WO2006088203A1

WO2006088203A1 - 光学積層体の製造方法および製造装置

Info

Publication number: WO2006088203A1
Application number: PCT/JP2006/303058
Authority: WO
Inventors: Yukimitsu Iwata; Koichi Mikami; Yoshihiro Nishimura; Takashi Kodama
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2005-02-21
Filing date: 2006-02-21
Publication date: 2006-08-24
Anticipated expiration: 2007-08-21
Also published as: US8304071B2; JP2012103702A; US20080218865A1; US20100252202A1; JPWO2006088203A1; US20100255291A1; JP5360617B2; US8877104B2; JP5170635B2; KR101202050B1; TW200702713A; TWI417564B; KR20080003316A

Abstract

　本発明は、防眩性を持ちつつ、優れたギラツキ防止性と黒色再現性（低輝度での黒色の階調表現）を実現できる防眩性積層体を開示する。本発明は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、前記光透過性基材を用意し、前記光透過性基材上に凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成することを含んでなり、前記防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、θａが０．１度以上１．２度以下であり、Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下とされてなるものである。

Description

光学積層体の製造方法および製造装置

発明の背景

[0001] 閣逋出願

本願は、日本国特許出願 2005— 44231号及び同特許出願 2005— 95835号を基礎とするパリ条約の優先権を伴うものである。従って、本願はこれら特許出願の出願内容の全てを包含するものである。

技術分野

[0002] 本発明は、 CRT,液晶パネル等のディスプレイに用いられる光学積層体の製造方法および製造装置に関する。

背景技術

[0003] 陰極管表示装置（CRT)、プラズマディスプレイ（PDP)、エレクト口ルミネッセンスデイスプレイ (ELD)、または液晶ディスプレイ (LCD)のような画像表示装置にぉ、て、外光の反射または像の写り込みによるコントラストの低下、視認性の低下を防止することが要求される。このため、光の散乱原理または光学干渉の原理を用いて像の写り込みまたは反射率を低減する目的で画像表示装置の最表面に、反射防止積層体が設けられることが一般的である。

[0004] 従来、画像表示装置、例えば、液晶ディスプレイにあっては、光学特性を調整し優れた画像表示を実現するために、反射防止積層体の一つとして防眩性積層体を使用することが知られている。防眩性積層体は、画像表示装置内における外光の反射または像の写り込みによる視認性の低下を防止することを目的として利用されるものである。防眩性積層体は、一般に基材の上に、凹凸形状を有した防眩層を形成することにより実現される。従来、画像表示装置、例えば、液晶ディスプレイにあっては、光学特性を調整し優れた画像表示を実現するために、反射防止積層体の一つとして防眩性積層体を使用することが知られている。防眩性積層体は、画像表示装置内における外光の反射または像の写り込みによる視認性の低下を防止することを目的として利用されるものである。防眩性積層体は、様々な粒子を添加した組成物を硬化して凹凸形状としたもの、または、エンボス賦型処理を施すことにより凹凸形状としたもの、として製造される（特許公開 2004— 341070)。

[0005] 近年、パネル解像度の高精細化の要求に伴い、防眩層の凹凸形状は微細なものとなってきている。従って、このような構成を採用する防眩性積層体は、ブロードで大きいカーブを描く凹凸形状のものは高精細化に不向きとされ採用されることはな力つた。他方、パネル解像度の高精細化に伴い形成される凹凸形状の微細化は、パネル解像度の高精細化の要求に対応することができるものの、ディスプレイ表面への外光の反射光に対し、画像表示面が白くみえたり（白化）、コントラストが低下する等の指摘がしばしばなされていた。また、このような防眩性積層体力ノートパソコン等の画像表示表面に使用された場合、ある程度十分な光学特性を発揮することが可能となる力ディスプレイ内部におけるバックライト背面からの透過光力パネル最表面に形成された防眩性積層体の凹凸形状面を透過するとき、その凹凸形状が微細なレンズの役割をして、表示される画素等を乱してしまう状態「ギラツキ」が生じ易ぐ防眩性積層体自体の効果を発揮し難くなつていることがあった。特に、パネル解像度の高精細化に伴い、この「ギラツキ」が生じ易ぐこれを有効に防止することが要求されている。

[0006] この「ギラツキ」を解消する方法として、鮮明度を高める目的で表面凹凸を緻密にし、かつ、防眩層を形成する榭脂と屈折率差のある散乱粒子を添加することにより防眩性積層体に内部散乱効果を付与する等の手法が用いられていた。しかしながら、いずれの手段も「ギラツキ」に対して良好な解決がなされたものの、全体の画像視認性が低下することがあった。他方、防眩層積層体において、高精細化パネルのギラツキを良化させる手法は、表面の白化または内部散乱効果による白濁等のコントラストを低下させる主要因であるとされ、「ギラツキ防止」と「コントラスト向上」とはトレードオフの関係にあり、両者を満足させることは困難であるとされていた。例えば、画面表示における艷黒感 (濡れたような艷のある黒色)を含む黒色再現性、コントラスト等において劣ることがあった。つまり、明室における黒色の階調表現、特に低階調において、黒色のグラデーションの差が認識し 1 、感度が低いことがあった。具体的には、黒と灰色の色認識に於いて、色ぼけ、および同一の色調の黒としか認識できないことがあつた。とりわけ、ギラツキ防止の性能を有する防眩性積層体ほど、これらの視認性は著しく低下していたといえる。

[0007] 従って、現在、画像表面のギラツキを有効に防止することができ、かつ、黒色再現性、とりわけ艷黒感を達成しうる光学積層体の製造方法 (製造装置)の開発が望まれており、特に、液晶ディスプレイ (LCD)のみならず、陰極管表示装置 (CRT)、ブラズマディスプレイ (PDP)、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイの他用途においても使用できる光学積層体の製造方法 (製造装置)が切望されて!、る。

発明の開示

[0008] 本発明者等は、本発明時にぉ、て、防眩性を付与しつつ、かつ、ギラツキ防止性とコントラスト改善性、とりわけ黒色再現性を向上させていわゆる艷黒感 (光沢のある黒色)を達成することができる光学積層体を得られる製造方法および製造装置を見出した。本発明は力かる知見によるものである。

従って、本発明は防眩性機能と優れたギラツキ防止性を持ち、視認性の高い画像表示を同時に実現することができる光学積層体を製造する方法 (および装置)の提供を目的とする。

[0009] 製造方法

本発明による製造方法は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、

前記光透過性基材を用意し、

前記光透過性基材上に凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成することを含んでなり、

前記防眩層の凹凸形状が、

前記防眩層の凹凸の平均間隔を Smとし、凹凸部の平均傾斜角を 0 aとし、凹凸の平均粗さを Rzとした場合に、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、

Rzの値力 0. 2 m超過（好ましくは 0. 35 m以上）であり： L m以下（好ましくは 0. 9 m以下）とされてなるものである。

[0010] 観告奘置本発明の別の態様による製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、

前記光透過性基材と凹凸形状を有してなる前記防眩層を供給する供給部と、前記光透過性基材上に前記防眩層を形成する形成部とを備えてなり、

前記防眩層の凹凸形状が、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、

本発明による製造方法および製造装置によれば、優れた防眩性と、艷黒感のある黒色再現性を実現することができ、かつ、高い鮮明度と、優れたギラツキ防止性、コントラスト、文字ボケ防止が実現することができ、かつ、様々なディスプレイにおいて使用可能な光学積層体を提供することが可能となる。とりわけ、本発明による製造方法によれば、従来の防眩性積層体では実現することが困難であった黒の階調表現（光沢性のある黒色再現性)を顕著に改善した光学積層体を提供することができる。具体的には、動画表示を行った際における画像が従来の凹凸形状のないクリア一ハードコート層、さらにその上に反射防止層を有する積層体を配置したディスプレイとほぼ同様の階調を表現することが可能となり、かつ、文字の輪郭のシャープ感、面ギラを防止した画像が得られることを実現することが光学積層体を提供することが可能となる。また、本発明の好ましい態様によれば、防眩層の上に、表面調整層又は低屈折率層等の任意の層を付与する場合、防眩層を形成する凹凸形状の表面を目止めすることとなり、大きく滑らかな所望の凹凸形状を達成することが可能となり、かつ、帯電防止、屈折率の調整、汚染防止等の様々な機能を光学積層体に付与することが可能となる。防眩層の上に表面調整層又は低屈折率層等の任意の層が付与される場合、表面調整層又は低屈折率層等の任意の層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値とに一致するものである。つまり、本発明における光学積層体は、その最表面の凹凸形状が、本発明において規定した防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と一致するものである。

図面の簡単な説明

[0012] [図 1]図 1は光学積層体の反射 Y値と表面ヘイズ値の関係を表すグラフである。

[図 2]図 2は光学積層体の Θ aと Smとの関係を表すグラフである。

[図 3]図 3は本発明による光学積層体の製造過程を表すものである。

[図 4]図 4は、本発明による製造装置の概略図を示す。

[図 5]図 5は、本発明による製造装置の概略図を示す。

[図 6]図 6は、本発明による製造装置の概略図を示す。

[図 7]図 7は、本発明の光学積層体と従来の防眩性光学積層体との表面形状を光学顕微鏡撮影写真である。

[図 8]図 8は、本発明の光学積層体を AFMにより三次元測定し撮影した写真である。

[図 9]図 9は、従来の光学積層体を AFMにより三次元測定し撮影した写真である。発明を実施するための最良の形態

[0013] 定義

本明細書 (実施例等）において使用する用語は下記の通り定義される。平均粗さの測定方法は、表面形状を 2次元または 3次元のプロファイルとして測定する。実際には、走査型プローブ顕微鏡または原子間力顕微鏡を用いて測定する。曲線そのものを客観的に比較するのは一般には困難なため、そのプロファイル曲線データ力色々な粗さ指数を計算する。従って、本発明にあっては、上記測定結果を用いて、 10点平均粗さ (Rz)を算出する。よって、 10点平均粗さ (Rz)とは、平均値からもとめた偏差値のうち、最大のものから上位 5つの偏差値の平均と、最小のものから下位 5つの偏差値の絶対値の平均値の和として表される。

2) の率間隔 Sm ( u. m)：よび率均储 β a

本発明による光学積層体を構成する防眩層は凹凸形状を有する。 Sm m)とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、 Θ a (度）は凹凸部の平均傾斜角を表す。これらは、表面粗さ測定器 (型番： SE― 3400/ (株)小坂研究所製)の取り扱!/、説明書（ 1995, 07, 20改訂）に記載されたものとして定義することができる。 0 a (度）は角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものが Δ aである場合、 0 a (度） = 1/tan Δ a= 1/ (各凹凸の極小部と極大部の差 (各凸部の高さに相当）の総和/基準長さ)で求められる。ここで、「基準長さ」とは、下記の測定条件 1 :と同じである。

本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーター（Sm、 Θ a、 Rz)を測定する場合、例えば、上記表面粗さ測定器を用いて、下記の測定条件により測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好まし!/、ものである。

沏 I ィ牛

1)表面粗さ検出部の触針：

型番 ZSE2555N (2 μ標準）（株)小坂研究所製

(先端曲率半径 2 μ mZ頂角： 90度 Z材質:ダイヤモンド）

2)表面粗さ測定器の測定条件：

基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値え c) : 2. 5mm

評価長さ（基準長さ (カットオフ値え c) X 5) : 12. 5mm

触針の送り速さ： 0. 5mm/s

ώ≡RzZ ¾m

凹凸の平均粗さ Rzと凹凸の平均間隔 Smとの比率 φは、 φ≡RzZSmで定義し、凹凸の平均粗さ Rzと凹凸の平均間隔 Smの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾きを示す指標として用いることができる。凹凸の平均粗さ Rzと凹凸の平均間隔 Smとの比率 φは、 φ≡RzZSmで定義し、凹凸の平均粗さ Rzと凹凸の平均間隔 Smの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾き角を示す指標として用いることができる。

3)反射 Y値

反射 Y値は、島津製作所製 MPC3100分光光度計にて、 5° 正反射率を 380〜780 nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト（ MPC3100内蔵)で算出される、視感反射率を示す値である。なお、 5° 正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ (寺岡製)を貼って測定する。

4)ヘイズ値、全光線诱渦率、 60度グロスおよびと诱渦鮮明度ヘイズ値は、 JIS K— 7136に従って測定することができる。測定に使用する機器としては、反射'透過率計 HR— 100 (村上色彩技術研究所)が挙げられる。防眩性積層体の全光線透過率は、 JIS Κ— 7361に従って、ヘイズ値と同じ測定器で測定できる。なお、ヘイズ、全光線透過率は、塗工面を光源に向けて測定する。 60度ダロスは、 JIS Z8741により、精密光沢計（(株)村上色彩研究所製 GM— 26D)を用いて測定可能である。測定は、サンプルの裏面反射の影響を除去するため、サンプルの裏面と測定器の黒蓋を両面テープ (寺岡製作所製)で貼り付けた状態で行う。透過鮮明度は、写像性測定器 (スガ試験機 (株)、品番；「ICM— 1DP」）を用いて、 JIS K7105に準拠し、 4種類の光学櫛（0. 125mm, 0. 5mm、 lmm、および 2mm)で測定した数値の合計をもって表す。

5)表 rifヘイズの定義

本発明で使用している「表面ヘイズ」は、以下のように求められる。防眩層の凹凸上にペンタエリスリトールトリアタリレートなどの榭脂（モノマー又はオリゴマー等の榭脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、固形分 60%としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が 8 mとなるように塗布する。これによつて、防眩層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この防眩層を形成する組成物中にレべリング剤などが入つていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（2molZl の NaOH (又は KOH)溶液 55度 3分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、 50度オーブンで 1分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元のフィルムのヘイズ (全体ヘイズ)から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ (表面ヘイズ)として求められる。防眩層の層厚は、基材の表示面側界面から空気と接する防眩性凹凸最表面までをいう。基材界面力最表面までには、防眩層が一層である場合と、表面調整層、その他光学機能層などが積層され、多層になって、る場合がある。

の沏 I 去共焦点レーザー顕微鏡 (LeicaTCS-NT:ライカ社製:倍率「100〜300倍」）にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率 1. 518のオイルを約 2ml乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。

沏棚

1：レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。

2 :測定条件は、上記の通りであった。

3 : 1画面につき凹凸の最大凸部、最小凹部の基材力の膜厚を 1点ずつ計 2点測定し、それを 5画面分、計 10点測定し、平均値を算出した。

[0015] 観告法

本発明の製造方法により形成される防眩層の凹凸形状は、後記する「光学積層体」で説明される光学物性を有するものとして形成されものである。本発明の態様によれば、本発明による製造方法により製造される光学積層体は、その防眩層の凹凸形状力前記防眩層の凹凸の平均間隔を Smとし、凹凸部の平均傾斜角を 0 aとし、凹凸の平均粗さを Rzとした場合に、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、

