (32) der Licht- oder Laserstrahl-durchlässigen Folie (28) gebildet ist.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Licht- oder Laserstrahl-absorbierende Beschichtung (32) von einer Replizierlackschicht (34) mit einer Black-Mirror-Struktur (36) gebildet ist.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Replizierlackschicht (34) mit der Black-Mirror-Struktur (36) an der dem Licht- oder Laserstrahl (20) zugewandten Außenseite (46) des Schichtengebildes vorgesehen ist.
8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Replizierlackschicht (34) mit der Black-Mirror-Struktur (36) an der vom Licht- oder Laserstrahl
(20) abgewandten Innenseite des Schichtengebildes vorgesehen ist.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Replizierlackschicht
(36) mit einer Metallisierung (44) oder mit einer sonstigen, die verwendete Licht- oder Laserstrahlung absorbierenden Beschichtung, insbesondere einer Metalloxid-Beschichtung, versehen ist.
10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass ein Schichtengebilde verwendet wird, wobei die Replizierlackschicht (34) mit der Black-Mirror-Struktur (36) mit einer Zwischenschicht (48) bedeckt ist, die zwischen der Replizierlackschicht (34) und der mindestens einen Funktionsschicht (16) vorgesehen ist.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Prägefolie (10) die Trägerlage (14) und die mindestens eine
Funktionsschicht (16) aufweist, dass die Trägerlage (14) von der mindestens einen Funktionsschicht (16) ablösbar ist und dass die mindestens eine Funktionsschicht (16) in mit dem Licht- oder Laserstrahl (20) bestrahlten Bereichen der Prägefolie (10) auf das Substrat (12) übertragen und von der Trägerlage (14) abgelöst wird.
12. Prägefolie (10) zum selektiven Übertragen mindestens einer Funktionsschicht (16), wie einer Farbschicht, von einer Trägerlage (14) der Prägefolie (10) auf ein Substrat (12), dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerlage (14) derartige Absorptionseigenschaften besitzt, daß ein intensiver Licht- oder Laserstrahl (20) zumindest großteils absorbiert wird und der intensive Licht- oder Laserstrahl (20) an der mindestens einen Funktionsschicht (16) konturscharf wirksam wird, um die mindestens eine Funktionsschicht (16) konturscharf selektiv an das Substrat (12) zu übertragen.
13. Prägefolie nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerlage (14) ein Schichtengebilde aus einer Licht- oder
Laserstrahl-durchlässigen Schicht (24) und einer Licht- oder Laserstrahlabsorbierenden Schicht (26) ist.
14. Prägefolie nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Licht- oder Laserstrahl-durchlässige Schicht (24) von einer Folie (28) gebildet ist.
15. Prägefolie nach Anspruch 13 und 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Licht- oder Laserstrahl-absorbierende Schicht (26) von einer weiteren Folie (30) gebildet ist, die mit der Licht- oder Laserstrahl- durchlässigen Folie (28) zusammenlaminiert ist.
16. Prägefolie nach Anspruch 13 und 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Licht- oder Laserstrahl-absorbierende Schicht (26) von einer Beschichtung (32) der Licht- oder Laserstrahl-durchlässigen Folie (28) gebildet ist.
17. Prägefolie nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Licht- oder Laserstrahl-absorbierende Beschichtung (32) von einer Replizierlackschicht (34) mit einer Black-Mirror-Struktur (36) gebildet ist.
18. Prägefolie nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Replizierlackschicht (34) mit der Black-Mirror-Struktur (36) an der dem Licht- oder Laserstrahl (20) zugewandten Außenseite (46) des Schichtengebildes vorgesehen ist.
19. Prägefolie nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Replizierlackschicht (34) mit der Black-Mirror-Struktur (36) an der vom Licht- oder Laserstrahl (20) abgewandten Innenseite der Trägerlage
(14) vorgesehen ist.
20. Prägefolie nach einem der Ansprüche 17 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Replizierlackschicht (36) mit einer Metallisierung (44) oder mit einer sonstigen, den verwendeten Licht- oder Laserstrahl (20) absorbierenden Beschichtung, insbesondere einer Metalloxid- Beschichtung, versehen ist.
21. Prägefolie nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Replizierlackschicht (34) mit der Black-Mirror-Struktur (36) mit einer Zwischenschicht (48) bedeckt ist, die zwischen der Replizierlackschicht (34) und der mindestens einen Funktionsschicht (16) vorgesehen ist.
22. Prägefolie nach einem der Ansprüche 12 bis 21 , dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Funktionsschicht (16) von der Trägerlage (14) ablösbar ist.
23. Prägefolie nach einem der Ansprüche 12 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der Trägerlage (14) und der mindestens einen Funktionsschicht (16) eine Ablöseschicht (18) vorgesehen ist.
24. Prägefolie nach einem der Ansprüche 12 bis 23 dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Funktionsschicht (16) eine Farbschicht umfasst.
25. Prägefolie nach einem der Ansprüche 12 bis 22 dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Funktionsschicht (16) eine Farbschicht und eine
Ablöseschicht (18) umfasst, welche an die Trägerlage (14) angrenzend angeordnet ist.
26. Prägefolie nach einem der Ansprüche 24 oder 25, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Funktionsschicht (16) eine Kleberschicht umfasst.
27. Prägefolie nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Kleberschicht auf der, der Trägerlage (14) gegenüberliegenden
Seite der Prägefolie (10) angeordnet ist.
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