Rzが 0. 2 μ m超過 1 μ m以下とされてなるものである。

[0016] 第 1の 1¾告方法

本発明の第 1の製造方法は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、

前記光透過性基材を用意し、

前記光透過性基材上に凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成することを含んでなるものである。

本発明による光学積層体 (HG)の製造方法にっ、て図 3を用いて説明する。図 3 は本発明による光学積層体の断面図を示す。本発明の製造方法は、先ず、光透過性基材 2を用意し、次に、この光透過性基材 2の上面に防眩層 4を形成することより達成されるものである。本発明にあっては、防眩層を形成する方法は様々なものが利用できるが、好ましくは以下の方法が挙げられる。

[0017] 第 2の製造方法

本発明の第 2の製造方法は、本発明の第 1の製造方法において、防眩層を形成することが、光透過性基材上に、予め凹凸形状が施された防眩層を形成してなるものである。具体的には、図 3を用いて説明することができる。防眩層 4は予め凹凸形状が施された防眩層を光透過性基材 1上に形成する。防眩層 4を形成する際に、好ましくは接着剤 (層)又はプライマー等の易接着層を用いて行って良ぐまたは、予め調製した防眩層を光透過性基材 2の上面に接着 (剤)層を介在させて形成した後に接着 ( 剤)層を硬化等する方法により形成されてもよい。

[0018] 3の ¾告法

本発明の第 3の製造方法は、本発明の第 1の製造方法において、防眩層を形成することが、光透過性基材上に、防眩層を形成し、該防眩層の表面に凹凸形状を形成してなるものである。本発明の好ましい態様によれば、凹凸形状を形成することが、防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用 V、た賦型処理で行われることが好ましい。具体的には、図 3を用いて説明することができる。光透過性基材 1上に防眩層を形成し、その後に、この防眩層の表面に凹凸形状を付与することにより、凹凸形状を有する防眩層 4を形成することができる。また、本発明の好ましい態様によれば、防眩層 4に凹凸形状を形成する場合、防眩層 4が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いて形成することができる。防眩層 4自体を形成する方法は、第 2の製造方法と同様であってょ、。

[0019] 第 4の製造方法

第 4の製造方法は、本発明の第 1の製造方法において、防眩層を形成することが、前記光透過性基材上に、防眩層用組成物を付与し、前記凹凸形状を有する防眩層を形成してなるものである。本発明の好ましい態様によれば、凹凸形状を有する防眩層を形成する際に、防眩性用組成物を硬化等する方法を好ましくは用いてよい。図 3 によれば、防眩層 4は榭脂と微粒子とを含んでなるものとして形成されてなる。微粒子は、同一の形状または平均粒径を有するもの、または同一または異なる形状または平均粒径を有するもの、さらには、凝集型微粒子であってよい。他方、本発明にあつては、ポリマーまたは榭脂のみを用いて防眩層を形成してもよい。防眩層 4を形成する方法の詳細な説明は後記する「防眩層」の説明内容と同様であってよい。

[0020] 第 5の製造方法

第 5の製造方法は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、

前記光透過性基材を用意し、

前記光透過性基材を、前記防眩層の表面の凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型に導入し、

該型に防眩層用組成物を付与し、前記光透過性基材上に凹凸形状を有する防眩層を形成することを含んでなるものである。

[0021] 仵意の工程

本発明の好ましい態様によれば、防眩層 4の上に表面調整層 6を形成する製造方法も提案される。本発明のより好ましい態様によれば、ディスプレイ装置の最表面に配置される光学積層体において、外光の反射や像の映り込みによるコントラストの低下、視認性の低下等を防止するために、光学干渉の原理を用いて光学積層体の低反射化 (反射率の低減)を行うことが好ましぐ例えば、表面調整層 6の表面に、防眩層 4または表面調整層 6の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層 8を形成する製造方法が提案される。

[0022] 製造装置

本発明の製造装置により製造される防眩層の凹凸形状は、後記する「光学積層体」で説明される光学物性を有するものとして形成されものである。本発明の好ましい態様によれば、本発明による製造装置により製造される光学積層体は、その防眩層の凹凸形状が、前記防眩層の凹凸の平均間隔を Smとし、凹凸部の平均傾斜角を Θ a とし、凹凸の平均粗さを Rzとした場合に、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、 Rzが 0. 2 μ m超過 1 μ m以下とされてなるものである。

[0023] 第 1の製造装置

本発明による第 1の製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、

光透過性基材と凹凸形状を有してなる防眩層を供給する供給部と、

光透過性基材上に防眩層を形成する形成部とを備えてなるものである。この装置の概略図は具体的には図示しないが、本発明の第 2の製造装置の一態様の概要を示す図 4において、ローラーエンボス 27とローラー 25cとを有しないものと同様であってよい。よって、これら以外の構成については、後記する本発明の第 2の製造装置と同様であってよい。

[0024] 第 2の製诰装置

本発明による第 2の製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、

光透過性基材と防眩層を供給する供給部と、

光透過性基材上に防眩層を形成し、かつ、防眩層に凹凸形状を施してなる形成部とを備えてなるものである。

[0025] 第 2の製造装置の概略を図 4を用いて説明する。図 4は、本発明の第 2の製造装置の概略図を示す。光透過性基材 21が供給部であるローラー 25aを介して供給され、防眩層（凹凸形状を有しない） 23が供給部であるローラー 25bを介して供給される。供給された光透過性基材 21と、防眩層 23は、ローラー 25aとローラー 25bにより一体形成される。本発明の好ましい態様によれば、接着剤 (層）を供給する供給部が設けられて良ぐこの供給部から供給される接着剤 (層）を介在させて、光透過性基材 21 と防眩層 23とを一体形成させることが挙げられる。一体形成された光透過性基材 21 と防眩層 23とは、防眩層に付与される凹凸形状と逆の凹凸形状 22を有するローラーエンボス 27に導入される。一体形成された光透過性基材 21と防眩層 23はローラーエンボス 27とローラー 25cに挟持され、防眩層 23に所望の凹凸形状が形成されて、光学積層体 29として形成される。形成された光学積層体 29はローラー 25dを経由して製品とされる。本発明の好ましい態様によれば、形成部は、前記防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を備えてなるものであり、ローラーエンボス 27以外に、平板ェンボス板が用いられる。エンボス処理法、ローラーエンボス、平板エンボス板等については、後記する本発明の第 4の製造装置で説明するのと同様であってよい。

[0026] 第 3の製造装置

本発明による第 3の製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、

前記光透過性基材を供給する供給部と、

前記光透過性基材上に防眩層用組成物を付与する付与部と

前記防眩層用組成物を硬化し、凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成してなる形成部とを備えてなるものである。

[0027] 第 3の製造装置の概略を図 5を用いて説明する。図 5は、本発明の第 3の製造装置の概略図を示す。光透過性基材 31が供給部であるローラー 35aと 35bに挟持されて供給される。供給部であるローラー 35aと 35bの後方には、コーティングヘッド 33が設置され、パイプ 36により、液溜めより防眩層用組成物 34が供給される。供給された防眩層用組成物 34が、コーティングヘッド 33の下部に向力つて開口したスリット 39から供給される。供給された光透過性基材 31の上に、スリット 39から防眩層用組成物 34 が付与され、防眩層用組成物 34の層が形成された後、コーティングヘッド 33の後方に設置された、硬化装置 38により硬化処理が行なわれる。これにより、防眩層用組成物 34が硬化させれ、防眩層 37に所望の凹凸形状が形成されて、その後、光透過性基材 41の上に硬化され防眩層 37を備えた光学積層体が移動し、ローラー 25dを経由して光学積層体が製造される。

[0028] 第 4の製造装置

本発明による第 4の製造装置は、光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、

前記光透過性基材を供給する供給部と、

前記光透過性基材に、前記防眩層の表面に形成される凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型と、該型に防眩層用組成物を導入する導入部と、

[0029] 第 4の製造装置の一態様の概略を図 6を用いて説明する。図 6は、本発明の第 4の製造装置 (エンボス装置 40)の概略図を示す。

光透過性基材 41が、供給部である-ップローラー 45aを介しエンボスローラー 47 に供給される。このエンボスローラー 47の表面には、所望の防眩層の凹凸形状と逆形状の凹凸形状 42が形成されている。エンボスローラー 47の下部には、コーティングヘッド 43が設置され、パイプ 46により、液溜め（図示せず)より防眩層用組成物 44 が供給される。供給された防眩層用組成物 44が、コーティングヘッド 43の上部に向力つて開口したスリット 49から供給される。エンボスローラー 47の凹凸形状 42を有する型面に防眩層用組成物 44が付与された後、エンボスローラー 47が回転（図の矢印方向）し、エンボスローラー 47の凹凸形状 42と供給部である-ップローラ 45aとの間において、光透過性基材 41と防眩層用組成物 44が密着される。本発明の好ましい態様によれば、防眩層用組成物 44を凹凸形状 42に付与させた後に、光透過性基材 41を形成させることに替えて、光透過性基材 41をエンボスローラー 47に巻き付けつつ、防眩層用組成物 44をそれらの間に供給し、光透過性基材 41と防眩層用組成物 44の層とを密着させてもよ!、。

光透過性基材 41と防眩層用組成物 44の層とが密着されたものを、エンボスローラ一 47の上部に移動させ、エンボスローラー 47の上方に設置された、硬化装置 48により硬化処理を行なう。これにより、防眩層用組成物 44の層が硬化させれ、光透過性基材 41の上に一体形成される。光透過性基材 41の上に硬化され防眩層用組成物 4 4の層の光学積層体を、エンボスローラー 47の回転に伴い移動させ、剥離ローラ 45 により、エンボスローラー 47から剥離し、凹凸形状を有する防眩層を伴った光学積層体が製造される。

[0030] エンボス陚型

本発明の第 4の製造装置によれば、微粒子を配合せずに、所望の凹凸形状を有する防眩層を形成した光学積層体を得ることができるとの利点を有する。本発明にあつては、凹凸形状の形成は、成膜された防眩層または成膜中の防眩層に対し、ェンボス版 (好ましくは、ローラーエンボス）を賦型して、必要に応じて、加熱等の硬化処理を伴ったエンボス法によって行なうことができる。本発明の好ましい態様によれば、所望の凹凸形状と逆の形状を型面に形成した凹凸型を使用し、硬化性の優れた防眩層用組成物を光透過性基材上に付与した後に、硬化処理し、光透過性基材と凹凸形状を有する防眩層を一体化させ、光学積層体として製造することができる。本発明にあっては、防眩層用組成物を付与してから凹凸型で賦型してもよいし、防眩層用組成物を光透過性基材と凹凸型の界面に供給し、防眩層用組成物を凹凸型と光透過性基材の間に介在させて、凹凸形状の形成と防眩層の形成とを同時に行なってもよい。本発明の好ましい態様によれば、エンボスローラ以外に、平板状のエンボス板を用いることちでさる。

[0031] エンボスローラーまたは平板状のエンボス板等に形成されている凹凸型面は、種々の方法により、具体的には、サンドブラスト法またはビーズショット法によって形成することができる。サンドブラスト法によるエンボス版 (エンボスローラー）を用いて形成された防眩層は、その上側に凹形状 (他方、下側に凸な断面形状)が多数分布した形状となる。ビーズショット法によるエンボス版 (エンボスローラー）を用いて形成された防眩層は、上側に凸形状 (他方、上側に凸な断面形状)が多数分布した形状となる。

[0032] 防眩層の表面に形成された凹凸形状の平均粗さが同じ場合に、上側に凸部が多数分布した形状を有している防眩層は、上側に凹部が多数分布した形状を有しているものと比較して、室内の照明装置等の写り込みが少ないとされている。このことから、本発明の好ましい態様によれば、ビーズショット法により防眩層の凹凸形状と同一形状に形成された凹凸型を利用して防眩層の凹凸形状を形成することが好ましぐこの凹凸型により形成された凹凸形状は、上側に凸な断面形状の部分が、下面に凸な断面形状の部分がより多いものとして形成される。また、本発明の別の好ましい態様によれば、ビーズショット法により防眩層の凹凸形状と逆形状に形成された凹凸型を利用して防眩層の凹凸形状を形成することが好ましぐこの凹凸型により形成された凹凸形状は、下側に凸な断面形状 (即ち凹部)の部分が、上側に凸な断面形状 (即ち凸部）の部分よりも多、ものとして形成される。 [0033] 凹凸型面を形成するための型材としては、金属、プラスチック、木またはこれらの複合体を使用することができる。本発明の好ましい型材としては、強度、繰返使用による耐摩耗性の観点から、金属としてのクロムが好ましぐ経済性等の観点から、鉄製ェンボス版 (エンボスローラー）の表面にクロムをメツキしたものが好ましくは例示される。

[0034] サンドブラスト法またはビーズショット法により凹凸型を形成する際に、吹き付ける粒子（=ビーズ)の具体例としては、金属粒子、シリカ、アルミナ、またはガラス等の無機質粒子が挙げられる。これらの粒子の粒径（直径）としては、 100 μ m〜300 μ m程度であることが好ましい。これらの粒子を型材に吹き付ける際には、これら粒子を高速の気体と共に吹き付ける方法が挙げられる。この際、適切な液体、例えば、水等を併用してよい。また、本発明にあっては、凹凸形状を形成した凹凸型には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムメツキ等を施して力使用することが好ましぐ硬膜ィ匕、および腐食防止の上で好ましい。

[0035] 学穑体

本発明による光学積層体は、防眩性特性と優れた黒色再現性、コントラストとを兼ね備えたものである。本発明では、この光学積層体をノヽーフグレア光学積層体 (HG )と称する。 HGは、従来の優れた防眩性を有するアンチグレア光学積層体 (AG)と優れた黒色再現性、コントラストを有するクリア一ハードコート (グレア)層に低反射率層を備えた光学積層体 (AR)の両特性を兼ね備えたものと!/ヽうことができる。具体的には、ハーフグレア光学積層体 (HG)の形成方法の一つとして考えられる表面調整層をアンチグレア光学積層体 (AG)上に形成させることにより、防眩層の凹凸形状は滑らかになり、更に、アンチグレア (AG)と同等の表面粗さパラメーターを持たせることで、充分な防眩性を付与しつつ、極めて艷黒感の高い防眩性積層体を作製することが可能となる。そこで、本発明による光学積層体 (HG)の内容について、従来の A Rと AGとの対比において説明する。

[0036] 図 1は、光学積層体における表面ヘイズ値 (％)と反射丫値(％)との関係を表す図である。図 1によれば、従来の ARは、その表面ヘイズ値が 0. 3%程度未満の領域、具体的には、符号 1の鄞線より左側領域に属するものである。また、従来の AGはその表面ヘイズ値が 4. 0%〜25. 0%程度（一般的には 10. 0%以上）であり、反射 Y 値が 1. 0〜4. 5程度の領域に属するものであり、具体的には符号 5で囲まれた領域 (一般的には、符号 5で囲まれた右側領域)のものが利用されている。他方、本発明による光学積層体 (HG)は、その表面ヘイズ値が 0. 2%以上 3. 5%以下 (好ましくは 3. 0以下)程度であり、反射 Y値が 0. 5以上 4. 5以下程度の領域に属するものであり、具体的には符号 3で囲まれた領域のものをいう。

[0037] 本発明による製造方法により製造される光学積層体の光学物性について図 2を用いて説明する。図 2は、光学積層体における防眩層の凹凸部の平均傾斜角 0 a (deg. 「度」）と、この凹凸の平均間隔 Sm ( m)との関係を表す図である。図 2によれば、従来の AGは、具体的には、 0 a値が 1. 5度以上 2. 5度以下であり、 Sm値が 30 m超過 200 m以下程度 (符号 9の領域）となっており、符号 11の領域に含まれるものが好ましいものとして利用されていた。他方、本発明による光学積層体 (HG)は、その 0 a値が 0. 1度超過 1. 2度以下であり、好ましくは下限値が 0. 3度以上であり、上限値が 0. 6度以下であり、 Sm値が 100 m以上 600 m以下程度であり、好ましくは下限値が 120 μ m以上であり、上限値が 400 μ m以下であり、具体的には符号 7の領域に属するものが利用される。また、本発明による光学積層体の Rzの値は、 0. 2 /z m超過（好ましくは 0. 35 m以上）であり、下限値が 1. 2 m以下（好ましくは 1 m以下、より好ましくは 0. 以下）である。

[0038] L m

本発明による製造方法にあっては、防眩層を形成する方法として、光学積層体の表面に、予め調製した防眩層を積層させる方法がある。本発明にあっては、この方法以外に、光学積層体の表面に、 1)榭脂に微粒子を添加した防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法、 2)微粒子を添加しないで、榭脂等のみを含んだ防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法、 3)凹凸形状を付与する処理を用いて防眩層を形成する方法等が挙げられる。本発明にあっては、予め防眩層を調製する場合、上記 1)〜3)の方法によって別途調製された防眩層であってよい。

本発明による製造方法により形成される防眩層の厚 H mは、 0. 以上 27 m以下（12 m以下が好ましい）であり、好ましくは下限が 1 m以上であり上限が 7 μ m以下である。

[0039] 1)棚旨に微粒を力 Dした IS方眩件服且を用いて咖玄を形)^する法 β方 B玄の开 ?去

防眩層は、微粒子または凝集型微粒子 (好ましくは第一微粒子と第二微粒子)と榭脂とを、適切な溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のァルコール類；メチルェチルケトン（ΜΕΚ)、メチルイソブチルケトン（ΜΙΒΚ)、シクロへキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル類；ノヽロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;またはこれらの混合物に混合して得た防眩層用組成物を光透過性基材に塗布することにより形成されてよい。

[0040] 防眩層用組成物を光透過性基材に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバ一コート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。防眩層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、 190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。榭脂が硬化し、榭脂中の微粒子が固定されて、防眩層の最表面に所望の凹凸形状が形成される。

[0041] 微粒子

微粒子は球状、例えば真球状、楕円状、針状等のものであってよぐ好ましくは真球状のものが挙げられる。本発明にあっては、微粒子の平均粒子径 R m)が 1.0 μ m以上 20 μ m以下であり、好ましくは上限が 15. 0 μ mであり下限が、 3. 5 mであるものが好ましい。

[0042] 本発明では、前記微粒子の全体の 80%以上 (好ましくは 90%以上）力前記微粒子の粒径平均分布が R± 1.0 (好ましくは 0. 3) mの範囲内にあるものが好ましい。微粒子の粒径平均分布が上記の範囲とされてなることにより、防眩性積層体の凹凸形状の均一性を良好なものとし、かつ、メンギラ等を有効に防止することが可能となる。また、微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子、第三微粒子、複数微粒子をさらにをさらに含んでなるものを有するものであってもよぐ例えば、微粒子の平均粒子径 R m)が下限の 3. 5 /z m程度の小粒子径については、単分散微粒子ではなぐ平均粒子径が 3. 5 μ mの粒度分布をもつ微粒子で効率良く凹凸層を形成させることが可能となる。

[0043] 凝辆微粒子

本発明の好ま、態様によれば、微粒子の中でも凝集型微粒子を用いることが好ましい。凝集型微粒子は、同一の微粒子であっても、または平均粒径が異なる複数の微粒子で構成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、凝集型微粒子は、第一微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子を含んでなるものが好ましくは挙げられる。また、本発明のより好ましい態様によれば、第二微粒子の単体自体またはその凝集部自体のみでは、前記防眩層にお、て防眩性を発揮しな、ものが好ま、。

[0044] 本発明にあっては、微粒子の平均粒子径を R ( μ m)とし、第二微粒子の平均粒子径を r ( μ m)とした場合に、下記式 (I)：

0.25R (好ましく ίま 0. 50)≤r≤l. OR (好ましく ίま 0. 70) (I)

を満たすものが好ましい。

[0045] rが 0.25R以上であることにより、組成物の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなぐ均一な凹凸形状を形成することができる。また、 rが 0. 85R以下であることにより、微粒子と第一粒子との役割を明確に区別することが可能となるので好ましい。

[0046] また、本発明の別の態様によれば、榭脂と、微粒子と、第二微粒子との単位面積当りの総重量比が、微粒子の単位面積当りの総重量を M、第二微粒子の単位面積当りの総重量を M、榭脂の単位面積当りの総重量を Mとした場合に、下記の式 (Π)お

2

よび (ΠΙ) :

0.08≤(M +M )/M≤0. 36 (II)

1 2

0≤M≤4.0M (III)

2 1

を満たすものが好ましい。

[0047] また、本発明の別の好ま、態様によれば、微粒子と、第二微粒子と、および榭脂の屈折率をそれぞれ、 n、 n、 nとした場合に、下記の式 (IV)： Δ η= |η— n |< 0. 15および/または Δ η= |η— η |< 0. 18 (IV)

1 3 2 3

を満たすものが好ましい。

[0048] 微粒子 (第二の微粒子）は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは、透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ (屈折率 1. 59)、メラミンビーズ (屈折率 1. 57)、アタリルビーズ（屈折率 1. 49)、アクリルスチレンビーズ（屈折率 1. 54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。本発明の好ましい態様によればその表面に疎水性基を有したプラスチックビーズが好ましくは使用され、例えばアクリルビーズが好ましくは挙げられる。

[0049] 纖

本発明による防眩層は (硬化型)榭脂により形成することができる。本発明におヽて、「榭脂」は、モノマー、オリゴマー等の榭脂成分を包含する概念である。硬化型榭脂としては、透明性のものが好ましぐその具体例としては、紫外線または電子線により硬化する榭脂である電離放射線硬化型榭脂、電離放射線硬化型榭脂と溶剤乾燥型榭脂との混合物、または熱硬化型榭脂の三種類が挙げら、好ましくは電離放射線硬化型榭脂が挙げられる。

[0050] 電離放射線硬化型榭脂の具体例としては、アタリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル榭脂、ポリエーテル榭脂、アクリル榭脂、ェポキシ榭脂、ウレタン榭脂、アルキッド榭脂、スピロァセタール榭脂、ポリブタジエン榭脂、ポリチオールポリェン榭脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレボリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、ェチル (メタ）アタリレート、ェチルへキシル (メタ）アタリレート、スチレン、メチルスチレン、 Ν ビュルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、へキサンジオール (メタ）アタリレート、トリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アタリレート、 1, 6 へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレート等が挙げられる。

[0051] 電離放射線硬化型榭脂を紫外線硬化型榭脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、ミヒラーベンゾィルベンゾエート、 a—アミ口キシムエステノレ、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チォキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましぐその具体例としては、 n—ブチルァミン、トリェチルァミン、ポリ n—ブチルホソフィン等が挙げられる。

[0052] 電離放射線硬化型榭脂に混合して使用される溶剤乾燥型榭脂としては、主として熱可塑性榭脂が挙げられる。溶剤乾燥型榭脂の添カ卩により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。熱可塑性榭脂は一般的に例示されるものが利用される。好ましい熱可塑性榭脂の具体例としては、例えば、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、酢酸ビュル系榭脂、ビュルエーテル系榭脂、ハロゲン含有榭脂、脂環式ォレフィン系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂、ポリアミド系榭脂、セルロース誘導体、シリコーン系榭脂、及びゴム又はエラストマ一等が挙げられる。榭脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒 (特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶な榭脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性ゃ耐候性の高い榭脂、例えば、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、脂環式ォレフィン系榭脂、ポリエステル系榭脂、セルロース誘導体 (セルロースエステル類等 )等が好ましい。

[0053] 本発明の好まし、態様によれば、光透過性基材の材料がトリァセチルセルロース「 TAC」等のセルロース系榭脂の場合、熱可塑性榭脂の好ましい具体例として、セルロース系榭脂、例えば-トロセルロース、ァセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、ェチルヒドロキシェチルセルロース等が挙げられる。セルロース系榭脂を用いことにより、光透過性基材と帯電防止層（必要に応じて)との密着性と透明性とを向上させることができる。さらに、上記したァセチルセルロース、ニトロセルロース、ァセチノレブチノレセノレロース、ェチノレセノレロース、メチノレセノレロース等のセノレロース誘導体の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビ-リデン及びその共重合体等のビニル系榭脂、ポリビュルホルマール、ポリビ- ルブチラール等のァセタール榭脂、アクリル榭脂及びその共重合体、メタアクリル榭脂及びその共重合体等のアクリル系榭脂、ポリスチレン榭脂、ポリアミド榭脂、ポリ力ーボネート榭脂等が挙げられる。

[0054] 熱硬化性榭脂の具体例としては、フエノール榭脂、尿素樹脂、ジァリルフタレート榭脂、メラニン榭脂、グアナミン榭脂、不飽和ポリエステル榭脂、ポリウレタン榭脂、ェポキシ榭脂、アミノアルキッド榭脂、メラミン尿素共縮合榭脂、ケィ素榭脂、ポリシロキサン榭脂等が挙げられる。熱硬化性榭脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

[0055] レべリング剤

本発明の好ましい態様によれば、防眩層用組成物に、フッ素系またはシリコーン系等のレべリング剤を添加することが好ましヽ。レべリング剤を添加した防眩層用組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。レべリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材 (例えばトリァセチルセルロース）に好ましくは利用される。

[0056] 2)微粒早添加せず、榭脂等のみ含んだ防眩件用成物用いて防 Bt層形成する方法

IS方 B玄の开 ?去

[0057] 防眩層は、少なくとも 1つのポリマーと少なくとも 1つの硬化性榭脂前駆体とを含む防眩層用組成物を用いて形成することができる。そして、少なくとも 1つのポリマーと少なくとも 1つの硬化性榭脂前駆体とを、適切な溶媒と共に混合した防眩層組成物を用いることにより、液相からのスピノーダル分解により、相分離構造を形成し、硬化性榭脂前駆体を硬化させ、少なくとも防眩層を形成することにより製造できる。

[0058] 液相からのスピノーダル分解は、溶媒を蒸発させることにより行うことができる。相分離構造を形成する組み合わせは、例えば、複数のポリマー同士、ポリマーと硬化性榭脂前駆体、複数の硬化性榭脂前駆体同士等であってもよい。この方法において、熱可塑性榭脂と、光硬化性ィ匕合物 (光重合性モノマーやオリゴマー等)と、光重合開始剤と、熱可塑性榭脂および光硬化性化合物を可溶な溶媒 (共通溶媒)とを含む組成物からのスピノーダル分解により相分離構造を形成し、光照射することにより防眩層を形成してもよい。また、熱可塑性榭脂と、この熱可塑性榭脂に非相溶で且つ光硬化性基を有する榭脂と、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、榭脂および光硬化性ィ匕合物を可溶な溶媒とを含む組成物からのスピノーダル分解により相分離構造を形成し、光照射することにより防眩層を形成してもよい。これらの方法において、光透過性基材上に少なくとも一層の防眩層を形成することが可能となる。

[0059] 体な形)^ 法

防眩層は、少なくとも一つのポリマーと少なくとも一つの硬化性榭脂前駆体とを、適切な溶媒を用いて混合した防眩層用組成物を光透過性基材に付与し、その後、溶媒の蒸発に伴うスピノーダル分解により、相分離構造を形成する工程と、硬化性榭脂前駆体を硬化させ、少なくとも防眩層を形成する工程とを経ることによりを得ることができる。相分離工程は、通常、ポリマーと硬化性榭脂前駆体と溶媒とを含む混合液（特に均一溶液等の液状組成物）を光透過性基材の表面に塗布又は流延する工程と、塗布層又は流延層から溶媒を蒸発させて規則的又は周期的な平均相間距離を有する相分離構造を形成する工程とで構成されており、硬化性榭脂前駆体を硬化させること〖こより防弦層を得ることができる。

[0060] 本発明の好まヽ態様によれば、混合液として、熱可塑性榭脂と、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、熱可塑性榭脂および光硬化性化合物を可溶な溶媒とを含む防眩層用組成物が使用でき、スピノーダル分解により形成された相分離構造の光硬化成分を光照射により硬化することにより防眩層が形成される。また、他の好ましい態様では、混合液として、互いに非相溶な複数のポリマーと、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とを含む防眩層用組成物が使用でき、スピノーダル分解により形成された相分離構造の光硬化成分を光照射により硬化することにより防眩層が形成される。

[0061] このような溶媒の蒸発を伴うスピノーダル分解により、相分離構造のドメイン間の平均距離に規則性又は周期性を付与できる。そして、スピノーダル分解により形成された相分離構造は、硬化性榭脂前駆体を硬化させることにより直ちに固定ィ匕できる。硬化性榭脂前駆体の硬化は、硬化性榭脂前駆体の種類に応じて、加熱、光照射等、あるいはこれらの方法の組合せにより行うことができる。加熱温度は、相分離構造を有する限り、適当な範囲、例えば、 50〜150°C程度力も選択でき、相分離工程と同様の温度範囲力選択してもよ、。

[0062] 光学積層体の一部を構成する防眩層は、その防眩層の相分離構造、液相からのスピノーダル分解 (湿式スピノーダル分解）により形成されている。すなわち、ポリマーと硬化性榭脂前駆体と溶媒とで構成された本発明による防眩層用組成物を用い、この防眩層用組成物の液相（又は均一溶液やその塗布層）から、溶媒を乾燥等により蒸発又は除去する過程で、濃度の濃縮に伴って、スピノーダル分解による相分離が生じ、相間距離が比較的規則的な相分離構造を形成できる。より具体的には、前記湿式スピノーダル分解は、通常、少なくとも 1つのポリマーと少なくとも 1つの硬化性榭脂前駆体と溶媒とを含んでなる防眩層用組成物 (好ましくは均一溶液)を支持体に塗布し、塗布層から溶媒を蒸発させることにより行うことができる。

[0063] 本発明にあっては、このスピノーダル分解にお!、て、相分離の進行に伴って共連続相構造を形成し、さらに相分離が進行すると、連続相が自らの表面張力により非連続化し、液滴相構造 (球状、真球状、円盤状や楕円体状等の独立相の海島構造)となる。従って、相分離の程度によって、共連続相構造と液滴相構造との中間的構造（上記共連続相から液滴相に移行する過程の相構造)も形成できる。本発明の防眩層の相分離構造は、海島構造 (液滴相構造、又は一方の相が独立または孤立した相構造)、共連続相構造 (又は網目構造)であってもよぐ共連続相構造と液滴相構造とが混在した中間的構造であってもよい。これらの相分離構造により溶媒乾燥後には防眩層の表面に微細な凹凸を形成できる。

[0064] 相分離構造において、防眩層の表面に凹凸形状が形成され、かつ表面硬度を高める点からは、少なくとも島状ドメインを有する液滴相構造であるのが有利である。なお、ポリマーと前記前駆体 (又は硬化榭脂)とで構成された相分離構造が海島構造である場合、ポリマー成分が海相を形成してもよいが、表面硬度の観点から、ポリマ一成分が島状ドメインを形成するのが好ましい。なお、島状ドメインの形成により、乾燥後には防眩層の表面に所望の光学特性を発揮する凹凸形状が形成される。

[0065] 前記相分離構造のドメイン間の平均距離は、通常、実質的に規則性又は周期性を有している。例えば、ドメインの平均相間距離は、例えば、 1〜70 /ζ πι (例えば、 1〜4 0 m)、好ましくは 2〜50 m (例えば、 3〜30 μ m)、さらに好ましくは 5〜20 m ( 例えば、 10〜20 /ζ πι)程度であってもよい。

[0066] ポリマー

ポリマーは、スピノーダル分解により相分離可能な複数のポリマー、例えば、セル口ース誘導体と、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂等、またはこれらの組合せが挙げられる。硬化性榭脂前駆体は、複数のポリマーのうち、少なくとも一種のポリマーと相溶性を有していてもよい。複数のポリマーのうち、少なくとも 1つのポリマー力硬化性榭脂前駆体の硬化反応に関与する官能基、例えば、（メタ)アタリロイル基等の重合性基を有していてもよい。ポリマー成分としては、通常、熱可塑性榭脂が使用される。

[0067] 熱可塑性榭脂の具体例としては、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、有機酸ビニルエステル系榭脂、ビニルエーテル系榭脂、ハロゲン含有榭脂、ォレフィン系榭脂 (脂環式ォレフイン系榭脂を含む)、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂、ポリアミド系榭脂、熱可塑性ポリウレタン榭脂、ポリスルホン系榭脂（例えば、ポリエ一テルスルホン、ポリスルホン）、ポリフエ-レンエーテル系榭脂（例えば、 2, 6 キシレノールの重合体）、セルロース誘導体（例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類）、シリコーン榭脂（例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフエ-ルシロキサン）、ゴム又はエラストマ一（例えば、ポリブタジェン、ポリイソプレン等のジェン系ゴム、スチレンブタジエン共重合体、アタリ口-トリルーブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム）等が挙げられ、これらの単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

[0068] スチレン系榭脂の具体例としては、スチレン系単量体の単独又は共重合体 (例えば、ポリスチレン、スチレン aーメチノレスチレン共重合体、スチレンービニノレトノレェン共重合体）、スチレン系単量体と他の重合性単量体 [例えば、（メタ)アクリル系単量体、無水マレイン酸、マレイミド系単量体、ジェン類]との共重合体等が含まれる。スチレン系共重合体としては、例えば、スチレン—アクリロニトリル共重合体 (AS榭脂）、スチレンと (メタ)アクリル系単量体との共重合体 [例えば、スチレンーメタクリル酸メチル共重合体、スチレンーメタクリル酸メチルー（メタ)アクリル酸エステル共重合体、スチレン—メタクリル酸メチル—（メタ)アクリル酸共重合体等]、スチレン—無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。好ましいスチレン系榭脂としては、ポリスチレン、スチレンと (メタ)アクリル系単量体との共重合体 [例えば、スチレンーメタクリル酸メチル共重合体等のスチレンとメタクリル酸メチルを主成分とする共重合体]、 AS榭脂、スチレンブタジエン共重合体等が含まれる。

[0069] (メタ）アクリル系榭脂としては、（メタ)アクリル系単量体の単独又は共重合体、（メタ )アクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体等が使用できる。（メタ）アクリル系単量体の具体例としては、（メタ）アクリル酸；（メタ)アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸ェチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸 tーブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸へキシル、（メタ）アクリル酸ォクチル、（メタ）アクリル酸 2—ェチルへキシル等の（メタ）アクリル酸 C アルキル；（メタ）アクリル酸フニル等の（メタ）

1 - 10

アクリル酸ァリール；ヒドロキシェチル (メタ）アタリレート、ヒドロキシプロピル (メタ）ァクリレート等のヒドロキシアルキル (メタ）アタリレート；グリシジル (メタ）アタリレート； N, N ージアルキルアミノアルキル (メタ）アタリレート；（メタ）アクリロニトリル；トリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する (メタ)アタリレート等が例示できる。共重合性単量体の具体例としては、前記スチレン系単量体、ビュルエステル系単量体、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等が例示でき、これらの単量体は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

[0070] (メタ）アクリル系榭脂の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル等のポリ（メタ)アタリル酸エステル、メタクリル酸メチルー（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチルー (メタ)アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル—アクリル酸エステル—（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ)アクリル酸エステルースチレン共重合体 (MS榭脂等)等が挙げられる。好ましい (メタ)アクリル系榭脂の具体例としては、ポリ (メタ)アクリル酸メチル等のポリ（メタ）アクリル酸 C アルキル、特にメタクリル酸メチルを主成分（50

1 -6

〜： LOO重量％、好ましくは 70〜： LOO重量％程度）とするメタクリル酸メチル系榭脂が挙げられる。

[0071] 有機酸ビュルエステル系榭脂の具体例としては、ビニルエステル系単量体の単独又は共重合体（ポリ酢酸ビュル、ポリプロピオン酸ビュル等）、ビュルエステル系単量体と共重合性単量体との共重合体 (エチレン酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニルー塩ィ匕ビュル共重合体、酢酸ビニルー（メタ)アクリル酸エステル共重合体等)又はそれらの誘導体が挙げられる。ビニルエステル系榭脂の誘導体の具体例としては、ポリビ -ルアルコール、エチレンビュルアルコール共重合体、ポリビュルァセタール榭脂等が含まれる。

[0072] ビュルエーテル系榭脂の具体例としては、ビュルメチルエーテル、ビュルェチルェ一テル、ビニルプロピルエーテル、ビニル t ブチルエーテル等のビニル C アル

1 - 10 キルエーテルの単独又は共重合体、ビニル C アルキルエーテルと共重合性単量

1 - 10

体との共重合体 (ビニルアルキルエーテル無水マレイン酸共重合体等）が挙げられる。ハロゲン含有樹脂の具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビ-リデン、塩化ビュル酢酸ビュル共重合体、塩化ビニルー（メタ)アクリル酸エステル共重合体、塩ィ匕ビユリデンー（メタ)アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。

[0073] ォレフィン系榭脂の具体例としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のォレフィンの単独重合体、エチレン酢酸ビュル共重合体、エチレンビュルアルコール共重合体、エチレン（メタ)アクリル酸共重合体、エチレン（メタ)アクリル酸エステル共重合体等の共重合体が挙げられる。脂環式ォレフイン系榭脂の具体例としては、環状ォレフィン（例えば、ノルボルネン、ジシクロペンタジェン）の単独又は共重合体 (例えば、立体的に剛直なトリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する重合体）、前記環状ォレフィンと共重合性単量体との共重合体 (例えば、エチレンノルボルネン共重合体、プロピレンノルボルネン共重合体)等が例示できる。脂環式ォレフィン系榭脂の具体例としては、商品名「アートン (ARTON)」、商品名「ゼォネックス (ZEONEX)」等として入手できる。

[0074] ポリカーボネート系榭脂の具体例としては、ビスフエノール類（ビスフエノール A等）をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスァリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が含まれる。ポリエステル系榭脂の具体例としては、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸を用いた芳香族ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリ c アルキレンテレフタレートやポリ C アルキレンナフタレート等の

2-4 2-4

ホモポリエステル、 c アルキレンァリレート単位（C アルキレンテレフタレート及び

2-4 2-4

Z又は C アルキレンナフタレート単位)を主成分 (例えば、 50重量％以上）として

2-4

含むコポリエステル等、が例示できる。コポリエステルの具体例としては、ポリ C 了

2-4 ルキレンァリレートの構成単位のうち、 c アルキレングリコールの一部を、ポリオキ

2-4

シ C アルキレングリコール、 C アルキレングリコール、脂環式ジオール（シクロへ

2-4 6-10

キサンジメタノール、水添ビスフエノール A等）、芳香環を有するジオール（フルォレノン側鎖を有する 9, 9 ビス（4一（2 ヒドロキシエトキシ）フエ-ル）フルオレン、ビスフエノール八、ビスフエノール A—アルキレンオキサイド付加体等）等で置換したコポリエステル、芳香族ジカルボン酸の一部を、フタル酸、イソフタル酸等の非対称芳香族ジカルボン酸、アジピン酸等の脂肪族 C ジカルボン酸等で置換したコポリエステル

6-12

が含まれる。ポリエステル系榭脂の具体例としては、ポリアリレート系榭脂、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸を用いた脂肪族ポリエステル、 ε一力プロラタトン等のラタトンの単独又は共重合体も含まれる。好ましいポリエステル系榭脂は、通常、非結晶性コポリエステル (例えば、 C アルキレンァリレート系コポリエステル等）等のよう

2-4

に非結晶性である。

[0075] ポリアミド系榭脂の具体例としては、ナイロン 46、ナイロン 6、ナイロン 66、ナイロン 6 10、ナイロン 612、ナイロン 11、ナイロン 12等の脂肪族ポリアミド、ジカルボン酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸等）とジァミン（例えば、へキサメチレンジァミン、メタキシリレンジァミン）と力も得られるポリアミド等が挙げられる。ポリアミド系榭脂の具体例としては、 ε一力プロラタタム等のラタタムの単独又は共重合体であつてもよく、ホモポリアミドに限らずコポリアミドであってもよい。

[0076] セルロース誘導体のうちセルロースエステル類の具体例としては、例えば、脂肪族有機酸エステル、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のセノレロースアセテート；セノレロースプロピオネート、セノレロースブチレート、セノレロースァセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の C 有機酸エステル等が挙げられ、芳香族有機酸エステル（セルロースフタレート、セルロースベンゾエート等の c 芳香族カルボン酸エステル）、無機酸エステル類、例えば、リン酸セルロー

7-12

ス、硫酸セルロース等）が例示でき、酢酸 ·硝酸セルロースエステル等の混合酸エステルであってもよい。セルロース誘導体の具体例としては、セルロースカーバメート類 (例えば、セルロースフエ-ルカーバメート等が挙げられ、セルロースエーテル類、例えば、シァノエチルセルロース；ヒドロキシェチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシ c ァノレキノレセノレロース；メチノレセノレロース、ェチノレセノレロース

2-4

等の C アルキルセルロース；カルボキシメチルセルロース又はその塩、ベンジルセ

1-6

ルロース、ァセチルアルキルセルロース等が挙げられる。

[0077] 好ま、熱可塑性榭脂の具体例としては、例えば、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、酢酸ビュル系榭脂、ビニルエーテル系榭脂、ハロゲン含有榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂、ポリアミド系榭脂、セルロース誘導体、シリコーン系榭脂、及びゴム又はエラストマ一等が挙げられる。榭脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒 (特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶な榭脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性ゃ耐候性の高い榭脂、例えば、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂、ポリエステル系榭脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等)等が好ましい。

[0078] ポリマー成分としては、硬化反応に関与する官能基 (又は硬化性化合物と反応可能な官能基)を有するポリマーを用いることもできる。このポリマーは、官能基を主鎖に有していてもよぐ側鎖に有していてもよい。前記官能基は、共重合や共縮合等により主鎖に導入されてもよいが、通常、側鎖に導入される。このような官能基の具体例としては、縮合性基や反応性基 (例えば、ヒドロキシル基、酸無水物基、カルボキシル基、アミノ基又はイミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシァネート基）、重合性基（例えば、ビュル、プロべ-ル、イソプロべ-ル基、ブテュル、ァリル等の C ァルケ-

2-6 ル基、ェチュル、プロビュル、ブチュル等の C アルキ-ル基、ビ-リデン等の C

2-6 2-6 ァルケ-リデン基、又はこれらの重合性基を有する基 (例えば、（メタ)アタリロイル基）等が挙げられる。これらの官能基のうち、重合性基が好ましい。 [0079] 重合性基を側鎖に導入する方法としては、例えば、反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性榭脂と、前記官能基との反応性基を有する重合性化合物とを反応させる方法を用いることができる。

[0080] 官能基を有する熱可塑性榭脂としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性榭脂 (例えば、（メタ)アクリル系榭脂、ポリエステル系榭脂、ポリアミド系榭脂）、ヒドロキシル基を有する熱可塑性榭脂 (例えば、（メタ)アクリル系榭脂、ポリウレタン系榭脂、セルロース誘導体、ポリアミド系榭脂）、アミノ基を有する熱可塑性榭脂 (例えば、ポリアミド系榭脂）、エポキシ基を有する熱可塑性榭脂 (例えば、ェポキシ基を有する (メタ)アクリル系榭脂ゃポリエステル系榭脂)等が例示できる。また、スチレン系榭脂ゃォレフイン系榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂等の熱可塑性榭脂に、前記官能基を共重合ゃグラフト重合で導入した榭脂であってもよい。

[0081] 重合性ィ匕合物としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性榭脂の場合は、エポキシ基ゃヒドロキシル基、アミノ基、イソシァネート基等を有する重合性ィ匕合物等を用いることができる。ヒドロキシル基を有する熱可塑性榭脂の場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やイソシァネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。アミノ基を有する熱可塑性榭脂の場合は、カルボキシル又はその酸無水物基やエポキシ基、イソシァネート基等を有する重合性ィ匕合物等が挙げられる。エポキシ基を有する熱可塑性榭脂の場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やアミノ基等を有する重合性化合物等が挙げられる。

[0082] 前記重合性ィ匕合物のうち、エポキシ基を有する重合性ィ匕合物としては、例えば、ェポキシシクロへキセ-ル (メタ）アタリレート等のエポキシシクロ C ァルケ-ル (メタ）

5-8

アタリレート、グリシジル (メタ）アタリレート、ァリルグリシジルエーテル等が例示できる。ヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピル (メタ）アタリレート等のヒドロキシ C アルキル (メタ）アタリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アタリ

1-4

レート等の c アルキレングリコール (メタ）アタリレート等が例示できる。アミノ基を有

2-6

する重合性ィ匕合物としては、例えば、アミノエチル (メタ)アタリレート等のアミノ C ァ

1-4 ルキル (メタ）アタリレート、ァリルァミン等の C アルケニルァミン、 4—アミノスチレン

3-6

、ジァミノスチレン等のアミノスチレン類等が例示できる。イソシァネート基を有する重合性化合物としては、例えば、（ポリ）ウレタン (メタ)アタリレートやビュルイソシァネート等が例示できる。カルボキシル基又はその酸無水物基を有する重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸や無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸又はその無水物等が例示できる。

[0083] 代表的な例としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性榭脂とエポキシ基含有化合物、特に (メタ)アクリル系榭脂（ (メタ)アクリル酸（メタ)アタリル酸エステル共重合体等）とエポキシ基含有 (メタ）アタリレート（エポキシシクロアルケ -ル (メタ）アタリレートゃグリシジル (メタ）アタリレート等）の組み合わせが挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル系榭脂のカルボキシル基の一部に重合性不飽和基を導入したポリマー、例えば、（メタ)アクリル酸（メタ)アクリル酸エステル共重合体の力ルボキシル基の一部に、 3, 4—エポキシシクロへキセ-ルメチルアタリレートのェポキシ基を反応させて、側鎖に光重合性不飽和基を導入した (メタ)アクリル系ポリマー（サイクロマー P、ダイセル化学工業 (株)製)等が使用できる。

[0084] 熱可塑性榭脂に対する硬化反応に関与する官能基 (特に重合性基)の導入量は、熱可塑'性榭月旨 lkgに対して、 0. 001〜10モノレ、好ましくは 0. 01〜5モノレ、さらに好ましくは 0. 02〜3モル程度である。

[0085] これらのポリマーは適当に組み合わせて使用できる。すなわち、ポリマーは複数のポリマーで構成されていてもよい。複数のポリマーは、液相スピノーダル分解により、相分離可能であってもよい。また、複数のポリマーは、互いに非相溶であってもよい。複数のポリマーを組み合わせる場合、第 1の榭脂と第 2の榭脂との組み合わせは特に制限されないが、加工温度付近で互いに非相溶な複数のポリマー、例えば、互いに非相溶な 2つのポリマーとして適当に組み合わせて使用できる。例えば、第 1の榭脂がスチレン系榭脂（ポリスチレン、スチレン—アクリロニトリル共重合体等)である場合、第 2の榭脂は、セルロース誘導体 (例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類）、（メタ)アクリル系榭脂（ポリメタクリル酸メチル等）、脂環式ォレフイン系榭脂（ノルボルネンを単量体とする重合体等）、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂（前記ポリ C アルキレンァリレート系コポリエステル等)等で

2-4

あってもよい。また、例えば、第 1のポリマーがセルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類)である場合、第 2のポリマーは、スチレン系榭脂（ポリスチレン、スチレン—アクリロニトリル共重合体等）、（メタ）アタリル系榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂（ノルボルネンを単量体とする重合体等）、ポリ力ーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂（前記ポリ C アルキレンァリレート系コポリ

2-4

エステル等）等であってもよい。複数の榭脂の組合せにおいて、少なくともセルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース C アル

2-4 キルカルボン酸エステル類）を用いてもよ、。

[0086] スピノーダル分解により生成された相分離構造は、活性光線 (紫外線、電子線等）や熱等により最終的に硬化し、硬化榭脂を形成する。そのため、防眩層に耐擦傷性を付与でき、耐久性を向上できる。

[0087] 硬化後の耐擦傷性の観点から、複数のポリマーのうち、少なくとも一つのポリマー、例えば、互いに非相溶なポリマーのうち一方のポリマー（第 1の榭脂と第 2の榭脂とを組み合わせる場合、特に両方のポリマー）が硬化性榭脂前駆体と反応可能な官能基を側鎖に有するポリマーであるのが好まし、。

[0088] 第 1のポリマーと第 2のポリマーとの割合 (重量比）は、例えば、第 1のポリマー Z第 2 のポリマー力 S、 1/99〜99/1、好ましく ίま 5/95〜95/5、さらに好ましく ίま 10/9 0〜90/10程度の範囲力ら選択でき、通常、 20/80〜80/20程度、特に 30/70 〜70Ζ30程度である。

[0089] 相分離構造を形成するためのポリマーとしては、前記非相溶な 2つのポリマー以外にも、前記熱可塑性榭脂ゃ他のポリマーが含まれて、てもよ、。

[0090] ポリマーのガラス転移温度は、例えば、 100°C〜250°C、好ましくは 50°C〜23 0°C、さらに好ましくは 0〜200°C程度（例えば、 50〜180°C程度）の範囲力も選択できる。なお、表面硬度の観点から、ガラス転移温度は、 50°C以上 (例えば、 70〜200 °C程度）、好ましくは 100°C以上（例えば、 100〜170°C程度）であるのが有利である。ポリマーの重量平均分子量は、例えば、 1, 000, 000以下、好ましくは 1, 000〜5 00, 000程度の範囲から選択できる。

[0091] 硬瞧旨翻区体硬化性榭脂前駆体としては、熱や活性エネルギー線 (紫外線や電子線等)等により反応する官能基を有する化合物であり、熱や活性エネルギー線等により硬化又は架橋して榭脂 (特に硬化又は架橋榭脂)を形成可能な種々の硬化性化合物が使用できる。前記榭脂前駆体としては、例えば、熱硬化性ィ匕合物又は榭脂 [エポキシ基、重合性基、イソシァネート基、アルコキシシリル基、シラノール基等を有する低分子量化合物（例えば、エポキシ系榭脂、不飽和ポリエステル系榭脂、ウレタン系榭脂、シリコ一ン系榭脂) ]、活性光線 (紫外線等）により硬化可能な光硬化性ィ匕合物 (例えば、光硬化性モノマー、オリゴマーの紫外線硬化性ィ匕合物)等が例示でき、光硬化性化合物は、 EB (電子線)硬化性ィ匕合物等であってもよい。なお、光硬化性モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよ!/、光硬化性榭脂等の光硬化性化合物を、単に「光硬化性榭脂」という場合がある。

[0092] 光硬化性化合物には、例えば、単量体、オリゴマー (又は榭脂、特に低分子量榭脂 )が含まれ、単量体としては、例えば、単官能性単量体 [ (メタ)アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル系単量体、ビュルピロリドン等のビュル系単量体、イソボル-ル (メタ )アタリレート、ァダマンチル (メタ)アタリレート等の橋架環式炭化水素基を有する (メタ)アタリレート等]、少なくとも 2つの重合性不飽和結合を有する多官能性単量体 [ェチレングリコールジ (メタ）アタリレート、プロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ブタンジオールジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレート、へキサンジオールジ (メタ）アタリレート等のアルキレングリコールジ (メタ）アタリレート；ジェチレングリコールジ（メタ）アタリレート、ジプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリォキシテトラメチレングリコールジ (メタ）アタリレート等の（ポリ）ォキシアルキレングリコールジ（メタ）アタリレート；トリシクロデカンジメタノールジ (メタ）アタリレート、ァダマンタンジ (メタ)アタリレート等の橋架環式炭化水素基を有するジ (メタ)アタリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、トリメチロールェタントリ（メタ）アタリレート、ぺンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールテトラ (メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールペンタ (メタ)アタリレート等の 3〜6程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体]が例示できる。

[0093] オリゴマー又は榭脂としては、ビスフエノール A—アルキレンオキサイド付加体の（メタ）アタリレート、エポキシ (メタ）アタリレート（ビスフエノール A型エポキシ (メタ）アタリレート、ノボラック型エポキシ (メタ)アタリレート等）、ポリエステル (メタ）アタリレート (例えば、脂肪族ポリエステル型 (メタ)アタリレート、芳香族ポリエステル型 (メタ)アタリレート等）、（ポリ）ウレタン (メタ)アタリレート（例えば、ポリエステル型ウレタン (メタ）アタリレート、ポリエーテル型ウレタン (メタ）アタリレート）、シリコーン (メタ）アタリレート等が例示できる。これらの光硬化性ィ匕合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる

[0094] 好ま、硬化性榭脂前駆体は、短時間で硬化できる光硬化性化合物、例えば、紫外線硬化性化合物 (モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい樹脂等）、 EB硬化性ィ匕合物である。特に、実用的に有利な榭脂前駆体は、紫外線硬化性榭脂である。さら〖こ、耐擦傷性等の耐性を向上させるため、光硬化性榭脂は、分子中に 2以上 (好ましくは 2〜6、さらに好ましくは 2〜4程度）の重合性不飽和結合を有する化合物であるのが好ましい。硬化性榭脂前駆体の分子量としては、ポリマーとの相溶性を考慮して 5000以下、好ましくは 2000以下、さらに好ましくは 1000以下程度である。

[0095] 硬化性榭脂前駆体は、その種類に応じて、硬化剤を含んで!/ヽてもよヽ。例えば、熱硬化性榭脂では、アミン類、多価カルボン酸類等の硬化剤を含んでいてもよぐ光硬化性榭脂では光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、慣用の成分、例えば、ァセトフエノン類又はプロピオフエノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフエノン類、チォキサントン類、ァシルホスフィンォキシド類等が例示できる。光硬ィ匕剤等の硬化剤の含有量は、硬化性榭脂前駆体 100重量部に対して 0. 1〜20重量部、好ましくは 0. 5〜： LO重量部、さらに好ましくは 1〜8重量部（特に 1〜5重量部）程度であり、 3〜8重量部程度であってもよい。

[0096] 硬化性榭脂前駆体は硬化促進剤を含んで!/ヽてもよ!/ヽ。例えば、光硬化性榭脂は、光硬化促進剤、例えば、第三級ァミン類 (例えば、ジアルキルアミノ安息香酸エステル）、ホスフィン系光重合促進剤等を含んでいてもよい。

[0097] ポリマーと硬化性榭脂前駆体との具体的な組合せ

少なくとも 1つのポリマー及び少なくとも 1つの硬化性榭脂前駆体のうち、少なくとも 2つの成分が、加工温度付近で互いに相分離する組み合わせで使用される。相分離する組み合わせとしては、例えば、（a)複数のポリマー同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせ、（b)ポリマーと硬化性榭脂前駆体とが非相溶で相分離する組み合わせや、 (c)複数の硬化性榭脂前駆体同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせ等が挙げられる。これらの組み合わせのうち、通常、（a)複数のポリマー同士の組み合わせや、（b)ポリマーと硬化性榭脂前駆体との組み合わせであり、特に (a)複数のポリマー同士の組み合わせが好ましい。相分離させる両者の相溶性が低い場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程で両者が有効に相分離し、防眩層としての機能が向上する。

[0098] 熱可塑性榭脂と硬化性榭脂前駆体 (又は硬化榭脂）とは、通常、互いに非相溶である。ポリマーと硬化性榭脂前駆体とが非相溶で相分離する場合に、ポリマーとして複数のポリマーを用いてもよい。複数のポリマーを用いる場合、少なくとも 1つのポリマーが榭脂前駆体 (又は硬化榭脂）に対して非相溶であればよぐ他のポリマーは前記榭脂前駆体と相溶してもょ、。

[0099] 互いに非相溶な 2つの熱可塑性榭脂と、硬化性化合物 (特に複数の硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマー）との組み合わせであってもよい。さらに、硬化後の耐擦傷性の観点から、前記非相溶な熱可塑性榭脂のうち一方のポリマー (特に両方のポリマー）が硬化反応に関与する官能基 (前記硬化性榭脂前駆体の硬化に関与する官能基)を有する熱可塑性榭脂であってもよヽ。

[0100] ポリマーを互いに非相溶な複数のポリマーで構成して相分離する場合、硬化性榭脂前駆体は、非相溶な複数のポリマーのうち、少なくとも 1つのポリマーと加工温度付近で互いに相溶する組合せで使用される。すなわち、互いに非相溶な複数のポリマ一を、例えば、第 1の榭脂と第 2の榭脂とで構成する場合、硬化性榭脂前駆体は少なくとも第 1の榭脂又は第 2の榭脂のどちらかと相溶すればよぐ好ましくは両方のポリマー成分と相溶してもよい。両方のポリマー成分に相溶する場合、第 1の榭脂及び硬化性榭脂前駆体を主成分とした混合物と、第 2の榭脂及び硬化性榭脂前駆体を主成分とした混合物との少なくとも二相に相分離する。

[0101] 選択した複数のポリマーの相溶性が低!、場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程でポリマー同士が有効に相分離し、防眩層としての機能が向上する。複数のポリマー相分離性は、双方の成分に対する良溶媒を用いて均一溶液を調製し、溶媒を徐々に蒸発させる過程で、残存固形分が白濁するか否かを目視にて確認することにより簡便に判定できる。

[0102] 通常、ポリマーと、榭脂前駆体の硬化により生成した硬化又は架橋樹脂とは互いに屈折率が異なる。また、複数のポリマー (第 1の榭脂と第 2の榭脂)の屈折率も互いに異なる。ポリマーと硬化又は架橋樹脂との屈折率の差、複数のポリマー (第 1の榭脂と第 2の榭脂）との屈折率の差は、例えば、 0. 001-0. 2、好ましくは 0. 05〜0. 15程度であってもよい。

[0103] ポリマーと硬化性榭脂前駆体との割合 (重量比）は、特に制限されず、例えば、ポリマー Z硬化性榭脂前駆体が、 5Z95〜95Z5程度の範囲から選択でき、表面硬度の観点から、好ましくは 5Z95〜60Z40程度であり、さらに好ましくは 10/90〜50 Ζ50、特に 10Ζ90〜40Ζ60程度である。

[0104] 靈

溶媒は、前記ポリマー及び硬化性榭脂前駆体の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分 (複数のポリマー及び硬化性榭脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよぐ湿式スピノーダル分解において使用することができる。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類 (ァセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン等）、エーテル類 (ジォキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類 (へキサン等)、脂環式炭化水素類 (シクロへキサン等)、芳香族炭化水素類 (トルエン、キシレン等)、ハロゲンィ匕炭素類（ジクロロメタン、ジクロロェタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロへキサノール等）、セロソルブ類（メチルセ口ソルブ、ェチルセ口ソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類 (ジメチルスルホキシド等）、アミド類 (ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド等)等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。

[0105] 防眩層用組成物中の溶質 (ポリマー及び硬化性榭脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）の濃度は、相分離が生じる範囲及び流延性やコーティング性等を損なわない範囲で選択でき、例えば、 1〜80重量％、好ましくは 5〜60重量％、さらに好ましくは 15〜40重量％ (特に 20〜40重量％)程度である。

[0106] 3) 开^^付するを用いて咖玄を形)^する法

本発明による防眩層は、微粒子を含まない、ポリマー、榭脂等を含んでなる防眩層用組成物を用いて形成した防眩層の表面または防眩層形成中の防眩層の表面に対して、凹凸形状を付与する処理を行って防眩層を形成することができる。この方法については、本発明の製造方法と製造装置の項で説明したのと同様であってよい。

[0107] 2.表面調整層

本発明にあっては、防眩層の凹凸表面を調整するために、表面調整層を形成してもよい。この場合、表面調整層は防眩層と一体となって防眩性機能を発揮するものである。従って、表面調整層を形成する場合、表面の凹凸形状の値である Sm、 Θ a、 R z等の光学特性値は本願発明の範囲内にある。付言すれば、防眩層の上に表面調整層が付与される場合、表面調整層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致する。以上のことは、表面調整層の下記内容及び実施例からも理解される。

[0108] 表面調整層は、防眩層の凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール

(凹凸の山高さと山間隔）の 1Z10以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸を形成させること、または、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度 (個数)の調整することが可能となる。また、表面調整層は、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性、等を付与することを目的として形成されるものである。表面調整層の膜厚 (硬化時）は 0. 5 μ m以上 27 μ m 以下（12 /z m以下が好ましい）であり、好ましくは下限が 3 μ m以上であり上限が 8 μ m以下である。

[0109] 表 rif調整剤

表面調整剤としては、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤および硬度調整剤 (緩衝性付与剤)からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられる。

[OHO] ^ ^ M)

表面調整層中に、帯電防止剤を含んでなることにより、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。帯電防止剤の具体例としては、第 4級アンモ -ゥム塩、ピリジ-ゥム塩、第 1〜第 3アミノ基等のカチオン性基を有する各種の力チオン性ィ匕合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のァニオン性基を有するァニオン性化合物、アミノ酸系、ァミノ硫酸エステル系等の両性化合物、ァミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノ-オン性ィ匕合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのァセチルァセトナート塩のような金属キレートイ匕合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量ィ匕したィ匕合物が挙げられる。また、第 3級ァミノ基、第 4級アンモ-ゥム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性ィ匕合物もまた帯電防止剤として使用できる。

[0111] また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸ィ匕物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸ィ匕物としては、 ZnO (屈折率 1. 90、以下、カツコ内の数値は屈折率を表す。）、 CeO (1. 95)、 Sb O (1. 71)

2 2 2

、SnO (1. 997)、 ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（1. 95) , In O

2 2

(2. 00)、 Al O (1. 63)、アンチモンドープ酸化錫（略称; ATO、 2. 0)、アルミ-ゥ

3 2 3

ムドープ酸ィ匕亜鉛 (略称; AZO、 2. 0)等を挙げることができる。微粒子とは、 1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が 0. In m〜0. 1 μ mのものである。

[0112] 本発明の好ま、態様によれば、表面調整層に含まれる榭脂と帯電防止剤との添加比が 5以上 25以下であり、好ましくは上限が 20以下であり下限が 5以上である。

[0113] また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（バラフヱ-レン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチォフェン、含へテロ原子共役系のポリア-リン、混合型共役系のポリ（フエ-レンビ-レン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。

[0114] 屈析率調整剤表面調整層に、屈折率調整剤を添加し、光学積層体の光学特性を調整することが可能となる。屈折率調整剤には、低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤等が挙げられる。

[0115] 1)低屈析率剤

低屈折率剤は、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が 1. 5以上であり、低屈折率剤の屈折率が 1. 5未満であり、好ましくは 1. 45以下で構成されてなるものが好ましい。

[0116] 低屈折率剤の具体例としては、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が挙げられ、その例としてはフッ化ビ-リデン 30〜90重量⁰ /₀及びへキサフルォロプロピレン 5 〜50重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が 60〜 70重量％であるフッ素含有共重合体 100重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性ィ匕合物 80〜 150重量部とからなる組成物が挙げられる。

[0117] このフッ素含有共重合体は、フッ化ビ-リデンとへキサフルォロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体が挙げられる。このモノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビ-リデンが 30〜90重量％、好ましくは 40〜80重量⁰ /₀、特に好ましくは 40〜70重量％であり、またはへキサフルォロプロピレンが 5〜50重量⁰ /₀、好ましくは 10〜50重量⁰ /₀、特に好ましくは 15〜45重量 %である。このモノマー組成物は、更にテトラフルォロエチレンを 0〜40重量⁰ /₀、好ましくは 0〜35重量％、特に好ましくは 10〜30重量％含有するものであってもよい。

[0118] このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、必要に応じて、他の共重合体成分が、例えば、 20重量％以下、好ましくは 10重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。この共重合体の具体例としては、フルォロエチレン、トリフルォ口エチレン、クロロトリフノレオ口エチレン、 1, 2—ジクロロ一 1, 2—ジフノレオ口エチレン、 2—ブロモー 3, 3, 3—トリフノレオ口エチレン、 3—ブロモー 3, 3—ジフノレオ口プロピレン、 3, 3, 3—トリフルォロプロピレン、 1, 1, 2—トリクロ口— 3, 3, 3—トリフルォロプロピレン、 —トリフルォロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができる。

[0119] このようなモノマー組成物力得られるフッ素含有共重合体のフッ素含有割合は 60 〜70重量％であることが好ましぐより好ましくは 62〜70重量％、特に好ましくは 64 〜68重量％である。添加割合力このような範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。または、フッ素含有共重合体を成分として含有すること〖こより、優れた密着性と、高い透明性と、低い屈折率とを有し、優れた機械的強度を有する光学積層体を形成することが可能となる。

[0120] フッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で 5000〜2 00000、特に 10000〜100000であること力子まし!/、。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系榭脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系榭脂組成物とすることができる。

[0121] フッ素含有共重合体自体の屈折率は 1. 45以下、好ましくは 1. 42以下、より好ましくは 1. 40以下であるものが好ましい。屈折率がこの範囲にあることにより、形成される光学積層体の反射防止効果が好ま U、ものとなる。

[0122] 榭脂の添加量は、フッ素含有共重合体 100重量部に対して 30〜 150重量部、好ましくは 35〜： LOO重量部、特に好ましくは 40〜70重量部である。また、フッ素含有共重合体と榭脂とを含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が 30〜55 重量％、好ましくは 35〜50重量％であることが好ましい。

[0123] 添加量またはフッ素含有割合力上記した範囲内にあることにより、表面調整層の基材に対する密着性が良好となり、また、屈折率が低い良好な反射防止効果を得ることが可能となる。

[0124] 本発明の好ましい態様によれば、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は表面調整層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び Z又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び Z又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。 [0125] 空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開 2001— 233611号公報で開示されて!、る技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高、ため、ノインダ一と混合して表面調整層表面調整層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を 1. 20〜： L 45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開 2002— 80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

[0126] 塗膜の内部及び Z又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名 Nipsilや Nipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業 (株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がつた構造を有するコロイダルシリカ UPシリーズ (商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

[0127] 「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、 5nm以上 300nm以下であり、好ましくは下限が 8nm以上であり上限が lOOnm以下であり、より好ましくは下限が lOnm以上であり上限が 80nm以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、表面調整層に優れた透明性を付与することが可能となる。

[0128] 2)高屈析率剤/中屈析率剤

高屈折率剤、中屈折率剤は、反射防止性をさらに向上させるために表面調整層に添加されてよい。高屈折率剤、中屈折率剤の屈折率は 1. 46〜2. 00の範囲内で設定されてよぐ中屈折率剤は、その屈折率が 1. 46〜： L 80の範囲内のものを意味し、高屈折率剤は、その屈折率が 1. 65〜2. 00の範囲内のものを意味する。

[0129] これら屈折率剤は、微粒子が挙げられ、その具体例 (かっこ内は屈折率を示す)としては、酸化亜鉛（1. 90)、チタ-ァ（2. 3〜2. 7)、セリア（1. 95)、スズドープ酸化ィンジゥム（1. 95)、アンチモンドープ酸化スズ（1. 80)、イットリア（1. 87)、ジルコ- ァ（2. 0)が挙げられる。

[0130] レべリング |

表面調整層は、レべリング剤を添加することができる。レべリング剤の好ましいものとしては、フッ素系またはシリコーン系等が挙げられる。レべリング剤を添加した表面調整層は、塗工面を良好にし、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。

防汚染剤

表面調整層は防汚染剤を添加することができる。防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性を発現するような添加剤が有効である。より具体例としては、フッ素系化合物、ケィ素系化合物、またはこれらの混合ィ匕合物が挙げられる。より具体的には、 2—パーフロロォクチルェチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。

[0131] 纖

表面調整層は、表面調整剤と、榭脂 (モノマー、オリゴマー等の榭脂成分を包含する）と〖こより少なくとも調整されてよい。表面調整剤を含まない場合には、この樹脂が高硬化剤として、または防眩層の凹凸を滑らかな面とする役割を担う。

榭脂としてては、透明性のものが好ましぐその具体例としては、紫外線または電子線により硬化する榭脂である電離放射線硬化型榭脂、電離放射線硬化型榭脂と溶剤乾燥型榭脂との混合物、または熱硬化型榭脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型榭脂が挙げられる。

[0132] 電離放射線硬化型榭脂の具体例としては、アタリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル榭脂、ポリエーテル榭脂、アクリル榭脂、ェポキシ榭脂、ウレタン榭脂、アルキッド榭脂、スピロァセタール榭脂、ポリブタジエン榭脂、ポリチオールポリェン榭脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレボリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、ェチル (メタ）アタリレート、ェチルへキシル (メタ）アタリレート、スチレン、メチルスチレン、 N—ビュルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アタリレート、へキサンジオール (メタ）アタリレート、トリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アタリレート、 1, 6—へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレート等が挙げられる。

[0133] 電離放射線硬化型榭脂を紫外線硬化型榭脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、ミヒラーベンゾィルベンゾエート、 a—アミ口キシムエステノレ、チォキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましぐその具体例としては、 n—ブチルァミン、トリェチルァミン、ポリ— n—ブチルホスフィン等が挙げられる。

また、電離放射線硬化型榭脂を紫外線硬化型榭脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する榭脂系の場合は、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、チォキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する榭脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジァゾ -ゥム塩、芳香族スルホ -ゥム塩、芳香族ョードニゥム塩、メタセロンィ匕合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物 100重量部に対し、 0. 1〜 10重量部である。

[0134] 電離放射線硬化型榭脂に混合して使用される溶剤乾燥型榭脂としては、主として熱可塑性榭脂が挙げられる。熱可塑性榭脂は一般的に例示されるものが利用される。好ましい熱可塑性榭脂の具体例としては、例えば、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、酢酸ビュル系榭脂、ビニルエーテル系榭脂、ハロゲン含有榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂、ポリアミド系榭脂、セルロース誘導体、シリコーン系榭脂、及びゴム又はエラストマ一等が挙げられる。榭脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒 (特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶な榭脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性ゃ耐候性の高い榭脂、例えば、スチレン系榭脂、（メタ)アクリル系榭脂、脂環式ォレフイン系榭脂、ポリエステル系榭脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等)等が好ましい。

溶剤乾燥型榭脂の添カ卩により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ま、態様によれば、光透過性基材の材料が TAC等のセルロース系榭脂の場合、熱可塑性榭脂の好ましい具体例として、セルロース系榭脂、例えば-トロセノレロース、ァセチノレセノレロース、セノレロースアセテートプロピオネート、ェチノレヒドロキシェチルセルロース等が挙げられる。

[0135] 熱硬化性榭脂の具体例としては、フエノール榭脂、尿素樹脂、ジァリルフタレート榭脂、メラニン榭脂、グアナミン榭脂、不飽和ポリエステル榭脂、ポリウレタン榭脂、ェポキシ榭脂、アミノアルキッド榭脂、メラミン尿素共縮合榭脂、ケィ素榭脂、ポリシロキサン榭脂等が挙げられる。熱硬化性榭脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

[0136] 重合開始剤

表面調整層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、 1—ヒドロキシ一シクロへキシル一フエ-ル一ケトンが挙げられる。この化合物は巿場入手可能であり、例えば商品名ィルガキュア 184 (チバスぺシャリティーケミカルズ社製）が挙げられる。

[0137]

表面調整層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合した表面調整層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル類；ノ、ロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。

rif調の开 ?去表面調整層は、表面調整層用組成物を防眩層に付与することにより形成されてよい。表面調整層用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバ一コート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。表面調整層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、 190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

[0138] 3.仵意の層

本発明による光学積層体は、光透過性基材と、防眩層と、必要に応じて表面調整層とにより構成されてなるが、さらに任意の層として帯電防止層、低屈折率層、防汚染層等を備えてなるものであってよい。低屈折率層は、防眩層または表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものが好ましい。帯電防止層、低屈折率層、防汚染層は表面調整層において説明した、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤等に、榭脂等を添加した組成物を調整し、それぞれの層を形成してよい。従って、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤、榭脂等も同様であってよい。

[0139] 4.光诱渦件某材

光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル (ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セノレローストリアセテート、セノレロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビュル、ポリビュルァセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性榭脂が挙げられ、好ましくはポリエステル (ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。その他に、脂環構造を有した非晶質ォレフィンポリマー（Cyclo-Olefin-Polymer： COP)フィルムもあり、これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状ォレフィン系重合体、環状共役ジェン系重合体、ビュル脂環式炭化水素系重合体榭脂などが用いられる基材で、例えば、日本ゼオン (株)製のゼォネックスゃゼォノア（ノルボルネン系榭脂）、住友ベークライト (株)製スミライト FS- 1700、 JSR (株)製アートン (変性ノルボルネン系榭脂）、三井ィ匕学 (株)製ァペル (環状ォレフィン共重合体）、 Ticona社製の Topas (環状ォレフィン共重合体)、日立化成 (株)製ォプトレッツ OZ- 1000シリーズ (脂環式アクリル榭脂)などが挙げられる。また、トリァセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ (株 )製の FVシリーズ (低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好まし、。

[0140] 本発明にあっては、これらの熱可塑性榭脂を薄膜の柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性榭脂の板またはガラス板の板状体のものも使用することも可能である。

[0141] 光透過性基材の厚さは、 20 μ m以上 300 μ m以下、好ましくは上限が 200 μ m以下であり、下限が 30 m以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもい。基材は、その上に防眩層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸ィヒ処理等の物理的な処理のほ力、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。

[0142] 学穑1¾ ：の禾 llffl

本発明による製造方法によって製造される光学積層体は下記の用途を有する。本発明の別の態様によれば、偏光素子と、本発明による光学積層体とを備えてなる偏光板を提供することができる。具体的には、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板を提供することができる。

[0143] 偏光素子は、例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルァセタールフィルム、ェチレン—酢酸ビュル共重合体系ケンィ匕フィルム等を用いることができる。ラミネート処理にあたって、接着性の増加のため、または電防止のために、光透過性基材 (好ましくは、トリァセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。

[0144] 画像表示装置本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなり、この透過性表示体の表面に、本発明による光学積層体または本発明による偏光板が形成されてなるものである。本発明による画像表示装置は、基本的には光源装置 (バックライト）と表示素子と本発明による光学積層体とにより構成されてよい。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、 CRT,液晶パネル等の高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。

[0145] 本発明による画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明による光学積層体の下側から照射される。なお、 STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

実施の態様

[0146] 本発明の内容を下記の実施態様により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

[0147] 光学積層体を構成する各層の組成物を下記の組成に従って調製した。組成の概要は表 1に記載した通りであった。

紫外線硬化型榭脂であるペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA)を 20. 28質量部（日本化薬 (株)製、屈折率 1. 51)、紫外線硬化型榭脂である DPHAを 8. 62 質量部（日本ィ匕薬 (株)製、屈折率 1. 51)、アクリル系ポリマー (三菱レイヨン製、分子量 75,000)を 3. 03質量部、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 1. 86質量部（チバガイギー (株)製）、光硬化開始剤であるィルガキュア 907を 0. 31質量部（チバガイギー (株)製)、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを 6. 39質量部（ (株) 日本触媒製、粒径 5. O ^ m,屈折率 1. 53)、シリコン系レべリング剤 10— 28 (ザ'ィンクテック (株）製）を 0. 013質量部、トルエンを 47. 60質量部、及び、シクロへキサノンを 11. 90質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 30 m のポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物 1を調製した。

透光性微粒子として粒子径が 9. 5 mの単分散アクリルビーズ（(株）日本触媒製、屈折率 1. 53)に変えた以外は、防眩層用組成物 1と同様にして防眩層用組成物 2を調製した。

透光性微粒子として粒子径が 13. 5 mの単分散アクリルビーズ（(株）日本触媒製、屈折率 1. 53)に変えた以外は、防眩層用組成物 1と同様にして防眩層用組成物 3 を調製した。

紫外線硬化型榭脂であるペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA)を 21. 08質量部（日本化薬 (株)製、屈折率 1. 51)、紫外線硬化型榭脂である DPHAを 10. 33 質量部（日本ィ匕薬 (株)製、屈折率 1. 51)、アクリル系ポリマー (三菱レイヨン製、分子量 75,000)を 3. 24質量部、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 2. 02質量部（チバガイギー (株)製）、光硬化開始剤であるィルガキュア 907を 0. 34質量部（チバガイギー (株)製)、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを 3. 47質量部（ (株) 日本触媒製、粒径 13. 5 m、屈折率 1. 53)、シリコン系レべリング剤 10— 28 (ザ' インクテック (株）製）を 0. 014質量部、トルエンを 47. 60質量部、及び、シクロへキサノンを 11. 90質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 30 mのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物 4を調製した。

紫外線硬化型榭脂であるペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA)を 21. 88質量部（日本化薬 (株)製、屈折率 1. 51)、紫外線硬化型榭脂である DPHAを 12. 03 質量部（日本ィ匕薬 (株)製、屈折率 1. 51)、アクリル系ポリマー (三菱レイヨン製、分子量 75,000)を 3. 46質量部、、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 2. 19質量部 (チバガイギー (株)製）、光硬化開始剤であるィルガキュア 907を 0. 37質量部（チバガイギー (株)製)、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを 6. 39質量部（ (株) 日本触媒製、粒径 9. 5 m、屈折率 1. 53)、シリコン系レべリング剤 10— 28 (ザ'ィンクテック (株）製）を 0. 015質量部、トルエンを 47. 60質量部、及び、シクロへキサノンを 11. 90質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 30 m のポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物 5を調製した。

透光性微粒子として粒子径が 5. 0 mの粒度分布を持つアクリルビーズ（(株）日本触媒製、屈折率 1. 53)に変えた以外は、防眩層用組成物 1と同様にして防眩層用組成物 6を調製した。

紫外線硬化型榭脂であるペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA)を 20. 28質量部（日本化薬 (株)製、屈折率 1. 51)、紫外線硬化型榭脂である DPHAを 8. 62 質量部（日本ィ匕薬 (株)製、屈折率 1. 51)、アクリル系ポリマー (三菱レイヨン製、分子量 75,000)を 3. 03質量部、、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 1. 86質量部 (チバガイギー (株)製）、光硬化開始剤であるィルガキュア 907を 0. 31質量部（チバガイギー (株)製)、第 1透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを 4. 80質量部（ (株）日本触媒製、粒径 9. 5 μ ι,屈折率 1. 53)第 2透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを 1. 59質量部（(株）日本触媒製、粒径 9. 5 /ζ πι、屈折率 1. 53)、シリコン系レベリング剤 10— 28 (ザ'インクテック (株)製）を 0. 013質量部、トルエンを 4 7. 60質量部、及び、シクロへキサノンを 11. 90質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 30 mのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物 7を調製した。

[0154] ^ m i s

紫外線硬化型榭脂であるペンタエリスリトールトリアタリレート（PETA)を 21. 28質量部（日本化薬 (株)製、屈折率 1. 51)、紫外線硬化型榭脂である DPHAを 8. 63 質量部（日本ィ匕薬 (株)製、屈折率 1. 51)、アクリル系ポリマー (三菱レイヨン製、分子量 75,000)を 3. 18質量部、、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 1. 96質量部 (チバガイギー (株)製）、光硬化開始剤であるィルガキュア 907を 0. 33質量部（チバガイギー (株)製）、第 1の透光性微粒子としてのアクリルビーズを 4. 96質量部（ (株）日本触媒製、粒径 4. 6 /ζ πι、屈折率 1. 53)、第 2の透光性微粒子としてのアクリルビーズを 1. 65質量部（(株）日本触媒製、粒径 3. 5 /ζ πι、屈折率 1. 53)、シリコン系レベリング剤 10— 28 (ザ'インクテック (株）製）を 0. 013質量部、トルエンを 46. 40質量部、及び、シクロへキサノンを 11. 60質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 30 mのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物 8を調製した。

不定形シリカの防眩層用マット剤インキとして、 EXG40— 77 (V— 15M) (不定形シリカインキ、シリカの平均粒径 2. 5 111、固形分濃度 60% 大日精化 (株)製） 1. 7 7g、および紫外線硬化型榭脂であるペンタエリスリトールトリアタリレート (PETA)を 2 . 93g (日本ィ匕薬 (株)製、屈折率 1. 51)、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量 40,000)を 0. 37g、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 0. 17g (チバガイギ一 (株)製)、同じく光硬化開始剤であるィルガキュア 907を 0.お 6g (チバガイギー（株)製）、シリコン系レべリング剤 10— 28 (ザ'インクテック (株)製)を 0. 043g、トルェンを 7. 8g、及び、 MIBK (メチルイソブチルケトン）を 1. Ogを十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 80 mのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物 9を調製した。

[0156] 表 rM ffl 5fe )の製紫外線硬化型榭脂である DPHAを 39. 30質量部（日本ィ匕薬 (株)製、屈折率 1. 5 1)、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量 40,000)を 3. 13質量部、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 2. 12質量部 (チバガイギー (株)製)、同じく光硬化開始剤であるィルガキュア 907を 0. 43質量部（チバガイギー (株)製）、シリコン系レベリング剤 10— 28 (ザ'インクテック (株)製)を 0. 19質量部、トルエンを 49. 35質量部、及び、シクロへキサノンを 5. 48質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 10 μ mのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物 1を調製した。

[0157] m m i 2 帯電防止層の材料である C-4456 S- 7 (ATO含有導電インキ、 ATOの平均粒径 300〜400nm、固形分濃度 45% 日本ペルノックス (株)製） 21. 6g、および紫外線硬化型榭脂である DPHAを 28. 69g (日本ィ匕薬 (株)製、屈折率 1. 51)、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 1. 56g (チバガイギー（株）製）、 MIBK (メチルイソブチルケトン）を 33. 7g及び、シクロへキサノンを 14. 4gを十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 30 mのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物 2を調製した。

0158] m mmi

ジルコユア含有塗料組成物 GSR (株)製、商品名；「ΚΖ7973」、屈折率： 1. 69の榭脂マトリックス、固形分 50%)を用い、榭脂マトリックスの屈折率が、 1. 60となるように、下記の組成の表面調整層用組成物 3を作製した。

紫外線硬化型榭脂であるペンタエリスリトールトリアタリレート（ΡΕΤΑ)を 18. 59質量部（日本化薬 (株)製、屈折率 1. 51)、紫外線硬化型榭脂に含有させて榭脂マトリックスを発現させるためのジルコユア 17. 18質量部 (JSR (株)製、商品名；「ΚΖ797 3」に含有されているジルコユア、平均粒子径 40〜60nm、屈折率 2. 0)、ジルコユア分散剤 1. 22質量部（同じ SR (株)製、商品名；「KZ7973」に含有されているジルコ-ァ分散安定剤）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量 40,000)を 0. 94 質量部、光硬化開始剤であるィルガキュア 184を 1. 56質量部（チバガイギー (株)製 )、同じく光硬化開始剤であるィルガキュア 907を 0. 26質量部（チバガイギー (株)製 )、シリコン系レべリング剤 10— 28 (ザ'インクテック (株)製)を 0. 039質量部、トルェンを 14. 34質量部、及び、シクロへキサノンを 15. 76質量部、 ΜΕΚを 2. 80質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径 30 mのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物 3を調製した。

[0159] 低屈析率層用組成物の調製フッ素系榭脂組成物 34. 14g CFSR (株)製、商品名；「ΤΜ086」）に対し、光重合開始剤 (JSR (株)製、商品名；「JUA701」）0. 85g、 MIBK65gを添加、攪拌の後、孔径 10 mのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用組成物を調製した

下記組成表の成分を攪拌した後、孔径 10 mのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用組成物 2を調製した。

表面処理シリカゾル (空隙を有する微粒子） 14. 3重量部

(20%メチルイソプチルケトン溶液使用）

ペンタエリスリトールトリアタリレート

(PETA 日本化薬 (株)製、屈折率 1. 51) 1. 95重量部ィルガキュア 907 (チバスべシャリティケミカルズ社製） 0. 1重量部ポジエーテノレ ' |4シジーン: ィノレ TSF4460 0. 15¾S¾

(商品名、 GE東芝シリコーン社製）

メチノレイソブチノレケトン 83. 5重量部

[0161] 方 I卜. ffl Hfe の製

帯電防止層の材料は C-4456 S- 7 (ATO含有導電インキ、 ATOの平均粒径 300 〜400nm、固形分濃度 45% 日本ペルノックス (株)製） 2. Og、およびメチルイソブチルケトン 2. 84g、シクロへキサノン 1. 22gを添加、攪拌の後、孔径 30 /z mのポリプロピレン製フィルターでろ過し、帯電防止層用組成物を調製した。

[0162] 学穑の诰

例 1

本発明による光学積層体を下記の通りにして調製し、光学積層体 (HG1)とした。

IS方 B玄の开^^

80 μ mの厚さのトリァセチルセルロースフィルム（TD80U、富士写真フィルム（株）製)を透明基材として用い、防眩層用組成物 1を、フィルム上にコーティング用卷線ロッド (メイヤーズバー）を用いて塗布し、 70°Cのオーブン中で 1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下 (酸素濃度 200ppm以下)で、紫外線を照射線量が 30mJになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が 5 mの防眩性ノヽードコート層を形成した。尚、透光性微粒子は、粒子径が、 5. 0 の単分散ァクリルビーズを使用した。 rif調の开

防眩層の上に、表面調整層用組成物 1を、コーティング用卷線ロッド (メイヤーズバ一)を用いて塗布し、 70°Cのオーブン中で 1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下 (酸素濃度 200ppm以下)で、紫外線を照射線量が lOOmiになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が 3 μ mの表面調整層を形成した。

[0163] 実施例 2

防眩層用組成物 2を用いた以外は、実施例 1と同様にして、光学積層体 (HG2)を得た。防眩層用組成物 2中の透光性微粒子には、 9. 5 の単分散アクリルビーズを使用し、表面調整層の膜厚は、 4. O /z mとなるようにした。

[0164] 施例 3

防眩層用組成物 3を用いた以外は、実施例 1と同様にして光学積層体 (HG3)を得た。防眩層用組成物 3中の透光性微粒子には、 13. 5 の単分散アクリルビーズを使用した。

[0165] 実飾 14

防眩層用組成物 4を用いた以外は、実施例 1と同様にして、光学積層体を得た。防眩層用組成物 4中の透光性微粒子には、 13. 5 の単分散アクリルビーズを使用し、固形分の総重量における透光性微粒子の比率力実施例 3の 1Z2となるようにした

[0166] 実飾 15

防眩層用組成物 5を用いた以外は、実施例 1と同様にして、光学積層体を得た。防眩層用組成物 5中の透光性微粒子には、 9. 5 の単分散アクリルビーズを使用し、固形分の総重量における透光性微粒子の比率力実施例 2の 75Z1000となるようにした。

[0167] 実施例 6

防眩層用組成物 6を用いた以外は、実施例 1と同様にして、光学積層体を得た。防眩層用組成物 6中の透光性微粒子には、 5. 0 の粒度分布を持つアクリルビーズを使用した。

[0168] 実施例 7 防眩層用組成物 7を用いた以外は、実施例 1と同様にして、光学積層体を得た。防眩層用組成物 7中の第 1透光性微粒子には、 9. 5 の単分散アクリルビーズを使用し、第 2透光性微粒子には、 5. 0 の単分散アクリルビーズを使用した。

[0169] 実施例 8

防眩層用組成物 4と、表面調整層用組成物 2を使用した以外は、実施例 1と同様にして、光学積層体を得た。表面調整層用組成物 2は、導電性を持つ表面調整層を形成する為に、 ATO含有した組成物を使用した。光学積層体の表面抵抗値は、 2. 0 Χ 10¹²Ω /口であった。

[0170] 実施例 9

本発明による光学積層体を下記の通りにして調製し、光学積層体を得た。

is方 I卜. の开^

80 μ mの厚さのトリァセチルセルロースフィルム（TD80U、富士写真フィルム（株）製)を光透過性基材として用い、帯電防止用組成物を、フィルム上にコーティング用卷線ロッド (メイヤーズバー）を用いて塗布し、 50°Cのオーブン中で 1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下 (酸素濃度 200ppm以下)で、紫外線を照射線量が 30mJになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が 1 μ mの帯電防止層を形成した。

方の开^

帯電防止層の上に、防眩層用組成物 4を、コーティング用卷線ロッド (メイヤーズバ一)を用いて塗布し、 70°Cのオーブン中で 1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下 (酸素濃度 200ppm以下)で、紫外線を照射線量が 30miになるようハーフキュアで照射して塗膜を硬化させ、膜厚が 3 μ mの防眩層を形成した。

rif調の开

防眩層の上に、表面調整層用組成物 1を、コーティング用卷線ロッド (メイヤーズバ一)を用いて塗布し、 70°Cのオーブン中で 1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下 (酸素濃度 200ppm以下)で、紫外線を照射線量が lOOmiになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が 3 mの表面調整層を形成して、光学積層体を得た。光学積層体の表面抵抗値は、 3. 2 Χ 10¹²Ω Ζ口であった。 [0171] 実施例 10

本発明による光学積層体を下記の通りにして調製し、光学積層体を得た。防眩層を作製する時に、防眩層用組成物 4を用いた以外は、実施例 1と同様にして、防眩層を作製した。更に、表面調整層は、紫外線を照射線量が 30mJになるようハーフキュァでの照射をして塗膜を硬化させた以外は、実施例 1と同様形成した。

屈ネ斤の开

防眩層の上に、低屈折率層用組成物 2を、フィルム上にコーティング用卷線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、 50°Cのオーブン中で 1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下 (酸素濃度 200ppm以下)で、紫外線を照射線量が 15 OmJになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が 98nmの表面調整層を形成して、光学積層体を得た。

[0172] ¾細 1

本発明による光学積層体を下記の通りにして調製し、光学積層体とした。表面調整層を作製する際に、表面調整層組成物 3、低屈折率層用組成物 1を使用した以外は、実施例 10と同様に作製して、光学積層体を得た。表面調整層組成物 3は、ジルコユア含有の榭脂マトリックスを用い、表面調整層の屈折率が 1. 60となるように調製した。

[0173] 実施例 12 (エンボス方法)

エンボスローラーの調製

鉄製のローラーを準備し、ローラの表面に、 100メッシュ（粒径分布； 106 m〜 15 O /z m)のガラスビーズを用いて、ビーズショットを行なうことにより、凹凸を形成し、得られた凹凸面にクロムを厚みが 5 mになるようメツキして、エンボスローラとした。ビーズショットの際の吹付け圧力、吹付けノズルとローラとの間隔等を調製することにより、本発明の光学積層体が有する防眩層の凹凸形状の光学特性に合致したェンボスローラーを作成した。

[0174] 防眩層用組成物の調製

ポリウレタン榭脂系のプライマー塗料 (ザ'インクテック (株)製、ケミカルマットニス用メジゥム主剤、硬化剤 (XEL硬化剤（D) )を、主剤 Z硬化剤 Z溶剤の質量比を、 10 /1/3. 3の割合で混合した組成物を用いてグラビアコーティングを行ない、乾燥して、厚み 3 mのプライマー層を形成した。溶剤としては、トルエン Zメチルェチルケトン = 1Z1のものを用いた。

[0175] 光学穑層体の製诰

図 6で表した本発明の第 4の製造装置 (エンボス装置 40)に、調製したエンボスローラーを装着し、また、調製した防眩層用組成物をコーティングヘッドの液溜めに供給した。厚み 80 /z mのポリエチレンテレフタレート榭脂フィルム (東洋紡 (株)製、品番； A4300)を準備し、エンボスローラに供給した。防眩層用組成物をエンボスローラに塗布し、ポリエチレンテレフタレート榭脂フィルムに付与し、続いて、フィルム側より、紫外線光源 (フュージョン社製、 Dバルブ)を用いて紫外線を照射した後、剥離し、本発明にようる光学積層体を製造した。

[0176] i . m

従来の防眩性光学積層体を下記の通りにして調製し、光学積層体 (AG1)とした。 80 μ mの厚さのトリァセチルセルロースフィルム（TD80U、富士写真フィルム（株）製 )を透明基材として用い、防眩層用組成物 8を、フィルム上にコーティング用卷線ロッド (メイヤーズバー）を用いて塗布し、 70°Cのオーブン中で 1分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下 (酸素濃度 200ppm以下)で、紫外線を照射線量力 SlOOmJになるように照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が 6 μ mの防眩性ノ、一ドコート層を形成した。 AG1は、第 1の透光性微粒子としてのアクリルビーズを 4. 96質量部 ( (株）日本触媒製、粒径 4. 6 111、屈折率 1. 53)、第 2の透光性微粒子としてのァクリルビーズを 1. 65質量部（(株）日本触媒製、粒径 3. 5 111、屈折率 1. 53)の混合粒子系の防眩性光学積層体 (AG1)である。

[0177] 比較例 2

従来の防眩性光学積層体を下記の通りにして調製し、光学積層体とした。防眩層用組成物 9を用いて、膜厚を 3 mとした以外は、比較例 1と同様に、作製した。比較例 2は、不定形シリカを用いた防眩性光学積層体 (AG)である。

[0178] 評価試験

下記評価試験の結果を、図 7乃至図 9、表 1 (評価 3乃至 6の結果）に示した。実施例と比較例の光学積層体を画像表示装置のパネルに実装し、その表面形状を光学顕微鏡 (商品名 OLYMPUS製 BX60— F3 ; 200倍）にて写真撮影した。その結果は図 7に表された通りであった。図 7によれば、本発明の光学積層体である HG1 〜HG3のものは、凹凸形状のうねりが滑らかであり、また凹凸形状が鋭利ではなぐ表面全体に亘り、非常に緩やかな複数の丘状形状を有していることが理解される。他方、従来の防眩性光学積層体である AG1は、その表面が人間の皮膚を拡大した写真のように粗さが存在し、凹凸形状鋭利であることが理解される。

[0179] 評価 2 : 形状の三次評価試験

実施例と比較例の光学積層体を画像表示装置のパネルに実装し、その表面形状を AFM (商品名：走査型プローブ顕微鏡）にて写真撮影した。その結果は図 8と図 9 に記載した通りであった。図 8によれば、本発明の光学積層体である HG1〜HG3のものは、凹凸形状のうねりが非常に滑らかであり、また凹凸形状が鋭利ではなぐ表面全体に亘り、非常に緩やかな複数の丘状形状を有していることが理解される。他方、図 9によれば、従来の防眩性光学積層体である AG1は、その表面が多数の鋭利な凹凸形状で形成されていることが理解される。

[0180] 評価 3 :光学特件試,験

実施例と比較例の光学積層体について、本明細書に定義に従って、ヘイズ値（％) 、 60度ダロス、 Sm、 Θ a、 Rz、反射 Y値（5度反射）、表面抵抗を測定し、その結果を表上に己載し 7こ。

[0181] 評価 4 : ,黒感試,験

実施例と比較例の光学積層体のフィルム面と反対側にクロス-コルの偏光板に張り合わせた後、三波長蛍光下で官能評価を行って、艷黒感 (艷のある黒色の再現性）を下記基準によって詳細に評価した。評価〇：艷のある黒色を再現することができた。

評価：艷のある黒色を若干再現できたが、製品としては十分ではな力つた。

評価 X：艷のある黒色を再現することができな力つた。 [0182] 評価 5 :ギラツキ試験

HAKUBA製ビユア一（ライトビユア一 7000PRO)上に、 0.7mm厚みのガラスに形成されたブラックマトリクスパターン板（105ppi)を、パターン面を下にして置き、その上に得られた光学積層体フィルムを凹凸面を空気側にして載せて、フィルムが浮かな、ようにフィルムの縁を指で軽く押さえながら、暗室にてギラツキを目視観察し、評価した

評価〇： 105ppiでギラツキがなく良好であった。

評価 X： 105ppiでギラツキがみえ不良であった。

[0183] 評搬件龍麵

得られた光学積層体の裏面に、黒のアクリル板を、光学性粘着剤ではり、水平な机にサンプルをおいて、机より 2. 5m上方にある白色蛍光灯管（32ワット X 2本）のエツジ部分の映りこみを目視観察し、評価した。

龍難

評価〇：エッジが映り込まず、良好な防眩性を有した。

評価 X：エッジが映り込み、防眩性に劣った。

[0184] [表 1]

Claims

請求の範囲

[1] 光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、

前記光透過性基材を用意し、

前記防眩層の凹凸形状が、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、

Rzが 0. 2 μ m超過 1 μ m以下とされてなる、製造方法。

[2] 前記防眩層を形成することが、前記光透過性基材上に、予め凹凸形状が施された防眩層を形成してなるものである、請求項 1に記載の製造方法。

[3] 前記防眩層を形成することが、前記光透過性基材上に、防眩層を形成し、該防眩層の表面に凹凸形状を形成してなるものである、請求項 1に記載の製造方法。

[4] 前記凹凸形状を形成することが、前記防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用ヽた賦型処理である、請求項 3に記載の製造方法。

[5] 前記防眩層を形成することが、前記光透過性基材上に、防眩層用組成物を付与し、前記凹凸形状を有する防眩層を形成してなるものである、請求項 1に記載の製造方法。

[6] 前記防眩層用組成物が、榭脂と微粒子とを含んでなる、請求項 5に記載の製造方法。

[7] 前記微粒子が凝集型微粒子である、請求項 6に記載の製造方法。

[8] 前記凝集型微粒子が、同一または異なる平均粒径を有する複数の微粒子である、請求項 7に記載の製造方法。

[9] 前記防眩層用組成物が、微粒子を含まず、少なくとも 1つのポリマーと、少なくとも 1 つの硬化性榭脂前駆体との混合物を含んでなる、請求項 5に記載の製造方法。

[10] 光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造方法であって、

前記光透過性基材を用意し、

該型に防眩層用組成物を付与し、前記光透過性基材上に凹凸形状を有する防眩層を形成することを含んでなり、

前記防眩層の凹凸形状が、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、

Rzが 0. 2 μ m超過 1 μ m以下とされてなる、製造方法。

[11] 前記防眩層用組成物が、微粒子を含まず、榭脂および Zまたはポリマーを含んでなる、請求項 10に記載の製造方法。

[12] 前記防眩層用組成物を硬化させて、前記光透過性基材上に凹凸形状を有する防眩層を形成する、請求項 10に記載の製造方法。

[13] 前記防眩層を形成した後に、前記防眩層の凹凸形状の表面に表面調整層を形成することをさらに含んでなる、請求項 1〜 12のいずれか一項に記載の製造方法。

[14] 光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、

前記光透過性基材と凹凸形状を有してなる前記防眩層を供給する供給部と、前記光透過性基材上に前記防眩層を形成する形成部とを備えてなり、前記防眩層の凹凸形状が、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、 Rzが 0. 2 μ m超過 1 μ m以下とされてなる、製造装置。

[15] 光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、

前記光透過性基材と前記防眩層を供給する供給部と、

前記光透過性基材上に前記防眩層を形成し、かつ、前記防眩層に凹凸形状を施してなる形成部とを備えてなり、

前記防眩層の凹凸形状が、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、

Rzが 0. 2 μ m超過 1 μ m以下とされてなる、製造装置。

[16] 前記形成部が、前記防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を備えてなるものである、請求項 15に記載の製造装置。

[17] 光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光透過性基材の製造装置であって、

前記光透過性基材を供給する供給部と、

前記光透過性基材上に防眩層用組成物を付与する付与部と

前記防眩層用組成物を硬化し、凹凸形状を有してなる前記防眩層を形成してなる形成部とを備えてなり、

前記防眩層の凹凸形状が、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、

Rzが 0. 2 μ m超過 1 μ m以下とされてなる、製造装置。

[18] 前記防眩層用組成物が、微粒子を含まず、榭脂および Zまたはポリマーを含んでなる、請求項 17に記載の製造装置。

[19] 前記形成部が、前記防眩層用組成物に電離放射線を照射する照射部を備えてなる、請求項 17に記載の製造装置。

[20] 光透過性基材と、該光透過性基材上に形成された防眩層とを備えてなる光学積層体の製造装置であって、

前記光透過性基材を供給する供給部と、

前記光透過性基材に、前記防眩層の表面に形成される凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型と、

該型に防眩層用組成物を導入する導入部と、

前記防眩層の凹凸形状が、

Smが 100 μ m以上 600 μ m以下であり、

0 &が0. 1度以上 1. 2度以下であり、

Rzが 0. 2 μ m超過 1 μ m以下とされてなる、製造装置。

[21] 前記防眩層用組成物が、微粒子を含まず、榭脂および Zまたはポリマーを含んでなる、請求項 20に記載の製造装置。

[22] 前記形成部が、前記防眩層用組成物に電離放射線を照射する照射部を備えてなる、請求項 20に記載の製造装置。

[23] 前記防眩層を形成した後に、前記防眩層の凹凸形状の表面に表面調整層を形成する形成部をさらに備えてなる、請求項 14〜22のいずれか一項に記載の製造装置

[24] Rzが 0. 2 /z m超過 1. 2 m以下とされてなる、請求項 1又は 10に記載の製造方法

[25] Rzが 0. 2 111超過1. 2 m以下とされてなる、請求項 14、 15、 17及び 20のいずれか一項に記載の製造装置。

[26] 請求項 1〜13のいずれか一項に記載の製造方法により製造された、光学積層体。 [27] 請求項 14〜23のいずれか一項に記載の製造装置により製造された、光学積層体